JPH0551318A - 活性酸素抑制剤 - Google Patents

活性酸素抑制剤

Info

Publication number
JPH0551318A
JPH0551318A JP3342495A JP34249591A JPH0551318A JP H0551318 A JPH0551318 A JP H0551318A JP 3342495 A JP3342495 A JP 3342495A JP 34249591 A JP34249591 A JP 34249591A JP H0551318 A JPH0551318 A JP H0551318A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
phenyl
lower alkyl
substituent
alkyl group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP3342495A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2829451B2 (ja
Inventor
Masatoshi Chihiro
正利 千尋
Hajime Komatsu
一 小松
Michiaki Tominaga
道明 富永
Yoichi Yabuuchi
洋一 薮内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Otsuka Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Publication of JPH0551318A publication Critical patent/JPH0551318A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2829451B2 publication Critical patent/JP2829451B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
    • C07D277/60—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D277/62—Benzothiazoles
    • C07D277/68—Benzothiazoles with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached in position 2
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P1/00—Drugs for disorders of the alimentary tract or the digestive system
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P1/00—Drugs for disorders of the alimentary tract or the digestive system
    • A61P1/16—Drugs for disorders of the alimentary tract or the digestive system for liver or gallbladder disorders, e.g. hepatoprotective agents, cholagogues, litholytics
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P13/00—Drugs for disorders of the urinary system
    • A61P13/02—Drugs for disorders of the urinary system of urine or of the urinary tract, e.g. urine acidifiers
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P13/00—Drugs for disorders of the urinary system
    • A61P13/12—Drugs for disorders of the urinary system of the kidneys
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P15/00—Drugs for genital or sexual disorders; Contraceptives
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P19/00—Drugs for skeletal disorders
    • A61P19/02—Drugs for skeletal disorders for joint disorders, e.g. arthritis, arthrosis
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P25/00—Drugs for disorders of the nervous system
    • A61P25/28—Drugs for disorders of the nervous system for treating neurodegenerative disorders of the central nervous system, e.g. nootropic agents, cognition enhancers, drugs for treating Alzheimer's disease or other forms of dementia
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P29/00—Non-central analgesic, antipyretic or antiinflammatory agents, e.g. antirheumatic agents; Non-steroidal antiinflammatory drugs [NSAID]
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P3/00—Drugs for disorders of the metabolism
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P3/00—Drugs for disorders of the metabolism
    • A61P3/08—Drugs for disorders of the metabolism for glucose homeostasis
    • A61P3/10—Drugs for disorders of the metabolism for glucose homeostasis for hyperglycaemia, e.g. antidiabetics
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P37/00—Drugs for immunological or allergic disorders
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P43/00—Drugs for specific purposes, not provided for in groups A61P1/00-A61P41/00
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P9/00—Drugs for disorders of the cardiovascular system
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P9/00—Drugs for disorders of the cardiovascular system
    • A61P9/08—Vasodilators for multiple indications
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P9/00—Drugs for disorders of the cardiovascular system
    • A61P9/10—Drugs for disorders of the cardiovascular system for treating ischaemic or atherosclerotic diseases, e.g. antianginal drugs, coronary vasodilators, drugs for myocardial infarction, retinopathy, cerebrovascula insufficiency, renal arteriosclerosis
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D277/00—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
    • C07D277/02—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings
    • C07D277/20—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D277/22—Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D277/24—Radicals substituted by oxygen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D413/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D413/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
    • C07D413/04—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
    • C07D417/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings
    • C07D417/04—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D417/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00
    • C07D417/14—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by group C07D415/00 containing three or more hetero rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D513/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for in groups C07D463/00, C07D477/00 or C07D499/00 - C07D507/00
    • C07D513/02—Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for in groups C07D463/00, C07D477/00 or C07D499/00 - C07D507/00 in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D513/04—Ortho-condensed systems
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
    • C07F9/6536—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having nitrogen and sulfur atoms with or without oxygen atoms, as the only ring hetero atoms
    • C07F9/6539—Five-membered rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
    • C07H13/00—Compounds containing saccharide radicals esterified by carbonic acid or derivatives thereof, or by organic acids, e.g. phosphonic acids
    • C07H13/02—Compounds containing saccharide radicals esterified by carbonic acid or derivatives thereof, or by organic acids, e.g. phosphonic acids by carboxylic acids
    • C07H13/04—Compounds containing saccharide radicals esterified by carbonic acid or derivatives thereof, or by organic acids, e.g. phosphonic acids by carboxylic acids having the esterifying carboxyl radicals attached to acyclic carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07H—SUGARS; DERIVATIVES THEREOF; NUCLEOSIDES; NUCLEOTIDES; NUCLEIC ACIDS
    • C07H15/00—Compounds containing hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals directly attached to hetero atoms of saccharide radicals
    • C07H15/26—Acyclic or carbocyclic radicals, substituted by hetero rings

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】優れた活性酸素抑制剤を提供する。 【構成】下記一般式 〔式中、Ｒ１およびＲ３は置換基を有するフェニル基な
ど、Ｒ２は水素原子、フェニル基、ハロゲン原子など、
Ｘは硫黄原子または酸素原子を示す〕で表わされるアゾ
ール誘導体又はその塩を含有する。具体的な例を示す
と、２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３−
カルボキシ−４−ヒドロキシフェニル）チアゾール、２
−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−〔３−カルボ
キシ−４−ヒドロキシ−５−（２−メチル−２−プロペ
ニル）フェニル〕チアゾール、２−（３，４−ジエトキ
シフェニル）−４−（３−カルボキシ−４−ヒドロキシ
−５−メチルフェニル）チアゾール及び２−（３，４−
ジエトキシフェニル）−４−（２−カルボキシ−６−ビ
リジル）チアゾールからなる群から選ばれるチアゾール
誘導体又はその塩がある。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、活性酸素抑制剤に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】好中球は、生体に於いて侵入した外敵に
対し、遊走反応、貧食作用、活性酸素Ｏ2 - の産生、リ
ソゾーム酵素の放出によって殺菌作用を示し、生体防御
で重要な役割を担っていると考えられている。ところ
が、この生体防御反応と共に、各組織の虚血、及びそれ
に引き続く血液の再潅流時、或いは急性期の炎症時に於
いて組織或いは好中球が放出する活性酸素が、細胞を破
壊し組織機能に障害を与えるということが、明らかにさ
れてきている〔B.R.Lucchesi，アニュアル レビュー
オブ ファーマコロジーアンド トキシコロジー（Ann.
Rev.Pharmacol.Toxicol.），２６，２０１（１９８
６）；B.A.Freeman et al ．，ラボラトリーインベステ
ィゲーション（Laboratory Investigation) ，４７，４
１２（１９８２）；E.Braunwald.,R.A.Kloner ，ジャー
ナル オブクリニカル インベスティゲーション（J.Cl
in. Invest. ），７６，１７１３（１９８５）；J.L.Ro
msonet al．，サーキュレーション（Circulation)，６
７，１０１６（１９８３）〕。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
の細胞障害、特に心臓、脳、腎臓、肺、消化器管系に於
ける虚血再潅流後の障害の原因の主たるものが、好中球
から放出される活性酸素であるという観点に立ち、その
放出を抑制する新しい薬剤を提供する点にある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
から鋭意研究を重ねた結果、ある種のアゾール誘導体が
非常に強力な活性酸素放出抑制作用を発揮することを見
出し、これらの知見に基づいて更に研究を進めた結果、
本発明を完成するに至った。
【０００５】即ち、本発明は、下記一般式（１）で表わ
されるアゾール誘導体の少なくとも一種を有効成分とし
て含有する活性酸素抑制剤に係る。
【０００６】一般式
【０００７】
【化２８】
【０００８】〔式中、Ｒ1 及びＲ3 は、同一又は異なっ
て、フェニル環上に置換基としてアルコキシ基、トリ低
級アルキル基置換シリルオキシ基、低級アルキル基、水
酸基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキルチオ基、
フェニル基（該フェニル基には、チアゾリル環上に置換
基としてフェニル環上に低級アルコキシ基を有すること
のあるフェニル基を有するチアゾリル基、カルボキシル
基及び水酸基なる群から選ばれた基を置換基として有し
ていてもよい）、低級アルキルスルフィニル基、低級ア
ルキルスルホニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、基−
（Ａ）ｌ−ＮＲ8 Ｒ9 （式中、Ａは低級アルキレン基又
は基−Ｃ（＝Ｏ）−を示す。ｌは０又は１を示す。Ｒ8
及びＲ9 は同一又は異なって水素原子、低級アルキル
基、低級アルカノイル基、置換基として低級アルキル基
を有することのあるアミノ低級アルキル基又はピペリジ
ニル低級アルキル基を示す。またＲ8 及びＲ9 は、これ
らが結合する窒素原子と共に、窒素原子もしくは酸素原
子を介し又は介することなく互いに結合して５〜６員環
の飽和又は不飽和の複素環を形成してもよい。該複素環
には置換基として、低級アルカノイル基又は低級アルキ
ル基を有していてもよい。）、低級アルカノイル基、低
級アルカノイルオキシ基、アルコキシカルボニル基、シ
アノ基、置換基として水酸基、低級アルコキシカルボニ
ル基、フェニル低級アルコキシ基、水酸基及び／又は低
級アルカノイルオキシ基置換低級アルキル基及び低級ア
ルカノイルオキシ基なる群より選ばれた基を１〜４個有
することのあるテトラヒドロピラニルオキシ基、アミジ
ノ基、ヒドロキシスルホニルオキシ基、低級アルコキシ
カルボニル置換低級アルコキシ基、カルボキシ置換低級
アルコキシ基、メルカプト基、低級アルコキシ置換低級
アルコキシ基、水酸基を有する低級アルキル基、低級ア
ルケニル基、置換基として低級アルキル基を有すること
のあるアミノチオカルボニルオキシ基、置換基として低
級アルキル基を有することのあるアミノカルボニルチオ
基、低級アルカノイル置換低級アルキル基、カルボキシ
基、基−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ21）（ＯＲ22）（式中Ｒ21及
びＲ22は、同一又は異なって水素原子又は低級アルキル
基を示す。）、フェニル低級アルコキシカルボニル基、
低級アルキニル基、低級アルコキシカルボニル置換低級
アルキル基、カルボキシ置換低級アルキル基、低級アル
コキシカルボニル置換低級アルケニル基、カルボキシ置
換低級アルケニル基、ハロゲン原子を有することのある
低級アルキルスルホニルオキシ基、低級アルコキシ置換
低級アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子を有する低
級アルケニル基及びフェニル低級アルコキシ基なる群よ
り選ばれた基を１〜５個有することのあるフェニル基；
低級アルキレンジオキシ基を有するフェニル基；窒素原
子、酸素原子又は硫黄原子を１〜２個有する５〜１５員
環の単環、二項環又は三項環の複素環残基（該複素環に
は置換基として、オキソ基、アルキル基、ベンゾイル
基、低級アルカノイル基、水酸基、カルボキシ基、低級
アルコキシカルボニル基、低級アルキルチオ基、基−Ａ
−ＮＲ23Ｒ24（式中Ａは前記に同じ。Ｒ23及びＲ24は、
同一又は異なって水素原子又は低級アルキル基を示す。
またＲ23及びＲ24は、これらが結合する窒素原子と共
に、窒素原子もしくは酸素原子を介し又は介することな
く互いに結合して５〜６員環の飽和の複素環を形成して
もよい。該複素環上には低級アルキル基が置換していて
もよい。）、シアノ基、水酸基を有する低級アルキル
基、フェニルアミノチオカルボニル基及び置換基として
低級アルキル基を有することのあるアミノ低級アルコキ
シカルボニル基なる群より選ばれた基を１〜３個有して
いてもよい。）；低級アルキル基；低級アルコキシカル
ボニル低級アルキル基；低級アルコキシカルボニル基；
カルバモイル低級アルキル基；置換基としてオキソ基又
は／及び水酸基を有することのある２，３−ジヒドロイ
ンデニル基；フェニル環上に置換基として低級アルコキ
シ基を有することのある又低級アルキル基上に置換基と
して水酸基を有することのあるフェニル低級アルキル
基；フェニル環上に置換基として低級アルコキシ基を有
することのあるベンゾイル基；フェニル環上に置換基と
して低級アルコキシ基を有することのあるフェニル低級
アルケニル基；ピペラジン環上に置換基として低級アル
キル基を有することのあるピペラジニル低級アルキル基
又はアダマンチル基を示す。Ｒ3 は、前記の他に水素原
子を示してもよい。Ｒ2 は、水素原子、フェニル基、ハ
ロゲン原子、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキ
ル基、置換基として低級アルキル基を有することのある
アミノ低級アルキル基又はジヒドロカルボスチリル基を
示す。またＲ2 及びＲ3 は、結合して、基
【０００９】
【化２９】
【００１０】、基
【００１１】
【化３０】
【００１２】又は基
【００１３】
【化３１】
【００１４】を形成してもよい。Ｘは硫黄原子又は酸素
原子を示す。〕で表わされるアゾール誘導体及びその
塩。
【００１５】本発明の化合物は、好中球からの活性酸素
の放出を抑制し、又は活性酸素種を除去する活性を有す
る。従って、過酸化脂質の生体内生成を防止する作用乃
至これを低下させる作用を発揮する。よって、上記化合
物は、上記活性酸素種の過剰発生、過酸化脂質の生体内
蓄積、或いはこれらに対する防御機構の欠損に起因する
各種障害乃至疾患の予防及び治療剤として有用である。
より具体的には、本発明薬剤は、虚血、及び血液再開通
に伴う障害から各種組織細胞を保護するような薬剤、例
えばストレス性潰瘍等の消化器性潰瘍に対する治療剤；
心筋梗塞・不整脈等の心臓虚血疾患に対する治療剤；脳
出血・脳梗塞・一過性脳虚血発作等の脳血管疾患に対す
る治療剤；移植・微小循環不全等に依る障害に対する肝
及び腎機能改善剤；又は、虚血以外の原因で異常に発生
した活性酸素に依ると考えられる各種細胞障害を抑制す
る様な薬剤、例えばベーチェット病・皮膚血管炎・潰瘍
性大腸炎・悪性リウマチ・関節炎・動脈硬化・糖尿病等
の治療剤として医薬品分野で有用である。
【００１６】特公昭４６−１５９３５号公報には、下記
の一般式
【００１７】
【化３２】
【００１８】〔式中、Ｒ1 は、水素原子及び１〜５個の
炭素原子を有する直鎖状もしくは分枝状の低級アルキル
基からなる基群から選択された基であり、Ｒ2 は、１〜
５個の炭素原子を有する低級アルキル基、１〜５個の炭
素原子を有する低級アルキルもしくは低級アルコキシ
基、又は１個もしくはそれ以上のハロゲン原子で置換さ
れていてもよいフェニルアルキル基及びフェニル基より
なる基群から選択された基であり、Ａは、水素原子、ハ
ロゲン原子、水酸基、及び１〜５個の炭素原子を有する
低級アルキル基もしくは低級アルコキシ基よりなる基群
から選択された基である。〕で示される化合物が繊維素
溶解（fibrinolysis）、血小板粘性（platelet stickin
ess ）、潰瘍及び免疫学的処理についての価値ある性質
を有し、血栓症、動脈硬化症、胃潰瘍及び分泌過多症の
予防並びに処置に使用できる旨記載されている。
【００１９】ところで、本発明の化合物のうち、下記一
般式（Ａ）
【００２０】
【化３３】
【００２１】〔式中ＲA は水素原子又は水酸基を示す。
Ｒ1A及びＲ2Aはそれぞれメトキシ基又はエトキシ基を示
す。Ｒ3Aは水素原子又は低級アルキル基を示す。ＲA は
フェニル環上の４位又は６位に位置するものとする。但
しＲ1A及びＲ2Aは同時にメトキシ基であってはならな
い。〕で表わされるチアゾール誘導体及びその塩は、上
記先行技術の化合物と、化学構造上類似するものを含む
が、本発明の化合物の開示はない。また、本発明の化合
物は、後記の薬理試験（表１３０及び表１３１）にも示
されるように、最も類似した化合物に比べても活性酸素
放出抑制作用は極めて強い。
【００２２】本発明の化合物のうち、一般式
【００２３】
【化３４】
【００２４】〔式中Ｒ1Bはフェニル環上に置換基として
低級アルコキシ基を１〜３個有することのあるフェニル
基、低級アルキレンジオキシ基を有するフェニル基、オ
キソ基を有することのあるピリジル基、チェニル基、カ
ルボスチリル基、ピラジル基、ピロリル基、オキソ基を
有することのあるキノリル基又は３，４−ジヒドロカル
ボスチリル基を示す。Ｒ2Bは水素原子を示す。Ｒ3Bは基
【００２５】
【化３５】
【００２６】（Ｒ4Bはアルコキシ基、トリ低級アルキル
基置換シリルオキシ基、低級アルキル基、水酸基、低級
アルケニルオキシ基、低級アルキルチオ基、フェニル基
（該フェニル基には、チアゾリル環上に置換基としてフ
ェニル環上に低級アルコキシ基を有することのあるフェ
ニル基を有するチアゾリル基、カルボキシル基及び水酸
基なる群から選ばれた基を置換基として有していてもよ
い）、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスル
ホニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、基−（Ａ）ｌ−Ｎ
Ｒ8 Ｒ9 （式中、Ａは低級アルキレン基又は基−Ｃ（＝
Ｏ）−を示す。ｌは０又は１を示す。Ｒ8 及びＲ9 は同
一又は異なって水素原子、低級アルキル基、低級アルカ
ノイル基、置換基として低級アルキル基を有することの
あるアミノ低級アルキル基又はピペリジニル低級アルキ
ル基を示す。またＲ8 及びＲ9 は、これらが結合する窒
素原子と共に、窒素原子もしくは酸素原子を介し又は介
することなく互いに結合して５〜６員環の飽和又は不飽
和の複素環を形成してもよい。該複素環には置換基とし
て、低級アルカノイル基又は低級アルキル基を有してい
てもよい。）、低級アルカノイル基、低級アルカノイル
オキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、置換基
として水酸基、低級アルコキシカルボニル基、フェニル
低級アルコキシ基、又は低級アルカノイルオキシ基置換
低級アルキル基及び低級アルカノイルオキシ基なる群よ
り選ばれた基を１〜４個有することのあるテトラヒドロ
ピラニルオキシ基、アミジノ基、ヒドロキシスルホニル
オキシ基、低級アルコキシカルボニル置換低級アルコキ
シ基、カルボキシ置換低級アルコキシ基、メルカプト
基、低級アルコキシ置換低級アルコキシ基、水酸基を有
する低級アルキル基、低級アルケニル基、置換基として
低級アルキル基を有することのあるアミノチオカルボニ
ルオキシ基、置換基として低級アルキル基を有すること
のあるアミノカルボニルチオ基、低級アルカノイル置換
低級アルキル基、カルボキシ基、基−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ
21）（ＯＲ22）（式中Ｒ21及びＲ22は、同一又は異なっ
