WO1986000071A1 - Cephem compounds - Google Patents
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
- C07D277/60—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D277/62—Benzothiazoles
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- C07D505/00—Heterocyclic compounds containing 5-oxa-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. oxacephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
Definitions
- the present invention relates to a novel septum compound having excellent antibacterial activity, a method for producing the same, and a pharmaceutical composition.
- Cefnim antibiotics are widely used in the treatment of diseases caused by pathogenic bacteria in humans and animals, for example, in the treatment of diseases caused by bacteria resistant to penicillin antibiotics and in the treatment of patients with penicillin sensitivity. Particularly useful. In this case, it is desirable to use a septum antibiotic that is active against both gram-positive and gram-negative bacteria. For this reason, studies on septum antibiotics having a broad antibacterial spectrum have been actively conducted.
- OMPI I have been.
- 2- (2-aminothiazol-1-ynole) -12-hydroxy (or substituted hydroxy) iminoacetamide group at the 7-position of the septum ring resulted in gram-positive bacteria and It was discovered that both gram-negative bacteria became active, leading to the development of so-called third-generation cephalosporins.
- third-generation cephalosporins At present, several third-generation cephalosporin compounds are already on the market. Another feature of these third-generation cephalosporin antibiotics is that they also show activity against the same resistant bacteria that were once experienced in penicillin, so-called cephalosporin-resistant bacteria.
- the present invention has the general formula
- the present invention relates to a physiologically acceptable salt or ester, a method for producing the same, and a pharmaceutical composition.
- the septum compound in this specification is related to “cepham” according to “The 'Journal of the American * Chemical. Society”, vol. 84, p. 3400 (1962). Is a compound having a double bond at the 3,4-position among cepham compounds.
- cephem compounds having a quaternary ammonium methyl group at the 3rd position and aminothiazolyloxyiminoacetamides at the 7th position have better antibacterial activity. And have a unique antibacterial spectrum.
- a number of compounds in which the quaternary ammonium group at the 3-position is derived from a nitrogen-containing aromatic heterocycle have already been synthesized and patent applications have been filed, but those heterocycles are monocyclic pyridinyl groups or on the ring. Most of them have a substituent, and none of the compounds of the present invention having a thiazole-3-yl group forming a condensed ring at the 4,5-position has been synthesized.
- the present inventors have succeeded in synthesizing the compounds represented by the general formula [1] having such chemical structural characteristics, and have also studied the antibacterial activity and antibacterial spectrum of those compounds.
- Compound (I) has a strong antibacterial activity against various bacteria, in particular, has a strong antibacterial activity against the above-mentioned cephalosporin-resistant bacteria, and exhibits a special antibacterial activity against the fungi of the genus Pseudomonas
- the present invention was completed by finding out the facts.
- the substituent Ri represents an optionally protected amino group, that is, an amino group or a protected amino group.
- the protecting group for the amino group has been thoroughly studied and its protection method has already been established, and in the present invention, those known as the amino group protecting group are appropriately employed. Can be done.
- C 6 ⁇ as a protecting group for group 1 () Ariru one Ashiru group, C i ⁇ 5 Al force Roh I le group, C 3 ⁇ 5 Arukenoiru group, C 6 ⁇ 10 ⁇ Li one Rusuruhoniru group, ( ⁇ alkyl scan Honoré Honi Honoré group, substituted O alkoxycarbonyl group, Kanorebamoinore group, Ji Sairyoku Rubamoiru group, c 6 ⁇ 10 ⁇ Li Lumpur - methyl, c 6 ⁇ 10 ⁇ Li - Rumechi alkylene group, C 6 ⁇ 10 ⁇ Li - thio group, substituted silyl group, 2- ( ⁇ 8 alkoxy - carbonylation Lou 1 - methyl-1 -.
- Eparu group C 6 ⁇ 10 ⁇ reel one the Ashiru groups specifically the base Nzoiru, Examples thereof include naphthyl and phthaloyl, and these aromatic rings may be substituted with alkyl, alkoxy, halogen, nitro, etc.
- Specific examples of the substituted aryl-acyl group include P-toluoyl , P—tert—butinorebe Zoinore, p- main butoxy benzo I Honoré, - tert Butokishiben Zoinore, p- black port base Nzoinore, p -.
- substituted arylsulfonyl group include P-to-no-rens-en-nor-honinole, p-tert-butyl-buteno-benzene-s-nor-honinole, and p-methoxy-benzene-snor-le-honinole, p-chloro.
- Examples of the Ct- 10 alkylsulfonyl group include methanesulfonyl, ethanesulfoninole, and camphorsulfonyl. these alkylsulfonyl groups C 6 ⁇ 10 ⁇ Li
- C ft ((aryloxy, halogen, etc .; substituted oxycarbonyl groups include, for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl) ( ⁇ To 8 alkoxy-carbonyl groups such as bonyl and isobornyloxycarbonyl; for example, C 6 to 10 aryloxycarbonyl groups such as phenoxycarbonyl and naphthyloxycarbonyl; for example, benzylo such as C 7 ⁇ 12 Ararukiruokishi one carbonyl group such as Kishikaru Boniru the like.
- Cl ⁇ 8 alkoxy one carbonyl group further ( ⁇ 6 alkoxy, C 2 ⁇ 5 ⁇ Rukano I le, substituted Rinore, d ⁇ 4 alkylsulfonyl, Bruno, androgenic, Xia Bruno -. May be substituted with such substituents Alkoxycarbonyl group
- Examples include methoxymethyloxycarbonyl, acetylmethyloxycarbonyl, 2-trimethylsilylethoxycarbonyl, 2-trimethylperylethoxycarbonyl, 2-methanesulfonylethoxycarbonyl, 2,2,2 ⁇ mouth ethoxycarbonyl, 2- Shianoetokishi force Lupo two Honoré Nadogaa (diethylene be.
- Specific examples of the substituted aryloxycarbonyl group include P-methylphenoxycarbonyl, P-methoxyphenoxycanolepo, dinore, and p-alkenyl. Rolophenoxy canoleboninole, etc .; substituted.
- Aralkyloxycarbonyl substituted Specific examples of the group include P-methylbenzyloxycarbonyl, p-methoxybenzyloxycanolepo'binole, p-methylbenzinoleoxycanolepo'binole, and p-nitrobenzene. Ruo alkoxycarbonyl like or the like.
- the alkyl group is C 6 ⁇ 10 ⁇ Li Ichiru, may be substituted such as with halogen, specifically, base Nzuhi drill O alkoxycarbonyl of C 7 ⁇ 12 Ararukiruokishi one carbonyl group
- the substituted carbamoyl group may be substituted, and specific examples of the substituted carbamoyl group include N-methylcarbamoyl, N-ethylcarbamoyl, N, N-dimethinolecanolepa ' Moinole, N-Feninolecanoleva, Moinole, N- (P-methoxyphenyl) capsulebmoyl, etc.
- the Tiocalbamoyl group is similarly substituted.
- Substituted Chiokarubamo I le groups specifically that mentioned include N- methylthio force Rubamoiru As specifically.
- C 6 ⁇ 10 ⁇ Li one Rumechiru groups benzyl, naphthyl methyl are mentioned these aromatic rings d ⁇ 4 alkyl, C 1 ⁇ 6 alkoxy, halogen, nitro, etc. in may be substituted as specifically the substituted ⁇ Li Rumechiru group P -.
- the substituent R 2 represents a hydrogen atom or a halogen atom.
- the halogen atom include fluorine, chlorine, and bromine, and chlorine is preferable.
- the substituent R 3 is a hydrogen atom or a substituted Represents an optionally substituted hydrocarbon residue.
- hydrocarbon residues include
- d- 6 alkyl group C 2 ⁇ 6 alkenyl group, C 2 ⁇ 6 alkynyl group, C 3 ⁇ 6 cycloalkyl group, and c 3 ⁇ 6 cycloalkenyl group, a Riwake (: 3 alkyl group or A substituted alkyl group is preferred, and specific examples of the d- 6 alkyl group include methyl, ethyl, n-propyl, isopropynole, n-butyltinole, isoptinole, sec-butylinole, and tert. -.
- Rei_6 10 Ariruchio group 'C 7 - 12 Ararukiruchio group, a heterocyclic Chio group, amino group, mono-d-4 alkylamine amino group, di-alkylamino group, C 3 - 6 cycloalkyl amino group, Cs ⁇ . ⁇ Li Norea amino group, C 7 ⁇ 12 Ararukiru amino group, a heterocyclic Amino group, cyclic amino group, azido group, two collected by filtration group, halo Gen atom, cyano group, carboxy group, ( ⁇ 8 alkoxy-carbonyl group,
- Ariruami amino group is Anirino
- cyclic amino groups include pyromellitic Li Gino, Piperi Gino , Hipperazino, morpholino, 1-pyrrolinole, etc., haguchigen atom is fluorine, chlorine, bromine, iodine, etc.
- the aralkyloxy-carbonylamino group represents benzyloxycanolevonylamino and the like.
- the heterocyclic group of the heterocyclic group, the heterocyclic oxy group, the heterocyclic thio group and the heterocyclic amino group represents a heterocyclic group specifically described later as a substituent on the substituent A.
- the above aralkyl group, aralkyloxy group, aralkylthio group and aralkylamino group are the aralkyl groups of the aralkyloxycarbonyl group and the aralkyloxycarbonylamino group, and the other alkyl group is another alkyl group.
- C 6 ⁇ 10 ⁇ Lil group concrete the base Nzuhi Dorinore, Benzuhi Dorinoreokishi, Benzuhi Dorinorechio, Benzuhi Dorirua Mi Bruno, Benzuhi drill O propoxycarbonyl Nino les, Benzuhi drill O butoxycarbonyl And amino.
- OMPI OMPI
- two or more different groups may be present. More preferred of the substituted hydrocarbon residues are a hydroxyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an amino group, a halogen atom, a carboxy group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a cyano group, an azide group, and the like.
- a substituted d to 3 alkyl group which is specifically exemplified by cyclopropylmethyl, methoxymethinole, ethoxymethinole, 1-methoxetin ⁇ 1 -ethoxyquininole,
- the most preferred are straight-chain ( ⁇ 3 alkyl groups such as methyl, ethyl, n-propyl and the like, 2-fluoroethyl, 2-chloropi-ethynole, and phenolic methoxy).
- ⁇ Tert-Butoxycanoleboninolemethinole, 1-hydroxynorreboxyl, 1-methynoleethyl, 1-tert-butoxycanoleboninole, 1-methinolethynole, etc., straight-chain alkyl substituted with halogen, carboxy, alkoxycarbonyl Group of the present invention having these groups as R 3 groups
- Substituent A in the above-mentioned septum compound [I] represents a thiazole-3-yl group which may form a condensed ring at the 4,5-position which may be substituted.
- the condensed ring means a form in which a thiazole ring and an alicyclic ring, a benzene ring or a 5- or 6-membered aromatic heterocyclic ring are condensed, and among them, a condensed ring with an alicyclic ring is more preferable.
- the condensed ring may be further condensed with another alicyclic ring, benzene ring or 5- or 6-membered aromatic heterocyclic ring. Further, 4 added to the substituent A indicates that the substituent A has a monovalent positive charge.
- Thiazole-3-yl group condensed with an alicyclic ring is
- m is 2-6, preferably 3-5.
- the alicyclic moiety of k may be further condensed with another alicyclic ring, a benzene ring or a 5- or 6-membered aromatic heterocyclic ring.
- a thiazole 1-3-yl group fused to a benzene ring has the general formula
- the benzene ring of A ⁇ Alicyclic it may be condensed with a benzene ring or a 5-6-membered aromatic heterocyclic ring.
- the 5- to 6-membered aromatic heterocycle means a 5- to 6-membered aromatic heterocycle having a nitrogen atom, an oxygen atom and / or a sulfur atom as a hetero atom. Therefore, the thiol-3-yl group condensed with a 5- or 6- membered aromatic heterocyclic ring has the general formula
- -, 'B B in the formula consists of 3 to "solid carbon atoms, nitrogen atoms, oxygen atoms and / or sulfur atoms, of which the carbon atoms are bonded to one hydrogen atom or are combined with adjacent carbon atoms by another atom.
- a P a on the substituent a represented by 2 or a 3 hydrogen atoms of one or two or more identical or different substituents may be substituted. substituted on the substituent a
- the number of substituents is more preferably 1-3. .
- ⁇ Okishi group a mercapto group, ( ⁇ 4 mercaptoalkyl group, a sulfo group, ( ⁇ 1-4 sulfoalkyl group, an alkylthio group, ( ⁇ 1-6 alkylthio - ( ⁇ 4 alkyl group, C 3 - 6 cycloalkylthio group, C 6 ⁇ 10 arylthio group, C
- Alkylamino group di ( ⁇ - alkylamino group, mono ( ⁇ 1-4 alkyl Rua Mi Bruno - alkyl group, a di ( ⁇ 4 Arukirua Mi Bruno - ( ⁇ 4 alkyl le group, c 3 ⁇ 6 cycloalkylamino group 'c 6-10 Ariruamino group, c 7 ⁇ 12 Ararukiruamino group, cyclic amino group, cyclic amino i ( ⁇ 4 alkyl, cyclic amino one C i alkylamino group, azido group, two collected by filtration group, a halogen atom, C ⁇ halogeno alkyl group, Shiano group, Shiano ( ⁇ 1-4 alkyl group, a carboxy group, Karubokishi d-4 alkyl group, ⁇ s alkoxy one carbonyl group, d ⁇ 8 alkoxy one carbonylation Lu Ci-4 alkyl group,
- the radicals include hydroxymethyl, 2-hydroxyhexyl, etc.
- ⁇ « ⁇ alkynole groups are methyl, ethyl, n-propynole, isopropynole, n-butynole, izof ', chinole, sec-butylinole, tert - off, 'Chinore, n- Penchinore, and carboxymethyl Le to n-, C 2 ⁇ 6 alkenyl groups vinyl, Ariru, Lee Sopuro Bae alkenyl, meta Rinore, 1, 1 Jime Chinorea Li Honoré, 1 Busociu, 2- Buteninore, 3-butenyl and the like, C 2 ⁇ 6 alkynyl group Echiniru, 1 one pro pinyl, 2 one Puropieru, propargyl and the like, the C 4 ⁇ 6 Arukajie alkenyl group 1, 3 pigs Jeniru the like, C.
- ⁇ 6 a cycloalkyl group Shikuropuro pills, sik Robuchinore, cyclopentyl Honoré, Kishinore and cyclohexane, C 3 ⁇ 6 Shikuroanore Keninore group 1- cyclopent two Honoré, 2- consequent L-penteninole, 3-cyclopenteninole, 1-cyclohexeninole, 2-cyclohexeninole, 3-cyclohexeninole, 1,4-cyclohexene hexagenyl, etc., C.- 6 cycloalkyl-. 1-6 ⁇ alkyl or cyclopentylmethyl, cyclohexylmethyl and the like cyclohexane, C 6 ⁇ 1 () ⁇ Li
- O PI ⁇ ⁇ Groups are aminomethyl, 2-aminoethyl, etc., monoalkylamino groups are methylamino, ethylamino, n-propylamino, n-butylamino, etc., and di (: alkylamino groups are dimethylamino, getylamino).
- noperogenoalkyl groups are monofluoromethyl, difluoromethinole, trifnorolelomethinole, 1-phnolerotechnole, 2-phnolerotechnole, monochloromethinole, dichloromethinole, trichloromethyl, trichloromethinole, trichloromethylol click Roroe Chinore, 2-click b Roechiru, Buromomechinore, etc.
- N- methylthio force Rubamoiru substituted force Rubamoiruokishi group
- N- methyl carbamoylthiopheno Honoré O carboxymethyl N, N one Jimechinore force Luba Moi Honoré O carboxymethyl, etc.
- C 7 ⁇ 12 Ararukiru group, C 7 ⁇ 12 Ararukiruokishi group, C 7 ⁇ 12 ⁇ la alkylthio group, C 7 ⁇ 12 Ararukiruamino group, C 7 ⁇ 12 Ararukiruokishi - carbonyl group and C 7 ⁇ 12 Ararukiruokishi one carbonyl alkyl group constituting the Ararukiru group such as amino groups may be substituted with one more C 6 ⁇ 10 Ariru group, specifically base Nzuhi drill, Benzuhi de Riruo alkoxy, Benzuhi Dorinorechio, Penn, human Dorinorea mino, benzhydrinoreoxycarbonyl, benz, and hydroxylaminolevino are also listed. : For example, when At in the substituent A is specifically expressed,
- the positive charge of the substituent A® was applied to the nitrogen atom of the thiazole ring for convenience, but if it contains other nitrogen atoms, the positive charge is applied to the nitrogen atom. Sometimes. In some cases, the monovalent positive charge is delocalized in the thiazole ring, and in A 2 and A 3 , it is delocalized in the entire condensed ring. So, for example,
- This positive charge is a compound! : I] because it changes fluidly depending on the state (: solid or in solution :), the type of solvent, liquidity, temperature, and the type of substituent. It includes all cases of localization and cases of delocalization throughout the thiazole or fused ring.
- ⁇ represents 0 or 1.
- ⁇ added to the carboxyl substituent at the 4-position (—COO) indicates that the carboxyl group is a carboxylic acid anion, which forms a pair with the positive charge on the substituent A to form an inner salt. Is shown.
- the compound [I] may be a physiologically acceptable salt or ester. Physiologically acceptable
- O PI Salts include inorganic base salts, ammonium salts, organic base salts, inorganic acid addition salts, organic acid addition salts, and basic amino salts.
- Inorganic bases that can form inorganic base salts include alkali metal (eg, sodium, potassium, etc.) and alkaline earth metals (eg, calcium, etc.), and organic bases that can form organic base salts.
- Bases include, for example, proforce, 2-phenylphenylbenzinoleamine, dibenzylethylenediamine, ethanolamine, diethanolamine, trishydroxymethylaminomethane, polyhydroxyquinamine, N —Inorganic acids that can form inorganic acid addition salts such as methylglucosamine are, for example, hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, etc., and organic acids that can form organic acid addition salts are, for example, P— Toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid, formic acid, trifluoroacetic acid, maleic acid, etc.
- the ester derivative of compound [I] means an ester that can be produced by esterifying a carboxy group contained in the molecule, and is a nontoxic ester that can be used as a metabolically unstable ester during synthesis. .
- alkyl esters C 6 to 10 aryl esters, C 7 to 12 aralkyl esters, substituted silyl esters, etc., which may be further substituted .
- vinyl, aryl, isopropenyl, and the like are specific examples of cycloalkyls that form Cs-6 cycloalkyl esters.
- ⁇ Li Ichiru forming a c 6 ⁇ 10 ⁇ Li one glycol ester as Araruki Le to form a C 7 ⁇ 12 ⁇ Lal kill ester
- they represent benzyl, phenethyl, etc.
- specific examples of the substituted silyl that forms the substituted silyl ester are tri-J'methylnyl and tert-butyldimethylsilyl.
- the ⁇ Lal alkyl constituting Kill ester may be substituted by another 1-2 amino C 6 ⁇ 1 (( ⁇ Li Lumpur, in particular base Nzuhi drill glycol ester, etc.
- esters those already established in the fields of penicilliso and cephalosporin can be conveniently used in the present invention.
- ester include Ci- 5 alkanoyloxymethyl ester, Ci- 5 alkanoyloxyshethyl ester, alkoxy — ( ⁇ 4 alkyl ester,
- C L ⁇ 6 alkylthio one such A alkyl ester are exemplified, specifically ⁇ Nima ⁇ Seto carboxymethyl methylate Honoré ester, 1 - ⁇ Se Bok key shell chill Este Honoré, 1 one ⁇ Se Bok carboxybutyl ester, 2- ⁇ Se Methoxyshester, vivalloyoxymethylester, methoxymethylester, ethoxymethylester, isopropoxymethylester, 1-methoxylester, 1-quinquinethylester, methylthiome Chilster, ethylthio methyl ester and the like.
- the present invention includes, in addition to the above ester derivatives, physiologically acceptable compounds which are converted into the compound [I] in vivo.
- the compound [I] of the present invention has a broad spectrum antibacterial activity
- the characteristics of the antibacterial vector of the compound [I] are as follows.
- Gram-positive bacteria for example, Staphylococcus aureus, Corynebacterium diphtheriae, etc.
- R 5 represents a hydroxyl group, an acyloxy group, a carbamoyloxy group, a substituted rubamoyloxy group or a halogen atom, and the other symbols have the same meanings as described above];
- [ ⁇ represents a thiazole that forms a condensed ring at the optionally substituted 4,5-position] or a salt thereof
- Compound [I] can be produced by applying a force V to react with a compound represented by NH 2 [wherein Hi has the same meaning as described above], and then removing the protecting group if necessary.
- the production methods (1) to (4), the method for removing the protecting group, and the method for purifying the compound [I] will be sequentially described.
- the 7-amino compound [ ⁇ ] is acylated with a carboxylic acid [I] or a reactive derivative thereof.
- the carboxylic acid [] is free or a salt or a reactive derivative thereof is used as an acylating agent for the 7- amino group of the 7- amino compound [II].
- a reactive derivative such as thiol is subjected to the acylation reaction.
- inorganic salts include alkali metal salts (eg, sodium salts and potassium salts) and alkaline earth metal salts (eg, calcium salts).
- organic salts include trimethylamine salts and triethylamine salts.
- acid halides such as mine salts, tert-butyldimethylamine salts, dibenzylmethylamine salts, benzyldimethylamine salts, N, N-dimethylethylaniline salts, pyridin salts, quinoline salts, and the like.
- Mixed acid anhydrides such as acid gloide and acid ⁇ -mide are mixed acid anhydrides of mono C ⁇ to 4 alkyl carbonic acid (for example, free acid [I] and monomethyl carbonate, monoethyl carbonate, monoisopropyl carbonate, monosodium carbonate).
- ⁇ ⁇ 6 aliphatic carboxylic acid mixed acid anhydrides eg, free acid [I] and acetic acid, trichloroacetic acid, cyanoacetic acid, propionic acid, butyric acid, isobutyric acid, valeric acid, isoic acid
- valeric acid valeric acid
- pivalic acid Bok Li Furuo ⁇ acetate
- C 7 through i 1 aromatic carboxylic acid mixed acid anhydride for example free Acids [M and benzoic acid, mixed anhydrides of P-toluic acid, P-chloro succinic benzoic acid, etc.] and organic sulfonic acid mixed anhydrides (for example, methane snolefonic acid, ethanesulfonic acid, benzenes
- aromatic carboxylic acid mixed acid anhydride for example free Acids [M and benzoic acid, mixed anhydrides of P-toluic acid, P-chloro succinic benzoic acid, etc.
- organic sulfonic acid mixed anhydrides for example, methane snolefonic acid, ethanesulfonic acid, benzenes
- active amides include amides with nitrogen-containing complex compounds (eg, free acid [II] and pyrazolyl, imidazolone).
- Phosphoric acid esters for example, jet xylinic acid ester, diphenyloxylinic acid ester, etc.
- p-dinitrophenyl ester 2,4-dinitropropyl-toluene ester, cyanometyl ester, pentachlorofluoroethanol Nore ester, N-hydroxyl ester, succinimide ester, N-hydroxybutanolamide, 1-hydroxybenzotriazole ester, 6-chloro-1-hydroxybenzotriazole ester, 1-hydroxyl ester
- Examples include 1H-2-pyridone esters.
- Active f raw Chioesuteru aromatic heterocyclic esters of a thiol compound e.g.
- the 7-amino compound [II] is used as its salt or ester as it is.
- the salt of the compound [n] include inorganic base salts, ammonium salts, organic base salts, inorganic acid addition salts, and organic acid addition salts.
- Alkali metal salts eg, sodium salt, potassium salt, etc.
- alkaline earth metal salts eg, calcium salt, etc.
- Salts triethylamine salts, tert-butyldimethylamine salts, dibenzylmethylamine salts, benzyldimethylamine salts, N-dimethylaniline salts, pyridine salts, quinoline salts, etc., and inorganic acid addition salts.
- hydrochloride, hydrobromide, sulfate, nitrate, phosphate, etc., and organic acid addition salts such as formate, acetate, trifluoroacetate, methanesulfonate, p-toluene Sulfonates, etc.
- ester of compound [ ⁇ ] the ester already described as the ester derivative of compound [I] is used here as it is.
- Galley is. That is C 1 ⁇ 4 alkyl esters, C 2 ⁇ 4 alkenyl Este Le, C 3 ⁇ 6 cycloalkyl esters, C 3 ⁇ 6 cycloalkyl one CI ⁇ 4 alkyl esters, C 6 ⁇ ⁇ 0 ⁇ Li Ruesuteru, C 7 ⁇ i 2 Araruki glycol ester, C i ⁇ 5 alkanol I Ruokishime Chiruesuteru, C i ⁇ 5 7 Rukano i Ruo key shell chill esters and their further hydroxyl, C i to 6 alkoxy group, a halogen atom, two collected by filtration group, Shiano group, main mercapto groups, C alkylthio group, Okiso group, etc.
- Chiokiso group Examples include those that have been replaced.
- the salts and esters thereof, and the raw material [I and its reactive derivatives] can be easily produced by a known method or a method analogous thereto.
- the reactive derivative of compound [I] can be reacted as a substance isolated from the reaction mixture, or the reaction mixture containing the reactive derivative of compound [II] before isolation can be directly reacted with compound [ ⁇ ]. it can.
- the carboxylic acid [I] is used in the form of a free acid or salt, use an appropriate condensing agent.
- condensing agent examples include , ⁇ '-disubstituted carbodiimides such as N, ⁇ ⁇ -dicyclohexylcarboimide, and ⁇ ⁇ ⁇ ⁇ , ⁇ '-carbonyldiimidazole, ⁇ , ⁇ '-thiocarbodiimide.
- Dehydrating agents such as azolides, such as ruzimidazole, for example, methoxy-carbonyl-1,2-diethoxy-1,2-dihydroxyquinoline, oxychlorideline, and alkoxyacetylene, for example, 2 2-Halogeno-vinylidene salts such as —co-lipidindium methyl iodide, and 2—fluorinidine methyl iodide are used.
- azolides such as ruzimidazole, for example, methoxy-carbonyl-1,2-diethoxy-1,2-dihydroxyquinoline, oxychlorideline, and alkoxyacetylene
- 2-Halogeno-vinylidene salts such as —co-lipidindium methyl iodide, and 2—fluorinidine methyl iodide are used.
- the reaction is thought to proceed via the reactive derivative of carboxylic acid [M].
- the reaction is generally performed in a solvent, and a solvent that does
- ethers such as dioxane, tetrahydrofuran, getyl ether, tert-butyl methyl ether, diisof "piru-tel, ethylene glycol-1-dimethyl ether, fr
- esters such as ethyl formate, ethyl acetate, and n-butyl acetate
- hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, trichlorene, and 1,2-dichloroethane, and hydrogenated hydrocarbons such as n — ⁇ 'Hexanes, benzene, hydrocarbons such as toluene, for example, amides such as formamide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, for example, acetone, Ketones such as methylethylketone and methylisobutylketone, for example, nitriles such as acetate and propionitol, etc., as well as dimethyl sulfoxide, sulfolane and hexamethyl phosphoramido , Water or the like is used alone or as a mixed solvent.
- the cloudiness of the acylating agent [I] is usually 1 to 5 mol, preferably 1 to 2 mol, per 1 mol of the compound [II].
- the reaction one 8 0 to 8 0 C, preferably single 4 0 to 5 0 ° C, and most preferably - [. Ir] 3 0 ⁇ 3 0 ° c
- the reaction time is in the temperature range of C compounds and [n]
- the reaction time is usually 1 minute to 72 hours, preferably 15 minutes to 3 hours, depending on the type of solvent, the type of solvent (and the mixing ratio if a mixed solvent is used), and the reaction temperature.
- the reaction can be carried out in the presence of a deoxidizing agent for the purpose of removing released hydrogen halide from the reaction system.
- a deoxidizing agent include inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, calcium carbonate, sodium hydrogen carbonate, etc., for example, triethylamine, tri (II-propyl).
- R 5 represents a hydroxyl group, an acyloxy group, a rubamoyloxy group, a substituted rubamoyloxy group or a halogen atom.
- Ariru one Ashiruokishi group, as optionally substituted C 2 even though 1-5 alk noisy Ruo alkoxy group are concretely acetoxy, chloroacetoxy, fluoryloxy, butyryloxy-, bivaloyloxy, 3-oxobutyryloxy, 4-chloro-3-oxobutyryloxy, 3-carboxy.
- Specific examples of the substituted carbamoyloxy group include methylcarbamoyloxy and N, N-dimethylcarbamoyloxy.
- Halogen atoms include chlorine, bromine, and iodine.
- Compound [IV] can be used as a salt or ester as it is.
- the salts and esters of the compound [IV] those given as the salts and esters of the compound [n] in the production method (1) can be applied here as they are.
- Compound [IV] salts and esters thereof can be easily produced by a method known per se or a method analogous thereto.
- thiazole compound AT thiazole compound AT
- O PI Represents a thiazole which forms a condensed ring at the optionally substituted 4,5-position.
- the condensed ring means a condensed form of a thiazole ring and an alicyclic ring, a benzene ring or a 5- to 6-membered aromatic heterocyclic ring. It may be condensed with a 6-membered aromatic heterocycle.
- the thiazole which forms a condensed ring at the 4,5 position of the optionally substituted thiazole ( ⁇ ') which forms a condensed ring at the 4,5 position may be represented by the following general formula:
- OMPI For example, inorganic acid addition salts such as hydrochloride, hydrobromide, sulfate, nitrate, phosphate, etc., for example, formate, acetate, trifluoroacetate, methanesulfonate, P-toluenesulfonate And organic acid addition salts.
- the general method for synthesizing compound A ' is known and can be easily produced by a method described in a literature or a method analogous thereto.
- This nucleophilic substitution reaction of compound [IV] with compound A is a well-known reaction per se, and is usually carried out in a solvent.
- Solvents used in this reaction include solvents such as ethers, esters, halogenated hydrocarbons, hydrocarbons, amides, ketones, nitriles, and water used in the production method). These can be applied as they are, for example, methanol, ethanol, ⁇ -propanol, and isov. Alcohols such as ronanol, ethylene glycol, and 2-methokineethanol are also used.
- R 5 is Shiruokishi group, force Rubamoi Ruokishi group, when substituted Cal Bamoi Ruokishi group
- a more preferred solvent is water or a mixed solvent of water and an organic solvent miscible with water, and among the organic solvents miscible with water, more preferred are acetone, methylethylketone, and acetate tritol. And so on.
- the amount of the agent A 'to be used is generally 1 to 5 mol, preferably 1 to 3 mol, per 1 mol of compound [W].
- the reaction is carried out in a temperature range of 10 to 100 ° C, preferably 30 to 80 ° C.
- the reaction time depends on the type of compound [IV] and A ', the type of solvent (mixing ratio if a mixed solvent is used), the reaction temperature, etc., and is usually 30 minutes to 5 days, preferably 1 to 5 hours. is there.
- the reaction is advantageously carried out at pH 2-8, preferably near neutral, ie pH 5-8.
- This reaction usually proceeds more easily in the presence of 2 to 30 equivalents of iodide or thiocyanate.
- Such salts include sodium iodide, potassium iodide, and titanium iodide. Examples include sodium ocyanate and potassium thiocyanate.
- the above-mentioned salts have a surface activity such as trimethylbenzylammonium bromide, triethylbenzylammonium bromide, triethylbenzylammonium bromide or the like. In some cases, the reaction can proceed smoothly by adding a grade of ammonium salt.
- C When C 2 -2: R 5 is a hydroxyl group
- the reaction is carried out in the presence of an organic phosphorus compound according to a method described in Japanese Patent Laid-Open Publication No. 58-43979.
- organic phosphorous compounds used here include 0-phenylene phosphorophthalate, ⁇ —phenylene phosphorofluoride, methylinole 0—phenylene phosphate, ethyl 0—phenylene phosphate, and propyl 0—phenylene.
- Dilen phosphate isopropyl 0 — phenylene phosphate, butyl 0 — phenylene phosphate, isobutyl 0 — phenylene phosphate, sec-butyl 0 — phenylene phosphate, ⁇ 0-phenylene phosphate, phenyl 0-phenylene phosphate, ⁇ -chloro ⁇ phenyl 0—phenylene phosphate, ⁇ -acetyl phenyl 0—phenylene phosphate, 2-chloroethyl 0—phenylene phosphate, 2, 2, 2 — tricycloroethyl 0 — fenirenho Sulfate, ethoxycarbonylmethyl 0-phenylene phosphate, rubamoyl lmethyl 0—phenylene phosphate, 2-cyanoethyl ⁇ —phenylene phosphate, 2—methylsulfonylechinole 0—pheny
- any of the above ethers, esters, halogenated hydrocarbons, hydrocarbons, amides, ketones, nitriles and the like are preferably used alone or as a mixed solvent. Particularly good results are obtained by using, for example, dichloromethane, acetonitrile, formamide, a mixed solvent of formamide and acetonitril, or a mixed solvent of dichloromethane and acetonitrile. Is obtained.
- the amounts of the nucleophile A 'and the organic phosphorus compound used are 1 to 5 mol, 1 to 10 mol, more preferably 1 to 3 mol, and 1 to 6 mol, respectively, per 1 mol of the compound [IT]. is there.
- the reaction is carried out in a temperature range of -80 to 50 ° C, preferably 140 to 40 ° C.
- the reaction time is usually 1 minute to 15 hours, preferably 5 minutes to 2 hours.
- An organic base may be added to the reaction system.
- Such organic bases include, for example, triethylamine, tri (n-butyl) amine, di (n-butyl) amine, diisobutylamine, dicyclo ⁇ .xylamine, 2,6- Examples include amines such as lutidine, etc.
- the amount of the base to be added is 1 to 5 mol per 1 mol of the compound.
- Preferred solvents are the above-mentioned ethers, esters, halogenated hydrocarbons, hydrocarbons, amides, ketones, nitriles, alcohols, water and the like.
- the amount of the nucleophile ⁇ ′ ′ to be used is generally 1 to 5 mol, preferably 1 to 3 mol, per 1 mol of compound [IV]. Is carried out in a temperature range of 0 to 80 ° C, preferably 20 to 60 ° C.
- the reaction time is usually 30 minutes to 15 hours, preferably 1 to 5 hours.
- the reaction can be carried out in the presence of a dehalogenating agent to promote the reaction.
- dehalogenating agents examples include the deacidifying agents such as the inorganic bases, tertiary amines, and alkylene oxides described in the section of the production method (1); and the nucleophilic reagent A 'itself.
- dehalogenating agent such as the inorganic bases, tertiary amines, and alkylene oxides described in the section of the production method (1); and the nucleophilic reagent A 'itself.
- A is used in an amount of 2 mol or more per 1 mol of the compound [].
- Force halogen atom represented by R 5 which is a chlorine, bromine, and iodine; preferably iodine.
- the compound [IV] in which U s is iodine can be easily produced, for example, by the method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-57390 or a method analogous thereto.
- the compound [ ⁇ ] is synthesized by reacting a compound represented by the general formula Rs' OH or a reactive derivative thereof with a hydroxyimino compound [V]. It is.
- R 3 ′ represents an optionally substituted hydrocarbon residue, and as such a hydrocarbon residue, those already mentioned as the optionally substituted hydrocarbon residue in R 3 can be directly applied here.
- Us'OH is used as it is or as a reactive derivative thereof.
- the reactive derivative of R 3 'OH means a compound [a derivative of OH having a group capable of leaving with the hydrogen atom of VJ, that is, a compound represented by the general formula R 3 ' Y.
- the group Y released with a hydrogen atom represents a halogen atom, a sulfo group, a mono-substituted sulfonyloquine group, or the like.
- Halogen atoms include chlorine, bromine and iodine.
- Examples of the mono-substituted sulfonyloxy group include CI-4 alkylsulfonyloxy groups such as methanesulfonyloxy, ethanesulfonyloxy, benzenesulfonyloxy, p-toluenesulfonyloxy, and C 6-10.
- Compound [I] is synthesized by reacting with compound [V] using an appropriate dehydrating agent.
