JPH08311072A - セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物 - Google Patents
セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物Info
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- JPH08311072A JPH08311072A JP8056111A JP5611196A JPH08311072A JP H08311072 A JPH08311072 A JP H08311072A JP 8056111 A JP8056111 A JP 8056111A JP 5611196 A JP5611196 A JP 5611196A JP H08311072 A JPH08311072 A JP H08311072A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/30—Against vector-borne diseases, e.g. mosquito-borne, fly-borne, tick-borne or waterborne diseases whose impact is exacerbated by climate change
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】式
【化１】
（Ｒ3は置換されていてもよい炭化水素残基を示す）
を、Ｚは窒素原子またはメチン基を示す。〕で表される
化合物またはそのエステルあるいはその塩、その製造法
および医薬組成物。 【効果】前記化合物は幅広く優れた抗菌活性を示し、抗
菌剤として有用である。
を、Ｚは窒素原子またはメチン基を示す。〕で表される
化合物またはそのエステルあるいはその塩、その製造法
および医薬組成物。 【効果】前記化合物は幅広く優れた抗菌活性を示し、抗
菌剤として有用である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は広範囲のグラム陽性菌お
よびグラム陰性菌、特にブドウ球菌、メチシリン耐性ブ
ドウ球菌（ＭＲＳＡ）およびシュードモナス属の菌など
に優れた抗菌作用を有する新規なセフェム化合物、その
製造法および抗菌組成物に関する。
よびグラム陰性菌、特にブドウ球菌、メチシリン耐性ブ
ドウ球菌（ＭＲＳＡ）およびシュードモナス属の菌など
に優れた抗菌作用を有する新規なセフェム化合物、その
製造法および抗菌組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】７位に２−（２−アミノ−チアゾール−
４−イル）−２(Ｚ)−オキシイミノアセトアミド基ある
いは２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール−３
−イル）−２(Ｚ)−オキシイミノアセトアミド基を有す
るセフェム化合物が種々報告されており、特に特開昭５
９−７６０８８号公報には、３位に環構成原子としてＮ
+を含有する単環複素環ビニル基を有する化合物が、特
開平６−１１６２７５号公報には、３位に（イミダゾピ
リジニウムあるいはイミダゾピリミジニウム）ビニル基
を有する化合物が記載されているが、３位にイミダゾピ
リダジニウムビニル基を有する化合物は未だ報告されて
いない。これらの公報には、具体例として、
４−イル）−２(Ｚ)−オキシイミノアセトアミド基ある
いは２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール−３
−イル）−２(Ｚ)−オキシイミノアセトアミド基を有す
るセフェム化合物が種々報告されており、特に特開昭５
９−７６０８８号公報には、３位に環構成原子としてＮ
+を含有する単環複素環ビニル基を有する化合物が、特
開平６−１１６２７５号公報には、３位に（イミダゾピ
リジニウムあるいはイミダゾピリミジニウム）ビニル基
を有する化合物が記載されているが、３位にイミダゾピ
リダジニウムビニル基を有する化合物は未だ報告されて
いない。これらの公報には、具体例として、
【化５】 が開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来のセフェム化合物
は、抗菌活性の範囲または強さの点で、とりわけ従来の
セファロスポリン化合物に耐性を示すシュードモナス属
の菌、ブドウ球菌およびメチシリン耐性ブドウ球菌（Ｍ
ＲＳＡ）などに対する抗菌作用が十分に満足できるもの
ではなく、この点を克服した新しい化合物の出現が望ま
れていた。
は、抗菌活性の範囲または強さの点で、とりわけ従来の
セファロスポリン化合物に耐性を示すシュードモナス属
の菌、ブドウ球菌およびメチシリン耐性ブドウ球菌（Ｍ
ＲＳＡ）などに対する抗菌作用が十分に満足できるもの
ではなく、この点を克服した新しい化合物の出現が望ま
れていた。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記事情
に鑑み、鋭意種々研究を重ねた結果、セフェム骨格の３
位に式
に鑑み、鋭意種々研究を重ねた結果、セフェム骨格の３
位に式
【化６】 （Ｒ3は置換されていてもよい炭化水素残基を示す）を
示す。〕で表される基、かつ７位に式
示す。〕で表される基、かつ７位に式
【化７】 〔式中、Ｒ1は保護されていてもよいアミノ基を、Ｒ2は
水素原子または炭素原子を介して結合する基を、Ｚは窒
素原子またはメチン基を示す。〕で表される基を有する
ことに化学構造上の特徴を有するセフェム化合物または
そのエステルあるいはその塩を初めて合成し、さらに合
成された化合物が予想外にもその特異な化学構造に基づ
いてシュードモナス属菌を含むグラム陰性菌ならびにブ
ドウ球菌およびＭＲＳＡを含むグラム陽性菌に対して幅
広く優れた抗菌作用を有することを見出し、これらに基
づいて本発明を完成した。
水素原子または炭素原子を介して結合する基を、Ｚは窒
素原子またはメチン基を示す。〕で表される基を有する
ことに化学構造上の特徴を有するセフェム化合物または
そのエステルあるいはその塩を初めて合成し、さらに合
成された化合物が予想外にもその特異な化学構造に基づ
いてシュードモナス属菌を含むグラム陰性菌ならびにブ
ドウ球菌およびＭＲＳＡを含むグラム陽性菌に対して幅
広く優れた抗菌作用を有することを見出し、これらに基
づいて本発明を完成した。
【０００５】すなわち、本発明は（１）式〔I〕
【化８】 〔式中の記号は前記と同意義を示す。〕で表されるセフ
ェム化合物またはそのエステルあるいはその塩、（２）
式〔II〕
ェム化合物またはそのエステルあるいはその塩、（２）
式〔II〕
【化９】 〔式中の記号は前記と同意義を示す。〕で表される化合
物またはそのエステルあるいはその塩と式
物またはそのエステルあるいはその塩と式
【化１０】 〔式中の記号は前記と同意義を示す。〕で表されるカル
ボン酸またはその塩もしくは反応性誘導体とを反応さ
せ、必要に応じて保護基を除去することを特徴とする前
記（１）記載の化合物の製造法、（３）式〔Ｘ〕
ボン酸またはその塩もしくは反応性誘導体とを反応さ
せ、必要に応じて保護基を除去することを特徴とする前
記（１）記載の化合物の製造法、（３）式〔Ｘ〕
【化１１】 〔式中、Ａ'およびＢ'は一方が−ＣＨ＝で、他方が−Ｎ
＝を、Ｒ4はカルボキシル基の保護基を、その他の記号
は前記と同意義を示す。〕で表される化合物またはその
エステルあるいはその塩と、式Ｒ3Ｘ〔式中、Ｘはハロ
ゲン原子、Ｒ3は前記と同意義を示す。〕で表わされる
化合物とを反応させ、必要に応じて保護基を除去するこ
とを特徴とする前記（１）記載の化合物の製造法、
（４）前記（１）記載の化合物を含有する抗菌組成物な
どに関する。
＝を、Ｒ4はカルボキシル基の保護基を、その他の記号
は前記と同意義を示す。〕で表される化合物またはその
エステルあるいはその塩と、式Ｒ3Ｘ〔式中、Ｘはハロ
ゲン原子、Ｒ3は前記と同意義を示す。〕で表わされる
化合物とを反応させ、必要に応じて保護基を除去するこ
とを特徴とする前記（１）記載の化合物の製造法、
（４）前記（１）記載の化合物を含有する抗菌組成物な
どに関する。
【０００６】本明細書におけるセフェム化合物は「ザ・
ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサイ
エティ」第８４巻，３４００頁(１９６２年)に記載され
ている「セファム」に基づいて命名された化合物群であ
り、セフェム化合物はセファム化合物のうち３,４−位
に二重結合を有する化合物を意味する。なお、本発明の
化合物は遊離形を表している一般式〔I〕の化合物また
はそのエステルあるいはその塩（化合物〔I〕の塩また
は化合物〔I〕のエステルの塩）を含む。以下本願明細
書においては、特別の場合を除き、遊離形を表している
一般式〔I〕の化合物またはそのエステルあるいはその
塩を単に、化合物〔I〕、抗菌化合物〔I〕あるいは一般
式〔I〕で表される化合物と略称する。従って本願明細
書の化合物〔I〕は、遊離形、そのエステルまたはそれ
らの塩を意味する。このことは、化合物〔I〕のみなら
ず、原料化合物、たとえば化合物〔II〕、〔III〕、
〔V〕、〔VI〕、〔VII〕、〔IX〕、〔X〕、〔XI〕につ
いても同様である。Ｒ1は保護されていてもよいアミノ
基を表わす。β−ラクタムおよびペプチドの分野ではア
ミノ基の保護基は充分に研究されていてその保護法はす
でに確立されており、本発明においてもアミノ基の保護
基としてはそれら公知のものが適宜に採用されうる。ア
ミノ基の保護基としてはたとえば、置換されていてもよ
いＣ1-6アルカノイル基，置換されていてもよいＣ3-5ア
ルケノイル基，置換されていてもよいＣ6-10アリール−
カルボニル基，複素環カルボニル基，置換されていても
よいＣ1-10アルキルスルホニル基，置換されていてもよ
いＣ6-10アリールスルホニル基，置換オキシカルボニル
基，置換されていてもよいカルバモイル基，置換されて
いてもよいチオカルバモイル基，置換されていてもよい
Ｃ6-10アリール−メチル基，置換されていてもよいジＣ
6-10アリール−メチル基，置換されていてもよいトリＣ
6-10アリール−メチル基，置換されていてもよいＣ6-10
アリール−メチレン基，置換されていてもよいＣ6-10ア
リールチオ基，置換シリル基，２−Ｃ1-10アルコキシ−
カルボニル−１−メチル−１−エテニル基，式Ｍ'ＯＣ
Ｏ−〔式中、Ｍ'はアルカリ金属を示す。〕で表される
基などが用いられる。
ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサイ
エティ」第８４巻，３４００頁(１９６２年)に記載され
ている「セファム」に基づいて命名された化合物群であ
り、セフェム化合物はセファム化合物のうち３,４−位
に二重結合を有する化合物を意味する。なお、本発明の
化合物は遊離形を表している一般式〔I〕の化合物また
はそのエステルあるいはその塩（化合物〔I〕の塩また
は化合物〔I〕のエステルの塩）を含む。以下本願明細
書においては、特別の場合を除き、遊離形を表している
一般式〔I〕の化合物またはそのエステルあるいはその
塩を単に、化合物〔I〕、抗菌化合物〔I〕あるいは一般
式〔I〕で表される化合物と略称する。従って本願明細
書の化合物〔I〕は、遊離形、そのエステルまたはそれ
らの塩を意味する。このことは、化合物〔I〕のみなら
ず、原料化合物、たとえば化合物〔II〕、〔III〕、
〔V〕、〔VI〕、〔VII〕、〔IX〕、〔X〕、〔XI〕につ
いても同様である。Ｒ1は保護されていてもよいアミノ
基を表わす。β−ラクタムおよびペプチドの分野ではア
ミノ基の保護基は充分に研究されていてその保護法はす
でに確立されており、本発明においてもアミノ基の保護
基としてはそれら公知のものが適宜に採用されうる。ア
ミノ基の保護基としてはたとえば、置換されていてもよ
いＣ1-6アルカノイル基，置換されていてもよいＣ3-5ア
ルケノイル基，置換されていてもよいＣ6-10アリール−
カルボニル基，複素環カルボニル基，置換されていても
よいＣ1-10アルキルスルホニル基，置換されていてもよ
いＣ6-10アリールスルホニル基，置換オキシカルボニル
基，置換されていてもよいカルバモイル基，置換されて
いてもよいチオカルバモイル基，置換されていてもよい
Ｃ6-10アリール−メチル基，置換されていてもよいジＣ
6-10アリール−メチル基，置換されていてもよいトリＣ
6-10アリール−メチル基，置換されていてもよいＣ6-10
アリール−メチレン基，置換されていてもよいＣ6-10ア
リールチオ基，置換シリル基，２−Ｃ1-10アルコキシ−
カルボニル−１−メチル−１−エテニル基，式Ｍ'ＯＣ
Ｏ−〔式中、Ｍ'はアルカリ金属を示す。〕で表される
基などが用いられる。
【０００７】「置換されていてもよいＣ1-6アルカノイ
ル基」としてはたとえば、ハロゲン，オキソ，Ｃ1-6ア
ルコキシ，Ｃ1-6アルカノイル，Ｃ6-10アリール，ハロ
ゲノＣ6-10アリール，Ｃ6-10アリールオキシ，ハロゲノ
Ｃ6-10アリールオキシ，Ｃ6-10アリールチオなどから選
ばれた１〜３個の置換基で置換されていてもよいＣ1-6
アルカノイル基が用いられ、具体的にはたとえば、ホル
ミル，アセチル，プロピオニル，ブチリル，バレリル，
ピバロイル，サクシニル，グルタリル，モノクロロアセ
チル，ジクロロアセチル，トリクロロアセチル，モノブ
ロモアセチル，モノフルオロアセチル，ジフルオロアセ
チル，トリフルオロアセチル，モノヨードアセチル，ア
セトアセチル，３−オキソブチリル，４−クロロ−３−
オキソブチリル，フェニルアセチル，ｐ−クロロフェニ
ルアセチル，フェノキシアセチル，ｐ−クロロフェノキ
シアセチルなどが用いられる。「置換されていてもよい
Ｃ3-5アルケノイル基」としてはたとえば、ハロゲン，
Ｃ6-10アリールなどから選ばれた１〜３個の置換基で置
換されていてもよいＣ3-5アルケノイル基が用いられ、
具体的にはたとえば、アクリロイル，クロトノイル，マ
レオイル，シンナモイル，ｐ−クロロシンナモイル，β
−フェニルシンナモイルなどが用いられる。「置換され
ていてもよいＣ6-10アリール−カルボニル基」としては
たとえば、ハロゲン，ニトロ，ヒドロキシ，Ｃ1-6アル
キル，Ｃ1-6アルコキシなどから選ばれた１〜３個の置
換基で置換されていてもよいＣ6-10アリール−カルボニ
ル基が用いられ、具体的にはたとえば、ベンゾイル，ナ
フトイル，フタロイル，ｐ−トルオイル，ｐ−tert−ブ
チルベンゾイル，ｐ−ヒドロキシベンゾイル，ｐ−メト
キシベンゾイル，ｐ−tert−ブトキシベンゾイル，ｐ−
クロロベンゾイル，ｐ−ニトロベンゾイルなどが用いら
れる。
ル基」としてはたとえば、ハロゲン，オキソ，Ｃ1-6ア
ルコキシ，Ｃ1-6アルカノイル，Ｃ6-10アリール，ハロ
ゲノＣ6-10アリール，Ｃ6-10アリールオキシ，ハロゲノ
Ｃ6-10アリールオキシ，Ｃ6-10アリールチオなどから選
ばれた１〜３個の置換基で置換されていてもよいＣ1-6
アルカノイル基が用いられ、具体的にはたとえば、ホル
ミル，アセチル，プロピオニル，ブチリル，バレリル，
ピバロイル，サクシニル，グルタリル，モノクロロアセ
チル，ジクロロアセチル，トリクロロアセチル，モノブ
ロモアセチル，モノフルオロアセチル，ジフルオロアセ
チル，トリフルオロアセチル，モノヨードアセチル，ア
セトアセチル，３−オキソブチリル，４−クロロ−３−
オキソブチリル，フェニルアセチル，ｐ−クロロフェニ
ルアセチル，フェノキシアセチル，ｐ−クロロフェノキ
シアセチルなどが用いられる。「置換されていてもよい
Ｃ3-5アルケノイル基」としてはたとえば、ハロゲン，
Ｃ6-10アリールなどから選ばれた１〜３個の置換基で置
換されていてもよいＣ3-5アルケノイル基が用いられ、
具体的にはたとえば、アクリロイル，クロトノイル，マ
レオイル，シンナモイル，ｐ−クロロシンナモイル，β
−フェニルシンナモイルなどが用いられる。「置換され
ていてもよいＣ6-10アリール−カルボニル基」としては
たとえば、ハロゲン，ニトロ，ヒドロキシ，Ｃ1-6アル
キル，Ｃ1-6アルコキシなどから選ばれた１〜３個の置
換基で置換されていてもよいＣ6-10アリール−カルボニ
ル基が用いられ、具体的にはたとえば、ベンゾイル，ナ
フトイル，フタロイル，ｐ−トルオイル，ｐ−tert−ブ
チルベンゾイル，ｐ−ヒドロキシベンゾイル，ｐ−メト
キシベンゾイル，ｐ−tert−ブトキシベンゾイル，ｐ−
クロロベンゾイル，ｐ−ニトロベンゾイルなどが用いら
れる。
【０００８】「複素環カルボニル基」における「複素環
基」は複素環の炭素原子に結合している水素原子を１個
とりのぞいてできる基をいい、そのような複素環はたと
えば、窒素原子（オキシド化されていてもよい），酸素
原子，硫黄原子などのヘテロ原子を１〜数個、好ましく
は１〜４個含む５〜８員環またはその縮合環をいう。こ
のような複素環基としては具体的には２−または３−ピ
ロリル；３−，４−または５−ピラゾリル；２−，４−
または５−イミダゾリル；１,２,３−または１,２,４−
トリアゾリル；１Ｈ−または２Ｈ−テトラゾリル；２−
または３−フリル；２−または３−チエニル；２−，４
−または５−オキサゾリル；３−，４−または５−イソ
キサゾリル；１,２,３−オキサジアゾール−４−イルま
たは１,２,３−オキサジアゾール−５−イル；１,２,４
−オキサジアゾール−３−イルまたは１,２,４−オキサ
ジアゾール−５−イル；１,２,５−または１,３,４−オ
キサジアゾリル；２−，４−または５−チアゾリル；３
−，４−または５−イソチアゾリル；１,２,３−チアジ
アゾール−４−イルまたは１,２,３−チアジアゾール−
５−イル；１,２,４−チアジアゾール−３−イルまたは
１,２,４−チアジアゾール−５−イル；１,２,５−また
は１,３,４−チアジアゾリル；２−または３−ピロリジ
ニル；２−，３−または４−ピリジル；２−，３−また
は４−ピリジル−Ｎ−オキシド；３−または４−ピリダ
ジニル；３−または４−ピリダジニル−Ｎ−オキシド；
２−，４−または５−ピリミジニル；２−，４−または
５−ピリミジニル−Ｎ−オキシド；ピラジニル；２−，
３−または４−ピペリジニル；ピペラジニル；３Ｈ−イ
ンドール−２−イルまたは３Ｈ−インドール−３−イ
ル；２−，３−または４−ピラニル；２−，３−または
４−チオピラニル；ベンゾピラニル；キノリル；ピリド
〔２,３−ｄ〕ピリミジル；１,５−，１,６−，１,７
−，１,８−，２,６−または２,７−ナフチリジル；チ
エノ〔２,３−ｄ〕ピリジル；ピリミドピリジル；ピラ
ジノキノリル；ベンゾピラニルなどが用いられる。「置
換されていてもよいＣ1-10アルキルスルホニル基」とし
てはたとえば、ハロゲン，Ｃ6-10アリール，Ｃ6-10アリ
ールオキシなどから選ばれた１〜３個の置換基で置換さ
れていてもよいＣ1-10アルキルスルホニル基が用いら
れ、具体的にはたとえばメタンスルホニル，エタンスル
ホニル，カンファースルホニルなどが用いられる。「置
換されていてもよいＣ6-10アリールスルホニル基」とし
てはたとえば、ハロゲン，ニトロ，Ｃ1-6アルキル，Ｃ
1-6アルコキシなどから選ばれた１〜３個の置換基で置
換されていてもよいＣ6-10アリールスルホニル基が用い
られ、具体的にはたとえば、ベンゼンスルホニル，ナフ
タレンスルホニル，ｐ−トルエンスルホニル，ｐ−tert
−ブチルベンゼンスルホニル，ｐ−メトキシベンゼンス
ルホニル，ｐ−クロロベンゼンスルホニル，ｐ−ニトロ
ベンゼンスルホニルなどが用いられる。
基」は複素環の炭素原子に結合している水素原子を１個
とりのぞいてできる基をいい、そのような複素環はたと
えば、窒素原子（オキシド化されていてもよい），酸素
原子，硫黄原子などのヘテロ原子を１〜数個、好ましく
は１〜４個含む５〜８員環またはその縮合環をいう。こ
のような複素環基としては具体的には２−または３−ピ
ロリル；３−，４−または５−ピラゾリル；２−，４−
または５−イミダゾリル；１,２,３−または１,２,４−
トリアゾリル；１Ｈ−または２Ｈ−テトラゾリル；２−
または３−フリル；２−または３−チエニル；２−，４
−または５−オキサゾリル；３−，４−または５−イソ
キサゾリル；１,２,３−オキサジアゾール−４−イルま
たは１,２,３−オキサジアゾール−５−イル；１,２,４
−オキサジアゾール−３−イルまたは１,２,４−オキサ
ジアゾール−５−イル；１,２,５−または１,３,４−オ
キサジアゾリル；２−，４−または５−チアゾリル；３
−，４−または５−イソチアゾリル；１,２,３−チアジ
アゾール−４−イルまたは１,２,３−チアジアゾール−
５−イル；１,２,４−チアジアゾール−３−イルまたは
１,２,４−チアジアゾール−５−イル；１,２,５−また
は１,３,４−チアジアゾリル；２−または３−ピロリジ
ニル；２−，３−または４−ピリジル；２−，３−また
は４−ピリジル−Ｎ−オキシド；３−または４−ピリダ
ジニル；３−または４−ピリダジニル−Ｎ−オキシド；
２−，４−または５−ピリミジニル；２−，４−または
５−ピリミジニル−Ｎ−オキシド；ピラジニル；２−，
３−または４−ピペリジニル；ピペラジニル；３Ｈ−イ
ンドール−２−イルまたは３Ｈ−インドール−３−イ
ル；２−，３−または４−ピラニル；２−，３−または
４−チオピラニル；ベンゾピラニル；キノリル；ピリド
〔２,３−ｄ〕ピリミジル；１,５−，１,６−，１,７
−，１,８−，２,６−または２,７−ナフチリジル；チ
エノ〔２,３−ｄ〕ピリジル；ピリミドピリジル；ピラ
ジノキノリル；ベンゾピラニルなどが用いられる。「置
換されていてもよいＣ1-10アルキルスルホニル基」とし
てはたとえば、ハロゲン，Ｃ6-10アリール，Ｃ6-10アリ
ールオキシなどから選ばれた１〜３個の置換基で置換さ
れていてもよいＣ1-10アルキルスルホニル基が用いら
れ、具体的にはたとえばメタンスルホニル，エタンスル
ホニル，カンファースルホニルなどが用いられる。「置
換されていてもよいＣ6-10アリールスルホニル基」とし
てはたとえば、ハロゲン，ニトロ，Ｃ1-6アルキル，Ｃ
1-6アルコキシなどから選ばれた１〜３個の置換基で置
換されていてもよいＣ6-10アリールスルホニル基が用い
られ、具体的にはたとえば、ベンゼンスルホニル，ナフ
タレンスルホニル，ｐ−トルエンスルホニル，ｐ−tert
−ブチルベンゼンスルホニル，ｐ−メトキシベンゼンス
ルホニル，ｐ−クロロベンゼンスルホニル，ｐ−ニトロ
ベンゼンスルホニルなどが用いられる。
【０００９】「置換オキシカルボニル基」としてはたと
えば、Ｃ1-10アルコキシ−カルボニル基（例、メトキシ
カルボニル，エトキシカルボニル，ｎ−プロポキシカル
ボニル，イソプロポキシカルボニル，ｎ−ブトキシカル
ボニル，tert−ブトキシカルボニル，シクロプロピルオ
キシカルボニル，シクロペンチルオキシカルボニル，シ
クロヘキシルオキシカルボニル，ノルボルニルオキシカ
ルボニル等），Ｃ6-10アリールオキシ−カルボニル基
（例、フェノキシカルボニル，ナフチルオキシカルボニ
ル等）またはＣ7-19アラルキルオキシ−カルボニル基
（例、ベンジルオキシカルボニル，ベンズヒドリルオキ
シカルボニル等）のほか、それらがさらにＣ1-4アルコ
キシ基（例、メトキシ，エトキシ等），Ｃ1-4アシル基
（例、アセチル，プロピオニル等），置換シリル基（後
記する置換シリル基、例、トリメチルシリル，tert−ブ
チルジメチルシリル等），Ｃ1-4アルキルスルホニル基
（例、メタンスルホニル，エタンスルホニル等），ハロ
ゲン（例、フッ素，塩素，臭素等），シアノ，Ｃ1-4ア
ルキル基（例、メチル，エチル等），ニトロ等から選ば
れる置換基を１〜３個有しているものも含まれる。具体
的には例えばメトキシメチルオキシカルボニル，アセチ
ルメチルオキシカルボニル，２−トリメチルシリルエト
キシカルボニル，２−メタンスルホニルエトキシカルボ
ニル，２,２,２−トリクロロエトキシカルボニル，２−
シアノエトキシカルボニル，ｐ−メチルフエノキシカル
ボニル，ｐ−メトキシフエノキシカルボニル，ｐ−クロ
ロフエノキシカルボニル，ｐ−メチルベンジルオキシカ
ルボニル，ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル，ｐ
−クロロベンジルオキシカルボニル，ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルなどが用いられる。「置換されてい
てもよいカルバモイル基」としてはたとえば、Ｃ1-4ア
ルキル基（例、メチル，エチル等），フェニル基，Ｃ
1-7アシル基（例、アセチル，プロピオニル，ベンゾイ
ル等），Ｃ1-4アルコキシ−フェニル基（例、メトキシ
フェニル等）などから選ばれた１または２個の置換基で
置換されていてもよいカルバモイル基が用いられ、具体
的にはたとえば、Ｎ−メチルカルバモイル，Ｎ−エチル
カルバモイル，Ｎ,Ｎ−ジメチルカルバモイル，Ｎ,Ｎ−
ジエチルカルバモイル，Ｎ−フェニルカルバモイル，Ｎ
−アセチルカルバモイル，Ｎ−ベンゾイルカルバモイ
ル，Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）カルバモイルなどが
用いられる。「置換されていてもよいチオカルバモイル
基」としてはたとえば、Ｃ1-4アルキル基（例、メチ
ル，エチル等），フェニル基などから選ばれた１または
２個の置換基で置換されていてもよいチオカルバモイル
基が用いられ、たとえば、チオカルバモイル，Ｎ−メチ
ルチオカルバモイル，Ｎ−フェニルチオカルバモイルな
どが用いられる。
えば、Ｃ1-10アルコキシ−カルボニル基（例、メトキシ
カルボニル，エトキシカルボニル，ｎ−プロポキシカル
ボニル，イソプロポキシカルボニル，ｎ−ブトキシカル
ボニル，tert−ブトキシカルボニル，シクロプロピルオ
キシカルボニル，シクロペンチルオキシカルボニル，シ
クロヘキシルオキシカルボニル，ノルボルニルオキシカ
ルボニル等），Ｃ6-10アリールオキシ−カルボニル基
（例、フェノキシカルボニル，ナフチルオキシカルボニ
ル等）またはＣ7-19アラルキルオキシ−カルボニル基
（例、ベンジルオキシカルボニル，ベンズヒドリルオキ
シカルボニル等）のほか、それらがさらにＣ1-4アルコ
キシ基（例、メトキシ，エトキシ等），Ｃ1-4アシル基
（例、アセチル，プロピオニル等），置換シリル基（後
記する置換シリル基、例、トリメチルシリル，tert−ブ
チルジメチルシリル等），Ｃ1-4アルキルスルホニル基
（例、メタンスルホニル，エタンスルホニル等），ハロ
ゲン（例、フッ素，塩素，臭素等），シアノ，Ｃ1-4ア
ルキル基（例、メチル，エチル等），ニトロ等から選ば
れる置換基を１〜３個有しているものも含まれる。具体
的には例えばメトキシメチルオキシカルボニル，アセチ
ルメチルオキシカルボニル，２−トリメチルシリルエト
キシカルボニル，２−メタンスルホニルエトキシカルボ
ニル，２,２,２−トリクロロエトキシカルボニル，２−
シアノエトキシカルボニル，ｐ−メチルフエノキシカル
ボニル，ｐ−メトキシフエノキシカルボニル，ｐ−クロ
ロフエノキシカルボニル，ｐ−メチルベンジルオキシカ
ルボニル，ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル，ｐ
−クロロベンジルオキシカルボニル，ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルなどが用いられる。「置換されてい
てもよいカルバモイル基」としてはたとえば、Ｃ1-4ア
ルキル基（例、メチル，エチル等），フェニル基，Ｃ
1-7アシル基（例、アセチル，プロピオニル，ベンゾイ
ル等），Ｃ1-4アルコキシ−フェニル基（例、メトキシ
フェニル等）などから選ばれた１または２個の置換基で
置換されていてもよいカルバモイル基が用いられ、具体
的にはたとえば、Ｎ−メチルカルバモイル，Ｎ−エチル
カルバモイル，Ｎ,Ｎ−ジメチルカルバモイル，Ｎ,Ｎ−
ジエチルカルバモイル，Ｎ−フェニルカルバモイル，Ｎ
−アセチルカルバモイル，Ｎ−ベンゾイルカルバモイ
ル，Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）カルバモイルなどが
用いられる。「置換されていてもよいチオカルバモイル
基」としてはたとえば、Ｃ1-4アルキル基（例、メチ
ル，エチル等），フェニル基などから選ばれた１または
２個の置換基で置換されていてもよいチオカルバモイル
基が用いられ、たとえば、チオカルバモイル，Ｎ−メチ
ルチオカルバモイル，Ｎ−フェニルチオカルバモイルな
どが用いられる。
【００１０】「置換されていてもよいＣ6-10アリール−
メチル基」としてはたとえば、ハロゲン，ニトロ，Ｃ
1-6アルキル，Ｃ1-6アルコキシなどから選ばれた１〜３
個の置換基で置換されていてもよいＣ6-10アリール−メ
チル基が用いられ、具体的にはたとえば、ベンジル，ナ
フチルメチル，ｐ−メチルベンジル，ｐ−メトキシベン
ジル，ｐ−クロロベンジル，ｐ−ニトロベンジルなどが
用いられる。「置換されていてもよいジＣ6-10アリール
−メチル基」としてはたとえば、ハロゲン，ニトロ，Ｃ
1-6アルキル，Ｃ1-6アルコキシなどから選ばれた１〜３
個の置換基で置換されていてもよいジＣ6-10アリール−
メチル基が用いられ、具体的にはたとえば、ベンズヒド
リル，ジ（ｐ−トリル）メチルなどが用いられる。「置
換されていてもよいトリＣ6-10アリール−メチル基」と
してはたとえば、ハロゲン，ニトロ，Ｃ1-6アルキル，
Ｃ1-6アルコキシなどから選ばれた１〜３個の置換基で
置換されていてもよいトリＣ6-10アリール−メチル基が
用いられ、具体的にはたとえば、トリチル，トリ（ｐ−
トリル）メチルなどが用いられる。「置換されていても
よいＣ6-10アリール−メチレン基」としてはたとえば、
ハロゲン，ニトロ，Ｃ1-6アルキル，Ｃ1-6アルコキシな
どから選ばれた１〜３個の置換基で置換されていてもよ
いＣ6-10アリール−メチレン基が用いられ、具体的には
たとえば、ベンジリデン，ｐ−メチルベンジリデン，ｐ
−クロロベンジリデンなどが用いられる。「置換されて
いてもよいＣ6-10アリールチオ基」としてはたとえば、
ハロゲン，ニトロ，Ｃ1-6アルキル，Ｃ1-6アルコキシな
どから選ばれた１〜３個の置換基で置換されていてもよ
いＣ6-10アリールチオ基が用いられ、具体的にはたとえ
ば、ｏ−ニトロフェニルチオなどが用いられる。
メチル基」としてはたとえば、ハロゲン，ニトロ，Ｃ
1-6アルキル，Ｃ1-6アルコキシなどから選ばれた１〜３
個の置換基で置換されていてもよいＣ6-10アリール−メ
チル基が用いられ、具体的にはたとえば、ベンジル，ナ
フチルメチル，ｐ−メチルベンジル，ｐ−メトキシベン
ジル，ｐ−クロロベンジル，ｐ−ニトロベンジルなどが
用いられる。「置換されていてもよいジＣ6-10アリール
−メチル基」としてはたとえば、ハロゲン，ニトロ，Ｃ
1-6アルキル，Ｃ1-6アルコキシなどから選ばれた１〜３
個の置換基で置換されていてもよいジＣ6-10アリール−
メチル基が用いられ、具体的にはたとえば、ベンズヒド
リル，ジ（ｐ−トリル）メチルなどが用いられる。「置
換されていてもよいトリＣ6-10アリール−メチル基」と
してはたとえば、ハロゲン，ニトロ，Ｃ1-6アルキル，
Ｃ1-6アルコキシなどから選ばれた１〜３個の置換基で
置換されていてもよいトリＣ6-10アリール−メチル基が
用いられ、具体的にはたとえば、トリチル，トリ（ｐ−
トリル）メチルなどが用いられる。「置換されていても
よいＣ6-10アリール−メチレン基」としてはたとえば、
ハロゲン，ニトロ，Ｃ1-6アルキル，Ｃ1-6アルコキシな
どから選ばれた１〜３個の置換基で置換されていてもよ
いＣ6-10アリール−メチレン基が用いられ、具体的には
たとえば、ベンジリデン，ｐ−メチルベンジリデン，ｐ
−クロロベンジリデンなどが用いられる。「置換されて
いてもよいＣ6-10アリールチオ基」としてはたとえば、
ハロゲン，ニトロ，Ｃ1-6アルキル，Ｃ1-6アルコキシな
どから選ばれた１〜３個の置換基で置換されていてもよ
いＣ6-10アリールチオ基が用いられ、具体的にはたとえ
