JPS5984889A - セフアロスポリン誘導体およびその製造方法 - Google Patents

セフアロスポリン誘導体およびその製造方法

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JPS5984889A
JPS5984889A JP57195036A JP19503682A JPS5984889A JP S5984889 A JPS5984889 A JP S5984889A JP 57195036 A JP57195036 A JP 57195036A JP 19503682 A JP19503682 A JP 19503682A JP S5984889 A JPS5984889 A JP S5984889A
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Japan
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lower alkyl
methyl
thiazolyl
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Application number
JP57195036A
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English (en)
Inventor
Seiichi Masai
成一 正井
Shinji Ueda
伸二 上田
Akihiko Sano
明彦 佐野
Hirotada Yamada
山田 博忠
Hidekuni Suzaki
洲崎 秀国
Takao Okuda
奥田 隆夫
Masataka Fukumura
福村 正孝
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Publication date
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C17/00Preparation of halogenated hydrocarbons
    • C07C17/093Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
    • C07C17/20Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms
    • C07C17/202Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms two or more compounds being involved in the reaction
    • C07C17/208Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms two or more compounds being involved in the reaction the other compound being MX
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P31/00Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
    • A61P31/04Antibacterial agents

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  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は新規なセフェム化合物に関するものであり、さ
らに詳細には、一般式[11[式中、Aは無置換の、ま
たはハロゲン原子、低級アルキル基、アミン基およびア
シルアミド基よりなる群から選ばれる置換基を有するチ
アゾリル基を、几1は水素原子、低級アルキル基、カル
ボキシメチル基または低級アルコキシカルボニルメチル
基を意味する。几は水素原子、メチル基、ヒドロキシメ
チル基、アシルオキシメチル基または低級アルキルチオ
メチル基を意味するか、または低級アルキル基でIif
換されていてもよいチアジアソリルチオメチル基、また
は低級アルキル基、低級アルキルアミノアルキル基もし
くはカルボキシメチル基で置換されていてもよいテトラ
ソリルチ」メチル基を意味する。几8は無置換の、また
はハロゲン原子、低級アルキル基、低級シクロアルキル
基、低級ハロアルキル基、アシJl/オキシ低級アルキ
ル基、低級アルコキシ力ルホニル基、フェニル基および
置換フェニル基よりなる群から選ばれる置換基を有する
アリル(aljy+ )基を意味する。]で示される化
合物またはその塩に関する。 本発明化合物において、へのチアゾリル基が、たとえば の如く、チアソリニル基と平衡にある場合、これらの互
変異性体は一般には、実質的に同一の物質として取り扱
われている。それゆえ、本発明にrsいては、便宜上面
異性体を含めてチアゾわすが、上記のI−l:変異性に
基づく両異柱体ともこの発明の範囲に含まれるものであ
る。 近年、開発されたいオ)ゆる第2世代、第8世代のセフ
ァロスポリン化合物は、細菌感染症患者の治療に著効を
示すものの消化管がらの吸収性が悪く注射により投与を
行なっ“Cいるのが現状である。それゆえ、経口投与な
どの注射以外の投与によっても充分な治療効果の得られ
る広範囲かつ強力な抗菌力をもつセファロスポリン化合
物の出現は種々の細菌感染症患者に待ち望まれていると
ころである。 および57−154190号公報に記載があるが、いま
だ実用化されたものはない。 本発明者らは化学的安定性に非常に優れなおかつ経口投
与などの注射以外の投与によっても非常に良好に吸収さ
れ優れた治療効果を発揮するセファロスポリン化合物の
探究を長年精力的に行なってきた。その結果、本発明者
、らは一般式[I〕でdくされる前記セファロスポリン
化合物またはその塩が、化学的に非常に安定であり、な
おかつ経口投与などの注射以夕1の投与によっても副作
用も少1r<充分な治療効果をもたらす事実を姑い出(
7本発明を完成するに至った。 本明細居の説明において、本発明の範囲内に含められる
各種の基の例示については以下の如く説明される。 ハロゲンとは塩素、臭素、よう素または弗素を意味する
。 低級アルキルとはメチル、エチル、n−プロピル、イソ
プロピル、ブチル、イソブチル、第3級ブチル、ペンチ
ル、ヘキシルなどの炭素数1〜6の低級アルキルを意味
し、好ましくはメチル、エチル、n−プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、イソブチル、第8級ブチルなどの炭素
数1〜4の低級アルキルを意味17、さらに好ましくは
、メチル、エチル、71−プロピル、イソプロピルなど
の炭素数1〜3の低級アルキルを意味する。 低級シクロアルキルとはシクロプロピル、シクロブチル
、シクロペンチル、シクロヘキシルなどの炭素数2(〜
6のI低級シクロアル:l−ルを意味する。 アシルアミドきは、後記で定義されるアシル基で〆水素
Jt”+t J’を置換されたアミノを意味し、好まし
くは、ホルミルアミド、アセチルアミド、プロピオニル
アシドなどを意味する。 アシルとは、ホルミル、アセデル、プロピオニル、ブチ
リル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、オキザ
リル、サクシニル、ピバロイル、ヘキサノイルなどで例
示される炭素数1〜6のアルノJノ・イル苺メトキシカ
ルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル
、イソプロボキシカノノポ:、ル、シトキシカルボニル
、第8級ブトキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニ
ル、m s 級ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオ
キシカルボニルなどで例示される炭]&1〜6のアルコ
キシカルボニル−ベンジルオキシカルボニル、フェネチ
ルオキシカルボニルなとt” 例示されるアルアルコキ
シカルボニル;ベンソイル、l・ルオイルなどで例示さ
れるアロイル;メシル、エタンスルホニル、l−メチル
エタンスルホニル、プロパンスルホニル、ブタンスルホ
ニルなどで例示される炭素数1〜6のアルカンスルホニ
ル嘔ベンゼンスルホニル、トシル、ノーフタレンスルホ
ニルなどで例示されるアレーン(n、r曲e)スルホニ
ルなどを意味し、好ましくはポルミル、アセチル、ブチ
リル、イソブチリル、ベノゾ・イル、メシルなどが例示
される。 低級アルコキシカルボニルメチルにおける低級アルキル
部分は、前記低級アルキルと同じ意味を汀し、低級アル
コキシカルボニルメチルの好ましい例としでは、メトキ
シカルホニルメヂル、エトキシカルボニルメチル、n−
プロポキシカルボニルメチル、イソプロポキシカルボニ
ルメチル、m8級ブトキシカルボニルメチルなどが示さ
れる。 アシルオキシメチル基とは、ホルミルオキシメチル、ア
セチルオキシメチル、グロピオニルオキシメチル、ブチ
リルオキシメチル、・イソブチリルオキシメチル、バレ
リルオキシメチル、イソバレリル副キシメチル、ピバロ
イルオキシメチル、ヘキーリノイルオキシメチル、ヘプ
タノイル」キシメチル、オクタノイルオキシメチルなど
で例示さ第1る炭素数1〜8のアルカノイルオキシメチ
ル、ベンゾイル」キシメチル、トルオイルオキシメチル
j(どで例示されるアロイルオキシメチル−メタンスル
ホニルオキシメチル、エタンスルホニルオキシメチル、
プロパンスルホニルオキシメチルなどで例示される炭素
数1〜にのアルカンスルホニルオキシメチル;ベンセン
スルホニルオキシメチル、トシルオキシメチルなどで例
示さ、flるアレーン(Il、rano)スルホニルオ
キシメチルなどを急IJi: j、 、好ま(7くは、
ホルミルオキソメチル、アセデルオキシメチルプロピオ
ニル−1キシメチルなどが例示される。 低級アルキルジ−4メチルにJjける低級アルキル部分
は、前記低級アルキルと同じ意味を有し、好ましい低級
アルキルチオメチルとしては、メヂルヂ副メチル、エチ
ルチ]゛メチル、11・−ブロビオチオメチル、・fソ
プロビルチオメy−ルなどが例示される。 低級アルキルで置換されていてもよいチアジアゾリルチ
オメチルおよび低級アルキルで1η換されていてもよい
テトラゾリルチオメチル基好ましい例としては、l、8
.4−チアジアゾリルチオメチル、5−メチル−1,8
,4−チアジアゾリルチオメチル、1−メチル−1,2
,8,4−テトラメシルチオメチル、l・−エチル−1
゜2.8.4−テトラゾリルチオメチル基どが挙げられ
る。 低級アルキルアミノアルキルで置換されていてもよいテ
トラゾリルチオメチル基とは、低級アルキルアミノアル
キルが、前記低級アルキル置換のアミノを有する前記低
級アルキルを意味し、好ましくは、l−42−(ジメチ
ルアミノ)エチル]−1,2,8,4−テトラゾリルチ
オメチルなどが例示される。 低級ハロアルキルとは、前記ハロゲンを有する前記低級
アルキルを意味し、好ましくは、前記ハロケンで置換さ
れたメチル、エチル、n−プロピル、イソプロピルなど
が例示され、さらに好ましくは塩素、弗素を1個以上有
するメチル、エチル、0−プロピル、イソプロピルなど
が例示される。 アシルオキシ低級アルキルにおけるアシルおよび低級ア
ルキルはそれぞれ前記と同じ意味を有し、好ましくは、
ホルミルオキシメチル、ホルミルオキシエチル、ホルミ
ルオキシプロピル、アセデルオキシメチル、アーレチル
オキシエヂル、アセチルオキシプロピル、プロピオニル
」キシメチル、プロピオニルオキシエチル、プロピオニ
ルオキシプロビルなどが例示される。 低級アルコキシカルボニルにおける低級アルキルは前記