- the dehydrating agent used for such a purpose include phosphorus oxychloride, chlorodithiol chloride, dialkyl sulfonic acid dialkyl + phosphine, N, N'-dichlorohexyl hexylcarbodiimide, and the like.
- Preferred is azozica / diethyl benzoate triphenylphosphine.
- the reaction using getyl azodicarbonate + triphenylphosphine is usually carried out in an anhydrous solvent, and the above-mentioned ethers and hydrocarbons are used.
- the reaction between R 3 ′ Y and the compound [ ⁇ ⁇ ] is a normal etherification reaction and is carried out in a solvent.
- the solvent include ethers, esters, halogenated hydrocarbons, hydrocarbons, amides, ketones, nitriles, alcohols, alcohols, and the like described in the section of the production method (1).
- a solvent such as water or a mixed solvent is also mentioned here.
- a mixed solvent of water and a solvent miscible with water eg, hydrated methanol / water, hydrated ethanol, hydrated acetate, hydrated dimethyl sulfoxide, etc.
- Examples of such a base include alkali metal salts such as sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate and potassium carbonate, and alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and hydroxide hydroxide. And inorganic bases. This reaction may be carried out in a buffer solution described in section 7.5 to 8.5.
- the number of moles of the reagent R 3 ′ Y and the base used is 1 to 5, 1 to 10 and preferably 1 to 3, respectively, relative to 1 mole of the starting compound [V].
- the reaction temperature is in the range of ⁇ 30 to: I 0 ° C, preferably 0 to 80 ° C.
- the reaction time is 10 minutes to 15 hours, preferably 30 minutes to 5 hours.
- the reaction is usually performed in a solvent.
- the solvent the above-mentioned ethers, hydrocarbons and the like are used.
- the reaction proceeds when a solution of the diazoalnic compound is added.
- the reagent is used in an amount of 1 to 10 mol, preferably 1 to 5 mol, per 1 mol of the compound [V].
- the reaction is carried out at a relatively low temperature—50 to 20 ° C., preferably—30 to 0 ° (: ⁇ ( : reaction time is 1 minute to 5 hours, preferably 10 minutes to 1 hour. is there.
- the reaction is usually carried out in water or a mixed solvent of water and a water-miscible solvent.
- the mixed solvent include the water-containing solvents mentioned in the section (3-2).
- This reaction is carried out in the presence of alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and sodium hydroxide.
- the reagent is used in an amount of 0.5 to 10 mol, preferably 1 to 2 mol, per 1 mol of compound [V].
- the reaction temperature ranges from 20 to 100 ° C, preferably from 50 to 100 ° C.
- the reaction time is 10 minutes to 5 hours, preferably 30 minutes to 3 hours.
- the compound (VI) is used as a salt or ester as it is.
- X in the compound [VI] represents a halogen atom such as chlorine, bromine and iodine.
- the salt of [VI] the salt of the compound [ ⁇ ] (inorganic base salt, ammonium salt, organic base salt, inorganic acid addition salt, organic acid addition salt, etc.) mentioned in the section of the production method (1) can be used. But that's true.
- Esters likewise preparation as beauty Honoré of [W] compounds mentioned in the section of (1) [II] (( ⁇ 1-4 alkyl Honoré esters, C '2 - 4 Anorekeniruesu ether. 3-6 consequent Roaru Kiruesute / C, C 3 to 6 cycloalkyl mono C 1 to 4
- the starting compound [ ⁇ ] has the general formula XCH 2 CO C -CO OH
- the conductor can be easily manufactured by a method known per se or a method analogous thereto.
- the solvent include ethers such as dioxane, tetrahydrofuran, and methyl ether; alcohols such as methanol, ethanol, n-pronanol, dimethylformamide, and dimethylformamide. Amides such as thiacetamide are used. Thiourea or its derivative )
- the amount of the NH 2 is usually 1 to 5 moles relative to compound (VI), The
- the reaction is carried out at a temperature in the range of 0 to 100 ° C, preferably 20 ° C.
- the reaction time is usually 30 minutes to 15 hours, preferably 1 to 5 hours.
- the compound [I] may be obtained as a mixture of syn [Z]-and anti [E]-isomers.
- the desired syn isomer is separated from the mixture.
- a method known per se or a method analogous thereto is applied, for example, a fractionation method utilizing differences in solubility, crystallinity, etc., separation by chromatography, rate of hydrolysis of an ester derivative, and the like. Separation method utilizing the difference between the two.
- Protecting group removal method As described above-in the field of lactam and peptide synthesis, protecting groups for amino groups have been well studied and the protection method has already been established. In addition, a method for removing an amino protecting group has been established in the same manner, and in the present invention, the conventional technique can be used as it is for removing the protecting group. For example, 'monoperogenoacetyl groups (chloroacetyl, bromoacetyl, etc.) are substituted by urea, and alkoxycarbonyl groups (methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl, etc.) are converted to acids (eg, hydrochloric acid, etc.).
- the aralkyl radical carbonyl group (benzyloxy benzoyl benzoyl, p-methynolebenzinoleoxy carbyl, p-2 trobenzinoleoxy carbonyl, etc.) is reduced by catalytic reduction, and 2,2,2-trichloroethoxy carbonyl is converted to zinc. And an acid (for example, acetic acid).
- an acid for example, acetic acid.
- the ester residue can be removed by a method known per se or a method analogous thereto.
- 2-methylsulfonyleester ester from aralkyl esters (benzyl ester, p-methoxybenzyl ester, p-dibenzyl ester, etc.
- the 2,2,2,1-trichloroethyl ester can be converted to zinc (by acetic acid, for example) or by catalytic reduction (e.g., trichloroacetic acid) to give 2,2-, 2-trichloroethyl ester with zinc and an acid (such as acetic acid). Can be removed only with water.
- Oxidizing agents suitable for the oxidation of sulfur atoms in the cefm ring include, for example, oxygen, peracids, hydroxy peroxides, hydrogen peroxide and the like. It can also be produced by mixing. The reaction is usually performed in a solvent. Solvents used in this reaction include, for example, ethers such as dioxane and tetrahydrofuran; for example, dichloromethane, chloroform, benzene, etc .; For example, organic acids such as formic acid, acetic acid, and trifluoroacetic acid, and amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide.
- the above oxidation reaction for obtaining the sulfoxide may be carried out before the above-mentioned reactions (1) to (4), or may be carried out after the above-mentioned reactions (1) to (4).
- the compound [I] of the present invention can be administered parenterally or orally as injections, capsules, tablets, and granules in the same manner as known penicillins and cephalosporins.
- the dosage is 0.5 to 80 days per body weight of humans and animals infected with pathogenic bacteria as described above, more preferably 1-2 days divided into 3 to 4 times a day. do it.
- the carrier is, for example, distilled water, physiological saline and the like, and is used as a capsule, powder, granule.
- a known pharmaceutically acceptable excipient for example, starch, lactose, sucrose, calcium carbonate, calcium phosphate, etc.
- binders for example, starch, gum arabic, carboxymethy / recellulose, heptadroxyfif. Mouth pinorecellulose, crystalline cellulose, etc.
- lubrication Eg, magnesium stearate, talc, etc.
- disintegrants eg, carboxymethyl calcium, talc, etc.
- the numerical value shown in parentheses is the volume mixing ratio of each solvent. Represents the number in solution 100.
- the symbols in the reference examples and working examples have the following meanings.
- DMSO dimethyl sulfoxide (dim thy 1 sul fox ide)
- the pH is adjusted to 3.0 with 10% hydrochloric acid, and the reaction mixture is extracted twice with each 1 mixture of ethyl acetate-tetrahydrofura (1: 1).
- the extract is dried over anhydrous magnesium sulfate, the solvent is distilled off under reduced pressure, and the obtained colorless powder is washed with ethyl acetate 200 and collected to obtain the title compound 253 ⁇ .
- 2-(2-aminothiazole 14-yl-1 2 (Z) -aryloxyminoacetic acid 13 ⁇ is applied to dimethylformamide 5 O ra to form 1-hydroxybenzotriazole.
- Ether 200 0 is added to the reaction mixture, and the ether layer is removed.
- 0 J ⁇ is adjusted to pH 4 with 10% hydrochloric acid, crystals precipitate, which are washed with water, washed with ethyl ether, and dried to give the title compound 10.
- IR spectrum 1790, 1730, 1710, 1660, 1530.
- IR spectrum 1 1770, 1620, 1530.
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
Novel cephem compounds represented by general formula (I), wherein R1 represents an optionally protected amino group, R2 represents hydrogen or halogen, R3 represents hydrogen or an optionally substituted hydrocarbon residue, R4 represents hydrogen or methoxy, A represents an optionally substituted thiazol-3-yl group forming a fused ring at positions 4 and 5 and n represents 0 or 1. They possess an excellent antibacterial activity.
Description
明 細 書 Specification
セ フ ヱ ム化合物 Cephalic compound
技 術 分 野 Technical field
本発明は優れた抗菌作用を有する新規なセフヱム化合物およびその製 造法ならびに医薬組成物に関するものである。 背 景 技 術 The present invention relates to a novel septum compound having excellent antibacterial activity, a method for producing the same, and a pharmaceutical composition. Background technology
従来より、 3位に第 4級アンモニゥムメチル基、 7位に 2 - ( 2 —ァ ミ ノチアゾ一ルー 4 -ィノレ ) 一 2 —ヒ ドロキシ(または置換ヒドロキシ) イ ミ ノアセ トアミ ド基を合わせ持つセフヱム化合物またはその誘導体は 種々合成され、 特許出願されている〔たとえば日本国公開特許公報昭 53 Conventionally, a quaternary ammonium methyl group is placed at the 3-position, and a 2- (2-aminothiazo-1-yl-4-inole) -12-hydroxy (or substituted hydroxy) iminoacetamide group is placed at the 7-position. Various septum compounds or derivatives thereof have been synthesized and patent applications have been filed [for example, Japanese Patent Application Publication No.
- 3 4 7 9 5 , 同昭 5 4 — 9 2 9 6 , 同昭 5 4 - 1 3 5 7 9 2, 同昭 54-3 4 7 9 5, same year 5 4 — 9 2 9 6, same year 54-1 3 5 7 9 2, same year 54
- 1 5 4 7 8 6 , 同昭 5 5 — 1 4 9 2 8 9, 同昭 5 7 — 5 6 4 8 5 , 同 昭 5 7 — 1 9 2 3 9 4 , 同昭 5 8 — 1 5 9 4 9 8など ]が、 第 4級ァン モユウム基が含窒素芳香族複素環に由来するものとしては単環性のピリ ジニゥム基もしくはその環上に置換基を有するものがほとんどで、 本発 明の 4 , 5 -位で縮合環を形成するチアゾール - 3 -ィル基を有する化 合物については合成はおろか、 出願明細書における開示も全くなされて いない。 -1 5 4 7 8 6, 55-1 4 9 2 9 9, 5 7-5 6 4 8 5, 5 7-1 9 8 3 9 4, 5 8-15 However, most of the quaternary ammonium groups derived from nitrogen-containing aromatic heterocycles are monocyclic pyridinyl groups or those having a substituent on the ring. Nothing is disclosed in the application specification, not to mention the synthesis of a compound having a thiazole-3-yl group forming a fused ring at the 4,5-position of the invention.
セフニム系抗生物質は人および動物の病原性細菌により生ずる疾病の 治療に広く使用されており、 たとえばぺニシリン系抗生物質に抵抗性を 示す細菌に起因する疾病の治療およびぺニシリン感受性患者の治療に特 に有用である。 その場合グラム陽性菌およびグラム陰性菌の両者に対し て活性を示すセフヱム系抗生物質を用いることが望ましく、 この理由か ら広い抗菌スぺク トルを持つセフヱム系抗生物質の研究が盛んに行なわ Cefnim antibiotics are widely used in the treatment of diseases caused by pathogenic bacteria in humans and animals, for example, in the treatment of diseases caused by bacteria resistant to penicillin antibiotics and in the treatment of patients with penicillin sensitivity. Particularly useful. In this case, it is desirable to use a septum antibiotic that is active against both gram-positive and gram-negative bacteria. For this reason, studies on septum antibiotics having a broad antibacterial spectrum have been actively conducted.
OMPI
れてきた。 長期にわたる研究の結果、 セフヱム環の 7位に 2 - ( 2 -ァ ミノチアゾ一ル一 4—ィ ノレ ) 一 2 — ヒ ドロキシ(または置換ヒ ドロキシ) イ ミノアセ トアミ ド基を導入するとグラム陽性菌およびグラム陰性菌の 両者に活性を示すようになることが発見され、 いわゆる第 3世代セファ ロスポリン系化合物の開発へとつながった。 現在、 数種の第 3世代セフ ァロスポリン系化合物がすでに市販されている。 これら第 3世代セファ ロスポリ ン系抗生物質のもうひとつの特徴は、 かってぺニシ リ ンにおい て経験されたと同様の耐性菌、 いわゆるセファロスポリン耐性菌に対し ても活性を示した点である。 すなわち既知のセファロスポリ ン類に耐性 を示した一部のェシェリ ヒア · コリ菌、 一部のシトロバクター属および 大部分のイ ン ドール陽性のプロテウス属、 ェンテロ属、 セロチア属ある いはシユウドモナス属などに分類される病原性細菌に対しても臨床的に 使用が可能な程度の抗菌力を発現した。 これらの第 3世代セファロスポ リ ン系化合物の技術思想の中から、 3位にピリジニゥムメ チル基などの 第 4級アンモニゥムメチル基、 7位に前記のァミノチアゾリルォキシィ ミ ノァセ トアミ ド類をあわせ持つセフヱム化合物がさらに優れた抗菌作 用と独特な抗菌スぺク トルを有することが示唆され、 その系統の化合物 が種々合成されてきた。 OMPI I have been. As a result of long-term studies, the introduction of 2- (2-aminothiazol-1-ynole) -12-hydroxy (or substituted hydroxy) iminoacetamide group at the 7-position of the septum ring resulted in gram-positive bacteria and It was discovered that both gram-negative bacteria became active, leading to the development of so-called third-generation cephalosporins. At present, several third-generation cephalosporin compounds are already on the market. Another feature of these third-generation cephalosporin antibiotics is that they also show activity against the same resistant bacteria that were once experienced in penicillin, so-called cephalosporin-resistant bacteria. That is, some Escherichia coli resistant to known cephalosporins, some Citrobacter, and most indole-positive Proteus, Entero, Serothia, or Pseudomonas sp. It also exhibited antibacterial activity enough to be used clinically against classified pathogenic bacteria. Among the technical ideas of these third-generation cephalosporin-based compounds, a quaternary ammonium methyl group such as a pyridinium methyl group is located at the third position, and the above aminothiazolyloxyminoacetamide is located at the seventh position. It has been suggested that a septum compound having a class of compounds has an even better antibacterial action and a unique antibacterial spectrum, and various compounds of that family have been synthesized.
発 明 の 開 示 Disclosure of the invention
本発明は一般式 The present invention has the general formula
〔式中、 は保護されていてもよいアミノ基を、 R2 は水素原子また はハ口ゲン原子を、 R3は水素原子または置換されていてもよい炭化水 素残基を、 R4 は水素原子またはメ トキシ基を、 Aは置換されていても よい 4 , 5 -位で縮合環を形成するチアゾールー 3 -ィル基を、 nは 0 または 1を示す〕で表わされるセフユム化合物またはその生理学的に受 容される塩もしくはヱステル, およびその製造法ならびに医薬組成物に 関するものである。 [In the formula, represents an amino group which may be protected, R 2 represents a hydrogen atom or a halogen atom, R 3 represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon residue, and R 4 represents A hydrogen atom or a methoxy group, A represents a thiazole-3-yl group which forms a condensed ring at the optionally substituted 4,5-position, and n represents 0 or 1.) The present invention relates to a physiologically acceptable salt or ester, a method for producing the same, and a pharmaceutical composition.
本明細書におけるセフヱム化合物は「ザ ' ジャーナル ·ォブ · ジ ·ァ メ リ カン * ケミ カル . ソサイ エティ 」第 8 4巻 3 4 0 0頁( 1 9 6 2年) による「セファム 」に関連して命名され、 セファム化合物のうち 3 , 4 -位に二重結合を有する化合物を意味する。 The septum compound in this specification is related to “cepham” according to “The 'Journal of the American * Chemical. Society”, vol. 84, p. 3400 (1962). Is a compound having a double bond at the 3,4-position among cepham compounds.
.背景技術の項で述べたように 3位に第 4級アンモニゥムメチル基, 7 位にァ ミ ノ チアゾリルォキシイ ミ ノアセ トア ミ ド類をあわせ持つセフェ ム化合物がさらに優れた抗菌作用と独特な抗菌スぺク トルを有すること が次第に明らかになつてきた。 3位の第 4級アンモニゥム基が含窒素芳 香族複素環に由来する化合物がすでに多数合成されて特許出願されてい るが、 それらの複素環は単環性のピリ ジニゥム基もしくはその環上に置 換基を有するものがほとんどで、 本発明の 4 , 5 -位で縮合環を形成す るチアゾール - 3 -ィル基を有する化合物については全く合成が行なわ れていない。 本発明者らはこのような化学構造上の特徴を持つ一般式〔1] で表わされる化合物を合成することに成功するとともに、 それらの化合 物の抗菌活性と抗菌スぺク トルを調べた結果、 化合物〔I〕が各種の細菌 に対して強い抗菌作用を有すること、 特に前述のセファロスポリ ン耐性 菌に対して強い抗菌作用を持つこと、 シユウ ドモナス属の菌に対して特 異な抗菌力を示すことなどを見出して本発明を完成した。 As described in the Background Art section, cephem compounds having a quaternary ammonium methyl group at the 3rd position and aminothiazolyloxyiminoacetamides at the 7th position have better antibacterial activity. And have a unique antibacterial spectrum. A number of compounds in which the quaternary ammonium group at the 3-position is derived from a nitrogen-containing aromatic heterocycle have already been synthesized and patent applications have been filed, but those heterocycles are monocyclic pyridinyl groups or on the ring. Most of them have a substituent, and none of the compounds of the present invention having a thiazole-3-yl group forming a condensed ring at the 4,5-position has been synthesized. The present inventors have succeeded in synthesizing the compounds represented by the general formula [1] having such chemical structural characteristics, and have also studied the antibacterial activity and antibacterial spectrum of those compounds. Compound (I) has a strong antibacterial activity against various bacteria, in particular, has a strong antibacterial activity against the above-mentioned cephalosporin-resistant bacteria, and exhibits a special antibacterial activity against the fungi of the genus Pseudomonas The present invention was completed by finding out the facts.
OMPI WIPO
前記セフヱム化合物〔I〕において置換基 Ri は保護されていてもよい ァミノ基、 すなわちァミノ基または保護されたァミノ基を表わす。 一 ラクタムおよびプペチド合成の分野ではァミノ基の保護基は充分に研究 されていてその保護法はすでに確立されており、 本発明においてもアミ ノ基の保護基としてはそれら公知のものが適宜に採用されうる。 ァミ ノ 基の保護基としてはたとえば C6〜1()ァリール一ァシル基, C i~5 アル力 ノ ィル基, C 3~5 アルケノィル基, C6~10ァ リ一ルスルホニル基, ( ^ アルキルスノレホニノレ基, 置換ォキシカルボニル基, カノレバモイノレ基, チ 才力ルバモイル基, c6〜10ァリ ール—メチル基, c6~10ァ リ -ルーメチ レン基, C6〜10ァ リ —ルチオ基, 置換シリル基, 2— (^ 8 アルコキシ —カルボ二ルー 1 —メチルー 1 -ェテニル基などがあげられる。 C6〜10 ァ リール一ァシル基としては具体的にはべンゾィル, ナフ トイル, フタ ロイルなどがあげられ、 これらの芳香環は アルキル, アル コキシ, ハロゲン, ニ トロなどで置換されていてもよい。 置換されたァ リール一ァシル基としては具体的には P—トルオイル, p— t e r t—ブ チノレべンゾィノレ, p—メ トキシベンゾィノレ, — t e r t—ブトキシベン ゾィノレ, p—クロ口べンゾィノレ, p —二トロべンゾィノレなど力 sあげられ る。 (^~5 アルカノ ィル基としては具体的にはホルミル, ァセチル, プ 口 ピオ二ノレ, ブチ リノレ, ノ レ リノレ, ピノ 口ィノレ, サクニシル, グノレタ リ ルなどがあげられ、 これらのアルカノ ィル基はさらに d~6 アルコキシ, ハロゲン, C6~10ァリ ール, C6〜10ァ リ ールォキシ, C6~10ァ リ ールチ ォなどで置換されていてもよい。 置換されたアルカノィル基としては具 体的にはモノ クロロアセチノレ, ジクロロアセチノレ, ト リ クロロアセチノレ , モノ ブロモアセチノレ, モノ フノレオロアセチノレ, ジフノレオロアセチノレ, ト リ ブノレオロアセチノレ, モノ ョ一 ドアセチノレ, ァセ トァセチノレ, 3 —ォキ
ソプ'チ リノレ, 4—クロ口 一 3 —ォキソプ、チリノレ, フエニノレアセチノレ, p 一クロ口フエニノレアセチノレ, フエノキシァセチノレ, p—クロ口フエノ キ シァセチルなどがあげられる。 c3~5 アルケノィル基としては具体的に はアタ リロイル, クロ トノィノレ, マレオイルなどがあげられ、 これらの アルケノィル基はさらに C6〜10ァリ一ルなどで置換されていてもよい。 置換されたアルケノィル基としては具体的にはシンナモイルなどがあげ られる。 c6〜10ァ リ一ルスルホニル基としては具体的にはベンゼンスル ホニル, ナフタ レンスルホニルなどがあげられ、これらの芳香環は アルキル, (^ 6 アルコキシ, ハロゲン, ニ トロなどで置換されていて てもよい。. 置換されたァリールスルホニル基としては具体的には P—ト ノレエ ンスノレホニノレ, p— t e r t —プ'チノレベンゼンスノレホニノレ, p —メ ト キシベンゼンスノレホニノレ, p—クロ口ベンゼンスノレホニノレ, p—ニ ト ロ ベンゼンズルホニルなどがあげられる。 C t ~ 10アルキルスルホニル基と しては具体的にはメタ ンスルホニル, エタ ンスルホニノレ, カンフ ァース ルホニルなどがあげられ、 これらのアルキルスルホ二ル基は C6〜10ァ リOMPI WIPO In the septum compound [I], the substituent Ri represents an optionally protected amino group, that is, an amino group or a protected amino group. (I) In the field of lactam and peptide synthesis, the protecting group for the amino group has been thoroughly studied and its protection method has already been established, and in the present invention, those known as the amino group protecting group are appropriately employed. Can be done. § Mi Bruno, for example C 6 ~ as a protecting group for group 1 () Ariru one Ashiru group, C i ~ 5 Al force Roh I le group, C 3 ~ 5 Arukenoiru group, C 6 ~ 10 § Li one Rusuruhoniru group, (^ alkyl scan Honoré Honi Honoré group, substituted O alkoxycarbonyl group, Kanorebamoinore group, Ji Sairyoku Rubamoiru group, c 6 ~ 10 § Li Lumpur - methyl, c 6 ~ 10 § Li - Rumechi alkylene group, C 6 ~ 10 § Li - thio group, substituted silyl group, 2- (^ 8 alkoxy - carbonylation Lou 1 - methyl-1 -. etc. Eteniru group C 6 ~ 10 § reel one the Ashiru groups specifically the base Nzoiru, Examples thereof include naphthyl and phthaloyl, and these aromatic rings may be substituted with alkyl, alkoxy, halogen, nitro, etc. Specific examples of the substituted aryl-acyl group include P-toluoyl , P—tert—butinorebe Zoinore, p- main butoxy benzo I Honoré, - tert Butokishiben Zoinore, p- black port base Nzoinore, p -. Two Torobe Nzoinore Ru force s Agerare like (^ as specifically is 1-5 alkanol I le radical formyl, Asechiru, flop port Pio two Honoré, butyl Rinore, Bruno Le Rinore, Pinot port Inore, Sakunishiru, etc. Gunoreta Li Le are mentioned, these alkanol Irumoto more d ~ 6 alkoxy, halogen, C 6 ~ 10 § Li Lumpur, C 6 ~ 10 § Li Ruokishi, C 6 ~ 10 § Li Ruchi O may be substituted and the like. substituted as the concrete is Arukanoiru group mono Kuroroasechinore, dichloro acetyl Honoré, DOO Polychloroacetinole, monobromoacetinole, monophleololoacetinole, diphnoleoloacetinole, tribenoleoloacetinole, monolide Sechinore, § cell Tasechinore, 3 - O key Examples include Sop's linole, 4-chloro- 1-3-oxox, Tyrinoles, pheninoleasetinole, p-cyclones pheninoleasetinole, phenoxyacetinole, and p-clones fenoxacetyl. c 3 ~ 5 The specifically Arukenoiru group Atta acryloyl, black Tonoinore, and the like maleoyl, these Arukenoiru groups may be substituted with such further C 6 ~ 10 § Li Ichiru. Specific examples of the substituted alkenoyl group include cinnamoyl. c 6 ~ 10 § Li one The Rusuruhoniru group specifically, benzene Honiru, such as naphtha Rensuruhoniru. These aromatic rings alkyl, (^ 6 alkoxy, halogen, optionally substituted with like two Toro Specific examples of the substituted arylsulfonyl group include P-to-no-rens-en-nor-honinole, p-tert-butyl-buteno-benzene-s-nor-honinole, and p-methoxy-benzene-snor-le-honinole, p-chloro. Examples of the Ct- 10 alkylsulfonyl group include methanesulfonyl, ethanesulfoninole, and camphorsulfonyl. these alkylsulfonyl groups C 6 ~ 10 § Li
—ル, C f t ((ァ リ ールォキシ, ハロゲンなどで置換されていてもよしヽ' 置換ォキシカルボニル基としてはたとえばメ トキシカルボニル, ェ トキ シ力ルボニル, ィ ソプロポキシカルボニル, t e r t一ブトキシカノレボニ ル, イ ソボルニルォキシカルボニルなどの(^〜8 アルコキシ一カルボ二 ル基、 たとえばフエノキシカルボニル, ナフチルォキシカルボニルなど の C6~10ァ リ一ルォキシーカルボニル基、 たとえばベンジルォキシカル ボニルなどの C7〜12ァラルキルォキシ一カルボニル基などがあげられる。 —, C ft ((aryloxy, halogen, etc .; substituted oxycarbonyl groups include, for example, methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl) (^ To 8 alkoxy-carbonyl groups such as bonyl and isobornyloxycarbonyl; for example, C 6 to 10 aryloxycarbonyl groups such as phenoxycarbonyl and naphthyloxycarbonyl; for example, benzylo such as C 7 ~ 12 Ararukiruokishi one carbonyl group such as Kishikaru Boniru the like.
Cl〜8 アルコキシ一カルボニル基はさらに(^ 6 アルコキシ, C2〜5 ァ ルカノ ィル, 置換シ リノレ, d~4 アルキルスルホニル, ノ、ロゲン, シァ ノ—などで置換されていてもよい。 置換されたアルコキシ一カルボニル基
としてはたとえばメ トキシメチルォキシカルポニル, ァセチルメチルォキ シカルボニル, 2—ト リメチルシリルエトキシカルボニル, 2—トリメチル ί リルエトキシカルボニル, 2—メタンスルホニルエトキ カルボニル, 2 , 2 , 2 ^ ト クロ口エトキシカルボニル, 2—シァノェトキシ力ルポ二ノレなどがあ (ヂられる。 C6〜1 ()ァリ ールォキシーカルボニル基および C7~10ァラルキルォキシ一 カルボニル基の芳香環は アルキル, (^ 6 アルコキシ, ハロゲン, ニトロなどで置換されていてもよい。 置換されたァリ一ルォキシカルボ ニル基としては具体的には P—メチルフエノ キシカルボニル, P—メ ト キシフエノキシカノレポ、二ノレ, p—ク ロロフエノキシカノレボニノレなど;^あ げられる。. 置換されたァラルキルォキシカルボニル基としては具体的に は P—メチルべンジルォキシカルポ二ノレ, p—メ トキシベンジルォキシ カノレポ'二ノレ, p—クロ口べンジノレォキシカノレポ'二ノレ, p —二 ト ロペンジ ルォキシカルボニルなどかあげられる。 また C7〜12ァラルキルォキシ一 カルボニル基のアルキル基は C6~10ァリ一ル, ハロゲンなどで置換され ていてもよく、 具体的にはべンズヒ ドリルォキシカルボニルなどがあげ られる。 力ルバモイル基は置換されていてもよい。 置換されたカルバモ ィル基としては具体的には N—メチルカルバモイル, N—ェチルカルバ モイ ノレ, N, N—ジメチノレカノレパ'モイ ノレ, N一フエ二ノレカノレバ、モイ ノレ, N—( P—メ トキシフエ二ル) 力ルバモイ ルなどがあげられる。 チォカ ルバモイル基も同様に置換されていてもよい。 置換されたチォカルバモ ィル基としては具体的には N—メチルチオ力ルバモイルなどがあげられ る。 C6~10ァ リ 一ルーメチル基としては具体的にはベンジル, ナフチル メチルなどがあげられ、 これらの芳香環は d~4 アルキル, C1~6 アル コキシ, ハロゲン, ニトロなどで置換されていてもよい。 置換されたァ リ ールメチル基としては具体的には P -メ チルベンジル, P—メ トキシ
ベンジノレ, p—クロ口べンジノレ, p—二トロペンジノレなど力'あげられる c またァリールメチル基のメチル基はもう 1〜2個の C6~10ァリール基で 置換されていてもよく、 具体的にはペンズヒ ドリル, ト リチルなどがあ げられる。 c6~10ァリ一ルーメチレン基としては具体的にはべンジリデ ンなどがあげられ、 これらの芳香璟は d~4 アルキル, (^ 6 アルコキ シ, ハロゲン, ニトロなどで置換されていてもよい。 置換されたァリー ルメチレン基としては具体的には p—メチルベンジリデン, p—クロ口 ベンジリデンなどがあげられる。 C6~10ァ リ一ルチオ基としては具体的 には 0 —二 ト口フエ二ルチオなどがあげられる。 置換シリル基は保護さ れるァミノ基とあわさって一般式 R6R7R8Si NH,(R6R7R8Si )2 N ノ\ Cl~8 alkoxy one carbonyl group further (^ 6 alkoxy, C 2 ~ 5 § Rukano I le, substituted Rinore, d ~ 4 alkylsulfonyl, Bruno, androgenic, Xia Bruno -. May be substituted with such substituents Alkoxycarbonyl group Examples include methoxymethyloxycarbonyl, acetylmethyloxycarbonyl, 2-trimethylsilylethoxycarbonyl, 2-trimethylperylethoxycarbonyl, 2-methanesulfonylethoxycarbonyl, 2,2,2 ^ mouth ethoxycarbonyl, 2- Shianoetokishi force Lupo two Honoré Nadogaa (diethylene be. C 6 ~ 1 () § rie Ruo Kishi aromatic ring alkyl group and C 7 ~ 10 Ararukiruokishi one carbonyl group, (^ 6 alkoxy , Halogen, nitro, etc. Specific examples of the substituted aryloxycarbonyl group include P-methylphenoxycarbonyl, P-methoxyphenoxycanolepo, dinore, and p-alkenyl. Rolophenoxy canoleboninole, etc .; substituted. Aralkyloxycarbonyl substituted Specific examples of the group include P-methylbenzyloxycarbonyl, p-methoxybenzyloxycanolepo'binole, p-methylbenzinoleoxycanolepo'binole, and p-nitrobenzene. Ruo alkoxycarbonyl like or the like. the alkyl group is C 6 ~ 10 § Li Ichiru, may be substituted such as with halogen, specifically, base Nzuhi drill O alkoxycarbonyl of C 7 ~ 12 Ararukiruokishi one carbonyl group The substituted carbamoyl group may be substituted, and specific examples of the substituted carbamoyl group include N-methylcarbamoyl, N-ethylcarbamoyl, N, N-dimethinolecanolepa ' Moinole, N-Feninolecanoleva, Moinole, N- (P-methoxyphenyl) capsulebmoyl, etc. The Tiocalbamoyl group is similarly substituted. May also be. Substituted Chiokarubamo I le groups specifically that mentioned include N- methylthio force Rubamoiru As specifically. C 6 ~ 10 § Li one Rumechiru groups benzyl, naphthyl methyl are mentioned these aromatic rings d ~ 4 alkyl, C 1 ~ 6 alkoxy, halogen, nitro, etc. in may be substituted as specifically the substituted § Li Rumechiru group P -. menu Chirubenjiru, P- Methoxy Benjinore, p- black port base Njinore, p- two Toropenjinore such force 'methyl group c also Arirumechiru groups mentioned may be substituted by another 1-2 C 6 ~ 10 Ariru group, specifically Penzhydryl and trityl are available. c 6 to 10 arylene methylene groups specifically include benzylidene and the like, and these aromatic groups may be substituted with d to 4 alkyl, (^ 6 alkoxy, halogen, nitro, etc. . specific examples of an substituted Ari Rumechiren group p- methylbenzylidene, as is specifically p- such black hole benzylidene and the like C 6 ~ 10 § Li one thio group 0 -. two preparative port phenylene And the substituted silyl group is represented by the general formula R 6 R 7 R 8 Si NH, (R 6 R 7 R 8 Si) 2 N
たは zN〔;cv:中、 R6, 7, R8, 9, R10, R9', 10',
l g'Kxo'リ はそれぞれたとえばメチル, ェチル, tert—ブチルなどの(^〜 アル キル基もしくはたとえばフエニルなどの Cs〜i0ァリ一ル基を示し、 それ ぞれ同一または異なっていてもよい。 また Zはたとえばメチレン, ェチ レンなどの C1〜3 アルキレン基を示す〕で表わされるようなシリル基を 意味し、 具体的にはト リメチルシリル, ter t—ブチルジメチルシリル,Others zN [; cv: In, R 6, 7, R 8 , 9, R 10, R 9 ', 10', l g'Kxo 'each Re is, for example, methyl, Echiru shows a C s ~ i0 § Li Ichiru groups such as (^ - al Kill group or for example phenyl, such as tert- butyl, also their respective the same or different good. the Z is for example methylene, means a silyl group such as represented by showing a C 1 ~ 3 alkylene group such as E Ji Ren], in particular trimethylsilyl, ter t-butyldimethylsilyl,
- S i C CH3 ) 2 CH2CH2 S i C CH3 ) 2—などがあげられる。 2— C1〜8 ァノレコキシ一カルボニル— 1 —メチルー 1 —ェテニル基の(^ 8 アルコ キシ基としてはたとえばメ トキシ, エ トキシ, tert—ブトキシなどが あげられる。 - S i C CH 3) 2 CH 2 CH 2 S i C CH 3) 2 - and the like, such as. 2-C 1 ~ 8 Anorekokishi one carbonyl - 1 - methyl-1 - the Eteniru group (^ 8 alkoxycarbonyl As the alkoxy group for example main butoxy, et butoxy, etc. tert- butoxy and the like.
上記セフヱム化合物 Π]において置換基 R2 は水素原子またはハロゲ ン原子を表わす。 ハロゲン原子としてはフッ素, 塩素, 臭素などがあげ られ、 好ましくは塩素である。 In the above-mentioned septum compound, the substituent R 2 represents a hydrogen atom or a halogen atom. Examples of the halogen atom include fluorine, chlorine, and bromine, and chlorine is preferable.
