JPS5896091A - 3−アルコキシメチルセフアロスポリン類の製造法 - Google Patents
3−アルコキシメチルセフアロスポリン類の製造法Info
- Publication number
- JPS5896091A JPS5896091A JP56193461A JP19346181A JPS5896091A JP S5896091 A JPS5896091 A JP S5896091A JP 56193461 A JP56193461 A JP 56193461A JP 19346181 A JP19346181 A JP 19346181A JP S5896091 A JPS5896091 A JP S5896091A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ethyl acetate
- added
- compound
- cephem
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
- C07D501/02—Preparation
- C07D501/04—Preparation from compounds already containing the ring or condensed ring systems, e.g. by dehydrogenation of the ring, by introduction, elimination or modification of substituents
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は3−アルコキシメチルセファロスポリンの製法
に関するものである。
に関するものである。
詳しくは、本発明は一般式(1)
〔式中R1II(はアミノ基または保護されたアミノ基
を表わす。〕 で示される化合物またはその塩にハロゲン化合物の存在
下、低級アルコールを反応させることを特徴とする一般
式(If) 000H 〔式中、RlNHは前述したものと同意義を有し、R2
f′i低級アルキル基を示す。〕 で示される3−アルコキシメチルセファロスポリン類ま
たはその塩の製造法に関するものである。
を表わす。〕 で示される化合物またはその塩にハロゲン化合物の存在
下、低級アルコールを反応させることを特徴とする一般
式(If) 000H 〔式中、RlNHは前述したものと同意義を有し、R2
f′i低級アルキル基を示す。〕 で示される3−アルコキシメチルセファロスポリン類ま
たはその塩の製造法に関するものである。
一般式(II)で示される3−アルコキシメチルセファ
ロスポリン誘導体およびその塩の中にはそれ自体強い抗
菌作用を示す化合物が知られている他、種々の抗菌作用
を有するセファロスポリン系抗生物質の原料物質として
重要なものである〇 一般式(II)で示される3−アルコキシメチルセファ
ロスポリン誘導体の製造法としてはa) 3−アセト
キシ、メチル体を低級アルコールと反応させる方法(特
公昭50−10873号)リ 3−ヒドロキシメチル体
をアルキル化する方法(特公昭50−10873号) c) 3−ハロメチル体を低級アルコールと反応させ
る方法(特公昭50−10872号)d)3−ハロアセ
トキシメチル体を低級アルコールと反応させる方法(特
公昭50−10872号) e) Δ−3−ハロメチル体を低級アルコールと反応
させた後Δ3体に異性化する方法(J6Med。
ロスポリン誘導体およびその塩の中にはそれ自体強い抗
菌作用を示す化合物が知られている他、種々の抗菌作用
を有するセファロスポリン系抗生物質の原料物質として
重要なものである〇 一般式(II)で示される3−アルコキシメチルセファ
ロスポリン誘導体の製造法としてはa) 3−アセト
キシ、メチル体を低級アルコールと反応させる方法(特
公昭50−10873号)リ 3−ヒドロキシメチル体
をアルキル化する方法(特公昭50−10873号) c) 3−ハロメチル体を低級アルコールと反応させ
る方法(特公昭50−10872号)d)3−ハロアセ
トキシメチル体を低級アルコールと反応させる方法(特
公昭50−10872号) e) Δ−3−ハロメチル体を低級アルコールと反応
させた後Δ3体に異性化する方法(J6Med。
Chem、 14 、113 (1971) )などが
知られているが、いずれも工業的規模での製造方法とし
ては満足しうるものではない。すなわちa)法は例えは
特公昭50−10873号の例1に記述されている如く
収率が極めて低い上分離精製が困難である。
知られているが、いずれも工業的規模での製造方法とし
ては満足しうるものではない。すなわちa)法は例えは
特公昭50−10873号の例1に記述されている如く
収率が極めて低い上分離精製が困難である。
b)法はアルキル化剤としてジアゾメタンを三弗化ホウ
素の存在下反応させる時に好収率で得られるが、この方
法では3−アセトキシメチル基を一旦3−ヒドロキシメ
チル基に変えねばならないこと、4位のカルボキシル基
を保護する必要があること、ジアゾメタンを大量に使用
することは毒性、危険性の面から問題があることなどが
問題である。
素の存在下反応させる時に好収率で得られるが、この方
法では3−アセトキシメチル基を一旦3−ヒドロキシメ
チル基に変えねばならないこと、4位のカルボキシル基
を保護する必要があること、ジアゾメタンを大量に使用
することは毒性、危険性の面から問題があることなどが
問題である。
C)法は原料化合物となる3−ノ10メチル体の製造が
特公昭50−10872号、218頁にも記述されてい
る如く工業的に入手し得る3−アセトキシメチル体から
2工程を要すること(美質的にはカルボキシル基を保護
するために3工程(前記特許実施例8参照)であシ且つ
3−ハロメチル体とアルコールとの反応収率が必すしも
よくない。
特公昭50−10872号、218頁にも記述されてい
る如く工業的に入手し得る3−アセトキシメチル体から
2工程を要すること(美質的にはカルボキシル基を保護
するために3工程(前記特許実施例8参照)であシ且つ
3−ハロメチル体とアルコールとの反応収率が必すしも
よくない。
d)法もC)法と同様に原料となる3−710アセトキ
シメチル体の製造に3−アセトキシメチル体から3〜4
工程要することとアルコールとの反応収率が悪い。
シメチル体の製造に3−アセトキシメチル体から3〜4
工程要することとアルコールとの反応収率が悪い。
e)法はハロメチル基の/へロゲンの反応性を高めるた
めと3−メチル体を/10ゲン化して合成するために一
旦3−セフェム体を2−セフェム体に異性化させ再び3
−セフェム体に戻すため工程が長い。
めと3−メチル体を/10ゲン化して合成するために一
旦3−セフェム体を2−セフェム体に異性化させ再び3
−セフェム体に戻すため工程が長い。
このような状況のため、3位にアルコキシメチル基を有
するセファロスポリンの中に有用な化合物が見出されて
も実用化することは困難である。
するセファロスポリンの中に有用な化合物が見出されて
も実用化することは困難である。
この問題点について、本発明者ら(は鋭意研究を重ねた
結果、原料化合物(I)又はその塩の溶液にハロゲン化
合物の存在下低級アルコールを反応させることによシ、
目的化合物叩が一工程で比較的収率よく製造されること
を見出し、更に本反応について検討を重ねて本発明を完
成するに至った。
結果、原料化合物(I)又はその塩の溶液にハロゲン化
合物の存在下低級アルコールを反応させることによシ、
目的化合物叩が一工程で比較的収率よく製造されること
を見出し、更に本反応について検討を重ねて本発明を完
成するに至った。
原料化合物(1)においてR11JHがアミ7基(R4
が水素原子)を表わす場合1’i’7−ACA(7−ア
ミノセファロスポラン酸)として既に広く知られている
化合物であり、RlNHが保護されたアミノ基を表わす
場合、本反応に関与しない保護基であれば特に限定され
ないが通常アシル化されたアミノ基またはシッフ塩基を
形成したアミノ基であシ特にアシル化されたアミノ基が
好適である。
が水素原子)を表わす場合1’i’7−ACA(7−ア
ミノセファロスポラン酸)として既に広く知られている
化合物であり、RlNHが保護されたアミノ基を表わす
場合、本反応に関与しない保護基であれば特に限定され
ないが通常アシル化されたアミノ基またはシッフ塩基を
形成したアミノ基であシ特にアシル化されたアミノ基が
好適である。
アシル基としては例えばアセチル、プロピオ中
ニル、ブチリル、イソブチル、グルタリル、アシボイル
、アミノアジポイルのような脂肪族のアシル基、ベンゾ
イル、トルオイル、フタロイルのような芳香族のアシル
基、フェニルアセチル、フェノキシアセチルのような芳
香環な有する脂肪族のアシル基、オキサシリルアセチル
、チアゾリルアセチル、チェニルアセチルなどのような
複素環系のアシル基、エトキシカルボニル、t−ブトキ
シカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、トリクロル
エトキシカルボニルなどのようなアルコキシカルボニル
系アシル基などがあげられる。またこれらのアシル部分
に更にアミノ基、水酸基、ハロゲン原子、ヒドロキシイ
ミノ基、アルコキシイミノ基、アルコキシ基、メルカプ
ト基、アルキルチオ基、シアノ基等の置換基が存在して
いてもよく、更にこれらの置換基は適当な基で保護され
ていてもよい。
、アミノアジポイルのような脂肪族のアシル基、ベンゾ
イル、トルオイル、フタロイルのような芳香族のアシル
基、フェニルアセチル、フェノキシアセチルのような芳
香環な有する脂肪族のアシル基、オキサシリルアセチル
、チアゾリルアセチル、チェニルアセチルなどのような
複素環系のアシル基、エトキシカルボニル、t−ブトキ
シカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、トリクロル
エトキシカルボニルなどのようなアルコキシカルボニル
系アシル基などがあげられる。またこれらのアシル部分
に更にアミノ基、水酸基、ハロゲン原子、ヒドロキシイ
ミノ基、アルコキシイミノ基、アルコキシ基、メルカプ
ト基、アルキルチオ基、シアノ基等の置換基が存在して
いてもよく、更にこれらの置換基は適当な基で保護され
ていてもよい。
シッフ塩基を形成したアミノ基とは例えばベンズアルデ
ヒド、サリチルアルデヒドのようなアルデヒドとアミノ
基とが脱水縮合したベンジリデンアミノ基のような形を
云う。
ヒド、サリチルアルデヒドのようなアルデヒドとアミノ
基とが脱水縮合したベンジリデンアミノ基のような形を
云う。
原料化合物(I)は殆ど公知の化合物であるが新規な化
合物の場合も公知の方法によってセファロスポリンc−
iまたは7−アミノセファロスポラン酸のアミノ基を保
護することによって容易に製造される。
合物の場合も公知の方法によってセファロスポリンc−
