JPS61178994A - セフエム化合物 - Google Patents

セフエム化合物

Info

Publication number
JPS61178994A
JPS61178994A JP60123458A JP12345885A JPS61178994A JP S61178994 A JPS61178994 A JP S61178994A JP 60123458 A JP60123458 A JP 60123458A JP 12345885 A JP12345885 A JP 12345885A JP S61178994 A JPS61178994 A JP S61178994A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
amino
formula
compound
substituted
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP60123458A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0613530B2 (ja
Inventor
Akio Miyake
三宅 昭夫
Masahiro Kondo
近藤 正煕
Masahiko Fujino
藤野 政彦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Takeda Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Takeda Chemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from PCT/JP1984/000296 external-priority patent/WO1986000071A1/ja
Priority claimed from PCT/JP1985/000245 external-priority patent/WO1986006376A1/ja
Application filed by Takeda Chemical Industries Ltd filed Critical Takeda Chemical Industries Ltd
Publication of JPS61178994A publication Critical patent/JPS61178994A/ja
Publication of JPH0613530B2 publication Critical patent/JPH0613530B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/14Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
    • C07D501/16Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
    • C07D501/207-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
    • C07D501/247-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
    • C07D501/38Methylene radicals, substituted by nitrogen atoms; Lactams thereof with the 2-carboxyl group; Methylene radicals substituted by nitrogen-containing hetero rings attached by the ring nitrogen atom; Quaternary compounds thereof
    • C07D501/46Methylene radicals, substituted by nitrogen atoms; Lactams thereof with the 2-carboxyl group; Methylene radicals substituted by nitrogen-containing hetero rings attached by the ring nitrogen atom; Quaternary compounds thereof with the 7-amino radical acylated by carboxylic acids containing hetero rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D277/00Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
    • C07D277/60Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D277/62Benzothiazoles
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P31/00Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
    • A61P31/04Antibacterial agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D463/00Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbacephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D463/10Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbacephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring with a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 2
    • C07D463/14Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbacephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring with a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 2 with hetero atoms directly attached in position 7
    • C07D463/16Nitrogen atoms
    • C07D463/18Nitrogen atoms further acylated by radicals derived from carboxylic acids or by nitrogen or sulfur analogues thereof
    • C07D463/20Nitrogen atoms further acylated by radicals derived from carboxylic acids or by nitrogen or sulfur analogues thereof with the acylating radicals further substituted by hetero atoms or by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D463/00Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbacephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D463/10Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbacephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring with a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 2
    • C07D463/14Heterocyclic compounds containing 1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. carbacephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring with a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. an ester or nitrile radical, directly attached in position 2 with hetero atoms directly attached in position 7
    • C07D463/16Nitrogen atoms
    • C07D463/18Nitrogen atoms further acylated by radicals derived from carboxylic acids or by nitrogen or sulfur analogues thereof
    • C07D463/20Nitrogen atoms further acylated by radicals derived from carboxylic acids or by nitrogen or sulfur analogues thereof with the acylating radicals further substituted by hetero atoms or by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen
    • C07D463/22Nitrogen atoms further acylated by radicals derived from carboxylic acids or by nitrogen or sulfur analogues thereof with the acylating radicals further substituted by hetero atoms or by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen further substituted by nitrogen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D505/00Heterocyclic compounds containing 5-oxa-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. oxacephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は優れた抗菌作用を有する新規な抗菌性化合物お
よびその製造法ならびに医薬組成物に関するものである
(従来の技術) 従来より、3位に第4級アンモニウムメチル基、7位に
2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2−ヒドロ
キシ(または置換ヒドロキシ)イミノアセトアミド基を
合わせ持つセフェム化合物またはその誘導体は種々合成
され、特許出願されている[たとえば日本国公開特許公
報昭53−34795、同昭54−9296.同昭54
−135792゜同昭54−154786.同昭55−
149289、同昭57−56485.同昭57−19
2394、同昭58−159498などコが、3位の第
4級アンモニウムメチル基が含窒素芳香族複素環に由来
するものとしては単環性のピリジニウム基もしくはその
環上に置換基を有するものがほとんどで、本発明の4.
5−位で縮合環を形成するチアゾール−3−イル基を有
する化合物については合成はおろか、出願明細書におけ
る開示も全くなされていない。
(発明が解決しようとする問題点) セフェム系抗生物質は人および動物の病原性細菌により
生ずる疾病の治療に広く使用されており、たとえばペニ
シリン系抗生物質に抵抗性を示す細菌に起因する疾病の
治療およびペニシリン感受性患者の治療に特に有用であ
る。その場合グラム陽性菌およびグラム陰性菌の両者に
対して活性を示すセフェム系抗生物質を用いることが望
ましく、この理由から広い抗菌スペクトルを持つセフェ
ム系抗生物質の研究が盛んに行なわれてきた。長期にわ
たる研究の結果、セフエム環の7位に2−(2−アミノ
デアゾール−4−イル)−2−ヒドロキソ(または置換
ヒドロキン)イミノアセトアミド基や含窒素複素環アミ
ノ基などを導入するとグラム陽性菌およびグラム陰性菌
の両者に活性を示すようになることが発見され、いわゆ
る第3世代セファロスポリン系化合物の開発へとつなが
った。現在、数種の第3計代セファロスポリン系化合物
がすでに市販されている。これら第3計代セファロスポ
リン系抗生物質のもうひとつの特徴は、かつてペニシリ
ンにおいて経験されたと同様の耐性菌、いわゆるセファ
ロスポリン耐性菌に対しても活性を示した点である。す
なわち既知のセファロスポリン類に耐性を示した一部の
エシェリヒア・コリ菌、一部のントロバクター属および
大部分のインドール陽性のプロテウス属、エンテロバク
タ−属、セラチア属あるいはシュウトモナス属などに分
類される病原性細菌に対しても臨床的に使用が可能なて
いどの抗菌力を発現した。これらの第3世代セファロス
ポリン系化合物の技術思想の中から、3位にピリジニウ
ムメチル基などの第4級アンモニウムメチル基、7位に
前記のアミノチアゾリルオキシイミノアセトアミド類や
含窒素複素環アミノ基などをあわせ持つセフェム化合物
およびそのオキサ体、カルバ体がさらに優れた抗菌作用
と独特な抗菌スペクトルを有することが示唆され、その
系統の化合物が種々合成されてきた。
(問題を解決するための手段) 本発明は一般式 [式中、Roは含窒素複素環基、アシル基またはエステ
ル化されたカルボキシル基を、Zはs、s→0.0また
はCHtを、R4は水素原子、メトキシ基またはホルム
アミド基を、R13は水素原子、メチル基、水酸基また
はハロゲン原子を、Aは置換されていてもよい4.5−
位で縮合環を形成するチアゾール−3−イル基を、それ
ぞれ示す]で表わされる化合物またはその生理学的に受
容される塩らしくはエステル、およびその製造法ならび
に医薬組成物に関するものである。すなわち本発明の抗
菌性化合物は一般式[+]で表わされるセフェム化合物
(Z=S、5−0)またはそのオキサ体(Z=O)カル
バ体(Z=CH,)である。
本明細書におけるセフェム化合物は「ザ・ジャーナル・
オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティ」第8
4巻、3400頁(1962年)に記載されている「セ
ファム」に基づいて命名された化合物群であり、セフェ
ム化合物はセファム化合物のうち3.4−位に二重結合
を有する化合物を意味する。
従来の技術の項で述べたように3位に第4級アンモニウ
ムメチル基、7位にアミノチアゾリルオキシイミノアセ
トアミド類や含窒素複素環アミノ基などをあわせ持つセ
フェム化合物およびそのオキサ体、カルバ体がさらに優
れた抗菌作用と独特な抗菌スペクトルを有することが次
第に明らかになってきた。3位の第4級アンモニウムメ
チル基が含窒素芳香族複素環に由来する化合物がすでに
多数合成されて特許出願されているが、それらの複素環
は単環性のピリジニウム基もしくはその環上ニ置換基を
有するものがほとんどで、本発明の4.5−位で縮合環
を形成するチアゾルー3−イル基を有する化合物につい
ては全く合成が行なわれていない。本発明者らはこのよ
うな化学構造上の特徴を持つ一般式[I]で表わされる
化合物を合成することに成功するとともに、それらの化
合物の抗菌活性と抗菌スペクトルを調べた結果、化合物
[I]が各種の細菌に対して強い抗菌作用を示すこと、
特に前述のセファロスポリン耐性菌に対する強い抗菌作
用を有すること、シュウトモナス属の菌に対して特異な
抗菌力を示すことなどを見出して本発明を完成した。つ
ぎに本明細書において使用する基名、記号について述べ
る。特にことわりのない限り、本明細書における各基名
および各記号の意味は下記のとおりである。
「アルキル基」は直鎖状または分枝状の炭素数1〜6の
低級アルキル基(以後、rcl−、アルキル基」と略す
こともある)が好ましく、たとえばメチル。
エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イ
ソブチル、5ec−ブチル、 tert−ブチル、n−
ペンデル、n−ヘキシルなどがあげられる。
「アルケニル基」は直鎖状または分枝状の炭素数2〜6
の低級アルケニル基(以後、r C*−sアルケニル基
」と略すこともある)が好ましく、たとえばビニル、ア
リル、1−プロペニル、イソプロペニル。
l−ブテニル、2−ブテニル、3−ブテニル、メタリル
、l、l−ツメチルアリルなどがあげられる。
「アルキニル基」は直鎖状または分枝状の炭素数2〜6
の低級アルキニル基(以後、rc、、アルキニル基」と
略すこともある)が好ましく、たとえばエチニル、l−
プロピニル、プロパルギルなどがあげられる。
「シクロアルキル基」は炭素数3〜10からなる3〜7
員脂環状炭化水素基(以後、rcs−1oシクロアルキ
ル基」と略すこともある)が好ましく、たとえばシクロ
プロピル、ンクロブチル、シクロペンチル、ンクロヘキ
シル、ンクロヘプチル、ノルボルニル、アダマンチルな
どがあげられる。
「シクロアルケニル基」は二重結合を有する5〜6員脂
環状炭化水素基(以後、「c 、−、シクロアルケニル
基」と略すこともある)が好ましく、たとえばシクロペ
ンテニル、シクロペンタジェニル、シクロへキモニル。
シクロへキサジェニルなどがあげられる。
「アリール基」は炭素数6〜10の芳香族炭化水素基(
以後、rCs−Ioアリール基」と略すこともある)が
好ましく、たとえばフェニル、α−ナフチル。
β−ナフチル、ビフェニリルなどがあげられる。
「アラルキル基」は炭素数7〜12の芳香族置換アルキ
ル基(以後、rc、、、アラルキル基」と略すこともあ
る)が好ましく、たとえばベンジル、l−フェニルエチ
ル、2−フェニルエチル、フェニルプロピル、ナフチル
メチルなどがあげられる。なお、Ct−+tアラルキル
基と下記のジC8−1゜アリール−メチル基、トリCs
−+。アリール−メチル基とをあわせてrc7−1mア
ラルキル基」と記す場合もある。
「ジアリールメチル基」は上記の08−3゜アリール基
が2個置換したメチル基(以後、「ジC,−3゜アリ−
ルーメチル基」と略すこともある)を意味し、た2えば
ベンズヒドリルなどがあげられる。
「トリアリールメチル基」は上記のCm−+oアリール
基が3個置換したメチル基(以後、「トリCs−+。
アリール−メチル基」と略すこともある)を意味し、た
とえばトリチルなどがあげられる。
「アリールメチレン基」のアリール基は上記の08−3
゜アリール基がよく、したがって以後Jce−10アリ
ールーメヂレン基」と略すこともある。Ca−+。
アリール−メチレン基としてはたとえば、ベンジリデン
(CeHtCH=)などがあげられる。
「アルコキノ基」のアルキル基は上記の01−6アルキ
ル基が好ましく、したがって以後、rc、−、アルコキ
シ基」と記すこともある。CI−@アルコキシ基として
はたとえば、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イ
ソプロポキシ、n−ブトキン、 tert−ブトキン、
アシルオキン、ヘキシルオキシなどがあげられる。
「ンクロアルキルオキシ基」のシクロアルキル基は上記
の03−I。シクロアルキル基が好ましく、シたがって
以後、rC3−+oシクロアルキルオキシ基」と記すこ
ともある。C3−1oシクロアルキルオキシ基としては
たとえば、シクロプロピルオキシ、シクロペンチルオキ
シ、シクロへキシルオキシ、ノルボルニルオキシなどが
あげられる。
「アリールオキシ基」のアリール基は上記の06−1゜
アリール基が好ましく、シたがって以後、「C8−1゜
アリールオキシ基」と記すこともある。Ca−1゜アリ
ールオキシ基としてはたとえば、フェノキシ、ナフチル
オキシなどがあげられる。
「アラルキルオキシ基」のアラルキル基は上記のC7−
+sアラルキル基が好ましく、したがって以後、rct
−Illアラルキルオキシ基」と記すこともある。
C7−16アラルキルオキシ基としてはたとえば、ベン
ジルオキシ、1−フェニルエチルオキシ、2−フェニル
エチルオキシ、ナフチルメチルオキシ、ベンズヒドリル
オキシ、トリチルオキシなどがあげられる。
「アルキルチオ基」のアルキル基は上記の01−6アル
キル基が好ましく、したがって以後、rc、−。
アルキルチオ基」と記すこともある。C3−6アルキル
ヂオ基としてはたとえば、メチルチオ、エチルチオ、n
−プロピルチオ、n−ブチルチオなどがあげられる。
[アミノアル゛キルチオ基」のアルキルチオ基は上記の
01−@アルキルチオ基が好ましく、したがって以後、
「アミノC3−6アルキルチオ基」と記すこともある。
アミノC8−6アルキルチオ基としてはたとえば、アミ
ノメチルチオ、2−アミノエチルチオ、3−アミノプロ
ピルチオなどがあげられる。
「アルケニルチオ基」のアルケニル基は上記のC7−8
アルケニル基が好ましく、したがって以後、「C、−6
フルケニルチオ基」と記すこともある。c !−IIア
ルケニルチオ基としてはたとえば、ビニルチオ。
アリルチオ、!−プロペニルチオ、イソプロペニルチオ
などがあげられる。
「シクロアルキルチオ基」のシクロアルキル基は上記の
C3−1゜シクロアルキル基が好ましく、したがって以
後、rc3−10シクロアルキルチオ基」と記すことも
ある。C3−1゜シクロアルキルチオ基としてはたとえ
ば、シクロプロピルチオ、シクロへキシルチオなどがあ
げられる。
「アリールチオ基」のアリール基は上記のGo−+。
アリール基が好ましく、したがって以後、rc。
、。アリールチオ基」と記すこともある。Go−+aア
リールチオ基としてはたとえば、フェニルチオ。
ナフチルチオなどがあげられる。
「アラルキルチオ基」のアラルキル基は上記の07−1
8アラルキル基が好ましく、したがって以後、rct−
IIアラルキルチオ基」と記すこともある。C7−1,
アラルキルチオ基としてはたとえば、ベンジルチオ、フ
ェニルエチルチオ、ベンズヒドリルチオ。
トリチルチオなどがあげられる。
[モノアルキルアミノ基]のアルキル基は上記の01−
6アルキル基が好ましく、したがって以後、「モノC1
−。アルキルアミノ基」と記すこともある。モノC1−
。アルキルアミノ基としてはたとえば、メチルアミノ、
エチルアミノ、n−プロピルアミノ、n−ブチルアミノ
、 tert−ブチルアミノ、n−ペンチルアミノ、n
−へキシルアミノなどがあげられる。
「ジアルキルアミノ基」のアルキル基は上記の01−8
アルキル基が好ましく、したがって以後、「ジC3−6
アルキルアミノ基」と記すこともある。ジC5−6アル
キルアミノ基としてはたとえば、ジメチルアミノ、ジエ
チルアミノ、メチルエチルアミノ。
ノー(n−プロピル)アミノ、ジー(n−ブチル)アミ
ノなどがあげられる。
「トリアルキルアンモニウム基」のアルキル基は上記の
C3−8アルキル基が好ましく、したがって以後、「ト
リC8−6アルキルアンモニウム基」と記すこともある
。トリC2−6アルキルアンモニウム基としてはたとえ
ば、トリメチルアンモニウム[(CHa)3N■−]、
トトリエチルアンモニラなどがあげられる。トリアルキ
ルアンモニウム基はこれに対するアニオンを必ず伴って
いる。このようなアニオンとしてはたとえば、ハロゲン
イオン(塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオンなど)
、スルフェートイオン、ナイトレートイオン、カルボネ
ートイオン、有機カルボキシレートイオン(たとえばオ
キザレートイオン。トリフルオロアセテートイオンなど
)、W機スルホネートイオン(たとえば、メタンスルホ
ネートイオン、p−トルエンスルホネートイオンなど)
があげられる。有機カルボキシレートイオン、有機スル
ホネートイオンなどは分子内の場合もある。
「シクロアルキルアミノ基」のシクロアルキル基は上記
のC8−1゜シクロアルキル基が好ましく、したがって
以後、rC3−10シクロアルキルアミノ基」と記すこ
ともある。cs−toシクロアルキルアミノ基としては
たとえば、シクロプロピルアミノ、ンクロペンチルアミ
ノ、シクロへキシルアミノなどがあげられる。
「アリールアミノ基」のアリール基は上記のC8−1゜
アリール基が好ましく、したがって以後、「ce−IQ
アリールアミノ基」と記すこともある。Co−1゜アリ
ールアミノ基としてはたとえば、アニリノ。
N−メチルアニリノなどがあげられる。
「アラルキルアミノ基」のアラルキル基は上記のCV−
+Sアラルキル基が好ましく、したがって以後、rC?
−l11アラルキルアミノ基」と記すこともある。
C7−l11アラルキルアミノ基としてはたとえば、ベ
ンジルアミノ、l−フェニルエチルアミノ、2−フェニ
ルエチルアミノ、ベンズヒドリルアミノ、トリチルアミ
ノなどがあげられる。
「環状アミノ基」は後記するような含窒素複素環または
その二重結合を飽和したものの環形成窒素原子に結合し
ている水素原子を1個とりのぞいてできる基をいい、た
とえばIH−テトラゾール−!−イル、IH−ピロール
−1−イル、ピロジン。
ピロリジノ、IH−イミダゾール−1−1ル、イミダゾ
リノ、イミダゾリジノ、IH−ピラゾール−l−イル、
ピラゾリノ、ピラゾリツノ、ピペリジノ、ピペラジ11
モルホリノなどがあげられる。 [ヒドロキシアルキル
基]のアルキル基は上記のC+−sアルキル基が好まし
く、したがって以後、「ヒドロキンC1−6アルキル基
」と記すこともある。ヒドロキシC,,アルキル基とし
てはたとえば、ヒドロキンメチル、l−ヒドロキシエチ
ル、2−ヒドロキシエチル、3−ヒドロキシプロピルな
どがあげられる。
「メルカプトアルキル基Jのアルキル基は上記のC8−
6アルキル基が好ましく、したがって以後、「メルカプ
トC3−。アルキル ルカプトC+ー*アルキル基としてはたとえばメルカプ
トメチル、■ーメルカプトエチル、2−メルカプトエチ
ルなどがあげられる。
「アルコキシアルキル基」のアルコキシ基は上記のc+
−eアルコキシ基が、アルキル基は上記の01−6アル
キル基が好ましく、したがって以後、「01−6アルコ
キシC+−Sアルキル C1−6アルコキシC,−8アルキル基としてはたとえ
ば、メトキシメチル、エトキシメチル、2−メトキシエ
チルなどがあげられる。
「アルキルチオアルキル基」のアルキルチオ基は上記の
01−6アルキルチオ基が、アルキル基は上記のC.−
、アルキル基が好ましく、したがって以後、[C,−6
アルキルチオc,−6アルキル基Jと記すこともある。
cl−、アルキルチオc1ー6アルキル基としてはたと
えば、メチルチオメチル、2−メチルチオエチルなどが
あげられる。
「アミノアルキル基」のアルキル基は上記のCl−8ア
ルキル基か好ましく、したがって以後、「アミノC1−
6アルキル基」と記すこともある。アミノC1−6アル
キル基としてはたとえば、アミノメチル。
2−アミノエチル、3−アミノプロピルなどがあげられ
る。
「モノアルキルアミノアルキル基」は「モノC3−6ア
ルキルアミノC1−、アルキル基」が好ましく、たとえ
ばメチルアミノメチル、エチルアミノメチル。
2−(N−メチルアミノ)エチル、3−(N−メチルア
ミノ)プロピルなどがあげられる。
「ジアルキルアミノアルキル基」は「ジC+−sアルキ
ルアミノC1−、アルキル基」が好ましく、たとえば、
N、N−ジメチルアミノメチル、N、N−ジエチルアミ
ノメチル、2−(N、N−ジメチルアミノ)エチル、2
−(N、N−ジエチルアミノ)エチル。
3−(N、N−ツメチルアミノ)プロピルなどがあげら
れる。
「環状アミノアルキル基」の環状アミノ基は上記のもの
が好ましく、またアルキル基は上記の01−8アミノ基
が好ましいので、したがって以後、「環状アミノC1−
6アルキル基」と記すこともある。環状アミノC1−6
アルキル基としてはたとえば、ピロリジノメチル、ピペ
リジノメチル、ピペラジノメチル、モルホリノメチル、
2−(モルホリノ)エチルなどがあげられる。
「環状アミノアルキルアミノ基」の環状アミノアルキル
基は上記の環状アミノC1−8アルキル基が好ましく、
したがって以後、「環状アミノC2−6アルキルアミノ
基」と記すこともある。環状アミノC1−8アルキルア
ミノ基としてはたとえば、ピロリジノメチルアミノ、ピ
ペリジノメチルアミノ、ピペラジノメチルアミノ、モル
ホリノメチルアミノなどがあげられる。
「ハロゲノアルキル基」のアルキル基は上記のCl−6
アルキル基が好ましく、したがって以後、「ハロゲノC
1−6アルキル基」と記すこともある。ハロゲノC1−
。アルキル基としてはたとえば、フルオロメチル、ジフ
ルオロメチル、トリフルオロメチル。
クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル。
2−フルオロエチル、2.2−ジフルオロエチル。
2.2.2−トリフルオロエチル、2−クロロエチル、
2.2−ジクロロエチル、2,2.2−トリクロロエチ
ル、2−ブロモエチル、2−ヨードエチルなどがあげら
れる。
「シアノアルキル基」のアルキル基は上記のC8−6ア
ルキル基が好ましく、したがって以後、「シアノC,−
、アルキル基」と記すこともある。シアノC1−8アル
キル基としてはたとえば、シアノメチル。
2−シアノエチルなどがあげられる。
「カルボキシアルキル基」のアルキル基は上記のCl−
Sアルキル基が好ましく、シたがって以後、「カルボキ
シC3−。アルキル基」と記すこともある。カルボキシ
C1−6アルキル基としてはたとえば、カルボキシメチ
ル、l−カルボキシエチル、2−カルボキシエチルなど
があげられる。
「スルホアルキル基」のアルキル基は上記のCt−8ア
ルキル基が好ましく、したがって以後、「スルホC,−
、アルキル基」と記すこともある。スルホ01−11ア
ルキル基としてはたとえば、スルホメチル2−スルホエ
チルなどがあげられる。
「アルカノイルアルキル基」のアルカノイル基は後記す
るC2−。アルカノイル基が好ましく、またアルキル基
は上記のCt−Sアルキル基が好ましいので、以後r 
c *−、アルカノイルCl−5アルキル基」と記すこ
ともある。C7−6アルカノイルC1−5アルキル基と
してはたとえば、アセチルメチル、1−アセチルエチル
、2−アセチルエチルなどがあげられる。
「アルカノイルオキシアルキル基」のアルカノイルオキ
シ基は後記するC1−6アルカノイルオキシ基が好まし
く、またアルキル基は上記のCl−5アルキル基が好ま
しいので、以後rct+@アルカノイルオキシC3−。
アルキル基」と記すこともある。C2−、アルカノイル
オキシc+−gアルキル基としてはたとえば、アセトキ
シメチル、l−アセトキシエチル、2−アセトキシエチ
ルなどがあげられる。
「アルコキシカルボニルアルキル基」のアルコキシカル
ボニル基は後記するC l−10アルコキシ−カルボニ
ル基が好ましく1.またアルキル基は上記のCI−aア
ルキル基が好ましいので、以後r Cl−+。アルコキ
シ−カルボニルC8−6アルキル基」と記すこともある
。C1−3゜アルコキシ−カルボニルC1−6アルキル
基としてはたとえば、メトキシカルボニルメチル、エト
キシカルボニルメチル、tert−ブトキシカルボニル
メチルなどがあげられる。
「カルバモイルアルキル基」のアルキル基はCl−8ア
ルキル基が好ましく、したがって以後、「カルバモイル
C+−aアルキル基」と記すこともある。カルバモイル
C1−6アルキル基としてはたとえば、カルバモイルメ
チルなどがあげられる。
「カルバモイルオキシアルキル基」のアルキル基はC2
−。アルキル基が好ましく、シたがって以後、「カルバ
モイルオキシC+−Sアルキル基」と記すこともある。
カルバモイルオキシC+−Sアルキル基としてはたとえ
ば、カルバモイルオキシメチルなどがあげられる。
「ハロゲン原子」としてはたとえば、フッ素、塩素。
臭素、ヨウ素などがあげられる。
「アルカノイル基」は炭素数1〜6の脂肪族アシル基(
以後、rc+−I+アルカノイル基」と略すこともある
)が好ましく、たとえばホルミル、アセチル、プロピオ
ニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリ
ル、ピバロイルなどがあげられる。このうちホルミルを
除いたアルカノイル基をr c z−sアルカノイル基
」と記すこともある。
「アルケノイル基」は炭素数3〜5のアルケノイル基(
以後、rc、、アルケノイル基」と略すこともある)が
好ましく、たとえばアクリロイル、クロトノイル、マレ
オイルなどがあげられる。
「シクロアルキルカルボニル基」のシクロアルキル基は
上記の03−8゜シクロアルキル基が好ましく、したが
って以後、rc3−1゜シクロアルキル−カルボニル基
」と記すこともある。C3−3゜シクロアルキル−カル
ボニル基としてはたとえば、シクロプロピルカルボニル
、シクロブチルカルボニル、シクロペンチルカルボニル
、シクロへキシルカルボニル。
シクロへブチルカルボニル、アダマンチルカルボニルな
どがあげられる。
「シクロアルケニルカルボニル基」のシクロアルケニル
基は上記のC6−6シクロアルケニル基が好ましり、シ
たがって以後、rc、−eシクロアルケニル−カルボニ
ル基」と記すこともある。C6−6シクロアルケニルー
カルボニル基としてはたとえば、シクロペンテニルカル
ボニル、シクロペンタジェニルカルボニル、シクロへキ
セニル力ルボニル、シクロへキサジェニルカルボニルな
どがあげられる。
「アリールカルボニル基」のアリール基は上記のC@−
IQアリール基が好ましり、シたがって以後、「C8−
3゜アリール−カルボニル基」と記すこともある。
co−toアリール−カルボニル基としてはたとえば、
ベンゾイル、ナフトイルなどがあげられる。
「アラルキルカルボニル基」のアラルキル基は上記のc
、+−+eアラルキル基が好ましく、したがって以後、
「C7−1,アラルキル−カルボニル基」と記すことも
ある。Ct−+*アラルキルーカルボニル基としてはた
とえば、フェニルアセ′ル、フェニルプロピオニル、α
、α−ジフェニルアセチル、α、α。
α−トリフェニルアセチルなどがあげられる。
「アルコキシカルボニル基」のアルキル基はここでは炭
素数1〜8の低級アルキル基のほか、上記の03−10
シクロアルキル基も含むものとする。したがってアルコ
キシカルボニル基は以後、rc 、、。
アルコキシ−カルボニル基」と記すこともある。
ct−toアルコキシ−カルボニル基としてはたとえば
、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n−プロ
ポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、n−ブ
トキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、 ter
t−ブトキシカルボニル、シクロペンチルオキシカルボ
ニル、シクロへキシルオキシカルボニル、ノルボルニル
オキシカルボニルなどがあげられる。
「アリールオキシカルボニル基」のアリールオキシ基は
上記のC6−2゜アリールオキシ基が好ましく、したが
って以後、rc、、。アリールオキシ−カルボニル基」
と記すこともある。Cs−+oアリールオキシーカルボ
ニル基としてはたとえば、フェノキシカルボニル、ナフ
チルオキシカルボニルなどがあげられる。
「アラルキルオキシカルボニル基」のアラルキルオキン
括は上記のC7−19アラルキルオキシ基が好ましく、
たとえばベンジル才キノカルボニル、ベンズヒドリルオ
キ7カルボニル、トリチルオキシカルボニルなどがあげ
られる。
「置換オキシカルボニル基」は上記のCI−tOアルコ
キノ−カルボニル基、C11−107リールオキシーカ
ルボニル基またはC7−+sアラルキルオキシーカルボ
ニル基をいう。
「アルキルチオカルボニル基」のアルキルチオ基は上記
のCI−eアルキルチオ基が好ましく、シたがって以後
、rc、−、アルキルチオ−カルボニル基」と記すこと
もある。CI8アルキルチオ−カルボニル基としてはた
とえば、メチルチオカルボニル、エチルチオカルボニル
、n−プロピルチオカルボニル。
ロープヂルチオカルボニルなどがあげられる。
「アルカノイルオキシ基」のアルカノイル基は上記の0
1−6アルカノイル基が好ましく、シたがって以後Jc
、−aアルカノイルオキシ基」と記すこともある。c+
−eアルカノイルオキシ基としてはたとえば、ホルミル
オキン、アセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオ
キシ、バレリルオキシ、ピバロイルオキシなどがあげら
れる。このうちホルミルオキシを除いたアルカノイルオ
キシ基をrct−@アルカノイルオキシ基」と記すこと
もある。
「アルケノイルオキシ基」のアルケノイル基は上記のC
5−、アルケノイル基が好ましく、シたがって以後、r
c*−sアルケノイルオキシ基」と記すこともある。C
5−、アルケノイルオキシ基としてはたとえば、アクリ
ロイルオキシ、クロトノイルオキシなどがあげられる。
「モノアルキルカルバモイル基」のアルキル基は上記の
01−6アルキル基が好ましく、シたがって以後、「モ
ノC1−6アルキルカルバモイル基」と記すこともある
。モノC+−Sアルキルカルバモイル基としてはたとえ
ば、N−メチルカルバモイル、N−エチルカルバモイル
などがあげられる。
「ジアルキルカルバモイル基」のアルキル基は上記のC
,−、アルキル基が好ましく、シたがって以後、「ジC
,−、アルキルカルバモイル基」と記すことらある。ジ
C3−8アルキルカルバモイル基としてはたとえば、N
、N−ジメチルカルバモイル、N、N−ノエチルカルバ
モイルなどがあげられる。
「モノアルキルカルバモイルオキシ基」のモノアルキル
カルバモイル基は上記のモノC+−Sアルキルカルバモ
イル基が好ましく、シたがって以後、「モノC3−8ア
ルキルカルバモイルオキシ基」と記すこともある。モノ
Cl−8アルキルカルバモイルオキン基としてはたとえ
ば、N−メチルカルバモイルオキシ、N−エチルカルバ
モイルオキシなどがあげられる。
「ジアルキルカルバモイルオキシ基」のジアルキルカル
バモイル基は上記のジC1−6アルキルカルバモイル基
が好ましく、シたがって以後、「ジC8−8アルキルカ
ルバモイルオキシ基」と記すこともある。ジC1−6ア
ルキルカルパモイルオキシ基としてはたとえば、N、N
−ジメチルカルバモイルオキシ、N、N−ジエチルカル
バモイルオキシなどがあげられる。
[アルキルスルホニル基]のアルキル基は上記の01−
6アルキル基が好ましく、シたがって以後、「cl−8
アルキルスルホニル 1−、アルキルスルホニル基としてはたとえば、メタン
スルホニル、エタンスルホニルなどがあげられる。
「アリールスルホニル基」のアリール基は上記のC e
−toアリール基が好ましく、シたがって以後、「cl
−10アリールスルホニル基」と記すこともある。
C6−1。アリールスルホニル基としてはたとえば、ベ
ンゼンスルホニルなどがあげられる。
「アラルキルスルホニル基」のアラルキル基は上記のC
7−、、アラルキル基が好ましく、したがって以後、r
c.、。アラルキルスルホニル基」と記すこともある。
C?−+6アラルキルスルホニル基としてはたとえば、
フェニルメタンスルホニル、ジフェニルメタンスルホニ
ルなどがあげられる。 「アルキルスルホニルオキシ基
」のアルキルスルホニル基は上記のCI−。アルキルス
ルホニル基が好ましく、シたがって以後、「CI−6ア
ルキルスルホニルオキシ基」と記すこともある。CI−
。アルキルスルホニルオキシ基としてはたとえば、メタ
ンスルホニルオキシ;エタンスルホニルオキシなどがあ
げられる。・ 「アリールスルホニルオキシ基」のアリールスルホニル
基は上記の06−1゜アリールスルホニル基が好ましり
、シたがって以後、rct−、。アリールスルホニルオ
キシ基」と記すこともある。C6−1゜アリールスルホ
ニルオキシ基としてはたとえば、ベンゼンスルホニルオ
キシなどがあげられる。
「アラルキルスルホニルオキシ基」のアラルキルスルホ
ニル基は上記のC?−1@アラルキルスルホニル基が好
ましく、シたがって以後、rct−1@アリールスルホ
ニルオキシ基」と記すこともある。C?−tsアラルキ
ルスルホニルオキシ基としてはたとえば、フェニルメタ
ンスルホニルオキシ、ジフェニルメタンスルホニルオキ
シなどがあげられる。
「アミノ酸残基」は通常のアミノ酸のカルボキシル基の
水酸基をとりのぞいてできるアシル基をいい、具体的に
はたとえば、グリシル、アラニル、バリル、ロイシル、
イソロイシル、セリル、スレオニル。
システイニル、システニル。メチオニル、アスパラギル
、グルタミル、リジル、アルギニル、フェニルグリシル
、フェニルアラニル、チロシル、ヒスチジル。
トリプトファニル、プロリルなどがあげられる。
「含窒素複素環」は1〜数個の、好ましくは1〜4個の
窒素原子(オキシド化されていてもよい)を含む5〜B
員環またはモの縮合環をいう。
このような含窒素複素環は窒素原子のほかに酸素原子、
硫黄原子などのへテロ原子を1〜数個、好ましくは1〜
2個含んでいてもよい。
「含窒素複素環基」は上記の含窒素複素環の環形成炭素
原子に結合している水素原子を1個とりのぞいてできる
基をいう。
「複素環基」は複素環の炭素原子に結合している水素原
子を1個とりのぞいてできる基をいい、そのような複素
環は窒素原子(オキシド化されていてもよい)および/
または硫黄原子をl〜数個、好ましくは1〜4個含む5
〜8員環またはその縮合環をいう。どのような複素環基
としては具体的には2−または3−ピロリル、3−.4
−または5−ピラゾリル、2−.4−または5−イミダ
ゾリル。
1.2.3−または1,2.4−トリアゾリル、lH−
または2H−テトラゾリル、2−または3−チェニル、
2−.4−または5−チアゾリル、3−.4−または5
−イソチアゾリル、1.2.3−チアジアゾール−4−
または5−イル、1.2.4−チアジアゾール−3−ま
たは5−イル、1,2.5−または1,3.4−チアジ
アゾリル、2−または3−ピロリジニル、2−.3−ま
たは4−ピリジル、2−13−または4−ビリジルーN
−オキシド、3−または4−ピリダジニル、3−または
4−ビリグリニル−N−オキシド、2−.4−または5
−ピリミジニル、2−.4−または5−ピリミジニル−
N−オキシド、ピラジニル、2−.3−または4−ピペ
リジニル、ピペラジニル、3H−インドール−2−また
は3−イル、2−.3−または4−チオピラニル、キノ
リル、ピリド[2,3−d]ピリミジル、l。
5 +、 l 、6−、1.7 +、 1.8−.2.