て水素原子又は低級アルキル基を示す。）、フェニル低
級アルコキシカルボニル基、低級アルキニル基、低級ア
ルコキシカルボニル置換低級アルキル基、カルボキシ置
換低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル置換低級
アルケニル基、カルボキシ置換低級アルケニル基、ハロ
ゲン原子を有することのある低級アルキルスルホニルオ
キシ基、低級アルコキシ置換低級アルコキシカルボニル
基、ハロゲン原子を有する低級アルケニル基又はフェニ
ル低級アルコキシ基を示す。ｍは０、１又は２を示
す。）又は、フェニル環上に置換基として、低級アルカ
ノイルオキシ基、ヒドロキシスルホニルオキシ基、シア
ノ基、アミジノ基、ニトロ基、低級アルキルチオ基、低
級アルキルスルホニル基、置換基として水酸基、低級ア
ルコキシカルボニル基、フェニル低級アルコキシ基、水
酸基及び／又は低級アルカノイルオキシ基置換低級アル
キル基及び低級アルカノイルオキシ基なる群より選ばれ
た基を１〜４個有することのあるテトラヒドロピラニル
オキシ基、フェニル基（該フェニル基には、チアゾリル
環上に置換基としてフェニル環上に低級アルコキシ基を
有することのあるフェニル基を有するチアゾリル基、カ
ルボキシル基及び水酸基なる群から選ばれた基を置換基
として有していてもよい）、水酸基を有する低級アルキ
ル基及び基−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ21）（ＯＲ22）（式中Ｒ
21及びＲ22は前記に同じ）なる群より選ばれた基を１〜
３個有するフェニル基、低級アルキレンジオキシ基を有
するフェニル基、低級アルキル基、低級アルコキシカル
ボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、
カルバモイル低級アルキル基、置換基としてオキソ基又
は／及び水酸基を有することのある２，３−ジヒドロイ
ンデニル基、フェニル環上に置換基として低級アルコキ
シ基を有することのある又低級アルキル基上に置換基と
して水酸基を有することのあるフェニル低級アルキル
基、フェニル環上に置換基として低級アルコキシ基を有
することのあるベンゾイル基、フェニル環上に置換基と
して低級アルコキシ基を有することのあるフェニル低級
アルケニル基、ピペラジン環上に置換基として低級アル
キル基を有することのあるピペラジニル低級アルキル基
又はアダマンチル基を示す。但しＲ4Bが低級アルコキシ
カルボニル基置換低級アルキル基又はカルボキシ置換低
級アルキル基を示す場合、ｍは２を示すものとする。〕
で表わされるチアゾール誘導体及びその塩及び一般式
【００２７】
【化３６】
【００２８】〔式中Ｒ1Cはフェニル環上に置換基として
低級アルコキシ基を１〜３個有することのあるフェニル
基を示す。Ｒ2Cは水素原子を示す。Ｒ3Cは、基
【００２９】
【化３７】
【００３０】（式中Ｒ4Cは水素原子、低級アルキル基、
フェニル低級アルキル基又は低級アルコキシ置換低級ア
ルキル基を示す。Ｒ5Cはアミノ基、低級アルコキシ基置
換低級アルコキシ基、低級アルキル基、ニトロ基、低級
アルケニル基、低級アルカノイル基、ハロゲン原子を有
する低級アルケニル基、フェニル低級アルコキシ基、ハ
ロゲン原子又は水酸基置換低級アルキル基を示す。ｎは
２を示す。）を示す。〕で表わされるチアゾール誘導体
及びその塩、一般式
【００３１】
【化３８】
【００３２】〔式中Ｒ1Dはフェニル環上に置換基として
低級アルコキシ基を１〜３個有することのあるフェニル
基を示す。Ｒ2Dは、水素原子を示す。Ｒ3Dは、基
【００３３】
【化３９】
【００３４】（式中Ｒ4Dは水素原子又は低級アルキル基
を示す。Ｒ5Dは、アミノ基、低級アルコキシカルボニル
低級アルコキシ基、ニトロ基、低級アルケニルオキシ
基、低級アルコキシ置換低級アルコキシ基、メルカプト
基、低級アルカノイルオキシ基、置換基として低級アル
キル基を有することのあるアミノカルボニルチオ基、置
換基として低級アルキル基を有することのあるアミノチ
オカルボニルオキシ基、カルボキシ置換低級アルコキシ
基又はハロゲン原子を有することのある低級アルキルス
ルホニルオキシ基を示す。）を示す。〕で表わされるチ
アゾール誘導体及びその塩、一般式
【００３５】
【化４０】
【００３６】〔式中Ｒ1 は前記に同じ。Ｒ2Eは水素原子
を示す。Ｒ3Eは窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を１〜
２個有する５〜１５員環の単環、二項環又は三項環の複
素環残基（該複素環には置換基として、オキソ基、アル
キル基、ベンゾイル基、低級アルカノイル基、水酸基、
カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、低級アル
キルチオ基、基−Ａ−ＮＲ23Ｒ24（式中Ａは前記に同
じ。Ｒ23及びＲ24は、同一又は異なって水素原子又は低
級アルキル基を示す。またＲ23及びＲ24は、これらが結
合する窒素原子と共に、窒素原子もしくは酸素原子を介
し又は介することなく互いに結合して５〜６員環の飽和
の複素環を形成してもよい。該複素環上には低級アルキ
ル基が置換していてもよい。）、シアノ基、水酸基を有
する低級アルキル基、フェニルアミノチオカルボニル基
及び置換基として低級アルキル基を有することのあるア
ミノ低級アルコキシカルボニル基なる群より選ばれた基
を１〜３個有していてもよい。）を示す。〕で表わされ
るチアゾール誘導体及びその塩、及び一般式
【００３７】
【化４１】
【００３８】〔式中Ｒ1 は前記に同じ。Ｒ2Fは水素原子
を示す。Ｒ3Fは基
【００３９】
【化４２】
【００４０】（式中Ａ、ｌ及びｍは前記に同じ。Ｒ8F及
びＲ9Fは、同一又は異なって低級アルカノイル基、置換
基として低級アルキル基を有することのあるアミノ低級
アルキル基又はピペリジニル低級アルキル基を示す。ま
たＲ8F及びＲ9Fは、これらが結合する窒素原子と共に、
窒素原子もしくは酸素原子を介し又は介することなく互
いに結合して５〜６員の飽和又は不飽和の複素環を形成
してもよい。該複素環には置換基として低級アルカノイ
ル基又は低級アルキル基を有していてもよい。Ｒ4Fは水
酸基以外の前記Ｒ4Bと同一の基を示す。〕で表わされる
チアゾール誘導体及びその塩は好ましい化合物である。
【００４１】本明細書において示される各基は、より具
体的にはそれぞれ次の通りである。
【００４２】アルコキシ基としては、例えば、メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、tert−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキ
シ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、
デシルオキシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオキシ、ト
リデシルオキシ、テトラデシルオキシ、ペンタデシルオ
キシ、ヘキサデシルオキシ、ヘプタデシルオキシ、オク
タデシルオキシ基等の炭素数１〜１８の直鎖又は分枝鎖
状アルコキシ基を例示できる。
【００４３】低級アルキル基としては、例えばメチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、tert−ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル基等の炭素数１〜６の直鎖又は
分枝鎖状アルキル基を挙げることができる。
【００４４】低級アルキルチオ基としては、例えば、メ
チルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチ
オ、ブチルチオ、tert−ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘ
キシルチオ基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アル
キルチオ基を例示できる。
【００４５】低級アルキルスルホニル基としては、例え
ばメチルスルホニル、エチルスルホニル、イソプロピル
スルホニル、ブチルスルホニル、tert−ブチルスルホニ
ル、ペンチルスルホニル、ヘキシルスルホニル基等の炭
素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキルスルホニル基を
例示できる。
【００４６】ハロゲン原子としては、例えば弗素原子、
塩素原子、臭素原子及び沃素原子が挙げられる。
【００４７】低級アルカノイル基としては、例えばホル
ミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリ
ル、ペンタノイル、tert−ブチルカルボニル、ヘキサノ
イル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイ
ル基が挙げられる。
【００４８】低級アルコキシカルボニル基としては、例
えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポ
キシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシ
カルボニル、tert−ブトキシカルボニル、ペンチルオキ
シカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数
１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシカルボニル基を例
示できる。
【００４９】低級アルキレンジオキシ基としては、メチ
レンジオキシ、エチレンジオキシ、トリメチレンジオキ
シ、テトラメチレンジオキシ基等の炭素数１〜４の直鎖
又は分枝鎖状のアルキレンジオキシ基が挙げられる。
【００５０】アルキル基としては、前記低級アルキル基
に加えて、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウン
デシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタ
デシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル基
等の炭素数１〜１８の直鎖又は分枝鎖状アルキル基が挙
げられる。
【００５１】低級アルコキシカルボニル低級アルキル基
としては、例えばメトキシカルボニルメチル、３−メト
キシカルボニルプロピル、エトキシカルボニルメチル、
４−エトキシカルボニルブチル、６−プロポキシカルボ
ニルヘキシル、５−イソプロポキシカルボニルペンチ
ル、１，１−ジメチル−２−ブトキシカルボニルエチ
ル、２−メチル−３−tert−ブトキシカルボニルプロピ
ル、２−ペンチルオキシカルボニルエチル、ヘキシルオ
キシカルボニルメチル基等のアルキル部分が炭素数１〜
６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基である炭素数１〜６の
直鎖又は分枝鎖状アルコキシカルボニルアルキル基を挙
げることができる。
【００５２】カルバモイル低級アルキル基としては、例
えばカルバモイルメチル、２−カルバモイルエチル、１
−カルバモイルエチル、３−カルバモイルプロピル、４
−カルバモイルブチル、５−カルバモイルペンチル、６
−カルバモイルヘキシル、１，１−ジメチル−２−カル
バモイルエチル、２−メチル−３−カルバモイルプロピ
ル基等のアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖
状アルキル基であるカルバモイルアルキル基を挙げるこ
とができる。
【００５３】置換基としてオキソ基又は／及び水酸基を
有することのある２，３−ジヒドロインデニル基として
は、１−オキソ−７−ヒドロキシ−２，３−ジヒドロイ
ンデニル、１−オキソ−６−ヒドロキシ−２，３−ジヒ
ドロインデニル、１−オキソ−５−ヒドロキシ−２，３
−ジヒドロインデニル、１−オキソ−４−ヒドロキシ−
２，３−ジヒドロインデニル、１−オキソ−２，３−ジ
ヒドロインデニル、２−オキソ−２，３−ジヒドロイン
デニル、２−オキソ−７−ヒドロキシ−２，３−ジヒド
ロインデニル基等の置換基としてオキソ基又は／及び水
酸基を有することのある２，３−ジヒドロインデニル基
を例示できる。
【００５４】フェニル環上に置換基として、アルコキシ
基、トリ低級アルキル基置換シリルオキシ基、低級アル
キル基、水酸基、低級アルケニルオキシ基、低級アルキ
ルチオ基、フェニル基、低級アルキルスルホニル基、低
級アルキルスルフィニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、
基−（Ａ）ｌ−ＮＲ8 Ｒ9 （式中Ａ、ｌ、Ｒ8 及びＲ9
は前記に同じ）、低級アルカノイル基、低級アルカノイ
ルオキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、置換
基として水酸基、低級アルコキシカルボニル基、フェニ
ル低級アルコキシ基、水酸基及び／又は低級アルカノイ
ルオキシ基置換低級アルキル基及び低級アルカノイルオ
キシ基なる群より選ばれた基を１〜４個有することのあ
るテトラヒドロピラニルオキシ基、アミジノ基、ヒドロ
キシスルホニルオキシ基、低級アルコキシカルボニル置
換低級アルコキシ基、カルボキシ置換低級アルコキシ
基、メルカプト基、低級アルコキシ置換低級アルコキシ
基、水酸基を有する低級アルキル基、低級アルケニル
基、置換基として低級アルキル基を有することのあるア
ミノチオカルボニルオキシ基、置換基として低級アルキ
ル基を有することのあるアミノカルボニルチオ基、低級
アルカノイル置換低級アルキル基、カルボキシ基、基−
ＰＯ（ＯＲ21）（ＯＲ22）（式中Ｒ21及びＲ22は、同一
又は異なって水素原子又は低級アルキル基を示す。）、
フェニル低級アルコキシカルボニル基、低級アルキニル
基、低級アルコキシカルボニル置換低級アルキル基、カ
ルボキシ置換低級アルキル基、低級アルコキシカルボニ
ル置換低級アルケニル基、カルボキシ置換低級アルケニ
ル基、ハロゲン原子を有することのある低級アルキルス
ルホニルオキシ基、低級アルコキシ置換低級アルコキシ
カルボニル基、ハロゲン原子を有する低級アルケニル基
及びフェニル低級アルコキシ基なる群より選ばれた基を
１〜５個有することのあるフェニル基、又は低級アルキ
レンジオキシ基を有するフェニル基としては、例えばフ
ェニル、２−メトキシフェニル、３−メトキシフェニ
ル、４−メトキシフェニル、２−エトキシフェニル、３
−エトキシフェニル、４−エトキシフェニル、４−イソ
プロポキシフェニル、３−ブトキシフェニル、４−ペン
チルオキシフェニル、４−ヘキシルオキシフェニル、
３，４−ジメトキシフェニル、３−エトキシ−４−メト
キシフェニル、２，３−ジメトキシフェニル、３，４−
ジエトキシフェニル、３，５−ジメトキシフェニル、
２，５−ジメトキシフェニル、２，６−ジメトキシフェ
ニル、３，４，５−トリメトキシフェニル、３，４−ジ
ペンチルオキシフェニル、２−メチルフェニル、３−メ
チルフェニル、４−メチルフェニル、２−エチルフェニ
ル、３−エチルフェニル、４−エチルフェニル、３−ブ
チルフェニル、４−イソプロピルフェニル、４−ペンチ
ルフェニル、４−ヘキシルフェニル、３，４−ジメチル
フェニル、３，４−ジエチルフェニル、２，５−ジメチ
ルフェニル、２，６−ジメチルフェニル、３，４，５−
トリメチルフェニル、２−ヒドロキシフェニル、３−ヒ
ドロキシフェニル、４−ヒドロキシフェニル、３，４−
ジヒドロキシフェニル、３，５−ジヒドロキシフェニ
ル、２，５−ジヒドロキシフェニル、２，４−ジヒドロ
キシフェニル、２，６−ジヒドロキシフェニル、３，
４，５−トリヒドロキシフェニル、２−メチルチオフェ
ニル、３−メチルチオフェニル、４−メチルチオフェニ
ル、２−エチルチオフェニル、３−エチルチオフェニ
ル、４−エチルチオフェニル、４−イソプロピルチオフ
ェニル、４−ペンチルチオフェニル、４−ヘキシルチオ
フェニル、３，４−ジメチルチオフェニル、３，４−ジ
エチルチオフェニル、２，５−ジメチルチオフェニル、
２，６−ジメチルチオフェニル、３，４，５−トリメチ
ルチオフェニル、２−フェニルフェニル、３−フェニル
フェニル、４−フェニルフェニル、２−メチルスルホニ
ルフェニル、３−メチルスルホニルフェニル、４−メチ
ルスルホニルフェニル、２−エチルスルホニルフェニ
ル、４−イソプロピルスルホニルフェニル、４−ペンチ
ルスルホニルフェニル、４−ヘキシルスルホニルフェニ
ル、３，４−ジメチルスルホニルフェニル、３，４−ジ
エチルスルホニルフェニル、２，５−ジメチルスルホニ
ルフェニル、２，６−ジメチルスルホニルフェニル、
３，４，５−トリメチルスルホニルフェニル、２−クロ
ロフェニル、３−クロロフェニル、４−クロロフェニ
ル、２−フルオロフェニル、３−フルオロフェニル、４
−フルオロフェニル、２−ブロモフェニル、３−ブロモ
フェニル、４−ブロモフェニル、２−ヨードフェニル、
３−ヨードフェニル、４−ヨードフェニル、３，４−ジ
クロロフェニル、３，５−ジクロロフェニル、２，６−
ジクロロフェニル、２，３−ジクロロフェニル、２，４
−ジクロロフェニル、３，４−ジフルオロフェニル、
３，５−ジブロモフェニル、３，４，５−トリクロロフ
ェニル、２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ
ル、２−ニトロフェニル、３−ニトロフェニル、４−ニ
トロフェニル、３，４−ジニトロフェニル、２，５−ジ
ニトロフェニル、２，６−ジニトロフェニル、３，４，
５−トリニトロフェニル、２−アミノフェニル、３−ア
ミノフェニル、４−アミノフェニル、２−メチルアミノ
フェニル、３−エチルアミノフェニル、４−プロピルア
ミノフェニル、２−イソプロピルアミノフェニル、３−
ブチルアミノフェニル、４−ペンチルアミノフェニル、
２−ヘキシルアミノフェニル、４−ジメチルアミノフェ
ニル、３−（Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ）フェニ
ル、３−ジヘキシルアミノフェニル、２−（Ｎ−メチル
−Ｎ−アセチルアミノ）フェニル、４−（Ｎ−アセチル
アミノ）フェニル、３−（Ｎ−アセチルアミノ）フェニ
ル、４−（Ｎ−ホルミルアミノ）フェニル、４−（Ｎ−
イソブチリルアミノ）フェニル、２−（Ｎ−ペンタノイ
ルアミノ）フェニル、３，４−ジ（Ｎ−アセチルアミ
ノ）フェニル、３，４−ジアミノフェニル、３，４，５
−トリアミノフェニル、２，６−ジアミノフェニル、
２，５−ジアミノフェニル、２−カルバモイルフェニ
ル、３−カルバモイルフェニル、４−カルバモイルフェ
ニル、２−アセチルフェニル、３−アセチルフェニル、
４−アセチルフェニル、２−ホルミルフェニル、３−プ
ロピオニルフェニル、４−イソブチリルフェニル、２−
ペンタノイルフェニル、３−ヘキサノイルフェニル、
３，４−ジアセチルフェニル、２，５−ジアセチルフェ
ニル、３，４，５−トリアセチルフェニル、２−メトキ
シカルボニルフェニル、２−エトキシカルボニルフェニ
ル、３−エトキシカルボニルフェニル、４−エトキシカ
ルボニルフェニル、３−プロポキシカルボニルフェニ
ル、４−ブトキシカルボニルフェニル、４−ペンチルオ
キシカルボニルフェニル、４−ヘキシルオキシカルボニ
ルフェニル、３，４−ジエトキシカルボニルフェニル、
２，５−ジエトキシカルボニルフェニル、２，６−ジエ
トキシカルボニルフェニル、３，４，５−トリエトキシ
カルボニルフェニル、２−カルボキシフェニル、３−カ
ルボキシフェニル、４−カルボキシフェニル、３，４−
ジカルボキシフェニル、２，５−ジカルボキシフェニ
ル、２，６−ジカルボキシフェニル、３，４，５−トリ
カルボキシフェニル、３，４−メチレンジオキシフェニ
ル、３，４−エチレンジオキシフェニル、２，３−トリ
メチレンジオキシフェニル、３，４−テトラメチレンジ
オキシフェニル、３，５−ジ−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル、３−ヒドロキシ−４−ペンチルオキシ
フェニル、２−ヒドロキシ−５−tert−ブチルフェニ
ル、３，５−ジクロロ−４−アミノフェニル、３−（Ｎ
−アセチルアミノ）−４−ヒドロキシフェニル、３−ア
ミノ−４−ヒドロキシフェニル、３−（Ｎ−メチル−Ｎ
−アセチルアミノ）−４−メトキシフェニル、３−ニト
ロ−４−（Ｎ−アセチルアミノ）フェニル、３−ニトロ
−４−クロロフェニル、３−クロロ−４−メチルフェニ
ル、３−メトキシ−４−ヒドロキシフェニル、３−ヒド
ロキシ−４−メトキシフェニル、３−メトキシ−４−ヒ
ドロキシ−５−ヨードフェニル、３，４−ジメトキシ−
５−ブロモフェニル、３，５−ジヨード−４−ヒドロキ
シフェニル、４−（ジメチル，tert−ブチルシリルオキ
シ）フェニル、３−（トリ−tert−ブチルシリルオキ
シ）フェニル、２−（トリメチルシリルオキシ）フェニ
ル、３−アミノ−４−（ジメチル，tert−ブチルシリル
オキシ）フェニル、４−アリルオキシフェニル、２−ビ
ニルオキシフェニル、３−（２−ブテニルオキシ）フェ
ニル、２−（３−ブテニルオキシ）フェニル、３−（１
−メチルアリルオキシ）フェニル、４−（２−ペンテニ
ルオキシ）フェニル、２−（２−ヘキセニルオキシ）フ
ェニル、３−メチル−４−アリルオキシフェニル、３−
メトキシ−４−オクタデシルオキシフェニル、４−ジメ
チルアミドフェニル、２−メチルアミドフェニル、３−
エチルアミドフェニル、４−プロピルアミドフェニル、
２−イソプロピルアミドフェニル、３−ブチルアミドフ
ェニル、４−ペンチルアミドフェニル、２−ヘキシルア
ミドフェニル、３−ジエチルアミドフェニル、４−（Ｎ
−メチル−Ｎ−プロピルアミド）フェニル、２−メチル
スルフィニルフェニル、３−メチルスルフィニルフェニ
ル、４−メチルスルフィニルフェニル、２−エチルスル
フィニルフェニル、３−エチルスルフィニルフェニル、
４−エチルスルフィニルフェニル、４−イソプロピルス
ルフィニルフェニル、４−ペンチルスルフィニルフェニ
ル、４−ヘキシルスルフィニルフェニル、３，４−ジメ
チルスルフィニルフェニル、３，４−ジエチルスルフィ
ニルフェニル、２，５−ジメチルスルフィニルフェニ
ル、２，６−ジメチルスルフィニルフェニル、３，４，
５−トリメチルスルフィニルフェニル、３−メトキシ−
４−メチルスルフィニルフェニル、２−アセチルオキシ
フェニル、３−アセチルオキシフェニル、４−アセチル
オキシフェニル、２−ホルミルオキシフェニル、３−プ
ロピオニルオキシフェニル、４−イソブチリルオキシフ
ェニル、２−ペンタノイルオキシフェニル、３−ヘキサ
ノイルオキシフェニル、３，４−ジアセチルオキシフェ
ニル、２，５−ジアセチルオキシフェニル、３，４，５
−トリアセチルオキシフェニル３，５−ビス（アセチル
アミノ）フェニル、２−アミジノフェニル、４−アミジ
ノフェニル、３−アミジノフェニル、４−（４−メチル
−１−ピペラジニル）−３−ニトロフェニル、４−ヒド
ロキシスルホニルオキシフェニル、３−ヒドロキシスル
ホニルオキシフェニル、２−ヒドロキシスルホニルオキ
シフェニル、４−ヒドロキシ−３−アセチルアミノフェ
ニル、４−（２，３，４，６−テトラ−ｏ−アセチル−
β−Ｄ−グルコピラノシルオキシ）フェニル、４−（β
−Ｄ−グルコピラノシルオキシ）フェニル、４−（２，
３，４，６−テトラ−ｏ−ベンジル−β−Ｄ−グルコピ
ラノシルオキシ）フェニル、３，５−ビス（ジメチルア
ミノ）フェニル、４−クロロ−３−ニトロフェニル、４
−（４−メチル−１−ピペラジニル）−３−ニトロフェ
ニル、４−シアノフェニル、３−アセチルアミノ−４−
（４−メチル−１−ピペラジニル）フェニル、３−ニト
ロ−４−モルホリノフェニル、４−（１−ピペラジニ
ル）−３−ニトロフェニル、４−（１−ピロリジニル）
−３−ニトロフェニル、４−ヒドロキシ−３−カルボキ
シフェニル、４−モルホリノ−３−アミノフェニル、４
−ヒドロキシ−３−アミノフェニル、４−ヒドロキシ−
３−（２−ジメチルアミノエチルアミノ）フェニル、４
−メトキシ−３−（４−アセチル−１−ピペラジニル）
フェニル、４−メトキシ−３−（１−ピペラジニル）フ
ェニル、４−メトキシ−３−（４−メチル−１−ピペラ
ジニル）フェニル、４−メトキシ−３−（４−エチル−
１−ピペラジニル）フェニル、４−ヒドロキシ−３−ア
ミノフェニル、４−ヒドロキシ−３−〔（４−メチル−
１−ピペラジニル）メチル〕フェニル、４−メトキシ−
３−〔（１−ピロリジニル）メチル〕フェニル、３，５
−ジアセチルオキシフェニル、３−メトキシ−５−メト
キシカルボニルフェニル、３−メトキシ−５−カルボキ
シフェニル、３−メトキシ−５−〔（４−メチル−１−
ピペラジニル）カルボニル〕フェニル、３−メトキシ−
５−〔（１−ピロリジニル）カルボニル〕フェニル、３
−メトキシ−５−〔（４−メチル−１−ピペラジニル）
メチル〕フェニル、３−アミノ−４−カルボキシフェニ
ル、３−カルバモイル−４−ヒドロキシフェニル、４−
ヒドロキシ−３−ジメチルアミドフェニル、３−メトキ
シカルボニル−４−メトキシカルボニルメトキシフェニ
ル、４−アリルオキシ−３−メトキシカルボニルフェニ
ル、３−カルボキシ−４−カルボキシメトキシフェニ
ル、４−ヒドロキシ−４−アリル−３−メトキシカルボ
ニルフェニル、３−カルボキシ−４−アリルオキシフェ
ニル、４−ヒドロキシ−３−カルボキシ−５−アリルフ
ェニル、４−メルカプト−３−カルボキシフェニル、５
−ニトロ−４−ヒドロキシ−３−メトキシカルボニルフ
ェニル、５−ニトロ−３−メトキシカルボニルフェニ
ル、３−メトキシカルボニル−４−メトキシメトキシフ
ェニル、３−メトキシカルボニル−５−アミノフェニ
ル、３−カルボキシ−５−アミノフェニル、５−メトキ
シカルボニル−３−ブロモ−２−アミノフェニル、２−
シアノフェニル、４−シアノフェニル、３−シアノフェ
ニル、３−メトキシカルボニル−４−ヒドロキシフェニ
ル、３−カルボキシ−４−ヒドロキシ−５−（１，１−
ジメチル−２−プロペニル）フェニル、２−ヒドロキシ
−３−カルボキシフェニル、３−カルボキシ−４−ヒド
ロキシ−５−（２−イソプロペニル）フェニル、３−カ
ルボキシ−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル、３−
メトキシカルボニル−４−メトキシフェニル、３−メト
キシカルボニル−４−ヒドロキシ−５−アミノフェニ
ル、３−カルボキシ−４−ヒドロキシ−５−プロピルフ
ェニル、３−カルボキシ−４−ヒドロキシ−５−アミノ
フェニル、３−カルボキシ−４−ヒドロキシ−５−クロ
ロフェニル、３−カルボキシ−６−ヒドロキシフェニ
ル、４−エトキシフェニル、３，４−ジブトキシフェニ
ル、３，４−ジプロポキシフェニル、３−メトキシ−４
−エトキシフェニル、３−プロポキシ−４−メトキシフ
ェニル、３−エトキシ−４−メトキシフェニル、３，４
−ジデシルオキシフェニル、２，４−ジエトキシフェニ
ル、３−エトキシ−４−プロポキシフェニル、３−カル
ボキシ−４−ヒドロキシ−５−イソブチルフェニル、３
−カルボキシ−４−アセチルアミノフェニル、３−カル
ボキシ−４−ヒドロキシ−５−（２−ヒドロキシエチ
ル）フェニル、３−カルボキシ−４−アミノ−６−ヒド
ロキシフェニル、３−カルボキシ−４−ヒドロキシ−５
−（２，３−ジヒドロキシプロピル）フェニル、３−カ
ルボキシ−４−アミノフェニル、３−カルボキシ−４−
アセチルオキシフェニル、３−エチル−４−ヒドロキシ
フェニル、３−カルボキシ−５−ヒドロキシフェニル、
４−カルボキシ−３，５−ジヒドロキシフェニル、３−
カルボキシ−４，６−ジヒドロキシフェニル、５−メト
キシカルボニル−３−アミノ−２−ヒドロキシフェニ
ル、２−アリルオキシ−５−メトキシカルボニルフェニ
ル、３−カルボキシ−６−メトキシフェニル、３−メト
キシカルボニル−６−ヒドロキシフェニル、３−カルボ
ニル−６−アリルオキシフェニル、３−カルボキシ−５
−ニトロ−６−ヒドロキシフェニル、３−カルボキシ−
５−アリル−６−ヒドロキシフェニル、３−カルボキシ
−６−ヒドロキシフェニル、３−カルボキシ−５−アミ
ノ−６−ヒドロキシフェニル、３−メトキシカルボニル
−４−ジメチルアミノチオカルボニルオキシフェニル、
３−メトキシカルボニル−４−ジメチルアミノカルボニ
ルチオフェニル、３−メトキシカルボニル−４−ヒドロ
キシ−５−（２，３−ジヒドロキシプロピル）フェニ
ル、３−メトキシカルボニル−４−ヒドロキシ−５−ホ
ルミルメチルフェニル、３−メトキシカルボニル−４−
ヒドロキシ−５−（２−ヒドロキシエチル）フェニル、
３−エトキシカルボニル−４−アセチルアミノフェニ
ル、３−メトキシカルボニル−５−ヒドロキシフェニ
ル、３−メトキシカルボニル−４−アセチルアミノ−６
−ヒドロキシフェニル、３−メトキシカルボニル−６−
メトキシフェニル、４−プロポキシ−３−エトキシフェ
ニル、３−メトキシカルボニル−５−アリル−６−ヒド
ロキシフェニル、３−メトキシカルボニル−４−（２−
ブテニルオキシ）フェニル、３−メトキシカルボニル−
４−ヒドロキシ−５−（１−メチル−２−プロペニル）
フェニル、３−メトキシカルボニル−４−（２−イソペ
ンテニルオキシ）フェニル、３−メトキシカルボニル−
４−ヒドロキシ−５−（１，１−ジメチル−２−プロペ
ニル）フェニル、３−メトキシカルボニル−４−（２−