ば、ｏ−ニトロフェニルチオなどが用いられる。
【００１１】「置換シリル基」は保護されるアミノ基と
あわさって式Ｒ6Ｒ7Ｒ8ＳiＮＨ−，(Ｒ6Ｒ7Ｒ8Ｓi)2Ｎ
−または
あわさって式Ｒ6Ｒ7Ｒ8ＳiＮＨ−，(Ｒ6Ｒ7Ｒ8Ｓi)2Ｎ
−または
【化１２】 〔式中、Ｒ6,Ｒ7,Ｒ8,Ｒ9,Ｒ10,Ｒ9aおよびＲ10aはそれ
ぞれＣ1-6アルキル基またはＣ6-10アリール基を、Ｚaは
Ｃ1-3アルキレン基を示す〕で表わされるような基を形
成する。ここにおいて、「Ｃ1-6アルキル基」としては
たとえば、メチル，エチル，ｎ−プロピル，イソプロピ
ル，ｎ−ブチル，ｎ−ペンチルなど直鎖状または分枝状
のＣ1-6アルキル基などが用いられる。「Ｃ6-10アリー
ル基」としてはたとえば、フェニル，ナフチルなどが用
いられる。「Ｃ1-3アルキレン基」としてはたとえば、
メチレン，エチレン，プロピレンなどが用いられる。
「置換シリル基」の好ましい例としてはたとえば、トリ
メチルシリル，tert−ブチルジメチルシリル，−Ｓi(Ｃ
Ｈ3)2ＣＨ2ＣＨ2Ｓi(ＣＨ3)2−などが用いられる。「２
−Ｃ1-10アルコキシ−カルボニル−１−メチル−１−エ
テニル基」のＣ1-10アルコキシとしては、メトキシ，エ
トキシ，tert-ブトキシ, シクロヘキシルオキシなどの
直鎖状、分枝状または環状のＣ1-10アルコキシが用いら
れ、２−Ｃ1-10アルコキシ−カルボニル−１−メチル−
１−エテニル基として具体的にはたとえば、２−メトキ
シカルボニル−１−メチル−１−エテニル，２−エトキ
シカルボニル−１−メチル−１−エテニル，２−tert−
ブトキシカルボニル−１−メチル−１−エテニル，２−
シクロヘキシルオキシカルボニル−１−メチル−１−エ
テニル，２−ノルボルニルオキシカルボニル−１−メチ
ル−１−エテニルなどが用いられる。 Ｍ'で示される「アルカリ金属」としてはたとえば、ナ
トリウム，カリウムなどが好ましく、特にナトリウムな
どが好ましい。Ｒ1は抗菌活性からみてアミノ基が好ま
しい。
ぞれＣ1-6アルキル基またはＣ6-10アリール基を、Ｚaは
Ｃ1-3アルキレン基を示す〕で表わされるような基を形
成する。ここにおいて、「Ｃ1-6アルキル基」としては
たとえば、メチル，エチル，ｎ−プロピル，イソプロピ
ル，ｎ−ブチル，ｎ−ペンチルなど直鎖状または分枝状
のＣ1-6アルキル基などが用いられる。「Ｃ6-10アリー
ル基」としてはたとえば、フェニル，ナフチルなどが用
いられる。「Ｃ1-3アルキレン基」としてはたとえば、
メチレン，エチレン，プロピレンなどが用いられる。
「置換シリル基」の好ましい例としてはたとえば、トリ
メチルシリル，tert−ブチルジメチルシリル，−Ｓi(Ｃ
Ｈ3)2ＣＨ2ＣＨ2Ｓi(ＣＨ3)2−などが用いられる。「２
−Ｃ1-10アルコキシ−カルボニル−１−メチル−１−エ
テニル基」のＣ1-10アルコキシとしては、メトキシ，エ
トキシ，tert-ブトキシ, シクロヘキシルオキシなどの
直鎖状、分枝状または環状のＣ1-10アルコキシが用いら
れ、２−Ｃ1-10アルコキシ−カルボニル−１−メチル−
１−エテニル基として具体的にはたとえば、２−メトキ
シカルボニル−１−メチル−１−エテニル，２−エトキ
シカルボニル−１−メチル−１−エテニル，２−tert−
ブトキシカルボニル−１−メチル−１−エテニル，２−
シクロヘキシルオキシカルボニル−１−メチル−１−エ
テニル，２−ノルボルニルオキシカルボニル−１−メチ
ル−１−エテニルなどが用いられる。 Ｍ'で示される「アルカリ金属」としてはたとえば、ナ
トリウム，カリウムなどが好ましく、特にナトリウムな
どが好ましい。Ｒ1は抗菌活性からみてアミノ基が好ま
しい。
【００１２】Ｒ2は水素原子または炭素原子を介して結
合する基を表す。Ｒ2で表される「炭素原子を介して結
合する基」としてはたとえば、置換されていてもよい炭
化水素基（例えば、置換されていてもよいアルキル基、
置換されていてもよいアルケニル基、置換されていても
よいアラルキル基、置換されていてもよい環状炭化水素
基）または炭素原子に結合手を有する置換されていても
よい非芳香族複素環基などが好ましく、特に、置換され
ていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケ
ニル基、置換されていてもよい環状炭化水素基などが好
ましい。「置換されていてもよいアルキル基」の「アル
キル基」としてはたとえば、メチル，エチル，ｎ−プロ
ピル，イソプロピル，ｎ−ブチル，イソブチル，sec−
ブチル，tert−ブチル，ｎ−ペンチル，ｎ−ヘキシルな
どのＣ1-6アルキル基が好ましく、特にメチル，エチ
ル，イソプロピルなどが好ましい。「置換されていても
よいアルケニル基」の「アルケニル基」としてはたとえ
ば、ビニル，アリル，イソプロペニル，メタリル，１,
１−ジメチルアリル，２−ブテニル，３−ブテニルなど
のＣ2-6アルケニル基などが好ましい。「置換されてい
てもよいアラルキル基」の「アラルキル基」はたとえ
ば、ベンジル，１−フェニルエチル，２−フェニルエチ
ル，フェニルプロピル，ナフチルメチル，ベンズヒドリ
ルなどのＣ7-19アラルキル基が好ましい。「置換されて
いてもよい環状炭化水素基」の「環状炭化水素基」とし
てはたとえば、シクロプロピル，シクロブチル，シクロ
ペンチル，シクロヘキシル，シクロヘプチル，２−シク
ロペンテン−１−イル，３−シクロペンテン−１−イ
ル，２−シクロヘキセン−１−イル，３−シクロヘキセ
ン−１−イルなどの３〜７員非芳香族環状炭化水素基な
どが好ましく、特にシクロブチル、シクロペンチルなど
のＣ3-7シクロアルキル基などが好ましい。「置換され
ていてもよい非芳香族複素環基」の「非芳香族複素環
基」としてはたとえば、オキシラニル、アゼチジニル、
オキセタニル、チエタニル、ピロリジニル、テトラヒド
ロフリル、チオラニル、ピペリジル、テトラヒドロピラ
ニル、モルホリニル、チオモルホリニルなどの炭素原子
以外に窒素原子，酸素原子，硫黄原子などのヘテロ原子
を１または２個含む３ないし６員非芳香族複素環基など
が好ましい。
合する基を表す。Ｒ2で表される「炭素原子を介して結
合する基」としてはたとえば、置換されていてもよい炭
化水素基（例えば、置換されていてもよいアルキル基、
置換されていてもよいアルケニル基、置換されていても
よいアラルキル基、置換されていてもよい環状炭化水素
基）または炭素原子に結合手を有する置換されていても
よい非芳香族複素環基などが好ましく、特に、置換され
ていてもよいアルキル基、置換されていてもよいアルケ
ニル基、置換されていてもよい環状炭化水素基などが好
ましい。「置換されていてもよいアルキル基」の「アル
キル基」としてはたとえば、メチル，エチル，ｎ−プロ
ピル，イソプロピル，ｎ−ブチル，イソブチル，sec−
ブチル，tert−ブチル，ｎ−ペンチル，ｎ−ヘキシルな
どのＣ1-6アルキル基が好ましく、特にメチル，エチ
ル，イソプロピルなどが好ましい。「置換されていても
よいアルケニル基」の「アルケニル基」としてはたとえ
ば、ビニル，アリル，イソプロペニル，メタリル，１,
１−ジメチルアリル，２−ブテニル，３−ブテニルなど
のＣ2-6アルケニル基などが好ましい。「置換されてい
てもよいアラルキル基」の「アラルキル基」はたとえ
ば、ベンジル，１−フェニルエチル，２−フェニルエチ
ル，フェニルプロピル，ナフチルメチル，ベンズヒドリ
ルなどのＣ7-19アラルキル基が好ましい。「置換されて
いてもよい環状炭化水素基」の「環状炭化水素基」とし
てはたとえば、シクロプロピル，シクロブチル，シクロ
ペンチル，シクロヘキシル，シクロヘプチル，２−シク
ロペンテン−１−イル，３−シクロペンテン−１−イ
ル，２−シクロヘキセン−１−イル，３−シクロヘキセ
ン−１−イルなどの３〜７員非芳香族環状炭化水素基な
どが好ましく、特にシクロブチル、シクロペンチルなど
のＣ3-7シクロアルキル基などが好ましい。「置換され
ていてもよい非芳香族複素環基」の「非芳香族複素環
基」としてはたとえば、オキシラニル、アゼチジニル、
オキセタニル、チエタニル、ピロリジニル、テトラヒド
ロフリル、チオラニル、ピペリジル、テトラヒドロピラ
ニル、モルホリニル、チオモルホリニルなどの炭素原子
以外に窒素原子，酸素原子，硫黄原子などのヘテロ原子
を１または２個含む３ないし６員非芳香族複素環基など
が好ましい。
【００１３】前記「炭化水素基」が有していてもよい置
換基としてはたとえば、複素環基，水酸基，Ｃ1-6アル
コキシ基，Ｃ3-7シクロアルキルオキシ基，Ｃ6-10アリ
ールオキシ基，Ｃ7-19アラルキルオキシ基，複素環オキ
シ基，メルカプト基，Ｃ1-6アルキルチオ基，Ｃ3-10シ
クロアルキルチオ基，Ｃ6-10アリールチオ基，Ｃ7-19ア
ラルキルチオ基，複素環チオ基，アミノ基，モノＣ1-6
アルキルアミノ基，ジＣ1-6アルキルアミノ基，トリＣ
1-6アルキルアンモニウム基，Ｃ3-10シクロアルキルア
ミノ基，Ｃ6-10アリールアミノ基，Ｃ7-19アラルキルア
ミノ基，複素環アミノ基，環状アミノ基，アジド基，ニ
トロ基，ハロゲン原子，シアノ基，カルボキシル基，Ｃ
1-10アルコキシ−カルボニル基，Ｃ1-10アリールオキシ
−カルボニル基，Ｃ7-19アラルキルオキシ−カルボニル
基，Ｃ6-10アリール−カルボニル基，Ｃ1-6アルカノイ
ル基，Ｃ3-5アルケノイル基，Ｃ6-10アリール−カルボ
ニルオキシ基，Ｃ2-6アルカノイルオキシ基，Ｃ3-5アル
ケノイルオキシ基，置換されていてもよいカルバモイル
基，置換されていてもよいチオカルバモイル基，置換さ
れていてもよいカルバモイルオキシ基，フタルイミド
基，Ｃ1-6アルカノイルアミノ基，Ｃ6-10アリール−カ
ルボニルアミノ基，Ｃ1-10アルコキシ−カルボキサミド
基，Ｃ6-10アリールオキシ−カルボキサミド基，Ｃ7-19
アラルキルオキシ−カルボキサミド基などが挙げられ、
同一または異なって１ないし４個存在していてもよい。
換基としてはたとえば、複素環基，水酸基，Ｃ1-6アル
コキシ基，Ｃ3-7シクロアルキルオキシ基，Ｃ6-10アリ
ールオキシ基，Ｃ7-19アラルキルオキシ基，複素環オキ
シ基，メルカプト基，Ｃ1-6アルキルチオ基，Ｃ3-10シ
クロアルキルチオ基，Ｃ6-10アリールチオ基，Ｃ7-19ア
ラルキルチオ基，複素環チオ基，アミノ基，モノＣ1-6
アルキルアミノ基，ジＣ1-6アルキルアミノ基，トリＣ
1-6アルキルアンモニウム基，Ｃ3-10シクロアルキルア
ミノ基，Ｃ6-10アリールアミノ基，Ｃ7-19アラルキルア
ミノ基，複素環アミノ基，環状アミノ基，アジド基，ニ
トロ基，ハロゲン原子，シアノ基，カルボキシル基，Ｃ
1-10アルコキシ−カルボニル基，Ｃ1-10アリールオキシ
−カルボニル基，Ｃ7-19アラルキルオキシ−カルボニル
基，Ｃ6-10アリール−カルボニル基，Ｃ1-6アルカノイ
ル基，Ｃ3-5アルケノイル基，Ｃ6-10アリール−カルボ
ニルオキシ基，Ｃ2-6アルカノイルオキシ基，Ｃ3-5アル
ケノイルオキシ基，置換されていてもよいカルバモイル
基，置換されていてもよいチオカルバモイル基，置換さ
れていてもよいカルバモイルオキシ基，フタルイミド
基，Ｃ1-6アルカノイルアミノ基，Ｃ6-10アリール−カ
ルボニルアミノ基，Ｃ1-10アルコキシ−カルボキサミド
基，Ｃ6-10アリールオキシ−カルボキサミド基，Ｃ7-19
アラルキルオキシ−カルボキサミド基などが挙げられ、
同一または異なって１ないし４個存在していてもよい。
【００１４】「炭化水素基」の置換基の具体例として
は、「Ｃ1-6アルコキシ基」としてはたとえば、メトキ
シ，エトキシ，ｎ−プロポキシ，イソプロポキシ，ｎ−
ブトキシ，tert−ブトキシ，ｎ−ペンチルオキシ，ｎ−
ヘキシルオキシなどが、「Ｃ3-10シクロアルキルオキシ
基」としてはたとえば、シクロプロピルオキシ，シクロ
ヘキシルオキシなどが、「Ｃ6-10アリールオキシ基」と
してはたとえば、フェノキシ，ナフチルオキシなどが、
「Ｃ7-19アラルキルオキシ基」としてはたとえば、ベン
ジルオキシ，１−フェニルエチルオキシ，２−フェニル
エチルオキシ，ベンズヒドリルオキシなどが、「Ｃ1-6
アルキルチオ基」としてはたとえば、メチルチオ，エチ
ルチオ，ｎ−プロピルチオ，ｎ−ブチルチオなどが、
「Ｃ3-10シクロアルキルチオ基」としてはたとえば、シ
クロプロピルチオ，シクロヘキシルチオなどが、「Ｃ
6-10アリールチオ基」としてはたとえば、フェニルチ
オ，ナフチルチオなどが、「Ｃ7-19アラルキルチオ基」
としてはたとえば、ベンジルチオ，フェニルエチルチ
オ，ベンズヒドリルチオなどが、「モノＣ1-6アルキル
アミノ基」としてはたとえば、メチルアミノ，エチルア
ミノ，ｎ−プロピルアミノ，ｎ−ブチルアミノなどが、
「ジＣ1-6アルキルアミノ基」としてはたとえば、ジメ
チルアミノ，ジエチルアミノ，メチルエチルアミノ，ジ
−（ｎ−プロピル）アミノ，ジ−（ｎ−ブチル）アミノ
などが、「トリＣ1-6アルキルアンモニウム基」として
はたとえば、トリメチルアンモニウムなどが、「Ｃ3-10
シクロアルキルアミノ基」としてはたとえば、シクロプ
ロピルアミノ，シクロペンチルアミノ，シクロヘキシル
アミノなどが、「Ｃ6-10アリールアミノ基」としてはた
とえば、アニリノ，Ｎ−メチルアニリノなどが、「Ｃ
7-19アラルキルアミノ基」としてはたとえば、ベンジル
アミノ，１−フェニルエチルアミノ，２−フェニルエチ
ルアミノ，ベンズヒドリルアミノなどが、「環状アミノ
基」としてはたとえば、ピロリジノ，ピペリジノ，ピペ
ラジノ，モルホリノ，１−ピロリルなどが、「ハロゲン
原子」としてはたとえば、フッ素，塩素，臭素，ヨウ素
などが、「Ｃ1-10アルコキシ−カルボニル基」としては
たとえば、メトキシカルボニル，エトキシカルボニル，
ｎ−プロポキシカルボニル，イソプロポキシカルボニ
ル，ｎ−ブトキシカルボニル，イソブトキシカルボニ
ル，tert−ブトキシカルボニル，シクロペンチルオキシ
カルボニル，シクロヘキシルオキシカルボニル，ノルボ
ルニルオキシカルボニルなどが、「Ｃ6-10アリールオキ
シ−カルボニル基」としてはたとえば、フェノキシカル
ボニル，ナフチルオキシカルボニルなどが、「Ｃ7-19ア
ラルキルオキシ−カルボニル基」としてはたとえば、ベ
ンジルオキシカルボニル，ベンズヒドリルオキシカルボ
ニルなどが、「Ｃ6-10アリール−カルボニル基」として
はたとえば、ベンゾイル，ナフトイル，フタロイル，フ
ェニルアセチルなどが、「Ｃ1-6アルカノイル基」とし
てはたとえば、ホルミル，アセチル，プロピオニル，ブ
チリル，バレリル，ピバロイル，サクシニル，グルタリ
ルなどが、「Ｃ3-5アルケノイル基」としてはたとえ
ば、アクリロイル，クロトノイル，マレオイルなどが、
「Ｃ6-10アリール−カルボニルオキシ基」としてはたと
えば、ベンゾイルオキシ，ナフトイルオキシ，フェニル
アセトキシなどが、「Ｃ2-6アルカノイルオキシ基」と
してはたとえば、アセトキシ，プロピオニルオキシ，ブ
チリルオキシ，バレリルオキシ，ピバロイルオキシなど
が、「Ｃ3-5アルケノイルオキシ基」としてはたとえ
ば、アクリロイルオキシ，クロトノイルオキシなどがあ
げられる。「置換されていてもよいカルバモイル基」と
してはたとえば、Ｃ1-4アルキル基（例、メチル，エチ
ル等），フェニル基，Ｃ1-7アシル基（例、アセチル，
プロピオニル，ベンゾイル等），Ｃ1-4アルコキシ−フ
ェニル基（例、メトキシフェニル等）などから選ばれた
１または２個の置換基で置換されていてもよいカルバモ
イル基および環状アミノカルボニル基などが用いられ、
具体的にはたとえば、カルバモイル，Ｎ−メチルカルバ
モイル，Ｎ−エチルカルバモイル，Ｎ,Ｎ−ジメチルカ
ルバモイル，Ｎ,Ｎ−ジエチルカルバモイル，Ｎ−フェ
ニルカルバモイル，Ｎ−アセチルカルバモイル，Ｎ−ベ
ンゾイルカルバモイル，Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）
カルバモイル，ピロリジノカルボニル，ピペリジノカル
ボニル，ピペラジノカルボニル，モルホリノカルボニル
などが用いられる。「置換されていてもよいチオカルバ
モイル基」としてはたとえば、Ｃ1-4アルキル基（例、
メチル，エチル等），フェニル基などから選ばれた１ま
たは２個の置換基で置換されていてもよいチオカルバモ
イル基が用いられ、たとえば、チオカルバモイル，Ｎ−
メチルチオカルバモイル，Ｎ−フェニルチオカルバモイ
ルなどが用いられる。「置換されていてもよいカルバモ
イルオキシ基」はたとえば、Ｃ1-4アルキル基（例、メ
チル，エチル等），フェニル基などから選ばれた１また
は２個の置換基で置換されていてもよいカルバモイルオ
キシ基が用いられ、具体的にはたとえば、カルバモイル
オキシ，Ｎ−メチルカルバモイルオキシ，Ｎ,Ｎ−ジメ
チルカルバモイルオキシ，Ｎ−エチルカルバモイルオキ
シ，Ｎ−フェニルカルバモイルオキシなどが用いられ
る。また、「Ｃ1-6アルカノイルアミノ基」としてはた
とえば、アセトアミド，プロピオンアミド，ブチロアミ
ド，バレロアミド，ピバロアミドなどが、「Ｃ6-10アリ
ール−カルボニルアミノ基」としてはたとえば、ベンズ
アミド，ナフトイルアミド，フタルイミドなどが、「Ｃ
1-10アルコキシ−カルボキサミド基」としてはたとえ
ば、メトキシカルボキサミド（ＣＨ3ＯＣＯＮＨ−），
エトキシカルボキサミド，tert−ブトキシカルボキサミ
ドなどを、「Ｃ6-10アリールオキシ−カルボキサミド
基」としてはたとえば、フェノキシカルボキサミド（Ｃ
6Ｈ5ＯＣＯＮＨ−）などが、「Ｃ7-10アラルキルオキシ
−カルボキサミド基」としてはたとえば、ベンジルオキ
シカルボキサミド（Ｃ6Ｈ5ＣＨ2ＯＣＯＮＨ−），ベン
ズヒドリルオキシカルボキサミドなどがあげられる。
は、「Ｃ1-6アルコキシ基」としてはたとえば、メトキ
シ，エトキシ，ｎ−プロポキシ，イソプロポキシ，ｎ−
ブトキシ，tert−ブトキシ，ｎ−ペンチルオキシ，ｎ−
ヘキシルオキシなどが、「Ｃ3-10シクロアルキルオキシ
基」としてはたとえば、シクロプロピルオキシ，シクロ
ヘキシルオキシなどが、「Ｃ6-10アリールオキシ基」と
してはたとえば、フェノキシ，ナフチルオキシなどが、
「Ｃ7-19アラルキルオキシ基」としてはたとえば、ベン
ジルオキシ，１−フェニルエチルオキシ，２−フェニル
エチルオキシ，ベンズヒドリルオキシなどが、「Ｃ1-6
アルキルチオ基」としてはたとえば、メチルチオ，エチ
ルチオ，ｎ−プロピルチオ，ｎ−ブチルチオなどが、
「Ｃ3-10シクロアルキルチオ基」としてはたとえば、シ
クロプロピルチオ，シクロヘキシルチオなどが、「Ｃ
6-10アリールチオ基」としてはたとえば、フェニルチ
オ，ナフチルチオなどが、「Ｃ7-19アラルキルチオ基」
としてはたとえば、ベンジルチオ，フェニルエチルチ
オ，ベンズヒドリルチオなどが、「モノＣ1-6アルキル
アミノ基」としてはたとえば、メチルアミノ，エチルア
ミノ，ｎ−プロピルアミノ，ｎ−ブチルアミノなどが、
「ジＣ1-6アルキルアミノ基」としてはたとえば、ジメ
チルアミノ，ジエチルアミノ，メチルエチルアミノ，ジ
−（ｎ−プロピル）アミノ，ジ−（ｎ−ブチル）アミノ
などが、「トリＣ1-6アルキルアンモニウム基」として
はたとえば、トリメチルアンモニウムなどが、「Ｃ3-10
シクロアルキルアミノ基」としてはたとえば、シクロプ
ロピルアミノ，シクロペンチルアミノ，シクロヘキシル
アミノなどが、「Ｃ6-10アリールアミノ基」としてはた
とえば、アニリノ，Ｎ−メチルアニリノなどが、「Ｃ
7-19アラルキルアミノ基」としてはたとえば、ベンジル
アミノ，１−フェニルエチルアミノ，２−フェニルエチ
ルアミノ，ベンズヒドリルアミノなどが、「環状アミノ
基」としてはたとえば、ピロリジノ，ピペリジノ，ピペ
ラジノ，モルホリノ，１−ピロリルなどが、「ハロゲン
原子」としてはたとえば、フッ素，塩素，臭素，ヨウ素
などが、「Ｃ1-10アルコキシ−カルボニル基」としては
たとえば、メトキシカルボニル，エトキシカルボニル，
ｎ−プロポキシカルボニル，イソプロポキシカルボニ
ル，ｎ−ブトキシカルボニル，イソブトキシカルボニ
ル，tert−ブトキシカルボニル，シクロペンチルオキシ
カルボニル，シクロヘキシルオキシカルボニル，ノルボ
ルニルオキシカルボニルなどが、「Ｃ6-10アリールオキ
シ−カルボニル基」としてはたとえば、フェノキシカル
ボニル，ナフチルオキシカルボニルなどが、「Ｃ7-19ア
ラルキルオキシ−カルボニル基」としてはたとえば、ベ
ンジルオキシカルボニル，ベンズヒドリルオキシカルボ
ニルなどが、「Ｃ6-10アリール−カルボニル基」として
はたとえば、ベンゾイル，ナフトイル，フタロイル，フ
ェニルアセチルなどが、「Ｃ1-6アルカノイル基」とし
てはたとえば、ホルミル，アセチル，プロピオニル，ブ
チリル，バレリル，ピバロイル，サクシニル，グルタリ
ルなどが、「Ｃ3-5アルケノイル基」としてはたとえ
ば、アクリロイル，クロトノイル，マレオイルなどが、
「Ｃ6-10アリール−カルボニルオキシ基」としてはたと
えば、ベンゾイルオキシ，ナフトイルオキシ，フェニル
アセトキシなどが、「Ｃ2-6アルカノイルオキシ基」と
してはたとえば、アセトキシ，プロピオニルオキシ，ブ
チリルオキシ，バレリルオキシ，ピバロイルオキシなど
が、「Ｃ3-5アルケノイルオキシ基」としてはたとえ
ば、アクリロイルオキシ，クロトノイルオキシなどがあ
げられる。「置換されていてもよいカルバモイル基」と
してはたとえば、Ｃ1-4アルキル基（例、メチル，エチ
ル等），フェニル基，Ｃ1-7アシル基（例、アセチル，
プロピオニル，ベンゾイル等），Ｃ1-4アルコキシ−フ
ェニル基（例、メトキシフェニル等）などから選ばれた
１または２個の置換基で置換されていてもよいカルバモ
イル基および環状アミノカルボニル基などが用いられ、
具体的にはたとえば、カルバモイル，Ｎ−メチルカルバ
モイル，Ｎ−エチルカルバモイル，Ｎ,Ｎ−ジメチルカ
ルバモイル，Ｎ,Ｎ−ジエチルカルバモイル，Ｎ−フェ
ニルカルバモイル，Ｎ−アセチルカルバモイル，Ｎ−ベ
ンゾイルカルバモイル，Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）
カルバモイル，ピロリジノカルボニル，ピペリジノカル
ボニル，ピペラジノカルボニル，モルホリノカルボニル
などが用いられる。「置換されていてもよいチオカルバ
モイル基」としてはたとえば、Ｃ1-4アルキル基（例、
メチル，エチル等），フェニル基などから選ばれた１ま
たは２個の置換基で置換されていてもよいチオカルバモ
イル基が用いられ、たとえば、チオカルバモイル，Ｎ−
メチルチオカルバモイル，Ｎ−フェニルチオカルバモイ
ルなどが用いられる。「置換されていてもよいカルバモ
イルオキシ基」はたとえば、Ｃ1-4アルキル基（例、メ
チル，エチル等），フェニル基などから選ばれた１また
は２個の置換基で置換されていてもよいカルバモイルオ
キシ基が用いられ、具体的にはたとえば、カルバモイル
オキシ，Ｎ−メチルカルバモイルオキシ，Ｎ,Ｎ−ジメ
チルカルバモイルオキシ，Ｎ−エチルカルバモイルオキ
シ，Ｎ−フェニルカルバモイルオキシなどが用いられ
る。また、「Ｃ1-6アルカノイルアミノ基」としてはた
とえば、アセトアミド，プロピオンアミド，ブチロアミ
ド，バレロアミド，ピバロアミドなどが、「Ｃ6-10アリ
ール−カルボニルアミノ基」としてはたとえば、ベンズ
アミド，ナフトイルアミド，フタルイミドなどが、「Ｃ
1-10アルコキシ−カルボキサミド基」としてはたとえ
ば、メトキシカルボキサミド（ＣＨ3ＯＣＯＮＨ−），
エトキシカルボキサミド，tert−ブトキシカルボキサミ
ドなどを、「Ｃ6-10アリールオキシ−カルボキサミド
基」としてはたとえば、フェノキシカルボキサミド（Ｃ
6Ｈ5ＯＣＯＮＨ−）などが、「Ｃ7-10アラルキルオキシ
−カルボキサミド基」としてはたとえば、ベンジルオキ
シカルボキサミド（Ｃ6Ｈ5ＣＨ2ＯＣＯＮＨ−），ベン
ズヒドリルオキシカルボキサミドなどがあげられる。
【００１５】「炭化水素基」の置換基における複素環
基，複素環オキシ基，複素環チオ基および複素環アミノ
基の複素環基は複素環の炭素原子に結合している水素原
子を１個とりのぞいてできる基を表し、そのような複素
環は、たとえば窒素原子（オキシド化されていてもよ
い），酸素原子，硫黄原子などのヘテロ原子を１〜数
個、好ましくは１〜４個含む５〜８員環またはその縮合
環を示す。このような複素環基としては、たとえば２−
または３−ピロリル；３−，４−または５−ピラゾリ
ル；２−，４−または５−イミダゾリル；１,２,３−ま
たは１,２,４−トリアゾリル；１Ｈ−または２Ｈ−テト
ラゾリル；２−または３−フリル；２−または３−チエ
ニル；２−，４−または５−オキサゾリル；３−，４−
または５−イソキサゾリル；１,２,３−オキサジアゾー
ル−４−イルまたは１,２,３−オキサジアゾール−５−
イル；１,２,４−オキサジアゾール−３−イルまたは
１,２,４−オキサジアゾール−５−イル；１,２,５−ま
たは１,３,４−オキサジアゾリル；２−，４−または５
−チアゾリル；３−，４−または５−イソチアゾリル；
１,２,３−チアジアゾール−４−イルまたは１,２,３−
チアジアゾール−５−イル；１,２,４−チアジアゾール
−３−イルまたは１,２,４−チアジアゾール−５−イ
ル；１,２,５−または１,３,４−チアジアゾール；２−
または３−ピロリジニル；２−，３−または４−ピリジ
ル；２−，３−または４−ピリジル−Ｎ−オキシド；３
−または４−ピリダジニル；３−または４−ピリダジニ
ル−Ｎ−オキシド；２−，４−または５−ピリミジニ
ル；２−，４−または５−ピリミジニル−Ｎ−オキシ
ド；ピラジニル；２−，３−または４−ピペリジニル；
ピペラジニル；３Ｈ−インドール−２−イルまたは３Ｈ
−インドール−３−イル；２−，３−または４−ピラニ
ル；２−，３−または４−チオピラニル；ベンゾピラニ
ル；キノリル；ピリド〔２,３−ｄ〕ピリミジニル；１,
５−，１,６−，１,７−，１,８−，２,６−または２,
７−ナフチリジル；チエノ〔２,３−ｄ〕ピリジル；ピ
リミドピリジル；ピラジノキノリル；ベンゾピラニルな
どが挙げられる。
基，複素環オキシ基，複素環チオ基および複素環アミノ
基の複素環基は複素環の炭素原子に結合している水素原
子を１個とりのぞいてできる基を表し、そのような複素
環は、たとえば窒素原子（オキシド化されていてもよ
い），酸素原子，硫黄原子などのヘテロ原子を１〜数
個、好ましくは１〜４個含む５〜８員環またはその縮合
環を示す。このような複素環基としては、たとえば２−
または３−ピロリル；３−，４−または５−ピラゾリ
ル；２−，４−または５−イミダゾリル；１,２,３−ま
たは１,２,４−トリアゾリル；１Ｈ−または２Ｈ−テト
ラゾリル；２−または３−フリル；２−または３−チエ
ニル；２−，４−または５−オキサゾリル；３−，４−
または５−イソキサゾリル；１,２,３−オキサジアゾー
ル−４−イルまたは１,２,３−オキサジアゾール−５−
イル；１,２,４−オキサジアゾール−３−イルまたは
１,２,４−オキサジアゾール−５−イル；１,２,５−ま
たは１,３,４−オキサジアゾリル；２−，４−または５
−チアゾリル；３−，４−または５−イソチアゾリル；
１,２,３−チアジアゾール−４−イルまたは１,２,３−
チアジアゾール−５−イル；１,２,４−チアジアゾール
−３−イルまたは１,２,４−チアジアゾール−５−イ
ル；１,２,５−または１,３,４−チアジアゾール；２−
または３−ピロリジニル；２−，３−または４−ピリジ
ル；２−，３−または４−ピリジル−Ｎ−オキシド；３
−または４−ピリダジニル；３−または４−ピリダジニ
ル−Ｎ−オキシド；２−，４−または５−ピリミジニ
ル；２−，４−または５−ピリミジニル−Ｎ−オキシ
ド；ピラジニル；２−，３−または４−ピペリジニル；
ピペラジニル；３Ｈ−インドール−２−イルまたは３Ｈ
−インドール−３−イル；２−，３−または４−ピラニ
ル；２−，３−または４−チオピラニル；ベンゾピラニ
ル；キノリル；ピリド〔２,３−ｄ〕ピリミジニル；１,
５−，１,６−，１,７−，１,８−，２,６−または２,
７−ナフチリジル；チエノ〔２,３−ｄ〕ピリジル；ピ
リミドピリジル；ピラジノキノリル；ベンゾピラニルな
どが挙げられる。
【００１６】前記「置換されていてもよいアルキル基」
の「アルキル基」、「置換されていてもよいアルケニル
基」の「アルケニル基」、「置換されていてもよいアラ
ルキル基」の「アラルキル基」および「置換されていて
もよい環状炭化水素基」の「環状炭化水素基」が有して
いてもよい置換基としては、たとえば前記「置換されて
いてもよい炭化水素基」の「炭化水素基」が有していて
もよい置換基と同様のものなどが用いられる。前記「置
換されていてもよい炭化水素基」の好ましいものとして
は、たとえば、水酸基，Ｃ3-7シクロアルキル基（たと
えば、前記と同様のもの），Ｃ1-6アルコキシ基（たと
えば、前記と同様のもの），Ｃ1-6アルキルチオ基（た
とえば、前記と同様のもの），アミノ基，トリＣ1-6ア
ルキルアンモニウム基（たとえば、前記と同様のも
の），ハロゲン原子（たとえば、前記と同様のもの），
カルボキシル基，Ｃ1-10アルコキシカルボニル基（たと
えば、前記と同様のもの），置換されていてもよいカル
バモイル基，シアノ基，アジド基，複素環基（たとえ
ば、前記と同様のもの）などから選ばれた１ないし３個
の置換基で置換されたＣ1-6アルキル基（Ｃ1-6アルキル
基としては、たとえばメチル，エチル，ｎ−プロピル，
イソプロピルなどが用いられる）であり、それらを具体
的に挙げると、シクロプロピルメチル，メトキシメチ
ル，エトキシメチル，１−メトキシエチル，２−メトキ
シエチル，１−エトキシエチル，２−ヒドロキシエチ
ル，メチルチオメチル，２−アミノエチル，２−（トリ
メチルアンモニウム）エチル，２−（トリエチルアンモ
ニウム）エチル，フルオロメチル，ジフルオロメチル，
トリフルオロメチル，２−フルオロエチル，２,２−ジ
フルオロエチル，クロロメチル，２−クロロエチル，
２,２−ジクロロエチル，２,２,２−トリクロロエチ
ル，２−ブロモエチル，２−ヨードエチル，２,２,２−
トリフルオロエチル，カルボキシメチル，１−カルボキ
シエチル，２−カルボキシエチル，２−カルボキシプロ
ピル，３−カルボキシプロピル，１−カルボキシブチ
ル，シアノメチル，１−カルボキシ−１−メチルエチ
ル，メトキシカルボニルメチル，エトキシカルボニルメ
チル，tert−ブトキシカルボニルメチル，１−メトキシ
カルボニル−１−メチルエチル，１−エトキシカルボニ
ル−１−メチルエチル，１−tert−ブトキシカルボニル
−１−メチルエチル，１−ベンジルオキシカルボニル−
１−メチルエチル，１−ピバロイルオキシカルボニル−
１−メチルエチル，カルバモイルメチル，２−アジドエ
チル，２−（ピラゾリル）エチル，２−（イミダゾリ
ル）エチル，２−（２−オキソピロリジン−３−イル）
エチル，２−アミノ−４または５−チアゾリルメチル，
５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール−３−イルメチ
ル，１−カルボキシ−１−（２,３,４−トリヒドロキシ
フェニル）メチル，２−オキソ−３−ピロリジルなどが
挙げられる。前記した「炭化水素基」の置換基は１個に
限定されず、同一または異なって複数個（２ないし４
個）あってもよい。「置換されていてもよい炭化水素
基」のうち最も好ましいものはメチル，エチル，ｎ−プ
ロピル，イソプロピルなどの直鎖状及び分枝状のＣ1-3
アルキル基およびフルオロメチル、２−フルオロエチ
ル，２−クロロエチル，２−ヒドロキシエチル，２−メ
トキシエチル，シアノメチル，カルボキシメチル，tert
−ブトキシカルボニルメチル，１−カルボキシ−１−メ
チルエチル，１−tert−ブトキシカルボニル−１−メチ
ルエチルなどのハロゲン原子，水酸基，Ｃ1-6アルコキ
シ基，カルボキシル基，Ｃ1-10アルコキシカルボニル
基，シアノ基で置換された直鎖状又は分枝状のＣ1-3ア
ルキル基およびアリル基である。
の「アルキル基」、「置換されていてもよいアルケニル
基」の「アルケニル基」、「置換されていてもよいアラ
ルキル基」の「アラルキル基」および「置換されていて