上記セフエム化合物 U]において置換基 R3は水素原子または置換さ
れていてもよい炭化水素残基を表わす。 炭化水素残基としてはたとえばIn the above Cefm compound U], the substituent R 3 is a hydrogen atom or a substituted Represents an optionally substituted hydrocarbon residue. Examples of hydrocarbon residues include
Cl~6 アルキル基, C2〜6 アルケニル基, C2〜6 アルキニル基, C3~6 シクロアルキル基, c 3~6 シクロアルケニル基などがあげられるが、 と りわけ (: 3 アルキル基または置換された アルキル基が好ましい。 d~6 アルキル基としては具体的にはメチル, ェチル, n—プロピル, イ ソプロ ピノレ, n—ブ'チノレ, イ ソプ'チノレ, s ec—ブ'チノレ, t e r t—フ'、チ ノレ, n—ペンチノレ, n—へキシルなどがあげられるがとりわけメチル, ェチル, n—プロピルが好ましい。 C2〜6 アルケニル基としては艮体的 にはビニル, ァリノレ, イ ソプロぺニル, メタ リ ノレ, 1 , 1 ージメチルァ リル, 2—ブテニル, 3—ブテニルなどがあげられる。 C2~6 アルキニ ル基としては具体的にはェチニル, プロパギルなどがあげられる 0.C3~6 シク ロアルキル基としては具体的にはシク 口プロ ピル, シクロブチル, シクロペンチル, シクロへキシルなどがあげられる。 C3〜6 シクロアル ケニル基としては具体的には 2 —シクロプロぺニル, 3—シクロプロぺ ニル, 2—シクロへキセニル, 3 —シクロへキセニルなどがあげられる c これらの炭化水素残基の置換基としてはたとえば水酸基, d~6アルキ ル基, C2~6 アルケニル基, C2〜6 アルキニル基, C3~6 シク ロアルキ ル基, C3〜6 シクロアルケニル基, C6~10ァ リ ール基, C7~12ァラルキ ル基, 複素環基, (^ 6 アルコキシ基, C3~6 シクロアルキルォキシ基, C6~10ァリールォキシ基, C7〜12ァラルキルォキシ基, 複素環ォキシ基, メルカプト基, (^ 6 アルキルチオ基, C3~6 シクロアルキルチオ基,Cl ~ 6 alkyl group, C 2 ~ 6 alkenyl group, C 2 ~ 6 alkynyl group, C 3 ~ 6 cycloalkyl group, and c 3 ~ 6 cycloalkenyl group, a Riwake (: 3 alkyl group or A substituted alkyl group is preferred, and specific examples of the d- 6 alkyl group include methyl, ethyl, n-propyl, isopropynole, n-butyltinole, isoptinole, sec-butylinole, and tert. -. off ', Ji Honoré, n- Penchinore, methyl especially the like cyclohexyl n- and the like, Echiru, n- propyl are preferred vinyl on Ushitoratai manner as C 2 ~ 6 alkenyl group, Arinore, Lee Sopuro Bae, cycloalkenyl, meta Li Honoré, 1, 1 Jimechirua Lil, 2-butenyl, 3-butenyl, and the like. C 2 - 6 Arukini Le specific examples of an group Echiniru, 0 .C 3, and the like propargyl- 6 consequent lower The Kill groups specifically the consequent opening propyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl and the like C 3 Specific examples of an 1-6 cycloalk Kenyir group 2 -. Shikuropuro Bae sulfonyl, 3-Shikuropurope alkenyl, 2-cyclohexylene cyclohexenyl, 3 - as, for example hydroxyl c substituent of these hydrocarbon residues such as cyclohexenyl and the like, d ~ 6 alkyl le group, C 2 ~ 6 alkenyl group, C 2 ~ 6 alkynyl group , C 3 ~ 6 consequent Roaruki group, C 3 ~ 6 cycloalkenyl group, C 6 ~ 10 § Li Lumpur group, C 7 ~ 12 Araruki group, a heterocyclic group, (^ 6 alkoxy group, C 3 ~ 6 cycloalkyl O alkoxy group, C 6 ~ 10 Ariruokishi group, C 7 ~ 12 Ararukiruokishi group, a heterocyclic Okishi group, a mercapto group, (^ 6 alkylthio group, C 3 ~ 6 cycloalkylthio group,
〇6~ 10ァリールチオ基' C7〜12ァラルキルチオ基, 複素環チォ基, アミ ノ基, モノ d~4 アルキルア ミノ基, ジ アルキルアミノ基, C3~6 シクロアルキルアミノ基, Cs^^。ァリ ーノレア ミノ基, C7~12ァラルキル アミノ基, 複素環ァミノ基, 環状アミノ基, アジド基, ニ ト ロ基, ハロ
ゲン原子, シァノ基, カルボキシ基, (^ 8 アルコキシ一カルボニル基,Rei_6 ~ 10 Ariruchio group 'C 7 - 12 Ararukiruchio group, a heterocyclic Chio group, amino group, mono-d-4 alkylamine amino group, di-alkylamino group, C 3 - 6 cycloalkyl amino group, Cs ^^. § Li Norea amino group, C 7 ~ 12 Ararukiru amino group, a heterocyclic Amino group, cyclic amino group, azido group, two collected by filtration group, halo Gen atom, cyano group, carboxy group, (^ 8 alkoxy-carbonyl group,
C6〜ioァリールォキシ一カルボニル基, C3〜6 シク ロアルキルォキシ一 カルボニル基, C7~12ァラルキルォキシ一カルボニル基, C6〜10ァリ ー ルーァシル基, (^〜5 アルカノ ィル基, C3〜5 アルケノ ィル基, C6〜1() ァリ 一ルーァシルォキシ基, C2~5 アルカノ ィルォキシ基, C3~5 アル ケノ ィルォキシ基, 力ルバモイル基, 置換力ルバモイル基, チォカルバ モイル基, 置換チォカルバモイル基, 力ルバモイルォキシ基, 置換カル バモイルォキシ基, フタルイ ミ ド基, c2~5 アルカノ ィルアミ ド基, CC 6 ~io Ariruokishi one carbonyl group, C 3 - 6 consequent Roarukiruokishi one carbonyl group, C 7 ~ 12 Ararukiruokishi one carbonyl group, C 6 ~ 10 § rie Ruashiru group, (^ 1-5 alkanol I le group, C 3 ~ 5 alkenoyl group, C 6 to 1 () aryloxy group, C 2 to 5 alkanoyloxy group, C 3 to 5 alkenoyloxy group, carbamoyl group, substitutional rubamoyl group, thiocarbamoyl group, substituted thiol group a carbamoyl group, a force Rubamoiruokishi group, a substituted Cal Bamoiruokishi group, Futarui Mi de group, c 2 ~ 5 alkano Iruami de groups, C
6〜10 ァ リ ール一ァシルア ミ ド基, カルボキシァ ミ ノ基' Ci〜4 アルコ キシ一カルボニルァミ ノ基, C6〜i0ァ リ ールォキシ一カルボニルァミ ノ 基, c7〜12ァラルキルォキシ一カルボニルァミノ基などがあげられる。 炭化水素残基の置換基としては具体的には C ^^ アルキル基はメチル, ェチノレ, n—プロピノレ, ィ ゾプロ ピノレ, n—ブ、チノレ, イ ソフ、'チノレ, sec— ブチル, t e r t—ブチル, n—ペンチル, n—へキシルなどを、 C2~6 ァノレケニル基はビュル, ァ リノレ, イ ソプロぺニル, メ タ リル, 1 , 1 - ジメチルァ リ ル, 2—ブテニル, 3—ブテニルなどを、 C2~6 アルキニ ル基はェチニル, プロパギルなどを、 C3~6 シクロアルキル基はシクロ プロ ピノレ, シクロブチノレ, シクロペンチノレ, シクロへキシノレなどを、 C 3〜6シクロアルケニル基は 2 —シクロペンテニル, 3 -シク 口ペンテ二 ル, 2 —シクロへキセニル, 3 —シクロへキセニルなどを、 C6〜10ァ リ 一ル基はフエニル, ナフチルなどを、 (:ァ^^。ァラルキル基はベンジル, 1 ーフヱニルェチル, 2 —フヱニノレエチル, ナフチノレメチノレなどを、 C アルコキシ基はメ トキシ, エ トキシ, n—プロポキシ, イ ソプロポ キシ, n—ブトキシ, t e r t—ブトキシなどを、 C3~6 シクロアルキル ォキシ基はシクロプロ ピルォキシ, シクロへキシルォキシなど^— C 6 ~10
ァリールォキシ基はフエノキシ, ナフチルォキシなどを、 C7〜12ァラル キルォキシ基はベンジルォキシ, 2—フエニルェチルォキシなどを、 Ci e ァラルキルチオ基はメチルチオ, ェチルチオ, n—プロ ピルチオ, n— ブチルチオなどを、 C3〜6 シクロアルキルチオ基はシクロプロピルチオ, シクロへキシルチオなどを、 C6~10ァリールチオ基はフエ二ルチオなど を、 C7〜12ァラルキルチオ基はべンジルチオなどを、 モノ Ci アルキ ルァミ ノ基はメチルァミノ, ェチルァミ ノ, n—プロピルァミノ, n— ブチルァミノなどを、 ジ(^ 4 アルキルアミノ基はジメチルァミノ, ジ ェチルァミノ, メチルェチルァミノ, ジ一( n—プロピル) ァミノ, ジ —( n—プチル)ァミノなどを、 C3~6 シクロアルキルアミノ基はシク 口プロピルァミノ, シクロへキシルァミノなどを、 C6〜10ァリールアミ ノ基はァニリノなどを、 C7~12ァラルキルァミノ基はベンジルァミノ, 2—フヱニルェチルァミノなどを、 環状アミノ基はピロ リ ジノ, ピペリ ジノ, ヒペラジノ, モルホリ ノ, 1—ピロ リノレなどを、 ハ口ゲン原子は フッ素, 塩素, 臭素, ヨウ素などを、 (^ 8 アルコキシ—カルボニル基 はメ トキシカノレポ二ノレ, エ トキシカノレボニノレ, n—プロポキシカノレボニ ノレ, イ ソプロポキシカノレボニノレ, n—ブトキシカルボ二ノレ, t er t—ブ トキシカルボニル, ィ ゾポルニルォキシカルボニルなどを、 Ce~10ァリ ールォキシ一カルボ二ル基はフエノキシカルボニルなどを、 C3~6 シク 口アルキルォキシ一カルボニル基はシク口プロピルォキシカルボ二ノレ, シク口へキシルォキシカルボニルなどを、 C7~12ァラルキルォキシ一力 ルポニル基はべンジルォキシカルボニルなどを、 ( 6〜10ァリ一ルーァシ ル基はべンゾィル, フタ ロ イル, フエニルァセチルなど 、 C1〜5 ァノレ カノイ ノレ基はホノレ ミ ノレ, ァセチノレ, プロピオニル, ブチリノレ, ノ レ リ ノレ, ビバロイルなどを、 C3~5 アルケノィル基はァク リ ロイル, クロ トノィ
ル, マレオイルなどを、 C6~10ァリ ール一ァシルォキシ基はベンゾィル ォキシなどを、 C2~5 アルカノィルォキシ基はァセ トキシ, プロ ピオ二 ルォキシ, ブチリルォキシ, ビバロイルォキシなどを、 C3〜5 アルケノ ィルォキシ基はァク リ ロイルォキシなどを、 置換力ルバモイル基は N— メチルカルバモイ ノレ, N, N—ジメチルカルバモイノレ, N一ェチルカル バモイノレ, N一フエ二ルカルバモイノレ, ピロ リ ジノ カノレボニル, ピペリ ジノカノレボニル, ピペラジノ カルボニル, モノレホリ ノ 力ノレボニルなどを、 置換チォカルバモイル基は N—メチルチオ力ルバモイルなどを、 置換力 ノレパ'モイ ノレォキシ基は N—メチノレカノレバ'モイ ノレォキシ, N, N—ジメチ ルカルバモイルォキシ, N—ェチルカルバモイルォキシなどを、 C2~5 アル力ノ ィルァミ ド基はァセ トァ ミ ド, プロ ピオンアミ ドなどを、 C6〜10 ァリ一ル一ァシルァミ ド基はべンズァミ ドなどを、 d~4 アルコキシ一カル ボニルァ ミ ノ基はメ トキシカルボニノレアミ ノ, エ トキシカノレボニノレア ミ ノ, t e r t—ブトキシカルボニルァ ミ ノなどを、 C6~10ァ リールォキシ —力ルポニルァ ミ ノ基はフエノ キシカルボニルァ ミ ノ などを、 C7→。ァ ラルキルォキシ一カルボニルァ ミ ノ基はべンジルォキシカノレボニルァ ミ ノなどを表わす。 複素環基, 複素環ォキシ基, 複素環チォ基および複素 環ァミノ基の複素環基は置換基 A上の置換基として具体的に後記する複 素環基を表わす。 また上記のァラルキル基, ァラルキルォキシ基, ァラ ルキルチオ基, ァラルキルア ミノ基は, ァラルキルォキシカルボニル基 およびァラルキルォキシカルボニルァ ミ ノ基のァラルキル基を構成する アルキル基はもう 1個の C6〜10ァ リ —ル基で置換されていてもよく、 具 体的にはべンズヒ ドリノレ, ベンズヒ ドリノレオキシ, ベンズヒ ドリノレチォ, ベンズヒ ドリルァ ミ ノ, ベンズヒ ドリルォキシカルボニノレ, ベンズヒ ド リルォキシカルボニルァミノなどがあげられる。 これらの置換基は同一 6-10 § Li Lumpur one Ashirua Mi de group, Karubokishia Mi cyano group 'Ci~ 4 alkoxy one Karuboniruami amino group, C 6 through i 0 § Li Ruokishi one Karuboniruami amino group, c 7 ~ 12 Ararukiruokishi one carbonyl § Mino And the like. Specific examples of the substituent of the hydrocarbon residue include C ^^ alkyl groups such as methyl, ethynole, n-propynole, izpropinole, n-bu, chinole, isof, 'tinole, sec-butyl, tert-butyl. , n- pentyl, and hexyl n-, C 2 ~ 6 Anorekeniru group Bulle, § Rinore, Lee Sopuro Bae alkenyl, meta Lil, 1, 1 - Jimechirua Li Le, 2-butenyl, 3-butenyl, etc. , C 2 ~ 6 Arukini Le group Echiniru, propargyl and the like, C 3 ~ 6 cycloalkyl group cycloprothrin Pinore, Shikurobuchinore, cyclopentyl Honoré, Kishinore and cyclohexane, C. 3 to 6 cycloalkenyl groups 2 - cyclo pentenyl, 3 - consequent opening pent two le, 2 - cyclohexenyl, 3 - hexenyl, and the like cycloalkyl, C 6 ~ 10 § Li Ichirumoto is phenyl, naphthyl, etc., (:. § ^^ Ararukiru group Benzyl, 1 Fuweniruechiru, 2 - Fuweninoreechiru, and naphthylene Honoré methylate Honoré, C alkoxy groups main butoxy, et butoxy, n- propoxy, i Sopuropo xylene, n - butoxy, tert- butoxy and the like, C 3 ~ 6 cycloalkyl The oxy group is cyclopropyloxy, cyclohexyloxy, etc. ^ — C 6 ~ 10 Ariruokishi groups phenoxy, Nafuchiruokishi etc., C 7 ~ 12 Araru Kiruokishi group Benjiruokishi, and 2-phenylpropyl E chill O carboxymethyl, Ci e Ararukiruchio groups methylthio, Echiruchio, n- pro Piruchio, n- butylthio and the like, C 3 ~ 6 cycloalkylthio groups cyclopropylthio, cyclohexylthio and cyclohexane, etc. C 6 ~ 10 Ariruchio groups phenylene thioether, and C 7 ~ 12 Ararukiruchio group base Njiruchio, mono Ci alkyl Ruami Roh group Methylamino, ethylamino, n-propylamino, n-butylamino, etc., and di (^ 4 alkylamino groups are dimethylamino, diethylamino, methylethylamino, di (n-propyl) amino, di- (n-butyl) amino etc., C 3 ~ 6 cycloalkylamino group consequent opening Puropiruamino , Etc. Kishiruamino cyclohexane, etc. C 6 ~ 10 Ariruami amino group is Anirino, C 7 ~ 12 Ararukiruamino group Benjiruamino, and 2-off We sulfonyl E chill § amino, cyclic amino groups include pyromellitic Li Gino, Piperi Gino , Hipperazino, morpholino, 1-pyrrolinole, etc., haguchigen atom is fluorine, chlorine, bromine, iodine, etc. (^ 8 alkoxy-carbonyl group is methoxy canoleponinole, ethoxy canoleboninole, n-propoxy) Kanoreboni Honoré, Lee Seo propoxy Kano levo Nino les, n- butoxycarbonyl two Honoré, t er t-butoxide aryloxycarbonyl, and i zone Pol sulfonyl O alkoxycarbonyl, C e ~ 10 § Li Ruokishi one carboxymethyl sulfonyl group phenoxyethanol carbonyl, etc., C 3 ~ 6 consequent opening Arukiruokishi one carbonyl group consequent opening propyl O carboxymethyl carbonylation Honoré, consequent To and hexyl O alkoxycarbonyl, and C 7 ~ 12 Ararukiruokishi Ichiriki Ruponiru group base Nji Ruo alkoxycarbonyl, (6-10 § Li one Ruashi Le group base Nzoiru lid Russia yl, etc. Fueniruasechiru, C 1 ~ 5 Anore Kanoi Honoré groups Honore Mi Honoré, Asechinore, propionyl, Buchirinore, Bruno Le Li Honoré, pivaloyl and the like, C 3 ~ 5 Arukenoiru groups § click Li Royle, black Tonoi Le, maleoyl the like, and C 6 ~ 10 § Li Lumpur one Ashiruokishi group Benzoiru Okishi, C 2 ~ 5 Arca Noi Ruo alkoxy group § Se butoxy, propionitrile two Ruokishi, Buchiriruokishi, Bibaroiruokishi the like, C 3 1-5 alkeno Iruokishi groups etc. § click Li Roiruokishi, substituted force Rubamoiru group N- methyl carbamoylthiopheno Honoré, N, N- dimethyl carbamoylthiopheno Honoré, N one Echirukaru Bamoinore, N one-phenylene Rukarubamoinore, pyrosulfate Li Gino Kanoreboniru, Piperidinocanolebonyl, piperazinocarbonyl, monorefulino, etc., substituted thiocarbamoyl group is N-methylthiofunctional rubamoyl, etc .; N-Ethylcarbamoylo Sheet, etc., C 2 ~ 5 Al force Roh Iruami de group § Se Ta Mi de, and pro Pion'ami de, and C 6 ~ 10 § Li Ichiru one Ashiruami de group base Nzuami de, d ~ 4 alkoxy one local Bonirua Mi amino group is main butoxy carbonitrile Nino rare Mi Bruno, et Toki Shikano levo Nino rare Mi Bruno, tert- butoxy and the like carbonyl § Mi Roh, C 6 ~ 10 § Riruokishi - force Ruponirua Mi amino group is Fueno butoxycarbonyl § Mino etc., C7 → . The aralkyloxy-carbonylamino group represents benzyloxycanolevonylamino and the like. The heterocyclic group of the heterocyclic group, the heterocyclic oxy group, the heterocyclic thio group and the heterocyclic amino group represents a heterocyclic group specifically described later as a substituent on the substituent A. The above aralkyl group, aralkyloxy group, aralkylthio group and aralkylamino group are the aralkyl groups of the aralkyloxycarbonyl group and the aralkyloxycarbonylamino group, and the other alkyl group is another alkyl group. may be substituted by C 6 ~ 10 § Lil group, concrete the base Nzuhi Dorinore, Benzuhi Dorinoreokishi, Benzuhi Dorinorechio, Benzuhi Dorirua Mi Bruno, Benzuhi drill O propoxycarbonyl Nino les, Benzuhi drill O butoxycarbonyl And amino. These substituents are the same
OMPI
または異なって 2個以上存在していてもよい。 置換された炭化水素残基 でより好ましいものは水酸基, シクロアルキル基, アルコキシ基, アル キルチオ基, アミノ基, ハロゲン原子, カルボキシ基, アルコキシカル ボニル基, 力ルバモイル基, シァノ基, アジド基などで置換された d ~3 アルキル基であり、 それらを具体的にあげると、 シクロプロピルメチル, メ トキシメチノレ, エトキシメチノレ, 1ーメ トキシェチ^ 1 —ェトキシェチノレ ,OMPI Alternatively, two or more different groups may be present. More preferred of the substituted hydrocarbon residues are a hydroxyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an amino group, a halogen atom, a carboxy group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, a cyano group, an azide group, and the like. A substituted d to 3 alkyl group, which is specifically exemplified by cyclopropylmethyl, methoxymethinole, ethoxymethinole, 1-methoxetin ^ 1 -ethoxyquininole,
2 —ヒ ドロキシェチノレ, メチノレチオメチノレ, 2—ア ミノエチノレ,フロォロメ チノレ, ジフノレオロメチノレ, ト リ フロォロメチノレ, 2—フロォロェチノレ, 2 , 22—Hydroxishechnole, Mechinolethiomechinore, 2-Aminoethinole, Florome chinole, Difnoleolomechinore, Tri-Floromethinolle, 2-Floorochechinore, 2, 2
—ジフノレオロェチノレ, 2 S 2 , 2 — ト リ フノレオロェチル, クロロメチノレ, 2 —クロロェチノレ, 2 , 2—ジク ロ ロェチノレ, 2 , 2 , 2— ト リ クロ ロ ェ チノレ, 2—ブ'口モェチノレ, 2—ョー ドエチノレ, カノレボキシェチノレ, 2— カノレボキシェチノレ, 3 —力ノレボキシプロピノレ, シァノ メ チノレ, 1 一力ノレ ボキシ一 1 —メ チノレエチノレ, メ トキシカノレポ'ニノレメチノレ, エ トキシカノレ ボニノレメチノレ, t e r t —ブトキシカノレボニノレメ チノレ, 1—メ トキシカノレ ボニノレ一 1 —メチノレエチノレ, 1 一エ トキシカルボ二ノレ一 1 —メチノレエチ ノレ, 1— t e r t—ブトキシカノレボニノレー 1 ーメチノレエチノレ, 1—ベンジ ノレォキシカノレポ、ニノレー 1 —メチノレエチノレ, 1 一ピノ ロイノレォキシカノレボ ニノレー 1 —メチノレエチノレ, カノレバ'モイ ノレメチノレ, 2 —アジ ドエチノレなど のほか多くのものがあげられる。 具体的にあげた炭化水素残基のうち最 も好ましいものはメチル, ェチル, n—プロ ピルなどの直鎖状の(^ 3 アルキル基および 2—フルォロェチル, 2—クロ πェチノレ, 力ノレボキシ メ チ^, t e r t —ブトキシカノレボニノレメチノレ, 1 一力ノレボキシ一 1—メ チノレエチル, 1 一 t e r t―ブトキシカノレボニノレー 1一メチノレエチノレなど のハロゲン, カルボキシ, アルコキシカルボニルで置換された直鎖状の アルキル基でありこれらを R3基として有する本発明の化^ ¾〔[ ] —Diphnoleolochinole, 2 S 2, 2 — Triphenyloleoletyl, Chloromethinole, 2 —Chlorochinole, 2,2-Dichloronetino, 2,2,2—Trichlorechinole, 2-B ′ mouth Moetinole, 2-yo Doetinore, Canolebokshechinore, 2-Canolebokshechinore, 3—Kinoreboxypropinole, Cyanome Chinore, 1-strength sticky boxy 1 1—Mechinoreetchinoret, Methoxycanolepo ' Ninolemethinole, ethoxycanole Boninolemethinole, tert—Butoxycanoleboninolemechinole, 1-Methoxycanole Boninole-1—Methinolechinole, 1-Ethoxycarboninole 1—Methinooletinole, 1-tert-butylinolenate Echinore, 1—Benzi Norexica Norepo, Ninolay 1—Methinole Echinore, 1 Ippino Leinole Kishikanorebo Ninore 1 - Mechinoreechinore, Kanoreba 'Moi Noremechinore, 2 - include those and many others, such as horse mackerel Doechinore. Among the above-listed hydrocarbon residues, the most preferred are straight-chain (^ 3 alkyl groups such as methyl, ethyl, n-propyl and the like, 2-fluoroethyl, 2-chloropi-ethynole, and phenolic methoxy). ^, Tert-Butoxycanoleboninolemethinole, 1-hydroxynorreboxyl, 1-methynoleethyl, 1-tert-butoxycanoleboninole, 1-methinolethynole, etc., straight-chain alkyl substituted with halogen, carboxy, alkoxycarbonyl Group of the present invention having these groups as R 3 groups
ΟΜΡΙ
はいずれも抗菌活性が強く、 特に耐性菌に対して優れた殺菌作用をもつ また本明細書において OR3 基はすべてシン配位( Z配位)である。 上記セフユム化合物〔I〕において置換基 R4は水素原子またはメ トキ シ基を表わす。 ΟΜΡΙ All have strong antibacterial activity, and particularly have an excellent bactericidal action against resistant bacteria. In this specification, all OR 3 groups are in a syn-coordinate (Z-coordinate). In the above cefume compound [I], the substituent R 4 represents a hydrogen atom or a methoxy group.
上記セフヱム化合物〔I〕において置換基 Aは置換されていてもよい 4 , 5—位で縮合環を形成するチァゾ—ルー 3—ィル基を表わす。 ここで縮 合環はチァゾール環と脂環, ベンゼン環または 5〜 6員芳香族複素環が 縮合した形のものを意味し、 なかでも脂環と縮合したものがより好まし い。 該縮合環はさらに別の脂環, ベンゼン環または 5〜 6員芳香族複素 環と縮合していてもよい。 また置換基 Aに付記した④は置換基 Aが 1価 の陽電荷を持つことを示す。 脂環と縮合したチアゾールー 3—ィル基は —般式 Substituent A in the above-mentioned septum compound [I] represents a thiazole-3-yl group which may form a condensed ring at the 4,5-position which may be substituted. Here, the condensed ring means a form in which a thiazole ring and an alicyclic ring, a benzene ring or a 5- or 6-membered aromatic heterocyclic ring are condensed, and among them, a condensed ring with an alicyclic ring is more preferable. The condensed ring may be further condensed with another alicyclic ring, benzene ring or 5- or 6-membered aromatic heterocyclic ring. Further, ④ added to the substituent A indicates that the substituent A has a monovalent positive charge. Thiazole-3-yl group condensed with an alicyclic ring is
© ©
— N S — N S
、, 〔 〕 ,, []
fCH2)m fCH 2 ) m
で書き表わされ、 式中の mは 2〜6 , 好ましくは 3〜5である。 上記し たように k の脂環部分はさらに別の脂環, ベンゼン環または 5〜6員 芳香族複素環と縮合していてもよい。 ベンゼン環と縮合したチアゾール 一 3—ィル基は一般式 Where m is 2-6, preferably 3-5. As described above, the alicyclic moiety of k may be further condensed with another alicyclic ring, a benzene ring or a 5- or 6-membered aromatic heterocyclic ring. A thiazole 1-3-yl group fused to a benzene ring has the general formula
で書き表わされる。 上記したように Aゥのベンゼン環部分はさらに別の
脂環, ベンゼン環または5〜6員芳香族複素環と縮合していてもよい。 Is represented by As mentioned above, the benzene ring of A ゥ Alicyclic, it may be condensed with a benzene ring or a 5-6-membered aromatic heterocyclic ring.