メチル−２−プロペニルオキシ）フェニル、３−メトキ
シカルボニル−４−ヒドロキシ−５−（２−メチル−２
−プロペニル）フェニル、５−クロロ−４−ヒドロキシ
−３−メトキシカルボニルフェニル、３−メトキシカル
ボニル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル、３，５
−ジニトロ−４−ヒドロキシフェニル、４−ヒドロキシ
−３−ノニルオキシカルボニルフェニル、４−ヒドロキ
シ−３−ベンジルオキシカルボニルフェニル、４−ヒド
ロキシ−３−（２−メチル−２−プロペニル）−５−ベ
ンジルオキシカルボニルフェニル、４−ヒドロキシ−３
−（２−メチル−２−プロペニル）−５−ノニルオキシ
カルボニルフェニル、４−（Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）2 ）−
フェニル、４−（Ｐ（＝Ｏ）（ＯＣ2 Ｈ5 ）2 ）−フェ
ニル、４−〔２−（１−ピペリジニル）エチルアミノ〕
−３−カルボキシフェニル、４−メトキシ−３−カルボ
キシフェニル、２−メチル−４−ヒドロキシ−５−カル
ボキシフェニル、３−エチル−４−ヒドロキシ−３−カ
ルボキシフェニル、３−（４−エチル−１−ピペラジニ
ル）−４−ヒドロキシフェニル、４−（２−ヒドロキシ
−３−カルボキシフェニル）フェニル、４−〔２−
（３，４−ジエトキシフェニル）−４−チアゾリル〕−
３−ヒドロキシ−２−カルボキシフェニル、４−ヒドロ
キシ−３−ヒドロキシメチルフェニル、４−エトキシ−
３−カルボキシフェニル、４−ｎ−ブトキシ−３−ｎ−
ブトキシカルボニルフェニル、４−ｎ−ブトキシ−３−
カルボキシフェニル、３−アセチルメチル−４−ヒドロ
キシ−３−カルボキシフェニル、３−ｎ−ブチル−４−
ヒドロキシ−３−カルボキシフェニル、３−アリル−４
−ヒドロキシ−３−カルボキシフェニル、３−ヒドロキ
シメチル−４−ヒドロキシ−３−カルボキシフェニル、
３−ホルミル−４−ヒドロキシ−５−カルボキシフェニ
ル、５−（２−カルボキシエチル）−４−ヒドロキシ−
３−カルボキシフェニル、５−（２−メトキシカルボニ
ルエチル）−４−ヒドロキシ−３−カルボキシフェニ
ル、５−メチルアミノメチル−４−ヒドロキシ−３−カ
ルボキシフェニル、５−（２−カルボキシビニル）−４
−ヒドロキシ−３−カルボキシフェニル、５−（２−メ
トキシカルボニルビニル）−４−ヒドロキシ−３−カル
ボキシフェニル、５−アセチル−４−ヒドロキシ−３−
カルボキシフェニル、５−フェニル−４−ヒドロキシ−
３−カルボキシフェニル、５−ブロモ−４−ヒドロキシ
−３−カルボキシフェニル、５−シアノ−４−ヒドロキ
シ−３−カルボキシフェニル、４，５−ジヒドロキシ−
３−カルボキシフェニル、５−メトキシ−４−ヒドロキ
シ−３−カルボキシフェニル、５−エチルアミノ−４−
ヒドロキシ−３−カルボキシフェニル、５−アセチルア
ミノ−４−ヒドロキシ−３−カルボキシフェニル、３，
５−ジカルボキシ−４−ヒドロキシフェニル、４−メト
キシ−３−カルボキシフェニル、４−エトキシ−３−カ
ルボキシフェニル、４−ｎ−ブトキシ−３−カルボキシ
フェニル、４−ジメチルアミノ−３−ヒドロキシフェニ
ル、４−ジメチルアミノ−３−ヒドロキシメチルフェニ
ル、４−ジメチルアミノ−３−メトキシカルボニルフェ
ニル、４−トリフルオロメチルスルホニルオキシ−３−
メトキシカルボニルフェニル、３−メトキシメトキシカ
ルボニル−４−メトキシメトキシ−５−（１−プロペニ
ル）フェニル、３−メトキシメトキシカルボニル−４−
メトキシメトキシ−５−ホルミルフェニル、３−メトキ
シメトキシカルボニル−４−メトキシメトキシ−５−ア
セチルメチルフェニル、５−（２−メチル−２−プロペ
ニル）−４−メトキシメトキシ−３−メトキシメトキシ
カルボニルフェニル、４−tert−ブチルジメチルシリル
オキシ−３−メトキシカルボニルフェニル、４−tert−
ブチルジメチルシリルオキシ−３−ヒドロキシメチルカ
ルボニルフェニル基等のフェニル環上に置換基として炭
素数１〜１８の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基、炭素数
１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基が３個置換したシ
リルオキシ基、炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキ
ル基、水酸基、炭素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状アルケ
ニルオキシ基、炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキ
ルチオ基、フェニル基、炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖
状アルキルスルホニル基、炭素数１〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルキルスルフィニル基、ハロゲン原子、ニトロ
基、基−（Ａ）ｌ−ＮＲ8 Ｒ9 （式中Ａは炭素数１〜６
の直鎖又は分枝鎖状アルキレン基又は基−Ｃ（＝Ｏ）−
を示す。ｌは０又は１を示す。Ｒ8 及びＲ9 は同一又は
異なって水素原子、炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状ア
ルキル基、炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイ
ル基又は置換基として炭素数１〜６の直鎖又は分子鎖状
アルキル基を１〜２個有することのあるアミノ基を有す
る炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を示す。
またＲ8 及びＲ9 は、これらが結合する窒素原子と共
に、窒素原子もしくは酸素原子を介し又は介することな
く互いに結合して５〜６員環の飽和又は不飽和の複素環
を形成してもよい。該複素環には置換基として、炭素数
１〜６の直鎖又は分子鎖状アルカノイル基又は炭素数１
〜６の直鎖又は分子鎖状アルキル基が置換していてもよ
い。炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイル基、
炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイルオキシ
基、炭素数１〜１８の直鎖又は分枝鎖状アルコキシカル
ボニル基、シアノ基、置換基として水酸基、炭素数１〜
６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシカルボニル基、アルコ
キシ部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ
基であるフェニルアルコキシ基、水酸基及び／又は炭素
数２〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイルオキシ基を１
〜３個有する炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル
基及び炭素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイルオ
キシ基なる群より選ばれた基を１〜４個有することのあ
るテトラヒドロピラニルオキシ基、アミジノ基、ヒドロ
キシスルホニルオキシ基、アルコキシ部分が炭素数１〜
６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基である炭素数１〜６
の直鎖又は分子鎖状アルコキシカルボニルアルコキシ
基、アルコキシ部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状
アルコキシ基であるカルボキシアルコキシ基、メルカプ
ト基、アルコキシ部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖
状アルコキシ基であるアルコキシアルコキシ基、水酸基
を１〜３個有する炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アル
キル基、炭素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状アルケニル
基、置換基として炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アル
キル基を１〜２個有することのあるアミノ基を有するチ
オカルボニルオキシ基、置換基として炭素数１〜６の直
鎖又は分子鎖状アルキル基を１〜２個有することのある
アミノ基を有するカルボニルチオ基、炭素数１〜６の直
鎖又は分枝鎖状アルカノイル基を１〜３個有する炭素数
１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基、カルボキシ基、
基−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ21）（ＯＲ22）（式中Ｒ21及びＲ
22は、同一又は異なって水素原子又は炭素数１〜６の直
鎖又は分枝鎖状アルキル基を示す）、アルコキシ部分が
炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基であるフ
ェニルアルコキシ基、炭素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状
アルキニル基、アルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は
分枝鎖状アルキル基である炭素数１〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルコキシカルボニルアルキル基、アルキル部分が
炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるカル
ボキシアルキル基、アルケニル部分が炭素数２〜６の直
鎖又は分枝鎖状アルケニル基である炭素数１〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルコキシカルボニルアルケニル基、アル
ケニル部分が炭素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状アルケニ
ル基であるカルボキシアルケニル基、ハロゲン原子を１
〜３個有することのある炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖
状アルキルスルホニルオキシ基、アルコキシ部分が炭素
数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基であるアルコ
キシアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子を１〜３個
有する炭素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状アルケニル基及
びアルコキシ部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状ア
ルコキシ基であるフェニルアルコキシ基なる群より選ば
れた基を１〜５個有することのあるフェニル基或いは炭
素数１〜４の直鎖又は分枝鎖状のアルキレンジオキシ基
を有するフェニル基を例示できる。
【００５５】窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を１〜２
個有する５〜１５員環の単環、二項環又は三項環の複素
環残基としては、例えばピロリジニル、ピペリジニル、
ピペラジニル、モルホリノ、ピリジル、１，２，５，６
−テトラヒドロピリジル、チエニル、キノリル、１，４
−ジヒドロキノリル、ベンゾチアゾリル、ピラジル、ピ
リミジル、ピリダジル、ピロリル、カルボスチリル、
３，４−ジヒドロカルボスチリル、１，２，３，４−テ
トラヒドロキノリル、インドリル、イソインドリル、イ
ンドリニル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾオキサゾリ
ル、イミダゾリジニル、イソキノリル、キナゾリジニ
ル、キノキサリニル、シンノリニル、フタラジニル、カ
ルバゾリル、アクリジニル、クロマニル、イソインドリ
ニル、イソクロマニル、ピラゾリル、イミダゾリル、ピ
ラゾリジニル、フェノチアジニル、ベンゾフリル、２，
３−ジヒドロベンゾ〔ｂ〕フリル、ベンゾチエニル、フ
ェノキサチイニル、フェノキサジニル、４Ｈ−クロメニ
ル、１Ｈ−インダゾリル、フェナジニル、キサンテニ
ル、チアントレニル、イソインドリニル、２−イミダゾ
リニル、２−ピロリニル、フリル、オキサゾリル、イソ
オキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、ピラニ
ル、ピラゾリジニル、２−ピラゾリニル、キヌクリジニ
ル、１，４−ベンゾオキサジニル、３，４−ジヒドロ−
２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジニル、３，４−ジヒドロ
−２Ｈ−１，４−ベンゾチアジニル、１，４−ベンゾチ
アジニル、１，２，３，４−テトラヒドロキノキサリニ
ル、１，３−ジチア−２，４−ジヒドロナフタレニル、
フェナントリジニル、１，４−ジチアナフタレニル、ジ
ベンズ〔ｂ，ｅ〕アゼピン、６，１１−ジヒドロ−５Ｈ
−ジベンズ〔ｂ，ｅ〕アゼピン基等を例示できる。
【００５６】オキソ基、アルキル基、ベンゾイル基、低
級アルカノイル基、水酸基、カルボキシ基、低級アルコ
キシカルボニル基、低級アルキルチオ基、基−Ａ−ＮＲ
23Ｒ24（式中Ａは前記に同じ。Ｒ23及びＲ24は、同一又
は異なって水素原子又は低級アルキル基を示す。またＲ
23及びＲ24は、これらが結合する窒素原子と共に、窒素
原子もしくは酸素原子を介し又は介することなく互いに
結合して５〜６員環の飽和の複素環を形成してもよい。
該複素環上には低級アルキル基が置換していてもよ
い。）、シアノ基、水酸基を有する低級アルキル基、フ
ェニルアミノチオカルボニル基及び置換基として低級ア
ルキル基を有することのあるアミノ低級アルコキシカル
ボニル基なる群より選ばれた基を１〜３個有する前記複
素環としては、例えばジベンズ〔ｂ，ｅ〕アゼピン−３
−イル−６−オン、４−オキソ−１，４−ジヒドロキノ
リル、１−オキソピリジル、２−オキソピリジル、１−
メチル−３，４−ジヒドロカルボスチリル、１−エチル
カルボスチリル、１−ブチル−３，４−ジヒドロカルボ
スチリル、１−ヘキシルカルボスチリル、１−オクタデ
シル−３，４−ジヒドロカルボスチリル、３−オキソ−
４−メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾ
チアジニル、３−オキソ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−
１，４−ベンゾチアジニル、１−ベンゾイル−１，２，
３，４−テトラヒドロキノリル、１−オクタデシル−
１，２，３，４−テトラヒドロキノリル、１−ベンゾイ
ルカルボスチリル、４−ベンゾイル−３，４−ジヒドロ
−２Ｈ−１，４−ベンゾチアゾリル、４−メチル−１，
２，３，４−テトラヒドロキノキサリニル、４−ベンゾ
イル−１，２，３，４−テトラヒドロキノキサリニル、
１−アセチル−１，２，３，４−テトラヒドロキノリ
ル、１−アセチル−３，４−ジヒドロカルボスチリル、
４−アセチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１，４−ベン
ゾチアゾリル、４−ベンゾイル−３，４−ジヒドロ−２
Ｈ−１，４−ベンゾオキサジニル、４−アセチル−３，
４−ジヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジニル、４
−アセチル−１，２，３，４−テトラヒドロキノキサリ
ニル、１−メチル−１，２，３，４−テトラヒドロキノ
リル、７−ヒドロキシ−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ル、８−ヒドロキシ−３，４−ジヒドロカルボスチリ
ル、２−メチルチオベンゾチアゾリル、３−オキソ−
３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジニ
ル、１−アセチルインドリニル、２−オキソベンゾイミ
ダゾリル、４−メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１，
４−ベンゾオキサジニル、１０−アセチルフェノチアジ
ニル、２−オキソベンゾチアゾリル、２−オキソベンゾ
オキサゾリル、２−オキソ−３−メチルベンゾチアゾリ
ル、１，３−ジメチル−２−オキソベンゾイミダゾリ
ル、６−ヒドロキシ−３，４−ジメチルキノリル、４−
オキソピリジル、１−プロピル−１，２，３，４−テト
ラヒドロキノリル、４−ペンチル−１，２，３，４−テ
トラヒドロキノキサリル、１−プロパノイル−１，２，
３，４−テトラヒドロキノリル、１−ブチリルカルボス
チリル、４−ペンタノイル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−
１，４−ベンゾチアゾリル、４−ヘキサノイル−３，４
−ジヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジニル、２−
エチルチオベンゾオキサゾリル、２−プロピルチオベン
ゾイミダゾリル、２−ブチルチオベンゾチアゾリル、６
−ペンチルチオカルボスチリル、７−ヘキシルチオ−
３，４−ジヒドロカルボスチリル、２−カルボキシピリ
ジル、２−カルボキシピロリル、２−エトキシカルボニ
ルピリジル、２−メトキシカルボニルピロリル、１−メ
チルピリジニウム、１−メチル−１，２，５，６−テト
ラヒドロピリジル、２−メトキシカルボニルフリル、２
−カルボキシフリル、２−ジメチルアミノカルボニルピ
リジル、２−アセチルピロリル、２−ヒドロキシメチル
ピリジル、２−エトキシカルボニル−４−メチルピリジ
ル、２−カルボキシ−４−メチルピリジル、２−（４−
メチル−１−ピペラジニル）カルボニルピリジル、２−
（２−ジメチルアミノエトキシカルボニル）ピリジル、
２−ジメチルアミノメチルピリジル、２−エトキシカル
ボニルチエニル、２−メチル−７−カルボキシベンゾフ
リル、２−カルボキシチエニル、４−エトキシカルボニ
ルチアゾリル、４−カルボキシチアゾリル、４−メチル
−５−カルボキシチアゾリル、３−カルボキシピリジ
ル、２，２−ジメチル−７−カルボキシ−２，３−ジヒ
ドロベンゾ〔ｂ〕フリル、４−カルボキシピリジル、４
−シアノピリジル、２−メチル−４−カルバモイルピリ
ジル、２，６−ジメチル−３−カルバモイルピリジル、
２−フェニルアミノチオカルボニルピリジル、２−メチ
ル−３−カルボキシピリジル、２，６−ジメチル−３−
カルボキシピリジル基等のオキソ基、炭素数１〜１８の
直鎖又は分枝鎖状アルキル基、ベンゾイル基、炭素数１
〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイル基、水酸基、カル
ボキシ基、炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ
カルボニル基、炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキ
ルチオ基、基−Ａ−ＮＲ23Ｒ24（式中Ａは前記に同じ。
Ｒ23及びＲ24は、同一又は異なって水素原子又は炭素数
１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を示す。またＲ23
及びＲ24は、これらが結合する窒素原子と共に、窒素原
子もしくは酸素原子を介し又は介することなく互いに結
合して５〜６員環の飽和の複素環を形成してもよい。該
複素環上には炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル
基が置換していてもよい。）、シアノ基、水酸基を１〜
３個有する炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル
基、フェニルアミノチオカルボニル基及び置換基として
炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を１〜２個
有することのあるアミノ基を有する炭素数１〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルコキシカルボニル基なる群より選ばれ
た基を１〜３個有する前記複素環を例示することができ
る。
【００５７】低級アルケニルオキシ基としては、例えば
ビニルオキシ、アリルオキシ、２−ブテニルオキシ、３
−ブテニルオキシ、１−メチルアリルオキシ、２−ペン
テニルオキシ、２−ヘキセニルオキシ基等の炭素数２〜
６の直鎖又は分枝鎖状アルケニルオキシ基を挙げること
ができる。
【００５８】低級アルキルスルフィニル基としては、例
えばメチルスルフィニル、エチルスルフィニル、イソプ
ロピルスルフィニル、ブチルスルフィニル、tert−ブチ
ルスルフィニル、ペンチルスルフィニル、ヘキシルスル
フィニル基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキ
ルスルフィニル基を例示できる。
【００５９】低級アルカノイルオキシ基としては、例え
ばホルミルオキシ、アセチルオキシ、プロピオニルオキ
シ、ブチリルオキシ、イソブチリルオキシ、ペンタノイ
ルオキシ、tert−ブチルカルボニルオキシ、ヘキサノイ
ルオキシ基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカ
ノイルオキシ基が挙げられる。
【００６０】トリ低級アルキル基置換シリルオキシ基と
しては、トリメチルシリルオキシ、トリエチルシリルオ
キシ、トリイソプロピルシリルオキシ、トリブチルシリ
ルオキシ、トリtert−ブチルシリルオキシ、トリペンチ
ルシリルオキシ、トリヘキシルシリルオキシ、ジメチ
ル，tert−ブチルシリルオキシ基等の炭素数１〜６の直
鎖又は分枝鎖状アルキル基が３個置換したシリルオキシ
基を例示できる。
【００６１】フェニル環上に置換基として低級アルコキ
シ基を有することのある又低級アルキル基上に置換基と
して水酸基を有することのあるフェニル低級アルキル基
としては、ベンジル、２−フェニルエチル、１−フェニ
ルエチル、３−フェニルプロピル、４−フェニルブチ
ル、１，１−ジメチル−２−フェニルエチル、５−フェ
ニルペンチル、６−フェニルヘキシル、２−メチル−３
−フェニルプロピル、２−メトキシベンジル、２−（３
−メトキシフェニル）エチル、１−（４−メトキシフェ
ニル）エチル、３−（２−エトキシフェニル）プロピ
ル、４−（３−エトキシフェニル）ブチル、１，１−ジ
メチル−２−（４−イソプロポキシフェニル）エチル、
５−（４−ペンチルオキシフェニル）ペンチル、６−
（４−ヘキシルオキシフェニル）ヘキシル、３，４−ジ
メトキシベンジル、２，５−ジメトキシベンジル、２，
６−ジメトキシベンジル、３，４，５−トリメトキシベ
ンジル、１−フェニル−１−ヒドロキシメチル、２−フ
ェニル−１−ヒドロキシエチル、１−フェニル−２−ヒ
ドロキシエチル、３−フェニル−１−ヒドロキシプロピ
ル、４−フェニル−４−ヒドロキシブチル、５−フェニ
ル−５−ヒドロキシペンチル、６−フェニル−６−ヒド
ロキシヘキシル、２−メチル−３−フェニル−３−ヒド
ロキシプロピル、１−（２−メトキシフェニル）−１−
ヒドロキシメチル、２−（３−メトキシフェニル）−１
−ヒドロキシエチル、３−（２−エトキシフェニル）−
２−ヒドロキシプロピル、４−（３−エトキシフェニ
ル）−３−ヒドロキシブチル、５−（４−ペンチルオキ
シフェニル）−４−ヒドロキシペンチル、６−（４−ヘ
キシルオキシフェニル）−５−ヒドロキシヘキシル、６
−（４−ヘキシルオキシフェニル）−１−ヒドロキシヘ
キシル、１−（３，４−ジメトキシフェニル）−１−ヒ
ドロキシメチル、１−（３，４，５−トリメトキシフェ
ニル）−１−ヒドロキシメチル基等のフェニル環上に置
換基として炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ
基を１〜３個有することのある又低級アルキル基上に置
換基として水酸基を有することのあるアルキル部分の炭
素数が１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるフェ
ニルアルキル基を例示できる。
【００６２】フェニル環上に置換基として低級アルコキ
シ基を有することのあるベンゾイル基としては、ベンゾ
イル、２−メトキシベンゾイル、３−メトキシベンゾイ
ル、４−メトキシベンゾイル、２−エトキシベンゾイ
ル、３−エトキシベンゾイル、４−イソプロポキシベン
ゾイル、４−ペンチルオキシベンゾイル、４−ヘキシル
オキシベンゾイル、３，４−ジメトキシベンゾイル、３
−エトキシ−４−メトキシベンゾイル、２，３−ジメト
キシベンゾイル、３，４−ジエトキシベンゾイル、２，
５−ジメトキシベンゾイル、２，６−ジメトキシベンゾ
イル、３，５−ジメトキシベンゾイル、３，４−ジペン
チルオキシベンゾイル、３，４，５−トリメトキシベン
ゾイル基等のフェニル環上に置換基として炭素数１〜６
の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基を１〜３個有すること
のあるベンゾイル基を例示できる。
【００６３】フェニル環上に置換基として低級アルコキ
シ基を有することのあるフェニル低級アルケニル基とし
ては、例えばシンナミル、スチリル、４−フェニル−３
−ブテニル、４−フェニル−２−ブテニル、５−フェニ
ル−４−ペンテニル、５−フェニル−３−ペンテニル、
５−フェニル−２−ペンテニル、６−フェニル−５−ヘ
キセニル、６−フェニル−４−ヘキセニル、６−フェニ
ル−３−ヘキセニル、６−フェニル−２−ヘキセニル、
２−メチル−４−フェニル−３−ブテニル、２−メチル
シンナミル、１−メチルシンナミル、２−メトキシスチ
リル、３−メトキシシンナミル、４−メトキシスチリ
ル、２−エトキシシンナミル、３−エトキシスチリル、
４−エトキシスチリル、２−プロポキシスチリル、３−
プロポキシスチリル、４−プロポキシシンナミル、３−
（tert−ブトキシ）スチリル、４−ペンチルオキシシン
ナミル、３−ヘキシルオキシスチリル、３，４−ジメト
キシスチリル、３，５−ジメトキシスチリル、２，６−
ジメトキシスチリル、３，４−ジエトキシスチリル、
３，５−ジエトキシスチリル、３，４，５−トリメトキ
シスチリル、４−エトキシフェニル−３−ブテニル、４
−（３−tert−ブトキシフェニル）−２−ブテニル、５
−（４−ヘキシルオキシフェニル）−４−ペンテニル、
６−（３，４−ジメトキシフェニル）−５−ヘキセニ
ル、６−（３，４，５−トリエトキシフェニル）−３−
ヘキセニル基等のフェニル環上に置換基として炭素数１
〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基を１〜３個有する
ことのあるアルケニル部分の炭素数が２〜６の直鎖又は
分枝鎖状アルケニル基であるフェニルアルケニル基を例
示できる。
【００６４】置換基として低級アルキル基を有すること
のあるアミノ低級アルキル基としては、アミノメチル、
２−アミノエチル、１−アミノエチル、３−アミノプロ
ピル、４−アミノブチル、５−アミノペンチル、６−ア
ミノヘキシル、１，１−ジメチル−２−アミノエチル、
２−メチル−３−アミノプロピル、メチルアミノメチ
ル、１−エチルアミノエチル、２−プロピルアミノエチ
ル、３−イソプロピルアミノプロピル、４−ブチルアミ
ノブチル、５−ペンチルアミノペンチル、６−ヘキシル
アミノヘキシル、ジメチルアミノメチル、（Ｎ−エチル
−Ｎ−プロピルアミノ）メチル、２−（Ｎ−メチル−Ｎ
−ヘキシルアミノ）エチル基等の置換基として炭素数１
〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を１〜２個有するこ
とのあるアミノ基を有する炭素数１〜６の直鎖又は分枝
鎖状アルキル基を例示できる。
【００６５】Ｒ8 及びＲ9 がこれらが結合する窒素原子
と共に、窒素原子もしくは酸素原子を介し又は介するこ
となく互いに結合して形成する５〜６員環の飽和又は不
飽和の複素環としては、例えば、ピペラジニル、ピロリ
ジニル、モリホリニル、ピペリジニル、ピロリル、イミ
ダゾリル、ピラゾリル、２−ピロリニル、２−イミダゾ
リニル、イミダゾリジニル、２−ピラゾリニル、ピラゾ
リジニル、１，２，５，６−テトラヒドロピリジル基等
を例示できる。
【００６６】低級アルカノイル基又は低級アルキル基が
置換した上記複素環としては、例えば４−アセチルピペ
ラジニル、３−ホルミルピロリジニル、２−プロピオニ
ルピロリジニル、４−ブチリルピペリジニル、３−ペン
タノイルピペラジニル、２−ヘキサノイルモルホリノ、
４−メチルピペラジニル、４−エチルピペラジニル、３
−エチルピロリジニル、２−プロピルピロリジニル、４
−ブチルピペリジニル、３−ペンチルモルホリノ、２−
ヘキシルピペラジニル、２−アセチルピロリル基等の炭