もよい環状炭化水素基」の「環状炭化水素基」が有して
いてもよい置換基としては、たとえば前記「置換されて
いてもよい炭化水素基」の「炭化水素基」が有していて
もよい置換基と同様のものなどが用いられる。前記「置
換されていてもよい炭化水素基」の好ましいものとして
は、たとえば、水酸基，Ｃ3-7シクロアルキル基（たと
えば、前記と同様のもの），Ｃ1-6アルコキシ基（たと
えば、前記と同様のもの），Ｃ1-6アルキルチオ基（た
とえば、前記と同様のもの），アミノ基，トリＣ1-6ア
ルキルアンモニウム基（たとえば、前記と同様のも
の），ハロゲン原子（たとえば、前記と同様のもの），
カルボキシル基，Ｃ1-10アルコキシカルボニル基（たと
えば、前記と同様のもの），置換されていてもよいカル
バモイル基，シアノ基，アジド基，複素環基（たとえ
ば、前記と同様のもの）などから選ばれた１ないし３個
の置換基で置換されたＣ1-6アルキル基（Ｃ1-6アルキル
基としては、たとえばメチル，エチル，ｎ−プロピル，
イソプロピルなどが用いられる）であり、それらを具体
的に挙げると、シクロプロピルメチル，メトキシメチ
ル，エトキシメチル，１−メトキシエチル，２−メトキ
シエチル，１−エトキシエチル，２−ヒドロキシエチ
ル，メチルチオメチル，２−アミノエチル，２−（トリ
メチルアンモニウム）エチル，２−（トリエチルアンモ
ニウム）エチル，フルオロメチル，ジフルオロメチル，
トリフルオロメチル，２−フルオロエチル，２,２−ジ
フルオロエチル，クロロメチル，２−クロロエチル，
２,２−ジクロロエチル，２,２,２−トリクロロエチ
ル，２−ブロモエチル，２−ヨードエチル，２,２,２−
トリフルオロエチル，カルボキシメチル，１−カルボキ
シエチル，２−カルボキシエチル，２−カルボキシプロ
ピル，３−カルボキシプロピル，１−カルボキシブチ
ル，シアノメチル，１−カルボキシ−１−メチルエチ
ル，メトキシカルボニルメチル，エトキシカルボニルメ
チル，tert−ブトキシカルボニルメチル，１−メトキシ
カルボニル−１−メチルエチル，１−エトキシカルボニ
ル−１−メチルエチル，１−tert−ブトキシカルボニル
−１−メチルエチル，１−ベンジルオキシカルボニル−
１−メチルエチル，１−ピバロイルオキシカルボニル−
１−メチルエチル，カルバモイルメチル，２−アジドエ
チル，２−（ピラゾリル）エチル，２−（イミダゾリ
ル）エチル，２−（２−オキソピロリジン−３−イル）
エチル，２−アミノ−４または５−チアゾリルメチル，
５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール−３−イルメチ
ル，１−カルボキシ−１−（２,３,４−トリヒドロキシ
フェニル）メチル，２−オキソ−３−ピロリジルなどが
挙げられる。前記した「炭化水素基」の置換基は１個に
限定されず、同一または異なって複数個（２ないし４
個）あってもよい。「置換されていてもよい炭化水素
基」のうち最も好ましいものはメチル，エチル，ｎ−プ
ロピル，イソプロピルなどの直鎖状及び分枝状のＣ1-3
アルキル基およびフルオロメチル、２−フルオロエチ
ル，２−クロロエチル，２−ヒドロキシエチル，２−メ
トキシエチル，シアノメチル，カルボキシメチル，tert
−ブトキシカルボニルメチル，１−カルボキシ−１−メ
チルエチル，１−tert−ブトキシカルボニル−１−メチ
ルエチルなどのハロゲン原子，水酸基，Ｃ1-6アルコキ
シ基，カルボキシル基，Ｃ1-10アルコキシカルボニル
基，シアノ基で置換された直鎖状又は分枝状のＣ1-3ア
ルキル基およびアリル基である。
【００１７】前記「炭素原子に結合手を有する置換され
ていてもよい非芳香族複素環基」の非芳香族複素環基と
しては、たとえばオキシラニル、アゼチジニル、オキセ
タニル、チエタニル、ピロリジニル、テトラヒドロフリ
ル、チオラニル、ピペリジル、テトラヒドロピラニル、
モルホリニル、チオモルホリニルなどの炭素原子以外に
窒素原子、酸素原子、硫黄原子などのヘテロ原子を１ま
たは２個含む３ないし６員非芳香族複素環基などが用い
られる。「炭素原子に結合手を有する置換されていても
よい非芳香族複素環基」の置換基としては、前記「置換
されていてもよい炭化水素基」において例示した炭化水
素基およびその置換基などがあげられる。Ｒ2の好まし
いものとしては、たとえば水素原子または置換されてい
てもよい炭化水素残基であり、特にたとえばＣ1-6アル
キル基（たとえば、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピルなど）、Ｃ3-7シクロアルキル基（たとえば、シ
クロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロ
ヘキシルなど）などが挙げられる。
ていてもよい非芳香族複素環基」の非芳香族複素環基と
しては、たとえばオキシラニル、アゼチジニル、オキセ
タニル、チエタニル、ピロリジニル、テトラヒドロフリ
ル、チオラニル、ピペリジル、テトラヒドロピラニル、
モルホリニル、チオモルホリニルなどの炭素原子以外に
窒素原子、酸素原子、硫黄原子などのヘテロ原子を１ま
たは２個含む３ないし６員非芳香族複素環基などが用い
られる。「炭素原子に結合手を有する置換されていても
よい非芳香族複素環基」の置換基としては、前記「置換
されていてもよい炭化水素基」において例示した炭化水
素基およびその置換基などがあげられる。Ｒ2の好まし
いものとしては、たとえば水素原子または置換されてい
てもよい炭化水素残基であり、特にたとえばＣ1-6アル
キル基（たとえば、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピルなど）、Ｃ3-7シクロアルキル基（たとえば、シ
クロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロ
ヘキシルなど）などが挙げられる。
【００１８】
【化１３】 （Ｒ3は置換されていてもよい炭化水素基を示す）を示
す。Ｒ3で表される「置換されていてもよい炭化水素
基」としては、上記Ｒ2において例示した「置換されて
いてもよい炭化水素基」と同様のものが用いられる。Ｒ
3で表される「置換されていてもよい炭化水素基」でよ
り好ましいものは、たとえば水酸基，Ｃ3-7シクロアル
キル基，Ｃ1-6アルコキシ基，Ｃ1-6アルキルチオ基，ア
ミノ基，ハロゲン原子，カルボキシル基，Ｃ1-10アルコ
キシカルボニル基，置換されていてもよいカルバモイル
基，シアノ基，アジド基，複素環基などから選ばれた１
ないし３個の置換基で置換されていてもよいＣ1-6アル
キル基（Ｃ1-6アルキル基はメチル，エチル，ｎ−プロ
ピル，イソプロピルなどをいう）であり、それらを具体
的に挙げると、シクロプロピルメチル，メトキシメチ
ル，エトキシメチル，１−メトキシエチル，２−メトキ
シエチル，１−エトキシエチル，２−ヒドロキシエチ
ル，メチルチオメチル，２−アミノエチル，２−フルオ
ロエチル，２,２−ジフルオロエチル，クロロメチル，
２−クロロエチル，２,２−ジクロロエチル，２,２,２
−トリクロロエチル，２−ブロモエチル，２−ヨードエ
チル，２,２,２−トリフルオロエチル，カルボキシメチ
ル，１−カルボキシエチル，２−カルボキシエチル，２
−カルボキシプロピル，３−カルボキシプロピル，１−
カルボキシブチル，シアノメチル，１−カルボキシ−１
−メチルエチル，メトキシカルボニルメチル，エトキシ
カルボニルメチル，tert−ブトキシカルボニルメチル，
１−メトキシカルボニル−１−メチルエチル，１−エト
キシカルボニル−１−メチルエチル，１−tert−ブトキ
シカルボニル−１−メチルエチル，１−ベンジルオキシ
カルボニル−１−メチルエチル，１−ピバロイルオキシ
カルボニル−１−メチルエチル，カルバモイルメチル，
Ｎ−メチルカルバモイルメチル，Ｎ,Ｎ−ジメチルカル
バモイルメチル，２−アジドエチル，２−（ピラゾリ
ル）エチル，２−（イミダゾリル）エチル，２−（２−
オキソピロリジン−３−イル）エチル，１−カルボキシ
−１−（２,３,４−トリヒドロキシフェニル）メチルな
どが挙げられる。前記「炭化水素基」の置換基は１個に
限定されず、同一または異なって複数個（２ないし４
個）あってもよい。「置換されていてもよい炭化水素
基」のうち最も好ましいものは、たとえばメチル，エチ
ル，ｎ−プロピル，イソプロピルなどの直鎖状及び分枝
状のＣ1-3アルキル基および２−フルオロエチル，２−
クロロエチル，２−ヒドロキシエチル，２−メトキシエ
チル，シアノメチル，カルボキシメチル，メトキシカル
ボニルメチル，エトキシカルボニルメチル，カルバモイ
ルメチル，Ｎ−メチルカルバモイルメチル，Ｎ,Ｎ−ジ
メチルカルバモイルメチルなどのハロゲン原子，水酸
基，Ｃ1-6アルコキシ基，カルボキシル基，Ｃ1-10アル
コキシカルボニル基，シアノ基およびカルバモイル基か
ら選ばれた１ないし３個の置換基でで置換されていても
よい直鎖状のＣ 1-6アルキル基が挙げられる。Ｒ3として
は、たとえばＣ1-3アルキル基（たとえば、メチル、エ
チルなど）などが好ましい。ＡおよびＢとしては、Ａが
−Ｎ（Ｒ3）−で、Ｂが−ＣＨ＝が好ましい。
す。Ｒ3で表される「置換されていてもよい炭化水素
基」としては、上記Ｒ2において例示した「置換されて
いてもよい炭化水素基」と同様のものが用いられる。Ｒ
3で表される「置換されていてもよい炭化水素基」でよ
り好ましいものは、たとえば水酸基，Ｃ3-7シクロアル
キル基，Ｃ1-6アルコキシ基，Ｃ1-6アルキルチオ基，ア
ミノ基，ハロゲン原子，カルボキシル基，Ｃ1-10アルコ
キシカルボニル基，置換されていてもよいカルバモイル
基，シアノ基，アジド基，複素環基などから選ばれた１
ないし３個の置換基で置換されていてもよいＣ1-6アル
キル基（Ｃ1-6アルキル基はメチル，エチル，ｎ−プロ
ピル，イソプロピルなどをいう）であり、それらを具体
的に挙げると、シクロプロピルメチル，メトキシメチ
ル，エトキシメチル，１−メトキシエチル，２−メトキ
シエチル，１−エトキシエチル，２−ヒドロキシエチ
ル，メチルチオメチル，２−アミノエチル，２−フルオ
ロエチル，２,２−ジフルオロエチル，クロロメチル，
２−クロロエチル，２,２−ジクロロエチル，２,２,２
−トリクロロエチル，２−ブロモエチル，２−ヨードエ
チル，２,２,２−トリフルオロエチル，カルボキシメチ
ル，１−カルボキシエチル，２−カルボキシエチル，２
−カルボキシプロピル，３−カルボキシプロピル，１−
カルボキシブチル，シアノメチル，１−カルボキシ−１
−メチルエチル，メトキシカルボニルメチル，エトキシ
カルボニルメチル，tert−ブトキシカルボニルメチル，
１−メトキシカルボニル−１−メチルエチル，１−エト
キシカルボニル−１−メチルエチル，１−tert−ブトキ
シカルボニル−１−メチルエチル，１−ベンジルオキシ
カルボニル−１−メチルエチル，１−ピバロイルオキシ
カルボニル−１−メチルエチル，カルバモイルメチル，
Ｎ−メチルカルバモイルメチル，Ｎ,Ｎ−ジメチルカル
バモイルメチル，２−アジドエチル，２−（ピラゾリ
ル）エチル，２−（イミダゾリル）エチル，２−（２−
オキソピロリジン−３−イル）エチル，１−カルボキシ
−１−（２,３,４−トリヒドロキシフェニル）メチルな
どが挙げられる。前記「炭化水素基」の置換基は１個に
限定されず、同一または異なって複数個（２ないし４
個）あってもよい。「置換されていてもよい炭化水素
基」のうち最も好ましいものは、たとえばメチル，エチ
ル，ｎ−プロピル，イソプロピルなどの直鎖状及び分枝
状のＣ1-3アルキル基および２−フルオロエチル，２−
クロロエチル，２−ヒドロキシエチル，２−メトキシエ
チル，シアノメチル，カルボキシメチル，メトキシカル
ボニルメチル，エトキシカルボニルメチル，カルバモイ
ルメチル，Ｎ−メチルカルバモイルメチル，Ｎ,Ｎ−ジ
メチルカルバモイルメチルなどのハロゲン原子，水酸
基，Ｃ1-6アルコキシ基，カルボキシル基，Ｃ1-10アル
コキシカルボニル基，シアノ基およびカルバモイル基か
ら選ばれた１ないし３個の置換基でで置換されていても
よい直鎖状のＣ 1-6アルキル基が挙げられる。Ｒ3として
は、たとえばＣ1-3アルキル基（たとえば、メチル、エ
チルなど）などが好ましい。ＡおよびＢとしては、Ａが
−Ｎ（Ｒ3）−で、Ｂが−ＣＨ＝が好ましい。
【００１９】
【化１４】 ４位の窒素原子にあてはめたが、該陽電荷を１位の窒素
原子にあてはめれる場合もある。また１価の陽電荷がイ
ミダゾール環に非局在化している場合、さらに縮合環全
体に非局在化している場合もある。したがってたとえば
原子にあてはめれる場合もある。また１価の陽電荷がイ
ミダゾール環に非局在化している場合、さらに縮合環全
体に非局在化している場合もある。したがってたとえば
【化１５】 などのようにも表される。この陽電荷の存在位置は化合
物〔I〕の状態(固体か溶液中か)，溶媒の種類・液性，
温度，置換基の種類などによって流動的に変化するの
で、本発明は陽電荷が窒素原子に局在化した場合とイミ
ダゾール環または縮合環全体に非局在化した場合のすべ
てを包含するものとする。
物〔I〕の状態(固体か溶液中か)，溶媒の種類・液性，
温度，置換基の種類などによって流動的に変化するの
で、本発明は陽電荷が窒素原子に局在化した場合とイミ
ダゾール環または縮合環全体に非局在化した場合のすべ
てを包含するものとする。
【００２０】イミダゾピリダジン環はＲ3以外に好まし
くは１または２個の置換基を有していてもよい。かかる
置換基としてはたとえば、水酸基，ヒドロキシＣ1-6ア
ルキル基，Ｃ1-6アルキル基，Ｃ2-6アルケニル基，Ｃ
2-6アルキニル基，Ｃ3-10シクロアルキル基，Ｃ5-6シク
ロアルケニル基，Ｃ3-10シクロアルキルＣ1-6アルキル
基，Ｃ6-10アリール基，Ｃ7-12アラルキル基，複素環
基，Ｃ1-6アルコキシ基，Ｃ1-6アルコキシ−Ｃ1-6アル
キル基，アミノＣ1-6アルコキシ基，Ｃ3-10シクロアル
キルオキシ基，Ｃ6-10アリールオキシ基，Ｃ7-19アラル
キルオキシ基，メルカプト基，メルカプトＣ1-6アルキ
ル基，スルホ基，スルホＣ1-6アルキル基，Ｃ1-6アルキ
ルチオ基，Ｃ1-6アルキルチオＣ1-6アルキル基，Ｃ3-10
シクロアルキルチオ基，Ｃ6-10アリールチオ基，Ｃ7-19
アラルキルチオ基，アミノＣ1-6アルキルチオ基，アミ
ノ基，アミノＣ1-6アルキル基，モノＣ1-6アルキルアミ
ノ基，ジＣ1-6アルキルアミノ基，モノＣ1-6アルキルア
ミノＣ1-6アルキル基，ジＣ1-6アルキルアミノＣ1-6ア
ルキル基，Ｃ3-10シクロアルキルアミノ基，Ｃ6-10アリ
ールアミノ基，Ｃ7-19アラルキルアミノ基，環状アミノ
基，環状アミノＣ1-6アルキル基，環状アミノＣ1-6アル
キルアミノ基，アシルアミノ基，ウレイド基，Ｃ1-6ア
ルキルウレイド基，アジド基，ニトロ基，ハロゲン原
子，ハロゲノＣ1-6アルキル基，シアノ基，シアノＣ1-6
アルキル基，カルボキシル基，カルボキシＣ1-6アルキ
ル基，Ｃ1-10アルコキシ−カルボニル基，Ｃ1-10アルコ
キシ−カルボニルＣ1-6アルキル基，Ｃ6-10アリールオ
キシ−カルボニル基，Ｃ7-19アラルキルオキシ−カルボ
ニル基，Ｃ6-10アリール−カルボニル基，Ｃ1-6アルカ
ノイル基，Ｃ2-6アルカノイルＣ1-6アルキル基，Ｃ3-5
アルケノイル基，Ｃ6-10アリール−カルボニルオキシ
基，Ｃ2-6アルカノイルオキシ基，Ｃ2-6アルカノイルオ
キシＣ1-6アルキル基，Ｃ3-5アルケノイルオキシ基，カ
ルバモイルＣ1-6アルキル基，カルバモイル基，チオカ
ルバモイル基，カルバモイルオキシ基，カルバモイルオ
キシＣ1-6アルキル基，Ｃ1-6アルカノイルアミノ基，Ｃ
6-10アリール−カルボニルアミノ基，スルホンアミド
基，カルボキシアミノ基，Ｃ1-10アルコキシ−カルボキ
サミド基，Ｃ6-10アリールオキシ−カルボキサミド基，
Ｃ7-19アラルキルオキシ−カルボキサミド基などが用い
られる。これらの置換基の具体例を次に述べる。
くは１または２個の置換基を有していてもよい。かかる
置換基としてはたとえば、水酸基，ヒドロキシＣ1-6ア
ルキル基，Ｃ1-6アルキル基，Ｃ2-6アルケニル基，Ｃ
2-6アルキニル基，Ｃ3-10シクロアルキル基，Ｃ5-6シク
ロアルケニル基，Ｃ3-10シクロアルキルＣ1-6アルキル
基，Ｃ6-10アリール基，Ｃ7-12アラルキル基，複素環
基，Ｃ1-6アルコキシ基，Ｃ1-6アルコキシ−Ｃ1-6アル
キル基，アミノＣ1-6アルコキシ基，Ｃ3-10シクロアル
キルオキシ基，Ｃ6-10アリールオキシ基，Ｃ7-19アラル
キルオキシ基，メルカプト基，メルカプトＣ1-6アルキ
ル基，スルホ基，スルホＣ1-6アルキル基，Ｃ1-6アルキ
ルチオ基，Ｃ1-6アルキルチオＣ1-6アルキル基，Ｃ3-10
シクロアルキルチオ基，Ｃ6-10アリールチオ基，Ｃ7-19
アラルキルチオ基，アミノＣ1-6アルキルチオ基，アミ
ノ基，アミノＣ1-6アルキル基，モノＣ1-6アルキルアミ
ノ基，ジＣ1-6アルキルアミノ基，モノＣ1-6アルキルア
ミノＣ1-6アルキル基，ジＣ1-6アルキルアミノＣ1-6ア
ルキル基，Ｃ3-10シクロアルキルアミノ基，Ｃ6-10アリ
ールアミノ基，Ｃ7-19アラルキルアミノ基，環状アミノ
基，環状アミノＣ1-6アルキル基，環状アミノＣ1-6アル
キルアミノ基，アシルアミノ基，ウレイド基，Ｃ1-6ア
ルキルウレイド基，アジド基，ニトロ基，ハロゲン原
子，ハロゲノＣ1-6アルキル基，シアノ基，シアノＣ1-6
アルキル基，カルボキシル基，カルボキシＣ1-6アルキ
ル基，Ｃ1-10アルコキシ−カルボニル基，Ｃ1-10アルコ
キシ−カルボニルＣ1-6アルキル基，Ｃ6-10アリールオ
キシ−カルボニル基，Ｃ7-19アラルキルオキシ−カルボ
ニル基，Ｃ6-10アリール−カルボニル基，Ｃ1-6アルカ
ノイル基，Ｃ2-6アルカノイルＣ1-6アルキル基，Ｃ3-5
アルケノイル基，Ｃ6-10アリール−カルボニルオキシ
基，Ｃ2-6アルカノイルオキシ基，Ｃ2-6アルカノイルオ
キシＣ1-6アルキル基，Ｃ3-5アルケノイルオキシ基，カ
ルバモイルＣ1-6アルキル基，カルバモイル基，チオカ
ルバモイル基，カルバモイルオキシ基，カルバモイルオ
キシＣ1-6アルキル基，Ｃ1-6アルカノイルアミノ基，Ｃ
6-10アリール−カルボニルアミノ基，スルホンアミド
基，カルボキシアミノ基，Ｃ1-10アルコキシ−カルボキ
サミド基，Ｃ6-10アリールオキシ−カルボキサミド基，
Ｃ7-19アラルキルオキシ−カルボキサミド基などが用い
られる。これらの置換基の具体例を次に述べる。
【００２１】「ヒドロキシＣ1-6アルキル基」としては、
たとえばヒドロキシメチル，１−ヒドロキシエチル，２
−ヒドロキシエチル，３−ヒドロキシプロピルなどが用
いられる。「Ｃ1-6アルキル基」としては、たとえば直鎖
状または分枝状の炭素数１〜６のアルキル基が好まし
く、たとえばメチル，エチル，n−プロピル，イソプロ
ピル，n−ブチル，イソブチル，sec−ブチル，tert−ブ
チル，n−ペンチル，n−ヘキシルなどが用いられる。
「Ｃ2-6アルケニル基」としては、たとえば直鎖状または
分枝状の炭素数２〜６のアルケニル基が好ましく、たと
えばビニル，アリル，１−プロペニル，イソプロペニ
ル，１−ブテニル，２−ブテニル，３−ブテニル，メタ
リル，１,１−ジメチルアリルなどが用いられる。「Ｃ
2-6アルキニル基」としては、たとえば直鎖状または分枝
状の炭素数２〜６のアルキニル基が好ましく、たとえば
エチニル，１−プロピニル，プロパルギルなどが用いら
れる。「Ｃ3-10シクロアルキル基」としては、たとえば炭
素数３〜１０からなる３〜７員脂環状炭化水素基が好ま
しく、たとえばシクロプロピル，シクロブチル，シクロ
ペンチル，シクロヘキシル，シクロヘプチル，ノルボル
ニル，アダマンチルなどが用いられる。「 Ｃ5-6シクロアルケニル基」としては、たとえば二重結
合を有する５〜６員脂環状炭化水素基が好ましく、たと
えばシクロペンテニル，シクロペンタジエニル，シクロ
ヘキセニル，シクロヘキサジエニルなどが用いられる。
「Ｃ3-10シクロアルキルＣ1-6アルキル基」としては、
たとえばシクロプロピルメチル，シクロプロピルエチ
ル，シクロブチルメチルなどが用いられる。
たとえばヒドロキシメチル，１−ヒドロキシエチル，２
−ヒドロキシエチル，３−ヒドロキシプロピルなどが用
いられる。「Ｃ1-6アルキル基」としては、たとえば直鎖
状または分枝状の炭素数１〜６のアルキル基が好まし
く、たとえばメチル，エチル，n−プロピル，イソプロ
ピル，n−ブチル，イソブチル，sec−ブチル，tert−ブ
チル，n−ペンチル，n−ヘキシルなどが用いられる。
「Ｃ2-6アルケニル基」としては、たとえば直鎖状または
分枝状の炭素数２〜６のアルケニル基が好ましく、たと
えばビニル，アリル，１−プロペニル，イソプロペニ
ル，１−ブテニル，２−ブテニル，３−ブテニル，メタ
リル，１,１−ジメチルアリルなどが用いられる。「Ｃ
2-6アルキニル基」としては、たとえば直鎖状または分枝
状の炭素数２〜６のアルキニル基が好ましく、たとえば
エチニル，１−プロピニル，プロパルギルなどが用いら
れる。「Ｃ3-10シクロアルキル基」としては、たとえば炭
素数３〜１０からなる３〜７員脂環状炭化水素基が好ま
しく、たとえばシクロプロピル，シクロブチル，シクロ
ペンチル，シクロヘキシル，シクロヘプチル，ノルボル
ニル，アダマンチルなどが用いられる。「 Ｃ5-6シクロアルケニル基」としては、たとえば二重結
合を有する５〜６員脂環状炭化水素基が好ましく、たと
えばシクロペンテニル，シクロペンタジエニル，シクロ
ヘキセニル，シクロヘキサジエニルなどが用いられる。
「Ｃ3-10シクロアルキルＣ1-6アルキル基」としては、
たとえばシクロプロピルメチル，シクロプロピルエチ
ル，シクロブチルメチルなどが用いられる。
【００２２】「Ｃ6-10アリール基」としては、たとえばフ
ェニル，α−ナフチル，β−ナフチル，ビフェニリルな
どが用いられる。「 Ｃ7-12アラルキル基」としては、たとえばベンジル，１
−フェニルエチル，２−フェニルエチル，フェニルプロ
ピル，ナフチルメチルなどが用いられる。 「複素環基」は複素環の炭素原子に結合している水素原
子を１個とりのぞいてできる基を表し、そのような複素
環はたとえば、窒素原子（オキシド化されていてもよ
い），酸素原子，硫黄原子などのヘテロ原子を１〜数
個、好ましくは１〜４個含む５〜８員環またはその縮合
環を示す。このような複素環基としては具体的には、２
−または３−ピロリル；３−，４−または５−ピラゾリ
ル；２−，４−または５−イミダゾリル；１,２,３−ま
たは１,２,４−トリアゾリル；１Ｈ−または２Ｈ−テト
ラゾリル；２−または３−フリル；２−または３−チエ
ニル；２−，４−または５−オキサゾリル；３−，４−
または５−イソキサゾリル；１,２,３−オキサジアゾー
ル−４−イルまたは１,２,３−オキサジアゾール−５−
イル；１,２,４−オキサジアゾール−３−イルまたは
１,２,４−オキサジアゾール−５−イル；１,２,５−ま
たは１,３,４−オキサジアゾリル；２−，４−または５
−チアゾリル；３−，４−または５−イソチアゾリル；
１,２,３−チアジアゾール−４−イルまたは１,２,３−
チアジアゾール−５−イル；１,２,４−チアジアゾール
−３−イルまたは１,２,４−チアジアゾール−５−イ
ル；１,２,５−または１,３,４−チアジアゾリル；２−
または３−ピロリジニル；２−，３−または４−ピリジ
ル；２−，３−または４−ピリジル−Ｎ−オキシド；３
−または４−ピリダジニル；３−または４−ピリダジニ
ル−Ｎ−オキシド；２−，４−または５−ピリミジニ
ル；２−，４−または５−ピリミジニル−Ｎ−オキシ
ド；ピラジニル；２−，３−または４−ピペリジニル；
ピペラジニル；３Ｈ−インドール−２−イルまたは３Ｈ
−インドール−３−イル；２−，３−または４−ピラニ
ル；２−，３−または４−チオピラニル；ベンゾピラニ
ル；キノリル；ピリド〔２,３−ｄ〕ピリミジル；１,５
−，１,６−，１,７−，１,８−，２,６−または２,７
−ナフチリジル；チエノ〔２,３−ｄ〕ピリジル；ピリ
ミドピリジル；ピラジノキノリル；ベンゾピラニルなど
が用いられる。「Ｃ1-6アルコキシ基」としては、たとえ
ばメトキシ，エトキシ，n−プロポキシ，イソプロポキ
シ，n−ブトキシ，tert−ブトキシ，アシルオキシ，ヘ
キシルオキシなどが用いられる。
ェニル，α−ナフチル，β−ナフチル，ビフェニリルな
どが用いられる。「 Ｃ7-12アラルキル基」としては、たとえばベンジル，１
−フェニルエチル，２−フェニルエチル，フェニルプロ
ピル，ナフチルメチルなどが用いられる。 「複素環基」は複素環の炭素原子に結合している水素原
子を１個とりのぞいてできる基を表し、そのような複素
環はたとえば、窒素原子（オキシド化されていてもよ
い），酸素原子，硫黄原子などのヘテロ原子を１〜数
個、好ましくは１〜４個含む５〜８員環またはその縮合
環を示す。このような複素環基としては具体的には、２
−または３−ピロリル；３−，４−または５−ピラゾリ
ル；２−，４−または５−イミダゾリル；１,２,３−ま
たは１,２,４−トリアゾリル；１Ｈ−または２Ｈ−テト
ラゾリル；２−または３−フリル；２−または３−チエ
ニル；２−，４−または５−オキサゾリル；３−，４−
または５−イソキサゾリル；１,２,３−オキサジアゾー
ル−４−イルまたは１,２,３−オキサジアゾール−５−
イル；１,２,４−オキサジアゾール−３−イルまたは
１,２,４−オキサジアゾール−５−イル；１,２,５−ま
たは１,３,４−オキサジアゾリル；２−，４−または５
−チアゾリル；３−，４−または５−イソチアゾリル；
１,２,３−チアジアゾール−４−イルまたは１,２,３−
チアジアゾール−５−イル；１,２,４−チアジアゾール
−３−イルまたは１,２,４−チアジアゾール−５−イ
ル；１,２,５−または１,３,４−チアジアゾリル；２−
または３−ピロリジニル；２−，３−または４−ピリジ
ル；２−，３−または４−ピリジル−Ｎ−オキシド；３
−または４−ピリダジニル；３−または４−ピリダジニ
ル−Ｎ−オキシド；２−，４−または５−ピリミジニ
ル；２−，４−または５−ピリミジニル−Ｎ−オキシ
ド；ピラジニル；２−，３−または４−ピペリジニル；
ピペラジニル；３Ｈ−インドール−２−イルまたは３Ｈ
−インドール−３−イル；２−，３−または４−ピラニ
ル；２−，３−または４−チオピラニル；ベンゾピラニ
ル；キノリル；ピリド〔２,３−ｄ〕ピリミジル；１,５
−，１,６−，１,７−，１,８−，２,６−または２,７
−ナフチリジル；チエノ〔２,３−ｄ〕ピリジル；ピリ
ミドピリジル；ピラジノキノリル；ベンゾピラニルなど
が用いられる。「Ｃ1-6アルコキシ基」としては、たとえ
ばメトキシ，エトキシ，n−プロポキシ，イソプロポキ
シ，n−ブトキシ，tert−ブトキシ，アシルオキシ，ヘ
キシルオキシなどが用いられる。
【００２３】「Ｃ1-6アルコキシ−Ｃ1-6アルキル基」とし
ては、たとえばメトキシメチル，エトキシメチル，２−
メトキシエチルなどが用いられる。「アミノＣ1-6アル
コキシ基」としては、たとえばアミノメトキシ，２−ア
ミノエトキシ，３−アミノプロポキシなどが用いられ
る。「Ｃ3-10シクロアルキルオキシ基」としては、たとえ
ばシクロプロピルオキシ，シクロペンチルオキシ，シク
ロヘキシルオキシ，ノルボルニルオキシなどが用いられ
る。「Ｃ6-10アリールオキシ基」としては、たとえばフェ
ノキシ，ナフチルオキシなどが用いられる。「Ｃ7-19ア
ラルキルオキシ基」としては、たとえばベンジルオキ
シ，１−フェニルエチルオキシ，２−フェニルエチルオ
キシ，ナフチルメチルオキシ，ベンズヒドリルオキシ，
トリチルオキシなどが用いられる。「メルカプトＣ1-6ア
ルキル基」としては、たとえばメルカプトメチル，１−
メルカプトエチル，２−メルカプトエチルなどが用いら
れる。「スルホＣ1-6アルキル基」としては、たとえばス
ルホメチル，２−スルホエチルなどが用いられる。「Ｃ
1-6アルキルチオ基」としては、たとえばメチルチオ，エ
チルチオ，n−プロピルチオ，n−ブチルチオなどが用い
られる。「Ｃ1-6アルキルチオＣ1-6アルキル基」として
は、たとえばメチルチオメチル，２−メチルチオエチル
などが用いられる。「Ｃ3-10シクロアルキルチオ基」とし
ては、たとえばシクロプロピルチオ，シクロヘキシルチ
オなどが用いられる。「Ｃ6-10アリールチオ基」として
は、たとえばフェニルチオ，ナフチルチオなどが用いら
れる。
ては、たとえばメトキシメチル，エトキシメチル，２−
メトキシエチルなどが用いられる。「アミノＣ1-6アル
コキシ基」としては、たとえばアミノメトキシ，２−ア
ミノエトキシ，３−アミノプロポキシなどが用いられ
る。「Ｃ3-10シクロアルキルオキシ基」としては、たとえ
ばシクロプロピルオキシ，シクロペンチルオキシ，シク
ロヘキシルオキシ，ノルボルニルオキシなどが用いられ
る。「Ｃ6-10アリールオキシ基」としては、たとえばフェ
ノキシ，ナフチルオキシなどが用いられる。「Ｃ7-19ア
ラルキルオキシ基」としては、たとえばベンジルオキ
シ，１−フェニルエチルオキシ，２−フェニルエチルオ
キシ，ナフチルメチルオキシ，ベンズヒドリルオキシ，
トリチルオキシなどが用いられる。「メルカプトＣ1-6ア
ルキル基」としては、たとえばメルカプトメチル，１−
メルカプトエチル，２−メルカプトエチルなどが用いら
れる。「スルホＣ1-6アルキル基」としては、たとえばス
ルホメチル，２−スルホエチルなどが用いられる。「Ｃ
1-6アルキルチオ基」としては、たとえばメチルチオ，エ
チルチオ，n−プロピルチオ，n−ブチルチオなどが用い
られる。「Ｃ1-6アルキルチオＣ1-6アルキル基」として
は、たとえばメチルチオメチル，２−メチルチオエチル
などが用いられる。「Ｃ3-10シクロアルキルチオ基」とし
ては、たとえばシクロプロピルチオ，シクロヘキシルチ
オなどが用いられる。「Ｃ6-10アリールチオ基」として
は、たとえばフェニルチオ，ナフチルチオなどが用いら
れる。
【００２４】「Ｃ7-19アラルキルチオ基」としては、たと
えばベンジルチオ，フェニルエチルチオ，ベンズヒドリ
ルチオ，トリチルチオなどが用いられる。「アミノＣ1-6
アルキルチオ基」としては、たとえばアミノメチルチ
オ，２−アミノエチルチオ，３−アミノプロピルチオな
どが用いられる。「アミノＣ1-6アルキル基」としては、
たとえばアミノメチル，２−アミノエチル，３−アミノ
プロピルなどが用いられる。「モノＣ1-6アルキルアミノ
基」としては、たとえばメチルアミノ，エチルアミノ，n
−プロピルアミノ，n−ブチルアミノ，tert−ブチルア
ミノ，n−ペンチルアミノ，n−ヘキシルアミノなどが用
いられる。「ジＣ1-6アルキルアミノ基」としては、たと
えばジメチルアミノ，ジエチルアミノ，メチルエチルア
ミノ，ジ−(n−プロピル)アミノ，ジ−(n−ブチル)アミ
ノなどが用いられる。「モノＣ1-6アルキルアミノＣ1-6
アルキル基」としては、たとえばメチルアミノメチル，
エチルアミノメチル，２−(Ｎ−メチルアミノ)エチル，
３−(Ｎ−メチルアミノ)プロピルなどが用いられる。
「ジＣ1-6アルキルアミノＣ1-6アルキル基」としては、た
とえば、Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノメチル，Ｎ,Ｎ−ジエチ
ルアミノメチル，２−(Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノ)エチ
ル，２−(Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノ)エチル，３−(Ｎ,Ｎ
−ジメチルアミノ)プロピルなどが用いられる。
えばベンジルチオ，フェニルエチルチオ，ベンズヒドリ
ルチオ，トリチルチオなどが用いられる。「アミノＣ1-6
アルキルチオ基」としては、たとえばアミノメチルチ
オ，２−アミノエチルチオ，３−アミノプロピルチオな
どが用いられる。「アミノＣ1-6アルキル基」としては、
たとえばアミノメチル，２−アミノエチル，３−アミノ
プロピルなどが用いられる。「モノＣ1-6アルキルアミノ
基」としては、たとえばメチルアミノ，エチルアミノ，n
