JPS61191688A - 抗菌性化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は優れた抗菌作用を有する新規な抗菌性化合物お
よびその製造法ならびに医薬組成物に関するものである
。

（従来の技術） 従来より、３位に第４級アンモニウムメチル基、７位に
２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒドロ
キシ（または置換ヒドロキシ）イミノアセトアミド基を
合わせ持つセフェム化合物またはその誘導体は種々合成
され、特許出願されている［たとえば日本国公開特許公
報昭５３−３４７９５、同昭５４−９２９６．同昭５４
−１３５７９２゜開明５４−１５４７８６．同昭５５−
１４９２８９、開明５７−５６４８５．同昭５７−１９
２３９４、開明５８−１５９４９８など］が、３位の第
４級アンモニウムメチル基が含窒素芳香族複索環に由来
するものとしては単環性のピリジニウム基もしくはその
環上に置換基を有するものがほとんどで、本発明の１．
５−位で縮合環を形成するピラゾール−２−イル基を有
する化合物については合成はおろか、出願明細書におけ
る開示も全くなされていない。

（発明が解決しようとする問題点） セフェム系抗生物質は人および動物の病原性細菌により
生ずる疾病の治療に広く使用されており、たとえばペニ
シリン系抗生物質に抵抗性を示す細菌に起因する疾病の
治療およびペニシリン感受性弘者の治療に特に宵月であ
る。その場合ダラム陽性菌およびダラム陰性閑の両者に
対して活性を示すセフェム系抗生物質を用いることが望
ましく、この理由から広い抗菌スペクトルを持つセフェ
ム系抗生物質の研究が盛んに行なわれてきた。長期にわ
たる研究の結果、セフェム環の７位に２−（２−アミノ
チアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシ（または置換
ヒドロキシ）イミノアセトアミド基や含窒素複素環アミ
ノ基などを導入するとダラム陽性菌およびダラム陰性菌
の両者に活性を示すようになることが発見され、いわゆ
る第３世代セファロスポリン系化合物の開発へとつなが
った。現在、数種の第３１代セファロスポリン系化合物
がすでに市販されている。これら第３世代セファロスポ
リン系抗生物質のもうひとつの特徴は、かつてペニシリ
ンにおいて経験されたと同様の耐性菌、いわゆるセファ
ロスポリン耐性菌に対しても活性を示した点である。す
なわち既知のセファロスポリン類に耐性を示した一部の
エシェリヒア・コリ菌、一部のシトロバクタ−属および
大部分のインドール陽性のプロテウス属、エンテロバク
タ−属、セラデア属あるいはシュウトモナス属などに分
類される病原性細菌に対しても臨床的に使用が可能なて
いどの抗菌力を発現した。これらの第３旦代セファロス
ポリン系化合物の技術思想の中から、３位にピリジニウ
ムメチル基などの第４級アンモニウムメチル基、７位に
前記のアミノチアゾリルオキシイミノアセトアミド類や
含窒素複素環アミノ基などをあわせ持つセフェム化合物
およびそのオキザ体、カルバ体がさらに優れた抗菌作用
と独特な抗菌スペクトルを有することが示唆され、その
系統の化合物が種々合成されてきた。

（問題点を解決するための手段） 本発明は一般式 ［式中、Ｒｏは水素原子、含窒素ｗ、ｊｌ！′環基、ア
シル基またはアミノ基の保護基を、Ｚはｓ、ｓ−ｏ、ｏ
またはＣＨ１を、Ｒ４は水素原子、メトキシ基またはホ
ルムアミド基を、Ｒ１３は水素原子、メチル基、水酸基
またはハロゲン原子を、Ａは置換されていてもよい１．
５−位で縮合環を形成するピラゾール−２−イル基を、
それぞれ示すコで表わされる化合物またはその生理学的
に受容される塩もしくはエステル、およびその製造法な
らびに医薬組成物に関するものである。すなわち本発明
の抗菌性化合物は一般式［Ｉ］で表わされるセフェム化
合物（Ｚ＝Ｓ、５−０）またはそのオキサ体（Ｚ　＝　
Ｏ）、カルバ体（ｚ　＝　ＣＨｔ）である。　本明細書
におけるセフェム化合物は「ザ・ジャーナル・オブ・ジ
・アメリカン・ケミカル・ソサイエティ」第８４巻、３
４００頁（１９６２年）に記載されている「セファム」
に基づいて命名された化合物群であり、セフェム化合物
はセファム化合物のうち３．４−位に二重結合を有する
化合物を意味する。

従来技術の項で述べたように３位に第４級アンモニウム
メチル基、７位にアミノチアゾリルオキシイミノアセト
アミド類や含窒素複索環アミノ基などをあわせ持つセフ
ェム化合物およびそのオキサ体、カルバ体がさらに優れ
た抗菌作用と独特な抗菌スペクトルを有することが次第
に明らかになってきた。３位の第４級アンモニウムメチ
ル基が含窒素芳香族複素環に由来する化合物がすでに多
数合成されて特許出願されているが、それらの複素環は
単環性のピリジニウム基もしくはその環上に置換基を有
するものがほとんどで、本発明の１゜５−位で縮合環を
形成するピラゾール−２−イル基を有する化合物につい
ては全く合成が行なわれていない。本発明者らはこのよ
うな化学構造上の特徴を持つ一般式［１］で表わされる
化合物を合成することに成功するとともに、それらの化
合物の抗菌活性と抗菌スペクトルを調べた結果、化合物
［１］が各種の細菌に対して強い抗菌作用を示すこと、
特に前述のセファロスポリン耐性菌に対する強い抗菌作
用を有すること、シュウトモナス属の菌に対して特異な
抗菌力を示すことなどを見出して本発明を完成した。　
つぎに本明細書において使用する法名、記号について述
べる。特にことわりのない限り、本明細書における各店
名および各記号の意味は下記のとおりである。

「アルキル基」は直鎖状または分岐状の炭素数１〜６の
低級アルキル基（以後、ｒｃ、−、アルキル基」と略す
こともある）が好ましく、たとえばメチル。

エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イ
ソブチル、５ｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペ
ンチル、ｎ−ヘキシルなどがあげられる。

「アルケニル基」は直鎖状または分岐状の炭素数２〜６
の低級アルケニル基（以後、ｒｃｔ＋＠アルケニル基」
と略すこともある）が好ましく、たとえばビニル、アリ
ル、１−プロペニル、イソプロペニル。

１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、メタリル
、！、１−ジメチルアリルなどがあげられる。

「アルキニル基」は直鎖状または分枝状の炭素数２〜６
の低級アルキニル基（以後、ｒｃｔ−ａアルキニル基」
と略すこともある）が好ましく、たとえばエチニル、１
−プロピニル、プロパルギルなどがあげられる。

「シクロアルキル基」は炭素数３〜１０からなる３〜７
員脂環状炭化水素基（以後、ｒｃ３−、、シクロアルキ
ル基」と略すこともある）が好ましく、たとえばシクロ
プロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキ
シル、シクロヘプチル、ノルボルニル、アダマンチルな
どがあげられる。

「シクロアルケニル基」は二重結合を有する５〜６員指
環状炭化水素基（以後、ｒｃｉ−ｓシクロアルケニル基
」と略すこともある）が好ましく、たとえばシクロペン
テニル、シクロペンタジェニル、シクロへキセニル、シ
クロへキサジェニルなどがあげられる。

「アリール基」は炭素数６〜１０の芳香族炭化水素基（
以後、ｒｃ、、。アリール基」と略すこともあるンが好
ましく、たとえばフェニル、α−ナフチル、β−ナフチ
ル、ビフェニリルなどがあげられる。

「アラルキル基」は炭素数７〜１２の芳香族置換アルキ
ル基（以後、　　ｒｃｔ−１ｔアラルキル基」と略すこ
ともある）が好ましく、たとえばベンジル、１−フェニ
ルエチル、２−フェニルエチル、フェニルプロピル、ナ
フチルメチルなどがあげられる。なお、Ｃ？−Ｉｔアラ
ルキル基と下記のジＣ８−１゜アリール−メチル基、ト
リＣｏ−１０アリール−メチル基とをあわせてｒＣｙ−
ｓアラルキル基」と記す場合もある。

「ジアリールメチル基」は上記のｃト、。アリール基が
２個置換したメチル基（以後、「ジＣｓ−１ｏアリール
ーメチル基」と略すこともある）を意味し、たとえばベ
ンズヒドリルなどがあげられる。

［トリアリールメチル基」は上記のＣｏ−１０アリール
基が３個置換したメチル基（以後、「トリＣｍ−＋６ア
リールーメチル基」と略すこともある）を意味し、たと
えばトリデルなどがあげられる。

「アリールメチレン基」のアリール基は上記のＣ０−１
８アリール基がよく、したがって以後、ｒｃａ−１゜ア
リール−メチレン基」と略すこともある。Ｃａ−１゜ア
リール−メチレン基としてはたとえば、ベンジリデン＜
　ｃ　１１　Ｈｓ　ＣＨ＝　）などがあげられる。

「アルコキシ基」のアルキル基は上記のＣｌ−ａアルキ
ル基が好ましく、したがって以後、ｒｃ、−、アルコキ
シ基」と記すこともある。Ｃｌ−６アルコキシ基として
はたとえば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イ
ソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、　ｔｅｒｔ−ブトキシ、
アシルオキシ、ヘキシルオキシなどがあげられる。

「シクロアルキルオキシ基」のシクロアルキル基は上記
のＣ１−１゜シクロアルキル基が好ましく、したがって
以後、ｒｃ、、、、。シクロアルキルオキシ基」と記す
こともある。Ｃ１−１゜シクロアルキルオキシ基として
はたとえば、シクロプロピルオキシ、シクロペンチルオ
キシ、シクロへキシルオキシ、ノルボルニルオキシなど
があげられる。

「アリールオキシ基」のアリール基は上記のＣ。

−１゜アリール基が好ましく、したがって以後、「Ｃ６
−１゜アリールオキシ基」と記すことらある。Ｃ０−１
０アリールオキシ基としてはたとえば、フェノキシ、ナ
フチルオキシなどがあげられる。

「アラルキルオキシ基」のアラルキル基は上記のＣ？−
１９アラルキル基が好ましく、したがって以後、ｒｃｔ
−５ｅアラルキルオキシ基」と記すこともある。

Ｃ７−１１１アラルキルオキシ基としてはたとえば、ベ
ンジルオキシ、１−フェニルエチルオキシ、２−フェニ
ルエチルオキシ、ナフチルメチルオキシ。ベンズヒドリ
ルオキシ、トリチルオキシなどがあげられる。

「アルキルチオ基」のアルキル基は上記の０１−。

アルキル基が好ましく、したがって以後、ｒｃ、−。

アルキルチオ基」と記すこともある。Ｃ１−６アルキル
ヂオ基としてはたとえば、メチルチオ、エチルチオ、ｎ
−プロピルチオ、ｎ−ブチルチオなどがあげられる。

「アミノフルーＩ−ＩＩ／壬す一１ｆ、１の７１シ上１
しキナ其はト記のＣｌ−６アルキルチオ基が好ましく、
したがって以後、「アミノＣ１−６アルキルチオ基」と
記すこともある。アミノＣ１−、アルキルチオ基として
はたとえば、アミノメチルチオ、２−アミノエチルチオ
、３−アミノプロピルチオなどがあげられる。

「アルケニルチオ基」のアルケニル基は上記のＣ７−６
アルケニル基が好ましく、したがって以後、「Ｃ７−。

アルケニルチオ基」と記すことらある。Ｃ１−。

アルケニルチオ基としてはたとえば、ビニルチオ。

アリルヂオ、Ｉ−プロペニルチオ、イソプロペニルチオ
などがあげられる。

「シクロアルキルチオ基」のシクロアルキル基は上記の
０３−１゜シクロアルキル基が好ましく、したがって以
後、「Ｃ３−１０シクロアルキルチオ基」と記すことも
ある。Ｃ３−ｔｏシクロアルキルチオ基としてはたとえ
ば、シクロプロピルチオ、シクロへキンルヂオなどがあ
げられる。

「アリールチオ基」のアリール基は上記の０８−１゜ア
リール基が好ましく、したがって以後、ｒ　ｃ　ａ−＋
０アリールチオ基」と記すこともある。Ｃ６−７゜アリ
−ルチオ基としてはたとえば、フェニルチオ、ナフチル
チオなどがあげられる。

「アラルキルチオ基」のアラルキル基は上記の０７−１
．アラルキル基が好ましく、したがって以後、ｒｃｔ　
＋ｌ１１アラルキルヂオ基」と記すこともある。Ｃ？−
１１１アラルキルチオ基としてはたとえば、ベンジルチ
オ、フェニルエチルチオ、ベンズヒドリルチオ。

トリチルチオなどがあげられる。

「モノアルキルアミノ基」のアルキル基は上記の０１−
。アルキル基が好ましく、したがって以後、「モノＣ１
−６アルキルアミノ基」と記すこともある。モノＣ３−
、アルキルアミノ基としてはたとえば、メチルアミノ９
エチルアミノ、ｎ−プロピルアミノ、ｎ−ブチルアミノ
、ｔｅｒｔ−ブチルアミノ、ｎ−ペンチルアミノ、ｎ−
へキシルアミノなどがあげられる。

「ジアルキルアミノ基」のアルキル基は上記のＣ＋−ｓ
アルキル基が好ましく、したがって以後、「ジＣ１−、
アルキルアミノ基」と記すこともある。

ジＣ１−８アルキルアミノ基としてはたとえば、ジメチ
ルアミノ、ジエチルアミノ、メチルエチルアミノ、ジー
（ｎ−プロピル）アミノ、ジー（ｎ−ブチル）アミノな
どがあげられる。

（トリアルキルアンモニウム基」のアルキル基は上記の
０１−、アルキル基が好ましく、したがって以後、「ト
リＣ＋−ａアルキルアンモニウム基」と記すこともある
。トリＣ１−６アルキルアンモニウム基としてはたとえ
ば、トリメチルアンモニウム［（ＣＨ３）３Ｎｅ−’］
＋　トリエチルアンモニウムなどがあげられる。トリア
ルキルアンモニウム基はこれに対するアニオンを必ず伴
っている。このようなアニオンとしてはたとえば、ハロ
ゲンイオン（塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオンな
ど）、スルフェートイオン、ナイトレートイオン、カル
ボネートイオン、有機カルボキシレートイオン（たとえ
ばオギザレートイオン、トリフルオロアセテートイオン
など）、有機スルホネートイオン（たとえば、メタンス
ルホネートイオン、ｐ−トルエンスルホネートイオンな
ど）があげられる。有機カルボキシレートイオン、有機
スルホネートイオンなどは分子内の場合もある。

「シクロアルキルアミノ基」のシクロアルキル基は上記
のＣ，、、シクロアルキル基が好ましく、したがって以
後、ｒ’Ｃ５−＋。シクロアルキルアミノ基」と記すこ
ともある。Ｃ３−１０シクロアルキルアミノ基としては
たとえば、シクロプロピルアミノ、シクロペンチルアミ
ノ、シクロへキシルアミノなどがあげられる。

「アリールアミノ基」のアリール基は上記のＣｅ−１゜
アリール基が好ましく、したがって以後、「Ｃ１ｌ−１
０７リールアミノ基」と記すこともある。Ｃｅ−ｔ。

アリールアミノ基としてはたとえば、アニリノ。

Ｎ−メチルアニリノなどがあげられる。　「アラルキル
アミノ基」のアラルキル基は上記のＣ？−。

アラルキル基が好ましく、したがって以後、「Ｃ９−１
９アラルキルアミノ基」と記すこともある。Ｃ７−１８
アラルキルアミノ基としてはたとえば、ベンジルアミノ
、１−フェニルエチルアミノ、２−フェニルエヂルアミ
ノ、ベンズヒドリルアミノ、トリデルアミノなどがあげ
られる。

「原ｄＰアミノ某１は傍λ２オる上らな合窒崇ネ信弐百
すたはその二重結合を飽和したものの環形成窒素原子に
結合している水素原子を１個とりのぞいてできる基をい
い、たとえば！Ｈ−テトラゾールー１−イル、ｌ！（−
ピロール−１−イル、ピロリノ、ピロリジノ、ｌＨ−イ
ミダゾール−１−イル、イミダゾリノ、イミダゾリジノ
、ＩＨ−ピラゾール−１−イル、ピラゾリノ、ピラゾリ
ジノ、ピペリジノ、ピペラジノ、モルホリノなどがあげ
られる。「ヒドロキンアルキル基」のアルキル基は上記
の０１−６アルキル基が好ましく、したがって以後、「
ヒドロキシＣ＋−ａアルキル基」と記すこともある。ヒ
ドロキシＣ１−８アルキル基としてはたとえば、ヒドロ
キシメチル、ｌ−ヒドロキシエチル。２−ヒドロキシェ
ヂル、３−ヒドロキシプロピルなどがあげられる。

「メルカプトアルキル基」のアルキル基は上記の０１−
、アルキル基が好ましく、したがって以後、「メルカプ
トＣ１−８アルキル基」と記すこともある。メルカプト
Ｃ１−６アルキル基としてはたとえばメルカプトメチル
、１−メルカプトエチル、２−メルカプトエチルなどが
あげられる。

「アルコキシアルキル基」のアルコキシ基は上記のＣ１
−６アルコキシ基が、アルキル基は上記の０１−６アル
キル基が好ましく、したがって以後、「Ｃｌ−６アルコ
キシＣ１−６アルキル基」と記すこともある。

Ｃ５−。アルコキシＣｔ−Ｓアルキル基としてはたとえ
ば、メトキシメチル、エトキシメチル、２−メトキシエ
チルなどがあげられる。

「アルキルチオアルキル基」のアルキルチオ基は上記の
Ｃ＋−ａアルキルチオ基が、アルキル基は上記のＣｌ−
８アルキル基が好ましく、したがって以後、ｒｃ、−、
アルキルチオＣｒ−ｍアルキル基」と記すこともある。

Ｃ０−６アルキルチオＣ１−８アルキル基としてはたと
えば、メチルチオメチル、２−メチルチオエチルなどが
あげられる。

「アミノアルキル基」のアルキル基は上記のＣｌ−６ア
ルキル基が好ましく、したがって以後、「アミノＣ１−
ｍアルキル基」と記すこともある。アミノＣ１−８アル
キル基としてはたとえば、アミノメチル。

２−アミノエチル、３−アミノプロピルなどがあげられ
る。

「モノアルキルアミノアルキル基」は「モノＣｌ−６ア
ルキルアミノＣ１−６アルキル基」が好ましく、たとえ
ばメチルアミノメチル、エチルアミノメチル。

２−（Ｎ−メチルアミノ）エチル、３−（Ｎ−メチルア
ミノ）プロピルなどがあげられる。　「ジアルキルアミ
ノアルキル基」は「ジＣ４−６アルキルアミノＣｌ−６
アルキル基」が好ましく、たとえば、Ｎ、Ｎ−ジメヂル
アミノメチル、Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノメチル、２−（
Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）エチル、２−（Ｎ、Ｎ−ジエ
チルアミノ）エチル、３−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）
プロピルなどがあげられる。

「環状アミノアルキル基」の環状アミノ基は上記のもの
が好ましく、またアルキル基は上記のＣｌ−８７ミノ基
が好ましいので、したがって以後、「環状アミノＣ１−
。アルキル基」と記すこともある。環状アミノＣ１−。

アルキル基としてはたとえば、ピロリジノメチル、ピペ
リジノメチル、ピペラジノメチル１七ルホリノメチル、
２−（モルホリノ）エチルなどがあげられる。

「環状アミノアルキルアミノ基」の環状アミノアルキル
基は上記の環状アミノＣ＋−ｍアルキル基が好ましく、
したがって以後、「環状アミノＣＩ−ｓアルキルアミノ
基」と記すこともある。環状アミノＣ３−６アルキルア
ミノ基としてはたとえば、ピロリジノメチルアミノ、ピ
ペリジノメチルアミノ、ピペラジノメチルアミノ、モル
ホリノメチルアミノなどがあげられる。

「ハロゲノアルキル基」のアルキル基は上記の０１−８
アルキル基が好ましく、したがって以後、「ハロゲノＣ
１−。アルキル基」と記すこともある。ハロゲノＣ３−
８アルキル基としてはたとえば、フルオロメチル、ジフ
ルオロメチル、トリフルオロメチル。

クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル。

２−フルオロエチル、２．２−ジフルオロエチル。

２．２．２−トリフルオロエチル、２−クロロエチル、
２．２−ジクロロエチル、２，２．２−トリクロロエチ
ル、２−ブロモエチル、２−ヨードエチルなどがあげら
れる。

「シアノアルキル基」のアルキル基は上記のＣ，−ノＣ
＋−ａアルキル基」と記すことらある。シアノＣ１−６
アルキル基としてはたとえば、シアノメチル。

２−シアノエチルなどがあげられる。

「カルボキシアルキル基」のアルキル基は上記の０１−
、アルキル基が好ましく、したがって以後、「カルボキ
シＣ１−６アルキル ルボキシＣＩー＠アルキル基としてはたとえば、カルボ
キシメチル、１−カルボキシエチル、２−カルボキシエ
チルなどがあげられる。

「スルホアルキル基」のアルキル基は上記のＣ，−６ア
ルキル基が好ましく、したがって以後、「スルホＣ１−
６アルキル基」と記すこともある。スルホＣ１−６アル
キル基としてはたとえば、スルホメチル。

２−スルホエチルなどがあげられる。　「アルカノイル
アルキル基」のアルカノイル基は後記するＣ，−８アル
カノイル基が好ましく、またアルキル基は上記の０１−
６アルキル基が好ましいので、以後ｒＣｔ−ａアルカノ
イルＣ１−，アルキル基」と記すことらある。Ｃ，−８
フルカッイルＣ１−６アルキル基としてはたとえば、ア
セデルメチル、Ｉ−アセヂルエチル、２−アセチルエチ
ルなどがあげられる。

「アルカノイルオキシアルキル基」のアルカノイルオキ
シ基は後記するＣ１−、アルカノイルオキシ基が好まし
く、またアルキル基は上記のＣ２−。アルキル基が好ま
しいので、以後ｒｃｔ＋＠アルカノイルオキシＣＩ−、
アルキル基」と記すこともある。Ｃ７−６アルカノイル
オキシＣ１−８アルキル基としてはたとえば、アセトキ
シメチル、１−アセトキシエチル、２−アセトキシエチ
ルなどがあげられる。

「アルコキシカルボニルアルキル基」のアルコキシカル
ボニル基は後記するＣｌ−＋。アルコキシ−カルボニル
基が好ましく、またアルキル基は上記の０１−６アルキ
ル基が好ましいので、以後ｒｃｔ＋ｌ。アルコキシ−カ
ルボニルＣＩ＋１１アルキル基」と記すこともある。Ｃ
，−１゜アルコキシ−カルボニルＣ５−。

アルキル基としてはたとえば、メトキシカルボニルメチ
ル、エトキシカルボニルメチル、　ｔｅｒｔ−ブトキン
カルボニルメチルなどがあげられる。

「カルバモイルアルキル基」のアルキル基はＣｓ−８ア
ルキル基が好ましく、シたがって以後、［カルバモイル
Ｃ１−。アルキル基」と記すこともある。カルバモイル
Ｃｌ−６アルキル基としてはたとえば、カルバモイルメ
チルなどがあげられる。

「カルバモイルオキシアルキル基」のアルキル基はＣｌ
−６アルキル基が好ましく、シたがって以後、「カルバ
モイルオキシＣ＋−Ｓアルキル基」と記すこともある。

カルバモイルオキシＣｌ−Ｓアルキル基としてはたとえ
ば、カルバモイルオキシメチルなどがあげられる。

「ハロゲン原子Ｊとしてはたとえば、フッ素、塩素。

臭素、ヨウ素などがあげられる。

「アルカノイル基」は炭素数１〜６の脂肪族アシル基（
以後、「ＣＩ−。アルカノイル基」と略すこともある）
が好ましく、たとえばホルミル、アセチル、プロピオニ
ル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル
、ピバロイルなどがあげられる。このうちホルミルを除
いたアルカノイル基をｒｃｔ−ｓアルカノイル基」と記
すこともある。

「アルケノイル基」は炭素数３〜５のアルケノイル基（
以後、ｒＣｓ−ｇアルケノイル基」と略すこともある）
が好ましく、たとえばアクリロイル、クロトノイル、マ
レオイルなどがあげられる。

「ンクロアルキル力ルボニル基」のシクロアルキル基は
上記の０３−１０シクロアルキル基が好ましく、したか
って以後Ｊｃ３−１０シクロアルキルーカルボニル基」
と記すこともある。Ｃ３−５゜シクロアルキル−カルボ
ニル基としてはたとえば、シクロプロピルカルボニル、
シクロブチルカルボニル、シクロペンチルカルボニル、
シクロへキシルカルボニル。

シクロへブチルカルボニル、アダマンチルカルボニルな
どがあげられる。

「シクロアルケニルカルボニル基」のシクロアルケニル
基は上記のＣ６−、シクロアルケニル基が好ましく、シ
たがって以後、ｒｃ、、シクロアルケニル−カルボニル
基」と記すこともある。Ｃ６−。シクロアルケニル−カ
ルボニル基としてはたとえば、シクロペンテニルカルボ
ニル、シクロペンタジェニルカルボニル、シクロへキセ
ニルカルボニル、シクロへキサジェニルカルボニルなど
があげられる。

「アリールカルボニル基」のアリール基は上記のＧｏ−
１０アリール基が好ましく、シたがって以後、「Ｃ５−
ｔｏアリール−カルボニル基」と記すこともある。

Ｃ８−３゜アリール−カルボニル基としてはたとえば、
ベンゾイル、ナフトイルなどがあげられる。

「アラルキルカルボニル基」のアラルキル基は上記のＣ
？＋ｔｓアラルキル基が好ましく、したがって以後、ｒ
ｃ、、、アラルキル−カルボニル基」と記すこともある
。Ｃ？−ＩＩアラルキル−カルボニル基としてはたとえ
ば、フェニルアセチル、フェニルプロピオニル、α、α
−ジフェニルアセデル、α、α。

α−トリフェニルアセチルなどがあげられる。

「アルコキシカルボニル基」のアルキル基はここでは炭
素数１〜８の低級アルキル基のほか、上記の０３−＋ｏ
シクロアルキル基も含むものとする。したがってアルコ
キシカルボニル基は以後、「Ｃ１−１゜アルコキシ−カ
ルボニル基」と記すこともある。

Ｃｌ−＋ｏアルコキシーカルボニル基としてはたとえば
、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−プロ
ポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｎ−ブ
トキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、Ｌｅｒｔ
−ブトキシカルボニル、シクロペンチルオキシカルボニ
ル、シクロへキシルオキシカルボニル、ノルボルニルオ
キシカルボニルなどがあげられる。

「アリールオキシカルボニル基」のアリールオキシ基は
上記のＣａ−１０アリールオキシ基が好ましく、したが
って以後、ｒＣｓ−１゜アリールオキシ−カルボニル基
」と記すこともある。ｃ　＠＋１゜アリールオキシ−カ
ルボニル基としてはたとえば、フェノキシ、カルボニル
、ナフチルオキシカルボニルなどがあげられる。

「アラルキルオキシカルボニル基」のアラルキルオキシ
基は上記の０７−１゜アラルキルオキシ基が好ましく、
たとえばベンジルオキシカルボニル、ベンズヒドリルオ
キシカルボニル、トリチルオキシカルボニルなどがあげ
られる。

「置換オキシカルボニル基」は上記のＣＩ−ｔＯアルコ
キシ−カルボニル基、　ＣＳ＋ｔ。アリールオキシ−カ
ルボニル基または０．−ＩＩアラルキルオキシ−カルボ
ニル基をいう。

「アルキルチオカルボニル基」のアルキルチオ基は上記
のＣＩ−＠アルキルチオ基が好ましく、シたがって以後
Ｊｃ　、　＋＠アルキルチオーカルボニル基」と記すこ
ともある。Ｃ１−１１アルキルチオ−カルボニル基とし
てはたとえば、メチルチオカルボニル、エチルチオカル
ボニル、ｎ−プロピルチオカルボニル。

ｎ−ブチルチオカルボニルなどがあげられる。

「アルカノイルオキシ基」のアルカノイル基は上記の０
１−、アルカノイル基が好ましく、シたがって以後、ｒ
ｃ、、アルカノイルオキシ基」と記すこともある。Ｃ１
−６アルカノイルオキシ基としてはたとえば、ホルミル
オキシ、アセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオ
キシ、バレリルオキシ、ピバロイルオキシなどがあげら
れる。このうちホルミルオキシを除いたアルカノイルオ
キシ基を「Ｃ２−。アルカノイルオキシ基」と記すこと
もある。

「アルケノイルオキシ基」のアルケノイル基は上記のＣ
３−Ｓアルケノイル基が好ましく、シたがって以後、ｒ
ｃａ＋ｓアルケノイルオキシ基」と記すこともある。Ｃ
５−５アルケノイルオキシ基としてはたとえば、アクリ
ロイルオキシ、クロトノイルオキシなどがあげられる。

「モノアルキルカルバモイル基」のアルキル基は上記の
ＣＩ−。アルキル基が好ましく、シたがって以後、「モ
ノＣ＋−Ｓアルキルカルバモイル基」と記すこともある
。モノＣ＋−ａアルキルカルバモイル基としてはたとえ
ば、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル
などがあげられる。

「ジアルキルカルバモイル基」のアルキル基は上記のＣ
ｌ−６アルキル基が好ましく、シたがって以後、「ジＣ
１−８アルキルカルバモイル基」と記すこともある。ジ
Ｃ３−６アルキルカルバモイル基としてはたとえば、Ｎ
、Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ、Ｎ−ジエチルカルバ
モイルなどがあげられる。

「モノアルキルカルバモイルオキシ基」のモノアルキル
カルバモイル基は上記のモノＣ＋−Ｓアルキルカルバモ
イル基が好ましく、シたがって以後、［モノＣＩ−１ア
ルキルカルバモイルオキシ基」と記すこともある。モノ
Ｃ９−。アルキルカルバモイルオキシ基）−１，τけた
。Ｌ−女ｔｆ−間−ノ壬ｌＩ、−１１ルノくモＩ　ＩＩ
／オキシ、Ｎ−エチルカルバモイルオキシなどがあげら
れる。

「ジアルキルカルバモイルオキシ基」のジアルキルカル
バモイル基は上記のジＣ１−６アルキルカルバモイル基
が好ましく、シたがって以後、「ジＣ１−６アルキルカ
ルバモイルオキシ基」と記すこともある。ジａｔ二Ｓア
ルキルカルバモイルオキシてはたとえば、Ｎ，Ｎ−ジエ
チルカルバモイルオキシ．Ｎ．Ｎ−ジエチルカルバモイ
ルオキシなどがあげられる。

「アルキルスルホニル基」のアルキル基は上記の０１−
８アルキル基が好ましく、シたがって以後、「ｃｌ−、
アルキルスルホニル基」と記すこともある。Ｃ１−＠ア
ルキルスルホニル基としてはたとえば、メタンスルホニ
ル、エタンスルホニルなどがあげられる。

「アリールスルホニル基」のアリール基は上記のＣａ−
ｔｏアリール基が好ましく、シたがって以後、「０６−
１０アリールスルホニル基」と記すこともある。

Ｃｔｉ−＋ｏアリールスルホニル基としてはたとえば、
ベンゼンスルホニルなどがあげられる。

「アラルキルスルホニル基」のアラルキル基はと記のＣ
ｔ−１９アラルキル基が好ましく、したがって以後、ｒ
ｃ７−１ｅアラルキルスルボニル基」と記すこともある
。Ｃ、−、、アラルキルスルホニル基としてはたとえば
、フェニルメタンスルホニル、ジフェニルメタンスルホ
ニルなどがあげられる。　「アルキルスルホニルオキシ
基」のアルキルスルホニル基は上記のＣ１−６アルキル
スルホニル基が好ましく、シたがって以後、ｒＣ＋−ｓ
アルキルスルホニルオキシ基」と記すこともある。Ｃ１
−６アルキルスルホニルオキシ基としてはたとえば、メ
タンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシなどが
あげられる。

「アリールスルホニルオキシ基」のアリールスルホニル
基は上記のＣ６−１゜アリールスルホニル基が好ましく
、シたがって以後、ｒｃｓ−＋。アリールスルホニルオ
キシ基」と記すことらある。ｃ　＠＋１゜アリールスル
ホニルオキシ基としてはたとえば、ベンゼンスルホニル
オキシなどがあげられる。

「アラルキルスルホニルオキシ基」のアラルキルスルホ
ニル基は上記のＣｖ−＋ｓアラルキルスルホニル基が好
ましく、シたがって以後、ｒｃ７−ｔｏアリールスルホ
ニルオキシ基」と記すこともある。Ｃｔ−Ｉｌｌアラル
キルスルホニルオキシ基としてはたとえば、フェニルメ
タンスルホニルオキシ、ジフェニルメタンスルホニルオ
キシなどがあげられる。