素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイル基又は炭素
数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基が置換した上記
複素環を例示できる。
【００６７】フェニル低級アルコキシ基としては、例え
ば、ベンジルオキシ、２−フェニルエトキシ、１−フェ
ニルエトキシ、３−フェニルプロポキシ、４−フェニル
ブトキシ、１，１−ジメチル−２−フェニルエトキシ、
５−フェニルペンチルオキシ、６−フェニルヘキシルオ
キシ、２−メチル−３−フェニルプロポキシ基等のアル
コキシ部分の炭素数が１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコ
キシ基であるフェニルアルコキシ基を例示できる。
【００６８】水酸基及び／又は低級アルカノイルオキシ
基置換低級アルキル基としては、例えばヒドロキシメチ
ル、２−ヒドロキシエチル、１−ヒドロキシエチル、３
−ヒドロキシプロピル、２，３−ジヒドロキシプロピ
ル、４−ヒドロキシブチル、１，１−ジメチル−２−ヒ
ドロキシエチル、５，５，４−トリヒドロキシペンチ
ル、５−ヒドロキシペンチル、６−ヒドロキシヘキシ
ル、１−ヒドロキシイソプロピル、２−メチル−３−ヒ
ドロキシプロピル，アセチルオキシメチル、２−プロピ
オニルオキシエチル、１−ブチリルオキシエチル、３−
アセチルオキシプロピル、２，３−ジアセチルオキシプ
ロピル、４−イソブチリルオキシブチル、５−ペンタノ
イルオキシペンチル、６−tert−ブチルカルボニルオキ
シヘキシル、１，１−ジメチル−２−ヘキサノイルオキ
シエチル、５，５，４−トリアセチルオキシペンチル、
２−メチル−３−アセチルオキシプロピル基等の水酸基
及び／又は炭素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイ
ルオキシ基を１〜３個有する炭素数１〜６の直鎖又は分
枝鎖状アルキル基を挙げることができる。
【００６９】置換基として水酸基、低級アルコキシカル
ボニル基、フェニル低級アルコキシ基、水酸基及び／又
は低級アルカノイルオキシ基置換低級アルキル基及び低
級アルカノイルオキシ基なる群より選ばれた基を１〜４
個有することのあるテトラヒドロピラニルオキシ基とし
ては、例えば、（２−，３−又は４−）テトラヒドロピ
ラニルオキシ、３，４，５−トリヒドロキシ−６−メト
キシカルボニル−２−テトラヒドロピラニルオキシ、
３，４，５−トリベンジルオキシ−６−ヒドロキシメチ
ル−２−テトラヒドロピラニルオキシ、３，４，５−ト
リアセチルオキシ−６−アセチルオキシメチル−２−テ
トラヒドロピラニルオキシ、３，４，５−トリヒドロキ
シ−６−ヒドロキシメチル−２−テトラヒドロピラニル
オキシ、３−ヒドロキシ−２−テトラヒドロピラニルオ
キシ、２，４−ジヒドロキシ−３−テトラヒドロピラニ
ルオキシ、２，３，５−トリヒドロキシ−４−テトラヒ
ドロピラニルオキシ、３−（２，３−ジヒドロキシプロ
ピル）−２−テトラヒドロピラニルオキシ、６−メトキ
シカルボニル−２−テトラヒドロピラニルオキシ、６−
（５，５，４−トリヒドロキシペンチル）−２−テトラ
ヒドロピラニルオキシ、４−エトキシカルボニル−３−
テトラヒドロピラニルオキシ、４，６−ジメトキシカル
ボニル−４−テトラヒドロピラニルオキシ、４，５，６
−トリメトキシカルボニル−２−テトラヒドロピラニル
オキシ、２−プロポキシカルボニル−３−テトラヒドロ
ピラニルオキシ、６−ブトキシカルボニル−４−テトラ
ヒドロピラニルオキシ、６−ペンチルオキシカルボニル
−２−テトラヒドロピラニルオキシ、４−ヘキシルオキ
シカルボニル−３−テトラヒドロピラニルオキシ、３，
４，５，６−テトラヒドロキシ−２−テトラヒドロピラ
ニルオキシ、６−ベンジルオキシ−２−テトラヒドロピ
ラニルオキシ、４−（２−フェニルエトキシ）−３−テ
トラヒドロピラニルオキシ、４，６−ジベンジルオキシ
−４−テトラヒドロピラニルオキシ、４，５，６−トリ
ベンジルオキシ−２−テトラヒドロピラニルオキシ、２
−（３−フェニルプロポキシ）−３−テトラヒドロピラ
ニルオキシ、６−（４−フェニルブトキシ）−４−テト
ラヒドロピラニルオキシ、６−（５−フェニルペンチル
オキシ）−２−テトラヒドロピラニルオキシ、４−（６
−フェニルヘキシルオキシ）−３−テトラヒドロピラニ
ルオキシ、３，４，５−トリヒドロキシ−６−ベンジル
オキシ−２−テトラヒドロピラニルオキシ、６−アセチ
ルオキシ−２−テトラヒドロピラニルオキシ、４−プロ
ピオニルオキシ−３−テトラヒドロピラニルオキシ、
４，６−ジアセチルオキシ−４−テトラヒドロピラニル
オキシ、４，５，６−トリアセチルオキシ−２−テトラ
ヒドロピラニルオキシ、２−ブチリルオキシ−３−テト
ラヒドロピラニルオキシ、６−ペンタノイルオキシ−３
−テトラヒドロピラニルオキシ、４−ヘキサノイルオキ
シ−３−テトラヒドロピラニルオキシ、３，４，５−ト
リヒドロキシ−６−アセチルオキシ−２−テトラヒドロ
ピラニルオキシ、６−ヒドロキシメチル−２−テトラヒ
ドロピラニルオキシ、４−（２−ヒドロキシエチル）−
２−テトラヒドロピラニルオキシ、４，６−ジヒドロキ
シメチル−４−テトラヒドロピラニルオキシ、４，５，
６−ジヒドロキシメチル−２−テトラヒドロピラニルオ
キシ、２−（３−ヒドロキシプロピル）−３−テトラヒ
ドロピラニルオキシ、６−アセチルオキシメチル−２−
テトラヒドロピラニルオキシ、４−（２−アセチルオキ
シエチル）−２−テトラヒドロピラニルオキシ、４，６
−ジアセチルオキシメチル−４−テトラヒドロピラニル
オキシ、４，５，６−トリアセチルオキシメチル−２−
テトラヒドロピラニルオキシ、２−（３−プロピオニル
オキシプロピル）−３−テトラヒドロピラニルオキシ、
６−（４−ブチリルオキシブチル）−４−テトラヒドロ
ピラニルオキシ、６−（５−ヒドロキシペンチル）−２
−テトラヒドロピラニルオキシ、４−（６−ヘキサノイ
ルオキシヘキシル）−３−テトラヒドロピラニルオキ
シ、３，４，５−トリヒドロキシメチル−６−アセチル
オキシメチルテトラヒドロピラニルオキシ基等の置換基
として水酸基、炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコ
キシカルボニル基、アルコキシ部分の炭素数が１〜６の
直鎖又は分枝鎖状アルコキシであるフェニルアルコキシ
基、水酸基及び／又は炭素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状
アルカノイルオキシ基を１〜３個有する炭素数１〜６の
直鎖又は分枝鎖状アルキル基、及び炭素数２〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルカノイルオキシ基なる群より選ばれた
基を１〜４個有することのあるテトラヒドロピラニルオ
キシ基を例示できる。
【００７０】ピペラジン環上に置換基として低級アルキ
ル基を有することのあるピペラジニル低級アルキル基と
しては、例えば、（１−ピペラジニル）メチル、２−
（１−ピペラジニル）エチル、１−（１−ピペラジニ
ル）エチル、３−（１−ピペラジニル）プロピル、４−
（１−ピペラジニル）ブチル、５−（１−ピペラジニ
ル）ペンチル、６−（１−ピペラジニル）ヘキシル、
１，１−ジメチル−２−（１−ピペラジニル）エチル、
２−メチル−３−（１−ピペラジニル）プロピル、（４
−メチル−１−ピペラジニル）メチル、２−（４−エチ
ル−１−ピペラジニル）エチル、１−（４−プロピル−
１−ピペラジニル）エチル、３−（４−ブチル−１−ピ
ペラジニル）プロピル、４−（４−ペンチル−１−ピペ
ラジニル）ブチル、５−（４−ヘキシル−１−ピペラジ
ニル）ペンチル、６−（３，４−ジメチル−１−ピペラ
ジニル）ヘキシル、１，１−ジメチル−（３，４，５−
トリメチル−１−ピペラジニル）エチル基等のピペラジ
ン環上に置換基として炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状
アルキル基を１〜３個有することのある低級アルキル基
部分の炭素数が１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基で
あるピペラジニルアルキル基を例示できる。
【００７１】低級アルコキシカルボニル置換低級アルコ
キシ基としては、例えばメトキシカルボニルメトキシ、
３−メトキシカルボニルプロポキシ、エトキシカルボニ
ルメトキシ、４−エトキシカルボニルブトキシ、６−プ
ロポキシカルボニルヘキシルオキシ、５−イソプロポキ
シカルボニルペンチルオキシ、１，１−ジメチル−２−
ブトキシカルボニルエトキシ、２−メチル−３−tert−
ブトキシカルボニルプロポキシ、２−ペンチルオキシカ
ルボニルエトキシ、ヘキシルオキシカルボニルメトキシ
基等のアルコキシ部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖
状アルコキシ基である炭素数１〜６の直鎖又は分子鎖状
アルコキシカルボニルアルコキシ基を挙げることができ
る。
【００７２】カルボキシ置換低級アルコキシ基として
は、例えばカルボキシメトキシ、２−カルボキシエトキ
シ、１−カルボキシエトキシ、３−カルボキシプロポキ
シ、４−カルボキシブトキシ、５−カルボキシペンチル
オキシ、６−カルボキシヘキシルオキシ、１，１−ジメ
チル−２−カルボキシエトキシ、２−メチル−３−カル
ボキシプロポキシ基等のアルコキシ部分が炭素数１〜６
の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基であるカルボキシアル
コキシ基を挙げることができる。
【００７３】低級アルコキシ置換低級アルコキシ基とし
ては、例えばメトキシメトキシ、３−メトキシプロポキ
シ、エトキシメトキシ、４−エトキシブトキシ、６−プ
ロポキシヘキシルオキシ、５−イソプロポキシペンチル
オキシ、１，１−ジメチル−２−ブトキシエトキシ、２
−メチル−３−tert−ブトキシプロポキシ、２−ペンチ
ルオキシエトキシ、ヘキシルオキシメトキシ基等のアル
コキシ部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキ
シ基であるアルコキシアルコキシ基を挙げることができ
る。 水酸基を有する低級アルキル基としては、例え
ば、ヒドロキシメチル、２−ヒドロキシエチル、１−ヒ
ドロキシエチル、３−ヒドロキシプロピル、２，３−ジ
ヒドロキシプロピル、４−ヒドロキシブチル、１，１−
ジメチル−２−ヒドロキシエチル、５，５，４−トリヒ
ドロキシペンチル、５−ヒドロキシペンチル、６−ヒド
ロキシヘキシル、１−ヒドロキシイソプロピル、２−メ
チル−３−ヒドロキシプロピル基等の水酸基を１〜３個
有する炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を例
示できる。
【００７４】低級アルケニル基としては、例えばビニ
ル、アリル、２−ブテニル、３−ブテニル、１−メチル
アリル、２−ペンテニル、２−ヘキセニル基等の炭素数
２〜６の直鎖又は分枝鎖状アルケニル基を例示できる。
【００７５】置換基として低級アルキル基を有すること
のあるアミノチオカルボニルオキシ基としては、例えば
チオカルバモイルオキシ、メチルアミノチオカルボニル
オキシ、エチルアミノチオカルボニルオキシ、プロピル
アミノチオカルボニルオキシ、イソプロピルアミノチオ
カルボニルオキシ、ブチルアミノチオカルボニルオキ
シ、ペンチルアミノチオカルボニルオキシ、ヘキシルア
ミノチオカルボニルオキシ、ジメチルアミノチオカルボ
ニルオキシ、（Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルアミノ）チオ
カルボニルオキシ、（Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキシルアミ
ノ）チオカルボニルオキシ基等の置換基として炭素数１
〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を１〜２個有するこ
とのあるアミノ基を有するチオカルボニルオキシ基を例
示できる。
【００７６】置換基として低級アルキル基を有すること
のあるアミノカルボニルチオ基としては、例えばアミノ
カルボニルチオ、メチルアミノカルボニルチオ、エチル
アミノカルボニルチオ、プロピルアミノカルボニルチ
オ、３−イソプロピルアミノカルボニルチオ、ブチルア
ミノカルボニルチオ、ペンチルアミノカルボニルチオ、
ヘキシルアミノカルボニルチオ、ジメチルアミノカルボ
ニルチオ、（Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルアミノ）カルボ
ニルチオ、（Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキシルアミノ）カルボ
ニルチオ基等の置換基として炭素数１〜６の直鎖又は分
枝鎖状アルキル基を１〜２個有することのあるアミノ基
を有するカルボニルチオ基を例示できる。
【００７７】低級アルカノイル置換低級アルキル基とし
ては、例えば、ホルミルメチル、アセチルメチル、２−
プロピオニルエチル、１−ブチリルエチル、３−アセチ
ルプロピル、２，３−ジアセチルプロピル、４−イソブ
チリルブチル、５−ペンタノイルペンチル、６−tert−
ブチルカルボニルヘキシル、１，１−ジメチル−２−ヘ
キサノイルエチル、５，５，４−トリアセチルペンチ
ル、２−メチル−３−アセチルプロピル基等の炭素数１
〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイル基を１〜３個有す
る炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を挙げる
ことができる。
【００７８】フェニル環上に置換基として低級アルコキ
シ基を１〜３個有することのあるフェニル基としては、
例えば、フェニル、２−メトキシフェニル、３−メトキ
シフェニル、４−メトキシフェニル、２−エトキシフェ
ニル、３−エトキシフェニル、４−エトキシフェニル、
４−イソプロポキシフェニル、４−ペンチルオキシフェ
ニル、４−ヘキシルオキシフェニル、３，４−ジメトキ
シフェニル、３−エトキシ−４−メトキシフェニル、
２，３−ジメトキシフェニル、３，４−ジエトキシフェ
ニル、２，５−ジメトキシフェニル、２，６−ジメトキ
シフェニル、３−プロポキシ−４−メトキシフェニル、
３，５−ジメトキシフェニル、３，４−ジペンチルオキ
シフェニル、３，４，５−トリメトキシフェニル、３−
メトキシ−４−エトキシフェニル基等のフェニル環上に
置換基として炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキ
シ基を１〜３個有することのあるフェニル基を例示でき
る。
【００７９】オキソ基を有することのあるピリジル基と
しては、２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル、
２−オキソ−３−ピリジル、４−オキソ−２−ピリジ
ル、１−オキソ−３−ピリジル、３−オキソ−２−ピリ
ジル基等のオキソ基を有することのあるピリジル基を例
示できる。
【００８０】オキソ基を有することのあるキノリル基と
しては、例えば２−キノリル、３−キノリル、４−キノ
リル、５−キノリル、６−キノリル、７−キノリル、８
−キノリル、２−オキソ−４−キノリル、２−オキソ−
７−キノリル、２−オキソ−５−キノリル、２−オキソ
−８−キノリル、４−オキソ−６−キノリル基等のオキ
ソ基を有することのあるキノリル基を例示できる。
【００８１】フェニル環上に置換基として、低級アルカ
ノイルオキシ基、ヒドロキシスルホニルオキシ基、シア
ノ基、アミジノ基、ニトロ基、低級アルキルスルホニル
基及び置換基として水酸基、低級アルコキシカルボニル
基、フェニル低級アルコキシ基、水酸基及び／又は低級
アルカノイルオキシ基置換低級アルキル基及び低級アル
カノイルオキシ基なる群より選ばれた基を１〜４個有す
ることのあるテトラヒドロピラニルオキシ基なる群より
選ばれた基を１〜３個有するフェニル基としては、例え
ば、２−アセチルオキシフェニル、３−アセチルオキシ
フェニル、４−アセチルオキシフェニル、２−ホルミル
オキシフェニル、３−プロピオニルオキシフェニル、４
−イソブチリルオキシフェニル、２−ペンタノイルオキ
シフェニル、３−ヘキサノイルオキシフェニル、３，４
−ジアセチルオキシフェニル、２，５−ジアセチルオキ
シフェニル、３，５−ジアセチルオキシフェニル、２，
５−ジアセチルオキシフェニル、３，４，５−トリアセ
チルオキシフェニル、４−ヒドロキシスルホニルオキシ
フェニル、３−ヒドロキシスルホニルオキシフェニル、
２−ヒドロキシスルホニルオキシフェニル、４−シアノ
フェニル、３−シアノフェニル、２−シアノフェニル、
４−アミジノフェニル、３−アミジノフェニル、２−ア
ミジノフェニル、２−ニトロフェニル、３−ニトロフェ
ニル、４−ニトロフェニル、３，４−ジニトロフェニ
ル、２，５−ジニトロフェニル、２，６−ジニトロフェ
ニル、３，４，５−トリニトロフェニル、３，５−ジニ
トロ−４−アセチルオキシフェニル、４−メチルスルホ
ニルフェニル、２−メチルスルホニルフェニル、３−メ
チルスルホニルフェニル、２−エチルスルホニルフェニ
ル、４−イソプロピルスルホニルフェニル、４−ペンチ
ルスルホニルフェニル、４−ヘキシルスルホニルフェニ
ル、３，４−ジメチルスルホニルフェニル、３，４−ジ
エチルスルホニルフェニル、２，５−ジメチルスルホニ
ルフェニル、２，６−ジメチルスルホニルフェニル、
３，４，５−トリメチルスルホニルフェニル、４−
（２，３，４，６−テトラ−ｏ−アセチル−β−Ｄ−グ
ルコピラノシルオキシ）フェニル、４−（β−Ｄ−グル
コピラノシルオキシ）フェニル、４−（２，３，４，６
−テトラ−ｏ−ベンジル−β−Ｄ−グルコピラノシルオ
キシ）フェニル基等のフェニル環上に置換基として、炭
素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイルオキシ基、
ヒドロキシスルホニルオキシ基、シアノ基、アミジノ
基、ニトロ基、炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキ
ルスルホニル基及び置換基として水酸基、炭素数１〜６
の直鎖又は分枝鎖状アルコキシカルボニル基、アルコキ
シ部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基
であるフェニルアルコキシ基、水酸基及び／又は炭素数
２〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイルオキシ基を１〜
３個有する炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基
及び炭素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイルオキ
シ基なる群より選ばれた基を１〜４個有することのある
テトラヒドロピラニルオキシ基なる群より選ばれた基を
１〜３個有するフェニル基を例示できる。
【００８２】低級アルカノイル基を有することのあるア
ミノ基としては、例えば、アミノ、ホルミルアミノ、ア
セチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブチリルアミノ、
イソブチリルアミノ、ペンタノイルアミノ、tert−ブチ
ルカルボニルアミノ、ペンタノイルアミノ、ヘキサノイ
ルアミノ基等の炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカ
ノイル基を有することのあるアミノ基を例示できる。
【００８３】チアゾリル環上に置換基として、フェニル
環上に低級アルコキシ基を有することのあるフェニル基
を有するチアゾリル基、カルボキシル基及び水酸基なる
群から選ばれた基を有していてもよいフェニル基として
は、例えばフェニル、２−（３，４−ジエトキシフェニ
ル）−４−チアゾリルフェニル、〔２−（４−メトキシ
フェニル）−４−チアゾリル〕フェニル、〔４−（３，
４，５−トリメトキシフェニル）−２−チアゾリル〕フ
ェニル、〔５−（３−プロポキシフェニル）−２−チア
ゾリル〕フェニル、〔２−（２−ブトキシフェニル）−
４−チアゾリル〕フェニル、２−ヒドロキシ−３−カル
ボキシフェニル、２−ヒドロキシフェニル、３−ヒドロ
キシフェニル、４−ヒドロキシフェニル、３，４−ジヒ
ドロキシフェニル、３，５−ジヒドロキシフェニル、
２，５−ジヒドロキシフェニル、２，４−ジヒドロキシ
フェニル、２，６−ジヒドロキシフェニル、３，４，５
−トリヒドロキシフェニル、２−カルボキシフェニル、
３−カルボキシフェニル、４−カルボキシフェニル、
３，４−ジカルボキシフェニル、２，５−ジカルボキシ
フェニル、２，６−ジカルボキシフェニル、３，４，５
−トリカルボキシフェニル、３−カルボキシ−４−ヒド
ロキシフェニル、３−カルボキシ−６−ヒドロキシフェ
ニル基等のチアゾリル環上に置換基として、フェニル環
上に炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基を１
〜３個有することのあるフェニル基を有するチアゾリル
基、カルボキシル基及び水酸基なる群から選ばれた基を
１〜３個有していてもよいフェニル基を例示できる。
【００８４】ピペリジニル低級アルキル基としては、例
えば（１−ピペリジニル）メチル、２−（１−ピペリジ
ニル）エチル、１−（１−ピペリジニル）エチル、３−
（１−ピペリジニル）プロピル、４−（１−ピペリジニ
ル）ブチル、５−（２−ピペリジニル）ペンチル、６−
（３−ピペリジニル）ヘキシル、１，１−ジメチル−２
−（４−ピペリジニル）エチル、２−メチル−３−（１
−ピペリジニル）プロピル基等のアルキル部分が炭素数
１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であるピペリジニ
ルアルキル基を挙げることができる。
【００８５】アルコキシカルボニル基としては、前記低
級アルコキシカルボニル基に加えて、ヘプチルオキシカ
ルボニル、オクチルオキシカルボニル、ノニルオキシカ
ルボニル、デシルオキシカルボニル、ウンデシルオキシ
カルボニル、ドデシルオキシカルボニル、トリデシルオ
キシカルボニル、テトラデシルオキシカルボニル、ペン
タデシルオキシカルボニル、ヘキサデシルオキシカルボ
ニル、ヘプタデシルオキシカルボニル、オクタデシルオ
キシルカルボニル基等の炭素数１〜１８の直鎖又は分枝
鎖状アルコキシカルボニル基を例示できる。
【００８６】置換基として低級アルキル基を有すること
のあるアミノ低級アルコキシカルボニル基としては、例
えばアミノメトキシカルボニル、２−アミノエトキシカ
ルボニル、１−アミノエトキシカルボニル、３−アミノ
プロポキシカルボニル、４−アミノブトキシカルボニ
ル、５−アミノペンチルオキシカルボニル、６−アミノ
ヘキシルオキシカルボニル、１，１−ジメチル−２−ア
ミノエトキシカルボニル、２−メチル−３−アミノプロ
ポキシカルボニル、メチルアミノメトキシカルボニル、
１−エチルアミノエトキシカルボニル、２−プロピルア
ミノエトキシカルボニル、３−イソプロピルアミノプロ
ポキシカルボニル、４−ブチルアミノブトキシカルボニ
ル、５−ペンチルアミノペンチルオキシカルボニル、６
−ヘキシルアミノヘキシルオキシカルボニル、ジメチル
アミノメトキシカルボニル、２−ジメチルアミノエトキ
シカルボニル、３−ジメチルアミノプロポキシカルボニ
ル、（Ｎ−エチル−Ｎ−プロピルアミノ）メトキシカル
ボニル、２−（Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキシルアミノ）エト
キシカルボニル基等の置換基として炭素数１〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルキル基を１〜２個有することのあるア
ミノ基を有する炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコ
キシカルボニル基を例示できる。
【００８７】フェニル低級アルコキシカルボニル基とし
ては、例えばベンジルオキシカルボニル、２−フェニル
エトキシカルボニル、１−フェニルエトキシカルボニ
ル、３−フェニルプロポキシカルボニル、４−フェニル
ブトキシカルボニル、１，１−ジメチル−２−フェニル
エトキシカルボニル、５−フェニルペンチルオキシカル
ボニル、６−フェニルヘキシルオキシカルボニル、２−
メチル−３−フェニルプロポキシカルボニル基等のアル
コキシ部分の炭素数が１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコ
キシ基であるフェニルアルコキシカルボニル基を例示で
きる。
【００８８】低級アルキニル基としては、例えばエチニ
ル、２−プロピニル、２−ブチニル、３−ブチニル、１
−メチル−２−プロピニル、２−ペンチニル、２−ヘキ
シニル基等の炭素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキニ
ル基を例示できる。
【００８９】カルボキシ置換低級アルキル基としては、
例えばカルボキシメチル、２−カルボキシエチル、１−
カルボキシエチル、３−カルボキシプロピル、４−カル
ボキシブチル、５−カルボキシペンチル、６−カルボキ
シヘキシル、１，１−ジメチル−２−カルボキシエチ
ル、２−メチル−３−カルボキシプロピル基等のアルキ
ル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基で
あるカルボキシアルキル基を挙げることができる。
【００９０】低級アルコキシカルボニル低級アルケニル
基としては、例えば２−メトキシカルボニルビニル、３
−メトキシカルボニルアリル、２−エトキシカルボニル
ビニル、４−エトキシカルボニル−２−ブテニル、６−
プロポキシカルボニル−３−ヘキセニル、５−イソプロ
ポキシカルボニル−１−ペンテニル、１，１−ジメチル
−２−ブトキシカルボニル−２−プロペニル、２−メチ
ル−３−tert−ブトキシカルボニル−１−プロペニル、
２−ペンチルオキシカルボニルビニル、４−ヘキシルオ
キシカルボニル−１−ブテニル基等のアルケニル部分が
炭素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状アルケニル基である炭
素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシカルボニルア
ルケニル基を挙げることができる。
【００９１】カルボニル置換低級アルケニル基として
は、例えば２−カルボキシビニル、３−カルボキシアリ
ル、４−カルボキシ−２−ブテニル、６−カルボキシ−
３−ヘキセニル、５−カルボキシ−１−ペンテニル、
１，１−ジメチル−２−カルボキシ−２−プロペニル、
２−メチル−３−カルボキシ−１−プロペニル、５−カ
ルボキシ−４−ペンテニル、４−カルボキシ−１−ブテ
ニル基等のアルケニル部分が炭素数２〜６の直鎖又は分
枝鎖状アルケニル基であるカルボキシアルケニル基を挙
げることができる。
【００９２】Ｒ23及びＲ24がこれらが結合する窒素原子
と共に、窒素原子もしくは酸素原子を介し又は介するこ
となく互いに結合して形成する５〜６員環の飽和の複素
環としては、例えばピペラジニル、ピロリジニル、モリ
ホリニル、ピペリジニル基等を例示できる。
【００９３】低級アルキル基が置換した上記複素環とし
ては、例えば４−メチルピペラジニル、４−エチルピペ
ラジニル、３−エチルピロリジニル、２−プロピルピロ
リジニル、４−ブチルピペリジニル、３−ペンチルモル
ホリノ、２−ヘキシルピペラジニル基等の炭素数１〜６
の直鎖又は分枝鎖状アルキル基が置換した上記複素環を
例示できる。
【００９４】ハロゲン原子を有することのある低級アル
キルスルホニルオキシ基としては、例えばメチルスルホ
ニルオキシ、エチルスルホニルオキシ、プロピルスルホ
ニルオキシ、イソプロピルスルホニルオキシ、ブチルス
ルホニルオキシ、tert−ブチルスルホニルオキシ、ペン
チルスルホニルオキシ、ヘキシルスルホニルオキシ、ク
ロロメチルスルホニルオキシ、ブロモメチルスルホニル
オキシ、ヨードメチルスルホニルオキシ、トリフルオロ
メチルスルホニルオキシ、２−フルオロエチルスルホニ
ルオキシ、２，２−ジフルオロエチルスルホニルオキ
シ、２，２，２−トリフルオロエチルスルホニルオキ
シ、３−クロロプロピルスルホニルオキシ、４−クロロ
ブチルスルホニルオキシ、３，４−ジクロロブチルスル
ホニルオキシ、３−フルオロペンチルスルホニルオキ
シ、２，３，４−トリフルオロペンチルスルホニルオキ
シ、２，３−ジクロロヘキシルスルホニルオキシ、６，
６−ジブロモヘキシルスルホニルオキシ基等のハロゲン
原子を１〜３個有することのある炭素数１〜６の直鎖又
は分枝鎖状アルキルスルホニルオキシ基を例示できる。
【００９５】低級アルコキシ置換低級アルコキシカルボ
ニル基としては、例えばメトキシメトキシカルボニル、
３−メトキシプロポキシカルボニル、エトキシメトキシ
カルボニル、４−エトキシブトキシカルボニル、６−プ
ロポキシヘキシルオキシカルボニル、５−イソプロポキ
シペンチルオキシカルボニル、１，１−ジメチル−２−
ブトキシエトキシカルボニル、２−メチル−３−tert−
ブトキシプロポキシカルボニル、２−ペンチルオキシエ