−プロピルアミノ，n−ブチルアミノ，tert−ブチルア
ミノ，n−ペンチルアミノ，n−ヘキシルアミノなどが用
いられる。「ジＣ1-6アルキルアミノ基」としては、たと
えばジメチルアミノ，ジエチルアミノ，メチルエチルア
ミノ，ジ−(n−プロピル)アミノ，ジ−(n−ブチル)アミ
ノなどが用いられる。「モノＣ1-6アルキルアミノＣ1-6
アルキル基」としては、たとえばメチルアミノメチル，
エチルアミノメチル，２−(Ｎ−メチルアミノ)エチル，
３−(Ｎ−メチルアミノ)プロピルなどが用いられる。
「ジＣ1-6アルキルアミノＣ1-6アルキル基」としては、た
とえば、Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノメチル，Ｎ,Ｎ−ジエチ
ルアミノメチル，２−(Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノ)エチ
ル，２−(Ｎ,Ｎ−ジエチルアミノ)エチル，３−(Ｎ,Ｎ
−ジメチルアミノ)プロピルなどが用いられる。
【００２５】「Ｃ3-10シクロアルキルアミノ基」として
は、たとえばシクロプロピルアミノ，シクロペンチルア
ミノ，シクロヘキシルアミノなどが用いられる。「Ｃ
6-10アリールアミノ基」としては、たとえばアニリノ，
Ｎ−メチルアニリノなどが用いられる。「Ｃ7-19アラル
キルアミノ基」としては、たとえばベンジルアミノ，１
−フェニルエチルアミノ，２−フェニルエチルアミノ，
ベンズヒドリルアミノ，トリチルアミノなどが用いられ
る。「環状アミノ基」は環形成原子として１個以上の窒素
原子を含有する複素環であって環形成窒素原子に結合し
ている水素原子を１個とりのぞいてできる基を表し、た
とえば１Ｈ−テトラゾール−１−イル，１Ｈ−ピロール
−１−イル，ピロリノ，ピロリジノ，１Ｈ−イミダゾー
ル−１−イル，イミダゾリノ，イミダゾリジノ，１Ｈ−
ピラゾール−１−イル，ピラゾリノ，ピラゾリジノ，ピ
ペリジノ，ピペラジノ，モルホリノなどが用いられる。
「環状アミノＣ1-6アルキル基」としては、たとえばピロ
リジノメチル，ピペリジノメチル，ピペラジノメチル，
モルホリノメチル，２−(モルホリノ)エチルなどが用い
られる。「環状アミノＣ1-6アルキルアミノ基」の環状ア
ミノＣ1-6アルキル基は上記の環状アミノＣ1-6アルキル
基が好ましく、「環状アミノＣ1-6アルキルアミノ基」
としては、たとえばピロリジノエチルアミノ，ピペリジ
ノエチルアミノ，ピペラジノエチルアミノ，モルホリノ
エチルアミノなどが用いられる。
は、たとえばシクロプロピルアミノ，シクロペンチルア
ミノ，シクロヘキシルアミノなどが用いられる。「Ｃ
6-10アリールアミノ基」としては、たとえばアニリノ，
Ｎ−メチルアニリノなどが用いられる。「Ｃ7-19アラル
キルアミノ基」としては、たとえばベンジルアミノ，１
−フェニルエチルアミノ，２−フェニルエチルアミノ，
ベンズヒドリルアミノ，トリチルアミノなどが用いられ
る。「環状アミノ基」は環形成原子として１個以上の窒素
原子を含有する複素環であって環形成窒素原子に結合し
ている水素原子を１個とりのぞいてできる基を表し、た
とえば１Ｈ−テトラゾール−１−イル，１Ｈ−ピロール
−１−イル，ピロリノ，ピロリジノ，１Ｈ−イミダゾー
ル−１−イル，イミダゾリノ，イミダゾリジノ，１Ｈ−
ピラゾール−１−イル，ピラゾリノ，ピラゾリジノ，ピ
ペリジノ，ピペラジノ，モルホリノなどが用いられる。
「環状アミノＣ1-6アルキル基」としては、たとえばピロ
リジノメチル，ピペリジノメチル，ピペラジノメチル，
モルホリノメチル，２−(モルホリノ)エチルなどが用い
られる。「環状アミノＣ1-6アルキルアミノ基」の環状ア
ミノＣ1-6アルキル基は上記の環状アミノＣ1-6アルキル
基が好ましく、「環状アミノＣ1-6アルキルアミノ基」
としては、たとえばピロリジノエチルアミノ，ピペリジ
ノエチルアミノ，ピペラジノエチルアミノ，モルホリノ
エチルアミノなどが用いられる。
【００２６】「アシルアミノ基」におけるアシル基とし
ては、アルカノイル基（たとえばホルミル，アセチル，
プロピオニル，ブチリル，イソブチリル，バレリル，イ
ソバレリル，ピバロイルなどのＣ1-6アルカノイル基
等），アルケノイル基（たとえばアクリロイル，クロト
ノイル，マレオイルなどのＣ3-5アルケノイル基等），
シクロアルキルカルボニル基（たとえば、シクロプロピ
ルカルボニル，シクロブチルカルボニル，シクロペンチ
ルカルボニル，シクロヘキシルカルボニル，シクロヘプ
チルカルボニル，アダマンチルカルボニルなどのＣ3-10
シクロアルキル−カルボニル基等），シクロアルケニル
カルボニル基（たとえば、シクロペンテニルカルボニ
ル，シクロペンタジエニルカルボニル，シクロヘキセニ
ルカルボニル，シクロヘキサジエニルカルボニルなどの
Ｃ5-6シクロアルケニル−カルボニル基等），アリール
カルボニル基（たとえば、ベンゾイル，ナフトイルなど
のＣ6-10アリール−カルボニル基等），アラルキルカル
ボニル基（たとえば、フェニルアセチル，フェニルプロ
ピオニル，α,α−ジフェニルアセチル，α,α,α−ト
リフェニルアセチルなどのＣ7-19アラルキル−カルボニ
ル基等），アミノ酸残基（アミノ酸のカルボキシル基の
水酸基をとりのぞいてできるアシル基、具体的にはたと
えば、グリシル，ザルコシル，アラニル，バリル，ロイ
シル，イソロイシル，セリル，スレオニル，システィニ
ル，シスチニル，メチオニル，アスパラギル，グルタミ
ル，リジル，アルギニル，フェニルグリシル，フェニル
アラニル，チロシル，ヒスチジル，トリプトファニル，
プロリルなど），アミノアルキルカルボニル基（例、２
−アミノエチルカルボニル，３−アミノプロピルカルボ
ニルなどのアミノＣ1-6アルキル−カルボニル基等），
モノアルキルアミノアルキルカルボニル基（例、メチル
アミノメチルカルボニル，２−エチルアミノエチルカル
ボニルなどのモノＣ1-6アルキルアミノＣ1-6アルキル−
カルボニル基等），ジアルキルアミノアルキルカルボニ
ル基（例、ジメチルアミノメチルカルボニル，ジエチル
アミノメチルカルボニルなどのジＣ1-6アルキルアミノ
Ｃ1-6アルキル−カルボニル基等），環状アミノアルキ
ルカルボニル基（環状アミノ基としては前記のものが用
いられ、例えば、イミダゾリノメチル，ピラゾリノエチ
ルなど）などが用いられる。
ては、アルカノイル基（たとえばホルミル，アセチル，
プロピオニル，ブチリル，イソブチリル，バレリル，イ
ソバレリル，ピバロイルなどのＣ1-6アルカノイル基
等），アルケノイル基（たとえばアクリロイル，クロト
ノイル，マレオイルなどのＣ3-5アルケノイル基等），
シクロアルキルカルボニル基（たとえば、シクロプロピ
ルカルボニル，シクロブチルカルボニル，シクロペンチ
ルカルボニル，シクロヘキシルカルボニル，シクロヘプ
チルカルボニル，アダマンチルカルボニルなどのＣ3-10
シクロアルキル−カルボニル基等），シクロアルケニル
カルボニル基（たとえば、シクロペンテニルカルボニ
ル，シクロペンタジエニルカルボニル，シクロヘキセニ
ルカルボニル，シクロヘキサジエニルカルボニルなどの
Ｃ5-6シクロアルケニル−カルボニル基等），アリール
カルボニル基（たとえば、ベンゾイル，ナフトイルなど
のＣ6-10アリール−カルボニル基等），アラルキルカル
ボニル基（たとえば、フェニルアセチル，フェニルプロ
ピオニル，α,α−ジフェニルアセチル，α,α,α−ト
リフェニルアセチルなどのＣ7-19アラルキル−カルボニ
ル基等），アミノ酸残基（アミノ酸のカルボキシル基の
水酸基をとりのぞいてできるアシル基、具体的にはたと
えば、グリシル，ザルコシル，アラニル，バリル，ロイ
シル，イソロイシル，セリル，スレオニル，システィニ
ル，シスチニル，メチオニル，アスパラギル，グルタミ
ル，リジル，アルギニル，フェニルグリシル，フェニル
アラニル，チロシル，ヒスチジル，トリプトファニル，
プロリルなど），アミノアルキルカルボニル基（例、２
−アミノエチルカルボニル，３−アミノプロピルカルボ
ニルなどのアミノＣ1-6アルキル−カルボニル基等），
モノアルキルアミノアルキルカルボニル基（例、メチル
アミノメチルカルボニル，２−エチルアミノエチルカル
ボニルなどのモノＣ1-6アルキルアミノＣ1-6アルキル−
カルボニル基等），ジアルキルアミノアルキルカルボニ
ル基（例、ジメチルアミノメチルカルボニル，ジエチル
アミノメチルカルボニルなどのジＣ1-6アルキルアミノ
Ｃ1-6アルキル−カルボニル基等），環状アミノアルキ
ルカルボニル基（環状アミノ基としては前記のものが用
いられ、例えば、イミダゾリノメチル，ピラゾリノエチ
ルなど）などが用いられる。
【００２７】「Ｃ１−６アルキルウレイド基」としては
た、とえばメチルウレイド，エチルウレイド，ｎ−プロ
ピルウレイドなどが用いられる。「ハロゲン原子」とし
ては、たとえばフッ素，塩素，臭素などが用いられる。
「ハロゲノＣ1-6アルキル基」としては、たとえばフルオ
ロメチル，ジフルオロメチル，トリフルオロメチル，ク
ロロメチル，ジクロロメチル，トリクロロメチル，２−
フルオロエチル，２,２−ジフルオロエチル，２,２,２
−トリフルオロエチル，２−クロロエチル，２,２−ジ
クロロエチル，２,２,２−トリクロロエチル，２−ブロ
モエチル，２−ヨードエチルなどが用いられる。「シア
ノＣ1-6アルキル基」としては、たとえばシアノメチル，
２−シアノエチルなどが用いられる。「カルボキシＣ1-6
アルキル基」としては、たとえばカルボキシメチル，１
−カルボキシエチル，２−カルボキシエチルなどが用い
られる。「Ｃ1-10アルコキシ−カルボニル基」のアルキ
ル基は、Ｃ1-6アルキル基（たとえば、前記と同様のも
のなど）のほか、Ｃ3-10シクロアルキル基（たとえば、
前記と同様のものなど）も含む。「Ｃ1-10アルコキシ−
カルボニル基」としては、たとえばメトキシカルボニ
ル，エトキシカルボニル，ｎ−プロポキシカルボニル，
イソプロポキシカルボニル，ｎ−ブトキシカルボニル，
イソブトキシカルボニル，tert−ブトキシカルボニル，
シクロペンチルオキシカルボニル，シクロヘキシルオキ
シカルボニル，ノルボルニルオキシカルボニルなどが用
いられる。「 Ｃ1-10アルコキシ−カルボニルＣ1-6アルキル基」のア
ルコキシカルボニル基は後記するＣ1-10アルコキシ−カ
ルボニル基が好ましい。「Ｃ1-10アルコキシ−カルボニ
ルＣ1-6アルキル基」としては、たとえばメトキシカル
ボニルメチル，エトキシカルボニルメチル，tert−ブト
キシカルボニルメチルなどが用いられる。「Ｃ6-10アリ
ールオキシ−カルボニル基」としては、たとえばフェノ
キシカルボニル，ナフチルオキシカルボニルなどが用い
られる。 「Ｃ7-19アラルキルオキシ−カルボニル基」としては、
たとえばベンジルオキシカルボニル，ベンズヒドリルオ
キシカルボニル，トリチルオキシカルボニルなどが用い
られる。 「Ｃ6-10アリール−カルボニル基」としてはたとえば、
ベンゾイルなどが用いられる。
た、とえばメチルウレイド，エチルウレイド，ｎ−プロ
ピルウレイドなどが用いられる。「ハロゲン原子」とし
ては、たとえばフッ素，塩素，臭素などが用いられる。
「ハロゲノＣ1-6アルキル基」としては、たとえばフルオ
ロメチル，ジフルオロメチル，トリフルオロメチル，ク
ロロメチル，ジクロロメチル，トリクロロメチル，２−
フルオロエチル，２,２−ジフルオロエチル，２,２,２
−トリフルオロエチル，２−クロロエチル，２,２−ジ
クロロエチル，２,２,２−トリクロロエチル，２−ブロ
モエチル，２−ヨードエチルなどが用いられる。「シア
ノＣ1-6アルキル基」としては、たとえばシアノメチル，
２−シアノエチルなどが用いられる。「カルボキシＣ1-6
アルキル基」としては、たとえばカルボキシメチル，１
−カルボキシエチル，２−カルボキシエチルなどが用い
られる。「Ｃ1-10アルコキシ−カルボニル基」のアルキ
ル基は、Ｃ1-6アルキル基（たとえば、前記と同様のも
のなど）のほか、Ｃ3-10シクロアルキル基（たとえば、
前記と同様のものなど）も含む。「Ｃ1-10アルコキシ−
カルボニル基」としては、たとえばメトキシカルボニ
ル，エトキシカルボニル，ｎ−プロポキシカルボニル，
イソプロポキシカルボニル，ｎ−ブトキシカルボニル，
イソブトキシカルボニル，tert−ブトキシカルボニル，
シクロペンチルオキシカルボニル，シクロヘキシルオキ
シカルボニル，ノルボルニルオキシカルボニルなどが用
いられる。「 Ｃ1-10アルコキシ−カルボニルＣ1-6アルキル基」のア
ルコキシカルボニル基は後記するＣ1-10アルコキシ−カ
ルボニル基が好ましい。「Ｃ1-10アルコキシ−カルボニ
ルＣ1-6アルキル基」としては、たとえばメトキシカル
ボニルメチル，エトキシカルボニルメチル，tert−ブト
キシカルボニルメチルなどが用いられる。「Ｃ6-10アリ
ールオキシ−カルボニル基」としては、たとえばフェノ
キシカルボニル，ナフチルオキシカルボニルなどが用い
られる。 「Ｃ7-19アラルキルオキシ−カルボニル基」としては、
たとえばベンジルオキシカルボニル，ベンズヒドリルオ
キシカルボニル，トリチルオキシカルボニルなどが用い
られる。 「Ｃ6-10アリール−カルボニル基」としてはたとえば、
ベンゾイルなどが用いられる。
【００２８】「Ｃ1-6アルカノイル基」としては、たと
えばアセチル，プロピオニル，ブチリル，イソブチリ
ル，バレリル，イソバレリル，ピバロイルなどが用いら
れる。「 Ｃ2-6アルカノイルＣ1-6アルキル基」のアルカノイル基
は後記するＣ1-6アルカノイル基が好ましい。「Ｃ2-6ア
ルカノイルＣ1-6アルキル基」としては、たとえばアセ
チルメチル，１−アセチルエチル，２−アセチルエチル
などが用いられる。「Ｃ3-5アルケノイル基」として
は、たとえばアクリロイル，クロトノイル，マレオイル
などが用いられる。「Ｃ6-10アリール−カルボニルオキ
シ基」としては、たとえばベンゾイルオキシなどが用い
られる。「Ｃ2-6アルカノイルオキシ基」としては、た
とえばアセチルオキシ，プロピオニルオキシ，ブチリル
オキシ，イソブチリルオキシ，ピバロイルオキシ，バレ
リルオキシ，イソバレリルオキシなどが用いられる。
「Ｃ2-6アルカノイルオキシＣ1-6アルキル基」のアルカノ
イルオキシ基は後記するＣ2-6アルカノイルオキシ基が
好ましい。「Ｃ2-6アルカノイルオキシＣ1-6アルキル
基」としては、たとえばアセトキシメチル，１−アセト
キシエチル，２−アセトキシエチルなどが用いられる。
えばアセチル，プロピオニル，ブチリル，イソブチリ
ル，バレリル，イソバレリル，ピバロイルなどが用いら
れる。「 Ｃ2-6アルカノイルＣ1-6アルキル基」のアルカノイル基
は後記するＣ1-6アルカノイル基が好ましい。「Ｃ2-6ア
ルカノイルＣ1-6アルキル基」としては、たとえばアセ
チルメチル，１−アセチルエチル，２−アセチルエチル
などが用いられる。「Ｃ3-5アルケノイル基」として
は、たとえばアクリロイル，クロトノイル，マレオイル
などが用いられる。「Ｃ6-10アリール−カルボニルオキ
シ基」としては、たとえばベンゾイルオキシなどが用い
られる。「Ｃ2-6アルカノイルオキシ基」としては、た
とえばアセチルオキシ，プロピオニルオキシ，ブチリル
オキシ，イソブチリルオキシ，ピバロイルオキシ，バレ
リルオキシ，イソバレリルオキシなどが用いられる。
「Ｃ2-6アルカノイルオキシＣ1-6アルキル基」のアルカノ
イルオキシ基は後記するＣ2-6アルカノイルオキシ基が
好ましい。「Ｃ2-6アルカノイルオキシＣ1-6アルキル
基」としては、たとえばアセトキシメチル，１−アセト
キシエチル，２−アセトキシエチルなどが用いられる。
【００２９】「Ｃ3-5アルケノイルオキシ基」として
は、たとえばアクリロイルオキシ，クロトノイルオキ
シ，マレオイルオキシなどが用いられる。「カルバモイ
ルＣ1-6アルキル基」としては、たとえばカルバモイル
メチル，２−カルバモイルエチルなどが用いられる。
「カルバモイルオキシＣ1-6アルキル基」としては、たと
えばカルバモイルオキシメチルなどが用いられる。「Ｃ
1-6アルカノイルアミノ基」としては、たとえばホルミ
ルアミノ，アセチルアミノなどが用いられる。「Ｃ6-10
アリール−カルボニルアミノ基」としては、たとえばベ
ンゾイルアミノなどが用いられる。「スルホンアミド
基」の置換スルホニル基としては、「Ｃ1-6アルキルス
ルホニル基」が好ましく、たとえば、メタンスルホニ
ル，エタンスルホニルなどが用いられる。「Ｃ1-10アル
コキシ−カルボキサミド基」としては、たとえばメトキ
シカルボキサミド，エトキシカルボキサミドなどが用い
られる。「Ｃ6-10アリールオキシ−カルボキサミド基」
としては、たとえばフェニルオキシカルボキサミドなど
が用いられる。「Ｃ7-19アラルキルオキシ−カルボキサ
ミド基」としては、たとえばベンジルオキシカルボキサ
ミドなどが用いられる。
は、たとえばアクリロイルオキシ，クロトノイルオキ
シ，マレオイルオキシなどが用いられる。「カルバモイ
ルＣ1-6アルキル基」としては、たとえばカルバモイル
メチル，２−カルバモイルエチルなどが用いられる。
「カルバモイルオキシＣ1-6アルキル基」としては、たと
えばカルバモイルオキシメチルなどが用いられる。「Ｃ
1-6アルカノイルアミノ基」としては、たとえばホルミ
ルアミノ，アセチルアミノなどが用いられる。「Ｃ6-10
アリール−カルボニルアミノ基」としては、たとえばベ
ンゾイルアミノなどが用いられる。「スルホンアミド
基」の置換スルホニル基としては、「Ｃ1-6アルキルス
ルホニル基」が好ましく、たとえば、メタンスルホニ
ル，エタンスルホニルなどが用いられる。「Ｃ1-10アル
コキシ−カルボキサミド基」としては、たとえばメトキ
シカルボキサミド，エトキシカルボキサミドなどが用い
られる。「Ｃ6-10アリールオキシ−カルボキサミド基」
としては、たとえばフェニルオキシカルボキサミドなど
が用いられる。「Ｃ7-19アラルキルオキシ−カルボキサ
ミド基」としては、たとえばベンジルオキシカルボキサ
ミドなどが用いられる。
【００３０】化合物〔I〕としては、たとえば式
【化１６】 で表される化合物またはそのエステルあるいはその塩な
どが好ましい。式〔I〕で表される化合物は、たとえば
（１）Ｒ1がアミノ基、Ｒ2がＣ1-6アルキル基（たとえ
ば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピルなど）か
つＲ3がＣ1-6アルキル基（たとえば、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピルなど）または（２）Ｒ1がアミ
ノ基、Ｒ2がＣ3-6シクロアルキル基（たとえば、シクロ
ペンチルなど）かつＲ3がＣ1-6アルキル基（たとえば、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピルなど）などの
ときが最も好ましい。
どが好ましい。式〔I〕で表される化合物は、たとえば
（１）Ｒ1がアミノ基、Ｒ2がＣ1-6アルキル基（たとえ
ば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピルなど）か
つＲ3がＣ1-6アルキル基（たとえば、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピルなど）または（２）Ｒ1がアミ
ノ基、Ｒ2がＣ3-6シクロアルキル基（たとえば、シクロ
ペンチルなど）かつＲ3がＣ1-6アルキル基（たとえば、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピルなど）などの
ときが最も好ましい。
【００３１】
【化１７】 上の陽電荷と一対になって分子内塩を形成していること
を示す。一方、化合物〔I〕は薬理学的に受容されるエ
ステルまたは塩を形成してもよい。薬理学的に受容され
る塩としては無機塩基塩，アンモニウム塩，有機塩基
塩，無機酸付加塩，有機酸付加塩，塩基性アミノ酸塩な
どが用いられる。無機塩基塩を生成させうる無機塩基と
してはアルカリ金属（たとえばナトリウム，カリウムな
ど），アルカリ土類金属(たとえばカルシウムなど)など
が、有機塩基塩を生成させうる有機塩基としてはたとえ
ばプロカイン，２−フェニルエチルベンジルアミン，ジ
ベンジルエチレンジアミン，エタノールアミン，ジエタ
ノールアミン，トリスヒドロキシメチルアミノメタン，
ポリヒドロキシアルキルアミン，Ｎ−メチルグルコサミ
ンなどが、無機酸付加塩を生成させうる無機酸としては
たとえば塩酸，臭化水素酸，硫酸，硝酸，リン酸など
が、有機酸付加塩を生成させうる有機酸としてはたとえ
ばｐ−トルエンスルホン酸，メタンスルホン酸，ギ酸，
トリフルオロ酢酸，マレイン酸などが、塩基性アミノ酸
塩を生成させうる塩基性アミノ酸としてはたとえばリジ
ン，アルギニン，オルニチン，ヒスチジンなどが用いら
れる。これらの塩のうち塩基塩（すなわち無機塩基塩，
アンモニウム塩，有機塩基塩，塩基性アミノ酸塩）は化
合物〔I〕の置換基Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3もしくは
を示す。一方、化合物〔I〕は薬理学的に受容されるエ
ステルまたは塩を形成してもよい。薬理学的に受容され
る塩としては無機塩基塩，アンモニウム塩，有機塩基
塩，無機酸付加塩，有機酸付加塩，塩基性アミノ酸塩な
どが用いられる。無機塩基塩を生成させうる無機塩基と
してはアルカリ金属（たとえばナトリウム，カリウムな
ど），アルカリ土類金属(たとえばカルシウムなど)など
が、有機塩基塩を生成させうる有機塩基としてはたとえ
ばプロカイン，２−フェニルエチルベンジルアミン，ジ
ベンジルエチレンジアミン，エタノールアミン，ジエタ
ノールアミン，トリスヒドロキシメチルアミノメタン，
ポリヒドロキシアルキルアミン，Ｎ−メチルグルコサミ
ンなどが、無機酸付加塩を生成させうる無機酸としては
たとえば塩酸，臭化水素酸，硫酸，硝酸，リン酸など
が、有機酸付加塩を生成させうる有機酸としてはたとえ
ばｐ−トルエンスルホン酸，メタンスルホン酸，ギ酸，
トリフルオロ酢酸，マレイン酸などが、塩基性アミノ酸
塩を生成させうる塩基性アミノ酸としてはたとえばリジ
ン，アルギニン，オルニチン，ヒスチジンなどが用いら
れる。これらの塩のうち塩基塩（すなわち無機塩基塩，
アンモニウム塩，有機塩基塩，塩基性アミノ酸塩）は化
合物〔I〕の置換基Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3もしくは
【化１８】 中にアミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミ
ノ基，シクロアルキルアミノ基，アリールアミノ基，ア
ラルキルアミノ基，環状アミノ基，含窒素複素環基など
の塩基性基が存在する場合に形成しうる酸付加塩を意味
する。また酸付加塩としては
ノ基，シクロアルキルアミノ基，アリールアミノ基，ア
ラルキルアミノ基，環状アミノ基，含窒素複素環基など
の塩基性基が存在する場合に形成しうる酸付加塩を意味
する。また酸付加塩としては
【化１９】 たとえばクロライドイオン，ブロマイドイオン，スルフ
ェートイオン，ｐ−トルエンスルホネートイオン，メタ
ンスルホネートイオン，トリフルオロアセテートイオン
など〕となった塩も含まれる。化合物〔I〕のエステル
誘導体は分子中に含まれるカルボキシル基をエステル化
することにより生成されうるエステルを意味し、合成中
間体として利用できるエステルおよび代謝上不安定な無
毒のエステルである。合成中間体として利用できるエス
テルとしては置換されていてもよいＣ1-6アルキルエス
テル，Ｃ2-6アルケニルエステル，Ｃ3-10シクロアルキ
ルエステル，Ｃ3-10シクロアルキルＣ1-6アルキルエス
テル，置換されていてもよいＣ6-10アリールエステル，
置換されていてもよいＣ7-12アラルキルエステル，ジＣ
6-10アリール−メチルエステル，トリＣ6-10アリール−
メチルエステル，置換シリルエステルなどが用いられ
る。
ェートイオン，ｐ−トルエンスルホネートイオン，メタ
ンスルホネートイオン，トリフルオロアセテートイオン
など〕となった塩も含まれる。化合物〔I〕のエステル
誘導体は分子中に含まれるカルボキシル基をエステル化
することにより生成されうるエステルを意味し、合成中
間体として利用できるエステルおよび代謝上不安定な無
毒のエステルである。合成中間体として利用できるエス
テルとしては置換されていてもよいＣ1-6アルキルエス
テル，Ｃ2-6アルケニルエステル，Ｃ3-10シクロアルキ
ルエステル，Ｃ3-10シクロアルキルＣ1-6アルキルエス
テル，置換されていてもよいＣ6-10アリールエステル，
置換されていてもよいＣ7-12アラルキルエステル，ジＣ
6-10アリール−メチルエステル，トリＣ6-10アリール−
メチルエステル，置換シリルエステルなどが用いられ
る。
【００３２】「置換されていてもよいＣ1-6アルキルエ
ステル」を形成する「Ｃ1-6アルキル」としては、たと
えばメチル，エチル，ｎ−プロピル，イソプロピル，ｎ
−ブチル，イソブチル，sec−ブチル，tert−ブチル，
ｎ−ペンチル，ｎ−ヘキシル等が用いられ、それらは例
えば、ベンジルオキシ，Ｃ1-4アルキルスルホニル
（例、メチルスルホニル等），トリメチルシリル，ハロ
ゲン（例、フッ素．塩素，臭素等），アセチル，ニトロ
ベンゾイル，メシルベンゾイル，フタルイミド，サクシ
ンイミド，ベンゼンスルホニル，フェニルチオ，ジＣ
1-4アルキルアミノ（例、ジメチルアミノ等），ピリジ
ル，Ｃ1-4アルキルスルフィニル（例、メチルスルフィ
ニル等），シアノ等で１〜３個置換されていてもよく、
置換されていてもよいＣ1-6アルキル基としては具体的
には例えば、ベンジルオキシメチル，２ーメチルスルホ
ニルエチル，２−トリメチルシリルエチル，２,２,２−
トリクロロエチル，２−ヨードエチル，アセチルメチ
ル，ｐ−ニトロベンゾイルメチル，ｐ−メシルベンゾイ
ルメチル，フタルイミドメチル，サクシンイミドメチ
ル，ベンゼンスルホニルメチル，フェニルチオメチル，
ジメチルアミノエチル，ピリジン−１−オキシド−２−
メチル，メチルスルフィニルメチル，２−シアノ−１,
１−ジメチルエチルなどが用いられる。「Ｃ2-6アルケ
ニルエステル」を形成する「Ｃ2-6アルケニル基」とし
てはビニル，アリル，１−プロペニル，イソプロペニ
ル，１−ブテニル，２−ブテニル，３−ブテニル，メタ
リル，１,１−ジメチルアリル，３−メチル−３−ブテ
ニルなどが用いられる。「Ｃ3-10シクロアルキルエステ
ル」を形成する「Ｃ3-10シクロアルキル基」としてはシ
クロプロピル，シクロブチル，シクロペンチル，シクロ
ヘキシル，シクロヘプチル，ノルボルニル，アダマンチ
ルなどが用いられる。「Ｃ3-10シクロアルキルＣ1-6ア
ルキルエステル」を形成するＣ3-10シクロアルキルＣ
1-6アルキル基としてはシクロプロピルメチル，シクロ
ペンチルメチル，シクロヘキシルメチルなどが用いられ
る。「置換されていてもよいＣ6-10アリールエステル」
を形成する「Ｃ6-10アリール基」としてはたとえばフェ
ニル，α−ナフチル，β−ナフチル，ビフェニリル等が
用いられ、それらは例えば、ニトロ，ハロゲン（例、フ
ッ素，塩素，臭素等）等で１〜３個置換されていてもよ
く、置換されていてもよいＣ6-10アリール基として具体
的には例えば、ｐ−ニトロフェニル，ｐ−クロロフェニ
ルなどが用いられる。
ステル」を形成する「Ｃ1-6アルキル」としては、たと
えばメチル，エチル，ｎ−プロピル，イソプロピル，ｎ
−ブチル，イソブチル，sec−ブチル，tert−ブチル，
ｎ−ペンチル，ｎ−ヘキシル等が用いられ、それらは例
えば、ベンジルオキシ，Ｃ1-4アルキルスルホニル
（例、メチルスルホニル等），トリメチルシリル，ハロ
ゲン（例、フッ素．塩素，臭素等），アセチル，ニトロ
ベンゾイル，メシルベンゾイル，フタルイミド，サクシ
ンイミド，ベンゼンスルホニル，フェニルチオ，ジＣ
1-4アルキルアミノ（例、ジメチルアミノ等），ピリジ
ル，Ｃ1-4アルキルスルフィニル（例、メチルスルフィ
ニル等），シアノ等で１〜３個置換されていてもよく、
置換されていてもよいＣ1-6アルキル基としては具体的
には例えば、ベンジルオキシメチル，２ーメチルスルホ
ニルエチル，２−トリメチルシリルエチル，２,２,２−
トリクロロエチル，２−ヨードエチル，アセチルメチ
ル，ｐ−ニトロベンゾイルメチル，ｐ−メシルベンゾイ
ルメチル，フタルイミドメチル，サクシンイミドメチ
ル，ベンゼンスルホニルメチル，フェニルチオメチル，
ジメチルアミノエチル，ピリジン−１−オキシド−２−
メチル，メチルスルフィニルメチル，２−シアノ−１,
１−ジメチルエチルなどが用いられる。「Ｃ2-6アルケ
ニルエステル」を形成する「Ｃ2-6アルケニル基」とし
てはビニル，アリル，１−プロペニル，イソプロペニ
ル，１−ブテニル，２−ブテニル，３−ブテニル，メタ
リル，１,１−ジメチルアリル，３−メチル−３−ブテ
ニルなどが用いられる。「Ｃ3-10シクロアルキルエステ
ル」を形成する「Ｃ3-10シクロアルキル基」としてはシ
クロプロピル，シクロブチル，シクロペンチル，シクロ
ヘキシル，シクロヘプチル，ノルボルニル，アダマンチ
ルなどが用いられる。「Ｃ3-10シクロアルキルＣ1-6ア
ルキルエステル」を形成するＣ3-10シクロアルキルＣ
1-6アルキル基としてはシクロプロピルメチル，シクロ
ペンチルメチル，シクロヘキシルメチルなどが用いられ
る。「置換されていてもよいＣ6-10アリールエステル」
を形成する「Ｃ6-10アリール基」としてはたとえばフェ
ニル，α−ナフチル，β−ナフチル，ビフェニリル等が
用いられ、それらは例えば、ニトロ，ハロゲン（例、フ
ッ素，塩素，臭素等）等で１〜３個置換されていてもよ
く、置換されていてもよいＣ6-10アリール基として具体
的には例えば、ｐ−ニトロフェニル，ｐ−クロロフェニ
ルなどが用いられる。
【００３３】「置換されていてもよいＣ7-12アラルキル
エステル」を形成する「Ｃ7-12アラルキル基」としてはた
とえば、ベンジル，１−フェニルエチル，２−フェニル
エチル，フェニルプロピル，ナフチルメチル等が用いら
れ、それらは例えば、ニトロ，Ｃ1-4アルコキシ（例、
メトキシ等），Ｃ1-4アルキル（例、メチル，エチル
等），ヒドロキシで１〜３個置換されていてもよく、置
換されていてもよいＣ7-12アラルキル基として具体的に
は例えば、ｐ−ニトロベンジル，ｐ−メトキシベンジ
ル，３,５−ジtert−ブチル−４−ヒドロキシベンジル
などが用いられる。「ジＣ6-10アリール−メチルエステ
ル」を形成するジＣ6-10アリール−メチル基としてはベ
ンズヒドリルなどが、トリＣ6-10アリール−メチルエス
テルを形成するトリＣ6-10アリール−メチル基としては
トリチルなどが、置換シリルエステルを形成する置換シ
リル基としてはトリメチルシリル，tert−ブチルジメチ
ルシリル，−Ｓi(ＣＨ3)2ＣＨ2ＣＨ2Ｓi(ＣＨ3)2−など
が用いられる。前記したエステルには４位のエステルも
含む。このように４位が前記のエステル基であるも
エステル」を形成する「Ｃ7-12アラルキル基」としてはた
とえば、ベンジル，１−フェニルエチル，２−フェニル
エチル，フェニルプロピル，ナフチルメチル等が用いら
れ、それらは例えば、ニトロ，Ｃ1-4アルコキシ（例、
メトキシ等），Ｃ1-4アルキル（例、メチル，エチル
等），ヒドロキシで１〜３個置換されていてもよく、置
換されていてもよいＣ7-12アラルキル基として具体的に
は例えば、ｐ−ニトロベンジル，ｐ−メトキシベンジ
ル，３,５−ジtert−ブチル−４−ヒドロキシベンジル
などが用いられる。「ジＣ6-10アリール−メチルエステ
ル」を形成するジＣ6-10アリール−メチル基としてはベ
ンズヒドリルなどが、トリＣ6-10アリール−メチルエス
テルを形成するトリＣ6-10アリール−メチル基としては
トリチルなどが、置換シリルエステルを形成する置換シ
リル基としてはトリメチルシリル，tert−ブチルジメチ
ルシリル，−Ｓi(ＣＨ3)2ＣＨ2ＣＨ2Ｓi(ＣＨ3)2−など
が用いられる。前記したエステルには４位のエステルも
含む。このように４位が前記のエステル基であるも