「アミノ酸残基」は通常のアミノ酸のカルボキシル基の
水酸基をとりのぞいてできるアシル基をいい、具体的に
はたとえば、グリシル、アラニル、バリル、ロイシル、
イソロイシル、セリル、スレオニル。

システイニル、シスチニル、メチオニル、アスパラギル
、グルタミル、リジル、アルギニル、フェニルグリシル
、フェニルアラニル、チロシル、ヒスチジル。

トリプトファニル、プロリルなどがあげられる。

「含窒素複素環」は１〜敗個の、好ましくは１〜４個の
窒素原子（オキシド化されていてもよい）を含む５〜８
員環またはその縮合環をいう。このようｊ含窒素複素環
は窒素原子のほかに酸素原子、硫黄原子などのへテロ原
子をｌ〜数個、好ましくは１〜２個含んでいてもよい。

「含窒素複素環基」は上記の含窒素複素環の環形成炭素
原子に結合している水素原子を１個とりのぞいてできる
基をいう。　「複素環基」は複素環の炭素原子に結合し
ている水素原子を１個とりのぞいてできる基をいい、そ
のような摸索環はたとえば、窒素原子（オキシド化され
ていてもよい）、酸素原子、＠抗原子などのへテロ原子
を１〜数個、好ましくは１〜４個含む５〜８員環または
その縮合環をいう。このような複素環基としては具体的
には２−または３−ピロリル、３−．４−または５−ピ
ラゾリル、２−．４−または５−イミダゾリル。

１゜２．３−または１，２．４−トリアゾリル、ＩＨ−
または２Ｈ−テトラゾリル、２−または３−フリル、２
−または３−チェニル、２−．４−または５−オキサシ
リル、３−．４−または５−イソキサゾリル、Ｉ、２．
３−オキサジアゾール−４−または５−イル、１．２．
４−才キサジアゾール−３−または５−イル、Ｉ、２．
５−またはｌ、、３．４−オキサジアゾリル、２−．４
−または５−チアゾリル。

３−９４−または５−イソチアゾリル、１．２．３−デ
アジアゾール−４−または５−イル、ｌ、２．４−チア
ジアゾール−３−または５−イル、１，２゜５−または
１，３．４−チアジアゾリル、２−または３−ピロリジ
ニル、２−．３−または４−ピリジル、２−．３−また
は４−ピリジル−Ｎ−オキシド。

３−または４−ピリダジニル、３−または４−ピリダジ
ニル−Ｎ−オキシド、２−．４−または５−ピリミジニ
ル、２−．４−または５−ピリミジニル−Ｎ−オキシド
、ピラジニル、２−．３−または４−ピベリジニル、ピ
ペラジニル、３Ｈ−インドール−２−または３−イル、
２−．３−または４−ピラニル、２−．３−または４−
チオピラニル、ベンゾピラニル、キノリル、ピリド［２
，３−ｄコピリミジル。

１．５−．１．６−．１．７−．１．８−．２．６−ま
たは２．７−ナフチリジル、チェノ［２，３−ｄ］ピリ
ジル、ピリミドピリジル、ピラジノキノリル、ベンゾピ
ラニルなどがあげられる。

「複索環オキシ基」、「複素環チオ基」、「複素環アミ
ノ基」、「複素環カルボニル基」、「複素環アセチル基
」および「複素環カルボキサミド基」の複素環基はいず
れも上記の「複素環基」が好ましい。　「第４級アンモ
ニウム基」は上記の含窒素複素環の１個の３級窒素原子
上の不対電子が結合手となり、自らは４級化している基
をいう。したがってこれに対するアニオンを必ず伴って
いる。第４級アンモニウム基としてはたとえば、オキサ
シリウム。

チアゾリウム、イソキサゾリウム、イソチアゾリウム、
ピリジニウム、キノリニウムなどがあげられる。

アニオンとしてはたとえば、水酸イオン、ハロゲンイオ
ン（塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオンなど）、ス
ルフェートイオン、ナイトレートイオン。

カルボネートイオン、有機カルボキシレートイオン（た
とえばオギザレートイオン、トリフルオロアセテートイ
オンなど）、有機スルホネートイオン（たとえばｐ−）
ルエンスルホネートイオンなど）があげられる。有機カ
ルボキシレートイオン、有機スルホネートイオンなどは
分子内の場合もある。

右肩に記号遺を付した基は、その基が「置換基を有して
いてもよい基」であることを示す。たとえばアルキル米
紙は「置換基を有していてもよいアルキル基」を表わす
。この場合、置換基の数は１個だけに限定されず、置換
される基によつ゛ては同一または異なって２〜数個、好
ましくは２〜３個存在していてもよい。

ｒｃ、、。アリール０基Ｊ、ｒＣ７−＋！アラルキル０
基」。

ｒｃ、、。アリール真オキシ基」およびｒ　Ｃ？−，。

アラルキル９オキシ基」としてはそれぞれ、「フェニル
８基」。

「ベンジル０基」、「フェノキシ０基」および「ベンジ
ル贋オキシ基」がより好ましい。

本発明の化合物［１］において置換基Ｒ０は水素原子、
含窒素複素環基、アシル基またはアミノ基の保護基を表
わす。これらのうち置換基Ｒ０が含窒１ｇ複素環基であ
る化合物［Ｉ］またはアシル基である化合物［１］は各
種の細菌、特にセファロスポリン耐性菌に対する強い抗
菌作用を有し、しかもシュウトモナス属の閑に対して特
異な抗菌力を示す抗菌性化合物である。一方、置換基Ｒ
０が水素原子である化合物［１］またはアミノ基の保護
基である化合物［１］は置換基Ｒ０が含窒素複素環基ま
たはアシル基である上記の化合物［Ｉ］を製造する際（
こ、中間体として使用しうる有用な化合物である。

置換基Ｒ０としての含窒素複索環基（以後、記号Ｒａ　
で表わす場合もある）は前記したような「含窒素複索環
基」をいい、たとえば２−ピロリル、３−ピロリル、３
−ピラゾリル、４−ピラゾリル、５−ピラゾリル、２−
イミダゾリル、４−イミダゾリル。

５−イミダゾリル、Ｉ、２．３−トリアゾリル、１゜２
．４−トリアゾリル、ｌＨ−テトラゾリル、２８−テト
ラゾリル、２−オキサシリル、４−オキサシリル、５−
才キサゾリル、３−イッキザゾリル、４−イソキザゾリ
ル、５−イソキサゾリル、！、２．３−オキサジアゾー
ルー４−イル、１，２．３−才キサジアゾール−５−イ
ル、１．２．４−オキサジアゾール−３−イル、１．２
．４−才キサジアゾール−５−イル、１．２．５−オキ
サジアゾリル、ｌ、３゜４−オキサジアゾリル、２−チ
アゾリル、４−チアゾリル、５−チアゾリル、３−イソ
チアゾリル、４−イソチアゾリル、５−イソチアゾリル
、ｌ、２．３−チアジアゾール−４−イル、１，２．３
−チアジアゾール−５−イル、１，２．４−チアジアゾ
ール−３−イル、　１．２．４−チアジアゾール−５−
イル、Ｉ、２．５−チアジアゾリル、１，３．４−チア
ジアゾリル、２−ピロリジニル、３−ピロリジニル。

２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル、２−ピリ
ジル−Ｎ−オキシド、３−ピリジル−Ｎ−オキシト、４
−ピリジル−Ｎ−オキシド、３−ピリダジニル、４−ピ
リダジニル、３−ピリダジニル−Ｎ−オキシド、４−ピ
リダジニル−Ｎ−オキシド、２−ピリミジニル、４−ピ
リミジニル、５−ピリミジニル、２−ピリミジニル−Ｎ
−オキシド、４−ピリミノニル−Ｎ−オキシド、５−ピ
リミジニル−Ｎ−オキシド、ピラジニル、２−ピペリジ
ニル、３−ピペリジニル、４−ピペリジニル、ピペラジ
ニル。

３　Ｈ−インドール−２−イル、３Ｈ−インドール−３
−イルなどがあげられるが、特に２−ピリジル、３−ピ
リジル、４−ピリジル、２−イミダゾリル、４−イミダ
ゾリル、５−イミダゾリルなどが好ましい。

上記の含窒素複素環基は環上に置換基を有していてもよ
い。そのような置換基は１個だけに限定されず、置換さ
れる基によっては同一または異なって２〜数個、好まし
くは２〜３個存在していてもよい。このような含窒素複
素環上の置換基としてはたとえば、アルキル基、シクロ
アルキル基１アリール基、アラルキル基、水酸基、アル
コキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アミノ基、
モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、ハロゲン
原子。

ニトロ基、アジド基、シアノ基、カルボキシル基、アル
コキシカルボニル基、アルカノイル基、アルカノイルオ
キシ基、カルバモイル基、モノアルキルカルバモイル基
、ジアルキルカルバモイル基、カルバモイルオキシ基、
モノアルキルカルバモイルオキシ基、ジアルキルカルバ
モイルオキシ基などがあげられる。

置換基を有する含窒素複素環基としては上記したアルキ
ル基、アリール基、ハロゲン原子などが置換した２−イ
ミダゾリル基、もしくは４−ピリジル基の窒素原子に上
記のアルキル基やアラルキル基などが置換して該窒素原
子が４級化したＮ−置換ピニジニウム−４−イル基が好
ましい。このような置換−２−イミダゾリル基としては
たとえば、　　′１−メチルー２−イミダゾリル、４−
クロロ−２−イミダゾリルなどが、Ｎ−置換ピリジニウ
ムー４−イル基としてはたとえば、Ｎ−メチルピリジニ
ウム−４−イル、Ｎ−エチルピリジニウム−４−イル、
Ｎ−ベンジルピリジニウム−４−イル、Ｎ−（ｐ−フル
オロベンジル）ピリジニウム−４−イルなどがそれぞれ
あげられる。　置換基Ｒ０としてのアシル基（以後、記
号Ｒｂで表わす場合もある）は従来から知られているペ
ニシリン誘導体の６位のアミノ基に置換しているアシル
基やセファロスポリン誘導体の７位アミノ基に置換して
いるアシル基などをいう。このようなアシル基としては
アルカノイル基、アルケノイル基、シクロアルキルカル
ボニル基、シクロアルケニルカルボニル基。

アリールカルボニル基、複素環カルボニル基、などがあ
げられ、より具体的にはそれぞれＣ１−６アルカノイル
０基、Ｃ３−６アルケノイル来基、　Ｃ３−１゜シクロ
アルキル−カルボニル基、Ｃ８−６シクロアルケニルー
カルボニル基、　Ｃａ−＋。アリール８カルボニル基。

複素環“カルボニル基があげられる。

ＣＩ−ＩＩアルカノイル基としてはたとえば、ホルミル
、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、
バレリル５イソバレリル、ピバロイルなどがあげられる
。　Ｃ＋＋ｓアルカノイル“基で表わされる「置換基を
有していてもよいＣ１−６アルカノイル基」の置換基と
してはたとえば、■Ｃ１アルカノイル基（すなわちホル
ミル）の場合は複素環８カルボニル基が、また■Ｃ７−
８アルカノイル基（すなわちアセチル、プロピオニル、
ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピ
バロイルなど）の場合は以下に述べる「置換基Ｓｌ」が
あげられる。「置換基Ｓ１」はＣ３−ＩＱシクロアルキ
ル８基、Ｃ，−、シクロアルケニル１基、　Ｃ８−１０
アリール９基、水酸基＋Ｃｌ−１１アルコキシ基、　Ｃ
、、。シクロアルキルオキシ基、　Ｃ６−１゜アリール
８オキシ基＋Ｃ？−１１１アラルキル束オキシ基。

メルカプト基＋　ＣＩ−８アルキル真チオ基、アミノＣ
１−、アルキルチオ基＋Ｃｔ−８アルケニルＸチオ基＋
　Ｃ３−１０シクロアルキルチオ基、Ｃ６−Ｉｌｌアリ
ールＸチオ基。

Ｃ７−ｔｏアラルキル８チオ基、アミノ基、モノＣｌ−
６アルキルアミノ基、ジＣ６−、アルキルアミノ基、　
Ｃｚ−＋。シクロアルキルアミノ基、Ｃ６−ｔｏアリー
ル８アミノ基１Ｇ？−Ｉｌｌアラルキル０アミノ基、環
状アミノ×基。

へロアシト基、シアノ基、カルボキシル基、アシル“基
、置換オキシカルボニル基、Ｃｌ−８アルキルチオ−カ
ルボニル基、アシル＋オキシ基、アシル÷アミノ基、ア
シル１アミノアルキルチオ基、カルバモイル基、モノＣ
３−６アルキルカルバモイル基、ジＣ１−。アルキルカ
ルバモイル基、カルバモイルオキシ基、モノｃ＋−ｅア
ルキルカルバモイルオキシ基、ジＣ＋−Ｓアルキルカル
バモイルオキシ基、スルホ基。

ヒドロキシスルボニルオキシ基、ＣＩ−ａアルキルスル
ホニル基、Ｃ＠−＋ｏアリール６スルホニル基、　Ｃ７
−＋。アラルキル６スルホニル基、Ｃ１−。アルキルス
ルホニルオキシ基、Ｃａ−ｔｏアリール８スルホニルオ
キシ基、Ｃ？−Ｉｌ＋アラルキル０スルホニルオキシ基
、ウレイド８基、スルファモイルＸ基、複素環８基、複
素環蚕オキシ基、複素環７チオ基、複素環類アミノ基、
複素環９カルボニル基、複素環※カルボキサミド基また
は第４級アンモニウム５基をいう。これらの置換基の数
は１個に限定されず、置換基が２個以上の場合、それら
の置換基は同一でも、また異なっていてもよい。さらに
はそのうちの２個の置換基があわさって後記するような
Ｃ＝Ｃ二重結合またはＣ＝Ｎ二重結合を形成していても
よい。

Ｃ５−、アルケノイル９基で表わされる［置換基を有し
ていてもよいＣ１−、アルケノイル基」の置換基（以後
［置換基Ｓ”Ｊという）としてはたとえば、Ｃ３−１゜
シクロアルキル基、　ａ　ｌｌ＋１゜アリール１基、Ｃ
，−、アルコキシ基、Ｃｓ−＋ｏアリール”オキシ基、
Ｃｔ−＋ｓアラルキル０オキシ基、ハロゲン原子、シア
ノ基、カルボキシル基、アシル÷基、置換オキシカルボ
ニル基。

アシル÷オキシ基、複素環０基、第４級アンモニウム栗
基などがあげられる。

Ｃａ−＋。アリール釆カルボニル基で表わされる「置換
基を有していてもよいＣ，、、アリール−カルボニル基
」の置換基および複素環真カルボニル基で表わされる「
置換基を何していてもよい複素環基」の置換基（以後、
「置換基Ｓ３Ｊという）としてはたとえば、Ｃ１−、ア
ルキル基＋　Ｃ１−ａアルケニル基、Ｃａ−＋。

アリール基、Ｃ７−１ｘアラルキル基、ジＣ８−１０ア
リールーメヂル基、トリＣｇ＋＋。アリール−メチル基
、水酸基＋　ＣＩ−８アルコキシ基、ｃ　ｅ−ｔｏアリ
ールオキシ基、Ｃｔ−＋ａアラルキルオキシ基、メルカ
プト基、Ｃ４−、アルキルチオ基＋Ｃａ−１ｏアリール
チオ基、　Ｃ？−１゜アラルキルチオ基、アミノ基、モ
ノＣ＋−ａアルキルアミノ基、ジＣ１−６アルキルアミ
ノ基、ヒドロキシＣ１−６アルキル基、メルカプトＣ１
−６アルキル基、ハロゲノＣ１−８アルキル基、カルボ
キシＣ１−６アルキル基、ハロゲン原子、ニトロ基、ア
ジド基、シアノ基。

カルボキシル基、置換オキシカルボニル基、アシル１基
、アシル＋オキシ基、アシル＋アミノ基、カルバモイル
基、チオカルバモイル基、Ｃｔ−ａアルキルスルボニル
基、Ｃａ−１ａアリールスルホニル基、Ｃ７−１ａアラ
ルキルスルホニル基などがあげられる。

上記したＣ１−６アルカノイル基＊　０３−８アルケノ
イル基、　Ｃ＊−＋。アリール−カルボニル基および複
素環カルボニル基の置換基（Ｓ　’、Ｓ″およびＳ３）
で以下に述べるもの以外の基は前記した基をここでも意
味する。　　Ｃ８−１゜アリール９基、フェニル９基。

Ｃａ−＋ｏアリール毫オキシ基、フェノキシ８基、Ｃｏ
−ｔ。

アリール８チオ基＋　ＣＢ−１ｏアリール６アミノ基、
Ｃ８−１ｏアリール８スルホニル基およびｃｓ−ｔｏア
リール８スルホニルオキシ基のＣ６−１０アリール基の
置換基としては、上記の置換基Ｓ３がここでもそのまま
あげられる。

Ｃ？−１！アラルキル８基、ベンジル８基＋　Ｃ７−＋
　＠アラルキル０オキシ基、ベンジルＸオキシ基、Ｃｔ
−＋ｓアラルキル寮チオ基１ｃ？−１＋＋アラルキル”
アミノ基、Ｃ７−１、アラルキル０スルホニル基および
Ｃ７−１９アラルキル８スルホニルオキシ基のＣｔ−１
２またはＣ７−ＩＩアラルキル基の芳香環の置換基とし
ては、上記の置換基Ｓ３がここでもそのままあげられる
。複索環８基、複素環８オキシ基、複素環８チオ基、複
素環０アミノ基、複素環９アセチル基および複素環８カ
ルボキサミド基の複素環の置換基として 上記の置換基Ｓ３がここでもそのままあげられる。

第４級アンモニウム８基の含窒素複素環上の置換基とし
ては、上記の置換基Ｓ３がここでもそのままあげられる
。　Ｃ１−６アルキル１基で表わされる「置換基されて
いてもよいＣ１−８アルキル基」の０１−６アルキル基
の置換基としては、上記の置換基Ｓ１がここでもそのま
まあげられる。

Ｃｔ−ｔ。シクロアルキル８基およびＣ５−６シクロア
ルケニルｘ基で表わされる「置換されていてもよいＣ０
−１゜シクロアルキル基」および「置換されていてもよ
いＣｓ−６シクロアルケニル基」の置換基としては、上
記の置換ＪＪ　Ｓ　３がここでもそのままあげられる。

Ｃ３−６アルキル８チオ基で表わされる「置換されてい
てもよいＣ３−、アルキルチオ基」の０１−６アルキル
チオ基の置換基（以後、「置換基Ｓ’Ｊという）として
はたとえば、水酸基、Ｃｔ−ａアルコキシ基、Ｃ３−３
゜シクロアルキルオキシ基、Ｃ６−１゜アリール８オキ
シ基、Ｃｔ−＋ｅアラルキル６オキシ基、メルカプト基
。

Ｃｔ−ａアルキルチオ基’、Ｃ３−１゜シクロアルキル
チオ基、　ｃ　１１−１゜アリール１チオ基、ｃ？−Ｉ
ｓアラルキル０チオ基、アミノ基、モノＣ１−、アルキ
ルアミノ基、ジＣ１−６アルキルアミノ基、環状アミノ
巖基、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、カル
バモイル基、アシル１オキシ基、スルホ基、第４級アン
モニウム８基などがあげられる。

Ｃ２−。アルケニル雇チオ基で表わされる「置換されて
いてもよいＣｔ−Ｓアルケニルチオ基」のＣｔ−Ｓアル
ケニルチオ基の置換基（以後、［置換基ＳＳＪという）
としてはたとえば、ハロゲン原子、シアノ基。

カルボキシル基、カルバモイル基、モノＣ１−。アルキ
ルカルバモイル基、ジＣ１−６アルキルカルバモイル基
、チオカルバモイル基などがあげられる。

「アシル◆基」は上記のＣｔ−ａアルカノイル基、　Ｃ
ａ−１゜アリール秦カルボニル基、　Ｃｔ−＋。アラル
キル東カルボニル基、複素環０カルボニル基または複素
環層アセチル基をいう。したがってアシル÷基の代表的
なものをあげるとたとえば、ホルミル１アセデル。

プロピオニル、ｎ−ブチリル、イソブチリル、バレリル
、ピバロイル、ｎ−ヘキサノイル、クロロアセチル。

ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、３−オキツブ
チリル、４−クロロ−３−オキソブチリル、３−カルポ
キシブロビオニル、４−カルボキシブチリル、３−エト
キシカルバモイルプロピオニル、ベノゾイル、ナフトイ
ル、ｐ−メチルベンゾイル、ｐ−ヒドロキシベンゾイル
、ｐ−メトキシベンゾイル、ｐ−クロロベンゾイル、ｐ
−ニトロベンゾイル、０−カルボキシベンゾイル、０−
（エトキシカルボニルカルバモイル）ベンゾイル、０−
（エトキシカルボニルスルファモイル）ベンゾイル、フ
ェニルアセチル、ｐ−メチルフェニルアセチル、ｐ−ヒ
ドロキシフェニルアセデル、ｐ−メトキシフェニルアセ
チル、２．２−ジフェニルアセチル、２−チェニルカル
ボニル。

２−フリルカルボニル、２−．４−または５−チアゾリ
ルアセチル、２−または３−チェニルアセチル、２−ま
たは３−フリルアセチル、２−アミノ−４−または５−
チアゾリルアセチル、５−アミノ−３−チアジアゾリル
アセチルなどがあげられる。

「アシルナオキシ基」および「アシル令アミノ基」のア
シル１基は上記のアシル÷基をいい、したがって「アシ
ル÷オキシ基」としてはたとえば、ホルミルオキシ、ア
セトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、バレ
リルオキシ、ピバロイルオキシ、クロロアセトキシ、ジ
クロロアセトキシ、トリクロロアセトキシ、３−オキツ
ブチリルオキシ、４−クロロ−３−オキソブチリルオキ
シ。３−カルボキシプロピオニルオキシ、４−カルボキ
シブチリルオキシ、３−エトキシカルバモイルプロピオ
ニルオキシ、ベンゾイルオキシ、ナフトイルオキシ、ｐ
−メチルベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシベンゾイルオ
キシ、ｐ−クロロベンゾイルオキシ、０−カルボキシベ
ンゾイルオキシ、０−（エトキシカルボニルカルバモイ
ル）ベンゾイルオキシ、０−（エトキシカルボニルスル
ファモイル）ベンゾイルオキシ、フェニルアセチルオキ
シ、ｐ−メチルフェニルアセチルオキシ、ｐ−メトキシ
フェニルアセチルオキシ、ｐ−クロロフェニルアセチル
オキシ、２．２−ジフェニルアセチルオキシ、チェニル
カルボニルオキシ、フリルカルボニルオキシ、チアゾリ
ルアセチルオキシ、チェニルアセチルオキシ、フリルア
セチルオキシなどが、また「アシル令アミノ基」として
はたとえば、アセトアミド（ＣＨ，ＣＯＭＨ−）　、ベ
ンズアミド（Ｃ，１１，Ｃ０Ｎ１＋−）、フェニルアセ
トアミド（Ｃ，Ｉｌ、ＣＩＩ、Ｃ０ＮＩＩ〜）、２−チ
ェ°ルアゞドア４ド（１１１７゜１１．。。Ｎｉ１−）
などがあげられる・「アシル＋アミノアルキルチオ基」
のアシル１アミノ基およびアルキルチオ基はそれぞれ前
記のアシル令アミノ基およびＣ１−６アルキルチオ基を
意味し、したがってこのような「アシル◆アミノＣ１−
６アルキルチオ基」としてはたとえば、アセトアミドメ
チルチオ、２−アセトアミドエチルチオなどがあげられ
る。

「アリールアシル十基」はｒｃ、、。アリール−アシル
１基」がよく、たとえばベンゾイル、フタロイル。

ナフトイル、フェニルアセチルなどがあげられる。

「アリールアシル◆オキシ基」はｒｃ６−、、アリール
−アシル÷オキシ基」がよく、たとえばベンゾイルオキ
シ、ナフトイルオキシ、フェニルアセチルオキシなどが
あげられる。

「ウレイド０基」で表わされる「置換されていてもよい
ウレイド基」のウレイド基の置換基としてはたとえば、
ＣＩ−。アルキル基＋Ｃ１＋−１０７リール棗基。

Ｃｔ−＋ｓアラルキル６基、アシル÷基、カルバモイル
基。

スルホ基（ナトリウム、カリウムなどと適宜に塩を形成
していてもよい）２スルファモイル基、アミジノ基など
があげられる。

「スルファモイル０基」で表わされる「置換されていて
もよいスルファモイル基」のスルファモイル基の置換基
としてはたとえば、Ｃ８−６アルキル基。

アミジノ基などがあげられる。

「カルバモイル米紙」および「カルバモイル秦オキシ基
」で表わされる「置換されていてもよいカルバモイル基
」の置換基としてはたとえば、Ｃ１−８アルキル基、Ｃ
＠−＋ｏアリール０基、Ｃ？−＋ｔアラルキル９基。

アシル◆基などがあげられ、また、カルバモイル基の窒
素原子が含窒素複素環の環形成窒素原子である場合も含
まれる。

「チオカルバモイルＸ基」で表わされる「置換されてい
てもよいチオカルバモイル基」の置換基としてはたとえ
ば、ＣＩ−＠アルキル基、　ｃ　＠−１゜アリール０基
、　Ｃ７＋＋　、アラルキル８基、アシル＋基などがあ
げられ、また、チオカルバモイル基の窒素原子が含窒素
複素環の環形成窒素原子である場合も含まれる。

「環状アミノ８基」で表わされる「置換されていてもよ
い環状アミノ基」の環状アミノ基の置換基（以後、「置
換基５ＩＩＪという）としてはたとえば、Ｃ＋　−ａア
ルキル基、Ｃ，、アルケニル基、Ｃｓ−＋。シクロアル
キル基、Ｃ６−１０アリール巖基、Ｃ７−＋ｔアラルキ
ル９基、ジＣ６−１゜アリール−メチル基、トリＣｍ−
１０アリール−メチル基、水酸基＋Ｃ＋−ａＣ＋−上シ
基、Ｃ６−１゜アリール８オキシ基、Ｃ７−＋ｓアラル
キル０オキシ基、メルカプト基、ＣＩ−。アルキルチオ
基、　ａ　ｌｌ＋１゜アリール巖チオ基、Ｃ７−＋ｓア
ラルキル０チオ基、アミノ基、モノＣ７−６アルキルア
ミノ基、ジＣ１−６アルキルアミノ基、　ＣＩ＋＋。ア
リール８アミノ基、Ｃｔ−＋＋＋アラルキル１アミノ基
、ハロゲン原子、ニトロ基、アジド基、オキソ基、チオ
キソ基、シアノ基、カルボキシル基、アシル＋基、置換
オキシカルボニル基、アシル１オキシ基、アシル＋アミ
ノ基、カルバモイル基、カルバモイルオキシ基、チオカ
ルバモイル基、スルホ基などがあげられる。

ＣＩ−ｔ＋アルカノイルＸ基のひとつとして前記した複
素環崖カルボニル基で置換されたホルミル基はすなわち
複素環’−ｃ　ｏ　−ｃ　ｏ−なる式を有するアシル基
で、該複索環真基は前記のものがここで６あげられるが
、置換基を有していてもよいオキサシリル基、チアゾリ
ル基、オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基などがよ
り好ましい。このような［複素環”−Ｇｏ−Ｃｏ−Ｊな
る基としてはたとえば、２−（２−，４−または５−オ
キサシリル）−２−オキソアセチル、２−（２−，４−
または５−チアゾリル）−２−オキソアセチル、２−（
２−アミノ−４−チアゾリル）−２−オキソアセチル。

２−（１，２，４−オキサジアゾール−３−または５−
イル）−２−オキソアセチル、２−（１，２，４−チア
ジアゾール−３−または５−イル）−２−オキソアセデ
ル、２−（５−アミノ−１，２，４−デアジアゾール−
３−イル）−２−オキソアセチルなどがあげられる。

Ｃ７−６アルカノイル８基としては置換基を有するアセ
チル基が最も好ましい。置換基を有するアセチル基の置
換基の数は１〜３個であり、置換基は／’　　−−Ｆ　
＋＋、−ｈ　）　ｌ　＋１．ｉｌｌ、ＭＩＩＭ＆ｆ、　
Ｌ、　Ｉ　フ詰ｆコＩＪ−ｒｅ換基Ｓｌ」がここでもあ
げられる。置換基の数が２〜３個の場合、それらの置換
基は同一でも、また異なっていてもよく、さらには２個
の置換基があわさって二重結合を形成していてもよい。

モノ置換アセチル基としてはｒ（”ＣＨ，ＧＯ−と表す
ことができる。

一方、トリ置換アセチル基としてはそのうちの２個の置
換基があわさってＣ＝Ｃ二重結合もしくはＣ＝Ｎ二重結
合を形成しているものがよく、それぞれ とができる。

ここで記号Ｒ”−Ｒ”、Ｒ”およびＲ”は前記した置換
基（Ｓつを意味し、記号Ｒ”Ｊｔ　１９およびＲ１につ
いては後記する。以下、これらの置換基（Ｒ■５〜Ｒ■
）を有するアセチル基について詳述する。

ｉ　）　　Ｒ”　ＣＨ＊　ＣＯ− 記号ＲＩＳは前記のＣｌ−６アルキル基の置換ＷｓＣ８
１）を意味するが、とりわけ、ｃｓ−ａシクロアルケニ
ル基、　Ｃａ−＋。アリール聚基、Ｃｅ−＋ｏアリール
１オキシ基＋　ＣＩ−８アルキル８チオ基、Ｃ１−＠ア
ルケニル８ヂオ基、ｃａ　＋ｌ１１アリ・−ル９チオ基
、アミノ基、環状アミノ基、シアノ基、アシル＋基、ア
シル÷オキシ基、複素環真基１Ｗ１素環８チオ基、第４
級アンモニウムｘ基などが繁用される。したがって「ア
シル基Ｒ”ＣＨ，ＣＯ−」としてはたとえば、１．４−
シクロへキザジエニルアセチル、フェニルアセチル、ｐ
−）ジルアセチル。ｐ−ヒドロキシフェニルアセチル、
ｐ−メトキシフェニルアセチル、ｐ−クロロフェニルア
セチル、Ｏ−アミノメチルフェニルアセチル、フェノキ
シアセチル、ｐ−ヒドロキシフェノキシアセチル、ｐ−
クロロフェノキシアセチル、シアツメデルチオアセチル
、ジフルオロメチルチオアセチル、トリフルオロメチル
チオアセチル、（２−カルボキシエチル）チオアセチル
、（２−アミノ−２−カルボキシエチル）チオアセチル
、（２−クロロビニル）チオアセチル、（２−カルボキ
シビニル）チオアセチル、（２−フルオロ−２−カルバ
モイルビニル）チオアセデル、（１，２−ジクロロビニ
ル）チオアセチル、（２−クロロ−２−カルボキシビニ
ル）チオアセチル。

フェニルチオアセデル、ｐ−ヒドロキシフェニルチオア
セデル、グリシル、ｌ！４−テトラゾリル−１−イルア
セデル、３．５−ジクロロ−４−オキソ−１゜４−ジヒ
ドロピリジン−１−イルアセチル、シアノアセデル、ア
セトアセチル、ベンゾイルアセチル。

フリルカルボニルアセデル、チェニルカルボニルアセデ
ル、（ｌＨ−テトラゾリル）アセチル、ｌ−メチル−Ｉ
　Ｈ−テトラゾリルアセチル、（２−フリル）アセチル
、（２−チェニル）アセデル、（３−チェニル）アセチ
ル、（４−オキサシリル）アセチル、（４−チアゾリル
）アセチル、（２−アミノ−４−チアゾリル）アセデル
、（１，２，４−チアジアゾール−３−イル）アセチル
、（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イ
ル）アセチル、（２−ピリジル）アセデル、（４−ピリ
ジル）アセチル、（２−イミダゾリル）チオアセチル、
（２−ピリジル）チオアセチル、（４−ピリジル）チオ
アセチル、（２−チェニル）チオアセチル、ヒドロキシ
ピリジルチオアセチル。

（５−イソチアゾリル）チオアセチル、（３−メチルチ
オ−５−イソチアゾリル）チオアセチル、（４−シアノ
−５−イソチアゾリル）チオアセチル、（４−ジアツー
２−メチル−３−オキソ−２，３−ジヒドロイソチアゾ
ール−５−イル）チオアセチル。