低級アルキルで定義したものと同じ意味を有し、たとえ
ばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキ
シカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカ
ルボニル、第8級ブトキシカルボニル、ペンデルオキシ
カ)Iiホ= )I’% 第8 u”?ンチルオキシカ
ルボニル、ヘキシルオキシカルボニルなどを意味し、好
ましくは、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、
プロポキシカルボニルなどが例示される。 置換フェニルとは、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキ
ル、低級アルコキシ、低級ハロアルキルメルカプト、低
級アルキルチオ、アミノ、低級アルキルアミノ、カルボ
キシ、低級アルキルカルボニル、アシル、ニトロ、ニト
リル、カルバミルおよびこれらの組み合わせよりなる群
から選ばれる置換基を有するフェニルを意味する。ここ
でイル級アルコキシにおける低級アルキル部分はntI
記iJk級アルキルで定義しtこものと同じ意味を自じ
、μrましくはメ]・キシ、エトキシ、11−プロポキ
シ、イソプロポキシなどが例示される。 置換フェニルにおける好ましい置換基としては、ハロゲ
ン、低級アルキル、ヒドロキシ、アミン、低級アルコキ
シなどが例示される。 一般式[jlにおける塩とは、〔I〕の7位側鎖にアミ
ノ基を有す場合のその塙または他の個所でのアミノ基ま
たはカルボキシル基の塩を意味する。アミノ基の塩とし
ては、アミノ基と塩を形成するものであれば何でもよく
たとえばJiX塩(Xはハロゲン原子を意味する)、硫
酸塩、リン酸塩、硝酸塩などの鉱酸との塩、酢酸、プロ
ピ4ン酸、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸、コハク酸、ア
スコルビン酸、マンデル酸、メタンスルホン酸、エタン
スルホン酸、p−)−ルエンスルホン酸などの有機酸と
の塩などが挙げられる。カルボキシル基の塩としては、
カルホキシル基と塩を形成するものであれば何でもよく
、たとえば、リチウム塩、ナトリウノ・塩、カリウム塩
、カルシウム塩、マグネシウム塩などの金xi、zエチ
ルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、ジメチルベン
ジルアミン塩などが挙げられる。 一般式[L]で示される本発明化合物は、次にホず方法
のいずれかによつb 来る。 方法(a)ニアシル化 −〉〔■〕 1式中、A、R,RおよびB・は前記に同じ。]一般式
ru〕で示される化合物も[7くはそのカルボキシル基
における反応性誘導体、またはそれらの塩類と、一般式
〔■〕で示される化合物もしくはその7位アミノの反応
性誘導体、またはそれらの塩類とを反応さ」tろことに
より製造することが出来る。 一般式[TI]で示される化合物またはその塩のカルボ
キシ基における反応性誘導体とE7ては、かかるアシル
化1マ、応で通常用いられる反応性誘導体、例えば酸ハ
ライド、酸無水物、活性アミド、活性エステルなどが挙
げられ、さらに詳細には酸クロライド、酸ブロマイド等
の酸ノhライド±ジアルキルリA、酸混合酸無水物、フ
ェニルりん酸混合酸無水物、ジフェニルりん酸混合酸無
水物、ジベ:/ジルリA、酸混合酸無水物、ノ\ロゲン
化りん酸混合酸無水物等の置換りん酸混合酸無水物;ジ
アルキル亜りん酸混合酸無水物、亜硫酸混合酸無水物、
チオ硫酸混合酸無水物、硫M混合酸無水物、アルキル炭
1!1!混合酸無水物、脂肪族カルボン酸(たとえばピ
バリン酸、ペンタン酸、イソペンタン酸、2−エチルブ
タン酸、トリクロル酢酸)混合酸無水物、芳香族カルボ
ン酸(たとえば安息香酸)混合酸無水物、対称形酸無水
物等の酸無水物;イミダゾール、4−置換イミクソール
、ジメチルピラゾール、トリアソール、テトラゾールな
どとの酸アミド2シアノメチルエステル、メトキシメチ
ルエステル、ビニルエステル、p−二トロフェニルエス
テル、2.4−ジニトロフェニルエステル、トリクロロ
フェニルエステル、ペンタクロロフェニルエステル、メ
シルフ1ニルエステル、フヱニルアソフヱニルエステル
、フェニルチ」エステル、p−ニトロフェニルチオエス
テル、p−クレジルチオエステル、カルボキシメチルチ
オエステル、ピラニルエステル、ピリジルエステル、ピ
ペリジルエステル、8−キノリルチオエステルなどのエ
ステル、またはN、N−ジメチルヒドロキシルアミン、
N−ヒドロキシキノリンイミド、N−ヒドロキシフタル
イミド、■−ヒドロキシベンゾトリアゾール、1−ヒド
ロキシ−6−クロロ−1u−ベンゾトリアゾール、8−
ヒドロキシキノリンなどとのエステルなどが挙げられる
。 一般式自+11′c示される化合物の7位アミノにおけ
る反応性誘導体は、いわゆるアミド化反応1こおいて便
用され得る種々の誘導体を含み、具体的には例えばイソ
シアナート、イソチオシアナート;トリメチルシリルア
セトアミド、ビス(トリメデルシリル)アセトアミドな
どのシリル化a物との反応により形成される誘導体;ア
セトアルテピド、イソペントアルテヒド、ベンスアルテ
ヒド、す゛リチルアルデヒド、フェニルアセトアルテヒ
ド、p−二トロベンズアルデヒド、m−りIJロペンス
アルデヒド、ヒドロキシナフトアルテヒド、フルフラー
ル、チオフェンカルボアルデヒドの如きアルデヒド化合
物もしくはこれらアルデヒド化合物の水化物、アセター
ルなどのような反応性誘導体との反応により形成される
誘導体1アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン、アセチルア士トン、アセト酢酸エチルなど
のケトン化合物もしくはこれらのケタール、ヘミケター
ル、エノラートなどのような反応性誘導体との反応によ
り形成される誘導体−オキシ塩化リン、8塩化リンなど
のリン化合物との反応生成物層塩化チオニルの如き硫黄
化合物との反応生成物などが例小される。 一般式〔I
【〕で示される化合物の塩としては、化合物
[’ I ]の塩として例示し、たよりなものが、その
ままここでも例示される。 一般式+11]および[Ullで示される化合物の反応
性誘導1+は原料化は物[TI ]および[r11]の
種類ならびにその他の試剤、溶媒、温度等の152 L
t;条件に応(7て、上記の中から適宜選択される。 この反応は、通常、水、アセトン、ジオキサン、アセト
二1−リル、クロロホルム、ベンゼン、塩化メチレン、
塩化エチレン、テトラヒドロフラン、i’il+iNタ
エヂルノ、N、N、−ジメチルホルムアミ1−、ピリジ
ン、その他この反応に悪影響を与えない溶媒あるいはこ
れらの混合溶媒中で行なわれる。 この反応において化合物[’fflを遊離酸もしくは、
その塩の状態で使用するときは、たとえば、N、N’−
ジシクロへキシルカルボジイミド、N−シクロへキシル
−N′−モルホリノエチルカルボジイミド、ヘーシクロ
へキシル−N’ −(4−ジエヂルアミノシクロヘキシ
ル)カルボジイミド、N 、 N’−ジエチルカルボジ
イミド、N 、 N’−ジイソプロビル力ルポジイミド
、N、N’−ジイソプロピルカルボジイミド、N−エチ
ル−N′−(3−ジメヂルアミノプロピル)カルボジイ
ミドなどのカルボシイミド化合物iN、N−カル車ニル
ヒス(2−メチルイミタゾール)の如きヒスイミタゾリ
ド化合物1l−(4−/7o。 ベンゼンスルホニルオキシ)−6−クロロ−lノ■−ベ
ンゾ1、リアゾール、N−エチルベンズイソキサゾリウ
ム塩、N−エチル−5−フェニルイソキサゾリウム−8
2−スルポネーI・;ポリリン酸、亜リン酸トリアルキ
ルエステル、ポリリン酸エチルエステル、ポリリン酸イ
ソプロピルエステル、オキシ塩化リン、8塩化リン、ジ
エナルクロロホスファイト、オルトフェニレンクロロホ
スファイトなどのリン化合物ニジメチルホルムアミドと
塩化チオニル、」キシ塩化リンもしくはホスゲンなどと
の反応により調製されるヒルスマイヤー試薬などの縮合
剤の存在Fに反応を行うのが好ましい。 1皇料となる一般式[旧で示される化合物の製造は公知
の方法またはこれに類似した方法によって製造すること
が出来る。またもう−万の原料でJ)る一般式[mlで
示される化合物は(、!(JO,El [■][■] 〔式中11はヒドロキシル基またはその反応性均等基を
意味【7、几2および几8はniI記に同じ〕なろ反応
に従って製造することが出来る。この反応は一般式[’
■]でホされる化合物、そのカルボキシル基における反
応性誘導体またはそれら0)塩に一般式[V]で示され
るエステル化剤を作用させることにより行なわれ、N、
N−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、ジメチルス
ルホキシド、その他この反応に悪影響を与えない溶媒の
存在下もしくは非仔在fに、冷却下ないし加熱ドに行イ
)れ、ヒドロキン化合物が液状のときには溶媒を11〔
ね°C使用することもできる。 一般式c■−+でボされる化合物のカルボキシル基にお
ける反応性誘導体またはそれらの塩としては、一般式し
10で小される化合物の塩および反応性誘導体とじ−C
例示したものと同様の反応性誘導体が挙げられる。一般
式[■]で示される化合物におgる1)のヒドロキシル
基の反応性均等基とはハロゲン原子、メタンスルホニル
オキシ基、エタンスルホニルオキシ基などのアルキルス
ルホニル−11シ基およびベンゼンスルボニルオキシ基
、p−1−ルエンスルホニルオキシ基などのアリールス
ルホニルオキシ基などが挙げられる。 一般式[’llまたは[mlで示される化合物を得る前
述の反応においてそれぞれの原料である[旧およびrl
V]はそのまま反応にハ1いるが、または、アミノ基が
存在するときにはアミノ基を通常のペプチド合成で用い
られる保護基によって保護した後反応させ、反応俊速や
かに保護基をしかるべき方法により除去して目的化合物
を製造してもよい。 方法(1す:エステル化 [W]         [V] E式中・”・8・It’・IL”および几は前記に同じ
。〕 一般式[■]で示される化合物、そのカルボキシル基に
おける反応性誘導体またはそれらの塩に一般式[’V]
で示されるエステル化剤を作用さけることにより製造す
ることが出来る。反応は前記(a)法における一般式[
[〕で示される化合物を得る反応と同様の方法によって
行なわれ、反応性誘導体J7i 、I:びBにおける反
応性均等基なども、前記と同じ・ことを意味する。また
、この反応においてもアミノ基が存在するときは、通常
のペプチド合成で用いられる保護基で保護し、縮合反応
を行な、〕だ後保穫晶の除去を行なってモヨイ。この反
応はN 、 N’−ジメチルホルムアミド、アセi・ア
ミド、ジメチルスルホキサイド、その他この反応に悪影
響を与えない溶媒の存在ドもしくは非(r在ドに、冷却
−ドないし加熱−ドに行われ、ニスjル止剤が液状のと
きには溶媒を兼ね’r 19’用することもできる。 方法(0):ニトロソ化 〔式中しはハロアセチル基を意味し、1モ2および几8
は前記に同じ。] lI的4L5 f”r物(WKIおよびその塩は化合物
〔■〕またはその塩に二i・ロソ化バIJ It作川用
ぜることにより製造される。 二[・1Jソ化剤の好ましい例と(7では、jl[j硝
酸およびぞのn;) 、t/、 1−1c、たとえば塩
イ5 二l−oシル、砧化二10シル告のハロゲン化二
i・ロシル蓚亜硝酸すトリウノ・、IJlj硝酸カリウ
ノ・等の亜硝酸アルカリ金属塩;亜硝酸ブチルエステル
、曲硝酸ベニー′ヂJし1スヲ゛lしなとの用i 11
181酸アルキルエステルこの反応は通常溶媒中で行な
われ、溶媒としでは、水、酢酸、ベンゼン、メタノール
、エタノール、テトラヒドロフラン、その他この反応に
息影胃を与えない溶媒が使用できる。反応濡1■は特に
限定されないが、通常冷却下4【いし室温で反応を行う