iまたは7−アミノセファロスポラン酸のアミノ基を保
護することによって容易に製造される。
また、本発明によって製造される化合物(IDにおいて
、R2はメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、インプ
ロポキシのような低級アルコキシ基を表わす。
、R2はメトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、インプ
ロポキシのような低級アルコキシ基を表わす。
さらに、原料化合物(I)および本発明によって製造さ
れる化合4m (II)の塩とはセファロスポリンの4
位のカルボキシル基における塩のことで、通常アンモニ
ヤ、余憤または有機塩基との塩である。金属としてはリ
チウム、ナトリウム、カリウム、カルシウムなどのよう
なアルカリ金属またはアルカリ土類金属があげられる。
れる化合4m (II)の塩とはセファロスポリンの4
位のカルボキシル基における塩のことで、通常アンモニ
ヤ、余憤または有機塩基との塩である。金属としてはリ
チウム、ナトリウム、カリウム、カルシウムなどのよう
なアルカリ金属またはアルカリ土類金属があげられる。
有機塩基としては例えばl・リエチルアミン、ジシクロ
ヘキシルアミン、ターシャリ−オクチルアミンなどのよ
うな1〜3級アミン類があげられる。
ヘキシルアミン、ターシャリ−オクチルアミンなどのよ
うな1〜3級アミン類があげられる。
要するに反応に際し溶媒に溶解する塩または反応後目的
物を採取するのに適した塩であればどのような塩でもよ
いが、通常反応に際してはナトリウムまたはカリウム塩
が好適であシ、反応後目的物の採取にはナトリウム塩、
カリウム塩の他にジシクロヘキシルアミン塩も好適であ
る。
物を採取するのに適した塩であればどのような塩でもよ
いが、通常反応に際してはナトリウムまたはカリウム塩
が好適であシ、反応後目的物の採取にはナトリウム塩、
カリウム塩の他にジシクロヘキシルアミン塩も好適であ
る。
本発明の方法において最も重要な点はハロゲン化合物の
存在下にアルコキシ化を行うことである。ハロゲン化合
物が存在しない場合には、前述の特公昭50−1873
号及び本発明者らの実験から明らかな如く、極めて反応
収率が悪い。
存在下にアルコキシ化を行うことである。ハロゲン化合
物が存在しない場合には、前述の特公昭50−1873
号及び本発明者らの実験から明らかな如く、極めて反応
収率が悪い。
一方、ハロゲン化合物の存在下で反応を行なうと、反応
は円滑に進行し、反応率が5〜10倍以上に上昇するこ
とを見出した。
は円滑に進行し、反応率が5〜10倍以上に上昇するこ
とを見出した。
本反応において使用されるハロゲン化合物としては、反
応中にハロゲンアニオンを生じさせる化合物であれば特
に限定はされないが、そのような化合物として例えは塩
化ナトリウム、塩化リチウム、塩化カリウム、塩化マグ
ネシウム、塩化カルシウム、臭化リチウム、臭化ナトリ
ウム、臭化カリウム、臭化マグネシウム、臭化カルシウ
ムなどのようなアルカリ金属若しくはアルカリ土類金属
ハロゲン化物、N−メチルピリジニウムクロリド、テト
ラメチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニ
ウムクロリド、N−メチルピリジニウムプロミド、テト
ラメチ/L/7ンモニウムブロミド、テトラエチルアン
モニウムプロミド、ダウエックス−Iのような四級アン
モニウム型強塩基性イオン交換樹脂のクロリドまたはプ
ロミド塩型樹脂などがあげられる。好適には塩化カルシ
ウム、塩化マグネシウム、臭化ナトリウム、臭化マグネ
シウム、臭化カルシウムのようなアルカリ金属若しくは
アルカリ土類金属ハロゲン化物であシ、これらの中で特
に好適なものは溶解性、入手しやすさから塩化カルシウ
ムである。
応中にハロゲンアニオンを生じさせる化合物であれば特
に限定はされないが、そのような化合物として例えは塩
化ナトリウム、塩化リチウム、塩化カリウム、塩化マグ
ネシウム、塩化カルシウム、臭化リチウム、臭化ナトリ
ウム、臭化カリウム、臭化マグネシウム、臭化カルシウ
ムなどのようなアルカリ金属若しくはアルカリ土類金属
ハロゲン化物、N−メチルピリジニウムクロリド、テト
ラメチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニ
ウムクロリド、N−メチルピリジニウムプロミド、テト
ラメチ/L/7ンモニウムブロミド、テトラエチルアン
モニウムプロミド、ダウエックス−Iのような四級アン
モニウム型強塩基性イオン交換樹脂のクロリドまたはプ
ロミド塩型樹脂などがあげられる。好適には塩化カルシ
ウム、塩化マグネシウム、臭化ナトリウム、臭化マグネ
シウム、臭化カルシウムのようなアルカリ金属若しくは
アルカリ土類金属ハロゲン化物であシ、これらの中で特
に好適なものは溶解性、入手しやすさから塩化カルシウ
ムである。
ハロゲン化合物の使用量は、その種類、反応条件などに
よって異なるが、通常原料化合物の1〜20倍量が使用
される。
よって異なるが、通常原料化合物の1〜20倍量が使用
される。
本発明の方法で使用される低級アルコール類としテハ、
メチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルア
ルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール
などのような1〜3級アルコールがあげられる。
メチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルア
ルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール
などのような1〜3級アルコールがあげられる。
反応は通常適当な溶媒中で行われる。このような溶媒と
して反応に使用する低級アルコールをそのまま使用でき
る他、アセトン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン
、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメ
チルスルホキサイド、水のような極性のある溶媒または
これらの混合物が好適である。
して反応に使用する低級アルコールをそのまま使用でき
る他、アセトン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン
、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメ
チルスルホキサイド、水のような極性のある溶媒または
これらの混合物が好適である。
反応温度は特に制限はないが通常40〜80℃に加温す
るのが好適である。
るのが好適である。
反応時間は反応温度、溶媒、使用するハロゲン化合物の
種類などによって異なるが通常05〜10時間で行われ
る。
種類などによって異なるが通常05〜10時間で行われ
る。
反応終了後、目的化合物は常法によって反応混合物から
採取される。
採取される。
例えば反応混合物から有機溶媒を留去し、水を加えてア
ミン基が保護されている場合にはpHを2〜3に、保護
されていない場合にはpHを6〜Tに調整し、析出物を
加数するか、適当な有機溶媒で抽出することによって採
取することができる。さらに、必要に応じて目的化合物
をエステルの形で単離するかあるいはRlNHがアミノ
基を表わす場合にはアシル化された形で単離することも
できる。
ミン基が保護されている場合にはpHを2〜3に、保護
されていない場合にはpHを6〜Tに調整し、析出物を
加数するか、適当な有機溶媒で抽出することによって採
取することができる。さらに、必要に応じて目的化合物
をエステルの形で単離するかあるいはRlNHがアミノ
基を表わす場合にはアシル化された形で単離することも
できる。
次に実施例をあげて不発明の方法を更に具体的に説明す
るが、本発明はこれによって限定されるものではない。
るが、本発明はこれによって限定されるものではない。
〈実施例1.〉
a)7−フェノキシアセトアミド−3−アセトキシメチ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩101
を6791!+メタノール水100dに溶解し、塩化カ
ルシウム100?を加え、70℃で45分間加温攪拌し
た。反応液に氷水100―を加えて冷却し、1N−塩酸
10m1を加え酢酸エチル100−で3回抽出した。抽
出液を合し食塩水で洗浄後、10チ燐酸2力リウム水溶
液50m1で2回抽出した。これを合わせて少量の酢酸
エチルで洗浄後、飽和硫酸水素カリウム水溶液を加えて
酸性とし、酢酸エチル100 mlで2回抽出した。酢
酸エチル層を合して食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウ
ムを加えて脱水し、減圧、濃縮乾燥して、黄色固体7.
151を得た。
ル−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩101
を6791!+メタノール水100dに溶解し、塩化カ
ルシウム100?を加え、70℃で45分間加温攪拌し
た。反応液に氷水100―を加えて冷却し、1N−塩酸
10m1を加え酢酸エチル100−で3回抽出した。抽
出液を合し食塩水で洗浄後、10チ燐酸2力リウム水溶
液50m1で2回抽出した。これを合わせて少量の酢酸
エチルで洗浄後、飽和硫酸水素カリウム水溶液を加えて
酸性とし、酢酸エチル100 mlで2回抽出した。酢
酸エチル層を合して食塩水で洗い、無水硫酸マグネシウ
ムを加えて脱水し、減圧、濃縮乾燥して、黄色固体7.
151を得た。
これを酢酸エチル50−に溶解し、ジシクロヘキシルア
ミン3.4 mlを加え、氷冷し2時間静置した。析出
した結晶を沖取し、酢酸エチルで洗浄後、乾燥して、表
記化合物843fを得た。
ミン3.4 mlを加え、氷冷し2時間静置した。析出
した結晶を沖取し、酢酸エチルで洗浄後、乾燥して、表
記化合物843fを得た。
N M、 Rスペクトル(DMSO−c16.δppm
)0.8〜2.3(20H,m) 2.7〜3.4(2H,m) 3= 18 (3Hr s + OCH3)3.38(
2H,8,2位0)(2) 4.19(2H,s、3位0H2) 4.60(2H,s、(R2) 4.99(IH,d、Jw−5,5Hz 6位)5.
56(IH,d d、Jz5,5.gHz 7位)
6.7〜7.5(5H,m、フェニル)8.98(IH
,d、NH) 2350〜2700 ン占。
)0.8〜2.3(20H,m) 2.7〜3.4(2H,m) 3= 18 (3Hr s + OCH3)3.38(
2H,8,2位0)(2) 4.19(2H,s、3位0H2) 4.60(2H,s、(R2) 4.99(IH,d、Jw−5,5Hz 6位)5.