6−または2゜7−ナフチ、リジル、チェノ[2,3−
d]ピリジル、ピリミドピリジル、ピラジノキノリルな
どがあげられる。
「複素環オキシ基」、「複素環チオ基」、「複素環アミ
ノ基」、「複素環カルボニル基」、「複素環アセチル基
」および「複素環カルボキサミド基」の複素環基はいず
れも上記の「複素環基」が好ましい。
「第4級アンモニウム基」は上記の含窒素複素環の1個
の3級窒素原子上の不対電子が結合手となり、自らは4
級化している基をいう。したがってこれに対するアニオ
ンを必ず伴っている。第4級アンモニウム基としてはた
とえば、オキサシリウム、チアゾリウム、イソキサゾリ
ウム、イソチアゾリウム、ピリジニウム、キノリニウム
などがあげられる。アニオンとしてはたとえば、水酸イ
オン、ハロゲンイオン(塩素イオン、臭素イオン、ヨウ
素イオンなど)、スルフェートイオン、ナイトレートイ
オン、カルボネートイオン、有機カルボキシレートイオ
ン(たとえばオギザレートイオン、トリフルオロアセテ
ートイオンなど)、有機スルホネートイオン(たとえば
p−トルエンスルホネートイオンなど)があげられる。
有機カルボキシレートイオン、有機スルホネートイオン
などは分子内の場合もある。
右肩に記号1を付した基は、その基が[置換基を有して
いてもよい基」であることを示す。たとえばアルキル”
基は「置換基を有していてもよいアルキル基」を表わす
。この場合、置換基の数は1個だけに限定されず、置換
される基によっては同一または異なって2〜数個、好ま
しくは2〜3個存在していてもよい。
rc、、。アリール1基JJC,q−+tアラルキル1
基」。
r c s−+。アリール1オキシ基」およびrct−
reアラルキル1オキシ基」としてはそれぞれ、「フェ
ニル1基」。
「ベンジル1基」、「フェノキシ0基」および「ベンジ
ル“オキシ基」がより好ましい。
本発明の化合物[I]において置換基R0は含窒素複素
環基、アシル基またはエステル化されたカルボキシル基
を表わす。これらのうち置換基R0が含窒素複素環基で
ある化合物[[]またはアシル基である化合物[11は
各種の細菌、特にセファロスポリン耐性菌に対する−強
い抗菌作用を有し、しかもシュウトモナス属の菌に対し
て特異な抗菌力を示す抗菌性化合物である。一方、置換
基R0がエステル化されたカルボキシル基である化合物
[l]は置換基R0が含窒素複素環基またはアシル基で
ある上記の化合物[11を製造する際に、中間体として
使用しうる有用な化合物であ不。
置換基R0としての含窒素複素環基(以後、記号RJL
で表わす場合もある)は前記したような「含窒素複素環
基」をいい、たとえば2−ピロリル、3−ピロリル、3
−ピラゾリル、4−ピラゾリル、5−ピラゾリル、2−
イミダゾリル、4−イミダゾリル。
5−イミダゾリル、1.2.3−トリアゾリル、!。
2.4−トリアゾリル、LH−テトラゾリル、2H−テ
トラゾリル、2−オキサシリル、4−才キサゾリル、5
−オキサシリル、3−イソキサゾリル、4−イソキサゾ
リル、5−イソキサゾリル、 I 、2.3−オキサジ
アゾール−4−イル、l、2.3−才キサジアゾール−
5−イル、1,2.4−才キサジアゾール−3−イル、
1,2.4−オキサジアゾール−5−イル、1,2.5
−オキサジアゾリル、 l 、3 。
4−オキサジアゾリル、2−チアゾリル、4−チアゾリ
ル、5−チアゾリル、3−イソチアゾリル、4−イソチ
アゾリル、5−イソチアゾリル、1,2.3−チアジア
ゾール−4−イル、!、2.3−チアジアゾールー5−
イル、 l 、2.4−チアジアゾール−3−イル、1
.2.4−チアジアゾール−5−イル、l、2.5−チ
アジアゾリル、 1.3.4−チアジアゾリル、2−ピ
ロリジニル、3−ピロリジニル。
2−ピリジル、3−ピリジル、4−ピリジル、2−ビリ
ジルーN−オキシド、3−ピリジル−N−オキシド、4
−ピリジル−N−オキシド、3−ピリダジニル、4−ピ
リダジニル、3−ピリダジニル−N−オキシド、4−ピ
リダジニル−N−オキシド、2−ピリミジニル、4−ピ
リミジニル、5−ピリミジニル、2−ピリミジニル−N
−オキシド、4−ピリミジニル−N−オキシド、5−ピ
リミジニル−N−オキシド、ピラジニル、2−ピペリジ
ニル、3−ピペリジニル、4−ピペリジニル、ピペラジ
ニル。
3 i(−インドール−2−イル、3H−インドール−
3−イルなどがあげられるが、特に2−ピリジル、3−
ピリジル、4−ピリジル、2−イミダゾリル、4−イミ
ダゾリル、5−イミダゾリルなどが好ましい。
上記の含窒素複素環基は環上に置換基を有していてもよ
い。そのような置換基は1l18Iだけに限定されず、
置換される基によっては同一または異なって2〜数個、
好ましくは2〜3個存在していてもよい。このような含
窒素複素環上の置換基としてはたとえば、アルキル基、
シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、水酸基
、アルコキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アミ
ノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、ハ
ロゲン原子。
ニトロ基、アジド基、シアノ基、カルボキシル基、アル
コ4Jカルボニル基、アルカノイル基、アルカノイルオ
キシ基、カルバモイル基、モノアルキルカルバモイル基
、ジアルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、
モノアルキルカルバモイルオキシ基、ジアルキルカルバ
モイルオキシ基などがあげられる。
置換基を有する含窒素複素環基としては上記したアルキ
ル基、アリール基、ハロゲン原子などが置換した2−イ
ミダゾリル基、もしくは4−ピリジル塙の窒f:原子に
上記のアルキル基やアラルキル基などが置換して該窒素
原子が4級化したN−置換ピニジニウム−4−イル基が
好ましい。このような1li−2−イミダゾリル基とし
てはたとえば、l−メチル−2−イミダゾリル、4−ク
ロロ−2−イミダゾリルなどが、N−置換ビリジニウム
−4−イル基としてはたとえば、N−メチルピリジニウ
ム−4−イル、N−エチルピリジニウム−4−イル、N
−ベンジルピリジニウム−4−イル、N−(p−フルオ
ロベンノル)ピリジニウム−4−イルなどがそれぞれあ
げられる。
置換基R0としてのアシル基(以後、記号Rbで表わす
場合もある)は従来から知られているペニシリン誘導体
の6位のアミノ基に置換しているアシル基やセファロス
ポリン誘導体の7位アミノ基に置換しているアシル基な
どをいう。このようなアシル基としてはアルカノイル基
、アルケノイル基、シクロアルキルカルボニル基、シク
ロアルキル。
ルカルボニル基、アリールカルボニル基、複素環カルボ
ニル基などがあげられ、より具体的にはそれぞれ01−
8アルカノイル1基I Cs−sアルケノイル1基、C
s−+。シクロアルキル−カルボニル基、 CS−@シ
クロアルケニルーカルボニル基、Ca−+oアリール”
カルボニル基、複素環1カルボニル基があげられる。
C1−、アルカノイル基としてはたとえば、ホルミル、
アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バ
レリル、イソバレリル、ピパロイルなどがあげられる。
C8−、アルカノイル“基で表わされる「置換基を有し
ていてもよいC6−8アルカノイル基」の置換基として
はたとえば、■CIアルカノイル基(すなわちホルミル
)の場合は複素環1カルボニル基が、また■c 2+8
アルカノイル基(すなわちアセチル、プロピオニル、ブ
チリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバ
ロイルなど)の場合は以下に述べる「置換基SI」があ
げられる。[置換基SJはc、−1゜シクロアルキル1
基、 c 5−11シクロアルケニル”基。
C8−7゜アリール”基、水酸基+Cl−8アルコキシ
基。
C2−10シクロアルキルオキシ基、Ce−+oアリー
ル”オキシ基、C?−+sアラルキル”オキシ基、メル
カプト基+ C+−sアルキル”チオ基、アミノC+−
aアルキルヂオ基、 Cz−sアルケニル1チオ基、C
3−+oシクロアルキルチチオ、c@−+Oアリール“
チオ基、C?−+sアラルキル“チオ基、アミノ基、モ
ノC3−8アルキルアミノ基、ジC1−8アルキルアミ
ノ基、C2−+oジシクロアルキルアミノ基。e−1o
アリール”アミノ基。
C?−+sアラルキル”アミノ基、環状アミノ”基、ハ
ロゲン原子、ニトロ基、アジド基、シアノ基、カルボキ
シル基、アシ/L=”基、置換オキシカルボニル基、c
−、アルキルチオ−カルボニル基、アシル1オキシ基、
アシル1アミノ基、アシル1アミノアルキルチオ基、カ
ルバモイル基、モノC+−Sアルキルカルバモイル基、
ジC+−sアルキルカルバモイル基、カルバモイルオキ
シ基、モノC8−6アルキルカルバモイルオキシ基、ジ
C+−aアルキルカルバモイルオキシ基、スルホ基、ヒ
ドロキシスルホニルオキシ基、cl−6アルキルスルホ
ニル基I Cs−+。アリール1スルホニル基、C,−
tsアラルキル1スルホニル基+C+−aアルキルスル
ホニルオキシ基、 Cs−+。アリール1スルホニルオ
キシ基+C?−IIアラルキル”スルボニルオキシ基、
ウレイド1基、スルファモイル1基、複素環1基、複素
環”オキシ基、複素環1チオ基、複素環1アミノ基、複
素環1カルボニル基、複素環”カルボキサミド基または
第4級アンモニウム1基をいう。これらの置換基の数は
1個に限定されず、置換基が2個以上の場合、それらの
置換基は同一でも、また異なっていてもよい。さらには
そのうちの2個の置換基があわさって後記するようなC
=C二重結合またはC=N二重結合を形成していてもよ
い。
C5−、アルケノイル1基で表わされる「置換基を有し
ていてもよいC3−5アルケノイル基」の置換基(以後
「置換基S″Jという)としてはたとえば、C8−1゜
シクロアルキル基、 Cs−+。アリール1基、CI−
@アルコキシ基、Cs +IOアリール”オキシ基、C
?−IIアラルキル1オキシ基、ハロゲン原子、シアノ
基、カルボキシル基、アシル“基、置換オキシカルボニ
ル基。
アシル“オキシ基、複素環1基、第4級アンモニウム秦
基などがあげられる。
C6−8゜アリール1カルボニル基で表わされる[置換
基を有していてもよいC8−1゜アリール−カルボニル
基」の置換基および複素環”カルボニル基で表わされる
「置換基を有していてもよい複素環基」の置換基(以後
、「置換JiS’jという)としてはたとえば、C,−
、アルキル基+ 02−eアルケニル基、Ca−+。
アリール基、C7−Itアラルキル基、ジCs−+oア
リールーメチル基、トリcs−toアリール−メチル基
、水酸基、C1−Sアルコキシ基、C6−1oアリール
オキンX 、 Ct−+。アラルキルオキシ基、メルカ
プト基、 C+−。アルキルチオ基、C6−、、アリー
ルチオ基107−19アラルキルチオ基、アミノ基、モ
ノC3−8アルキルアミノ基、ジC1−8アルキルアミ
ノ基、ヒドロキシCl−8アルキル基、メルカプトCl
−5アルキル基、ハロゲノC1−6アルキル基、カルボ
キシC+−Sアルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基、ア
ジド基、シアノ基。
カルボキンル基、置換オキシカルボニル基7アシル“基
、アシル1オキシ基、アシル1アミノ基、カルバモイル
基、チオカルバモイル基、C++@アルキルスルホニル
基、Ca−1,アリールスルホニル基、C9−1、アラ
ルキルスルホニル基などがあげられる。
上記したC t−sアルカノイル基、 C3−6アルケ
ノイル基、Ca−+oアリールーカルボニル基および複
素環カルボニル基の置換基(S’、S’およびS’)で
以下に述べるもの以外の基は前記した基をここでも意味
する。
C,−、アリール”基、フェニル1基、Ca−+oアリ
ール1オキシ基、フェノキシ1基、 Cs−+。アリー
ル1チオ基、Ca−r。アリール”アミノ基、Cs−+
oアリール“スルホニル基およびC8−1゜アリール”
スルホニルオキシ基のC9−1゜アリール基の置換基と
しては、上記の置換基S3がここでもそのままあげられ
る。
Ct−+tアラルキル”基、ベンジル1基、Ct−+a
アラルキル1オキシ基、ベンジル1オキシ基、C7−+
sアラルキル”チオ基、 C?−1.アラルキル1アミ
ノ基、C7−1、アラルキル”スルホニル基およびCt
−111アラルキル”スルホニルオキシ基のCt−tt
またはC9−。
アラルキル基の芳香環の置換基としては、上記の置換基
S3がここでもそのままあげられる。
複素環1基、複素環1オキシ基、複素環”チオ基、複素
環”アミノ基、複素環1アセチル基および複素環ゝカル
ボキサミド基の複素環の置換基として上記の置換基S3
がここでもそのままあげられる。
第4級アンモニウム“基の含窒素複素環上の置換基とし
ては、上記の置換基s3がここでもそのままあげられる
Cm、アルキル”基で表わされる「置換基されていても
よいC1−6アルキル基」の01−8アルキル基の置換
基としては、上記の置換基Slがここでもそのままあげ
られる。
Ca−、、シクロアルキル1基およびc、−8シクロア
ルケニル1基で表わされる「置換されていてもよいCa
−+oシクロアルキル基」および[置換されていてもよ
いCa−6シクロアルケニル基」の置換基としては、上
記の置換基S3がここでもそのままあげられる。
C1−6アルキル1チオ基で表わされる「置換されてい
てもよいC1−8アルキルチオ基」のc、−6アルキル
チオ基の置換基(以後、「置換基S’Jという)として
はたとえば、水酸基、Ct−Sアルコキシ基、Cs−1
oシクロアルキルオキシ基、Ca−10アリール”オキ
シ基1G?−+sアラルキル“オキシ基、メルカプト基
C8−、アルキルチオ基、cs−toシクロアルキルチ
オ基、Cm−1oアリール”チオ基+C?−111アラ
ルキル1チオ基、アミノ基、モノC1−8アルキルrミ
ノ基、ジC0−6アルキルアミノ基、環状アミノ6基、
ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、カルバモイ
ル基、アシル“オキシ基、スルホ基、第4級アンモニウ
ム”基などがあげられる。
C1−。アルケニル7チオ基で表わされる「置換されて
いてもよいC1−6フルケニルチオ基」のC2−6アル
ケニルチオ基の置換基(以後、「置換基S5Jという)
としてはたとえば、ハロゲン原子、シアノ基。
カルボキシル基、カルバモイル基、モノC8−8アルキ
ルカルバモイル基、ジC+−sアルキルカルバモイル基
、チオカルバモイル基などがあげられる。
「アシル“基」は上記の01−6アルカノイル基、 C
a−1゜アリール1カルボニル ルボニル墓,複素環0カルボニル基または複素環”アセ
チル基をいう。したがってアシル“基の代表的なものを
あげるとたとえば、ホルミル、アセチル。
プロピオニル、n−ブチリル、イソブチリル、バレリル
、ピバロイル、n−ヘキサノイル、クロロアセチル。
ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、3−オキツブ
チリル、4−クロロ−3−オキソブチリル、3−カルボ
キシプロピオニル、4−カルボキシブチリル、3−エト
キシカルバモイルプロピオニル、ベンゾイル、ナフトイ
ル、p−メチルベンゾイル、p−ヒドロキシベンゾイル
、p−メトキシベンゾイル、p−クロロベンゾイル、p
−ニトロベンゾイル、0−カルボキシベンゾイル、0−
(エトキシカルボニルカルバモイル)ベンゾイル、0−
(エトキシカルボニルスルファモイル)ベンゾイル、フ
ェニルアセチル、p−メチルフェニルアセチル、p−ヒ
ドロキシフェニルアセチル、p−メトキンフェニルアセ
チル、2.2−ジフェニルアセチル、2−チェニルカル
ボニル。
2−フリルカルボニル、2−.4−または5−チアゾリ
ルアセチル、2−または3−チェニルアセチル、2−ま
たは3−フリルアセチル、2−アミノ−4−または5−
チアゾリルアセチル、5−アミノ−3−チアジアゾリル
アセチルなどがあげられる。
「アシル“オキシ基」および「アシル“アミノ基」のア
シル“基は上記のアシル“基をいい、したがって「アシ
ル1オキシ基」としてはたとえば、ホルミルオキシ、ア
セトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、バレ
リルオキシ、ピバロイルオキシ、クロロアセトキシ、ジ
クロロアセトキシ、トリクロロアセトキシ、3−オキツ
ブチリルオキシ、4−クロロ−3−オキソブチリルオキ
シ、3−カルボキシプロピオニルオキシ、4−カルボキ
シブチリルオキシ、3−エトキシカルバモイルプロピオ
ニルオキシ、ベンゾイルオキシ、ナフトイルオキン、p
−メチルベンゾイルオキシ、p−メトキシベンゾイルオ
キシ、p−クロロベンゾイルオキシ、0−カルボキシベ
ンゾイルオキシ、0−(エトキシカルボニルカルバモイ
ル)ベンゾイルオキシ、O−(エトキシカルボニルスル
ファモイル)ベンゾイルオキシ、フェニルアセチルオキ
シ、p−メチルフェニルアセチルオキシ、p−メトキシ
フェニルアセチルオキシ、p−クロロフェニルアセチル
オキシ、2.2−ジフェニルアセチルオキシ、チェニル
カルボニルオキシ、フリルカルボニルオキシ、チアゾリ
ルアセチルオキシ、チェニルアセチルオキシ、フリルア
セチルオキシなどが、また「アシル1アミノ基」として
はたとえば、アセトアミド(C11,C0N11−)、
ベンズアミド(Ca11.C0N1+−)。
フェニルアセトアミド(C,H5CHICONH−)。
2−fx″″ルアゞドア” ”7C1,C0NH−)な
どがあげられる・「アシル“アミノアルキルチオ基」の
アシル“アミノ基およびアルキルチオ基はそれぞれ前記
のアシル“アミノ基およびC+−aアルキルチオ基を意
味し、したがってこのような「アシル“アミノc、−6
アルキルヂオ基」としてはたとえば、アセトアミドメチ
ルチオ、2−アセトアミドエチルチオなどがあげられる
「アリールアシル“基」はrc、、。アリール−アシル
1基」がよく、たとえばベンゾイル、フタロイル。
ナフトイル、フェニルアセチルなどがあげられる。
「アリールアシル“オキシ基」はrc、、。アリール−
アシル“オキシ基」がよく、たとえばベンゾイルオキシ
、ナフトイルオキシ、フェニルアセチルオキシなどがあ
げられる。
「ウレイド0基」で表わされる「置換されていてもよい
ウレイド基」のウレイド基の置換基としてはたとえば、
Ct+sアルキル基、 C@−1゜アリール0基。
C7−1゜アラルキル1基、アシル“基、カルバモイル
基。
スルホ基(ナトリウム、カリウムなどと適宜に塩を形成
していてもよい)、スルファモイル基、アミジノ基など
があげられる。
「スルファモイル”基」で表わされる「置換されていて
もよいスルファモイル基」のスルファモイル基の置換基
としてはたとえば、C0−6アルキル基。
アミジノ基などがあげられる。
「カルバモイル1基」および「カルバモイル1オキシ基
」で表わされる「置換されていてもよいカルバモイル基
」の置換基としてはたとえば、C1−8アルキル基、C
@□。アリール”基、C7−+tアラルキル1基。
アシル“基などがあげられ、また、カルバモイル基の窒
素原子が含窒素複素環の環形成窒素原子である場合も含
まれる。
「チオカルバモイル“基」で表わされる「置換されてい
でもよいチオカルバモイル基」の置換基としてはたとえ
ばs Cl−8アルキル基、C,−、、アリール1基、
C?−+tアラルキル“基、アシル“基などがあげられ
、また、チオカルバモイル基の窒素原子が含窒素曳索環
の環形成窒素原子である場合も含まれる。
「環状アミノ0基」で表わされる「置換されていてもよ
い環状アミノ基」の環状アミノ基の置換基(以後、[置
換基S’Jという)としてはたとえば、Cl−6アルキ
ル基、 c t−11アルケニル基、 C3−1゜シク
ロアルキル基、Cm−+oアリール“基、 C7−1!
アラルキル1基、ジCa−+。アリール−メチル基、ト
リCe−+oアリールーメチル基、水酸基、Cl−1ア
ルコキシ基、C,−1oアリール”オキシ基、C?−1
9アラルキル1オキシ基、メルカプト基+CI−’Bア
ルキルチオ基、 C、−、、アリール”チオ基、C7−
+sアラルキル0チオ基、アミノ基、モノC+−Sアル
キルアミノ基、ジC1−6アルキルアミノ基、C8−3
゜アリール”アミノ基、c?−I11アラルキル1アミ
ノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、アジド基、オキソ基、
チオキソ基、シアノ基、カルボキシル基、アシル+基、
置換オキシカルボニル基、アシル“オキシ基、アシル“
アミノ基、カルバモイル基、カルバモイルオキシ基、チ
オカルバモイル基、スルホ基などがあげられる。
C1−8アルカノイル1基のひとつとして前記した複素
環1カルボニル基で置換されたホルミル基はすなわち複
素環”−c o −c o−なる式を有するアシル基で
ある。該複素環”基は前記のもののほかオキサシリル基
、オキサジアゾリル基なども含まれるが、置換基を有し
ていてもよいオキサシリル基、チアゾリル基、オキサジ
アゾリル基、チアジアゾリル基などがより好ましい。こ
のような[複素環“−Co−Co−Jなる基としてはた
とえば、2−(2−,4−または5−オキサシリル)−
2−オキソアセチル、2−(2−,4−または5−チア
ゾリル)−2−オキソアセチル、2−(2−アミノ−4
−チアゾリル)−2−オキソアセチル、2−(1゜2.