5〜 6員芳香族複素環はへテロ原子として窒素原子, 酸素原子および/ または硫黄原子を有する 5〜 6員芳香族複素環を意味する。 したがって 5〜 6員芳香族複素環と縮合したチ了ゾールー 3—ィル基は一般式 The 5- to 6-membered aromatic heterocycle means a 5- to 6-membered aromatic heterocycle having a nitrogen atom, an oxygen atom and / or a sulfur atom as a hetero atom. Therefore, the thiol-3-yl group condensed with a 5- or 6- membered aromatic heterocyclic ring has the general formula
@ @
-N S -N S
==i C A3 J == i CA 3 J
-、' B で書き表わされる。 式中の Bは 3〜"固の炭素原子, 窒素原子, 酸素原 子および/または硫黄原子からなり、 このうち炭素原子は 1個の水素原 子と結合するかまたは隣接する炭素原子とともに別の縮合環を形成する A3 中の Bを形成する 5〜 6員芳香族複素環としては具体的にはたとえ ばピリ ジン, ピリ ダジン, ヒ。リ ミ ジン, ピぺラジン, 1 , 2 , 3 — ト リ ァジン, 1 , 2 , 4一 ト リ ァジン, フラン, チォフ ェ ン, ォキサゾーノレ, チアゾ、一ノレ, イ ソキサゾ一ノレ, イ ソチアゾ一ノレ, ピロ一ノレ, ピラゾ '一ノレ, ィ ミダゾールなどがあげられる。 AP A2または A3で表わされる置換基 A上の水素原子は 1個ないし 2個以上の同一または異なる置換基で置換 されていてもよい。 置換基 A上に置換基のある場合、 その置換基の個数 は 1〜 3がより好ましい。 そのような置換基 A上の置換基としてはたと えば水酸基, C p^ ヒドロキシアルキル基, (: 6 アルキル基, C2~6 アルケニル基, c2~6 アルキニル基, c4〜6 アルカジエニル基, c3~6 シクロアルキル基, c3~6 シクロアルケニル基, c3~6 シクロアルキル 一 アルキル基, C6〜10ァ リ ール基, C7〜12ァラルキル基, 複素環 基, アルコキシ基, アルコキシ一 Ci〜4 アルキル基, C3〜6 シク ロアルキルォキシ基, c6~10ァ リールォキシ基, C7~12ァラルキル -, 'B B in the formula consists of 3 to "solid carbon atoms, nitrogen atoms, oxygen atoms and / or sulfur atoms, of which the carbon atoms are bonded to one hydrogen atom or are combined with adjacent carbon atoms by another atom. for example Specifically as 5-6 membered aromatic heterocyclic ring to form a B in a 3 to form a fused ring pyridinium Jin, pyridinium Dajin arsenide. Li Mi Jin, piperidines Rajin, 1, 2, 3 — Triazines, 1, 2, and 41 triazines, furans, thiophenes, oxazonoles, thiazos, monozores, isoxazonozoles, isothiazonozoles, pyromonozores, pyrazo'ichinoles, imidazoles, etc. and the like. a P a on the substituent a represented by 2 or a 3 hydrogen atoms of one or two or more identical or different substituents may be substituted. substituted on the substituent a In some cases, the number of substituents is more preferably 1-3. . Arbitrary Hatato example, if a hydroxyl group as a substituent on such substituents A, C p ^ hydroxyalkyl group, (6 alkyl group, C 2 ~ 6 alkenyl group, c 2 ~ 6 alkynyl group, c 4 ~ 6 alkadienyl group, c 3 ~ 6 cycloalkyl group, c 3 ~ 6 cycloalkenyl group, c 3 ~ 6 cycloalkyl primary alkyl group, C 6 ~ 10 § Li Lumpur group, C 7 ~ 12 Ararukiru group, a heterocyclic group, an alkoxy group, alkoxy one Ci~ 4 alkyl group, C 3 ~ 6 consequent Roarukiruokishi group, c 6 ~ 10 § Riruokishi group, C 7 ~ 12 Ararukiru
ΟΜΡΙ
ォキシ基, メルカプト基, ( ^4 メルカプトアルキル基,スルホ基,(^~4 スルホアルキル基, アルキルチオ基, (^〜6 アルキルチオ- (^ 4 アルキル基, C3~6 シクロアルキルチオ基, C6〜10ァ リ ールチオ基, C ΟΜΡΙ Okishi group, a mercapto group, (^ 4 mercaptoalkyl group, a sulfo group, (^ 1-4 sulfoalkyl group, an alkylthio group, (^ 1-6 alkylthio - (^ 4 alkyl group, C 3 - 6 cycloalkylthio group, C 6 ~ 10 arylthio group, C
7〜12 ァラルキルチオ基, アミノ基, ア ミ ノアルキル基, モノ C 7-12 Ararukiruchio group, an amino group, A Mi Noarukiru group, mono C
アルキルアミノ基, ジ(^〜 アルキルアミノ基, モノ(^〜4 アルキ ルァ ミ ノ — アルキル基, ジ(^ 4 アルキルァ ミ ノ —(^ 4 アルキ ル基, c3〜6 シクロアルキルアミノ基' c6~10ァリールアミノ基, c7〜12 ァラルキルアミノ基, 環状アミノ基, 環状ァミノ一( ^4 アルキル基, 環状ァミノ一 C i アルキルアミノ基, アジド基, ニ ト ロ基, ハロゲン 原子, C ^^ ハロゲノアルキル基, シァノ基, シァノー(^ ~4 アルキル 基, カルボキシ基, カルボキシー d~4 アルキル基, ^ s アルコキシ 一カルボニル基, d^8 アルコキシ一カルボ二ルー Ci~4 アルキル基, Alkylamino group, di (^ - alkylamino group, mono (^ 1-4 alkyl Rua Mi Bruno - alkyl group, a di (^ 4 Arukirua Mi Bruno - (^ 4 alkyl le group, c 3 ~ 6 cycloalkylamino group 'c 6-10 Ariruamino group, c 7 ~ 12 Ararukiruamino group, cyclic amino group, cyclic amino i (^ 4 alkyl, cyclic amino one C i alkylamino group, azido group, two collected by filtration group, a halogen atom, C ^^ halogeno alkyl group, Shiano group, Shiano (^ 1-4 alkyl group, a carboxy group, Karubokishi d-4 alkyl group, ^ s alkoxy one carbonyl group, d ^ 8 alkoxy one carbonylation Lu Ci-4 alkyl group,
C6~ioァ リ ールォキシ—カルボニル基, C3~6 シクロアルキルォキシ一 カルボニル基, c7〜12ァラルキルォキシ—カルボニル基, c6〜10ァ リ ー ルーァシル基, d~5 アルカノ ィ ル基, C2~5 アルカノ ィル—。^4 ァ ルキル基, c3〜5 アルケノ ィル基, c6〜10ァリ一ルーァシルォキシ基,C 6 ~ io § Li Ruokishi - carbonyl group, C 3 ~ 6 cycloalkyl O carboxymethyl one carbonyl group, c 7 ~ 12 Ararukiruokishi - carbonyl group, c 6 ~ 10 § rie Ruashiru group, d ~ 5 alkanol I group, C 2 ~ 5 alkanol I Lumpur -. ^ 4 § alkyl group, c 3 ~ 5 alkeno I le group, c 6 ~ 10 § Li one Ruashiruokishi group,
C2~5 アル力ノ ィルォキシ基, C2〜5 アルカノ ィルォキシ—(^ 4 アル キル基, C3〜5 アルケノ ィルォキシ基, カルパモイル基, カルパモイル 一 Ci アルキル基, 置換力ルバモイル基, チォカルバモイル基, 置換 チォカルバモイル基, 力ルバモイルォキシ基,力ルバモイルォキシー ^〜^! アルキル基, 置換カルパモイルォキシ基,フタルイ ミ ド基, c2〜5 アル力 ノ ィルア ミ ド基, C s t。ァ リ一ルーァシルァミ ド基, スルホンァ ミ ド基, カルボキシァ ミ ノ基, d~4 アルコキシ一カルボニルァミ ノ基, c6~1() ァ リ一ルォキシーカルボニルァ ミ ノ基, c7~12ァラルキルォキシ一カル ボニルァミノ基などがあげられる。 具体的には d~4 ヒ ドロキシて C 2 ~ 5 Al force Roh Iruokishi group, C 2 ~ 5 alkanol Iruokishi - (^ 4 Al kill group, C 3 ~ 5 alkeno Iruokishi group, Karupamoiru group, Karupamoiru one Ci alkyl group, a substituted force Rubamoiru group, Chiokarubamoiru group, replacement Chiokarubamoiru group, force Rubamoiruokishi group, force Luba Moyle O Kishi ^ ~ ^! alkyl group, a substituted Kalpa Moyle O carboxymethyl group, Futarui Mi de group, c 2 ~ 5 Al force Roh Irua Mi-de-based, C st. § Li one Ruashiruami de group, Suruhona Mi de group, Karubokishia Mi amino group, d ~ 4 alkoxy one Karuboniruami amino group, c 6 ~ 1 () § Li one Ruo Kishi carbonyl § Mi amino group, c 7 ~ 12 Ararukiruokishi one local Boniruamino group For example, d ~ 4 hydroxy
O PI O PI
、 AT\0
ル基はヒ ドロキシメチル, 2 —ヒ ドロキシェチルなどを, (^«^ アルキ ノレ基はメチル, ェチル, n—プロ ピノレ, イ ソプロ ピノレ, n—ブチノレ, ィ ゾフ'、チノレ, s e c—プ'チノレ, t e r t —フ、 'チノレ, n—ペンチノレ, n—へキシ ルなどを、 C2〜6 アルケニル基はビニル, ァリル, イ ソプロぺニル, メ タ リノレ, 1, 1ージメ チノレア リ ノレ, 1 ーブテニル, 2—ブテニノレ, 3— ブテニルなどを、 C2~6 アルキニル基はェチニル, 1一プロ ピニル, 2 一プロピエル, プロパギルなどを、 C4~6 アルカジエ二ル基は 1 , 3— ブタ ジェニルなどを、 C。~6 シク ロアルキル基はシクロプロ ピル, シク ロブチノレ, シクロペンチノレ, シクロへキシノレなどを、 C3~6 シクロアノレ ケニノレ基は 1—シクロペンテ二ノレ, 2—シク ロペンテ二ノレ, 3—シクロ ペンテ二ノレ, 1ーシクロへキセニノレ, 2—シクロへキセニノレ, 3—シクロへキセ 二ノレ, 1 , 4一シク'口へキサジェニルなどを、 C。〜6シクロアルキル—。1〜6ァ ルキル まシクロペンチルメチル,シクロへキシルメチルなどを、 C 6 ~ 1()ァリ, AT \ 0 The radicals include hydroxymethyl, 2-hydroxyhexyl, etc. (^ «^ alkynole groups are methyl, ethyl, n-propynole, isopropynole, n-butynole, izof ', chinole, sec-butylinole, tert - off, 'Chinore, n- Penchinore, and carboxymethyl Le to n-, C 2 ~ 6 alkenyl groups vinyl, Ariru, Lee Sopuro Bae alkenyl, meta Rinore, 1, 1 Jime Chinorea Li Honoré, 1 Buteniru, 2- Buteninore, 3-butenyl and the like, C 2 ~ 6 alkynyl group Echiniru, 1 one pro pinyl, 2 one Puropieru, propargyl and the like, the C 4 ~ 6 Arukajie alkenyl group 1, 3 pigs Jeniru the like, C. ~ 6 a cycloalkyl group Shikuropuro pills, sik Robuchinore, cyclopentyl Honoré, Kishinore and cyclohexane, C 3 ~ 6 Shikuroanore Keninore group 1- cyclopent two Honoré, 2- consequent L-penteninole, 3-cyclopenteninole, 1-cyclohexeninole, 2-cyclohexeninole, 3-cyclohexeninole, 1,4-cyclohexene hexagenyl, etc., C.- 6 cycloalkyl-. 1-6 § alkyl or cyclopentylmethyl, cyclohexylmethyl and the like cyclohexane, C 6 ~ 1 () § Li
-ル基はフヱニル, ナフチルなどを、 c 7~ 12ァ ラルキル基はベ ンジル, フヱネチルなどを、 複素環基は 2—ピリ ジル, 3―ピリ ジル, 4一ピリ ジル, N—ォキシ ドー 2—ピリ ジル, N一ォキシ ドー 3—ピリ ジル, N 一ォキシドー 4 ーピリ ジル, 2一ピぺリ ジニル, 3 -ピぺ リ ジ二ノレ, 一ピぺリ ジニノレ, ピペラ ジニノレ, 2—ピラ ジニノレ, 2 —ピリ ミ ジニノレ, 4一ピリ ミ ジニノレ, 5—ピリ ミ ジニル, 3—ピリダジニノレ, 4一ピリダ ジニノレ, 2—ピラエル, 3 —ピラニル, 4一ピラニノレ, 2—チォピラニ ル, 3—チォピラニル, 4—チォピラニル, 3 H一イ ン ドーノレ一 2 ーィ ル, 3 H—イ ン ドールー 3 —ィ ノレ, 1 , 2 , 3—チアジアゾ一ルー 4— ィノレ, 1, 2 , 4—チアジアゾール一 5—ィル, 1 , 2 , 4—チアジア ゾーノレ一 3—ィ ノレ, 1 , 2 , 4—チアジアゾ一ノレ一 5—ィ ノレ, 1 , 3 , 4—チアジアゾリノレ, 1 , 2 , 5—チアジアゾリノレ, 1 , 2 , 3—ト リ
ァゾリノレ, 1 , 2 , 4一ト リ ァゾリル, 1 Hーテ トラゾリ ノレ, ぺンゾピ ラニノレ, 2—フ リノレ, 3—フニノレ, 2—チェ二ノレ, 3—チェ二ノレ, 2― ォキサゾリ ノレ, 4ーォキサゾリ ル, 5—ォキサゾリ ル, 2—チアゾリ ル, 4一チアゾリノレ, 5—チアゾリノレ, 3—イ ソキサゾリノレ, 4一イソキサゾ リ ル, 5—イ ソキサゾリ ノレ, 3 —イ ソチアゾリ ノレ, 4一イ ソチアゾリ ノレ, 5—ィ ゾチアゾリル, 2—ピロ リノレ, 3—ピロ リノレ, 2—ピロ リ ジニル, 3—ピロリ ジニル, 2—イ ミダゾリノレ, 4—イ ミダゾリ ル, 5—イ ミダ ゾリノレ, 3—ビラゾリル, 4一ビラゾリル, 5—ビラゾリルなどの窒素 原子(ォキシ ド化されていてもよい), 酸素原子, 硫黄原子などのへテ π原子を 1〜数個含む 5〜 8員環またはその縮合環で炭素原子に結合手 を有するものを、 d~6 アルコキシ基はメ トキシ, エ トキシ, n—プロ ポキシ, イ ソプロボキシ, n—ブトキシ, t e r t—ブトキシなどを、 C i~6アルコキシ一 C i アルキル基はメ トキシメチル, エ トキシメチル, - Le group Fuweniru, naphthyl and the like, c 7 ~ 12 § aralkyl group Baie Njiru, Fuwenechiru the like, heterocyclic group pyridylmethyl, 3-pyridyl, 4 one pyridyl, N- Okishi dough 2- Pyridyl, N-oxydoxy 3-pyridyl, N-oxydoxy 4-pyridyl, 2-pyridinyl, 3-pyridinole, one-piridininole, pipera-gininole, 2-pyrazininole, 2 —Pyrimidininole, 4-pyrimidininole, 5-pyrimidininyl, 3-pyridazinole, 4-pyridininole, 2-pyramel, 3-pyranyl, 4-pyraninole, 2-thiopyranil, 3-thiopyranyl, 4-thiopyranil , 3 H-indolone 2-yl, 3 H-indole 3 -inole, 1,2,3-thiadiazole 4-inole, 1,2,4-thiadiazole-5-yl, 1, 2, 4—Chia Asia Zone 3-I Honoré, 1, 2, 4-thiadiazole one Norre one 5- I Honoré, 1, 3, 4 Chiajiazorinore, 1, 2, 5-Chiajiazorinore, 1, 2, 3 Application Benefits 1,3,4,1-triazolyl, 1H-tetrazolinole, Ponzopiraninore, 2-furinore, 3-funinole, 2-cheinore, 3-cheninore, 2-oxinolinore, 4 4-oxazolyl, 5-oxazolyl, 2-thiazolyl, 4-thiazolinole, 5-thiazolinole, 3-isoxazolinole, 4-isoxazolyl, 5-isoxazolinole, 3-isothiazolinole, 4-isothiazolinole, 4-isothiazolinole, 5-Izothiazolyl, 2-pyrrolinole, 3-pyrrolinole, 2-pyrrolidinyl, 3-pyrrolidinyl, 2-imidazolinole, 4-imidazolyl, 5-imidazolinole, 3-virazolyl, 4-birazolyl 5- to 8-membered ring containing 1 to several π-atoms such as nitrogen atom (optionally oxidized), oxygen atom, sulfur atom, etc. Those having a bond to a carbon atom, d ~ 6 alkoxy groups main butoxy, et butoxy, n- pro epoxy, Lee Sopurobokishi, n- butoxy, tert- butoxy and the like, C i ~ 6 alkoxy one C i alkyl group Is methoxymethyl, ethoxymethyl,
2—メ トキシェチルなどを、 C 3〜6 シクロアルキルォキシ基はシクロプロ ピルォキシ, シクロへキシルォキシなどを、 C 6~1(3ァ リ ールォキシ基は フエノキシ, ナフチルォキシなどを、 C7~12ァラルキルォキシ基はベン ジノレオキシ, 1一フエニノレエチノレオキシ, 2 —フエニノレエチノレオキシな どを、 d~4 メルカプトアルキル基はメルカプトメチル, 2—メルカプ トェチルなどを、 d~4 スルホアノレキル基はスルホメチノレ, 2 —スルホ ェチルなどを、 C^ S アルキルチオ基はメチルチオ, ェチルチオ, n— プロ ピルチオ, イ ソプロ ピルチオ, n—ブチルチオなどを、 〜" アル キルチオ一(^〜 アルキル基はメ チルチオメ チル, 2 —メチルチオェチ ルなどを、 C 3〜6 シクロアルキルチオ基はシクロプロ ピルチオ, シクロ へキシルチオなどを、 C 6〜10ァリールチオ基はフエ二ルチオなどを、 C 7~12 ァラルキルチオ基はべンジルチオなどを、 (^〜 ア ミ ノ アルキル 2 main Tokishechiru etc., C 3 ~ 6 cycloalkyl O alkoxy group Shikuropuro Piruokishi, Kishiruokishi and cyclohexane, C 6 ~ 1 (3 § re Ruokishi groups phenoxy, Nafuchiruokishi etc., C 7 ~ 12 Ararukiruokishi group Benzinoleoxy, 1-phenylenoletinoxy, 2-phenynoleethynoleoxy, etc., d- 4 mercaptoalkyl groups include mercaptomethyl, 2-mercaptoethyl, and d- 4 sulfoanorekil groups are sulfometinole, 2-sulfo Alkylthio group, methylthio, ethylthio, n-propylthio, isopropylthio, n-butylthio, etc., ~ "alkylthio mono (^ ~ alkyl group is methylthiomethyl, 2-methylthioethyl, etc.) , carboxymethyl C 3 ~ 6 cycloalkylthio groups Shikuropuro Piruchio, cyclohexylene Thio and the like, a C 6 ~ 10 Ariruchio groups such as phenylene Lucio, such as C 7 ~ 12 Ararukiruchio group base Njiruchio, (^ ~ A Mi-alkyl
! O PI― ヽ
基はアミ ノメチル, 2—アミ ノエチルなどを、 モノ アルキルアミ ノ基はメチルァミ ノ, ェチルァミ ノ, n—プロ ピルァミ ノ, n—ブチル ァミ ノなどを、 ジ (: 〜 アルキルアミ ノ基はジメチルァミ ノ, ジェチル ァミ ノ, メチルェチノレアミ ノ, ジ一( n—プロピノレ )ァ ミ ノ, ジー ( n —プチル) ァ ミノなどを、 モノ (^〜 アルキルアミ ノ ー(^ 4 アルキル 基はメチルアミ ノ メチル, ェチルアミ ノメチル, 2—( N—メ チルア ミ ノ )ェチル, 3—( N—メ チルァミ ノ ) プロ ピルなどを、 ジ(^〜4 アル キルアミ ノー アルキル基は N, Nージメチルアミ ノ メチル, N , N—ジェチルア ミノ メチル, 2— ( N, N—ジメチルァ ミ ノ ) ェチル , 2—( N,. Nージェチルァミ ノ ) ェチル, 3—( N, N—ジメチルア ミ ノ ) プロピルなどを、 C3~6 シクロアルキルァ ミ ノ基はシク 口プロ ピル 了ミノ,シクロへキ i ルァミノなどを、 (:6〜10ァリ一ルァミノ基はァニリ ノ, N—メチルァニリソなどを、 C7'〜12ァラルキルァ ミノ基はべンジル ァ ミ ノ , 1 —フ エニノレエチノレア ミ ノ , 2 —フ ヱニルェチノレアミノなどを、 環状ァ ミノ基はピロ リ ジノ, ピぺリ ジノ, ピペラ ジノ, モルホ リ ノ, 1 —ピロ リルなどを、 環状ァミ ノ d~4 アルキル基はピロ リ ジノ メチル , ピぺリ ジノ メ チル, ピぺラ ジノ メチル, モルホ ϋノメチノレ, 2 - ( モノレ ホ リノ ) ェチルなどを、 環状ァ ミノ一d アルキルァ ミノ基はピロ リ ジノ メチルァミ ノ, ピペリ ジノ メチルァミ ノ, ピペラ ジノメチルァ ミノ, モルホリ ノメ チルァミ ノなどを、 ハロゲン原子はフッ素, 塩素, 臭素な どを、 (^〜4 ノヽロゲノアルキル基はモノ フルォロメチル, ジフルォロメ チノレ, ト リ フノレオロ メ チノレ, 1 ーフノレオロ ェチノレ, 2 —フノレオ ロェチノレ, モノ クロロメチノレ, ジクロロメチノレ, ト リ ク ロロメチノレ, 1一ク ロロェ チノレ, 2—ク ロ ロェチル, ブロモメチノレ, ョ一 ドメチノレなどを、 シァノ —C1〜4 アルキル基はシァノ メチル, 2—シァノエチルな
キシー C i〜4 アルキル基はカルボキシメチル, 1 一力ルポキシェチル , 2—カルボキシェチルなどを、 (^ 8 アルコキシ一カルボニル基はメ ト キシカノレポ'二ノレ, エ トキシカノレボニノレ, n—プロポキシカノレポ二ノレ, ィ ソプ oポキシ力ノレボニ^ , n—ブトキシカノレボニノレ, t e r t—ブトキシ カルボニル, イ ソボルニルォキシカルボニルなどを、 (^〜8 アルコキシ —カルボ二ルー d ~4 アルキル基はメ トキシカルボニルメチル, ェ トキ シカルボ二ルメチノレ, t e r t —ブトキシカルボニルメチルなどを、 C6〜10 ァリ ールォキシーカルボ二ル基はフヱノキシカルボニルなどを、 C3〜6 シクロアノレキノレオキシ一力ニボニノレ基はシク 口プロ ピノレオキシカノレボニ ノレ, シクロへキシルォキシカルボニルなどを、 C7〜12ァラルキルォキシ 一カルボニル基はべンジルォキシカルボニルなどを、 C6~10ァ リ一ルー ァシル基はべンゾィ ル, フタ ロ イ ノレ, フエニルァセチルなどを、 ! O PI― ヽ Groups are aminomethyl, 2-aminoethyl, etc., monoalkylamino groups are methylamino, ethylamino, n-propylamino, n-butylamino, etc., and di (: alkylamino groups are dimethylamino, getylamino). Amino, methylethinoreamino, di- (n-propynole) amino, g- (n-butyl) amino, etc., and mono (^ to alkylamino (^ 4 alkyl groups are methylaminomethyl, ethylamino) Nomechiru, 2-(N-menu Chirua Mi Roh) Echiru, and 3- (N- main Chiruami Roh) propyl, di (^ 1-4 aralkyl Kiruami no alkyl group is N, N Jimechiruami Roh methyl, N, N- Jethylaminomethyl, 2- (N, N-dimethylamino) ethyl, 2- (N, .N-dimethylamino) ethyl, 3- (N, N-dimethylamino) pro Le etc., C 3 ~ 6 cycloalkyl § Mi amino group is consequent opening propyl completion Mino, and key i Ruamino cyclohexane, (: 6-10 § Li one Ruamino group Aniri Bruno, N- Mechiruaniriso the like, C 7 '~ 12 Ararukirua amino group base Njiru § Mi Bruno, 1 - off Eni Honoré ethyl Bruno rare Mi Bruno, 2 - and full We sulfonyl E Chino les amino, cyclic § amino group pyro Li Gino, Piperi Gino , Piperazino, morpholino, 1-pyrrolyl and the like, and cyclic amino d- 4 alkyl groups are pyrrolidinomethyl, pyridinomethyl, piperazinomethyl, morpholinometinole, 2-( Monole holino) ethyl, etc., cyclic amino-d alkylamino group is pyrrolidino methylamino, piperidino methylamino, piperazinomethylamino, morpholinomemethylamino, etc., and halogen atom is Fluorine, chlorine, bromine, etc. (^ ~ 4 noperogenoalkyl groups are monofluoromethyl, difluoromethinole, trifnorolelomethinole, 1-phnolerotechnole, 2-phnolerotechnole, monochloromethinole, dichloromethinole, trichloromethyl, trichloromethinole, trichloromethylol click Roroe Chinore, 2-click b Roechiru, Buromomechinore, etc. ® one Domechinore, Shiano -C 1 ~ 4 alkyl groups Shiano methyl, 2-Shianoechiru Xy Ci-4 alkyl groups include carboxymethyl, 1-potoxyloxyethyl, 2-carboxyethyl, and the like; two Norre, i Sopu o epoxy force Noreboni ^, n-butoxide Shikano levo Nino les, tert- butoxy carbonyl, and the like Lee Seo bornyl o alkoxycarbonyl, (^ 1-8 alkoxy - carbonylation Lou d-4 alkyl group main butoxy carbonyl-methyl, E Toki Shikarubo two Rumechinore, tert - and butoxycarbonyl methyl, and C 6 ~ 10 § rie Ruo Kishi carboxymethyl sulfonyl group off We Roh alkoxycarbonyl, C 3 ~ 6 cycloalkyl Anore Kino Les oxy Ichiriki Niboninore groups consequent opening pro Pinot Les oxy Kano les Boni Honoré, hexyl O alkoxycarbonyl cyclohexane and the like, C 7 ~ 12 § La Rukiruokishi and one carbonyl group base Nji Ruo alkoxycarbonyl, C 6 ~ 10 § Li one Lou Ashiru group base Nzoi Le, lid B A Honoré, Fueniruasechiru the like,
ァノレカノイ ノレ基はホノレミ ノレ, ァセチノレ, プロ ピオ二ノレ, プ、チ リノレ, ノヾレ リル, ビバロイルなどを、 C2~5 アルカノ ィル一 アルキル基はァ セチルメチル, 1 ーァセチルェチル, 2—ァセチルェチルなどを、 C3~5 アルケノ ィル基はァク リ ロイル, クロ トノ ィノレ, マ レオイルなどを、 C 6〜10 ァ リ ール一ァシルォキシ基はベンゾィルォキシなどを、 C2〜5 ァ ルカノ イ ノレオキシ基はァセ ト キシ, プロ ピオニルォキシ, ブチ リル ォキシ, ビバロイルォキシなどを、 C2~5 アルカノ ィルォキシ一(^ 4 アルキル基はァセ トキシメチル, 1—ァセ トキシェチル, 2—ァセトキ シェチルなどを、 c3〜5 アルケノ ィルォキシ基はァク リ ロイルォキシな どを、 力ルバモイルー C1~4 アルキル基は力ルバモイルメチルなどを、 置換カルパモイル基は N—メチルカルバモイノレ, N, N—ジメチノレ力ノレ バモイ ノレ, N—ェチノレカノレバモイ ノレ, N , N—ジェチノレカノレノ モイ ノレ , N—フエ二ノレカノレパ 'モイノレ, ピペリ ジノ カノレボニノレ, ピペラジノ カノレボ Anorekanoi Norre group Honoremi Honoré, Asechinore, propionitrile two Honoré, flop, Ji Rinore, Nono Les Lil, pivaloyl and the like, C 2 ~ 5 alkanol I le primary alkyl groups § Sechirumechiru, 1 Asechiruechiru, 2 Asechiruechiru the like, C 3 ~ 5 alkeno i le groups § click Li Royle, black concert Inore, and Ma Reoiru, and C. 6 to 10 § Li Lumpur one Ashiruokishi group Benzoiruokishi, C 2 ~ 5 § Rukano Lee Noreokishi group § Seto carboxymethyl, pro Pioniruokishi, butyryl Okishi, Bibaroiruokishi the like, C 2 ~ 5 alkanol Iruokishi one (^ 4 alkyl groups § Se Tokishimechiru, 1 § Se Tokishechiru, 2 Asetoki Shechiru etc., c 3 ~ 5 alkeno Iruokishi groups of etc. § click re Roiruokishi force Rubamoiru C 1 ~ 4 alkyl groups force Rubamoirumechi And substituted carpamoyl groups include N-methylcarbamoinole, N, N-dimethynole, N-ethylamine, N-ethynolecanolebamoine, N, N-Jetinolecanolenomore Norekanorepa 'Moinore, Piperi Gino Canoleboninole, Piperazino Canolevo
O PI
二ノレ, モ^/ホリ ノカルボニルなどを、 カノレバモイノレォキシ一 C i ^! ァノレ キル基は力ルバモイルォキシメチルなどを、 置換チォカルバモイル基はO PI Quinolone, mo ^ / holinocarbonyl, etc., canolebamoinoleoxy-C i ^!
N—メチルチオ力ルバモイルなどを、 置換力ルバモイルォキシ基は N— メチルカルバモイノレォキシ, N, N一ジメチノレ力ルバモイノレォキシ, N ーェチルカルバモイルォキシなどを、 C2〜5 アルカノィルア ミ ド基はァ セ トアミ ド, プロピオンア ミ ドなどを、 C6~10ァ リ一ルーァシルァミ ド 基はべンズアミ ドなどを、 d~4 アルコキシ一力ルポニルァミノ基はメ トキシカノレポニノレア ミ ノ, エ トキシカノレポニノレア ミ ノ, t er t—ブトキ シカルボニルァ ミ ノなどを、 Cfi〜10ァ リールォキシ一カルボニルァミ ノ 基はフエノキシカルボニルァ ミ ノなどを、 C7〜12ァラルキルォキシ一力 ルポニルァミノ基はべンジルォキシカルボニルァミノなどを表わす。 ま た上記の C7〜12ァラルキル基, C7〜12ァラルキルォキシ基, C7〜12ァラ ルキルチオ基, C7~12ァラルキルアミノ基, C 7~12ァラルキルォキシ— カルボニル基および C7~12ァラルキルォキシ一カルボニルァミノ基など のァラルキル基を構成するアルキル基はもう 1個の C6~10ァリール基で 置換されていてもよく、 具体的にはべンズヒ ドリル, ベンズヒ ド リルォ キシ, ベンズヒ ドリノレチォ, ペンズ、ヒ ドリノレア ミ ノ, ベンスヒ ド リ ノレオ キシカルボニル, ベンズ、ヒ ドリルォキシ力ノレボニルァ ミ ノなど:^あげら れる。
:換基 Aのうち Atを具体的に式示するとたとえば And N- methylthio force Rubamoiru, substituted force Rubamoiruokishi group N- methyl carbamoylthiopheno Honoré O carboxymethyl, N, N one Jimechinore force Luba Moi Honoré O carboxymethyl, etc. N-E Ji carbamoyl O carboxymethyl, C 2 ~ 5 Arukanoirua Mi de group § Se Toami de, etc. Puropion'a Mi de, C 6 ~ and 10 § Li one Ruashiruami de group base Nzuami de, d ~ 4 alkoxy Ichiriki Ruponiruamino groups main Toki Shikano repo Nino rare Mi Bruno, et Toki Shikano repo Nino rare Mi Bruno, t er t-butoxy Shikarubonirua Mi Roh etc., C fi ~ 10 § Riruokishi one Karuboniruami Roh group and phenoxyethanol carbonyl § Mi Roh, C 7 ~ 12 Ararukiruokishi Ichiriki Ruponiruamino group Represents benzyloxycarbonylamino and the like. Or above C 7 ~ 12 Ararukiru group, C 7 ~ 12 Ararukiruokishi group, C 7 ~ 12 § la alkylthio group, C 7 ~ 12 Ararukiruamino group, C 7 ~ 12 Ararukiruokishi - carbonyl group and C 7 ~ 12 Ararukiruokishi one carbonyl alkyl group constituting the Ararukiru group such as amino groups may be substituted with one more C 6 ~ 10 Ariru group, specifically base Nzuhi drill, Benzuhi de Riruo alkoxy, Benzuhi Dorinorechio, Penn, human Dorinorea mino, benzhydrinoreoxycarbonyl, benz, and hydroxylaminolevino are also listed. : For example, when At in the substituent A is specifically expressed,
などである。 置換基 Αのうち Α2を具体的に式示するとたとえば And so on. The specific formula of Α 2 among the substituents た と え ば is, for example,
などである えば For example
などである。 これらの Ai , A2および A sのうち好ましい'ものは前記し And so on. Of these Ai, A2 and A s preferred 'ones is the
でめる ο Yeah
上記の式 A A^ Agおよび具体的にあげた基において置換基 A®の陽 電荷を便宜上チァゾール環の窒素原子にあてはめたが、 他に窒素原子を 含む場合はその窒素原子に陽電荷があてはめられることもある。 また 1 価の陽電荷がチアゾール環に非局在化している場合、 さらに A2,A3 に おいては縮合環全体に非局在化している場合もある。 したがってたとえ ば上記の '
In the above formula AA ^ Ag and the groups specifically mentioned, the positive charge of the substituent A® was applied to the nitrogen atom of the thiazole ring for convenience, but if it contains other nitrogen atoms, the positive charge is applied to the nitrogen atom. Sometimes. In some cases, the monovalent positive charge is delocalized in the thiazole ring, and in A 2 and A 3 , it is delocalized in the entire condensed ring. So, for example,
の場合、 それぞれ In the case of
などのようにも表わされる。 この陽電荷の存在位置は化合物!: I 〕の状 態 (: 固体か溶液中か:), 溶媒の種類 ·液性 ·温度, 置換基の種類などに よつて流動的に変化するので, 本発明は陽亀荷が窒素原子に局在化した 場合とチアゾ一ル環または縮合環全体に非局在化した場合のすべてを包 含するものとする。 It is also expressed as. The location of this positive charge is a compound! : I] because it changes fluidly depending on the state (: solid or in solution :), the type of solvent, liquidity, temperature, and the type of substituent. It includes all cases of localization and cases of delocalization throughout the thiazole or fused ring.
上記セフエム化合物〔 I 〕において πは 0または 1を示す。 また 4位 のカルボキシル置換基(—COO )に付記した Θは該カルポキシル基が力 ルポキシレ一卜ァニオンであって、 置換基 A上の陽電荷と一対になって 分子内塩を形成していることを示す。 一方、 化合物〔 I 〕は生理学的に 受容される塩もしくはエステルであってもよい。 生理学的に受容される In the Ceph compound [I], π represents 0 or 1. In addition, に added to the carboxyl substituent at the 4-position (—COO) indicates that the carboxyl group is a carboxylic acid anion, which forms a pair with the positive charge on the substituent A to form an inner salt. Is shown. On the other hand, the compound [I] may be a physiologically acceptable salt or ester. Physiologically acceptable
O PI
塩としては無機塩基塩, アンモニゥム塩, 有機塩基塩, 無機酸付加塩, 有機酸付加塩,塩基性ァミノ酸塩などがあげられる。 無機塩基塩を生成 させうる無機塩基としてはアル力リ金属(たとえばナ卜 リウム, 力 リウ ムなど:), アルカ リ土類金属(たとえばカルシウムなど:)などが、 有機 塩基塩を生成させうる有機塩基としてはたとえばプロ力イン , 2 —フエ ニルェチルベンジノレアミ ン , ジベンジルエチレンジア ミ ン , エタノール アミ ン , ジエタノールァ ミン , 卜 リス ヒ ドロキシメチルァ ミノメタン , ポ リ ヒ ドロキンアルキルア ミン , N —メチルグルコサミンなど力 無機 酸付加塩を生成させうる無機酸としてはたとえば塩酸, 臭化水素酸,硫 酸,硝酸, リン酸などが、 有機酸付加塩を生成させうる有機酸としては たとえば P— 卜 ルエンスルホン酸 , メタンスルホン酸,ギ酸, 卜 リ フル ォロ酢酸, マレイン酸などが、 ァミ ノ酸塩を生成させうるァミノ酸とし てはたとえばリジン , アルギニン , オル二チン , ヒスチジンなどがあげ られる。 化合物〔 I 〕 のエステル誘^は分子中に含まれるカルボキシ ル基をエステル化することにより生成されうるエステルを意味し、 合成 中曰体として利用できるエステルおよび代謝上不安定な無毒のエステル である。 合成中間体として利用できるエステルとしては c 1〜4アルキル エステル , C2〜4 アルケニルエステル, C3〜6シクロアルキルエステル,O PI Salts include inorganic base salts, ammonium salts, organic base salts, inorganic acid addition salts, organic acid addition salts, and basic amino salts. Inorganic bases that can form inorganic base salts include alkali metal (eg, sodium, potassium, etc.) and alkaline earth metals (eg, calcium, etc.), and organic bases that can form organic base salts. Bases include, for example, proforce, 2-phenylphenylbenzinoleamine, dibenzylethylenediamine, ethanolamine, diethanolamine, trishydroxymethylaminomethane, polyhydroxyquinamine, N —Inorganic acids that can form inorganic acid addition salts such as methylglucosamine are, for example, hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, etc., and organic acids that can form organic acid addition salts are, for example, P— Toluenesulfonic acid, methanesulfonic acid, formic acid, trifluoroacetic acid, maleic acid, etc. Made, for example lysine and Amino acids can not, arginine, Ol two Chin, and histidine. The ester derivative of compound [I] means an ester that can be produced by esterifying a carboxy group contained in the molecule, and is a nontoxic ester that can be used as a metabolically unstable ester during synthesis. . C 1 ~ 4 alkyl esters as available ester as a synthetic intermediate, C 2 ~ 4 alkenyl esters, C 3 ~ 6 cycloalkyl esters,
( 3〜6シクロアルキル一 C^ Aアルキルエステル , C 6〜10ァリ 一ルエス テル , C7〜12ァラルキルエステル, 置換シ リ ルエステルなどがあげられ、 これらはさらに置換されていてもよい。 (^〜4アルキルエステルを形成 するアルキルとしては具体的にはメチル , ェチル , n —プロピル , n― プチル , tert -ブチルなどを、 C2〜4アルケニルエステルを形成するァ ルケニルと しては具体的にはビニル , ァ リ ル, イ ソプロぺニルなどを、 Cs〜6シクロアルキルエステルを形成するシク口アルキルと しては具体 ( 3 to 6 cycloalkyl-C ^ A alkyl esters, C 6 to 10 aryl esters, C 7 to 12 aralkyl esters, substituted silyl esters, etc., which may be further substituted . (^ - 4-methyl-specifically as alkyl to form an alkyl ester, Echiru, n - propyl, n- heptyl, tert - butyl, etc., and a § alkenyl to form a C 2 - 4 alkenyl ester Specifically, vinyl, aryl, isopropenyl, and the like are specific examples of cycloalkyls that form Cs-6 cycloalkyl esters.
O PI
的にまシク 口プロピル, シクロブチル , シク口ペンチル , シク 口へキシ ルなどを、 C 3〜6シク 口アルキル一 C i〜4アルキルエステルを形成する アルキルと しては具体的にはシクロプロピルメチル , シク ロへキンルメ チルなどを、 c 6〜10ァリ一ルエステルを形成するァリ一ルとしては具体 的にはフエニルなどを、 C 7〜12ァラルキルエステルを形成するァラルキ ルとしては具体的にはべンジル, フエネチルなどを,置換シ リルエステ ルを形成する置換シ リ ルとしては具体的には 卜 J ' メチルン リ ル , t er t— ブチルジメチルシリルなどをそれぞれ表わす。 またァラルキルエステル を構成するアルキルはもう 1〜 2個の C 6〜1 ((ァ リ ールで置換されていて もよく、 具体的にはべンズヒ ド リ ルエステル , ト リ チルエステルなどが あげられる。 代謝上不安定な無毒のエステルとしてはぺニシリソ , セフ ァロスポリンの分野ですでに確立されているものが本発明においても便 宜に採用されうる。 こ'のような代謝上不安定な無毒のエステルとしては、 たとえば Ci〜5アルカノィ ルォキシメチルエステル , C i〜5アルカノィ ルォキシェチルエステル , アルコキシ—(^ 4アルキルエステル,O PI To or consequent opening, cyclobutyl, consequent opening pentyl, and alkoxy Le to consequent opening, C 3 to 6 consequent opening alkyl one C I~4 specifically, cyclopropylmethyl and the alkyl to form a alkyl ester specific the like Kinrume chill to consequent b, phenyl, etc. More specifically as § Li Ichiru forming a c 6 ~ 10 § Li one glycol ester, as Araruki Le to form a C 7 ~ 12 § Lal kill ester Specifically, they represent benzyl, phenethyl, etc., and specific examples of the substituted silyl that forms the substituted silyl ester are tri-J'methylnyl and tert-butyldimethylsilyl. The § Lal alkyl constituting Kill ester may be substituted by another 1-2 amino C 6 ~ 1 ((§ Li Lumpur, in particular base Nzuhi drill glycol ester, etc. Application Benefits Chiruesuteru is mentioned As metabolically unstable non-toxic esters, those already established in the fields of penicilliso and cephalosporin can be conveniently used in the present invention. Examples of the ester include Ci- 5 alkanoyloxymethyl ester, Ci- 5 alkanoyloxyshethyl ester, alkoxy — (^ 4 alkyl ester,
C l〜6アルキルチオ一 ア ルキルエステルなどがあげられ、 具体的 {ニまァセ ト キシメチノレエステル , 1 —ァセ 卜キシェチルエステノレ , 1一 ァセ 卜キシブチルエステル , 2—ァセ 卜キシェチルエステル , ビバロイ ルォキシメチルエステノレ , メ ト キシメチルエステル ,ェ 卜キシメチルェ ステル , イソプロポキシメチルエステル , 1 —メ 卜キシェチルェステル, 1 ーェ卜 キンェチルエステル , メ チルチオメ チルェステル ,ェチルチオ メチルエステルなどがあげられる。 本発明は上記エステル誘導体のほか に、 生体内において化合物〔 I 〕に変換される生理学的に受容しうる化 合物も包含する。 C L~6 alkylthio one such A alkyl ester are exemplified, specifically {Nima § Seto carboxymethyl methylate Honoré ester, 1 - § Se Bok key shell chill Este Honoré, 1 one § Se Bok carboxybutyl ester, 2- § Se Methoxyshester, vivalloyoxymethylester, methoxymethylester, ethoxymethylester, isopropoxymethylester, 1-methoxylester, 1-quinquinethylester, methylthiome Chilster, ethylthio methyl ester and the like. The present invention includes, in addition to the above ester derivatives, physiologically acceptable compounds which are converted into the compound [I] in vivo.
本発明の化合物〔 I 〕はスぺク 卜ルの広い抗菌活性を有し、 人および The compound [I] of the present invention has a broad spectrum antibacterial activity,
Ο ΡΙ
動物における病原性細菌により生ずる種々の疾病、 たとえば気道感染, 尿路感染の予防ならびに治療のために使用されうる。 化合物〔 I 〕の抗 菌スぺク 卜ルの特徴としてつぎのような点があげられる。 Ο ΡΙ It can be used for the prevention and treatment of various diseases caused by pathogenic bacteria in animals, such as respiratory tract infections and urinary tract infections. The characteristics of the antibacterial vector of the compound [I] are as follows.
( 1; 多種のグラム陰性菌に対して異常に高い活性を示す。 (1) Shows abnormally high activity against various gram-negative bacteria.
( 2; グラム陽性菌(たとえばスタフ イロコ ッカス ' ァウレウス , コ リ ネバクテリ ゥム · ジフテリアェなど〕 に対して高ぃ活 f生を有している。 (2) It has high activity against Gram-positive bacteria (for example, Staphylococcus aureus, Corynebacterium diphtheriae, etc.).
( 3; 通常のセファロスポリン系抗生物質による治療に感受性でないシ ュゥ ドモナス · エアルギノサに対して顕著な効果を示す。 (3; shows a significant effect on Pseudomonas aeruginosa, which is not susceptible to treatment with usual cephalosporin antibiotics.
( 4) 多くの^—ラクタマ一ゼ生産性グラム陰性菌(たとえばェシェ リ ヒア属, ェンテロパクター属,セラチア属, プロテウス属など) に対し ても高い活性を有している。 (4) It has high activity against many ^ -lactamase-producing Gram-negative bacteria (eg, Escherichia, Enterobacter, Serratia, Proteus).