【化２０】 のような塩を形成している。
【００３４】本発明は前記エステル誘導体のほかに、生
体内において化合物〔I〕に変換される薬理学的に受容
しうる化合物も包含する。
体内において化合物〔I〕に変換される薬理学的に受容
しうる化合物も包含する。
【化２１】 てもよい。このようなアミノ基の置換基としては、Ｒ1
で示される保護されていてもよいアミノ基における保護
基などがそのまま用いられる。本発明の化合物〔I〕お
よび原料化合物においては、シス異性体（Ｚ体）、トラ
ンス異性体（Ｅ体）およびシス、トランス混合物が包含
される。本発明の化合物〔I〕は、トランス異性体（Ｅ
体）が好ましい。化合物〔I〕については、例えばシス
異性体（Ｚ体）は式〔XII〕で表わされる部分構造を有
する幾何異性体の１つを意味し、トランス異性体は式
〔XIII〕で表わされる部分構造を有する幾何異性体を意
味する。トランス異性体はシス異性体あるいはシス、ト
ランス混合物から、溶媒中あるいは無溶媒で加熱、酸触
媒、遷移金属錯体、または各種金属触媒、ラジカル種触
媒、光照射あるいは強塩基触媒などで処理することによ
り得ることができる。このような異性化の手段として、
具体的には「新実験化学講座」１４巻、有機化合物の合
成と反応［１］２５１頁（１９７７年）丸善刊に記載さ
れている方法などを用いることができる。
で示される保護されていてもよいアミノ基における保護
基などがそのまま用いられる。本発明の化合物〔I〕お
よび原料化合物においては、シス異性体（Ｚ体）、トラ
ンス異性体（Ｅ体）およびシス、トランス混合物が包含
される。本発明の化合物〔I〕は、トランス異性体（Ｅ
体）が好ましい。化合物〔I〕については、例えばシス
異性体（Ｚ体）は式〔XII〕で表わされる部分構造を有
する幾何異性体の１つを意味し、トランス異性体は式
〔XIII〕で表わされる部分構造を有する幾何異性体を意
味する。トランス異性体はシス異性体あるいはシス、ト
ランス混合物から、溶媒中あるいは無溶媒で加熱、酸触
媒、遷移金属錯体、または各種金属触媒、ラジカル種触
媒、光照射あるいは強塩基触媒などで処理することによ
り得ることができる。このような異性化の手段として、
具体的には「新実験化学講座」１４巻、有機化合物の合
成と反応［１］２５１頁（１９７７年）丸善刊に記載さ
れている方法などを用いることができる。
【化２２】
【００３５】本発明の化合物〔I〕の製造法を以下に詳
しく述べる。 製造法（１）：たとえば式〔II〕
しく述べる。 製造法（１）：たとえば式〔II〕
【化２３】 〔式中の記号は前記と同意義を示す。〕で表わされる７
−アミノ化合物またはそのエステルあるいはその塩と式
−アミノ化合物またはそのエステルあるいはその塩と式
【化２４】 〔式中の記号は前記と同意義を示す。〕（以下ＲbＯＨ
と標記する。）で表わされるカルボン酸またはその塩あ
るいはその反応性誘導体とを反応させることにより化合
物〔I〕を合成することができる。
と標記する。）で表わされるカルボン酸またはその塩あ
るいはその反応性誘導体とを反応させることにより化合
物〔I〕を合成することができる。
【００３６】本法は７−アミノ化合物〔II〕をカルボン
酸ＲbＯＨまたはその塩あるいはその反応性誘導体でア
シル化する方法である。この方法においてカルボン酸Ｒ
bＯＨは遊離のまま、またはその塩あるいはその反応性
誘導体が７−アミノ化合物〔II〕の７位アミノ基のアシ
ル化剤として用いられる。すなわち遊離酸 ＲbＯＨまた
は遊離酸ＲbＯＨの無機塩基塩，有機塩基塩，酸ハライ
ド，酸アジド，酸無水物，混合酸無水物，活性アミド，
活性エステル，活性チオエステルなどの反応性誘導体が
アシル化反応に供される。無機塩基塩としてはアルカリ
金属塩（たとえばナトリウム塩，カリウム塩など），ア
ルカリ土類金属塩（たとえばカルシウム塩など）など
が，有機塩基塩としてはたとえばトリメチルアミン塩，
トリエチルアミン塩，tert−ブチルジメチルアミン塩，
ジベンジルメチルアミン塩，ベンジルジメチルアミン
塩，Ｎ,Ｎ−ジメチルアニリン塩，ピリジン塩，キノリ
ン塩などが，酸ハライドとしてはたとえば酸クロライ
ド，酸ブロマイドなどが，混合酸無水物としてはモノＣ
1-6アルキル炭酸混合酸無水物（たとえば遊離酸ＲbＯＨ
とモノメチル炭酸，モノエチル炭酸，モノイソプロピル
炭酸，モノイソブチル炭酸，モノtert−ブチル炭酸，モ
ノベンジル炭酸，モノ（ｐ−ニトロベンジル）炭酸，モ
ノアリル炭酸などとの混合酸無水物），Ｃ1-6脂肪族カ
ルボン酸混合酸無水物（たとえば遊離酸ＲbＯＨと酢
酸，トリクロロ酢酸，シアノ酢酸，プロピオン酸，酪
酸，イソ酪酸，吉草酸，イソ吉草酸，ピバル酸，トリフ
ルオロ酢酸，トリクロロ酢酸，アセト酢酸などとの混合
酸無水物），Ｃ7-12芳香族カルボン酸混合酸無水物（た
とえば遊離酸ＲbＯＨと安息香酸，ｐ−トルイル酸，ｐ
−クロロ安息香酸などとの混合酸無水物），有機スルホ
ン酸混合酸無水物〔たとえば遊離酸ＲbＯＨとメタンス
ルホン酸，エタンスルホン酸，ベンゼンスルホン酸，ｐ
−トルエンスルホン酸などとの混合酸無水物）などが，
活性アミドとしては含窒素複素環化合物とのアミド(た
とえば遊離酸ＲbＯＨとピラゾール，イミダゾール，ベ
ンゾトリアゾールなどとの酸アミドで，これらの含窒素
複素環化合物はＣ1-6アルキル基（例、メチル，エチル
等）,Ｃ1-6アルコキシ基（例、メトキシ，エトキシ
等），ハロゲン原子（例、フッ素，塩素，臭素等），オ
キソ基，チオキソ基，Ｃ1-6アルキルチオ基（例、メチ
ルチオ，エチルチオ等）などで置換されていてもよ
い。〕などがあげられる。活性エステルとしてはβ−ラ
クタムおよびペプチド合成の分野でこの目的に用いられ
るものはすべて利用でき,たとえば有機リン酸エステル
（たとえばジエトキシリン酸エステル，ジフェノキシリ
ン酸エステルなど）のほかｐ−ニトロフェニルエステ
ル，２,４−ジニトロフェニルエステル，シアノメチル
エステル，ペンタクロロフェニルエステル，Ｎ−ヒドロ
キシサクシンイミドエステル，Ｎ−ヒドロキシフタルイ
ミドエステル，１−ヒドロキシベンゾトリアゾールエス
テル，６−クロロ−１−ヒドロキシベンゾトリアゾール
エステル，１−ヒドロキシ−１Ｈ−２−ピリドンエステ
ルなどがあげられる。活性チオエステルとしては芳香族
複素環チオール化合物とのエステル〔たとえば２−ピリ
ジルチオールエステル，２−ベンゾチアゾリルチオール
エステルなどで，これらの複素環はＣ1-6 アルキル基
（例、メチル，エチル等），Ｃ1-6アルコキシ基（例、
メトキシ，エトキシ等），ハロゲン原子（例、フッ素，
塩素，臭素等）,Ｃ1-6アルキルチオ基（例、メチルチ
オ，エチルチオ等）などで置換されていてもよい。〕が
挙げられる。一方、７−アミノ化合物〔II〕は遊離のま
ま，その塩あるいはエステルとして用いられる。７−ア
ミノ化合物〔II〕の塩としては無機塩基塩，アンモニウ
ム塩，有機塩基塩，無機酸付加塩，有機酸付加塩などが
あげられる。無機塩基塩としてはアルカリ金属塩（たと
えばナトリウム塩，カリウム塩など），アルカリ土類金
属塩（たとえばカルシウム塩など）などが、有機塩基塩
としてはたとえばトリメチルアミン塩，トリエチルアミ
ン塩，tert−ブチルジメチルアミン塩, ジベンジルメチ
ルアミン塩，ベンジルジメチルアミン塩，Ｎ,Ｎ−ジメ
チルアニリン塩，ピリジン塩，キノリン塩などが、無機
酸付加塩としてはたとえば塩酸塩，臭化水素酸塩，硫酸
塩，硝酸塩，リン酸塩などが、有機酸付加塩としてはギ
酸塩，酢酸塩，トリフルオロ酢酸塩，メタンスルホン酸
塩, ｐ−トルエンスルホン酸塩などがあげられる。７−
アミノ化合物〔II〕のエステルとしては化合物〔I〕の
エステル誘導体としてすでに述べたエステルがここでも
そのままあげられる。すなわちＣ1-6アルキルエステル,
Ｃ2-6アルケニルエステル, Ｃ3-10シクロアルキルエス
テル, Ｃ3-6シクロアルキル−Ｃ1-6アルキルエステル,
Ｃ6-10アリールエステル, Ｃ7-12アラルキルエステル，
ジ−Ｃ6-10アリールメチルエステル，トリ−Ｃ6-10アリ
ールメチルエステル，Ｃ2-6アルカノイルオキシ−Ｃ1-6
アルキルエステルなどが挙げられる。原料物質ＲbＯ
Ｈ、その塩及びその反応性誘導体は公知の方法（例え
ば、特開昭６０−２３１６８４号，特開昭６２−１４９
６８２号等に記載の方法）またはそれに準ずる方法によ
って容易に製造できる。化合物ＲbＯＨの反応性誘導体
は反応混合物から単離された物質として７−アミノ化合
物〔II〕と反応させてもよいし、または単離前の化合物
ＲbＯＨの反応性誘導体を含有する反応混合物をそのま
ま７−アミノ化合物〔II〕と反応させることもできる。
カルボン酸ＲbＯＨを遊離酸または塩の状態で使用する
場合は適当な縮合剤を用いる。縮合剤としてはたとえば
Ｎ,Ｎ′−ジシクロヘキシルカルボジイミドなどのＮ,
Ｎ′−ジ置換カルボジイミド類,たとえばＮ,Ｎ′−カル
ボニルジイミダゾール，Ｎ,Ｎ′−チオカルボニルジイ
ミダゾ−ルなどのアゾライド類，たとえばＮ−エトキシ
カルボニル−２−エトキシ−１,２−ジヒドロキノリ
ン，オキシ塩化リン，アルコキシアセチレンなどの脱水
剤，たとえば２−クロロピリジニウムメチルアイオダイ
ド，２−フルオロピリジニウムメチルアイオダイドなど
の２−ハロゲノピリジニウム塩類などが用いられる。こ
れらの縮合剤を用いた場合、反応はカルボン酸ＲbＯＨ
の反応性誘導体を経て進行すると考えられる。反応は一
般に溶媒中で行なわれ、反応を阻害しない溶媒が適宜に
選択される。このような溶媒としてはたとえばジオキサ
ン，テトラヒドロフラン，ジエチルエーテル，tert−ブ
チルメチルエーテル，ジイソプロピルエーテル，エチレ
ングリコール−ジメチルエーテルなどのエーテル類，た
とえばギ酸エチル，酢酸エチル，酢酸ｎ−ブチルなどの
エステル類，たとえばジクロロメタン，クロロホルム，
四塩化炭素，トリクレン，１,２−ジクロロエタンなど
のハロゲン化炭化水素類，たとえばｎ−ヘキサン，ベン
ゼン，トルエンなどの炭化水素類，たとえばホルムアミ
ド，Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド，Ｎ,Ｎ−ジメチルア
セトアミドなどのアミド類，たとえばアセトン，メチル
エチルケトン，メチルイソブチルケトンなどのケトン
類，たとえばアセトニトリル，プロピオニトリルなどの
ニトリル類などのほか，ジメチルスルホキシド，スルホ
ラン，ヘキサメチルホスホルアミド，水などが単独また
は混合溶媒として用いられる。アシル化剤(ＲbＯＨ)の
使用量は７−アミノ化合物〔II〕１モルに対して通常約
１〜５モル，好ましくは約１〜２モルである。反応は約
−８０〜８０℃，好ましくは約−４０〜５０℃，最も好
ましくは約−３０〜３０℃の温度範囲で行われる。反応
時間は７−アミノ化合物〔II〕およびカルボン酸ＲbＯ
Ｈの種類，溶媒の種類（混合溶媒の場合はその混合比
も），反応温度などに依存し、通常約１分〜72時間，好
ましくは約15分〜３時間である。アシル化剤として酸ハ
ライドを用いた場合は放出されるハロゲン化水素を反応
系から除去する目的で脱酸剤の存在下に反応を行うこと
ができる。このような脱酸剤としてはたとえば炭酸ナト
リウム，炭酸カリウム，炭酸カルシウム，炭酸水素ナト
リウムなどの無機塩基，たとえばトリエチルアミン，ト
リ（ｎ−プロピル）アミン，トリ（ｎ−ブチル）アミ
ン，ジイソプロピルエチルアミン，シクロヘキシルジメ
チルアミン，ピリジン，ルチジン，γ−コリジン，Ｎ,
Ｎ−ジメチルアニリン，Ｎ−メチルピペジリン，Ｎ−メ
チルピロリジン，Ｎ−メチルモルホリンなどの第３級ア
ミン，たとえばプロピレンオキシド，エピクロルヒドリ
ンなどのアルキレンオキシドなどが挙げられる。
酸ＲbＯＨまたはその塩あるいはその反応性誘導体でア
シル化する方法である。この方法においてカルボン酸Ｒ
bＯＨは遊離のまま、またはその塩あるいはその反応性
誘導体が７−アミノ化合物〔II〕の７位アミノ基のアシ
ル化剤として用いられる。すなわち遊離酸 ＲbＯＨまた
は遊離酸ＲbＯＨの無機塩基塩，有機塩基塩，酸ハライ
ド，酸アジド，酸無水物，混合酸無水物，活性アミド，
活性エステル，活性チオエステルなどの反応性誘導体が
アシル化反応に供される。無機塩基塩としてはアルカリ
金属塩（たとえばナトリウム塩，カリウム塩など），ア
ルカリ土類金属塩（たとえばカルシウム塩など）など
が，有機塩基塩としてはたとえばトリメチルアミン塩，
トリエチルアミン塩，tert−ブチルジメチルアミン塩，
ジベンジルメチルアミン塩，ベンジルジメチルアミン
塩，Ｎ,Ｎ−ジメチルアニリン塩，ピリジン塩，キノリ
ン塩などが，酸ハライドとしてはたとえば酸クロライ
ド，酸ブロマイドなどが，混合酸無水物としてはモノＣ
1-6アルキル炭酸混合酸無水物（たとえば遊離酸ＲbＯＨ
とモノメチル炭酸，モノエチル炭酸，モノイソプロピル
炭酸，モノイソブチル炭酸，モノtert−ブチル炭酸，モ
ノベンジル炭酸，モノ（ｐ−ニトロベンジル）炭酸，モ
ノアリル炭酸などとの混合酸無水物），Ｃ1-6脂肪族カ
ルボン酸混合酸無水物（たとえば遊離酸ＲbＯＨと酢
酸，トリクロロ酢酸，シアノ酢酸，プロピオン酸，酪
酸，イソ酪酸，吉草酸，イソ吉草酸，ピバル酸，トリフ
ルオロ酢酸，トリクロロ酢酸，アセト酢酸などとの混合
酸無水物），Ｃ7-12芳香族カルボン酸混合酸無水物（た
とえば遊離酸ＲbＯＨと安息香酸，ｐ−トルイル酸，ｐ
−クロロ安息香酸などとの混合酸無水物），有機スルホ
ン酸混合酸無水物〔たとえば遊離酸ＲbＯＨとメタンス
ルホン酸，エタンスルホン酸，ベンゼンスルホン酸，ｐ
−トルエンスルホン酸などとの混合酸無水物）などが，
活性アミドとしては含窒素複素環化合物とのアミド(た
とえば遊離酸ＲbＯＨとピラゾール，イミダゾール，ベ
ンゾトリアゾールなどとの酸アミドで，これらの含窒素
複素環化合物はＣ1-6アルキル基（例、メチル，エチル
等）,Ｃ1-6アルコキシ基（例、メトキシ，エトキシ
等），ハロゲン原子（例、フッ素，塩素，臭素等），オ
キソ基，チオキソ基，Ｃ1-6アルキルチオ基（例、メチ
ルチオ，エチルチオ等）などで置換されていてもよ
い。〕などがあげられる。活性エステルとしてはβ−ラ
クタムおよびペプチド合成の分野でこの目的に用いられ
るものはすべて利用でき,たとえば有機リン酸エステル
（たとえばジエトキシリン酸エステル，ジフェノキシリ
ン酸エステルなど）のほかｐ−ニトロフェニルエステ
ル，２,４−ジニトロフェニルエステル，シアノメチル
エステル，ペンタクロロフェニルエステル，Ｎ−ヒドロ
キシサクシンイミドエステル，Ｎ−ヒドロキシフタルイ
ミドエステル，１−ヒドロキシベンゾトリアゾールエス
テル，６−クロロ−１−ヒドロキシベンゾトリアゾール
エステル，１−ヒドロキシ−１Ｈ−２−ピリドンエステ
ルなどがあげられる。活性チオエステルとしては芳香族
複素環チオール化合物とのエステル〔たとえば２−ピリ
ジルチオールエステル，２−ベンゾチアゾリルチオール
エステルなどで，これらの複素環はＣ1-6 アルキル基
（例、メチル，エチル等），Ｃ1-6アルコキシ基（例、
メトキシ，エトキシ等），ハロゲン原子（例、フッ素，
塩素，臭素等）,Ｃ1-6アルキルチオ基（例、メチルチ
オ，エチルチオ等）などで置換されていてもよい。〕が
挙げられる。一方、７−アミノ化合物〔II〕は遊離のま
ま，その塩あるいはエステルとして用いられる。７−ア
ミノ化合物〔II〕の塩としては無機塩基塩，アンモニウ
ム塩，有機塩基塩，無機酸付加塩，有機酸付加塩などが
あげられる。無機塩基塩としてはアルカリ金属塩（たと
えばナトリウム塩，カリウム塩など），アルカリ土類金
属塩（たとえばカルシウム塩など）などが、有機塩基塩
としてはたとえばトリメチルアミン塩，トリエチルアミ
ン塩，tert−ブチルジメチルアミン塩, ジベンジルメチ
ルアミン塩，ベンジルジメチルアミン塩，Ｎ,Ｎ−ジメ
チルアニリン塩，ピリジン塩，キノリン塩などが、無機
酸付加塩としてはたとえば塩酸塩，臭化水素酸塩，硫酸
塩，硝酸塩，リン酸塩などが、有機酸付加塩としてはギ
酸塩，酢酸塩，トリフルオロ酢酸塩，メタンスルホン酸
塩, ｐ−トルエンスルホン酸塩などがあげられる。７−
アミノ化合物〔II〕のエステルとしては化合物〔I〕の
エステル誘導体としてすでに述べたエステルがここでも
そのままあげられる。すなわちＣ1-6アルキルエステル,
Ｃ2-6アルケニルエステル, Ｃ3-10シクロアルキルエス
テル, Ｃ3-6シクロアルキル−Ｃ1-6アルキルエステル,
Ｃ6-10アリールエステル, Ｃ7-12アラルキルエステル，
ジ−Ｃ6-10アリールメチルエステル，トリ−Ｃ6-10アリ
ールメチルエステル，Ｃ2-6アルカノイルオキシ−Ｃ1-6
アルキルエステルなどが挙げられる。原料物質ＲbＯ
Ｈ、その塩及びその反応性誘導体は公知の方法（例え
ば、特開昭６０−２３１６８４号，特開昭６２−１４９
６８２号等に記載の方法）またはそれに準ずる方法によ
って容易に製造できる。化合物ＲbＯＨの反応性誘導体
は反応混合物から単離された物質として７−アミノ化合
物〔II〕と反応させてもよいし、または単離前の化合物
ＲbＯＨの反応性誘導体を含有する反応混合物をそのま
ま７−アミノ化合物〔II〕と反応させることもできる。
カルボン酸ＲbＯＨを遊離酸または塩の状態で使用する
場合は適当な縮合剤を用いる。縮合剤としてはたとえば
Ｎ,Ｎ′−ジシクロヘキシルカルボジイミドなどのＮ,
Ｎ′−ジ置換カルボジイミド類,たとえばＮ,Ｎ′−カル
ボニルジイミダゾール，Ｎ,Ｎ′−チオカルボニルジイ
ミダゾ−ルなどのアゾライド類，たとえばＮ−エトキシ
カルボニル−２−エトキシ−１,２−ジヒドロキノリ
ン，オキシ塩化リン，アルコキシアセチレンなどの脱水
剤，たとえば２−クロロピリジニウムメチルアイオダイ
ド，２−フルオロピリジニウムメチルアイオダイドなど
の２−ハロゲノピリジニウム塩類などが用いられる。こ
れらの縮合剤を用いた場合、反応はカルボン酸ＲbＯＨ
の反応性誘導体を経て進行すると考えられる。反応は一
般に溶媒中で行なわれ、反応を阻害しない溶媒が適宜に
選択される。このような溶媒としてはたとえばジオキサ
ン，テトラヒドロフラン，ジエチルエーテル，tert−ブ
チルメチルエーテル，ジイソプロピルエーテル，エチレ
ングリコール−ジメチルエーテルなどのエーテル類，た
とえばギ酸エチル，酢酸エチル，酢酸ｎ−ブチルなどの
エステル類，たとえばジクロロメタン，クロロホルム，
四塩化炭素，トリクレン，１,２−ジクロロエタンなど
のハロゲン化炭化水素類，たとえばｎ−ヘキサン，ベン
ゼン，トルエンなどの炭化水素類，たとえばホルムアミ
ド，Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド，Ｎ,Ｎ−ジメチルア
セトアミドなどのアミド類，たとえばアセトン，メチル
エチルケトン，メチルイソブチルケトンなどのケトン
類，たとえばアセトニトリル，プロピオニトリルなどの
ニトリル類などのほか，ジメチルスルホキシド，スルホ
ラン，ヘキサメチルホスホルアミド，水などが単独また
は混合溶媒として用いられる。アシル化剤(ＲbＯＨ)の
使用量は７−アミノ化合物〔II〕１モルに対して通常約
１〜５モル，好ましくは約１〜２モルである。反応は約
−８０〜８０℃，好ましくは約−４０〜５０℃，最も好
ましくは約−３０〜３０℃の温度範囲で行われる。反応
時間は７−アミノ化合物〔II〕およびカルボン酸ＲbＯ
Ｈの種類，溶媒の種類（混合溶媒の場合はその混合比
も），反応温度などに依存し、通常約１分〜72時間，好
ましくは約15分〜３時間である。アシル化剤として酸ハ
ライドを用いた場合は放出されるハロゲン化水素を反応
系から除去する目的で脱酸剤の存在下に反応を行うこと
ができる。このような脱酸剤としてはたとえば炭酸ナト
リウム，炭酸カリウム，炭酸カルシウム，炭酸水素ナト
リウムなどの無機塩基，たとえばトリエチルアミン，ト
リ（ｎ−プロピル）アミン，トリ（ｎ−ブチル）アミ
ン，ジイソプロピルエチルアミン，シクロヘキシルジメ
チルアミン，ピリジン，ルチジン，γ−コリジン，Ｎ,
Ｎ−ジメチルアニリン，Ｎ−メチルピペジリン，Ｎ−メ
チルピロリジン，Ｎ−メチルモルホリンなどの第３級ア
ミン，たとえばプロピレンオキシド，エピクロルヒドリ
ンなどのアルキレンオキシドなどが挙げられる。
【００３７】本反応の原料の７−アミノ化合物〔II〕も
しくはそのエステルまたはその塩はたとえば、式
しくはそのエステルまたはその塩はたとえば、式
【化２５】 〔式中、Ｒ5はアミノ基の保護基、Ｒ4はカルボキシル基
の保護基を示す。〕で表わされるイリド化合物〔III〕
と置換されていてもよい式〔IV〕
の保護基を示す。〕で表わされるイリド化合物〔III〕
と置換されていてもよい式〔IV〕
【化２６】 〔式中の記号は前記と同意義を示す。〕で表わされるア
ルデヒド化合物またはその塩とを反応させて、式〔V〕
ルデヒド化合物またはその塩とを反応させて、式〔V〕
【化２７】 〔式中の記号は前記と同意義を示す。〕で表わされる化
合物またはその塩を製造する。
合物またはその塩を製造する。
【００３８】もしくは式
【化２８】 〔式中の記号は前記と同意義を示す。〕で表わされる化
合物〔VII〕と式〔VIII〕
合物〔VII〕と式〔VIII〕
【化２９】 〔式中の記号は前記と同意義を示す。〕で表わされるイ
リド化合物を反応させて化合物〔V〕またはその塩を製
造する。ついで化合物〔V〕に式Ｒ3−Ｘ（式中、Ｘはハ
ロゲン原子を示す。）で示される化合物とを反応させて
式〔VI〕
リド化合物を反応させて化合物〔V〕またはその塩を製
造する。ついで化合物〔V〕に式Ｒ3−Ｘ（式中、Ｘはハ
ロゲン原子を示す。）で示される化合物とを反応させて
式〔VI〕
【化３０】 〔式中の記号は前記と同意義を示す。〕で表わされる化
合物から保護基を除去することにより製造できる。ここ
で、Ｒ4で示されるカルボキシ基の保護基としては、前
記のエステルが挙げられる。特に、トリメチルシリル基
等のトリ（低級）アルキルシリル基、ベンズヒドリル
基、ｐ−メトキシベンジル基、tert−ブチル基、ｐ−ニ
トロベンジル基、フェナシル基等通常この分野で用いら
れ、容易に除去し得るカルボキシ基の保護基が好まし
い。
合物から保護基を除去することにより製造できる。ここ
で、Ｒ4で示されるカルボキシ基の保護基としては、前
記のエステルが挙げられる。特に、トリメチルシリル基
等のトリ（低級）アルキルシリル基、ベンズヒドリル
基、ｐ−メトキシベンジル基、tert−ブチル基、ｐ−ニ
トロベンジル基、フェナシル基等通常この分野で用いら
れ、容易に除去し得るカルボキシ基の保護基が好まし
い。
【００３９】Ｒ5で示されるアミノ基の保護基として、
前記のアミノ基の保護基が挙げられる。特に、トリメチ
ルシリル基等のトリ（低級）アルキルシリル基、ホルミ
ル基、トリフルオロアセチル基、アセチル基、tert−ブ
トキシカルボニル基、メトキシアセチル基、ベンジルオ
キシカルボニル基、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル基等のアシル系保護基、ベンジル基、ベンズヒドリル
基、トリチル基等のアラルキル基系の保護基が好まし
い。化合物〔III〕と化合物〔IV〕との反応は、水、リ
ン酸緩衝液、アセトン、クロロホルム、アセトニトリ
ル、ニトロベンゼン、塩化メチレン、塩化エチレン、ホ
ルムアミド、ジメチルホルムアミド、メタノール、エタ
ノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルス
ルホキシド等の溶媒中で、好ましくはクロロホルムもし
くは塩化メチレン中で行われる。反応温度は、特に限定
されず、反応は通常室温で、加熱もしくは加熱下に行わ
れる。反応時間は、０.５〜４８時間で好ましくは０.５
〜２時間である。化合物〔VII〕と化合物〔VIII〕との
反応は、化合物〔III〕と化合物〔IV〕との反応と同様
の反応条件下に行うことができる。
前記のアミノ基の保護基が挙げられる。特に、トリメチ
ルシリル基等のトリ（低級）アルキルシリル基、ホルミ
ル基、トリフルオロアセチル基、アセチル基、tert−ブ
トキシカルボニル基、メトキシアセチル基、ベンジルオ
キシカルボニル基、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル基等のアシル系保護基、ベンジル基、ベンズヒドリル
基、トリチル基等のアラルキル基系の保護基が好まし
い。化合物〔III〕と化合物〔IV〕との反応は、水、リ
ン酸緩衝液、アセトン、クロロホルム、アセトニトリ
ル、ニトロベンゼン、塩化メチレン、塩化エチレン、ホ
ルムアミド、ジメチルホルムアミド、メタノール、エタ
ノール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルス
ルホキシド等の溶媒中で、好ましくはクロロホルムもし
くは塩化メチレン中で行われる。反応温度は、特に限定
されず、反応は通常室温で、加熱もしくは加熱下に行わ
れる。反応時間は、０.５〜４８時間で好ましくは０.５
〜２時間である。化合物〔VII〕と化合物〔VIII〕との
反応は、化合物〔III〕と化合物〔IV〕との反応と同様
の反応条件下に行うことができる。
【００４０】化合物〔V〕と反応させるＲ3Ｘで表わされ
るハロゲン化合物としては、例えばＣ1-6低級アルキル
ハライド、Ｃ2-6低級アルケニルハライド、Ｃ2-6低級ア
ルキニルハライド、ヒドロキシ低級アルキルハライド、
カルボキシ低級アルキルハライド、カルバモイル低級ア
ルキルハライド、低級アルケノイル低級アルキルハライ
ド等が挙げられ、上記各種ハライドとしては、クロライ
ド、ブロマイド、ヨーダイド等が挙げられる。化合物
〔V〕とＲ3Ｘとの反応は通常ジクロロメタン、ジクロロ
エタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン炭化水
素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン等のエーテル類、アセトニトリル等のニトリル類、
メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール等のアルコ
ール類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド
等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド
類などの不活性溶媒中で行なうのがよい。Ｒ3Ｘの使用
量は１〜２０モル、好ましくは５〜１０モルである。反
応温度は１５℃〜１００℃、好ましくは１５〜５０℃で
ある。反応は１〜４８時間、好ましくは、５〜２４時間
で行なわれる。前記で得られた化合物〔VI〕から保護基
を除去するには、例えば、保護基がトリ（低級）アルキ
ルシリル基である場合には、水で処理することにより行
なうことができる。また、ベンズヒドリル基、トリチル
基、ｐ−メトキシベンジル基、tert−ブチル基、tert−
ブトキシカルボニル基、ホルミル基等の保護基である場
合には、ギ酸、塩酸、トリフルオロ酢酸、酢酸、フェノ
ール、クレゾール類等で処理すれば除去できる。前記脱
保護反応により７−アミノ体〔II〕が得られる。
るハロゲン化合物としては、例えばＣ1-6低級アルキル
ハライド、Ｃ2-6低級アルケニルハライド、Ｃ2-6低級ア
ルキニルハライド、ヒドロキシ低級アルキルハライド、
カルボキシ低級アルキルハライド、カルバモイル低級ア
ルキルハライド、低級アルケノイル低級アルキルハライ
ド等が挙げられ、上記各種ハライドとしては、クロライ
ド、ブロマイド、ヨーダイド等が挙げられる。化合物
〔V〕とＲ3Ｘとの反応は通常ジクロロメタン、ジクロロ
エタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン炭化水
素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン等のエーテル類、アセトニトリル等のニトリル類、
メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール等のアルコ
ール類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド
等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド
類などの不活性溶媒中で行なうのがよい。Ｒ3Ｘの使用
量は１〜２０モル、好ましくは５〜１０モルである。反
応温度は１５℃〜１００℃、好ましくは１５〜５０℃で
ある。反応は１〜４８時間、好ましくは、５〜２４時間
で行なわれる。前記で得られた化合物〔VI〕から保護基
を除去するには、例えば、保護基がトリ（低級）アルキ
ルシリル基である場合には、水で処理することにより行
なうことができる。また、ベンズヒドリル基、トリチル
基、ｐ−メトキシベンジル基、tert−ブチル基、tert−
ブトキシカルボニル基、ホルミル基等の保護基である場
合には、ギ酸、塩酸、トリフルオロ酢酸、酢酸、フェノ
ール、クレゾール類等で処理すれば除去できる。前記脱
保護反応により７−アミノ体〔II〕が得られる。
【００４１】製造法（２）：たとえば式〔V〕
【化３１】 〔式中の記号は前記と同意義を示す。〕で表わされる化
合物から、アミノ基の保護基を除去して得られる式
合物から、アミノ基の保護基を除去して得られる式
【化３２】 〔式中の記号は前記と同意義を示す。〕で表わされる化
合物〔IX〕と式
合物〔IX〕と式
【化３３】 〔式中の記号は前記と同意義を示す。〕で表わされるカ
ルボン酸またはその塩あるいはその反応性誘導体とを反
応させて、式：
ルボン酸またはその塩あるいはその反応性誘導体とを反
応させて、式：
【化３４】 〔式中の記号は前記と同意義を示す〕で表わされる化合
物〔X〕を製造し、ついで式Ｒ3Ｘ〔式中の記号は前記と
同意義を示す。〕で表わされるハロゲン化合物と反応さ
せて、式
物〔X〕を製造し、ついで式Ｒ3Ｘ〔式中の記号は前記と
同意義を示す。〕で表わされるハロゲン化合物と反応さ
せて、式
【化３５】 〔式中の記号は前記と同意義を示す〕で表わされる化合
物〔XI〕を製造し、更に保護基を除去することにより化
合物〔I〕を製造することができる。
物〔XI〕を製造し、更に保護基を除去することにより化
合物〔I〕を製造することができる。
【００４２】本製造法における化合物〔X〕は、化合物
〔IX〕と式
〔IX〕と式
【化３６】 〔式中の記号は前記と同意義を示す。〕で表わされるカ
ルボン酸またはその塩あるいはその反応性誘導体とを製
造法（１）と同様に反応させることにより製造される。
更に、本製造法における化合物〔XI〕は、化合物〔X〕
とＲ3Ｘで表わされるハロゲン化合物とを製造法（１）
の化合物（V）の４級アンモニウム化反応と同様の反応
条件下に行うことにより製造される。前記した製造法
（１）、（２）の反応のうち、必要であれば保護基の除
去および精製を行なうことにより本発明の目的化合物
〔I〕を得ることができる。以下に保護基の除去方法お
よび精製法について説明する。
ルボン酸またはその塩あるいはその反応性誘導体とを製
造法（１）と同様に反応させることにより製造される。
更に、本製造法における化合物〔XI〕は、化合物〔X〕
とＲ3Ｘで表わされるハロゲン化合物とを製造法（１）
の化合物（V）の４級アンモニウム化反応と同様の反応
条件下に行うことにより製造される。前記した製造法
（１）、（２）の反応のうち、必要であれば保護基の除
去および精製を行なうことにより本発明の目的化合物
〔I〕を得ることができる。以下に保護基の除去方法お
よび精製法について説明する。
【００４３】保護基除去法：前記した通りβ−ラクタム
およびペプチド合成の分野ではアミノ基の保護基は充分
に研究されていてその保護法及び脱保護法はすでに確立
されている。本発明においても保護基の除去は従来の技
術をそのまま利用できる。たとえばモノハロゲノアセチ
ル基（例、クロロアセチル，ブロモアセチルなど）はチ
オ尿素により，アルコキシカルボニル基（例、メトキシ
カルボニル，エトキシカルボニル，tert−ブトキシカル
ボニルなど）は酸（例、塩酸など）により，アラルキル
オキシカルボニル基（例、ベンジルオキシカルボニル，