ピリジニウムアセチル、キノリニウムアセチルなどがあ
げられる。

記号Ｒ”は前記の置換基（Ｓつを意味するが、とりわけ
、ＣＳ−＊シクロアルケニル基、　ｃ　ａ＋１゜アリー
ル８基、　Ｃａ−＋。アリール０オキン基、Ｃｌ−８ア
ルキル来チオ基、Ｃｔ−ａアルケニル１チオ基、Ｃｏ−
＋ｏアリール８チオ基基環環状アミノ基シアノ基、複素
環９基。

複素環８チオ基、複素環８カルボキサミド基、第４級ア
ンモニウム贋基などがここでも繁用される。また記号Ｒ
”も前記の置換基を意味するが、とりわけ、水酸基、メ
ルカプト基、アミノ基、アミノ酸残基で置換されたアミ
ノ基、ヒドラジノ基、アジド基、ウレイド９基、アシル
１オキシ基、アシル＋アミノ基、カルボキシル基、置換
オキシカルボニル基、スルホ基。

スルファモイル基、カルバモイル基、複素環Ｘカルボキ
シエチルなどが好ましい。これらのうち置換基Ｒ′７が
アミノ基のもの （すなわちＲ”ＣＨ−ＣＯ−”）は特に「アミノ酸残Ｎ
Ｈ。

基」として分類される ＣＯ−」としてはたとえば２−アミノ−２−（１゜４−
シクロへキサジェニル）アセデル、マンゾリル。

α−アジドフェニルアセデル、α−カルボキシフェニル
アセデル、α−（フェノキンカルボニル）フェニルアセ
チル、α−（Ｏ−ヒドロキシフェニル）オキシカルボニ
ルフェニルアセチル、α−（ｐ−トリルオキシカルボニ
ル）フェニルアセチル、α−スルホフェニルアセチル、
α−スルホ−ｐ−ヒドロキシフェニルアセチル、α−ウ
レイドフェニルアセチル、α−（ＮＹ−スルホウレイド
）フェニ）レアセチル、α−カルボキシ−ｐ−ヒドロキ
シフェニルアセチル、α−（ホルミルオキン）フェニル
アセチル、α−（２−アミノ−３−カルボキシプロピオ
ンアミド）フェニルアセチル、α−（３−アミノ−３−
カルボキシプロピオンアミド）フェニルアセチル、α−
（３，４−ジヒドロキシベンズアミド）フェニルアセチ
ル。

α−（５−カルボキシ−４−イミダゾリルカルボキサミ
ド）フェニルアセチル、α−（ｌ、３−ジメチル−４−
ピラゾリルカルボキサミド）フェニルアセチル、５−フ
ェニル−３−イソキサゾリルカルボキサミド）フェニル
アセチル、α−［１−（ｐ−メトキシフェニル）−４−
クロロ−１，２，３−）−リアゾール−５−イルカルボ
キサミトコフェニルアセチル、α−（４−オキソ−１，
４−ジヒドロピリジン−３−イルカルボキサミド）フェ
ニルアセチル、α−［２−オキソ−５−（３，４−ジヒ
ドロキシフェニル）−１，２−ジヒドロピリジン−３−
イルカルボキサミトコフェニルアセチル、α−（４−オ
キソ−４Ｈ−１−チオピラン−３−イルカルボキサミド
）フェニルアセチル、α−（４−ヒドロキシ−１，５−
ナフチジノン−３−イルカルボキサミド）フェニルアセ
デル、α−（４−エチル−２，３−ジオキソピペラノノ
カルボキサミド）フェニルアセチル、α−（４−エチル
−２，３−ジオキソピペラジノカルボキサミド）−ｐ−
ヒドロキシフェニルアセチル、α−（４−エチル−２，
３−ジオキソピペラジノカルボキサミド）−ｐ−ベンジ
ルオキシフェニルアセチル、α−（４−エチル−２，３
−ジオキソピペラジノカルボキサミド）−ｐ−スルホフ
ェニルアセチル、α−（４−エチル−２，３−ジオキソ
ピペラジノカルボキサミド）−ｐ−メトキシフェニルア
セチル、α−（２−オキソイミダゾリジノカルボキサミ
ド）フェニルアセチル、α−（２−オキソ−３−メタン
スルホニルイミダゾリジノカルボキサミド）フェニルア
セチル、α−（６，７−シヒドロキシー４−オキソ−４
Ｈ−ベンゾピラン−３−イルカルボキサミド）フェニル
アセチル、α−（６，７−シヒドロキシー２−オキソ−
２Ｈ−ベンゾピラン−３−イルカルボキサミド）フェニ
ルアセチル。

α−ヒドロキシ−２−チェニルアセチル、α−ヒドロキ
シ−３−チェニルアセチル、α−カルボキシ−３−チェ
ニルアセチル、α−アミノ−α−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）アセチル、α−ホルムアミド−α−（２
−アミノチアゾール−４−イル）アセチル、α−アセト
アミド−α−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセ
チル、α−ホルムアミド−α−（２−アミノ−５−クロ
ロチアゾール−４−イル）アセチル、α−アセトアミド
−α−（２−アミノ−５−クロロチアゾール−４−イル
）アセチル、α−ホルムアミド−α−（５−アミノ−１
，２，４−デアジアゾール−３−イル）アセチル。

α−アセトアミド−α−（５−アミノ−１，２，４−チ
アジアゾール−３−イル）アセチル、α−ヒドラジノ−
α−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセチル、α
−ヒドロキシ−α−（２−アミノチアゾール−４−イル
）アセチル、α−ウレイド−α−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）アセチル、α−［ＮＹ　−（ｍ−ヒドロ
キシフェニル）ウレイド］フェニルアセチル、°α−［
ＮＹ−（２−メチル−６−ヒトロキシピリミジンー５−
イル）ウレイド」フェニルアセチル、α−ｒ、ＮＹ−（
３，４−ジアセトキシベンゾイル）ウレイド］フェニル
アセチル、α−［ＮＹ−（３，４−ジヒドロキシシンナ
モイル）ウレイド］フェニルアセチル、α−［ＮＹ−（
３，４−ノアセトキシベンズアミドアセチル）ウレイド
」フェニルアセチル、α−［ＮＹ　−（２−フリルカル
ボニル）ウレイドコフェニルアセチル、α−［ＮＹ　−
（６，７−シヒドロー４−オキソ−４Ｈ−ベンゾピラン
−３−イルカルボニル）ウレイド］フェニルアセチル、
　α−（２−クロロビニルチオ）フェニルアセチル、α
−カルバモイル−α−（２−クロロビニルチオ）アセデ
ル、α−（４−エチル−２，３−ジオキソピペラジノカ
ルボキサミド）−α−（２−クロロビニルチオ）アセチ
ル、α、α−ビスー（４−エチル−２゜３−ジオキソ−
１−ピペラジノカルボキサミド）アセチル、α−（２−
アミノ−４−チアゾリル）−α−（４−エチル−２，３
−ジオキソ−１−ピペラジノカルボキサミド）アセチル
、α−（４−ヒドロキシ−６−メチルニコチンアミド）
−α−フェニルアセチル、α−（４−ヒドロキシ−６−
メチルニコチンアミド）−α−（４−ヒドロキシフェニ
ル）アセチル、α−（５，８−ジヒドロ−２−（４−ホ
ルミル−１−ピペラジニル）−５−オキソピリド［２゜
３−ｄ］ピリミジン−６−カルボキサミド）−α−フェ
ニルアセチル、α−（３，５−ジオキソ−１，２゜４−
トリアジン−６−カルボキサミド）−α−（４−ヒドロ
キシフェニル）アセチル、α−（３−フルフリデンアミ
ノ−２−オキソイミダゾリジン−１−カルボキサミド）
−α−フェニルアセチル、α−（クマリン−３−カルボ
キサミド）−α−フェニルアセチル、α−（４−ヒドロ
キシ−７−メチル−１゜８−ナフチリジン−３−カルボ
キサミド）−α−７エニルアセチル、α−（４−ヒドロ
キシ−７−ドリフルオロメチルキノリンー３−カルボキ
サミド）−α−フェニルアセチル、Ｎ−［２−（２−ア
ミノ−４−チアゾリル）アセチル］−Ｄ−フェニルグリ
シル、α−（６−ブロモ−１−エチル−１，４−ジヒド
ロ−４−オキソチェノ［２，３−、ｂｌピリジン−３−
カルボキサミド）−α−フェニルアセチル、α−（４−
エチル−２，３−ジオキソ−１−ピペラジノカルボキサ
ミド）−α−ヂエニルアでチル、α−（４−ｎ−ペンデ
ル−２，３−ジオキソ−！−ビベラノノカルボキサミド
）−α−ヂエニルアセヂル。

α−（４−ｎ−オクチル−２，３−ジオキソーｌ−ピペ
ラジノカルポキサミド〕−α−チェニルアセチル、α−
（４−シクロへキシル−２，３−ジオキソ−１−ピペラ
ジノカルボキサミド）−α−ヂエニルアセチル、α−［
４−（２−フェニルエチル）−２，３−ジオキソ−１−
ピペラジノカルボキサミド］−α−チェニルアセチル、
α−（３−フルフリデンアミノ−２−オキソイミダゾリ
ジン−１−カルボキサミド）−α−（４−ヒドロキシフ
ェニル）アセチルなどが例示される。　またアミノ酸の
残基（ｒｔ”ＣＨＣＯ−）としてはここでもたとえば、
　Ｈｔ アラニル、バリル、ロイシル、イソロイシル、セリル。

スレオニル、システイニル、シスチニル、メチオニル、
アスパラギル、グルタミル、リジル、アルギニル。

フェニルグリシル、フェニルアラニル、チロシル。

ヒスチジル、トリプトファニル、プロリルなどが例。

示される。またこれらのアミノ酸残基のアミノ基は後記
するようなアミノ基の保護基で保護されていてもよい。

［アミノ基が保護されたアミノ酸残基］としてはたとえ
ば、Ｎ−ベンジルオキシカルボニルアラニル、Ｎ−ベン
ジルオキシカルボキサミドフェニルグリシルなどがあげ
られる。またアミノ酸残基のアミノ基はさらにもうひと
つのアミノ酸残基で置換されていてもよい。このような
アシル基はすなわち「ジペプチドの残基」であり、この
ようなアシル基としてはたとえば、フェニルグリシル−
アラニル、ベンジルＮ　−ヘンシルオキシカルボニル−
γ−グルタミルーアラニル、アラニル−フェニルグリシ
ル、γ−アスパルチル＝７エニルグリシル、γ−グルタ
ミルーアラニルなどがあげられる。またアミノ酸残基の
アミノ基は環状カルバモイル基で置換されていてもよい
。この上うなアシル基としてはたとえば、Ｎ−（４−エ
チル−２，３−ジオキソ−！−ピペラジノカルボニル）
アラニル、Ｎ−（４−エチル−２，３−フチオキソ−ｌ
−ピペラジノカルボニル）フェニルグリシル、Ｎ−（４
−エチル−２，３−ジオキソ−■−ピペラジノカルボニ
ル）スレオニルなどがあげられる。

同一または異なって水素原子、ハロゲン原子（フッＬｉ
ｔ臭素、ヨウ素）、ヒドロキシメチル基、ジフルオロメ
チル基、トリフルオロメチル基、ホルミル基、シアノ基
、アジド基、カルボキシル基、カルバモイル基、Ｃ＋−
Ｓアルキルチオ基またはＣｅ−＋ｏアリール来チオ基を
示す］で表わされるアシル基も使用される。このような
アシル基としてはたとえばられる。

１ｉｉ）　　Ｒ”−ＣＣｏ− ρ 記号Ｒ”は前記の置換基（Ｓつを意味するが、とりわけ
Ｃ８−５゜アリール米基、　ｃ　１１−１゜アリール棗
オキシ基、Ｃｍ−＋ｏアリール豪チオ基、複素環ゞ基、
複素環８チオ基などが繁用される。記号ＲＩＩ′は水素
原子またはハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素
）を表わし、ハロゲン原子としては塩素が好ましい。

８２号Ｒ”　ｉ、ｉ　ＣＩ−Ｃ７ルキシｌ＆　、　Ｃｅ
−＋ｏ７　’）　−ル”基。

Ｃ１−８アルキルチオ基、ハロゲン原子、シアノ基、ア
ミノ基＋Ｃｌ−６アルキルスルホニル基、Ｃｍ−１ａア
リール９スルホニル基、カルバモイル基、Ｃｔ−ａアル
コキシイミドイル基または複素環９基を表わす。ここで
Ｃ９−８アルコキシイミドイル基のＣ１１アルコキシ基
は前記の０１−６アルコキシ基がより、シたがってＣ８
−８アルコキシイミドイル基としてはたとえば、メトキ
シイミドイル げられる。その他の基はいずれも前記した基がここでも
そのままあてはめられる。したがって「アシル基Ｒ”−
Ｃ−Ｃｏ−Ｊとしてはたとえば、２ρ ＝（２−アミノ−４−デアゾリル）−３−クロロアクリ
ロイル、２−（２−アミノ−４−チアゾリル）クロトノ
イル、２−（２−アミノ−４−チアゾリル）シンナモイ
ル、２−（２−アミノ−４−チアゾリル）−３−メタン
スルホニルアクリロイル、２−（２−アミノ−４−デア
ゾリル）−３−ベンゼンスルホニルアクリロイル、２−
（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル
）−２−ペンテノイル。

２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−
イル）−３−クロロアクリロイル、２−（５−アミノ−
１，２，４−チアジアゾール−３−イル）クロトノイル
、２−（２−アミノ−５−クロロ−４−チアゾリル）−
３−クロロアクリロイル、２−（２−アミノ−５−クロ
ロ−４−チアゾリル）クロトノイルなどがあげられる。

ｉｖ）　　Ｒ”−Ｃ−Ｃｏ− ミ Ｒ″１ 記号Ｒ”は前記の置換基（Ｓつを意味するが、とりわけ
Ｃ３−Ｉ０シクロアルキル７基、Ｃ５−５シクロアルケ
ニル８基、ｃｓ−ｔｏアリールゝ基、ＣＩ−＠アルコキ
シ基、Ｃ＠−＋ｏアリール８オキシ基＋Ｃｌ−６アルキ
ル′ヂオ基、アミノＣ１−６アルキルチオ基、Ｃ８−１
０アリール８チオ基、Ｃｔ−１９アラルキル８チオ基、
シアノ基。

アシル◆基、カルバモイル基、複素環６基などが繁用さ
れる。

これらのなかでもＣ８−２゜アリール９基、複素環６基
が特に好ましい。これらのＣｓ−＋ｏアリール基、複素
環基の置換基はＣ１−６アルキル基、水酸基、アミノ基
、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）が好ま
しい。したがって置換基Ｒ１！とじて好ましい基をあげ
ると、たとえばフヱニル、ｐ−ヒドロキシフェニル、２
−フリル、２−チェニル。４−オキサシリル、２−アミ
ノ−４−才キサゾリル、２−アミノ−５−クロロ−４−
オキサシリル、４−チアゾリル、２−アミノ−４−チア
ゾリル、２−アミノ−５−クロロ−４−デアゾリル、２
−アミノ−５−ブロモ−４−デアゾリル、２−アミノ−
５−フルオロ−４−チアゾリル、２−アミノ−４−チア
ゾリル−３−オキシド、２−イミノ−３−ヒドロキシチ
アゾリン−４−イル、３−イソキサゾリル、５−アミノ
−３−イソキサゾリル、３−イソチアゾリル、５−アミ
ノ−３−イソチアゾリル、１，２．４−才キサジアゾー
ル−３−イル、５−アミノ−１゜２．４−才キサジアゾ
ール−３−イル、１．２．４−一チアジアゾールー３−
イル、５−アミノ−１，２゜４−チアジアゾール−３−
イル、　Ｉ　、３．４−オキサジアゾリル、２−アミノ
−１，３，４−オキサジアゾール−５−イル、　１．３
．４−チアノアゾリル。

２−アミノ−１，３，４−チアジアゾール−５−イル、
１−（ＣＩ−、アルキル）−５−アミノ−１，２，４−
トリアゾール−３−イル、　４−（ｃ　１−ａアルキル
）−５−アミノ−１，２，４−トリアゾール−３−イル
。

１”−（ＣＩ−６アルキル）−２−アミノ−４−イミダ
ゾリル、２−アミノ−６−ピリジル、４−アミノ−２−
ピリミジル、２−アミノー５−ピリミジル、３−ピラゾ
リル、４−ピラゾリルなどが例示される。

また記号Ｒ”は０Ｒ２３基（式中、Ｒ１３は水素原子ま
たは置換されていてもよい炭化水素残基を示す）である
。

ここでｒｔ”−ｃ−ｃｏ−で表される基は芝 Ｒ３３ Ｒ”−Ｃ−Ｇｏ−で表わされるシン異性体また＼。□、
３ はＲ”−Ｃ−Ｇｏ−で表わされるアンチ異性体。

Ｉ Ｒ”０ もしくはそれらの混合物を表わし、なかでも置換基Ｒ”
が複素環巖基でかつシン異性体であるものがより好まし
い。このようなアシル基は式［式中％Ｒ”’は複索環８
基を、Ｒ３は水素原子または置換されていてもよい炭化
水素残基を示すコで表わすことができる。ここで複素環
”基Ｒ１！′は置換されたチアゾリル基またはチアジア
ゾリル基、すなわち式 １式中、Ｒ１は保護されていてもよいアミノ基を、Ｒ８
は水素原子、ハロゲン原子またはニトロ基を示す］のも
のが最も好ましい。したがって最も好ましいＲ基は式 シン異性体（Ｚ配位）　　　　　シン異性体（２配位）
である。すなわち置換基Ｒ０としてアシル基Ｒ０を有す
る化合物［１］としては または の構造のものか好ましい。以下、置換基Ｒｌ　、　Ｒ＊
。

Ｒ３について詳しく述べる。

記号Ｒ１は保護されていてもよいアミノ基を表わす。β
−ラクタムおよびペプチドの分野ではアミノ基の保護基
は充分に研究されていてその保護法はすでに確立されて
おり、本発明においてもアミノ基の保護基としてはそれ
ら公知のものが適宜に採用されうる。アミノ基の保護基
としてはたとえば、Ｃ１−６アルカノイル８基、Ｃ３−
５アルケノイル８基、　Ｃ＋＋＋＋。アリール贋カルボ
ニル基、フタロイル基。

複素環１カルボニル基、Ｃ＋−ａアルキルゞスルホニル
基、カンファースルホニル基、　Ｃａ−１０アリール８
スルホニル基、置換オキシカルボニル基、カルバモイル
１Ｉｌｊｆ、チオカルバモイル’ｘ、ｃ、−、ｏアリー
ル０メヂル基、ジＣ６−１゜アリール８メチル基、トリ
Ｃ３−ＩＯアリール８メチル基＊　Ｃａ　−Ｉｏアリー
ル９メチレン基。

Ｃａ−１０アリール８ヂオ基、置換シリル基、　２−　
Ｃ、−。

。アルコキシ−カルボニル−１−メチル−１−エチニル
基などがあげられる。

ｒｃ、−、アルカノイル８基」としてはここではたとえ
ば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル。

バレリル、ピバロイル、サクンニル、グルタリル、モノ
クロロアセデル、ジクロロアセデル、トリクロロアセチ
ル、モノブロモアセチル、モノフルオロアセチル、ジフ
ルオロアセチル、トリフルオロアセチル。

モノヨードアセチル、３−オキソブチリル、４−クロロ
−３−オキツブチリル、フェニルアセチル、ｐ−クロロ
フェニルアセチル、フェノキシアセチル。

ｐ−クロロフェノキシアセチルなどがあげられる。

ｒ　Ｃ３−５アルケノイル真基」としてはここではたと
えば、アクリロイル、クロトノイル、マレオイル、シン
ナモイル、ｐ−クロロシンナモイル、β−フェニルシン
ナモイルなどがあげられる。

ｒ　ｃ　ａ−＋。アリール巖カルボニル基」としてはこ
こではたとえば、ベンゾイル、ナフトイル、ｐ−トルオ
イル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイル、ｐ−ヒドロキ
シベンゾイル、ｐ−メトキシベンゾイル、ｐ−ｔｅｒｔ
−ブトキシベンゾイル、ｐ−クロロベンゾイル、ｐ−ニ
トロベンゾイルなどがあげられる。

複素環８カルボニル基としては後記するものがあげられ
る。

ｒｃ、、アルキル贋スルホニル基」としてはたとえば、
メタンスルホニル、エタンスルホニルなどかあげられる
。

ｒＣｅ−＋ｏアリール９スルホニル基」としては前記の
置換オキシカルボニル基すなわちＣ１−１゜アルコキシ
−カルボニル基、Ｃｅ−＋ｏアリールオキシーカルボニ
ル基またはＣ７−１６アラルキルオキシーカルボニル基
のほか、ここではそれらがさらに置換基を有しているも
のも含まれ、たとえば、ベンゼンスルホニル、ナフタレ
ンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル、ｐ−ｔｅｒｔ
−ブチルベンゼンスルホニル、ｐ−メトキシベンゼンス
ルホニル、ｐ−クロロベンゼンスルホニル、ｐ−ニトロ
ベンゼンスルホニルなどがあげられる。　「置換オキシ
カルボニル基」としてはここではたとえば、メトキシカ
ルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−プロポキシカルボ
ニル、イソプロポキシカルボニル、ｎ−ブトキシカルボ
ニル、　ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、シクロへキシ
ルオキシカルボニル、ノルボルニルオキシカルボニル、
フェノキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル、ベ
ンジルオキシカルボニル、メトキシメチルオキシ力ルボ
ニル、アセチルメチルオキシカルボニル、２−トリメチ
ルシリルエトキシカルボニル、２−メタンスルホニルエ
トキシカルボニル。

２．２．２−トリクロロエトキシカルボニル、２−シア
ノエトキシカルボニル２ｐ−メチルフェノキシカルボニ
ル、ｐ−メトキシフェノキシカルボニル、ｐ−クロロフ
ェノキシカルボニル、ｐ−メチルベンジルオキシカルボ
ニル、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル、ｐ−ク
ロロベンジルオキシカルボニル。

ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、ベンズヒドリル
オキシカルボニル、シクロプロビルオキンカルポニル、
シクロペンチルオキンカルボニル、シクロへキシルオキ
シカルボニルなどがあげられる。

「カルバモイル１基」としてはここではたとえば、カル
バモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバ
モイル、Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイル。

Ｎ、Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモ
イル、Ｎ−アセチルカルバモイル、Ｎ−ベンゾイルカル
バモイル、Ｎ−（ｐ−メトキシフェニル）カルバモイル
などがあげられる。

「カルバモイル８オキシ基」としてはここではたとえば
、カルバモイルオキシ、Ｎ−メチルカルバモイルオキソ
、Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ。

Ｎ−エチルカルバモイルオキシ、Ｎ−フェニルカルバモ
イルオキンなどがあげられる。　［チオカルバモイル”
基Ｊとしてはここではたとえば、チオカルバモイル、Ｎ
−メチルチオカルバモイル、Ｎ−７エニルチオカルバモ
イルなどがあげられる。

ｒｃ、、、アリール※メチル基」としてはたとえば、ベ
ンジル、ナフチルメチル、ｐ−メチルベンジル、ｐ−メ
トキシベンジル、ｐ−クロロベンジル、ｐ−ニトロベン
ジルなどがあげられる。

「ジＣａ−＋ａアリール東メチル基」としてはたとえば
、ベンズヒドリル、ジ（ｐ　−トリル）メチルなどがあ
げられる。

「トリＣａ−＋ｏアリールＸメチル基」としてはたとえ
ば、トリチル、トリ（ｐ−トリル）メチルなどがあげら
れる。

ｒｃｅ−１ｏアリール棗メチレン基」としてはたとえば
、ベンジリデン、ｐ−メチルベンジリデン。ｐ−クロロ
ベンジリデンなどがあげられる。

ｒｃ、、。アリール遷チオ基」としてはたとえば、０−
ニトロフェニルチオなどがあげられる。

「置換シリル基」は保護されるアミノ基とあわさって一
般式Ｒ’Ｒ’Ｒ”５ｉＮＨ，（Ｒ８Ｒ’Ｒ’５ｉ）ｙＮ
Ｒ’、Ｒ’、Ｒ’、Ｒ”、Ｒ”、Ｒ”　、ＲＩＱ／ｉ、
ｉそれぞれＣ１−、アルキル基もしくはＣい、。アリー
ル寮基を示し、それぞれ同一または異なっていてもよい
。またＺ′はたとえばメチレン、エチレン、プロピレン
などのＣ１，−３アルキレン基を示すコで表わされるよ
うなシリル基を意味し、具体的にはトリメチルシリル。

ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル、−Ｓ　ｉ（ＣＨ３）
ｔＣＨｔｃＨｔｓｌ（ＣＨ３）を−などがあげられる。

ｒ２−Ｃ，、。アルコキシ−カルボニル−！−メチルー
１−エチニル基のＣ＋−＋ｏアルコキシーカルボニル基
は前記したものがよく、したがって２−〇＋−ｔｏアル
コキシ−カルボニル−Ｉ−メチル−！−エチニル基とし
てはたとえば、２−メトキシカルボニル−１−メチル−
１−エチニル、２−エトキシカルボニル−！−メヂルー
１−エチニル、２−　ｔｅｒｔ−ブトキンカルボニル−
１−メチル−ｌ−エチニル、２−シクロへキシルオキシ
カルボニル−！−メチルー１−エチニル、２−ノルボル
ニルオキシカルボニル−１−メチル−１−エチニルなど
があげられる。

記号Ｒ２は水素原子、ハロゲン原子またはニトロ基を表
わす。ハロゲン原子としてはここではフッ素、塩素、臭
素などがあげられ、好ましくは塩素である。

記号Ｒ３は水素原子または置換されていてもよい炭化水
素残基を表わす。炭化水素残基としてはたとえばＣ１−
６アルキル基、　Ｃｔ−・アルケニル基、Ｃ２−、アル
キニル基、　Ｃａ−＋。シクロアルキル基、Ｃ５−５シ
クロアルケニル基などがあげられるが、とりわけＣｌ−
３アルキル基または置換されたＣ１−３アルキル基が好
ましい。Ｃ８−６アルキル基としてはここでも前記した
Ｃｌ−Ｓアルキル基がよく具体的にはメチル、エチル、
ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル
、５ｅｃ−ブチル、　ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル
、ｎ−ヘキシルなどがあげられるがとりわけメチル、エ
チル、ｎ−プロピルが好ましい。Ｃｔ−＠アルケニル基
としてはここでも前記したＣ７−、アルケニル基がよく
具体的にはビニル、アリル、イソプロペニル、メタリル
、１，１−ジメチルアリル、２−ブテニル、３−ブテニ
ルなどがあげられる。Ｃ２−６アルキニル基としては具
体的にはエチニル、Ｉ−プロピニル、２−プロピニル、
プロパルギルなどがあげられる。Ｃ３−１０シクロアル
キル基としてはここでも前記したＣ３−ａシクロアルキ
ル基がよく具体的にはシクロプロピル、シクロブチル。

シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、ア
ダマンデルなどがあげられる。Ｃ５−８ンクロアルケニ
ル基としては具体的には２−シクロペンテニル。

３−シクロペンテニル、２−シクロへキセニル、３−シ
クロへキセニル、シクロペンタノエニル、シクロへキサ
ジェニルなどがあげられる。

これらの炭化水素残基の置換基としてはたとえば水酸基
、Ｃ，−、アルキル基、Ｃ２−＠アルケニル基、Ｃ２−
。アルキニル基ＩＣ３−１゜シクロアルキル基、Ｃｓ　
−ａシクロアルケニル基、Ｃｏ−＋ｏアリール基、ｃ？
−Ｉｌｌアラルキル基、複素環基、Ｃｌ−Ｓアルコキシ
基、Ｃｚ−＋。

シクロアルキルオキシ基＋Ｃａ−１０アリールオキシ基
、Ｃ？−＋ｓアラルキルオキシ基、複素環オキシ基。

メルカプト基＋Ｃ＋−ａアルキルチオ基＋　０３−１゜
シクロアルキルチオ基、Ｃｓ＋＋ａアリールチオ基、Ｃ
？−＋ｓアラルキルチオ基、複素環チオ基、アミノ基、
モノＣＩ−。アルキルアミノ基、ジＣ３−６アルキルア
ミノ括、トリＣ８−６アルキルアンモニウム基、Ｃ３−
、、シクロアルキルアミノ基、Ｃｓ−＋ｏアリールアミ
ノ基。

Ｃ？−＋ｅアラルキルアミノ基、曳素環アミノ基、環状
アミノ基、アジド基、ニトロ基、ハロゲン原子、シアノ
基、カルボキシル基、ＣＩ　−１０アルコキシ−カルボ
ニル基、Ｃ［１−１０アリールオキシ〜カルボニル基、
Ｃ７−１８アラルキルオキシ−カルボニル基、Ｃ，−、
、アリール−アシル１基、ｃ＋−ｅアルカノイル基、Ｃ
３４アルケノイル基、　ｃ　ａ−ｔｏアリール−アシル
＋オキシ基＋Ｃ２−８アルカノイルオキシ基、Ｃ３−５
アルケノイルオキシ基、カルバモイルχ基、チオカルバ
モイル８基、カルバモイル８オキシ基、フタルイミド基
、Ｃ，−、アルカノイルアミノ基、Ｃａ−１ｏアリール
−アシル＋アミノ基、カルボキシアミノ基＋　ＣＩ−１
゜アルコキシーカルボキザミド基、Ｃｏ−＋ｏアリール
オキシーカルボキサミド基、Ｃ？−＋ｓアラルキルオキ
シーカルボキサミド基などがあげられ、同一または異な
って２個以上存在していてもよい。炭化水素残基の置換
基としては、具体的にはＣｌ−６アルキル基は前記のも
の、すなわちメチル、エチル、ｎ−プロピル。

イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、５ｅｃ−ブチ
ル、　ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル
などを、Ｃ３−６アルケニル基は前記のもの、すなわち
ビニル、アリル、イソプロペニル、メタリル、Ｉ、ｌ−
ジメチルアリル、２−ブテニル、３−ブテニルなどを、
Ｃ麦−ａアルキニル基は前記のもの、すなわちエヂニル
、！−プロピニル、２−プロピニル、プロパルギルなど
を、Ｃ３−１０シクロアルキル基は前記のもの、すなわ
ちシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シ
クロヘキシル、シクロへブチル。

アダマンチルなどを％　Ｃｓ＋ｓシクロアルケニル基は
前記のもの、すなわちシクロプロペニル、２−シクロペ
ンテニル、３−シクロペンテニル、２−シクロへキセニ
ル、３−シクロへキセニル、シクロペンタジェニル、シ
クロへキサジェニルなどを、Ｃｏ−ｒｏアリール基は前
記のもの、すなわちフェニル、ナフチル、ビフェニリル
などを、Ｃ？−＋ｎアラルキル基は前記のもの、すなわ
ちベンジル、１−フェニルエチル。

２−フェニルエチル、フェニルプロピル、ナフチルメチ
ル、ベンズヒドリルなどを、Ｃ３，アルコキシ基は前記
のもの、すなわちメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ
、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ
、ｎ−ペンチルオキシ、ｎ−へキシルオキシなどを、Ｃ
３−＋ｏシクロアルキルオキシ基は前記のもの、すなわ
ちシクロプロピルオキシ、シクロへキシルオキシなどを
、Ｃｓ−＋。アリールオキシ基は前記のもの、すなわち
フェノキシ、ナフチルオキシなどを、Ｃ７−ｔｓアラル
キルオキシ基は前記のもの、すなわちベンジルオキシ、
ｌ−フェニルエチルオキシ、２−フェニルエチルオキシ
、ベンズヒドリルオキシなどを、Ｃｌ−Ｓアルキルチオ
基は前記のもの、すなわちメチルチオ、エチルチオ、ｎ
−プロピルチオ、ｎ−ブチルチオなどを、Ｃ３−１０シ
クロアルキルチオ基は前記のもの、すなわちシクロプロ
ピルチオ、シクロへキシルチオなどを、Ｃｏ−＋。アリ
ールオキシ基は前記のもの、すなわちフェニルチオ、ナ
フチルチオなどを、Ｃ？−＋ｅアラルキルチオ基は前記
のもの、すなわちベンジルチオ、フェニルエチルチオ。