特にシユウ ドモナス属微生物に対しては従来からァミ カ ン , ゲンタマ ィシンなどのァミノグ. ' Jコシ ド系抗生物質が用いられてきた力;、 化合物 〔 I 〕はこれらのァミノグリコシ ド類に匹敵する抗菌力を示すばかりで なく、 人および動物に対する毒 ί生がアミノグリコシ ド類よりも格段に低 いので、 大きな利点を持っている。 また化合物〔 I 〕は従来の第 3世代 セファロスポリン抗生物質よりも効果の持続時間が長いという特徴もあ わせもっている。 In particular, for amino acids belonging to the genus Pseudomonas, amino acids such as amican and gentamicin have been used in the past. 'J Cosid antibiotics have been used; compound [I] is comparable to these amino glycosides. In addition to exhibiting antibacterial activity, it has significant advantages because it has significantly lower toxicity to humans and animals than aminoglycosides. Compound [I] is also characterized by a longer duration of effect than conventional third-generation cephalosporin antibiotics.
本発明のセフエム化合物〔 I 〕 ,その塩またはエステルの製造法を以 下に詳しく述べる。 化合物〔 I 〕はそれ自体公知の (1)〜(4)にあげた 4通 りの方法で製造できる。 すなわち The method for producing the cefm compound [I] of the present invention, a salt or ester thereof will be described in detail below. Compound [I] can be produced by four methods known per se, (1) to (4). Ie
(1) —般式 (1) — General formula
OMPI
〔式中の記号は前記と同意義を示す Jで表わされる化合物またはその塩 もしくはエステルと—般式
〔I〕 OMPI [The symbols in the formula are the same as defined above, and the compound represented by J or a salt or ester thereof and a general formula [I]
\ OR3 \ OR 3
〔式中の記号は前記と同意義を示す〕で表わされる化合物またはその反 応性誘導体とを反応させるか, [The symbols in the formula are as defined above] or a reactive derivative thereof,
(2) 一般式 (2) General formula
〔式中, R5は水酸基, ァシルォキシ基, 力ルバモイ ルォキシ基, 置換 力ルバモイルォキシ基またはハロゲン原子を,その他の記号は前記と同 意義を示す〕で表わされる化合物またはその塩もしくはエステルと一般 式 A〔^は置換されていてもよい 4 , 5—位で縮合環を形成するチアゾ一 ルを示す〕で表わされる化合物またはその塩とを反応させる力 [Wherein, R 5 represents a hydroxyl group, an acyloxy group, a carbamoyloxy group, a substituted rubamoyloxy group or a halogen atom, and the other symbols have the same meanings as described above]; [^ Represents a thiazole that forms a condensed ring at the optionally substituted 4,5-position] or a salt thereof
(3) 一般式 (3) General formula
〔式中の記号は前記と同意義を示す〕で表わされる化合物またはその 塩もしくはエステルと一般式 R3' O H〔式中, R3'は置換されていても よい炭化水素残基を示す〕で表わされる化合物またはその反応性誘導体
とを反応させる力 または [The symbols in the formula have the same meanings as described above] or a salt or ester thereof and a general formula R 3 ′ OH [wherein, R 3 ′ represents an optionally substituted hydrocarbon residue] Or a reactive derivative thereof The force to react with or
(4) 一般式 (4) General formula
〔式中, Xはハロゲン原子を, その他の記号は前記と同意義を示す〕 で表わされる化合物またはその塩もしくはエステルと一般式 ^ cc ^s)[Wherein X is a halogen atom, and other symbols are as defined above] or a salt or ester thereof and a general formula ^ cc ^ s)
NH2〔式中, Hi は前記と同意義を示す〕で表わされる化合物とを反応 させる力 V したのち要すれば保護基の除去を行うことにより化合物〔I〕 を製造することができる。 製造法 (1)〜(4), 保護基除去法および化合物 〔 I 〕の精製法について順次説明を加える。 Compound [I] can be produced by applying a force V to react with a compound represented by NH 2 [wherein Hi has the same meaning as described above], and then removing the protecting group if necessary. The production methods (1) to (4), the method for removing the protecting group, and the method for purifying the compound [I] will be sequentially described.
製造法 (1 ) : ' Manufacturing method (1): '
本法は 7 -ァミノ化合物〔 Π 〕をカルボン酸〔 I 〕またはその反応性 誘導体でァシル化する方法である。 この方法においてカルボン酸〔 〕 は遊離のままあるいはその塩もしくは反応性誘導体が 7—ア ミノ化合物 〔 II 〕の 7位ァ ミノ基のァシル化剤として用いられる。 すなわち遊離酸 〔 I〕あるいは遊離酸〔 H 〕の無機塩, 有機塩, 酸ハライ ド, 酸アジ ド, 酸無水物, 混合酸無水物, 活性アミ ド, 活 エステル, 活性チォエステ In this method, the 7-amino compound [Π] is acylated with a carboxylic acid [I] or a reactive derivative thereof. In this method, the carboxylic acid [] is free or a salt or a reactive derivative thereof is used as an acylating agent for the 7- amino group of the 7- amino compound [II]. Inorganic salts, organic salts, acid halides, acid azides, acid anhydrides, mixed acid anhydrides, active amides, active esters, active thioesters of the free acid [I] or free acid [H].
OMPI OMPI
wipo
ルなどの反応性誘導体がァシル化反応に供される。 無機塩としてはアル カリ金属塩(たとえばナト リ ウム塩, カ リ ウム塩など〕, アルカリ土類 金属塩(たとえばカルシウム塩など)などが, 有機塩としてはたとえば 卜 リメ チルァ ミ ン塩, ト リェチルァ ミ ン塩, t e r t—ブチルジメ チルァ ミ ン塩, ジベンジルメ チルァミ ン塩, ベンジルジメチルァ ミ ン塩, N, N—ジメ チルァニリ ン塩, ピ リ ジン塩, キノ リ ン塩など力 酸ハライ ド としてはたとえば酸グロライ ド, 酸ブ σマイ ドなどが, 混合酸無水物と してはモノ C 〖 〜 4 アルキル炭酸混合酸無水物(たとえば遊離酸〔 I〕 とモノメチル炭酷 モノエチル炭酸 , モノィ ソプロピル炭酸, モノ イソ ブチル炭酸, モノ t e r t —ブチル炭酸, モノべンジル炭酸, モノ ( ρ — ニトロべンジル :)炭酸, モノァリル炭酸などとの混合酸無水物), <^〜6 脂肪族カルボン酸混合酸無水物(たとえば遊離酸〔 I〕と酢酸, ト リク ロロ酢酸, シァノ酢酸, プロピオン酸,酪酸, イ ソ酪酸,吉草酸, ィソ 吉草酸, ピバル酸, 卜 リ フルォ σ酢酸, 卜 リ ク 口口酢酸, ァセ 卜酢酸な どとの混合酸無水物) , C 7〜i 1芳香族カルボン酸混合酸無水物(たと えば遊離酸〔 M と安息香酸, P - 卜ルイ ル酸 ·, P—クロ σ安息香酸な どとの混合酸無水物:), 有機スルホン酸混合酸無水物(たとえばメタン スノレホン酸,エタンスルホン酸 , ベンゼンス ルホン酸, 一卜 ルェンス ルホン酸などとの混合酸無水物)などが,活性アミ ドとしては含窒素複 素環化合物とのァミ ド(たとえば遊離酸〔 II〕とピラゾ一ル ,ィ ミダゾwipo And a reactive derivative such as thiol is subjected to the acylation reaction. Examples of inorganic salts include alkali metal salts (eg, sodium salts and potassium salts) and alkaline earth metal salts (eg, calcium salts). Examples of organic salts include trimethylamine salts and triethylamine salts. Examples of acid halides such as mine salts, tert-butyldimethylamine salts, dibenzylmethylamine salts, benzyldimethylamine salts, N, N-dimethylethylaniline salts, pyridin salts, quinoline salts, and the like. Mixed acid anhydrides such as acid gloide and acid σ-mide are mixed acid anhydrides of mono C 〖to 4 alkyl carbonic acid (for example, free acid [I] and monomethyl carbonate, monoethyl carbonate, monoisopropyl carbonate, monosodium carbonate). Isobutyl carbonate, mono tert-butyl carbonate, monobenzyl carbonate, mono (ρ-nitrobenzyl): carbonate, monoaryl carbonate, etc. Mixed acid anhydrides), <^ ~ 6 aliphatic carboxylic acid mixed acid anhydrides (eg, free acid [I] and acetic acid, trichloroacetic acid, cyanoacetic acid, propionic acid, butyric acid, isobutyric acid, valeric acid, isoic acid) valeric acid, pivalic acid, Bok Li Furuo σ acetate, Bok Li click every mouth acetic, mixed acid anhydride with etc. § Se Bok acetate), C 7 through i 1 aromatic carboxylic acid mixed acid anhydride (for example free Acids [M and benzoic acid, mixed anhydrides of P-toluic acid, P-chloro succinic benzoic acid, etc.], and organic sulfonic acid mixed anhydrides (for example, methane snolefonic acid, ethanesulfonic acid, benzenes Examples of active amides include amides with nitrogen-containing complex compounds (eg, free acid [II] and pyrazolyl, imidazolone).
—ル , ベンゾ卜 リアゾールなどとの酸ァミ ドで, これらの含窒素複素環 化合物は C 1 〜 4 アルキル , C 1 〜 6ァルコキシ , ハロゲン原子, ォキ ソ , チォキソ , C 1〜 6 アルキルチオなどで置換されていても よい:) な どがあげられる。 活性エステルとしては^—ラクタムおよびぺプチド合 成の分野でこの目的に用いられるものはすべて利用でき, たとえば有機
リ ン酸エステル( たとえばジェ卜 キシリ ン酸エステル , ジフヱ ノキシ リ ン酸エステルなど;) のほ力 p —二 トロフヱニルエステル, 2 , 4—ジニ 卜 ロブ -二ルエステル , シァノメ チルエステル , ペンタク ロロフ 二ノレ エステル, N—ヒ ド口キ ^サクシンイ ミ ドエステル, N—ヒ ドロキシフ タノレイ ミ ドエステル, 1 ーヒ ドロキシベンゾ卜 リ アゾ一ルエステル, 6 —クロロー 1 —ヒ ドロキシベンゾ卜 リアゾールエステル, 1 ーヒ ドロキ シ— 1 H— 2—ピリ ドンエステルなどがあげられる。 活 f生チォエステル としては芳香族複素環チオール化合物とのエステル(たとえば 2—ピリ ジルチオ一ノレエステル, 2 —べンゾチアゾリルチオールエステルなどで , これらの複素環は C 1 〜 4 アルキル, C t〜 6 アルコキシ, ノ、ロゲン原 子, C 1 〜 6 アルキルチオなどで置換されていてもよい )があげられる。- le, in acid § Mi de and the like benzo Bok Riazor, these nitrogen-containing heterocyclic compound C 1 ~ 4 alkyl, C 1 ~ 6 Arukokishi, halogen atom, O Kiso, Chiokiso, C. 1 to 6 alkylthio, etc. May be replaced by :). All active esters used for this purpose in the field of ^ -lactam and peptide synthesis can be used as active esters. Phosphoric acid esters (for example, jet xylinic acid ester, diphenyloxylinic acid ester, etc.); p-dinitrophenyl ester, 2,4-dinitropropyl-toluene ester, cyanometyl ester, pentachlorofluoroethanol Nore ester, N-hydroxyl ester, succinimide ester, N-hydroxybutanolamide, 1-hydroxybenzotriazole ester, 6-chloro-1-hydroxybenzotriazole ester, 1-hydroxyl ester Examples include 1H-2-pyridone esters. Active f raw Chioesuteru aromatic heterocyclic esters of a thiol compound (e.g. 2-pyridyl Jiruchio one Noreesuteru is 2 - like base emission zone thiazolyl thiol ester, these heterocyclic rings is C 1 ~ 4 alkyl, C t ~ 6 alkoxy, Bruno, androgenic atom, may be substituted, etc. C 1 - 6 alkylthio) are mentioned.
—方, 7—ァミ ノ化合物〔 II〕は遊離のまま, その塩あるいはエステル として用いられる。 化合物〔 n 〕の塩としては無機塩基塩, アンモニゥ ム塩, 有機塩基塩, 無機酸付加塩, 有機酸付加塩などがあげられる。 無 機塩基塩としてはアルカ リ金属塩(たとえばナ ト リウム塩, カ リ ウム塩 など〕, アルカ リ土類金属塩(たとえばカルシウム塩など) などが, 有 璣塩基塩としてはたとえば卜 リ メチルァ ミ ン塩, ト リエチルァ ミ ン塩, t e r t—ブチルジメ チルァミ ン塩, ジベンジルメ チルァミ ン塩, ベンジ ルジメチルァ ミン塩, , N—ジメチルァニリ ン塩, ピ リジン塩, キノ リ ン塩などが, 無機酸付加塩としてはたとえば塩酸塩, 臭化水素酸塩, 硫酸塩, 硝酸塩, リ ン酸塩などが, 有機酸付加塩としてはギ酸塩, 酢酸 塩, ト リ フルォロ酢酸塩, メ タンスルホン酸塩, p —ト ルエンスルホン 酸塩などがあげられる。 化合物〔 Π 〕のエステルとして化合物〔 I 〕の エステル誘導体としてすでに述べたエステルがここでもそのままあげら れる。 すなわち C 1 〜 4 アルキルエステル, C 2 〜 4 アルケニルエステ
ル, C 3〜 6 シクロアルキルエステル, C 3 〜 6 シクロアルキル一 C I 〜 4 アルキルエステル, C 6〜〖 0ァ リ ールエステル, C 7〜 i 2ァラルキ ルエステル, C i 〜 5 アルカノ ィ ルォキシメ チルエステル, C i 〜 5 7 ルカノ ィルォキシェチルエステルおよびこれらがさらに水酸基, C i〜6 アルコキシ基, ハロゲン原子, ニ ト ロ基, シァノ基, メ ルカプト基, C アルキルチオ基, ォキソ基, チォキソ基などで置換されたものな どがあげられる。 原料物質〔 11 〕 . その塩およびエステル, 原料物質〔 I およびその反応性誘導体はいずれも公知の方法またはそれに準ずる 方法によって容易に製造できる。 化合物〔 I〕の反応性誘導体は反応混 合物から単離された物質として, または単離前の化合物〔 II〕の反応性 誘導体を含有する反応混合物をそのまま化合物〔 Π ) と反応させること ができる。 カルボン酸〔 I〕を遊離酸または塩の状態で使用する場合は 適当な縮合剤を用いる .。 縮合剤としてはたとえば N, Γ^—ジシクロへキ シルカルポジィ ミ ドなどの Ν, Ν'—ジ置換カルボジィ ミ ド類, たとえば Ν, Ν'—カルボニルジイ ミ ダゾ一ル, Ν, Ν'—チォカルボ二ルジィ ミダ ゾ一ルなどのァゾライ ド類, たとえば Ν—ェ 卜キ i カルボニル一 2 —ェ ト キシー 1, 2 —ジヒ ドロキノ リ ン, ォキシ塩ィ匕リ ン, アルコキシァセ チレンなどの脱水剤, たとえば 2 —ク口ロピ リ ジニゥムメ チルアイ オダ ィ ド, 2 —フルォロピ リ ジニゥムメチルアイ オダィ ドなどの 2—ハロゲ ノビ リジニゥム塩類などが用いられる。 これらの縮合剤を用いた場合, 反応はカルボン酸〔 M〕の反応性誘導体を経て進行すると考えられる。 反応は一般に溶媒中で行われ, 反応を阻害しない溶媒が適宜に選択され る。 このような溶媒としてはたとえばジォキサン, テ 卜 ラヒ ドロフラン, ジェチルェ一テル, t e r t —ブチルメ チルエーテル, ジイ ソフ"口ピルェ —テル, エチレングリコ一ル一ジメ チルエーテルなどのエーテル類, fr On the other hand, the 7-amino compound [II] is used as its salt or ester as it is. Examples of the salt of the compound [n] include inorganic base salts, ammonium salts, organic base salts, inorganic acid addition salts, and organic acid addition salts. Alkali metal salts (eg, sodium salt, potassium salt, etc.) and alkaline earth metal salts (eg, calcium salt, etc.) are examples of inorganic base salts. Salts, triethylamine salts, tert-butyldimethylamine salts, dibenzylmethylamine salts, benzyldimethylamine salts, N-dimethylaniline salts, pyridine salts, quinoline salts, etc., and inorganic acid addition salts. For example, hydrochloride, hydrobromide, sulfate, nitrate, phosphate, etc., and organic acid addition salts such as formate, acetate, trifluoroacetate, methanesulfonate, p-toluene Sulfonates, etc. As the ester of compound [〔], the ester already described as the ester derivative of compound [I] is used here as it is. Galley is. That is C 1 ~ 4 alkyl esters, C 2 ~ 4 alkenyl Este Le, C 3 ~ 6 cycloalkyl esters, C 3 ~ 6 cycloalkyl one CI ~ 4 alkyl esters, C 6 ~ 〖0 § Li Ruesuteru, C 7 ~ i 2 Araruki glycol ester, C i ~ 5 alkanol I Ruokishime Chiruesuteru, C i ~ 5 7 Rukano i Ruo key shell chill esters and their further hydroxyl, C i to 6 alkoxy group, a halogen atom, two collected by filtration group, Shiano group, main mercapto groups, C alkylthio group, Okiso group, etc. Chiokiso group Examples include those that have been replaced. Raw material [11]. The salts and esters thereof, and the raw material [I and its reactive derivatives] can be easily produced by a known method or a method analogous thereto. The reactive derivative of compound [I] can be reacted as a substance isolated from the reaction mixture, or the reaction mixture containing the reactive derivative of compound [II] before isolation can be directly reacted with compound [Π]. it can. When the carboxylic acid [I] is used in the form of a free acid or salt, use an appropriate condensing agent. Examples of the condensing agent include ,, Ν'-disubstituted carbodiimides such as N, Γ ^ -dicyclohexylcarboimide, and た と え ば, Ν'-carbonyldiimidazole, Ν, Ν'-thiocarbodiimide. Dehydrating agents such as azolides, such as ruzimidazole, for example, methoxy-carbonyl-1,2-diethoxy-1,2-dihydroxyquinoline, oxychlorideline, and alkoxyacetylene, for example, 2 2-Halogeno-vinylidene salts such as —co-lipidindium methyl iodide, and 2—fluorinidine methyl iodide are used. When these condensing agents are used, the reaction is thought to proceed via the reactive derivative of carboxylic acid [M]. The reaction is generally performed in a solvent, and a solvent that does not inhibit the reaction is appropriately selected. Examples of such a solvent include ethers such as dioxane, tetrahydrofuran, getyl ether, tert-butyl methyl ether, diisof "piru-tel, ethylene glycol-1-dimethyl ether, fr
OMPI
とえばギ酸ェチル, 酢酸ェチル, 酢酸 n—ブチルなどのエステル類, た とえばジクロロメタン, クロ口ホルム, 四塩化炭素, 卜 リクレン, 1, 2—ジクロロェタンなどのノ、ロゲン化炭化水素類, たとえば n—^ 'キサ ン, ベンゼン,. ト ルエンなどの炭化水素類, たとえばホルムアミ ド, N, N—ジメチルホルムア ミ ド, N, N—ジメチルァセ 卜 ア ミ ドなどのア ミ ド類, たとえばアセ トン, メチルェチルケ 卜 ン, メ チルイ ソ ブチルケ卜 ンなどのケ トン類, たとえばァセ 卜二卜 リル, プロピオ二 卜 リ ルなどの 二 ト リ ル類などのほか, ジメ チルスルホキシ ド, スルホラ ン, へキサメ チルホスホルアミ ド, 水などが単独または混合溶媒として用いられる。 ァシル化剤〔 I 〕 の使用曇は化合物〔 II 〕 1モルに対して通常 1〜5モ ル, 好ましくは 1〜 2モルである。 反応は一 8 0〜 8 0 C, 好ましくは 一 4 0〜5 0°C, 最も好ましくは— 3 0〜 3 0°Cの温度範囲で れる c 反応時間は化合物〔 ir.〕および〔 n〕の種類, 溶媒の種類(混合溶媒の 場合はその混合比も), 反応温度などに依存し, 通常 1分〜 7 2時間, 好ましくは 1 5分〜 3時間である。 ァ ル化剤として酸ハライ ドを用い た場合は放出されるハロゲン化水素を反応系から除去する目的で脱酸剤 の存在下に反応を行うことができる。 このような脱酸剤としてはたとえ ば炭酸ナ ト リ ウム,' 炭酸カ リ ウム, 炭酸カルシウム, 炭酸水素ナ卜 リ ウ ムなどの無機塩基, たとえば卜 リ エチルァ ミン, 卜 リ ー(II一プロピル) ァ ミン, ト リ 一 ( n —ブチル) ァ ミ ン, シクロへキシルジメチルァ ミン, ピ リ ジン, ルチジン, rーコリジン, N, N—ジメチルァニリ ン, N— メ チルビペリジン, N—メ チルピロ リジン, N—メ チルモルホ リ ンなど の第 3級ァミ ン, たとえばプロピレンォキシド, ェピク ロルヒ ドリ ンな どのアルキレンォキシド類などがあげられる。 OMPI For example, esters such as ethyl formate, ethyl acetate, and n-butyl acetate, and hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, trichlorene, and 1,2-dichloroethane, and hydrogenated hydrocarbons such as n — ^ 'Hexanes, benzene, hydrocarbons such as toluene, for example, amides such as formamide, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, for example, acetone, Ketones such as methylethylketone and methylisobutylketone, for example, nitriles such as acetate and propionitol, etc., as well as dimethyl sulfoxide, sulfolane and hexamethyl phosphoramido , Water or the like is used alone or as a mixed solvent. The cloudiness of the acylating agent [I] is usually 1 to 5 mol, preferably 1 to 2 mol, per 1 mol of the compound [II]. The reaction one 8 0 to 8 0 C, preferably single 4 0 to 5 0 ° C, and most preferably - [. Ir] 3 0~ 3 0 ° c The reaction time is in the temperature range of C compounds and [n] The reaction time is usually 1 minute to 72 hours, preferably 15 minutes to 3 hours, depending on the type of solvent, the type of solvent (and the mixing ratio if a mixed solvent is used), and the reaction temperature. When an acid halide is used as a gelling agent, the reaction can be carried out in the presence of a deoxidizing agent for the purpose of removing released hydrogen halide from the reaction system. Examples of such a deoxidizing agent include inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, calcium carbonate, sodium hydrogen carbonate, etc., for example, triethylamine, tri (II-propyl). ) Amine, tri (n-butyl) amine, cyclohexyldimethylamine, pyridine, lutidine, r-collidine, N, N-dimethylaniline, N-methylbiperidine, N-methylpyrrolidine, Tertiary amines such as N-methylmorpholine, for example, alkylene oxides such as propylene oxide and epichlorohydrin.
製造法 (2): Production method (2):
本法はセフ -ム化合物〔 IV〕に対してチアゾ一ル化合物 Afを反応させ, 求核置換反応により化合物〔 I 〕を合成する方法である。 化合物〔 IV において R5は水酸基, ァシルォキ i 基, 力ルバモイ ルォキン基, 置換 力ルバモイルォキシ基またはハロゲン原子を示す。 ここでァシルォキシ 基は置換されていてもよい C 2〜 5 アルカノィルォキシ基, または C 6 〜1 0ァリール一ァシルォキシ基を表わし, 置換されていてもよい C 2〜5 アルカノィルォキシ基としては具体的にはァセトキシ,クロロアセトキシ,フ ΐιピ ォニルォキシ,ブチリルォキン-, ビバロイルォキシ, 3—ォキソブチリルォキシ,4— クロ口一 3—ォキソブチリルォキシ, 3—カルボキ フ。口ピオ二ルォキ , 4一カル ボキシブチリルォキシ, 3ーェトキン力ルバモイルプロピオニルォキンなどが,置換 されていてもよい C6〜10ァリール一ァシルォキ 基としては具体的には ο—力 ノレボキシベンゾィルォキシ, 0—〔エトキシカルボ二ルカルバモイル) ベンゾィ ルォキシ , O— ( エト キ £ 力ノレボニルスノレファモイル) ベンゾイノレオキ シなどがあげられる。 置換カルバモィルォキシ基としては具体的にはメ チルカルバモイ ルォキシ, N, N—ジメ チルカルバモイ ルォキシなど力 s あげられる。 ハロゲン原子としては塩素, 臭素, ヨウ素などがあげられ る。 化合物〔 IV〕は遊離のまま, その塩あるいはエステルとして用いら れる。 化合物〔 IV〕の塩, エステルとしては製造法 (1)において化合物〔 n 〕の塩, エステルとしてあげたものがここでもそのままあてはめられ る。 化合物〔 IV 〕, その塩およびエステルはそれ自体公知の方法または それに準ずる方法によって容易に製造できる。 一方チアゾ一ル化合物 AT In this method, the thiazole compound Af is reacted with the septum compound [IV], and the compound [I] is synthesized by a nucleophilic substitution reaction. In the compound [IV, R 5 represents a hydroxyl group, an acyloxy group, a rubamoyloxy group, a substituted rubamoyloxy group or a halogen atom. Here Ashiruokishi groups optionally substituted C 2 even though 1-5 alk Noi Ruo alkoxy group, or represents a C 6 ~ 1 0 Ariru one Ashiruokishi group, as optionally substituted C 2 even though 1-5 alk Noi Ruo alkoxy group, Are concretely acetoxy, chloroacetoxy, fluoryloxy, butyryloxy-, bivaloyloxy, 3-oxobutyryloxy, 4-chloro-3-oxobutyryloxy, 3-carboxy. Mouth Pio two Ruoki, 4 one local Boki Shiv dust Ruo carboxymethyl, 3 Etokin force such Luba moil propionyloxy Ruo kin, as in particular the optionally substituted C 6 ~ 10 Ariru one Ashiruoki group ο- force Norebo Xybenzoyloxy, 0- [ethoxycarbonylcarbamoyl) benzoyloxy, O- (ethoxy-norrebonylsnorrefamoyl) benzoinoleoxy. Specific examples of the substituted carbamoyloxy group include methylcarbamoyloxy and N, N-dimethylcarbamoyloxy. Halogen atoms include chlorine, bromine, and iodine. Compound [IV] can be used as a salt or ester as it is. As the salts and esters of the compound [IV], those given as the salts and esters of the compound [n] in the production method (1) can be applied here as they are. Compound [IV], salts and esters thereof can be easily produced by a method known per se or a method analogous thereto. On the other hand, thiazole compound AT
O PI
は置換されていてもよい 4, 5—位で縮合環を形成するチアゾールを示 す。 ここで縮合環はチアゾ一ル環と脂環, ベンゼン環または 5〜 6員芳 香族複素環が縮合した形のものを意味し, この縮合環はさらに別の脂環, ベンゼン環または 5〜6員芳香族複素環と縮合していてもよい。 ¾換さ れていてもよい 4, 5一位で縮合環を形成するチアゾール(Α')の 4, 5 一位で縮合環を形成するチアゾールは下記の一般式 O PI Represents a thiazole which forms a condensed ring at the optionally substituted 4,5-position. Here, the condensed ring means a condensed form of a thiazole ring and an alicyclic ring, a benzene ring or a 5- to 6-membered aromatic heterocyclic ring. It may be condensed with a 6-membered aromatic heterocycle. The thiazole which forms a condensed ring at the 4,5 position of the optionally substituted thiazole (Α ') which forms a condensed ring at the 4,5 position may be represented by the following general formula:
N S N S
〔A 〔Α3'〕 のいずれかで書き表わせるチアゾ一ル化合物であって, 化合物!; I?〕と または ^3 とを反応させた場合に合成できる目的化合物 (; ί 〕 の Α®基がそれぞれ前 '記の At基, A2基または A に対応する。 したが つて Α'ιの m, A'3の Bは前記したものと同意義を表わし, 、 およ び A'3は Ai ,A2および A3と同様にさらに縮合していてもよいし, また i ,A2および A3上の置換基と同様の置換基を有していてもよい。 ΑΊ を具体的に示せばたとえば [A A thiazole compound that can be represented by any of [Α 3 '] and is a compound !; I? ] Or with ^ 3 with the target compound which can be synthesized when reacted with (;. Ί] Α® group before each 'Symbol of A t group, corresponding to the A 2 group or A was although the connexion Α'ι m, A'3 of B represents the same meanings as defined above, and a '3 is Ai, may be condensed in the same manner as a 2 and a 3, also i, a 2 and It may have the same substituent as the substituent on A 3. If ΑΊ is specifically shown, for example,
などである。 A'3を具体的に示せばたとえば And so on. If you show A'3 specifically, for example
などである。 化合物 は塩としても用いられる。 化合物 A'の塩としては And so on. The compounds are also used as salts. As a salt of compound A ',
OMPI
たとえば塩酸塩, 臭化水素酸塩, 硫酸塩, 硝酸塩, リ ン酸塩などの無機 酸付加塩, たとえばギ酸塩, 酢酸塩, ト リフルォロ酢酸塩, メタンスル ホン酸塩, P— ト ルエンスルホン酸塩などの有機酸付加塩などがあげら れる。 化合物 A'の一般的合成法は既知であり, 文献記載の方法またはそ れに準ずる方法によって容易に製造できる。 化合物 Aによる化合物〔IV〕 への本求核置換反応はそれ自体よく知られた反応であって, 通常溶媒中 で行なわれる。 この反応に用いられる溶媒としては製造法 )で使用され るエーテル類, エステル類, ハロゲン化炭化水素類, 炭化水素類, アミ ド類, ケ ト ン類,二ト リル類,水などの溶媒がそのままあてはめられる カ、 これ 6のほ力 二たとえばメタノール, エタノ ール , η—プロパノー ル , ィ ソフ。ロノ ノ ール, エチレングリ コール, 2—メ トキンエタノ ール などのアルコール類も用いられる。 OMPI For example, inorganic acid addition salts such as hydrochloride, hydrobromide, sulfate, nitrate, phosphate, etc., for example, formate, acetate, trifluoroacetate, methanesulfonate, P-toluenesulfonate And organic acid addition salts. The general method for synthesizing compound A 'is known and can be easily produced by a method described in a literature or a method analogous thereto. This nucleophilic substitution reaction of compound [IV] with compound A is a well-known reaction per se, and is usually carried out in a solvent. Solvents used in this reaction include solvents such as ethers, esters, halogenated hydrocarbons, hydrocarbons, amides, ketones, nitriles, and water used in the production method). These can be applied as they are, for example, methanol, ethanol, η-propanol, and isov. Alcohols such as ronanol, ethylene glycol, and 2-methokineethanol are also used.