ｐ−メチルベンジルオキシカルボニル，ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルなど）は接触還元により，２,２,
２−トリクロロエトキシカルボニルは亜鉛と酸（例、酢
酸など）により除去することができる。一方、合成中間
体として化合物〔I〕がエステル化されている場合もそ
れ自体公知の方法またはそれに準ずる方法によってエス
テル残基を除去することができる。たとえば２−メチル
スルホニルエチルエステルはアルカリにより，アラルキ
ルエステル（例、ベンジルエステル，ベンツヒトセリ
ル，ｐ−メトキシベンジルエステル，ｐ−ニトロベンジ
ルエステルなど）は酸（例、トリフルオロ酢酸など）ま
たは接触還元により，２,２,２−トリクロロエチルエス
テルは亜鉛と酸（例、酢酸など）により，シリルエステ
ル(例、トリメチルシリルエステル，tert−ブチルジメ
チルシリルエステルなど）は水のみにより除去すること
ができる。Ｓ−オキシドの還元は、β−ラクタムの分野
で確立されている方法が用いられ、本発明においても従
来の技術をそのまま利用できる。たとえば、三塩化リ
ン，三臭化リンが用いられる。 化合物〔I〕の精製法 : 製造法(１)〜(２)に詳記した各
種製造法により、また必要であれば前記の保護基除去法
をつづいて行うことにより反応混合物中に生成した化合
物〔I〕は抽出法，カラムクロマトグラフィー，沈澱
法，再結晶法などの公知の処理手段によって単離精製す
ることができる。一方、単離された化合物〔I〕を公知
の方法により所望の生理学的に受容される塩へと変換す
ることもできる。
およびペプチド合成の分野ではアミノ基の保護基は充分
に研究されていてその保護法及び脱保護法はすでに確立
されている。本発明においても保護基の除去は従来の技
術をそのまま利用できる。たとえばモノハロゲノアセチ
ル基（例、クロロアセチル，ブロモアセチルなど）はチ
オ尿素により，アルコキシカルボニル基（例、メトキシ
カルボニル，エトキシカルボニル，tert−ブトキシカル
ボニルなど）は酸（例、塩酸など）により，アラルキル
オキシカルボニル基（例、ベンジルオキシカルボニル，
ｐ−メチルベンジルオキシカルボニル，ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルなど）は接触還元により，２,２,
２−トリクロロエトキシカルボニルは亜鉛と酸（例、酢
酸など）により除去することができる。一方、合成中間
体として化合物〔I〕がエステル化されている場合もそ
れ自体公知の方法またはそれに準ずる方法によってエス
テル残基を除去することができる。たとえば２−メチル
スルホニルエチルエステルはアルカリにより，アラルキ
ルエステル（例、ベンジルエステル，ベンツヒトセリ
ル，ｐ−メトキシベンジルエステル，ｐ−ニトロベンジ
ルエステルなど）は酸（例、トリフルオロ酢酸など）ま
たは接触還元により，２,２,２−トリクロロエチルエス
テルは亜鉛と酸（例、酢酸など）により，シリルエステ
ル(例、トリメチルシリルエステル，tert−ブチルジメ
チルシリルエステルなど）は水のみにより除去すること
ができる。Ｓ−オキシドの還元は、β−ラクタムの分野
で確立されている方法が用いられ、本発明においても従
来の技術をそのまま利用できる。たとえば、三塩化リ
ン，三臭化リンが用いられる。 化合物〔I〕の精製法 : 製造法(１)〜(２)に詳記した各
種製造法により、また必要であれば前記の保護基除去法
をつづいて行うことにより反応混合物中に生成した化合
物〔I〕は抽出法，カラムクロマトグラフィー，沈澱
法，再結晶法などの公知の処理手段によって単離精製す
ることができる。一方、単離された化合物〔I〕を公知
の方法により所望の生理学的に受容される塩へと変換す
ることもできる。
【００４４】本発明の化合物〔I〕はスペクトルの広い
抗菌活性を有し、人および哺乳動物（例、マウス，ラッ
ト，ウサギ，犬，ネコ，牛，豚等）における病原性細菌
により生ずる種々の疾病、たとえば気道感染，尿路感染
の予防ならびに治療のため安全に使用されうる。抗菌性
化合物〔I〕の抗菌スペクトルの特徴としてつぎのよう
な点が挙げられる。 (1) 多種のグラム陰性菌に対して非常に高い活性を示
す。 (2) グラム陽性菌（たとえばスタフィロコッカス・アウ
レウス，コリネバクテリウム・ジフテリアエ等）に対し
て高い活性を有している。 (3) メチシリン耐性ブドウ球菌（ＭＲＳＡ）に対して高
い活性を有している。 (4) 通常のセファロスポリン系抗生物質による治療に感
受性でないシュードモナス・アエルギノサに対して顕著
な効果を示す。 (5) 多くのβーラクタマーゼ生産性グラム陰性菌(たと
えばエシェリヒア属,エンテロバクター属,セラチア属,
プロテウス属等)に対しても高い活性を有している。 また本発明の抗菌性化合物〔I〕は、(1)優れた安定性を
有する、(2)血中濃度が高い、(3)効果の持続時間が長
い、(4)組織移行性が顕著であるなどの特徴をも有して
いる。
抗菌活性を有し、人および哺乳動物（例、マウス，ラッ
ト，ウサギ，犬，ネコ，牛，豚等）における病原性細菌
により生ずる種々の疾病、たとえば気道感染，尿路感染
の予防ならびに治療のため安全に使用されうる。抗菌性
化合物〔I〕の抗菌スペクトルの特徴としてつぎのよう
な点が挙げられる。 (1) 多種のグラム陰性菌に対して非常に高い活性を示
す。 (2) グラム陽性菌（たとえばスタフィロコッカス・アウ
レウス，コリネバクテリウム・ジフテリアエ等）に対し
て高い活性を有している。 (3) メチシリン耐性ブドウ球菌（ＭＲＳＡ）に対して高
い活性を有している。 (4) 通常のセファロスポリン系抗生物質による治療に感
受性でないシュードモナス・アエルギノサに対して顕著
な効果を示す。 (5) 多くのβーラクタマーゼ生産性グラム陰性菌(たと
えばエシェリヒア属,エンテロバクター属,セラチア属,
プロテウス属等)に対しても高い活性を有している。 また本発明の抗菌性化合物〔I〕は、(1)優れた安定性を
有する、(2)血中濃度が高い、(3)効果の持続時間が長
い、(4)組織移行性が顕著であるなどの特徴をも有して
いる。
【００４５】本発明の化合物〔I〕は公知のペニシリン
剤，セフアロスポリン剤と同様に注射剤，カプセル剤，
錠剤，顆粒剤（特に注射剤が好ましい）として非経口ま
たは経口的に投与できる。投与量は前記したような病原
性細菌に気道感染した人および動物に対して体重１kgあ
たり化合物〔I〕として０.５〜８０mg／日，より好まし
くは２〜４０mg／日を１日２〜３回に分割して非経口投
与すればよい。注射剤として用いられる場合の担体は、
たとえば蒸留水，生理食塩水などが用いられ、カプセル
剤，粉剤，顆粒剤，錠剤として用いられる場合は、公知
の薬理学的に許容される賦形剤（たとえばデンプン，乳
糖，白糖，炭酸カルシウム，リン酸カルシウム等），結
合剤（たとえばデンプン，アラビアゴム，カルボキシメ
チルセルロース，ヒドロキシプロピルセルロース，結晶
セルロース等），滑沢剤（たとえばステアリン酸マグネ
シウム，タルク等），破壊剤（たとえばカルボキシメチ
ルカルシウム，タルク等）と混合して用いられる。
剤，セフアロスポリン剤と同様に注射剤，カプセル剤，
錠剤，顆粒剤（特に注射剤が好ましい）として非経口ま
たは経口的に投与できる。投与量は前記したような病原
性細菌に気道感染した人および動物に対して体重１kgあ
たり化合物〔I〕として０.５〜８０mg／日，より好まし
くは２〜４０mg／日を１日２〜３回に分割して非経口投
与すればよい。注射剤として用いられる場合の担体は、
たとえば蒸留水，生理食塩水などが用いられ、カプセル
剤，粉剤，顆粒剤，錠剤として用いられる場合は、公知
の薬理学的に許容される賦形剤（たとえばデンプン，乳
糖，白糖，炭酸カルシウム，リン酸カルシウム等），結
合剤（たとえばデンプン，アラビアゴム，カルボキシメ
チルセルロース，ヒドロキシプロピルセルロース，結晶
セルロース等），滑沢剤（たとえばステアリン酸マグネ
シウム，タルク等），破壊剤（たとえばカルボキシメチ
ルカルシウム，タルク等）と混合して用いられる。
【００４６】
【実施例】本発明はさらに下記の参考例,実施例で詳し
く説明されるが、これらの例は単なる実例であって本発
明を限定するものではなく、また本発明の範囲を逸脱し
ない範囲で変化させてもよい。参考例，実施例のカラム
クロマトグラフィーにおける溶出はＴＬＣ（ＴhinＬaye
r Ｃhromatography, 薄層クロマトグラフィー）によ
る観察下に行なわれた。ＴＬＣ観察においては、ＴＬＣ
プレートとしてメルク（Ｍerck）社製の６０Ｆ254 を、
展開溶媒としてはカラムクロマトグラフィーで溶出溶媒
として用いられた溶媒を、検出法としてＵＶ検出器を採
用した。カラム用シリカゲルは同じくメルク社製のキー
ゼルゲル６０（７０〜２３０メッシュ）を用いた。“セ
ファデックス" はファルマシア・ファイン・ケミカルズ
社（Ｐharmacia Ｆine Ｃhemicals）製である。ＸＡ
Ｄ−２樹脂はロ−ム・アンド・ハース社製（Ｒohm ＆
Ｈaas Ｃo．）製である。ダイアイオンＨＰ２０は三菱
化成製である。ＮＭＲスペクトルは内部または外部基準
としてテトラメチルシランを用いてＧemini ２００型ス
ペクトロメーターで測定し、全δ値を ppm で示した。
混合溶媒において（ ）内に示した数値は各溶媒の容量
混合比である。また溶液における％は溶液１００ml中の
ｇ数を表わす。また参考例,実施例中の記号は次のよう
な意味である。 s :シングレット(singlet) d :ダブレット(doublet) t :トリプレット(triplet) q :クワルテット(quartet) ＡＢq :ＡＢ型クワルテット(ＡＢ type quartet) dd :ダブル ダブレット(double doublet) m :マルチプレット(multiplet) bs :ブロ−ド シングレット(broad singlet) Ｊ :カップリング定数(coupling constant)
く説明されるが、これらの例は単なる実例であって本発
明を限定するものではなく、また本発明の範囲を逸脱し
ない範囲で変化させてもよい。参考例，実施例のカラム
クロマトグラフィーにおける溶出はＴＬＣ（ＴhinＬaye
r Ｃhromatography, 薄層クロマトグラフィー）によ
る観察下に行なわれた。ＴＬＣ観察においては、ＴＬＣ
プレートとしてメルク（Ｍerck）社製の６０Ｆ254 を、
展開溶媒としてはカラムクロマトグラフィーで溶出溶媒
として用いられた溶媒を、検出法としてＵＶ検出器を採
用した。カラム用シリカゲルは同じくメルク社製のキー
ゼルゲル６０（７０〜２３０メッシュ）を用いた。“セ
ファデックス" はファルマシア・ファイン・ケミカルズ
社（Ｐharmacia Ｆine Ｃhemicals）製である。ＸＡ
Ｄ−２樹脂はロ−ム・アンド・ハース社製（Ｒohm ＆
Ｈaas Ｃo．）製である。ダイアイオンＨＰ２０は三菱
化成製である。ＮＭＲスペクトルは内部または外部基準
としてテトラメチルシランを用いてＧemini ２００型ス
ペクトロメーターで測定し、全δ値を ppm で示した。
混合溶媒において（ ）内に示した数値は各溶媒の容量
混合比である。また溶液における％は溶液１００ml中の
ｇ数を表わす。また参考例,実施例中の記号は次のよう
な意味である。 s :シングレット(singlet) d :ダブレット(doublet) t :トリプレット(triplet) q :クワルテット(quartet) ＡＢq :ＡＢ型クワルテット(ＡＢ type quartet) dd :ダブル ダブレット(double doublet) m :マルチプレット(multiplet) bs :ブロ−ド シングレット(broad singlet) Ｊ :カップリング定数(coupling constant)
【００４７】参考例１ ２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール−３−イ
ル）−２(Ｚ)−シクロペンチルオキシイミノ酢酸 ３−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール−３−イ
ル）クマリン１４．７ｇをエタノール１２０mlに懸濁
し、これに１Ｎ水酸化ナトリウム１２０mlを加え４０℃
で１時間撹拌し、均一溶液となったのち、氷冷下クロロ
炭酸エチル６mlを加え、５分間撹拌した。次に、塩化メ
チレン１８０ml，１Ｎ塩酸６０mlを加えて水層を除き、
再度塩化メチレンで抽出して有機層を合わせ、ドライア
イスアセトン浴で冷却した。塩化メチレン溶液に３時間
オゾンを通した後、１５分間窒素を通じて過剰のオゾン
を除いた。酢酸ナトリウム４．９２ｇ，ジメチルスルフ
ィド３０mlを反応液に加えて撹拌し、ヨウ化カリウム−
デンプン紙が陰性であることを確認した後、１２０ml及
び６０mlの水を加えて２回抽出し、さらに水層を酢酸エ
チルで洗浄した。水層にＯ−シクロペンチルヒドロキシ
ルアミン６．７ｇを加え、１Ｎ−水酸化ナトリウムでｐ
Ｈ５とし、室温（２５℃，以下同様）で一夜撹拌した。
反応液に１Ｎ−塩酸８０mlを加え、ｐＨ１とした後、酢
酸エチルで３回抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄
後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮し、残渣
を酢酸エチルより結晶化させ、１２．８ｇの標記化合物
を得た。 融点：１４２−１４３℃ ＩＲスペクトル（ＫＢr,cm-1）：3300, 2950, 1720, 16
40, 1520, 1400, 1180.ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）δ：1.3-1.9
(8H,m), 4.74(1H,m), 8.17(2H,bs).
ル）−２(Ｚ)−シクロペンチルオキシイミノ酢酸 ３−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール−３−イ
ル）クマリン１４．７ｇをエタノール１２０mlに懸濁
し、これに１Ｎ水酸化ナトリウム１２０mlを加え４０℃
で１時間撹拌し、均一溶液となったのち、氷冷下クロロ
炭酸エチル６mlを加え、５分間撹拌した。次に、塩化メ
チレン１８０ml，１Ｎ塩酸６０mlを加えて水層を除き、
再度塩化メチレンで抽出して有機層を合わせ、ドライア
イスアセトン浴で冷却した。塩化メチレン溶液に３時間
オゾンを通した後、１５分間窒素を通じて過剰のオゾン
を除いた。酢酸ナトリウム４．９２ｇ，ジメチルスルフ
ィド３０mlを反応液に加えて撹拌し、ヨウ化カリウム−
デンプン紙が陰性であることを確認した後、１２０ml及
び６０mlの水を加えて２回抽出し、さらに水層を酢酸エ
チルで洗浄した。水層にＯ−シクロペンチルヒドロキシ
ルアミン６．７ｇを加え、１Ｎ−水酸化ナトリウムでｐ
Ｈ５とし、室温（２５℃，以下同様）で一夜撹拌した。
反応液に１Ｎ−塩酸８０mlを加え、ｐＨ１とした後、酢
酸エチルで３回抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄
後、硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で濃縮し、残渣
を酢酸エチルより結晶化させ、１２．８ｇの標記化合物
を得た。 融点：１４２−１４３℃ ＩＲスペクトル（ＫＢr,cm-1）：3300, 2950, 1720, 16
40, 1520, 1400, 1180.ＮＭＲ（ＤＭＳＯ）δ：1.3-1.9
(8H,m), 4.74(1H,m), 8.17(2H,bs).
【００４８】参考例２ ２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール−３−イ
ル）−２(Ｚ)−シクロペンチルオキシイミノアセチルク
ロリド・塩酸塩 ２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール−３−イ
ル）−２(Ｚ)−シクロペンチルオキシイミノ酢酸３．８
４ｇをジクロロメタン３０mlに懸濁し、−４０℃に冷却
後、五塩化リン３．４３ｇを加え、−２０℃以下で１時
間撹拌した。反応液にイソプロピルエーテル６０mlを加
え、析出した結晶を濾取、乾燥して３．２６ｇの標記化
合物を得た。
ル）−２(Ｚ)−シクロペンチルオキシイミノアセチルク
ロリド・塩酸塩 ２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール−３−イ
ル）−２(Ｚ)−シクロペンチルオキシイミノ酢酸３．８
４ｇをジクロロメタン３０mlに懸濁し、−４０℃に冷却
後、五塩化リン３．４３ｇを加え、−２０℃以下で１時
間撹拌した。反応液にイソプロピルエーテル６０mlを加
え、析出した結晶を濾取、乾燥して３．２６ｇの標記化
合物を得た。
【００４９】参考例３ ２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール−３−イ
ル）−２(Ｚ)−イソプロポキシイミノ酢酸 ３−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール−３−イ
ル）クマリン７．０ｇをエタノール５６mlに懸濁し、１
Ｎ水酸化ナトリウム５７．１mlを加え、４０℃で１時間
かき混ぜた。ついで氷冷下にククロ炭酸エチル２．８６
mlを加え、１５分間かき混ぜ、１Ｎ塩酸２８．６ml及び
ジククロメタン８８mlを加えた。ジクロルメタン層を分
取し水層は再度ジクロロメタンで抽出した。有機層を合
わせて、ドライアイス−アセトン浴で冷却下に１時間オ
ゾンを通じた後、１５分間窒素を通じ過剰のオゾンを除
いた。酢酸ナトリウム２．３５ｇとメチルスルフィド１
４mlを加え、ヨウ化カリウム−デンプン紙が陰性を示す
まで室温でかき混ぜた。反応液を水で抽出し、抽出液は
酢酸エチルで洗浄し、イソプロポキシアミン塩酸塩３．
４７ｇ、酢酸ナトリウム２．５７ｇを加えた。室温で
１．５時間かき混ぜた後、酢酸ナトリウム０．７ｇを加
え再び酢酸エチルで洗浄した。氷冷下に濃塩酸でｐＨ１
とし、食塩を加えて飽和させた後、酢酸エチルで抽出し
た。抽出液は硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を留去し
た。残留物にヘキサンを加え４．８６ｇの標題化合物を
結晶として得た。 融点：１５２−１５４℃ ＩＲ（ＫＢr，cm-1）：3425, 2990, 1720, 1620 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ-d6）δ：1.23(6H,d,J=6.2Hz), 4.40
(1H,m), 8.18(2H,s).
ル）−２(Ｚ)−イソプロポキシイミノ酢酸 ３−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール−３−イ
ル）クマリン７．０ｇをエタノール５６mlに懸濁し、１
Ｎ水酸化ナトリウム５７．１mlを加え、４０℃で１時間
かき混ぜた。ついで氷冷下にククロ炭酸エチル２．８６
mlを加え、１５分間かき混ぜ、１Ｎ塩酸２８．６ml及び
ジククロメタン８８mlを加えた。ジクロルメタン層を分
取し水層は再度ジクロロメタンで抽出した。有機層を合
わせて、ドライアイス−アセトン浴で冷却下に１時間オ
ゾンを通じた後、１５分間窒素を通じ過剰のオゾンを除
いた。酢酸ナトリウム２．３５ｇとメチルスルフィド１
４mlを加え、ヨウ化カリウム−デンプン紙が陰性を示す
まで室温でかき混ぜた。反応液を水で抽出し、抽出液は
酢酸エチルで洗浄し、イソプロポキシアミン塩酸塩３．
４７ｇ、酢酸ナトリウム２．５７ｇを加えた。室温で
１．５時間かき混ぜた後、酢酸ナトリウム０．７ｇを加
え再び酢酸エチルで洗浄した。氷冷下に濃塩酸でｐＨ１
とし、食塩を加えて飽和させた後、酢酸エチルで抽出し
た。抽出液は硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を留去し
た。残留物にヘキサンを加え４．８６ｇの標題化合物を
結晶として得た。 融点：１５２−１５４℃ ＩＲ（ＫＢr，cm-1）：3425, 2990, 1720, 1620 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ-d6）δ：1.23(6H,d,J=6.2Hz), 4.40
(1H,m), 8.18(2H,s).
【００５０】参考例４ ２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール−３−イ
ル）−２(Ｚ)−イソプロポキシイミノアセチルクロリド
・塩酸塩 ２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール−３−イ
ル）−２(Ｚ)−イソプロポキシイミノ酢酸２．３ｇをジ
クロロメタン２０mlに懸濁し、−４０℃に冷却後、五塩
化リン２．２９ｇを加え、−２０℃以下で１時間撹拌し
た。反応液にイソプロピルエーテル３０mlを加え、析出
した結晶を濾取、乾燥して１．７４ｇの標記化合物を得
た。
ル）−２(Ｚ)−イソプロポキシイミノアセチルクロリド
・塩酸塩 ２−（５−アミノ−１,２,４−チアジアゾール−３−イ
ル）−２(Ｚ)−イソプロポキシイミノ酢酸２．３ｇをジ
クロロメタン２０mlに懸濁し、−４０℃に冷却後、五塩
化リン２．２９ｇを加え、−２０℃以下で１時間撹拌し
た。反応液にイソプロピルエーテル３０mlを加え、析出
した結晶を濾取、乾燥して１．７４ｇの標記化合物を得
た。
【００５１】参考例５ ｐ−メトキシベンジル ７β−ｔ−ブチルオキシカルボ
ニルアミノ−３−［２−（イミダゾ［１，２−ｂ］ピリ
ダジン−６−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カル
ボキシレート ｐ−メトキシベンジル ７β−ｔ−ブチルオキシカルボ
ニルアミノ−３−（トリフェニルホスホニオ）メチル−
３−セフェム−４−カルボキシレート イオダイド３．
７３ｇをクロロホルム１８．５ｍｌに溶解し、１Ｎ水酸
化ナトリウム水溶液９．２５ｍｌおよび飽和食塩水９．
２５ｍｌを加えて室温で１時間撹拌した。有機層を分液
後、６−ホルミルイミダゾ［１，２−ｂ］ピリダジン６
８０ｍｇのクロロホルム溶液２０ｍｌを加えて室温で
５．５時間撹拌した。減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−ヘキサン
で溶出した。目的物を含むフラクションを集めて、減圧
濃縮し残渣を酢酸エチル−ジエチルエーテルで洗い、減
圧下乾燥して標記化合物１．４５ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ：1.47(9H,s), 3.35(1H×
2/3,d,J=18.3Hz), 3.54(1H×2/3,d,J=18.3Hz), 3.65(1H
×1/3,d,J=18.3Hz), 3.80(3H×2/3,s), 3.82(1H×1/3,
d,J=18.3Hz), 3.83(3H×1/3,s), 5.01-5.45(4H,m), 5.6
6(1H,m), 6.52(1H×2/3,d,J=12.2Hz), 6.74-7.91(9H＋1
H×1/3,m)
ニルアミノ−３−［２−（イミダゾ［１，２−ｂ］ピリ
ダジン−６−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カル
ボキシレート ｐ−メトキシベンジル ７β−ｔ−ブチルオキシカルボ
ニルアミノ−３−（トリフェニルホスホニオ）メチル−
３−セフェム−４−カルボキシレート イオダイド３．
７３ｇをクロロホルム１８．５ｍｌに溶解し、１Ｎ水酸
化ナトリウム水溶液９．２５ｍｌおよび飽和食塩水９．
２５ｍｌを加えて室温で１時間撹拌した。有機層を分液
後、６−ホルミルイミダゾ［１，２−ｂ］ピリダジン６
８０ｍｇのクロロホルム溶液２０ｍｌを加えて室温で
５．５時間撹拌した。減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−ヘキサン
で溶出した。目的物を含むフラクションを集めて、減圧
濃縮し残渣を酢酸エチル−ジエチルエーテルで洗い、減
圧下乾燥して標記化合物１．４５ｇを得た。 ＮＭＲスペクトル（CDCl3）δ：1.47(9H,s), 3.35(1H×
2/3,d,J=18.3Hz), 3.54(1H×2/3,d,J=18.3Hz), 3.65(1H
×1/3,d,J=18.3Hz), 3.80(3H×2/3,s), 3.82(1H×1/3,
d,J=18.3Hz), 3.83(3H×1/3,s), 5.01-5.45(4H,m), 5.6
6(1H,m), 6.52(1H×2/3,d,J=12.2Hz), 6.74-7.91(9H＋1
H×1/3,m)
【００５２】実施例１ ７β−［（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−
３−イル）−２（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］
−３−［（Ｅ）−２−（１−メチルイミダゾ［１，２−
ｂ］ピリダジニウム−６−イル）ビニル］−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート及び７β−［（５−アミノ−
１，２，４−チアジアゾール−３−イル）−２（Ｚ）−
メトキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）−２−
（１−メチルイミダゾ［１，２−ｂ］ピリダジニウム−
６−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボキシレ
ート
３−イル）−２（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］
−３−［（Ｅ）−２−（１−メチルイミダゾ［１，２−
ｂ］ピリダジニウム−６−イル）ビニル］−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート及び７β−［（５−アミノ−
１，２，４−チアジアゾール−３−イル）−２（Ｚ）−
メトキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）−２−
（１−メチルイミダゾ［１，２−ｂ］ピリダジニウム−
６−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボキシレ
ート
【化３７】 ｐ−メトキシベンジル ７β−ｔ−ブチルオキシカルボ
ニルアミノ−３−［２−（イミダゾ［１，２−ｂ］ピリ
ダジン−６−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カル
ボキシレート３４８ｍｇをジメチルホルムアミド３．３
ｍｌに溶解し、ヨウ化メチル３．９３ｍｌを加えて室温
で４時間撹拌した。ヨウ化メチルを減圧溜去し、ジエチ
ルエーテル４５．３ｍｌを加えてよく撹拌した。ジエチ
ルエーテルをデカンテーションにより除き、残渣にジエ
チルエーテル３１．８ｍｌを加えてよく撹拌した。デカ
ンテーションによりジエチルエーテルを除き、残渣にジ
クロロメタン９．６ｍｌを加えて溶解した。トリフルオ
ロ酢酸４．２ｍｌとアニソール２．８２ｍｌを加えた。
室温で３０分間撹拌した後、ジエチルエーテル４５．３
ｍｌを加えて析出した固体を濾取し、ジエチルエーテル
で洗い、減圧下乾燥した。テトラヒドロフラン−水
（１：１）の混合溶液４５ｍｌに溶解し、氷冷下飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液でｐＨを７．５にした。（５−
アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセチルクロリド塩酸塩１９５
ｍｇを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨを
８．０にした。氷冷下３０分間撹拌した後、テトラヒド
ロフランを減圧溜去した。残渣をダイアイオンＨＰ−２
０カラムクロマトグラフィーに付し、水−エタノールで
溶出した。目的物を含むフラクションをＥ体とＺ体別々
に集めて減圧濃縮し、それぞれセファデックスＬＨ−２
０に付した。水で溶出し、減圧濃縮後凍結乾燥して標記
化合物Ｅ体７５ｍｇ及びＺ体７２ｍｇを得た。 Ｅ体： 元素分析値：Ｃ21Ｈ19Ｎ9Ｏ5S2・3.5H2O 計算値：Ｃ，41.72； Ｈ，4.33； Ｎ，20.85 実測値：Ｃ，41.98； Ｈ，4.15； Ｎ，20.96 ＮＭＲスペクトル（D2O）δ；3.80(1H,d,J=17.4Hz), 3.
92(1H,d,J=17.4Hz), 4.10(3H,s), 4.11(3H,s), 5.36(1
H,d,J=4.8Hz), 5.90(1H,d,J=4.8Hz), 6.92(1H,d,J16.2H
z), 7.77(1H,d,J=16.2Hz), 8.04(1H,d,J=2.1Hz), 8.08
(1H,d,J=9.7Hz), 8.29(1H,d,J=2.1Hz), 8.40(1H,d,J=9.
7Hz) ＩＲ(KBr，cm-1) 3419,3172,1767,1670,1614,1566,152
9,1498,1385,1356,1325,1039 Ｚ体： ＮＭＲスペクトル（D2O）δ；3.42(1H,d,J=17.9Hz), 3.
77(1H,d,J=17.9Hz), 4.09(3H,s), 4.12(3H,s), 5.34(1
H,d,J=4.8Hz), 5.84(1H,d,J=4.8Hz), 6.70(1H,d,J=12.0
Hz), 6.84(1H,d,J=12.0Hz), 7.82(1H,d,J=9.8Hz), 8.07
(1H,d,J=2.2Hz), 8.31(1H,d,J=2.2Hz), 8.37(1H,d,J=9.
8Hz) ＩＲ(KBr，cm-1) 3365,3136,1770,1674,1606,1568,152
7,1462,1379,1348,1039
ニルアミノ−３−［２−（イミダゾ［１，２−ｂ］ピリ
ダジン−６−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カル
ボキシレート３４８ｍｇをジメチルホルムアミド３．３
ｍｌに溶解し、ヨウ化メチル３．９３ｍｌを加えて室温
で４時間撹拌した。ヨウ化メチルを減圧溜去し、ジエチ
ルエーテル４５．３ｍｌを加えてよく撹拌した。ジエチ
ルエーテルをデカンテーションにより除き、残渣にジエ
チルエーテル３１．８ｍｌを加えてよく撹拌した。デカ
ンテーションによりジエチルエーテルを除き、残渣にジ
クロロメタン９．６ｍｌを加えて溶解した。トリフルオ
ロ酢酸４．２ｍｌとアニソール２．８２ｍｌを加えた。
室温で３０分間撹拌した後、ジエチルエーテル４５．３
ｍｌを加えて析出した固体を濾取し、ジエチルエーテル
で洗い、減圧下乾燥した。テトラヒドロフラン−水
（１：１）の混合溶液４５ｍｌに溶解し、氷冷下飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液でｐＨを７．５にした。（５−
アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセチルクロリド塩酸塩１９５
ｍｇを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨを
８．０にした。氷冷下３０分間撹拌した後、テトラヒド
ロフランを減圧溜去した。残渣をダイアイオンＨＰ−２
０カラムクロマトグラフィーに付し、水−エタノールで
溶出した。目的物を含むフラクションをＥ体とＺ体別々
に集めて減圧濃縮し、それぞれセファデックスＬＨ−２
０に付した。水で溶出し、減圧濃縮後凍結乾燥して標記
化合物Ｅ体７５ｍｇ及びＺ体７２ｍｇを得た。 Ｅ体： 元素分析値：Ｃ21Ｈ19Ｎ9Ｏ5S2・3.5H2O 計算値：Ｃ，41.72； Ｈ，4.33； Ｎ，20.85 実測値：Ｃ，41.98； Ｈ，4.15； Ｎ，20.96 ＮＭＲスペクトル（D2O）δ；3.80(1H,d,J=17.4Hz), 3.