のが好ましい。この反L6の原料となる一般式[W]で
示される化a物は、化合物[1111にE − 011
2 00011またはその塩の反応性誘導体を反応さU
゛ることにより製造することが出来る。この1県、ni
I記の方法(alと同様の方法またはこれに準じた方法
が利用できる。また一般式〔■]で示される化a物は一
般式 [式中、Eお,j;びーは前記に同じ。]Q示される化
合物も1ツくはそのカルボキシル基における反応性誘導
体またはそれらの塩類に一般式: IC8−〇[Bおよ
びILは前記に同じ]で示されるエステル化剤を反応さ
せても製造することが出来る。 方法(d):エーテル化 〔式中、」)は前記入または.ICで示される基を、留
味し、1t, LL オ.J: ヒRRハnflRQ+
7− 1i’il シ。〕目的化合物[X「]は化合物
rX]またはその塩にエーテル化剤を作用さ(すること
によってIM造することができる。エーテル化剤の好ま
しい例とし′Cは、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸等のジ
アルキル硫酸;ジアゾメタン、ジアゾエタンなどのジア
ゾアルカン薯よう化メチル、よう化エチル、臭化エチル
などのハロゲン化アルキル;トルエンスルホン酸メチル
エステルの如キスルホン酸アルキルエステルなどの通′
塔のアルキル化剤、これらに対応するアルキニル化剤、
アルキニル化剤あるいはシクロアルキル化剤、さらにこ
れらの脂肪族炭化水素部分がカルボキシル基もしくは、
エステル化されたカルボキシル基で置換されたエーテル
化剤、例えばヨードアリルの如きハロゲン化アルケン;
ブロモプロパルギルの如きハロγン化アルキン;グロモ
シクロヘキシルの如きハロゲン化シクロアルカン電工ト
キシ力ルポニルメチルヨーダイドの如キ低級アルコキシ
カルホニルアルキルハライドなどが挙げられる。エーテ
ル化剤として、ジアゾアルカンを便用する場rIには、
通常ジエチルエーテル、ジオキサンその他この反応に悲
影響を与えない溶媒中で、冷却1・゛ないし室温でJs
LJX;を行うのが好ましい。 方法(e):チアゾール環形成 一般式[制または[’X] ( Dがハロアセチル基に
JJいで、そ)Iらに一般式”It’−8−ぺI。1式
中、1tは水紫原子、ハロゲン原子、イ氏紛アルキル、
アミノまたはアシルアミ1′を意味する〕で示される化
合物をJ’S/’ にi77させることによ−1ても一
般式[1)で示される1」的化合物J3よびそれらの塩
類を製造することが出来る。 この反応は通常、水、λ″タノールエタノールなどのア
ルコール、ベンゼン、トルエン、酢酸エチル、ジメチル
ホルムアミド、テトラヒドロフラン、その他この反応に
悪影響を与えない溶媒中で室温ないし加温ドに行なわれ
る。 方 法(f) :その他の方法 本発明化合物〔■]の官能基の交換反応を適用すること
ができる。たとえばR8におけるヒドロキシメチル基の
アシルオキシメチル基への交換反応、またアシルオキシ
メチル基の低級アルキルチオメチル基、チアジアソリル
チオメチル基、低級アルキルで置換されたヂアジアソリ
ルチオメチル基、テI・ラゾリルチオメチル基または低
級アルキル、低級アルキルアミノアルキルもしくはカル
ボキシメチルで+Ft換されたテトラゾリルチオメチル
基への交換反応などを利用して本発明目的化合物を製造
することができる。 これらの官能基変換反応は公知の方法あるいはこれと同
様の方法により行なうことができる。 本発明の化合物を治療用として使用する場合、一般式[
11で示される化合物を有効成分として、たとえば経(
二1投与などに適した汀機もしくは無機固体もしくは液
体賦形剤のような医薬として許容される担体と混合して
医薬製剤の形で使用することができる。医薬製剤としで
は、カプセル剤、錠剤、糖衣錠、軟膏もしくは坐剤、液
剤、懸濁剤、エマルジぢンなどが挙げられる。要すれば
Lil!8製剤に助剤、安定剤、湿潤剤もしくは乳化剤
、itm剤その他の通常の添加剤を添加しでもよい。 本発明の化合物の投与量は患者の年齢および状態によっ
て変化するが、細菌感染症治療に効果を示す本発明化合
物の平均1回投与量は10■〜l 00 (l Wであ
る。一般的には、成人1人当り1日投与量は1り〜50
00■であり、好ましくは50〜aooo■であるがそ
れ以上投与してもよい。 本発明により得られる目的化合物のうち代表的な具体例
を次に示す。 7−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メト
キシイミノアセトアミド]−8−セフェム−4−カルボ
ン酸アリルエステル7−[2−(2−アミノ−4−チア
ゾリル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕−8−セ
フェム−4−カルボン酸2−メチル−2−プロペニルエ
ステル 7−C2−(2−アミノ−4−デアゾリル)−2−メト
キシイミノアセトアミド〕−a −*ファム−4−カル
ボン酸2−メチル−8−フェニル−2−プロペニルエス
テル 7−〔2−メトキシイミノ−2−(4−チアゾリル)ア
セトアミド]−8−(]−]メチルー11(−テトラソ
ール−5−イル)チオメチル−8−セフェム−4−カル
ボン酸2−クロロ−2−プロペニルエステル 7−[2−メトキシカルボニルメトキシイミノ−2−(
4−チアゾリル)アセトアミド〕−8−(l−メチル−
IH−テトラソール−5−イル)チオメチル−8−セフ
ェム−4−/Jフルポン酸2−クロr1−2−ゾロベニ
ルエステル7−[2−fflブトキシカルボニルメトキ
シイミノ−2−(4−チアゾリル)アセトアミド]−3
−メチルー3−老フエム−4−カルホン酸2−り[10
−2−プロペニルエステル7−[2−JIBブI・キシ
カルボニルメトキシイミノ−2−(4−チアゾリル)ア
セトアミド]−8−(1−メヂルーl 、11−テトラ
ソール−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4−カ
ルボン酸2−りr10−2−プロペニルエステル7−[
2−カルボキシメトキシイミノ−2−(4−チアゾリル
)アセi・アミド’]−8−(1−メチル−111−テ
トラゾール−5−イル)チオメチル−Jl−1eフェム
ー4−カルボン酸2−クロロ−2−ソロベニルエステル 7−〔2−カルボキシメトキシ・イミノ−2−(4−チ
アゾリル)アナドアミド〕−8−メチル−8−(!フェ
ムー4−カルボン酸2−クロロ−2−プロペニルエステ
ル 7−42−(2−アセトアミド−4−ヂアソリル)−2
−メトキシイミノアセトアミド]−3−セフェム−4−
カルボン酸アリルエステル7−[2−(2−アミノ−4
−チアゾリル)−2−メトキシイミノアセトアミド]−
8−(5−メチル−1,8,4−チアジアゾール−2−
イルチオメチル)−8−セフェム−4−カルボン酸2−
クロロ−2−プロペニルエステル7−[2−(2−アミ
ノ−4−デアゾリル)−2−メトキシイミノアセトアミ
ド〕−3−(1,8,4−チアジアゾール−2−イルチ
オメチル)−8−セフェム−4−カルボン酸2−クロロ
−2−プロペニルエステル 7−42−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メト
キシイミノアセトアミド〕−8−セフェム−4−カルボ
り酸クロチルエステル7−42−(2−アミノ−4−チ
アゾリル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕−8−
セフェム−4−カルボン酸シンナミルエステル7−[2
−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メトキシイミ
ノアセトアミド〕−3−セフェム−4−カルボン酸8−
クロロ−2−プロペニルエステル 7−42−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メト
キシイミノアセドア5ド〕−3−アセトキシ、メチル−
8−セフェム−4−カルボン酸2− メチル−3−フェ
ニル−2−プロペニルエステル 7−12−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メト
キシイミノアセトアミド]−3−セフごl\−4−カル
ボンl!792−メチルー3−アセ1、キシメチル−2
−プロペニルエステル7−C2−(2−アミノ−4−チ
アゾリル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕−8−
セフェム−4−カルボン酸3−メチル−2−ブテニルエ
ステ1し 7−「“2−ヒドロキシイミノ−2−(2−メチル−4
−チアゾリル)アセトアミトコ−8−(l−メチル−1
4−テトラゾール−5−イル)チオメチル−8−セフェ
ム−4−カルi4ンq 2−クロロ−2−プロペニルエ
ステル 7−C2−(2−ブロモ−4−チアゾリル)−2・−メ
トキシイミノアセトアミド]−8−(+−−メチル−I
 II−テトラゾール−5−イル)ヂ(メチル−3−セ
フ、1人−4−カルボン酸2−クロロ−2−プロペニル
エステル 7−[2・−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メ
I・キシイミノアセトアミド]−8−(1−メチル−I
H−テトラゾール−5−イル)チ′51メヂルー8−セ
フェム−4−カルボン酸2−クロロ−2−プロペニルエ
ステル 7−・[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−ヒ
ドロキシイミノアセトアミド]−3−(+−メチルーI
H−テトラソール−5−イル)チオメチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸8−クロロ−2−プロペニルエステ
ル 7−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メト
キシ・fミノアセトアミド〕−8−セフェム−4−カル
ボン酸8−メI・キシカルボニル−2−プロペニルエス
テル 7−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メト
キシイミノアセトアミド]−3−メチルチオメヂルー8
−セフェム−4−カルボン酸2−クロロ−2−プ[1ベ
ニルエステル7−[2−(2−−72ノー4−チアゾリ
ル)−2−メトキシイミノアセトアミド フェム−4〜ノア /l−ボン酸lーメチルー2ープロ
ペニルエステル 7−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メト
、:vジイミノアセトアミド]−3−セフーr人−4 
= hルホン酸2 − クロロ−2−−−/ロペニルゴ
ステル 7 − r 2. − ( 2−アミノ−4−チアゾリ
ル)−2−メト゛Yシイミノアヤトアミ)゛)−8−セ
フゴム−4−カルホン酸4ークロロー2ーフデニルエス
テル 7−42−(2−アミノ−4−デアゾリル)=2−メト
キシイミノアセドア’:l゛〕−8−アセトキシメチル
−8−セフェム−4−カルボン酸アリルエステル 7−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メト
キシ・イミノアセトアミドクー8−アセトキシメチル−
8−セフェノ、−4−カルボン酸2−メチル−3−メト
キシフェニル−2−プロペニルエステル さらに、7−42−(2−アミノ−4−チア゛プリル)
−2−メトキシイミノアセトアミドコー3−セフェム−
4−カルボン酸の次のようなエステルが代表的4ぐ具体
例と(7て示される。 2−プロピル−8−フェニル−2−プロペニルエステル 2−10ロー3−フェニ1lz−2−−1’ロペニルエ
ステル 2−メチル−3−トリル−2−プロペニルエステル 8−トリル−2−プロペニルエステル 3−メ+−tジフェニル−2−プロペニルエステル2−