( 2 - 1 ) : R 5が シルォキシ基, 力ルバモイ ルォキシ基, 置換カル バモイ ルォキシ基の場合 (2 - 1): R 5 is Shiruokishi group, force Rubamoi Ruokishi group, when substituted Cal Bamoi Ruokishi group
より好ましい溶媒は水もしくは水と混合しうる有機溶媒と水との混合 溶媒で, 水と混合しうる有機溶媒のうち, より好ましいものはアセ ト ン, メチルェチルケ ト ン, ァセ 卜二卜 リ ルなどである。 求^薬 A'の使用量 は化合物〔 W〕 1モルに対して通常 1〜 5モル, 好ましくは 1〜 3モル である。 反応は 1 0〜 1 0 0 °C, 好ましくは 3 0〜 8 0 °Cの温度範囲で 行なわれる。 反応時間は化合物〔 IV〕および A'の種類, 溶媒の種類(混 合溶媒の場合はその混合比 ), 反応温度などに依存し, 通常 3 0分〜 5 日間, 好ましくは 1〜 5時間である。 反応は p H 2〜 8, 好ましくは中 性付近すなわち P H 5〜 8で行なうのが有利である。 また本反応は通常 2〜3 0当量のヨウ化物またはチォシアン酸塩の存在下でより容易に進 行する。 このような塩としてはヨウ化ナ ト リウム, ヨウ化カリウム, チ
オシアン酸ナ卜 リウム, チォシアン酸カ リウムなどがあげられる。 上記 の塩のほ力, たとえば卜 リメチルベンジルアンモニゥムブロマイ ド, 卜 リエチルベンジルアンモニゥムブロマイ ド, ト リェチルベンジルアンモ 二ゥムヒ ドロキサイ ドなどのような界面活性作用を有する第 4級アンモ 二ゥム塩を添加することによって反応を円滑に進行させうる場合もある c C 2 - 2 : R 5 が水酸基の場合 A more preferred solvent is water or a mixed solvent of water and an organic solvent miscible with water, and among the organic solvents miscible with water, more preferred are acetone, methylethylketone, and acetate tritol. And so on. The amount of the agent A 'to be used is generally 1 to 5 mol, preferably 1 to 3 mol, per 1 mol of compound [W]. The reaction is carried out in a temperature range of 10 to 100 ° C, preferably 30 to 80 ° C. The reaction time depends on the type of compound [IV] and A ', the type of solvent (mixing ratio if a mixed solvent is used), the reaction temperature, etc., and is usually 30 minutes to 5 days, preferably 1 to 5 hours. is there. The reaction is advantageously carried out at pH 2-8, preferably near neutral, ie pH 5-8. This reaction usually proceeds more easily in the presence of 2 to 30 equivalents of iodide or thiocyanate. Such salts include sodium iodide, potassium iodide, and titanium iodide. Examples include sodium ocyanate and potassium thiocyanate. The above-mentioned salts have a surface activity such as trimethylbenzylammonium bromide, triethylbenzylammonium bromide, triethylbenzylammonium bromide or the like. In some cases, the reaction can proceed smoothly by adding a grade of ammonium salt. C When C 2 -2: R 5 is a hydroxyl group
たとえば日本国公開特許公報昭 5 8 - 4 3 9 7 9などに記載された方 法にしたがって有機リン化合物の存在下に行う。 ここで用いられる有機 リ ン化合物としてはたとえば 0—フエ二レンホスホロク口 リデエイ 卜、 ο —フエ二 レンホスホロフロ リ デエイ ト 、 メチノレ 0 —フエ二レンホス フェイ ト、 ェチル 0 —フエ二 レンホスフェイ ト、 プロピル 0 —フエ 二レンホスフェイ 卜、 イ ソプロピル 0 —フエ二レンホスフェイ ト、 ブ チル 0 —フエ二レン.ホスフェイ 卜、 イ ソ ブチル 0 —フエ二レンホス フエィ 卜、 sec—ブチル 0 ―フエ二レンホスフェイ 卜、 シク σへキ i ル 0 —フエ二レンホスフェイ 卜 、 フエニル 0 —フエ二レンホス フェイ 卜 、 ρ—クロ σフエニル 0 —フエ二レンホスフェイ ト、 ρ—ァセチル フェニル 0 —フエ二レンホスフェイ 卜、 2—クロロェチル 0 —フエ 二レンホスフェイ ト、 2 , 2 , 2 — 卜 リクロ ロェチル 0 —フエ二レン ホスフェイ 卜、 ェ 卜キシカルボニルメチル 0—フエ二レンホスフェイ ト、 力ルバモイ ルメ チル 0 —フエ二レンホスフェイ ト、 2—シァノエ チル ο —フエ二レンホスフェイ 卜 、 2 —メチルスルホニルェチノレ 0 —フエ二レンホスフェイ 卜、 ベンジル ο —フエ二レンホスフェイ ト、 1 , 1 ージメチル一 2 -プロぺニル 0 —フエ二レンホスフェイ 卜、 2 一プロぺニル 0—フエ二レ ンホスフェイ ト、 3 —メチル一 2 —ブテニ ル 0 —フェニレンホスフェイ 卜、 2 —チェニルメチル 0 —フエニレ
ンホスフェイ ト、 2 —フルフ リ ルメ チル 0 —フエ二レンホスフェイ 卜、 ビス一 0 —フエ二レンピロホスフェイ 卜、 2—フエ二ルー 1, 3, 2 - ベンゾジォキサホスホール一 2—ォキシ ド、 2 ― ( p—クロ口フエニル) — 1, 3, 2 —ベン ゾジォキサホスホール一 2—ォキシ ド、 2—ブチル — 1, 3, 2 —ベンゾジォキサホスホ一ルー 2 -ォキシ ド、 2—ァニ リ ノ ー 1, 3, 2—べン ゾジォキサホスホール一 2—ォキシ ド、 2—フエ 二ルチオ一 1, 3, 2·—べンゾジォキサホスホール 2—ォキシ ド、 2 ーメ ト キシー 5—メチル一 1, 3, 2 一^ ^ンゾジォキサホスホール一 2 —ォキシ ド、 2—クロ口一 5—ェ 卜キシカルボニル一 1, 3, 2—ベン ゾジォキサホスホ一ルー 2 —ォキシ ド、 2 —メ 卜キシ一 5—エ ト キン力 ルボニルー 1, 3, 2—べンゾジォキサホスホ一ルー 2—ォキシ ド、 5 —エ トキジカルボ二ルー 2*—フエニル一 1, 3, 2—ベンゾジォキサホ スホール一 2—ォキシ ド、 2, 5 —ジクロ口 一 1 , 3, 2—ベンゾジォ キサホスホール一 2—ォキシ ド、 4一クロ σ — 2—メ 卜キシ一 1 , 3, 2 —べンゾジォキサホスホ一ルー 2 —ォキシ ド、 2 —メ 卜 キシ一 4—メ チルー 1, 3, 2 —ベンゾジォキサホスホール一 2—ォキシド、 2, 3 一ナフタレンメ チルホスフェイ 卜、 5, 6—ジメ チル一 2 —メ 卜 キシー 1, 3, 2—ベンゾジォキサホスホール一 2 —ォキシ ド、 2, 2—ジ ヒ ドロー 4, 5, 6, 7 —テ卜ラクロ σ — 2, 2, 2 —卜 リ メ 卜 キン一 1, 3, 2—べンゾジォキサホスホール、 2, 2—ジヒ ドロ 一 4, 5, 6, 7—テ 卜 ラクロ口 一 2, 2, 2 — 卜 リ フエノ キシ一 1 , 3, 2 一^ ^ンゾ ジォキサホスホール、 2, 2—ジ ヒ ドロー 2, 2 —エチレンジォキシー 2 —メ ト キシー 1, 3, 2—べンゾジォキサホスホール、 2, 2 —ジヒ ドロ一 2—ベンジルー 2, 2 —ジメ 卜 キシー 1, 3, 2—べンゾジォキ サホスホール、 2, 2—ジヒ ドロー 4 , 5—ベン ゾ一 2 , 2, 2 —卜 リ
メ ト キシ— i, 3, 2 —べンゾジォキサホスホール、 2, 2—ジヒ ドロ — 2, 2, 2 - ト リ フエノキシ一 1, 3, 2—べンゾジォキサホスホ一 ル、 2, 2 —ジヒ ドロ一 2, 2 — ( 0 —フェニレンジォキシ 一 2—フ エノキシー 1, 3, 2—べンゾジォキサホスホール、 2—クロ口一 2, 2 -ジヒ ドロ一 2, 2— ( 0 —フエ二レンジォキシ) 一 1, 3, 2—ベ ンゾジォキサホスホール、 2, 2—ジヒ ドロ一 2 —メ 卜 キシ一 2, 2 - ( 0 —フエ二レンジォキシ) 一 1 , 3, 2—べンゾジォキサホスホ一ル、 2, 2—ジヒ ドロ一 2, 2, 2— 卜 リ ク σ口 一 1, 3, 2—ベンゾジォ キサホスホール、 9, 1 0 —フエナンスレンジォキシ 卜 リメ 卜 キ ホス ホラス、 0 —フエ二レンホスホロク ロ リ ダィ ト 、 0 —フエ二レンホスホ ロブロ ミダイ ト、 0 —フェニレンホスホロフロ リ ダイ ト、 メチル 0 — フエ二レンホスフアイ 卜、 ブチル 0 —フェニレンホスフアイ 卜 、 メ 卜 キ カルボニルメチル 0 —フエ二レンホスフア イ 卜、 フエニル 0 — フェニレンホスフアイ 卜、 p —ク ロ σ (; または Ρ—二 卜 口) フエニル 0 —フエ二レンホスフア イ 卜、 2 —フエニル一 1, 3, 2—ベン ゾジォ キサホスホール、 ビス一 0 —フエ二レン ピロホスフアイ 卜、 2—メ ト キ シー 5—メチルー 1, 3, 2—べンゾジォキサホスホール、 5 —ァセチ ルー 2—フエノキシ一 1, 3, 2—べンゾジォキサホスホール、 9, 10 一フエナンス レンホスホロクロリ ダイ 卜、 2—ク ロ口 一 4 —メチル一 1, 3, 2—ベンゾジォキサホスホール、 5—エ ト キシカルボ二ルー 2—フ ェニルー 1, 3, 2—べンゾジォキサホスホール、 2 —ク ロ口 一 2—チ ォキソ一 1, 3, 2—ベンゾジォキサホスホール、 2 —フエノキ i 一 2 —ォキソ一 1, 3, 2—ベンゾジァザホスホール、 2—フエノ キシ一 1, 3, 2 —ベンゾォキサァザホスホール、 2, 3—ジヒ ドロ ー 2—ォキソ 一 2—メ 卜 キシ一 4, 5 —ジメ チルー 1, 3, 2 —ジォキサホスホール、
2, 2 —ジヒ ドロー 2 —ォキ ソ 一 2 —クロロ ー 4, 5 —ジメ チル一 1, 3, 2 —ジォキサホスホール、 2, 2 —ジ ヒ ドロー 2—ォキ ソ 一 2 —( 1 一イ ミ ダゾリ ル) 一 4, 5 —ジメチルー 1, 3, 2 —ジォキサホスホ ール、 2, 2 —ジヒ ドロ一 2, 2 —エチレンジォキシ一 2 —メ 卜 キシー 4, 5 —ジメチルー 1, 3 , 2—ジォキサホスホール、 2, 2 —ジヒ ド 口 一 2, 2—ジメ ト キシー 2 —フエノキシ一 4, 5 —ジメチルー 1 , 3, 2 —ジォキサホスホ一ル、 2, 2 —ジヒ ドロ ー 2, 2, 2 — 卜 リ メ トキ シ一 4, 5—ジメチル一 1, 3, 2 —ジォキサホスホール、 2, 2 —ジ ヒ ドロ一 2, 2, 2— 卜 リ フエノキシ一 4, 5 —ジメチルー 1, 3, 2 —ジォキサホスホール、 2, 2 —ジヒ ドロ一 2, 2, 2 — 卜 リエ トキシ — 4, 5 —ジフエニル一 1, 3, 2 —ジォキサホスホール、 2, 2 —ジ ヒ ドロ一 2, 2, '2 — 卜 リ メ 卜 キシ一 4, 5 —ジブェニル一 1, 3, 2 ージォキサホスホール、 2, 2—ジヒ ドロ 一 2—ォキソ一 2—メ トキシ — 4, 5 —ジフエニル 一 1, 3, 2 —ジォキサホスホール、 2, 2 —ジ ヒ ド σ— 2, 2, 2 — 卜 リメ 卜 キシ一 1, 3, 2 —ジォキサホスホール、 2, 2 —ジヒ ド ロ一 2, 2, 2 — 卜 リ メ ト キシ一 4 —フエニル一 1, 3, 2 —ジォキサホスホール、 2, 2—ジヒ ドロ一 2, 2, 2 — 卜 リメ 卜 キ 一 4ーメチルー 1, 3, 2 —ジォキサホスホール、 2, 2 —ジ ヒ ドロ 一 2, 2, 2 — 卜 リ メ 卜 キシ一 4一メチル一 5 —フエニル力ルバモイ ル 一 1, 3, 2 —ジォキサホスホール、 2, 2, 4, 5, 6, 7 —へキサ ヒ ドロ一 2, 2, 2— 卜 リメ 卜キン一 1, 3, 2 —べンゾジォキサホス ホール、 2, 2'—ォキシビス( 4, 5 —ジメチルー 2, 2 —ジヒ ドロー 1, 3, 2—ジォキサホスホール) 、 2, 2'—ォキシビス ( 4, 5 —ジ メチルー 2, 2 —ジヒ ドロー 1, 3, 2 —ジォキサホスホ一ルー 2—ォ キシド:)などがあげられる。 反応に用いる溶媒は反応を阻害しないもの For example, the reaction is carried out in the presence of an organic phosphorus compound according to a method described in Japanese Patent Laid-Open Publication No. 58-43979. Examples of the organic phosphorous compounds used here include 0-phenylene phosphorophthalate, ο—phenylene phosphorofluoride, methylinole 0—phenylene phosphate, ethyl 0—phenylene phosphate, and propyl 0—phenylene. Dilen phosphate, isopropyl 0 — phenylene phosphate, butyl 0 — phenylene phosphate, isobutyl 0 — phenylene phosphate, sec-butyl 0 — phenylene phosphate, σ 0-phenylene phosphate, phenyl 0-phenylene phosphate, ρ-chloro σphenyl 0—phenylene phosphate, ρ-acetyl phenyl 0—phenylene phosphate, 2-chloroethyl 0—phenylene phosphate, 2, 2, 2 — tricycloroethyl 0 — fenirenho Sulfate, ethoxycarbonylmethyl 0-phenylene phosphate, rubamoyl lmethyl 0—phenylene phosphate, 2-cyanoethyl ο—phenylene phosphate, 2—methylsulfonylechinole 0—phenylene phosphate , Benzyl ο — phenylene phosphate, 1,1-dimethyl-12-propenyl 0 — phenylene phosphate, 2-propenyl 0 — phenylene phosphate, 3 — methyl-12 — butenyl 0 — phenylene Phosphate, 2—Chenylmethyl 0—Phenylene Phosphate, 2—furfurylmethyl 0—Phenylene phosphate, bis-1 0—Phenylene pyrophosphate, 2-phenyl-1,3,2-benzodioxaphosphol-12-oxide , 2- (p-chlorophenyl) — 1,3,2—benzodioxaphosphoryl 2-oxide, 2-butyl —1,3,2-benzodioxaphosphoryl 2-oxo , 2-anilino 1,3,2-benzodioxaphosphoryl 2-oxoxide, 2-phenylthio-1,3,2, -benzodioxaphosphol 2-oxide, 2-methoxy 5-methyl-1,3,2 ^^-zodioxaphosphol-12-oxide, 2-chloro-1-5-ethoxycarbonyl-1,3 , 2—Benzodioxaphosphoruyl 2-oxoxide, 2—Methoxyl 5-ethoxyquinone 1-Ru 2-oxide, 5-Ethoxydicarboxy 2 * -Phenyl-1,3,2-benzodioxafoshol-1 2-oxide, 2,5—Dichloro mouth 1,3,2-Benzodioxaphosphol-1 2— Oxide, 4-chloro σ — 2—Methoxy 1, 3,2—Benzodioxaphosphorous 2 —Oxide, 2 —Methoxy 1—Methyl 1,3,2 — Benzodioxaphosphol-12-oxide, 2,3-naphthalenemethyl phosphate, 5,6-dimethyl-12-methyloxy 1,3,2-benzodioxaphosphol-12-oxide, 2,2—Dihydro 4,5,6,7 —Tetracro σ — 2,2,2 —Trimetric Kinichi 1,3,2—Venzodioxaphosphol, 2,2 —Dihydro-1,4,5,6,7—Tetracloth 1,2,2—Triphenoxy 1,3,2 1 ^^ Zinodioxaphosphol, 2,2 Dihydro 2,2-ethylenedioxy 2-methoxy 1,3,2-benzodioxaphosphol, 2,2-dihydro-2-benzyl-2,2-dimethoxy 1, 3,2-Benzodioxaphosphol, 2,2-Dihydro4,5—Benzo-1,2,2—Tri Methoxy-i, 3,2 -benzodioxaphosphol, 2,2-dihydro -2,2,2-triphenoxy-1,3,2-benzodioxaphospho-1 2,2—Dihydro-1,2— (0—Phenylenedioxy 1,2-phenoxy 1,3,2-Benzodioxaphosphol, 2-Chloro-1,2,2-Dihi Dro-2,2— (0—Fenylenedioxy) 1-1,3,2-Benzodioxaphosphol, 2,2-Dihydro-1-2—Methoxy-1 2,2-(0—Fue Diene dioxy) 1,1,3,2-benzodioxaphosphoryl, 2,2-dihydro-1,2,2, trik σ mouth 1,1,2, benzodioxaphosphol, 9, 1 0—Phenanthylene oximetry phosphorous, 0—Phenylene phosphorochloromid, 0—Phenylene phosphorobromidite, 0—Phenylene phosphorofluoridite , Methyl 0 — phenylene phosphite, butyl 0 — phenylene phosphite, methoxy carbonyl methyl 0 — phenylene phosphite, phenyl 0 — phenylene phosphite, p — cyclo σ (; or Ρ Ρ 2 卜Mouth) Phenyl 0—phenylene phosphite, 2—phenyl-1,3,2—benzodioxaphosphol, bis-1 0—phenylene pyrophosphite, 2-methoxy 5-methyl-1,3,2— Benzodoxaphosphol, 5-acetyl 2-phenoxy-1,3,2-benzodoxaphosphol, 9,10 1-phenanthrene phosphorochloridite, 2-cyclohexyl 4—Methyl-1,3,2-benzodioxaphosphol, 5-ethoxycarbonyl-2-phenyl-1,3,2-benzodioxaphosphol, 2—Cro 1-2 —Choxo 1, 3, 2 Benzodioxaphosphol, 2-phenoxy i 1 2-oxo- 1,3,2-benzodiazaphosphol, 2-phenoxy-1,3,2-benzobenzoxazaphosphol, 2, 3-dihydro-2-oxo-1 2-methoxy 4-, 5-dimethyl-1,3,2-dioxaphosphol, 2,2—Dihydro 2 —oxo 1 2 —Chloro 4,5 —Dimethyl 1,1,3,2 —Dioxaphosphol, 2, 2 —Dihydro 2 —Oxo 1 2 — (11-Imidazolyl) 1,4,5-Dimethyl-1,3,2-dioxaphosphol, 2,2-Dihydro-1,2,2-ethylenedioxy-12-Methoxy 4,5-Dimethyl-1,3 , 2-Dioxaphosphol, 2,2-Dihydric 1,2,2-Dimethoxy 2 -Phenoxy-1,4,5 -Dimethyl-1,3,2 -Dioxaphosphonyl, 2,2 -Dihydro 2,2,2-trimethoxy-1,4,5-dimethyl-1,3,2-dioxaphosphor, 2,2-dihydro-1,2,2,2-triphenoxy-1,4 5 — Dimethyl 1, 3, 2 — dioxaphosphol, 2, 2 — dihydro-1, 2, 2, 2 — triethoxy — 4, 5 — diphenyl-1- 1, 3, 2 — dioxaphospho 2,2—dihydro-1,2,2′-trimethoxy-1,4,5—diphenyl-1,3,2 dioxaphosphor, 2,2-dihydro-1 —Oxo-1-2-methoxy —4,5-diphenyl-1,3,2-dioxaphosphol, 2,2—dihydro σ—2,2,2—trimethoxy-1,3, 2 — dioxaphosphor, 2, 2 — dihydro-1,2,2 — trimethoxy-1 4 —phenyl-1,3,2 —dioxaphosphol, 2,2—dihydro 1,2,2—trimethyl-1-4-methyl-1,3,2-dioxaphosphol, 2,2—dihydro-1,2,2,2—trimethoxy-1 4-methyl-1 5 —Phenyl potato rubamoyl-1,3,2—Dioxaphosphol, 2,2,4,5,6,7 —Hexahydro-1,2,2,2-Trimetrine 1,3 , 2-benzodioxaphoshole, 2, 2'-oxybis 4,5-Dimethyl 2,2-dihydro 1,3,2-dioxaphosphor), 2,2'-oxybis (4,5-dimethyl-2,2-dihydro 1,3,2-Dioxaphospho One roux 2-oxide :). Solvent used in the reaction does not inhibit the reaction
Ο ΡΙ
であればよく, 好ましくは前記したエーテル類, エステル類, ハロゲン 化炭化水素類, 炭化水素類, アミ ド類, ケ トン類, 二卜 リル類などが単 独または混合溶媒として用いられる。 とりわけ, たとえばジクロロメタ ン, ァセ トニ.卜 リル, ホルムア ミ ド, ホルムア ミ ドとァセ 卜ニ 卜 リ ルの 混合溶媒, ジクロロメタンとァセ 卜二ト リルの混合溶媒などを使用する と好結果が得られる。 求核試薬 A'および有機リン化合物の使用量は化合 物〔 IT〕 1モルに対してそれぞれ 1〜5モル, 1〜 1 0モル, より好ま しくはそれぞれ 1〜 3モル, 1〜 6モルである。 反応は- 8 0〜5 0 °C , 好ましくは一 4 0〜4 0 °Cの温度範囲で行なわれる。 反応時間は通常 1 分〜 1 5特間, 好ましくは 5分〜 2時間である。 反応系に有機塩基を添 加してもよい。 このような有機塩基としてはたとえば卜 リェチルァミン, 卜 リー( n—ブチル ) ァミ ン, ジ一( n—ブチル〕 ァミ ン, ジイ ソプチ ルァミ ン, ジシク ロ^.キシルァ ミ ン, 2 , 6—ルチジンなどのアミン類 があげられる。 塩基の添加量は化合物〔 1モルに対して 1〜 5モル がよい。 Ο ΡΙ Any of the above ethers, esters, halogenated hydrocarbons, hydrocarbons, amides, ketones, nitriles and the like are preferably used alone or as a mixed solvent. Particularly good results are obtained by using, for example, dichloromethane, acetonitrile, formamide, a mixed solvent of formamide and acetonitril, or a mixed solvent of dichloromethane and acetonitrile. Is obtained. The amounts of the nucleophile A 'and the organic phosphorus compound used are 1 to 5 mol, 1 to 10 mol, more preferably 1 to 3 mol, and 1 to 6 mol, respectively, per 1 mol of the compound [IT]. is there. The reaction is carried out in a temperature range of -80 to 50 ° C, preferably 140 to 40 ° C. The reaction time is usually 1 minute to 15 hours, preferably 5 minutes to 2 hours. An organic base may be added to the reaction system. Such organic bases include, for example, triethylamine, tri (n-butyl) amine, di (n-butyl) amine, diisobutylamine, dicyclo ^ .xylamine, 2,6- Examples include amines such as lutidine, etc. The amount of the base to be added is 1 to 5 mol per 1 mol of the compound.
C 2 - 3 : R5 がハロゲン原子の場合 C 2-3: When R 5 is a halogen atom
好ましい溶媒は前記のエーテル類, エステル類, ハロゲン化炭化水素 類, 炭化水素類, ァミ ド類, ケ 卜ン類, ニ卜 リル類, アルコール類, 水 などである。 求核 ίί¾ Α'の使用量は化合物〔 IV〕 1モルに対して通常 1 〜 5モル, 好ましくは 1〜 3モルである。 は 0〜 8 0 °C, 好ましく は 2 0〜 6 0°Cの温度範囲で行なわれる。 反応時間は通常 3 0分〜 1 5 時間, 好ましくは 1〜5時間である。 反応を促進するため脱ハロゲン剤 の存在下に反応を行うこともできる。 このような脱ハロゲン剤としては 製造法 (1)の項で述べた無機塩基, 第 3級ァミン, アルキレンォキシド類 などの脱酸剤がここでもあげられる力;, 求核試薬 A'自身を脱ハロゲン剤 Preferred solvents are the above-mentioned ethers, esters, halogenated hydrocarbons, hydrocarbons, amides, ketones, nitriles, alcohols, water and the like. The amount of the nucleophile Α ′ ′ to be used is generally 1 to 5 mol, preferably 1 to 3 mol, per 1 mol of compound [IV]. Is carried out in a temperature range of 0 to 80 ° C, preferably 20 to 60 ° C. The reaction time is usually 30 minutes to 15 hours, preferably 1 to 5 hours. The reaction can be carried out in the presence of a dehalogenating agent to promote the reaction. Examples of such dehalogenating agents include the deacidifying agents such as the inorganic bases, tertiary amines, and alkylene oxides described in the section of the production method (1); and the nucleophilic reagent A 'itself. Dehalogenating agent
. 'PI
として働かせてもよい。 この場合には Aを化合物〔 〕 1モルに対して 2 モル以上使用する。 R5 で示されるハロゲン原子は塩素, 臭素, ヨウ 素などである力;, 好ましくはヨウ素である。 U s がヨウ素である化合物 〔 IV〕はたとえば日本国公開特許公報昭 5 8 - 5 7 3 9 0に記載の方法 またはそれに準ずる方法などを用いて容易に製造できる。 . 'PI You may work as. In this case, A is used in an amount of 2 mol or more per 1 mol of the compound []. Force halogen atom represented by R 5 which is a chlorine, bromine, and iodine; preferably iodine. The compound [IV] in which U s is iodine can be easily produced, for example, by the method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-57390 or a method analogous thereto.
製造法 (3): . Production method (3):.
+ R q OH ~ >〔 f 〕 A@
本法はヒ ドロキシィ ミノ化合物〔 V〕に対して一般式 Rs' O Hで示さ れる化合物またはその反応性誘導体を反応させて化合物〔 〖 〕を合成す る方法であり, よく知られたエーテル化反応である。 R 3'は置換されて いてもよい炭化水素残基を示し, このような炭化水素残基としては R 3 における置換されていてもよい炭化水素残基としてすでにあげたものが ここでもそのままあてはめられる。 Us' O Hはそのままあるいはその反 応性誘導体として いられる。 R3' O Hの反応性誘導体は化合物〔 V J の水素原子とともに離脱する基を有する O Hの誘導体, すなわち一 般式 R 3' Yで表わされる化合物を意味する。 ここで水素原子とともに離 脱する基 Yはハロゲン原子, スルホ基, モノ置換スルホニルォキン基な どを示す。 ハロゲン原子としては塩素, 臭素, ヨウ素などがあげられる。 モノ置換スルホニルォキシ基としてはたとえばメタンスルホニルォキシ, エタンスルホニルォキン, ベンゼンスルホニルォキシ, p — ト ルエンス ルホニルォキシなどの C I 〜 4 アルキルスルホニルォキシ基, C 6 ~ 1 0 + R q OH ~> [f] A @ In this method, the compound [化合物] is synthesized by reacting a compound represented by the general formula Rs' OH or a reactive derivative thereof with a hydroxyimino compound [V]. It is. R 3 ′ represents an optionally substituted hydrocarbon residue, and as such a hydrocarbon residue, those already mentioned as the optionally substituted hydrocarbon residue in R 3 can be directly applied here. . Us'OH is used as it is or as a reactive derivative thereof. The reactive derivative of R 3 'OH means a compound [a derivative of OH having a group capable of leaving with the hydrogen atom of VJ, that is, a compound represented by the general formula R 3 ' Y. Here, the group Y released with a hydrogen atom represents a halogen atom, a sulfo group, a mono-substituted sulfonyloquine group, or the like. Halogen atoms include chlorine, bromine and iodine. Examples of the mono-substituted sulfonyloxy group include CI-4 alkylsulfonyloxy groups such as methanesulfonyloxy, ethanesulfonyloxy, benzenesulfonyloxy, p-toluenesulfonyloxy, and C 6-10.
ΟΜ?Ι IPO
ァリ一ルスルホニルォキシ基などがあげられる。 また特に化合物〔 V〕 の C t〜 4 アルキルエーテル体を製造する場合には上記の反応性誘導体 のほか, たとえばジァゾメタン, ジァゾェタンなどの C 1〜 4ジァゾァ ルカン, たとえばジメチル硫酸, ジェチル硫酸などのジ C I〜4 アルキ ル硫酸なども用いられる。 ΟΜ? Ι IPO Arylsulfonyloxy group and the like. The particular addition to the reactive derivatives of the above in the case of producing C t~ 4 alkyl ethers of the compounds [V], for example Jiazometan, C. 1 to 4 Jiazoa glucan such Jiazoetan, for example dimethyl sulfate, di such Jechiru sulfate CI-4 alkyl sulfate is also used.
一-^ ϋ
( 3 - l ) : R 3'OH を使用する場合 One- ^ ϋ (3-l): When using R 3 'OH
適当な脱水剤を用いて化合物〔 V 〕と反応させ化合物〔 I 〕を合成す る。 このような目的に使用される脱水剤としてはたとえばォキシ塩化リ ン, 塩ィ匕チォニル, ァゾジ力 ルポン酸ジアルキル +ホスフ ィ ン, N, N' 一ジンク ロ 口へキシルカルボジイ ミ ドなどがあげられ, 好ましくはァゾ ジカ /レボン酸ジェチ レ十 ト リ フエニルホス フ ィ ンである。 ァゾジカルボ ン酸ジェチル + ト リ フ'ェニルホスフ ィ ンを用いる反応は通常, 無水の溶 媒中で行なわれ, 前記のェ-テル類, 炭化水素類などが使用される。 化 合物〔 V〕 1 モルに対して R 3' 0H, ァゾジカルボン酸ェチル, ト リフ ヱ 二ルホ; ^フ ィ ンはいずれも 1〜: I. 5 モル用いられる。 0〜5 0 °Cの温 度範囲で 1〜 4日間を要する。 Compound [I] is synthesized by reacting with compound [V] using an appropriate dehydrating agent. Examples of the dehydrating agent used for such a purpose include phosphorus oxychloride, chlorodithiol chloride, dialkyl sulfonic acid dialkyl + phosphine, N, N'-dichlorohexyl hexylcarbodiimide, and the like. Preferred is azozica / diethyl benzoate triphenylphosphine. The reaction using getyl azodicarbonate + triphenylphosphine is usually carried out in an anhydrous solvent, and the above-mentioned ethers and hydrocarbons are used. Of compound (V) 1 R 3 moles' 0H, Azojikarubon acid Echiru APPLICATION riff We two sulfo; ^ Both full fin is 1: used I. 5 mol. It takes 1 to 4 days in a temperature range of 0 to 50 ° C.
( 3 - 2 ) : R g'Y を使用する場合 (3-2): When using R g'Y
R3' Yと化合物〔 ν ·〕 との反応は通常のェ—テル化反応であって, 溶 媒中で行なわれる。 溶媒としては製造法 (1)の項であげたエーテル類, ェ ス テル類, ハロゲン化炭化水素類, 炭化水素類, アミ ド類, ケ ト ン類, 二ト リル類, アルコ - レ類, 水などの溶媒もしくは混合溶媒がここでも あげられ. 好ましくは水と混合しうる溶媒と水との混合溶媒(たとえば 含水メタノ ー /レ, 含水エタノ ール, 含水アセ ト ン, 含水ジメ チルスルホ キシドなど)である。 本反応は適当な塩基の存在下に円滑に進行させる こともできる。 このような塩基としてはたとえば炭酸ナト リ ウム, 炭酸 水素ナト リ ウム, 炭酸カ リ ウムなどのアルカ リ金属塩, たとえば水酸化 ナト リウム, 水酸化力リゥムなどのアル力 リ金属水酸化物などの無機塩 基があげられる。 また本反応を Ρ Η 7. 5〜 8. 5の緩衝溶液中で行なって もよい。 原料化合物〔 V〕 1 モルに対して使用する試薬 R3' Yおよび塩 基のモル数はそれぞれ 1〜5, 1〜 1 0 , 好ましくはそれぞれ 1〜3, The reaction between R 3 ′ Y and the compound [ν ·] is a normal etherification reaction and is carried out in a solvent. Examples of the solvent include ethers, esters, halogenated hydrocarbons, hydrocarbons, amides, ketones, nitriles, alcohols, alcohols, and the like described in the section of the production method (1). A solvent such as water or a mixed solvent is also mentioned here. Preferably, a mixed solvent of water and a solvent miscible with water (eg, hydrated methanol / water, hydrated ethanol, hydrated acetate, hydrated dimethyl sulfoxide, etc.) ). This reaction can be allowed to proceed smoothly in the presence of a suitable base. Examples of such a base include alkali metal salts such as sodium carbonate, sodium hydrogen carbonate and potassium carbonate, and alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and hydroxide hydroxide. And inorganic bases. This reaction may be carried out in a buffer solution described in section 7.5 to 8.5. The number of moles of the reagent R 3 ′ Y and the base used is 1 to 5, 1 to 10 and preferably 1 to 3, respectively, relative to 1 mole of the starting compound [V].
O PI
1〜 5である。 反応温度は— 3 0〜: I 0 0 °C, 好ましくは 0 ~ 8 0°Cの 範囲である。 反応時間は 1 0分〜 1 5時間, 好ましくは 3 0分〜 5時間 であ o O PI 1 to 5. The reaction temperature is in the range of −30 to: I 0 ° C, preferably 0 to 80 ° C. The reaction time is 10 minutes to 15 hours, preferably 30 minutes to 5 hours.
( 3— 3 ) : C i〜 4 ジァゾアルカ ンを使用する場合 (3-3): When using C i- 4 diazoalkane
反応は通常溶媒中で行なわれる。 溶媒としては前記のエ-テル類, 炭 化水素類などが用いられる。 化合物〔 V〕を溶媒に溶解したのち, ジァ ゾアル力 ン化合物の溶液を加えると反応は進行する。 試薬は化合物〔V〕 1モ /レに対して 1 ~ 1 0モ ル, 好ましくは 1〜 5モル使用する。 反応は 比較的低温で行なわれ— 5 0〜 2 0°C, 好ましくは— 3 0〜0 °(:でぁる(: 反応時間は 1分〜 5時間, 好ましくは 1 0分〜 1時間である。 The reaction is usually performed in a solvent. As the solvent, the above-mentioned ethers, hydrocarbons and the like are used. After dissolving the compound [V] in the solvent, the reaction proceeds when a solution of the diazoalnic compound is added. The reagent is used in an amount of 1 to 10 mol, preferably 1 to 5 mol, per 1 mol of the compound [V]. The reaction is carried out at a relatively low temperature—50 to 20 ° C., preferably—30 to 0 ° (: ぁ( : reaction time is 1 minute to 5 hours, preferably 10 minutes to 1 hour. is there.
( 3 — 4 ) : ジ C ~ 4 アルキル硫酸を使用する場合 (3-4): When using di C- 4 alkyl sulfate
反応は通常, 水もしくは水と混合しうる溶媒と水との混合溶媒中で行 なわれる。 混合溶媒としては( 3 - 2 )項であげた含水溶媒がここでも あげられる。 この反応はたとぇ 水酸化ナ ト リ ゥム, 水酸化力 リ ウムな どのアル力 リ金属水酸化物の存在下に行なわれる。 試薬は化合物〔 V〕 1モルに対して 0.5~1 0モル, 好ましくは 1〜 2モル使用する。 反応 温度は 2 0〜 1 0 0°C, 好ましくは 5 0〜 1 0 0°Cの範囲である。 反応 時間は 1 0分〜 5時間, 好ましくは 3 0分〜 3時間である。 The reaction is usually carried out in water or a mixed solvent of water and a water-miscible solvent. Examples of the mixed solvent include the water-containing solvents mentioned in the section (3-2). This reaction is carried out in the presence of alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and sodium hydroxide. The reagent is used in an amount of 0.5 to 10 mol, preferably 1 to 2 mol, per 1 mol of compound [V]. The reaction temperature ranges from 20 to 100 ° C, preferably from 50 to 100 ° C. The reaction time is 10 minutes to 5 hours, preferably 30 minutes to 3 hours.
製造法 (4): Production method (4):
(0)n (0) n
CONH- "- ■ ノ S -CONH- "-■ ノS-
XCH2COC " XCH 2 COC "
N、 CH2A© + R1C(=S )NH2→ [; T ΊN, CH 2 A © + R 1 C (= S) NH 2 → [; T Ί
N 0 N 0
οοοβ οοοβ
OR3 OR 3
CI] CI]
本法はセフヱム化合物 [; VI〕 と一般式 I^C (=S )NH2で表わされるチ ォ尿素またはチォ尿素誘導体とを反応させて目的化合物〔 I 〕を合成す 一—。 : ヽ w丄 '
る方法である。 ィ匕合物〔 VI〕は遊離のまま, 塩あるいはエステルとして 用いられる。 化合物〔 VI〕における Xはたとえば塩素, 臭素, ヨウ素な どのハロゲン原子を示す。 〔 VI〕の塩としては製造法 (1)の項であげた化 合物〔 Π 〕 の塩(無機塩基塩, アンモニゥム塩, 有機塩基塩, 無機酸付 加塩, 有機酸付加塩など )がここでもあてはめられる。 〔 W 〕のエステ ノレとしては同じく製造法 (1)の項であげた化合物〔 II 〕 のエステル((^〜4 アルキノレエステル, C' 2 ~ 4 ァノレケニルエス テル, 。 3〜 6 シク ロアル キルエステ /レ, C 3 ~ 6 シク ロアルキル一 C 1 〜 4 ァノレキノレエステスレ, This method is Sefuwemu compound [; VI] and the general formula I ^ C (= S) Chi O by reacting urea or Chio urea derivatives objective compound represented by NH 2 (I) to synthesize an -. : ヽ w 丄 ' It is a method. The compound (VI) is used as a salt or ester as it is. X in the compound [VI] represents a halogen atom such as chlorine, bromine and iodine. As the salt of [VI], the salt of the compound [Π] (inorganic base salt, ammonium salt, organic base salt, inorganic acid addition salt, organic acid addition salt, etc.) mentioned in the section of the production method (1) can be used. But that's true. Esters likewise preparation as beauty Honoré of [W] compounds mentioned in the section of (1) [II] ((^ 1-4 alkyl Honoré esters, C '2 - 4 Anorekeniruesu ether. 3-6 consequent Roaru Kiruesute / C, C 3 to 6 cycloalkyl mono C 1 to 4
C s~10ァ リ ールエステ , C 7~ 12 ァ ラルキルエステル, 〇 1 ~ 5 ァ ルカ ノ イ ^ォキシメ チ/レエステル, C i sァ /レカ ノィ ルォキ シェチル エステルおよびこれらにさらに置換されたもの)がここでもあてはめら れる。 原料化合物〔 π〕は一般式 XCH2 CO C - CO OH〔式中の記 C s ~ 10 aryl ester, C 7 ~ 12 aralkyl ester, 〇1 ~ 5 alkanol / oxyester / ester, Cis / lecanyl oxyshetyl ester and those further substituted by This applies here as well. The starting compound [π] has the general formula XCH 2 CO C -CO OH
. !1 .! 1
'. N '. N
、OR3 , OR 3
号は前記と同意義を示す〕で表わされる化合物またはその反応性誘導体 と記号の 7—ァ ミ ノ化合物〔 II 〕 またはその塩あるいはエステルとを, 製造法 (1)で述べた方法と同様の方法を用いて製造することができる。 一 般式 X C H2 C 0 C - C 00 Hで表わされる化合物またはその反応性誘 The symbols are as defined above.) Or a reactive derivative thereof and the symbol 7-amino compound [II] or a salt or ester thereof in the same manner as in the production method (1). It can be manufactured using a method. Compound represented by general formula XCH 2 C 0 C-C 00 H or its reactivity
0R3 0R 3
導体はそれ自体公知の方法またはそれに準ずる方法によって容易に製造 できる。 化合物〔 VI〕 と RiC(=5)NH2との反応は通常溶媒中で行なわ れる。 溶媒としてはたとえばジォキサン, テ ト ラ ヒ ドロフ ラ ン, ジェチ ルエーテルなどのエーテル類, たとえばメ タノ ール, エタノ ール, n — プロノ ノ—ルなどのアルコ ール類, ジメチルホルムア ミ ド, ジメ チルァ セ トア ミ ドなどのア ミ ド類, などが用いられる。 チォ尿素またはその誘 導体
)NH2の使用量は化合物〔 VI〕に対して通常 1〜5モル, ザ The conductor can be easily manufactured by a method known per se or a method analogous thereto. The reaction of compound [VI] with RiC (= 5) NH 2 is usually performed in a solvent. Examples of the solvent include ethers such as dioxane, tetrahydrofuran, and methyl ether; alcohols such as methanol, ethanol, n-pronanol, dimethylformamide, and dimethylformamide. Amides such as thiacetamide are used. Thiourea or its derivative ) The amount of the NH 2 is usually 1 to 5 moles relative to compound (VI), The
'PI ' .