トキシカルボニル、ヘキシルオキシメトキシカルボニル
基等のアルコキシ部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖
状アルコキシ基である炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状
アルコキシアルコキシカルボニル基を挙げることができ
る。
【００９６】フェニル環上に置換基として低級アルコキ
シ基を１〜３個有することのあるフェニル基としては、
例えばフェニル、２−メトキシフェニル、３−メトキシ
フェニル、４−メトキシフェニル、２−エトキシフェニ
ル、３−エトキシフェニル、４−エトキシフェニル、４
−イソプロポキシフェニル、３−ブトキシフェニル、４
−ペンチルオキシフェニル、４−ヘキシルオキシフェニ
ル、３，４−ジメトキシフェニル、３−エトキシ−４−
メトキシフェニル、２，３−ジメトキシフェニル、３，
４−ジエトキシフェニル、３，５−ジメトキシフェニ
ル、２，５−ジメトキシフェニル、２，６−ジメトキシ
フェニル、３，４，５−トリメトキシフェニル、３，４
−ジペンチルオキシフェニル基等のフェニル環上に置換
基として炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基
を１〜３個有することのあるフェニル基を例示できる。
【００９７】フェニル環上に置換基として低級アルカノ
イルオキシ基、ヒドロキシスルホニルオキシ基、シアノ
基、アミジノ基、ニトロ基、低級アルキルチオ基、低級
アルキルスルホニル基、置換基として水酸基、低級アル
コキシカルボニル基、フェニル低級アルコキシ基、水酸
基及び／又は低級アルカノイルオキシ基置換低級アルキ
ル基及び低級アルカノイルオキシ基なる群より選ばれた
基を１〜４個有することのあるテトラヒドロピラニルオ
キシ基、フェニル基（該フェニル基にはチアゾリル環上
に置換基として、フェニル環上に低級アルコキシ基を有
することのあるフェニル基を有するチアゾリル基、カル
ボキシル基及び水酸基なる群から選ばれた基を置換基と
して有していてもよい）、水酸基を有する低級アルキル
基及び基−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ21）（ＯＲ22）（Ｒ21及び
Ｒ22は前記に同じ）なる群より選ばれた基を１〜３個有
するフェニル基としては、例えば２−メチルチオフェニ
ル、３−メチルチオフェニル、４−メチルチオフェニ
ル、２−エチルチオフェニル、３−エチルチオフェニ
ル、４−エチルチオフェニル、４−イソプロピルチオフ
ェニル、４−ペンチルチオフェニル、４−ヘキシルチオ
フェニル、３，４−ジメチルチオフェニル、３，４−ジ
エチルチオフェニル、２−アセチルオキシフェニル、３
−アセチルオキシフェニル、４−アセチルオキシフェニ
ル、２−ホルミルオキシフェニル、３−プロピオニルオ
キシフェニル、４−イソブチリルオキシフェニル、２−
ペンタノイルオキシフェニル、３−ヘキサノイルオキシ
フェニル、３，４−ジアセチルオキシフェニル、３，５
−ジアセチルオキシフェニル、２，５−ジアセチルオキ
シフェニル、３，４，５−トリアセチルオキシフェニ
ル、３，５−ジメチルチオフェニル、２，６−ジメチル
チオフェニル、３，４，５−トリメチルチオフェニル、
２−フェニルフェニル、３−フェニルフェニル、４−フ
ェニルフェニル、２−メチルスルホニルフェニル、３−
メチルスルホニルフェニル、４−メチルスルホニルフェ
ニル、２−エチルスルホニルリフェニル、４−イソプロ
ピルスルホニルフェニル、４−ペンチルスルホニルフェ
ニル、４−ヘキシルスルホニルフェニル、３，４−ジメ
チルスルホニルフェニル、３，４−ジエチルスルホニル
フェニル、２，５−ジメチルスルホニルフェニル、２，
６−ジメチルスルホニルフェニル、３，４，５−トリメ
チルスルホニルフェニル、２−アミジノフェニル、４−
アミジノフェニル、３−アミジノフェニル、３−ニトロ
フェニル、４−ヒドロキシスルホニルオキシフェニル、
３−ヒドロキシスルホニルオキシフェニル、２−ヒドロ
キシスルホニルオキシフェニル、４−（２，３，４，６
−テトラ−ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノシルオ
キシ）フェニル、４−（β−Ｄ−グルコピラノシルオキ
シ）フェニル、４−（２，３，４，６−テトラ−ｏ−ベ
ンジル−β−Ｄ−グルコピラノシルオキシ）フェニル、
３，５−ビス（ジメチルアミノ）フェニル、２−ニトロ
フェニル、４−ニトロフェニル、３，４−ジニトロフェ
ニル、３，４，５−トリニトロフェニル、３，５−ジニ
トロフェニル、２−シアノフェニル、４−シアノフェニ
ル、３−シアノフェニル、３−（２，３−ジヒドロキシ
プロピル）フェニル、３−（２−ヒドロキシエチル）フ
ェニル、４−（２−ヒドロキシ−３−カルボキシフェニ
ル）フェニル、４−〔２−（３，４−ジエトキシフェニ
ル−４−チアゾリル〕フェニル、３−ヒドロキシメチル
フェニル、４−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）2 −フェニル、４−
Ｐ（＝Ｏ）（ＯＣ2Ｈ5 ）2 −フェニル基等のフェニル
環上に置換基として炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状ア
ルカノイルオキシ基、ヒドロキシスルホニルオキシ基、
シアノ基、アミジノ基、ニトロ基、炭素数１〜６の直鎖
又は分枝鎖状アルキルチオ基、炭素数１〜６の直鎖又は
分枝鎖状アルキルスルホニル基、置換基として水酸基、
炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコキシカルボニル
基、アルコキシ部分が炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状
アルコキシ基であるフェニルアルコキシ基、水酸基及び
／又は炭素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状アルカノイルオ
キシ基を１〜３個有する炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖
状アルキル基及び炭素数２〜６の直鎖又は分枝鎖状アル
カノイルオキシ基なる群より選ばれた基を１〜４個有す
ることのあるテトラヒドロピラニルオキシ基、フェニル
基（該フェニル基にはチアゾリル環上に置換基として、
フェニル環上に炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルコ
キシ基を１〜３個有することのあるフェニル基を有する
チアゾリル基、カルボキシル基及び水酸基なる群から選
ばれた基を置換基として１〜３個有していてもよい）、
水酸基を１〜３個有する炭素数１〜６の直鎖又は分枝鎖
状アルキル基及び基−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ21）（ＯＲ22）
（Ｒ21及びＲ22は同一又は異なって水素原子又は炭素数
１〜６の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を示す。）なる群
より選ばれた基を１〜３個有するフェニル基を例示する
ことができる。
【００９８】低級アルコキシ置換低級アルキル基として
は、例えばメトキシメチル、３−メトキシプロピル、エ
トキシメチル、４−エトキシブチル、６−プロポキシヘ
キシル、５−イソプロポキシペンチル、１，１−ジメチ
ル−２−ブトキシエチル、２−メチル−３−tert−ブト
キシプロピル、２−ペンチルオキシエチル、ヘキシルオ
キシメチル基等のアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又
は分枝鎖状アルコキシ基である炭素数１〜６の直鎖又は
分枝鎖状アルコキシアルキル基を挙げることができる。
【００９９】ハロゲン原子を有する低級アルケニル基と
しては、例えば２，２−ジブロモビニル、２−クロロビ
ニル、１−フルオロビニル、３−ヨードアリル、４，４
−ジクロロ−２−ブテニル、４，４，３−トリブロモ−
３−ブテニル、３−クロロ−１−メチルアリル、５−ブ
ロモ−２−ペンテニル、５，６−ジフルオロ−２−ヘキ
セニル基等のハロゲン原子を１〜３個有する炭素数２〜
６の直鎖又は分枝鎖状アルケニル基を例示できる。
【０１００】フェニル低級アルキル基としては、例えば
ベンジル、２−フェニルエチル、１−フェニルエチル、
３−フェニルプロピル、４−フェニルブチル、５−フェ
ニルペンチル、６−フェニルヘキシル、１，１−ジメチ
ル−２−フェニルエチル、２−メチル−３−フェニルプ
ロピル基等のアルキル部分が炭素数１〜６の直鎖又は分
枝鎖状アルキル基であるフェニルアルキル基を挙げるこ
とができる。
【０１０１】本発明の一般式（１）の化合物は、例えば
下記に示す方法により製造される。
【０１０２】〔反応式−１〕
【０１０３】
【化４３】
【０１０４】〔式中、Ｘ、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3は前記に
同じ。Ｙはハロゲン原子を示す。〕 化合物（２）と化合物（３）との反応は、適当な溶媒中
加熱することにより行なうことができる。ここで使用さ
れる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、
プロパノール、ブタノール、３−メトキシ−１−ブタノ
ール、エチルセロソルブ、メチルセロソルブ等のアルコ
ール類、ベンゼン、トルエン、キシレン、ｏ−ジクロロ
ベンゼン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、ジグライム、モノグラ
イム等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム、
四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸ト
リアミド、アセトニトリル等の極性溶媒等又はこれらの
混合溶媒等を例示できる。該反応は通常室温〜１５０
℃、好ましくは室温〜１００℃付近にて１〜１５時間程
度にて終了する。化合物（３）の使用量は、化合物
（２）に対して少なくとも等モル、好ましくは等モル〜
１．５倍モル量程度とするのがよい。
【０１０５】〔反応式−２〕
【０１０６】
【化４４】
【０１０７】〔式中Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 及びＹは前記に同
じ。〕 化合物（２）と化合物（４）の反応は、適当な溶媒中塩
基性化合物の存在下行われることができる。ここで使用
される溶媒としては、例えば、メタノール、エタノー
ル、プロパノール等の低級アルコール類、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリ
コールモノメチルエーテル等のエーテル類、ジクロロメ
タン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水
素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、アセト
ン、メチルエチルケトン等のケトン類、アセトニトリ
ル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘ
キサメチルリン酸トリアミド等の極性溶媒又はこれらの
混合溶媒等を例示できる。使用される塩基性化合物とし
ては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム、水素化ナトリウム等の無機塩基、金属ナ
トリウム、金属カリウム等のアルカリ金属類、ナトリウ
ムエチラート、ナトリウムメチラート等のアルカリ金属
アルコラート類、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリン、Ｎ−メチルモルホリン、４−メチ
ルアミノピリジン、ビシクロ〔４，３，０〕ノネン−５
（ＤＢＮ）、１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウ
ンデセン−７（ＤＢＵ）、１，４−ジアザビシクロ
〔２，２，２〕オクタン（ＤＡＢＣＯ）等の有機塩基等
を例示できる。化合物（４）の使用量は化合物（２）に
対して、少なくとも等モル、好ましくは等モル〜１．５
倍モル量程度がよい。該反応は、通常室温〜２００℃、
好ましくは室温〜１５０℃付近にて１〜５時間程度にて
終了する。
【０１０８】化合物（５）を化合物（１ａ）に導く反応
は、適当な溶媒中、アンモニア水、酢酸アンモニウム、
塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム等のアンモニウム
塩の存在下、反応させることにより行なわれることがで
きる。使用される溶媒としては、前記化合物（２）と化
合物（４）の反応に用いた溶媒をいずれも使用すること
ができ、それに加えて、酢酸等のアルカン酸等も例示で
きる。アンモニア水又はアンモニウム塩の使用量は、化
合物（５）に対して少なくとも等モル、好ましくは等モ
ル〜５倍モル量使用するのがよい。該反応は、通常室温
〜２００℃、好ましくは室温〜１５０℃付近にて１〜５
時間程度にて終了する。
【０１０９】〔反応式−３〕
【０１１０】
【化４５】
【０１１１】〔式中Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は前記に同
じ。〕 化合物（６）と化合物（４）の反応は、通常のアミド結
合生成反応に付すことにより達成される。この場合、カ
ルボン酸（４）は活性化された化合物を用いてもよい。
アミド結合生成反応として通常のアミド結合生成反応の
条件を適用することができる。例えば（イ）混合酸無水
物法、すなわちカルボン酸（４）にアルキルハロカルボ
ン酸を反応させて混合酸無水物とし、これに化合物
（６）を反応させる方法、（ロ）活性エステル法又は活
性アミド法、すなわちカルボン酸（４）を例えばｐ−ニ
トロフェニルエステル、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミド
エステル、１−ヒドロキシベンゾトリアゾールエステル
等の活性エステル、又はベンズオキサゾリン−２−チオ
ンとの活性アミドとし、これに化合物（６）を反応させ
る方法、（ハ）カルボジイミド法、すなわちカルボン酸
（４）に化合物（６）を例えばジシクロヘキシルカルボ
ジイミド、カルボニルジイミダゾール等の脱水剤の存在
下に脱水結合させる方法、（ニ）カルボン酸ハライド
法、すなわちカルボン酸（４）をハライド体に誘導し、
これに化合物（６）を反応させる方法、（ホ）その他の
方法としてカルボン酸（４）を例えば無水酢酸等の脱水
剤により、カルボン酸無水物とし、これに化合物（６）
を反応させる方法、カルボン酸（４）と例えば低級アル
コールとのエステルに化合物（６）を高圧高温下に反応
させる方法等を挙げることができる。またカルボン酸
（４）をトリフェニルホスフインやジエチルクロロホス
フエート等のリン化合物で活性化し、これに化合物
（６）を反応させる方法も採用されうる。
【０１１２】混合酸無水物法において使用されるアルキ
ルハロカルボン酸としては、例えばクロルギ酸メチル、
ブロムギ酸メチル、クロルギ酸エチル、ブロムギ酸エチ
ル、クロルギ酸イソブチル等が挙げられる。混合酸無水
物は通常のショッテン−バウマン反応により得られ、こ
れを通常単離することなく化合物（６）と反応させるこ
とにより化合物（７）が製造される。ショッテン−バウ
マン反応は通常塩基性化合物の存在下行なわれる。用い
られる塩基性化合物としてはショッテン−バウマン反応
に慣用の化合物が用いられ、例えばトリエチルアミン、
トリメチルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、Ｎ−
メチルモルホリン、４−ジメチルアミノピリジン、ＤＢ
Ｎ、ＤＢＵ、ＤＡＢＣＯ等の有機塩基、炭酸カリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウ
ム等の無機塩基が挙げられる。該反応は−２０〜１００
℃程度、好ましくは０〜５０℃において行なわれ、反応
時間は５分〜１０時間程度、好ましくは５分〜２時間で
ある。得られた混合酸無水物と化合物（６）との反応は
−２０℃〜１５０℃程度、好ましくは１０〜５０℃にて
５分〜１０時間程度、好ましくは５分〜５時間程度行な
われる。混合酸無水物法は特に溶媒を用いなくてもよい
が、一般に溶媒中で行なわれる。用いられる溶媒は混合
酸無水物法に慣用の溶媒がいずれも使用可能であり、具
体的には塩化メチレン、クロロホルム、ジクロルエタン
等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソ
プロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエ
タン等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエス
テル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等の非プロトン性極
性溶媒等が挙げられる。該法におけるカルボン酸
（４）、アルキルハロカルボン酸及び化合物（６）の使
用割合は、通常少なくとも当モルづつ使用されるが、カ
ルボン酸（４）に対してアルキルハロカルボン酸及び化
合物（６）をそれぞれ１〜２倍モル用いるのが好まし
い。
【０１１３】上記（ロ）の活性エステル法又は活性アミ
ド法は、例えばベンズオキサゾリン−２−チオンアミド
を用いる場合を例にとれば、反応に影響を与えない適当
な溶媒、例えば上記混合酸無水物法に用いるものと同様
の溶媒のほか１−メチル−２−ピロリドン等を用い、０
〜１５０℃、好ましくは１０〜１００℃にて、０．５〜
７５時間反応させることにより行なわれる。この場合、
化合物（６）とベンズオキサゾリン−２−チオンアミド
との使用割合は、前者に対して後者を通常少なくとも等
モル、好ましくは等モル〜２倍モルとする。またＮ−ヒ
ドロキシコハク酸イミドエステルを用いる場合は、適当
な塩基、例えば後記カルボン酸ハライド法に用いられる
ものと同様の塩基を用いると反応は有利に進行する。
【０１１４】上記（ハ）のカルボン酸ハライド法は、カ
ルボン酸（４）にハロゲン化剤を反応させて、カルボン
酸ハライドとし、このカルボン酸ハライドを単離精製
し、又は単離精製することなく、これに化合物（６）を
反応させて行なわれる。このカルボン酸ハライドと化合
物（６）との反応は、脱ハロゲン化水素剤の存在下又は
非存在下に適当な溶媒中で行なわれる。脱ハロゲン化水
素剤として通常塩基性化合物が用いられ、上記ショッテ
ン−バウマン反応に用いられる塩基性化合物のほか、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、
水素化カリウム、炭酸銀、ナトリウムメチラート、ナト
リウムエチラート等のアルカリ金属アルコラート等が挙
げられる。なお化合物（６）を過剰量用いて脱ハロゲン
化水素剤として兼用させることもできる。溶媒としては
前記ショッテン−バウマン反応に用いられる溶媒の他、
例えば水、メタノール、エタノール、プロパノール、ブ
タノール、３−メトキシ−１−ブタノール、エチルセル
ソルブ、メチルセロソルブ等のアルコール類、ピリジ
ン、アセトン、アセトニトリル等、又はそれらの２種以
上の混合溶媒が挙げられる。化合物（６）とカルボン酸
ハライドとの使用割合は特に限定されず広範囲に選択さ
れるが、通常前者に対して後者を少なくとも等モル、好
ましくは等モル〜５倍モル用いられる。反応温度は通常
−３０〜１８０℃程度、好ましくは約０〜１５０℃で、
一般に５分〜３０時間で反応は完結する。用いられるカ
ルボン酸ハライドは、カルボン酸（４）とハロゲン化剤
とを無溶媒または溶媒中にて反応させて製造される。溶
媒としては、反応に悪影響を与えないものであれば使用
でき、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類、クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素
等のハロゲン化炭化水素類、ジオキサン、テトラヒドロ
フラン、ジエチルエーテル等のエーテル類、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。ハ
ロゲン化剤としては、カルボキシ基の水酸基をハロゲン
に変え得る通常のハロゲン化剤を使用でき、例えば塩化
チオニル、オキザリルクロリド、オキシ塩化リン、オキ
シ臭化リン、五塩化リン、五臭化リン等が例示できる。
カルボン酸（４）とハロゲン化剤との使用割合は特に限
定されず適宜選択されるが、無溶媒下で反応を行なう場
合には、通常前者に対して、後者を大過剰量、また溶媒
中で反応を行なう場合には、通常前者に対して後者を少
なくとも等モル量程度、好ましくは２〜４倍モル量を用
いる。その反応温度及び反応時間も特に限定されない
が、通常室温〜１００℃程度、好ましくは５０〜８０℃
にて、３０分間〜６時間程度で行なわれる。
【０１１５】カルボン酸（４）をトリフェニルホスフイ
ンやジエチルクロロホスフエート、シアノリン酸ジエチ
ル等のリン化合物で活性化し、これに化合物（６）を反
応させる方法は、適当な溶媒中で行なわれる。溶媒とし
ては反応に影響を与えないものならば、いずれも使用す
ることができ、具体的には塩化メチレン、クロロホル
ム、ジクロルエタン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等
のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘ
キサメチルリン酸トリアミドの非プロトン性極性溶媒等
が挙げられる。該反応では化合物（６）自体が塩基性化
合物として働くため、これを理論量より過剰に用いるこ
とによって反応は良好に進行するが、必要に応じて、他
の塩基性化合物、例えば、トリエチルアミン、トリメチ
ルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、Ｎ−メチルモ
ルホリン、４−ジメチルアミノピリジン、ＤＢＮ、ＤＢ
Ｕ、ＤＡＢＣＯ等の有機塩基、炭酸カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無
機塩基を用いることもできる。該反応は約０〜１５０
℃、好ましくは約０〜１００℃で、約１〜３０時間行な
うことにより達成される。化合物（６）に対するリン化
合物及びカルボン酸（４）の使用割合は、それぞれ、通
常少なくとも等モル量程度、好ましくは１〜３倍モル量
である。
【０１１６】化合物（７）を化合物（１ｂ）に導く反応
は、２，４−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−
ジチア−２，４−ジフォスフェタン−２，４−ジサルフ
ィド（Lawesson's Reagent）、五硫化リン等の硫黄化剤
の存在下、無溶媒下又は適当な溶媒中反応させることに
より製造されることができる。ここで使用される溶媒と
しては、前記反応式−２の化合物（２）と化合物（４）
の反応で用いた溶媒をいずれも使用することができる。
【０１１７】硫黄化剤の使用量は、化合物（７）に対し
て、通常０．５〜２倍モル量、好ましくは０．５〜１．
５倍モル量とするのがよい。該反応は、通常５０〜３０
０℃、好ましくは５０〜２５０℃付近にて、１〜７時間
程度にて終了する。
【０１１８】出発原料としての化合物（２）は例えば下
記反応式−４又は−５の方法にて製造することができ
る。
【０１１９】〔反応式−４〕
【０１２０】
【化４６】
【０１２１】〔式中Ｒ2 、Ｒ3 及びＹは前記に同じ。〕 化合物（８）のハロゲン化反応は、適当な溶媒中、ハロ
ゲン化剤の存在下行なわれることができる。ここで使用
されるハロゲン化剤としては、例えば臭素、塩素等のハ
ロゲン分子、塩化ヨウ素、スルフリルクロリド、臭化第
１銅等の銅化合物、Ｎ−ブロモコハク酸イミド、Ｎ−ク
ロロコハク酸イミド等のＮ−ハロゲン化コハク酸イミド
等を例示できる。使用される溶媒としては、例えばジク
ロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭
素等のハロゲン化炭化水素類、酢酸、プロピオン酸等の
脂肪酸、二硫化炭素等を例示できる。ハロゲン化剤の使
用量としては、化合物（８）に対して、通常等モル〜１
０倍モル量、好ましくは等モル〜５倍モル量使用するの
がよい。該反応は、通常０〜溶媒の沸点温度、好ましく
は０〜１００℃付近にて通常５分〜２０時間程度にて終
了する。
【０１２２】〔反応式−５〕
【０１２３】
【化４７】
【０１２４】〔式中Ｒ2 及びＹは前記に同じ。Ｙ1 は、
ハロゲン原子を示す。Ｒ3'は水素原子、低級アルキル
基、低級アルコキシカルボニル低級アルキル基、低級ア
ルコキシカルボニル基、カルバモイル低級アルキル基、
フェニル環上に置換基として低級アルコキシ基を有する
ことのあるまた低級アルキル基上に置換基として水酸基
を有することのあるフェニル低級アルキル基、フェニル
環上に置換基として低級アルコキシ基を有することのあ
るベンゾイル基、フェニル環上に置換基として低級アル
コキシ基を有することのあるフェニル低級アルケニル基
及びアダマンチル基以外の前記Ｒ3 を示す。〕 化合物（９）と化合物（１０）又は（１１）の反応は、
一般にフリーデル−クラフツ反応（Friedel-Crafts rea
ction ）と呼ばれ、適当な溶媒中ルイス酸の存在下に行
なわれることができる。ここで使用されるルイス酸とし
ては、一般に該反応で用いられるルイス酸はいずれも使
用可能であるが、例えば塩化アルミニウム、塩化亜鉛、
塩化鉄、塩化錫、三臭化ホウ素、三弗化ホウ素、濃硫酸
等を例示できる。使用される溶媒としては、例えば二硫
化炭素、ニトロベンゼン、クロロベンゼン等の芳香族炭
化水素類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭
素、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類等を
例示できる。化合物（１０）又は（１１）の使用量とし
ては、化合物（９）に対して、少なくとも等モル、好ま
しくは等モル〜５倍モル量使用するのがよい。ルイス酸
の使用量としては、化合物（９）に対して、通常２〜６
倍モル量とするのがよい。該反応は、通常０〜１２０
℃、好ましくは０〜７０℃程度で、０．５〜２４時間程
度にて終了する。
【０１２５】出発原料としての化合物（３）は例えば下
記反応式−６又は−７の方法にて製造することができ
る。
【０１２６】〔反応式−６〕
【０１２７】
【化４８】
【０１２８】〔Ｒ1 は前記に同じ。Ｒ4 は低級アルキル
基を示す。〕 化合物（１２）と化合物（１３）の反応は、適当な溶媒
中、酸の存在下反応させることにより行なわれることが
できる。ここで使用される溶媒としては、前記反応式−
２の化合物（２）と化合物（４）の反応で用いられた溶
媒であればいずれも使用可能である。使用される酸とし
ては、塩酸、臭化水素酸、硫酸等の鉱酸を例示できる。
化合物（１３）の使用量は、化合物（１２）に対して、
通常等モル〜５倍モル量、好ましくは等モル〜３倍モル
量とするのがよい。該反応は通常室温〜２００℃、好ま
しくは室温〜１５０℃付近にて、１〜１５時間程度にて
終了する。
【０１２９】〔反応式−７〕
【０１３０】
【化４９】
【０１３１】〔式中Ｒ1 は前記に同じ。〕 化合物（１４）を化合物（３ｂ）に導く反応は、適当な
溶媒中、硫黄化剤の存在下反応させることにより製造さ
れることができる。ここで使用される溶媒としては、前
記反応式−２の化合物（２）と化合物（４）の反応で用
いられた溶媒であれば、いずれも使用可能である。ここ
で使用される硫黄化剤としては、例えば五硫化リン、La
wesson's Reagent等を例示できる。硫黄化剤の使用割合
としては、通常１〜１０倍モル量、好ましくは１〜２倍
モル量使用するのがよい。該反応は、通常室温〜１５０
℃、好ましくは室温〜１００℃付近にて、１０分〜５時
間程度にて終了する。
【０１３２】一般式（１）で、Ｒ1 又はＲ3 が三級の窒
素原子を少なくとも一つ有する５〜１５員環の単環、二
項環又は三項環の複素環残基のとき、酸化することによ
り、該複素環残基の少なくとも一つの窒素原子がオキシ
ド化（Ｎ→Ｏ）された化合物に導くことができる。また
一般式（１）でＲ1 又はＲ3 が低級アルキルチオ基を少
なくとも一つ有するフェニル基のとき、同様の条件で酸
化することにより、低級アルキルスルフィニル基又は低
級アルキルスルホニル基を少なくとも一つ有するフェニ
ル基に導くことができる。
【０１３３】又上記二つの基（三級の窒素原子を少なく
とも一つ有する５〜１５員環、二項環又は三項環の複素
環残基又は低級アルキルチオ基を少なくとも一つ有する
フェニル基）が同時に存在するとき、該酸化条件で同時
に酸化されることがあるが、このものは容易に分離可能
である。
【０１３４】これら、酸化反応は、適当な溶媒中、酸化
剤の存在下に行なわれることができる。ここで使用され
る溶媒としては、例えば水、ギ酸、酢酸、トリフルオロ
酢酸等の有機酸、メタノール、エタノール等のアルコー
ル類、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭
化水素類又はこれらの混合溶媒等を例示できる。使用さ
れる酸化剤としては、例えば過ギ酸、過酢酸、過トリフ
ルオロ酢酸、過安息香酸、ｍ−クロロ過安息香酸、ｏ−
カルボニル過安息香酸等の過酸、過酸化水素、メタ過ヨ
ウ素酸ナトリウム、重クロム酸、重クロム酸ナトリウ
ム、重クロム酸カリウム等の重クロム酸塩、過マンガン
酸、過マンガン酸カリウム、過マンガン酸ナトリウム等
の過マンガン酸塩等が挙げられる。酸化剤の使用量とし
ては、通常出発原料に対して、少なくとも等モル、好ま
しくは等モル〜２倍モル量使用するのがよい。該反応
は、通常０〜４０℃、好ましくは０℃〜室温付近にて、
１〜１５時間程度にて終了する。
【０１３５】一般式（１）のＲ1 又はＲ3 が、Ｎ−オキ
シド基を少なくとも一つ有する５〜１５員環の単環、二
項環又は三項環の複素環残基のとき、テトラリン、ジフ
エニルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、無水酢酸等の高沸点溶媒中、通常１００〜２５０
℃、好ましくは１００〜２００℃付近にて１〜１０時間
程度反応させることにより、オキソ基を少なくとも一つ
有する５〜１５員環の単環、二項環又は三項環の複素環
残基に導くことができる。
【０１３６】一般式（１）のＲ1 又はＲ3 が複素環の窒
素原子に隣接するオキソ基を少なくとも１つ有する５〜
１５員環の単環、二項環又は三項環の複素環残基のと
き、還元することにより少なくとも一つのオキソ基がメ
チレン基に変った化合物に導くことができる。
【０１３７】該還元は、例えば、適当な溶媒中触媒の存
在下、接触水素添加することにより行なうことができ
る。使用される溶媒としては、例えば水、酢酸、メタノ
ール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール
類、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素類、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル類、酢酸
エチル、酢酸メチル等のエステル類、ジメチルホルムア
ミド等の非プロトン性極性溶媒又はこれらの混合溶媒等
が挙げられる。また使用される触媒としては、例えばパ
ラジウム、パラジウム−黒、パラジウム−炭素、白金、
酸化白金、亜クロム酸銅、ラネーニッケル等が用いられ
る。触媒の使用量としては、出発化合物に対して一般に
０．０２〜１倍量程度用いるのがよい。反応温度は通常
−２０〜１００℃付近、好ましくは０〜７０℃付近、水
素圧は通常１〜１０気圧とするのがよく、該反応は一般
に０．５〜２０時間程度で終了する。上記接触水素添加
によっても行なうことができるが、好ましくは水素化還
元剤を用いる還元法が好適に利用される。用いられる水
素化還元剤としては、例えば水素化アルミニウムリチウ
ム、水素化ホウ素ナトリウム、ジボラン等が挙げられ、
その使用量は、通常出発化合物に対して少なくとも等モ
ル、好ましくは等モル〜１５倍モルの範囲である。この
還元反応は、通常適当な溶媒、例えば水、メタノール、
エタノール、イソプロパノール等の低級アルコール類、
テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、ジグライム等のエーテル類やこれらの混合
溶媒等を用い、通常約−６０〜１５０℃、好ましくは−
３０〜１００℃にて、約１０分間〜１０時間程度で行な
われる。なお、還元剤として水素化アルミニウムリチウ
ムやジボランを用いた場合には、ジエチルエーテル、ジ
イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジグライ
ム等の無水の溶媒を用いるのがよい。
【０１３８】化合物（１）でＲ1 又はＲ3 が低級アルコ
キシ基又は低級アルコキシ置換低級アルコキシ基を少な
くとも一つ有するフェニル基のとき、脱アルキル化反応
又は脱アルコキシアルキル化反応することにより水酸基
を少なくとも一つ有するフェニル基に導くことができ
る。
【０１３９】該脱アルキル化反応は、適当な溶媒、例え
ば水、メタノール、エタノール、イソプロパノール等の
低級アルコール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等
のエーテル類、酢酸等の溶媒又はこれらの混合溶媒中
で、パラジウム−炭素、パラジウム−黒等の接触還元触
媒の存在下に、０〜１００℃付近にて、水素圧１〜１０
気圧で０．５〜３時間程度処理するか、又は臭化水素
酸、塩酸等の酸と水、メタノール、エタノール、イソプ
ロパノール等の溶媒との混合物中で、３０〜１５０℃、
好ましくは５０〜１２０℃に加熱処理することにより、
Ｒ1 又はＲ3 が水酸基である化合物（１）に導くことが
できる。また、加水分解することによってもＲ1 又はＲ
3 が水酸基である化合物（１）を得ることができる。こ
の加水分解は適当な溶媒中酸又は塩基性化合物の存在下
にて行なわれる。溶媒としては例えば水、メタノール、
エタノール、イソプロパノール等の低級アルコール類、
ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ジク
ロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化
炭化水素類、アセトニトリル等の極性溶媒、酢酸等の脂
肪酸等、これらの混合溶媒等を挙げることができる。酸
としては例えば塩酸、硫酸、臭化水素酸等の鉱酸類、ト
リフルオロ酢酸等の有機酸、三弗化ホウ素、三臭化ホウ
素、塩化アルミニウム等のルイス酸、ヨウ化ナトリウ
ム、ヨウ化カリウム等のヨウ化物、上記ルイス酸とヨウ
化物の混合物等を、また塩基性化合物としては例えば水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等
の金属水酸化物等をそれぞれ挙げることができる。該反
応は通常室温〜２００℃、好ましくは室温〜１５０℃に
て好適に進行し、一般に０．５〜５０時間程度で終了す
る。
【０１４０】化合物（１）でＲ1 又はＲ3 が水酸基を少
なくとも一つ有するフェニル基のとき、アルキル化反応
することにより、低級アルコキシ基又は低級アルコキシ
置換低級アルコキシ基を少なくとも一つ有するフェニル
基に導くことができる。該アルキル化反応としては、例
えば適当な溶媒中、塩基性化合物の存在下硫酸ジメチル
等の硫酸ジアルキルやジアゾメタン、一般式 Ｒ5 Ｙ （１５） 〔式中、Ｒ5 は低級アルキル基又は低級アルコキシ置換
低級アルキル基、Ｙはハロゲン原子を示す。〕で表わさ
れる化合物等のアルキル化剤と反応することにより、行
なわれることができる。ここで使用される溶媒として
は、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール等
の低級アルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエ
ーテル等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン
等の芳香族炭化水素類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエ
ステル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン
類、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等の極性
溶媒等又はこれらの混合溶媒等を例示できる。使用され
る塩基性化合物としては、例えば水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水
素ナトリウム、炭酸水素カリウム、水素化ナトリウム等
の無機塩基、金属ナトリウム、金属カリウム等のアルカ
リ金属類、ナトリウムエチラート、ナトリウムメチラー
ト等のアルカル金属アルコラート類、トリエチルアミ
ン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−メチル
モルホリン、４−メチルアミノピリジン、ＤＢＮ、ＤＢ
Ｕ及びＤＡＢＣＯ等の有機塩基等を例示できる。アルキ
ル化剤の使用量としては、出発化合物に対して少なくと
も等モル量、好ましくは等モル〜５倍モル量使用するの
がよい。該反応は、通常０〜１５０℃、好ましくは室温
〜１００℃付近にて０．５〜２０時間程度にて反応は終
了する。
【０１４１】化合物（１）でＲ1 又はＲ3 がアルコキシ
カルボニル基、低級アルコキシ基置換低級アルコキシカ
ルボニル基、低級アルコキシカルボニル置換低級アルケ
ニル基もしくは低級アルコキシカルボニル低級アルキル
基を少なくとも一つ有するフェニル基又は低級アルコキ
シカルボニル基を少なくとも一つ有する窒素原子、酸素
原子又は硫黄原子を１〜２個有する５〜１５員環の単
環、二項環又は三項環の複素環残基のとき、加水分解す
ることにより、カルボキシ基、カルボキシ置換低級アル
ケニル基もしくはカルボキシ置換低級アルキル基を少な
くとも一つ有するフェニル基又はカルボキシ基を少なく
とも一つ有する窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を１〜
２個有する５〜１５員環の単環、二項環又は三項環の複
素環残基に導くことができる。
【０１４２】該加水分解反応は、通常の加水分解の反応
条件をいずれも適用でき、具体的には例えば炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化バリウム等の塩基性化合物、硫酸、塩酸、硝
酸等の鉱酸、酢酸、芳香族スルホン酸等の有機酸等の存
在下、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール
等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等の
ケトン類、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエ
ーテル等のエーテル類、酢酸等の溶媒又はそれらの混合
溶媒中にて行なわれる。該反応は、通常室温〜２００
℃、好ましくは室温〜１８０℃付近にて進行し、一般に
１０分〜３０時間程度にて終了する。
【０１４３】化合物（１）で、Ｒ1 又はＲ3 が低級アル
キル基又は低級アルカノイル基を１個有することのある
アミノ基を少なくとも一つ有するフェニル基、Ｒ8 及び
Ｒ9 がこれらが結合する窒素原子と共に５〜６員環の飽
和の複素環を形成し、二級の窒素原子を有するとき、又
は二級の窒素原子を少なくとも一つ有する５〜１５員環
の単環、二項環又は三項環の複素環残基のとき、アルキ
ル化反応することにより低級アルキル基を１〜２個又は
低級アルキル基及び低級アルカノイル基を有するアミノ
基を少なくとも一つ有するフェニル基、Ｒ8 及びＲ9 が
これらが結合する窒素原子と共に５〜６員環の飽和の複
素環を形成し、窒素原子上に低級アルキル基が置換した
複素環又は窒素原子上に低級アルキル基が置換した窒素
原子を少なくとも一つ有する５〜１５員環の単環、二項
環又は三項環の複素環残基に導くことができる。該反応
で、上記二つの基（アミノ基を少なくとも一つ有するフ
ェニル基、二級の窒素原子を少なくとも一つ有する５〜
１５員環の単環、二項環又は三項環の複素環残基又はア
ミノ低級アルキル基）が同時に存在するとき、同時にア
ルキル化されることがあるが、このものは容易に分離可
能である。
【０１４４】該アルキル化反応は、適当な不活性溶媒
中、脱ハロゲン化水素剤の存在下一般式 Ｒ5 Ｙ （１５） 〔式中、Ｒ5 及びＹは前記に同じ。〕で表わされる化合
物と反応させることにより行なわれる。
【０１４５】ここで使用される不活性溶媒としては、ジ
クロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素
類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテ
ル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチル
リン酸トリアミド、アセトニトリル、アセトン、酢酸、
ピリジン、水等の極性溶媒等を例示できる。使用される
脱ハロゲン化水素剤としては、例えばトリエチルアミ
ン、トリメチルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、
Ｎ−メチルモルホリン、４−ジメチルアミノピリジン、
４−（１−ピロリジニル）ピリジン、１，５−ジアザビ
シクロ〔４，３，０〕ノネン−５（ＤＢＮ）、１，８−
ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウンデセン−７（ＤＢ
Ｕ）、１，４−ジアザビシクロ〔２，２，２〕オクタン
（ＤＡＢＣＯ）、酢酸ナトリウム等の有機塩基、水素化
ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素
カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化ナトリウム等の無機塩基が挙げられる。出発原料に対
する化合物（１５）の使用量としては、通常少なくとも
等モル、好ましくは等モル〜３倍モルとするのがよい。
該反応は、通常−２０〜１５０℃程度、好ましくは０〜
１００℃にて行なわれ、反応時間は５分〜１５時間程度
にて終了する。
【０１４６】化合物（１）で、Ｒ1 又はＲ3 が低級アル
キル基を１個有することのあるアミノ基を少なくとも一
つ有するフェニル基、水酸基を少なくとも一つ有するフ
ェニル基又は二級の窒素原子を少なくとも一つ有する５
〜１５員環の単環、二項環又は三項環の複素環残基、Ｒ
8 及びＲ9 がこれらが結合する窒素原子と共に５〜６員
環の飽和の複素環を形成し、二級の窒素原子を有すると
き、また置換基として水酸基又は水酸基置換低級アルキ
ル基を少なくとも一つ有するテトラヒドロピラニルオキ
シ基を少なくとも一つ有するフェニル基のとき、低級ア
ルカノイル化反応することにより、低級アルカノイル基
を１個又は低級アルカノイル基及び低級アルキル基を有
するアミノ基を少なくとも一つ有するフェニル基、低級
アルカノイルオキシ基を少なくとも一つ有するフェニル
基又は窒素原子上に低級アルカノイル基が置換した窒素
原子を少なくとも一つ有する５〜１５員環の単環、二項
環又は三項環の複素環残基、Ｒ8 及びＲ9 がこれらが結
合する窒素原子と共に５〜６員環の飽和の複素環を形成
し、窒素原子上に低級アルカノイル基が置換した複素環
又は置換基として低級アルカノイルオキシ基又は低級ア
ルカノイルオキシ基置換低級アルキル基を少なくとも一
つ有するテトラヒドロピラニルオキシ基を少なくとも一
つ有するフェニル基に導くことができる。該反応で上記
三つの基（低級アルキル基を１個有することのあるアミ
ノ基を少なくとも一つ有するフェニル基、水酸基を少な
くとも一つ有するフェニル基又は二級の窒素原子を少な
くとも一つ有する５〜１５員環の単環、二項環又は三項
環の複素環残基）が同時に存在するとき、同時にアルカ
ノイル化されることがあるがこのものは容易に分離可能
である。
【０１４７】該アルカノイル化反応は、一般式 Ｒ6 Ｙ （１６） 又は （Ｒ6 ）2 Ｏ （１７） 〔各式中、Ｒ6 は低級アルカノイル基を示す。Ｙは前記
に同じ。〕で表わされる化合物等のアルカノイル化剤
と、無溶媒又は適当な溶媒中、塩基性化合物の存在下も
しくは不存在下、好ましくは存在下に行なわれる。適当
な溶媒としては例えば前述芳香族炭化水素類、メタノー
ル、エタノール、プロパノール等の低級アルコール類、
ＤＭＦ、ＤＭＳＯ等の他、クロロホルム、塩化メチレン
等のハロゲン化炭化水素類、アセトン、ピリジン等を使
用できる。塩基性化合物としては例えばトリエチルアミ
ン、ピリジン等の第三級アミン類、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水素化ナトリウム等を例示できる。低
級アルカノイル化剤の使用割合は、出発原料に対し等モ
ル量以上、好ましくは等モル〜１０倍モルとすればよ
く、反応は、通常室温〜２００℃好ましくは室温〜１５
０℃下に０．５時間〜１５時間程度で完結する。
【０１４８】化合物（１）でＲ1 又はＲ3 が二級の窒素
原子を少なくとも一つ有する５〜１５員環の単環、二項
環又は三項環の複素環残基のとき、一般式 Ｒ7 Ｙ （１８） 〔式中、Ｒ7 はベンゾイル基を示す。Ｙはハロゲン原子
を示す。〕で表わされる化合物と反応させることによ
り、窒素原子上にベンゾイル基が置換した窒素原子を少
なくとも一つ有する５〜１５員環の単環、二項環又は三
項環の複素環残基に導くことができる。
【０１４９】該反応は、前記アルキル化反応と同様の条
件下に行なわれることができる。
【０１５０】化合物（１）で、Ｒ1 又はＲ3 がカルボキ
シ基を少なくとも一つ有するフェニル基又はカルボキシ
基を少なくとも一つ有する窒素原子、酸素原子又は硫黄
原子を１〜２個有する５〜１５員環の単環、二項環又は
三項環の複素環残基のとき、エステル化反応することに
より、アルコキシカルボニル基又はフェニル低級アルコ
キシカルボニル基を少なくとも一つ有するフェニル基又
は低級アルコキシカルボニル基を少なくとも一つ有する
窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を１〜２個有する５〜
１５員環の単環、二項環又は三項環の複素環残基に導く
ことができる。
【０１５１】該エステル化反応としては、塩酸、硫酸等
の鉱酸、チオニルクロリド、オキシ塩化リン、五塩化リ
ン、三塩化リン等のハロゲン化剤の存在下、メチルアル
コール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、
ベンジルアルコール等のアルコール類と、通常０〜１５
０℃、好ましくは５０〜１００℃にて、１〜１０時間程
度反応させることにより行なわれることができる。
【０１５２】一般式（１）で、Ｒ1 又はＲ3 が隣接する
水酸基及びアミノ基を有するフェニル基のとき、適当な
溶媒中、塩基性化合物の存在下、ホスゲンと反応させる
ことにより、一般式（１）で、Ｒ1 又はＲ3 がベンズオ
キサゾール−２−オンである化合物に導くことができ
る。ここで使用される塩基性化合物及び溶媒は、前記反
応式−２の化合物（２）と化合物（４）で用いられた塩
基性化合物及び溶媒をいずれも使用可能である。
【０１５３】該反応は、通常０〜１００℃、好ましくは
０〜７０℃付近にて、１〜５時間程度にて終了する。
一般式（１）でＲ1 又はＲ3が置換基として低級アルキ
ル基を有することのあるアミド基を少なくとも一つ有す
るフェニル基である化合物は、前記反応式−３のアミド
結合生成反応と同様の条件下、一般式（１）でＲ1 又は
Ｒ3 が置換基としてカルボキシ基を少なくとも一つ有す
ることのあるフェニル基と置換基として低級アルキル基
を有することのあるアミンと反応させることにより得る
ことができる。
【０１５４】一般式（１）でＲ1 又はＲ3 がフェニル環
上に置換基として低級アルコキシ基を有することのある
ベンゾイル基である化合物のとき、前記一般式（１）の
Ｒ1 又はＲ3 が複素環の窒素原子に隣接するオキソ基を
少なくとも１つ有する５〜１５員環の単環、二項環又は
三項環の複素環残基の還元反応のうち水素化還元剤を用
いる還元法と同様の条件下に還元することにより、一般
式（１）でＲ1 またはＲ3 がフェニル環上に置換基とし
て低級アルコキシ基を有することのある又低級アルキル
基上に置換基として水酸基を有するフェニル低級アルキ
ル基である化合物に導くことができる。
【０１５５】一般式（１）でＲ1 又はＲ3 がフェニル環
上に置換基として低級アルコキシ基を有することのある
ベンジル基である化合物のとき、前記一般式（１）でＲ
1 又はＲ3 が三級の窒素原子を少なくとも一つ有する５
〜１５員環の単環、二項環又は三項環の複素環残基のと
きの酸化反応の条件のうち、反応温度を通常室温〜２０
０℃、好ましくは室温〜１５０℃にする他は、同様の条
件下にて反応して、一般式（１）でＲ1 又はＲ3 がフェ
ニル環上に置換基として低級アルコキシ基を有すること
のあるベンゾイル基に導くことができる。
【０１５６】〔反応式−８〕
【０１５７】
【化５０】
【０１５８】〔式中Ｒ1 、Ｒ2 及びＸは前記に同じ。Ｒ
10は、アルコキシ基、トリ低級アルキル基置換シリルオ
キシ基、低級アルキル基、水酸基、低級アルケニルオキ
シ基、低級アルキルチオ基、フェニル基（該フェニル基
には、チアゾリル環上に置換基としてフェニル環上に低
級アルコキシ基を有することのあるフェニル基を有する
チアゾリル基、カルボキシル基及び水酸基なる群から選
ばれた基を置換基として有していてもよい）、低級アル
キルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、ハロ
ゲン原子、ニトロ基、基−（Ａ）ｌ−ＮＲ8 Ｒ9 （式
中、Ａ、ｌ、Ｒ8 及びＲ9 は、前記に同じ。）低級アル
カノイル基、低級アルカノイルオキシ基、アルコキシカ
ルボニル基、シアノ基、置換基として水酸基、低級アル
コキシカルボニル基、フェニル低級アルコキシ基、水酸
基及び／又は低級アルカノイルオキシ基置換低級アルキ
ル基及び低級アルカノイルオキシ基なる群より選ばれた
基を１〜４個有することのあるテトラヒドロピラニルオ
キシ基、アミジノ基、ヒドロキシスルホニルオキシ基、
低級アルコキシカルボニル置換低級アルコキシ基、カル
ボキシ置換低級アルコキシ基、メルカプト基、低級アル
コキシ置換低級アルコキシ基、水酸基を有する低級アル
キル基、低級アルケニル基、置換基として低級アルキル
基を有することのあるアミノチオカルボニルオキシ基、
置換基として低級アルキル基を有することのあるアミノ
カルボニルチオ基、低級アルカノイル置換低級アルキル
基、カルボキシ基、基−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ21）（Ｏ
Ｒ22）（式中Ｒ21及びＲ22は、前記に同じ。）、フェニ
ル低級アルコキシカルボニル基、低級アルキニル基、低
級アルコキシカルボニル置換低級アルキル基、カルボキ
シ置換低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル置換
低級アルケニル基、カルボキシ置換低級アルケニル基、
ハロゲン原子を有することのある低級アルキルスルホニ
ルオキシ基、低級アルコキシ置換低級アルコキシカルボ
ニル基、ハロゲン原子を有する低級アルケニル基及びフ
ェニル低級アルコキシ基を示す。ｍ及びｍ′は、０又は
１〜３の整数を示す。〕 化合物（１ｃ）と化合物（１９）の反応は、例えばＲ
8 Ｒ9 ＮＨ（１９）（Ｒ8 及びＲ9 は前記に同じ。）と
ホルムアルデヒドと反応させる方法〔マンニッヒ反応
（Mannich Reaction）〕、ＣＨ2 （ＮＲ8 Ｒ9）
2 （２０）と反応させる方法等により導くことができ
る。
【０１５９】の方法は、一般式（１ｃ）の化合物、一
般式（１９）の化合物及びホルムアルデヒドを酸の存在
下又は非存在下、適当な溶媒中にて反応させることによ
り行われる。ここで使用される溶媒としては、マンニッ
ヒ反応で通常使用されるものであれば、いずれも使用可
能であるが、例えば水、メタノール、エタノール、イソ
プロパノール等のアルコール類、酢酸、プロピオン酸等
のアルカン酸、無水酢酸等の酸無水物、アセトン、ジメ
チルホルムアミド等の極性溶媒等又はこれらの混合溶媒
等を例示できる。使用される酸としては、塩酸、臭化水
素酸等の鉱酸、酢酸等の有機酸等を例示できる。ホルム
アルデヒドとしては、２０〜４０重量％ホルムアルデヒ
ドを含む水溶液、三量体、ポリ重合体（パラホルムアル
デヒド）等が通常使用される。一般式（１９）の化合物
の使用量としては、一般式（１ｃ）の化合物に対して通
常少なくとも等モル、好ましくは等モル〜５倍モル量使
用するのがよい。ホルムアルデヒドの使用量としては、
一般式（１ｃ）の化合物に対して少なくとも等モル、通
常大過剰量使用するのがよい。該反応は、通常０〜２０
０℃、好ましくは室温〜１５０℃付近にて好適に進行
し、０．５〜１０時間程度にて反応は終了する。
【０１６０】の方法は、酸の存在下、適当な溶媒中又
は無溶媒下、反応させることにより行われる。ここで使
用される酸としては、塩酸、臭化水素酸、硫酸等の鉱
酸、酢酸、無水酢酸等の有機酸等を例示できるが、好ま
しくは無水酢酸がよい。ここで使用される溶媒として
は、前記の方法で使用される溶媒がいずれも使用可能
である。化合物（２０）の使用量としては一般式（１
ｃ）の化合物に対して通常少なくとも等モル、好ましく
は等モル〜５倍モル使用するのがよい。該反応は、通常
０〜１５０℃、好ましくは室温〜１００℃付近にて、
０．５〜５時間程度にて終了する。
【０１６１】該反応でＲ1 が基
【０１６２】
【化５１】
【０１６３】を示すとき同時に化合物（１９）又は（２
０）と反応した化合物が生成することがあるがこのもの
は容易に分離可能である。
【０１６４】〔反応式−９〕
【０１６５】
【化５２】
【０１６６】〔式中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ10、ｍ、ｍ′及び
Ｘは前記に同じ。〕 化合物（１ｃ′）を化合物（１ｄ′）に導く反応は、前
記反応式の化合物（１ｃ）を化合物（１ｄ）に導く反応
と同様の条件下に行なうことができる。該反応でＲ3 が
基
【０１６７】
【化５３】
【０１６８】を示すとき、同時に化合物（１９）又は
（２０）と反応した化合物が生成することがあるがこの
ものは容易に分離可能である。
【０１６９】〔反応式−１０〕
【０１７０】
【化５４】
【０１７１】〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ8 、Ｒ9 、
Ｒ10、ｍ、及びＸは前記に同じ。ｎは０又は１〜４の整
数を示す。〕 化合物（１ｅ）と化合物（１９）の反応及び化合物（１
ｅ′）と化合物（１９）の反応は、前記反応式−３の化
合物（６）と化合物（４）の反応と同様の条件下に行わ
れることができる。
【０１７２】〔反応式−１１〕
【０１７３】
【化５５】
【０１７４】〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ8 、Ｒ9 、
Ｒ10、ｎ及びＸは前記に同じ。〕 化合物（１ｆ）を化合物（１ｇ）に導く反応及び化合物
（１ｆ′）を化合物（１ｇ′）に導く反応は、前記一般
式（１）のＲ1 又はＲ3 が複素環の窒素原子に隣接する
オキソ基を少なくとも１つ有する５〜１５員環の単環、
二項環又は三項環の複素環残基の還元反応と同様の条件
下に行われることができる。
【０１７５】〔反応式−１２〕
【０１７６】
【化５６】
【０１７７】〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ8 、Ｒ9 、Ｒ10、
Ｘ及びｎは前記に同じ。Ｙa はハロゲン原子又はハロゲ
ン原子を有することのある低級アルキルスルホニルオキ
シ基を示す。〕 化合物（１ｈ）と化合物（１９）の反応及び化合物（１
ｈ′）と化合物（１９）の反応は、適当な不活性溶媒
中、塩基性化合物の存在下又は非存在下に行われる。こ
こで使用される不活性溶媒としては、ジクロロメタン、
クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロ
フラン、ジエチルエーテル等のエーテル類、ベンゼン、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸メチ
ル、酢酸エチル等のエステル類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリア
ミド、アセトニトリル、アセトン、酢酸、ピリジン、水
等の極性溶媒等を例示できる。使用される塩基性化合物
としては、例えばトリエチルアミン、トリメチルアミ
ン、ピリジン、ジメチルアニリン、Ｎ−メチルモルホリ
ン、４−ジメチルアミノピリジン、４−（１−ピロリジ
ニル）ピリジン、１，５−ジアザビシクロ〔４，３，
０〕ノネン−５（ＤＢＮ）、１，８−ジアザビシクロ
〔５，４，０〕ウンデセン−７（ＤＢＵ）、１，４−ジ
アザビシクロ〔２，２，２〕オクタン（ＤＡＢＣＯ）、
酢酸ナトリウム等の有機塩基、水素化ナトリウム、炭酸
カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水
素ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等の
無機塩基が挙げられる。化合物（１ｈ）又は（１ｈ′）
に対する化合物（１９）の使用量としては、通常少なく
とも等モル、好ましくは等モル〜３倍モルとするのがよ
い。該反応は、通常−２０〜１８０℃程度、好ましくは
０〜１５０℃にて行なわれ、反応時間は５分〜１５時間
程度にて終了する。該反応は、触媒として、銅粉等を添
加することにより反応は有利に進行する。
【０１７８】〔反応式−１３〕
【０１７９】
【化５７】
【０１８０】〔式中Ｒ1 及びＸは前記に同じ。Ｒ10a 及
びＲ11はそれぞれ低級アルコキシカルボニル基を示
す。〕 化合物（１ｊ）と化合物（２１）の反応は、適当な溶媒
中、封管中にて行なわれる。ここで使用される溶媒とし
ては、前記反応式−１の化合物（２）と化合物（３）の
反応で用いた溶媒をいずれも使用可能である。化合物
（２１）の使用量は、化合物（１ｊ）に対して少なくと