92(1H,d,J=17.4Hz), 4.10(3H,s), 4.11(3H,s), 5.36(1
H,d,J=4.8Hz), 5.90(1H,d,J=4.8Hz), 6.92(1H,d,J16.2H
z), 7.77(1H,d,J=16.2Hz), 8.04(1H,d,J=2.1Hz), 8.08
(1H,d,J=9.7Hz), 8.29(1H,d,J=2.1Hz), 8.40(1H,d,J=9.
7Hz) ＩＲ(KBr，cm-1) 3419,3172,1767,1670,1614,1566,152
9,1498,1385,1356,1325,1039 Ｚ体： ＮＭＲスペクトル（D2O）δ；3.42(1H,d,J=17.9Hz), 3.
77(1H,d,J=17.9Hz), 4.09(3H,s), 4.12(3H,s), 5.34(1
H,d,J=4.8Hz), 5.84(1H,d,J=4.8Hz), 6.70(1H,d,J=12.0
Hz), 6.84(1H,d,J=12.0Hz), 7.82(1H,d,J=9.8Hz), 8.07
(1H,d,J=2.2Hz), 8.31(1H,d,J=2.2Hz), 8.37(1H,d,J=9.
8Hz) ＩＲ(KBr，cm-1) 3365,3136,1770,1674,1606,1568,152
7,1462,1379,1348,1039
【００５３】実施例２ ７β−［（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−
３−イル）−２（Ｚ）−エトキシイミノアセトアミド］
−３−［（Ｅ）−２−（１−メチルイミダゾ［１，２−
ｂ］ピリダジニウム−６−イル）ビニル］−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート及び７β−［（５−アミノ−
１，２，４−チアジアゾール−３−イル）−２（Ｚ）−
エトキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）−２−
（１−メチルイミダゾ［１，２−ｂ］ピリダジニウム−
６−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボキシレ
ート
３−イル）−２（Ｚ）−エトキシイミノアセトアミド］
−３−［（Ｅ）−２−（１−メチルイミダゾ［１，２−
ｂ］ピリダジニウム−６−イル）ビニル］−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート及び７β−［（５−アミノ−
１，２，４−チアジアゾール−３−イル）−２（Ｚ）−
エトキシイミノアセトアミド］−３−［（Ｚ）−２−
（１−メチルイミダゾ［１，２−ｂ］ピリダジニウム−
６−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カルボキシレ
ート
【化３８】 ｐ−メトキシベンジル ７β−ｔ−ブチルオキシカルボ
ニルアミノ−３−［２−（イミダゾ［１，２−ｂ］ピリ
ダジン−６−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カル
ボキシレート４８４ｍｇをジメチルホルムアミド４．４
ｍｌに溶解し、ヨウ化メチル５．４８ｍｌを加えて室温
で４時間撹拌した。ヨウ化メチルを減圧溜去し、ジエチ
ルエーテル６２．８ｍｌを加えてよく撹拌した。ジエチ
ルエーテルをデカンテーションにより除き、残渣にジエ
チルエーテル４４．４ｍｌを加えてよく撹拌した。デカ
ンテーションによりジエチルエーテルを除き、残渣にジ
クロロメタン１３．２ｍｌを加えて溶解した。トリフル
オロ酢酸５．６ｍｌとアニソール４．０ｍｌを加えた。
室温で３０分間撹拌した後、ジエチルエーテル６２．８
ｍｌを加えて析出した固体を濾取し、ジエチルエーテル
で洗い、減圧下乾燥した。テトラヒドロフラン−水
（１：１）の混合溶液６０ｍｌに溶解し、氷冷下飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液でｐＨを７．５にした。（５−
アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）−２
（Ｚ）−エトキシイミノアセチルクロリド塩酸塩２８８
ｍｇを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨを
８．０にした。氷冷下３０分間撹拌した後、テトラヒド
ロフランを減圧溜去した。残渣をダイアイオンＨＰ−２
０カラムクロマトグラフィーに付し、水−エタノールで
溶出した。目的物を含むフラクションをＥ体とＺ体別々
に集めて減圧濃縮し、それぞれセファデックスＬＨ−２
０に付した。水で溶出し、減圧濃縮後凍結乾燥して標記
化合物Ｅ体１１５ｍｇ及びＺ体５９．９ｍｇを得た。 Ｅ体： 元素分析値：Ｃ21Ｈ21Ｎ9Ｏ5S2・3.5H2O 計算値：Ｃ，42.71； Ｈ，4.56； Ｎ，20.38 実測値：Ｃ，42.95； Ｈ，4.61； Ｎ，20.32 ＮＭＲスペクトル（D2O）δ；1.37(3H,ｔ,J=7.0Hz), 3.
80(1H,d,J=16.8Hz), 3.92(1H,d,J=16.8Hz), 4.12(3H,
s), 4.38(2H,q,J=7.0Hz), 5.37(1H,d,J=4.7Hz), 5.90(1
H,d,J=4.7Hz), 6.91(1H,d,J=16.3Hz), 7.78(1H,d,J=16.
3Hz), 8.04(1H,d,J=2.0Hz), 8.08(1H,d,J=10.0Hz), 8.2
9(1H,d,J=2.0Hz), 8.40(1H,d,J=10.0Hz) ＩＲ(KBr，cm-1) 3425,3174,1767,1672,1616,1566,152
7,1497,1385,1357,1038 Ｚ体： ＮＭＲスペクトル（D2O）δ；1.34(3H,ｔ,J=7.1Hz), 3.
42(1H,d,J=17.5Hz), 3.77(1H,d,J=17.5Hz), 4.12(3H,
s), 4.38(2H,q,J=7.1Hz), 5.35(1H,d,J=4.7Hz), 5.85(1
H,d,J=4.7Hz), 6.70(1H,d,J=12.0Hz), 6.84(1H,d,J=12.
0Hz), 7.83(1H,d,J=9.6Hz), 8.07(1H,d,J=2.2Hz), 8.31
(1H,d,J=2.2Hz), 8.37(1H,d,J=9.6Hz) ＩＲ(KBr，cm-1) 3379,3136,1768,1668,1605,1529,138
3,1174,1038
ニルアミノ−３−［２−（イミダゾ［１，２−ｂ］ピリ
ダジン−６−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カル
ボキシレート４８４ｍｇをジメチルホルムアミド４．４
ｍｌに溶解し、ヨウ化メチル５．４８ｍｌを加えて室温
で４時間撹拌した。ヨウ化メチルを減圧溜去し、ジエチ
ルエーテル６２．８ｍｌを加えてよく撹拌した。ジエチ
ルエーテルをデカンテーションにより除き、残渣にジエ
チルエーテル４４．４ｍｌを加えてよく撹拌した。デカ
ンテーションによりジエチルエーテルを除き、残渣にジ
クロロメタン１３．２ｍｌを加えて溶解した。トリフル
オロ酢酸５．６ｍｌとアニソール４．０ｍｌを加えた。
室温で３０分間撹拌した後、ジエチルエーテル６２．８
ｍｌを加えて析出した固体を濾取し、ジエチルエーテル
で洗い、減圧下乾燥した。テトラヒドロフラン−水
（１：１）の混合溶液６０ｍｌに溶解し、氷冷下飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液でｐＨを７．５にした。（５−
アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）−２
（Ｚ）−エトキシイミノアセチルクロリド塩酸塩２８８
ｍｇを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨを
８．０にした。氷冷下３０分間撹拌した後、テトラヒド
ロフランを減圧溜去した。残渣をダイアイオンＨＰ−２
０カラムクロマトグラフィーに付し、水−エタノールで
溶出した。目的物を含むフラクションをＥ体とＺ体別々
に集めて減圧濃縮し、それぞれセファデックスＬＨ−２
０に付した。水で溶出し、減圧濃縮後凍結乾燥して標記
化合物Ｅ体１１５ｍｇ及びＺ体５９．９ｍｇを得た。 Ｅ体： 元素分析値：Ｃ21Ｈ21Ｎ9Ｏ5S2・3.5H2O 計算値：Ｃ，42.71； Ｈ，4.56； Ｎ，20.38 実測値：Ｃ，42.95； Ｈ，4.61； Ｎ，20.32 ＮＭＲスペクトル（D2O）δ；1.37(3H,ｔ,J=7.0Hz), 3.
80(1H,d,J=16.8Hz), 3.92(1H,d,J=16.8Hz), 4.12(3H,
s), 4.38(2H,q,J=7.0Hz), 5.37(1H,d,J=4.7Hz), 5.90(1
H,d,J=4.7Hz), 6.91(1H,d,J=16.3Hz), 7.78(1H,d,J=16.
3Hz), 8.04(1H,d,J=2.0Hz), 8.08(1H,d,J=10.0Hz), 8.2
9(1H,d,J=2.0Hz), 8.40(1H,d,J=10.0Hz) ＩＲ(KBr，cm-1) 3425,3174,1767,1672,1616,1566,152
7,1497,1385,1357,1038 Ｚ体： ＮＭＲスペクトル（D2O）δ；1.34(3H,ｔ,J=7.1Hz), 3.
42(1H,d,J=17.5Hz), 3.77(1H,d,J=17.5Hz), 4.12(3H,
s), 4.38(2H,q,J=7.1Hz), 5.35(1H,d,J=4.7Hz), 5.85(1
H,d,J=4.7Hz), 6.70(1H,d,J=12.0Hz), 6.84(1H,d,J=12.
0Hz), 7.83(1H,d,J=9.6Hz), 8.07(1H,d,J=2.2Hz), 8.31
(1H,d,J=2.2Hz), 8.37(1H,d,J=9.6Hz) ＩＲ(KBr，cm-1) 3379,3136,1768,1668,1605,1529,138
3,1174,1038
【００５４】実施例３ ７β−［（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−
３−イル）−２（Ｚ）−イソプロポキシイミノアセトア
ミド］−３−［（Ｅ）−２−（１−メチルイミダゾ
［１，２−ｂ］ピリダジニウム−６−イル）ビニル］−
３−セフェム−４−カルボキシレート及び ７β−
［（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イ
ル）−２（Ｚ）−イソプロポキシイミノアセトアミド］
−３−［（Ｚ）−２−（１−メチルイミダゾ［１，２−
ｂ］ピリダジニウム−６−イル）ビニル］−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート
３−イル）−２（Ｚ）−イソプロポキシイミノアセトア
ミド］−３−［（Ｅ）−２−（１−メチルイミダゾ
［１，２−ｂ］ピリダジニウム−６−イル）ビニル］−
３−セフェム−４−カルボキシレート及び ７β−
［（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イ
ル）−２（Ｚ）−イソプロポキシイミノアセトアミド］
−３−［（Ｚ）−２−（１−メチルイミダゾ［１，２−
ｂ］ピリダジニウム−６−イル）ビニル］−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート
【化３９】 ｐ−メトキシベンジル ７β−ｔ−ブチルオキシカルボ
ニルアミノ−３−［２−（イミダゾ［１，２−ｂ］ピリ
ダジン−６−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カル
ボキシレート２９０ｍｇをジメチルホルムアミド２．６
ｍｌに溶解し、ヨウ化メチル３．２８ｍｌを加えて室温
で４時間撹拌した。ヨウ化メチルを減圧溜去し、ジエチ
ルエーテル３７．８ｍｌを加えてよく撹拌した。ジエチ
ルエーテルをデカンテーションにより除き、残渣にジエ
チルエーテル２６．４ｍｌを加えてよく撹拌した。デカ
ンテーションによりジエチルエーテルを除き、残渣にジ
クロロメタン８．０ｍｌを加えて溶解した。トリフルオ
ロ酢酸３．４ｍｌとアニソール２．４ｍｌを加えた。室
温で３０分間撹拌した後、ジエチルエーテル３７．８ｍ
ｌを加えて析出した固体を濾取し、ジエチルエーテルで
洗い、減圧下乾燥した。テトラヒドロフラン−水（１：
１）の混合溶液４０ｍｌに溶解し、氷冷下飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液でｐＨを７．５にした。（５−アミノ
−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）−２（Ｚ）
−イソプロポキシイミノアセチルクロリド塩酸塩１８０
ｍｇを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨを
８．０にした。氷冷下３０分間撹拌した後、テトラヒド
ロフランを減圧溜去した。残渣をダイアイオンＨＰ−２
０カラムクロマトグラフィーに付し、水−エタノールで
溶出した。目的物を含むフラクションをＥ体とＺ体別々
に集めて減圧濃縮し、それぞれセファデックスＬＨ−２
０に付した。水で溶出し、減圧濃縮後凍結乾燥して標記
化合物Ｅ体３４ｍｇ及びＺ体１０１ｍｇを得た。 Ｅ体： 元素分析値：Ｃ23Ｈ23Ｎ9Ｏ5S2・4.0H2O 計算値：Ｃ，43.05； Ｈ，4.87； Ｎ，19.65 実測値：Ｃ，42.94； Ｈ，4.63； Ｎ，19.36 ＮＭＲスペクトル（D2O）δ；1.37(6H,d,J=6.2Hz), 3.7
9(1H,d,J=17.1Hz), 3.93(1H,d,J=17.1Hz), 4.11(3H,s),
4.61(1H,m), 5.37(1H,d,J=4.8Hz), 5.90(1H,d,J=4.8H
z), 6.91(1H,d,J=16.3Hz), 7.77(1H,d,J=16.3Hz), 8.04
(1H,d,J=2.0Hz), 8.08(1H,d,J=9.6Hz), 8.29(1H,d,J=2.
0Hz), 8.40(1H,d,J=9.6Hz) ＩＲ(KBr，cm-1) 3311,3157,1768,1670,1618,1527,149
5,1381,1325,1093,1003 Ｚ体： 元素分析値：Ｃ23Ｈ23Ｎ9Ｏ5S2・3.5H2O 計算値：Ｃ，43.66； Ｈ，4.78； Ｎ，19.92 実測値：Ｃ，43.66； Ｈ，4.63； Ｎ，20.08 ＮＭＲスペクトル（D2O）δ；1.33(3H,d,J=6.3Hz), 1.3
6(3H,d,J=6.3Hz), 3.42(1H,d,J=17.6Hz), 3.76(1H,d,J=
17.6Hz), 4.12(3H,s), 4.61(1H,m), 5.35(1H,d,J=4.7H
z), 5.84(1H,d,J=4.7Hz), 6.70(1H,d,J=11.9Hz), 6.84
(1H,d,J=11.9Hz), 7.83(1H,d,J=9.8Hz), 8.07(1H,d,J=
2.3Hz), 8.33(1H,d,J=2.3Hz), 8.37(1H,d,J=9.8Hz) ＩＲ(KBr，cm-1) 3400,3170,2980,1768,1672,1606,152
7,1456,1379,1348,1244,1176,1113,1001
ニルアミノ−３−［２−（イミダゾ［１，２−ｂ］ピリ
ダジン−６−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カル
ボキシレート２９０ｍｇをジメチルホルムアミド２．６
ｍｌに溶解し、ヨウ化メチル３．２８ｍｌを加えて室温
で４時間撹拌した。ヨウ化メチルを減圧溜去し、ジエチ
ルエーテル３７．８ｍｌを加えてよく撹拌した。ジエチ
ルエーテルをデカンテーションにより除き、残渣にジエ
チルエーテル２６．４ｍｌを加えてよく撹拌した。デカ
ンテーションによりジエチルエーテルを除き、残渣にジ
クロロメタン８．０ｍｌを加えて溶解した。トリフルオ
ロ酢酸３．４ｍｌとアニソール２．４ｍｌを加えた。室
温で３０分間撹拌した後、ジエチルエーテル３７．８ｍ
ｌを加えて析出した固体を濾取し、ジエチルエーテルで
洗い、減圧下乾燥した。テトラヒドロフラン−水（１：
１）の混合溶液４０ｍｌに溶解し、氷冷下飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液でｐＨを７．５にした。（５−アミノ
−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）−２（Ｚ）
−イソプロポキシイミノアセチルクロリド塩酸塩１８０
ｍｇを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨを
８．０にした。氷冷下３０分間撹拌した後、テトラヒド
ロフランを減圧溜去した。残渣をダイアイオンＨＰ−２
０カラムクロマトグラフィーに付し、水−エタノールで
溶出した。目的物を含むフラクションをＥ体とＺ体別々
に集めて減圧濃縮し、それぞれセファデックスＬＨ−２
０に付した。水で溶出し、減圧濃縮後凍結乾燥して標記
化合物Ｅ体３４ｍｇ及びＺ体１０１ｍｇを得た。 Ｅ体： 元素分析値：Ｃ23Ｈ23Ｎ9Ｏ5S2・4.0H2O 計算値：Ｃ，43.05； Ｈ，4.87； Ｎ，19.65 実測値：Ｃ，42.94； Ｈ，4.63； Ｎ，19.36 ＮＭＲスペクトル（D2O）δ；1.37(6H,d,J=6.2Hz), 3.7
9(1H,d,J=17.1Hz), 3.93(1H,d,J=17.1Hz), 4.11(3H,s),
4.61(1H,m), 5.37(1H,d,J=4.8Hz), 5.90(1H,d,J=4.8H
z), 6.91(1H,d,J=16.3Hz), 7.77(1H,d,J=16.3Hz), 8.04
(1H,d,J=2.0Hz), 8.08(1H,d,J=9.6Hz), 8.29(1H,d,J=2.
0Hz), 8.40(1H,d,J=9.6Hz) ＩＲ(KBr，cm-1) 3311,3157,1768,1670,1618,1527,149
5,1381,1325,1093,1003 Ｚ体： 元素分析値：Ｃ23Ｈ23Ｎ9Ｏ5S2・3.5H2O 計算値：Ｃ，43.66； Ｈ，4.78； Ｎ，19.92 実測値：Ｃ，43.66； Ｈ，4.63； Ｎ，20.08 ＮＭＲスペクトル（D2O）δ；1.33(3H,d,J=6.3Hz), 1.3
6(3H,d,J=6.3Hz), 3.42(1H,d,J=17.6Hz), 3.76(1H,d,J=
17.6Hz), 4.12(3H,s), 4.61(1H,m), 5.35(1H,d,J=4.7H
z), 5.84(1H,d,J=4.7Hz), 6.70(1H,d,J=11.9Hz), 6.84
(1H,d,J=11.9Hz), 7.83(1H,d,J=9.8Hz), 8.07(1H,d,J=
2.3Hz), 8.33(1H,d,J=2.3Hz), 8.37(1H,d,J=9.8Hz) ＩＲ(KBr，cm-1) 3400,3170,2980,1768,1672,1606,152
7,1456,1379,1348,1244,1176,1113,1001
【００５５】実施例４ ７β−［（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−
３−イル）−２（Ｚ）−シクロペンチルオキシイミノア
セトアミド］−３−［（Ｅ）−２−（１−メチルイミダ
ゾ［１，２−ｂ］ピリダジニウム−６−イル）ビニル］
−３−セフェム−４−カルボキシレート及び７β−
［（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イ
ル）−２（Ｚ）−シクロペンチルオキシイミノアセトア
ミド］−３−［（Ｚ）−２−（１−メチルイミダゾ
［１，２−ｂ］ピリダジニウム−６−イル）ビニル］−
３−セフェム−４−カルボキシレート
３−イル）−２（Ｚ）−シクロペンチルオキシイミノア
セトアミド］−３−［（Ｅ）−２−（１−メチルイミダ
ゾ［１，２−ｂ］ピリダジニウム−６−イル）ビニル］
−３−セフェム−４−カルボキシレート及び７β−
［（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イ
ル）−２（Ｚ）−シクロペンチルオキシイミノアセトア
ミド］−３−［（Ｚ）−２−（１−メチルイミダゾ
［１，２−ｂ］ピリダジニウム−６−イル）ビニル］−
３−セフェム−４−カルボキシレート
【化４０】 ｐ−メトキシベンジル ７β−ｔ−ブチルオキシカルボ
ニルアミノ−３−［２−（イミダゾ［１，２−ｂ］ピリ
ダジン−６−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カル
ボキシレート５７８ｍｇをジメチルホルムアミド２．５
ｍｌに溶解し、ヨウ化メチル３．１ｍｌを加えて室温で
４時間撹拌した。ヨウ化メチルを減圧溜去し、ジエチル
エーテル２９．８ｍｌを加えてよく撹拌した。ジエチル
エーテルをデカンテーションにより除き、残渣にジエチ
ルエーテル７．４ｍｌを加えてよく撹拌した。デカンテ
ーションによりジエチルエーテルを除き、残渣にジクロ
ロメタン７．４ｍｌを加えて溶解した。トリフルオロ酢
酸２．５ｍｌとアニソール２．０ｍｌを加えた。室温で
９０分間撹拌した後、ジエチルエーテル２９．８ｍｌを
加えて析出した固体を濾取し、ジエチルエーテルで洗
い、減圧下乾燥した。テトラヒドロフラン−水（１：
１）の混合溶液２０ｍｌに溶解し、氷冷下飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液でｐＨを７．５にした。（５−アミノ
−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）−２（Ｚ）
−シクロペンチルオキシイミノアセチルクロリド塩酸塩
９０ｍｇを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨ
を８．０にした。氷冷下３０分間撹拌した後、テトラヒ
ドロフランを減圧溜去した。残渣をダイアイオンＨＰ−
２０カラムクロマトグラフィーに付し、水−エタノール
で溶出した。目的物を含むフラクションを集めて減圧濃
縮し、析出した固体を濾取し、減圧下乾燥して標記化合
物のＥ体１４ｍｇを得た。また、濾液をセファデックス
ＬＨ−２０に付し、水で溶出し、減圧濃縮後凍結乾燥し
て標記化合物のＺ体３４ｍｇを得た。 Ｅ体： 元素分析値：Ｃ25Ｈ25Ｎ9Ｏ5S2・3.0H2O 計算値：Ｃ，46.22； Ｈ，4.81； Ｎ，19.40 実測値：Ｃ，46.03； Ｈ，4.64； Ｎ，19.15 ＮＭＲスペクトル（d6-DMSO）δ；1.41-2.01(8H,m), 3.
48(1H,d,J=17.0Hz), 3.70(1H,d,J=17.0Hz), 4.06(3H,
s), 4.75(1H,m), 5.14(1H,d,J=5.0Hz), 5.67(1H,dd,J=
8.2Hz,J=5.0Hz), 6.65(1H,d,J=16.3Hz), 7.88(1H,d,J=
9.8Hz), 8.08(1H,d,J=16.3Hz), 8.16(2H,s), 8.37(1H,
d,J=2.0Hz), 8.65(1H,d,J=9.8Hz), 8.72(1H,d,J=2.0H
z), 9.55(1H,d,J=8.2Hz) ＩＲ(KBr，cm-1) 3305,3138,2958,1772,1655,1610,152
4,1500,1450,1383,1348,1238,1173,1109,1072,1001 Ｚ体： ＮＭＲスペクトル（D2O）δ；1.49-2.01(8H,m), 3.42(1
H,d,J=17.6Hz), 3.75(1H,d,J=17.6Hz), 4.12(3H,s), 4.
92(1H,m), 5.34(1H,d,J=4.7Hz), 5.81(1H,d,J=4.7Hz),
6.70(1H,d,J=11.8Hz). 6.85(1H,d,J=11.8Hz), 7.83(1H,
d,J=9,7Hz), 8.08(1H,d,J=2.1Hz), 8.32(1H,d,J=2.1H
z), 8.37(1H,d,J=9.7Hz) ＩＲ(KBr，cm-1) 3392,3169,2960,1768,1668,1606,156
8,1527,1500,1381,1350,1003
ニルアミノ−３−［２−（イミダゾ［１，２−ｂ］ピリ
ダジン−６−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カル
ボキシレート５７８ｍｇをジメチルホルムアミド２．５
ｍｌに溶解し、ヨウ化メチル３．１ｍｌを加えて室温で
４時間撹拌した。ヨウ化メチルを減圧溜去し、ジエチル
エーテル２９．８ｍｌを加えてよく撹拌した。ジエチル
エーテルをデカンテーションにより除き、残渣にジエチ
ルエーテル７．４ｍｌを加えてよく撹拌した。デカンテ
ーションによりジエチルエーテルを除き、残渣にジクロ
ロメタン７．４ｍｌを加えて溶解した。トリフルオロ酢
酸２．５ｍｌとアニソール２．０ｍｌを加えた。室温で
９０分間撹拌した後、ジエチルエーテル２９．８ｍｌを
加えて析出した固体を濾取し、ジエチルエーテルで洗
い、減圧下乾燥した。テトラヒドロフラン−水（１：
１）の混合溶液２０ｍｌに溶解し、氷冷下飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液でｐＨを７．５にした。（５−アミノ
−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）−２（Ｚ）
−シクロペンチルオキシイミノアセチルクロリド塩酸塩
９０ｍｇを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨ
を８．０にした。氷冷下３０分間撹拌した後、テトラヒ
ドロフランを減圧溜去した。残渣をダイアイオンＨＰ−
２０カラムクロマトグラフィーに付し、水−エタノール
で溶出した。目的物を含むフラクションを集めて減圧濃
縮し、析出した固体を濾取し、減圧下乾燥して標記化合
物のＥ体１４ｍｇを得た。また、濾液をセファデックス
ＬＨ−２０に付し、水で溶出し、減圧濃縮後凍結乾燥し
て標記化合物のＺ体３４ｍｇを得た。 Ｅ体： 元素分析値：Ｃ25Ｈ25Ｎ9Ｏ5S2・3.0H2O 計算値：Ｃ，46.22； Ｈ，4.81； Ｎ，19.40 実測値：Ｃ，46.03； Ｈ，4.64； Ｎ，19.15 ＮＭＲスペクトル（d6-DMSO）δ；1.41-2.01(8H,m), 3.
48(1H,d,J=17.0Hz), 3.70(1H,d,J=17.0Hz), 4.06(3H,
s), 4.75(1H,m), 5.14(1H,d,J=5.0Hz), 5.67(1H,dd,J=
8.2Hz,J=5.0Hz), 6.65(1H,d,J=16.3Hz), 7.88(1H,d,J=
9.8Hz), 8.08(1H,d,J=16.3Hz), 8.16(2H,s), 8.37(1H,
d,J=2.0Hz), 8.65(1H,d,J=9.8Hz), 8.72(1H,d,J=2.0H
z), 9.55(1H,d,J=8.2Hz) ＩＲ(KBr，cm-1) 3305,3138,2958,1772,1655,1610,152
4,1500,1450,1383,1348,1238,1173,1109,1072,1001 Ｚ体： ＮＭＲスペクトル（D2O）δ；1.49-2.01(8H,m), 3.42(1
H,d,J=17.6Hz), 3.75(1H,d,J=17.6Hz), 4.12(3H,s), 4.
92(1H,m), 5.34(1H,d,J=4.7Hz), 5.81(1H,d,J=4.7Hz),
6.70(1H,d,J=11.8Hz). 6.85(1H,d,J=11.8Hz), 7.83(1H,
d,J=9,7Hz), 8.08(1H,d,J=2.1Hz), 8.32(1H,d,J=2.1H
z), 8.37(1H,d,J=9.7Hz) ＩＲ(KBr，cm-1) 3392,3169,2960,1768,1668,1606,156
8,1527,1500,1381,1350,1003
【００５６】実施例５ ７β−［（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−
３−イル）−２（Ｚ）−イソプロポキシイミノアセトア
ミド］−３−［（Ｅ）−２−（１−メチルイミダゾ
［１，２−ｂ］ピリダジニウム−６−イル）ビニル］−
３−セフェム−４−カルボキシレート ７β−［（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−
３−イル）−２（Ｚ）−イソプロポキシイミノアセトア
ミド］−３−［（Ｚ）−２−（１−メチルイミダゾ
［１，２−ｂ］ピリダジニウム−６−イル）ビニル］−
３−セフェム−４−カルボキシレート４６ｍｇをジメチ
ルスルホキシド１．０ｍｌに溶解し、室温で１時間放置
した。水１０ｍｌを加え、凍結乾燥して得られた残渣を
水に溶かし、セファデックスＬＨ−２０に付した。水で
溶出し、減圧濃縮後凍結乾燥して標記化合物３４ｍｇを
得た。 元素分析値：Ｃ23Ｈ23Ｎ9Ｏ5S2・4.0H2O 計算値：Ｃ，43.05； Ｈ，4.87； Ｎ，19.65 実測値：Ｃ，42.94； Ｈ，4.63； Ｎ，19.36 ＮＭＲスペクトル（D2O）δ；1.37(6H,d,J=6.2Hz), 3.7
9(1H,d,J=17.1Hz), 3.93(1H,d,J=17.1Hz), 4.11(3H,s),
4.61(1H,m), 5.37(1H,d,J=4.8Hz), 5.90(1H,d,J=4.8H
z), 6.91(1H,d,J=16.3Hz), 7.77(1H,d,J=16.3Hz), 8.04
(1H,d,J=2.0Hz), 8.08(1H,d,J=9.6Hz), 8.29(1H,d,J=2.
0Hz), 8.40(1H,d,J=9.6Hz) ＩＲ(KBr，ｃｍ−１） ３３１１，３１５７，１７６
８，１６７０，１６１８，１５２７，１４９５，１３８
１，１３２５，１０９３，１００３
３−イル）−２（Ｚ）−イソプロポキシイミノアセトア
ミド］−３−［（Ｅ）−２−（１−メチルイミダゾ
［１，２−ｂ］ピリダジニウム−６−イル）ビニル］−
３−セフェム−４−カルボキシレート ７β−［（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−
３−イル）−２（Ｚ）−イソプロポキシイミノアセトア
ミド］−３−［（Ｚ）−２−（１−メチルイミダゾ
［１，２−ｂ］ピリダジニウム−６−イル）ビニル］−
３−セフェム−４−カルボキシレート４６ｍｇをジメチ
ルスルホキシド１．０ｍｌに溶解し、室温で１時間放置
した。水１０ｍｌを加え、凍結乾燥して得られた残渣を
水に溶かし、セファデックスＬＨ−２０に付した。水で
溶出し、減圧濃縮後凍結乾燥して標記化合物３４ｍｇを
得た。 元素分析値：Ｃ23Ｈ23Ｎ9Ｏ5S2・4.0H2O 計算値：Ｃ，43.05； Ｈ，4.87； Ｎ，19.65 実測値：Ｃ，42.94； Ｈ，4.63； Ｎ，19.36 ＮＭＲスペクトル（D2O）δ；1.37(6H,d,J=6.2Hz), 3.7
9(1H,d,J=17.1Hz), 3.93(1H,d,J=17.1Hz), 4.11(3H,s),
4.61(1H,m), 5.37(1H,d,J=4.8Hz), 5.90(1H,d,J=4.8H
z), 6.91(1H,d,J=16.3Hz), 7.77(1H,d,J=16.3Hz), 8.04
(1H,d,J=2.0Hz), 8.08(1H,d,J=9.6Hz), 8.29(1H,d,J=2.
0Hz), 8.40(1H,d,J=9.6Hz) ＩＲ(KBr，ｃｍ−１） ３３１１，３１５７，１７６
８，１６７０，１６１８，１５２７，１４９５，１３８
１，１３２５，１０９３，１００３
【００５７】実施例６ ７β−［（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−
３−イル）−２（Ｚ）−フルオロメトキシイミノアセト
アミド］−３−［（Ｅ）−２−（１−メチルイミダゾ
［１，２−ｂ］ピリダジニウム−６−イル）ビニル］−
３−セフェム−４−カルボキシレート
３−イル）−２（Ｚ）−フルオロメトキシイミノアセト
アミド］−３−［（Ｅ）−２−（１−メチルイミダゾ
［１，２−ｂ］ピリダジニウム−６−イル）ビニル］−
３−セフェム−４−カルボキシレート
【化４１】 ｐ−メトキシベンジル ７β−ｔ−ブチルオキシカルボ
ニルアミノ−３−［２−（イミダゾ［１，２−ｂ］ピリ
ダジン−６−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カル
ボキシレート５６４ｍｇをジメチルホルムアミド５．０
ｍｌに溶解し、ヨウ化メチル１．８７ｍｌを加えて室温
で２１時間撹拌した。ヨウ化メチルを減圧溜去し、ジエ
チルエーテル６０ｍｌを加えてよく撹拌した。ジエチル
エーテルをデカンテーションにより除き、残渣にトリフ
ルオロ酢酸５ｍｌとアニソール４ｍｌを加えた。室温で
２．５時間撹拌した後、ジエチルエーテル６０ｍｌを加
えて析出した固体を濾取し、ジエチルエーテルで洗い、
減圧下乾燥した。テトラヒドロフラン−水（１：１）の
混合溶液４０ｍｌに溶解し、氷冷下飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液でｐＨを７．５にした。（５−アミノ−１，
２，４−チアジアゾール−３−イル）−２（Ｚ）−フル
オロメトキシイミノアセチルクロリド塩酸塩２４０ｍｇ
を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨを８．０
にした。氷冷下３０分間撹拌した後、テトラヒドロフラ
ンを減圧溜去した。残渣をダイアイオンＨＰ−２０カラ
ムクロマトグラフィーに付し、水−エタノールで溶出し
た。縮合物を含むフラクションを集めて減圧濃縮し、凍
結乾燥した。ジメチルスルホキシド１８ｍｌに溶解し、
室温で１．５時間放置した。凍結乾燥して得られたアモ
ルファスをダイアイオンＨＰ−２０カラムクロマトグラ
フィーに付し、水−エタノールで溶出した。目的物を含
むフラクションを集めて減圧濃縮し、析出した固体を瀘
取し、減圧乾燥し標記化合物７５ｍｇを得た。 元素分析値：Ｃ２１Ｈ18Ｎ9Ｏ5S2・2.5H2O 計算値：Ｃ，41.72； Ｈ，3.83； Ｎ，20.85 実測値：Ｃ，41.99； Ｈ，4.05； Ｎ，20.63 ＮＭＲスペクトル（d6-DMSO）δ；3.56(1H,d,J=16.8H
z), 3.71(1H,d,J=16.8Hz),4.07(3H,s), 5.15(1H,d,J=5.