好ましくは 1〜 3モルである。 反応は 0〜 1 0 0 °C , 好ましくは 2 0 °Cの温度範囲で行なわれる。 反応時間は通常 3 0分〜 1 5時間, 好まし くは 1〜 5時間である。 'PI'. Preferably it is 1-3 mol. The reaction is carried out at a temperature in the range of 0 to 100 ° C, preferably 20 ° C. The reaction time is usually 30 minutes to 15 hours, preferably 1 to 5 hours.
上記した製造法 (1卜 (4)においては化合物〔 I 〕がシン 〔 Z 〕 ―, ア ン チ〔 E〕 -異性体の混合物として得られる場合がある。 混合物から所望 のシン異性体を分離するには自体公知の方法またはそれに準ずる方法が 適用される。 それらの方法としてはたとえば溶解性, 結晶性などの差を 利用した分別法, クロマ トグラ フィ ーによる分離, エステル誘導体の加 水分解速度の差を利用した分離法などがあげられる。 In the above-mentioned production method (in the method (4), the compound [I] may be obtained as a mixture of syn [Z]-and anti [E]-isomers. The desired syn isomer is separated from the mixture. For this purpose, a method known per se or a method analogous thereto is applied, for example, a fractionation method utilizing differences in solubility, crystallinity, etc., separation by chromatography, rate of hydrolysis of an ester derivative, and the like. Separation method utilizing the difference between the two.
保護基除去法: 前記した通り ーラクタムおよびべプチド合成の分野 ではァミノ基の保護基は充分に研究されていてその保護法はすでに確立 されている。 また, ァミノ保護基の除去法も同様に確立されており, 本 発明においても保護基の除去は従来の技術をそのまま利用できる。 たと えば'モノノヽロゲノアセチル基(ク ロ ロァセチル, ブロモアセチルなど) はチ才尿素により, アルコキシカルボニル基( メ トキシカルボニル, ェ トキシカルボニル, t e r t —ブ ト キシカルボ二ルなど)は酸(たとえば 塩酸など)により, ァラルキル才キシカルボニル基( ベンジルォキシカ ノレボニノレ, p —メチノレべンジノレォキ シカルボ二-ル, p—二 ト ロべンジノレ ォキシカルボニルなど)は接触還元により, 2 , 2 , 2— ト リクロロェ トキシカルボニルは亜鉛と酸(たとえば酢酸など )により除去すること ができる。 一方, 合成中間体として化合物〔 I 〕がエステル化されてい る場合もそれ自体公知の方法またはそれに準ずる方法によってエステル 残基を除去すること力';できる。 たとえば 2 —メチルスルホニルェチルェ ステル アルカ リ(二より, ァラルキルエステル ( ベン ジルエステル, p ー メ ト キシベンジルエステル, p —二 ト ロべンジルエステルなど ^ ^ま酸
(たとえばト リフ ル才ロ酢酸など )または接触還元により, 2, 2 , 2 一ト リクロ口ェチルエステルは亜鉛と酸(たとえば酢酸など )により, シ リ ノレエステノレ ( ト リメチノレシ リ ノレエステ レ, t e r t —ブチルジメチノレ シリルエス テルなど )は水のみによリ除去することができる。 Protecting group removal method: As described above-in the field of lactam and peptide synthesis, protecting groups for amino groups have been well studied and the protection method has already been established. In addition, a method for removing an amino protecting group has been established in the same manner, and in the present invention, the conventional technique can be used as it is for removing the protecting group. For example, 'monoperogenoacetyl groups (chloroacetyl, bromoacetyl, etc.) are substituted by urea, and alkoxycarbonyl groups (methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl, etc.) are converted to acids (eg, hydrochloric acid, etc.). As a result, the aralkyl radical carbonyl group (benzyloxy benzoyl benzoyl, p-methynolebenzinoleoxy carbyl, p-2 trobenzinoleoxy carbonyl, etc.) is reduced by catalytic reduction, and 2,2,2-trichloroethoxy carbonyl is converted to zinc. And an acid (for example, acetic acid). On the other hand, when the compound [I] is esterified as a synthetic intermediate, the ester residue can be removed by a method known per se or a method analogous thereto. For example, 2-methylsulfonyleester ester (from aralkyl esters (benzyl ester, p-methoxybenzyl ester, p-dibenzyl ester, etc.) The 2,2,2,1-trichloroethyl ester can be converted to zinc (by acetic acid, for example) or by catalytic reduction (e.g., trichloroacetic acid) to give 2,2-, 2-trichloroethyl ester with zinc and an acid (such as acetic acid). Can be removed only with water.
化合物〔 I 〕の精製法:は)〜 (4)に詳記した各種製造法により, また要 すれば上記の保護基除去法をつづいて行うことにより反応混合物中に生 成した化合物〔 I 〕は抽出法, カラムクロマ トグラフ ィ ー, 沈澱法, 再 結晶法などの公知の処理手段によって単離精製することができる。 一方, 単離された化合物〔 I 〕を公知の方法により所望の生理学的に受容され る塩または代謝上不安定な無毒のエステルへと変換することもできる。 セフエム化合物〔 I 〕のスルホキシ ド( π = 1 )は化合物〔 I 〕 ( n = 0 )の酸化反応により得られる。 このような酸化反応はよく知られた 反応である。 セフエム環中の硫黄原子の酸化に適した酸化剤としてはた とえば酸素, 過酸, ヒ ド ロパー才キシ ド, 過酸化水素などがあげられ, 過酸はその場で酸と過酸化物の混和によって製造することもできる。 反 応は通常, 溶媒中で行なわれる。 この反応に用いられる溶媒としてはた とえばジォキサン, テ ト ラヒ ドロフラ ンなどのエーテル類, たとえばジ ク ロロメタ ン, ク ロ 口ホルム, クロ口ベンゼンなどのノ、ロゲンィ匕炭ィ匕水 素類, たとえばギ酸, 酢酸, ト リフルォロ酢酸などの有機酸類, たとえ ばジメチルホルムァ ミ ド, ジメチルァセ トア ミ ドなどのァ ミ ド類など力 ^ あげられる。 反応温度は一 2 0〜8 0 °Cの範囲で行なわれるが, なるベ く低い温度, 好ましくは— 2 0〜2 0 °Cで行なわれる。 n = 0を示す式 〔 I 〕の化合物の酸化に際しては S—立体配位をもつスルホキシ ドが主 に生成することが一般に知られている。 R—および S —ス /レホキ シドは それらの異なる溶解性およびク口マトグラフィ 一分離に際しての異なる ΟΜΡΙ Purification method of compound [I]: Compound [I] produced in the reaction mixture by the various production methods detailed in (a) to (4) and, if necessary, by following the above-mentioned protective group removal method. Can be isolated and purified by known processing means such as extraction, column chromatography, precipitation, and recrystallization. On the other hand, the isolated compound [I] can be converted into a desired physiologically acceptable salt or a metabolically unstable nontoxic ester by a known method. The sulfoxide (π = 1) of the cefm compound [I] is obtained by an oxidation reaction of the compound [I] (n = 0). Such an oxidation reaction is a well-known reaction. Oxidizing agents suitable for the oxidation of sulfur atoms in the cefm ring include, for example, oxygen, peracids, hydroxy peroxides, hydrogen peroxide and the like. It can also be produced by mixing. The reaction is usually performed in a solvent. Solvents used in this reaction include, for example, ethers such as dioxane and tetrahydrofuran; for example, dichloromethane, chloroform, benzene, etc .; For example, organic acids such as formic acid, acetic acid, and trifluoroacetic acid, and amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide. The reaction is carried out at a temperature in the range of 120 to 80 ° C, but preferably at a temperature as low as possible, preferably at −20 to 20 ° C. It is generally known that upon oxidation of a compound of the formula [I] showing n = 0, a sulfoxide having an S-configuration is mainly produced. R— and S—S / rephoxides differ in their different solubilities and chromatographies in one separation.
警。
移動速度によって分離される。 スルホキシドを得るための上記の酸化反 応は前記 (1)〜(4)の反応の前に行なつてもよいし. また (1)〜(4)の反応の後 に行なってもよい。 Police. Separated by moving speed. The above oxidation reaction for obtaining the sulfoxide may be carried out before the above-mentioned reactions (1) to (4), or may be carried out after the above-mentioned reactions (1) to (4).
本発明の化合物〔 I 〕は公知のぺ二シリン剤, セフ ァロスポリ ン剤と 同様に注射剤, カプセル剤, 錠剤, 顆粒剤として非経口または経口的に 投与できる。 投与量は前記したような病原性細菌に感染した人および動 物の体重 1 あたり 0. 5〜 8 0 ^ノ日, より好ましくは 1〜 2 日 を 1 日 3 ~ 4回に分割して投与すればよい。 注射剤として用いられる場 合の担体は、 たとえば蒸留水, 生理食塩水などが用いられ、 カプセル剤, 粉剤, 顆粒剤. 錠剤として用いられる場合は、 公知の薬学的に許容され る賦形剤(たとえばデンプン, 乳糖, 白糖, 炭酸カルシウ ム, リ ン酸力 ルシゥ ムなど ), 結合剤(たとえばデンプン, ア ラビアゴム, カルボキ シメチ /レセルロース, 七 ドロキシフ。口ピノレセルロ ース, 結晶セルロース など), 滑沢剤(たとえばステア リ ン酸マグネシゥ ム, タルクなど), 崩壊剤(たとえば力 ルボキシメチルカルシウ ム, タルクなど)と混合し て用いられる。 The compound [I] of the present invention can be administered parenterally or orally as injections, capsules, tablets, and granules in the same manner as known penicillins and cephalosporins. The dosage is 0.5 to 80 days per body weight of humans and animals infected with pathogenic bacteria as described above, more preferably 1-2 days divided into 3 to 4 times a day. do it. When used as an injection, the carrier is, for example, distilled water, physiological saline and the like, and is used as a capsule, powder, granule. When used as a tablet, a known pharmaceutically acceptable excipient ( For example, starch, lactose, sucrose, calcium carbonate, calcium phosphate, etc.), binders (for example, starch, gum arabic, carboxymethy / recellulose, heptadroxyfif. Mouth pinorecellulose, crystalline cellulose, etc.), lubrication (Eg, magnesium stearate, talc, etc.) and disintegrants (eg, carboxymethyl calcium, talc, etc.).
本発明はさらに下記の参考例, 実施例で詳しく説明されるが、 これら の例は単なる実例であって本発明を限定するものではなく、 また本発明 の範囲を逸脱しない範囲で変化させてもよい。 The present invention will be further described in the following Reference Examples and Examples, but these examples are merely examples and do not limit the present invention, and may be changed without departing from the scope of the present invention. Good.
参考例, 実施例のカラムクロマ トグラ フィにおける溶出は TLC (Th i n Laye r Ch r oma t og r aphy,薄層クロマ トグラフィ )による観察下に 行なわれた。 T L C観察においては、 T L Cプレー トとしてメ ルク (Me r ck )社製の B O F 254を、 展開溶媒としてはカラムクロマトグラ フィで溶出溶媒として用いられた溶媒を、 検出法として U V検出器を採 用した。 カラム用シリ カゲルは同じく メ ルク社製のキーゼルゲル 60(23 0 Elution in the column chromatography of the reference example and the example was performed under observation by TLC (Thin Layer Chromatography). In TLC observation, BOF 254 manufactured by Merck was used as the TLC plate, the solvent used as the elution solvent in the column chromatography was used as the developing solvent, and a UV detector was used as the detection method. did. The silica gel for the column is also Kieselgel 60 (230
OMPI
〜4 0 0メ ッ シュ )を用いた。 *セフ アデッタ ス" はフアルマシア · フ ァイ ン ' ケミカルズ社 (Pharmac i c Fine Chemi cal s ) 製である c X AD - Π樹脂はロ ーム . ア ン ド . ハー ス社(Rohm & Haas Co.)製 である。 NMRスぺク トルは内部または外部基準としてテ トラメチルシ ランを用いて XL— lOOA(lOO iz), EM 390 ( 90MHz )または T 60 (60MHz )型スぺク トロメ ータ一で測定し, 全 S値を ppmで示した。 OMPI ~ 400 mesh) was used. * Sef Adetta scan "in Pharmacia-off § Lee emissions' Chemicals, Inc. (Pharmac ic Fine Chemi cal s) is made of c X AD -.. Π resin is ROHM A down-de Haas Company (Rohm & Haas Co. The NMR spectrum is an XL-lOOA (lOOiz), EM390 (90MHz) or T60 (60MHz) type spectrometer using tetramethylsilane as an internal or external reference. All S values were measured in ppm.
混合溶媒において ( )内に示した数値は各溶媒の容量混合比である。 ま た溶液における は溶液 1 0 0 中の 数を表わす。 また参考例, 実施 例中の記号は次のような意味である。 In the mixed solvent, the numerical value shown in parentheses is the volume mixing ratio of each solvent. Represents the number in solution 100. The symbols in the reference examples and working examples have the following meanings.
s : シンク"レッ ト (singlet ) s: sink "singlet"
d : ダブレ ツ 卜 do u b 1 e t ) d: Double stub do u b 1 e t)
t : ト リプレッ ト ( t r i p 1 e t ) t: triplet (t r i p 1 e t)
q : クヮルテツ ト (quartet ) q: quartet
A B q : AB型ク ヮルテツ ト (AB type quartet ) A B q: AB type quartet
d . d : タ、 'フ'ノレ タ'-フ"レ ッ ト ( d o u b 1 e doublet ) d. d: 、, フ 'レ タ タ---"レ (
m : マルチプレッ ト (mu 1 t i 1 e t ) m: Multiplet (mu 1 t i 1 e t)
b r . : ブロー ド ( b r o a d ) b r.: Broad (b ro a d)
J : カップリ ンク"定数 (coup 1 i ng constant ) J: Coupling 1 constant
H z :ヘルツ (He r z ) Hz: Hertz
: ミ リ ク"ラム (mi 1 I i gr am) : Mi 1 "i gr am"
9 : グラム (gram) 9: gram
m£ : ミ リ リ ーター (mi 11 i 1 i t e r ) m £: Milli Reiter (mi 11 i 1 i t er)
& : リーター ( 1 i t e r ) &: Reiter (1 i t e r)
: ノヽ0—セ ン ト (percent ) : No 0— cent (percent)
DMSO: ジメチルスルホキシド ( d ime thy 1 sul f ox ide ) DMSO: dimethyl sulfoxide (dim thy 1 sul fox ide)
CMPI CMPI
'i V/IFO .
D20 :重水 'i V / IFO. D 20 : Heavy water
発明を実施するための最良の形態 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
—〔 2 ( 2—クロロアセ トアミ ドチアゾールー 4一ィ ル )一 2 (Z) ーメ トキシイ ミ ノアセ トア ミ ド〕一 3—( 3—ォキソブチリ ルォキ シメチノレ )一 3—セフエムー 4一力ルボン酸。 — [2 (2-Chloroacetamidothiazole-4-1yl) -1 2 (Z) -methoxyiminoacetamide] -1 3- (3-oxobutyryloxymethylin) -3-cefumo4 1-Rubonic acid.
7 ^—ア ミ ノー 3— ( 3 —ォキソブチリ ルォキシメチル )一 3—セフ ェムー 4一力ルボン酸 1 5 7 ^をテト ラ ヒ ドロフラン 5 0 0 ¾ と水 500 の混合液に懸濁させ, かきまぜながら炭酸水素ナト リ ウム 1 41 ^を 少量づっ加える。 ついで 5 °Cで攪拌しながら 2— ( 2—クロロアセ トァ ミ ドチアゾ一ルー 4一ィ ル)一 2 (Z)—メ トキシィ ミ ノァセチルクロラ イド ·塩酸塩 1 5 0. ^を 2 Q分間で加え、 同温度で反応液をさらに 1'時 間かきまぜる。 反応終了後 1 0 %塩酸で P H 3.0としたのち, 反応液を 酢酸ェチルーテト ラヒ ドロフラ ( 1 : 1 ) の混合液各 1 で 2回抽出 する。 抽出液を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減 ΙΞ で溶媒を留去し, 得られた無色粉末を酢酸ェチル 2 0 0 で洗浄後 取すると標記化合物 2 5 3 ^が得られる。 7 ^ —Amino 3 -— (3-oxobutyryloxymethyl) -1—3-cephemu 4—Rubonic acid 1 5 7 ^ is suspended in a mixture of 500 ml of tetrahydrofuran and 500 parts of water, and stirred. Add sodium hydrogen carbonate 1 41 ^ little by little. Then, while stirring at 5 ° C, add 2- (2-chloroacetamidothiazo-1-yl) -1- (Z) -methoxyminoacetyl chloride hydrochloride 150. ^ over 2Q minutes, Stir the reaction solution for another 1 'hour at the same temperature. After completion of the reaction, the pH is adjusted to 3.0 with 10% hydrochloric acid, and the reaction mixture is extracted twice with each 1 mixture of ethyl acetate-tetrahydrofura (1: 1). The extract is dried over anhydrous magnesium sulfate, the solvent is distilled off under reduced pressure, and the obtained colorless powder is washed with ethyl acetate 200 and collected to obtain the title compound 253 ^.
元素分析値: C2 0H 20CIN5O 9S 2として、 Elemental analysis: as C 2 0 H 2 0 CIN 5 O 9 S 2
計算値 ): C, 41.85 ;H, 3.51 ;N, 12.20. Calculated)): C, 41.85; H, 3.51; N, 12.20.
実測値^: C. 41.39 ; H, 3.57; N, 11.94. Found ^: C. 41.39; H, 3.57; N, 11.94.
I Rスペク ト ル ? ^αΓ1: 1780, 1740, 1700, 1655, IR spectrum? ^ Α 1 : 1780, 1740, 1700, 1655,
1540, 1410. 1540, 1410.
NMRスペク トル ( d 6—DMSO ) 3: 2.20 ( 3Η, s ), 3.45と 3.68 C 2H, ABq,J = l 8Hz ), 3.65 ( 2H, s ), 3.92 ( 3H, s ), 4.38 ( 2H, s ), 4.79と 5.09 ( 2H, ABq, J =l 3Hz ), 5.18 NMR spectrum (d 6 —DMSO) 3: 2.20 (3Η, s), 3.45 and 3.68 C 2H, ABq, J = l 8 Hz), 3.65 (2H, s), 3.92 (3H, s), 4.38 (2H, s), 4.79 and 5.09 (2H, ABq, J = l 3Hz), 5.18
, OM?I
( lH, d, J = 5Hz ), 5.85 ( lH, d . d, J = 5Hzと 8H z), 7., OM? I (lH, d, J = 5 Hz), 5.85 (lH, d. d, J = 5 Hz and 8 Hz), 7.
( lH, s ), 9.66 ( lH, d, J = 8Hz ), 12.85 ( lH, b r . s )。 参考例 2 (lH, s), 9.66 (lH, d, J = 8Hz), 12.85 (lH, br.s). Reference example 2
7 - 〔 2 — ( 2 —ァミノチアゾールー 4一ィ ル )一 2 (Z) -メ トキ シイ ミ ノアセ トア ミ ド〕一 3 — ( 3 —才キソブチ リ ルォキシメチル )一 3—セフ エムー 4一カ ルボン酸。 7-[2-(2-Aminothiazole-4-yl)-1-2 (Z) -Methoxymethylnoacetoamide]-3-(3-oxobutyryloxymethyl)-3-Sef-emu-4- carboxylic acid.
Ί β— 2— 〔 2 - ( 'クロロアセ トアミ ドチアゾールー 4ーィル )一 2 (Ζ)—メ ト キシイ ミ ノ アセ トア ミ ド〕 一 3— ( 3—ォキソブチ リ /レ才キ シメチ /レ )一 3—セ フ エムー 4一力ルボン酸 1 5 O をテト ラ ヒ ドロ フ ラ ン一水(. 1 ·· 1 )の混合液 5 0 0 に溶解後メチルジチォカ /レバミ ン 酸ナ ト リ ウ ム 5 1 ^を加え, 2 0°Cで 3時間かきまぜる。 反応液に酢酸 ェチル 2 0 0 を加え、 有機層を除去し水層を 1 0 塩酸で P H 4にす ると油状物が析出する。 これをテトラヒ ドロフ ラ ン—酢酸ェチル(1:1) の混合液 1 Άで抽出し、 さらにホ層を n—ブタ ノ —ル 2 0 0 πで抽出す る。 抽出液を無水硫酸ナト リ ゥムで乾燥後, 減圧下で溶媒を留去する。 残留物に酢酸ェチル 2 0 を加えてかきまぜ, 析出した結晶を 取す ると標記化合物 9 0 が得られる。 Ίβ—2— [2-('Chloroacetoamidothiazole-4-yl) -1 2 (Ζ) -Methoxyiminoacetoamide] 1 3— (3-oxobutyri / reokiseki / re) -1 3 —Sef-Emu 4 Dissolved rubonic acid 15 O in a mixed solution 500 of tetrahydrofuran mono-water (.1 · 1), then dissolved methyl dithioca / sodium levamine 5 1 Add ^ and stir at 20 ° C for 3 hours. To the reaction mixture, ethyl acetate (200) was added, the organic layer was removed, and the aqueous layer was made up to pH 4 with 10 hydrochloric acid to precipitate an oil. This is extracted with 1 ml of a mixture of tetrahydrofuran and ethyl acetate (1: 1), and the aqueous layer is further extracted with n-butanol 200π. The extract is dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent is distilled off under reduced pressure. Ethyl acetate 20 is added to the residue and stirred, and the precipitated crystals are collected to give the title compound 90.
元素分析値: 。 1 8 1 9?^ 50882として, Elemental analysis:. 1 8 1 9 ? ^ 5 0 8 8 2
計算値 ): C, 42.19 ;Η, 4.30 ;Ν, 13.55. Calculated)): C, 42.19; Η, 4.30; Ν, 13.55.
実測値 ( ) : C, 41.94 ; H, 4.11 ; N, 13.59. Found (): C, 41.94; H, 4.11; N, 13.59.
I Rスぺク ト ノレ レ cm- 1 : 1770, 1710, 1620, 1520. NMRスペク ト ル(d6- DMSO ) : 2..20 ( 3 s.), 3.43と 3.65 ( 2H=ABq, J =i 8Hz ), 3.63 ( 2H, s ), 3.86 ( 3H, s ), 4.78と 5.06 ( 2H, ABq, J=l 3Hz ), 5.1 ( lH,d, J=5Hz )., 5.79 ( 1 H, d . d, J=5Hzと 8Hz ), 6.73 ( 1 H, s ), 7.17
( 2H, b r . ), 9.56 ( lH, d, J=8Hz )。 IR-spectrum Honoré Les cm - 1: 1770, 1710, 1620, 1520. NMR -spectrum le (d 6 - DMSO): ( . 3 s) 2..20, 3.43 and 3.65 (2H = ABq, J = i 8Hz), 3.63 (2H, s), 3.86 (3H, s), 4.78 and 5.06 (2H, ABq, J = l 3Hz), 5.1 (lH, d, J = 5Hz)., 5.79 (1H, d d, J = 5Hz and 8Hz), 6.73 (1H, s), 7.17 (2H, br.), 9.56 (lH, d, J = 8Hz).
参考例 3 Reference example 3
1 β - i 2—( 2—ァ ミノチアゾール一 4一ィ ル )一 2 (Z)—ェ ト キ シイ ミ ノ アセ トア ミ ド〕一 3— ( 3—ォキソブチリルォキシメチル )一 3—セフ エムー 4一力 ルボ ン酸。 1 β-i 2— (2-aminothiazole-14yl) -1 2 (Z) -ethoxyminoacetamide] -1 3— (3-oxobutyryloxymethyl) 1-3 —Sef Emu 4 rubonic acid.
2 - ( 2—ァ ミ ノ チアゾ一 ノレ一 4ーィル )一 2 (Z)—エ ト キ シィ ミ ノ 酢酸 2 3 ^をジメチル *ルムアミ ド 1 0 0 meじとかし、 1ー ヒ ドロキシ ベンゾト リアゾール 1 5 ^とジシクロへキシルカルボジイ ミ ド 2 0.6 ^ を加えて 2 0°Cで 1.5時間かきまぜる。 不溶物を 去後、 液 — アミ ノ ー 3'—( 3—才キソ ブチリ ル才キシメ チル )一 3 —セ フエ ムー 4 一カルボン酸 3 1 ^と ト リ エチルア ミ ン 2 8 のジメチ /レホルムァ ミ ド 1 0 溶液に氷冷下で加える。 反応液を 2 0°Cで 3時間かきまぜたの ちエーテル 5 0 を加え, 析出固型物を '戸取する。 これを水 1 0 0π に溶解後 1 0 塩酸で Ρ Ή.3.0 したのち、 メチルェチルケ ト ン各 200 で 2回抽出する。 抽出液を水洗し無水硫酸ナト リウムで乾燥後, 減圧 下で溶媒を留去し得られた固型物を酢酸ェチルで洗浄すると標記化合物 3 1 ^が得られる。 . 2- (2-aminothiazol-1-yl) -1 2 (Z) -ethoxyminoacetic acid 23 3 ^ is converted to dimethyl * lumamide 100 me, 1-hydroxybenzotriazole 1 Add 5 ^ and dicyclohexylcarbodiimide 20.6 ^ and stir at 20 ° C for 1.5 hours. After removing the insoluble matter, the liquid —amino 3 ′ — (3-year-old oxobutylyl-year-old xymethyl) 1-3—cefume 4 monocarboxylic acid 31 1 ^ and triethylamine 28 dimethyl / reforma Add to the mid 10 solution under ice-cooling. Stir the reaction solution at 20 ° C for 3 hours, add ether 50, and remove the precipitated solid. After dissolving this in water 100π, making it Ή.3.0 with 10 hydrochloric acid, extract twice with 200 each of methylethyl ketone. The extract is washed with water, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent is distilled off under reduced pressure. The obtained solid is washed with ethyl acetate to obtain the title compound 31 ^. .
I Rスぺク ト ル i-cm" 1 : 1780, 1720, 1 660. IR spectrum i-cm " 1 : 1780, 1720, 1660.
NMRスペク ト ル (d 6-DMSO ) S: 1.30 ( 3H, t, J = 7.5Hz ), 2.25 ( 3H, s ), 3.45- 3.65 ( 4H, m ), 4.20 (2H,q, J=7.5Hz),NMR-spectrum le (d 6 -DMSO) S: 1.30 (3H, t, J = 7.5Hz), 2.25 (3H, s), 3.45- 3.65 (4H, m), 4.20 (2H, q, J = 7.5Hz ),
4.70と 5.10 ( 2H, ABq, J =l 8Hz ), 5.25 ( 2H,d, J=5Hz\ 5.90 ( lH, d .
と8112 ), 6.90 ( lH, s ), 7.20-4.70 and 5.10 (2H, ABq, J = l 8Hz), 5.25 (2H, d, J = 5Hz \ 5.90 (lH, d. And 8112), 6.90 (lH, s), 7.20-
7.80 ( 2H, b r . ), 9.80 ( lH, d, J = 7.5Hz )0 7.80 (2H, br.), 9.80 (lH, d, J = 7.5 Hz) 0
参考例 4 Reference example 4
7 ^—〔 2 - ( 2—ァ ミ ノチアゾ一ル一 4一ィ ル )一 2 (Z) —ァ リ ル
才キシイ ミ ノアセ トア ミ ド〕 一 3一 ( 3—ォキソブチ リ ルォキシメチル) 一 3—セフ エム ー 4一力ルボン酸。 7 ^ — [2-(2-Aminothiazole-1-4l) -1 2 (Z) -Aryl 1- (3-oxobutyryloxymethyl) 1-3-Cef- 4
2 - ( 2—ァミ ノ チアゾー ル一 4一イ ル 一 2 (Z)—ァ リ ルォキシィ ミ ノ酢酸 1 3 ^をジメチルホルムアミ ド 5 O ra にと力 し、 1 -ヒ ドロキ シベンゾ ト リ アゾール 8 と ジシクロへキ シルカ ルホ'ジィ ミ ド 1 0.3 を加え 2 (TCで 3時間かきまぜる。 不溶物を 去後、 ^液を 7 —アミ ノー 3 —( 3—ォキ ソプチ リ ルォキシメチル ) ー 3 —セフエム ー 4一力 ルボン酸 16^と卜 リエチルァミン 10^のジメチルホルムアミ ド 5 0 m£溶液 に氷冷下で加える。 反応液を 2 0 °Cで 3時間かきまぜたのち、 エーテ ル 5 0 0 を加えエーテル層を除き, 得られた不溶物を水 5 0¾ に溶解 させついで 1 0 塩酸で P H 3.0に調整すると粗製の標記化合物が得ら れる。 これを酢酸 チルーテ ト ラ ヒドロフ ラ ン ( 1 : 1 )の混合液 500 に溶解させ無水硫酸マグネシゥ ムで乾燥後、 活性炭処理しついで減圧 下で溶媒を留去すると標記化合 2 5 ^が無晶形粉末として得られる。 I Rスペク トル レ ¾ cm— 1 : 1780, 1720, 1660, 1620.2-(2-aminothiazole 14-yl-1 2 (Z) -aryloxyminoacetic acid 13 ^ is applied to dimethylformamide 5 O ra to form 1-hydroxybenzotriazole. Add azole 8 and dicyclohexyl carbodiimide 10.3 and add 2 (stir with TC for 3 hours. After removing the insoluble matter, remove the ^ solution and add 7-amino 3-(3-oxobutyryloxymethyl) -3 —CefM-4 Add to a solution of 16 ^ rubonic acid 16 ^ and triethylamine 10 ^ in 50 ml of dimethylformamide under ice-cooling, stir the reaction mixture at 20 ° C for 3 hours, and then add 50 ml of ether. 0 was added to remove the ether layer, the resulting insolubles were dissolved in 50¾ of water, and then adjusted to pH 3.0 with 10 hydrochloric acid to obtain the crude title compound. : Dissolve in mixed solution 500 of 1) and dry with anhydrous magnesium sulfate. After treatment with activated carbon and removal of the solvent under reduced pressure, the title compound 25 ^ is obtained as an amorphous powder IR spectrum level ¾cm- 1 : 1780, 1720, 1660, 1620.
NMRスペク ト ル (d 6— DMSO ) S : 2.30 ( 3H, s ), 3.45-3.66 ( 4H, m), 4.64 ( 2H, d, J=6Hz ), 4.80 -5.10 ( 2H,ABq, J=l 8Hz ), 5.23 ( 2H, d, J = 9Hz ), 5.26 ( 2¾(1, J=5Hz), 5.90 ( lH, d. d, J = 5Hzと 9Hz ), 5.90 - 6.20 ( 1 H, m), 6.80 ( lH, s ), 7.20— 8.00 ( 2H,br.), 9.83 (1¾ d, J=9Hz)0 参考例 5 NMR spectrum (d 6 — DMSO) S: 2.30 (3H, s), 3.45-3.66 (4H, m), 4.64 (2H, d, J = 6Hz), 4.80-5.10 (2H, ABq, J = l 8Hz), 5.23 (2H, d, J = 9 Hz), 5.26 (2¾ (1, J = 5 Hz), 5.90 (lH, d.d, J = 5 Hz and 9 Hz), 5.90-6.20 (1 H, m), 6.80 (lH, s), 7.20—8.00 (2H, br.), 9.83 (1¾d, J = 9Hz) 0 Reference example 5
Ί β -〔 2— ( 2—ァ ミノ チアゾ一ル一 4—ィ ル )一 2 (Z)-(tert ーブ トキシカルボニルメ ト キシイ ミノ ァセ トア ミ ド〕一 3—( 3—才キ ソブチリ ルォキ シメチル)一 3—セフ ェム ー 4一力ルボン酸。 Ί β- [2- (2-aminothiazol-1-yl) -1 2 (Z)-(tert-butoxycarbonylmethoxy-aminoacetamide) -1 3- (3-year-old Sobutyryl oxymethyl) 1-Sephem 4 Rubinic acid.
2 - ( 2—ァ ミ ノチアゾールー 4一ィ ル )一 2 (Z)— t e r t —ブ ト キ
シカルボエルメ ト キシィ ミ ノ醉酸 6.0 ^をジメチルホルムア ミ ド 2 0 m£ (二と力 し、 1ーヒ ドロキシベンゾト リ アゾール 3.5 ^とジシクロへキシ ル力 ルボジイミ ド 4.4 ^を加え 2 0 °Cで 3時間かきまぜる。 不溶物を'戸 去後, 液を Ί β -マ ミノ ー 3—( 3 -才キソブチ リ ルォキシメチル ) 一 3—セフ エム ー 4一カルボン酸 6.2 ^と ト リ エチルァミ ン 4· 0 のジ メチルホルムアミ ド 2 0 ¾溶液に氷冷下で加え, 反応液を 2 0 °Cで 8時 間かきまぜる。 エーテル 2 0 0? ^を反応液に加えエーテル層を除去し, 残渣を水 5 0 J ^に溶解させた後 1 0 %塩酸で pH 4に調製すると結晶が 析出する。 これを 取して水洗後ェチルエーテルで洗浄し, 乾燥すると 標記化合物 1 0 が得られる。 2-(2-aminothiazole-4-yl) -1 2 (Z)-tert-butoxy Cicarboemethoximinino acid 6.0 ^ was added to dimethylformamide 20 m £ (two-sided, 1-hydroxybenzotriazole 3.5 ^ and dicyclohexyl force rubodiimid 4.4 ^ were added at 20 ° C) After removing the insoluble matter, remove the solution and remove the solution of β-mamino-3- (3-year-old oxobutyryloxymethyl) -13-cefm-4 monocarboxylic acid 6.2 ^ and triethylamine 4.0 Dimethylformamide is added to a 20 2 solution under ice-cooling, and the reaction mixture is stirred for 8 hours at 20 ° C. Ether 200 0 is added to the reaction mixture, and the ether layer is removed. When dissolved in 0 J ^ and adjusted to pH 4 with 10% hydrochloric acid, crystals precipitate, which are washed with water, washed with ethyl ether, and dried to give the title compound 10.
NMRスぺク トル (d 6-DMSO ) S: 1.50 ( 9H, s ), 2.20 ( 3H, s ), 3.40 -3.60 ( 4H, m )? 4.40 ( 2H, s ), 4.80と5.10 (2 ABq, J= 14Hz ), 5.20 ( lH, d, J=5Hz ), 5.80 ( lH, d . d, J = 5Hzと 8Hz ), 6.70 ( lH, s ), 7.20 - 7.80 ( 2 H, b 9.30 ( lH, d, J = 8Hz )。 NMR spectrum (d 6-DMSO) S: ? 1.50 (9H, s), 2.20 (3H, s), 3.40 -3.60 (4H, m) 4.40 (2H, s), 4.80 and 5.10 (2 ABq, J = 14Hz), 5.20 (lH, d, J = 5Hz), 5.80 (lH, d.d, J = 5Hz and 8Hz), 6.70 (lH, s), 7.20-7.80 (2H, b 9.30 (lH, d, J = 8 Hz).
O PI O PI
fTb 0
参考例 6 f Tb 0 Reference example 6
1 β - i 2— ( 2—ァミノチアゾールー 4—ィ ル - 2 Z J - ( 1 ーメチルー 1 - tert一ブト キシカルボニル )ェ ト キシィ ミ ノァセ トァ ミ ド〕一 3—セフ エム一 4一力ルボン酸。 1 β-i 2— (2-aminothiazol-4-yl-2ZJ- (1-methyl-1-tert-butoxycarbonyl) ethoxyminoacetamide) 1-3-CFM-1 Rubonic acid.