4−オキサジアゾール−3−または5−イル)−2−オ
キソアセチル、2−(1,2,4−チアジアゾール−3
−または5−イル)−2−オキソアセチル、2−(5−
アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2
−オキソアセチルなどがあげられる。
Ct−8フルカツイル1基としては置換基を有するアセ
チル基が最も好ましい。置換基を有するアセチル基の置
換基の数は1〜3個であり、置換基はC1−6アルカノ
イル基の置換基として前記した「置換基S’Jがここで
もあげられる。置換基の数が2〜3個の場合、それらの
置換基は同一でも、また異なっていてもよく、さらには
2個の置換基があわさって二重結合を形成していてもよ
い。モノ置換アセチル基としてはR”CH2C0−、ジ
置換すことができる。一方、トリ置換アセチル基として
はそのうちの2個の置換基があわさってC=C二重結合
もしくはC=N二重結合を形成しているものがよく、そ
れぞれ ことができる。ここで記号R1″〜R17,R”および
R”は前記した置換基(Sつを意味し、記号1(”、R
”およびR1′については後記する。以下、これらの置
換基(R+8.、、R″3)を有するアセチル基につい
て詳述する。
i )  R” CH* CO− 記号RISは前記の01−6アルキル基の置換基(Sl
)を意味するが、とりわけ、Cs−aシクロアルケニル
基、Cl−t。アリール1基、 c @−1゜アリール
1オキシ基、Cl−Sアルキル”チオ基、 Ct−@ア
ルケニル1チオ基、 c @+1゜アリール1チオ基、
アミノ基、環状アミノ基、シアノ基、アシル“基、アシ
ル“オキシ基、複素環1基、複素環”チオ基、第4級ア
ンモニウム1基などが繁用される。したがって「アシル
基RISCH,C0−Jとしてはたとえば、1.4−シ
クロへキサジェニルアセチル、フェニルアセチル、p−
)ジルアセチル。p−ヒドロキシフェニルアセチル、p
−メトキシフェニルアセチル、p−クロロフェニルアセ
チル、0−アミノメチルフェニルアセチル、フェノキシ
アセチル、p−ヒドロキシフェノキシアセチル、p−ク
ロロフェノキシアセチル、シアノメチルチオアセチル、
ジフルオロメチルチオアセチル、トリフルオロメチルヂ
オアセチル、(2−カルボキンエチル)チオアセチル、
(2−アミノ−2−カルボキシエチル)チオアセチル、
(2−クロロビニル)チオアセチル、(2−カルボキシ
ビニル)チオアセチル、(2−フルオロ−2−カルバモ
イルビニル)チオアセチル、(1,2−ジクロロビニル
)チオアセチル、(2−クロロ−2−カルボキシビニル
)チオアセチル。
フェニルチオアセチル、p−ヒドロキシフェニルチオア
セチル、グリシル、IH−テトラゾリル−1−イルアセ
チル、3.5−ジクロロ−4−オキソ−1゜4−ジヒド
ロピリジン−1−イルアセチル、シアノアセチル、アセ
トアセチル、ベンゾイルアセチル。
ヂエニル力ルポニルアセチル、(IH−テトラゾリル)
アセチル、!−メチルーIH−テトラゾリルアセチル、
(2−チェニル)アセチル、(3−チェニル)アセチル
(4−チアゾリル)アセチル、(2−アミノ−4−チア
ゾリル)アセチル、(1,2,4−チアジアゾール−3
−イル)アセチル、(5〜アミノ−1,2,4−チアジ
アゾール−3−イル)アセチル。
(2−ピリジル)アセチル、(4−ピリジル)アセチル
、(2−イミダゾリル)チオアセチル、(2−ピリジル
)チオアセチル、(4−ピリジル)チオアセチル。
(2−チェニル)チオアセチル、ヒドロキシピリジルチ
オアセチル、(5−イソチアゾリル)チオアセチル、(
3−メチルチオ−5−イソチアゾリル)チオアセチル、
(4−シアノ−5−イソチアゾリル)チオアセチル、(
4−シアノ−2−メチル−3−オキソ−2,3−ジヒド
ロイソチアゾール−5−イル)チオアセチル、ピリジニ
ウムアセチル、キノリニウムアセチルなどがあげられる
記号R1@は前記の置換基(Sつを意味するが、とりt
zjす、C5−。シクロアルケニル基、C@−IOアリ
ール0基、Cs−+。アリール1オキン基、 Ct−。
アルキル1チオ基、 c !−IIアルケニル1チオ基
、 Cs−+。アリール0チオ基、環状アミノ基、シア
ノ基、複素環1基。
複素環”チオ基、複素環“カルボキサミド基、第4級ア
ンモニウム1基などがここでも繁用される。また記号R
”も前記の置換基を意味するが、とりわけ、水酸基、メ
ルカプト基、アミノ基、アミノ酸残基で置換されたアミ
ノ基、ヒドラジノ基、アジド基、ウレイド1基、アシル
“オキシ基、アシル“アミノ基、カルボキシル基、置換
オキンカルボニル基、スルホ基。
スルファモイル基、カルバモイル基、複素環”カルボキ
サミド基などが好ましい。これらのうち置換基R17が
アミノ基のもの (すなわちR”CH−Co−)は特に[アミノ酸1−I
t 残基」として分類されることもある。したがってば2−
アミノ−2−(1,4−シクロへキサジェニル)アセチ
ル、マンゾリル、α−アジドフェニルアセチル、α−カ
ルボキシフェニルアセチル、α−(フェノキシカルボニ
ル)フェニルアセチル、α−(〇−ヒドロキシフェニル
)オキシカルボニルフェニルアセチル、α−(p−トリ
ルオキシカルボニル)フェニルアセチル、α−スルホフ
ェニルアセチル、α−スルホ−p−ヒドロキシフェニル
アセチル、α−ウレイドフェニルアセチル、α−(N−
スルホウレイド)フェニルアセチル、α−カルボキシ−
p−ヒドロキシフェニルアセチル、α−(ホルミルオキ
シ)フェニルアセチル、α−(2−アミノ−3−カルボ
キシプロピオンアミド)フェニルアセチル、α−(3−
アミノ−3−カルボキシプロピオンアミド)フェニルア
セチル、α−(3,4−ジヒドロキシベンズアミド)フ
ェニルアセチル、α−(5−カルボキシ−4−イミダゾ
リルカルボキサミド)フェニルアセチル、α−(1,3
−ジメチル−4−ピラゾリルカルボキサミド)フェニル
アセチル、α−[+ −(p−メトキシフェニル)−4
−クロロ−1,2,3−トリアゾール−5−イルカルボ
キサミド]フェニルアセチル、α−(4−オキソ−1,
4−ジヒドロピリジン−3−イルカルボキサミド)フェ
ニルアセチル、α−[2−オキソ−5−(3,4−ジヒ
ドロキシフェニル)−1,2−ジヒドロピリジン−3−
イルカルボキサミド]フェニルアセチル、α−(4−オ
キソ−48−1−チオビラン−3−イルカルポキサミド
)フェニルアセチル、α−(4−ヒドロキン−1,5−
ナラチリノン−3−イルカルボキサミド)フェニルアセ
デル、α−(4−エチル−2゜3−)オキソピペラジノ
カルボキサミド)フェニルアセチル、α−(4−エチル
−2,3−ジオキソピペラジノカルボキサミド)−p−
ヒドロキシフェニルアセチル、α−(4−エチル−2,
3−ジオキソピペラジノカルボキサミド)−p−ペンジ
ルオキノフェニルアセチル、α−(4−エチル−2,3
−)オキソピペラジノカルボキサミド)−p−スルホフ
ェニルアセチル、α−(4−エチル−2,3−ジオキソ
ピペラジノカルボキサミド)−p−メトキソフェニルア
セチル、α−(2−オキソイミダゾリジノカルボキサミ
ド)フェニルアセチル、α−(2−オキソ−3−メタン
スルホニルイミダゾリジノカルボキサミド)フェニルア
セチル、α−ヒドロキシ−2−チェニルアセチル、α−
ヒドロキシ−3−チェニルアセチル、α−カルボキシ−
3−チェニルアセチル、α−アミノ−α−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)アセチル、α−ホルムアミド−
α−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセチル。
α−アセトアミド−α−(2−アミノチアゾール−4−
イル)アセチル、α−ホルムアミド−α−(2−アミノ
−5−クロロチアゾール−4−イル)アセチル、α−ア
セトアミド−α−(2−アミノ−5−クロロチアゾール
−4−イル)アセチル、α−ホルムアミド−α−(5−
アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセ
チル、α−アセトアミド−α−(5−アミノ−1,2,
4−チアジアゾール−3−イル)アセチル、α−ヒドラ
ジノ−α−(2−アミツチアゾールー4−イル)アセチ
ル、α−ヒドロキシ−α−(2−アミノチアゾール−4
−イル)アセチル、α−ウレイド−α−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)アセチル、α−[Nγ−(m −
ヒドロキシフェニル)ウレイドコフェニルアセチル。
α−[Nγ−(2−メチル−6−ヒトロキシピリミジン
ー5−イル)ウレイド」フェニルアセチル、α−[Nγ
−(3,4−ジアセトキシベンゾイル)ウレイドコフェ
ニルアセチル、α−[Nγ−(3,4−ジヒドロキシシ
ンナモイル)ウレイド]フェニルアセチル、α−[Nγ
−(3,4−ノアセトキンベンズアミドアセチル)ウレ
イド」フェニルアセチル、α−(2−クロロビニルチオ
)フェニルアセチル、α−カルバモイル−α−(2−ク
ロロビニルチオ)アセチル。
α−(4−エチル−2,3−ジオキソピペラジノカルボ
キサミド)−α−(2−クロロビニルチオ)アセデル、
α、α−ビスー(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−
ピペラジノカルボキサミド)アセチル。
α−(2−アミノ−4−チアゾリル)−α−(4−エチ
ル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボキサミド
)アセチル、α−(4−ヒドロキン−6−メチルニコチ
ンアミド)−α−フェニルアセチル、α−(4−ヒドロ
キシ−6−メチルニコチンアミド)−α−(4−ヒドロ
キシフェニル)アセチル。
α−(5,8−ノヒドロー2−(4−ホルミル−−ピペ
ラジニル)−5−オキソピリド[2.3−d]ピリミジ
ン−6−カルボキサミド)−α−フェニルアセチル、α
−(3.5−ジオキソ−1.2.4−トリアジン−6−
カルボキサミド)−α−(4−ヒ1ー′c″I−t−シ
フヱニル)アセチル、α−(4−ヒドロキシ−7−メチ
ル−1.8−ナフチリジン−3−カルボキサミド)−α
−フェニルアセチル、α−(4−ヒドロキシ−7−トリ
フルオロメチルキノリンー3−カルボキサミド)−α−
フェニルアセチル。
N−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)アセチル]
−D−フェニルグリシル、α−(6−ブロモ−l−エチ
ル−1.4−ジヒドロ−4−オキソチェノ[2.3−b
コピリジン−3−カルボキサミド)−α−7エニルアセ
チル、α−(4−エチル−2.3−シオキソーl−ピペ
ラジノカルボキサミド)−α−チェニルアセチル、α−
(4−n−ペンチル−2、3−ジオキソ−l−ピペラジ
ノカルボキサミド)−α−チェニルアセチル、α−(4
−n−才クチル−2.3−ジオキソ−■ーピペラジノカ
ルボキサミド)−α−チェニルアセチル、α−(4−シ
クロへキシル−2.3−ジオキソ−1−ピペラジノカル
ボキサミド)−α−チェニルアセチル、α−[4−(2
−フェニルエチル)−2.3−ジオキソ−1−ピベラジ
ノ力ルポキサミド]−α−チェニルアセチルなどが例示
される。またアミノ酸の残基Crt ”CHCO−)と
してはここでもたとえば、N Ht アラニル、バリル、ロイシル、イソロイシル、セリル。
スレオニル、ンステイニル、シスチニル、メチオニル、
アスパラギル、グルタミル、リジル、アルギニル。
フェニルグリンル、フェニルアラニル、チロシル。
ヒスデジル、トリプトファニル、プロリルなどが例示さ
れる。またこれらのアミノ酸残基のアミノ基は後記する
ようなアミノ基の保護基で保護されていてもよい。「ア
ミノ基が保護されたアミノ酸残基」としてはたとえば、
N−ベンジルオキシカルボニルアラニル、N−ベンジル
オキシカルボキサミドフェニルグリシルなどがあげられ
る。またアミノ酸残基のアミノ基はさらにもうひとつの
アミノ酸残基で置換されていてもよい。このようなアシ
ル基はすなわち「ジペプチドの残基」であり、このよう
なアシル基としてはたとえば、フェニルグリシル−アラ
ニル、ベンジルN(Z−ベンジルオキシカルボニル−γ
−グルタミルーアラニル、アラニル−フェニルグリシル
、γ−アスパルチルーフェニルグリシル、γ−グルタミ
ル〜アラニルなどがあげられる。またアミノ酸残基のア
ミノ基は環状カルバモイル基で置換されていてもよい。
この上うなアシル基としてはたとえば、N−(4−エチ
ル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボニル)ア
ラニル、N−(4−エチル−2,3−フチオキソ−l−
ピペラジノカルボニル)フェニルグリシル、N−(4−
エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジノカルボニル
)スレオニルなどがあげられる。
R”は同一または異なって水素原子、ハロゲン原子(フ
ッ素、塩素、臭素、ヨウ素)、ヒドロキシメチル基、ジ
フルオロメチル基、トリフルオロメチル基。
ホルミル基、シアノ基、アジド基、カルボキシル基。
カルバモイル基、CI−@アルキルチオ基またはC8−
1oアリール”チオ基を示す]で表わされるアシル基も
使用される。
このようなアシル基としてはたとえば られる。
1ii)  R″’−c−co− R”  R” 記号R”は前記の置換基(Sl)を意味するが、とりわ
けco−toアリール0基、 C@−1゜アリール“オ
キソ基、c e−+。アリール“チオ基、複素環”基、
複素環0チオ基などが繁用される。記号R”は水素原子
またはハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)を
表わし、ハロゲン原子としては塩素が好ましい。
記号R111はC3−、アルキル基、Cs−+oアリー
ル”基。
C1−6アルキルチオ基、ハロゲン原子、シアノ基、ア
ミノ基、C,−、アルキルスルホニル基、C@−+oア
リール“スルホニル基、カルバモイル基、CI−@アル
コキシイミドイル基または複素環”基を表わす。ここで
CI−aアルコキシイミドイル基のC0−8アルコキシ
基は前記のC+−sアルコキン基がよ<、シたがってC
1−6アルコキシイミドイル基としてはたとえば、メト
キシイミドイル あげられる。その他の基はいずれも前記した基がここで
もそのままあてはめられる。したがって「アシル基R”
−C−Go−Jとしてはたとえば、R”  R” 2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−3−クロロアク
リロイル、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)クロト
ノイル、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)シンナモ
イル、2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−3−メタ
ンスルホニルアクリロイル、2−(2−アミノ−4−チ
アゾリル)−3−ベンゼンスルホニルアクリロイル、2
−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イ
ル)−2−ペンテノイル。
2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾールー3−
イル)−3−クロロアクリロイル、2−(5−アミノ−
1,2,4−デアジアゾール−3−イル)クロトノイル
、2−(2−アミノ−5−クロロ−4−チアゾリル)−
3−クロロアクリロイル、2−(2−アミノ−5−クロ
ロ−4−チアゾリル)クロトノイルなどがあげられる。
iv)  IC”−C−Co − I )、・・ 記号R1thは前記の置換基(Sl)を意味するが、と
りわけci−+aミソクロアルキル基、 Cs−sシク
ロアルケニル1基、Cs−+。アリール1基+Cl−6
アルコキシ基、Ca−+oアリール1オキシ基、Cl−
8アルキル“チオ基、アミノC3−。アルキルチオ基、
C3=toアリール1チオ基、C7−+sアラルキル1
チオ基、シアノ基、アシル“基、カルバモイル基、複素
環1基などが繁用される。
これらのなかでもC8−8゜アリール“基、複素環“基
が特に好ましい。これらの06−5゜アリール基、複素
環基の置換基はCl−11アルキル基、水酸基、アミノ
基、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素、ヨウ素)が好
ましい。したがって置換基R2′として好ましい基をあ
げると、たとえばフェニル、p−ヒドロキシフェニル、
2−チェニル、4−チアゾリル、2−アミノ−4−チア
ゾリル、2−アミノ−5−クロロ−4−チアゾリル、2
−アミノ−5−ブロモ−4−チアゾリル、2−アミノ−
5−フルオロ−4−チアゾリル、2−アミノ−4−チア
ゾリル−3−オキシド、2−イミノ−3−ヒドロキシチ
アゾリン−4−イル、3−イソチアゾリル、5−アミノ
−3−イソチアゾリル、l、2.4−チアジアゾール−
3−イル、5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル、1.3.4−チアジアゾリル、2−アミノ−
1,3,4−チアジアゾール−5−イル。
1−(C,−6アルキル)−5−アミノ−1,2,4−
トリアゾール−3−イル、4(cl−Sアルキル)−5
−アミノ−1,2,4−トリアゾール−3−イル、1−
(C,−Sアルキル)−2−アミノ−4−イミダゾリル
、2−アミノ−6−ピリジル、4−アミノ−2−ピリミ
ジル、2−アミノ−5−ピリミジル、3−ピラゾリル、
4−ピラゾリルなどが例示される。また記号R21はQ
 R23基(式中、R23は水素原子または置換されて
いてもよい炭化水残基を示す)である。ここで RI2−C−CO−で表される基はR”−C−C0−で
表わされるシン異性体もしくは □230/N くはそれらの混合物を表わし、なかでも置換基R22が
複素環1基でかつシン異性体であるものがより好ましい
。この上うなアシル基は式 [式中、R″′は複素環1基をR3は水素原子または置
換されていてもよい炭化水素残基を示す]で表わすこと
かできる。ここで複素環”基R■′は置換されたチアゾ
リル基またはチアジアゾリル基、すなわち式 [式中、RIは保護されていてもよいアミノ基を、R2
は水素原子、ハロゲン原子またはニトロ基を示すコのも
のが最も好ましい。R11としてはハロゲン原子または
ニトロ基がより好ましい。ここでハロゲン原子は塩素が
より好ましい。したがって最も好ましいRb基は式 シン異性体(2配位)     シン異性体(2配位)
[式中、R”はハロゲン原子またはニトロ基を、その他
の記号は前記と同意義を示すコである。すなわち置換基
R0としてアシル基Rbを有する化合物[Iコとしては または [式中の記号は前記と同意義を示すコ の構造のものが好ましい。以下、置換基R’、R’、R
3について詳しく述べる。
記号R1は保護されていてもよいアミノ基を表わす。β
−ラクタムおよびペプチドの分野で(よアミノ基の保護
基は充分に研究されていてその保護法はすでに確立され
ており、本発明にお(1てもアミノ基の保護基としては
それら公知のものが適宜に採用されうる。アミノ基の保
護基としてはたとえば、C1−@アルカノイル“基、C
3−sアルケノイル@基、 c a−、。アリール9カ
ルボニル基、フタロイル基。
複素環”カルボニル基、CI−aアルキル”スルホニル
基、カンファースルホニル基+ Ca−t oアリール
1スルホニル基、置換オキシカルボニル基、カルノくモ
イル1基、チオカルバモイル1基、Os−+oアリール
1メチル基、ジC6−1゜アリール”メチル基、トリC
s−1゜アリール1メチル基、 c ll−1゜アリー
ル1チル基。
C8−4゜アリール”チオ基、置換シリル基、 2− 
C、−。
。アルコキシ−カルボニル−1−メチル−!−エチニル
基などがあげられる。
rC+−aアルカノイル”基」としてはここではたとえ
ば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル。
バレリル、ピバロイル、サクシニル、グルタリル、モノ
クロロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチ
ル、モノブロモアセチル、モノフルオロアセチル、ジフ
ルオロアセチル、トリフルオロアセチル。
モノヨードアセチル、3−オキツブチリル、4−クロロ
−3−オキソブチリル、フェニルアセチル8p−クロロ
フェニルアセチル、フェノキシアセチル。
p−クロロフェノキシアセチルなどがあげられる。
rce−6アルケノイル1基」としてはここではたとえ
ば、アクリロイル、クロトノイル、マレオイル、シンナ
モイル、p−クロロシンナモイル、β−フェニルシンナ
モイルなどがあげられる。
rc、、、アリール1カルボニル基」としてはここでは
たとえば、ベンゾイル、ナフトイル、p−トルオイル、
p−tert−ブチルベンゾイル、p−ヒドロキシヘン
ゾイル、p−メトキシベンゾイル、p−tert−ブト
キシベンゾイル、p−クロロベンゾイル、p−ニトロベ
ンゾイルなどがあげられる。
複素環1カルボニル基としては後記するものがあげられ
る。
rc+−aアルキル1スルフ1;ニル基」としてはたと
えば、メタンスルホニル、エタンスルホニルなどがあげ
られる。
rce−ll。アリール1スルホニル基」としてはここ
ではたとえば、ベンゼンスルホニル、ナフタレンスルホ
ニル、p−トルエンスルホニル、p−tert−ブチル
ベンゼンスルホニル、p−メトキシベンゼンスルホニル
、p−クロロベンゼンスルホニル、p−ニトロベンゼン
スルホニルなどがあげられる。
「置換オキシカルボニル基」としては前記の置換オキシ
カルボニル基すなわちC3−1゜アルコキシ−カルボニ
ル基、 C@−I。アリールオキシ−カルボニル基また
はOff−tsアラルキルオキシ−カルボニル基のほか
、ここではそれらがさらに置換基を有しているものも含
まれ、たとえばメトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、n−プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボ
ニル、n−ブトキシカルボニル、 tert−ブトキシ
カルボニル、シクロへキシルオキシカルボニル、ノルボ
ルニルオキシカルボニル、フェノキシカルボニル、ナフ
チルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、メ
トキシメチルオキシカルボニル、アセチルメチルオキシ
カルボニル、2−トリメチルシリルエトキシカルボニル
、2−メタンスルホニルエトキシカルボニル、2゜2.
2−)リクロロエトキシカルボニル、2−シアノエトキ
シカルボニル、p−メチルフェノキシカルボニル、p−
メトキシフェノキシカルボニル、p−クロロフェノキシ
カルボニル、p−メチルベンジルオキシカルボニル、p
−メトキシベンジルオキシカルボニル、p−クロロベン
ジルオキシカルボニル、p−ニトロベンジルオキシカル
ボニル、ベンズヒドリルオキシカルボニル、シクロプロ
ピルオキシカルボニル、シクロペンチルオキシカルボニ
ル、シクロへキシルオキシカルボニルなどがあげられる
「カルバモイル7基」としてはここではたとえば、カル
バモイル、N−メチルカルバモイル、N−エチルカルバ
モイル、N、N−ジメチルカルバモイル。
N、N−ノエチル力ルバモイル、N−フェニルカルバモ
イル、N−アセチルカルバモイル、N−ベンゾイルカル
バモイル、N−(1)−メトキシフェニル)カルバモイ
ルなどがあげられる。
「カルバモイル”オキシ基」としてはここではたとえば
、カルバモイルオキシ、N−メチルカルバモイルオキシ
、N、N−ジメチルカルバモイルオキシ。
N−エチルカルバモイルオキシ、N−フェニルカルバモ
イルオキシなどがあげられる。
「チオカルバモイル1基」としてはここではたとえば、
チオカルバモイル、N−メチルチオカルバモイル、N−
フェニルチオカルバモイルなどがあげられる。
rCs−1oアリール7メチル基」としてはたとえば、
ベンジル、ナフチルメチル、p−メチルベンジル、p−
メトキシベンジル、p−クロロベンジル、p−ニトロベ
ンジルなどがあげられる。
「ジC6−1゜アリール1メチル基」としてはたとえば
、ベンズヒドリル、ジ(p−)リル)メチルなどがあげ
られる。
「トリC6−1゜アリール“メチル基」としてはたとえ
ば、トリチル、トリ(p−トリル)メチルなどがあげら
れる。
rce−I11アリール”メチレン基」としてはたとえ
ば、ベンジリデン、p−メチルベンジリデン、p−クロ
ロベンジリデンなどがあげられる。
rCs−+。アリール“チオ基」としてはたとえば、0
−ニトロフェニルチオなどがあげられる。
「置換シリル基」は保護されるアミノ基とあわさって一
般式R@R’R”5tNH,(R@R’R@5i)IN
R’、R”、R■0.R” 、r(”’はそれt’ t
L Ol−s 7 )Ltキル基もしくはCo−+oア
リール1基を示し、それぞれ同一または異なっていても
よ0゜またZ’ +よたとえばメチレン、メチレン、プ
ロピレンなどのC3−、アルキレン基を示す]で表わさ
れるようなシ1ノル基を意味し、具体的にはトリメチル
シリル、 tert −ブチルジメチルシリル、−9i
(CHs)zcHtcHtS i (CH3)宜−など
があげられる・r2c1−+oアルコキシーカルボニル
ー1−メチル−1−エチニル基のC1−1゜アルコキシ
−カルボニル基は前記したものがよく、したがって2−
〇+−+oアルコキシ−カルボニル−1−メチル−l−
エテニル基としてはたとえば、2−メトキシカルボニル
−1−メチル−1−エチニル、2−エトキシカルボニル
−1−メチル−1−エチニル、2− tert−ブトキ
シカルボニル−1−メチル−1−エチニル、2−シクロ
へキシルオキシカルボニル−1−メチル−1−エチニル
、2−ノルボルニルオキシカルボニル−1−メチル−1
−エチニルなどがあげられる。
記号R′は水素原子、ハロゲン原子またはニトロ基を表
わし、ハロゲン原子またはニトロ基が好ましい。ハロゲ
ン原子としてはここではフッ素、塩素、臭素などがあげ
られ、好ましくは塩素である。
記号R3は水素原子または置換されていてもよい炭化水
素残基を表わす。炭化水素残基としてはたとえばC1−
6アルキル基、Ct−sアルケニル基、C6−6アルキ
ニル基、 Cff−1゜シクロアルキル基、 C6−@
シクロアルケニル基などがあげられるが、とりわけCl
−3アルキル基または置換されたC1−3アルキル基が
好ましい。C+−sアルキル基としてはここでも前記し
たC8−6アルキル基がよく具体的にはメチル、エチル
、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチ
ル、5ec−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル
、n−ヘキシルなどがあげられるがとりわけメチル、エ
チル、n−プロピルが好ましい。Co−sアルケニル基
とし、ではここでも前記したC2−。アルケニル基がよ
く具体的にはビニル、アリル、イソプロペニル、メタリ
ル、I、1−ツメチルアリル、2−ブテニル、3−ブテ
ニルなどがあげられる。cinアルキニル基としては具
体的にはエチニル、1−ブロビニル、2−プロピニル、
プロパルギルなどがあげられる。C1−5゜シクロアル
キル基としてはここでも前記したC1−。シクロアルキ
ル基がよく具体的にはシクロプロピル、シクロブチル、
シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロへブチル、ア
ダマンデルなどがあげられる。C6−6シクロアルケニ
ル基としては具体的には2−シクロペンテニル。
3−ンクロベンテニル、2−シクロへキセニル、3−シ
クロへキセニル、シクロペンタジェニル、シクロへキサ
ジェニルなどがあげられる。
これらの炭化水素残基の置換基としてはたとえば水酸基
、C,−、アルキル基、C7−。アルケニル基。
C7−。アルキニル基、C3−1oシクロアルキル基、
 Cs−6シクロアルケニル基r Ce−+。アリール
基、C7−1eアラルキル基、複素環基、Cl−8アル
コキシ基、C3−20ンクロアルキルオキシ基、 c 
ll−1゜アリールオキシ基、C?−+eアラルキルオ
キシ基、複複素オキシ基。
メルカプト基、C1−@アルキルチオ基、C3−toシ
クロアルキルチオ基+ Ce−1oアリールチオ基、C
?−+*アラルキルチチオ、複素環チオ基、アミノ基、
モノC1−、アルキルアミノ基、ジC1−aアルキルア
ミノ基、トリC1−、アルキルアンモニウム基、C3−
toシクロアルキルアミノ基、 Ca−+。アリールア
ミノ基。
C?−+sアラルキルアミノ基、複素環アミノ基、環状
アミノ基、アジド基、ニトロ基、ハロゲン原子、シアノ
基、カルボキシル基、Cl−10アルコキシ−カルボニ
ル基、Cl−10アリールオキシ−カルボニル基、C9
−18アラルキルオキシ−カルボニル基、 c @−1
゜アリール−アシル1基+ C)−aアルカノイル基、
Cs−5アルケノイル基、C11−10アリール−アシ
ル“オキシ基、 C2−@アルカノイルオキシ基、 C
!l−5アルケノイルオキシ基、カルバモイル1基、チ
オカルバモイル1基、カルバモイル1オキシ基、フタル
イミド基、C1−8アルカノイルアミノ基、 CI−1
゜アリール−アシル“アミノ基、カルボキシアミノ基、
Cl−1゜アルコキシ−カルボキサミド基、Cl−Ha
アリールオキシーカルボキザミド基、c7□8アラルキ
ルオキシ−カルボキサミド基などがあげられ、同一また
は異なって2個以上存在していてもよい。炭化水素残基
の置換基としては、具体的には01−6アルキル基は前
記のもの、すなわちメチル、エチル、n−プロピル。
イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、5ec−ブチ
ル、tert−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシルな
どを、C2−6アルケニル基は前記のもの、すなわちビ
ニル、アリル、イソプロペニル、メタリル、l、l−ジ
メチルアリル、2−ブテニル、3−ブテニルなどを、C
7−6フルキニル基は前記のもの、すなわちエヂニル、
1−プロピニル、2−プロピニル、プ順くルギルなどを
、C3−10シクロアルキル基は前記のもの、すなわち
シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シク
ロヘキシル、シクロヘプチル。
アダマンチルなどを、CS−Sシクロアルケニル基は前
記のもの、すなわちシクロプロペニル、2−シクロペン
テニル、3−シクロペンテニル、2−シクロへキセニル