も等モル、通常大過剰量とするのがよい。該反応は通常
５０〜２００℃、好ましくは５０〜１５０℃付近にて、
１０〜５０時間程度にて終了する。
【０１８１】〔反応式−１４〕
【０１８２】
【化５８】
【０１８３】〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ8 、Ｒ9 、
Ｒ10、Ｘ、ｎ及びＹは前記に同じ。Ａ′は低級アルキレ
ン基を示す。〕 化合物（１ｌ）と化合物（１９）の反応及び化合物（１
ｌ′）と化合物（１９）の反応は、適当な不活性溶媒
中、脱ハロゲン化水素剤の存在下に行われる。ここで使
用される不活性溶媒としては、ジクロロメタン、クロロ
ホルム等のハロゲン化炭化水素類、テトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテル等のエーテル類、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸メチル、酢
酸エチル等のエステル類、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミド、ア
セトニトリル、アセトン、酢酸、ピリジン、水等の極性
溶媒又はこれらの混合溶媒等を例示できる。使用される
脱ハロゲン化水素剤としては、例えばトリエチルアミ
ン、トリメチルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、
Ｎ−メチルモルホリン、４−ジメチルアミノピリジン、
４−（１−ピロリジニル）ピリジン、１，５−ジアザビ
シクロ〔４，３，０〕ノネン−５（ＤＢＮ）、１，８−
ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウンデセン−７（ＤＢ
Ｕ）、１，４−ジアザビシクロ〔２，２，２〕オクタン
（ＤＡＢＣＯ）、酢酸ナトリウム等の有機塩基、水素化
ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素
カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化ナトリウム等の無機塩基が挙げられる。化合物（１
ｌ）又は（１ｌ′）に対する化合物（１９）の使用量と
しては、通常少なくとも等モル、好ましくは等モル〜３
倍モルとするのがよい。該反応は、通常−２０〜１５０
℃程度、好ましくは０〜１００℃にて行なわれ、反応時
間は５分〜２０時間程度にて終了する。
【０１８４】〔反応式−１５〕
【０１８５】
【化５９】
【０１８６】〔式中Ｒ1 、Ｒ2 、Ｘ及びＹは前記に同
じ。Ｒ12は、フェニル環上に置換基として低級アルコキ
シ基を有することのあるフェニル基を示す。〕 化合物（１ｎ）と化合物（２２）の反応、及び化合物
（１ｎ′）と化合物（２２）の反応は、適当な溶媒中一
般に−７０℃〜室温、好ましくは−３０℃〜室温付近に
て、１〜６時間で行われることができる。ここで使用さ
れる溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、ジオキ
サン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ベンゼン、
トルエン等の芳香族炭化水素類、ヘキサン、ヘプタン、
ペンタン、シクロヘキサン等の飽和炭化水素類等を例示
できる。化合物（２２）の使用量は、化合物（１ｎ）又
は（１ｎ′）に対して、少なくとも等モル、好ましくは
等モル〜２倍モル量とするのがよい。
【０１８７】化合物（１ｏ）を化合物（１ｐ）に導く反
応及び化合物（１ｏ′）を化合物（１ｐ′）に導く反応
は、適当な溶媒中、酸化剤の存在下で行われる。ここで
使用される酸化剤としては、ＤＤＱ、ピリジニウムクロ
ロクロメイト、ピリジニウムジクロロクロメイト等のピ
リジニウムクロム酸塩、ジメチルスルホキシド−オキザ
リルクロリド、重クロム酸、重クロム酸ナトリウム、重
クロム酸カリウム等の重クロム酸塩、過マンガン酸、過
マンガン酸カリウム、過マンガン酸ナトリウム等の過マ
ンガン酸塩等を例示できる。使用される溶媒としては、
例えば水、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸、
メタノール、エタノール等のアルコール類、クロロホル
ム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、テトラ
ヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエー
テル類、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド
又はこれらの混合溶媒を例示できる。酸化剤は、通常出
発原料に対して通常大過剰量使用するのがよい。反応
は、通常０〜１５０℃程度、好ましくは、０〜１００℃
程度にて、１〜７時間程度にて終了する。
【０１８８】〔反応式−１６〕
【０１８９】
【化６０】
【０１９０】〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 及びＸは前記に
同じ。Ｒ13、Ｒ14及びＲ15は、それぞれフェニル基又は
低級アルキル基を示す。Ｒ16は、フェニル環上に置換基
として低級アルキル基を有することのあるフェニル低級
アルキル基を示す。〕 化合物（１ｎ）と化合物（２３）の反応及び化合物（１
ｎ′）と化合物（２３）の反応はウィッティヒ（Wittig
Reaction ）と呼ばれるものである。該反応は、塩基性
化合物の存在下、溶媒中で行われる。ここで使用される
塩基性化合物としては、金属ナトリウム、金属カリウ
ム、水素化ナトリウム、ナトリウムアミド、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基、カリウム−ｔ−
ブトキシド、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラ
ート等の金属アルコラート類、メチルリチウム、ｎ−ブ
チルリチウム、フェニルリチウム等のリチウム塩、ピリ
ジン、ピペリジン、キノリン、トリエチルアミン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアニリン等の有機塩基等を例示できる。溶
媒としては、反応に悪影響を与えないものであればいず
れも使用できるが、例えばジエチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、モノグライム、ジグライム等
のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素類、ｎ−ヘキサン、ペンタン、ヘプタン、シ
クロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、ピリジン、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリン等のアミン類、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリア
ミド等の非プロトン性極性溶媒等が挙げられる。一般式
（２３）の化合物の使用量は、一般式（１ｎ）又は（１
ｎ′）の化合物に対して通常少なくとも等モル量程度、
好ましくは等モル〜５倍モル量程度とするのがよい。該
反応の反応温度は、通常−７０〜１５０℃程度、好まし
くは−５０〜１２０℃付近とするのがよく、一般に０．
５〜１５時間程度で該反応は完結する。
【０１９１】〔反応式−１７〕
【０１９２】
【化６１】
【０１９３】〔式中Ａ′、Ｙ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｘは前記に
同じ。Ｙ′はハロゲン原子を示す。Ｒ17は、ピペラジン
環上に置換基として低級アルキル基を有することのある
ピペラジニル基を示す。〕 化合物（２４）と化合物（３）の反応は、前記反応式−
１の化合物（２）と化合物（３）の反応と同様の条件下
に行われることができる。化合物（２５）と化合物（２
６）の反応は、前記反応式−１４の化合物（１ｌ′）と
化合物（１９）の反応と同様の条件下に行われることが
できる。
【０１９４】〔反応式−１８〕
【０１９５】
【化６２】
【０１９６】〔式中Ｒ1 、Ｒ3 及びＸは前記に同じ。Ｒ
19及びＲ20は同一又は異なって、水素原子又は低級アル
キル基を示す。〕 化合物（１ｓ）と化合物（３０）の反応は、例えばＲ
19Ｒ20ＮＨ（３０）（Ｒ19及びＲ20は前記に同じ。）と
ホルムアルデヒドと反応させる方法〔マンニッヒ反応
（Mannich Reaction）〕、ＣＨ2 （ＮＲ19Ｒ20）
2 （３１）と反応させる方法等により導くことができ
る。
【０１９７】の方法は、一般式（１ｓ）の化合物、一
般式（３０）の化合物及びホルムアルデヒドを酸の存在
下又は非存在下、適当な溶媒中にて反応させることによ
り行われる。ここで使用される溶媒としては、マンニッ
ヒ反応で通常使用されるものであれば、いずれも使用可
能であるが、例えば水、メタノール、エタノール、イソ
プロパノール等のアルコール類、酢酸、プロピオン酸等
のアルカン酸、無水酢酸等の酸無水物、アセトン、ジメ
チルホルムアミド等の極性溶媒等又はこれらの混合溶媒
等を例示できる。使用される酸としては、塩酸、臭化水
素酸等の鉱酸、酢酸等の有機酸等を例示できる。ホルム
アルデヒドとしては、２０〜４０重量％ホルムアルデヒ
ドを含む水溶液、三量体、ポリ重合体（パラホルムアル
デヒド）等が通常使用される。一般式（３０）の化合物
の使用量としては、一般式（１ｓ）の化合物に対して通
常少なくとも等モル、好ましくは等モル〜５倍モル量使
用するのがよい。ホルムアルデヒドの使用量としては、
一般式（１ｓ）の化合物に対して少なくとも等モル、通
常大過剰量使用するのがよい。該反応は、通常０〜２０
０℃、好ましくは室温〜１５０℃付近にて好適に進行
し、０．５〜１０時間程度にて反応は終了する。
【０１９８】の方法は、酸の存在下、適当な溶媒中又
は無溶媒下、反応させることにより行われる。ここで使
用される酸としては、塩酸、臭化水素酸、硫酸等の鉱
酸、酢酸、無水酢酸等の有機酸等を例示できるが、好ま
しくは無水酢酸がよい。ここで使用される溶媒として
は、前記の方法で使用される溶媒がいずれも使用可能
である。化合物（３１）の使用量としては一般式（１
ｓ）の化合物に対して通常少なくとも等モル、好ましく
は等モル〜５倍モル使用するのがよい。該反応は、通常
０〜１５０℃、好ましくは室温〜１００℃付近にて、
０．５〜５時間程度にて終了する。
【０１９９】〔反応式−１９〕
【０２００】
【化６３】
【０２０１】〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 及びＸは前記に同じ。
Ｒ26は、低級アルキル基を示す。〕 化合物（１ｕ）の還元反応は、水素化還元剤を用いる還
元法が好適に利用される。用いられる水素化還元剤とし
ては、例えば水素化アルミニウムリチウム、水素化ホウ
素ナトリウム、ジボラン等が挙げられ、その使用量は、
通常出発化合物に対して少なくとも等モル、好ましくは
等モル〜１５倍モルの範囲である。この還元反応は、通
常適当な溶媒、例えば水、メタノール、エタノール、イ
ソプロパノール等の低級アルコール類、テトラヒドロフ
ラン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ
グライム等のエーテル類やこれらの混合溶媒を用い、通
常約−６０〜１５０℃、好ましくは−３０〜１００℃に
て、約１〜２０時間程度で行なわれる。なお還元剤とし
て水素化アルミニウムリチウムやジボランを用いた場合
には、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジグライム等の無水の溶媒を用いる
のがよい。
【０２０２】〔反応式−２０〕
【０２０３】
【化６４】
【０２０４】〔式中Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 及びＸは前記に同
じ。Ｒ27は、基
【０２０５】
【化６５】
【０２０６】（Ｒ10及びｎは前記に同じ。Ｒ29はホルミ
ル基又はアルコキシカルボニル基を示す。）又は基
【０２０７】
【化６６】
【０２０８】（基
【０２０９】
【化６７】
【０２１０】は、窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を１
〜２個有する５〜１５員環の単独、二項環又は三項環の
複素環残基を示す。Ｒ30は、オキソ基、アルキル基、ベ
ンゾイル基、低級アルカノイル基、水酸基、カルボキシ
基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルチオ
基、基−Ａ−ＮＲ23Ｒ24（式中Ａは前記に同じ。Ｒ23及
びＲ24は、同一又は異なって水素原子又は低級アルキル
基を示す。またＲ23及びＲ24は、これらが結合する窒素
原子と共に、窒素原子もしくは酸素原子を介し又は介す
ることなく互いに結合して５〜６員環の飽和の複素環を
形成してもよい。該複素環上には低級アルキル基が置換
していてもよい。）、シアノ基、水酸基を有する低級ア
ルキル基、フェニルアミノチオカルボニル基又は置換基
として低級アルキル基を有することのあるアミノ低級ア
ルコキシカルボニル基を示す。Ｒ31はホルミル基又は低
級アルコキシカルボニル基を示す。ｐは、０、１又は２
の整数を示す。）を示す。Ｒ28は、基
【０２１１】
【化６８】
【０２１２】（Ｒ10及びｎは前記に同じ。）又は基
【０２１３】
【化６９】
【０２１４】（基
【０２１５】
【化７０】
【０２１６】、Ｒ30及びｐは前記に同じ。）を示す。〕 化合物（１ｘ）及び化合物（１ｚ）の還元は、前記一般
式（１）のＲ1 又はＲ3 が複素環の窒素原子に隣接する
オキソ基を少なくとも一つ有する５〜１５員環の単環、
二項環又は三項環の複素環残基の還元反応のうち、水素
化還元剤を用いる還元法と同様の条件下に行なわれるこ
とができる。
【０２１７】〔反応式−２１〕
【０２１８】
【化７１】
【０２１９】〔式中Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｘ、Ｒ30、ｐ及
び
【０２２０】
【化７２】
【０２２１】は前記に同じ。Ｒ31は、基−ＮＲ23Ｒ
24（Ｒ23及びＲ24は前記に同じ。）又は置換基として低
級アルキル基を有することのあるアミノ低級アルコキシ
基を示す。〕 化合物（１Ｄ）と化合物（３１）の反応は、前記反応式
−３の化合物（６）と化合物（４）の反応と同様の条件
下に行なわれることができる。
【０２２２】〔反応式−２２〕
【０２２３】
【化７３】
【０２２４】〔式中Ｒ1 、Ｒ2 、Ｘ、Ｒ30、ｐ、Ｒ23、
Ｒ24及び
【０２２５】
【化７４】
【０２２６】は前記に同じ。〕 化合物（１Ｆ）又は（１Ｈ）の還元反応は、前記一般式
（１）のＲ1 又はＲ3 が複素環の窒素原子に隣接するオ
キソ基を少なくとも１つ有する５〜１５員環の単環、二
項環又は三項環の複素環残基の還元反応と同様の条件下
に行なわれることができる。
【０２２７】〔反応式−２３〕
【０２２８】
【化７５】
【０２２９】〔式中Ｒ1 、Ｒ2 、Ｘ、ｐ及びＲ30は前記
に同じ。Ｒ32、Ｒ33及びＲ34はそれぞれ水素原子又は低
級アルキル基を示す。化合物（１Ｋ）又は（一Ｍ）の２
位と３位の結合は一重結合又は二重結合を示す。〕 化合物（１Ｊ）又は（１Ｌ）をそれぞれ化合物（１Ｋ）
又は（１Ｍ）に導く反応は、適当な溶媒中、触媒の存在
下に行なわれることができる。ここで使用される溶媒と
しては、前記反応式−１の化合物（２）と化合物（３）
の反応と同様の条件下に行なわれることができる。使用
される触媒としては、Ｒｄ（ＯＡｃ）2 ＋Ｃｕ（ＯＡ
ｃ）2 ・Ｈ2 Ｏ等の金属化合物、ＫＩ＋Ｉ2 等のハロゲ
ン化物が例示できる。触媒の使用量は、金属化合物を用
いるときは通常化合物（１Ｊ）又は（１Ｌ）に対して、
０．１〜等モル量用いるのがよい。ハロゲン化物を用い
るときは、通常化合物（１Ｊ）又は（１Ｌ）に対して、
通常０．００５〜３倍モル量使用するのがよい。該反応
は通常室温〜２５０℃、好ましくは室温〜２００℃に
て、通常５〜４０時間程度にて反応は終了する。金属化
合物を触媒として用いる場合には、酸素雰囲気下で反応
を行なうのがよい。Ｒ32が低級アルキル基を示すとき、
化合物（１ｋ）の２位、３位の結合は一重結合を示すも
のとする。
【０２３０】〔反応式−２４〕
【０２３１】
【化７６】
【０２３２】〔式中Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｘ及びＹは前記
に同じ。Ｒ35及びＲ36はそれぞれ前記Ｒ30を示す。〕 化合物（１Ｗ）と化合物（３２）の反応及び化合物（１
Ｐ）と化合物（３２）の反応は、前記反応式−１の化合
物（２）と化合物（３）の反応と同様の条件下に行なわ
れることができる。
【０２３３】〔反応式−２５〕
【０２３４】
【化７７】
【０２３５】〔式中Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｘ、Ｒ8 及びＲ
9 は前記に同じ。Ｒ37は、基
【０２３６】
【化７８】
【０２３７】（Ｒ10及びｎは前記に同じ。）又は基
【０２３８】
【化７９】
【０２３９】（基
【０２４０】
【化８０】
【０２４１】、Ｒ30及びｐは前記に同じ。）を示す。Ｒ
38は基
【０２４２】
【化８１】
【０２４３】（Ｒ10、Ｒ8 、Ｒ9 及びｎは前記に同
じ。）又は基
【０２４４】
【化８２】
【０２４５】（Ｒ30、Ｒ23、Ｒ24、
【０２４６】
【化８３】
【０２４７】及びｐは前記に同じ。）を示す。〕 上記反応で化合物（１Ｒ）又は（１Ｔ）のＲ37が基
【０２４８】
【化８４】
【０２４９】を示すときは、化合物（１９）と反応し、
Ｒ37が基
【０２５０】
【化８５】
【０２５１】を示すときは、化合物（３３）と反応する
ものとする。
【０２５２】化合物（１Ｒ）又は（１Ｔ）と化合物（１
９）又は（３３）の反応は、無溶媒又は適当な溶媒中還
元剤の存在下に行なわれる。ここで使用される溶媒とし
ては、例えば水、メタノール、エタノール、イソプロパ
ノール等のアルコール類、酢酸、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、ジエチルエーテル、ジグライム等のエーテ
ル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素類等を例示できる。還元法としては、蟻酸、水素化硼
素ナトリウム、水素化シアノ硼素ナトリウム、水素化ア
ルミニウムリチウム等の水素化還元剤を用いる方法、パ
ラジウム黒、パラジウム炭素、酸化白金、白金黒、ラネ
ーニッケル等の接触還元触媒を用いる接触還元法等を例
示できる。還元剤として蟻酸を用いる場合、反応温度は
通常室温〜２００℃、好ましくは５０〜１５０℃付近が
適当であり、該反応は１〜１０時間程度にて終了する。
蟻酸の使用量としては、一般式（１Ｒ）又は（１Ｔ）の
化合物に対して大過剰量とするのがよい。また水素化還
元剤を使用する場合、反応温度は通常−３０〜１００
℃、好ましくは０〜７０℃程度が適当であり、該反応は
３０分〜２０時間程度にて完結する。還元剤の使用量と
しては、一般式（１Ｒ）又は（１Ｔ）の化合物に対して
通常等モル〜２０倍モル、好ましくは１〜１５倍モルと
するのがよい。特に還元剤として水素化アルミニウムリ
チウムを使用する場合、溶媒としてジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジグライム等のエー
テル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化
水素類等を使用するのが好ましい。接触還元触媒を用い
る場合には、通常常圧〜２０気圧、好ましくは常圧〜１
０気圧の水素雰囲気中、通常−３０〜１００℃、好まし
くは０〜６０℃の温度で反応は終了する。触媒の使用量
としては、一般式（１Ｒ）又は（１Ｔ）の化合物に対し
て通常０．１〜４０重量％、好ましくは１〜２０重量％
とするのがよい。また化合物（１９）又は（３３）の使
用量としては、一般式（１Ｒ）又は（１Ｔ）の化合物に
対して通常少なくとも等モル量、好ましくは等モル〜大
過剰量とするのがよい。
【０２５３】〔反応式−２６〕
【０２５４】
【化８６】
【０２５５】〔式中Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ10、ｎ及びＸ
は前記に同じ。Ｒ39は低級アルカノイル基を示す。Ｒ40
は、低級アルケニル基、低級アルコキシカルボニル置換
低級アルケニル基、カルボキシ置換低級アルケニル基又
はハロゲン原子を有する低級アルケニル基を示す。Ｒ41
は低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル置換低級
アルキル基又はカルボキシ置換低級アルキシ基を示
す。〕 化合物（１Ｖ）又は（１Ｙ）をそれぞれ化合物（１Ｗ）
又は（１Ｚ）に導く反応は、ウィッティッヒ試薬及び塩
基性化合物の存在下、適当な溶媒中で行なわれる。ここ
で使用されるウィッティッヒ試薬としては、例えば一般
式 （Ｒ42）3 Ｐ−ＣＨ−Ｒ43Ｙ- （Ａ） 〔式中Ｒ42はフェニル基、Ｒ43は置換基として低級アル
コキシカルボニル基、カルボキシ基又はハロゲン原子を
有することのある低級アルキル基を示す。Ｙは前記に同
じ。〕で表わされるリン化合物、一般式
【０２５６】
【化８７】
【０２５７】〔式中Ｒ44は低級アルコキシ基、Ｒ45は低
級アルキル基を示す。〕で表わされるリン化合物等が挙
げられる。用いられる塩基性化合物としては、金属ナト
リウム、金属カリウム、水素化ナトリウム、ナトリウム
アミド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩
基、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート、カ
リウムｔ−ブトキシド等の金属アルコラート類、メチル
リチウム、ｎ−ブチルリチウム、フェニルリチウム、リ
チウムジイソプロピルアミド等のアルキル及びアリール
リチウム又はリチウムアミド類、ピリジン、ピペリジ
ン、キノリン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ニリン等の有機塩基等を例示できる。溶媒としては、反
応に影響を与えないものであればいずれも使用できる
が、例えばジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、モノグライム、ジグライム等のエーテル類、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、
ｎ−ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭
化水素類、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等のア
ミン類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等の非プロト
ン性極性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノ
ール等のアルコール類等が挙げられる。反応温度は、通
常−８０〜１５０℃、好ましくは−８０〜１２０℃付近
とするのがよく、一般に０．５〜１５時間程度で反応は
終了する。
【０２５８】（１Ｗ）又は（１Ｚ）でＲ40がハロゲン原
子を有する低級アルケニル基以外の基のとき、化合物
（１Ｗ）又は（１Ｚ）をそれぞれ化合物（１Ｘ）又は
（１ａａ）に導く反応は、前記一般式（１）のＲ1 又は
Ｒ3 が複素環の窒素原子に隣接するオキソ基を少なくと
も一つ有する５〜１５員環の単環、二項環又は三項環の
複素環残基の還元反応のうち、接触水素添加を用いる還
元法と同様の条件下に行なわれることができる。
【０２５９】〔反応式−２７〕
【０２６０】
【化８８】
【０２６１】〔式中Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｘ、
【０２６２】
【化８９】
【０２６３】、Ｒ20及びＰは前記に同じ。〕 化合物（１ｂｂ）又は（１ｃｃ）をそれぞれ化合物（１
ｃｃ）又は（１ｆｆ）に導く反応は、無溶媒中、アニリ
ン及び硫黄と加熱することにより行なわれることができ
る。該反応は、通常１００〜２５０℃、好ましくは１０
０〜２００℃付近にて、１〜２０時間程度にて終了す
る。アニリン及び硫黄の使用量は、化合物（１ｂｂ）又
は（１ｅｅ）に対して、通常１〜１０倍モル量、好まし
くは１〜２倍モル量使用するのがよい。
【０２６４】化合物（１ｃｃ）又は（１ｆｆ）をそれぞ
れ化合物（１ｄｄ）又は（１ｇｇ）に導く反応は、前記
化合物（１）でＲ1 又はＲ3がアルコキシカルボニル基
を少なくとも一つ有するフェニル基の加水分解反応と同
様の条件下に行なわれることができる。
【０２６５】一般式（１）でＲ1 又はＲ3 がフェニル環
上に置換基としてニトロ基を少なくとも一つ有するフェ
ニル基のとき、還元することにより一般式（１）でＲ1
又はＲ3 がフェニル環上に置換基としてアミノ基を少な
くとも一つ有するフェニル基に導くことができる。該還
元反応は、前記Ｒ1 又はＲ3 が複素環の窒素原子に隣接
するオキソ基の還元反応のうち接触還元反応の還元と同
様の反応条件下に行なうことができる。また下記に示す
還元剤を用いて行なうこともできる。用いられる還元剤
としては、例えば鉄、亜鉛、錫もしくは塩化第一錫と酢
酸、塩酸、硫酸等の酸、又は鉄、硫酸第一鉄、亜鉛もし
くは錫と水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物、
硫化アンモニウム等の硫化物、アンモニア水、塩化アン
モニウム等のアンモニウム塩との混合物等を挙げること
ができる。ここで使用される不活性溶媒としては、例え
ば水、酢酸、メタノール、エタノール、シオキサン等を
例示できる。該還元反応の条件としては用いられる還元
剤によって適宜選択すればよく、例えば塩化第一錫と塩
酸とを還元剤として用いる場合、有利には０℃〜室温付
近、０．５〜１０時間程度反応を行なうのがよい。還元
剤の使用量としては、原料化合物に対して少なくとも等
モル量、通常は等モル〜１０倍モル量用いられる。
【０２６６】化合物（１）で、Ｒ1 又はＲ3 がフェニル
環上に置換基として水酸基を少なくとも一つ有するフェ
ニル基のとき、置換基として水酸基を少なくとも一つ有
するテトラヒドロフラン（２７）と反応させることによ
り化合物（１）で、Ｒ1 又はＲ3 がフェニル環上に置換
基として置換又は無置換のテトラピラニルオキシ基を少
なくとも一つ有するフェニル基に導くことができる。該
反応は、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオ
キサン等のエーテル類等の適当な溶媒中、トリフェニル
ホスフィン等のリン化合物、ジエチルアゾカルボキシレ
イト等のアゾ化合物の存在下、通常０〜１００℃、好ま
しくは０〜７０℃付近にて、１〜２０時間程度反応させ
ることにより得ることができる。化合物（２７）は、出
発原料に対して、少なくとも等モル、好ましくは等モル
〜２倍モル量使用するのがよい。
【０２６７】化合物（１）でＲ1 又はＲ3 がフェニル環
上に置換基として低級アルカノイルオキシ基を少なくと
も一つ有するテトラヒドロピラニルオキシ基が少なくと
も一つ置換したフェニル基のとき、加水分解することに
より化合物（１）でＲ1 又はＲ3 がフェニル環上に置換
基として水酸基を少なくとも一つ有するテトラヒドロピ
ラニルオキシ基が少なくとも一つ置換したフェニル基に
導くことができる。該加水分解反応は、塩基性化合物の
存在下、適当な溶媒中で行われることができる。ここで
使用される塩基性化合物としては、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化バリウム、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラ
ート等のアルカリ金属アルコラート類等を例示できる。
また使用される溶媒としては、水、メタノール、エタノ
ール、イソプロパノール等のアルコール類、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン等のエーテル
類、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素等のハ
ロゲン化炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等やこれ
らの混合溶媒等を例示できる。上記反応は、通常０〜２
００℃程度、好ましくは室温〜１５０℃程度にて好適に
進行し、一般に０．５〜１５時間程度で完結する。
【０２６８】化合物（１）で、Ｒ1 又はＲ3 がフェニル
環上に置換基として、水酸基を少なくとも一つ有するフ
ェニル基のとき、ＹＳＯ3 Ｈ（２８）（Ｙは前記に同
じ。）を反応させることにより、Ｒ1 又はＲ3 がフェニ
ル環上に置換基としてヒドロキシスルホニルオキシ基を
少なくとも一つ有するフェニル基に導くことができる。
該反応は、前記反応式−１４の化合物（１ｌ）と化合物
（１９）の反応と同様の条件下に行われることができ
る。但し、化合物（２８）の使用量は、出発原料に対し