メチル−3−メトキシツボニル−2−プロペニルエステ
ル 2−エチル−8−メトキシフェニル−2−プロペニルエ
ステル 2−メチル−8−ヒドロキシフェニル−2−ブロメfニ
ルエステル 3−ヒドロキシフェニル−2−プロペニルエステル 2−メ二r−ルー8−アミノフェニル−2−プロペニル
エステル 3−アミノフ、ニルー2−プロペニルエステル2−メチ
ル−!)−フルオロフェニル−2−プロベール毛ステル 2−メチル−8−ウロロフェニル−2−プロペニルエス
テル 以ドに実施例を挙げて、本発明をさらに、rt体的に説
明する。 実施例1 7−12−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−J+
・キシイミノアセトアミド1−8−レフェノ\−4−カ
ルボン岬アリルエステル7−[2−(2−アミノ−4−
チアゾリル)−2−メトキシイミノアセトアミド1B−
セフェム−4−カルボン酸ナトリウム8.24gをジメ
チルホルムアミド30m1中で攪拌し、ヨウ化アリルL
’151/を添加(ッた。室温にて5.5時間反応させ
た後、酢酸エチル7 (10mlおよび1111B。0
の塩酸水100 mlの中に反応液を注ぎ、よく攪拌し
た。p II 8. (+の塩酸水10 (l me、
l) )1.7.0のリン酸緩II rflj I 0
0 meで2回さらに飽和食塩水1 (1(l mlで
順次洗浄した後、無水硫酸マクネシウムで乾燥L〕f、
:。 濾過、減圧濃縮後水冷したエーテル中に滴トして結晶化
させた。P取およびエーテル洗浄()て目的物2.’7
1Qを得た。 1)&I It (01)U/、s)   δ(ppr
n)  :8.5 (211、m )、4.01(al
l、s)、4.74(2H,d)、5、+12(11(
、+1)、5.15〜6.(+ (811,、m )、
6.(15(tu。 q)、6.55(1n、m)、6.72 (114、9
>、7.90(III。 d) 11L : 1786z  (νc=o)融点:180
〜184°C 実施例 実施例1の化合物の塩酸塩 実施例1により得られた7−[2−(2−アミノ−4−
デアゾリル)−2−メt・キシイミノアセトアミドラ−
8−セフェム−4−カルボン酸アリル0.151を酢酸
エチル10mgに俗解じ、氷冷ドで塩化水素を吹き込ん
だ。 80分間撹拌した後生じた結晶をい取し、酢酸エチルで
洗浄後減圧乾燥して目的物0,172 を1号tこ。 実施例3 7−12−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メト
キシイミノアセトアミド]−8−セフェム−4−カルボ
ン酸2−メチル−2−プロペニルエステル 8−クロロ−2−メチルプロペン0.68fおよびヨウ
化ナトリウム1. l 2 Qをアセトン10me中で
30分間還流させた。生じた結晶を瀘過し、さらに少鰍
の塩化メチレンで洗いアセトン浴液と合せ注意深く蒸留
して塩化メチレンおよびアセトンを留去した。7−〔2
−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メ]・キシイ
ミノアセトアミド〕−3−セフェム−4−カルボン酸ナ
トリウム2. (189をジメチルホルムアミド20 
m/!中で攪拌し−Cいる中へこの残渣を加え12時間
室温で反応させた。 この後、実施例1と同様に処理して1.8 (I o〕
目的物を得た。 1’ M It (C1,)C/、R)δ(pp+n)
  :1.77 (8)1. S)、8.52(211
,m)、4.01 (81’l、 I’l )、4.6
B (2u、 s )、4.9〜5.1 (811、r
n >、5.6 (2[1゜フロートS)、6.116
 (l Il、 q )、6.58 (Ill、m )
、6.74 (11,S )、7.82 (11,d 
)■几: 1784tMV’ (νc=o)融点:12
8〜188″C 実施例4 7−r2−(2−アミノ−4−デアゾリル)−2−メト
キシイミノアセトアミド]−3−セフェム−4−カルボ
ンM2−メチルー3−フェニル−2−プロペニルエステ
ル 酢酸エチル33−およびジメチルホルムアミド0.17
 (Iを水冷下で攪拌し、その中ヘオキン塩化燐0.2
81を滴下した。氷冷Fで1.5時間撹拌した後、2−
(2−ポルムアミド−4−チアゾリル)−2−メトキシ
イミノ酢酸(シン異性体0.289を加えさらに1時間
攪拌した。この溶液を酢酸エチル8ml!、ヒリジン2
 meおよび7−アミノ−3−−レフエム−4−カルボ
ンM2−メチルー8−フェニル−2−フロペニルエステ
ル0.83gの攪拌液へ−50”Cで滴下し、1時間攪
拌した。その後ゆっくりと0°Cまで昇温し、酢酸エチ
Jl/ 8 Qmeおよび希塩酸20m/の中へ反応液
を注ぎ十分撹拌した。分液後、希塩酸、p)17.Qσ
)リン酸緩衝液および飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥t、 j:。濾過、減圧濃縮後氷
冷したエーテル中に滴下し、生じた粉末をP取し、エー
テル洗浄後減圧乾燥(ツだ。この粉末を水冷下でメタノ
ールf3me、テトラヒドロフラン6−および濃塩酸0
.08 mAのリン酸緩衝液80meに注入し、分液後
、pH7、0のリン酸緩衝液さらに飽和食塩水で洗浄し
、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。濾過、減圧濃縮後
水冷のエーテル中に滴ドし、生じた結晶を戸数し、エー
テル洗浄して目的物(1,469を 1号 tこ 。 I’ M IL (OOC/−* )  δ(ppm)
 :1.90(81(、In)、8.47(2fi、m
)、8.98(811,R)、4.8(1(211,I
n)、 5.00(111,d)、6.08(IH,q
)、6.50(21(、ブロードS)、6.68(11
(、l、7.21(5n、m)、7.85(1,1,d
)11L : 1785w ’(シC=:0)融点=9
5〜105℃ 参考例1 2−クロロ−8−ヨード−1−プロペンの合成 2.3−ジクロロ−1−プロペン100f及びヨウ化ナ
トリウム185gをアセトン8 (10me中で80分
間還流させtコ。生じた結晶を枦去し溶媒を常圧で留去
した。残液を減圧蒸留し目的物140gを得た。 P M、 LL (CC1a )  δ(PPrn) 
:4、(1(21i 、 S )、5.8 (lfi、
 S )、5.6 (In、 s )沸点 60”(:
 (88喘lig) 実施例5 7−(2−メトキシイミノ−2−(4−チアゾリル)ア
セトアミド]−8−(1−メチル−IH−テトラゾール
・−5−イル)チオメチルー3−セフェム−4−カルボ
ン酸2−クロロ−2−プロペニルエステル 7−[2−メトキシイミノ−2−(4−チアゾリル)ア
セトアミド]−8=(1−メチル−1m−テトラゾール
−5−イル)チオメチル−8−セフェム−4−カルボン
酸ナトリウム1.05gをジメチルポルムアミド1(1
m/中で攪拌し2−クロロ−3−ヨード−1−プロペン
42()ηを添加した。室温にて5時間反応させた。こ
の後実施例1と同様に処理して0.819の目的物を得
た。 P M IL (Ic/−s )δ(pptn、) :
8.80(21(、S)、8.88 (8fl、 s 
)、4.08(811,s)、4.4(21t、(1)
、4.7〜4.9 (211、In )、5.08(I
H,d)、5.8〜5.7(211,m)、5.9〜6
.1 (II(、m )、7.78(lit、I’l)
、8.78(111,l’l)1 m :  1792
cm  (νc=o>融点:!)1〜94℃ 実施例6 7−12−メトキシカルボニルメトキシイミノ−2・−
(4−チアゾリル)アセトアミド]−9−(1−メチル
−1■−テトラゾール−5−イル)J−詞メチルー8−
セフェムー4−カルポン酸2−クロロ−2−プロペニル
エステル t 7−[2−メトキシカルボニルメトキシイミノ−2−(
4−チアゾリル)アセトアミド〕−8−(1−メチル−
1■−テトラゾール−5−イル)チオメチル−8−セフ
ェム−4−カルボン酸ナトリウムおよび2−クロロ−8
−ヨード−1−プロペンから実施例5と同様にし一〇目
的物を得tこ。 [’MR(d、−J)八IJ())  δ(ppr++
)  :8.65(811,s) 、 8.7 (2t
l 、In ) 、 8.9(1(8H,S ) 、4
.10〜4.tiO(21’1.’l )、4.γ8(
2H,8)、4.82 (2J:L、8)、5.17(
Ill、d)、5.50(Ill、m)、5.7 (1
11、町、5.87 (111,q )、7.9(+(
IJJ、d )、8.1.0(In、(1)、9.64
 (11,1,d )E R: 178611r’ (
νc=o)融点二85〜95°C 実施例7 7−[2−1!8ブトキシ力ルボニルメト客ジイミノ−
2−(4−チアゾリル)アセトアミド〕−3−メチルー
8−セフェム−4−カルボン酸2−クロロ−2−プロペ
ニルエステル 7−r2−第8級ブトキシカルボニルメトキシイミノ−
2−(4−チアゾリル)アセトアミド] −3−レフェ
ノ・−4−カルボン酸および2−クロロ−8−−I−F
 −1−プロペノから実施例5と同様にし7て得た酢酸
エチル溶液を減圧Fでu番媒を留去することにより目的
物を得た。 P Isl it (tlg −1)M、H(’ )δ
(ppm) :1、・12(911,S)、2.08 
(811,8)、8.2〜8.8(211゜[1)、4
.60 C2H,9)、4.82(211,9)、5.
16(11:L、d)、5.48(山、m)、5.72
(111,ITI)、5.8分(+、L、1 、11 
)、7.9(1(LH,、d )、9.10(IB、、
(1)、9.55(IIl、Q ) J R: 1788m  (νC=O)実施例8 7−[2−第三ブトキシノノルポニルメトキシイミノ−
2−(4−チアゾリル)アセトアミド]−8−(1−メ
チル−114−テトラソール−5−イル)チ]メチルー
3−セフェムー4−カルボン酸2−クロロ−2−プロペ
ニルエステル 7−[2−第三ブトキシカルボニルメトキシイミノ−2
−(4−チアゾリル)アセトアミド]−8−(1−メチ
ル−1II−テトラゾール−5−イル)チオメチル−8
−セフェム−4・−カルボン酸ナトリウムl (10〜
をジメチルホルムアミド1 me中で攪拌し、2−クロ
ロ−8−ヨード−1−プロペン84.9 Tダを添加し
た。室温にて6時間反応させた。この後実施例1と1司
様に処理して95.0〜の目的物を得た。 P AN 11. (CjJUts )δ(ppm) 
:1.89(9)1.s )、8.71 (241,!
’! )、8.88 (811,S )、4.05〜4
<<2■、m>、4.6〜4.8 (411、III 
)、5、(+5(1)1.(+ )、5.4〜5.6 
(2kl 、m )、5.8〜6.02(IJ、i、m
 )、7.76 (1,11,8)、8.5〜8.7 
(III 、m )、8.79(1,11,tl) l凡: l ’791°イー1(シC:0)順点二63
〜65′C 実施例 7−[2−カルボキシメトキシイミノ−2−(4−チア
ゾリル)アセトアミド]−8−(l−メチル−1ii−
テトラゾール−5−イル)チ」メチル−8−セフェム−
4−カルボン瞼2−クロロー2−プロペニルエステフレ
゛t−+2−ss三ジブトキシカルボニルメトキシイミ
ノ2=(4−チアゾリル)アセトアミドl−8−(1−
メチル−111−テトラゾール−5−イル)チ1°メチ
ルー8−セフェムー4−カルボン1%12−’/ロロー
2−フロハξニルエステル54.6■及びアニソール0
. I tne ヲトリフルオロ^ト一0.5−に溶解
した。室温テ2時間撹拌(7た。を讐(媒を減げドに留
去した。 残lliに水2 meを加え1 (+ 1neの酢酸エ
チルで抽出17た。抽出液を5 tnlの水で8回洗い
硫酸マクネンウl、上で乾燥した。溶媒を減圧下に留去
した後残渣をジエチルゴーチルで粉末化し目的物35.