、3−シクロへキセニル、シクロペンタノエニル、シク
ロへキサジェニルなどを、Cl1−Inアリール基は前
記のもの、すなわちフェニル、ナフチル、ビフェニリル
などを、C?−I@アラルキル基は前記のもの、すなわ
ちベンジル、l−フェニルエチル。
2−フェニルエチル、フェニルプロピル、ナフチルメチ
ル、ベンズヒドリルなどを、Cl−aアルコキシ基は前
記のもの、すなわちメトキシ、エトキシ、n−プロポキ
シ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、 tert −ブ
トキシ、n−ペンチルオキシ、n−へキシルオキシなど
を、Cs−+。シクロアルキルオキシ基は前記のもの、
すなわちシクロプロピルオキシ、シクロへキシルオキシ
などを、Cs−+。アリールオキシ基は前記のもの、す
なわちフェノキシ、ナフチルオキシなどを、C?−1m
アラルキルオキシ基は前記のもの、すなわちベンジルオ
キシ、l−フェニルエチルオキシ、2−フェニルエチル
オキシ、ベンズヒドリルオキシなどを、Cl−Sアルキ
ルチオ基は前記のもの、すなわちメチルチオ、エチルチ
オ、n−プロピルチオ、n−ブチルチオなどを、Cs−
t。シクロアルキルチオ基は前記のもの、すなわちシク
ロプロピルチオ、シクロへキシルチオなどを、c@−1
゜アリールチオ基は前記のもの、すなわちフェニルチオ
、ナフチルチオなどを、C7−19アラルキルチオ基は
前記のもの、すなわちペンジルチオ、フェニルエヂルチ
オ。
ベンズヒドリルチオなどを、モノc1−6アルキルアミ
ノ基は前記のもの、すなわちメチルアミノ、エチルアミ
ノ、n−プロピルアミノ、n−ブチルアミノなどを、ジ
Cl−6アルキルアミノ基は前記のもの、すなわちジメ
チルアミノ、ジエチルアミノ、メチルエチルアミノ、ジ
ー(n−プロピル)アミノ、ジー(n −ブチル)アミ
ノなどを、トリC+−Sアルキルアンモニウム基は前記
のもの、すなわちトリメチルアンモニウム、トリエチル
アンモニウムなどを、C3−I0シクロアルキルアミノ
基は前記のもの、すなわちシクロプロピルアミノ、シク
ロペンチルアミノ、シクロへキシルアミノなどを、Co
−+oアリールアミノ基は前記のもの、すなわちアニリ
ノ、N−メチルアニリノなどを、C7−19アラルキル
アミノ基は前記のもの、すなわちベンジルアミノ、l−
フェニルエチルアミノ、2−フェニルエチルアミノ、ベ
ンズヒドリルアミノなどを、環状アミノ基は前記のもの
、すなわちピロリジノ、ピペリジノ、ピペラジノ。
モルホリノ、!−ピロリルなどを、ハロゲン原子はここ
ではフッ素、塩素、臭素、ヨウ素などを、C1−1゜ア
ルコキシ−カルボニル基は前記のもの、すなわちメトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、n−プロポキシカ
ルボニル、イソプロポキシカルボニル、n−ブトキシカ
ルボニル、イソブトキシカルボニル、 tert−ブト
キシカルボニル、シクロペンチルオキシカルボニル、シ
クロへキシルオキシカルボニル、ノルボルニルオキシカ
ルボニルなどを、Cs−1゜アリールオキシ−カルボニ
ル基は前記のもの、すなわちフェノキシカルボニル、ナ
フチルオキシカルボニルなどを、C7−+sアラルキル
オキシーカルボニル基は前記のもの、すなわちベンノル
オキシカルボニル、ベンズヒドリルオキシカルボニルな
どを、Cs−+。アリール−アシル“基は前記のもの、
すなわちベンゾイル、ナフトイル、フタロイル、フェニ
ルアセチルなどを、ct−aアルカノイル基は前記のも
の、すなわちホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチ
リル、バレリル、ピバロイル、サクシニル。
グルタリルなどを、CS−Sアルケノイル基は前記のも
の、すなわちアクリロイル、クロトノイル、マレオイル
などを、c 11−1 oアリール−アシル“オキシ基
は前記のもの、すなわちベンゾイルオキシ、ナフトイル
オキシ、フェニルアセトキシなどを、C2−。アルカノ
イルオキシ基は前記のもの、すなわちアセトキシ、プロ
ピオニルオキシ、ブチリルオキシ、バレリルオキシ、ピ
バロイルオキシなどを、C3−sアルケノイルオキシは
前記のもの、すなわちアクリロイルオキシ、クロトノイ
ルオキシなどを、カルバモイル1基は前記のもの、すな
わちカルバモイル。
N−メチルカルバモイル、N−エチルカルバモイル、N
、N−ジメチルカルバモイル、N−エチルカルバモイル
、N、N−ジエチルカルバモイル、N−フェニルカルバ
モイル、N−アセチルカルバモイル、N−ベンゾイルカ
ルバモイル、N−(+)−メトキシフェニル)カルバモ
イルに加えてピロリジノカルボニル、ピペリジノカルボ
ニル、ピペラジノカルボニル、モルホリノカルボニルな
どを、チオカルバモイル0基は前記のもの、すなわちチ
オカルバモイル、N−メチルチオカルバモイル、N−フ
ェニルチオカルボニルなどを、カルバモイル”オキシ基
は前記のもの、すなわちカルバモイルオキシ、N−メチ
ルカルバモイルオキ°シ、N、N−ジメチルカルバモイ
ルオキシ、N−エチルカルバモイルオキシ、N−フェニ
ルカルバモイルオキシなどを、rc、−、アルカノイル
アミノ基」はたとえばアセトアミド、プロピオンアミド
、ブチロアミド、バレロアミド、ピパロアミドなどを、
rce−10アリール−アシル“アミノ基」はたとえば
ベンズアミド、ナフトイルアミド。
フタルイミドなどを、rc+−10アルコキシ−カルボ
キサミド基」はたとえばメトキシカルボキサミド(CH
,0CONH−”) 、エトキシカルボキサミド、 t
ert−ブトキシカルボキサミドなどを、rcs+l。
アリールオキシ−カルボキサミド基」はたとえばフェノ
キシカルボキサミド(C,H60CONH−)などをJ
c7−、、アラルキルオキシ−カルボキサミド基」はた
とえばベンジルオキシカルボキサミド(C,H,C1,
0CONIk) 、ベンズヒドリルオキシカルボキサミ
ドなどを表わす。
複素環基、複素環オキシ基、複素環チオ基および複素環
アミノ基の複素環基はここでも複素環の炭素原子に結合
している水素原子を1個とりのぞいてできる基をいい、
そのような複素環は、窒素原子(オキシド化されていて
もよい)および/または硫黄原子などのへテロ原子を1
〜数個、好ましくは1〜4個含む5〜8員環またはその
縮合環をいう。
このような複素環基としてはここでも2−ピロリル以下
、具体的に前記したものがそのままあげられる。したが
って「複素環オキシ基」としてはたとえばチアゾリルオ
キシなどが、「複素環チオ基jとしてはたとえばデアゾ
リルチオなどがあげられる。
「複素環アミノ基」としてはたとえばチアゾリルアミノ
、チアジアゾリルアミノなどがJ′″I−Fられる。
置換された炭化水素残基でより好ましいものは水酸基、
シクロアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ア
ミノ基、トリアルキルアンモニウム基。
ハロゲン原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル
基、カルバモイル基、シアノ基、アジド基、複素環基な
どで置換されたC8−、アルキル基(C+−*アルキル
基はメチル、エチル、i−プロピル、イソプロピルなど
をいう)であり、それらを具体的にあげると、シクロプ
ロピルメチル、メトキシメチル、エトキシメチル、1−
メトキシエチル、2−メトキシエチル、■−エトキシエ
チル、2−ヒドロキシエチル。
メチルチオメチル、2−アミノエチル、2−(トリメチ
ルアンモニウム)エチル、2−()リエチルアンモニウ
ム)エチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリ
フルオロメチル、2−フルオロエチル。
2.2−ジフルオロエチル、クロロメチル、2−クロロ
エチル、2.2−ジクロロエチル、2,2.2−トリク
ロロエチル、2−ブロモエチル、2−ヨードエチル2,
2.2−トリフルオロエチル、カルボキシメチル、l−
カルボキシエチル、2−カルボキシエチル、2−カルボ
キシプロピル、3−カルボキシプロピル、l−カルボキ
シブチル、シアノメチル。
1−カルボキシ−1−メチルエチル、メトキシカルボニ
ルメチル、エトキシカルボニルメチル、tert−ブト
キシカルボニルメチル、l−メトキシカルボニル−1−
メチルエチル、1−エトキシカルボニル−1−メチルエ
チル、 I−tert−ブトキシカルボニル−■−メチ
ルエチル、!−ペンジルオキンカルボニル−1−メチル
エチル、l−ピバロイルオキシカルボニル−1−メチル
エチル、カルバモイルメチル、2−アジドエチル、2−
(ピラゾリル)エチル、2−(イミダゾリル)エチル、
2−(2−オキソピロリジン−3−イル)エチル、2−
アミノ−4−デアゾリルメチルなどのほか多くのものが
あげられる。具体的にあげた炭化水素残基のうち最も好
ましいものはメチル、エチル、n−プロピルなどの直鎖
状のC+−aアルキル基および2−フルオロエチル、2
−クロロエチル、2−ヒドロキシエチル、2−メトキシ
エチル、シアノメチル、カルボキシメチル、 tert
−ブトキシカルボニルメチル、1−カルポキシーI−メ
チルエチJ1仁1−tert−ブトキシカルボニル−1
−メチルエチルなどのハロゲン原子、水酸基、アルコキ
シ基、カルボキシル基。
アルコキシカルボニル基、シアノ基で置換された直鎖状
又は分枝状のC2−3アルキル基およびアリル基、プロ
パルギル基である。ここで記号R”を上に例示した最も
好ましい炭化水素残基もしくは水素原子を表わすものと
すると、置換基R0としてアシル基 C〇− R宏!・−C[式中、R■′は複素環0基I \。□・・ を示す]を有する本発明の化合物[1]はいずれも抗菌
活性が特に強く、特に耐性菌に対して優れた殺菌作用を
もつ。また前記したように複素環1基R1′は式 保護されていてもよいアミノ基を、R”はハロゲン原子
またはニトロ基を、それぞれ示す]のものが最も好まし
く、したがって化合物[+]としては(以下余白) または [式中の記号は前記したものを示す] の構造のものが最も好ましい。
「アシル基R″’−C−Co−Jとして好ましいh・・ 例をあげるとたとえば、2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2(Z)−(ヒドロキシイミノ)アセチル
、2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2(Z)
−(メトキシイミノ)アセチル、2−(2−クロロアセ
タミドチアゾール−4−イル)−2(Z)=(メトキシ
イミノ)アセチル、2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)−2(Z)−(エトキシイミノ)アセチル、2−
(2−アミノチアゾール−4−イル)−2(Z)−(n
−プロポキシイミノ)アセナル、2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)−2(Z)−(イソプロポキシイミ
ノ)アセチル、2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2(Z)−(n−ブトキシイミノ)アセチル、2−
(2−アミノチアゾール−4−)−2(Z)−(n−へ
キシルオキシイミノ)アセチル、2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)−2(Z)−(シクロプロピルメチ
ルオキシイミノ)アセチル、2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル)−2(Z)−(ベンジルオキシイミノ)
アセチル、2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2(Z)−(アリルオキシイミノ)アセチル、2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)−2(Z)−(プロパ
ルギルオキシイミノ)アセチル、2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)−2(Z)−(メトキシメチルオキ
シイミノ)アセチル、2−(2−アミノチアゾール−4
−イル)−2(Z)−(エトキシメチルオキシイミノ)
アセチル、2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2(Z)−((1−メトキシエチル)オキシイミノ)ア
セチル、2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−((2−メトキシエチル)オキシイミノ)アセ
チル、2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2(
Z)−((2−エトキシエチル)オキシイミノ)アセチ
ル、2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2(Z
)−((1−エトキシエチル)オキシイミノ)アセチル
、2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2(Z)
−((2−ヒドロキシエチル)オキシイミノ)アセチル
、2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2(Z)
−(メチルチオメチルオキシイミノ)アセチル、2−(
2−アミノチアゾール−4−イル)二2(Z)−((2
−アミノエチル)オキシイミノ)アセチル、2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)−2(Z)−(フルオロ
メチルオキシイミノ)アセチル、2−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)−2(Z)−(ジフルオロメチルオ
キシイミノ)アセチル、2−(2−アミノチアゾール−
4−イル)−2(Z)−()リフルオロメチルオキシイ
ミノ)アセチル、2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2(Z)−((2−フルオロエチル)オキシイミ
ノ)アセチル、2−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−2(Z)−((2、2−ジフルオロエチル)オキシ
イミノ)アセチル、2−(2−アミノチアゾール−4−
イル’)−2(Z)−(クロロメチルオキシイミノ)ア
セチル、2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−((2−クロロエチル)オキシイミノ)アセチ
ル、2−(2−アミノチアゾール−4−イル”)−2(
Z)−((2、2−ジクロロエチル)オキシイミノ)ア
セチル、2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−((2,2,2−トリクロロエチル)オキシイ
ミノ)アセチル、2−(2−アミノチアゾール−4−イ
ル)−2(Z)−((2−ブロモエチル)オキシイミノ
)アセチル、2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
−2(Z)−((2−ヨードエチル)オキシイミノ)ア
セチル、2−(2−アミノチアゾール−4−イル) −
2(Z)−((2、2。
2−トリフルオロエチル)オキシイミノ)アセチル。
2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2(Z)−
(カルボキシメチルオキシイミノ)アセチル、2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)−2(Z)−(l−カ
ルボキシエチルオキシイミノ)アセチル。
2−(2−アミノチアゾール−4−イル’)−2(Z)
−((2−カルボキシエチル)オキシイミノ)アセチル
、2−(2−アミノチアゾール−4−イル’)−2(Z
)−(l−カルボキシプロピルオキシイミノ)アセチル
、2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2(Z)
−((3−カルボキシプロピル)オキシイミノ)アセチ
ル、2−(2−アミノチアゾール−4−イル’) −2
(Z)−((1−カルボキシブチル)オキシイミノ)ア
セチル、2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−(シアノメチルオキシイミノ)アセチル、2−
(2−(アミノチアゾール−4−イル)−2(z)−(
(l−カルボキシ−1−メチルエチル)オキシイミノ)
アセチル、2−(2−アミノチアゾール−4−イル>−
2(Z)−(メトキシカルボニルメチルオキシイミノ)
アセチル、2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2(Z)−(エトキシカルボニルメチルオキシイミノ)
アセチル、2−(2−アミノチアゾール−4−イル) 
−2(Z) −((tert−ブトキシカルボニルメチ
ル)オキシイミノ)アセチル、2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−(l −(tert−ブトキシカル
ボニル)エトキシイミノ)アセチル、2−(2−アミノ
チアゾール−4−イル)−2(Z)−((1−メトキシ
カルボニル−1−メチルエチル)オキシイミノ)アセチ
ル、2−(2−アミノチアゾール−4−イル) −2(
Z)−((1−エトキシカルボニル−1−メチルエチル
)オキシイミノ)アセチル、2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル) −2(Z) −((1−tert−ブ
トキシカルボニル−1−メチルエチル)オキシイミノ)
アセチル、2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2(Z )−(1−(tert−ブトキシカルボニル)
プロポキシイミノ)アセチル、2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)−2(Z)−((t−ベンジルオキシ
カルボニル−1−メチルエチル)オキシイミノ)アセチ
ル、2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2(Z
)−[(1−ピバロイルオキシカルボニル−1−メチル
エチル)オキシイミノ)アセチル、2−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)−2(Z)−(カルバモイルメチ
ルオキシイミノ)アセチル、2−(2−アミノチアゾー
ル−4−イル) −2(z) −(1−(l−カルバモ
イル−1−メチル)エチルオキシイミノ)アセチル、2
−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2(Z)−(
(2−アジドエチルオキシイミノ)アセチル、2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)−2(Z)−(フェノ
キシカルボニルオキシイミノ)アセチル、2−(2−ア
ミノ−5−クロロチアゾール−4−イル)−2(Z)−
(ヒドロキシイミノ)アセチル、2−(2−アミノ−5
−クロロチアゾール−4−イル)−2(Z)−(メトキ
シイミノ)アセチル、2−(2−アミノ−5−クロロチ
アゾール−4−イル)−2(Z)−(エトキシイミノ)
アセチル、2−(2−アミノ−5−クロaチアゾール−
4−イル)−2(Z)−(n−プロポキシイミノ)アセ
チル、2−(2−アミノ−5−クロロチアゾール−4−
イル)−2(Z)−((2−フルオロエチル)オキシイ
ミノ)アセチル、2−(2−アミノ−5−クロロチアゾ
ール−4−イル)−2(Z)−((2−クロロエチル)
オキシイミノ)アセチル、2−(2−アミノ−5−クロ
ロチアゾール−4−イル)−2(Z)−(カルボキシメ
チルオキシイミノ)アセチル、2−(2−アミノ−5−
クロロチアゾール−4−イル)−2(Z) −((te
rt−ブトキシカルボニルメチル)オキシイミノ)アセ
チル、2−(2−アミノ−5−クロロチアゾール−4−
イル)−2(Z)−((1−カルボキシ−1−メチルエ
チル)オキシイミノ)アセチル、2−(2−アミノ−5
−クロロチアゾール−4−イル) −2(Z)−((1
−tert−ブトキシカルボニル−1−メチルエチル)
オキシイミノ)アセチル、2−(2−アミノ−5−ブロ
モチアゾール−4−イル)−2(Z)−(エトキシイミ
ノ)アセチル、2−(5−アミノ−1,2,4−チアジ
アゾール−3−イル)−2(Z)−(ヒドロキシイミノ
)アセチル、2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)−2(Z)−(メトキシイミノ)ア
セチル、2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イル)−2(Z)−(エトキシイミノ)アセチ
ル、2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−2(Z)−エトキシイミノ)アセチル、2
−(5−アミノ−1,2,4−チアシア′ゾール−3−
イル)−2(Z)−((2−フルオロエチルキシイミノ
)アセチル、2−(5−アミノ−1.2。
4−チアジアゾール−3−イル’)− 2 (Z)− 
((2−クロロエチル)オキシイミノ)アセチル、2−
(5−アミノ−1,2.4−チアジアゾール−3−イル
)−2(Z)−(カルボキシメチルオキシイミノ)アセ
チル、2−(5−アミノ−1,2.4−チアジアゾール
−3−イル)−2(Z)−((1−カルボキシ−l−メ
チルエチル)オキシイミノ)アセチル、2−(5−アミ
ノ−1,2.4−チアジアゾール−3−イル−2(Z)
−((1−tert−ブトキシカルボニル−−メチルエ
チル)オキシイミノ)アセチル、2−(2−イミノ−3
−ヒドロキシチアゾリン−4−イル)−2(Z)−(エ
トキシイミノ)アセチル、2−(2−アミノ−3−オキ
シドチアゾール−4−イル)−2(Z)−(エトキシイ
ミノ)アセチル、2−チェニル−2(Z)−(メトキシ
イミノ)アセチル、2−チェニル−2(Z)−(エトキ
シイミノ)アセチル、2(+,3,4,−チアジアゾリ
ル)−2(Z)−(エトキシイミノ)アセチル、2−(
p−ヒドロキシフェニル)−2(Z)−(エトキシイミ
ノ)アセチル、2−フェニル−2(Z)−(エトキシイ
ミノ)アセチル、2−フェニル−2(Z)−(ヒドロキ
シイミノ)アセチル。
2 − (p − (γ−D−グルタミルオキシ)フェ
ニル)−2(Z)−(ヒドロキシイミノ)アセチル、 
2 − (+)−(3−アミノ−3−カルボキシプロポ
キシ)フェニル)−2(Z)−(ヒドロキシイミノ)ア
セチルなどが例示される。
以上、アシル基(Rb)のひとつとして述べてきたC.
−、アルカノイル”基には上記のc,、アルカノイル基
,複素環” C O  C O  、 R ” C H
 tR”  R” R”−C−Co−のほか、トリフルオロアセチし・ ル.4−カルボキシブチリル、5−アミノ−5−カルボ
キシバレリル、5−オキソ−5−カルボキシバレリル、
N−(2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2(Z)
−(メトキシイミノ)アセチル)−り一アラニル.N−
(2−(2−アミノ−4−チアゾリル−2(Z)−(メ
トキシイミノ)アセチル)−D−フェニルグリシル、2
−(2−アミノ−4−チアゾリル)− 2 − (2−
(2−アミノ−4−チアゾリル)−2(Z)−(メトキ
シイミノ)アセタミド)アセチルなども含まれる。
C+−Sアルカノイル1基以外のアシル基(Rb)とし
ての03−、アルケノイル0基としてはここでも前記し
たアクリロイル、クロトノイル、マレオイル。
シンナモイル、p−クロロシンナモイル、β−フェニル
シンナモイルなどが、Cs−+aシクロアルキルーカル
ボニル基としてはここでも前記したシクロプロピルカル
ボニル、シクロブチルカルボニル、シクロペンチルカル
ボニル、シクロへキシルカルボニル、シクロへブチルカ
ルボニル、アダマンチルカルボニルなどが、C5−6シ
クロアルケニルーカルボニル基としてはここでも前記し
たシクロペンテニルカルボニル、シクロペンタジエニル
力ルポニル,シクロへキセニルカルボニル,シクロへキ
サジェニルカルボニルなどが、C8−、。アリール”カ
ルボニル基としてはここでもベンゾイル、ナフトイル、
p−トルオイル、p−tert−ブチルベンゾイル、p
−ヒドロキシベンゾイル、p−メトキシベンゾイル。
p−tert−ブトキシベンゾイル、p−クロロベンゾ
イル、p−ニトロベンゾイルなどが、「複素環1カルボ
ニル基」としてはたとえば、2−または3−ピロリルカ
ルボニル、3−、4−または5−ピラゾリルカルボニル
、2−、4−または5−イミダプリルカルボニル、1,
2.3−または1,2.4−トリアゾリルカルボニル、
IH−または2H−テトラゾリルカルボニル、2−また
は3−チェニルカルボニル、2−、4−または5−チア
ゾリルカルボニル。
2−アミノ−4−チアゾリルカルボニル、3−、4−ま
たは5−イソチアゾリルカルボニル、l,2。
3−チアジアゾール−4−または5−イルカルボニル、
1,2.4−チアジアゾール−3−または5−イルカル
ボニル,5−アミノ−1,2.4−チアジアゾール−3
−イルカルボニル、1 、2.5−または1,3.4−
チアジアゾリルカルボニル、2−または3−ピロリジニ
ルカルボニル、2−.3−または4−ピリジルカルボニ
ル、2−.3−または4−ピリシル力ルボニルーN−オ
キシド、3−または4−ピリダジニルカルボニル、3−
または4−ビリダジニルカルボニルーN−オキシド、2
−.4−または5−ピリミジニルカルボニル、2−.4
−または5−ピリミジニルカルボニル−N−オキシド、
ピラジニルカルボニル、2−.3−または4−ビペリジ
ニルカルボニル、ピペラジニルカルボニル、2−.3−
または4−チオピラニルカルボニル。
キノリルカルボニル、ピリド[2,3−d]ピリミジル
カルボニル、1.5−.1.6−.1.7−.1.8−
2.6−または2,7−ナフチリジルカルボニル。
ヂエノ[2,3−b]ピリジルカルボニル、ピリミドピ
リジルカルボニル、ピラジノキノリルカルボニルなどが
あげられる。
置換基R0としてのエステル化されたカルボキシル基(
以後、記号R0で表わす場合もある)は、記号R」で表
わされる保護されていてもよいアミノ基の保護基として
前記した荒損オキシカルボニル基がここでもそのままあ
てはめられる。したがってここでも前記した、メトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、n−プロポキシカル
ボニル、イソプロポキシカルボニル、n−ブトキシカル
ボニル、tert−ブトキシカルボニル、シクロへキシ
ルオキシカルボニル、ノルボルニルオキシカルボニル、
フェノキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル、ベ
ンジルオキシカルボニル、メトキシメチルオキシカルボ
ニル、アセチルメチルオキシカルボニル、2−トリメチ
ルシリルエトキシカルボニル、2−メタンスルホニルエ
トキシカルボニル、2,2.2−トリクロロエトキシカ
ルボニル、2−シアノエトキシカルボニル、p−メチル
フェノキシカルボニル。
p−メトキシフェノキシカルボニル、p−クロロフェノ
キシカルボニル、p−メチルベンジルオキシカルボニル
、p−メトキシベンジルオキシカルボニル、p−クロロ
ベンジルオキシカルボニル、p−ニトロベンジルオキシ
カルボニル、ベンズヒドリルオキシカルボニル、シクロ
プロピルオキシカルボニル、シクロペンチルオキシカル
ボニル、シクロへキシルオキシカルボニルなどがあげら
れる。
本発明の化合物[11において置換基R′は水素原子、
メトキシ基またはホルムアミド基(HCONH−)を表
わす。
本発明の化合物[11において置換基R”は水素原子、
メチル基、水酸基またはハロゲン原子を表わす。ここで
ハロゲン原子はフッ素、塩素、臭素、ヨウ素をいう。
11合物[I]において置換基Aは置換されていてもよ
い4.5−位で縮合環を形成するチアゾール−3−イル
基を表わす。ここで縮合環はチアゾール環と脂環。
ベンゼン環または5〜6員芳香族複素環が縮合した形の
ものを意味し、なかでも脂環と縮合したものがより好ま
しい。該縮合環はさらに別の脂環、ベンゼン環または5
〜6員芳香族複素環と縮合していてもよい。また置換基
Aに付記した■は置換基Aが1価の陽電荷をもつことを
示す。脂環と縮合したチアゾール−3−イル基は一般式 %式% で書き表わされ、式中のmは2〜6.好ましくは3〜5
である。上記したようにA1の脂環部分はさらに別の脂
環、ベンゼン環と縮合したチアゾール−3−イル基は一
般式 で書き表わされる。上記したようにA2のベンゼン環部
分はさらに別の脂環、ベンゼン環または5〜6員芳香族
複素環と縮合していてもよい。5〜6員芳香族複素環は
へテロ原子として窒素原子。
酸素原子および/または硫黄原子を有する5〜6貝芳香
族複素環を意味する。したがって5〜6員芳香族複素環
と縮合したチアゾール−3−イル基は一般式 で書き表わされる。式中のBは3〜4個の炭素原子、窒
素原子、酸素原子および/または硫黄原子からなり、こ
のうち炭素原子は1個の水素原子と結合するかまたは隣
接する炭素原子とともに別の縮合環を形成する。A3中
のBを形成する5〜6員芳香族複素環としては具体的に
はたとえばピリジン5ピリダジン、ピリミジン、ピペラ
ジン、 1.2.3=トリアジン、1,2.4−トリア
ジン、フラン、チオフェン、オキサゾール、チアゾール
、イソキサゾール、イソチアゾール、ピロール、ピラゾ
ール、イミダゾールなどがあげられる。A ’、A″ま
たはA3で表される置換基A上の水素原子は1個ないし
2個以上の同一または異なる置換基で置換されていても
よい。置換基A上に置換基のある場合、その置換基の個
数は1〜3がより好ましい。そのような置換基A上の置
換基としたはたとえば水酸基、ヒドロキシC+−Sアル
キル基1cI−++アルキル基。
C1−6アルケニル基、 c !−aアルキニル基+ 
Ct−aアルカジェニル基+C,−,0シクロアルキル
基、 CS+@シクロアルケニル基、 c 5−1゜シ
クロアルキルC,−。
アルキル基、CB−IOアリール基、Ct−+*アラル
キル基、ジC8−3゜アリールメチル基、トリc0−8
゜アリールメチル基、複素環基、CI−、アルコキシ基
、cl−。
アルコキシ−cl−6アルキル基、C3−10シクロア
ルキルオキシ基、 C、、。アリールオキシ基+ C?