56(IH,d d、Jz5,5.gHz 7位)
6.7〜7.5(5H,m、フェニル)8.98(IH
,d、NH) 2350〜2700 ン占。
1770 :a=o、β−ラクタム1
680 10=O,アミドb) 7−フェ
ノキシアセトアミド−3−アセトキシメチル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸ナトリウム塩2fを35チメタノ
一ル水20Mに溶解し、臭化ナトリウム161を加えて
70℃に加熱し、2時間攪拌した。氷水20Mを加え、
飽和炭酸ナトリウム水を加えて反応液を中性とし50m
A!の酢酸エチルで2回洗浄した。水層に飽和硫酸水素
カリウム水溶液を加えて酸性とし50m1の酢酸エチル
で2回抽出した。抽出液を合わせて食塩水で洗い、無水
硫酸マグネシウムを用いて脱水後減圧・濃縮し、黄色固
体1.4tを得た。これを酢酸エチル50dに溶解し、
ジシクロヘキシルアミン0.73 mlを加え、室温に
1夜静置した。生じた結晶を濾過し、酢酸エチルで洗い
、乾燥して表記化合物1.18fを得た。
680 10=O,アミドb) 7−フェ
ノキシアセトアミド−3−アセトキシメチル−3−セフ
ェム−4−カルボン酸ナトリウム塩2fを35チメタノ
一ル水20Mに溶解し、臭化ナトリウム161を加えて
70℃に加熱し、2時間攪拌した。氷水20Mを加え、
飽和炭酸ナトリウム水を加えて反応液を中性とし50m
A!の酢酸エチルで2回洗浄した。水層に飽和硫酸水素
カリウム水溶液を加えて酸性とし50m1の酢酸エチル
で2回抽出した。抽出液を合わせて食塩水で洗い、無水
硫酸マグネシウムを用いて脱水後減圧・濃縮し、黄色固
体1.4tを得た。これを酢酸エチル50dに溶解し、
ジシクロヘキシルアミン0.73 mlを加え、室温に
1夜静置した。生じた結晶を濾過し、酢酸エチルで洗い
、乾燥して表記化合物1.18fを得た。
C)7−フェノキシアセトアミド−3−アセトキシメチ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩2fを
35%メタノール水2[1mに溶解し、臭化マグネシウ
ム6水和物251を加え、70℃に加熱し、2時間攪拌
した。反応液をb)と同様に処理して得られた固体を7
f3mlの酢酸エチル中、0.6m/!のジシクロヘキ
シルアミンで処理し、析出した結晶な戸数乾外して、表
記化合物590m9を得た。
ル−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩2fを
35%メタノール水2[1mに溶解し、臭化マグネシウ
ム6水和物251を加え、70℃に加熱し、2時間攪拌
した。反応液をb)と同様に処理して得られた固体を7
f3mlの酢酸エチル中、0.6m/!のジシクロヘキ
シルアミンで処理し、析出した結晶な戸数乾外して、表
記化合物590m9を得た。
d)7−フェノキシアセトアミド−3−アセトキシメチ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩2fを
50チメタノ一ル水2Gmlに浴解し、塩化マグネシウ
ム201を加えて70℃に1時間加熱攪拌した。反応液
をb)と同様に処理し、黄色固体1.41を得た。これ
を酢酸エチル50m1に溶解し、ジシクロヘキシルアミ
ン0.73 mlを加えて結晶化させ、これを炉取乾燥
して、表記化合物1.16fを得た。
ル−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩2fを
50チメタノ一ル水2Gmlに浴解し、塩化マグネシウ
ム201を加えて70℃に1時間加熱攪拌した。反応液
をb)と同様に処理し、黄色固体1.41を得た。これ
を酢酸エチル50m1に溶解し、ジシクロヘキシルアミ
ン0.73 mlを加えて結晶化させ、これを炉取乾燥
して、表記化合物1.16fを得た。
e)7−フェノキシアセトアミド−3−アセトキシメチ
ル−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩2グを
50%メタノール水20dに溶解し、臭化カルシウム2
水和物20グを加え70℃で50分攪拌した。
ル−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩2グを
50%メタノール水20dに溶解し、臭化カルシウム2
水和物20グを加え70℃で50分攪拌した。
反応液をb)と同様に処理し、黄色固体1.555’を
得た。これを酢酸エチル50酩に溶解し、ジシクロヘキ
シルアミン0.81 mlを加え、室温に3時間静置し
た。析出した結晶を戸数し、酢酸エチルで洗浄後、乾燥
して表記化合物11を得た。
得た。これを酢酸エチル50酩に溶解し、ジシクロヘキ
シルアミン0.81 mlを加え、室温に3時間静置し
た。析出した結晶を戸数し、酢酸エチルで洗浄後、乾燥
して表記化合物11を得た。
〈実施例2.〉
7−[2−(2−クロルアセチルアミノチアゾール−4
−イル)−2−(Z)−メトキシイミノアセトアミド〕
−3−アセトキシメチル−3−セフェム−4−カルボン
酸52と炭酸水素ナトリウム800m9を70条メタノ
ール水50m1に溶解し、塩化カルシウム75fを加え
70℃に加熱して1時間攪拌した。反応液に氷水100
m/!を加え濃塩酸1 mlを加え゛C酸性とした後、
酢酸エチルNJOmlで3回抽出した。抽出液を合わせ
て食塩水で洗浄後、10%燐酸2カリウム水溶液50
wriで3回抽出した。これらを合して少量の酢酸エチ
ルで洗浄し、飽和硫酸水素カリウム水溶液で酸性とし、
酢酸エチル100 a/!で2回、50Mで1回、抽出
した。これらを合して食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで脱水後、減圧濃縮した。途中で結晶が析出して
くるので約50廐で濃縮を止め、一度加温後、氷冷し、
3時間静置した。折用した結晶を沖過し、酢酸エチルで
洗浄後、乾燥して、表記化合物301fを得た。
−イル)−2−(Z)−メトキシイミノアセトアミド〕
−3−アセトキシメチル−3−セフェム−4−カルボン
酸52と炭酸水素ナトリウム800m9を70条メタノ
ール水50m1に溶解し、塩化カルシウム75fを加え
70℃に加熱して1時間攪拌した。反応液に氷水100
m/!を加え濃塩酸1 mlを加え゛C酸性とした後、
酢酸エチルNJOmlで3回抽出した。抽出液を合わせ
て食塩水で洗浄後、10%燐酸2カリウム水溶液50
wriで3回抽出した。これらを合して少量の酢酸エチ
ルで洗浄し、飽和硫酸水素カリウム水溶液で酸性とし、
酢酸エチル100 a/!で2回、50Mで1回、抽出
した。これらを合して食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで脱水後、減圧濃縮した。途中で結晶が析出して
くるので約50廐で濃縮を止め、一度加温後、氷冷し、
3時間静置した。折用した結晶を沖過し、酢酸エチルで
洗浄後、乾燥して、表記化合物301fを得た。
NMRスペクトル(DM80−46.δppm)3.2
7(3H,ε、○0H3) 3.60(2H,S、2位 CH2) 3.97(3H,s 、N−00H3)4.26(2H
,S、C4H6) 4.43(2H,θ、0H2) 5.25(IH,a、y=5Hz、6位)5.89(I
H、aa、、y=sおよび911z、7位)7.50(
IH,s、アミノチアゾールツH)9.83(IH,d
、、T−9H2NH)〈実施例3〉 T−ベンジルオキシカルボニルアミノ−3−アセトキシ
メチル−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩2
.5fを66係メタノ一ル水25m1に溶解し、塩化カ
ルシウム25ぴを加え70℃で1時間攪拌した。反応液
に氷水50Mを加え、塩酸でpH1〜2とした後酢酸エ
チル501で2回抽出した。酢酸エチル層を合わせて食
塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で脱水し減圧濃
縮した。これを酢酸エチル20m1に溶解し、ジシクロ
ヘキシルアミン1.7Fを加え3時間氷冷静置した。析
出した結晶を加数し乾燥して、表記化合物2.1fを得
た。
7(3H,ε、○0H3) 3.60(2H,S、2位 CH2) 3.97(3H,s 、N−00H3)4.26(2H
,S、C4H6) 4.43(2H,θ、0H2) 5.25(IH,a、y=5Hz、6位)5.89(I
H、aa、、y=sおよび911z、7位)7.50(
IH,s、アミノチアゾールツH)9.83(IH,d
、、T−9H2NH)〈実施例3〉 T−ベンジルオキシカルボニルアミノ−3−アセトキシ
メチル−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩2
.5fを66係メタノ一ル水25m1に溶解し、塩化カ
ルシウム25ぴを加え70℃で1時間攪拌した。反応液
に氷水50Mを加え、塩酸でpH1〜2とした後酢酸エ
チル501で2回抽出した。酢酸エチル層を合わせて食
塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で脱水し減圧濃
縮した。これを酢酸エチル20m1に溶解し、ジシクロ
ヘキシルアミン1.7Fを加え3時間氷冷静置した。析
出した結晶を加数し乾燥して、表記化合物2.1fを得
た。
NMRスペクトル(aDcz3.δppm)0.8〜2
.4(20H,m) 2.7〜3.4(2H,m) 3.27(3H1sjoCH3) 3.42(2H,θ、 0H22位) 432 (2Hz ’ 、OH23位)4.9〜5.2
(2H、m 、 6位および1・位)5.08 (2
Hls j# OH2)5.3〜5.6(3H,m、7
位および2H)7.29 (5H,s 、phenyl
)〈実施例4.〉 ゛ 1−クロルアセトアミド−3−γモトキシメチル−
3−セフェム−4−カルボン酸2fと炭酸水素ナトリウ
ム483m9を66%メタノール水20mff1に溶解
し、塩化カルシウム309を加え70℃に加熱し、50
分間攪拌した。反応液に氷水50Mを加え、塩酸でpH
1〜2とし、酢酸エチル50m1で3回抽出した。酢酸
エチル層を合わせて食塩水で洗い無水硫酸マグネシウム
上 ゛で脱水し、減圧濃縮して1.3fの無定形固体
を得た。これ(て酢酸エチル30 m、lを加え、活性
炭を加えて脱色処理し、脱色炭を沖去後、炉液にジシク
ロヘキシルアミン735m9を加えると無色結晶が所出
した。こオしを氷冷し、3時間放置後、戸数し、酢酸エ
チルで洗って乾燥すると、表記化合物1.51+’が得
られた。
.4(20H,m) 2.7〜3.4(2H,m) 3.27(3H1sjoCH3) 3.42(2H,θ、 0H22位) 432 (2Hz ’ 、OH23位)4.9〜5.2
(2H、m 、 6位および1・位)5.08 (2
Hls j# OH2)5.3〜5.6(3H,m、7
位および2H)7.29 (5H,s 、phenyl
)〈実施例4.〉 ゛ 1−クロルアセトアミド−3−γモトキシメチル−
3−セフェム−4−カルボン酸2fと炭酸水素ナトリウ
ム483m9を66%メタノール水20mff1に溶解
し、塩化カルシウム309を加え70℃に加熱し、50
分間攪拌した。反応液に氷水50Mを加え、塩酸でpH
1〜2とし、酢酸エチル50m1で3回抽出した。酢酸
エチル層を合わせて食塩水で洗い無水硫酸マグネシウム
上 ゛で脱水し、減圧濃縮して1.3fの無定形固体
を得た。これ(て酢酸エチル30 m、lを加え、活性
炭を加えて脱色処理し、脱色炭を沖去後、炉液にジシク
ロヘキシルアミン735m9を加えると無色結晶が所出
した。こオしを氷冷し、3時間放置後、戸数し、酢酸エ
チルで洗って乾燥すると、表記化合物1.51+’が得
られた。
NMRス6クトル(CDC23・δp工)0、7〜2.