0■を得た。 1’ M LL (CI)C1m )δ(11p+n 
)8.74 (2LL、d )、 8.96(8t1.
、r+ )、 4.8 (21(、Q ) 、4゜7〜
4.g (41J、、+n )、5.08(11,1,
d)、5.8〜5.6(2J(、m)、5.8−6.1
 (111,m )、7.B(1[+、、nす、8.8
(il(、川) ■几、’ 1798an−’ (L’c=0)tAI+
点=F号に〜886C 実施例1() 7−[2−カルボキシメトキシイミノ−2=(4−チア
ゾリル)ア(τト)′ミドクー3−メチル−3−セノエ
ム−4−カルボン酸2−クロロ−2−プロペニルエステ
ル 7−[2−f’ff8ブトキシカルホニルメトキシイミ
ノ−2−(4−チアゾリル)アセトアミド〕−8−メチ
ルー8−セフェム−4−カルボン酸を実M+i例9と同
様に処理して目的物を得た。 1! M、 R(tl g−,1,、)MS (J )
δ(ppm) :2.04 (all、 !+ )、8
.(15〜8.78 (21−1,(1)、4.65(
2J]、、s)、4.88 (211,S >、5.1
7(IH,d)、5.49(11,m) 、 5’、’
7B (ll:l、m )、 5.80(IF(、Q)
 、7.98 (]IJ、、d )、9.12(111
,d)、9.56(III、d)■几: 1786c腎
−1(ν。=o)融点:125〜185°(シ 実施例11 7−[2−(2−アセチルアミド−4−チアゾリル)−
2−メトキシイミノアセトアミド〕−8−セフェム−4
−カルボン酸アリルエステル 7−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)=2−メト
キシイミノアセトアミド]−8−ナフェム−4−カルボ
ン酸アリルエステル210Wをアセトニトリル20m1
に溶解し、−40°Cに冷却した。ジメチルアニリン1
20■を加えた後、塩化アセチル0.08−を加え、0
°Cまで昇温した。この温度で50時間反応させた後、
実施例1と同様の後処理をして得た酢酸エチル溶液を減
圧濃縮した。シクロヘキ刃ン中に滴下して得た粉末を少
量の酢酸エチル中で洗浄し、戸数・乾燥して目的物を得
tこ 。 k’ M IL (d e −1)MS0 )δ(pp
m) :2.12(81(、s)、8.60(2Ii、
m)、8.87(811,1,4,7(1(2H,fn
)、5.12(III、d)、5.27(IIL、m)
、5.48(1,[l、m)、5.6〜6.1 (2t
l、m )、6.57(l[i。 m)、7.29 (111,8)、9.65(111,
d)、12.42(11:l、s) 11L : 1778cm  (ν(=Q )融点:1
80’(!以上 実施例12 7−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メト
キシイミノアセトアミド]−8−(5−メチル−1,8
,4−チアジアゾ−Jシー2−イルチニ1メチル)−3
−セフェム−4−カルボン酸2−クロロ−・2−プロペ
ニルエステル 実施例7と同様にして目的物を得た。 PM几((l s −J)MS(J )  δ(ppm
) :2.65(8H,8)、8.5〜8.9(211
,1)、8.80(8H,。 S)、4.0〜4.7 (211、(1)、4.82(
211,m)、5.16(111,d )、5.50(
ILL、m)、5.6〜5.9(211,、III)、
6.68 (lli、 S )、7.15(214,8
)、9.55 (111,d )I几: L786cy
n ’ (νC=O)融点:120〜140°C 実施例8において8−クロロ−2−メチルプロペンのか
わりに塩化シンナミルを用いるほかは、すべて同様に行
なって目的物を得た。 PM几(CDC1R)  δ(pprn)  :8.5
0(2L(、m)、4.00 (814,S )、4.
6〜5.1 (211゜m)、5.08(tLa)、5
.75(211,8>、5.9〜6.9(5H,tn)
、7.0〜7.6 (5)1.m)、7.95(Ill
、d)■几: 1786crn’ (ν(=0)融点=
150〜155℃ 実施例16 7−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メト
キシイミノアセトアミド]−8−セフェム−4−カルボ
ン酸2−メチル−8−フェニル−2−プロペニルエステ
ル 1−クロロ−2−メチル−8−フェニルー−2−プロペ
ン1.80gおよびヨウ化ナトリウムi、 t ’r 
yをアセトン13づ中で80分間還流さぜjこ。生じた
結晶を2濾過し、さらに少量のア1テト一・で洗い、1
戸洗液を合1)セでアセトンをW+’去L /こ。?−
[2−(2−アミノ・−4−チアゾリル)−2−7トキ
シイξノアセトアミド1−8−セフエト−4−カルボン
酸ノートリウノ−8,1,61をジメチルポルムアミド
s2mt中で撹拌している中パ・この残泣を加え8時間
室温で反応さけた。この後、実施例1と同様に処理して
2.5 B yの目的物を得た。 PAL It 、 +131. 、融点共に実施例4の
ものと同一であった。 実施例17 7− r 2− (2−ア1)−4−デアゾリル)−2
−メトキシ・イミノアセトアミド1−1−セフェム−4
−カルホン酎8−クロロー2−プロペニルエステル 1.8−ジクロロ−1−プロペン2.77 IIおよび
ヨウ化ナトリウム8.751をアセトン27 ml中で
80分間還流させた。生じた結晶を濾過し、さらに少量
のアセトンで洗い、P洗液を合わせ注怠深く蒸留により
アセトンを留去した。7−[2−(2−アミノ−4−チ
アゾリル)−2−メI・キシイミノアセトアミド〕−8
−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム4. (151
’eジメメチポルムアミド40me中で攪拌している中
へこの残渣を加え5時間室温で反応させた。この後実施
例1と同様に処理して3.6gの目的物を得た。 i’st几(CDCI−s)  δ(PPm) :8.
85〜8.68 (211、m )、8.99 (81
1,1! )、4,81(2fL1m)、5.02(1
11,d)、5.79〜6.86(8fL、m)、6.
41〜6.64(IH,m)、6.70(In、S)、
7.84(lfi、d)I IL : 17851M(
νc=o)融点: 1B2〜188°C 実施例18 7−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メト
キシイミノアセトアミド]−8−アセトキシメチル−3
−セフェム−4−カルボン酸2−メチル−8−フェニル
−2−プロペニルエステル ■−クロロー2−メチルー8−フヱニルー2−プロペン
i、ospおよびヨウ化ナトリウム0.98 Fをアセ
トンI O,8ml中で80分間還流させた。生じた結
晶を濾過し、さらに少量のアセトンで洗い、P洗液を合
わせてアセトンを留去した。7−[2−(2−アミノ−
4−チアゾリル)−2−メトキシイミノアセトアミド]
−3−アセトキシメチル−8−セフェム−4−カルボン
酸ナトリウム2.89 flをジメチルホルムアミド2
4−中で撹拌している中へこの残渣を加え8時間室温で
反応させた。この後、実施例1と同様に処理して2、2
0 fの目的物を得た。           3FM
几(CDOls )  δ(PI曲):       
     さ1.96(8H,m)、2.06 (al
l、 +1 )、8.20”J172     U(2
H,Q)、4.08(8B、、S)、4.64〜5.8
o(5t1.m)、アロ、06 (lit 、 Q )
、6.56(ILL、)o−FF+ )、6.70  
    ;(1)1.!’l)、7.25(511,I
n)、7.95(l)1.d)ル’ 1t: 1790
m ’               、z′融点: 
115〜+83°Cfl 実施例19                   彷
7  [2−(2−7E / = 4− チア ソ”I
 Jl/ )rr−2−メトキシイミノアセ]・アミド
]−S−レフェムー4−カルボン酸−2−メチル−3−
アセドキシメチルー2−プロペニルエステル メチル−2−プロペン1.06 IIおよヒヨウ化ナト
リウム0.98 Elをアセトン1o、6−中でO分子
IJJ還流させた。生じた結晶を濾過し、らに少壜のア
セトンで洗い、炉洗液を合イ)でアセトンを留去した。 7−[2−(2−ミノ−4−デアゾリル)−2−メトキ
シイノアセトアミド〕−8−セフェム−4−カルン酸ナ
トリウム2. (12F/をジメチルホルアミド20m
/中で攪拌しでいる中・\、この渣を加A。12時ff
fJ室温で反応させた。この、実施例1と同様に処理し
て1.80gの1物を得た。 P M、it  (+:l)(、i/、s  )   
  δ (pptn)   :1.8(l Q(II、
m )、2.04 (8111,In)、8.50(2
F(、m)、4.01. (81,1、l’l ’)、
4.41〜4.87(4j1.m)、5.(+5(11
1,rl) 、 5.60 (ill、In ) 、 
6.07(III、q ) 、6.47 (111、m
 )、6−69(11−L、!’l)、8.0(1(I
ll、(1)l几: 1790m−1 融点:112〜128°C 例20 7−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)2−メトキ
シイミノアセI・アミド]−8−セフ1ムー4−カルボ
ン酸3−メチル−2−ブテニルエステル 4−クロロ−2−メチル−2−ブテン0.781及びヨ
ウ化ナトリウム1.129をアセトン20me中で80
分聞達流させた。生じた結晶を沖去しさらに少量の塩化
メチレンで洗いアセトン溶液と合オ〕せた。塩化メチレ
ン及びアセトンを′出汁で留去した。7−[2−(2−
アミノ−4−デアゾリル)−2−メトキシイミノアセド
アミド】−8−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム2
. (] 2 f/をジメチルポルムアミド20m1中
で攪拌している中へこの残漬を加え5.5時間室温で反
応させた。この後実施例1と同様に処理して1.50g
の目的物を得た。 l:’ 114几(UIJO/、s )  δ(111
間):1.72(611i、d)、8.49(211,
(1)、4.(+4(all、s)、4.78(2H−
、d)、5.+14 (In 、 d )、5.2〜5
.6 (8H、rn )6.11 (1”、 Q )、
6.5 (111、(+ >、6.80 (Ill、 
S )、7.6+3(l11.d) 1、 IL : 1785cm ’ (νc=o>融点
:148〜150°C 実施例21 7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−(2−、メチル−4
−チアゾリル)アセトアミド〕−8−(1−メチル−1
1,1−テトラソール−5−イル)チ副メチルー3−セ
フェムー4−カルボン酸2−クロロ−2−プロペニルエ
ステル 7−〔2−ヒドロキシイミノ−2−(2−メチル−□4
−チアソリル)アセトアミド〕−8−(l−メチル−1
ii−テトラゾール−5−イル)チ1メチル−8−セフ
ェム−4−カルボン酸78.6ηをジメチルホルムアミ
ドQ、 5 me中で攪、拌し2−クロロ−8−ヨード
−1−プロペン88■及びトリエチルアj−t’16〜
を添加した。室温にて8時間反応さ・1tた。 この後実施例1と同様に処理して目的物56■を得た。 1、’ A4. JL (にl)O/、n )  δ(
ppm) :2.71 (8Li、 S)、8.81 
(2+L、 R)、8.91 (8i、t、 s )、
4.4−4(2H,、(量)、 4.85 (2f:1
 、 !I ) 、 5.08(リl、d) 、5.4
〜5.6 (211,In )、5.9 (11,1,
、q )、7.67 (IIL、 S )t+B17q
2弾 (νC=0) 融点二81〜84°C 実施例22 7− [’ 2− (2−ブロモ−4−チアゾリル)−
2−メトキシイミノアセトアミド〕−B−(l−メチル
−1l■−テトラソール−5−イル)チオメチル−8−
セフェム−4−カルボン酸2−クロロ−2−プロペニル
エステル7−[2−(2−ブロモ−4−チアゾリル)−
2−メトキシイミノアセトアミドl−8−(l−メチ−
ルー1■−テトラソール−5−イル)チオメチルーB−
−t=フエムー4−カルホン酸ナトリウム184 nV
をジメチルホルムアミド1が中で撹拌し2−クロロ−8
−ヨード−I−プロペン70mりを添加し、た。室温に
て4時間反応させた。この後実〃(1例1と同様に処理
して78!ηの目的物を得tコ。 P A1.1L (U、I)(3/、s )  δ(1
1Pm) :8.79(2Li、R)、8.90(il
:1.、s )、4.09 (att、 s )、4.