ベンズヒドリルチオなどを、モノＣ＋−ａアルキルアミ
ノ基は前記のもの、すなわちメチルアミノ、エチルアミ
ノ、ｎ−プロピルアミノ、ｎ−ブチルアミノなどを、ノ
Ｃ６−６アルキルアミノ基は前記のもの、ずなわらジメ
チルアミノ、ジエチルアミノ、メチルエチルアミノ、ノ
ー（ｎ−プロピル）アミノ、ジー（ｎ　−ブチル）アミ
ノなどを、トリＣｌ−８アルキルアンモニウム基は前記
のもの、すなわちトリメチルアンモニウム、トリエチル
アンモニウムなどを、Ｃ’１−１０シクロアルキルアミ
ノ基は前記のもの、すなわちシクロプロピルアミノ、シ
クロペンチルアミノ、シクロへキシルアミノなどを、Ｃ
ｓ−１０アリールアミノ基は前記のもの、すなわちアニ
リノ、Ｎ−メチルアニリノなどを、Ｃ？−Ｉｌ＋アラル
キルアミノ基は前記のもの、すなわちベンジルアミノ、
■−フェニルエチルアミノ、２−フェニルエチルアミノ
、ベンズヒドリルアミノなどを、環状アミノ基は前記の
もの、すなわちピロリジノ、ピペリジノ、ピペラジノ。

モルホリノ、！−ピロリルなどを、ハロゲン原子はここ
ではフッ素、塩素、臭素、ヨウ素などを、Ｃｌ−１゜ア
ルコキシ−カルボニル基は前記のもの、すなわちメトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−プロポキシカ
ルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｎ−ブトキシカ
ルボニル、イソブトキシカルボニル、　ｔｅｒｔ−ブト
キンカルボニル、シクロベンチルオキン力ルボニル、シ
クロへキンルオキシヵルボニル、ノルボルニルオキシカ
ルボニルなどを、Ｃ６−１ｏアリールオキシ−カルボニ
ル基は前記のらの、すなわちフェノキシカルボニル、ナ
フチルオキシカルボニルなどを、Ｃ？−Ｉ１１アラルキ
ルオキシ−カルボニル基は前記のもの、すなわちベンジ
ルオキシカルボニル、ベンズヒドリルオキシカルボニル
などを、ｃｅ−＋ｏアリールーアシル十基は前記のもの
、すなわちベンゾイル、ナフトイル、フタロイル、フェ
ニルアセチルなどを％Ｃｌ−８アルカノイル基は前記の
もの、すなわちポルミル、アセデル、プロピオニル、ブ
チリル、バレリル、ピバロイル、ザクシニル。

グルタリルなどを、Ｃ＊−ｓアルケノイル基は前記のも
の、すなわちアクリロイル、クロトノイル、マレオイル
などを、Ｃｏ−＋ｏアリールーアシル１オキシ基は前記
のもの、すなわちベンゾイルオキシ、ナフトイルオキシ
、フェニルアセトキシなどを、ｃｔ−ａアルカノイルオ
キシ基は前記のもの、すなわちアセトキシ、プロピオニ
ルオキシ、ブチリルオキシ、バレリルオキシ、ピバロイ
ルオキシなどを、Ｃ３−５アルケノイルオキシは前記の
もの、すなわちアクリロイルオキシ、クロトノイルオキ
シなどを、カルバモイル０基は前記のもの、すなわちカ
ルバモイル。

Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ
、Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル
、Ｎ、Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ〜フェニルカルバ
モイル、Ｎ−アセチルカルバモイル、Ｎ−ベンゾイルカ
ルバモイル、　Ｎ　−（ｐ’−メトキシフェニル）カル
バモイルに加えてピロリジノカルボニル、ピペリジノカ
ルボニル、ピペラジノカルボニル、モルホリノカルボニ
ルなどを、チオカルバモイル８基は前記のもの、すなわ
ちチオカルバモイル。Ｎ−メチルチオカルバモイル、Ｎ
〜フェニルチオカルボニルなどを、カルバモイルＸオキ
シ基は前記のもの、すなわちカルバモイルオキシ、Ｎ−
メチルカルバモイルオキシ、Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモ
イルオキシ、Ｎ−エチルカルバモイルオキシ、Ｎ−フェ
ニルカルバモイルオキシなどを、ｒｃｔ−６アルカノイ
ルアミノ基」はたとえばアセトアミド、プロピオンアミ
ド、ブチロアミド、バレロアミド、ピバロアミドなどを
、「Ｃ６−１ｏアリール−アシル→アミノ基」はたとえ
ばベンズアミド、ナフトイルアミド。

フタルイミドなどを、ｒｃｔ−１０アルコキシ−カルボ
キサミド基」はたとえばメトキシカルボキサミド（ＣＩ
＋３０ＣＯＮ１１−）、エトキシカルボキサミド、　ｔ
ｅｒｔ−ブトキシカルボキサミドなどをＪＣｌｌ−１゜
アリールオキシ−カルボキサミド基」はたとえばフェノ
キシカルボキサミド（Ｃ，＋１５０ＣＯＮ）ｌ−）など
を、ｒｃｔ−＋ｅ７フルキルオキシ〜カルボキサミド基
」はたとえばベンジルオキシカルボキサミド（Ｃ，Ｉｌ
、ＣＩｌ、０ＣＯＮ１１−）、ベンズヒドリルオキシカ
ルボキサミドなどを表わす。

複索環基、複素環オキシ基、複素環チオ基および複素環
アミノ基の複素環基はここでも複素環の炭素原子に結合
している水素原子を１個とりのぞいてできる基をいい、
そのような複素環は、たとえば窒素原子（オキシド化さ
れていてもよい）、酸素原子、硫黄原子などのへテロ原
子を１〜数個、好ましくは１〜４個含む５〜８員環また
はその縮合環をいう。このような複素環基としてはここ
で６２−ピロリル以下、具体的に前記したものがそのま
まあげられる。したがって「複素環オキン基」として゛
はたとえばチアゾリルオキシなどが、「複素環チオ基」
としてはたとえばチアゾリルチオなどがあげられる。「
複素環アミノ基」としてはたとえばチアゾリルアミノ、
チアジアゾリルアミノなどがあげられる。

置換された炭化水素残基でより好ましいものは水酸基、
シクロアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ア
ミノ基、トリアルキルアンモニウム基。

ハロゲン原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル
基、カルバモイル基、シアノ基、アジド基、複素環基な
どで置換されたＣ４−３アルキル基（ＣＩ−３アルキル
基はメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピルなど
をいう）であり、それらを具体的にあげると、シクロプ
ロピルメチル、メトキシメチル、エトキシメチル、１−
メトキシエチル、２−メトキシエチル、！−エトキシエ
ヂル、２−ヒドロキシエチル。

メチルチオメチル。２−アミノエチル、２−（トリメデ
ルアンモニウム）エチル、２−（トリエチルアンモニウ
ム）エチル、フルオロメチル、ジフル才ロメチル、トリ
フルオロメチル、２−フルオロメチル。

２．２−ジフルオロエチル。クロロメチル、２−クロロ
エチル。２．２−ノクロロエチル、２．２．２−トリク
ロロエチル、２−プロモエチル、２−ヨードエチル、２
，２．２−トリフルオロエチル、カルボ゛キシメチル、
ｌ−カルボキンエチル、２−カルボキシエチル、２−カ
ルボキシプロピル、３−カルボキンプロピル、ｌ−カル
ボキシブチル、シアノメチル。

ｌ−カルボキシ−１−メチルエチル、メトキシヵルボニ
ルメチル、エトキシカルボニルメチル、ＬｅｒＬ−ブト
キシカルボニルメチル、ｌ−メトキシカルボニル−１−
メチルエチル、１−エトキシカルボニル−Ｊ−メチルエ
チル、　１−　ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−メ
チルエチル、■−ベンジルオキシカルボニルー１−メチ
ルエチル、ｌ−ピバロイルオキシカルボニル−１−メチ
ルエチル、カルバモイルメチル、２−アジドエチル、２
−（ピラゾリル）エチル、２−（イミダゾリル）エチル
、２−（２−才キソピ口リジン−３−イル）エチル、２
−アミノ−４−チアゾリルメチルなどのほか多くのもの
があげられる。具体的にあげた炭化水素残基のうち最も
好ましいものはメチル、エチル、ｎ−プロピルなどの直
鎖状の０１−３アルキル基および２−フルオロエチル、
２−クロロエチル、２−ヒドロキシエチル、２−メトキ
シエチル、シアノメチル、カルボキシメチル、　ｔｅｒ
ｔ−ブトキシカルボニルメチル、１−カルボキシ−１−
メチルエチル、　１−Ｈ３ｒｔ−ブトキシカルボニル−
！−メチルエチルなどのハロゲン原子、水酸基、アルコ
キシ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、シア
ノ基で置換された直鎖状又は分枝状の０１−、アルキル
基およびアリル基、プロパルギル基である。ここで記号
Ｒ″′を上に例示した最も好ましい炭化水素残基もしく
は水素原子を表わすものとすると、置換基Ｒ０としてア
シル基 ＼。。・・ 示す］を有する本発明の化合物［１１はいずれも抗菌活
性が特に強く、特に耐性菌に対して優れた殺菌作用をも
つ。また前記したように複素環７基Ｒ″″′は式 もよいアミノ基を、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子また
はニトロ基を、それぞれ示す］のものが最も好ましく、
したがって化合物［１］としてはまたは ［式中の記号は前記したものを示す］ の構造のものが最も好ましい。

「アシル基Ｒ”−Ｃ−Ｃｏ−Ｊとして好ましい例芝 １Ｉ をあげるとたとえば、２−（２−アミノチアゾール−４
−イル）−２（Ｚ）−（ヒドロキシイミノ）アセチル、
２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−
（メトキシイミノ）アセチル、２−（２−クロロアセタ
ミドチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−（メトキシイ
ミノ）アセチル、２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２（Ｚ）−（エトキシイミノ）アセチル、２−（
２−アミノチアゾール−４−イル）−２（ｚ）−（ｎ−
プロポキシイミノ）アセチル、２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２（Ｚ）−（イソプロポキシイミノ
）アセチル、２−（２−アミノデアゾール−４−イル）
　　２（Ｚ）−（ｎ−ブトキシイミノ）アセチル、２−
（２−アミノチアゾール−４−）　−２（Ｚ）−（ｎ−
ヘキシルオキシイミノ）アセチル、２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−２（Ｚ）−（シクロプロピルメ
チルオキシイミノ）アセデル、２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２（Ｚ）−（ベンジルオキシイミノ
）アセチル、２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２ＣＺ’）−（アリルオキシイミノ）アセチル、２−
（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−（プ
ロパルギルオキシイミノ）アセチル、２−（２−アミノ
チアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−（メトキシメチル
オキジイミノ）アセチル、２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−２（Ｚ）−（エトキシメチルオキシイミ
ノ）アセチル、２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２（ｚ）−（（＋−メトキシエチル）オキシイミノ
）アセチル、２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２（Ｚ）−（（２−メトキシエチル）オキシイミノ）
アセチル、２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２（ｚ）−（（２−エトキシエチル）オキシイミノ）ア
セチル、２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−１−エトキシエチル）オキシイミノ）アセチル
、２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）
−（（２−ヒドロキシエチル）オキシイミノ）アセチル
、２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）
−（メチルチオメチルオキシイミノ）アセチル、２−（
２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−（（２
−アミノエチル）オキシイミノ）アセチル、２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−（フルオロ
メチルオキシイミノ）アセチル、２−（２−アミノチア
ゾール−４−イル）−２（Ｚ）−（ジフルオロメチルオ
キシイミノ）アセチル、２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２（Ｚ）−（トリフルオロメチルオキシイ
ミノ）アセデル、２−（２−アミノデアゾール−４−イ
ル）−２（Ｚ）−（（２−フルオロエチル）オキシイミ
ノ）アセチル、２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）−２（Ｚ）−（（２、２−ジフルオロエチル）オキシ
イミノ）アセチル、２−（２−アミノチアゾール−４−
イル）−２（Ｚ）−（クロロメチルオキシイミノ）アセ
チル、２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（
Ｚ）−（（２−クロロエチル）オキシイミノ）アセチル
、２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）
−（（２、２−ジクロロエチル）オキシイミノ）アセチ
ル、２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ
）−（（２，２，２−トリクロロエチル）オキシイミノ
）アセチル、２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
　−２（Ｚ）−（（２−ブロモエチル）オキシイミノ）
アセチル、２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２（Ｚ）−（Ｃ２−ヨードエチル）オキシイミノ）アセ
チル、２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（
Ｚ）−（（２、２。

２−トリフルオロエチル）オキシイミノ）アセチル。

２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−
（カルボキシメチルオキシイミノ）アセチル８２−（２
−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−（ｌ−カ
ルボキシメチルオキシイミノ）アセチル。

２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−
（（２−カルボキシエチル）オキシイミノ）アセデル、
２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−
（ｌ−カルボキシプロピルオキシイミノ）アセチル、２
−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−（
（３−カルボキンプロピル）オキシイミノ）アセデル、
２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２ＣＺ）−
（（１−カルボキシエチル）オキシイミノ）アセチル、
２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−
（シアノメチルオキシイミノ）アセチル、２−（２−（
アミノチアゾール−４−イル）　−２（ｚ）−（（１−
カルボキシ−！−メチルエチル）オキシイミノ）アセチ
ル、２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ
）−（メトキシカルボニルメチルオキシイミノ）アセチ
ル、２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ
）−（エトキシカルボニルメチルオキシイミノ）アセチ
ル、　２−（２−アミノチアゾール−４−イル）　−２
（Ｚ）　−（ｈｅｒ［−ブトキシカルボニルメチル）オ
キシイミノ）アセチル、２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−（ｌ　−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル
）エトキシイミノ）アセチル、２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル”）−２（Ｚ）−（（＋−メトキシカル
ボニル−１−メチルエチル）オキシイミノ）アセデル、
２−（２−アミノチアゾール−４−イル’）　−２（Ｚ
）−（（１−エトキシカルボニル−１−メチルエチル）
オキシイミノ）アセデル、２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）−２（Ｚ）−（（１−ｔｅｒｔ−ブトキシ
カルボニル−１−メチルエチル）オキシイミノ）アセチ
ル、２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ
）−（ｌ　−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）プロポ
キシイミノ）アセチル、２−（２−アミノデアゾール−
４−イル）−２（Ｚ）−（（１−ベンジルオキシカルボ
ニル−１−メチルエチル）オキシイミノ）アセチル、２
−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−（
（＋−ピバロイルオキシカルボニル−１−メチルエチル
）オキシイミノ）アセチル、２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−２（Ｚ）”−（カルバモイルメチルオ
キシイミノ）アセチル、２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２（Ｚ＞−（１−（ｌ−カルバモイル−１
−メチル）エチルオキシイミノ）アセチル、２−（２−
アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−（（２−ア
ジドエチルオキシイミノ）アセチル、２−（２−アミノ
チアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−（フェノキシカル
ボニルオキシイミノ）アセチル、２−（２−アミノ−５
−クロロチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−（ヒドロ
キシイミノ）アセチル、２−（２−アミノ−５−クロロ
チアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−（メトキシイミノ
）アセチル、２−（２−アミノ−５−クロロチアゾール
−４−イル）−２（ｚ）−（エトキシイミノ）アセチル
、２−（２−アミノ−５−クロロチアゾール−４−イル
）−２（Ｚ）−（ｎ−プロポキシイミノ）アセチル、２
−（２−アミノ−５−クロロチアゾール−４−イル）−
２（Ｚ）−（（２−フルオロエチル）オキシイミノ）ア
セチル、２−（２−アミノ−５−クロ〔１デアゾール−
４−イル’Ｉ−２（Ｚ）−（（２−クロロエチル）オキ
シイミノ）アセチル、２−（２−アミノ−５−クロロデ
アゾール−４−イル）−２（Ｚ）−（カルボ′キシメチ
ルオキシイミノ）アセチル、２−（２−アミノ−５−ク
ロロチアゾール−４−イル）　−２（Ｚ　）　−（（ｔ
ｅｒｔ−ブトキシカルボニルメチル）オキシイミノ）ア
セチル、２−（２−アミノ−５−クロロチアゾール−４
−イル）−２（Ｚ）−（（１−カルボキシ−１−メチル
エチル）オキシイミノ）７−ｔｒチル、２−（２−アミ
ノ−５−クロロデアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−（
（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−藍−メチルエチ
ル）オキシイミノ）アセチル、２−（２−アミノ−５−
ブロモチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−（エトキシ
イミノ）アセチル、２−（５−アミノ−１，２，４−チ
アジアゾール−３−イル）−２ＣＺ）−Ｃヒドロキシイ
ミノ）アセチル、２−（５−アミノ−１，２，４−デア
ジアゾール−３−イ°ル）−２（Ｚ）−（メトキシイミ
ノ）アセチル、２−（５−アミノ−１，２，４−チアジ
アゾール−３−イル）−２（Ｚ）−（エトキシイミノ）
アセチル、２−（５−アミノ−１，２，４−デアノアゾ
ール−３−イル）−２（Ｚ）−エトキシイミノ）アセチ
ル、２−（５−アミノ−１，２，４−チアノアゾール−
３−イル）−２（Ｚ）−（（２−フルオロエチル）オキ
シイミノ）アセチル、２−（５−アミノ−１，２゜４−
チアジアゾール−３−イル）−２（Ｚ）−（（２−クロ
ロエチル）オキシイミノ）アセデル、２−（５−アミノ
−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）−２（Ｚ）
−（カルボキソメチルオ゛キシイミノ）アセデル、２−
（５−アミノ−１，２，４−デアジアゾール−３−イル
）−２（ｚ）−（（１−カルボキシ−ｌ−メチルエチル
）オキシイミノ）アセチル、２−（５−アミノ−１，２
，４−デアジアゾール−３−イル−２（Ｚ）　−（（１
−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−Ｉ−メチルエチル）
オキシイミノ）アセチル、２−（５−アミツイソキサゾ
ールー３−イル）−２（Ｚ）−（エトキシイミノ）アセ
チル、２−（５−アミノ−１，２゜４−オキサジアゾー
ル−３−イル）−２（Ｚ）−（エトキシイミノ）アセチ
ル、２−（２−イミノ−３−（Ｚ）−（メトキシイミノ
）アセチル、２−チェニル−２（Ｚ）−（エトキシイミ
ノ）アセデル、２−フリル−２（Ｚ）−（メトキシイミ
ノ）アセチル、２−フリル−２（Ｚｌ−（エトキシイミ
ノ）アセチル、２−（＋、３．４−デアジアゾリル）−
２（Ｚ）−（エトキシイミノ）アセチル、２−（ｐ−ヒ
ドロキンフェニル）−２（Ｚ）−（エトキシイミノ）ア
セチル、２−フェニル−２（Ｚ）−（エトキシイミノ）
アセチル、２−フェニル−２（Ｚ）−（ヒドロキシイミ
ノ）アセデル、２−（ｐ−（γ−Ｄ−グルタミルオキシ
）フェニル）−２（Ｚ）−（ヒドロキソイミノ）アセデ
ル、２−（ｐ−（３−アミノ−３−カルボキシプロポキ
シ）フェニル）−２（Ｚ）−（ヒドロキシイミノ）アセ
デルなどが例示される。

以上、アシル基（Ｒｂ）のひとつとして述べてきたＣ　
＋−ａアルカノイルＸ基には上記のＣ１−６アルカノイ
ル基、複素環”Ｃｏ−Ｃｏ−、Ｒ”ＣＨ２Ｒ″″−Ｃ−
ＣＯ−のほか、トリフルオロアセチル。

乏 Ｒ” ４−カルボキシプヂリル、５−アミノ−５−カルボキシ
バレリル、５−オキソ−５−カルボキシバレリル、Ｎ−
（２−（２−アミノ−４−チアゾリル）−２（Ｚ）−（
メトキシイミノ）アセチル）−Ｄ−アラニル、Ｎ−（２
−（２−アミノ−４−チアゾリル−２（Ｚ）−（メトキ
シイミノ）アセチル）−Ｄ−フェニルグリシル、２−（
２−アミノ−４−チアゾリル）−２−（２−（２−アミ
ノ−４−チアゾリル）−２（Ｚ）−（メトキシイミノ）
アセタミド）アセチルなども含まれる。

Ｃ１−６アルカノイル６基以外のアシル基（Ｒｂ）とし
ての０３−、アルケノイル１基としてはここでも前記し
たアクリロイル、クロトノイル、マレオイル。

ンンナモイル、ｐ−クロロシンナモイル、β−フェニル
シンナモイルなどが、Ｃ３−１゜シクロアルキル−カル
ボニル基としてはここでも前記したシクロプロピルカル
ボニル、シクロブチルカルボニル、シクロペンチルカル
ボニル、シクロへキシルカルボニル、シクロへブチルカ
ルボニル、アダマンチルカルボニルなどが、Ｃｓ−５シ
クロアルケニル−カルボニル基としてはここでも前記し
たシクロペンテニルカルボニル、シクロペンタジェニル
カルボニル、シクロへキセニルカルボニル、シクロへキ
サジェニルカルボニルなどが、Ｃａ−Ｉｏアリール巖カ
ルボニル基としてはここでもベンゾイル、ナフトイル、
ｐ−トルオイル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイル、ｐ
−ヒドロキシベンゾイル、ｐ−メトキシベンゾイル。

ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシベンゾイル、ｐ−クロロベンゾ
イル。ｐ−ニトロベンゾイルなどが、「複素環類カルボ
ニル基」としてはたとえば、２−または３−ピロリルカ
ルボニル、３−．４−または５−ピラゾリルカルボニル
、２−．４−または５−イミダゾリルカルボニル、Ｉ、
２．３−または１，２．４−トリアゾリルカルボニル、
ｌＨ−または２Ｈ−テトラゾリルカルボニル、２−また
は３−フリルカルボニル。

２−または３−チェニルカルボニル、２−．４−または
５−オキサシリルカルボニル、３−．４−または５−イ
ソキサゾリルカルボニル、１．２．３−オキサジアゾー
ル−４−または５−イルカルボニル。

１．２．４−オキサジアゾール−３−または５−イルカ
ルボニル、１，２．５−または１，３．４−オキサノア
ゾリルカルボニル、２−．４−または５−チアゾリルカ
ルボニル、２−アミノ−４−チアゾリルカルボニル、３
−．４−または５−イソチアゾリルカルボニル、１，２
．３−チアジアゾール−４−または５−イルカルボニル
、　ｌ　、２．４−デアジアゾール−３−または５−イ
ルカルボニル、５−アミノ−１，２，４−デアジアゾー
ル−３−イルカルボニル、１，２．５−または１，３．
４−チアジアゾリルカルボニル、２−または３−ピロリ
ジニルカルボニル、２−．３−または４−ピリジルカル
ボニル、２−．３−または４−ピリジルカルボニル−Ｎ
−オキシド、３−または４−ピリダジニルカルボニル、
３−または４−ピリダジニルカルボニル−Ｎ−オキシド
、２−，４−または５−ピリミジニルカルボニル、２−
．４−または５−ピリミジニルカルボニル−Ｎ−オキン
ド、ピラジニルカルボニル。

２−９３−または４−ピペリジニルカルボニル、ピペラ
ジニルカルボニル、３Ｈ−インドール−２−または３−
イルカルボニル、２−．３−または４−ピラニルカルボ
ニル、２−．３−または４−チオピラニルカルボニル、
ベンゾピラニルカルボニル、キノリルカルボニル、ピリ
ド［２，３−ｄ］ピリミジルカルボニル、ｌ、５−．１
．６−．１．７−、ｌ、８−。

２．６−または２．７−ナフチリジルカルボニル。

チェノ［２，３−ｂ］ピリジルカルボニル、ピリミドピ
リジルカルボニル、ピラジノキノリルカルボニル、３−
（２，６−シクロロフヱニル）−５−メチルイソギザゾ
ール−４−イルカルボニルなどがあげられる。

置換基Ｒ０としてのアミノ基の保護基（以後、記号Ｒで
表わす場合もある）は、記号Ｒ１で表わされる保護され
ていてもよいアミノ基の保護基として前記した置携オキ
シカルボニル基がここでもそのままあてはめられる。し
たがってここでも前記した、メトキシカルボニル、エト
キシカルボニル。

ｎ−プロポキシカルボニル、イソプロボキシカルボニル
、ｎ−ブトキシカルボニル、　ｔｅｒｔ−ブトキシカル
ボニル、シクロへキシルオキシカルボニル、ノルボルニ
ルオキシカルボニル、フェノキシカルボニル、ナフチル
オキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、メトキ
シメチルオキシカルボニル、アセチルメチルオキシカル
ボニル、２−トリメチルシリルエトキシカルボニル、２
−メタンスルホニルエトキシカルボニル、２．２．２−
トリクロロエトキシカルボニル、２−シアノエトキシカ
ルボニル。

ｐ−メチルフェノキシカルボニル、ｐ−メトキシフェノ
キシカルボニル、ｐ−クロロフェノキシカルボニル、ｐ
−メチルベンジルオキシカルボニル、ｐ−メトキシベン
ジルオキシカルボニル、ｐ−クロロベンジルオキシカル
ボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル、ベンズ
ヒドリルオキシカルボニル、シクロプロピルオキシカル
ボニル、シクロペンチルオキシカルボニル、シクロへキ
シルオキシカルボニルなどがあげられる。

本発明の化合物［１］において置換基Ｒ４は水素原子、
メトキシ基またはホルムアミド基（ＨＣＯＮ１１−）を
表わす。　本発明の化合物［＋］において置換基Ｒ１３
は水素原子、メチル基、水酸基またはハロゲン原子を表
わす。ここでハロゲン原子はフッ素、塩素、臭素、ヨウ
素をいう。

化合物［１］において置換基Ａは置換されていてもよい
１．５−位で縮合環を形成するピラゾール−２−イル基
を表わす。ここで縮合環はピラゾール環と５〜６員芳香
族複素環と縮合した形のものを意味し、この綜合環はさ
らに別の芳香環または芳香族複素環と縮合してもよい。

また置換基Ａに付記したｅは置換基Ａが１価の陽電荷を
持つことを示す。置換されていてもよい１．５−位で縮
合環を形成するピラゾール−２−イル基（Ａ■）は一般
式 で書き表され、式中のＢはさらに別の芳香環または芳香
族複素環と縮合していてもよい５〜６員香族複素環を形
成する基、ＲＩ′は水素原子またはピラゾール環上の置
換基をそれぞれ表す。Ｂは炭素原子、窒素原子、酸素原
子および／または硫黄原子からなり、このうち炭素原子
は１個の水素原子または１個の置換基と結合するか、も
しくは隣接する炭素原子とともに別の縮合環を形成する
。ピラゾール−２−イル基をさらに具体的にあげると以
下余白 などがあげられる。上記のピラゾール−２−イル基およ
び具体的にあげた各基においては置換基Ａ■の陽電荷を
便宜上ピラゾールの１位の窒素原子あてはめたが、該第
４級窒素原子が２位の窒素原子にあてはめられる場合も
ある。また１価の陽電荷がピラゾール環に非局在化して
いる場合、さらには縮合環全体に非局在化している場合
もある。

したがってたとえば上記の などのようにも表される。この陽電荷の存在位置は化合
物［１１の状態（固体か溶液中か）、溶媒の種類・液性
、温度、置換基の種類などによって流動的に変化するの
で、本発明は陽電荷が窒素原子に局在化した場合とピラ
ゾール環または縮合環全体に非局在化した場合のすべて
を包含するものとする。

縮合環Ａ上の置換基１”およびＲ１１としてはたとえば
水酸基、ヒドロキシＣ＋−ａアルキル基、Ｃ＋−ａアル
キル基、　ｃ　２−１１アルケニル基、　Ｃ、−、アル
キニル基。

Ｃ４−ａアルカジェニル基、Ｃａ−＋ｏシクロアルキル
基。

Ｃ６−６ノクロアルケニル基、Ｃａ１−１ａシクロアル
キルＣ＋−ａアルキル基、Ｃ，−、、アリール基、Ｃ７
−ｔｔアラルキル基、ジＣ＠−１ｏアリールメチル基、
トリＣｅ−ｔ。

アリールメチル基、複素環基、Ｃｌ−＋＋アルコキシ基
。

ＣＩ−ａアルコキシ−Ｃ１−ａアルキル基、Ｃ３−Ｉ１
１シクロアルキルオキシ基、Ｃａ−Ｉｎアリールオキシ
基、Ｃ’＋−１９アラルキルオキン基、メルカプト基、
メルカプ）Ｃ２−ｅアルキル基、スルホ基、スルホＣ＋
−ｅアルキル基＋Ｃ＋−６アルキルチオ基、Ｃ１−６ア
ルキルチオＣ３−６アルキル基、Ｃｓ−＋ｎンクロアル
キルチオ基。

Ｃ１１−Ｉ。アリールチオ基、Ｃ７−＋ｓアラルキルチ
オ基。

アミノ堰、アミノＣ＋−ａアルキル基、モノＣ３−。ア
ルキルアミノ基、ジＣ１−６アルキルアミノ基、モノＣ
１−、アルキルアミノＣ＋−ａアルキル基、ジＣ１−ａ
アルキルアミノＣ１−６アルキル基＋　Ｃ３−１０シク
ロアルキルアミノ基、Ｃ・−１゜アリールアミノ基、Ｃ
ｔ−＋ｅアラルキルアミノ基基環環状アミノ基環状アミ
ノＣｔ−ａアルキル基、環状アミノＣ１−、アルキルア
ミノ基。

アジド基、ニトロ基、ハロゲン原子、ハロゲノＣ＋−ｓ
アルキル基、シアノ基、シアノｃ＋−ｅアルキル基、カ
ルボキシル基、カルボキシＣ１−６アルキル基、Ｃｌ−
１゜アルコキシ−カルボニル基、Ｃｌ−ｒｏアルコキシ
−カルボニルＣ＋＋ｓアルキル基、　Ｃａ−＋。アリー
ルオキシ−カルボニル基、Ｃ７−＋＊アラルキルオキシ
ーカルボニル基、Ｃｓ−＋。アリール−アシル１基＋　
ＣＩ　””＠アルカノイル基、　Ｃｔ−８アルカノイル
Ｃ１−６アルキル基、Ｃ１−６アルケノイル基、ｃ　１
１−１゜アリール−アシル“オキシＫ　、　Ｃ２−ｅア
ルカノイルオキシ基、Ｃｔ−ａアルカノイルオキシｃｌ
−ｅアルキル基、Ｃ３−ｓアルケノイルオキシ基、カル
バモイルＣ１−６アルキル基。

カルバモイル１基、チオカルバモイル７基、カルバモイ
ル１オキシ基、カルバモイルオキシＣｌ−６アルキル基
＋　ＣＩ　”’１Ｂアルカノイルアミノ基＋　ＣＢ−１
＋＋アリールーアシル“アミノ基、スルホンアミド基、
カルボキシアミノ基、Ｃｌ−１０アルコキシ〜カルボキ
サミド基、Ｃ６−＋ｏアリールオキシーカルボキサミド
基。

Ｃｑ−＋＊アラルキルオキシーカルボキサミド基などが
あげられる。上記の置換基中、ｒｃ、、アルカジェニル
基」はたとえば、１．３−ブタジェニルなどを、ｒｃ３
−＋ｏシクロアルキルＣ１−８アルキル基」はたとえば
、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチルなどを
、ハロゲン原子はここではフッ素、塩素。

臭素などをそれぞれ表わす。その他の基はすべて前記の
ものがここでもそのままあげられる。これらの置換基は
同一または異なって複数個（置換基の数は好ましくはＲ
目では０〜２個、Ｒ１８では０〜３個）置換されていて
もよいし、置換基ＲＩ　ｌ　、　Ｒ１３はさらに置換分
を育していてもよい。またピラゾール環の３．４−位が
脂環、芳香環、複素環と縮合していてもよい。これらの
例としてはたとえば。

［式中、ＢおよびＲ”は前記と同意義を示す］などがあ
げられる。

上記の化合物［１１において４位のカルボキシル基Ｃ−
Ｃｏｏ）の右肩に付記したｅは該カルボキシル基がカル
ボキシレートアニオンであって、置換基Ａ上の陽電荷と
一対になって分子内塩を形成していることを示す。一方
、化合物［１１は生理学的に受容される塩もしくはエス
テルであってもよい。

生理学的に受容される塩としては無機塩基塩、アンモニ
ウム塩、有機塩基塩、無機酸付加塩、有機酸付加塩、塩
基性アミノ酸塩などがあげられる。無機塩基塩を生成さ
仕うる無機塩基としてはアルカリ金属（たとえばナトリ
ウム、カリウムなど）、アルカリ土類金属（たとえばカ
ルシウムなど）などが、有機塩基塩を生成させうる有機
塩基としてはたとえばプロ力イン、２−フェニルエチル
ベンジルアミン、ジベンジルエチレンジアミン、エタノ
ールアミン、ジェタノールアミン、トリスヒドロキシメ
チルアミノメタン、ポリヒドロキシアルキルアミン。