2 - ( 2—ァ ミ ノ チアゾールー 4一イ ル 一 2 — —メチル 一 1一 ter t—ブ トキシカルボニル ) エ ト キシィ ミ ノ酢酸 1 6 ^をジメ チルホルムア ミ ド 3 0 m£l:と力 し、 1—ヒ ドロキ シべンゾト リ アゾ一ル 8.0 ^とジシクロへキシルカルボジィミ ド 1 1 ^を加えて 2 0 °Cで 1 0 時間かきまぜる。 不溶物を^去後、 液を 7 ^—アミノ ー 3—( 3—才 キソブチ リ ル才キシメチル)一 3—セフ エムー 4一力ルボン酸 1 6 と ト リ ェチルァ ミ ン 1 0 ^のジメチルホルムア ミ ド 5 0 溶液に氷冷下で 加え、 反応液を 2 Q°Cで 2 4.時間かきまぜる。 エーテル 5 0 0 を反応 液に加えェ-テル層を除去し、 残渣を水 1 0 0^に溶解させたのち 1 0 塩酸で PH 4.0に調整すると粽晶が析出する。 これを 取して水洗後 ヱチルヱ—テルで洗浄し、 乾燥すると標記化合物 2 5 が得られる。 I Rスペク ト ルレ 1 : 1780, 1730, 1700, 1680, 1530. 2-(2-aminothiazole-4-1-yl-2--methyl-11-tert-butoxycarbonyl) ethoxyminoacetate 16 ^ dimethylformamide 30 m £ l: Then, add 1 ^ -hydroxybenzodiazole 8.0 ^ and dicyclohexylcarbodiimide 11 ^, and stir at 20 ° C for 10 hours. After removing the insoluble matter, the solution was diluted with 7 ^ -amino-3- (3-year-old oxobutyryl-x-methyl) -13-cef-emu-4 dimethylforma of sulfonic acid 16 and triethylamine 10 ^. Add the solution to the mid 50 solution under ice-cooling, and stir the reaction mixture at 2 Q ° C for 24 hours. Ether 500 was added to the reaction solution to remove the ether layer, and the residue was dissolved in water 100 ^. Then, the pH was adjusted to 4.0 with 10 hydrochloric acid. This is taken, washed with water, washed with ethyl ether, and dried to give the title compound 25. IR spectrum 1 : 1780, 1730, 1700, 1680, 1530.
NMRスペク トル (d 6— DMSO ) δ: 1.35 ( 15H, s ), 2.25(3H,s), 3.40- 3.60 ( 4H, m ), 4.80 - 5.10 ( 2H, ABq, J= 1 Hz ), 5.25 ( lH, d, J = 5Hz ), 5.80 ( lH, d . d, J" =5Hzと 8Hz ), 6.70 ( lH, s ), 7.20— 7.80 ( 2H, br. \ 9.30(1¾ d, J=8Hz )0 実施例 1 NMR spectrum (d 6 — DMSO) δ: 1.35 (15H, s), 2.25 (3H, s), 3.40-3.60 (4H, m), 4.80-5.10 (2H, ABq, J = 1 Hz), 5.25 ( lH, d, J = 5Hz), 5.80 (lH, d. d, J "= 5Hz and 8Hz), 6.70 (lH, s), 7.20-7.80 (2H, br. \ 9.30 (1¾d, J = 8Hz) 0 Example 1
—〔 2— ( 2—ァ ミ ノチアゾールー 4—ィ ル j一 2、ΊΛト孓ト キ シイ ミ ノアセ トア ミ ド〕一 3—〔 ( 4, 5—シク ロへキセ ノチアゾリ ゥ ム一 3—ィ ノレ ) メ チル 〕 一 3—セ フ エム一 4—カルボキシ レー ト。 — [2— (2-Aminothiazol 4-yl j-1 2, Petroximiaminoacetamide) -1 3— [(4,5-cyclohexenothiazolium 1—3 Nole) methyl] 1-3-Cef-14-carboxylate.
OMPI WIPO
7 ?—〔 2— ( 2—ァミ ノチアゾール一 4—ィ ル 一 2 (Z —メ ト キシイ ミ ノアセ トア ミ ド〕一 3—( 3—ォキソブチリ ルォキシメチル ) 一 3—セフ エムー 4一力ルボン酸 1 0 ^, 4, 5—シクロへキセノチア ゾール 1 0 ^およびョ ウイ匕力 リ ウム 1 0 ^をァセ トニ ト リ ルと水(1: 1 ) の混合液 2 0 0 Wに溶解させ 70 °Cで 1.5時間加熱携拌する。 反応液に 酢酸ェチル 2 0 0 ^を加えて有機層を除去し、 ついで水層を XAD - Π カラムク ロマ トグラフ ィ —に付す。 2 0 %エタノー /レ水で溶出し、 目的 物を含む分画を集め凍結乾燥し得られた固型物を LH— 2 0カラムクロ マ トグラフ ィ —に付し, 水で溶出する。 目的物の分画を凍結乾燥すると 標記化合物 2.0 が得られる。 OMPI WIPO 7? — [2— (2-aminothiazole-4-yl-1 2 (Z—methoxyiminoacetoamide)] 1-3— (3-oxobutyryloxymethyl) 1-3—sef emou 4 The acid 10 ^, 4,5-cyclohexenothiazole 10 ^ and lithium 10 ^ are dissolved in 200 W of a mixture of acetonitrile and water (1: 1). Heat and stir for 1.5 hours at 70 ° C. Add 200 mL of ethyl acetate to the reaction mixture to remove the organic layer, and then apply the aqueous layer to XAD- カ ラ ム column chromatography. Elute with water, collect the fractions containing the desired product, freeze-dry the obtained solid, apply it to LH-20 column chromatography, and elute with water. The title compound 2.0 is obtained.
元素分析値: C2 iH2 2N 605 S 3.5Z2 H2Oとして, Elementary analysis: as C 2 iH 2 2 N 6 0 5 S 3 .5Z2 H 2 O,
計算値 ): C, 43.5 1 ; H, 4.69 ; N, 14.50. Calculated values): C, 43.51; H, 4.69; N, 14.50.
実測値 ): C, 43.6 6 ;H, 4.55 ; N, 1 4.25. Obtained): C, 43.66; H, 4.55; N, 14.25.
I Rスぺク ト ノレ
: 1 775, 16 75, 16 1 5, 1 540. NMRスペク ト ル (d6—DMSO— D 2Ο ) δ : 1.70 - 3.00 ( 8Η, m ), IR spectrum : 1 775, 16 75, 16 1 5, 1 540. NMR spectrum (d 6 —DMSO—D 2 Ο) δ: 1.70-3.00 (8Η, m),
3.23と 3.55 ( 2H, ABq, J =l 8Hz ), 3.98 ( 3H, s ), 5.20 ( lH, d, J = 4.8Hz )., 5.81 ( lH, d, J=4.8Hz ), 6.93 ( lH, s ), 7.72 ( lH, s ), 3.23 and 3.55 (2H, ABq, J = l 8Hz), 3.98 (3H, s), 5.20 (lH, d, J = 4.8Hz), 5.81 (lH, d, J = 4.8Hz), 6.93 (lH, s), 7.72 (lH, s),
実施例 1に記載した方法と同じ方法を用いて —〔 2 —( 2 —アミ ノチアゾールー 4一ィ ル)一 2 ( Z )—(置換ォキ ィ ミノ ) ァセ トァ ミ ド〕 ー 3— (_ 3—ォキソブチリルォキシメチル)一 3—セフ エム ー 4一 力ルポン酸と各種チアゾール誘導体との反応から一般式 Using the same method as described in Example 1, — [2— (2—Aminothiazol-4-yl) -12 (Z) — (Substituted amino) acetamide] -3- ( _ 3 -oxobutyryloxymethyl)-1-cefm-4 General formula from the reaction of sulfonic acid with various thiazole derivatives
〔I'〕
で表わされる以下の実施例 2〜 9の化合物を製造することができる。 - 実施例 2. [I '] The following compounds of Examples 2 to 9 represented by can be prepared. -Example 2.
s s
化合物〔 I '〕 (R3=-CH2CH3, Α¾= ) 元素分析値: C2 2H2 4 N605 S3 ·7Ζ2Η20として, 計算値 ): C, 43.20; Η, 5.11; Ν, 13.74 - 実測値 ): C, 43.09 ; Η, 4.87 ; Ν, 13.64. Compound [I '] (R 3 = -CH 2 CH 3 , Α¾ =) Elementary analysis: as C 2 2 H 2 4 N 6 0 5 S 3 · 7Ζ2Η 2 0, Calcd): C, 43.20; Η, 5.11; Ν, 13.74-found): C, 43.09; Η, 4.87; Ν, 13.64.
Rスぺク ト ル KBr^ - ma r1 770, 1620, 1530, 1385. R spectrum KBr ^-mar 1 770, 1620, 1530, 1385.
NMRスぺク ト ル ( d 6 -DMS 0 ) <5: 1.21 ( 3H, t, J=7Hz ), 1.47- 3.00 ( 8H, m ), 3.13と 3.44 ( 2H, ABq, J= 18Hz ), 4.08 ( 2H, q, J = 7Hz ), 5.04 ( lH, d, J = 4.8H z ), 5.26 NMR-spectrum le (d 6 -DMS 0) <5 : 1.21 (3H, t, J = 7Hz), 1.47- 3.00 (8H, m), 3.13 and 3.44 (2H, ABq, J = 18Hz), 4.08 (2H, q, J = 7Hz), 5.04 (lH, d, J = 4.8Hz), 5.26
( 2H, br.s , 5.661 lH , d.d , J = 4.8Hzと 8Hz , 6.68 ( lH.s , 7.14C 2H, br.s , 9.41 ( lH, d , J=sHz , 10.32 lH, s . 実施例 3. へ (2H, br.s, 5.661 lH, dd, J = 4.8 Hz and 8 Hz, 6.68 (lH.s, 7.14C 2H, br.s, 9.41 (lH, d, J = sHz, 10.32 lH, s. 3. to
化合物〔 I'〕 ( R3 = -CH3, A©= ) 元素分析値: C2 oH2 oN 605 S3 · 3H20として, 計算値^): C, 41.80 ; H, 4.56 ; N, 1 .62. 実測値 ): C, 1.74; H, 4.20 ; N, 14.61. I Rスペク ト ル ^CTT 1: 1770, 1610, 1530, 1340. NMRスぺク ト ル( d 6 -DMSO ) δ : 1.80— 2.20 ( 2H, m ), 2.70 -3.20 ( 4Η, m ), 3.83 ( 3H, s ), 5.07 ( lH, d, J = Compound [I '] (R 3 = -CH 3, A © =) Elemental analysis: C 2 oH 2 oN 6 as 05 S 3 · 3H 2 0, calc ^): C, 41.80; H , 4.56; N , 1.62 Found):.. C, 1.74; H, 4.20; N, 14.61 IR -spectrum Le ^ CTT 1: 1770, 1610, 1530, 1340. NMR -spectrum le (d 6 -DMSO) δ : 1.80— 2.20 (2H, m), 2.70 -3.20 (4Η, m), 3.83 (3H, s), 5.07 (lH, d, J =
4.8 Hz ), 5.32 ( 2H, br. s ), 5.60— 5.80 ( lH, m ), 6.70 ( lH, s ), 7.12 ( 2H, br. s ), 9.47 ( lH, d, J = 8Hz ), 10.14 ( 1¾ s ) . 実施例 . 化合物〔 Γ 〕(R3 =— CH2CH3, )4.8 Hz), 5.32 (2H, br.s), 5.60-5.80 (lH, m), 6.70 (lH, s), 7.12 (2H, br.s), 9.47 (lH, d, J = 8Hz), 10.14 Example 1 Compound [s] (R 3 = — CH 2 CH 3 ,)
OMPI
元素分析値: C 2 iH2 2N605S 3 · 2H20として, OMPI Elemental analysis: C 2 iH 2 2 N 6 0 5 S 3 · 2H 20
計算値 (%): C, 43.92 ;H, 4.63 ;N, 14.63. Calculated (%): C, 43.92; H, 4.63; N, 14.63.
実測値 ( : C, 44.09 ;H, 4.53 ; N, 14.37. Found (C, 44.09; H, 4.53; N, 14.37.
I Rスペク ト ル 1 : 1770, 1620, 1530. IR spectrum 1 : 1770, 1620, 1530.
NM丄 v Rスぺク トル( d 6 -DMSO ) δ 1.21 ( 3Η, t, J = 7Hz ), 2.70 -3.10 ( 2H, m ), 3.70 - 4.40 ( 6H, m ), 5.05 ( lH, d, J = 4.8Hz ), 5.31 ( 2H, m), 5.67 ( lH, d . d, J = 4 ^.8Hzと 8Hz ), 6.68 ( lH, s ), 7.14 ( 2H, b r s ), 9.43 ( lH, d, J = 8Hz ), 10.20 ( lH, s ) · 実施例 5. NM 丄 v R spectrum (d 6 -DMSO) δ 1.21 (3Η, t, J = 7Hz), 2.70 -3.10 (2H, m), 3.70-4.40 (6H, m), 5.05 (lH, d, J = 4.8Hz), 5.31 (2H, m), 5.67 (lH, d.d, J = 4 ^ .8Hz and 8Hz), 6.68 (lH, s), 7.14 (2H, brs), 9.43 (lH, d , J = 8Hz), 10.20 (lH, s)
ィ匕合物〔Γ 〕(R3= -. CH3,Ridge compound [Γ] (R 3 =-. CH 3 ,
元素分析値: C 2 2H2 4N 6O 5S 3 · 3H2Oとして, Elemental analysis: C 2 2 H 2 4 N 6 O 5 S 3 · 3H 2 O
計算値 ): C, 43.86;H, 5.02 ;N, 13.95. . 実測賃 (%): C, 43.45, ;H, 4.60 ; , 13.84. Calculated value): C, 43.86; H, 5.02; N, 13.95.. Actual fee (%): C, 43.45,; H, 4.60 ;, 13.84.
I Rスペク トル 1 : 1770, 1 620, 1 530, 1355. NMRスぺク ト ル(d 6 -DMSO ) δ ι·45 - 2.00 ( 6Η, m ), IR spectrum 1 : 1770, 1620, 1530, 1355. NMR spectrum (d6-DMSO) δι · 45-2.00 (6Η, m),
2.60 -3.20 ( 4Η, m ), 3.82 ( 3 H, s ), 5.01( IB, d,J=4.8Hz ) 2.60 -3.20 (4Η, m), 3.82 (3 H, s), 5.01 (IB, d, J = 4.8Hz)
5.20-5.50 ( 2H, m), 5.63 ( 1 H, d . d, = 4.8112と8112 ),5.20-5.50 (2H, m), 5.63 (1 H, d. D, = 4.8112 and 8112),
6.69 C lH, s ), 7.13 C 2H, b r . s ), 9.44 ( lH, d, J=8Hz6.69 C lH, s), 7.13 C 2H, br .s), 9.44 (lH, d, J = 8Hz
10.20 ( lH, s ) . 実施例 6. 10.20 (lH, s) Example 6 .
化合物。' KR3-一 CH3, ) Compound. 'KR 3 -one CH 3 ,)
計算値 ): (:, 40.24; H, 5.52; N, 12.80. Calculated values): (:, 40.24; H, 5.52; N, 12.80.
実測値 : C, 39.87 ; H, 4.99 ; N, 12.99.
I Rスペク ト ル 1 : 1765, 1670, 1610, 1530, Found: C, 39.87; H, 4.99; N, 12.99. IR spectrum 1 : 1765, 1670, 1610, 1530,
1380. 1380.
NMRスペク ト ル (d 6 - DMSO ) 5 : 1.60 - 1.98 ( 6H, m ), NMR-spectrum le (d 6 - DMSO) 5: 1.60 - 1.98 (6H, m),
2.60-2.90 ( 4H, m ), 3.00 ( 3H, s ), 3.82 ( 3H, s ), 2.60-2.90 (4H, m), 3.00 (3H, s), 3.82 (3H, s),
4.99 ( lH, d, J=4.8Hz ), 5.40 -5.70 C 3H, m ), 6.69 ( 1 H s ), 7.1 C 2 H, b r . s ), 9.47 ( lH, d, J = 8Hz ) . 実施例 7. 4.99 (lH, d, J = 4.8Hz), 5.40-5.70C3H, m), 6.69 (1Hs), 7.1C2H, br.s), 9.47 (lH, d, J = 8Hz). Example 7.
化合物〔 I' 〕(R=-CH2 ) Compound [I '] (R = -CH 2)
計算値 ): C, 44.27 ; H, 5.01 ;N, 13.47. Calculated values): C, 44.27; H, 5.01; N, 13.47.
実測値^ : C, 44.22 ; H, 4.76 ; N, 13.32 Found ^: C, 44.22; H, 4.76; N, 13.32
I Rスぺク ト ルジ ma x0"1' 1 770, 1 620, 1530, 1380, IR spectrum max 0 " 1 ' 1 770, 1620, 1530, 1380,
1340. 1340.
NMRスぺク ト ノレ ( d 6 -DMSO ) δ : ι·82 ( 4H, m ),2.84(4H , m), NMR spectrum (d 6 -DMSO) δ: ι · 82 (4H, m), 2.84 (4H, m),
4.46 -4.66 ( 2H, m ), 5.03 ( 1 H, d, J = 4.8 H z ), 5.08 - 6.00 ( 6H, m ), 6.69 ( lH, s ), 7.14 ( 2 H, b r . s ), 4.46 -4.66 (2H, m), 5.03 (1H, d, J = 4.8 Hz), 5.08-6.00 (6H, m), 6.69 (lH, s), 7.14 (2H, b r. S),
9.48 ( lH, d, J = 8H z ), l 0.36 ( lH, s ) . 9.48 (lH, d, J = 8Hz), l0.36 (lH, s).
実施例 8. ^ Example 8. ^
化合物〔1' 〕(R3=— C(CH3 ) 2COONa, Αθ= ) Compound [1 '] (R 3 = — C (CH 3 ) 2 COONa, Αθ =)
元素分析値: C 2 4H2 6N 607S 3Na · 5H 20として, Elemental analysis: C 2 4 H 2 6 N 6 0 7 S 3 Na · 5H 2 0
計算値 ): C, 39.95 ; H, 5.06 ; N, 11.65. Calculated)): C, 39.95; H, 5.06; N, 11.65.
実測値 ( : C, 39.91 ;H, 4.59 ; N, 11.80. Found (C, 39.91; H, 4.59; N, 11.80.
I Rスペク ト ルジ^ cm一 1 : 1770, 1600, 1530, 1400, IR spectrum ^ cm- 1 : 1770, 1600, 1530, 1400,
1360 1360
NMRスペク ト ル (d 6 -DMSO ) δ : 1. 2 ( 3Η, s ),l.46(¾ s ), NMR spectrum (d 6 -DMSO) δ: 1.2 (3Η, s), l.46 (¾ s),
ΟΜΡΙΟΜΡΙ
0 -
1.40 - 2.00 ( 4H, m ), 2.84 ( 4H, m ), 5.05 (1¾ d, J=4.8Hz), 5.16-5.48 ( 2H, b r . ), 5.60 ( 5.80 ( lH, m ), 6.71 (lii s), 7.16 ( 2H, b r . s ), l 0.30 ( lH, s ) . 0- 1.40-2.00 (4H, m), 2.84 (4H, m), 5.05 (1¾d, J = 4.8 Hz), 5.16-5.48 (2H, br.), 5.60 (5.80 (lH, m), 6.71 (lii s ), 7.16 (2H, br.s), l 0.30 (lH, s).
実施例 9. Example 9.
化合物〔1' Compound (1 '
計算値 ) C, 1.44 ; H, 4.74; N, 13.18. (Calculated) C, 1.44; H, 4.74; N, 13.18.
実測値 ) C, 41.72; H, 4.72 ; N, 13.40. Found) C, 41.72; H, 4.72; N, 13.40.
Rスぺク ト ル KB一 r R spectrum KB-r
max cm : 1770, 1670, 1610, 1530, max cm: 1770, 1670, 1610, 1530,
1390,· 1360. 1390, 1360.
NMRスぺク ト ル (d 6 -DMSO ) <5 : 1.80 ( 4H, m ), 2.83 ( 5¾ m ), 3.30 ( lH, ABq, J =l 8Hz , 4.10- .23 (. lH , m , 4.30 -4.56 ( 2H, m ), 4.83 - 5.00 ( lH, m ), 5.06 ( lH, d, J=4.5Hz ), 5.26 ( 2H, m ), 5.80 ( lH d . d, J = 4.5H zと 8Hz ), NMR spectrum (d6-DMSO) <5: 1.80 (4H, m), 2.83 (5 m), 3.30 (lH, ABq, J = l8Hz, 4.10-.23 (.lH, m, 4.30 -4.56 (2H, m), 4.83-5.00 (lH, m), 5.06 (lH, d, J = 4.5 Hz), 5.26 (2H, m), 5.80 (lH d .d, J = 4.5 Hz and 8 Hz ),
6.73 ( lH, s ), 7.20 ( 2H, b r . s ), 9.56 ( lH, d, J=8Hz), 6.73 (lH, s), 7.20 (2H, b r .s), 9.56 (lH, d, J = 8 Hz),
10.36 ( lH, s ) . 10.36 (lH, s).
実施例 1 o. Example 1 o.
7 ^ - 2 - ( 2—ァミ ノ チアゾー ル一 4一ィ ル ) 一 2 (Z —メ ト キ シイ ミ ノアセ トア ミ ド〕一 3 - 〔 ( 4 , 5 —シク ロへキセ ノ チアゾリ ゥム一 3—ィ ル ) メチル〕一 3—セフ エム ー 4一力ノレボキシレ ー ト。 7 ^-2-(2-aminothiazole -1 yl) -1 2 (Z-methoxyimianoacetic acid) -1 3-[(4,5-cyclohexenothiazoli リ) 3-yl) Methyl] 1- 3-FM-4.
7 ? - C 2 — ( 2 —ァ ミ ノチアゾールー 4一イ ル ク - 2 (Z ーヌ ト キシィ ミ ノァセ トア ミ ド〕一 3—ァセ ト キシメチル一 3—セフ エムー 4 一力ルボン酸 3.0 , 4 , 5—シク ロへキセ ノチアゾール 3.0 および ョゥ化力リ ウム 3.0 をアセ ト ン一水( 1 : 1 )の混合液 6 0 π に溶解 させて 7 0でで 3時間かきまぜる。 反応液を濃縮し、 残留物を酢酸ェチ 7?-C 2-(2-aminothiazole-4-1-2 (z-toxinimi-acetoamide)-1-3-acetoxymethyl-3-cef-emu 4 1-rubonic acid 3.0, Dissolve 4,5-cyclohexenothiazole 3.0 and lithium iodide 3.0 in a mixture of acetonitrile (1: 1) in 60π and stir at 70 ° C for 3 hours. And concentrate the residue in ethyl acetate.
ΟΜΡΙ
ノレ 2 0 πで 2回洗浄後水 5 0 fflに溶解させて XAD— Πカラ ムクロマト グラフィ 一に付す。 2 0 %エタノ ール水で溶出し、 目的物を含む分画を 集めて減圧下濃縮したのち残留物を LH- 2 0カラムクロマトグラフィ -に付す。 水で溶出し目的物を含む分画を集めて減圧下濃縮後, 残留物 を凍結乾燥すると標記化合物 0.2 Sが得られる。 本品は実施例 1.で得ら れた化合物と、 I Rおよび NMRスぺク トルのー ifc^ら同一物であるこ と力 '確認された。 ΟΜΡΙ After washing twice with 20 π, dissolve in 50 ffl of water and apply it to XAD-Π column chromatography. Elute with 20% ethanol water, collect the fractions containing the desired compound, concentrate under reduced pressure, and subject the residue to LH-20 column chromatography. The fractions containing the target compound eluted with water are collected, concentrated under reduced pressure, and the residue is lyophilized to give 0.2 S of the title compound. It was confirmed that the product was the same as the compound obtained in Example 1 and the like in the IR and NMR spectra.
実施例 11. Example 11.
7 ^—〔 2— ( 2—ァ ミ ノチアゾ一 ルー 4—ィ ル ) 一 2 〔Z —メ ト キシイ ミ ノアセ トア ミ ド〕一 3 〔 ( 4, 5—シクロへキセノチアゾリ ゥ ムー 3 —ィノレ ) メチル.〕一 3—セフ エムー 3—力ルボキシ レー ト。 7 ^ — [2— (2-Aminothiazolyl 4-yl) 1 2 [Z—Methoxyimioacetoamid] -1 3 [(4,5-Cyclohexenothiazoli-mum3—Innole) Methyl.] One 3-Sef-Emu 3-R-boxylate.
7 ^— 〔 2—( ーア ミ ノチアゾールー 4一ィ ル ) - 2 〔Z)—メ ト キシイ ミ ノアセ ト アミ ド〕一 3—ヒ ドロキシメ チルー 3—セフエムー 4 一カ ルボン酸 4.1 ^をァセ トニト リ ル 2 0 w とホルムアミ ド 2 0 ¾の混 合液に懸濁させ, 一 3 0°Cに冷却しながら 4, 5—シクロへキセ ノチア ゾ一ル 5.5 9を加え、 ついでメチル 0 —フエニレンホス フィ ンのジク ロ 口メタン溶液(2nmolZ ) 2 を加えて 2時間かきまぜる。 減圧下溶 媒を留去したのち, 残留物にァセ トニト リ ル 4 を加えて固型物を ' 取する。 これを水 2 0 に懸濁させ、 炭酸水素ナ ト リ ウムを加えて pH 8.0としたのち XAD - Π カラムク ロマ ト グラフ ィ ーに付す。 2 0 %ェ タノ -ル水で溶出し、 目的物を含む分画を集め、 減圧下濃縮後凍結乾燥 すると標記化合物 3.5 ^が得られる。 本品は実施例 1.で得られた化合物 と, I Rおよび NMRスぺク トルの一致から同一物であることが確認さ れた。 7 ^ — [2-(-aminothiazole-41-yl) -2 [Z) -methoxyiminoacetamide] -3-hydroxymethyl-3-cefumeu 4-carboxylate 4.1 ^ Suspended in a mixture of 20 w of tonitrile and 20 冷却 of formamide, and cooled to 130 ° C, 4,5-cyclohexenothiazole 5.59 was added. Add phenylene phosphine in dichloromethane solution (2 nmolZ) 2 and stir for 2 hours. After evaporating the solvent under reduced pressure, add acetonitrile 4 to the residue and remove the solid. This is suspended in water 20 and adjusted to pH 8.0 by adding sodium hydrogen carbonate, and then subjected to XAD-III column chromatography. Elute with 20% ethanol water, collect the fractions containing the desired compound, concentrate under reduced pressure, and freeze-dry to obtain 3.5 ^ of the title compound. This product was confirmed to be the same as the compound obtained in Example 1 by the coincidence of IR and NMR spectra.
実施例 12. Example 12.
OMPI OMPI
ノゾ、 "^¾。 Nozo, "^ ¾.
、.
7 ?—〔 2 —( 2 —ァ ミ ノチアゾールー 4 —イ ル ク 一 2 (Z —メ ト キシイ ミ ノアセ トア ミ ド〕一 3—〔 C 4 , 5— シクロへキセ ノチアゾリ ゥムー 3—ィ /レ ) メ チル〕一 3—セフ エム ー 4一カルボキシレー ト。 ,. 7? — [2 — (2 —Aminothiazole-4 —Ilk 1 (Z—Methoxyiminoacetoamide) -1 3— [C 4, 5— Cyclohexenothiazolium 3 — ) Methyl] 1-3-CFM-41-carboxylate.
—〔 2 二 ( 2—ァ ミ ノチアゾール一 4一ィ ル )一 2〔Z ーメ ト キシイ ミ ノアセ トア ミ ド〕 一 3 —ァセ ト キシメ チルー 3 -セフエム一 4 一力ルボン酸 3.0 をクロロホノレム 2 0 に懸獨させ, N—メチ /レー N 一ト リ メチルシ リ ルフ /レオロアセ トアミ ド 4 を加え 2 0 °Cで均一溶液 になるまで攪拌する。 ついでこの溶液にヨウ化ト リメチルシ リ ル 3.3 ^ を加えて 20°Cで 10分間かきまぜたのち反応液を減圧下で濃縮レ、 残留 物にァセ トニト リ ル 9 meとテトラヒ ドロフラン 0.8 π を加えて 40分間力 きまぜる。 つぎにこの溶液に , 5 - シクロへキセノチアゾ-ル 2.4 — [22 (2-aminothiazole-141-yl) -1 2 [Z-methoxyiminoacetamide] 1-3-acetoxime-ethyl 3- 3-ephemone 14 Suspend in chlorophonolem 20 and add N-methyl / le-N-trimethylsilylfur / leoloacetamide 4 and stir at 20 ° C until a homogeneous solution is obtained. Then add trimethylsilyl iodide 3.3 ^ to this solution, stir at 20 ° C for 10 minutes, concentrate the reaction mixture under reduced pressure, and add 9 me of acetonitrile and 0.8 π of tetrahydrofuran to the residue. And mix for 40 minutes. Next, 5-cyclohexenothiazole 2.4
を加えて 2 0°Cで 3時間かきまぜたのち、 反応液を氷冷下に冷却して水 After stirring at 20 ° C for 3 hours, cool the reaction mixture under ice-cooling and add water.
1 πを加える。 析出した固型物を沪取し、 これをシリ力ゲル力ラ ムクロ マトグラフィ一に付し、 ァセ トニ ト リ ルー水( 4 : 1 )の混合液で溶出 する。 目的物を含む分画を集め減圧下で濃縮して凍結乾燥すると標記化 合物 0.4 が得られる。 本品は実施例 1.で得られた化合物と, I Rおよ び NMRスベタ トルの一致から同一物であることが確認された。 Add 1 π. The precipitated solid is collected, subjected to gel chromatography on silica gel, and eluted with a mixed solution of acetonitrile water (4: 1). The fractions containing the target compound are collected, concentrated under reduced pressure, and lyophilized to give the title compound 0.4. This product was confirmed to be the same as the compound obtained in Example 1 by the coincidence of IR and NMR spectra.
ΟΜΡΙ WIPO .^j
ΟΜΡΙ WIPO. ^ J
Claims
求 の Sought
L. 一般式 L. General formula
〔式中, は保護されていてもよいアミノ基を, R2 は水素原子また はハロゲン原子を, R3 は水素原子または置換されていてもよい炭化水 素残基を,'; R 4 は水素原子またはメ トキシ基を, Aは置換されていても よい 4, 5 —位で縮合環を形成するチアゾールー 3 —ィル基を, nは 0 または 1を示す〕で表わされるセ フ ヱム化合物またはその生理学的に受 容される塩もしくはエステル。 Wherein the is protected Also an amino group, an R 2 represents a hydrogen atom or a halogen atom, R 3 is a hydrocarbon Motozanmoto hydrogen atom or may be substituted, '; R 4 is A hydrogen atom or a methoxy group, A represents an optionally substituted thiazole-3-yl group forming a condensed ring at the 4,5-position, and n represents 0 or 1.] Or a physiologically acceptable salt or ester thereof.
2. (1)一般式 2. (1) General formula
〔式中, R4 は水素原子またはメ トキシ基を, Aは置換されていてもよ い 4 , 5—位で縮合環を形成するチアゾールー 3 —ィル基を, nは 0ま たは 1を示す〕で表わされる化合物またはその塩もしくはエステルと一 k式
071 一 6 4一
[Wherein, R 4 represents a hydrogen atom or a methoxy group, A represents a thiazole-3-yl group which forms a condensed ring at the optionally substituted 4,5-position, and n represents 0 or 1 And a compound or a salt or ester thereof represented by the formula 071 1 6 4 1
OR OR
3 Three
〔式中, は保護されていてもよいアミノ基を, R2 は水素原子また はハロゲン原子を, R3 は水素原子または置換されていてもよい炭化水 素残基を示す〕で表わ'される化合物またはその反応性誘導体とを反応さ せるか, [In the formula, represents an amino group which may be protected, R 2 represents a hydrogen atom or a halogen atom, and R 3 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon residue which may be substituted.] Reacting with the compound or its reactive derivative,
(2) 一般式 (2) General formula
〔式中, R 5 は水酸基, ァシル才キシ基, 力ルバモイル才キシ基, 置換 力ルバモィルォキシ基またはハ口ゲン原子を, その他の記号は前記と同 意義を示す〕で表わされる化合物またはその塩もしくはエス テルとニ般 式 A'〔 A 'は置換されていてもよい 4 , 5一位で縮合環を形成するチアゾ ールを示す〕で表わされる化合物またはその塩とを反応させる力 [Wherein, R 5 is a hydroxyl group, an acyl group, a carbamoyl group, a substituted rubamoyloxy group or a hapogen atom, and other symbols are as defined above] or a salt or a salt thereof. Ability to react ester with a compound represented by the general formula A '(A' represents a thiazole which forms a condensed ring at the 4,5-position which may be substituted) or a salt thereof
(3) 一般式 (3) General formula
〔式中の記号は前記と同意義を示す〕で表わされる化合物またはその塩 もしくはエステルと一般式 R3' OH〔式中, R 3'は置換されていてもよい 炭化水素残基を示す〕で表わされる化合物またはその反応性誘導体とを 反応させるか, または [The symbols in the formula are as defined above] or a salt or ester thereof and a general formula R 3 'OH [wherein, R 3 ' represents an optionally substituted hydrocarbon residue] Reacting with the compound represented by or a reactive derivative thereof, or
(4) 一般式 A' Θ (4) General formula A 'Θ
〔式中, Xはハロゲン原子を, その他の記号は前記と同意義を示す〕で 表わされる化合物またはその塩もしくはエステルと一般式 i^ c -s )Wherein X is a halogen atom, and other symbols are as defined above, or a salt or ester thereof and a general formula i ^ c -s)
NH 2 〔式中, は前記と同意義を示す〕で表わされる化合物とを反 応させる力, 、 The ability to react with a compound represented by NH 2 [wherein is as defined above],
したのち要すれば保護基の除去を行うことを特徴とする一般式 And then, if necessary, removing the protecting group.
NN
〔式中の記号は前記と同意義を示す〕で表わされるセフ ヱム化合物また はその生理学的に受容される塩もしくはエステルの製造法。 [The symbols in the formula are as defined above.] Or a method for producing a physiologically acceptable salt or ester thereof.
3. —般式 3. —General formula
〔式中, Ri は保護されていてもよいアミノ基を, R2 は水素原子また はハロゲン原子を, R 3 は水素原子または置換されていてもよい炭化水 素残基を, R4 は水素原子またはメ トキシ基を, Aは置換されていても よい 4 , 5 -位で縮合環を形成するチアゾールー 3 -ィル基を, nは 0 または 1を示す〕で表わされるセフヱム化合物またはその生理学的に受 要される塩もしくはエステルの少くとも 1種以上を含有する医薬組成物 c
[Wherein Ri is an amino group which may be protected, R 2 is a hydrogen atom or a halogen atom, R 3 is a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon residue, and R 4 is a hydrogen atom. An atom or a methoxy group, A represents a thiazole-3-yl group which may form a condensed ring at the optionally substituted 4,5-position, and n represents 0 or 1.] Pharmaceutical composition c containing at least one or more salts or esters that are
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP1984/000296 WO1986000071A1 (en) | 1984-06-08 | 1984-06-08 | Cephem compounds |
JP60123458A JPH0613530B2 (en) | 1984-06-08 | 1985-06-05 | Cem compound |
AT85107013T ATE56719T1 (en) | 1984-06-08 | 1985-06-06 | CEPHEM COMPOUNDS. |
DE8585107013T DE3579749D1 (en) | 1984-06-08 | 1985-06-06 | CEPHEM CONNECTIONS. |
EP85107013A EP0164122B1 (en) | 1984-06-08 | 1985-06-06 | Cephem compounds |
KR1019850004047A KR920004837B1 (en) | 1984-06-08 | 1985-06-08 | Process for preparing cephem compounds |
CN198585105299A CN85105299A (en) | 1984-06-08 | 1985-07-10 | The preparation method of cephem compounds |
US07/195,399 US4946837A (en) | 1984-06-08 | 1988-05-12 | Cephem compounds |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP1984/000296 WO1986000071A1 (en) | 1984-06-08 | 1984-06-08 | Cephem compounds |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO1986000071A1 true WO1986000071A1 (en) | 1986-01-03 |
Family
ID=13818361
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP1984/000296 WO1986000071A1 (en) | 1984-06-08 | 1984-06-08 | Cephem compounds |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
WO (1) | WO1986000071A1 (en) |
-
1984
- 1984-06-08 WO PCT/JP1984/000296 patent/WO1986000071A1/en unknown
Non-Patent Citations (1)
Title |
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