−I 8アラルキルオキシ基、メルカプト基、メルカプ
トcI−、アルキル基、スルホ基、スルホCt−1アル
キル基。
Cl−6アルキルチオ基、Ct−@アルキルチオC+−
Sアルキル基+03−IQシクロアルキルチオ基、Ca
−+oアリールチチオ、C?−1mアラルキルチオ基、
アミノ基。
アミノC1−6アルキル基、モノC+−eアルキルアミ
ノ基、ジC3−。アルキルアミノ基、モノc1−。アル
キルアミノ01−6アルキル基、ジc、−6アルキルア
ミノCI−。アルキル基、C3−1゜シクロアルキルア
ミノ基、 C、、。アリールアミノ基r C?−111
アラルキルアミノ基、環状アミノ基、環−状アミノc1
−8アルキル基、環状アミノC1−8アルキルアミノ基
、アジド基。
ニトロ基、ハロゲン原子、ハロゲノC,,アルキル基、
ンアノ基、シアノC1−、アルキル基、カルボキシル基
、カルボキシC3−6アルキル基、Ct−10アルコキ
シ−カルボニル基、Ct−tOアルコキシ−カルボニル
C1−6アルキル基、 c e−+。アリールオキシ−
カルボニル基、C7□9アラルキルオキシ−カルボニル
基、CB−+oアリールーアシノヒ基+ CI−8アル
カノイル基、c t−eアルケノイルc1−6アルキル
基、C3−5アルケノイル基、Cm−+oアリールーア
シル1オキシ基+ C!−8アルカノイルオキシ基、 
Ct−aアルカノイルオキシC1−8アルキル基、 C
3−Sアルケノイルオキシ基、カルバモイルC,−、ア
ルキル基、カルバモイル1基、チオカルバモイル”基、
カルバモイル1オキシ基、カルバモイルオ革シC+−a
アルキル基。
Ct−Sアルカノイルアミノ基、CB−toアリール−
アシル“アミノ基、スルホンアミド基、カルボキシアミ
ノ基、Cl−1゜アルコキシ−カルボキサミド基、CB
−17+アリールオキシ−カルボキサミド基、Ct−+
mアラルキルオキシーカルボキサミド基などがあげられ
る。上記の置換基中、r c t−eアルカジェニル基
」はたとえば、1.3−ブタジェニルなどを、「C3−
10シクロアルキルCI−。アルキル基」はたとえば、
シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチルなどを、
ハロゲン原子はここではフッ素、塩素、臭素などをそれ
ぞれ表わす。その他の基はすべて前記のものがここでも
そのままあげられる。これらの置換基は同一または異な
って複数個置換されていてもよいし、これらの置換基は
さらに置換分を有していてもよい。
置換基AのうちA1を具体的に式示するとたとえば などである。置換基AのうちA2を具体的に式示すると
たとえば などである。置換基AのうちA3を具体的に式示すると
たとえば (以下余白) などである。これらのA I 、 A IおよびA3の
うち好ましいものは前記したとおりA1.なかんづくで
ある。これらの三つの基は前記したとおり置換されてい
てもよく、そのような置換基としては炭素数1ないし6
のアルキル基、アルコキシ基が好ましい。
上記の式A I 、 A ! 、 A 3および具体的
にあげた基において置換基AOの陽電荷を便宜上チアゾ
ール環の窒素原子にあてはめたが、他に窒素原子を含む
場合はその窒素原子に陽電荷がチアゾール環に非局在化
している場合もある。したがってたとえば上記の の場合、それぞれ などのようにも表される。この陽電荷の存在位置は化合
物[T]の状態(固体か溶液中か)、溶媒の種類・液性
・温度・置換基の種類などによて流動的に変化するので
、本発明は陽電荷が窒素原子に局在化した場合とチアゾ
ール環または縮合環全体に非局在化した場合のすべてを
包含するものとする。
上記の化合物[11において4位のカルボキシル基(−
COO)の右肩に付記したeは該カルボキシル基がカル
ボキシレートアニオンであって、置換基A上の陽電荷と
一対になって分子内塩を形成していることを示す。
一方、化合物[11は生理学的に受容される塩もしくは
エステルであってもよい。生理学的に受容される塩とし
ては無機塩基塩、アンモニウム塩、有機塩基塩、無機酸
付加塩、有機酸付加塩、塩基性アミノ酸塩などがあげら
れる。無機塩基塩を生成さ仕うる無機塩基としてはアル
カリ金属(たとえばナトリウム、カリウムなど)、アル
カリ土類金属(たとえばカルシウムなど)などが、有機
塩基塩を生成させうる有機塩基としてはたとえばブロカ
イン。
2−フェニルエチルベンジルアミン、ジベンジルエチレ
ンジアミン、エタノールアミン、ジェタノールアミン、
トリスヒドロキシメチルアミノメタン。
ポリヒドロキシアルキルアミン、N−メチルグルコサミ
ンなどが、無機酸付加塩を生成させうる無機酸としては
たとえば塩酸、臭化水素酸2硫酸、硝酸、リン酸などが
、有機酸付加塩を生成させうる有機酸としてはたとえば
p−トルエンスルホン酸。
メタンスルホン酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸、マレイン
酸などが、塩基性アミノ酸塩を生成させうる塩基性アミ
ノ酸としてはたとえばリジン、アルギニン、オルニチン
、ヒスチジンなどがあげられる。
これらの塩のうち塩基塩(すなわち無機塩基塩、アンモ
ニウム塩、有機塩基塩、塩基性アミノ酸塩)は化合物[
1]の置換基R0もしくはA中にカルボキシル基、スル
ホ基などの酸性基が存在する場合に形成しうる塩基塩を
意味し、酸付加塩(すなわち無機酸付加塩、有機酸付加
塩)は化合物[I]の置換基R0もしくはA中にアミノ
基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、シク
ロアルキルアミノ基。
アリールアミノ基、アラルキルアミノ基、環状アミノ基
、含窒素複素環基などの塩基性基が存在する場合に形成
しうる酸付加塩を意味する。また酸付加塩としては化合
物[1]の分子内塩を形成している部分、すなわち4位
のカルボキシレート部分(C000)と3位のCH,A
■部分に酸が1モル付加して4位がカルボキシル基(C
OOH)、 3位がCH,A■・MC)[式中、Meは
無機酸、有機酸からプロトンHC萼とりのぞいてできる
アニオンを示す。たとえばクロライドイオン、ブロマイ
ドイオン、スルフェートイオン、p−)ルエンスルホネ
ートイオン、メタンスルホネートイオン、トリフルオロ
アセテートイオンなど]となった塩も含まれる。化合物
[1]のエステル誘導体は分子中に含まれるカルボキシ
ル基をエステル化することにより生成されうるエステル
を意味し、合成中間体として利用できるエステルおよび
代謝上不安定な無毒のエステルである。合成中間体とし
て利用できるエステルとしてはCI−。アルキル1エス
テル、Ct−6アルケニルエステル、C,−+aシクロ
アルキルエステル、C,、、シクロアルキルC1−。ア
ルキルエステル、Cs−+oアリール1エステル、 C
7−+ tアラルキル0エステル、ジC,−7゜アリー
ル−メチルエステル。
トリCm−+oアリールーメチルエステル、置換シリル
エステルなどがあげられる。C1−、アルキル1エステ
ルを形成するr c +−sアルキル1基」としてはた
とえば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル
、n−ブチル、イソブチル、5ec−ブチル、tert
−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、ベンジルオキ
シメチル、2−メチルスルホニルエチル、2−トリメチ
ルシリルエチル、 2 、2 、2−’ トリクロロエ
チル。
2−ヨードエチル、アセチルメチル、p−ニトロベンゾ
イルメチル、p−メシルベンゾイルメチル、フタルイミ
ドメチル、サクシシイミドメチル。ベンゼンスルホニル
メチル、フェニルチオメチル、ジメチルアミノエチル、
ピリジン−1−才キシト−2−メチル、メチルスルフィ
ニルメチル、2−シアノ−1,1−ジメチルエチルなど
を、C,、アルケニルエステルを形成するC2−6フル
ケニル基としてはここでも前記のもの、すなわちビニル
、アリル、l−プロペニル、イソプロペニル、■−ブテ
ニル、2−ブテニル、3−ブテニル、メタリル、1.l
−ジメチルアリル、3−メチル−3−ブテニルなどを、
C3−toシクロアルキルエステルを形成するC3−8
゜シクロアルキル基としてはここでも前記のもの、すな
わちシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、
シクロヘキシル、シクロへブチル、ノルボルニル、アダ
マンチルなどを、ca−t。シクロアルキルC3−・ア
ルキルエステルを形成するC s++。シクロアルキル
C8−、アルキル基としてはここでも前記のもの、すな
わちシクロプロピルメチル、シクロペンチルメチル、シ
クロヘキシルメチルなどを、cs−toアリール0エス
テルを形成するrca−Ioアリール1基」としてはた
とえばフェニル、α−ナフチル、β−ナフチル、ビフェ
ニリル、p−ニトロフェニル、p−クロロフェニルなど
を、C?−11アラルキル”エステルを形成するrc、
−1!アラルキル9基」としてはたとえば、ベンジル、
1−フェニルエチル。2−フェニルエチル、フェニルプ
ロピル、ナフチルメチル、p−ニトロベンジル、p−メ
トキシベンジル。
l−インダニル、フェナシル、3.5−ジtert−ブ
チルー4−ヒドロキシベンジルなどを、ジCo−1゜ア
リール−メチルエステルを形成するジC8−1oアリー
ルーメチル基としてはここでも前記のもの、すなわちベ
ンズヒドリル、ビス(p−メトキシフェニル)メチルな
どを、トリC6−1゜アリール−メチルエステルを形成
するトリCo−10アリール−メチル基としてはここで
も前記のもの、すなわちトリデルなどを、置換シリルエ
ステルを形成する置換シリル基としてはここでも前記の
もの、すなわちトリメチルシリル、tert−ブチルジ
メチルシリル。
S j(CH:+)tc HtCHyS f(CHi)
t−などをそれぞれ表わす。上記したエステルには4位
のエステルも含まれる。このように4位が上記のエステ
ル基であるものは3位がCHtAO−7c式中、M()
は前記と同意義を示すコのような塩を形成している。
代謝上不安定な無毒のエステルとしてはペニシリン、セ
ファロスポリンの分野ですでに確立されているものが本
発明においても便宜に採用されうる。このような代謝上
不安定な無毒のエステルとしては、たとえばc !−1
アルカノイルオキシCI−@アルキルエステル、1−(
C3−Sアルコキシ)CI−8アルキルエステル、1(
CI−8アルキルチオ)C,−6アルキルエステルなど
があげられ、C1−6アルカノイルオキシC3−6アル
キルエステルとしてはたとえば、アセトキシメチルエス
テル、l−アセトキシエチルエステル、l−アセトキシ
ブチルエステル、2−アセトキシエチルエステル、プロ
ピオニルオキシメチルエステル、ピバロイルオキシメチ
ルエステルなどが、1−(C1−、アルコキシ)CI−
mアルキルエステルとしてはたとえば、メトキシメチル
エステル、エトキシメチルエステル、イソプロポキシメ
チルエステル、!−メトキシエチルエステル、l−エト
キシエチルエステルなどが、l −(CI−11アルキ
ルチオ)CI−mアルキルエステルとじてはたとえば、
メチルチオメチルエステル、エチルチオメチルエステル
などがそれぞれあげられる。本発明は上記エステル誘導
体のほかに、生体内において化合物[13に変換される
生理学的に受容しうる化合物も包含する。上記した合成
中間体として利用できるエステルおよび代謝上不安定な
無毒のエステルには4位のエステルも含まれる。このよ
うに4位が上記のエステル基であるものは通常、3位が
cH,Ato・MC)[式中、MOは前記と同色層を示
す]のような塩を形成している。
また化合物[I]が水酸基を有する場合、その水酸基は
保護されていてもよい。水酸基の保護基としては、β−
ラクタムおよび有機化学の分野で通常、水酸基の保護基
として使用しうるちのはすべて利用でき、前記のC1−
6アルカノイル基、置換オキシカルボニル基、 ter
t−ブチル基、C7−+tアラルキル1基、ジCe−+
oアリール−メチル基、トリc 11−1゜アリール−
メチル基、 l −(C1−Sアルコキシ)C1−6ア
ルキル基、l−(CI−mアルキルチオ)CI−eアル
キル基、置換シリル基などのほか、たとえば2−チトラ
ヒドロピラニル、4−メトキシ−4−テトラヒドロピラ
ニルなどのアセタール残基などが用いられる。
化合物[1]が前記したアミノ基以外のアミノ基をさら
に有する場合、そのアミノ基もやはり保護されていても
よい。このようなアミノ基の保護基としては、前記のア
ミノ基の保護基がここでもそのままあげられる。
本発明の化合物[11のうち置換基R0が含窒素複素環
基(Ra )またはアシル基(Rb)のものはスペクト
ルの広い抗菌活性を存し、人および動物における病原性
細菌により生ずる種々の疾病、たとえば気道感染、尿路
感染の予防ならびに治療のために使用されうる。抗菌性
化合物[I](R’=R”またはRh)の抗菌スペクト
ルの特徴としてつぎのような点があげられる。
(1)多種のダラム陰性菌に対して非常に高い活性を示
す。
(2)ダラム陽性菌(たとえばスタフィロコッカス・ア
ウレウス、コリネバクテリウム・ジフテリアエなど)に
対して高い活性を有している。
(3)通常のセファロスポリン系抗生物質による治療に
感受性でないシュウトモナス・エアルギノサに対して顕
著な効果を示す。
(4)多くのβ−ラクタマーゼ生生産ラダラム陰性菌た
とえばエシェリヒア属、エンテロバクタ−属。
セラデア属、プロテウス属など)に対しても高い活性を
有している。
特にシュウトモナス属微生物に対しては従来からアミカ
シン、ゲンタマイシンなどのアミノグリコシド系抗生物
質が用いられてきたが、抗菌性化合物[11はこれらの
アミノグリコシド類に匹敵する抗菌力を示すばかりでな
く、人および動物に対する毒性がアミノグリコシド類よ
りも格段に低いので、大きな利点を持っている。
また本発明の抗菌性化合物[1](R’=RaまたはR
b)は優れた安定性を有する、直中濃度が高い、効果の
持続時間が長い、組織移行性が顕著であるなどの特徴を
も有している。
本発明の化合物[1]またはその塩もしくはエステルの
製造法を以下に詳しく述べる。以下に述べる方法は反応
としてはいずれも公知であり、それらの公知方法または
それらに準する方法を応用することができる。
製造法(I):化合物[Iaコ(R0=♂ ;♂は含窒
素複素環基を示す)の合成法たとえば (1−1):以下に示す7−アミノ化合物[■コまたは
その塩もしくはエステル(塩、エステルについては後記
する)と一般式RaHal(R’  は含窒素複素環基
、Halはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素などの)\ロゲ
ン原子を、それぞれ示す]で表わされる化合物またはそ
の塩とを反応させることにより化合物[1al(R’=
Ra)を合成することができる。すな゛わち次の反応式
で示される。
以下余白 [■コ [式中、記号Raは含窒素複素環基を、記号Z、R−、
Rl 、 AおよびHalは前記と同意義を示すコ化合
物RaHalのハロゲン原子(Hal)としてはフッ素
が最も繁用される。化合物RaHalの塩としてはたと
えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、硝酸塩。
リン酸塩などの無機酸付加塩、ギ酸塩、酢酸塩、トリフ
ルオロ酢酸塩、メタンスルホン酸塩、p−)ルエンスル
ホン酸塩などの有機酸付加塩などがあげられる。反応は
一般的には水もしくは含水溶媒中。
室温(約15〜30℃)で化合物RaHalまtコはそ
の塩と7−アミノ化合物[II]またはその塩もしく【
よエステルを混合することにより行なわれる。化合物R
&Halが化合物[Itlと反応する前に加水分解され
るのを防ぐため、反応液のpHの調節力(必要である。
至適pHは6〜8.5である。反応によって生成するハ
ロゲン化水素を反応系から除去する目的で脱酸剤を用い
てもよい。このような脱酸剤としてはたとえば、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸水素ナ
トリウムなどの無機塩基、たとえばトリエチルアミン、
トリ(n−プロピル)アミン、トリ(n−ブチル)アミ
ン、シイ゛ノプロピフレエチルアミン、シクロへキシル
ジメチルアミン、ピリジン、ルチジン、γ−コリジン、
N 、N−ジメチルアニリン、N−メチルピペリジン、
N−メチルピロリジン、N−メチルモルホリンなどの第
3tikアミン、たとえばプロピレンオキシド、エピク
ロルヒドリンなどのアルキレンオキシド類などがあげら
れる。また、アルカリ性になりすぎるのを防く゛ために
、塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸などの無機酸
を使用する場合らある。含水溶媒を使用する場合、水と
混合して用いられる有機溶媒として(またとえばジオキ
サン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、 te
rt−ブチルメチルエーテル、シイ゛ノプロピルエーテ
ルなどのエーテル類、ホルムアミド、N、N−ジメチル
ホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミドなどのア
ミド類、たとえi?アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトンなどのケトン類などのほかジメチ
ルスルホキシド。
スルホラン、ヘキサメチルホスホルアミドなど力(あげ
られる。化合物RaHalの使用量は7−アミノ化合物
[■11モルに対して通常1〜3モル、好ましくは1〜
2モルである。反応時間は7−アミノ化合物[I[]と
化合物RaHalの種類、溶媒の種類。
反応温度などに依存し、通常1分〜48時間、好ましく
は15分〜3時間である。
7−アミノ化合物[■]はたとえば、一般式[式中、記
号R11は水酸基、アシルオキシ基、カルバモイルオキ
シ基、置換カルバモイルオキシ基またはハロゲン原子を
、その他の記号は前記と同意義を示すコで表わされる化
合物またはその塩もしくはエステルと一般式A’ [A
’は置換されていてもよい4.5−位で縮合環を形成す
るチアゾールを示す]で表わされるチアゾール化合物ま
たはその塩とを反応させることにより合成することがで
きる。すなわち次の反応式で示される。
[IX]                     
  [nコ[式中、記号Z、R’、R”、R’およびA
は前記と同意義を示すコ この反応は製造法(2−2)で述べる求核置換反応と本
質的に同一の反応である。
化合物RaHalおよびその塩は公知の方法もしくはそ
れに準する方法により容易に合成することができる。
本方法によりたとえば次式の化合物が合成できる。
化合物RaHalが活性すぎて加水分解されやすい場合
は、たとえば無水のジメチルスルホキシド中、たとえば
無水のトリエチルアミンなどの有機塩基の存在下に反応
を行なってもよい。この方法によりたとえば次式の化合
物が合成できる。
また、たとえばp−トルエンスルホン酸、メタンスルホ
ン酸、エタンスルホン酸、酢酸、酪酸などの有機酸もし
くは塩酸、硫酸、炭酸などの無機酸の存在下に上記の反
応を行なう場合もある。この場合も化合物RaHalの
ハロゲン原子(Hal)としてはフッ素が最も繁用され
る。反応は通常ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、クロロホルム、メタノール、アセト
ニトリル、ベンゼン、アセトン、水などの溶媒中もしく
はそれらの混合溶媒中で行なわれる。反応温度は0〜1
50℃、好ましくは20〜80℃である。反応時間は通
常30分〜20時間である。この方法によりたとえば次
式の化合物が合成できる。
(l−2):化合物[I[]の原料として前記した化合
物[IX]またはその塩もしくはエステルを化合物Ra
Halまたはその塩と反応させたのち、チアゾール化合
物 A’ [A’は前記と同意義を示すコまたはその塩
を反応させることにより化合物[+a](R’=4ta
)を合成することもできる。すなわち次の□ 反応式で
示される。
[IXコ (塩・エステルも含む) [Ia] [式中、記号RELは含窒素複素環基を、記号Z、R’
R+ 3. R5,AおよびHalは前記と同意義を示
すコ原料化合物[IX]とその塩・エステル、化合物R
aHalとその塩については前記したものがここでもあ
げられる。チアゾール化合物A′とその塩については後
に詳記する。反応は製造法(1−1)で述べた方法をそ
のまま応用することができる。
製造法(2):化合物[Ibコ(R0=Rb;Rbはア
シル基を示す)の合成法 たとえば(2−1)+7−アミノ化合物[I[]または
その塩もしくはエステルと一般式RbOH[式中、Rb
はアシル基を示すコで表わされるカルボン酸またはその
塩もしくは反応性誘導体とを反応させることにより化合
物[1b](R’−R1))を合成することができる。
すなわち次の反応式で示される。
[■][Ib] [式中、記号11bはアシル基を、記号Z、R’、R1
3゜おj;びAは前記と同意義を示すコ 本法は7−アミノ化合物[■コをカルボン酸RbOHま
たはその塩もしくは反応性誘導体でアシル化する方法で
ある。この方法においてカルボン酸RbOHは遊離のま
まあるいはその塩もしくは反応性誘導体が7−アミノ化
合物[■]の7位アミノ基のアンル化剤として用いられ
る。すなわち遊離酸RbOHあるいは遊離酸FLbOH
の無機塩、有機塩、酸ハライド、酸アジド、酸無水物、
混合酸無水物、活性アミド、活性エステル、活性チオエ
ステルなどの反応性誘導体がアシル化反応に供される。
無機塩としてはアルカリ金属塩(たとえばナトリウノN
塩、カリウム塩など)、アルカリ土類金属塩(たとえば
カルシウム塩など)などが、有機塩としてはたとえばト
リメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、tert−ブ
チルジメチルアミン塩、ジベンジルメチルアミン塩、ベ
ンジルジメチルアミン塩、N、N−ジメチルアニリン塩
、ピリジン塩、キノリン塩などが、酸ハライドとしては
たとえば酸クロライド。
酸ブロマイドなどが、混合酸無水物としてはモノcf、
−+sアルキル炭酸混合酸無水物(たとえば遊離酸Rb
OHとモノメチル炭酸、モノエチル炭酸、モノイソプロ
ピル炭酸、モノイソブチル炭酸、モノtert−ブチル
炭酸、モノベンジル炭酸、モノ(p−ニトロベンジル)
炭酸、モノアリル炭酸などとの混合酸無水物)、C1−
、脂肪族カルボン酸混合酸無水物(たとえば遊離酸Rb
OHと酢酸、トリクロロ酢酸、ンアノ酢酸、プロピオン
酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、イソ吉草酸、ピバル酸、
トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、アセト酢酸などと
の混合酸無水物)、 Ct−+、芳香族カルボン酸混合
酸無水物(たとえば遊離酸RbOHと安息香酸、p−ト
ルイル酸、p−クロロ安息香酸などとの混合酸無水物)
、有機スルホン酸混合酸無水物(たとえば遊離酸RbO
Hとメタンスルホン酸、エタンスルホン酸、ベンゼンス
ルホン酸、p−トルエンスルホン酸などとの混合酸無水
物)などが、活性アミドとしては含窒素複素環化合物と
のアミド(たとえば遊離酸Rb OHとピラゾール。
イミダゾール、ベンゾトリアゾールなどとの酸アミドで
、これらの含窒素複素環化合物もよ前3己ノ01−。ア
ルキル基、c+、−eアルコキシ基カロゲン原子。
オキソ基、チオキソ基、C1−5アルキルチオ基などで
置換されていてもよい)などがあげられる。活性エステ
ルとしてはβ−ラクタムおよびペプチド合成の分野でこ
の目的に用いられるものはすべて利用でき、たとえば有
機リン酸エステル(たとえ(fノエトキンリン酸エステ
ル、ジフェノキシ1ノン酸エステルなど)のはかp−ニ
トロフェニルエステル2、4−ジニトロフェニルエステ
ル、シアノメチルエステル、ペンタクロロフェニルエス
テル、N−ヒドロキンフタルイミドエステル.N−ヒド
ロキンフタルイミドエステル、l−ヒドロキシベンゾト
リアゾールエステル、6−クロロ−l−ヒドロキシベン
ゾトリアゾールエステル、l−ヒドロキシ−I H −
 2−ピリドンエステルなど力(あ1デられる。活性チ
オエステルとしては芳香族複素環チオール化合物とのエ
ステル(たとえば2−ピリジルチオールエステル、2−
ベンゾチアゾリルチオールエステルなどで,これらの複
素環は前記の01−6アルキル基,C.−、アルコキシ
基.ハロゲン原子,C1−8アルキルチオ基などで置換
されていてもよい)があげられる。一方.7−アミノ化
合物[111は遊離のまま,その塩あるいはエステルと
して用いられる。7−アミノ化合物[11]の塩として
は無機塩基塩,アンモニウム塩.有機塩基塩,無機酸付
加塩。
有機酸付加塩などがあげられる。無機塩基塩としてはア
ルカリ金属塩(たとえばナトリウム塩,カリウム塩など
)、アルカリ土類金属塩(たとえばカルシウム塩など)
などが、有機塩基塩としてはたとえばトリメチルアミン
塩,トリエチルアミン塩.tert−ブチルジメチルア
ミン塩.ジベンジルメチルアミン塩,ベンジルツメチル
アミン塩,N,N−ジメチルアニリン塩.ピリジン塩,
キノリン塩などが、無機酸付加塩としてはたとえば塩酸
塩,臭化水素酸塩,硫酸塩,硝酸塩.リン酸塩などが、
有機酸付加塩としてはギ酸塩.酢酸塩,トリフルオロ酢
酸塩。
メタンスルホン酸塩,p−)ルエンスルホン酸塩などが
あげられる。7−アミノ化合物[11]のエステルとし
ては化合物[11のエステル誘導体とじてすでに述べた
エステルがここでもそのままあげられる。すなわちC1
−8アルキル1エステル、Cffi”−@アルケニルエ
ステル+C*−+。シクロアルキルエステル、C2−@
シクロアルキルC,−。アルキル、エステル、Co−l
oアリール1エステル、C7−+tアラJレキノーエス
テル、ジCaーIoアリールメチルエステル。
トリC8−10アリールメチルエステル、 c 、−e
アルカノイルオキンC,−6アルキルエステルなどがあ
げられる。原料物質RbO)lおよびその塩・反応性誘
導体は公知の方法またはそれに準する方法によって容易
に製造できる。化合物RbOHの反応性誘導体は反応混
合物からtl,離された物質として7−アミノ化合物[
1]と反応させてもよいし,または単離前の化合物Rb
OHの反応性誘導体を含有する反応混合物をそのまま7
−アミノ化合物[II]と反応させる二ともできる。カ
ルボン酸RbOHを遊離酸または塩の状態で使用する場
合は適当な縮合剤を用いる。縮合剤としてはたとえばN
,N’ージシクロヘキシルカルボジイミドなどのN,N
′−ジ置換カルボジイミド類,たとえばN.N’ −カ
ルボニルジイミダゾール、N,N’−チオカルボニルジ
イミダゾールなどのアゾライド類.たとえばN−エトキ
シカルボ品ルー2ーエトキシ−1。
2−ジヒドロキノリン、オキシ塩化リン、アルコキシア
セチレンなどの脱水剤.たとえば2−クロロピリジニラ
11メチルアイオダイド、2−フルオロピリジニウムメ
チルアイオダイドなどの2−/%ロゲノピリジニウ11
塩類などが用いられる。これらの縮合剤を用いた場合、
反応はカルボン酸ROHの反応性誘導体を経て進行する
と考えられる。
反応は一般に溶媒中で行なわれ、反応を阻害しない溶媒
が適宜に選択される。このような溶媒としてはたとえば
ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、
tert−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエー
テル、エチレングリコール−ジメチルエーテルなどのエ
ーテル類.たとえばギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸n−
ブチルなどのエステル類.たとえばジクロロメタン、ク
ロロホルム、四塩化炭素,トリクレン、l,2−ジクロ
ロエタンなどのハロゲン化炭化水素類,たとえばn−ヘ
キサノ。
ベンゼン、トルエンなどの炭化水素類、たとえばホルム
アミド、N、N−ジメチルアセトアミド、N、N−ジメ
チルアセトアミドなどのアミド類、たとえばアセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケ
トン類、たとえばアセトニトリル、プロピオニトリルな
どのニトリル類などのほか、ツメチルスルホキシド、ス
ルホラン、ヘキサメチルホスホルアミド、水なとが単独
または混合溶媒として用いられる。アシル化剤(RbO
H)の使用量は7−アミノ化合物[11]1モルに対し
て通常1〜5モル、好ましくは1〜2モルである。反応
は−8θ〜80°C1好ましくは一40〜50°C1最
も好ましくは一30〜30℃の温度範囲で行われる。反
応時間は7−アミノ化合物[II]およびカルボン酸R
b0I]の種類、溶媒の種類(混合溶媒の場合はその混
合比も)9反応温度などに依存し、通常1分〜72時間
好ましくは15分〜3時間である。アシル化剤として酸
ハライドを用いた場合は放出されるハロゲン化水素を反
応系から除去する目的で脱酸剤の存在下に反応を行うこ
とができる。このような脱酸剤としてはたとえば炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム。
炭酸カルシウl\、炭酸水素ナトリウ11などの無機塩
基、たとえばトリエチルアミン、トリ(n−プロピル)
アミン、トリ(n−ブチル)アミン、ジイソプロピルエ
チルアミン、シクロへキシルジメチルアミン。
ピリジン、ルチジン、γ−コリジン、N、N−ジメチル
アニリン、N−メチルピベジリン、N−メチルピロリジ
ン、N−メチルモルホリンなどの第3級アミン、たとえ
ばプロピlノンオキシド、エピクロルヒドリンなどのア
ルキレンオキシドなとがあげられる。
ここにあげた方法によりたとえば前記した化合物[■]
を合成する二とができる。反応式は次に示すとおりであ
る。
(以下余白ン □〉 [[[]                  [n]
[■] カルボン酸[II[]は公知の方法もしくはそれに準す
る方法により容易に製造することができる。
(2−2)ニ一般式 [式中、Rbはアシル基、その他の記号は前記と同意義
を示す]で表わされる化合物またはその塩もしくはエス
テルと一般式A’ [A’は前記と同意義を示す]で表
わされるチアゾール化合物またはその塩とを反応させる
ことにより化合物[Ib1(R’=Rb)を合成するこ
とができる。すなわち次の反応式で示される。
[X]                      
 [Ibコ[式中、記号Rbはアシル基を、記号Z、R
’、R13゜R5およびAは前記と同意義を示すコ この反応は化合物[X]またはその塩もしくはエステル
に対してチアゾール化合物A′またはその塩を反応させ
、求核置換反応により化合物 [Ibコ(R’=Rb)
を合成する方法である。化合物[X]においてRbはこ
こでも水酸基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基
、置換カルバモイルオキシ基またはハロゲン原子を示す
。化合物[X]は遊離のまま、その塩あるいはエステル
として用いられる。
化合物[X]の塩、エステルとしては製造法(2−1)
においで7−アミノ化合物[11]の塩、エステルとし
てあげたものがここでもそのままあてはめられる。化合
物[X]、その塩およびエステルは公知の方法またはそ
れに錦する方法によって容易に製造できろ。一方チアゾ
ール化合物A′は置換されていてもよい4.5−位で縮
合環を形成するチアゾールを示す。ここで縮合環はチア
ゾール環と脂環。
ベンゼン環または5〜6員芳香族複素環が縮合した形の
ものを意味し、この縮合環はさらに別の指環、ベンゼン
環または5〜6員芳香族複素環と縮合していてもよい。
置換されていてもよい4.5−位で縮合環を形成するチ
アゾール(A′)の4゜5−位で縮合環を形成するチア
ゾールは下記の一般式 %式%[] のいずれかで書き表わせるチアゾール化合物であって、
化合物[X]と A ” 、 A ”またはA3′とを
反応させた場合に合成できる目的化合物[1b]のA■
基がそれぞれ前記のA゛基A1基またはA′基に対応す
る。したがってA”のm、A”のBは前記したものと同
意義を表わし、A ” 、 A ”およびA”はA1.
 AtおよびA3と同様にさらに縮合していてもよいし
、またA’、A′およびA3上の置換基と同様の置換基
を何していてもよい。A”を具体的に示せばたとえば などである。A”を具体的に示せぼたとたとえば(以下
余白) などである。
チアゾール化合物A′は塩としても用いられる。
化合物A′の塩としてはたとえば塩酸塩、臭化水素酸塩
、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩などの無機酸付加塩、たと
えばギ酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、メタンスル
ホン酸塩、p−トルエンスルホン酸塩などの有機酸付加
塩などがあげられる。チアゾール化合物A′およびその
塩の一般的合成法は既知であり、文献記載の公知方法ま
たはそれに準する方法によって容易に製造できる。チア
ゾール化合物A′による化合物[X]への本求核置換反
応はそれ自体よく知られた反応であって、通常溶媒中で
行なわれる。 この反応に用いられる溶媒としては製造
法(2−1)で使用されるエーテル類、エステル類、ハ
ロゲン化炭化水素類、炭化水素類、アミド類、ケトン類
、ニトリル類、水などの溶媒がそのままあてはめられる
が、これらのほかにたとえばメタノール、エタノール、
n−プロパツール、イソプロパツール、エチレングリコ
ール、2−メトキシエタノールなどのアルコール類も用
いられる。
またチアゾール化合物A′が液体力場台、この化合物A
′を化合物[X]に対して大過剰(たとえば1θ〜20
0倍モル)使用して溶媒をも兼ねさせる場合がある。こ
の場合、上記の溶媒を使用しなくてもよいし、または上
記の溶媒とA′とを混合溶媒としてもよい。
(2−2−1):R’がアシルオキシ基、カルバモイル
オキシ基、置換カルバモイルオキシ基の場合より好まし
い溶媒は水もしくは水と混合しうる有機溶媒と水との混
合溶媒で、水と混合しうる有機溶媒のうち、より好まし
いものはアセトン、メチルエチルケトン、アセトニトリ
ルなどである。
求核試薬A′の使用量は化合物[X11モルに対して通
常1〜5モル、好ましくは1〜3モルである。
反応は10〜100℃、好ましくは30〜80℃の温度
範囲で行なわれる。反応時間は化合物[X]および化合
物A′の種類、溶媒の種類(混合溶媒の場合はその混合
比)1反応温度などに依存し、通常30分〜5日間、好
ましくは1〜5時間である。反応はI)82〜8.好ま
しくは中性付近すなわち1)H5〜8で行なうのが有利
である。また本反応は通常2〜30当量のヨウ化物また
はチオシアン酸塩の存在下でより容易に進行する。この
ような塩としてはヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、
チオシアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウムなどが
あげられる。
上記の塩のほか、たとえばトリメチルベンジルアンモニ
ウムブロマ1ド、トリエチルベンジルアンモニウJ2ブ
ロマイド、トリエチルベンジルアンモニウムヒドロキサ
イドのような界面活性作用を有する第4級アンモニウム
塩を添加することによって反応を円滑に進行させうる場
合もある。
(2−2−2):R’が水酸基の場合 たとえば日本国公開特許公報昭58−43979などに
記載された方法にしたがって有機リン化合物の存在下に
行う。ここで用いられる有機リン化合物としてはたとえ
ば0−フェニレンホスホロクロリゾエイト、0−フェニ
レンホスホロフロリゾエイト、メチル 0−フェニレン
ホスフェイト、エチル 0−7エニレンホスフエイト、
 プロピル 〇−フェニレンホスフェイト、イソプロピ
ル 0−フェニレンホスフェイト、 ブチル 0−フェ
ニレンホスフェイト、イソブチル 0−フェニレンホス
フェイト、5fllC−ブチル 0−フェニレンホスフ
ェイト、シクロヘキシル 0−フェニレンホスフェイト
、フェニル 0−フェニレンホスフェイト、p−クロロ
フェニル 0−フェニレンホスフェイト、p−アセチル
 0−フェニレンホスフェイト、2−クロロエチル O
−フェニレンホスフェイト、2゜2.2−トリクロロエ
チル O−フェニレンホスフェイト、エトキシカルボニ
ルメチル 0−フェニレンホスフェイト、カルバモイル
メチル O−フェニレンホスフェイト、2−シアノエチ
ル 0−フェニレンホスフェイト、2−メチルスルホニ
ルエチル 0−フェニレンホスフェイト、ベンジル 〇
−フェニレンホスフェイト、1.1−ジメチル−2−プ
ロペニル 0−フェニレンホスフェイト、2−プロペニ
ル O−フェニレンホスフェイト、3−メチル−2−ブ
テニル O−フェニレンホスフェイト、2−チェニルメ
チル 0−フェニレンホスフェイト、2−フルフリルメ
チル 0−フェニレンホスフェイト、ビスー〇−フェニ
レンピロホスフェイト、2−フェニル−1,3,2−べ
′ンゾジオキサホスホ−ルー2−オキシド、2−(p−
クロロフェニル)−1,3,2−ベンゾジオキサホスホ
−ルー2−オキシド、2−ブチル−1,3,2−ベンゾ
ジオキサホスホ−ルー2−オキシド、2−アニリノ−1
,3,2−ベンゾジオキサホスホ−ルー2−オキシド、
2−フェニルチオ−1,3,2−ベンゾジオキサホスホ
−ルー2−オキシド、2−メトキシ−5−メチル−1,
3,2−ベンゾジオキサホスホ−ルー2−オキシド、2
−°クロロー5−エトキシカルボニル−1,3,2−ベ
ンゾジオキサホスホ−ルー2−オキシド、2−メトキシ
−5−エトキシカルボニル−1,3,2−ベンゾジオキ
サホスホ−ルー2−オキシド、5−エトキシカルボニル
−2−フェニル−1,3,2−ベンゾジオキサホスホ−
ルー2−オキシド、2.5−ジクロロ−1,3゜2−ベ
ンゾジオキサホスホ−ルー2−オキシド、4−クロロ−
2−メトキシ−1,3,2−ベンゾジオキサホスホ−ル
ー2−オキシド、2−メトキシ−4−メチル−1,3,
2−ベンゾジオキサホスホ−ルー2−オキシド、2.3
−ナフタレンメチルホスフェイト、5.6−シメチルー
2−メトキシ−1,3,2−ベンゾジオキサホスホ−ル
ー2−オキシド、2.2−ジヒドロ−4,5,6,7−
チトラクロロー2.2.2−)ジメトキシ−1,3,2
−ベンゾジオキサホスホール、2.2−ジヒド0−4゜
5.6.7−テトラクロロ−2,2,2−トリフエノキ
シ−1,3,2−ベンゾジオキサホスホール、2゜2〜
ジヒVロー2.2−エチレンジオキシ−2−メトキシ−
1,3,2−ベンゾジオキサホスポール、2.2−ジヒ
ドロ−2−ベンジル−2,2−ジメトキシ−1,3,2
−ベンゾジオキサホスホール、2゜2−ジヒドロ−4,
5−ベンゾ−2,2,2−トリメトキシ−1,3,2−
ベンゾジオキサホスホール、2.2−ジヒドロ−2,2
,2−トリフエノキシ−1,3,2−ベンゾジオキサホ
スホール、2.2−ジヒドロ−2,2−(o−フェニレ
ンジオキシ)−2−フェノキシ−1,3,2−ベンゾジ
オキサポスホール、2−クロロ−2,2−ジヒドロ−2
,2−(。
−フェニレンジオキシ)−1,3,2−ベンゾジオキサ
ホス中−ル、2.2−ジヒドロ−2−メトキシ−2,2
−(o−フェニレンジオキシ)−1,3,2−ベンゾジ
オキサポスホール、2.2−ジヒドロ−2,2,2−ト
リクロロ−1,3,2−ベンゾジオキサホスホール、9
,10.−フェナンスレンジオキシトリメトキシホスホ
ラス、0−フェニレンホスホロクロリダイト、0−フェ
ニレンホスホロブロミダイト、0−フエニレンホスホロ
フロリダイト、メチル 0−フェニレンホスファイト、
ブチル 0−フェニレンホスファイト、メトキシカルボ
ニルメチル 0−フェニレンホスファイト、フェニル0
−フェニレンホスファイト、p−クロロ(またはp−ニ
トロ)フェニル 0−フェニレンホスファイト、2−フ
ェニル−1,3,2−ベンゾジオキサホスホール、ビス
−ローフェニレンピロホスファイト、2−メトキシ−5
−メチル−1,3,2−ベンゾジオキサホスホール、5
−アセチル−2−フェノキシ−1,3,2−ベンゾジオ
キサホスホール、9.10.−7エナンスレンホス十ロ
クロリダイト、2−クロロ−4−メチル−1,3,2−
ベンゾジオキサホスホール、5−エトキシカルボニル−
2−フェニル−1,3,2−ベンゾジオキサホスホール
、2−クロロ−2−チオキソ−1,3,2−ベンゾジオ
キサホスホール、2−フェノキシ−2−才キソー1.3
.2−ベンゾジアザホスホール、2−フェノキシ−1,
3,2−ベンゾジオキサアザホスホール、2.2−ジヒ
ドロ−2−才キソー2−メトキシ−4,5−ジメチル−
1,3,2−ジオキサホスホール、2.2−ジヒドロ−
2−オキソ−2−クロロ−4,5−ジメチル−1,3,
2−ジオキサホスホール、2.2−ジヒドロ−2−オキ
ソ−2−(1−イミダゾリル)−4,5−ジメチル−1
,3,2−ジオキサホスホール、2.2−ジヒドロ−2
,2−エチレンジオキシ−2−メトキシ−4,5−ジメ
チル−1,3,2−ジオキサホスホール、2.2=ジヒ
ドロ−2,2−ジメトキシ−2−フェノキシ−4,5−
ジメチル−1,3,2−ジオキサホスホール、2.2−
ジヒドロ−2,2,2−)リフトキシ−4,5−ジメチ
ル−1,3,2−ジオキサホスホール、2.2−ジヒド
ロ−2,2,2−1−リフエノキシ−4,5−ジメチル
−1,3,2−ジオキサホスホール、2.2−ジヒドロ
−2,2,2−トリエトキシ−4,5−ジフェニル−1
,3,2−ジオキサホスポール、2.2−ジヒド17−
2.2.2−トリメトキン−4,5−ノフェニルー1.