4(20H、m ’) 2.7〜3.4 (2H、m) 3.28(3H,S、○CH3) 342(2H1S、CH22位) 4.06(2H,日、 cz、 0T(2co )42
9 (2H# 8 s 0H23位)t9s(IH,a
、J=5.5H2,6位)5.62(IH,da、、T
=5.5.9H2,7位)7.15(IH,d、J=9
Hz、NH)〈実施例5.〉 7−インプチリルアミノー3−アセトキシメチル−3−
セフェム−4−カルボン酸2tと炭酸水素ナトリウム4
90m9を66チメタノ一ル水21mA’に溶解し、塩
化カルシウム2水和物301を加えて70℃で90分間
加熱攪拌した。反応液を冷却し、水40mおよび酢酸エ
チル50dを加え、水層をpH7〜8として分液した。
4(20H、m ’) 2.7〜3.4 (2H、m) 3.28(3H,S、○CH3) 342(2H1S、CH22位) 4.06(2H,日、 cz、 0T(2co )42
9 (2H# 8 s 0H23位)t9s(IH,a
、J=5.5H2,6位)5.62(IH,da、、T
=5.5.9H2,7位)7.15(IH,d、J=9
Hz、NH)〈実施例5.〉 7−インプチリルアミノー3−アセトキシメチル−3−
セフェム−4−カルボン酸2tと炭酸水素ナトリウム4
90m9を66チメタノ一ル水21mA’に溶解し、塩
化カルシウム2水和物301を加えて70℃で90分間
加熱攪拌した。反応液を冷却し、水40mおよび酢酸エ
チル50dを加え、水層をpH7〜8として分液した。
水層を分取し、塩酸を用いて酸性とし、酢酸エチル50
rILl!で3回抽出した。これらを合わせて、食塩水
で洗浄後、無水硫酸マグネシウム上で脱水し減圧濃縮し
た。これを少量酢酸エチルにとかし不溶物を沖去後、イ
ングロビルエーテルを加えて沈澱させこれを戸数乾燥し
て表記化合物をgoo trui得*。
rILl!で3回抽出した。これらを合わせて、食塩水
で洗浄後、無水硫酸マグネシウム上で脱水し減圧濃縮し
た。これを少量酢酸エチルにとかし不溶物を沖去後、イ
ングロビルエーテルを加えて沈澱させこれを戸数乾燥し
て表記化合物をgoo trui得*。
NMRスペクトル((CD3)2Co、δppm)1゜
1Q(3a、a、J−7Hz、CH3)1.15(3H
,(1,、T−7H2,Cl−13)2.3〜3.0
(I H、m 、 0H)3.20(3H,θ、 0C
R5) 3.63(2H,s、2位 CH2) 4.22(2H,s、3位 CH2) 5.01(IH,(1,、T−5H2,6位)5.6G
(IH,d (1,、T−5および9Hz 、7位)
8.04(IH,d、、T=8H2NH)〈実施例6.
〉 7−(2−(2−ホルミルアミノチアゾール−4−イル
)−2−メトキシイミノアセトアミド)−3−アセトキ
シメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩
1tを504メタ/−ル水12 mlに溶解し、塩化カ
ルシウム2水和物201を加え、70℃で35分間攪拌
した。
1Q(3a、a、J−7Hz、CH3)1.15(3H
,(1,、T−7H2,Cl−13)2.3〜3.0
(I H、m 、 0H)3.20(3H,θ、 0C
R5) 3.63(2H,s、2位 CH2) 4.22(2H,s、3位 CH2) 5.01(IH,(1,、T−5H2,6位)5.6G
(IH,d (1,、T−5および9Hz 、7位)
8.04(IH,d、、T=8H2NH)〈実施例6.
〉 7−(2−(2−ホルミルアミノチアゾール−4−イル
)−2−メトキシイミノアセトアミド)−3−アセトキ
シメチル−3−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム塩
1tを504メタ/−ル水12 mlに溶解し、塩化カ
ルシウム2水和物201を加え、70℃で35分間攪拌
した。
反応液に氷水30ゴを加え、不溶物を炉去した。
ろ液を塩酸で酸性とし、酢酸エチル50ゴで3回抽出し
た。抽出液を合わせて、食塩水で洗い無水硫酸マグネシ
ウム上で脱水し、減圧濃縮した。これを酢酸エチルにと
かし、エーテルを加えて固化させて、表記化合物を含む
固体0.61を得た。
た。抽出液を合わせて、食塩水で洗い無水硫酸マグネシ
ウム上で脱水し、減圧濃縮した。これを酢酸エチルにと
かし、エーテルを加えて固化させて、表記化合物を含む
固体0.61を得た。
NMRスペクトル((CD3)2CO1δppm)3.
27(3H,s、0CR3) 3.55(2H,s、2位CH2) 3.88 (3H+ s + N OCH3)4.27
C2H,日、3位CH2) 5.10(IH,d、J−5Hz、6位)5.75CI
H1d d、J+=−5および8Hz 、7位)7.
31(IH,日、アミノチアゾール環H)8.42(I
H,s、旦co ) 9.57(IH,(1,J=8H2) く実施例7.〉 −3−アセトキシメチル−3−セフェム−4−カルボン
酸ナトリウム塩2fを60%メタノール水20m1に溶
解し、塩化カルシウム2水和物201を加え、70℃で
50分間攪拌した。反応液に氷水40m1を加え1)H
6〜Tとして酢酸エチル50m1で2回洗浄した。水層
を塩酸でpH1〜2とし酢酸エチル50ばで3回抽出し
、これらを合わせて食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネ
シウム上で脱水し減圧濃縮して、表記化合物を含む固体
1.T2を得た。
27(3H,s、0CR3) 3.55(2H,s、2位CH2) 3.88 (3H+ s + N OCH3)4.27
C2H,日、3位CH2) 5.10(IH,d、J−5Hz、6位)5.75CI
H1d d、J+=−5および8Hz 、7位)7.
31(IH,日、アミノチアゾール環H)8.42(I
H,s、旦co ) 9.57(IH,(1,J=8H2) く実施例7.〉 −3−アセトキシメチル−3−セフェム−4−カルボン
酸ナトリウム塩2fを60%メタノール水20m1に溶
解し、塩化カルシウム2水和物201を加え、70℃で
50分間攪拌した。反応液に氷水40m1を加え1)H
6〜Tとして酢酸エチル50m1で2回洗浄した。水層
を塩酸でpH1〜2とし酢酸エチル50ばで3回抽出し
、これらを合わせて食塩水で洗浄した。無水硫酸マグネ
シウム上で脱水し減圧濃縮して、表記化合物を含む固体
1.T2を得た。
NMRスペクトル ((CD3)2CO1δppm)3
.26(3H,θ、 O(!H3) 3.57(2H,8,2位CH2) 3.73(3H,日、 0CH3) 4.29(2H,s、3位CH2) 4.59(2H,日、 O(1!H2Co)5.07(
IH,a、J−5Hz、6位)5.79(IH,d、d
、J−5および9Hz、7位)6.85(4H,s、フ
ェニルfiH)8.03(IH,d、J=gH2,NH
)〈実施例8.〉 の製法 T−(3−オキソブチリルアミノ)−3−アセトキシメ
チル−3−セフェム−4−カルボン酸1.43 fと炭
酸水素ナトリウムo342を67%メタノール水15プ
に溶解し、塩化カルシウム2水和物21.5 fを加え
、70℃で一時間攪拌した。反応液に氷水30mを加え
、塩酸で1)H1〜2とし、酢酸エチル50m1で3回
抽出した。これらを合わせて5チリン酸2力リウム水溶
液20m1で2回抽出した。これを再び塩酸でpH1〜
2とした後、酢酸エチル50m1で2回抽出し、食塩水
で洗い、無水硫酸マグネシウム上で脱水後、減圧濃縮し
、表記化合物を含む黄色固体0.955’を得た。
.26(3H,θ、 O(!H3) 3.57(2H,8,2位CH2) 3.73(3H,日、 0CH3) 4.29(2H,s、3位CH2) 4.59(2H,日、 O(1!H2Co)5.07(
IH,a、J−5Hz、6位)5.79(IH,d、d
、J−5および9Hz、7位)6.85(4H,s、フ
ェニルfiH)8.03(IH,d、J=gH2,NH
)〈実施例8.〉 の製法 T−(3−オキソブチリルアミノ)−3−アセトキシメ
チル−3−セフェム−4−カルボン酸1.43 fと炭
酸水素ナトリウムo342を67%メタノール水15プ
に溶解し、塩化カルシウム2水和物21.5 fを加え
、70℃で一時間攪拌した。反応液に氷水30mを加え
、塩酸で1)H1〜2とし、酢酸エチル50m1で3回
抽出した。これらを合わせて5チリン酸2力リウム水溶
液20m1で2回抽出した。これを再び塩酸でpH1〜
2とした後、酢酸エチル50m1で2回抽出し、食塩水
で洗い、無水硫酸マグネシウム上で脱水後、減圧濃縮し
、表記化合物を含む黄色固体0.955’を得た。
NMRスペクト/L/ (DMSO−<6.δ1ア)2
.14(3T(、θ、CH3) 3.27 (3H、s jOCR3) 3.49(2H,s、2位C!H2) 3.55 (2H,8、C!H2) 4.29(2H,日、3位0H2) 5.04(IH,d、J−5Hz、6位)5.65(I
H,d a、y=5および8 H2? 7 位)8.