88(211,d)、4.84 (211,8)、5.
06 (11(、d )、5.4〜5Ji (21(、
m )、6.(1(III、 q )、7.68 (1
[(、s )■几: I 794CnV’ (1/(=
0)融点=94〜98℃ 実施例2B ?−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メト
キシイミノアセトアミド]−8−(l−メチル−IJ(
−テトラゾール−5−イル)チオメチル−8−セフェム
−4−カルボ:42−10ロー2−プロペニルエステル
7−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メト
キシイミノアセトアミド〕−3−(l−メチル−1ll
−テトラゾール−5−イル)チオメチル−8−セフェム
−4−カルボン酸ナトリウム216mgをジメチルホル
ムアミドl−中で攪拌し2−クロロ−8−ヨード−1−
プロペン69ダを添加した。室温にて5時間反応させた
。この後実施例1と同様に処理して152#の目的物を
得た。 P M IL (CI)(う]) δ(ppm):8.
7〜4.1 (81J、m)、4.88(2H,d)、
4.6〜4.9(211,m)、5.06(lft、d
)、5.2〜5.6(4fi、In)、5.9〜6.1
 (ll−1,m )、6.76 (In、 s )、
7.54(III、d)’ R: 1785z−’(ν
c工。)融点=108〜115°C 実施例24 7−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−ヒド
ロキシイミノアセトアミド〕−3−(1−メチル=II
I−テトラソール−5−イル)チオメチル−8−セフェ
ム−4−カルボン酸3−クロロ−2−プロペニルエステ
ル1.8−ジクロロプロペンo、 s a I 及びヨ
ウ化ナトリウム1.12 gをア十トン20 me中で
80分間還流させた。生じた結晶を沖去しさらに少量の
塩化メチレンで洗いアセトン溶液と合わせた。塩化メチ
レン及びアセトンを常圧で留去した。7−[2−(2−
アミノ−4−デアゾリル)−2−ヒドロキシイミノアセ
トアミド]−8−(1−メチル−11−1−テトラゾー
ル−5−イル)チオメチル−3−セフェム−4カルボン
#2.68g及びトリエチルアミン1.0 (l fl
をジメチルホルムアミド20m1中で攪拌している中へ
この残液を加え20時間室温で反応させた。反応液にp
IL3塩酸水溶液及び酢酸エチル各20m1を加えた。 析出した結晶を酢酸エチル及びメタノールで洗い0.9
8Fの目的物を得た。 PM几(DMSO−ds)  δ(pptn)  :8
.7(2H,m)、8.90(8]]、s)、4.1〜
4.5(2n、m)、4.6〜5.0 (2fi、Ir
1)、5.(1〜5.2 (If(。 In)、6.0〜6.2 (l)l 、In )、6.
5〜6.7(211,rn)、7.07(IH,8)、
9.40(l)1.d)、四〜5.9(It−1,+t
t、)1几: 1788 cm−’ (v。=0)融点
=184〜188’0 実施例25 7−[2−(2−アミノ−4−チア゛ゾリル)−2−メ
トキシイミノアセトアミド]−8−セフェム−4−カル
ボン酸8−メトキシカルホニルー2−プロペニルエステ
ル塩酸塩4−ノロモー2−ブテン酸メチルエステル1.
58f及びヨウ化ナトリウム1.12Fをアセトン20
me中で8()分間還流させた。生じた結晶を?1去し
さらに少量の塩化メチレンで洗いアレトン溶液と合オ)
せた。塩化メチレン及びアセトンを常圧で留去した。7
−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メトキ
シイミノアセトアミド]−3−セフェム−4−カルボン
酸すトリウム2.02Nをジメチルホルムアミド20m
1中で攪拌している中へこの残渣を加え室温で6時間反
応させた。反応液を酢酸エチル400 m!及びpH9
,Q (7)塩酸水7Qmeの中に注ぎ充分撹拌した。 pf17.9のリン酸緩衝液70−で2回さらに飽和食
塩水70−で順次洗浄した後硫酸マグネシウム上で乾燥
した。濾過後溶液が約10 +l mllになるまで減
圧濃縮した。溶液に塩化水素ガスを通じ析出する結晶を
P取(7目的物1.6(I Qを得た。 i! Mll、 (C1)C1a )  δ(ppm)
 :8.4〜4.4(8111,m)、4.8〜5.2
 (811,、m )、5.8〜6.0 (11(、m
 )、6117 (lli、+1 )、6.6(+ (
III 、m )、6.8〜7.1 (11,、m )
、7.12 (l 1.1 、 q )、8.6(+ 
(1,EI 、d )1R:1784♂1(シc−o) ―点:156〜158°C 実施例26 7−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メト
キシイミノアセトアミド〕−3−メチルチオメチル−8
−一レフェムー4−カルボン酸2−クロロ−2−プロペ
ニルエステル) 7−L 2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メ
トキシイミノアセトアミド]=:11−メチルブー1メ
チルー8−セフエム−4−カルホン酸ツートリウム2.
449をジメチルホルムアミド25m1中で攪拌してい
る中へ2−クロロ−3−ヨード−1−プロペン1゜82
fを加え8時uil室温で反応させた。この後、実施例
1と同様1ξ処理して2.1gの目的物を得た。 1”M 11 ((n)(3zI+)  δ(ppmリ
 :2、(+ (i (B1.l 、 F+ )、8.
48〜8.78(211,m)、4.04(811,s
)、 4.7S〜5.55 (7■1.m)、 5.9
4 (ltl、q )、43、gQ(ljl、s)、7
.44 (LH,d )■几: 1786♂1(ν ) (==Q tM 点 :tto 〜l 18′″C実施例27 7−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メト
キシイミノアセトアミド]−S −セフェム−4−カル
ボン酸l−メチル−2−プロペニルエステル モレキュラーシーブ(8A)2 fを7−[2−(2−
アミノ−4−チアゾリル)−2−メトキンイミノアセト
アミド〕−8−十フエムー4−カルボン[0,77gの
乾燥ピリジン8mgの溶液に加え室温で80分間攪拌し
た。この@液に乾燥テトラヒドロフラン1.5 meお
よび3−ブテン−2−詞一ルO,l (i Il’を加
え、氷水で冷却した。この溶液にN、N−ジシクロへキ
シルカル車ジイミド0.68gを加えた後、氷冷ドで4
時間攪拌し、さらに室温で14時間俺拌した。反応液に
酢酸エチル4 (l m/!と水4、 (l m/を加
え、希塩酸でPHを4に調整し、濾過IIだ。1銭から
水層を除去した後、有機層をl O%リン酸二カリウノ
・水溶液20meで2回洗浄し、次いで塩化すトリウム
飽和水溶M、 40 meで洗浄した。無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、減圧下で留去し、(1,85fの目的
物を得た。 P M JL (CDC75)  δ(ppm) al
、88 (8JLd )、8.45〜8.56(2LI
n)、4,01(311,9)、5.(10(5)1 
、+n )、6.(15(IH,q)、6.49〜6.
59 (ILI、+++ )、6.72(ill、s)
、7.78(l11.d) ■几:1790z(νC=0) 融点:168〜176°C 実施例28 7・−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メ
トキシイミノアセトアミド セフェノ、・−4−カルボン酸2−クロロ−2−ゾロベ
ニルエステル 実Mn例8において、8−クロロ−2−、メチルプロペ
ンのかわりに2.3−ジクロロ−l−プロペンを用いて
反応を行ない、同様に処理することにより目的物を得た
。 11H几( (3.1)O/−n )  δ(PPil
l) :3、54(21(、ブロードS)、4.08(
8J.i.R )、4.79(211 、 m ) 、
 5.115(II(、+1) 、 5.42(111
,s) 、 5.58(lJI,s)、0.+16(l
)l,q )、6.6 (1 (111, rn )、
6、74 ( lft 、 S )、7.80 ( I
II,d )L JL : 1 7 8 5m ’ (
 νに=。)融点:130〜185℃ 実施例29 7−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メト
キシイミノアせドアミド]ー3ーレフェムー4ーカルボ
ン6り4−クロロ−2−ブテニルエステル 書つ化すトリー゛7ノー2.4gお,J:び1.4−ジ
ク[10ー2−ブテン109をアセトン4 (l me
中で1時間還流した。z濾過後減圧蒸留によりア十トン
を留去]ッ、この残diを月1いて実施例8と同様に反
応を行ない目的物を得た。 L’ M It ( ds −D.M.8U )  δ
(PI間):8、57(2■,ブロードS)、4.88
(21i.m)、4.70(21(。 m)、5.08 ( IJ.f, d )、5.5〜6
.1 (13H,rn )、65( 11.1,m )
、6.68(Ill,+1 )、7.15(2H.ブロ
ードS)、9、55(1.11,d) I IL : 1788c*−’(νC=0)融点=1
80〜185。 実施例30 7−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メト
キシイミノアセトアミド]−8−アセトキシメチル−8
−セフェム−4−カルボン酸アリルエステル 実MJi例Iと同様に行なって目的物を得た。 P M JL ( +ls = I)MS U )  
δ(ppm)  :2、(12(811,s)、8.5
9(211.ブロードS)、8、82(8JJ.、 s
 )、4.6 〜5.4(7J.1.m)、5、7〜6
.1 (2H,m)、6.71 ( IH. 8 ’)
、7、18(2fi,ブロードS)、9.55 ( I
ll, (1 ”)■几:1786(νC=0) 融点:180〜187°C 手続補市冑(【2;)) 昭和5′心イr)・\7月141」 特許庁隔官若杉和夫殿 1 1′lの表ン罫 昭和マ年 特r7’l願IT  ” 5” ” ’  
号2 発明の名Vj、 セファロス丁I9リン誘導体およびその製造方法3、袖
11−をオる名 「Jlr’lとの関係  特パ′1°出顎人住 所  
大阪市東区北浜5丁印5番地名称 (209)住友化学
工業株式会社代表者    −1−方    代 4代理人 住 所  大阪市東区北浜5丁目15番地’I’)’、
1..fllfi12211−34045、補正の対象 明細書の[−発明の詳細な説明−1の欄6、補正の内容 (1)  明細書第83頁最下行に続けて、次のとおり
加入する。 1実施例31 7−(2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メト
キシイミノアセトアミド〕−8−メチル−8−セフェム
−4−カルボン酸2−メチル−3−フェニル−2−プロ
ペニルエステル 実施例16において、7−(2−(2−アミノ−4−チ
アゾリル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕−8−
セフェム−4−カルボン酸ブー 1−リウムのかわりに
7−C2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メト
キシイミノアセトアミド〕−3−メチル−8−セフェム
−4−カルボン酸ナトリウムを使用するほかは同様に行
なって目的物を得た。 P M IL ((l e  J、)M 80 )δ(
汀”):2.9〜B、0(6L1.■1)、8.48(
2H。 m)、8.81. (8H,s )、4.78(2ii
 、■)、5. l O(l II 、 d )、5.