3.2−ジオキサホスホール、2.2−ジヒドロ−2−
オキソ−2−メトキン−4,5−ジフェニル−1,3゜
2−ジオキサホスホール、2.2−ジヒドロ−2゜2.
2−トリメトキシ−1,3,2−ジオキサホスホール、
2.2−ジヒドロ−2,2,2−トリメトキシ−4−フ
ェニル−1,3,2−ジオキサホスホール、2.2−ジ
ヒドロ−2,2,2−トリメトキン−4−メチル−1,
3,2−ジオキサホスホール、2.2−ジヒドロ−2,
2,2−トリメトキシ−4−メチル−5−フェニルカル
バモイル−1,3,2=ジオキサホスホール、2,2,
4,5,6.7−ヘキサヒドロ−2,2,2−トリメト
キシ−1,3,2−ペンゾジオキサホスホール、2.2
′〜オキシビス(4,5−ジメチル−2,2−ジヒドロ
−■、3゜2−ジオキサポスホール)、2.2’−オキ
シビス(4,5−ジメチル−2,2−ジヒドロ−1,3
,2〜ジオキサホスホ−ルー2−オキシド)などがあげ
られる。反応に用いる溶媒は反応を阻害しないものであ
ればよく、好ましくは前記したエーテル類、エステル類
、ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類、アミド類、ケト
ン類、ニトリル類などが単独または混合溶媒として用い
られる。とりわけ、たとえばジクロロメタン、アセトニ
トリル、ホルムアミド、ホルムアミドとアセトニトリル
の混合溶媒、ジクロロメタンとアセトニトリルの混合溶
媒などを使用すると好効果が得られる。求核試薬A′お
よび有機リン化合物の使用量は化合物[X11モルに対
してそれぞれ1〜5モル、1〜10モル、より好ましく
はそれぞれ1〜3モル、1〜6モルである。
反応は一80〜50℃、好ましくは一40〜40℃の温
度範囲で行なわれる。反応時間は通常1分〜15時間。
好ましくは5分〜2時間である。反応系に有機塩基を添
加してもよい。このような有機塩基としてはたとえばト
リエチルアミン、トリ(n−ブチル)アミン、ジ(n−
ブチル)アミン、ジイソブチルアミン。
ジシクロヘキシルアミン、2.6−ルチジンなどのアミ
ン類かあげられる。塩基の添加量は化合物[X11モル
に対して1〜5モルがよい。
(2−1−3)・R5がハロゲン原子の場合好ましい溶
媒は前記のエーテル類、エステル類。
ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類、アミド類、ケトン
類、ニトリル類、アルコール類、水などである。
求核試薬A′の使用量は化合物[X11モルに対して通
常1〜5モル、好ましくは1〜3モルである。
反応は0〜80℃、好ましくは20〜60 ’Cの温度
範囲で行なわれる。反応時間は通常30分〜15時間、
好ましくは1〜5時間である。反応を促進するため脱ハ
ロゲン剤の存在下に反応を行うこともできる。
このような脱ハロゲン剤としては製造法(2−1)の項
で述べた無機塩基、第3級アミン、アルキレンオキシド
類などの脱酸剤がここでもあげられるが、求核試薬A′
自身を脱ハロゲン剤として働かせてもよい。この場合に
は化合物A′を化合物[X11モルに対して2モル以上
使用する。R5で示されるハロゲン原子は塩素、臭素、
ヨウ素などであるが、好ましくはヨウ素である。R5が
ヨウ素である化合物[X]はたとえば日本国公開特許公
報昭58−57390に記載の方法またはそれに準する
方法などを用いて容易に製造できる。
ここにあげた方法によりたとえば前記した化合物[■]
もしくは[■]を合成することができる。反応式は次に
示すとおりである。
(以下余白) [■] [■コ 化合物[11[]および[IV]は公知の方法もしくは
それに準する方法により容易に製造することができる。
また化合物[■コ、[■]を含む下記の化合物[X[]
は上記の製造法(2−1)または(2−2)の方法のほ
か、下記の製造法(2−3)の方法によっても製造する
ことができる。化合物[■]は(2−1)、(2−2)
または(2−3)の方法のほか、下記の(2−4)の方
法によっても製造することができる。
(2−3):反応式は次のとおりである。
[X[] [式中、記号R″″′は置換されていてもよい複素環基
を、記号Z、R’、R13,AおよびR3は前記と同意
義を示す] 不法はヒドロキシイミノ化合物[V]に対して一般式R
”’OHで示される化合物またはその反応性誘導体を反
応させて化合物[XI]を合成する方法であり、よく知
られたエーテル化反応である。ここでR11′が 生成物[X[]はそれぞれ化合物[■コまたは[■]で
ある。R3″は置換されていてもよい炭化水素残基を示
し、このような炭化水素残基としてはR3における置換
されていてもよい炭化水素残基としてすでにあげたもの
がここでもそのままあてはめられる。R″”’OHはそ
のままあるいはその反応性誘導体として用いられる。R
”’OHの反応性誘導体はヒドロキシイミノ化合物[V
]の水素原子とともに離脱する基を有するR”’OHの
誘導体、すなわち一般式R”’Yで表わされる化合物を
意味する。ここで水素原子とともに離脱する基Yはノ1
0ゲン原子、スルホ基、モノ置換スルホニルオキシ基な
どを示す。ハロゲン原子としては塩素、臭素。
ヨウ素などがあげられる。モノ置換スルホニルオキシ基
としてはたとえばメタンスルホニルオキシ。
エタンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ、
p−トルエンスルホニルオキシなどのCt+Sアルキル
スルホニルオキシ基、 Ce++。アリールスルホニル
オキシ基などがあげられる。また特に化合物[V]のC
3−4アルキル工−テル体を製造する場合には上記の反
応性誘導体のほか、たとえばりアゾメタン、ジアゾエタ
ンなどのC,=、ジアゾアルカン、たとえばジメチル硫
酸、ジエチル硫酸などのジC1−4アルキル硫酸なども
用いられる。
化合物[V]は製造法(2−1)で述べたアシル化反応
または製造法(2−2)で述べた求核置換反応にしたが
って合成することができる。すなわち、それぞれ次の反
応式で示される。
また原料化合物[X[]および[X′]も公知の方法ま
たはそれに準する方法により容易に合成することができ
る。化合物R”’OHおよびその反応性誘導体も公知の
方法またはそれに準する方法により容易に合成すること
ができる。
(2−3−1):R”’OHを使用する場合適当な脱水
剤を用いてヒドロキシイミノ化合物[V]と反応させ化
合物[XI]を合成する。このような目的に使用される
脱水剤としてはたとえばオキシ塩化リン、塩化チオニル
、アゾジカルボン酸ジアルキル(通常、ホスフィンとの
共存で使用される)。
N、N’−ジシクロ口へキシルカルボジイミドなどがあ
げられ、好ましくはトリフェニルホスフィン共存下のア
ゾジカルボン酸ジエチルである。トリフェニルホスフィ
ン共存下でアゾジカルボン酸ジエチルを用いる反応は通
常、無水の溶媒中で行なわれ、前記のエーテル類、炭化
水素類などが使用される。ヒドロキシイミノ化合物[V
]1モルに対して化合物R”’OH,アゾジカルボン酸
エチル。
トリフェニルホスフィンはいずれも1〜1.5モル用い
られる。0〜50℃の温度範囲で1〜4日間を要する。
(2−3−2):R”’Yを使用する場合R”’Yとヒ
ドロキシイミノ化合物[V]との反応は通常のエーテル
化反応であって、溶媒中で行なわれる。溶媒としては製
造法(2−1)の項であげたエーテル類、エステル類、
ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類、アミド類、ケトン
類、ニトリル類。
アルコール類、水などの溶媒もしくは混合溶媒がここで
もあげられ、好ましくは水と混合しうる溶媒と水との混
合溶媒(たとえば含水メタノール、含水エタノール、含
水アセトン、含水ジメチルスルホキシドなど)である。
本反応は適当な塩基の存在下に円滑に進行させることも
できる。このような塩基としてはたとえば炭酸ナトリウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ
金属塩。
たとえば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアル
カリ金属水酸化物などの無機塩基があげられる。また本
反応をI)H7,5〜8.5の緩衝溶液中で行なっても
よい。原料化合物[■]1モルに対して使用する試薬R
”’Yおよび塩基のモル数はそれぞれl〜5.1〜10
.好ましくはそれぞれ1〜3゜1〜5である。反応温度
は−30〜100°C9好ましくは0〜80℃の範囲で
ある。反応時間は109〜15時間、好ましくは30分
〜5時間である。
(2−3−3):(、−、ジアゾアルカンを使用する場
合 反応は通常溶液中で行なわれる。溶液としては前記のエ
ーテル類、炭化水素類などが用いられる。
ヒドロキシイミノ化合物[V]を溶液に溶解したのち、
ジアゾアルカン化合物の溶液を加えると反応は進行する
。試薬は化合物[V]1モルに対して1〜10モル、好
ましくは1〜5モル使用する。反応は比較的低温で行な
われ一50〜20℃、好ましくは=30〜0℃である。
反応時間は1分〜5時間、好ましくは10分〜1時間で
ある。
(2−3−4)ニジCI−4アルキル硫酸を使用する場
合 反応は通常、水もしくは水と混合しうる溶媒と水との混
合溶媒中で行なわれる。混合溶媒としては製造法(2−
3−2)であげた含水溶媒がここでもあげられる。この
反応は通常、たとえば水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ムなどのアルカリ金属水酸化物などの無機塩基の存在下
に行なわれる。
試薬は化合物[V]1モルに対して0.5〜lOモル、
好ましくは1〜2モル使用する。反応温度は20〜10
0℃、好ましくは50〜100℃の範囲である。反応時
間は10分〜5時間、好ましくは30分〜3時間である
(2−4):反応式は次のとおりである。
[VI] [■コ [式中、記号Z、R’、R′3.A、R’、R’および
R3は前記と同意義を示す] 不法は化合物[■コと一般式R’C(=S)NHtで表
わされるチオ尿素またはチオ尿素誘導体とを反応させて
目的化合物[■]を合成する方法である。化合物[VI
]は遊離のまま、塩あるいはエステルとして用いられる
。化合物[VI]におけるXはたとえば塩素、臭素、ヨ
ウ素などのハロゲン原子を示す。化合物[VI]の塩と
しては製造法(2−1)の項であげた7−アミノ化合物
[11]の塩(無機塩基塩、アンモニウム塩、有機塩基
塩、無機酸付加塩、有機酸付加塩など)がここでもあて
はめられる。化合物[VI]のエステルとしては同じく
製造法(2−1)の項であげた7−アミノ化合物[11
]のエステル(C,−、アルキル1エステル、C2−1
1アルケニルエステル、 C3−10シクロアルキルエ
ステル* 03−8シクロアルキルc+−eアルキルエ
ステル、Cs−1oアリール“エステル、C?−+tア
ラルキル1エステル、ジcm−toアリールーメチルエ
ステル、トリCa+l。アリール−メチルエステル、C
1−6アルカノイルオキシC1−6アルキルエステルな
とがここでもあてはめられる。原料化合物[VI]は一
般式 XCHCOC−COOH[式中の記号は前記と1″へ。
□・ 同意義を示す]で表わされる化合物またはその塩もしく
は反応性誘導体と前記の7−アミノ化合物[11]また
はその塩あるいはエステルとを、製造法(2−1)で述
べた方法にしたがって反応させることにより容易に製造
することができる。
一般式X CHCOC−COOHで表わさ1″〜。、・ れる化合物またはその反応性誘導体はそれ自体公知の方
法またはそれに準する方法によって容易に製造できる。
化合物[VI]とR’C(=S)NH,との反応は通常
溶媒中で行なわれる。溶媒としてはたとえばジオキサン
、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテ
ル類、たとえばメタノール。
エタノール、n−プロパツールなどのアルコール類、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミ
ド類、などが用いられる。チオ尿素またはその誘導体R
’C(=S)NHtの使用量は化合物[VI]に対して
通常1〜5モル、好ましくは1〜3モルである。反応は
0〜100℃、好ましくは20〜60℃の温度範囲で行
なわれる。反応時間は通常30分〜15時間、好ましく
は1〜5時間である。
また上記した製造法(2−1)〜(2−4)により製造
される化合物[Ibコの置換基Rb中にヒドロキシイミ
ノ基(または置換ヒドロキシイミノ基)が存在する場合
(たとえば化合物[■]、[■]など)、化合物[Ib
]がシン[Z]−、アンチ[E]−異性体の混合物とし
て得られる場合がある。混合物から所望のシン異性体を
分離するには自体公知の方法またはそれに準する方法が
適用される。それらの方法としてはたとえば溶解性、結
晶性などの差を利用した分別法、クロマトグラフィーに
よる分離、エステル誘導体の加水分解速度の差を利用し
た分離法などがあげられる。
製造法(3):化合物[IC1(R’=RC,Ro は
エステル化されたカルボキシル基を示す)の合成法たと
えば、7−アミノ化合物[11]またはその塩もしくは
エステルとオキシカルボニル化試薬とを反応させること
により合成することができる。オキシカルボニル化試薬
としてはたとえば、置換オキシカルボニルハライド(ハ
ロゲンとしては塩素、臭素、ヨウ素など)、置換オキシ
カルボニルアジド、置換オキシカルボニック アンヒド
リド、置換オキシカルボニルスルフィド、置換オキシカ
ルボニアシライド(アゾールとしてはイミダゾール、N
−メチルイミダゾール、トリアゾール、2−チオオキサ
ゾリジン、2−オキソオキサゾリジンなど)などが用い
られる。反応は一般に溶媒中で行なわれ、無水の溶媒が
より好ましい。このような溶媒としてはたとえば、ジオ
キサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、te
rt−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル
、エチレングリコール−ジメチルエーテルなどのエーテ
ル類、たとえばジクロロエタン、クロロホルム、四塩化
炭素、トリクレン、1.2−ジクロロエタンなどのハロ
ゲン化炭化水素類、たとえばアセトニトリルなどのニト
リル類、たとえばメタノール、エタノール、プロパツー
ル、ブタノールなどのアルコール類、たとえばn−ヘキ
サン、ベンゼン、トルエンなどの炭化水素類たとえばジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメ
チルホスホラストリアミドなどのアミド類、たとえばジ
メチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが繁用さ
れ、単独または混合溶媒として用いられる。オキシカル
ボニル化試薬の使用量は7−アミノ化合物[■]1モル
に対して通常1〜5モル、好ましくは1〜2モルである
反応は一80〜80℃、好ましくは一40〜50℃、最
も好ましくは一30〜30℃の温度範囲で行なわれる。
反応時間は7−アミノ化合物 [11およびオキシカル
ボニル化試薬の種類、溶媒の種類2反応温度などに依存
し、通常1分〜48時間、好ましくは10分〜2時間で
ある。オキシカルボニル化試薬として置換オキシカルボ
ニルハライドを用いた場合は放出されるハロゲン化水素
を反応系から除去する目的で脱酸剤の存在下に反応を行
うことができる。このような脱酸剤としてはたとえば炭
酸ナトリウム。
炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸水素ナトリウムな
どの無機塩基、たとえばトリエチルアミン、トリ(n−
プロピル)アミン、トリ(n−ブチル)アミン。
ジイソプロピルエチルアミン、シクロへキシルジメチル
アミン、ピリジン、ルチジン、γ−コリジン。
N、N−ジメチルアニリン、N−メチルビペリリン5N
−メチルピロリジン、N−メチルモルホリンなどの第3
級アミン、たとえばプロピレンオキシド。
エピクロルヒドリンなどのアルキレンオキシド類などが
あげられる。上記した製造法(1)〜(3)の反応のの
ち、要すれば保護基の除去および精製を行うことにより
本発明の目的化合物[1]を得ることができる。以下に
保護基の除去法および精製法について説明する。
保護基除去法:前記した通りβ−ラクタムおよびペプチ
ド合成の分野ではアミノ基の保護基は充分に研究されて
いてその保護法はすでに確立されている。また、アミノ
保護基の除去法も同様に確立されており、本発明におい
ても保護基の除去は従来の体術をその宋ま利用できる。
たとえば干ノハロゲノアセチル基(クロロアセチル、ブ
ロモアセチルなど)はチオ尿素により、アルコキシカル
ボニル基(メトキシカルボニル、エトキシカルボニル。
tert−ブトキシカルボニルなど)は酸(たとえば塩
酸など)により、アラルキルオキシカルボニル基(ベン
ジルオキシカルボニル、p−メチルベンジルオキシカル
ボニル、p−ニトロベンジルオキシカルボニルなど)は
接触還元により、2,2.2−トリクロロエトキシカル
ボニルは亜鉛と酸(たとえば酢酸など)により除去する
ことができる。一方、合成中間体として化合物[I]が
エステル化されている場合もそれ自体公知の方法または
それに準する方法によってエステル残基を除去すること
ができる。
たとえば2−メチルスルホニルエチルエステルはアルカ
リにより、アラルキルエステル(ベンジルエステル、p
−メトキシベンジルエステル、p−ニトロベンジルエス
テルなど)は酸(たとえばトリフルオロ酢酸なi)また
は接触還元により、2,2.2−トリクロロエチルエス
テルは亜鉛と酸(たとえば酢酸など)により、シリルエ
ステル(トリメチルシリルエステル、tert−ブチル
ジメチルシリルエステルなど)は水のみにより除去する
ことができる。
化合物[1]の精製法:製造法(1)〜(3)に詳記し
た各種製造法により、また要すれば上記の保護基除去法
をつづいて行うことにより反応混合物中に生成した化合
物[1]は抽出法、カラムクロマトグラフィー、沈澱法
、再結晶法などの公知の処理手段によって単離精製する
ことができる。一方、単離された化合物[1]を公知の
方法により所望の生理学的に受容される塩または代謝上
不安定な無毒のエステルへと変換することもできる。
セフェム化合物([I]、Z=S)のスルホキシド([
1コ、Z=S→0)は化合物([1コ、Z=S)の酸化
反応により得られる。このような酸化反応はよく知られ
た反応である。セフェム環中の硫黄原子の酸化に適した
酸化剤としてはたとえば酸素、過酸。
ヒドロパーオキシド、過酸化水素なとがあげられ、過酸
はその場で酸と過酸化物の混和によって製造することも
できる。過酸としては過酢酸、過安息香酸、p−クロル
過安息香酸などが繁用される。反応は通常、溶媒中で行
なわれる。この反応に用いられる溶媒としてはたとえば
ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類、た
とえばジクロロメタン、クロロホルム、クロロベンゼン
などのハロゲン化炭化水素類、たとえばギ酸、酢酸、ト
リフルオロ酢酸などの有機酸類、たとえばジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類などが
あげられる。反応温度は一20〜80℃の範囲で行なわ
れるが、なるべく低い温度、好ましくは一20〜20℃
で行なわれる。セフェム化合物([I ]、 Z = 
S ’)の酸化に際してはS−立体配位をもつスルホキ
シドが主に生成することが一般に知られている。R−お
よびS−スルホキシドはそれらの異なる溶解性およびク
ロマトグラフィー分離に際しての異なる移動速度によっ
て分離される。
スルホキシドを得るための上記の酸化反応は前記製造法
(1)〜(3)の反応の而に行なってもよいし、また(
1)〜(3)の反応の後に行なってもよい。
(作用、効果) 化合物[■]および[■]を含む本発明の化合物[ドは
公知のベニンリン剤、セファロスポリン剤と同様に注射
剤、カプセル剤1錠剤、顆粒剤とじて非経口または経口
的に投与できる。投与量は前記したような病原性細菌に
感染した人および動物の体重1kgあたり0.5〜go
mg/日、より好ましくは1〜20B/日を1日3〜4
回に分割して投与すればよい。注射剤として用いられる
場合の担体は、たとえば蒸留水、生理食塩水などが用い
られ、カプセル剤、粉剤、顆粒剤1錠剤として用いられ
る場合は、公知の薬学的に許容される賦形剤(たとえば
デンプン、乳糖、白糖、炭酸カルシウム、リン酸カルシ
ウムなど)、結合剤(たとえばデンプン、アラビアゴム
カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセル
ロース、結晶セルロースなど)、滑沢剤(たとえばステ
アリン酸マグネシウム、タルクなど)。
破壊剤(たとえばカルボキシメチルカルシウム、タルク
など)と混合して用いられる。
IItP+、$8団 本発明はさらに下記の参考例、実施例で詳しく説明され
るが、これらの例は里な乙宙例であって本発明を限定す
るものではなく、また本発明の範囲を逸脱しない範囲で
変化させてもよい。
参考例、実施例のカラムクロマトグラフィにおける溶出
はTLC(Thin  Layer Chromato
g−raphy 、  薄層クロマトグラフィ)による
観察下に行なわれた。TLC観察においては、TLCプ
レートとしてメルク(Merck)社製のBOFts*
を、展開溶媒としてはカラムクロマトグラフィで溶出溶
媒として用いられた溶媒を、検出法としてUV検出器を
採用した。カラム用シリカゲルは同じくメルク社製のキ
ーゼルゲル60(230〜400メツシユ)を用いた。
“セファデックス”はファルマシア・ファイン・ケミカ
ルズ社(P harmacia  F 1neChem
icals)製である。XAD−II樹脂はローム・ア
ンド・ハース社製(Rohm  &  Haas  C
o、 )製である。NMRスペクトルは内部または外部
基準としてテトラメチルシランを用いてX L −10
0A100A(100,EM360(60MHz)、E
M390(90MH2)またはT8゜(60M Hz)
型スペクトロメーターで測定し、全δ値をppIllで
示した。混合溶媒において()内に示した数値は各溶媒
の容量混合比である。また溶液における%は溶液100
m1中のg数を表わす。また参考例、実施例中の記号は
次のような意味である。
S   :シングレット(singlet)d   :
ダブレット(doublet)t   ニトリプレット
0riplet)q   :クワルテット(quart
et)ABQ  :AB型クりルテット(A B  t
Yl)equartet) d、d:ダブル ダブレット(doubledoubl
et) m   :マルチブレット(muHiplet)br、
   ニブロード(broad)J   :カップリン
グ定数(couplingconstant) Hz   :ヘルツ(Hertz) mg:ミリグラム(mi 11 igram)g   
ニゲラム(gram) ml:ミリリーク−(milliliter)9   
 :リークー(11ter) %  :パーセント(percent)DMSOニジメ
チルスルホキシド (dimethylsulfoxide)DtO:重水 CD Cis:重クロロホルム 参考例1 7β−[2−(2−クロロアセトアミドチアゾール−4
−イル)−2(Z)−メトキシイミノアセトアミド]−
3−(3−オキツブチリルオキシメチル)−3−セフェ
ム−4−カルボン酸。
7β−アミノ−3−(3−オキソブチリルオキシメチル
)−3−セフェム−4−カルボン酸157gをテトラヒ
ドロフラン500m1と水500nlの混合液に懸濁さ
せ、かきまぜながら炭酸水素ナトリウム141gを少量
づつ加える。ついで5℃で攪拌しなから2−(2−クロ
ロアセトアミドチアゾール−4−イル)−2(Z)−メ
トキシイミノアセチルクロライド・塩酸塩tsogを2
0分間で加え、同温度で反応液をさらに1時間かきまぜ
る。反応終了後10%塩酸でI)H3,0としたのち、
反応液を酢酸エチル−テトラヒドロフラン(1:1)の
混合波谷lρで2回抽出する。抽出液を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去し、得られた無色
粉末を酢酸エチル200m1で洗浄後ろ取すると標記化
合物253gが得られる。
元素分析値:CtoHzoCINsOeStとして、計
算値(%):C,41,85; H,3,51,N、1
2.200実測値(%):C,41,39; H,3,
57,N、11.94゜IRスペクトルシKBrcm−
’:1780.1740.1700゜aX 1655、1540.1410゜ NMRスペクトル(da  DMSO)δ:2.20(
3H,s)。
3.45と3.68(21+、ABQ、  J=18H
z)、3.65(211,s)。
3.92(311,s)、 4.38(2H,s)、 
4.79と5.09(2H,ABQ。
J=1311z)、  5.18(IH,d、 J=5
11z)、 5.85(II(、d、d。
J=5Hzと8H2)、  7.44(IH,s)、 
9.66(18,d、J=811z)、 12.85(
III、br、s)。
参考例2 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−メトキシイミノアセトアミド]−3−(3−オ
キソブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4−カル
ボン酸。
7β−2−[2−(クロロアセトアミドチアゾール−4
−イル)−2−(Z)−メトキシイミノアセトアミド]
−3−(3−オキツブチリルオキシメチル)−3−セフ
ェム−4−カルボン酸150gをテトラヒドロフラン−
水(1:l)の混合液500alに溶解後N−メチルジ
チオカルバミン酸ナトリウム51gを加え、20℃で3
時間かきまぜる。反応液に酢酸エチル200m1を加え
、有機層を除去し水層を10%塩酸でpH4にすると油
状物が析出する。これをテトラヒドロフラン−酢酸エチ
ル(1:1)の混合液l で抽出し、さらに水層を1−
ブタノール200Illで抽出する。抽出液を無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去する。残留物
に酢酸エチル200m1を加えてかきまぜ、析出した結
晶をろ取すると標記化合物90gが得られる。
元素分析値:C+5H1sNsos Stとして、計算
値(%):C,42,19; H,4,30,N、13
.55゜実測値(%):C,4に、94; H,4,l
L、 N、13.59゜IRスペクトルシKB’cm−
’:1770.1710.1620゜aX 1520゜ NMRスペクトル(da  DMSO)δ:2.2G(
3H,s)。
3.43と3.65(211,ABqj= 1811z
)、3.63(2H,s)、3.86(38,s)、4
.78と5.06(2H,ABQj=13H2)、5.