72(IH,d、J−8H2,NH)〈実施例9.〉 7−アミノセファロスポラン959と炭酸水素ナトリウ
ム3.19を66チメタノール水5゜〃lに溶解し、塩
化カルシウム7srを加え、70℃で1時間30分攪拌
した。反応液を冷却し、水100m1アセトン50m1
を加え、氷冷した。
.14(3T(、θ、CH3) 3.27 (3H、s jOCR3) 3.49(2H,s、2位C!H2) 3.55 (2H,8、C!H2) 4.29(2H,日、3位0H2) 5.04(IH,d、J−5Hz、6位)5.65(I
H,d a、y=5および8 H2? 7 位)8.
72(IH,d、J−8H2,NH)〈実施例9.〉 7−アミノセファロスポラン959と炭酸水素ナトリウ
ム3.19を66チメタノール水5゜〃lに溶解し、塩
化カルシウム7srを加え、70℃で1時間30分攪拌
した。反応液を冷却し、水100m1アセトン50m1
を加え、氷冷した。
これに攪拌下、フェノキシアセチルクロリド3.T51
をアセトン20m1にとかして滴下した。30分後、反
応液を減圧濃縮して約2/3とし、これに酢酸エチル2
00rn/および塩酸を加え、抽出した。さらに2回酢
酸エチル100m1で抽出し、これら抽出層を合わせて
、食塩水で洗浄した。これを無水硫酸マグネシウム上で
脱水し、減圧濃縮した。残置を約30m1の酢酸エチル
にとかし不溶物を炉去後、ジシクロヘキシルアミン3f
を加え室温に30分、氷冷して3時間静置した。
をアセトン20m1にとかして滴下した。30分後、反
応液を減圧濃縮して約2/3とし、これに酢酸エチル2
00rn/および塩酸を加え、抽出した。さらに2回酢
酸エチル100m1で抽出し、これら抽出層を合わせて
、食塩水で洗浄した。これを無水硫酸マグネシウム上で
脱水し、減圧濃縮した。残置を約30m1の酢酸エチル
にとかし不溶物を炉去後、ジシクロヘキシルアミン3f
を加え室温に30分、氷冷して3時間静置した。
析出した結晶をF取し、乾燥して、表記化合物2.1f
を得た。
を得た。
NMRス4クトル(DMSO−d6.δppm)0.8
〜2.3(20H,m) 2.7〜3.4 (2H、m ) 3.18(3H,日、 0OH3) 3.38(2H,s、2位CH2) 4.19(2H,s、3位OH,、) 460 (2Hs e 、OH2) 4.99(IH,d、J−5,5H2,6位)5.56
(IH,d d、、r=5.5および9Hz 7位
)6.7〜7.5(5H,m、フェニル)8.98(I
H,a、NH) 参考例 T−(3−オキソブチリルアミノ)−3−アセトキシメ
チル−3−セフェム−4−カルボン酸の製法 7−アミノセファロスポラン酸5.44 Fを1N水酸
化す) IJウム溶液20dに溶解し水冷下、ジケテン
1.68 fを加え、同温にて1時間攪拌した。反応液
に酢酸エチル2 t3 mAを加え酸性として抽出した
。さらに2回、酢酸エチルで抽出し、抽田液を合わせて
食塩水で洗浄後無水硫酸マグネシウム上で脱水し、減圧
母線した。表記化合物の結晶44グが得られた。
〜2.3(20H,m) 2.7〜3.4 (2H、m ) 3.18(3H,日、 0OH3) 3.38(2H,s、2位CH2) 4.19(2H,s、3位OH,、) 460 (2Hs e 、OH2) 4.99(IH,d、J−5,5H2,6位)5.56
(IH,d d、、r=5.5および9Hz 7位
)6.7〜7.5(5H,m、フェニル)8.98(I
H,a、NH) 参考例 T−(3−オキソブチリルアミノ)−3−アセトキシメ
チル−3−セフェム−4−カルボン酸の製法 7−アミノセファロスポラン酸5.44 Fを1N水酸
化す) IJウム溶液20dに溶解し水冷下、ジケテン
1.68 fを加え、同温にて1時間攪拌した。反応液
に酢酸エチル2 t3 mAを加え酸性として抽出した
。さらに2回、酢酸エチルで抽出し、抽田液を合わせて
食塩水で洗浄後無水硫酸マグネシウム上で脱水し、減圧
母線した。表記化合物の結晶44グが得られた。
融点150℃(分解)
NMRスペクトル(DMSO−c16.δppm)2.
02(3H,s) 2.15(3H,El) 3.41(2H,8) 3、53 (2H、El ) 4.78(2H,ABqjJ=12Hz)5.03(I
H,(1,J−5H2) 5、60 (I H、d l 、 J = 5および8
H2)8.92(IH,a、J−aHz) 手続補正書(自発) 昭和57年11月g日 特許庁長官 若 杉 和 夫殿 一一ゝ 昭和56年特許願第193461号 2、発明の名称 3−アルコキシメチルセファロスポリン類の製造法3、
補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 〒103東京都中央区日本橋本町3丁目1番地の
6名称 (185)三共株式会社 代表者 取締役社長 河村喜典 4、代理人 居所 〒140東京部品川区広町1丁目2番58号三共
株式会社内 ) 6、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄7、補
正の内容 別紙の通シ 1、 明細書第5頁14乃至188行目[t)法はハロ
メチル基のノ・ログンの反応性を高めるためと・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・再び3−セフェム
体に戻すため工程が長い。」を r 7)法はΔ3−3−メチル体をΔ2−3−メチル体
に異性化した後、ノ・ロダン化してΔ2−3−ノ・ロメ
チル体となし、これを原料として低級アルコールとの反
応を行ない、再び3−セフェム体に戻すため工程が長い
。」と訂正する。
02(3H,s) 2.15(3H,El) 3.41(2H,8) 3、53 (2H、El ) 4.78(2H,ABqjJ=12Hz)5.03(I
H,(1,J−5H2) 5、60 (I H、d l 、 J = 5および8
H2)8.92(IH,a、J−aHz) 手続補正書(自発) 昭和57年11月g日 特許庁長官 若 杉 和 夫殿 一一ゝ 昭和56年特許願第193461号 2、発明の名称 3−アルコキシメチルセファロスポリン類の製造法3、
補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 〒103東京都中央区日本橋本町3丁目1番地の
6名称 (185)三共株式会社 代表者 取締役社長 河村喜典 4、代理人 居所 〒140東京部品川区広町1丁目2番58号三共
株式会社内 ) 6、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄7、補
正の内容 別紙の通シ 1、 明細書第5頁14乃至188行目[t)法はハロ
メチル基のノ・ログンの反応性を高めるためと・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・再び3−セフェム
体に戻すため工程が長い。」を r 7)法はΔ3−3−メチル体をΔ2−3−メチル体
に異性化した後、ノ・ロダン化してΔ2−3−ノ・ロメ
チル体となし、これを原料として低級アルコールとの反
応を行ない、再び3−セフェム体に戻すため工程が長い
。」と訂正する。
2、同第7頁12行目の
「アミノ基、水酸基、−・ログン原子、」を「アミノ基
、水酸基、オキソ基、ハロダン原子、」と訂正する。
、水酸基、オキソ基、ハロダン原子、」と訂正する。
3、同第26頁7行乃至第27頁下から3行目にわたる
「実施例9の記載」の後に下記の語句を挿入する。
「実施例9の記載」の後に下記の語句を挿入する。
7−(4−クロロ−3−オキソ−(Z) −2−メトキ
シイミノブチリルアミノ)−3−アセトキシメチル−3
−セフェム−4−カルがン酸500■と炭酸水素ナトリ
ウム150〜を67チメタノール水5−に溶解し、塩化
カルシウム5Fを加え65℃に加温して1時間攪拌した
。
シイミノブチリルアミノ)−3−アセトキシメチル−3
−セフェム−4−カルがン酸500■と炭酸水素ナトリ
ウム150〜を67チメタノール水5−に溶解し、塩化
カルシウム5Fを加え65℃に加温して1時間攪拌した
。
反応液に氷水30−および酢酸エチル50−を加え、塩
酸で酸性として抽出した。水層をさらに2回30m1の
酢酸エチルで抽出後、抽出液を合して食塩水で洗い、無
水硫酸ブグネシウム上で脱水後減圧濃縮して表記化合物
を320■得た(黄色固体)。
酸で酸性として抽出した。水層をさらに2回30m1の
酢酸エチルで抽出後、抽出液を合して食塩水で洗い、無
水硫酸ブグネシウム上で脱水後減圧濃縮して表記化合物
を320■得た(黄色固体)。
NMRスペクトル(pMso−a6 δpprn )3
.20 (3H、s、0CH3) 3.50 (2H、a 、CI(22位)4.02
(3H、s 、 N−0CH5)4.15 (2H
、s 、CH2) 4.77 (2H、s 、CI(zCL )5.08
(IH,d、J=5Hz、6位)5.70 (I
H,dd、J=5および9Hz、7位)9.34 (
IH,d、J”9Hz、NH)〈実施例11〉 7−(4−メタンスルホニルオキシ−3−オキソ−(Z
) −2−メトキシイミノブチリルアミ/)−3−アセ
トキシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸510■
を、重ソウ130■と共に5.1 mlの67%−メタ
ノールに溶解後、塩化カルシウム5.1zを加え浴温7
0℃で1時間攪拌する。反応終了後50−の氷水を加え
、10チ塩酸で酸性(pH1,0)とし、酢酸エチルで
抽出する。酢酸エチル抽出液を食塩水で洗い、無水硫酸
マグネシウムで乾燥後溶媒を留去すると目的物が淡褐色
泡状物として352mg得られた。
.20 (3H、s、0CH3) 3.50 (2H、a 、CI(22位)4.02
(3H、s 、 N−0CH5)4.15 (2H
、s 、CH2) 4.77 (2H、s 、CI(zCL )5.08
(IH,d、J=5Hz、6位)5.70 (I
H,dd、J=5および9Hz、7位)9.34 (
IH,d、J”9Hz、NH)〈実施例11〉 7−(4−メタンスルホニルオキシ−3−オキソ−(Z
) −2−メトキシイミノブチリルアミ/)−3−アセ
トキシメチル−3−セフェム−4−カルボン酸510■
を、重ソウ130■と共に5.1 mlの67%−メタ
ノールに溶解後、塩化カルシウム5.1zを加え浴温7
0℃で1時間攪拌する。反応終了後50−の氷水を加え
、10チ塩酸で酸性(pH1,0)とし、酢酸エチルで
抽出する。酢酸エチル抽出液を食塩水で洗い、無水硫酸
マグネシウムで乾燥後溶媒を留去すると目的物が淡褐色
泡状物として352mg得られた。
NMRスペクトル((CD3)2CO2δppm)3.