0Hz), 5.71(1H,dd,J=8.5Hz,J=5.0Hz), 5.81(2H,d,J=54.
2Hz), 6.64(1H,d,J=16.1Hz), 7.90(1H,d,J=9.8Hz), 8.0
8(1H,d,J=16.1Hz),8.25(2H,s), 8.37(1H,d,J=2.1Hz),
8.65(1H,d,J=9.8Hz), 8.72(1H,d,J=2.1Hz),9.80(1H,d,J
=8.5Hz) ＩＲ(KBr，cm-1) 3381,3184,1770,1672,1616,1568,152
7,1497,1381,1354,1325,1242,1061
ニルアミノ−３−［２−（イミダゾ［１，２−ｂ］ピリ
ダジン−６−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カル
ボキシレート５６４ｍｇをジメチルホルムアミド５．０
ｍｌに溶解し、ヨウ化メチル１．８７ｍｌを加えて室温
で２１時間撹拌した。ヨウ化メチルを減圧溜去し、ジエ
チルエーテル６０ｍｌを加えてよく撹拌した。ジエチル
エーテルをデカンテーションにより除き、残渣にトリフ
ルオロ酢酸５ｍｌとアニソール４ｍｌを加えた。室温で
２．５時間撹拌した後、ジエチルエーテル６０ｍｌを加
えて析出した固体を濾取し、ジエチルエーテルで洗い、
減圧下乾燥した。テトラヒドロフラン−水（１：１）の
混合溶液４０ｍｌに溶解し、氷冷下飽和炭酸水素ナトリ
ウム水溶液でｐＨを７．５にした。（５−アミノ−１，
２，４−チアジアゾール−３−イル）−２（Ｚ）−フル
オロメトキシイミノアセチルクロリド塩酸塩２４０ｍｇ
を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨを８．０
にした。氷冷下３０分間撹拌した後、テトラヒドロフラ
ンを減圧溜去した。残渣をダイアイオンＨＰ−２０カラ
ムクロマトグラフィーに付し、水−エタノールで溶出し
た。縮合物を含むフラクションを集めて減圧濃縮し、凍
結乾燥した。ジメチルスルホキシド１８ｍｌに溶解し、
室温で１．５時間放置した。凍結乾燥して得られたアモ
ルファスをダイアイオンＨＰ−２０カラムクロマトグラ
フィーに付し、水−エタノールで溶出した。目的物を含
むフラクションを集めて減圧濃縮し、析出した固体を瀘
取し、減圧乾燥し標記化合物７５ｍｇを得た。 元素分析値：Ｃ２１Ｈ18Ｎ9Ｏ5S2・2.5H2O 計算値：Ｃ，41.72； Ｈ，3.83； Ｎ，20.85 実測値：Ｃ，41.99； Ｈ，4.05； Ｎ，20.63 ＮＭＲスペクトル（d6-DMSO）δ；3.56(1H,d,J=16.8H
z), 3.71(1H,d,J=16.8Hz),4.07(3H,s), 5.15(1H,d,J=5.
0Hz), 5.71(1H,dd,J=8.5Hz,J=5.0Hz), 5.81(2H,d,J=54.
2Hz), 6.64(1H,d,J=16.1Hz), 7.90(1H,d,J=9.8Hz), 8.0
8(1H,d,J=16.1Hz),8.25(2H,s), 8.37(1H,d,J=2.1Hz),
8.65(1H,d,J=9.8Hz), 8.72(1H,d,J=2.1Hz),9.80(1H,d,J
=8.5Hz) ＩＲ(KBr，cm-1) 3381,3184,1770,1672,1616,1568,152
7,1497,1381,1354,1325,1242,1061
【００５８】実施例７ ７β−［（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−
３−イル）−２（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］
−３−［（Ｅ）−２−（１−エチルイミダゾ［１，２−
ｂ］ピリダジニウム−６−イル）ビニル］−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート
３−イル）−２（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］
−３−［（Ｅ）−２−（１−エチルイミダゾ［１，２−
ｂ］ピリダジニウム−６−イル）ビニル］−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート
【化４２】 ｐ−メトキシベンジル ７β−ｔ−ブチルオキシカルボ
ニルアミノ−３−［２−（イミダゾ［１，２−ｂ］ピリ
ダジン−６−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カル
ボキシレート１３８ｍｇをジメチルホルムアミド１．２
６ｍｌに溶解し、ヨウ化エチル１．０ｍｌを加えて４０
℃で２５時間撹拌した。ヨウ化エチルを減圧溜去し、ジ
エチルエーテル１５ｍｌを加えてよく撹拌した。ジエチ
ルエーテルをデカンテーションにより除き、残渣にジク
ロロメタン３．８ｍｌを加えた。トリフルオロ酢酸１．
２６ｍｌとアニソール１．０ｍｌを加え、室温で４時間
撹拌後、エチルエーテル７．５６ｍｌを加えて析出した
固体を濾取し、ジエチルエーテルで洗い、減圧下乾燥し
た。テトラヒドロフラン−水（１：１）の混合溶液２０
ｍｌに溶解し、氷冷下飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で
ｐＨを７．５にした。（５−アミノ−１，２，４−チア
ジアゾール−３−イル）−２（Ｚ）−メトキシイミノア
セチルクロリド塩酸塩８４ｍｇを加え、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液でｐＨを８．０にした。氷冷下４５分間
撹拌した後、テトラヒドロフランを減圧溜去した。残渣
をダイアイオンＨＰ−２０カラムクロマトグラフィーに
付し、水−エタノールで溶出した。縮合物を含むフラク
ションを集めて減圧濃縮し、凍結乾燥した。ジメチルス
ルホキシド１．０ｍｌに溶解し、室温で１時間放置し
た。ジエチルエーテル４０ｍｌを加え、よく撹拌した
後、ジエチルエーテルをデカンテーションにより除い
た。残渣をダイアイオンＨＰ−２０カラムクロマトグラ
フィーに付し、水−エタノールで溶出した。目的物を含
むフラクションを集めて減圧濃縮後凍結乾燥し、標記化
合物２９ｍｇを得た。 元素分析値：Ｃ22Ｈ21Ｎ9Ｏ5S2・4.5H2O 計算値：Ｃ，41.50； Ｈ，4.75； Ｎ，19.80 実測値：Ｃ，41.76； Ｈ，4.63； Ｎ，19.71 ＮＭＲスペクトル（D2O）δ；1.57(3H,t,J=7.2Hz), 3.8
0(1H,d,J=17.2H), 3.92(1H,d,J=17.2Hz), 4.10(3H,s),
4.52(2H,q,J=7.2Hz), 5.36(1H,d,J=4.9Hz), 5.90(1H,d,
J=4.9Hz), 6.91(1H,d,J=16.3Hz), 7.77(1H,d,J=16.3H
z), 8.07(1H,d,J=9.9Hz), 8.13(1H,d,J=1.8Hz), 8.29(1
H,d,J=1.8Hz), 8.43(1H,d,J=9.9Hz) ＩＲ(KBr，cm-1) 3410,3275,3163,1767,1666,1618,156
6,1527,1491,1379,1321,1092,1042
ニルアミノ−３−［２−（イミダゾ［１，２−ｂ］ピリ
ダジン−６−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カル
ボキシレート１３８ｍｇをジメチルホルムアミド１．２
６ｍｌに溶解し、ヨウ化エチル１．０ｍｌを加えて４０
℃で２５時間撹拌した。ヨウ化エチルを減圧溜去し、ジ
エチルエーテル１５ｍｌを加えてよく撹拌した。ジエチ
ルエーテルをデカンテーションにより除き、残渣にジク
ロロメタン３．８ｍｌを加えた。トリフルオロ酢酸１．
２６ｍｌとアニソール１．０ｍｌを加え、室温で４時間
撹拌後、エチルエーテル７．５６ｍｌを加えて析出した
固体を濾取し、ジエチルエーテルで洗い、減圧下乾燥し
た。テトラヒドロフラン−水（１：１）の混合溶液２０
ｍｌに溶解し、氷冷下飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で
ｐＨを７．５にした。（５−アミノ−１，２，４−チア
ジアゾール−３−イル）−２（Ｚ）−メトキシイミノア
セチルクロリド塩酸塩８４ｍｇを加え、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液でｐＨを８．０にした。氷冷下４５分間
撹拌した後、テトラヒドロフランを減圧溜去した。残渣
をダイアイオンＨＰ−２０カラムクロマトグラフィーに
付し、水−エタノールで溶出した。縮合物を含むフラク
ションを集めて減圧濃縮し、凍結乾燥した。ジメチルス
ルホキシド１．０ｍｌに溶解し、室温で１時間放置し
た。ジエチルエーテル４０ｍｌを加え、よく撹拌した
後、ジエチルエーテルをデカンテーションにより除い
た。残渣をダイアイオンＨＰ−２０カラムクロマトグラ
フィーに付し、水−エタノールで溶出した。目的物を含
むフラクションを集めて減圧濃縮後凍結乾燥し、標記化
合物２９ｍｇを得た。 元素分析値：Ｃ22Ｈ21Ｎ9Ｏ5S2・4.5H2O 計算値：Ｃ，41.50； Ｈ，4.75； Ｎ，19.80 実測値：Ｃ，41.76； Ｈ，4.63； Ｎ，19.71 ＮＭＲスペクトル（D2O）δ；1.57(3H,t,J=7.2Hz), 3.8
0(1H,d,J=17.2H), 3.92(1H,d,J=17.2Hz), 4.10(3H,s),
4.52(2H,q,J=7.2Hz), 5.36(1H,d,J=4.9Hz), 5.90(1H,d,
J=4.9Hz), 6.91(1H,d,J=16.3Hz), 7.77(1H,d,J=16.3H
z), 8.07(1H,d,J=9.9Hz), 8.13(1H,d,J=1.8Hz), 8.29(1
H,d,J=1.8Hz), 8.43(1H,d,J=9.9Hz) ＩＲ(KBr，cm-1) 3410,3275,3163,1767,1666,1618,156
6,1527,1491,1379,1321,1092,1042
【００５９】実施例８ ７β−［（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−
３−イル）−２（Ｚ）−エトキシイミノアセトアミド］
−３−［（Ｅ）−２−（１−エチルイミダゾ［１，２−
ｂ］ピリダジニウム−６−イル）ビニル］−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート
３−イル）−２（Ｚ）−エトキシイミノアセトアミド］
−３−［（Ｅ）−２−（１−エチルイミダゾ［１，２−
ｂ］ピリダジニウム−６−イル）ビニル］−３−セフェ
ム−４−カルボキシレート
【化４３】 ｐ−メトキシベンジル ７β−ｔ−ブチルオキシカルボ
ニルアミノ−３−［２−（イミダゾ［１，２−ｂ］ピリ
ダジン−６−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カル
ボキシレート１５３ｍｇをジメチルホルムアミド１．４
０ｍｌに溶解し、ヨウ化エチル１．１２ｍｌを加えて４
０℃で２５時間撹拌した。ヨウ化エチルを減圧溜去し、
ジエチルエーテル１６．７ｍｌを加えてよく撹拌した。
ジエチルエーテルをデカンテーションにより除き、残渣
にジクロロメタン４．８ｍｌを加えた。トリフルオロ酢
酸１．４０ｍｌとアニソール１．１２ｍｌを加え、室温
で４時間撹拌後、エチルエーテル８．３７ｍｌを加えて
析出した固体を濾取し、ジエチルエーテルで洗い、減圧
下乾燥した。ジメチルスルホキシド１．０ｍｌに溶解
し，室温でトリブチルアミン０．１４ｍｌを加え、室温
で２時間撹拌した。ジエチルエーテル３０ｍｌを加えて
撹拌し、ジエチルエーテルをデカンテーションにより除
いた。残渣をテトラヒドロフラン−水（１：１）の混合
溶液２０ｍｌに溶解し、氷冷下飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液でｐＨを７．５にした。（５−アミノ−１，２，
４−チアジアゾール−３−イル）−２（Ｚ）−エトキシ
イミノアセチルクロリド塩酸塩９８ｍｇを加え、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液でｐＨを８．０にした。氷冷下
３０分間撹拌した後、テトラヒドロフランを減圧溜去し
た。残渣をダイアイオンＨＰ−２０カラムクロマトグラ
フィーに付し、水−エタノールで溶出した。目的物を含
むフラクションを集めて減圧濃縮後凍結乾燥し、標記化
合物１１ｍｇを得た。 元素分析値：Ｃ23Ｈ23Ｎ9Ｏ5S2・5.0H2O 計算値：Ｃ，41.88； Ｈ，5.04； Ｎ，19.11 実測値：Ｃ，41.99； Ｈ，4.79； Ｎ，18.97 ＮＭＲスペクトル（D2O）δ；1.37(3H,t,J=7.1Hz), 1.5
7(3H,t,J=7.2Hz), 3.80(1H,d,J=17.2H), 3.92(1H,d,J=1
7.2Hz), 4.38(2H,q,J=7.1Hz), 4.52(2H,q,J=7.2Hz), 5.
90(1H,d,J=4.8Hz), 6.91(1H,d,J=16.3Hz), 7.79(1H,d,J
=16.3Hz), 8.07(1H,d,J=9.9Hz), 8.13(1H,d,J=2.1Hz),
8.29(1H,d,J=2.1Hz), 8.43(1H,d,J=9.9Hz)ＩＲ(KBr，cm
-1) 3413,1768,1662,1614,1527,1383,1358,1327,1119,1
065,1039
ニルアミノ−３−［２−（イミダゾ［１，２−ｂ］ピリ
ダジン−６−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カル
ボキシレート１５３ｍｇをジメチルホルムアミド１．４
０ｍｌに溶解し、ヨウ化エチル１．１２ｍｌを加えて４
０℃で２５時間撹拌した。ヨウ化エチルを減圧溜去し、
ジエチルエーテル１６．７ｍｌを加えてよく撹拌した。
ジエチルエーテルをデカンテーションにより除き、残渣
にジクロロメタン４．８ｍｌを加えた。トリフルオロ酢
酸１．４０ｍｌとアニソール１．１２ｍｌを加え、室温
で４時間撹拌後、エチルエーテル８．３７ｍｌを加えて
析出した固体を濾取し、ジエチルエーテルで洗い、減圧
下乾燥した。ジメチルスルホキシド１．０ｍｌに溶解
し，室温でトリブチルアミン０．１４ｍｌを加え、室温
で２時間撹拌した。ジエチルエーテル３０ｍｌを加えて
撹拌し、ジエチルエーテルをデカンテーションにより除
いた。残渣をテトラヒドロフラン−水（１：１）の混合
溶液２０ｍｌに溶解し、氷冷下飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液でｐＨを７．５にした。（５−アミノ−１，２，
４−チアジアゾール−３−イル）−２（Ｚ）−エトキシ
イミノアセチルクロリド塩酸塩９８ｍｇを加え、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液でｐＨを８．０にした。氷冷下
３０分間撹拌した後、テトラヒドロフランを減圧溜去し
た。残渣をダイアイオンＨＰ−２０カラムクロマトグラ
フィーに付し、水−エタノールで溶出した。目的物を含
むフラクションを集めて減圧濃縮後凍結乾燥し、標記化
合物１１ｍｇを得た。 元素分析値：Ｃ23Ｈ23Ｎ9Ｏ5S2・5.0H2O 計算値：Ｃ，41.88； Ｈ，5.04； Ｎ，19.11 実測値：Ｃ，41.99； Ｈ，4.79； Ｎ，18.97 ＮＭＲスペクトル（D2O）δ；1.37(3H,t,J=7.1Hz), 1.5
7(3H,t,J=7.2Hz), 3.80(1H,d,J=17.2H), 3.92(1H,d,J=1
7.2Hz), 4.38(2H,q,J=7.1Hz), 4.52(2H,q,J=7.2Hz), 5.
90(1H,d,J=4.8Hz), 6.91(1H,d,J=16.3Hz), 7.79(1H,d,J
=16.3Hz), 8.07(1H,d,J=9.9Hz), 8.13(1H,d,J=2.1Hz),
8.29(1H,d,J=2.1Hz), 8.43(1H,d,J=9.9Hz)ＩＲ(KBr，cm
-1) 3413,1768,1662,1614,1527,1383,1358,1327,1119,1
065,1039
【００６０】実施例９ ７β−［（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−
３−イル）−２（Ｚ）−イソプロポキシイミノアセトア
ミド］−３−［（Ｅ）−２−（１−エチルイミダゾ
［１，２−ｂ］ピリダジニウム−６−イル）ビニル］−
３−セフェム−４−カルボキシレート
３−イル）−２（Ｚ）−イソプロポキシイミノアセトア
ミド］−３−［（Ｅ）−２−（１−エチルイミダゾ
［１，２−ｂ］ピリダジニウム−６−イル）ビニル］−
３−セフェム−４−カルボキシレート
【化４４】 ｐ−メトキシベンジル ７β−ｔ−ブチルオキシカルボ
ニルアミノ−３−［２−（イミダゾ［１，２−ｂ］ピリ
ダジン−６−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カル
ボキシレート１８３ｍｇをジメチルホルムアミド１．６
７ｍｌに溶解し、ヨウ化エチル０．６７ｍｌを加えて４
０℃で３５時間撹拌した。ヨウ化エチルを減圧溜去し、
ジエチルエーテル２３．２ｍｌを加えてよく撹拌した。
析出した固体を瀘取し、ジエチルエーテルで洗い、減圧
乾燥した。トリフルオロ酢酸１．６７ｍｌとアニソール
１．３５ｍｌを加え、室温で２時間撹拌後、エチルエー
テル２３．２ｍｌを加えて析出した固体を濾取し、ジエ
チルエーテルで洗い、減圧下乾燥した。ジメチルスルホ
キシド１．５ｍｌに溶解し，室温でトリブチルアミン
０．１６ｍｌを加え、室温で１．５時間撹拌した。ジエ
チルエーテル５０ｍｌを加えて撹拌し、ジエチルエーテ
ルをデカンテーションにより除いた。残渣をテトラヒド
ロフラン−水（１：１）の混合溶液３０ｍｌに溶解し、
氷冷下飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨを７．５に
した。（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３
−イル）−２（Ｚ）−イソプロポキシイミノアセチルク
ロリド塩酸塩１２２ｍｇを加え、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液でｐＨを８．０にした。氷冷下３０分間撹拌し
た後、テトラヒドロフランを減圧溜去した。残渣をダイ
アイオンＨＰ−２０カラムクロマトグラフィーに付し、
水−エタノールで溶出した。目的物を含むフラクション
を集めて減圧濃縮後凍結乾燥した。さらに、凍結乾燥し
て得られた残渣を水に溶かし、セファデックスＬＨ−２
０に付した。水で溶出し、減圧濃縮後凍結乾燥して標記
化合物５１ｍｇを得た。 元素分析値：Ｃ24Ｈ25Ｎ9Ｏ5S2・4.5H2O 計算値：Ｃ，43.37； Ｈ，5.16； Ｎ，18.96 実測値：Ｃ，43.54； Ｈ，4.89； Ｎ，18.76 ＮＭＲスペクトル（D2O）δ；1.37(6H,d,J=6.3Hz), 1.5
7(3H,t,J=7.3Hz), 3.80(1H,d,J=17.2H), 3.93(1H,d,J=1
7.2Hz), 4.40-4.70(3H,m), 5.37(1H,d,J=4.8Hz),5.91(1
H,d,J=4.8Hz), 6.92(1H,d,J=16.2Hz), 7.78(1H,d,J=16.
2Hz), 8.08(1H,d,J=9.8Hz), 8.13(1H,d,J=2.1Hz), 8.30
(1H,d,J=2.1Hz), 8.53(1H,d,J=9.8Hz) ＩＲ(KBr，cm-1) 3413,1770,1666,1618,1566,1527,149
1,1462,1379
ニルアミノ−３−［２−（イミダゾ［１，２−ｂ］ピリ
ダジン−６−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カル
ボキシレート１８３ｍｇをジメチルホルムアミド１．６
７ｍｌに溶解し、ヨウ化エチル０．６７ｍｌを加えて４
０℃で３５時間撹拌した。ヨウ化エチルを減圧溜去し、
ジエチルエーテル２３．２ｍｌを加えてよく撹拌した。
析出した固体を瀘取し、ジエチルエーテルで洗い、減圧
乾燥した。トリフルオロ酢酸１．６７ｍｌとアニソール
１．３５ｍｌを加え、室温で２時間撹拌後、エチルエー
テル２３．２ｍｌを加えて析出した固体を濾取し、ジエ
チルエーテルで洗い、減圧下乾燥した。ジメチルスルホ
キシド１．５ｍｌに溶解し，室温でトリブチルアミン
０．１６ｍｌを加え、室温で１．５時間撹拌した。ジエ
チルエーテル５０ｍｌを加えて撹拌し、ジエチルエーテ
ルをデカンテーションにより除いた。残渣をテトラヒド
ロフラン−水（１：１）の混合溶液３０ｍｌに溶解し、
氷冷下飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨを７．５に
した。（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３
−イル）−２（Ｚ）−イソプロポキシイミノアセチルク
ロリド塩酸塩１２２ｍｇを加え、飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液でｐＨを８．０にした。氷冷下３０分間撹拌し
た後、テトラヒドロフランを減圧溜去した。残渣をダイ
アイオンＨＰ−２０カラムクロマトグラフィーに付し、
水−エタノールで溶出した。目的物を含むフラクション
を集めて減圧濃縮後凍結乾燥した。さらに、凍結乾燥し
て得られた残渣を水に溶かし、セファデックスＬＨ−２
０に付した。水で溶出し、減圧濃縮後凍結乾燥して標記
化合物５１ｍｇを得た。 元素分析値：Ｃ24Ｈ25Ｎ9Ｏ5S2・4.5H2O 計算値：Ｃ，43.37； Ｈ，5.16； Ｎ，18.96 実測値：Ｃ，43.54； Ｈ，4.89； Ｎ，18.76 ＮＭＲスペクトル（D2O）δ；1.37(6H,d,J=6.3Hz), 1.5
7(3H,t,J=7.3Hz), 3.80(1H,d,J=17.2H), 3.93(1H,d,J=1
7.2Hz), 4.40-4.70(3H,m), 5.37(1H,d,J=4.8Hz),5.91(1
H,d,J=4.8Hz), 6.92(1H,d,J=16.2Hz), 7.78(1H,d,J=16.
2Hz), 8.08(1H,d,J=9.8Hz), 8.13(1H,d,J=2.1Hz), 8.30
(1H,d,J=2.1Hz), 8.53(1H,d,J=9.8Hz) ＩＲ(KBr，cm-1) 3413,1770,1666,1618,1566,1527,149
1,1462,1379
【００６１】実施例１０ ７β−［（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−
３−イル）−２（Ｚ）−シクロペンチルオキシイミノア
セトアミド］−３−［（Ｅ）−２−（１−エチルイミダ
ゾ［１，２−ｂ］ピリダジニウム−６−イル）ビニル］
−３−セフェム−４−カルボキシレート
３−イル）−２（Ｚ）−シクロペンチルオキシイミノア
セトアミド］−３−［（Ｅ）−２−（１−エチルイミダ
ゾ［１，２−ｂ］ピリダジニウム−６−イル）ビニル］
−３−セフェム−４−カルボキシレート
【化４５】 ｐ−メトキシベンジル ７β−ｔ−ブチルオキシカルボ
ニルアミノ−３−［２−（イミダゾ［１，２−ｂ］ピリ
ダジン−６−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カル
ボキシレート２００ｍｇをジメチルホルムアミド１．８
２ｍｌに溶解し、ヨウ化エチル０．７３ｍｌを加えて４
０℃で３５時間撹拌した。ヨウ化エチルを減圧溜去し、
ジエチルエーテル２５．３ｍｌを加えてよく撹拌した。
析出した固体を瀘取し、ジエチルエーテルで洗い、減圧
乾燥した。トリフルオロ酢酸１．８２ｍｌとアニソール
１．４７ｍｌを加え、室温で２時間撹拌後、エチルエー
テル２５．３ｍｌを加えて析出した固体を濾取し、ジエ
チルエーテルで洗い、減圧下乾燥した。テトラヒドロフ
ラン−水（１：１）の混合溶液３０ｍｌに溶解し、氷冷
下飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨを７．５にし
た。（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−
イル）−２（Ｚ）−シクロペンチルオキシイミノアセチ
ルクロリド塩酸塩１１８ｍｇを加え、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液でｐＨを８．０にした。氷冷下３０分間撹
拌した後、テトラヒドロフランを減圧溜去した。残渣を
ダイアイオンＨＰ−２０カラムクロマトグラフィーに付
し、水−エタノールで溶出した。縮合物を含むフラクシ
ョンを集めて減圧濃縮し、凍結乾燥した。ジメチルスル
ホキシド１５ｍｌに溶解し、室温で２時間放置した。水
１００ｍｌを加え、凍結乾燥して得られたアモルファス
をダイアイオンＨＰ−２０カラムクロマトグラフィーに
付し、水−エタノールで溶出した。目的物を含むフラク
ションを集めて減圧濃縮し、析出した固体を瀘取し、減
圧乾燥し標記化合物９３ｍｇを得た。 元素分析値：Ｃ26Ｈ27Ｎ9Ｏ5S2・３．０Ｈ２Ｏ 計算値：Ｃ，４７．０５； Ｈ，5.01； Ｎ，18.99 実測値：Ｃ，47.19； Ｈ，4.90； Ｎ，18.73 ＮＭＲスペクトル（d6-DMSO)δ；1.48(3H,t,J=7.2Hz),
1.54-2.01((H,m), 3.56(1H,d,J=16.8Hz), 3.71(1H,d,J=
16.8Hz), 4.49(2H,q,J=7.2Hz), 4.75(1H,m), 5.14(1H,
d,J=5.1Hz), 5.67(1H,dd,J=8.3Hz,J=5.1Hz), 6.67(1H,
d,J=16.2Hz), 7.89(1H,d,J=9.9Hz), 8.09(1H,d,J=16.2H
z), 8.17(2H,s), 8.48(1H,d,J=2.1Hz), 8.76(1H,d,J=2.
1Hz), 9.56(1H,d,J=8.3Hz) ＩＲ(KBr，cm-1) 3323,3167,3136,2956,1774,1660,161
2,1572,1520,1495,1381,1356
ニルアミノ−３−［２−（イミダゾ［１，２−ｂ］ピリ
ダジン−６−イル）ビニル］−３−セフェム−４−カル
ボキシレート２００ｍｇをジメチルホルムアミド１．８
２ｍｌに溶解し、ヨウ化エチル０．７３ｍｌを加えて４
０℃で３５時間撹拌した。ヨウ化エチルを減圧溜去し、
ジエチルエーテル２５．３ｍｌを加えてよく撹拌した。
析出した固体を瀘取し、ジエチルエーテルで洗い、減圧
乾燥した。トリフルオロ酢酸１．８２ｍｌとアニソール
１．４７ｍｌを加え、室温で２時間撹拌後、エチルエー
テル２５．３ｍｌを加えて析出した固体を濾取し、ジエ
チルエーテルで洗い、減圧下乾燥した。テトラヒドロフ
ラン−水（１：１）の混合溶液３０ｍｌに溶解し、氷冷
下飽和炭酸水素ナトリウム水溶液でｐＨを７．５にし
た。（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−
イル）−２（Ｚ）−シクロペンチルオキシイミノアセチ
ルクロリド塩酸塩１１８ｍｇを加え、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液でｐＨを８．０にした。氷冷下３０分間撹
拌した後、テトラヒドロフランを減圧溜去した。残渣を
ダイアイオンＨＰ−２０カラムクロマトグラフィーに付
し、水−エタノールで溶出した。縮合物を含むフラクシ
ョンを集めて減圧濃縮し、凍結乾燥した。ジメチルスル
ホキシド１５ｍｌに溶解し、室温で２時間放置した。水
１００ｍｌを加え、凍結乾燥して得られたアモルファス
をダイアイオンＨＰ−２０カラムクロマトグラフィーに
付し、水−エタノールで溶出した。目的物を含むフラク
ションを集めて減圧濃縮し、析出した固体を瀘取し、減
圧乾燥し標記化合物９３ｍｇを得た。 元素分析値：Ｃ26Ｈ27Ｎ9Ｏ5S2・３．０Ｈ２Ｏ 計算値：Ｃ，４７．０５； Ｈ，5.01； Ｎ，18.99 実測値：Ｃ，47.19； Ｈ，4.90； Ｎ，18.73 ＮＭＲスペクトル（d6-DMSO)δ；1.48(3H,t,J=7.2Hz),
1.54-2.01((H,m), 3.56(1H,d,J=16.8Hz), 3.71(1H,d,J=
16.8Hz), 4.49(2H,q,J=7.2Hz), 4.75(1H,m), 5.14(1H,
d,J=5.1Hz), 5.67(1H,dd,J=8.3Hz,J=5.1Hz), 6.67(1H,
d,J=16.2Hz), 7.89(1H,d,J=9.9Hz), 8.09(1H,d,J=16.2H
z), 8.17(2H,s), 8.48(1H,d,J=2.1Hz), 8.76(1H,d,J=2.
1Hz), 9.56(1H,d,J=8.3Hz) ＩＲ(KBr，cm-1) 3323,3167,3136,2956,1774,1660,161
2,1572,1520,1495,1381,1356
【００６２】試験例１ 試験化合物の最小阻止濃度（ＭＩＣ：minimal inhibito
ry concentration）は寒天希釈法（agar dilution meth
od）により決定された。即ち、順次薄められた試験化合
物の水溶液１．０mlをシャーレ（petri dish）に注ぎ、
次にトリプテイカーゼ ソイ アガー（Trypticase soy
agar）９．０mlを注いで交ぜた。その混合寒天プレー
ト上に、試験菌の懸濁液（約１０6ＣＦＵ／ml）を塗抹
した。３７℃で一夜培養（incubation）した後、試験菌
の増殖を完全に阻害する試験化合物の最低濃度を、ＭＩ
Ｃとした。 試験菌： （１）スタフィロコッカス アウレウス ３０８ Ａ−
１ （Staphylococcus aureus ３０８ Ａ−１）（ＭＳＳ
Ａ） （２）スタフィロコッカス アウレウス Ｎ−１３３ （Staphylococcus aureus Ｎ−１３３）（ＭＳＲＡ） （３）エシェリキア コリ ＮＩＨＪ ＪＣ−２ （Escherichia coli ＮＩＨＪ ＪＣ−２） 試験例１の結果から、本発明のセフェム化合物〔I〕は
臨床上重要視されている菌株に対して優れた抗菌作用を
ことが明らかである。
ry concentration）は寒天希釈法（agar dilution meth
od）により決定された。即ち、順次薄められた試験化合
物の水溶液１．０mlをシャーレ（petri dish）に注ぎ、
次にトリプテイカーゼ ソイ アガー（Trypticase soy
agar）９．０mlを注いで交ぜた。その混合寒天プレー
ト上に、試験菌の懸濁液（約１０6ＣＦＵ／ml）を塗抹
した。３７℃で一夜培養（incubation）した後、試験菌
の増殖を完全に阻害する試験化合物の最低濃度を、ＭＩ
Ｃとした。 試験菌： （１）スタフィロコッカス アウレウス ３０８ Ａ−
１ （Staphylococcus aureus ３０８ Ａ−１）（ＭＳＳ
Ａ） （２）スタフィロコッカス アウレウス Ｎ−１３３ （Staphylococcus aureus Ｎ−１３３）（ＭＳＲＡ） （３）エシェリキア コリ ＮＩＨＪ ＪＣ−２ （Escherichia coli ＮＩＨＪ ＪＣ−２） 試験例１の結果から、本発明のセフェム化合物〔I〕は
臨床上重要視されている菌株に対して優れた抗菌作用を
ことが明らかである。
【００６３】
【発明の効果】本発明のセフェム化合物〔I〕またはそ
のエステルあるいはその塩は、シュードモナス属の菌を
含むグラム陰性菌ならびにブドウ球菌およびＭＲＳＡを
含むグラム陽性菌などに対して広範囲の抗菌スペクトル
と優れた抗菌作用を有しており、これらの菌に基づく感
染症に対し有効な抗菌剤を提供することができる。
のエステルあるいはその塩は、シュードモナス属の菌を
含むグラム陰性菌ならびにブドウ球菌およびＭＲＳＡを
含むグラム陽性菌などに対して広範囲の抗菌スペクトル
と優れた抗菌作用を有しており、これらの菌に基づく感
染症に対し有効な抗菌剤を提供することができる。
Claims (8)
- 【請求項１】式 【化１】 （Ｒ3は置換されていてもよい炭化水素残基を示す）
を、Ｚは窒素原子またはメチン基を示す。〕で表される
化合物またはそのエステルあるいはその塩。 - 【請求項２】Ｒ1がアミノ基である請求項１記載の化合
物。 - 【請求項３】Ｒ2が水素原子、置換されていてもよいア
ルキル基または置換されていてもよい環状炭化水素残基
である請求項１記載の化合物。 - 【請求項４】Ｚが窒素原子である請求項１記載の化合
物。 - 【請求項５】Ｒ3が置換されていてもよいＣ1-6アルキル
基である請求項１記載の化合物。 - 【請求項６】式 【化２】 〔式中の記号は請求項１記載と同意義を示す。〕で表さ
れる化合物またはそのエステルあるいはその塩と式 【化３】 〔式中の記号は請求項１記載と同意義を示す。〕で表さ
れるカルボン酸またはその塩もしくは反応性誘導体とを
反応させ、必要に応じて保護基を除去することを特徴と
する請求項１記載の化合物の製造法。 - 【請求項７】式 【化４】 〔式中、Ａ'およびＢ'は一方が−ＣＨ＝で、他方が−Ｎ
＝を、Ｒ4はカルボキシル基の保護基を、その他の記号
は請求項１記載と同意義を示す。〕で表される化合物ま
たはそのエステルあるいはその塩と式Ｒ3Ｘ〔式中、Ｘ
はハロゲン原子、Ｒ3は請求項１記載と同意義を示
す。〕で表わされる化合物とを反応させ、必要に応じて
保護基を除去することを特徴とする請求項１記載の化合
物の製造法。 - 【請求項８】請求項１記載の化合物を含有する抗菌組成
物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8056111A JPH08311072A (ja) | 1995-03-15 | 1996-03-13 | セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5628795 | 1995-03-15 | ||
| JP7-56287 | 1995-03-15 | ||
| JP8056111A JPH08311072A (ja) | 1995-03-15 | 1996-03-13 | セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08311072A true JPH08311072A (ja) | 1996-11-26 |
Family
ID=26397046
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8056111A Withdrawn JPH08311072A (ja) | 1995-03-15 | 1996-03-13 | セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08311072A (ja) |
-
1996
- 1996-03-13 JP JP8056111A patent/JPH08311072A/ja not_active Withdrawn
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| Date | Code | Title | Description |
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| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
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