14 (LH。
d、J=511z)、5.79(IH,d、d、J=5
Hzと8)IZ)、8.73(IH。
s)、7.17(211,br、)、9.56(IH,
d、J=8Hz)。
参考例3 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−エトキシイミノアセトアミド]−3−(3−オ
キソブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4−カル
ボン酸。
2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2(Z)−
エトキシイミノ酢酸23gをジメチルホルムアミドlo
Omlにとかし、l−ヒドロキシベンゾトリアゾール1
5gとジシクロへキシルカルボジイミド20.6gを加
、えて20℃で1.5時間かきまぜる。不溶物をろ去後
、ろ液を7β−アミノ−3−(3−オキソブチリルオキ
シメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸31gとト
リエチルアミン28m1のジメチルホルムアミド100
m1溶液に水冷下で加える。
反応液を20℃で3時間かきまぜたのちジエチルエーテ
ル500n+1を加え、析出固型物をろ取する。これを
水IQ0011に溶解後10%塩酸でpH(,0とした
のち、メチルエチルケトン各200m1で2回抽出する
抽出液を水洗し無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で
溶媒を留去し得られた固型物を酢酸エチルで洗浄すると
標記化合物31gが得られる。
KBr  −+。
IRスペクトルシcm、1780,1720,1660
゜maχ NMRスペクトル(do  DMSO)δ:1.30(
3H,t、J=7.5Hz)、 2.25(3H,S)
、3.45−3.65(4H,m)、4.20(21(
、q、J=7.5Hz)、 4.7(lと5. to(
21(、ABQ、J= 18H2)、 5.25(2H
,d、J=5H2)、 5.90(IH,dJ=5H2
と8Hz)、6.90(IH,s)、7.20−7.8
0(2H,br、)、9.80(LH,d、J=7.5
Hz)。
参考例4 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−アリルオキシイミノアセトアミド]−3−(3
−オキツブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4−
カルボン酸。
2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2(Z)−
アリルオキシイミノ酢酸13gをジメチルホルムアミド
50m1にとかし、l−ヒドロキシベンゾトリアゾール
8gとジシクロへキシルカルボジイミド10.3gを加
え20°Cで3時間かきまぜる。不溶物をろ去後、ろ液
を7β−アミノ−3−(3−オキツブチリルオキシメチ
ル)−3−セフェム−4−カルボン酸16gとトリエチ
ルアミンlOgのジメチルホルムアミド50m1溶液に
水冷下で加える。反応液を20℃で3時間かきまぜるた
のち、ジエチルエーテル500m1を加えエーテル層を
除き、得られた不溶物を水50m1に溶解させついで1
0%塩酸でpH3,0に調整すると粗製の標記化合物が
得られる。
これを酢酸エチル−テトラヒドロフラン(1:1)の混
合液500m1に溶解させ無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、活性炭処理しついで減圧下で溶媒を留去すると標記
化合物25gが無晶形粉末として得られる。
IRスペクトルνKBrCm−凰: 1780.172
0.1660゜ax 1620゜ NMRスペクトル(do−DMSO)δ:2.30(3
H,s)。
3.45−3.66(4H,ff1)、 4.64(2
H,d、J=6Hz)、4.80−5.1Q(2H,A
Bq、J=18H2)、 5,23(2)1.d、J=
9H2)。
5.26(21,d、J=5Hz)、5.90(IH,
d、d、J=5Hzと9Hz) 。
5.90−6.20(LH,+n)、 6.80(IH
,s)、 7.20−8.00(2H。
br、)、 9.83(IH,d、J=9Hz)。
参考例5 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−(tert−ブトキシカルボニルメトキシイミ
ノ)アセトアミド]−3−(3−オキソブチリルオキシ
メチル)−3−セフェム−4−カルボン酸。
2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2(Z )
 −(tert−ブトキシカルボニルメトキシイミノ)
酢酸6.0gをジメチルホルムアミド20m1にとかし
、■−ヒドロキシベンゾトリアゾール3.5gとジノク
ロへキシルカルボジイミド4.4gを加え20℃で3時
間かきまぜる。不溶物をろ去後、ろ液を7β−アミノ−
3−(3−オキツブチリルオキシメチル)−3−セフェ
ム−4−カルボン酸6.2gとトリエチルアミン4.0
gのジメチルホルムアミド20m1溶液に水冷下で加え
、反応液を20℃で8時間かきまぜる。ジエチルエーテ
ル200m1を反応液に加えエーテル層を除去し、残渣
を水50m1に溶解させた後10%塩酸でpH4に調整
すると結晶が析出する。これをろ取して水洗後ジエチル
エーテルで洗浄し、乾燥すると標記化合物10gが得ら
れる。
IRスペクトルvKBrcm−’: 1790.173
0.1710゜ax 1660、1530゜ NMRスペクトル(d、−DMSO)δ:1.50(9
H,s)。
2.20(3H,s)、 3.40−3.60(4H,
m)、 4.40(2H,s)。
4.80と5.10(2H,ABQ、J=14Hz)、
  5.20(IH,d、J=5Hz)、  5.80
(lit、d、d、J=5Hzと8Hz)、  6.7
0(IH,s)。
7.20−7.80(211,br、)、 9.30(
LH,d、J=8Hz)。
参考例6 7−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2(
Z) −(L−tert−ブトキシカルボニル−1−メ
チルエトキシイミノ)アセトアミド]−3−(3−オキ
ツブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4−カルボ
ン酸。
2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2(Z) 
 (1−tert−ブトキシカルボニル−1−メチルエ
トキシイミノ)酢酸16gをN、N−ジメチルホルムア
ミド30−に溶解し、l−ヒドロキシベンゾトリアゾー
ル8.0gとジシクロへキシルカルボジイミドl1gを
加え20℃で10時間攪拌する。不溶物をろ去後、ろ液
を7β−アミノ−3−(3−オキソブチリルオキシメチ
ル)−3−セフェム−4−カルボン酸16gとトリエチ
ルアミン10gとをジメチルホルムアミド50滅に懸濁
した液に加え、20°Cで24時間攪拌する。反応液に
ジエチルエーテル500dを加え、エーテル層を除き、
残渣を水tooyに溶解後lO%HCIでpH4,0に
調整する。析出する結晶をろ取し、結晶を水、ついでジ
エチルエーテルで洗浄したのち乾燥すると標記の化合物
25gが得られる。
IRスペクトルνKBrCm−霊:1780,1730
,1700゜ax 1680.1530゜ NMRスペクトル(da  DMSO)δ:IJ5(1
5B、s)。
2.25(311,S)、3.40−3.60(411
,m)、4.80−5.10(2H。
ABq、J= 14Hz)、5.25(LH,d、J=
 5Hz)、5.80(LH,d、d。
J=5+1zと8Hz) 、 6.70(III、s)
 、 7 、20−7.80(21,br、) 。
9.30(lH,d、J=81Z)。
参考例7 7β−[2−(5−tert−ブトキシカルボニルアミ
ノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2(Z
)−メトキシイミノアセトアミドコ−3−(3−オキソ
ブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4−カルボン
酸。
2−(5−jerk−ブトキシカルボニルアミノ=1.
2.4−チアジアゾール−3−イル)−2(Z)−メト
キシイミノ酢酸302mgを4mlのジクロロメタンに
加え、ついで208mgの五塩化リンを加えて水冷下で
15分間かきまぜる。溶媒を減圧下に留去し、残留物に
ヘキサンを加える。再び減圧下に乾固し1残留物をジク
ロロメタンに溶かす。この液を7β−アミノ−3−(3
−オキソブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4−
カルボン酸300mgおよびトリエチルアミン0.8n
lを5mlのジメチルアセトアミドに溶かした液に加え
、水冷下に30分間かきまぜる。反応液にリン酸1gを
水10m1に溶かして加え、メチルエチルケトン(10
ml)で抽出したのち抽出液を水洗し無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥する。溶媒を減圧下に留去して残留物に酢酸
エチルを加え、再び留去すると390mgの標記の化合
物を得る。
IRスペクトルvKBram−’: 29B0.294
0.1780゜ax 1715.1540,1370,1245,1150.
1040,855゜NMRスペクトル(d、 −DMS
O)δ:1.56(9H,s)、2.20(3H,s)
、  3.43と3.70(2H,ABq 、 J =
 1811z) 、 3.65(2H。
s)、 4.00(3H,s)、 4.80と5.12
(2H,ABq、J= 12Hz)。
5.18(IH,d、J=4.5Hz)、  5.88
(IH,d、d、J=9Hzと4.5Hz)、9.63
(LH,d、J=9Hz)。
参考例8 7β−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イル)−2(Z)−エトキシイミノアセトアミ
ド]−:3−(3−オキソブチリルオキシメチル)−3
−セフェム−4−カルボン酸。
7β−アミノ−3−(3−オキソブチリルオキシメチル
)−3−セフェム−4−カルボン酸11gを200m1
のジクロロメタンに懸濁し、これにビストリメチルシリ
ルアセトアミド14gを加えて室温で溶液となるまでか
きまぜる。ついで水冷し、2−(5−アミノ−1,2,
4−チアジアゾール−3−イル)−2(Z)−エトキシ
イミノアセチルクロリド14gを加え、しばらくかきま
ぜたのちジメチルアセトアミド6gを加え、水冷下に6
0分間かきまぜる。ジクロロメタンを留去し、残留物を
メチルエチルケトンに溶かす。水洗・乾燥したのち溶媒
を留去し、残留物にジエチルエーテルを加えて粉末とし
てろ取し、12.5gの標記の化合物を得る。
JRスペクトルシKBrcm−’: 3300.300
0.1780゜ax 1720.1620.1520,1410,1260,
1150,1040゜NMRスペクトル(d、 −DM
SO)δ: t、25(3H,t、J=7Hz)、2.
18(3H,s)、 3.tlと3.63(2H,AB
q、J= 18Hz)。
3.62(2H,s)、4.18(2H,q、J−7H
z)、4.76と5.06(2H。
ABq、J=13Hz)、 5.14(IH,d、J=
4.8Hz)、 5.82(IH。
d、d、J=8Hzと4.8Hz)、 8.00(2H
,br、)、  9.48(IH。
d、J=8Hz)。
参考例9 6−メチル−4,5,6,7−チトラヒドロペンゾチア
ゾール。
4−メチルシクロへキサノン24g、イソプロペニルア
セテート63m1およびパラトルエンスルホン酸0.4
gからなる混合物を7.5時間、加熱下に還流したのち
減圧下にイソプロペニルアセテートを留去する。残留物
に重曹0.5gを加えて減圧下に蒸留しエノールアセテ
ート30.7g(+)b4.100−105°)を得る
このものをジクロロメタン100m1に溶かして一40
’Cに冷却し、臭素32gを滴下する。ついでメタノー
ル100m1を添加したのち室温に2日間放置する。減
圧下に溶媒を留去し、残渣にジメチルアセトアミド60
m1およびチオホルムアミド12gを加えて70℃で3
時間加温する。反応液に水100m1および酢酸エチル
100m1を加えたのち重曹で中和し、有機層を分岐し
て乾燥(無水硫酸マグネシウム)したのち減圧下に溶媒
を留去する。残留物を減圧蒸留に付し、13gの標記の
化合物を得る。bps。125℃。
NMRスペクトル(CDC13)δ: 1.10(3H
,d、J=611Z)。
1.58−3.33(711,m)、C53(lit、
s)。
参考例10 5−(または7−)メチル−4,5,6,7−チトラヒ
ドロペンゾチアゾール。
参考例9と同様にして、3−メチルシクロへキサノン2
5m1.イソプロペニルアセテート63m1.パラトル
エンスルホン酸0.4gからエノールアセテート29.
89g(bp3.95℃)を得、さらにこのものを臭素
31gついでチオホルムアミド11.6gと反応させ標
記の化合物13.7fl(bpt 75−90℃)を得
る。
NMRスペクトル(CDC1,)δ: 1.10(3H
,d、J=6H2)。
1.40−3.30(7H,m)、 8.53(LH,
s)。
参考例11 7−メドキシー4,5,6.7−チトラヒドロペンゾチ
アゾール。
2−シクロへキセノン19g、N−ブロムコハク酸31
g、メタノールloomlの混合物に水冷下に濃硫酸9
滴を加えると激しい反応が起り均一の溶液が得られる。
結晶性物質が析出してくるがそのま160分間水冷下に
攪拌を続け、ついで減圧下にメタノールを留去して残留
物をヘキサンに溶かす。水洗・乾燥(無水硫酸マグネシ
ウム)したのち溶媒を減圧留去する。残留物にジメチル
アセトアミド100m1.チオホルムアミド12gを加
えて50℃の油浴中で30時間加温し、反応液に水10
(1mlおよび酢酸エチル300m1を加えたのち重炭
酸ナトリウムで中和する。有機層をとって減圧下に濃縮
し、残留物をシリカゲルクロマト(StOz 150g
、溶媒は酢酸エチル:ヘキサン= 1 :4(V/V)
)に付す。目的化合物を含む分画を合わせて濃縮乾固し
、3.7gの標記の化合物を面状物として得る。
NMRスペクトル(CDC1,、)δ: 1.70−2
.30(4H,m)。
2.70−3.00(211,m)、 4. 33−4
.67(2■、m)、L60(1)l。
S)。
参考例12 7β−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イル)−2(Z)−メトキシイミノアセトアミ
ド]−3−(3−オキツブチリルオキシメチル)−3−
セフェム−4−カルボン酸。
トリフルオロ酢酸50m1を水冷下にかきまぜながら、
7β−[2−(5−tert−ブトキンカルボニルアミ
ノ−1,2,4−デアジアゾール−3−イル)−2(Z
)−メトキシイミノアセトアミド]−3−(3−オキソ
ブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4−カルボン
酸13gを添加する。冷浴を外し30分間かきまぜたの
ち減圧下にトリフルオロ酢酸を留去する。残渣に酢酸エ
チル100m1を加え、減圧下に酢酸エチルを留去した
のち、ジエチルエーテル100m1を加え、粉末をほぐ
してろ取し標記化合物10gを得る。
IRスペクトルvKBrcm−’: 1770.173
0.1700゜ax 1680.1520,1400.1180,1140,
1040゜NMRスペクトル(d8− DMSO)δ:
2.20(3H,s)、3.43と3.64(2H,A
Bq、J=18Hz)、 3.64(2H,s)、 3
.93(3H,s)4.77と5.07(2H,ABQ
、J= 12H2)、5.14(LH,d。
J = 4.8Hz) 、 5.82(IH,d、d、
 J = 4.8Hzと8Hz) 、 8.00−9.
00(2H,br、)、9.53(l)I、d、 J=
8Hz)。
参考例13 7β−[2−(5−クロロ−2−クロロアセトアミドチ
アゾール−4−イル)−2(Z)−メトキシイミノアセ
トアミド]−3−(3−オキソブチリルオキシメチル)
−3−セフェム−4−カルボン酸。
2−(5−クロロ−2−クロロアセトアミドチアゾール
−4−イル)−2(Z)−メトキシイミノ酢酸249g
を50m1のジクロロメタンに加え、−5℃から一8℃
に冷却しつつ五塩化リン2.13gを加えて45分間か
きまぜる。反応液に150m1のヘキサンを少量ずつ加
え、沈澱する暗色油状物をわけ取り、さらにヘキサンで
洗浄して粗な対応クロリドを得ろ。重炭酸ナトリウム2
.06gを15m1の水に溶かした液に7−アミノ−3
−(3−オキツブチリルオキシメチル)−3−セフェム
−4−カルボン酸2.06gを15m1のテトラヒドロ
フランに溶かした液を加え、ついで上記クロリドを内温
を0−3°に保ちながら加える。加え終ってから1時間
5℃以下でさらに1時間室温でかきまぜたのち、メチル
エチルケトン 50m1を加え、濃塩酸で酸性とし、有
機層を分取して取る。水層をメチルエチルケトンで抽出
し、有機層と抽出液とを合仕て乾燥(無水硫酸ナトリウ
ム)したのち溶媒を減圧留去すると2.94gの標記化
合物が炭種黄色粉末として得られる。
N M Rスペクトル(CDC13+d6−DMSO)
δ:2.23(3)!、s)、 3.24−3.73(
211,m)、 3.50(2H,s)。
4.01(3H,s)、 4.21(28,s)、 4
.91と5.18(2H,ABQ、J=13Hz)、 
5.05(11(、d、J=4.5Hz)、 5.88
(LH,d。
d、J=4.5Hzと9Hz)、  6.43(2H,
br、)、  8.79(IH,d。
J = 9Hz)。
参考例14 7β−[2−(2−アミノ−5−クロロチアゾール−4
−イル)−2(Z)−メトキシイミノアセトアミド]−
3−(3−オキツブチリルオキシメチル)−3−セフェ
ム−4−カルボン酸。
7−[2−(5−クロロ−2−クロロアセトアミドチア
ゾール−4−イル)−2(Z、)−メトキシイミノアセ
トアミド]−3−(3−オキツブチリルオキシメチル)
−3−セフェム−4−カルボン酸2.94gを水13m
1とテトラヒドロフラン13m1との混液にとかし、ナ
トリウム N−メチルジチオカーバメート計1.15g
を3回にわけて加えつつ、室温で3時間かきまぜる。反
応液に酢酸エチルを加え、濃塩酸で酸性にし、酢酸エチ
ル層を分取してすてる。水層を計200m1のメチルエ
チルケトンで抽出し、抽出液を食塩水で洗浄したのち乾
燥(無水硫酸ナトリウム)して溶媒を留去すると、2.
28gの標記化合物が得られる。
NMRスペクトル(da  D M S O+CD C
13)δ:2、21(311,s) 、 3.3−3.
75(2H,m) 、 3.57(2H,s) 、 3
.90(211,s)、 4.81と5.09(211
,ABQ、J−” 13Hz)、 5.07(III、
d、J=511z)、  5.77(LH,d、d、J
=5Hzと911z)。
7.10(211,br、’)、  9.46(18,
d、J=9Hz)。
参考例15 7β−tert−ブトキシカルボニルアミノ−3−(3
−オキツブチリルオキシメチル〕−3−セフェム−4−
カルボン酸。
7β−アミノ−3−(3−オキソブチリルオキシメチル
)−3−セフェム−4−カルボン酸200gを500m
1のジメチルスルホキシドに加え、室温でノーtert
−ブチル ジカーボネート200gを加え16時間かき
まぜる。反応液に水200g、水22.酢酸エチルIQ
を加えてかきまぜたのち分配して上層をすてる。水層に
酢酸エチル!2を加え、かきまぜながらυン11129
gを滴下する(pl+4)。充分にかきまぜたのち分配
して上層をとり、下層を酢酸エチルlQで抽出する。有
機層を合わせて氷水各29で2回、ついで飽和食塩水1
2で洗浄する。硫酸マグネシウムで脱水ののち濃縮、塩
化メチレン100m1を加えて濃縮、乾燥し、グラス状
固体として194g(収率74%)の標記化合物が得ら
れる。
元素分析値:Cl?H2tN 208S−1/ 2 H
toとして、 計算値(%):C,4g、22; H,5,47,N、
6.62゜実測値(%);C,48,16; H,5,
30,N、6.32゜IRスペクトルvKBrcm−’
: 1780.1720.1520゜aX 1370.1320゜ NMRスペクトル(d、 −DMSO)δ:1.42(
9B、s)、2.18(3H,s)、 3.41と3.
62(2H,ABq、 J = 18Hz) 、 3.
82(2H。
s)、4.78と5.0F3C2H,ABQ、J=14
11Z)、  5.03(LH,d。
J=5Hz)、  5.45(IH,d、d、J=5H
zと8Hz)、  7.83(IH。
d、 J = 8Hz)。
参考例16 2−(5−tert−ブトキシカルボニルアミノ−1,
2,4−チアジアゾール−3−イル)−2(Z)−te
rt−ブトキシカルボニルメトキシイミノ酢酸。
2−(5−tert−ブトキシカルボニルアミノ−1,
2,4−チアジアゾール−3−イル)酢酸13g。
二酸化セレン10.9gおよびジオキサン200m1か
らなる溶液を、かきまぜながら80℃の油浴上で40分
間加熱する。減圧下にジオキサンを留去し、残渣に酢酸
エチル200m1を加えて不溶物をろ去する。減圧下に
酢酸エチルを留去したのち残渣をエタノール100m1
に溶解し、水冷下に0−Qert−ブトキシカルボニル
メチル)ヒドロキシルアミン6.2gを加える。室温で
4時間かきまぜたのち減圧下にエタノールを留去する。
残渣に酢酸エチルLOOml、水2゜Omlを加えて不
溶物をろ去したのち有機層を分液し、重炭酸ナトリウム
5gおよび水3(1(1mlとよく振りまぜる。水層を
とって酢酸エチル100m1を上置し、IN−塩酸で酸
性としたのち酢酸エチル層を分は取り、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥したのち酢酸エチルを留去すると標記化合
物の結晶figが得られる。
融点128°C(分解) NMRスペクトル(CDC13)δ:1.43(9H,
s)、1.55(9■。
s)、 4.73(2H,s)。
参考例17 7β−[2−(5−tert−ブトキシカルボニルアミ
ノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2(Z
)−(tert−ブトキシカルボニルメトキシイミノ)
アセトアミド]−3−(3〜オキソブチリルオキシメチ
ル)−3−セフェム−4−カルボン酸。
2−(5−tert−ブトキシカルボニルアミノ=1.
2.4−チアジアン−ルー3−イル)−2(Z)−(t
ert−ブトキシカルボニルメトキシイミノ)酢酸13
gを100m1のジクロロメタンに溶かし、水冷下にか
きまぜなから五塩化リンフgを加える。水冷下に20分
間かきまぜたのち、溶媒を減圧下に留去する。残渣をヘ
キサンに溶かし、減圧下にヘキサンを留去したのち、残
渣をlOM/、のジクロロメタンに溶かす。この液を7
β−アミノ−3−(3−オキソブチリルオキシメチル)
−3−セフェム−4−カルボン酸10g、ビス(トリメ
チルシリル)アセトアミド16gおよびジクロロメタン
100−からなる溶液に加える。水冷下に1時間かきま
ぜたのち、減圧下にジクロロメタンを留去し、残渣を酢
酸エチル300m1に溶かし、水で2回洗浄したのち無
水硫酸マグネシウムで乾燥して減圧下に溶媒を留去する
。残渣にヘキサンを加えて得られる沈澱をろ取して23
gの標記化合物を得る。
IRスペクトルvKBrcm−’: 3250.296
0.1780゜ax 1715.1540,1370,1205,1150,
1060゜NMRスペクトル(ds −DMSO)δ:
1.43(9H,s)、1.50(9H,S)、 2.
L8(311,s)、3.41と3.65(2H,AB
(1,J= 18Hz)、  3.62(2H,s)、
  4.66(2H,s)、  4.78と5.06(
2H。
ABq、J=1211z)、 5.15(18,d、J
=4.8H2)、 5.86(IH。
d、d、J=4.8Hzと 8Hz)、  9.56(
LH,d、J=8Hz)。
参考例I8 7β−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イル)−2(Z)−カルボキシメトキシイミノ
アセトアミド]−3−(3−オキソブチリルオキシメチ
ル)−3−セフェム−4−カルボン酸。
トリフルオロ酢酸50m1に、水冷下でかきまぜなから
7β−[2−(5−tert−ブトキシカルボニルアミ
ノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−2(Z
) −(tert−ブトキシカルボニルメトキシイミノ
)アセトアミド]−3−(3−オキツブチリルオキシメ
チル)−3−セフェム−4−カルボン酸23gを加え、
冷浴を外して1.5時間かきまぜたのち酢酸エチルを加
えて減圧下に溶媒を留去する。
残渣に酢酸エチルを加え、沈澱をほぐしてろ取して標記
化合物17gを得る。
I Rスヘク’r−ルvKBrcm−’: 1760.
1720.1630゜ax 1520.1400,1310.1180.1145゜
NMRスペクトル(ds −DMSO)δ:2.20(
3)1.s)、3.41と3.65(2H,ABq、J
= 1811z)、3.63(2H,s)、 4.65
(28゜s)、  4.78と5.07(2H,ABq
、J=12H2)、  5.15(IH,d。
J=4.8Hz)、  5.85(IH,d、d、J=
4.811zと8[1z)、8.10(2H,br、)
、 9.48(IH,d、J=8Hz)。
実施例I 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−メトキシイミノアセトアミド]−3−[(4,
5,6,7−チトラヒドロペンゾチアゾリウムー3−イ
ル)メチル]−3−セフェムー4−カルボキシレート。
7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−メトキシイミノアセトアミド]−3−(3−オ
キソブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4−カル
ボン酸10g、4,5,6.7−チトラヒドロペンゾチ
アゾールlogおよびヨウ化カリウム10gをアセトニ
トリルと水(1:1)の混合液200成に溶解させ70
℃で1.5時間加熱攪拌する。反応液に酢酸エチル20
0Fn1に加えて有機層を除去し、ついで水層をXAD
−nカラムクロマトグラフィーに付す。20%エタノー
ル水で溶出し、目的物を含む分画を集め凍結乾燥し得ら
れた固型物をLH−20カラムクロマトグラフイーに付
し、水で溶出する。目的物の分画を凍結乾燥すると標記
化合物2.0gが得られる。
元素分析値:C!+Ht2NeOsSs” 5/2H2
0として 計算値(%):C,43,51; H,4,69,N、
14.50.。
実測値(%):C,43,66; H,4,55,N、
14.25゜IRスペクトルνKBrcm−重:177
5.1675.1615゜aX 1540゜ NMRスペクトル(d、−DMSO−D、O)δ:1.
70−3.00(81,m)、123と3.55(2H
,ABQ、J= 18Hz)。
3.98(31,s)、5.20(IH,d、J=4.
8Hz)、5.81(IH,d、J= 4.8Hz) 
、 6.93(ICs) 、 7.72(IH,s) 
実施例1に記載した方法と同じ方法を用いて7β−[2
−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2(Z)−(
置換オキシイミノ)アセトアミド]−3−(3−オキソ
ブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4−カルボン
酸と各種チアゾール誘導体との反応から一般式 で表わされる以下の実施例2〜12の化合物を製造する
ことができる。
実施例2 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−エトキシイミノアセトアミド゛]−3−[(4
,5,6,7=テトラヒドロベンゾチア゛ブ)ノウバー
3−イル)メチル]−3−セフェムー4−カルボキンレ
ート。
元素分析値:CttHt+N5OsS*・7/:2Ht
oとして 計算値(%):C,43,20: H,5,11: N
、13.74゜実測値(%):C,43,09,)1,
4.87. N、L3.64゜IRスペクトルシKBr
cm−’:1770.1620.1530゜aX H85゜ NMRスペクトル(do−DMSO)δ:1.21(3
B、tj=7Hz)、1.47−3.00(8H,m)
、3.13と3.44(2B、AB(1゜J= 18H
2)、4.08(2H,Q、J= 7Hz)、5.04
(LH,d、J=4.8Hz)、5.26(2H,br
、s)、5.66(IH,d、d、J= 4.8Hzと
8Hz)、6.68(IH,s)、7.14(2H,b
r、s)、9.41(18,d。
J=8Hz)、10J2(11,s)。
実施例3 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−メトキシイミノアセトアミドコ−3−[(4,
5−シクロペンテノチアゾリウム−3−イル)メチル]
−3−セフェムー4−カルボキシレート。
元素分析値:CtoHzoNeOsS3’ aHtoと
して計算値(%):C,41,80,H,4,56,N
、14.62゜実測値(%):C,41,74,H,4
,20,N、14.61゜IRスペクトルvKBrc’
m−’:1770,1610,1530゜aX 1340゜ NMRスペクトル(da  DMSO)δ:1.80−
2.20(211,m)、2.70−3.20(4H,
m)、3.83(3H,s)、5.0’7(ill、d
、 J = 4.8H2) 、 5.32(28,br
、s) +s−60−5,80(LH。
m)、6.70(lH,s)、7.12(2H,br、
s)、9.47(IH,d、J−811z)、10.1
4(IH,s)。
実施例4 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−エトキシイミノアセトアミドコ−3−[(4,
5−シクロペンテノチアゾリウム−3−イル)メチルコ
ー3−セフェムー4−カルボキシレート。
元素分析値: Cff1IH22N e Oa S 3
・2H20として計算値(%):C,43,92; H
,4,63,N、14.63゜実測値(%):C,44
,09; H,4,53,N、14.37゜KBr  
 −1 1Rスペクトルシcm  :1770,1620.15
30゜aX NMRスペクトル(da  DMSO)δ:1.21(
3B、t、J=7)12)、2.70−3.10(2H
,m)、3.70−4.40(6H,m)。
5、05(LH,d、 J = 4.8Hz) 、 5
.31(211,m)、 5.67(LH,d、d。
J=4.8H2と8Hz)、6.68(LH,s)、7
.14(2H,br、s)。
9.43(LH,d、J=8H2)、10.20(18
,S)。
実施例5 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−メトキシイミノアセトアミド]−3−[(4,
5−シクロへブテノチアゾリウム−3−イル)メチル]
−3−セフェムー4−カルボキシレート。
元素分析値:C22I−I24N605S3・3H,O
として計算値(%):C,43,86; H,5,02
,N、13.95゜実測値(%):C,43,45,H
,4,60; N、13.84゜I Rスヘクト)Lν
KBram−’:1770,1620,1530゜aX 1355゜ NMRスペクトル(d、−DMSO)δ:1.45−2
.00(611,m) 、 2.60−3.20(4H
,m) 、 3.82(2H,s) 、 5.01(1
8゜d、J=4.811z)、5.20−5.50(2
H,m)、5.63(IH,d、d、J=4.8Hzと
8tlz)、6.69(ltl、s)、7.13(21
1,br、s)。
9.44(IH,d、J= 8Hz)、10.20(L
H,s)。
実施例6 7β−[2−’(2−アミノチアゾール−4−イル)−
2(Z)−メトキシイミノアセトアミド]−3−[(2
−メチル−4,5,6,7−チトラヒドロペンゾチアゾ
リウムー3−イル)メチル]−3−セフェムー4−カル
ボキシレート。
元素分析値:CttHz4NaO6S3・6H20とし
て計算値(%):C,40,24; H,5,52,N
、12.80゜実測値(%):C,39,87; H,
4,99; N、12.99゜1(Br  −t。
IRスペクトルv    cm  、1765,167
0,1610゜l1aX 1530.1380゜ NMRスペクトル(da  DMSO)δ:1.60−
.1.98(6H,m)、2.60−2.90(4H,
m)、3.00(3H,s)、3.82(3H,s)、
4.99(1B、d、J=4.8Hz)、5.40−5
.70(3H。
m)、6.69(IH,s)、7.14(2H,br、
s)、9.47(IH,d、J=8Hz)、 実施例7 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−アリルオキシイミノアセトアミド]−3−[(
4,5,6,7−チトラヒドロペンゾチアゾリウムー3
−イル)メチル]−3−セフェムー4−カルボキシレー
ト。
元素分析値:CtsHt4NeOsS3・7/2H,O
として 計算値(%):C,44,27,H,5,01,N、1
3.47゜実測値(%):C,44,22; H,4,
76、N、13.32゜IRスペクトルv KBrcn
+−’:1770,1620,1530゜ax H80,1340゜ NMRスペクトル(d6−DMSO)δ:1.82(4
H,m)。
2.84(4H,m)、4.46−4.66(2B、m
)、5.03(18,d、J=4.8112) 、 5
.08−6.00(61Lm) 、 6.69(1B、
S) 、 7.14(2H。
br、s)、9.48(IH,d、J=8Hz)、10
.36(III、s)。
実施例8 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−(1−カルボキシ−■−メチルエトキシイミノ
)アセトアミトコ−3−[(4,5,6,7−チトラヒ
ドロペンゾチアゾリウムー3−イル)メチル]−3−セ
フェムー4−カルボキシレートナトリウム塩。
て 計算値(%):C,39,95; H,5,06,N、
11.65゜実測値(%):C,39,91; H,4
,59; N、11.80゜IRXベクトルv KBr
cm−’:1770,1600,1530゜l1aX 1400.1360゜ NMRスペクトル(d、−DMSO)δ:1.42(3
H,s)。
1.46(3H,s)、 1.40−2.00(4H,
m)、 2.84(4H,m)、5.05(IH,d、
J=4.8Hz)、5.16−5.48(2H,br、
)、5.60−5.80(IH,m)、6.71(LH
,s)、7.16(2H,br、s)、10.30(L
H,s)。
実施例9 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−(2−フルオロエトキシイミノ)アセトアミド
]−3−[(4,5,6,7−テトラヒド口ベンジチア
ゾリウム−3−イル)メチル]−3−セフェムー4−カ
ルボキシレート。
て 計算値(%):C,4L、44. H,4,74,N、
、13.1g。
実測値(%):C,41,72; H,4,72; N
、13.40゜I RXベクトルv KBrcm−’:
1770,1670.1610゜ax 1530.1390.1360゜ NMRスペクトル(d、−DMSO)δ:1.80(4
H,m)。
2.1lt3(5H,m)、3.30(III、ABq
、J= 18Hz)、4.10−4.23(IH,m)
、4.30−4.56(2H,m)、4.83−5.0
0(LH,m)。
5.06(IH,d、 J = 4.51rz) 、 
5.26(2H,m) 、 5.80(LH,d、d。
J=4.5Hzと81(z)、6.73(LH,s)、
7.20(2H,br、s)。
9、56(IH,d、 J = 811z) to、 
36(III、 S)。
実施例10 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
−(Z)−メトキシイミノアセトアミトコ−3−[(6
−メチル−4,5,6,7−チトラヒドロペンゾチアゾ
リウムー3−イル)メチル]−3−セフェムー4−カル
ボキシレート。
元素分析値: CzzH24NsSsOs・9/2H,
Oとして、 計算値(%):C,41,96; H,5,28,N、
13.35゜実測値(%):C,41,96; H,4
,23: N、13.13゜IRスペクトルvKBrc
m””:2950,1770.1675゜flax 1620、1535.13g5.1350.1040゜
NMRスペクトル(d、 −DMSO)δ: 1.05
(3H,d、J=6Hz)、  1.84−2.15と
2.70−3.10(7H,br、)、  3.82(
3H。
s)、 5.04(LH,d、J=4.8Hz)、  
5.24(2H,br、s)。
5.65(LH,d、d、J=8Hzと4.8Hz)、
  6..72(In、s)。
7.16(211,br、s)、 9.48(LH,d
j=8Hz)、 10.32と10.37(計111.