18 (,3H、8、C−H,5O20−)3.28
(3H,s+、3位−CH20CH3)4.23
(2H,s、2位−CH2O−)5.09 (IH
,d、J=5.0Hz、6位−■)5.27 (2H
、8、CH35O20−CH2CO−)5.78 (
lH,aa、J=5.oおよび9.0 Hz 、 7位
−■)8.30 (IH,d、J=9.0Hz、7位
−NM−) j4、同第27頁下から2行目の 「参考例」を 「〈参考例1〉」と訂正する。
18 (,3H、8、C−H,5O20−)3.28
(3H,s+、3位−CH20CH3)4.23
(2H,s、2位−CH2O−)5.09 (IH
,d、J=5.0Hz、6位−■)5.27 (2H
、8、CH35O20−CH2CO−)5.78 (
lH,aa、J=5.oおよび9.0 Hz 、 7位
−■)8.30 (IH,d、J=9.0Hz、7位
−NM−) j4、同第27頁下から2行目の 「参考例」を 「〈参考例1〉」と訂正する。
5、 同第27頁下から2行乃至第28頁末行にわたる
「参考例の記載」の後に下記の語句を挿入する。
「参考例の記載」の後に下記の語句を挿入する。
く参考例2〉
ジメチルホルムアミド0.54m/!およびオキシ塩化
リン0゜657!を40℃に1時間加温する。今後、こ
れに塩化メチレン30づを加えた後溶媒を留去する。残
渣に乾燥酢酸エチル3o−を加え、ついでこれに4−メ
タンスルホニルオキシ−3−オキソ−2−メトキシイミ
ノ酪酸ジシクロヘキシルアミン塩(シン異性体)2.7
5?を加え室温で5分間攪拌する。一方、7−アミノセ
ファロスポラン酸1.9y−およびビス(トリメチルシ
リル)アセトアミド6、31ntを乾燥酢酸エチル3゜
−に溶かした液を、−30℃に冷却し、ついでこれに上
記で得られた溶液を一度に加える。これを−10℃〜−
〇℃で1時間40分間攪拌し、これを希塩酸水、水の順
で洗い硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を留去すると目的
物が薄褐色泡状物として1.4g−得られた。
リン0゜657!を40℃に1時間加温する。今後、こ
れに塩化メチレン30づを加えた後溶媒を留去する。残
渣に乾燥酢酸エチル3o−を加え、ついでこれに4−メ
タンスルホニルオキシ−3−オキソ−2−メトキシイミ
ノ酪酸ジシクロヘキシルアミン塩(シン異性体)2.7
5?を加え室温で5分間攪拌する。一方、7−アミノセ
ファロスポラン酸1.9y−およびビス(トリメチルシ
リル)アセトアミド6、31ntを乾燥酢酸エチル3゜
−に溶かした液を、−30℃に冷却し、ついでこれに上
記で得られた溶液を一度に加える。これを−10℃〜−
〇℃で1時間40分間攪拌し、これを希塩酸水、水の順
で洗い硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒を留去すると目的
物が薄褐色泡状物として1.4g−得られた。
NMRスペクト# ((CD3)2CO、δppm )
2.03 (3H,s、3位−o5−c5 )3.1
7 (3H、8、C3S020− )4.90 (
2H,ABq、J=13.0Hz、3位−CH2−0−
)5.09 (IH,d 、 J=5.0Hz 、
6位−■)5.28 (2H,s、側鎖−80,20
CH2−CO−)5.81 (iH,d、d、J=s
、oおよび9.0 Hz 、 7位−■)8.37
(LH,d 、 J=9.0Hz 、 7位→弔−)く
参考例3〉 7−(4−クロロ−3−オキソ−(Z) −2−メトキ
シイミノブチリルアミノ)−3−メトキシメチル−3−
セフェム−4−カルボン酸210ダをジメチルアセトア
ミド2ゴに溶解し、水冷攪拌下ジシクロヘキシルアミン
100m9および1−ヨードエチルイソプロピルカーボ
ネート150rvを加えた。30分後酢酸エチル5〇−
を加えIN塩酸、水、食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マ
グネシウム上で脱水し減圧濃縮した。
2.03 (3H,s、3位−o5−c5 )3.1
7 (3H、8、C3S020− )4.90 (
2H,ABq、J=13.0Hz、3位−CH2−0−
)5.09 (IH,d 、 J=5.0Hz 、
6位−■)5.28 (2H,s、側鎖−80,20
CH2−CO−)5.81 (iH,d、d、J=s
、oおよび9.0 Hz 、 7位−■)8.37
(LH,d 、 J=9.0Hz 、 7位→弔−)く
参考例3〉 7−(4−クロロ−3−オキソ−(Z) −2−メトキ
シイミノブチリルアミノ)−3−メトキシメチル−3−
セフェム−4−カルボン酸210ダをジメチルアセトア
ミド2ゴに溶解し、水冷攪拌下ジシクロヘキシルアミン
100m9および1−ヨードエチルイソプロピルカーボ
ネート150rvを加えた。30分後酢酸エチル5〇−
を加えIN塩酸、水、食塩水で順次洗浄後、無水硫酸マ
グネシウム上で脱水し減圧濃縮した。
これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー処理(酢酸
エチル−シクロヘキサ7=1:1)l。
エチル−シクロヘキサ7=1:1)l。
て、1−インプロピルオキシカルボニルオキシエチル
7−(4−クロロ−3−オキソ−(Z)−2−メトキシ
イミノブチリルアミノ)−3=メトキシメチル−3−セ
フェム−4−カルボキシレートおよび1−イソプロピル
オキシカルがニルオキシエチル 7−(4−ヨード−3
−オキソ−(Z) −2−メトキシイミノブチリルアミ
ノ)−3−メトキシメチル−3−セフェム−4−カルボ
キシレートの混合物を得た。
7−(4−クロロ−3−オキソ−(Z)−2−メトキシ
イミノブチリルアミノ)−3=メトキシメチル−3−セ
フェム−4−カルボキシレートおよび1−イソプロピル
オキシカルがニルオキシエチル 7−(4−ヨード−3
−オキソ−(Z) −2−メトキシイミノブチリルアミ
ノ)−3−メトキシメチル−3−セフェム−4−カルボ
キシレートの混合物を得た。
これをジメチルアセトアミド2−および声6.86のリ
ン酸緩衝液1fnlの混合液にとかしチオ尿素601ψ
およびヨウ化ナトリウム60Tngを加えて3時間攪拌
した。反応液に酢酸エチル50−を加え水、5qbチオ
硫酸す) IJウム水溶液および食塩水で順次洗浄し無
水硫酸マグネシウム上で脱水後減圧濃縮した。これを夕
景の酢酸エチルに溶解し、イソゾロビルエーテルを加え
て生じた沈澱をν取乾燥すると表記化合物200■の粉
末が得られた。
ン酸緩衝液1fnlの混合液にとかしチオ尿素601ψ
およびヨウ化ナトリウム60Tngを加えて3時間攪拌
した。反応液に酢酸エチル50−を加え水、5qbチオ
硫酸す) IJウム水溶液および食塩水で順次洗浄し無
水硫酸マグネシウム上で脱水後減圧濃縮した。これを夕
景の酢酸エチルに溶解し、イソゾロビルエーテルを加え
て生じた沈澱をν取乾燥すると表記化合物200■の粉
末が得られた。
NMRスペクトル(CDCL3.δppm)1.56
(3HId、J=5.5H7,’;CHCH,)3−
30 (3H、s 、0CH3)3.52 (2H
、s 、CH2,2位)4、OO(3H、s 、N−O
CH3)4.30 (2H9s、CH2) 5.00 (IH,d、J=5)Iz、6位)5.3
〜5.8(2H−be 、NH2)5.8〜6.2(I
H、m 、 7位)6.65 (I H、s 、 ”
x””j¥” )6.6〜7.1(L H1m 、CH
,−CH5)7.7〜8.0 (I H、m 、 NH
、7位) 」以上 手続補正書(自発) 昭和57年lり月す日 特許庁長官 若 杉 和 失敗 ■、事件の表示 昭和56年特許願第193461号 2、発明の名称 3−アルコキシメチルセファロスポリン類の製造法3、
補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 〒103東京都中央区日本橋本町3丁目1番地の
6名称 (185)三共株式会社 代表者 取締役社長 河村喜典 4、代理人 居所 〒140東京部品川区広町1丁目2番58号三共
株式会社内 電話 492−3131 氏名 弁理士 (6007) 樫出庄治5、補
正により増加する発明の数 なし6、補正の対象
明細書の発明の詳細な説明の欄7、補正の内容 別紙の
通シ 1、明細書第26頁7行乃至第27頁下から3行目にわ
たる「実施例9の記載」の後〔昭和57年11月8日提
出の手続補正書第4頁2行乃至第2頁7行目にわたる「
実施例11の記載」の後〕に下記の語句を挿入する。
(3HId、J=5.5H7,’;CHCH,)3−
30 (3H、s 、0CH3)3.52 (2H
、s 、CH2,2位)4、OO(3H、s 、N−O
CH3)4.30 (2H9s、CH2) 5.00 (IH,d、J=5)Iz、6位)5.3
〜5.8(2H−be 、NH2)5.8〜6.2(I
H、m 、 7位)6.65 (I H、s 、 ”
x””j¥” )6.6〜7.1(L H1m 、CH
,−CH5)7.7〜8.0 (I H、m 、 NH
、7位) 」以上 手続補正書(自発) 昭和57年lり月す日 特許庁長官 若 杉 和 失敗 ■、事件の表示 昭和56年特許願第193461号 2、発明の名称 3−アルコキシメチルセファロスポリン類の製造法3、
補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 〒103東京都中央区日本橋本町3丁目1番地の
6名称 (185)三共株式会社 代表者 取締役社長 河村喜典 4、代理人 居所 〒140東京部品川区広町1丁目2番58号三共
株式会社内 電話 492−3131 氏名 弁理士 (6007) 樫出庄治5、補
正により増加する発明の数 なし6、補正の対象
明細書の発明の詳細な説明の欄7、補正の内容 別紙の
通シ 1、明細書第26頁7行乃至第27頁下から3行目にわ
たる「実施例9の記載」の後〔昭和57年11月8日提
出の手続補正書第4頁2行乃至第2頁7行目にわたる「
実施例11の記載」の後〕に下記の語句を挿入する。
「〈実施例 12〉
セファロスポリンCジナトリウム塩3Jに水6−および
塩化カルシウム・メタノール附加物271(塩化カルシ
ウム151を約90−のメタノールに溶解し、27y−
になるまで濃縮した結晶)を加え、内温63〜65℃で
40分間攪拌する。ついで冷却し、水501nt’i加
え、リン酸二ナトリウム217’175−の水にとかし
た溶液を加え、室温で15分間攪拌し、5〜10′Cに
冷却し、アセトン15m1を加え、20チ苛性ソーダ水
溶液で反応液のPnを8.0に調整し、ペンゼンスルホ
ニルクdライドz、orn1.’i加、t、a拌しなが
らp)IB、0〜9.0に保つように20チ苛性ソーダ
水溶液を滴加する。1.5時間を要する。
塩化カルシウム・メタノール附加物271(塩化カルシ
ウム151を約90−のメタノールに溶解し、27y−
になるまで濃縮した結晶)を加え、内温63〜65℃で