71(i rl 、 q )、6.55 (III、 
s )、6.69(III、S)、7.1〜7.6 (
51’l 。 rn )、9.52 (l )1. 、 d )■且:
1’1BOCR’(νa=O> 融点:90〜100°C 実施例32 7−(2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メト
キシイミノアセトアミド〕−3−セフェム−4−カルボ
ン酸2−メチル−3−(V)−フルオロフェニル) −
2−20ペニルエステル 実Mu例16において、■−クロロー2−メブールー3
−フェニル−2−プロペンのかわりにl−クロロ−2−
メチル−+3− (71−フルオロフェニル)−2−プ
ロペンを使用する(4かは、同様に行なって目的物を得
た。 PMR(CIJOe3)  δ(ITII):1、9〜
2.0 (8H、m )、8.5〜8.6(2H、m 
)、4.08(8FII!l)、4.75〜4.85(
2H,rn)、5.05(IL(、d)、6.06(]
H,q)、6.5〜6.6 (2H、m )、6.76
(IH。 S)、6.9〜7.8(4H,m)、7.72(lH,
d) IIL: 1785個 (νC=0) 融点:104〜118°C 実施例88 7−(2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メト
キシイミノアセトアミド〕−3−セフェム−4−カルボ
ン酸2−メチル−3−(0−)リル)−2−プロペニル
エステル実施例16において、■−クロロー2−メチル
ー8−フェニル−2−プロペンのかわりにl−クロロ−
2−メチル−8−(0−)リル)−2−プロペンを使用
するほかは、同様に行なって目的物を得た。 PMR(CDOns )   δ(−):1.9〜2.
0(8H,m)、2.88(8TI。 S)、8.5〜8.6 (2H、m )、4.04(8
H,8)、4.8〜4.9 (2H、m )、5.05
(lH,d)、e、o4(tH,q)、6.5〜6.6
 (2H、rfl )、6.80 (l H。 S )、7.0〜7.1 (411、m )、7.52
(IH,d  ) I IL :  1785aR(νc=0)融点=78
〜84°C 実施例84 7−C2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メト
キシイミノアセトアミド〕−8−セフェム−4−カルボ
ン酸2−メチル−3−シ (l)−アユ1ブ1ル)−2−プロペニルエステノ1ノ 実施例16において、■−クロロー2−メチルー8−フ
ェニル−2−プロペンのかわりにl−クロロ−2−メチ
ル−8−(p−アニリル)−2−プロペンを使用するほ
かは、同様に行なって目的物を得た。 I’M几(CD0Ns)   δ(F):1、9 (R
II 、 m )、8.5〜8.6 (211。 m)、8.80(8I(、s)、4.05(8H,s)
、4.8〜4.9 (21(、m )、5.05(In
、d)、6.05(1f1.q)、6.5〜6.6(2
H,m)、6,8〜7.2(51,1,、m )、7.
50 (l u 、 d )l ■几: l 790 cm   (νc=0)融点:1
10〜117°C 実施例35 7−(2−(2−アミ、ノー4・−チアゾリル)−2−
メトキシイミノアセトアミド セフェム−4−カルボン酸2−メチル−8−( m −
 ) ’J yし)−2−プロペニルエステル実Mu例
t 6において、l−クロロ−2−メチル−8 − フ
ェニル−2−プロペンのかわりに1−クロロ−2−メチ
ル−8 − ( In − トリル)−2−プロペンを
使用するほかは、同様に行なって目的物を得た。 PM几(cI)c/3 )  δ(IF):1.8〜2
.0 (8H、m )、2.18(8H。 !i)、3,5〜8.6 (21−1、nt )、4.
06(8B、 、 !1)、4.7〜4.8 (2LI
 、 nt )、5.0〜5.1 (11:f 、 m
 )、6.05(111゜9  ) 、  6.4〜6
.6(211,夏n  )  、  6.8 l(IH
,s )、7.0−7.1 (4H、m )7.54(
IH,d) IH:1785.  (νC=0) 融点:109〜1186c 実施例36 7〜(2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メト
キシイミノアセトアミド〕−8−セフェム−4−カルボ
ン酸2−メチル−3−(m−アニリル)−2−プロペニ
ルエステル実施例] 6において、■−クロロー2−メ
チルー8−フェニル−2−プロペンのかわりに1−クロ
ロ−2−メチル−3−(m−アニリル)−2−プロペン
をf小用するほかは、同様に行なって目的物を得た。 PMR(CI)(i(g3)  δ(IF):1.9〜
2.0 (81■、 m )、3.4〜3.6(2Jl
 、 ut )、11.77(8H,d)、4、t)s
csH,s)、4.7〜4.9(211゜111 ) 
、  j5.04(Ill、d)  、  6.05(
Ill、 q )、6.5〜6.6 (2II 、 t
n )、66〜G、 9 (411、m )、7.1〜
7.3(l If 、 m )、7.74 (l It
 、 d )■几: l 785 cm  (νc=0
)融点:90〜1046C 実施例87 7−(2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メト
キシイミノアセトアミじ)−8−セフェム−4−カルボ
ン酸2−メチル−3−(p−)リル)−2−プロペニル
エステル実施例16において、l−クロロ−2−メチル
−8−フェニル−2−プロペンのかわりに1−クロロ−
2−メチル−8−(p−1−リル)−2−プロペンを使
用するほかは、同様に行j、Cっで目的物を得た。 PMn(CDC(1,)  δ(lT’):1、9−−
1.95 (81(、rn )、2.88(3H、R)
、8.4〜n、 6 (2J、1. 、 m )、4.
04(8H,8)、4.8〜4.9(2J−1゜m )
、5.05 (l I−(、d )、6.06(11−
I 、 q )、6.5〜6.(i (211、m )
、(L77 (ttt 、 q)、7.C)〜7.2 
(4H。 Ill )、7.65(1k、E 、 d )■几: 
17 S) 5 (νC=0)融点:106〜109℃ 実施例88 7−(2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メト
キシイミノアセトアミド〕−8−セフェム−4−カルボ
ン酸2−メチル−3−(0−アニリル)−2−プロペニ
ルエステル実tAu例1aにおいて、l−クロロ−2−
メチル−B−フェニル−2−プロペンのかオ〕りに1−
クロロ−2−メチル−8−(0−アニリル)−2−プロ
ペンを使用するほかは、同様に行な−・で目的物を得た
。 PM几(OD047.)  δ(ITIB):J、9〜
2.0 (8H、rn )、8.5〜86(2,II 
、 m )、8.81(IH,s)、4.04(81(
、!l)、4.84(2H,s)5.06(lIl、d
)、6.o6(lJ、q)6.5〜6.7 (2H,m
 ) 、 6.79 (IH。 8  )  =  6.8〜7.8 (4H、tn )
  、  7.65 (IH、d  ) 1几 :1790m   (シ0コ0)融点:99〜1
05°C 実施例89 7−(2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メト
キシ・fミノアセトアミド〕−8−セフェム−4−カル
ボン酸2−エチル−2−ヘキセニルエステル l−クロロ−2−エチル−2−ヘキセン0、95 fl
およびヨウ化ナトリウム0.98 fをアセトンlOy
/中で80分間還流した。生じた結晶を枦去し、アセト
ンを注意深(留去後ジメチルホルムアミド20 mlお
よび7−(2−(2−ア(ノー4−チアゾリル)−2−
メトキシイミノアセトアミド〕−8−セフェム−4−カ
ルボン酸ナトリウム2.08Fを加え18時間反応した
。この反応液を酢酸エチル200rptlおよびI’ 
H8,0の塩酸水50耐中に注ぎ、攪拌およびイ)液浸
酢酸エチル層PH9,9の塩酸水50wl、 PII7
.0のリン酸緩衝液50 mlで2回、さらに飽和食塩
水50肩lで順次洗浄した。 無水硫酸マグネシウムで乾燥後減王濃縮し、残渣を石油
エーテル400 ml中に滴下して結晶化させた。 P取および石油エーテルで洗浄後減圧乾燥して目的物を
1.50g得た。 PMR,(d、−−f)MSO)  δ(P):0、8
〜1. l (6H、m )、1.1〜1.6(21:
L 、 tn )、l、8〜2.4 (411、m )
a、6(2u、m)、8.82(8H,s)4、7 (
21(、In )、5.10(11(、d)5.42(
IH,q)、5.80(111,Q)6、ri(tII
*m)、6.68(IH,s)7.2(2)1.!1)
、9.54(IH,d)IR:1785備 (νC=0
 ) 融点=71〜86°C 実施例40 7−(:2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メ
トキシイミノアセトアミド)−3−セフェム−4−カル
ボン酸2−メチル−2−ペンテニルエステル 実施例39において1−クロロ−2−エチル−2−ヘキ
センのかわりに1−クロロ−2−メチル−2−ペンテン
を使用するほかは、同様に行なって目的物を得た。 PMIt(d、 −DM80 )  δ(ITl):0
.91 (8)1. t )、1.7(8I(、m)、
1.9〜2.8(2H、tn )、8.6(2H。 rn )、8.81 (8H,s )、4.6(2]1
゜m)、5.05(11(、d)、5.48(IH、q
 )、5.82(IH,q)、6.51(l lI、 
m )、6.69 (l II 、 q ) 。 7.2(2H,S)、9.55(lH,d)I R: 
 1’780 tys    (νo =Q)融点:9
8〜t 04 ’c 実施例41 7−(2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メト
キシイミノアセトアミド〕−3−セフェム−4−カルボ
ン酸2.8−ジメチル−2−ブテニルエステル 実施例39において、l−クロロ−2−エチル−2−ヘ
キセンのかオ)りに1−ブロモ−2,8−ジメチル−2
−ブテンを使用するほかは同様に行なって目的物を得た
。 PMB、(d6−DM80)  δ(−):1、7 (
9H、nl ’)、8.6 (2II 、 III )
、3.82(8H,s)、4.6q(211,s)5.