Ｎ−メチルグルコサミンなどが、無機酸付加塩を生成さ
せうる無機酸としてはたとえば塩酸、臭化水素酸、硫酸
、硝酸、リン酸などが、有機酸付加塩を生成させうる有
機酸としてはたとえばｐ−トルエンスルホン酸、メタン
スルホン酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸、マレイン酸など
が、塩基性アミノ酸塩を生成させうる塩基性アミノ酸と
してはたとえばリジン、アルギニン、オルニチン、ヒス
チジンなどがあげられる。これらの塩のうち塩基塩（す
なわち無機塩基塩、アンモニウム塩、有機塩基塩、塩基
性アミノ酸塩）は化合物［１コの置換基Ｒ０もしくはＡ
中にカルボキシル基、スルホ基などの酸性基が存在する
場合に形成しうる塩基塩を意味し、酸付加塩（すなわち
無機酸付加塩、有機酸付加塩）は化合物［［］の置換基
Ｒ０もしくはＡ中にアミノ基。

モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、シクロア
ルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ
基、環状アミノ基、含窒素複素環基などの塩基性基が存
在する場合に形成しうる酸付加塩を意味する。また酸付
加塩としては化合物［１１の分子内塩を形成している部
分、すなわち４位のカルボキシレート部分（ＣＯＯｅ）
と３位のＣＨ２Ａ■部分に酸が１モル付加して４位がカ
ルボキシル基（ｃ　ｏ　ＯＩ−Ｉ）、　３　位ｈ＜　Ｃ
Ｈ、Ａｏ　・ｖｒｏ［式中、ＭＯは無機酸、有機酸から
プロトンＨ■をとりのぞいてできるアニオンを示す。た
とえばクロライドイオン、ブロマイドイオン、スルフェ
ートイオン、ｐ−トルエンスルホネートイオン、メタン
スルホネートイオン、トリフルオロアセテートイオンな
ど］となった塩も含まれる。化合物［＋］のエステル誘
導体は分子中に含まれるカルボキシル基をエステル化す
ることにより生成されうるエステルを意味し、合成中間
体として利用できるエステルおよび代謝上不安定な無毒
のエステルである。合成中間体として利用できるエステ
ルとしてはＣｌ−６アルキル１エステル、　ｃ　ｔ−ｅ
アルケニルエステル、Ｃ３−ＩＱシクロアルキルエステ
ル、　Ｃ３−１゜シクロアルキルＣ、−。

アルキルエステル、Ｃ＠−＋ｏアリール”エステル、　
Ｃ？−１２アラルキル”エステル、ジＣ６−、ｏアリー
ル−メチルエステル、トリＣｓ−＋ｏアリールーメチル
エステル、置換ンリルエステルなどがあげられる。Ｃ１
−、アルキル”エステルを形成するｒｃ、−、アルキル
９基」としてはたとえば、メチル、エチル、ｎ−プロピ
ル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、５ｅａ−
ブチル、　ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキ
シル、ベンジルオキシメチル、２−メチルスルホニルエ
チル。２−トリメチルシリルエチル、２，２．２−トリ
クロロエチル、２−ヨードエチル、アセチルメチル。

ｐ−ニトロベンゾイルメチル、ｐ−メシルベンゾイルメ
チル、フタルイミドメチル、サクシンイミドメチル、ベ
ンゼンスルホニルメチル、フェニルチオメチル、ジメチ
ルアミノエチル、ピリジン−１−オキシド−２−メチル
、メチルスルフィニルメチル、２−ジアツー１．１−ジ
メチルエチルなどを、Ｃｌ−８アルケニルエステルを形
成するＣ１−８アルケニル基としてはここでも前記のも
の、すなわちビニル。

アリル、ｌ−プロペニル、イソプロペニル、１−ブテニ
ル、２−ブテニル、３−ブテニル、メタリル、■。

１−ジメチルアリル、３−メチル−３−ブテニルなどを
、Ｃ３−１゜シクロアルキルエステルを形成するＣ、、
、シクロアルキル基としてはここでも前記のちの、すな
わちシクロプロピル、シクロブチル。

シクロペンデル、シクロヘキシル、シクロブチル。

ノルボルニル、アダマンチルなどを、Ｃ３−１゜シクロ
アルキルＣ１−８アルキルエステルを形成するＣ３−１
゜シクロアルキルＣ１−６アルキル基としてはここでも
前記のもの、すなわちシクロプロピルメチル。

シクロペンチルメチル、シクロヘキシルメチルなどを、
Ｃ６−３゜アリール１エステルを形成する「Ｃ，−１０
アリール１基」としてはたとえばフェニル、α−ナフチ
ル、β−ナフチル、ビフェニリル、ｐ−ニトロフェニル
、ｐ−クロロフェニルなどを、Ｃ？−ｔｔアラルキル”
エステルを形成するｒｃ７−、、アルキル９基」として
はたとえば、ベンジル、ｌ−フェニルエチル、２−フェ
ニルエチル、フェニルプロピル、ナフチルメチル、ｐ−
ニトロベンジル、ｐ−メトキシベンジル、ｌ−インダニ
ル、フェナシル、３．５−ジｔｅｒｔ−ブヂルー４−ヒ
ドロキシベンジルなどを、ジＣＢ−１［＋アリールーメ
チルエステルを形成するジＣ８−３゜アリール−メチル
基としてはここでも前記のもの、すなわちベンズヒドリ
ル、ビス（ｐ−メトキシフェニル）メチルなどを、トリ
Ｃｏ−１０７リールーメチルエステルを形成するトリｃ
ａ−ｔｏアリールーメチル基としてはここでも前記のも
の、すなわちトリチルなどを、置換シリルエステルを形
成する置換シリル基としてはここでも前記のもの、すな
わちトリメデルシリル、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリ
ル、　　Ｓ　１（ＣＨａ）ｔｃＨｔｃＨｔｓ　１（ＣＩ
（ｔ）ｔ−などをそれぞれ表わす。上記したエステルに
は４位のエステルら含まれる。このように４位が上記の
エステル基であるものは３位がＣＩ（、Ａ■・ＭＣ）　
［式中、ＭＯはＯｎ記と同意義を示す］のような塩を形
成している。

代謝上不安定な無毒のエステルとしてはペニシリン、セ
ファロスポリンの分野ですでに確立されているものが本
発明においても便宜に採用されうる。このような代謝上
不安定な無毒のエステルとしては、たとえばｃｔ−ｅア
ルカノイルオキシＣｌ−８アルキルエステル、１−（Ｃ
，−＠アルコキシ）Ｃ，−。

アルキルエステル、　Ｉ　−（ＣＩ−。アルキルチオ）
Ｃ，−８アルキルエステルなどがあげられ、Ｃを−。ア
ルカノイルオキシＣ＋−Ｓアルキルエステルとしてはた
とえば、アセトキシメチルエステル、ｌ−アセトキンエ
チルエステル、１−アセトキシブチルエステル、２−ア
セトキシエチルエステル、プロピオニルオキシメチルエ
ステル、ピバロイルオキシメチルエステルなどが、ｌ　
−（Ｃ，−。アルコキシ）Ｃ，−、アルキルエステルと
してはたとえば、メトキシメチルエステル、エトキシメ
チルエステル、イソブロボキシメチルエステル、■−メ
トキシエチルエステル、ｌ−エトキシメチルエステルな
どが、１−（０１〜６アルギルヂオ）ｃ、−ｅアルキル
エステルとしてはたとえば、メチルチオメチルエステル
、エチルチオメチルエステルなどがそれぞれあげられる
。本発明は上記エステル誘導体のほかに、生体内におい
て化合物［Ｉ］に変換される生理学的に受容しうる化合
物ら包含する。上記した合成中間体として利用できるエ
ステルおよび代謝上不安定な無毒のエステルには４位の
エステルも含まれる。このように４位が上記のエステル
基であるものは通常、３位がＣＨ，Ａ■・ＭＣ［式中、
Ｍｅは前記と同意義を示す］のような塩を形成している
。

また化合物［＋１が水酸基を有する場合、その水酸基は
保護されていてもよい。水酸基の保護基としては、β−
ラクタムおよび有機化学の分野で通常、水酸基の保護基
として使用しうるちのはすべて利用でき、前記のＣ３−
６アルカノイル基、置換オキシカルボニル基、ｔｅｒｔ
−ブチル基、Ｃ？−＋ｔアラルキル１基、ジＣ，−１゜
アリール−メチル基、トリＣｓ−１゜アリール−メチル
基、　ｔ　−（Ｃ＋−Ｓアルコキシ）Ｃ１−。アルキル
基、１　　（Ｃ＋−。アルキルチオ）　ＣＩ−ａアルキ
ル基、置換シリル基などのほか、たとえば２−チトラヒ
ドロピラニル、４−メトキシ−４−テトラヒドロピラニ
ルなどのアセタール残基などが用いられる。

化合物［１］が前記したアミノ基以外のアミノ基をさら
に有する場合、そのアミノ基もやはり保護されていても
よい。このようなアミノ基の保護基としては、前記のア
ミノ基の保護基がここでもそのままあげられる。

本発明の化合物［Ｉ］のうち置換基Ｒ０が含窒素曳索環
基（Ｒａ）またはアシル基（Ｒｂ）のものはスペクトル
の広い抗菌活性を有し、人および動物における病原性細
菌により生ずる種々の疾病、たとえば気道感染、尿路感
染の予防ならびに治療のために使用されうる。抗菌性化
合物［＋］（Ｒ’＝Ｒ”またはＲｂ）の抗菌スペクトル
の特徴としてつぎのような点があげられる。

（１）多種のダラム陰性菌に対して非常に高い活性を示
す。

（２）ダラム陽性菌（たとえばスタフィロコッカス・ア
ウレウス、コリネバクテリウム・ジフテリアエなど）に
対して高い活性を有している。

（３）通常のセファロスポリン系抗生物質による治療に
感受性でないシュウトモナス・エアルギノサに対して顕
著な効果を示す。

（４）多くのβ−ラクタマーゼ生産性グラム陰性菌（た
とえばエシェリヒア属、エンテロバクタ−属。

セラチア属、プロテウス属など）に対しても高い活性を
有している。

特にシュウトモナス属微生物に対しては従来からアミカ
シン、ゲンタマイシンなどのアミノグリコシド系抗生物
質が用いられてきたが、抗菌性化合物［１］はこれらの
アミノグリコシド類に匹敵する抗菌力を示すばかりでな
く、人および動物に対する毒性がアミノグリコシド類よ
りも格段に低いので、大きな利点を持っている。

また本発明の抗菌性化合物［１］（ｒｔ０＝Ｒａまたは
Ｒｂ）は優れた安定性を有する、血中濃度が高い、効果
の持続時間が長い、組織移行性が顕著であるなどの特徴
をも有している。

本発明の化合物［１］またはその塩もしくはエステルの
製造法を以下に詳しく述べる。以下に述べる方法は反応
としてはいずれも公知であり、それらの公知方法または
それらに準する方法を応用することができる。製造法（
１）：化合物［１１］（［＋］。

ＲＱ　＝水素原子）の合成法 たとえば、一般式 ［式中、記号Ｒ５は水酸基、アンルオキシ基、カルバモ
イルオキシ基、置換カルバモイルオキシ基またはハロゲ
ン原子を、その他の記号は前記と同意義を示す］で表わ
される化合物またはその塩もしくはエステルと一般式Ａ
’　［Ａ’は置換されていてもよい１．５−位で縮合環
を形成するピラゾールを示す］で表わされるピラゾール
化合物またはその塩とを反応させることにより７−アミ
ノ化合物［［１］　（［１］、　　Ｒ０＝水素原子）を
合成することができる。すなわち次の反応式で示される
。

［式中、記号Ｚ、Ｒ’、Ｒ′″、Ｒ’およびＡは前記と
同意義を示ず］ ここで原料となる化合物［ＩＸ　］または塩・エステル
は公知の方法もしくはそれに準４″′る方法を用いて容
易に入手しうる化合物である。化合物［ＩＸ］の塩。

エステルについては化合物［ＩＴ］の塩、エステルとし
て後記するものと同じ塩、エステルがここでもあげられ
る。

前記Ｒ５で表わされるアシルオキシ基は前記のアシル“
オキシ基がここでも用いられるが、とりわけアセトキシ
、クロロアセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオ
キシ５ピバロイルオキシ、３−オキツブチリルオキシ、
４−クロロ−３−オキソブチリルオキシ、３−カルボキ
シプロピオニルオキシ、４−カルボキシブヂリルオキシ
、３−エトキシカルバモイルプロピオニルオキシ、ベン
ゾイルオキシ、０−カルボキシベンゾイルオキシ、０−
（エトキシカルボニルカルバモイル）ベンゾイルオキシ
、０−（エトキシカルボニルスルファモイル）ベンゾイ
ルオキシなどが好ましい。記号Ｒ５で表わされる置換カ
ルバモイルオキシ基は前記のものがここでも用いられる
が、とりわけメチルカルバモイルオキシ、Ｎ、Ｎ−ジメ
チルカルバモイルオキシなどが好ましい。記号Ｒ５で表
わされるハロゲン原子は塩素、臭素、ヨウ素などが好ま
しい。またピラゾール化合物Ａ′とその塩については後
に詳記する。

本反応は７位−アミノ基が保護されていても上記と同様
に反応が進行し、反応後、要すれば保護基の脱離を行う
ことにより同じく７−アミノ化合物ｒｔｌｌ（［１１，
Ｒ’＝水素原子）に導くことができる。

製ｉｆｉ法（２）：化合物［１ａ］（Ｒ’＝　Ｒａ；Ｒ
ａｌ：ｔ、含窒素複素環基を示す）の合成法 たとえば （２−１）：萌項（１）で得られた７−アミノ化合物［
■］またはその塩もしくはエステル（塩、エステルにつ
いては後記する）と一般式ＲａＨａｌ（Ｒａは含窒素複
素環基、Ｈａｌはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハ
ロゲン原子を、それぞれ示す］で表わされる化合物また
はその塩とを反応させることにより化合物［Ｉａ］（Ｒ
０＝Ｒａ）を合成することができる。すなわち次の反応
式で示される。

［［１］ し式中、記号Ｒａは含窒素複素環基を、記号Ｚ、Ｒ’。

Ｒ′３．ＡおよびＭａｌは前記と同意義を示す］化合物
ＲａＨａｌのハロゲン原子（Ｈａｔ）としてはフッ素が
最も繁用される。化合物１’１ａＨａｌの塩としてはた
とえば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、硝酸塩。

リン酸塩などの無機酸付加塩、ギ酸塩、酢酸塩、トリフ
ルオロ酢酸塩、メタンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスル
ホン酸塩などの有機酸付加塩などがあげられる。反応は
一般的には水もしくは含水溶媒中。

室温（約１５〜３０℃）で化合物ＲａＨａｌまたはその
塩と７−アミノ化合物［１１］またはその塩らしくはエ
ステルを混合することにより行なわれる。化合物ＲａＨ
ａｌが化合物［ＩＩ］と反応する前に加水分解されるの
を防ぐため、反応液のＩ）Ｈの調節が必要である。至適
ｐＨは６〜８．５である。反応によって生成するハロゲ
ン化水素を反応系から除去する目的で脱酸剤を用いても
よい。このような脱酸剤としてはたとえば、炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸カルンウム、炭酸水素ナトリ
ウムなどの無機塩基、たとえばトリエチルアミン、トリ
（ｎ−プロピル）アミン、トリ（ｎ−ブチル）アミン、
ジイソプロピルエチルアミン、シクロへキシルツメデル
アミン、ピリジン、ルヂジン、γ−コリジン、Ｎ、Ｎ−
ジメチルアニリン、Ｎ−メチルピペリジン。Ｎ−メチル
ピロリノン、Ｎ−メチルモルホリンなどの第３級アミン
、たとえばプロピレンオキシド、エピクロルヒドリンな
どのアルキレンオキシド類などがあげられる。また、ア
ルカリ性になりすぎるのを防ぐために、塩酸、臭化水素
酸、硫酸、硝酸、リン酸などの無機成を使用する場合も
ある。含水溶媒を使用する場合、水と混合して用いられ
る有機溶媒としてはたとえばジオキサン、テトラヒドロ
フラン、ジエチルエーテル、　ｔｅｒｔ−ブチルメチル
エーテル、ジイソプロピルエーテルなどのエーテル類、
ホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ
−ジメチルアセトアミドなどのアミド類、たとえばアセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンな
どのケトン類などのほかジメチルスルホキシド。

スルホラン、ヘキサメチルホスホルアミドなどがあげら
れる。化合物ＲａＨａｌの使用量は７−アミノ化合物［
ＩＩ］１モルに対して通常１〜３モル、好ましくは１〜
２モルである。反応時間は７−アミノ化合物［１１］と
化合物ＲａＨａｌの種類、溶媒の種類。

反応温度などに依存し、通常１分〜４８時間、好ましく
は１５分〜３時間である。

化合物ＲａＨａｌおよびその塩は公知の方法もしくはそ
れに準する方法により容易に合成することができる。　
本方法によりたとえば次式の化合物が合成できる。

化合物ＲａＨａｌが活性すぎて加水分解されやすい場合
は、たとえば無水のジメチルスルホキシド中、たとえば
無水のトリエチルアミンなどの有機塩基の存在下に反応
を行なってもよい。この方法によりたとえば次式の化合
物が合成できる。

また、たとえばｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホ
ン酸、エタンスルホン酸、酢酸、酪酸などのａ機成もし
くは塩酸、硫酸、炭酸などの無機酸の存在下に上記の反
応を行なう場合もある。この場合も化合物ｆｌａＨａ＋
のハロゲン原子（Ｈａｌ）としてはフッ素が最も繁用さ
れる。反応は通常ジメチルホルムアミド、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、クロロホルム、メタノール、アセ
トニトリル、ベンゼン、アセトン、水などの溶媒中もし
くはそれらの混合溶媒中で行なわれる。反応温度は０〜
１５０℃、好ましくは２０〜８０℃である。反応時間は
通常３０分〜２０時間である。この方法によりたとえば
次式の化合物が合成できる。

（２−２）：前項（１）で使用した原料化合物［ＩＸ］
またはその塩もしくはエステルを化合物ＲａＨａｌま　
−たはその塩と反応させたのち、ピラゾール化合物Ａ’
　［Ａ’は前記と同意義を示す］またはその塩を反応さ
せることにより化合物［１ａｌ（Ｒ’＝Ｒａ）を合成す
ることもできる。すなわち次の反応式で示される。

［ＩＸコ （塩・エステルも含む） ［［ａ］ ［式中、記号Ｒａは含窒素複素環基を、記号Ｚ、Ｒ’。

ｎ　＋　３　、　Ｒ５、Ａおよび　Ｈａｌは前記と同意
義を示すコ原料化合物［ＩＸ］とその塩・エステル、化
合物ＲａＨａｔとその塩については前記したものがここ
でもあげられる。ピラゾール化合物Ａ′とその塩につい
ては後に詳記する。反応は製造法（２−１）および製造
法（１）で述べた方法をそのまま応用することができる
。

製造法（３）：化合物［■ｂコ（Ｒ’＝Ｒｂ：Ｒｂはア
シル基を示す）の合成法 たとえば （３−１）前々項（１）で得られた７−アミノ化合物［
■］またはその塩もしくはエステルと一般式ＲｂＯＨ［
式中、Ｒｂはアシル基を示すコで表わされるカルボン酸
またはその塩もしくは反応性誘導体とを反応させること
により化合物［Ｉｂ］（Ｒ０＝Ｒｂ）を合成することが
できる。すなわち次の反応式で示される。

［ＩＩ］　　　　　　　　　［Ｉｂ］ ［式中、記号Ｒｂはアシル基を、記号ｚ　、　Ｒ４、ｎ
　ｔ　３゜およびＡは前記と同意義を示す］ 本性は７−アミノ化合物［１］をカルボン酸ＲｂＯＨま
たはその塩もしくは反応性誘導体でアシル化する方法で
ある。この方法においてカルボン酸ＲｂＯＨは遊離のま
まあるいはその塩もしくは反応性誘導体が７−アミノ化
合物［ｎｌの７位アミノ基のアシル化剤として用いられ
る。すなわち遊離酸ＲｂＯＨあるいは遊離酸ＲｂＯＨの
無機塩、有機塩、酸ハライド、酸アジド、酸無水物、混
合酸無水物、活性アミド、活性エステル、活性チオエス
テルなどの反応性誘導体がアシル化反応に供される。

無機塩としてはアルカリ金属塩（たとえばナトリウム塩
、カリウム塩など）、アルカリ土類金属塩（たとえばカ
ルシウム塩など）などが、有機塩としてはたとえばトリ
メチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルアミン塩、ジベンジルメチルアミン塩、ベン
ジルジメチルアミン塩、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン塩、
ピリジン塩、キノリン塩などが、酸ハライドとしてはた
とえば酸クロライド。

酸ブロマイドなどが、混合酸無水物としてはモノＣ１−
、アルキル炭酸混合酸無水物（たとえば遊離酸Ｒｔ）Ｏ
Ｈとモノメチル炭酸、モノエチル炭酸、モノイソプロピ
ル炭酸、モノイソブチル炭酸、モノｔｅｒｔ−ブチル炭
酸、モノベンジル炭酸、モノ（ｐ−ニトロベンジル）炭
酸、モノアリル炭酸などとの混合酸無水物）、Ｃ１−５
脂肪族力ルボン酸混合酸無水物（たとえば遊離酸ＲｂＯ
Ｈと酢酸、トリクロロ酢酸、シアノ酢酸、プロピオン酸
、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、イソ吉草酸、ビバル酸、ト
リフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、アセト酢酸などとの
混合酸無水物）、　Ｃ７−。

、芳香族カルボン酸混合酸無水物（たとえば遊離酸Ｒｂ
０ｆ−１と安息香酸、ｐ−トルイル酸、ｐ−クロロ安息
香酸などとの混合酸無水物）、有機スルホン酸混合酸無
水物（たとえば遊離酸ＲｂＯＨとメタンスルホン酸、エ
タンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンス
ルホン酸などとの混合酸無水物）などが、活性アミドと
しては含窒素複素環化合物とのアミド（たとえば遊離酸
ＲｂＯＨとピラゾール。

ミドで、これらの含窒素複素環化合物は前記のＣｌ−６
アルキル基、　Ｃ＋−ｓアルコキシ基、ハロゲン原子。

オキソ基、チオキソ基、Ｃｌ−ｅアルキルチオ基などで
置換されていてもよい）などがあげられる。活性エステ
ルとしてはβ−ラクタムおよびペプチド合成の分野でこ
の目的に用いられるものはすべて利用でき、たとえば有
機リン酸エステル（たとえばノエトキシリン酸エステル
、ジフェノキシリン酸エステルなど）のほかｐ−ニトロ
フェニルエステル。

２．４−ジニトロフェニルエステル、シアノメチルエス
テル、ペンタクロロフェニルエステル１Ｎ−ヒドロキン
フタルイミドエステル、Ｎ−ヒドロキンフタルイミドエ
ステル、ｌ−ヒドロキシベンゾトリアゾールエステル、
６−クロロ−１−ヒドロキシベンゾトリアゾールエステ
ル、ｌ−ヒドロキシ−１１（−２−ピリドンエステルな
どがあげられる。活性チオエステルとしては芳香族複素
環チオール化合物とのエステル（たとえば２−ピリジル
チオールエステル、２−ベンゾチアゾリルチオールエス
テルなどで、これらの複素環は前記のＣ１−６アルキル
基＋ｃ＋−ｅアルコキシ基、ハロゲン原子、Ｃ２−、ア
ルキルチオ基などで置換されていてもよい）があげられ
る。一方、７−アミノ化合物［［１］は遊離のまま１そ
の塩あるいはエステルとして用いられる。７−アミノ化
合物［１］の塩としては無機塩基塩、アンモニウム塩、
有機塩基塩、無機酸付加塩。

有機酸付加塩などがあげられる。無機塩基塩としてはア
ルカリ金属塩（たとえばナトリウム塩、カリウム塩など
）、アルカリ土類金属塩（たとえばカルシウム塩など）
などが、有機塩基塩としてはたとえばトリメチルアミン
塩、トリエチルアミン塩、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルア
ミン塩、ジベンジルメチルアミン塩、ベンジルジメチル
アミン塩、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン塩、ピリジン塩、
キノリン塩などが、無機酸付加塩としてはたとえば塩酸
塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩などが、
有機酸付加塩としてはギ酸塩、酢酸塩、トリフルオロ酢
酸塩。

メタンスルホン酸塩、ｐ−）−ルエンスルホン酸塩など
があげられる。７−アミノ化合物［１１］のエステルと
七では化合物［１］のエステル誘導体とじてすでに述べ
たエステルがここでもそのままあげられる。すなわちＣ
ｌ−６アルキル”エステル、Ｃｔ−８フルケニルエステ
ル、Ｃ３□。シクロアルキルエステル、Ｃ０１シクロア
ルキルＣ２−６アルキルエステル、Ｃｏ−＋ｏアリール
０エステル、Ｃクー、！アラルキル”エステル、ジＣｏ
−ｔｏアリールメチルエステル。

トリｃｏ−ｔｏアリールメチルエステル＋　ｃ　ｆｆ１
−１１アルカノイルオキシＣ３−。アルキルエステルな
どがあげられる。原料物質ＲｂＯＨおよびその塩・反応
性誘導体は公知の方法またはそれに準する方法によって
容易に製造できる。化合物ＲｂＯ，Ｈの反応性誘導体は
反応混合物から単離された物質として７−アミノ化合物
［１１］と反応させてもよいし、または単離面の化合物
ＲｂＯＨの反応性誘導体を含有する反応混合物をそのま
ま７−アミノ化合物［■コと反応させることらできる。

カルボン酸ＲｂＯＨを遊離酸または塩の状態で使用する
場合は適当な縮合剤を用いる。縮合剤としてはたとえば
Ｎ、Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミドなどのＮ、
Ｎ′　−ジ置換カルボジイミド類、たとえばＮ、Ｎ’　
−カルボニルジイミダゾール、Ｎ、Ｎ’　−チオカルボ
ニルジイミダゾールなどのアゾライド類、たとえばＮ−
エトキシカルボニル−２−エトキシ−１゜２−ジヒドロ
キノリン、オキシ塩化リン、アルコキシアセチレンなど
の脱水剤、たとえば２−クロロピリジニウムメチルアイ
オダイド、２−フルオロピリジニウムメチルアイオダイ
ドなどの２−ハロゲノピリジニウム塩類などが用いられ
る。これらの縮合剤を用いた場合、反応はカルボン酸Ｒ
ｂＯトＩの反応性誘導体を経て進行すると考えられる。

反応は一般に溶媒中で行なわれ、反応を阻害しない溶媒
が適宜に選択される。このような溶媒としてはたとえば
ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、
　ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ノイソブロビルエ
ーテル、エヂレングリコールージメチルエーテルなどの
エーテル類、たとえばギ酸エチル、酢酸エチル、酢酸ｎ
−ブチルなどのエステル類、たとえばジクロロメタン、
クロロホルム、四塩化炭素、トリクレン、１．２−ジク
ロロエタンなンの７１０ゲソイに岸イｌ／７に皇ｗ４　
　ナーと女りｆｎ−ヘキ廿゛ノベンゼン、トルエンなど
の炭化水素類、たとえばホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミドなどの
アミド類、たとえばアセトン、メチルエチルケトン。メ
チルイソブチルケトンなどのケトン類、たとえばアセト
ニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル類などのほ
か、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ヘキサメチル
ホスホルアミド、水なとが単独または混合溶媒として用
いられる。アシル化剤（ＲｂＯＨ）の使用徂は７−アミ
ノ化合物［Ｉ［］１モルに対して通常１〜５モル、好ま
しくは１〜２モルである。反応は一８０〜８０℃、好ま
しくは一４０〜５０’Ｃ，最ら好ましくは一３０〜３０
℃の温度範囲で行われる。反応時間は７−アミノ化合物
［［１］およびカルボン酸Ｒｂ。

１−１の種類、溶媒の種類（混合溶媒の場合はその混合
比ら）１反応温度などに依存し、通常１分〜７２時間。

好ましくは１５分〜３時間である。アシル化剤として酸
ハライドを用いた場合は放出されるハロゲン化水素を反
応系から除去する目的で脱酸剤の存在下に反応を行うこ
とができる。このような脱酸剤としではたとえば炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム。

炭酸カルシウム、炭酸水素ナトリウムなどの無機塩基、
たとえばトリエチルアミン、トリ（ｎ−プロピル）アミ
ン、トリ（ｎ−ブチル）アミン、ジイソプロピルエチル
アミン、シクロへキシルジメチルアミン。

ピリジン、ルチジン、γ−コリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチル
アニリン、Ｎ−メチルピペジリン、Ｎ−メチルピロリジ
ン、Ｎ−メチルモルホリンなどの第３級アミン、たとえ
ばプロピレンオキシド、エピクロルヒドリンなどのアル
キレンオキシドなとがあげられる。

ここにあげた方法によりたとえば前記した化合物［■〕
を合成することができる。反応式は次に示すとおりであ
る。

［■コ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　［１］カルボン酸［Ｉ［１］は公知の方法もしく
はそれに準する方法により容易に製造することができる
。

（３−２）ニ一般式 ［式中、Ｒｂはアシル基、その他の記号は前記と同意義
を示す］で表わされる化合物またはその塩もしくはエス
テルと一般式Ａ、’［Ａ’は前記と同意義を示す］で表
わされるピラゾール化合物またはその塩とを反応させる
ことにより化合物［１ｂ］（Ｒ＝Ｒ）を合成することが
できる。すなわち次の反応式で示される。

［式中、記号Ｒｂはアシル基を、記号Ｚ、Ｒ’、Ｒ”、
Ｒ５およびＡは前記と同意義を示すコ この反応は製造法（１）で述べた方法と本質的に同一の
反応であり、化合物［Ｘ］またはその塩もしくはエステ
ルに対してピラゾール化合物Ａ′またはその塩を反応さ
せ、求核置換反応により化合物［Ｉ］（Ｒ’＝Ｒ）を合
成する方法である。化合物［Ｘ］においてＲ５はここで
ら水酸基、アシルオキシ基。

カルバモイルオキシ基、置換カルバモイルオキシ基また
はハロゲン原子を示す。化合物［Ｘ］は遊離のまま、そ
の塩あるいはエステルとして用いられる。化合物［Ｘ］
の塩、エステルとしては製造法（３−１）において７−
アミノ化合物［１］の塩、エステルとしてあげたものが
ここでもそのままあてはめられる。化合物［Ｘ］、その
塩およびエステルは公知の方法またはそれに準する方法
によって容易に製造できる。一方ピラゾール化合物Ａ′
は置換されていてもよい！、５−位で縮合環を形成する
ピラゾールを示す。ここで縮合環はピラゾール環と５〜
６員芳香族複素環が縮合した形のものを意味し、この□
縮合環はさらに別の芳香環または５〜６員芳香族複素環
と縮合していてもよい。置換されていてもよい１．５−
位で縮合環を形成するピラゾール（Ａ′）は一般式 で書き表わされる。縮合ピラゾール基Ａ′の式中の記号
ＢはＡ基中のＢとしてずでに、あげたものがそのままあ
てはめられ、したがって化合物Ａ′としては具体的には
、 などがあげられる。化合物Ａ′上の置換基Ｒ１′および
Ｒ１２′としては基Ａの置換基Ｒ”およびＲ１意として
すでにあげたものがここでもそれぞれそゾール環の３．
４−位が脂環、芳香族環、複素環と縮合していてらよい
。これらの例としては、などがあげられここでＢ、　Ｒ
Ｉ　２’は前記したらのと同じである。上記した置換基
Ｒ”’ＩＲ”’はさらに置換されていてもよい。ピラゾ
ール化合物Ａ′は塩としても用いられる。化合物Ａ′の
塩としてはたとえば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩、硝
酸塩。

リン酸塩などの無機酸付加塩、たとえばギ酸塩、酢酸塩
、トリフルオロ酢酸塩、メタンスルホン酸塩、ｐ−′ト
ルエンスルホン酸塩などの有機酸付加塩などがあげられ
る。ピラゾール化合物Ａ′およびそのｍｔｒｒＩｋｌシ
ｂ、ｉ＞＜ａｔ＋＋ｗ、牛ｎｚ永ｈｆａＰ載コ＄１ｎ）
ｔ、＼１ｍ方法またはそれに準する方法によって容易に
製造できる。ピラゾール化合物Ａ′による化合物［Ｘ］
への本求核置換反応はそれ自体よく知られた反応であっ
て、通常溶媒中で行なわれる。　この反応に用いられる
溶媒としては製造法（３−１）で使用されるエーテル類
、エステル類、ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類、ア
ミド類、ケトン類、ニトリル類９水などの溶媒がそのま
まあてはめられるが、これらのほかにたとえばメタノー
ル、エタノール。

ｎ−プロパツール、イソプロパツール、エチレングリコ
ール、２−メトキシエタノールなどのアルコール類も用
いられる。またピラゾール化合物Ａ′が液体の場合、こ
の化合物Ａ′を化合物［Ｘ］に対して大過剰（たとえば
１０〜２００倍モル）使用して溶媒をも兼ねさせる場合
がある。この場合、上記の溶媒を使用しなくてもよいし
、または上記の溶媒とＡ′とを混合溶媒としてもよい。