40分間攪拌する。ついで冷却し、水501nt’i加
え、リン酸二ナトリウム217’175−の水にとかし
た溶液を加え、室温で15分間攪拌し、5〜10′Cに
冷却し、アセトン15m1を加え、20チ苛性ソーダ水
溶液で反応液のPnを8.0に調整し、ペンゼンスルホ
ニルクdライドz、orn1.’i加、t、a拌しなが
らp)IB、0〜9.0に保つように20チ苛性ソーダ
水溶液を滴加する。1.5時間を要する。
ついで酢酸エチル501nlを加え、塩酸で反応液…を
1.0とする。酢酸エチル層を分離し、水層を更に酢酸
エチルで3回抽出し、酢酸エチル層を合し、減圧濃縮し
、残留物にアセトン2〇−を加え、少量の不溶物を沢去
し、アセトン溶液にジシクロヘキシルアミンを少量ずつ
加え(溶液の−が弱アルカリ性になるまで)冷却放置す
る。析出結晶f:F果し、アセトン洗浄し乾燥すると、
4.0?の7β−(D−5−ベンゼンスルホニルアミノ
−5−カルゴキシパレルアミド)−3−メトキシメチル
−3−セフェム−4−カルボン醒のジ−ジシクロヘキシ
ルアミン塩が得られた。
1.0とする。酢酸エチル層を分離し、水層を更に酢酸
エチルで3回抽出し、酢酸エチル層を合し、減圧濃縮し
、残留物にアセトン2〇−を加え、少量の不溶物を沢去
し、アセトン溶液にジシクロヘキシルアミンを少量ずつ
加え(溶液の−が弱アルカリ性になるまで)冷却放置す
る。析出結晶f:F果し、アセトン洗浄し乾燥すると、
4.0?の7β−(D−5−ベンゼンスルホニルアミノ
−5−カルゴキシパレルアミド)−3−メトキシメチル
−3−セフェム−4−カルボン醒のジ−ジシクロヘキシ
ルアミン塩が得られた。
この粗結晶1fI−をとり10ゴのメタノールに溶解し
、シララグ状になるまで濃縮し、アセトン107!を加
え放置すると白色結晶が析出する。
、シララグ状になるまで濃縮し、アセトン107!を加
え放置すると白色結晶が析出する。
これl’果し乾燥すると、0.67の純品が得られた。
融点 220〜224℃(分解)
元素分析C45H71N509s2として計算値 C:
60.71 、H;8.04.N;7.87.Sニア、
20実験値 C;60.67 、H;7.90 、Nニ
ア、97 、 S ;7.19曳スヘク) ル(CDC
l2 +cn3oD、 δppm )0.9〜2.5
(46H、m ) 27〜3゜3 (5)1 、 m ) 3、3 (3H−s 、0CHs )3.1〜3
.7(2H,4,2位) 4.24 (2H,s、3位cH2)4.9
(IH,d、J=4Hz、6位)5.55 (LH
+d、J=4Hz、7位)7.3〜7.9 (5H、m
、 フェニル)〈実施例 13〉 セファロスポリンC・ジナトリウム塩3.0β%よ)実
施例12と同様に反応を行い、ベンゼンスルホニルクロ
ライドの代シにベンゾイルクロライド20ゴを用い同様
に反応を行い、反応終了後酢酸エチル抽出し、溶媒を減
圧留去し、ベンゼン501n1.を加えると残留物は粉
末となる。
60.71 、H;8.04.N;7.87.Sニア、
20実験値 C;60.67 、H;7.90 、Nニ
ア、97 、 S ;7.19曳スヘク) ル(CDC
l2 +cn3oD、 δppm )0.9〜2.5
(46H、m ) 27〜3゜3 (5)1 、 m ) 3、3 (3H−s 、0CHs )3.1〜3
.7(2H,4,2位) 4.24 (2H,s、3位cH2)4.9
(IH,d、J=4Hz、6位)5.55 (LH
+d、J=4Hz、7位)7.3〜7.9 (5H、m
、 フェニル)〈実施例 13〉 セファロスポリンC・ジナトリウム塩3.0β%よ)実
施例12と同様に反応を行い、ベンゼンスルホニルクロ
ライドの代シにベンゾイルクロライド20ゴを用い同様
に反応を行い、反応終了後酢酸エチル抽出し、溶媒を減
圧留去し、ベンゼン501n1.を加えると残留物は粉
末となる。
これt−F集し乾燥すると、標記化合物3.0g−が得
られた。
られた。
この粗粉末1.0iiとシ、シリカグル薄層クロマ)
(展開ut ;エタノール、酢酸エチル、水=4:2:
1)に附し、Ri約0.25附近を分取し、メタノール
溶出、溶媒留去し残留物にアセトンを加え放置すると結
晶が析出する。これを炉集乾燥すると、標記化合物の純
品が得られた。
(展開ut ;エタノール、酢酸エチル、水=4:2:
1)に附し、Ri約0.25附近を分取し、メタノール
溶出、溶媒留去し残留物にアセトンを加え放置すると結
晶が析出する。これを炉集乾燥すると、標記化合物の純
品が得られた。
融点 162〜165℃(分解)
蘭スペクトル((CD)、Co 、δppm)1.6〜
2.65 (7H、m ) 3.26 (3H、s 、0CHs )3.33
〜3゜73(2H,q、2位)4.26 (2H
,g 、3位C)(2)5.10 (iH,d、J
=4Hz、6位)5.80 (IH,d、J=4H
z、7位)7.3〜8.2 (5H、m 、フェニル)
」2、 昭和57年11月8日提出の手続補正書箱5頁
3行目の r 4.23(2H,s、2位−CH20−) Jをr
4.23(2H,s、3位−CH20−) Jと訂正
する。
2.65 (7H、m ) 3.26 (3H、s 、0CHs )3.33
〜3゜73(2H,q、2位)4.26 (2H
,g 、3位C)(2)5.10 (iH,d、J
=4Hz、6位)5.80 (IH,d、J=4H
z、7位)7.3〜8.2 (5H、m 、フェニル)
」2、 昭和57年11月8日提出の手続補正書箱5頁
3行目の r 4.23(2H,s、2位−CH20−) Jをr
4.23(2H,s、3位−CH20−) Jと訂正
する。
以上
6−
Claims (3)
- (1)一般式 〔式中、RlNHはアミン基または保護されたアミノ基
を示す。〕 で示されるセファロスポラン酸またはその塩にハロゲン
化合物の存在下、低級アルコールを反応させることを特
徴とする一般式 〔式中、RlNHは前述したものと同意義を有し、R2
は低級アルキル基を示す。〕 で示される3−アルコキシメチルセファロスポリン類ま
たはその塩の製造法。 - (2) ハロゲン化合物が塩素化合物である特許請求
の範囲第1項記載の製造法。 - (3)ハロゲン化合物が臭素化合物である特許請求の範
囲第1項記載の製造法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56193461A JPS5896091A (ja) | 1981-12-01 | 1981-12-01 | 3−アルコキシメチルセフアロスポリン類の製造法 |
| US06/445,575 US4482710A (en) | 1981-12-01 | 1982-11-30 | Process for preparing 3-alkoxymethylcephalosporin derivatives |
| IT68400/82A IT1157104B (it) | 1981-12-01 | 1982-11-30 | Procedimento per la preparazione di derivati della 3 alcossimetilcefalosporina |
| CH6961/82A CH651049A5 (de) | 1981-12-01 | 1982-11-30 | Verfahren zur herstellung von 3-alkoxymethylcephalosporansaeuren oder deren salzen. |
| DE19823244457 DE3244457A1 (de) | 1981-12-01 | 1982-12-01 | Verfahren zur herstellung von 3-alkoxymethylcephalosporinderivaten |
| FR8220146A FR2517308B1 (fr) | 1981-12-01 | 1982-12-01 | Procede de preparation de derives de 3-alcoxymethylcephalosporines |
| GB08234172A GB2110688B (en) | 1981-12-01 | 1982-12-01 | A process for preparing 3-alkoxymethylcephalosporin derivatives |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56193461A JPS5896091A (ja) | 1981-12-01 | 1981-12-01 | 3−アルコキシメチルセフアロスポリン類の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5896091A true JPS5896091A (ja) | 1983-06-07 |
| JPH027315B2 JPH027315B2 (ja) | 1990-02-16 |
Family
ID=16308384
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56193461A Granted JPS5896091A (ja) | 1981-12-01 | 1981-12-01 | 3−アルコキシメチルセフアロスポリン類の製造法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4482710A (ja) |
| JP (1) | JPS5896091A (ja) |
| CH (1) | CH651049A5 (ja) |
| DE (1) | DE3244457A1 (ja) |
| FR (1) | FR2517308B1 (ja) |
| GB (1) | GB2110688B (ja) |
| IT (1) | IT1157104B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001027117A1 (en) * | 1999-10-13 | 2001-04-19 | Hanmi Pharm. Co., Ltd. | Process for preparing 7-amino-3-methoxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AT384222B (de) * | 1985-06-03 | 1987-10-12 | Biochemie Gmbh | Verfahren zur herstellung von 7-amino-3alkoxymethyl-3-cephem-4-carbonsaeuren |
| ES2061485T3 (es) * | 1986-10-02 | 1994-12-16 | Asahi Chemical Ind | Procedimiento para la fabricacion de 3-alcoximetilcefalosporinas. |