10(IH,d)、5.82(111,q)6.48(
11:[、t  )、6.69(IH,s)7.t7(
2[1,+)、9.55(lH*d)1 1L :  
l  785 /Tll   (vl: =Q)融点:
104〜+17°C 実施例42 7−(2−r2−アミノ−4−チアゾリル)−2−メト
キシイミノアセトアミド)−8−セフェム−4−カルボ
ン酸2−メチル−2−ブテニルエステル 実施例89において、l−クロロ−2−エチル−2−ヘ
キセンのかわりに1−クロロ−2−メチル−2−ブテン
を使用するほかは、同様に行なって目的物を得た。 PMR(d、−DM、80 )  δ(旧):1、6〜
1.7 (6H、m )、8.6(2H。 m)、8.88(8H,S)、4.6(2U。 tn )、5.10(l11.d)、5.8〜5.6(
l Il、 、 m )、5.82(lH,q)、6、
5 1(I Il、 、  t)、 6.69(III
、s)?、2(2H,s)、9.55 (l I−I 
、 d  )■几:1785個 (νC=0) 融点:98〜107°C 実施例48 7−(2−(2−アミノ−4−チアゾリル)2−メトキ
シイミノアセトアミド〕−8−セフェム−4−カルボン
酸2−エチル−8−フ、Yニル−2−プロペニルエステ
ル 実施例16において、l−クロロ−2−メチル−8−フ
ェニル−2−プロペンのかオ〕りに1−クロロ−2−エ
チル−8−フェニル−2−プロペンを使用するほかは同
様に行なって目的物を得た。 PMR(d6−I)M2O)  δ(i′Il):1.
10(8I(、も )、2.80 (2II 、 q 
)8、6  (211,m )、8.82(8H,s)
4.8(2H,S)、5.10(Ill、d)5、92
 (l H* Q  )、6.4〜6.6(2I:I。 m )、6.68(lIl、!])、7.1〜7.8(
7II 、 m )、9.55 (111e  d)■
几:1780.−N″″′1 融点:84〜94℃ 実施例44 7−〔2−メトキシイミノ−2−(4−チアゾリル)ア
セトアミド)−8−(1,,8゜4−デアジアゾール−
2−イル)チオメチル−8−セフェム−4−カルボン酸
2−メチル−2−プロペニルエステル 実施例1鷺において、7−(2−(2−アミノ−4−デ
アゾリル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕−8−
セフェム−4−カルボン酸ナトリウムのかわりに7−〔
2−メトキシイミノ−2−(4−チアゾリル)アセトア
ミド]  8  (1=8−4−チアジアゾール−2−
イル)チオメチル−8−セフェム−4−カルボン酸ナト
リウムを使用するほかは同様に行なって目的物を得た。 PMR(d、−DMSO)  δ(Il履):1.75
(8T(、、q)、8.74(2I(、Q)8.91(
8II、s)、4.2〜4.7(2I(。 q)、4.65(2H,s)、4.9〜5.1(2■、
 tn )、5.20(III、d)、5.89(IH
,Q)、7.91(III、d)9.14(II(、d
)、9.52(III、s)9.68(III、d) 実施例45 7−〔2−メトキシイミノ−2−(4−チアゾリル)ア
セトアミド〕−3−アセトキシメチル−3−セフェム−
4−カルボン酸2一実施例8において、7−(2−(2
−アミノ−4−チアゾリル)−2−メトキシイミノアセ
トアミド〕−8−セフェム−4−カルボン酸ナトリウム
のかわりに7−〔2−メトキシイミノ−2−(4−デア
ゾリル)アセトアミド)−8−アセトキシメチル−3−
セフェム−4−カルボン酸ナトリウムを使用するほかは
同様に行なって目的物をf5だ。 I’ MR(d、l−11−1) )  δ(IT”)
:j、、71 (8,u、 !+ )、2.00(81
!、s)a、60(21(、ABq)、8.89(8I
I。 S )、4.68(21(、S)、 4.66あ゛よび
4.94(2H,ABq)、4.9〜5.1(2El 
、 tn )、5.20(III、d)、5.87(i
ll、q)、7.91(IH,d)9、18 (1、H
、d )、9.66(lIl、d)」 以上 −98゜

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)  一般式 6式中、Aは無置換の、まjコはノ10ゲン原子、低級
    アルキル基、アミン基およびアシルアミド基よりなる群
    から選ばれる置換基を有するチアゾリル基を、■は水素
    原子、低級アルキル基、カルボキシメチル基または低級
    アルコキシカルボニルメチル基を意味する。几2は水素
    原子、メチル基、ヒドロキシメチル基、アシルオキシメ
    チル基マたは低級アルキルチオメチル基を意味するか、
    または低級アルキル基で置換されていてもよいチキジア
    ゾリルチオメチル基、または低級アルキル基、低級アル
    キルアミノアルキル基もしくはカルボキシメチル基で置
    換されていてもよいテトラソリルチオメチル基を意味す
    る。R8は無置換の、またはハロゲン原子、低級アルキ
    ル基、低級シクロアルキル基、低1&ハロアルキル基、
    アシルオキシ低級アルキル基、低級アルコキシカルボニ
    ル基、フェニル基および置換フェニル基よりなる群から
    選ばれる置換基を有するアリル(+1llyl )基を
    意味する。〕で示される化合物またはその塩。 (2)一般式 [式中、ICは水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル
    基、アシルオ片ジメチル基または低級アルキルチオメチ
    ル基を意味するか、または低級アルキル基で置換されて
    いてもア よいチキジアゾリルチオメチル基、または(1j 1l
    ltアル、ヤル基、低級アルキルアミノアルキル基もし
    くはカルボキシメチル基で置換されていてもよいテI・
    ラゾリルチオメチル几8 基を意味する。 は無置換の、またはハロゲン原子、低
    級アルキル基、低級シクロアルキル基、低級ハロアルキ
    ル基、アシルオキシ低級アルキル基、低級アルコキシヵ
    ルホニル基、フェニル基およびJR換フェニル基よりな
    る群から選ばれる置換基を有するアリル(allyl)
    基を意味する。〕テ示すしる化合物もしくはそのアミノ
    基における反応性誘導体、またはそれらの塩類に、一般
    式 %式% 〔式中、Aは無置換の、またはハロゲン原子、低級アル
    キル基、アミノ基およびアシルアミド基よりなる群から
    選ばれる置換基を有するチアゾリル基を、it’は水素
    原子、低級アルWル基、カルボキシメチル基または低級
    アルコキシカルボニルメチル基を意味する。コ で示される化合物もしくはそのカルボキシル基における
    反応性誘導体、またはそれらの塩類を反応さ1すること
    を特徴とする一般式[式中、A 、 xt’、 It”
    オヨヒR’ハrnrffUニ同じ。〕で示される化合物
    またほぞの塩類の製造法。 (8)  一般式 〔式中、Aは無置換の、またはハロゲン原子、低級アル
    キル基、アミノ基およびアシルアミド基よりなる群から
    選ばれる置換基を有するチアゾリル基を、■1は水素原
    子、低級アルキル基、カルボキシメチル基またはKNア
    ルコキシカルボニルメチル基を意味する。几は水素原子
    、メチル基、ヒドロキシメチル基、アシルオキシメチル
    基マタは低級アルキルナ4メチル基を意味するか、また
    は低級アルキル基で置換されていてもよいチアジアゾリ
    ルチオメチル基、または低級アルキル基、低級アルキル
    アミノアルキル基もしくはカルボキシメチル基で置換さ
    れていでもよいテトラゾリルチオメチル基を意味する。 〕 で示される化合物もしくはそのカルボキシル基における
    反応性誘導体またはそれらの塩類に、一般式 〔式中、Bはヒドロキシル基またはその反応性均等基を
    意味(7、itは無置換の、またはハロゲン原子、低級
    アルキル基、低級シクロアル1°ル基、低級〕10アル
    キル基、アシルオキシ低級アルキル基、低級アルコキシ
    カルボニル基、フヱニル基および置換フJ、ニル晶より
    なる群から選ばれる置換基を有オるアリル(allyl
     )基を意味する。]で示されるエステル化剤を反応さ
    せることを9゛η徴とオろ一般式 〔式中、A 、 It’ 、 lσおよびit”は前記
    に同じ。〕で示される化合物またはその塩類の製造法。 (4)一般式 〔式中、Aは無置換の、またはハロゲン原子、低級アル
    キル基、アミン基およびアシルアミド基よりなる群から
    選ばれるtf’4換基を有するチアゾリル基を意味する
    。+t2は水素原−「、メチル基、ヒドロキシメチル基
    、アン1.オキシメチル基または低級アルキルチオメチ
    ル基を意味するか、または低級アルキル基で置換されて
    いても。しいチアジアゾリルチオメチル基、または低級
    アルキル基、低級アルキルアミノアルキル基もしくはカ
    ルボキシメチル基で;c置換されてぃCもよいテトラゾ
    リルチオメチル基を意味する。 u;’はJlle置換の、またはハロゲン原子、低級ア
    ルキル基、低級シクロアルキル基、低級ハロアルキル基
    、アシルオキシ低級アルキtB;!i、低級アルコキシ
    カルボニル基、フェニル基および置換フェニル基よりな
    るnYがら選ばれるIW置換基有するアリル(ally
    l )基を意味する。〕 で示される化合物またはその塩にエーテルfヒ剤を作j
    ■1さシ)ることを特徴とする一般式U式中、A 、 
    u2および■(・8は前記に同じ。It’は水素原子、
    低級アルキル基、カルボキシメチル基−+、 t:は低
    級アルコキシカルホニルメチル基を意味する。〕 でホされる化合物またはその塩類の製造法。 (5)一般式 [式中、J’rはハロアセチル基を、几は水素原子、低
    級アルキル基、カルボキシメチル基または低級アルコキ
    シカルボニルメチル基を意味する。Jt”は水素原子、
    メチル基、ヒドロキシメチル基、アシルオキシメチル基
    または低級アルキルチオメチル基を意味するか、または
    低級アルキル基で置換されていでもよいチアジアゾリル
    チオメチル基、または低級アルキル基、低級アルキルア
    ミノアルキル基もしくはカルボキシメチル基で置換され
    ていてもよいテトラゾリルチオメチル基を意味する。几
    8は無置換の、またはハロゲン原子、低級アルキル基、
    低級シクロアルキル基、低級ハロアルキル基、アシルオ
    キシ低級アルキル基、低級アル−11キシカルボニル基
    、フェニル基および置換フェニル基よりなる群から選ば
    れる置換基を有するアリル(allyl )基を意味す
    る。〕で示される化合物またはその塩類に、一般式%式
    % 〔式中、几は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基
    、アミノ基またはアシルアミド基を意味する。] で示される化合物を反応させることを特徴とする一般式 〔式中、Aは無置換の、またはハロゲン原子、低級アル
    キル基、アミノ基およびアシルアミドJ人、1、りなる
    群から選ばれる置換基を有するデアゾリル基を意味する
    。几1.几2およびIL’は+11記に同じ。〕 で示される化合物またはその塩類の製造法。
JP57195036A 1982-11-05 1982-11-05 セフアロスポリン誘導体およびその製造方法 Pending JPS5984889A (ja)

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