（３−２−１）：Ｒ’がアシルオキシ基、カルバモイル
オキシ基、置換カルバモイルオキシ基の場合より好まし
い溶媒は水もしくは水と混合しうる有機溶媒と水との混
合溶媒で、水と混合しつる有機溶媒のうち、より好まし
いものはアセトン、メチルエチルケトン、アセトニトリ
ルなどである。求核試薬Ａ′の使用量は化合物［Ｘ］１
モルに対して通常１〜５モル、好ましくは１〜３モルで
ある。

反応は１０〜１００℃、好ましくは３０〜８０℃の温度
範囲で行なわれる。

反応時間は化合物［Ｘ］および化合物Ａ′の種類。

溶媒の種類（混合溶媒の場合はその混合比）９反応温度
などに依存し、通常３０分〜５日間、好ましくは１〜５
時間である。反応はｐＨ２〜８．好ましくは中性付近す
なわちｐＨ５〜８で行なうのが有利である。また本反応
は通常２〜３０当量のヨウ化物またはチオシアン酸塩の
存在下でより容易に進行する。このような塩としてはヨ
ウ化ナトリウム。

ヨウ化カリウム、チオシアン酸ナトリウム、チオシアン
酸カリウムなどがあげられる。上記の塩のほか、たとえ
ばトリメチルベンジルアンモニウムブロマイド、トリエ
チルベンジルアンモニウムブロマイド、トリエチルベン
ジルアンモニウムヒドロキサイドのような界面活性作用
を有する第４級アンモニウム塩を添加することによって
反応を円滑に進行させうる場合らある。

（３−２−２）：Ｒ’が水酸基の場合 たとえば日本国公開特許公報昭５８−４３９７９などに
記載された方法にしたがって有機リン化合物の存在下に
行う。ここで用いられる有機リン化合物としてはたとえ
ば０−フェニレンホスホロクロリゾエイト、Ｏ−フェニ
レンホスホロフロリゾエイト、メチル　Ｏ−フェニレン
ホスフェイト、エチル　０−フェニレンホスフェイト、
　プロピル　０−フェニレンホスフェイト、イソプロピ
ル　０−フェニレンホスフェイト、　ブチル　Ｏ−フェ
ニレンホスフェイト、イソブチル　０−フェニレンホス
フェイト、５ｅｅ−ブチル　Ｏ−フェニレンホスフェイ
ト、シクロヘキシル　Ｏ−フェニレンホスフェイト、フ
ェニル　Ｏ−フェニレンホスフェイト、ｐ−クロロフェ
ニル　Ｏ−フェニレンホスフェイト、ｐ−アセチル　０
−フェニレンホスフェイト、２−クロロエチル　Ｏ−フ
ェニレンホスフェイト、２゜２．２−トリクロロエチル
　Ｏ−フェニレンホスフェイト、エトキシカルボニルメ
チル　０−フェニレンホスフェイト、カルバモイルメチ
ル　０−フェニレンホスフェイト、２−シアノエチル　
０−フェニレンホスフェイト、２−メチルスルホニルエ
チル　Ｏ−フェニレンホスフェイト、ベンジル　〇−フ
ェニレンホスフェイト、１．ｌ−ジメチル−２−プロペ
ニル　０−フェニレンホスフェイト、２−プロペニル　
Ｏ−フェニレンホスフェイト、３−メチル−２−ブテニ
ル　０−フェニレンホスフェイト、２−チェニルメチル
　Ｏ−フェニレンホスフェイト、２−フルフリルメチル
　０−フェニレンホスフェイト、ビスー〇−フェニレン
ピロホスフェイト、２−フェニル−１，３，２−ペンゾ
ジオキザホスホールー２−オキシド、２−（ｐ−クロロ
フェニル）−１，３，２−ベンゾジオキサホスホ−ルー
２−オキシド、２−ブチル−１，３，２−ペンゾジオキ
ザホスホールー２−オキシド、２−アニリノ−１，３，
２−ベンゾジオキサホスホ−ルー２−オキシド、２−フ
ェニルチオ−１，３，２−ベンゾジオキサホスホールー
２−オキシド、２−メトキシ−５−メチル−１，３，２
−ベンゾジオキサホスホ−ルー２−オキシド、２−クロ
ロ−５−エトキシカルボニル−１，３，２−ベンゾジオ
キサホスホ−ルー２−オキシド、２−メトキシ−５−エ
トキシカルボニル−１，３，２−ベンゾジオキサホスホ
−ルー２−オキシド、５−エトキシカルボニル−２−フ
ェニル−１，３，２−ベンゾジオキサホスホ−ルー２−
オキシド、２．５−ジクロロ−■、３゜２−ベンゾジオ
キサホスホ−ルー２−オキシド、４−クロロ−２−メト
キシ−１，３，２−ベンゾジオキサホスホ−ルー２−オ
キシド、２−メトキシ−４−メチル−１，３，２−ベン
ゾジオキサホスホ−ルー２−オキシド、２．３−ナフタ
レンメチルホスフェイト、５．６−シメチルー２−メト
キシ−１，３，２−ベンゾジオキサホスホ−ルー２−オ
キシド、２．２−ジヒドロ−４，５，６，７−チトラク
ロロー２．２．２−）ジメトキシ−１，３，２−ベンゾ
ジオキサホスホール、２．２−ジヒドロ−４゜５．６．
７−テトラクロロ−２，２，２−トリフヱノキシー１．
３．２−ベンゾジオキサ、１；スホール、２゜２−ジヒ
ドロ−２，２−エチレンジオキシ−２＝メトキシ−１，
３，２−ベンゾジオキサホスホール、２．２−ジヒドロ
−２−ベンジル−２，２−ジメトキシ−１，３，２−ベ
ンゾジオキサホスホール、２゜２−ジヒドロ−４，５−
ベンゾ−２，２，２−１リメトキシ−１，３，２−ベン
ゾジオキサホスホール、２．２−ジヒドロ−２，２，２
−トリフエノキシ−１，３，２−ベンゾジオキサホスホ
ール、２．２−ジヒドロ−２，２−（ｏ−フェニレンジ
オキシ）−２−フェノキシ−１，３，２−ベンゾジオキ
サホスホール、２−クロロ−２，２−ジヒドロ−２，２
−（。

−フェニレンジオキシ）−１，３，２−ベンゾジオキサ
ホスホール、２．２−ジヒドロ−２−メトキシ−２，２
−（ｏ−フェニレンジオキシ）−１，３，２−ベンゾジ
オキサホスホール、２．２−ジヒドロ−２，２，２−ト
リクロロ−１，３，２−ベンゾジオキサホスホール、９
，１０．−フェナンスレンジオキシトリメトキシホスホ
ラス、０−フエニレンホスホロクロリダイト、０−フェ
ニレンホスホロブロミダイト、０−フ二二しンホスホロ
フロリダイト、メチル　Ｏ−フェニレンホスファイト、
ブチル　〇−フェニレンホスファイト、メトキシカルボ
ニルメチル　０−フェニレンホスファイト、フェニル０
−フェニレンホスファイト、ｐ−クロロ（マタはｐ−ニ
トロ）フェニル　０−フェニレンホスファイト、２−フ
ェニル−１，３，２−ベンゾジオキサホスホール、ビス
ー〇−フェニレンピロホスファイト、２−メトキシ−５
−メチル−１，３，２−ベンゾジオキサポスホール、５
−アセチル−２−フェノキシ−１，３，２−ベンゾジオ
キサホスホール、９．１０．−フェナンスレンホスホロ
クロリダイト、２−クロロ−４−メチル−１，３，２−
ベンゾジオキサホスホール、５−エトキシカルボニル−
２−フェニル−１，３，２−ベンゾジオキサホスホール
、２−クロロ−２−チオキソ−１，３，２−ベンゾジオ
キサホスホール、２−７エノキシー２−オキソ−１，３
，２−ベンゾジアザホスホール、２−フェノキシ−１，
３，２−ベンゾジオキサアザホスホール、２．２−ジヒ
ドロ−２−オキソ−２−メトキシ−４，５−ジメチル−
１，３，２−ジオキサホスホール、２．２−ジヒドロ−
２−オキソ−２−クロロ−４，５−ジメチル−１，３，
２−ジオキサポスホール、２．２−ジヒドロ−２−才キ
ソー２−（１−イミダゾリル）−４，５−ジメチル−１
，３，２−ジオキサホスホール、２．２−ジヒドロ−２
，２−エチレンジオキシ−２−メトキシ−４，５−ツメ
チル−１，３，２−ジオキサホスホール、２，２−ジヒ
ドロ−２，２−ジメトキシ−２−フェノキシ−４，５−
ジメチル−１，３，２−ジオキサホスホール、２．２−
ジヒドロ−２，２，２−トリメトキシ−４，５−ジメチ
ル−１，３，２−ジオキサホスホール、２，２−ジヒド
ロ−２，２，２−１−リフエノキシ−４，５−ジメチル
−１，３，２−ジオキサホスホール、２．２−ジヒドロ
−２，２，２−トリエトキシ−４，５−ジフェニル−１
，３，２−ジオキサホスホール、２．２−ジヒドロ−２
，２，２−トリメトキシ−４，５−ジフェニル−１，３
，２−ジオキサホスホール、２．２−ジヒドロ−２−オ
キソ−２−メトキシ−４，５−ジフェニル−１，３゜２
−ジオキサホスホール、２．２−ジヒドロ−２゜２．２
−　トリメトキン−１，３，２−ジオキサホスホール、
２．２−ジヒドロ−２，２，２−トリメトキシ−４−フ
ェニル−１，３，２−ジオキサホスホール、２．２−ジ
ヒドロ−２，２，２−トリメトキシ−４−メチル−１，
３，２−ジオキサホスホール、２．２−ジヒドロ−２，
２，２−トリメトキシ−４−メチル−５−フェニルカル
バモイル−！、３．２−ジオキサホスホール、２．２．
４，５，６．７−ヘキサヒドロ−２，２，２−）ジメト
キシ−１，３，２−ベンゾジオキサホスホール、２．２
’　−オキシビス（４，５−ジメチル−２，２−ジヒド
ロ−！、３゜２−ジオキサホスホール）、２．２’−オ
キシビス（４，５−ジメチル−２，２−ジヒドロ−１，
３，２−ジオキサホスホ−ルー２−オキシド）などがあ
げられる。反応に用いる溶媒は反応を阻害しないもので
あればよく、好ましくは前記したエーテル類。エステル
類９ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類、アミド類、ケ
トン類、ニトリル類などが単独または混合溶媒として用
いられる。とりわけ、たとえばジクロロメタン、アセト
ニトリル、ホルムアミド、ホルムアミドとアセトニトリ
ルの混合溶媒、ジクロロメタンとアセトニトリルの混合
溶媒などを使用すると好効果が得られる。求核試薬Ａ′
および有機リン化合物の使用量は化合物［Ｘ１１モルに
対してそれぞれ１〜５モル、１〜１０モル、より好まし
くはそれぞれ１〜３モル、１〜６モルである。

反応は一８０〜５０℃、好ましくは一４０〜４０℃の温
度範囲で行なわれる。反応時間は通常１分〜１５時間。

好ましくは５分〜２時間である。反応系に有機塩基を添
加してもよい。このような有機塩基としてはたとえばト
リエチルアミン、トリ（ｎ−ブチル）アミン、ジ（ｎ−
ブチル）アミン、ジイソブチルアミン。

ジシクロヘキシルアミン、２，６−ルチジンなどのアミ
ン類があげられる。塩基の添加量は化合物［Ｘ１１モル
に対して１〜５モルがよい。

（３−２−３）：Ｒ’がハロゲン原子の場合好ましい溶
媒は前記のエーテル類、エステル類。

ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類、アミド類、ケトン
類、ニトリル類、アルコール類、水などである。

求核試薬Ａ′の使用量は化合物［Ｘ１１モルに対して通
常１〜５モル、好ましくは１〜３モルである。

反応は０〜８０℃、好ましくは２０〜６０℃の温度範囲
で行なわれる。反応時間は通常３０分〜１５時間、好ま
しくは１〜５時間である。反応を促進するため脱ハロゲ
ン剤の存在下に反応を行うこともできる。

このような脱ハロゲン剤としては製造法（３−１）の項
で述べた無機塩基、第３級アミン、アルキレンオキノド
類などの脱酸剤がここでもあげられるが、求核試薬Ａ′
自身を脱ハロゲン剤として働かせてもよい。この場合に
は化合物Ａ′を化合物［Ｘ１１モルに対して２モル以上
使用する。Ｒ５で示されるハロゲン原子は塩素、臭素、
ヨウ素などであるが、好ましくはヨウ素である。Ｒ５が
ヨウ素である化合物［Ｘ］はたとえば日本国公開特許公
報昭５８−５７３９０に記載の方法またはそれに準する
方法などを用いて容易に製造できる。ここにあげた方法
によりたとえば前記した化合物［■］もしくは［■］を
合成することができる。反応式は次に示すとおりである
。

［■］ ［■］ 化合物［［１１］および［ＩＶ］は公知の方法もしくは
それに鵡する方法により容易に製造することができる。

また化合物［■］、［■］を含む下記の化合物［刈］は
上記の製造法（３−１）または（３−２）の方法のほか
、下記の製造法（３−３）の方法によっても製造するこ
とができる。化合物［■］は（３−１）、（３−２）ま
たは（３−３）の方法のほか、下記の（３−４）の方法
によっても製造することができる。

（３−３）：反応式は次のとおりである。

［ＸＩ］ ［式中、記号Ｒ１″′は置換されていてもよい複素環基
を、記号Ｚ、Ｒ’、Ｒ１３，ＡおよびＲ３は前記と同意
義を示す］　本性はヒドロキシイミノ化合物［Ｖ］に対
して一般式Ｒ”’ＯＨで示される化合物またはその反応
性誘導体を反応させて化合物［Ｘ［］を合成する方法で
あり、よく知られたエーテル化反応である。ここでＲ１
！′が はそれぞれ化合物［■］または［■］である。Ｒ３″は
置換されていてもよい炭化水素残基を示し、このような
炭化水素残基としてはＲ３における置換されていてもよ
い炭化水素残基としてすでにあげたものがここでもその
ままあてはめられる。Ｒ３″ＯＨはそのままあるいはそ
の反応性誘導体として用いられる。Ｒ”’ＯＨの反応性
誘導体はヒドロキシイミノ化合物［Ｖ］の水素原子とと
もに離脱する基を有するＲ”’ＯＨの誘導体、すなわち
一般式Ｒ”’Ｙで表わされる化合物を意味する。ここで
水素原子とともに離脱する基Ｙはハロゲン原子。

スルホ基、モノ置換スルホニルオキシ基などを示す。ハ
ロゲン原子としては塩素、臭素、ヨウ素などがあげられ
る。モノ置換スルホニルオキシ基としてはたとえばメタ
ンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ、ベンゼ
ンスルホニルオキソ、ｐ−トルエンスルホニルオキシな
どのＣ１−８アルキルスルホニルオキシ基、　ｃ　＠−
１゜アリールスルホニルオキシ基などがあげられる。ま
た特に化合物［Ｖ］の０１−４アルキル工−テル体を製
造する場合には上記の反応性誘導体のほか、たとえばジ
アゾメタン、ジアゾエタンなどの０１−４ジアゾアルカ
ン、たとえばジメチル硫酸、ジエチル硫酸などのジＣ１
−４アルキル硫酸なども用いられる。

化合物［Ｖ］は製造法（３−１）で述べたアシル化反応
または製造法（３−２）で述べた求核置換反応にしたが
って合成することができる。すなわち、それぞれ次の反
応式で示される。

また原料化合物［Ｘ１］および［Ｘ′］も公知の方法ま
たはそれに準する方法により容易に合成することができ
る。化合物Ｒ”’ＯＨおよびその反応性誘導体も公知の
方法またはそれに準する方法により容易に合成すること
ができる。

（３−３−１）：Ｒ”’ＯＨを使用する場合適当な脱水
剤を用いてヒドロキシイミノ化合物［Ｖ］と反応させ化
合物［刈］を合成する。このような目的に使用される脱
水剤としてはたとえばオキシ塩化リン、塩化チオニル、
アゾジカルボン酸ジアルキル（通常、ホスフィンとの共
存で使用される）。

Ｎ、Ｎ’−ジシクロ口へキシルカルボジイミドなどがあ
げられ、好ましくはトリフェニルホスフィン共存下のア
ゾジカルボン酸ジエチルである。トリフェニルホスフィ
ン共存下でアゾジカルボン酸ジエチルを用いる反応は通
常、無水の溶媒中で行なわれ、前記のエーテル類、炭化
水素類などが使用される。ヒドロキシイミノ化合物［Ｖ
］１モルに対して化合物Ｒ”’ＯＨ，アゾジカルボン酸
エチル。

トリフヱニルホスフィンはいずれも１〜１．５モル用い
られる。０〜５０℃の温度範囲で１〜４日間を要する。

（３−３−２）：Ｒ”’Ｙを使用する場合Ｒ”’Ｙとヒ
ドロキシイミノ化合物［Ｖ］との反応は通常のエーテル
化反応であって、溶媒中で行なわれる。溶媒としては製
造法（３−１）の項であげたエーテル類、エステル類、
ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類、アミド類、ケトン
類、ニトリル類。

アルコール類、水などの溶媒もしくは混合溶媒がここで
もあげられ、好ましくは水と混合しうる溶媒と水との混
合溶媒（たとえば含水メタノール、含水エタノール、含
水アセトン、含水ジメチルスルホキシドなど）である。

本反応は適当な塩基の存在下に円滑に進行させることも
できる。このような塩基としてはたとえば炭酸ナトリウ
ム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ
金属塩。

たとえば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアル
カリ金属水酸化物などの無機塩基があげられる。また本
反応をｐｔ−ｉ７．ｓ〜８．５の緩衝溶液中で行なって
もよい。原料化合物［Ｖ］１モルに対して使用する試薬
Ｒ”’Ｙおよび塩基のモル敢はそれぞれｌ〜５　、　ｌ
−１ｏ、好ましくはそれぞれ１〜３゜１〜５である。反
応温度は一３０〜１００℃、好ましくは０〜８０℃の範
囲である。反応時間はｌＯ分〜１５時間、好ましくは３
０分〜５時間である。

（３−３−３）：Ｃ，−、ジアゾアルカンを使用する場
合 反応は通常溶液中で行なわれる。溶液としては前記のエ
ーテル類、炭化水素類などが用いられる。

ヒドロキシイミノ化合物［Ｖ］を溶液に溶解したのち、
ジアゾアルカン化合物の溶液を加えると反応は進行する
。試薬は化合物［Ｖ］１モルに対して１〜１０モル、好
ましくは１〜５モル使用する。反応は比較的低温で行な
われ一５０〜２０℃、好ましくは一３０〜０℃である。

反応時間は１分〜５時間、好ましくは１０分〜１時間で
ある。

（３−３−４）ニジＣ１−。アルキル硫酸を使用する場
合 反応は通常、水もしくは水と混合しうる溶媒と水との混
合溶媒中で行なわれる。混合溶媒としてはｔ！に告烙（
３−３−ＩＮ？Ｓ訊ζｆ？−合索浣すすｈ（ここでもあ
げられる。この反応は通常、たとえば水酸化ナトリウム
、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物などの無
機塩基の存在下に行なわれる。

試薬は化合物［■］１モルに対して０．５〜ｌＯモル、
好ましくは１〜２モル使用する。反応温度は２０−１゜
０℃、好ましくは５０〜１００℃の範囲である。反応時
間はＩＯ分〜５時間、好ましくは３０分〜３時間である
。

（３−４）：反応式は次のとおりである。

［ＶＴ］ ［■］ ［式中、記号Ｚ　、Ｒ’、Ｒ′３．Ａ　、Ｒ’、Ｒ”お
よびＲ３は前記と同意義を示す］ 本性は化合物［ＶＩ］と一般式Ｒ’Ｃ（−Ｓ）ＮＨ，で
表わされるチオ尿素またはチオ尿素誘導体とを反応させ
て目的化合物［■］を合成する方法である。化合物［Ｖ
Ｉ］は遊離のまま、塩あるいはエステルとして用いられ
る。化合物［ＶＩ］におけるＸはたとえば塩素、臭素、
ヨウ素などのハロゲン原子を示す。化合物［ＶＩ］の塩
としては製造法（３−１）の項であげた７−アミノ化合
物［ＩＩ］の塩（無機塩基塩、アンモニウム塩、有機塩
基塩、無機酸付加塩、有機酸付加塩など）がここでもあ
てはめられる。化合物［Ｖ［］のエステルとしては同じ
く製造法（３−１）の項であげた７−アミノ化合物［ｎ
］のエステル（Ｃ，−Ｓアルキル１エステル、　Ｃｔ−
ａアルケニルエステル、　Ｃ５−ＩＱシクロアルキルエ
ステル、　Ｃａ−。シクロアルキルＣ１−６アルキルエ
ステル、Ｇｏ−１ｏアリール１エステルＩＯ？−ｔｔア
ラルキル０エステル、ジＣ６−３゜アリール−メチルエ
ステル、トリＣ＠−１゜アリール−メチルエステル、Ｃ
１−６アルカノイルオキシＣ１−。

アルキルエステルなどがここでもあてはめられる。

原料化合物［ＶＩ］は一般式 ｘ　ＣＨＣＯＣ−ＣＯＯｌ−１ｃ式中の記号は前記とｌ
　　　　　　　　　ＩＩ Ｒ”　　　　Ｎ ＼ＯＲ３ 同意義を示す］で表わされる化合物またはその塩もしく
は反応性誘導体と前記の７−アミノ化合物［１１］また
はその塩あるいはエステルとを、製造法（３−１）で述
べた方法にしたがって反応させることにより容易に製造
することができる。一般またはその反応性誘導体はそれ
自体公知の方法またはそれに準する方法によって容易に
製造できる。

化合物［ＶＩ］とＲ’Ｃ（Ｓ＝）ＮＨｔとの反応は通常
溶媒中で行なわれる。溶媒としてはたとえばジオキサン
、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテ
ル類、たとえばメタノール、エタノール、ｎ−プロパツ
ールなどのアルコール類、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルアセトアミドなどのアミド類、などが用いられる。

チオ尿素またはその誘導体Ｒ’　Ｃ（Ｓ　＝　）　Ｎ　
Ｈｔの使用量は化合物［ＶＩ］に対して通常１〜５モル
、好ましくは１〜３モルである。

反応はθ〜１００℃、好ましくは２０〜６０℃の温度範
囲で行なわれる。反応時間は通常３０分〜１５時間、好
ましくは１〜５時間である。

また上記した製造法（３−１）〜（３−４）により製造
される化合物［１ｂ］の置換基Ｒｂ中にヒドロキシイミ
ノ基（または置換ヒドロキシイミノ基）が存在する場合
（たとえば化合物［■］汀■］など）。

化合物［＋　　］がシン［Ｚ］−、アンチ［Ｅ］−異性
体の混合物として得られる場合がある。混合物から所望
のシン異性体を分離するには自体公知の方法またはそれ
に準する方法が適用される。それらの方法としてはたと
えば溶解性、結晶性などの差を利用した分別法、クロマ
トグラフィーによる分離、エステル誘導体の加水分解速
度の差を利用した分離法などがあげられる。

製造法（４）：化合物［１］（Ｒ’＝　ＲＣ；ＲＣはア
ミノ基の保護基を示す）の合成法 たとえば、製造法（１）で合成された７−アミノ化合物
［１１］（［ＩＩ］、Ｒ０＝水素原子）またはその塩も
しくはエステルとアミノ基を保護する試薬、たとえば置
換オキシカルボニル化試薬とを反応させることにより合
成することができる。置換オキシカルボニル化試薬とし
てはたとえば、置換オキシカルボニルハライド（ハロゲ
ンとしては塩素、臭素、ヨウ素など）、置換オキシカル
ボニルアジド、置換オキシカルボニック　アンヒドリド
、置換オキシカルボニルスルフィド、置換オキシカルボ
ニル　アゾライド（アゾールとしてはイミダゾール、Ｎ
−メチルイミダゾール、トリアゾール、２−チオオキサ
シリノン、２−オキソオキサゾリジンなど）などが用い
られる。反応は一般に溶媒中で行なわれ、無水の溶媒が
より好ましい。このような溶媒としてはたとえば、ジオ
キサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔｅ
ｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル
、エチレングリコール−ジメチルエーテルなどのエーテ
ル類、たとえばジクロロエタン、クロロホルム、四塩化
炭素、トリクレン、１．２−ジクロロエタンなどのハロ
ゲン化炭化水素類、たとえばアセトニトリルなどのニト
リ・ル類、たとえばメタノール、エタノール、プロパツ
ール、ブタノールなどのアルコール類、たとえばｎ　−
ヘキサン、ベンゼン、トルエンなどの炭化水素類たとえ
ばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド。ヘキ
サメチルホスホラストリアミドなどのアミド類、たとえ
ばりメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが繁
用され、単独または混合溶媒として用いられる。置換オ
キシカルボニル化試薬の使用量は７−アミノ化合物［１
１１モルに対して通常１〜５モル、好ましくは１〜２モ
ルである。反応は一８０〜８０℃、好ましくは一４０〜
５０℃、最も好ましくは一３０〜３０℃の温度範囲で行
なわれる。

反応時間は７−アミノ化合物［ｎｌおよび置換オキシカ
ルボニル化試薬の種類、溶媒の種類１反応温度などに依
存し、通常１分〜４８時間、好ましくはｌＯ分〜２時間
である。置換オキシカルボニル化試薬として置換オキシ
カルボニルハライドを用いた場合は放出されるハロゲン
化水素を反応系から除去する目的で脱酸剤の存在下に反
応を行うことができる。このような脱酸剤としてはたと
えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、
炭酸水素ナトリウムなどの無機塩基、たとえばトリエチ
ルアミン、トリ（ｎ−プロピル）アミン、トリ（ｎ−ブ
チル）アミン、ジイソプロピルエチルアミン、シクロへ
キシルジメチルアミン、ピリジン、ルチジン。

γ−コリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−メチル
ピペリリン。Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルモルホ
リンなどの第３級アミン、たとえばプロピレンオキシド
、エピクロルヒドリンなどのアルキレンオキシド類など
があげられる。

上記した製造法（１）〜（４）の反応ののち、要すれば
保護基の除去および精製を行うことにより本発明の目的
化合物［１］を得ることができる。以下に保護基の除去
法および精製法について説明する。

保護基除去法：前記した通りβ−ラクタムおよびペプチ
ド合成の分野ではアミノ基の保護基は充分に研究されて
いてその保護法はすでに確立されている。また、アミノ
保護基の除去法も同様に確立されており、本発明におい
ても保護基の除去は従来の技術をそのまま利用できる。

たとえばモノハロゲノアセチル基（クロロアセチル、ブ
ロモアセチルなど）はチオ尿素により、アルコキシカル
ボニル基（メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、
ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルなど）は酸（たとえば塩
酸など）により、アラルキルオキシカルボニル基（ベン
ジルオキシカルボニル、ｐ−メチルベンジルオキシカル
ボニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルなど）は
接触還元により、２，２．２−トリクロロエトキシカル
ボニルは亜鉛と酸（たとえば酢酸など）により除去する
ことができる。一方、合成中間体として化合物［＋］が
エステル化されている場合もそれ自体公知の方法または
それに準する方法によってエステル残基を除去すること
ができる。

たとえば２−メチルスルホニルエチルエステルはアルカ
リにより、アラルキルエステル（ベンジルエステル、ｐ
−メトキシベンジルエステル、ｐ−ニトロベンジルエス
テルなど）は酸（たとえばトリフルオロ酢酸など）また
は接触還元により、２，２．２−トリクロロエチルエス
テルは亜鉛と酸（たとえば酢酸など）により。シリルエ
ステル（トリメチルシリルエステル、　ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリルエステルなど）は水のみにより除去す
ることができる。

化合物［１１の精製法：製造法（１）〜（４）に詳記し
た各種製造法により、また要すれば上記の保護基除去法
をつづいて行うことにより反応混合物中に生成した化合
物［１Ｆは抽出法、カラムクロマトグラフィー、沈澱法
、再結晶法などの公知の処理手段によって単離精製する
ことができる。一方、単離された化合物［１］を公知の
方法により所望の生理学的に受容される塩または代謝上
不安定な無毒のエステルへと変換することもできる。

セフェム化合物（［１］、Ｚ＝Ｓ）のスルホキシド（［
１１，Ｚ＝Ｓ−０）は化合物（［１］、Ｚ＝Ｓ）の酸化
反応により得られる。このような酸化反応はよく知られ
た反応である。セフェム環中の硫黄原子の酸化に適した
酸化剤としてはたとえば酸素、過酸。

ヒドロパーオキシド、過酸化水素なとがあげられ、過酸
はその場で酸と過酸化物の混和によって製造することも
できる。過酸としては過酢酸、過安、ω。

香酸、ｐ−クロル過安息香酸などが繁用される。反応は
通常、溶媒中で行なわれる。この反応に用いられる溶媒
としてはたとえばジオキサン、テトラヒドロフランなど
のエーテル類、たとえばジクロロメタン、クロロホルム
、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類、たとえ
ばギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸などの有機酸類、たと
えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど
のアミド類などがあげられる。反応温度は一２０〜８０
℃の範囲で行なわれるが、なるべく低い温度、好ましく
は一２０〜２Ｑ”Ｃで行なわれる。セフェム化合物（［
１１、Ｚ＝Ｓ）の酸化に際してはＳ−立体配位をもつス
ルホキシドが主に生成することが一般に知られている。

Ｒ−およびＳ−スルホキシドはそれらの異なる溶解性お
よびクロマトグラフィー分離に際しての異なる移動速度
によって分離される。スルホキシドを得るための上記の
酸化反応は前記製造法（１）〜（４）の反応の前に行な
ってもよいし、また（１．）〜　（４）の反応の後に行
なってもよい。

化合物［■］および［■］を含む本発明の化合物［Ｉ］
は公知のペニシリン剤、セファロスポリン剤と同様に注
射剤、カプセル剤８錠剤、顆粒剤として非経口または経
口的に投与できる。投与量は前記したような病原性細菌
に感染した人および動物の体重１ｋｇあたり０．５〜８
０ｍｇ／日、より好ましくは１〜２０ＩＩ１ｇＺ日を１
日３〜４回に分割して投与すればよい。

注射剤として用いられる場合の担体は、たとえば蒸留水
、生理食塩水などが用いられ、カプセル剤。

粉剤、顆粒剤１錠剤として用いられる場合は、公知の薬
学的に許容される賦形剤（たとえばデンプン。

乳糖、白糖、炭酸カルシウム、’ＩＪン酸カルシウムな
ど）、結合剤（たとえばデンプン、アラビアゴム、カル
ボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、結晶セルロースなど）、滑沢剤（たとえばステアリ
ン酸マグネシウム、タルクなど）、破壊剤（たとえばカ
ルボキシメチルカルシウム、タルクなど）と混合して用
いられる。

発明を　施するための最良の形態 本発明はさらに下記の参考例、実施例で詳しく説明され
るが、これらの例は単なる実例であって本発明を限定す
るものではなく、また本発明の範囲を逸脱しない範囲で
変化させてもよい。

参考例、実施例のカラムクロマトグラフィにおける溶出
はＴ　Ｌ　Ｃ（Ｔ　ｈｉｎ　　Ｌ　ａｙｅｒ　　Ｃｈｒ
ｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ　、　　薄層クロマトグラフィ
）による観察下に行なわれた。ＴＬＣ観察においては、
ＴＬＣプレートとしてメルク（Ｍｅｒｃｋ）社製のＢ　
ＯＦ　ｚｓ＋を、展開溶媒としてはカラムクロマトグラ
フィで溶出溶媒として用いられた溶媒を、検出法として
Ｕ■検出器を深川した。カラム用シリカゲルは同じくメ
ルク社製のキーゼルゲル６０（２３０〜４００メツシユ
）を用いた。“セファデックス”はファルマシア・ファ
イン・ケミカルズ社（Ｐｈａｒｍａｃｉａ　　Ｆｉｎｅ
　　Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ）製である。ＸＡＤ−ＩＩ樹脂
はローム・アンド・ハース社製（Ｒｏｈｍ　　＆　　Ｈ
ａａｓ　　Ｃｏ、　）製である。ＮＭＲスペクトルは内
部または外部基準としてテトラメチルシランを用いてＸ
　Ｌ　−１００Ａ　（ｔ。

ＯＭ　Ｈｚ）　、　Ｅ　Ｍ　３６０（６０Ｍ　Ｈｚ）　
、　Ｅ　Ｍ　３９０（９０Ｍ　Ｈｚ）またはＴ　、０（
６０Ｍ　ＨＺ’）型スペクトロメーターで測定（）内に
示した数値は各溶媒の容量混合比である。