| JP2612493B2 (ja) * | 1988-05-24 | 1997-05-21 | 旭化成工業株式会社 | 3―置換メチル―3―セフェム―4―カルボン酸類の製造方法 |
| DE3901405A1 (de) * | 1989-01-19 | 1990-07-26 | Hoechst Ag | Cephalosporinderivate und verfahren zu ihrer herstellung |
| DK0485204T3 (da) * | 1990-11-07 | 1995-10-16 | Sankyo Co | Fremgangsmåde til fremstilling af 3-alkoxymethyl-cephalosporin-derivater |
| ES2215161T3 (es) * | 1991-09-07 | 2004-10-01 | Aventis Pharma Deutschland Gmbh | Diastereoisomero del ester 1-(isopropoxicarboniloxi)-etilico del acido 3-cefem-4-carboxilico y procedimiento para su preparacion. |
| TW212181B (ja) * | 1992-02-14 | 1993-09-01 | Hoechst Ag | |
| DE59308295D1 (de) * | 1992-05-21 | 1998-04-30 | Hoechst Ag | Verfahren zur Spaltung von Cephalosporin Prodrugestern zu 7-Amino-3-methoxymethylceph-3-em-4-carbonsäure |
| AT413383B (de) | 1998-01-09 | 2006-02-15 | Sandoz Ag | Verfahren zur isolierung eines diastereoisomerengemisches von cefpodoxim proxetil |
| WO2002068429A1 (en) * | 2001-02-27 | 2002-09-06 | Ranbaxy Laboratories Limited | Process for the preparation of cefpodoxime proxetil |
| CN1520418A (zh) * | 2001-04-17 | 2004-08-11 | ʵ | 制备头孢泊肟酸的方法 |
| DE60222945T2 (de) * | 2002-12-20 | 2008-02-07 | Lupin Ltd., Mumbai | Verfahren zur herstellung von cefpodoxim-proxetil |
| EP2520578A1 (en) | 2011-05-06 | 2012-11-07 | Lupin Limited | Process for purification of cephalosporins |
| WO2013041999A1 (en) | 2011-09-20 | 2013-03-28 | Dhanuka Laboratories Ltd. | An improved process for cefpodoxime acid |
| WO2017153824A1 (en) | 2016-03-07 | 2017-09-14 | Dhanuka Laboratories Ltd. | A process for alkylating the hydroxymethyl group at position -3 of cephalosporins |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1241656A (en) * | 1967-08-21 | 1971-08-04 | Glaxo Lab Ltd | Improvements in or relating to cephalosporin compounds |
| ZA728331B (en) * | 1971-12-23 | 1974-06-26 | Lilly Co Eli | Preparation of 3-alkylthiomethyl cephalosporins |
| FR2476087A1 (fr) * | 1980-02-18 | 1981-08-21 | Roussel Uclaf | Nouvelles oximes derivees de l'acide 3-alkyloxy ou 3-alkyl-thiomethyl 7-amino thiazolyl acetamido cephalosporanique, leur procede de preparation et leur application comme medicaments |
| JPS57192392A (en) * | 1981-05-19 | 1982-11-26 | Sankyo Co Ltd | Production of 3-alkoxymethylcephalosporin |
-
1981
- 1981-12-01 JP JP56193461A patent/JPS5896091A/ja active Granted
-
1982
- 1982-11-30 IT IT68400/82A patent/IT1157104B/it active
- 1982-11-30 US US06/445,575 patent/US4482710A/en not_active Expired - Lifetime
- 1982-11-30 CH CH6961/82A patent/CH651049A5/de not_active IP Right Cessation
- 1982-12-01 DE DE19823244457 patent/DE3244457A1/de active Granted
- 1982-12-01 GB GB08234172A patent/GB2110688B/en not_active Expired
- 1982-12-01 FR FR8220146A patent/FR2517308B1/fr not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001027117A1 (en) * | 1999-10-13 | 2001-04-19 | Hanmi Pharm. Co., Ltd. | Process for preparing 7-amino-3-methoxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4482710A (en) | 1984-11-13 |
| GB2110688A (en) | 1983-06-22 |
| DE3244457C2 (ja) | 1990-05-17 |
| FR2517308B1 (fr) | 1985-10-31 |
| JPH027315B2 (ja) | 1990-02-16 |
| GB2110688B (en) | 1985-03-27 |
| CH651049A5 (de) | 1985-08-30 |
| FR2517308A1 (fr) | 1983-06-03 |
| DE3244457A1 (de) | 1983-07-14 |
| IT8268400A0 (it) | 1982-11-30 |
| IT1157104B (it) | 1987-02-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS5896091A (ja) | 3−アルコキシメチルセフアロスポリン類の製造法 | |
| JPH0313237B2 (ja) | ||
| GB1599722A (en) | Cephalosporin derivatives | |
| CA1092095A (en) | 3-acyloxymethyl-cephem compounds | |
| JPH06501271A (ja) | セフォロスポリン中間生成物の製造方法 | |
| EP0082498A2 (en) | Beta-lactam compounds and process for the preparation thereof | |
| JPS61249989A (ja) | 7−アミノ−3−プロペニルセフアロスポラン酸及びそのエステル | |
| JP2867192B2 (ja) | 7−アシル−3−置換カルバモイルオキシセフェム化合物及びその製造法 | |
| US4354022A (en) | Process for preparing 3-methylenecepham compounds or a salt thereof | |
| JP4022070B2 (ja) | 新規チアゾール化合物およびその製造方法 | |
| JPH0134227B2 (ja) | ||
| US4139701A (en) | 7-Amino-3-(sulfonic acid and sulfamoyl substituted tetrazolythiomethyl)cephalosporin intermediates | |
| JPS6351389A (ja) | セフアロスポリン誘導体、その製造法及び抗菌活性組成物 | |
| JPS6351388A (ja) | セフアロスポリン誘導体、その製造法及び抗菌活性組成物 | |
| EP0481441B1 (en) | Novel cephem compounds, their preparation processes and antibacterial agents | |
| JPS62148489A (ja) | セフアロスポリン化合物 | |
| JPS60228486A (ja) | セフアロスポリン類の新規製造法 | |
| JP2605096B2 (ja) | セフェム誘導体 | |
| JPS60214783A (ja) | 2―アミノ―4―ヒドロキシチアゾリン誘導体およびその塩ならびにそれらの製造法 | |
| JPH01131183A (ja) | セフエム誘導体およびその製法 | |
| JPH0324087A (ja) | 7―チアゾリルアセトアミド―3―プロペニルセフェム誘導体 | |
| JPH0128035B2 (ja) | ||
| SU550983A3 (ru) | Способ получени производных галофенилтиоацетамидоцефалоспорина | |
| JPS62123189A (ja) | セフエム誘導体 | |
| JPS6242988A (ja) | セフエム化合物のメトキシ化法 |