各々S)。
実施例11 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−(2−メトキシエトキシイミノ)アセトアミト
コ−3−[(4,5,6,7−チトラヒドロペンゾチア
ゾリウムー3−イル)メチル]−3−セフェムー4−カ
ルボキシレート。
元素分析値:CtsH2sNaOaSs・7/2H,0
として、 計算値(%):C,43,12; H,5,03; N
、13.12゜実測値(%):C,43,42; H,
4,92,N、12.98゜tRスペクトルv KBr
cm−’:17g0,1670,1620゜aX 1535.1040゜ NMRスペクトル(da  DMSO)δ: 1.50
−2.00(4H。
m)、 2.55−3.00(4H,m)、3.26(
3H,s)、3.4−3.8(2B、+n)、 3.9
−4.3(4H,m)、  5.06(IH,d、J=
4.5Hz)、5.27(2B、br、s)、5.71
(11,d、dj=4.5Hzと8Hz)、6.69(
11,s)、7.17(2H,br、s)、 9.42
(IH,d。
J=8)12)、10.29(1B、S)。
実施例12 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−メトキシイミノアセトアミド]−3−[(7−
メドキシー4.5,6.7−チトラヒドロペンゾチアゾ
リウムー3−イル)メチル]−3−セフェムー4−カル
ボキシレート。
元素分析値: Ct t H24N a Oa S !
l・10HtOとして、 計算値(%):C,35,48; H,4,60; N
、11.2g。
実測値(%):C,35,82; H,3,57,N、
11.53゜IRスペクトルシKBrcm−’: 29
50,1775,1680゜max 1620.1540,1390,1355,1145,
1115,1040゜NMRスペクトル(D20)δ:
 2.05(4H,br、)、 2.84(311、b
r、)、 3.55(311,s)、  4.00(3
H,s)、 5.27(LH,d。
J=4.8112)、  5.16と5.39(2H,
ABQ、J= 14Hz)。
5.86(III、d、J=4.8Hz)、 7.00
(ill、S)、 9.88(痕跡。
S)。
実施例13 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−メトキシイミノアセトアミトコ−3−アセトキ
シメチル−3−セフェム−4−カルボン酸3.OL4,
5,6.7−チトラヒドロペンゾチアゾール3.0gお
よびヨウ化カリウム3.0gをアセトン−水(1:1)
の混合液60成に溶解しさせて70℃で3時間かきまぜ
る。反応液を濃縮し、残留物を酢酸エチル20蔵で2回
洗浄浸水50滅に溶解させてXAD−Itカラムクロマ
トグラフィーに付す。
20%エタノール水で溶出し、目的物を含む分画を集め
て減圧下農縮したのち残留物をLH−20カラムクロマ
トグラフイーに付す。水で溶出し目的物を含む分画を集
めて減圧下濃縮後、残留物を凍結乾燥すると7β−[2
−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2(Z)−メ
トキシイミノアセトアミド]−3−[(4,5,6,7
−チトラヒドロペンゾチアゾリウムー3−イル)メチル
コー3−セフェムー4−カルボキシレート0.2gが得
られる。本島は実施例1で得られた化合物と、IRおよ
びNMRスペクトルの一致から同一物であることが確認
された。
実施例14 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−メトキシイミノアセトアミド]−3−ヒドロキ
シメチル−3−セフェム−4−カルボン酸4.1gをア
セトニトリル20旙とホルムアミド20成の混合液に懸
濁させ、−30℃に冷却しながら4,5,6.7−チト
ラヒドロペンゾチアゾール5.5gを加え、ついでメチ
ル0−フェニレンホスフィンのジクロロメタン溶液(2
mmol/戒) 20 dを加えて2時間かきまぜる。
減圧上溶媒を留去したのち、残留物にアセトニトリル4
0蔵を加えて固形物をろ取する。これを水20成に懸濁
させ、炭酸水素ナトリウムを加えてpH8,0としたの
ちXAD−IIカラムクロマトグラフィーに付す。20
%エタノール水で溶出し、目的物を含む分画を集め、減
圧上濃縮後凍結乾燥すると7β−[2−(2−アミノデ
アゾール−4−イル)−2(Z)−メトキシイミノアセ
トアミド]−3−[(4,5,6,7−チトラヒドロペ
ンゾチアゾリウムー3−イル)メチル]−3−セフェム
ー4−カルボキシレート3.5gが得られる。本島は実
施例1で得られた化合物と、lRおよびNMRスベ、ク
トルの一致から同一物であることが確認された。
実施例15 7β−[2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2
(Z)−メトキシイミノアセトアミド]−3−アセトキ
シメチル−3−セフェム−4−カルボン酸3.0gをク
ロロホルム20M1に懸濁させ、N−メチル−N−トリ
メチルシリルフルオロアセトアミド4−を加え20℃で
均一溶液になるまで攪拌する。ついでこの溶液にヨウ化
トリメチルシリル3゜3gを加えて20℃で10分間か
きまぜたのち反応液を減圧下で濃縮し、残留物にアセト
ニトリル9滅とテトラヒドロフラン0.8−を加えて4
0分間かきまぜる。つぎにこの溶液に4.5,6.7−
チトラヒドロペンゾチアゾール2.4gを加えて20°
Cで3時間かきまぜたのち、反応液を水冷下に冷却して
水11n1を加える。析出した固型物をろ取し、これを
シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、アセトニ
トリル−水(4:1)の混合液で溶出する。目的物を含
む分画を集め減圧下で濃縮して凍結乾燥すると7β−[
2−(2−アミノチアゾール−4−イル)−2(Z)−
メトキシイミノアセトアミド]−3−[(4,5,6,
7−チトラヒドロペンゾチアゾリウムー3−イル)メチ
ル]−3−セフェムー4−カルボキシレート0.4gが
得られる。本島は実施例1で得られた化合物と、IRお
よびNMRスペクトルの一致から同一物であることが確
認された。
実施例1に記載した方法と同じ方法を用いて7β−[2
−(5−アミノ−1,2,4−デアジアゾール−3−イ
ル)−2(Z)−(置換オキシイミノ)アセトアミド]
−3−(3−オキツブチリルオキシメチル)−3−セフ
ェム−4−カルボン酸と各種チアゾール誘導体との反応
から一般式 で表わされる以下の実施例16−21の化合物を製造す
ることができる。
実施例I6 7β−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イル)−2(Z)−エトキシイミノアセトアミ
ド]−3−[(4,5,6,7−チトラヒドロペンゾチ
アゾリウムー3−イル)メチル]−3−セフェムー4−
カルボキシレート。
元素分析値: Ct+HtsN70.S3” 3HtO
として、 計算値(%):C,41,78; H,4,84,N、
16.24゜実測値(%):C,41,60; H,4
,86,N、16.01゜IRスペクトルシKBrcm
−’: 2950.1770.1670゜ma× 1810.1520,1385,1340,1035゜
NMRスペクトル(ds  DMSO)δ: 1.23
(3H,t、J=7Hz)、 1.82(br、s)お
よび2.82(br、s)(計8H)。
4.16(2H,Q、J=7Hz)、5.04(IH,
d、J=4.8Hz)、5.26(28,br、s)、
  5.68(IH,d、d、J=8Hzと4.8Hz
) 、8.10(2H,br、s)、 9.41(LH
,d、J=811z)、10.32(LH,s)。
実施例17 7β−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イル)−2(Z)−エトキシイミノアセトアミ
ド]−3−[(6−メチル−4,5,6,7−チトラヒ
ドロペンゾチアゾリウムー3−イル)メチル]−3−セ
フェムー4−カルボキシレート。
て、 計算値(%):C,43,41,H,4,97: N、
16.11゜実測値(%):C,43,46; H,4
,61; N、16.17゜IRスペクトルvKBra
m−’+ 2950.1775.1680゜aX 1615.1520,139Q、1350.10104
0ONスペクトル(ae −DMSO)δ: 1.05
(3H,d、J=611z)、1.24(311,t、
J=7Hz)、1.90(br、)と2.90(br、
)(計7H)、4.16(2H,q、J= 6H2)、
5.05(LH,d、J= 4.811z)、5.29
(20,br、s)、5.69(IH,d、d、J=8
Hzと4.8Hz)、 111.16(2H,br、s
)、9.46(18,d、J=8Hz)、10.28と
10.32(0,5Hづつ、各々S)。
実施例18 7β−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イル)−2(Z)−エトキシイミノアセトアミ
ドコ−3−[(5−(または7−)メチル−4,5,6
,7−チトラヒドロペンゾチアゾリウムー3−イル)メ
チルコー3−セフェムー4−カルボキシレート。
元素分析値:C□HzsN70.Ss・5 / 2 H
toとして、 計算値(%):C,43゜41. H,4,97,N、
16.11゜実測値(%):C,43,39; H,4
,49; N、16.43゜IRスペクトルvKBrc
m−’: 2960.1775.1680゜ax 1620.1520.13g5,1350,1040゜
NMRスペクトル(ds  DMSO)δ: 1.24
(3H,t、J=7Hz)、  1.0O−IJO(3
B、m)、1.70−2.10(br、)と3.00−
2.60(br、)(計7H)、 4.15(2H,q
、J=7H2)、 5.04(111,d、J=4.1
ltHz)、5.22(2H,br、s)、 5.68
(LH,d、d。
J=8112と4.8Hz)、  8.12(211,
br、s)、9.42(lit、d、J=811z)、
10.38(111,s)。
実施例19 7β−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イル)−2(Z)−エトキシイミノアセトアミ
ド]−3−[(4,5−シクロペンテノチアゾリウム−
3−イル)メチルコー3−セフェムー4−カルボキシレ
ート。
元素分析値:CtoH2+NtO6Ss”3HtOとし
て、計算値(%):C,40,74,H,4,62,N
、16.63゜実測値(%):C,40,53,H,4
,39; N、16.36゜IRスペクトルvKBra
m−’: 1770.16g0.1615゜ax 1525.1390,1360,1040゜NMRスペ
クトル(da  DMSO)δ: 1.24(3H,t
、J=7Hz)、 4.16(2H,Qj=7  Hz
)、 5.05(LH,d、J=4.8Hz)、  5
.70(IH,d、dj=811zと4.8112)、
  8.10(2+1゜br、s)、  9.44(L
H,d、J=8Hz)。
実施例20 7β−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イル)−2(Z)−エトキシイミノアセトアミ
ド]−3−[(6,7−シヒドロー4H−ピラノ[4,
3−d]チアゾリウム−3−イル)メチルコー3−セフ
ェムー4−カルボキシレート。
元素分析値:C2゜Ht lN ? Oa S s・4
HtOとして、計算値(%):C,38,52; H,
4,69; N、15.72゜実測値(%):CJ8.
45; H,3,82,N、15.29゜IRスペクト
ルJ/KBrC1l+−’: 1770.1680.1
620゜ax 1520.1390.1360.1040゜NMRスペ
クトル(da  DMSO)δ: 1.24(3H,t
、J=7Hz)、 4.15(211,Q、J=711
z)、  4.76−4.90(2tLm)。
5、04 (lit、 d 、 J = 4.8Hz)
 、 5.28(2H,br、s) 、 5.68(I
II。
d、d、J=811zと4.8H2)、  8.12(
2H,br、s)、 9.44(IH。
d、J=8Hz)、  10.44(IH,s)。
実施例21 7β−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イル)−2(Z)−エトキシイミノアセトアミ
ド]−3−[(7−メドキシー4.5,6.7−チトラ
ヒドロペンゾチアゾリウムー3−イル)=3−セフェム
−4−カルボキシレート。
IRスペクトルvKBrcm−’: 2950,177
5.168G。
ax 1620.1525,1390,1355,1100,
1040゜NMRスペクトル(C20)δ: 1.aa
(3n、tj=7Hz)。
2.04(4B、br、)、 2.83(3H,br、
)、 3.24と3.57(2H,ABq、J=18H
z)、 3.53(3H,s)、 4J5(2H,q、
J=7Hz)、  5.15と5.37(2H,ABq
、J=1411Z)、  5.26(IH,d。
J=4.8Hz)、  5.88(IH,d、J=4.
8Hz)、  9.87と9.89(計IH,各々S)
実施例22 7β−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イル’)−2(Z)−メトキシイミノアセトア
ミド]−3−[(4,5,6,7−チトラヒドロペンゾ
チアゾリウムー1−イル)メチルコー3−セフェムー4
−カルボキシレート。
7β−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イル)−2(Z)−メトキシイミノアセトアミ
ドコ−3−(3−オキツブチリルオキシメチル)−3−
セフェム−4−カルボン酸1g、ヨウ化カリウムIg、
4,5,6.7−チトラヒドロペンゾチアゾール1g、
水10m1.アセトニトリルlhlからなる混合物を7
0〜75℃の油浴に浸し、1.5時間かきまぜる。冷却
後、30m1の酢酸エチルとよくふりまぜ、静置したの
ち有機層をすてて水層を分取する。濃縮したのちシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付し、アセトンで展開
したのちアセトン−水(7:3)で展開する。目的分画
液を濃縮し、凍結乾燥して標記化合物0.12gを得る
元素分析値:C7゜Ht+N70sS3・3HtOとし
て、計算値(%):C,40,74; H,4,62,
N、16.63゜実測値(%):C,41,06; H
,3,84,N、16J4゜IRスペクトルvKBrc
m−’: 1770.1670.1610゜ax 1520、1385. H40,1035゜実施例23 7β−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イル)−2(Z)−力ルボキシメトキシイミノ
アセトアミドコ−3−[(4,5,6,7−チトラヒド
ロペンゾチアゾリウムー3−イル)メチル]−3−セフ
ェムー4−カルボキシレート モノナトリウム塩。
7β−[2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾー
ル−3−イル)− 2(Z)−力ルボキシメトキシイミノアセトアミド]−
3−(3−オキツブチリルオキシメチル)−3−セフェ
ム−4−カルボン酸2g、ヨウ化ナトリウム2g、4,
5,6.7−チトラヒドロペンゾチアゾール2g、アセ
トニトリル20m1および水20m1からなる混合物を
、70〜75℃の油浴中で加温しつつ1.5時間かきま
ぜる。冷却後、反応液に酢酸エチル50m1を加えて振
りまぜたのち有機層をすてて水層を分は取り、XAD−
2カラムクロマトグラフイーに付し、20%エタノール
水にて展開・溶出する。目的物を含む分画を合わせて濃
縮し、ついでシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
し、アセトンついでアセトン−水(7:3)で展開・溶
出する。目的物を含む分画を合わせて濃縮し、凍結乾燥
して0.38gの標記化合物を得る。
元素分析値:CtoH+5NvOtSsNa”HtOと
して、 計算値(%):C,39,60,H,3,49,N、1
6.16゜実測値(%):C,39,53,H,3,8
G、 N、15.10゜IRスペクトルvKBrcm−
’: 1760.1600.1520゜ax 1390.1350,1310,1045゜NMRスペ
クトル(D、O)δ:1.92と2.86(計81.b
r、)。
3.25と3.57(211,ABQ、J=18112
)、  5.29(IH,d、J=4.8Hz)、 5
.28(2B、br、)、  5.93(11,d、J
=4.8Hz)。
9.69(IH,S)。
実施例24 7β−tert−ブトキシカルボニルアミノ−3−[(
4,5,6,7−チトラヒドロペンゾチアゾリウムー3
−イル)メチル]−3−セフェムー4−カルボキシレー
ト。
7β−tert−ブトキシカルボニルアミノ−3−(3
−オキツブチリルオキシメチル)−3−セフェム−4−
カルボン酸4.0g、4.5,6.7−チトラヒドロペ
ンゾチアゾールa、og、ヨウ化ナトリウム4gをアセ
トニトリル1lln1.水10m1に溶解し、70℃で
1゜5時間かきまぜる。
反応後、酢酸エチル30m1を加えてかきまぜ、静置し
たのち上層を傾斜により除く。下層に酢酸エチル30m
1を加え同様の操作を2回繰り返す。下層を70gのシ
リカゲルカラムクロマトグラフィーを用いアセトン20
0一ついでアセトン:水=20:1の溶媒200dで洗
浄後、アセトン:水=3:lの溶媒で展開、該当分画を
濃縮、凍結乾燥すると0.71g(収率15%)の標記
化合物が得られる。
IRスペクトルシKBrcm−’: 1770.171
0.1615゜max 1510.1390,1370,1340゜NMRスペ
クトル(as −DMSO)δ:1.40(91,s)
、1.82(4tl、m)、 2.83(4H,br、
)、3.18(ABQの10分、d、J=18t(z)
、4.96(IH,d、J=5Hz)、5.29(2H
,br、s)、5.35(IH,d、d、J=511z
と8H2)、7.78(IH,d、J=8H2)。
10.28(H(、s)。
実施例25 7β−[2−(2−アミノ−5−クロロチアゾール−4
−イル)−2(Z)−メトキシイミノアセトアミド]−
3−[(4,5,6,7−チトラヒドロペンゾチアゾリ
ウムー3−イル)メチルコー3−セフェムー4−カルボ
キシレート。
7β−[2−(2−アミノ−5−クロロチアゾール−4
−イル)−2(Z)−メトキシイミノアセトアミド]−
3−(3−オキソブチリルオキシメチル)−3−セフェ
ム−4−カルボン酸と4.5,6.7−チトラヒドロペ
ンゾチアゾールとから実施例1と同様にして標記化合物
を得る。
IRスペクトルvKBrcm−’: 3300.176
5.1665゜max 1B10,1520,1030゜ NMRスペクトル(ds  DMSO)δ:1.82(
4)1.br、)。
2.84(4H,br、)、3.24と3.53(2H
,ABq、J= ig■z)。
5.03(LH,d、J= 5Hz)、5.31(2H
,br、)、5.67(1B、d、d。
j = 5Hzと8)12)、9.48(1)1.d、
J= 8+(Z)、10.33(1)1゜S)。

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^0は含窒素複素環基、アシル基またはアミ
    ノ基の保護基を、ZはS、S→O、OまたはCH_2を
    、R4は水素原子、メトキシ基またはホルムアミド基を
    、R^1^3は水素原子、メチル基、水酸基またはハロ
    ゲン原子を、Aは置換されていてもよい4,5−位で縮
    合環を形成するチアゾール−3−イル基を、それぞれ示
    す]で表わされるセフェム化合物またはその生理学的に
    受容される塩もしくはエステル。
  2. (2)R^0が一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
    式、表等があります▼ [式中、R^2は水素原子、ハロゲン原子またはニトロ
    基を、R^2^3はハロゲン原子、水酸基、アルコキシ
    基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基またはシ
    アノ基で置換されていてもよい炭素数1ないし3のアル
    キル基を示す]、ZがS、R^4およびR^1^3がい
    ずれも水素原子で、R^2が水素原子の場合は[1]A
    が置換されていてもよい4,5−シクロヘプテノチアゾ
    ール−3−イル基、[2]Aがアルキル基またはアルコ
    キシ基で置換された4,5−シクロペンテノチアゾール
    −3−イル基もしくは4,5,6,7−テトラヒドロベ
    ンゾチアゾール−3−イル基、または[3]Aが4,5
    −シクロペンテノチアゾール−3−イル基もしくは4,
    5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾール−3−イル
    基でR^1^3が2−メトキシエチル基もしくは1−カ
    ルボキシ−1−メチルエチル基である特許請求の範囲第
    (1)項記載のセフェム化合物。
  3. (3)R^0が一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
    式、表等があります▼ [式中、R^2′はハロゲン原子またはニトロ基を、R
    ^3はハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基、カルボキ
    シル基、アルコキシカルボニル基またはシアノ基で置換
    されていてもよい炭素数1ないし3のアルキル基を示す
    ]、ZがS、R^4およびR^1^3がいずれも水素原
    子である特許請求の範囲第(1)項記載のセフェム化合
    物。
  4. (4)[1]一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、ZはS、S→O、OまたはCH_2を、R^4
    は水素原子、メトキシ基またはホルムアミド基を、R^
    1^3は水素原子、メチル基、水酸基またはハロゲン原
    子を、Aは置換されていてもよい4,5−位で縮合環を
    形成するチアゾール−3−イル基を、それぞれ示す]で
    表わされるセフェム化合物またはその塩もしくはエステ
    ルと一般式R^aHal[式中、R^aは含窒素複素環
    基、Halはハロゲン原子を、それぞれ示す]で表わさ
    れる化合物またはその塩、一般式R^bOH[式中、R
    ^bはアシル基を示す]で表わされるカルボン酸または
    その塩もしくは反応性誘導体、またはアミノ基を保護す
    る試薬とを反応させるか、 [2]一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^0は含窒素複素環基、アシル基またはアミ
    ノ基の保護基を、R^5は水酸基、アシルオキシ基、カ
    ルバモイルオキシ基、置換されたカルバモイルオキシ基
    またはハロゲン原子を、その他の記号は前記と同意義を
    示す]で表わされるセフェム化合物またはその塩もしく
    はエステルと、置換されていてもよい4,5−位で縮合
    環を形成するチアゾール化合物またはその塩とを反応さ
    せるか、 [3]一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^2^2′は置換されていてもよい複素環基
    を、その他の記号は前記と同意義を示す]で表わされる
    セフェム化合物またはその塩もしくはエステルと、一般
    式R^3″OH[式中、R^3″は置換されていてもよ
    い炭化水素残基を示す]で表わされる化合物またはその
    反応性誘導体とを反応させるか、または [4]一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、Xはハロゲン原子を、R^2は水素原子、ハロ
    ゲン原子またはニトロ基を、R^3は水素原子または置
    換されていてもよい炭化水素残基を、その他の記号は前
    記と同意義を示す]で表わされるセフェム化合物または
    その塩もしくはエステルと一般式R^1C(=S)NH
    _2[式中、R^1は保護されていてもよいアミノ基を
    示す]で表わされる化合物とを反応させることを特徴と
    する一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中の記号は前記と同意義を示す]で表わされるセフ
    ェム化合物またはその生理学的に受容される塩もしくは
    エステルの製造法。
  5. (5)R^0が一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
    式、表等があります▼ [式中、R^2は水素原子、ハロゲン原子またはニトロ
    基を、R^1^3はハロゲン原子、水酸基、アルコキシ
    基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基またはシ
    アノ基で置換されていてもよい炭素数1ないし3のアル
    キル基を示す]、ZがS、R^4およびR^1^3がい
    ずれも水素原子で、R^2が水素原子の場合は [1]Aが置換されていてもよい4,5−シクロヘプテ
    ノチアゾール−3−イル基、 [2]Aがアルキル基またはアルコキシ基で置換された
    4,5−シクロペンテノチアゾール−3−イル基もしく
    は4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾール−3
    −イル基、または [3]Aが4,5−シクロペンテノチアゾール−3−イ
    ル基もしくは4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチア
    ゾール−3−イル基でR^2^3が2−メトキシエチル
    基もしくは1−カルボキシ−1−メチルエチル基である
    特許請求の範囲第(4)項記載のセフェム化合物の製造
    法。
  6. (6)R^0が一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
    式、表等があります▼ [式中、R^2′はハロゲン原子またはニトロ基を、R
    ^3はハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基、カルボキ
    シル基、アルコキシカルボニル基またはシアノ基で置換
    されていてもよい炭素数1ないし3のアルキル基を示す
    ]、ZがS、R^4およびR^1^3がいずれも水素原
    子である特許請求の範囲第(4)項記載のセフェム化合
    物の製造法。
  7. (7)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^0は含窒素複素環基、アシル基またはアミ
    ノ基の保護基を、ZはS、S→O、OまたはCH_2を
    、R^4は水素原子、メトキシ基またはホルムアミド基
    を、R^1^3は水素原子、メチル基、水酸基またはハ
    ロゲン原子を、Aは置換されていてもよい4,5−位で
    縮合環を形成するチアゾール−3−イル基を、それぞれ
    示す]で表わされるセフェム化合物またはその生理学的
    に受容される塩もしくはエステルの少くとも1種以上を
    含有する医薬組成物。
  8. (8)R^0が一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
    式、表等があります▼ [式中、R^2は水素原子、ハロゲン原子またはニトロ
    基を、R^2^3はハロゲン原子、水酸基、アルコキシ
    基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基またはシ
    アノ基で置換されていてもよい炭素数1ないし3のアル
    キル基を示す]、ZがS、R^4およびR^1^3がい
    ずれも水素原子で、R^2が水素原子の場合は[1]A
    が置換されていてもよい4,5−シクロヘプテノチアゾ
    ール−3−イル基、[2]Aがアルキル基またはアルコ
    キシ基で置換された4,5−シクロペンテノチアゾール
    −3−イル基もしくは4,5,6,7−テトラヒドロベ
    ンゾチアゾール−3−イル基、または[3]Aが4,5
    −シクロペンテノチアゾール−3−イル基もしくは4,
    5,6,7−テトラヒドロベンゾチアゾール−3−イル
    基でR^2^3が2−メトキシエチル基もしくは1−カ
    ルボキシ−1−メチルエチル基である特許請求の範囲第
    (7)項記載の医薬組成物。
  9. (9)R^0が一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
    式、表等があります▼ [式中、R^2′はハロゲン原子またはニトロ基を、R
    ^3はハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基、カルボキ
    シル基、アルコキシカルボニル基またはシアノ基で置換
    されていてもよい炭素数1ないし3のアルキル基を示す
    ]、ZがS、R^4およびR^1^3がいずれも水素原
    子である特許請求の範囲第(7)項記載の医薬組成物。
JP60123458A 1984-06-08 1985-06-05 セフエム化合物 Expired - Lifetime JPH0613530B2 (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP1984/000296 WO1986000071A1 (en) 1984-06-08 1984-06-08 Cephem compounds
WO84/296 1984-06-08
WO85/245 1985-04-30
PCT/JP1985/000245 WO1986006376A1 (en) 1985-04-30 1985-04-30 Antibacterial compounds

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61178994A true JPS61178994A (ja) 1986-08-11
JPH0613530B2 JPH0613530B2 (ja) 1994-02-23

Family

ID=26425046

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60123458A Expired - Lifetime JPH0613530B2 (ja) 1984-06-08 1985-06-05 セフエム化合物

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4946837A (ja)
EP (1) EP0164122B1 (ja)
JP (1) JPH0613530B2 (ja)
KR (1) KR920004837B1 (ja)
DE (1) DE3579749D1 (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4665066A (en) * 1984-12-24 1987-05-12 Eli Lilly And Company 3-thiazolomethyl cephalosporins as antibiotics
CS273349B2 (en) * 1988-03-31 1991-03-12 Hoffmann La Roche Method of cephalosporin's new derivatives production
US5336768A (en) * 1988-05-24 1994-08-09 Hoffmann-La Roche Inc. Antibacterial cephalosporin compounds
US5159077A (en) * 1989-07-21 1992-10-27 Hoffmann-La Roche Inc. Penam antibacterial compounds
US5162523A (en) * 1989-07-21 1992-11-10 Hoffmann-La Roche Inc. Cephalosporin antibacterial compounds
US5179088A (en) * 1990-02-12 1993-01-12 Eli Lilly And Company 1-carba(dethia)cephalosporin antibiotics
US5318781A (en) * 1993-04-06 1994-06-07 Hoffmann-La Roche Inc. Absorption enhancement of antibiotics
DE19621900A1 (de) * 1996-05-31 1997-12-04 Bosch Gmbh Robert Verfahren zur Bestimmung der zwischen dem Abstellen des Motors eines Kraftfahrzeuges und dem erneuten Starten des Motors verstrichenen Zeit

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56128786A (en) * 1980-02-18 1981-10-08 Roussel Uclaf Novel oxime derivatives of 3-alkyloxy or 3-alkylthiomethyl-7-aminothiazolylacetamidocephalosporanic acid, their manufacture, their use as drug, drug containing them and novel intermediate
JPS5724389A (en) * 1980-06-18 1982-02-08 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd Novel cephem compound, its preparation, and preventive and remedy for bacteriosis
JPS57192394A (en) * 1981-05-12 1982-11-26 Hoechst Ag Cephalosporin derivatives and manufacture

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4165430A (en) * 1976-03-19 1979-08-21 Glaxo Laboratories Limited Cephalosporins having a 7-carboxy substituted α-etherified oximinoarylacetamido) group
JPS5543043A (en) * 1978-09-22 1980-03-26 Sankyo Co Ltd Preparation of 3-substituted thiomethylcephalosporin derivative
GR75644B (ja) * 1980-06-18 1984-08-02 Fujisawa Pharmaceutical Co
CA1173644A (en) * 1981-07-06 1984-09-04 Ashok N. Prabhu Air-fireable thick film inks
JPS6067483A (ja) * 1983-09-24 1985-04-17 Sankyo Co Ltd チアゾリオメチル置換基を有するセフアロスポリン誘導体
DE3336757A1 (de) * 1983-10-08 1985-04-25 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Cephalosporinderivate und verfahren zu ihrer herstellung
US4665066A (en) * 1984-12-24 1987-05-12 Eli Lilly And Company 3-thiazolomethyl cephalosporins as antibiotics

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56128786A (en) * 1980-02-18 1981-10-08 Roussel Uclaf Novel oxime derivatives of 3-alkyloxy or 3-alkylthiomethyl-7-aminothiazolylacetamidocephalosporanic acid, their manufacture, their use as drug, drug containing them and novel intermediate
JPS5724389A (en) * 1980-06-18 1982-02-08 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd Novel cephem compound, its preparation, and preventive and remedy for bacteriosis
JPS57192394A (en) * 1981-05-12 1982-11-26 Hoechst Ag Cephalosporin derivatives and manufacture

Also Published As

Publication number Publication date
KR860000303A (ko) 1986-01-27
JPH0613530B2 (ja) 1994-02-23
US4946837A (en) 1990-08-07
DE3579749D1 (de) 1990-10-25
EP0164122A3 (en) 1987-01-28
EP0164122A2 (en) 1985-12-11
EP0164122B1 (en) 1990-09-19
KR920004837B1 (ko) 1992-06-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH07133280A (ja) セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物
JPS62149682A (ja) 抗菌性化合物
KR920008953B1 (ko) 항균 화합물의 제조방법
US4665065A (en) 3-pyrazolo(1,5-aαpyridinium cephem compounds
US4826834A (en) Cephem compounds
US4788185A (en) Cephalosporin compounds
JPS61178994A (ja) セフエム化合物
US4864022A (en) 3-Condensed imidazolium-cephem compounds
US4839351A (en) Antibacterial compounds, and use
JPH09100283A (ja) セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物
JPH07101958A (ja) セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物
JPH0859669A (ja) セフェム化合物、その製造法及び剤
US5948774A (en) Cephem compounds, their production and use
JPH07101960A (ja) セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物
JPS62149684A (ja) 抗菌性化合物
JPH06128268A (ja) セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物
JPS61191688A (ja) 抗菌性化合物
KR920004836B1 (ko) 항균 화합물의 제조방법
EP0229369A2 (en) Cephalosporins, process for their preparation and pharmaceutical compositions containing them
JPH0948785A (ja) セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物
JPH08337585A (ja) セフェム化合物、その製造法および抗菌組成物
JPH0347189A (ja) 抗菌性化合物
EP0228061A2 (en) Cephem compounds
WO1986006376A1 (en) Antibacterial compounds
JPS62228087A (ja) 抗菌性化合物