また溶液における％は溶液１ｏｃｆｆｌｌ中のｇ数を表
わす。

また参考例、実施例中の記号は次のような意味である。

Ｓ　　　：シングレット（ｓｉｎｇｌｅｔ）ｄ　　　：
ダブレット（ｄｏｕｂｌｅｔ）ｔ　　　ニトリプレット
（ｔｒｔｐｌｅｔ）ｑ　　　：クワルテット（ｑｕａｒ
ｔｅｔ）ＡＢＱ　　：ＡＢ型クりルテット（Ａ　Ｂ　　
ｔ）’ｐｅｑｕａｒｔｅｔ） ｄ、ｄ：ダブル　ダブレット（ｄｏｕｂｌｅ　　ｄｏｕ
ｂ−１ｅｔ） ｍ　　　：マルチプレット（ｍｕＨｉｐｌｅｔ）ｂｒ、
　　　ニブロード（ｂｒｏａｄ）Ｊ　　　；カップリン
グ定数（ｃｏｕｐｌｔｎｇ　　ｃｏｎ−ｓｔａｎｔ） Ｈｚ　　　・ヘルツ（Ｈｅｒｚ） ｍｇ：ミリグラム（ｍｉｌｌｉｇｒａｍ）ｇ　　　：グ
ラム（ｇｒａｍ） ｍｌ：ミリリーター（ｍｉｌｌＨｉｔｅｒ）２　　　：
リーダー（ｌｉｔｅｒ） ％　　　：パーセント（ｐｅｒｃｅｎｔ）ＤＭＳＯニジ
メチルスルホキシド（ｄｉｍｅｔｈｙｌｓｕＨｏｘｉｄ
ｅ） Ｄ　ｔ　Ｏ：重水 ＣＤ　Ｃ１，：重クロロホルム 参考例１ ７β−［２−（２−クロロアセトアミドチアゾール−４
−イル）−２（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−
３−（３−オキソブチリルオキシメチル）−３−セフェ
ム−４−カルボン酸。

７β−アミノ−３−（３−オキツブチリルオキシメチル
）−３−セフェム−４−カルボン酸１５７ｇをテトラヒ
ドロフラン５００ｍ１と水５００ａ＋１の混合液に懸濁
させ、かきまぜながら炭酸水素ナトリウム１４１ｇ　　
を少量づつ加える。ついで５℃で攪拌しなから２−（２
−クロロアセトアミドチアゾール−４−イル）−２（Ｚ
）−メトキシイミノアセチルクロライド・塩酸塩１５０
ｇを２０分間で加え、同温度で反応液をさらに１時間か
きまぜる。反応終了後１０％塩酸でｐｔ−ｔａ、ｏとし
たのち、反応液を酢酸エチル−テトラヒドロフラン（ｌ
・１）の混合液各！ｅで２回抽出する。抽出液を無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去し、得ら
れた無色粉末を酢酸エチル２００ｍ１で洗浄後ろ取する
と標記化合物２５３ｇが得られる。

元素分析値：Ｃ１゜Ｈ７゜ＣｌＮ５ＯｓＳｔとして、計
算値（％）：Ｃ，４１，８５；　Ｈ，３，５１：　Ｎ、
１２．２０゜実測値（％）：Ｃ，４１，３９；　Ｈ，３
，５７；　Ｎ、１１．９４゜！Ｒスペクトルｖ　ＫＢ’
ｃｍ−’　：１７８０．１７４０．１７００゜ａｘ １６５５、１５４０．１４１００ ＮＭＲスペクトル（ｄ、−ＤＭＳＯ）δ：２．２０（３
１１，ｓ）。

３．４５と３．６８（２１１，ＡＢＱ、　　Ｊ＝１８Ｈ
２）、３．６５（２１１，Ｓ）。

３．９２（３＋１．ｓ）、　４．３８（２１１，８）、
　４．７９と５．０９（２１１，ＡＢＱ。

Ｊ＝１３Ｈｚ）、　　５．１８（ｉｌｌ、ｄ、　Ｊ＝５
１１ｚ）、５．８５（１Ｂ、ｄ、ｄ。

Ｊ＝５１１２と８Ｈｚ）、　　７．４４（１１１，ｓ）
、　９．６６（Ｉｌｌ、ｄｊ＝８１１ｚ）、　１２．８
５（１１１，ｂｒ、ｓ）。

参考例２ ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−（３−オ
キソブチリルオキシメチル）−３−セフェム−４−カル
ボン酸。

７β−２−［２−（クロロアセトアミドチアゾール−４
−イル）−２−（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］
−３−（３−オキソブチリルオキシメチル）−３−セフ
ェム−４−カルボン酸１５０ｇをテトラヒドロフラン−
水（１：ｌ）の混合液５０Ｏｎ＋１に溶解後Ｎ−メチル
ジチオカルバミン酸ナトリウム５１ｇを加え、２０℃で
３時間かきまぜる。反応液に酢酸エチル２００＋＋＋１
を加え、有機層を除去し水層を１０％塩酸で１）Ｈ４に
すると油状物が析出する。これをテトラヒドロフラン−
酢酸エチル（１：ｌ）の混合液ＩＱで抽出し、さらに水
層を１−ブタノール２００ｍ１で抽出する。抽出液を無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去する。

残留物に酢酸エチル２００ｍ１を加えてかきまぜ、析出
した結晶をろ取すると標記化合物９０ｇ得られる。

元素分析値：Ｃ１゜Ｈｌ。Ｎ、Ｏ，Ｓｔとして、計算値
（％）：Ｃ，４２，１９，Ｈ，４，３０，Ｎ、１３．５
５゜実測値（％）：Ｃ，４１，９４；　Ｈ，４，１１；
　Ｎ、１３．５９゜■Ｒスペクトルｖ　ＫＢ’ｃｍ−’
：１７７０．１？１０．１６２０゜ａｘ １５２０゜ ＮＭｒｔ７！、ベクトル（ｄ、−ＤＭＳＯ）δ：２．２
０（３１１，ｓ）。

３．４３と３．６５（２１１，ＡＢＱ、Ｊ＝１８１１Ｚ
）、　３．６３（２１１，８）、　３゜８６（３１１，
ｓ）、　４．７８と５．０６　（２８，ＡＢＱ、Ｊ＝１
３Ｈｚ）、　　５．１４（ｉｌｌ、ｄ、　Ｊ＝５１１ｚ
）、　５．７９（ｉｌｌ、ｄ、ｄＪ＝５ｔｌｚと８Ｈｚ
）、６．７３（１１１，ｓ）、　　７．１７（２Ｈ，ｂ
ｒ、）、　　９．５６（ｌ１１．ｄ、Ｊ＝８ｔ１２）。

参考例３ ７β−［２−（２−アミノデアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−エトキシイミノアセトアミド］−３−（３−オ
キソブヂリルオキシメチル）−３−セフェム−４−カル
ボン酸。

２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−
エトキシイミノ酢酸２３ｇをジメチルホルムアミドｌｏ
Ｏｍｌにとかし、！−ヒドロキシベンゾトリアゾール１
５ｇとジシクロへキシルカルボジイミド２０゜６ｇを加
えて２０℃で１．５時間かきまぜる。不溶物をろ失投、
ろ液を７β−アミノ−３−（３−オキソブチリルオキシ
メチル）−３−セフェム−４−カルボン酸３１ｇとトリ
エチルアミン２８ｍ　ｌのジメチルホルムアミ１１００
ｍｌ溶液に水冷下で加える。反応液を２０℃で３時間か
きまぜたのちジエチルエーテル５００ｍ１を加え、析出
固型物をろ取する。これを水１００ｍ１に溶解後１０％
塩酸でｐＨ３，０としたのち、メチルエチルケトン各２
０Ｏｎ＋１で２回抽出する。抽出液を水洗し無水硫酸ナ
トリウムで乾燥後、減圧下で溶媒を留去し得られた固型
物を酢酸エチルで洗浄すると標記化合物３１ｇが得られ
る。

ｌＲスペクトルシＫＢｒＣＩＩＩ−Ｉ：１７８０゜１７
２０．１６６０゜ａｘ ＮＭＲスペクトル（ｄ、−ＤＭＳＯ）δ：ｔ、３０（３
１１，ｔｊ＝７．５Ｈｚ）、　２．２５（３Ｈ，Ｓ）、
　　３．４５−３．６５（４１１，ｍ）、　４゜２０（
２＋１．Ｑ、Ｊ＝７．５１１２）、　４．７０と５．　
ＩＱ（２Ｈ，ＡＢＱ、Ｊ　＝１８Ｈｚ）、　５．２５（
２Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．９０（ＩＩＩ、ｄＪ＝
５Ｈｚと８１１ｚ）、　８．９０（ＬＨ，ｓ）、７．２
０−７．８０（２１１，ｂｒ、）、　９゜８０（ｌＨ，
ｄ、Ｊ＝７．５Ｈ２）。

参考例４ ７β−［２−（２−アミノデアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−アリルオキシイミノアセトアミド］−３−（３
−オキソブチリルオキシメチル）−３−セフェム−４−
カルボン酸。

２−（２−アミノデアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−
アリルオキシイミノ酢酸１３ｇをジメチルホルムアミド
５０ｍ１にとかし、！−ヒドロキシベンゾトリアゾール
８ｇとジシクロへキシルカルボジイミド１０１３ｇを加
え２０℃で３時間かきまぜる。不溶物をろ失投、ろ液を
７β−アミノ−３−（３−オキソブチリルオキシメチル
）−３−セフェム−４−カルボン酸１６ｇとトリエチル
アミンｌｏｇのジメチルホルムアミド５０ｆｆｉ１溶液
に水冷下で加える。反応液を２０℃で３時間かきまぜる
たのち、ジエチルエーテル５００ｍ１を加えエーテル層
を除き、得られた不溶物を水５０ｍ１に溶解させついで
１０％塩酸でｐＨ３，ｏに調整すると粗製の標記化合物
が得られる。これを酢酸エチル−テトラヒドロフラン（
１：１）の混合液５００ｍ１に溶解させ無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、活性炭処理しついで減圧下で溶媒を留
去すると標記化合物２５ｇが無晶形粉末として得られる
。

ＩＲスペクトルｖＫＢ”　ｃｍ−’：　１７ｇ０．１７
２０．１６６０゜ａｘ １６２０゜ ＮＭＲスペクトル（ｄｏ　　Ｄ　Ｍ　Ｓ　Ｏ）δ：　２
゜３０（３１１，ｓ）、　３．４５−３．６６（４１１
，ｍ）、　４．６４（２１１，ｄ、Ｊ＝６１１ｚ）、　
４．８０−５．１０（２１，ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ）、
　５．２３（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝９１１ｚ）。

５．２６（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝５１１ｚ）、　　５．９０（
ｉｌｌ、ｄ、ｄ、Ｊ＝５＋１ｚと９Ｈｚ）、　５．９０
−６．２０（ｉｌｌｌｍ）、　６．８０（１Ｂ、ｓ）、
　７．２０−８．００（２Ｈ，ｂｒ、）、　９．８３（
ＩＩＩ、ｄ、Ｊ＝９１１ｚ）。

参考例５ ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ　）　−Ｑｅｒｔ−ブトキシカルボニルメトキシイ
ミノ）アセトアミド］−３−（３−オキツブチリルオキ
シメチル）−３−セフェム−４−カルボン酸。

２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−
（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルメトキシイミノ）酢酸
６．０ｇをジメチルホルムアミド２０ｍ１にとかし、！
−ヒドロキンベンゾトリアゾール３．５ｇとジシクロへ
キシルカルボジイミド４．４ｇを加え２０℃で３時間か
きまぜる。不溶物をろ失投、ろ液を７β−アミノ−３−
（３−オキソブチリルオキシメチル）−３−セフェム−
４−カルボン酸６．２ｇとトリエチルアミン４．０ｇの
ジメチルホルムアミド２０Ｉｌ＋１溶液に水冷下で加え
、反応液を２０℃で８時間かきまぜる。

ジエチルエーテル２００ｍ１を反応液に加えエーテル層
を除去し、残渣を水５０ｍ１に溶解させた後１０％塩酸
でり＋１４に調整すると結晶が析出する。これをろ取し
て水洗後ジエチルエーテルで洗浄し、乾燥すると標記化
合物ｌｏｇが得られる。

Ｉ　ｎスペクトルｖＫＢｒｃｍ−’：　１７９０．１？
３０．１７１０゜ａｘ １６６０、１５３０゜ ＮＭＲスペクトル（ｄｏ−ＤＭＳＯ）δ：　　１．５Ｑ
（９Ｈ，Ｓ）、　２．２０（３１１，ｓ）、　３．４０
−３．６０（４１１，ｍ）、　４．４０（２Ｈ，ｓ）。

４．８０と５．１０（２＋１．ＡＢｑ、Ｊ＝１４Ｈｚ）
、　５．２０（ＩＩＩ、ｄ、Ｊ＝５１１ｚ）、　　５．
８０（１１１，ｄ、ｄ、Ｊ−５１１ｚと８１１ｚ）、　
　６．７０（ＩＩＩ、ｓ）。

７．２０−７．８０（２１１，ｂｒ、）、　９．３０（
ｉｌｌ、ｄ、Ｊ＝８１１ｚ）。

参考例６ ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−メ
チルエトキシイミノ）アセトアミド］−３−（３−オキ
ツブチリルオキシメチル）−３−セフェム−４−カルボ
ン酸。

２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）　
−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−メチルエ
トキシイミノ）酢酸１６ｇをジメチルホルムアミド３０
ｍ１にとかし、ｌ−ヒドロキシベンゾトリアゾール８．
０ｇとジクロへキシルカルボジイミドｌ１ｇを加えて２
０℃で１０時間かきまぜる。不溶物をろ失投、ろ液を７
β−アミノ−３−（３−オキツブチリルオキシメチル）
−３−セフェム−４−カルボン酸１６ｇとトリエチルア
ミン１０ｇのジメチルホルムアミド５０ｍｌ溶液に水冷
下で加え、反応液を２０℃で２４時間かきまぜる。ジエ
チルエーテル５００ｍ１を反応液に加えエーテル層を除
去し、残渣を水１００ｍ１ｌこ溶解させたのち１０％塩
酸でｐＨ４，０に調製すると結晶が析出する。これをろ
取して水洗後エチルエーテルで洗ａトシ、乾燥すると標
記化合物２５ｇが得られる。

ＩＲスペクトルｖＫＢ”　ａｍ−’：　１７８０．１７
３０．１７００゜１１８Ｘ １６８０、１５３０Ｏ ＮＭｒｔスペクトル（ｄａ−ＤＭＳＯ）δ、ｔ、３５（
１５１１，ｓ）、　２゜２５（３１１，ｓ）、　３．４
０−３．６０（４１１，ｍ）、　４．８０−５．１０（
２！ｌ。

ＡＢＱ、Ｊ＝１４ｔｌｚ）、　５．２５（ｉｌｌ、ｄ、
Ｊ＝５１１ｚ）、　５．８０（Ｉｌｌ、ｄ。

ｄ、Ｊ−５１１ｚと８Ｈｚ）、　　６．７０（ｌＩｌ、
ｓ）、　　７．２０−７．８０（２Ｈ。

ｂｒ、）、　９．３０（ｌ１１．ｄ、Ｊ＝８１１２）。

参考例７ ７β−［２−（５−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミ
ノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）−２（Ｚ
）−メトキシイミノアセトアミド］−３−（３−オキツ
ブチリルオキシメチル）−３−（３−セフェム−４−カ
ルボン酸。

２−（５−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１，
２，４−チアジアゾール−３−イル）−２ＣＺ’）−メ
トキシイミノ酢酸３０２ｍｇを４ｍｌのジクロロメタン
に加え、ついで２０８ｍｇの五塩化リンを加えて水冷下
に　１５分間かきまぜる。溶媒を減圧下に留去し残留物
にヘキサンを加える。再び減圧下に乾固し、残留物をジ
クロロメタンに溶かす。

この液を７β−アミノ−３−（３−オキツブチリルオキ
シメチル）−３−セフェム−４−カルボン酸３００ｍｇ
およびトリエチルアミン０．６ｍｌを５ｍｌのジメチル
アセタミドに溶かした液に加え、水冷下に３０分間かき
まぜる。反応液にリン酸１ｇを水１０ｍ１に溶かして加
え、メチルエチルケトン（１０ｍｌ）で抽出したのち、
抽出液を水洗し硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を減
圧下に留去して残留物に酢酸エチルを加え、再び留去す
ると３９０ｍｇの標記の化合物を得る。

ＩＲスペクトルｖ　ＫＢ’ｃｍ−’　：２９８０．２９
４０．１７８０゜ａＸ １７１５、１５４０．１３７０．１２４５．１１５Ｇ、
　１０４０．８５５゜ＮＭＲスペクトル（ｄｏ　　ＤＭ
ＳＯ）δ：　１．５６（９Ｈ，Ｓ）。

２．２０（３Ｈ，Ｓ）、　３．４３と３．７０（２Ｈ，
ＡＢＱ、Ｊ＝　１８１１ｚ）。

３．６５（２１１，ｓ）、　４．００（３１１，ｓ）、
　４．８０と５．１２（２１１，ＡＢｑ、Ｊ＝１２１１
ｚ）、　５．１８（ｉｌｌ、ｄ、Ｊ＝４．５１１ｚ）、
　５．８８（ＩＨ。

ｄ、ｄ、Ｊ　＝　９１１ｚと４．５１１２）、　９．６
３（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝９１１Ｚ）。

参考例８ ７β−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾー
ル−３−イル）−２（Ｚ）−エトキシイミノアセトアミ
ド］−３−（３−オキソブチリルオキシメチル）−３−
セフェム−４−カルボン酸７β−アミノ−３〜（３−オ
キソブチリルオキシメチル）−３−セフェム−４−カル
ボン酸１１ｇを２００ｍ１のジクロロメタンに懸濁し、
これにビストリメチルシリルアセトアミド１４ｇを加え
て室温で溶液となるまでかきまぜる。ついで水冷し、２
−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イ
ル）−２（Ｚ）−エトキシイミノアセチルクロリ゛ド　
１４ｇを加え、しばらくかきまぜたのち、ジメチルアセ
トアミド６ｇを加え、水冷下に６０分間かきまぜる。ジ
クロロメタンを留去し、残留物をメチルエチルケトンに
溶かす。水洗・乾燥したのち溶媒を留去し、残留物にジ
メチルエーテルを加えて粉末としてろ取し、１２．５ｇ
の標記の化合物を得る。

［Ｒスヘクトルｖ　ＫＢ’ｃｍ−’：３３００．３００
０．１７８０゜１０ａＸ １７２０、１６２０．１５２０．　＋４１０．１２６０
．１１５０．１０１０４０ＯＮスペクトル（ｄ、−ＤＭ
ＳＯ）δ：　１．２５（３Ｈ，ｉ。

Ｊ＝７１１ｚ）、　２．１８（３１１，ｓ）、　　３．
４１と３．６３（２１１，八ＢＱ。

Ｊ＝１８１１ｚ）、３．６２（２１＋、ｓ）、　４．１
８（２＋１．Ｑ、Ｊ＝７１１ｚ）。

４．７６と５．０６（２１＋、ＡＢＱ、Ｊ＝１３１１ｚ
）、　５．１４（Ｉｌｌ、ｄｊ＝４．８１１ｚ）、　５
．８２（ｌｌＩ、ｄ、ｄ、　　Ｊ＝８Ｈｚと４．８Ｈｚ
）。

８．００（２Ｈ，ｂｒ、）、　９．４８（ＩＨ，ｄ、Ｊ
＝８１（ｚ）。

参考例９ ７β−ホルムアミド−３−（３−オキツブチリルオキシ
メチル）−３−セフェム−４−カルボン酸。

７β−アミノ−３−（３−オキソブチリルオキシメチル
）−３−セフェム−４−カルボン酸３．２ｇをギ酸６０
ｎ＋１に溶解し０〜５℃に冷却する。攪拌下に無水酢酸
２０ｍ１を３０分間かけて滴下し、同温度で３０分間、
ついで室温で１時間攪拌する。

減圧下溶媒を留去し、残渣をメチルエチルケトンに溶解
して、水、飽和食塩水で洗ったのち無水硫酸マグネンウ
ム上で乾燥する。減圧下に溶媒を留去し残渣にジイソプ
ロピルエーテル−ｎ−ヘキサンを加えて粉末化し、ろ取
すると標記の化合物が淡黄色粉末として３．１ｇ得られ
る。

ＫＢｒ　　−＋ ＩＲスペクトルｖ　　　　ｃｍ　　：３３ｇ０．１７８
０．１７２Ｇ。

ａｘ １６６０、１６２５．１５１０゜ ＮＭＲスペクトル（ｄ、−ＤＭＳＯ）δ：　２．２０（
３Ｈ，ｓ）。

３．４５と３．６８（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１８１１ｚ）
、　３．６３（２＋１．ｓ）。

４．７９と５．０９（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ−１３＋１ｚ）
、　５．１１（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４．５Ｈｚ）、　５．７
９（ＩＩＩ、ｄ、ｄ、Ｊ＝４．５１１ｚと８Ｈｚ）、　
８゜１５（ｌＩＬｂｒ、ｓ）、９．００（ＬＨ，ｄ、Ｊ
＝８Ｈｚ）。

参考例１０ ７β−［２−（５−１０ロー２−１０ロアセトアミドチ
アゾール−４−イル）−２（Ｚ）−メトキシイミノアセ
トアミドコ−３−（３−オキソブチリルオキシメチル）
−３−セフェム−４−カルボン酸。

２−（５−クロロ−２−クロロアセトアミドチアゾール
−４−イル）−２（Ｚ）−メトキシイミノ酢酸２．３９
ｇを５０ｍ１のジクロロメタンに加え、　−５℃から一
８℃に冷却しつつ五塩化リン２．１３ｇを加えて４５分
間かきまぜる。反応液に１５０ｍ１のヘキサンを少量ず
つ加え、沈澱する暗色油状物をわけ取り、さらにヘキサ
ンで洗浄して祖な対応クロリドを得る。重炭酸ナトリウ
ム２．０６ｇを１５ｍ１の水に溶かした液に７−アミノ
−３−（３−オキソブチリルオキシメチル）−３−セフ
ェム−４−カルボン酸２．０６ｇを１５ｍ１のテトラヒ
ドロフランに溶かした液を加え、ついで上記クロリドを
内温を０−３°に保ちながら加える。加え終ってから１
時間５°Ｃ以下でさらに１時間室温でかきまぜたのち、
メチルエチルケトン　５０ｍ１を加え、濃塩酸で酸性と
し、有機層を分取して取る。水層をメチルエチルケトン
で抽出し、有機層と抽出液とを合せて乾燥（無水硫酸ナ
トリウム）したのち溶媒を減圧留去すると２．９４ｇの
標記化合物が淡橙黄色粉末として得られる。

ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣＩ３＋ｄ、−ＤＭＳＯ）δ：
２．２３（３１１，ｓ）、　３．２４−３．７３（２Ｈ
，＋ｎ）、　３．５０（２■、Ｓ）。

４．０１（３１１，ｓ）、　　４．２１（２１１，ｓ）
、　　４．９１　　と　５．１８（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝
１３１１２）、　　５．０５（ｌＩｌ、ｄ、Ｊ＝４．５
１１２）、　　５．８８（ｌ１１．ｄ。

ｄ、Ｊ＝４．５１１ｚと９１１ｚ）、　　６．４３（２
１＋、ｂｒ、）、　８．７９（１■、ｄ。

Ｊ　＝　９１１ｚ）。

参考例ｔｉ ７β−［２−（２−アミノ−５−クロロチアゾール−４
−イル）−２（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−
３−（３−オキソブチリルオキシメチル）−３−セフェ
ム−４−カルボン酸。

７−、［２−（５−クロロ−２−クロロアセトアミドチ
アゾール−４−イル）−２（Ｚ）−メトキシイミノアセ
トアミド］−３−（３−オキソブチリルオキシメチル）
−３−セフェム−４−カルボン酸２．９４ｇを水１３ｍ
１とテトラヒドロフラン１３ｍ１との混液にとかし、ナ
トリウム　Ｎ−メチルジチオカーバメート計１．１５ｇ
を３回にわけて加えつつ、室温で３時間かきまぜる。反
応液に酢酸エチルを加え、濃塩酸で酸性にし、酢酸エチ
ル層を分取してすてる。水層を計２００ｍ１のメチルエ
チルケトンで抽出し、抽出液を食塩水で洗浄したのち乾
燥（無水硫酸ナトリウム）して溶媒を留去すると、２．
２８ｇの標記化合物が得られる。

ＮＭＲスペクトル（ｄ、−ＤＭＳＯ＋ＣＤＣ１，）δ：
２．２１（３Ｈ，ｓ）、　３．３−３．７５（２８，ｍ
）、　３．５７（２Ｈ，ｓ）、　３゜９０（２Ｈ，ｓ）
、　４．８１と５．０９（２１１，＾Ｂｑ、Ｊ＝　１３
１１ｚ）、　５゜０７（ＩＩＩ、ｄｊ＝５Ｈｚ）、　　
５．７７（ｉｌｌ、ｄ、ｄ、Ｊ−５１１ｚと９Ｈｚ）。

７．１０（２１１，ｂｒ、）、　　９．４６（ＩＨ，ｄ
ｊ＝９１１ｚ）。

参考例１２ ７β−［２−（２−アミノ−５−クロロチアゾール−４
−イル）−２（Ｚ）−エトキシイミノアセトアミド］−
３−（３−オキツブチリルオキシメチル）−３−セフェ
ム−４−カルボン酸。

２−（５−クロロ−２−クロロアセトアミドチアゾール
−４−イル）−２（Ｚ）−エトキシイミノ酢酸より参考
例ＩＯおよび１１と同様にして標記の化合物を得る。

Ｉ　Ｒスヘクト／ｌ／ｌ／　ＫＢｒｃｍ−’：３３００
．　１７７０．１７００゜ｌ１ａＸ １６２０、１５３０Ｏ ＮＭＲスペクトル（ｄａ　−Ｄ　Ｍ　Ｓ　Ｏ）δ：　１
．２７（３Ｈ，ｔ。

Ｊ＝７１１Ｚ）、　２．２０（３１１，ｓ）、　３．３
〜３．８（２Ｈ，ｍ）、　３．６２（２１１，ｓ）、　
４．１７（２１１，ｑ、Ｊ＝７ｔｌｚ）、　４．８３と
５．０９（２１１゜ＡＢＱｊ＝１２１１２）、　　ｓ、
ｘ３（ｉ＋＋、ａ、Ｊ＝ｓｎｚ）、　　５．８１（ＩＨ
，ｄ。

ｄ、Ｊ＝５１１ｚと８１１ｚ）、　　６．６３（ｌＩｌ
、ｂｒ、ｓ）、　７．２４（２Ｈ。

ｂｒ、ｓ）、９．５０（ｌ１１．ｄｊ＝８１１ｚ）。

実施例１ ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−［（ピラ
ゾロ［１，５−ａ］ピリジニウム−３−イル）メチルコ
ー３−セフェムー４−カルボキシレート。

７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−（３−オ
キソブチリルオキシメチル）−３−セフェム−４−カル
ボン酸２．０ｇ、ピラゾロ［１，５”ａ］ピリジン２．
０ｇおよびヨウ化カリウム２．０ｇをアセトニトリル−
水（ｉｌｌ）の混合液３０ｍ１に溶解させて７０℃で１
６５時間攪拌する。反応液を減圧下で濃縮後、残留物を
酢酸エチル３０ｍ１で洗浄し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィーに付す。アセトニトリル−水（４：Ｉ）の
混合液で溶出して目的物を含む分画を集め、減圧下で濃
縮する。得られた残留物をＸＡＤ−■カラムクロマトグ
ラフィーに付し、２０％エタノール水で溶出する。目的
物を含む分画を集めて減圧下で濃縮後残留物を凍結乾燥
すると標記化合物０．１１ｇが得られる。

元素分析値：Ｃ１，Ｈ，、Ｎ？０５Ｓｔ−１１／２Ｈ２
Ｏと１゜て。

計算値（％）：Ｃ，４１，１７：　Ｉ−１，４，９４，
Ｎ、１Ｂ、００゜実測値（％）：Ｃ，４１，２３，Ｈ，
４，２５；　Ｎ、１６．３ｇ。

ＩＲスペクトルシＫＢｒａｍ−’：　１７７５．１６７
５．　＋６２０゜ａｘ １５３０゜ ＮＭＲスペクトル（ｄ、−ＤＭＳＯ）δ：　３．８０（
３１１，ｓ）、　５．０５（ｉｌｌ、ｄ、Ｊ＝４．５１
１ｚ）、　　５．０７と５．３５（２１１，ＡＢＱｊ＝
　１３Ｈｚ）、　　５．６８（ＩＨ，ｄ’、ｄ、Ｊ＝４
．５１１ｚと８１１ｚ）、　　６．６７（ＩＩＩ、ｓ）
。

７．１４（２１１，ｂｒ、ｓ）、　７．５−８．２（３
１１，ｍ）、　８．１２−８．３４（ｌ１１．ｍ）、　
８．５８−８．７Ｌ（１１１，ｍ＞、　８．’１１−８
．９５（ｌｔｌ、ｍ）。

９．４７（１１１，ｄ、Ｊ＝８１１ｚ）。

実施例１に記載した方法と同じ方法を用いて７β−［２
−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（Ｚ）−（
置換オキシイミノ）アセトアミド］−３＝（３−オキソ
ブチリルオキシメチル）−３−セフェム−４−カルボン
酸と各種ピラゾール誘導体との反応から一般式 で表わされる以下の実施例２〜４の化合物を製造するこ
とができる。

実施例２ ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−エトキシイミノアセトアミド］−３−［（ピラ
ゾロ［１，５−ａｌピリジニウム−３−イル）メチルコ
ー３−セフェムー４−カルボキシレート。

元素分析値：ＣｔｔＨ！ｌＮ７０５’ｓｔ”９／２１−
［ｔＯとして。

計算値（％）：Ｃ，４３，４２：　Ｈ，４，９７，Ｎ、
１６．１１゜実測値（％）：Ｃ，４３，２１：　Ｈ，５
，２６，Ｎ、１６．０９゜ＩＲスペクトルｖＫＢｒｃｍ
−’：　１７６５．１６７０．１６１５゜ｆｌａＸ １５２５゜ ＮＭＲスペクトル（ｄ６−ＤＭＳＯ）δ：　１．２４（
３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７１（ｚ）、　　４．１１（２Ｈ，ｑ、
Ｊ＝７１１ｚ）、　　５．０５（１Ｂ、ｄ、Ｊ＝４．５
１１ｚ）。

４３９０と５．１２（２１１，＾Ｂｑｊ＝１３１１ｚ）
、　５．５２−５．７６（ＩＩＩ。

ｍ）、　　６．７２（１１１，ｓ）、　　７．１４（２
１１，ｂｒ、ｓ）、　　７．５８−８．０Ｑ（３Ｈ，ｍ
）、　８．１２−８．３０（１１１，ｍ）、　８．５４
−８．７３（１Ｂ、ｎ＋）。

８．８−８．９８（ＬＨ，ｎ＋）、　　９．４０（ｉｌ
ｌ、ｄ、Ｊ＝８１１２）。

実施例３ ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−アリルオキシイミノアセトアミド］−３−［（
ピラゾロ［１，５−ａ］ピリジニウム−３−イル）メチ
ル］−３−セフェムー４−カルボキシレー元素分析値：
Ｃｔ３Ｈｔ＋ＮｔＯｓＳｔ・１３／２ＨｔＯとして。

計算値（％）：Ｃ，４２，０６；　Ｈ，５，２２：　Ｎ
、１４．９３゜実測値（％）：Ｃ，４２，２９；Ｈ，５
，２４，Ｎ、１４．５１０Ｉ　ｒｔスヘクトルｖＫＢｒ
ｃｍ−’：　１７７０．１Ｂ７０．１６３０゜ａｘ １６１５、１５２５．１０２０゜ ＮＭＲスペクトル（ｄ、−ＤＭＳＯ）δ：　４．４６−
４．６８（２Ｈ，ｍ）、　５．０２（ｌＩｌ、ｄｊ＝４
．５Ｈｚ）、　５．２４（２８，ｂｒ、ｓ）、　５．３
８（２１１，ｂｒ、ｓ）、　　５．６３（ＩＩＩ、ｄ、
ｄ、Ｊ＝４，８Ｈｚと８Ｈｚ）、　　５．７６−６．２
０（ＬＨ，ｎ）、　６．８４（１１１，ｓ）、　７．１
４（ｌＨ，ｂｒ、ｓ）。

７．５−８．０（３Ｈ，ｍ）、　８．１−８．２８（Ｉ
Ｈ，ｍ）、　８．５８−８．７０（ｌｌＩ、ｍ）、　Ｌ
８−８．９（ＩＨ，ｍ）、　９．４８（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝
８Ｈｚ）。

実施例４ ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−（２−フルオロエトキシイミノ）アセトアミド
］−３−［（ピラゾロ［１，５−ａｌピリジニウム−３
−イル）メチル］−３−セフェムー４−カルボキシレー
ト。

元素分析値：ＣｔｔＨｔｏＮ７０ｓＳｔＦ　”４ＨｔＯ
として。

計算値（％）：Ｃ，４２，７８：　Ｈ，４，５７，Ｎ、
１５．８７゜実測値（％）：Ｃ，４２，５０；　Ｈ９４
，６６、Ｎ、１５゜７３゜ＩＲスペクトルｖＫＢｒｃｍ
−’：　１７６０．１６６５．１６１０゜ａｘ １５３０、１３６０Ｏ Ｎ　Ｍ　Ｒ７，ベクトル（ｄ、−ＤＭＳＯ）δ：　４．
０−４．２３（ｌ１１．ｍ）。

４．２５−４．５３（２１＋、ｍ）、　４．８０−５．
００（ＩＩＩ、ｍ）、　５．０３（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４．
５１１ｚ）、　　５．６５（ｄ、ｄ、Ｊ＝４．５Ｈｚと
８１１ｚ）、　　６゜７０（ＩＩｌ、ｓ）、　７．１４
−７．４０（２１１，ｂｒ、ｓ）、　７．５０−８．０
（３Ｈ，ｍ）、　８．１−８．３０（１１１，ｍ）、　
８．５０−９．００（２１１，ｍ）、　９゜５０（ｌ１
１．ｄ、Ｊｌｌｌｚ）。

実施例５ ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミドコ−３−［（７−
メチルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジニウム−３−イル
）メチル］−３−セフェムー４−カルボキシレート。

７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−（３−オ
キツブチリルオキシメチル）−３−セフェム−４−カル
ボン酸２ｇ、７−メチルピラゾロ［ｌ、５−ａ］ピリジ
ン２ｇ、ヨウ化ナトリウム２ｇを５０％含水アセトニト
リル３０ｍ１に溶解し６０〜７０℃で２時間攪拌する。

冷浸、反応液をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
付し、アセトン次いでアセトン−水混液で溶出させ、目
的物を含む分画を集め減圧下に濃縮する。残留水溶液を
ＭＣＩゲルカラムクロマトグラフィ＝（ＣＨＰ　２　ｏ
ｐ、　１５０〜３００メツシユ、三菱化成製）に付し、
含水アルコールで溶出させ、水−エタノール（８０：２
０）混液で溶出してくる分画を集め、減圧下に濃縮し、
残渣を凍結乾燥すると標記の化合物ｏ、ｔｔｇを得る。

元素分析値：　Ｃ＊　＊　Ｈｔ　ｌＮ　ｔ　Ｏｓ　Ｓ　
ｔ・３Ｈ２０として計算値（％）：Ｃ，４５，４３：　
Ｈ，４，６８：　Ｎ、１６．８６実測値（％）：Ｃ，４
５，１０：　Ｈ，３，９３，Ｎ、１６．４３ＫＢｒ　　
＋ｌ ＩＲスペクトルＪ／　　　　Ｃ１１ｌ　　：１７７０．
１６８０．１６１０゜ｌ１ａｘ １５３０゜ ＮＭＲスペクトル（Ｄ！Ｏ）δ：　２．５２（３１１，
ｓ）、　３．０１と３．４７（２１１，ＡＢＱ、Ｊ＝１
８＋１ｚ）、　３．９６（３１１，ｓ）、　５．２４（
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４．５［１ｚ）、　５．６２（２１１，
ｂｒ、ｓ）、　５．８１（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝４．５１１２
）、　６．８１（ＩＩＩ、ｓ）、　６．９９（ＩＩＩ、
ｄ、Ｊ＝３．５Ｈｚ）。

７．３−７．５４（ＩＨ，ｍ）、　７．８２（１８，ｂ
ｒ、ｓ）、　Ｌ４Ｇ（ＩＩＩ、ｄ。

Ｊ＝３．５ｔ（ｚ）、　９．０５（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８ｔ
ｌｚ）。

実施例５に記載した方法と同じ方法を用いて前記の一般
式［■′コで表わされる以下の実施例６〜ＩＯの化合物
を製造することができる。

実施例６ ７β−［２（２−アミノチアゾール−４−イル）−２（
Ｚ）−エトキシイミノアセトアミド］−３−［（７−メ
チルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジニウム−３−イル）
メチル］−３−セフェムー４−カルボキシレート。

元素分析値：Ｃ＊ａＨｔ＊ＮｔＯｓＳｔ・９／　２　Ｈ
＊　０として、 計算値（％）：Ｃ，４４，１７；　Ｈ，５，１８；　Ｎ
、１５．７５゜実測値（％）：Ｃ，４４，５４；　Ｈ，
４，８３：　Ｎ、１５．５２゜ＫＢｒ　　−＋。

ＩＲスペクトルν　　　ｃｍ　　、１７７０．１６６５
．１６１０゜１ａＸ １５２５゜ ＮＭＲスペクトル（０１０）δ：　１．２７（３Ｈ，ｔ
、Ｊ＝？Ｉ（ｚ）。

２．５２（３１１，ｓ）、　　３．０４　　と　３．４
８（２Ｈ，ＡＢＱｊ　＝　１８　夏１ｚ）　。

４．２３（２１１，ＡＢＱｊ＝７！１ｚ）、　５．２５
（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝４．５Ｈｚ）。

５．６２（２１１，ｂｒ、ｓ）、　　５．８２（ＩＨ，
ｄｊ＝４．５＋１ｚ）、　　６．８７（１１１、ｓ）、
　　７．０２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）、　　７．３−
７．５２（ＩＨ，ｍ）。

７．７４−７．９６（ＩＨ，ｍ）、　　８．４０（ＩＨ
，ｄ、Ｊ＝４Ｈｚ）、　　９．０４（ＩＨ，ｄ、Ｊ　＝
　７Ｈｚ）。

実施例７ ７β−［２−（２〜アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−［（２−
メチルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジニウム−３−イル
）メチル］−３−セフェムー４−カルボキシレート。

元素分析値：Ｃ□Ｈｔ　＋　Ｎ　？　Ｏｓ　Ｓ　ｔ・４
Ｈ１Ｏとして。

計算値（％）：Ｃ，４４，０７；　Ｈ，４，８７：　Ｎ
、１６．３５゜実測値（％）：Ｃ，４４，１１；　Ｈ，
４，０７；　Ｎ、１６．２２゜ＩＲスペクトルｖＫＢ’
　ｃｍ−’：　１７６０．１６６０．１６１Ｇ。

ａｘ １５３５゜ ＮＭＦＬスペクトル（０１０）δ二２．７１（３１１，
ｓ）、　２．８７と３゜４１（２１１，ＡＢＱｊ＝１８
１１ｚ）、　　３．９６（３１１，ｓ）、　　５．２０
（１■、ｄ。

Ｊ＝５１１ｚ）、　　５．５５−５．７４（２１＋、ｍ
）、　　５．８０（ｌＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　６．８
８（ＩＩＩ、ｓ）、　６．９８（Ｉｌｌ、ｓ）、　７．
４０−７．６６（ＩＩＩ。

ｍ）、　７．６８−８．０８（２１１，ｍ）、　９．１
９（Ｉｌｌ、ｄ、Ｊ−７１１ｚ）。

実施例８ ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−［（６，
８−ジメチルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジニウム−３
−イル）メチル］−３−セフェムー４−カルボキシレー
ト。

元素分析値：Ｃｔ３Ｈｔ＊Ｎ　７０　ｓＳ　ｔ・７／２
Ｈ，Ｏとして。

計算値（％）：Ｃ，４５，６９：　Ｈ，５，００；　Ｎ
、１６．２２゜実測値（％）：Ｃ１４５，４４，Ｈ，４
，１６：　Ｎ、１６．０５゜ＩＲスペクトルｖＫＢｒｃ
ｍ−’：　１７７５．１６７０．１６１５゜ａｘ ５３０Ｏ ＮＭＲスペクトル（Ｄ、Ｏ）δ：　２．４６（３Ｈ，Ｓ
）、　２．５８（３１１゜ｓ）、　　３．Ｑ６と３．４
７（２＋１．八ＢＱｌ＝１３＋１ｚ）、　　３．９８（
３１１，ｓ）。

５．２２（ｉｌｌ、ｄｊ＝４．５１１ｚ）、　５．５９
（２１１，ｓ）、　５．７９（０１゜ｄｊ＝４．５１１
ｚ）、　６．８７（１１１，ｓ）、　７．１２（ｌ１１
．ｄ、Ｊ＝４１１ｚ）。

７．５３（ＩＩＩ、ｂｒ、ｓ）、　８．３６（ｌ１１．
ｄ、Ｊ＝４１１２）、　８．８２（Ｉｌｌ。

ｂｒ、ｓ）。

実施例９ ７β−［２−（２−アミノデアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−（２−メトキシエトキシイミノ）アセトアミド
］−３−［（７−メチルピラゾロ［１，５−ａ］ピリジ
ニウム−３−イル）メチル］−３−セフェムー４−カル
ボキシレート。

元素分析値：　Ｃ＊　４Ｈｔ　ａ　Ｎ　７０　＠　Ｓ　
＊・９／２Ｈ，Ｏとして。

計算値（％）：Ｃ，４４，１？、　Ｈ，５，２５，Ｎ、
１５．０２゜実測値（％）：Ｃ，４４，１２；　Ｈ，５
，００；　Ｎ、１５．１６゜Ｉ　ＲＸＸツクルνＫＢｒ
ｃｍ−’：　１７７０．１６７０．１６２Ｇ。

ａＸ １５３０゜ ＮＭＲスペクトル（０，０）δ：　２．５４（３Ｈ，ｓ
）、　２．９９と３゜４６（２Ｈ，ＡＢＱｊ＝１８Ｈｚ
）、　３．３１（３Ｈ，ｓ）、　３．６５−３．８３（
２１１，ｍ）。４．２４−４．４６（２１１，ｍ）、　
５．２４（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．５４−５．
７４（２１１，ｍ）、　５．８１（ＩＨ，ｄｊ＝５＋１
ｚ）、　６．８９（ＩＨ，ｓ）、　７．０１（ＩＨ，ｄ
、Ｊ＝４Ｈｚ）、　７．：（ｌ−７，５（ＬＨ，ｍ）、
　？、８３（ＬＨ，ｂｒ、ｓ）、　８．３９（ＩＨ，ｄ
、Ｊ＝４Ｈｚ）、　９．０６（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ）
。

実施例１０ ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−［（１−
ヒドロキシピラゾロ［１，５−ａ］ピリジニウム−３−
イル）メチル］−３−セフェムー４−カルボキシレート
。

Ｈ 元素分析値：ＣｔｌＨｌ５Ｎ７０ｓｓ＊　・１５／２　
ＨｔＯとして、 計算値（％）：Ｃ，３７，９５；　Ｈ，５，１６，Ｎ、
１４．７５゜実測値（％）：Ｃ，３８，２４，Ｈ，５，
３７，Ｎ、１４．３４゜Ｉｎスペクトルｖ　ＫＢｒｃｍ
−’：１７６０．１６６０（ｓｈ）。

Ｓ＋ａＸ １６１０、１５２０゜ ＮＭＲスペクトル（ｄ、−ＤＭＳＯ）δ：　３．１２と
３゜３８（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝　１８Ｈｚ）、　　３．
６８（３０，ｓ）、　５．０１（ｌＩｌ、ｄ。

Ｊ−４，５！Ｉｚ）、　５．２−５．８（３Ｈ，ｍ）、
　６．６６（Ｉｌｌ、ｓ）、　　７゜２５−７．６（３
１１劃）、　７．９４−８．１８（２Ｈ，ａ＋）、　９
．４３（１８，ｄ。

Ｊ＝８１１ｚ）、　　１０．１２（ｉｌｌ、ｄ、Ｊ＝６
１１ｚ）。

実施例５に記載した方法と同じ方法を用いて７β−［２
−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イ
ル）−２（Ｚ）−（置換オキシイミノ）アセトアミド］
−３−才キツブチリルオキシメチル）−３−セフェム−
４−カルボン酸と各種ピラゾール誘導体との反応から一
般式 で表わされる以下の実施例Ｕ〜１３の化合物を製造する
ことができる。

実施例１１ ７β−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾー
ル−３−イル）−２（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミ
ド］−３−［（ピラゾロ［１，５−ａ］ピリジニウム−
３−イル）メチルコー３−セフェムー４−カルボキシレ
ート。

元素分析値：Ｃ８゜ＨｌａＮｅｏｓｓｔ・７／２　Ｈｌ
Ｏとして、 計算値（％）：Ｃ，４１，５９；　Ｈ，４，３６，Ｎ、
１９．４０゜実測値（％）：Ｃ，４１，９０；　Ｈ，４
，６１：　Ｎ、１９．４ｇ。

ｉｒｔスペクトルシＫＢｒｃｎ＋−’：１７７０．１６
７０．１６２０゜ａｘ １５２０゜ 実施例１２ ７β−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾー
ル−３−イル）−２（Ｚ）−エトキシイミノアセトアミ
ド］−３−［（ピラゾロ［１，５−ａ］ピリジニウム−
３−イル）メチル］−３−セフェムー４−カルボキシレ
ート。

元素分析値：Ｃ□Ｈ，。Ｎ　ｓ　Ｏｓ　Ｓ　ｔ・４Ｈ，
Ｏとして、計算値（％）：Ｃ，４１，９９，Ｈ１４，７
０；　Ｎ、１８．６６゜実測値（％）：Ｃ，４２，３６
，Ｈ，４，６４，Ｎ、１８．２０゜Ｉｒ（スペクトルν
ＫＢｒｃｍ−’：１７７０．１６７０．１６３０゜ａＸ １６１０．１５１０゜ ＮＭＲスペクトル（Ｄ、Ｏ）δ：　１．２２（３Ｈ，ｔ
ｊ＝７Ｈ２）。

３．０７と３．４８（２ｔ１．ＡＢｑ、Ｊ＝　１８Ｈｚ
）、　４．ａｔ（２＋１．ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）、　　５．
２４（１８，ｄ、Ｊ＝４．５＋１ｚ）、　　５．６５（
２＋１．　　ｂｒ、ｓ）、　　５．８５（ｌｉｔ、ｄ、
Ｊ＝４．５１１ｚ）、　　７．７１（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４
１１ｚ）。

７．４８−７．７２（ＩＨ，ｍ）、　　７．７４−８．
００（ＩＨ，ｍ）、　８．０２−８．２（ＩＨ，ｍ）、
　　８．４４（１８，ｄ、Ｊ＝４１１ｚ）、　　９．１
７（ｌＨ，ｄ。

Ｊ　＝　７１１ｚ）。

実施例１３ ７β−［２−（５−アミノ−１，２，４−チアジアゾー
ル−３−イル）−２（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミ
ド］−３−［（７−メチルピラゾロ［！、５−ａｌピリ
ジニウムー３−イル）メチル］−３−セフェムー４−カ
ルボキシレート。

元素分析値：Ｃ２計！、。Ｎ　ａ　Ｏｓ　Ｓ　ｔ・７Ｈ
１０として。

計算値（％）：Ｃ，３８，５２；　Ｈ，５，２３；　Ｎ
、＋７．１２゜実測値（％）：Ｃ，３８，５７；　Ｈ，
５，６０，Ｎ、１７゜３５゜Ｉ　ＲスペクトルｖＫＢｒ
ｃｍ−’：　１７Ｂ５．１７６０．１６７０゜１１８Ｘ ｔａｔｏ、１５２０゜ ＮＭｒｔスペクトル（Ｄ、Ｏ）δ：　２．５４（３Ｈ，
ｓ）、　３．０５と３゜４ｇ（２１１，ＡＢｑ、Ｊ＝１
８１１ｚ）、　　４．０６（３１１，ｓ）、　　５．０
５（１１１，ｄ。

Ｊ＝４．５＋１ｚ）、　　５．６０（２１１，ｓ）、　
　５．８６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝４．５Ｈｚ）。

６．９４−７．１（１１Ｌｍ）、　　７．２８−７．５
２（１■、ｍ）、　　７．７４−７．９２（ｌＩｌ、ｍ
）、　　８．２９−８．４４（１１１，ｍ）、　　８．
９−９．１２（ＩＨ。

ｍ）。

実施例１４ ７β−ホルムアミド−３〜［（ピラゾロ［１，５−ａ］
ピリジニウム−３−イル）メチル］−３−セフェムー４
−カルボキシレート。

７β−ホルムアミド−３−（３−オキツブチリルオキシ
メチル）−３−セフェム−４−カルボン酸とピラゾロ［
１，５−ａ］ピリジンとを実施例５と同様にすると、標
記の化合物を得る。

元素分析値：Ｃ＋ａＨ１，Ｎ、０４Ｓ　・７Ｈ２Ｏとし
て、計算値（％）：Ｃ９３９，６４：　Ｉ−１，５，８
３；　Ｎ、１１．５６゜実測値（％）：Ｃ１３９，５０
；　Ｈ，５，４６：　Ｎ、１１．６１０Ｉ　Ｒスペクト
ルｖ　ＫＢ’ｃｍ−’：１７６０．１６７０．１６００
゜１１８Ｘ １５００゜ ＮＭＲスペクトル（ｄｏ　　Ｄ　Ｍ　Ｓ　Ｏ）δ：　３
．３９（２＋１Ｘ　ｌ／２．ＡＢｑｘｌ／２．Ｊ＝Ｉ８
１１ｚ）、　　５．０１（ＩＩＩ、ｄ、Ｊ＝４．５１１
ｚ）。

５．４４−５．９９（３Ｈ，ｍ）、　６．５９（ｆｉｌ
、ｄ、Ｊ＝２Ｈｚ）、　６．７４−６．９８（ＩＩＩ、
ｍ）、７．０８−７．４０（ＩＩＩ、ｍ）、　７．５６
−７．７６（ＩＨ，ｍ）、　７．９７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝
２Ｈｚ）、　８．００−８．２２（２ｔｌ、ｍ）。

８．６４（１ｔ１．ｄ、Ｊ＝７１１ｚ）、　８．８６（
１１１，ｄ、Ｊ＝８）Ｉｚ）。

実施例１５ ７β−アミノ−３−［（ピラゾロ［１，５−ａｌピリジ
ニウム−３−イル）メチル］−３−セフェムー４−カル
ボキシレート・塩酸塩。

７β−ホルムアミド−３−［（ピラゾロ［１，５−ａ］
ピリジニウム−３−イル）メチル］−３−セフェムー４
−カルボキシレート１．０ｇをメタノール１０ｍ１に懸
濁し、５℃以下に冷却する。攪拌下に濃塩酸１．０ｍｌ
を滴下し、その温度で１０分間、次いで室温で３時間攪
拌する。減圧下溶媒を留去し、残渣に水１０ｍ１を加え
て溶解し、Ｍ（ｌゲルカラムクロマトグラフィー（ＣＨ
Ｐ　２　Ｑｐ、　１５０〜３００メツシユ、三菱化成製
）に付し、含水アルコールで溶出してくる分画を合わせ
、減圧下濃縮後、凍結乾燥すると標記の化合物が粉末と
して０．２５ｇ得られる。

元素分析値：Ｃ１５Ｈ１４Ｎ４０．・ＨＣＩ・２１−１
１０として、 計算値（％）：Ｃ，４４，７２；　Ｈ，４，７５，Ｎ、
１３．９１゜実測値（％）：Ｃ，４５，２３，Ｈ，４，
２１，Ｎ、１３．１７゜ＩＲスペクトルシＫＢ’ａｍ−
’：１７７５（ｓｈ）、　１７６０゜ａｘ １６３０（ｓｈ）、　１６１０．１５０５゜ＮＭＲスペ
クトル（Ｄｔｏ）δ：　３．１３と　３．５１（２Ｈ，
ＡＢｑ、Ｊ＝１７１１ｚ）、　５．０２（１８，ｄ、Ｊ
＝４．５１（ｚ）、　５．１９（１８゜ｄ、ｊ＝４．５
Ｈｚ）、　５．６７（２Ｈ，ｂｒ、ｓ）、　７．２１（
１８，ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ）、７．５２−８．３０（３１１
，ｍ）、　８．４９（Ｉｌｌ、ｄ、Ｊ＝３１１ｚ）、　
９゜１７（ｌＩｌ、ｄ、Ｊ＝　７Ｈｚ）。

実施例１６ ７β−［２−（２−アミノ−５−クロロチアゾール−５
−イル）−２（Ｚ）−エトキシイミノアセトアミド］−
３−［（ピラゾロ［１，５−ａ］ピリジニウム−３−イ
ル）メチルコー３−セフェムー４−カルボキシレート。

７β−［２−（２−アミノ−５−クロロチアゾール−４
−イル）−２（Ｚ）−エトキシイミノアセトアミド］−
３−（３−オキソブチリルオキシメチル）＝３−セフェ
ム−４−カルボン酸とピラゾロ［１゜５−ａ］ピリジン
とから実施例５と同様にして標記の化合物を得る。

元素分析値：Ｃ＊ｔＨｔ。Ｎ　？　Ｏａ　Ｓ　＊　ＣＩ
・５／２　ＨｔＯとして、 計算値（％）：Ｃ，４３，５３；　Ｈ，４，１５，Ｎ、
１６．１５゜実測値（％）；Ｃ，４３，１５；　Ｈ，４
，３６，Ｎ、１６．１００Ｉ　ＲスヘクトＡｙｖ　ＫＢ
ｒｃｍ−’：１７６５．１６７０．１６２０゜＋１ｌａ
Ｘ １５３０、１５１０゜ ＮＭＲスペクトル（ｄａ　　Ｄ　Ｍ　Ｓ　Ｏ）δ：１．
２ｇ（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７１１ｚ）、　３．０６と３．４
７（２Ｈ，ＡＢＱ、Ｊ＝１８Ｈ２）、　４．２６（２Ｈ
，Ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ）、　５．２４（Ｉｌｌ、ｄ、Ｊ＝４
．５Ｈｚ）、　５．６７（２ＩＩ、ｂｒ、ｓ）、　５．
８５（ＩＩＩ、ｄ、Ｊ＝４．５１１ｚ）、　７．１８（
１■・ｄ、Ｊ＝４１１ｚ）、　７．４８−８．２４（３
１１，ｍ）、　８．４９（ｌ１１．ｄ、Ｊ＝４１１ｚ）
、　　９．１８（ＩＩＩ、ｄ、Ｊ＝７１１ｚ）。

実施例１７ ７β−［２−（２−アミノ−５−クロロチアゾール−４
−イル）−２（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−
３−［（ピラゾロ［１，５−ａｌピリジニウム−３−イ
ル）メチル］−３−セフヱムー４−カルボキシレート。

７β−［２−（２−アミノ−５−クロロチアゾール−４
−イル）−２（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−
３−（３−オキソブチリルオキシメチル）−３−セフェ
ム−４−カルボン酸とピラゾロ［１゜５−ａ］ピリジン
とから実施例５と同様にして標記の化合物を得る。

元素分析値：Ｃｔ＋Ｈ＋５ＮｔＯｓＳｔＣ１・３ＨｔＯ
として、 計算値（％）：Ｃ，４１，９０：　Ｈ，４，０２，Ｎ、
１６．２９゜実測値（％）：Ｃ，４１，４５，）［，３
，３１：Ｎ、１５．７９゜Ｉｒ（スペクトルｖ　ＫＢ’
ｃｍ−’　：３３９０．１７６３．１６６５゜ａｘ １６１０、１５３０．１５１０．１０１７゜ＮＭＲスペ
クトル（Ｄｌｏ）δ：　３．２３と３．６４（２＋１．
＾Ｂｑｊ＝１８１１ｚ）、　　４．１２（３）ｌ、ｓ）
、　　５．３７（ＩＩＩ、ｄ、Ｊ＝４．５Ｈ２）、　　
５．８１（２１１，ｂｒ、ｓ）、　　６．００（ＩＩＩ
、ｄ、Ｊ＝４．５Ｈ２）。

７．３４（ｉｌｌ、ｄｊ＝３Ｈ２）、　　７．６３−８
．３９（３Ｂ、ｍ）、　　８．６３（Ｉｌｌ、ｄ、Ｊ＝
３１１ｚ）、　　９．３１（１１１，ｄ、Ｊ＝７１１ｚ
）。

実施例１８ ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−（１−カルボキシ−１−メチルエトキノイミノ
）アセトアミド］−３−［（ピラゾロ［１，５−ａ］ピ
リジニウム−３−イル）メチル］−３−セフェムー４−
カルボキシレート・モノナトリウム塩。

７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−Ｉ−メ
チルエトキシイミノ）アセトアミトコ−３−（３−オキ
ソブチリルオキシメチル）−３−セフェム−４−カルボ
ン酸３．８ｇ、ピラゾロ［１，５−ａコピリジン３．８
ｇ、ヨウ化カリウム３，７ｇとを５０％含水アセトニト
リル４０ｎｌに溶解し、６０−７０℃で２時間攪拌する
。放冷後反応液をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し、アセトンついで含水アセトンで溶出し、アセト
ン−水（８０：２０〜７０：３０）で溶出してくる分画
、を集め１０ｍ１まで減圧下濃縮する。残渣をＭＣＩゲ
ルカラムクロマトグラフィー（ＣＨＰ　２　Ｑｐ、　１
５０〜３００メツシユ、三菱化成）に付し、水、ついで
含水アルコールで溶出させる。水−アルコール　（６０
：４０）混液で溶出してくる分画を集め減圧下に゛濃縮
して残溶液を凍結乾燥する。得られる粉末をトリフルオ
ロ酢酸１ｍｌに溶解し、室温で２時間攪拌したのち、減
圧下溶媒留去し、残渣に水を加え、さらに炭酸ナトリウ
ムを加えて溶液とし、ＭＣ！ゲルカラムクロマトグラフ
ィーに付す。水ついで含水アルコールで溶出し、目的物
を含む分画を集め、減圧下濃縮、残渣を凍結乾燥すると
標記の化合物０．０３ｇを得る。

元素分析値：ＣｚＪＩｔｔＮ７０ｔｓ　ｔＮａ　・６　
ＨｔＯとして、 計算値（％）：Ｃ，４０，２８；　Ｈ，４，７９：　Ｎ
、１３．７００実測値（％）：Ｃ，４０，４３；　Ｈ，
４，８１：　Ｎ、１３．４６゜！Ｒスペクトルｖ　ＫＢ
’　ｃｍ−’：１７７５．１６６５（ｓｈ）。

ａ＋ａＸ ｔａｉｏ、１５４０゜一 実施例１９ ７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−［（７−
カルボキシピラゾロ［１，５−ａ］ピリジニウム−３−
イル）メチルコー３−セフェムー４−カルボキシレート
・モノナトリウム塩。

７β−［２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
（Ｚ）−メトキシイミノアセトアミド］−３−（３−オ
キソプチリルオキシメチル）−３−セフェム−４−カル
ボン酸と７−カルボキシピラゾロ［１゜５〜ａ］ピリジ
ンとを炭酸水素ナトリウムとを添加し実施例５と同様に
反応させ標記の化合物を得る。

元素分析値：ＣｔｔＨ＋ｅＮｔＯｔＳｔＮａ−４Ｈ２０
とし。

て。

計算値（％）：Ｃ，４Ｑ、５５．　Ｆｔ、４．０２．　
Ｎ、１５．０５゜実測値（％）：ｃ、ｌｌｏ、ｇｇ：　
Ｈ，４，４３，Ｎ、１４．６７゜ＩＲスペクトルν””
　ａｍ−’：　１７６０．　Ｌ６１Ｑ、　１５３Ｑ０ａ
Ｘ ＮＭＲスペクトル（０，０）δ：　３．６０（２Ｈ，ｂ
ｒ、ｓ）、　４．０１（３ｔ１．ｓ）、　５．２６（Ｉ
ＩＩ、ｄ、Ｊ＝４．５１１ｚ）、　５．６−５．９（２
＋１．ｍ）、　　６．９４−７．０５（ＩＩＩ、ｍ）、
　　７．４８−７．６８（ｉｌｌ、ｍ）、　　７．８５
−８．００（ｌｔｌ、＋ｎ）、　８．５０（ｉｌｌ、ｄ
、Ｊ＝６ｔｌｚ）、　９．１６（ＩＩＩ、ｄ。

Ｊ　＝　８１１ｚ）。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾０は水素原子、含窒素複素環基、アシル基
   またはアミノ基の保護基を、ＺはＳ、Ｓ→Ｏ、Ｏまたは
   ＣＨ＿２を、Ｒ＾４は水素原子、メトキシ基またはホル
   ムアミド基を、Ｒ＾１＾３は水素原子、メチル基、水酸
   基またはハロゲン原子を、Ａは置換されていてもよい１
   ，５−位で縮合環を形成するピラゾール−２−イル基を
   、それぞれ示す］で表わされる化合物またはその生理学
   的に受容される塩もしくはエステル。
2. （２）、［１］一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、ＺはＳ、Ｓ→Ｏ、ＯまたはＣＨ＿２を、Ｒ＾４
   は水素原子、メトキシ基またはホルムアミド基を、Ｒ＾
   １＾３は水素原子、メチル基、水酸基またはハロゲン原
   子を、Ｒ＾５は水酸基、アシルオキシ基、カルバモイル
   オキシ基、置換カルバモイルオキシ基またはハロゲン原
   子を、それぞれ示す］で表わされる化合物またはその塩
   もしくはエステルと一般式Ａ′［式中、Ａ′は置換され
   ていてもよい１，５−位で縮合環を形成するピラゾール
   を示す］で表わされるピラゾール化合物またはその塩と
   を反応させるか、 ［２］一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ａは置換されていてもよい１，５−位で縮合環
   を形成するピラゾール−２−イル基を、その他の記号は
   前記と同意義を示す］で表わされる化合物またはその塩
   もしくはエステルと一般式Ｒ＾ａＨａｌ［式中、Ｒ＾ａ
   は含窒素複素環基、Ｈａｌはハロゲン原子を、それぞれ
   示す］で表わされる化合物またはその塩とを反応させる
   か、 ［３］一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表わされる化合
   物またはその塩もしくはエステルと一般式Ａ′［式中の
   記号は前記と同意義を示す］で表わされるピラゾール化
   合物またはその塩とを反応させるか、 ［４］一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表わされる化合
   物またはその塩もしくはエステルと一般式Ｒ＾ｂＯＨ［
   式中、Ｒ＾ｂはアシル基を示す］で表わされるカルボン
   酸またはその塩もしくは反応性誘導体とを反応させるか
   、 ［５］一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表わされる化合
   物またはその塩もしくはエステルと一般式Ａ′［式中の
   記号は前記と同意義を示す］で表わされるピラゾール化
   合物またはその塩とを反応させるか、 ［６］一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾２＾２′は置換されていてもよい複素環基
   を、その他の記号は前記と同意義を示す］で表わされる
   化合物またはその塩もしくはエステルと一般式Ｒ＾３″
   ＯＨ［式中、Ｒ＾３″は置換されていてもよい炭化水素
   残基を示す］で表わされる化合物またはその反応性誘導
   体とを反応させるか、 ［７］一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｘはハロゲン原子を、Ｒ＾２は水素原子、ハロ
   ゲン原子またはニトロ基を、Ｒ＾３は水素原子または置
   換されていてもよい炭化水素残基を、その他の記号は前
   記と同意義を示す］で表わされる化合物またはその塩も
   しくはエステルと一般式Ｒ＾１Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ＿２［式
   中、Ｒ＾１は保護されていてもよいアミノ基を示す］で
   表わされる化合物とを反応させるか、または ［８］一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中の記号は前記と同意義を示す］で表わされる化合
   物またはその塩もしくはエステルとアミノ基を保護する
   試薬とを反応させることを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾０は水素原子、含窒素複素環基、アシル基
   またはアミノ基の保護基を、その他の記号は前記と同意
   義を示す］で表わされる化合物またはその生理学的に受
   容される塩もしくはエステルの製造法。 ３、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾０は水素原子、含窒素複素環基、アシル基
   またはアミノ基の保護基を、ＺはＳ、Ｓ→Ｏ、Ｏまたは
   ＣＨ＿２を、Ｒ＾４は水素原子、メトキシ基またはホル
   ムアミド基を、Ｒ＾１＾３は水素原子、メチル基、水酸
   基またはハロゲン原子を、Ａは置換されていてもよい１
   ，５−位で縮合環を形成するピラゾール−２−イル基を
   、それぞれ示す］で表わされる化合物またはその生理学
   的に受容される塩もしくはエステルの少くとも１種以上
   を含有する医薬組成物。