て、通常大過剰量用いるのがよい。
【０２６９】化合物（１）で、Ｒ1 又はＲ3 がフェニル
環上に置換基として水酸基を少なくとも一つ有するフェ
ニル基のとき、Ｒ18Ｙ（２９）（Ｒ18は、低級アルコキ
シカルボニル置換低級アルキル基、低級アルケニル基又
は置換基として低級アルキル基を有することのあるチオ
カルバモイル基を示す。Ｙは前記に同じ。）又は（Ｒ25
ＳＯ2 ）2 Ｏ（３０）（Ｒ25はハロゲン原子を有するこ
とのある低級アルキル基を示す。）を反応させることに
より、Ｒ1 又はＲ3 がフェニル環上に置換基として基−
ＯＲ18（Ｒ18は前記に同じ。）又はＲ25ＳＯ2Ｏ−（Ｒ
25は前記に同じ。）を少なくとも一つ有するフェニル基
に導くことができる。該反応は、前記反応式−１４の化
合物（１ｌ）と化合物（１９）の反応と同様の条件下に
行われることができる。
【０２７０】化合物（１）で、Ｒ1 又はＲ3 がフェニル
環上に置換基として低級ケルケニルオキシ基を少なくと
も一つ有するフェニル基のとき、クライゼン転位させる
ことにより、Ｒ1 又はＲ3がフェニル環上に置換基とし
て水酸基及び低級アルケニル基を少なくとも二つ有する
フェニル基に導くことができる。該反応は、適当な溶媒
中、加熱することにより行われる。ここで使用される溶
媒としては、ジメチルホルムアミド、テトラヒドロナフ
タレン、ｏ−ジクロロベンゼン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニ
リン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、ジフェニルエーテル
等の高沸点溶媒を例示できる。該反応は通常１００〜２
５０℃、好ましくは１５０〜２５０℃にて１〜３０時間
程度で終了する。
【０２７１】化合物（１）で、Ｒ1 又はＲ3 がフェニル
環上に置換基として低級アルキル基を有することのある
チオカルバモイルオキシ基を少なくとも一つ有するフェ
ニル基のとき、加熱することにより、Ｒ1 又はＲ3 がフ
ェニル環上に置換基として、置換基として低級アルキル
基を有することのあるアミノカルボニルチオ基を少なく
とも一つ有するフェニル基に導くことができる。該反応
は、無溶媒下、通常１００〜２５０℃、好ましくは１５
０〜２５０℃にて１〜１０時間程度で終了する。
【０２７２】化合物（１）で、Ｒ1 又はＲ3 がフェニル
環上に置換基として低級アルキル基を有することのある
アミノカルボニルチオ基を少なくとも一つ有するフェニ
ル基のとき、前記化合物（１）でＲ1 又はＲ3 が低級ア
ルコキシカルボニル基を少なくとも一つ有するフェニル
基の加水分解反応と同様の条件下に加水分解することに
より、Ｒ1 又はＲ3 がフェニル環上に置換基としてメル
カプト基を少なくとも一つ有するフェニル基に導くこと
ができる。
【０２７３】化合物（１）で、Ｒ1 又はＲ3 がフェニル
環上に置換基としてニトロ基を少なくとも一つ有するフ
ェニル基のとき、還元することによりＲ1 又はＲ3 がフ
ェニル環上に置換基として、アミノ基を少なくとも一つ
有するフェニル基に導くことができる。
【０２７４】上記還元反応は、例えば適当な溶媒中接
触還元触媒を用いて還元するか又は適当な不活性溶媒
中、金属もしくは金属塩と酸又は金属もしくは金属塩と
アルカリ金属水酸化物、硫化物、アンモニウム塩等との
混合物等を還元剤として用いて還元することにより行わ
れる。
【０２７５】の還元触媒を用いる場合、使用される溶
媒としては、例えば水、酢酸、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール等のアルコール類、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化
水素類、ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素類、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、
酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒等又はこれ
らの混合溶媒等が挙げられる。使用される接触還元触媒
としては、例えばパラジウム、パラジウム−黒、パラジ
ウム−炭素、白金、酸化白金、亜クロム酸銅、ラネーニ
ッケル等が挙げられる。触媒は、出発原料に対して一般
に０．０２〜１倍量程度用いるのがよい。反応温度は、
通常−２０〜１５０℃付近、好ましくは０〜１００℃付
近、水素圧は通常１〜１０気圧とするのがよく、該反応
は一般に０．５〜１０時間程度で終了する。また該反応
には塩酸等の酸を添加してもよい。
【０２７６】またの方法を用いる場合、鉄、亜鉛、錫
もしくは塩化第一錫と塩酸、硫酸等の鉱酸、又は鉄、硫
酸第一鉄、亜鉛もしくは錫と水酸化ナトリウム等のアル
カリ金属水酸化物、硫化アンモニウム等の硫化物、アン
モニア水、塩化アンモニウム等のアンモニウム塩との混
合物が還元剤として用いられる。使用される不活性溶媒
としては、例えば水、酢酸、メタノール、エタノール、
ジオキサン等を例示できる。上記還元反応の条件として
は、用いられる還元剤によって適宜選択すればよく、例
えば塩化第一錫と塩酸とを還元剤として用いる場合、有
利には０℃〜室温付近、０．５〜７０時間程度反応を行
なうのがよい。還元剤は、原料化合物に対して少なくと
も等モル量、通常は等モル〜５倍モル量用いられる。
【０２７７】化合物（１）で、Ｒ1 又はＲ3 がフェニル
環上に置換基として低級アルケニル基を少なくとも一つ
有するフェニル基のとき、酸化することにより、Ｒ1 又
はＲ3 がフェニル環上に置換基として水酸基を二個有す
る低級アルキル基を少なくとも一つ有するフェニル基に
導くことができる。
【０２７８】該反応は、適当な溶媒中、共酸化剤の存在
下に酸化剤と反応させることにより行われることができ
る。酸化剤との反応で用いられる溶媒としては、例えば
ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等
のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロ
ロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、酢酸
エチル等のエステル類、水、メタノール、エタノール、
イソプロパノール、ｔ−ブタノール等のアルコール類や
之等の混合溶媒等が挙げられる。使用される共酸化剤と
しては、例えばピリジンＮ−オキシド、Ｎ−エチルジイ
ソプロピルアミンＮ−オキシド、４−メチルモルホリン
Ｎ−オキシド、トリメチルアミンＮ−オキシド、トリエ
チルアミンＮ−オキシド等の有機アミンＮ−オキシド類
等を例示できる。また酸化剤としては、例えば四酸化オ
スミウム等を例示できる。酸化剤の使用量としては、原
料化合物に対して通常少なくとも等モル量、好ましくは
等モル〜５倍モル量とするのがよい。該反応は、−２０
〜１５０℃、好ましくは室温〜１００℃で行なわれ、一
般に１〜１５時間程度で終了する。
【０２７９】化合物（１）で、Ｒ1 又はＲ3 がフェニル
環上に置換基として低級アルケニル基を少なくとも一つ
有するフェニル基のとき、酸化することにより、フェニ
ル環上に置換基として低級アルカノイル基置換低級アル
キル基又は低級アルカノイル基を少なくとも一つ有する
フェニル基に導くことができる。該反応は、酸化剤の存
在下、適当な溶媒中反応させることにより行われること
ができる。ここで使用される溶媒としては、例えばジオ
キサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエ
ーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホ
ルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチ
ル等のエステル類、水、メタノール、エタノール、イソ
プロパノール、ｔ−ブタノール等のアルコール類や之等
の混合溶媒等が挙げられる。酸化剤としては、例えばオ
ゾン、四酸化オスミウム−メタ過沃素酸ナトリウム等を
例示できる。該反応は−２０〜１５０℃、好ましくは０
〜１００℃付近にて行なわれ、一般に１〜２０時間程度
で終了する。
【０２８０】化合物（１）で、Ｒ1 又はＲ3 がフェニル
環上に置換基としてホルミル置換低級アルキル基を少な
くとも一つ有するフェニル基のとき、還元することによ
り、Ｒ1 又はＲ3 がフェニル環上に置換基として水酸基
を有する低級アルキル基を少なくとも一つ有するフェニ
ル基に導くことができる。該還元は、一般式（１）のＲ
1 又はＲ3 が複素環の窒素原子に隣接するオキソ基を少
なくとも一つ有する５〜１５員環の単環、二項環又は三
項環の複素環残基の還元反応のうち、水素化還元剤を用
いる還元法と同様の条件下に行われることができる。
【０２８１】化合物（１）で、Ｒ1 又はＲ3 がフェニル
環上に置換基としてニトリル基又はカルバモイル基を少
なくとも一つ有するフェニル基又は置換基としてニトリ
ル基又はカルバモイル基を少なくとも一つ有する窒素原
子、酸素原子又は硫黄原子を１〜２個有する５〜１５員
環の単環、二項環又は三項環の複素環残基のとき、加水
分解することにより、Ｒ1 又はＲ3 がフェニル環上に置
換基としてカルボキシル基を少なくとも一つ有するフェ
ニル基又は置換基としてカルボキシ基を少なくとも一つ
有する窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を１〜２個有す
る５〜１５員環の単環、二項環又は三項環の複素環残基
に導くことができる。該加水分解反応は、前記化合物
（１）でＲ1 又はＲ3 がアルコキシカルボニル基を少な
くとも一つ有するフェニル基の加水分解反応と同様の条
件下に行われることができる。
【０２８２】化合物（１）で、Ｒ1 又はＲ3 がフェニル
環上に置換基として基−（Ａ）ｌ−ＮＲ8aＲ9a（Ａ及び
ｌは前記に同じ。Ｒ8aは低級アルカノイル基を示す。Ｒ
9aは、水素原子、低級アルキル基、低級アルカノイル
基、置換基として低級アルキル基を有することのあるア
ミノ低級アルキル基又はピペリジニル低級アルキル基を
示す。）を少なくとも一つ有するフェニル基のとき、加
水分解することにより、Ｒ1 又はＲ3 がフェニル環上に
置換基として基−（Ａ）ｌ−ＮＨ−Ｒ9a（Ａ、ｌ及びＲ
9aは前記に同じ。）を少なくとも一つ有するフェニル基
に導くことができる。該加水分解反応は、前記化合物
（１）でＲ1 又はＲ3 がアルコキシカルボニル基を少な
くとも一つ有するフェニル基の加水分解反応と同様の条
件下に行われることができる。
【０２８３】化合物（１）で、Ｒ1 又はＲ3 がフェニル
環上に置換基として低級アルケニル基を少なくとも一つ
有するフェニル基のとき、還元することにより、Ｒ1 又
はＲ3 がフェニル環上に置換基として低級アルキル基を
少なくとも一つ有するフェニル基に導くことができる。
該還元は、一般式（１）のＲ1 又はＲ3 が複素環の窒素
原子に隣接するオキソ基を少なくとも１つ有する５〜１
５員環の単環、二項環又は三項環の複素環残基の還元反
応のうち、接触水素添加を用いる還元法と同様の条件下
に行われることができる。
【０２８４】化合物（１）で、Ｒ1 又はＲ3 がフェニル
環上に水酸基を少なくとも一つ有するフェニル基のと
き、カルボキシル化反応することにより、Ｒ1 又はＲ3
がフェニル環上に水酸基とカルボキシル基を少なくとも
二つ有するフェニル基に導くことができる。該カルボキ
シル化反応は、炭酸水素カリウム、炭酸カリウム等のア
ルカリ金属炭酸塩の存在下、適当な溶媒中又は無溶媒下
二酸化炭素と反応させることにより行われることができ
る。ここで使用される溶媒としては、例えば、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテ
ル類、メチルエチルケトン、アセトン等のケトン類、
水、ピリジン、グリセリン等を例示できる。該反応は、
通常１〜１０気圧で、通常１００〜２５０℃、好ましく
は、１００〜２００℃付近にて、１〜２０時間程度にて
終了する。
【０２８５】化合物（１）で、Ｒ1 又はＲ3 が置換又は
未置換フェニル基のとき、ニトロ化することにより、Ｒ
1 又はＲ3 がフェニル環上にニトロ基を少なくとも一つ
有するフェニル基に導くことができる。該ニトロ化反応
は、通常の芳香族化合物のニトロ化反応条件下で例えば
無溶媒もしくは適当な不活性溶媒中ニトロ化剤を用いて
行われる。不活性溶媒としては例えば酢酸、無水酢酸、
濃硫酸等を、またニトロ化剤としては例えば発煙硝酸、
濃硝酸、混酸（硫酸、発煙硫酸、リン酸又は無水酢酸と
硝酸）、硝酸カリウム、硝酸ナトリウム等のアルカリ金
属硝酸塩と硫酸等を夫々例示できる。上記ニトロ化剤の
使用量は、原料化合物に対し等モル以上、通常過剰量と
すればよく、反応は有利には０℃〜室温付近で、１〜４
時間で実施される。
【０２８６】化合物（１）で、Ｒ1 又はＲ3 がフェニル
環上に置換基としてカルボキシル基を少なくとも一つ有
するフエニル基のとき、Ｒ32Ｙ（３２）（Ｒ32は、アル
キル基、フェニル低級アルキル基又は低級アルコキシ置
換低級アルキル基を示す。）を反応させることにより、
Ｒ1 又はＲ3 がフェニル環上に置換基として基−ＣＯＯ
Ｒ32（Ｒ32は、前記に同じ。）を少なくとも一つ有する
フェニル基に導くことができる。該反応は、前記反応式
−１４の化合物（１ｌ）と化合物（１９）の反応と同様
の条件下に行われることができる。
【０２８７】化合物（１）で、Ｒ1 又はＲ3 がフェニル
環上に置換基としてハロゲン原子を有する低級アルケニ
ル基を少なくとも一つ有するフェニル基のとき、適当な
溶媒中、塩基性化合物の存在下に処理することにより、
Ｒ1 又はＲ3 がフェニル環上に置換基として低級アルキ
ニル基を少なくとも一つ有するフェニル基に導くことが
できる。ここで使用される溶媒として、例えばジエチル
エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、モノグラ
イム、ジグライム等のエーテル類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサン、ヘ
プタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類等を例示
できる。塩基性化合物としては、メチルリチウム、ｎ−
ブチルリチウム、フェニルリチウム、リチウムジイソプ
ロピルアミド等のアルキル及びアリールリチウム又はリ
チウムアミド類等を例示できる。反応温度は−８０〜１
００℃、好ましくは−８０℃〜７０℃付近とするのがよ
く、一般に０．５〜１５時間程度で終了する。
【０２８８】一般式（１）で、Ｒ1 又はＲ3 がフェニル
環上に置換基としてホルミル基を少なくとも一つ有する
フェニル基のとき、適当な溶媒中、ヒドロキシルアミン
−ｏ−スルホン酸と反応させることにより、Ｒ1 又はＲ
3 がフェニル環上に置換基としてシアノ基を少なくとも
一つ有するフェニル基に導くことができる。ここで使用
される溶媒としては、前記反応式−１４の化合物（１
ｌ）と化合物（１９）の反応で例示した溶媒を使用する
ことができる。該反応は、通常０〜１００℃、好ましく
は０〜７０℃付近にて行われ、１〜１０時間程度にて終
了する。ヒドロキシルアミン−ｏ−スルホン酸の使用量
としては、出発原料に対して少なくとも等モル、好まし
くは等モル〜２倍モル程度とするのがよい。
【０２８９】一般式（１）でＲ1 又はＲ3 がフェニル環
上に置換基としてハロゲン原子を少なくとも一つ有する
フェニル基のとき、ハロゲン化反応することによりＲ1
又はＲ3 がフェニル環上に置換基として水酸基を少なく
とも一つ有するフェニル基に導くことができる。該反応
は、適当な溶媒中、塩基性化合物の存在下、ヘキサメチ
ルジシロキサン等の低級アルキルシロキサン類と反応さ
せることにより行われることができる。ここで使用され
る溶媒としては、例えばジエチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン、モノグライム、ジグライム等
のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素類、ｎ−ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサ
ン等の脂肪族炭化水素類等を例示できる。使用される塩
基性化合物としては、メチルリチウム、ｎ−ブチルリチ
ウム、フェニルリチウム、リチウムジイソプロピルアミ
ド等のアルキル及びアリールリチウム又はリチウムアミ
ド類等を例示できる。反応温度は−８０〜１００℃、好
ましくは−８０〜７０℃付近とするのがよく、一般に
０．５〜１５時間程度で終了する。低級アルキルシロキ
サン類の使用量としては、出発原料に対して少くとも等
モル、好ましくは等モル〜２倍モル程度とするのがよ
い。
【０２９０】一般式（１）でＲ1 又はＲ3 がフェニル環
上に置換基としてホルミル基を少なくとも一つ有するフ
ェニル基のとき、酸化することによりフェニル環上にカ
ルボキシ基を少なくとも一つ有するフェニル基に導くこ
とができる。該反応は、適当な溶媒中、酸化剤の存在下
に行なわれることができる。ここで使用される溶媒とし
ては、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール
等のアルコール類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
ジエチルエーテル等のエーテル類、アセトン、メチルエ
チルケトン等のケトン類、酢酸、プロピオン酸等のカル
ボン酸類、酢酸エチル等のエステル類、ベンゼン、クロ
ロベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、ヘキサメチルリン酸トリアミド、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、ピリジン等又はこれらの
混合溶媒等を例示できる。酸化剤としては、例えば過ギ
酸、過酢酸、過トリフルオロ酢酸、過安息香酸、ｍ−ク
ロロ過安息香酸、ｏ−カルボニル過安息香酸等の過酸、
過酸化水素、メタ過沃素酸ナトリウム、重クロム酸、重
クロム酸ナトリウム、重クロム酸カリウム等の重クロム
酸塩、過マンガン酸、過マンガン酸カリウム、過マンガ
ン酸ナトリウム等の過マンガン酸塩、四酢酸鉛等の鉛
塩、酸化銀等が挙げられる。酸化剤は、通常出発原料に
対して少なくとも等モル、好ましくは等モル〜２倍モル
量使用するのがよい。該反応は、通常−１０〜１００
℃、好ましくは０〜５０℃付近にて行われ、３０分〜２
４時間程度にて終了する。
【０２９１】一般式（１）でＲ1 又はＲ3 がフェニル環
上に置換基として水酸基を少なくとも一つ有するフェニ
ル基のとき、トリ低級アルキルハロゲン化シランと反応
させることにより、Ｒ1 又はＲ3 がフェニル環上に置換
基としてトリ低級アルキル基置換シリルオキシ基を少な
くとも一つ有するフェニル基に導くことができる。該反
応は、適当な溶媒中、塩基性化合物の存在下に行なわれ
ることができる。ここで使用される溶媒としては、前記
反応式−１４の化合物（１ｌ）と化合物（１９）の反応
で使用した溶媒をいずれも使用可能である。塩基性化合
物としてはイミダゾール等の有機塩基を例示できる。該
反応は通常−２０〜１５０℃、好ましくは０〜１００℃
にて行われ、５分〜１０時間程度にて終了する。トリ低
級アルキルハロゲン化シランの使用量としては、出発原
料に対して少なくとも等モル、好ましくは等モル〜３倍
モル量とするのがよい。
【０２９２】斯くして得られる各々の行程での目的物
は、通常の分離手段により容易に単離精製することがで
きる。該分離手段としては例えば溶媒抽出法、希釈法、
再結晶法、カラムクロマトグラフィー、プレパラティブ
薄層クロマトグラフィー等を例示できる。
【０２９３】尚本発明の化合物は、立体異性体、光学異
性体も当然に包含するものである。
【０２９４】本発明の一般式（１）で表わされるチアゾ
ール又はオキサゾール誘導体は、医薬的に許容される酸
を作用させることにより容易に酸付加塩とすることがで
き、本発明はこの酸付加塩をも包含する。上記におい
て、酸としては、例えば塩酸、硫酸、リン酸、臭化水素
酸等の無機酸、酢酸、シュウ酸、コハク酸、マレイン
酸、フマール酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、マロン
酸、メタンスルホン酸、安息香酸等の有機酸を挙げるこ
とができる。
【０２９５】また本発明の一般式（１）で表わされるチ
アゾール又はオキサゾール誘導体のうち酸性基を有する
化合物は、医薬的に許容される塩基性化合物を作用させ
ることにより容易に塩を形成させることができる。該塩
基性化合物としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水
素カリウム等を挙げることができる。
【０２９６】本発明の化合物は、通常一般的な医薬製剤
の形態で用いられる。製剤は通常使用される充填剤、増
量剤、結合剤、付湿剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤等
の希釈剤あるいは賦形剤を用いて調製される。この医薬
製剤としては各種の形態が治療目的に応じて選択でき、
その代表的なものとして錠剤、丸剤、散剤、液剤、懸濁
剤、乳剤、顆粒剤、カプセル剤、坐剤、注射剤（液剤、
懸濁剤等）、軟膏剤等が挙げられる。錠剤の形態に成形
するに際しては、担体としてこの分野で従来公知のもの
を広く使用でき、例えば乳糖、白糖、塩化ナトリウム、
ブドウ糖、尿素、デンプン、炭酸カルシウム、カオリ
ン、結晶セルロース、ケイ酸等の賦形剤、水、エタノー
ル、プロパノール、単シロップ、ブドウ糖液、デンプン
液、ゼラチン溶液、カルボキシメチルセルロース、セラ
ック、メチルセルロース、リン酸カリウム、ポリビニル
ピロリドン等の結合剤、乾燥デンプン、アルギン酸ナト
リウム、カンテン末、ラミナラン末、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸カルシウム、ポリオキシエチレンソルビタン脂
肪酸エステル類、ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリン
酸モノグリセリド、デンプン、乳糖等の崩壊剤、白糖、
ステアリン、カカオバター、水素添加油等の崩壊抑制
剤、第４級アンモニウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウム
等の吸収促進剤、グリセリン、デンプン等の保湿剤、デ
ンプン、乳糖、カオリン、ベントナイト、コロイド状ケ
イ酸等の吸着剤、精製タルク、ステアリン酸塩、ホウ酸
末、ポリエチレングリコール等の滑沢剤等が例示でき
る。さらに錠剤は必要に応じ通常の剤皮を施した錠剤、
例えば糖衣錠、ゼラチン被包錠、腸溶被錠、フイルムコ
ーテイング錠あるいは二重錠、多層錠とすることができ
る。丸剤の形態に成形するに際しては、担体としてこの
分野で従来公知のものを広く使用でき、例えばブドウ
糖、乳糖、デンプン、カカオ脂、硬化植物油、カオリ
ン、タルク等の賦形剤、アラビアゴム末、トラガント
末、ゼラチン、エタノール等の結合剤、ラミナランカン
テン等の崩壊剤等が例示できる。坐剤の形態に成形する
に際しては、担体として従来公知のものを広く使用で
き、例えばポリエチレングリコール、カカオ脂、高級ア
ルコール、高級アルコールのエステル類、ゼラチン、半
合成グリセライド等を挙げることができる。注射剤とし
て調製される場合には、液剤、乳剤及び懸濁剤は殺菌さ
れ、かつ血液と等張であるのが好ましく、これら液剤、
乳剤及び懸濁剤の形態に製剤するに際しては、希釈剤と
してこの分野において慣用されているものをすべて使用
でき、例えば水、乳酸水溶液、エチルアルコール、プロ
ピレングリコール、エトキシ化イソステアリルアルコー
ル、ポリオキシ化イソステアリルアルコール、ポリオキ
シエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等を挙げること
ができる。なお、この場合等張性の溶液を調製するに充
分な量の食塩、ブドウ糖あるいはグリセリンを医薬製剤
中に含有せしめてもよく、また通常の溶解補助剤、緩衝
剤、無痛化剤等を添加してもよい。更に必要に応じて着
色剤、保存剤、香料、風味剤、甘味剤等や他の医薬品を
医薬製剤中に含有せしめてもよい。ペースト、クリーム
及びゲルの形態に製剤するに際しては、希釈剤としてこ
の分野で従来公知のものを広く使用でき、例えば白色ワ
セリン、パラフイン、グリセリン、セルロース誘導体、
ポリエチレングリコール、シリコン、ベントナイト等を
使用できる。
【０２９７】本発明の一般式（１）の化合物又はその塩
を医薬製剤中に含有させるべき量は、特に限定されず広
範囲に適宜選択されるが、通常医薬製剤中１〜７０重量
％とするのがよい。
【０２９８】上記の医薬製剤の投与方法は特に制限はな
く、各種製剤形態、患者の年齢、性別その他の条件、患
者の症状の程度等に応じた方法で投与される。例えば錠
剤、丸剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤及びカプセル剤
の場合には経口投与される。また注射剤の場合には単独
であるいはブドウ糖、アミノ酸等の通常の補液と混合し
て静脈内投与され、更には必要に応じて単独で筋肉内、
皮内、皮下もしくは腹腔内投与される。坐剤の場合には
直腸内投与される。
【０２９９】本発明の医薬製剤の投与量は用法、患者の
年齢、性別その他の条件、疾患の程度等により適宜選択
されるが、通常有効成分である一般式（１）の化合物の
量は１日当り体重１ｋｇ当り約０．２〜２００ｍｇとす
るのがよい。
【０３００】
【実施例】以下、参考例、実施例、製剤例及び薬理試験
を挙げて、本発明をより具体的に説明する。
【０３０１】参考例１ ３，４−ジメトキシベンゾニトリル２５ｇ、チオアセト
アミド２３ｇを１０％塩酸ＤＭＦ１２０ｍｌに溶解し、
３時間９０℃にて加熱した。更に、１３０℃にて５時間
反応後、溶媒を留去し、残留物をジエチルエーテル１０
０ｍｌで２回洗浄した。同様に水１００ｍｌで洗浄後、
結晶を濾取、乾燥した。メタノールより再結晶すること
により３，４−ジメトキシチオベンズアミド１８．７ｇ
を淡褐色柱状晶として得た。
【０３０２】ｍｐ：１７０〜１７５℃（分解） ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：３．９４（３Ｈ，ｓ）、３．
９５（３Ｈ，ｓ）、６．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈ
ｚ）、７．１５（１Ｈ，ｂｒｓ）、７．３８（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．４Ｈｚ）、７．５２（１Ｈ，
ｂｒｓ）、７．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）。
【０３０３】参考例２ ３，４，５−トリメトキシベンズアミド５００ｍｇをベ
ンゼン１５ｍｌに懸濁し、五硫化リン５２６ｍｇを加
え、３０分加熱還流した。溶媒を留去し、残留物に１０
％水酸化ナトリウム５ｍｌ、水５ｍｌを加え、３０分懸
濁攪拌した。反応溶液を濾過し、得られる固体を少量の
水、エタノールで洗浄し乾燥した。３，４，５−トリメ
トキシチオベンズアミド３３０ｍｇを黄色粉末として得
た。
【０３０４】ｍｐ：１８２．５〜１８４℃。
【０３０５】参考例３ ３′，５′−ジアセチルオキシアセトフェノン４ｇを二
硫化炭素７５ｍｌに懸濁し、室温にて臭素０．９０ｍｌ
の二硫化炭素２５ｍｌ溶液を約１時間かけて滴下した。
滴下しながら、時々約５０℃に加熱し、反応が始まる
と、また室温に戻して攪拌した。滴下後室温で１時間攪
拌した。反応終了後、溶媒を留去して、３′，５′−ジ
アセチルオキシ−２−ブロモアセトフェノン５．５３ｇ
を褐色結晶として得た。
【０３０６】ｍｐ：６１〜６２℃。
【０３０７】参考例４ クロロアセチルクロリド５．４７ｇをジクロロメタン２
０ｍｌに溶かし、氷冷下、細砕した塩化アルミニウム
６．４６ｇを加えた。３０分攪拌した後、３，４−ジヒ
ドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾチアジン−３（４Ｈ）−オ
ン２ｇを加え、氷冷下、４時間、更に室温にて一晩攪拌
した。反応混合物を氷水に移して析出した結晶を濾取
し、水洗、乾燥して、６−α−クロロアセチル−３，４
−ジヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾチアジン−３−オン
３．０３ｇを得た。
【０３０８】ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．５５
（２Ｈ，ｓ）、５．１０（２Ｈ，ｓ）、７．６５−７．
４５（３Ｈ，ｍ）、１０．７６（１Ｈ，ｓ）。
【０３０９】参考例５ ３，４−ジメトキシ安息香酸２ｇをメタノール８０ｍｌ
に溶解し、ナトリウムメトキシド６００ｍｇを加え、３
０分攪拌した。溶媒を留去し、残留物をＤＭＦ５０ｍｌ
に溶かし、これに６−α−クロロアセチル−３，４−ジ
ヒドロカルボスチリル２．４６ｇを加え１４０℃にて２
時間攪拌した。溶媒を留去し、水を加え析出する結晶を
濾取、乾燥した。６−〔２−（３，４−ジメトキシベン
ゾイルオキシ）アセチル〕−３，４−ジヒドロカルボス
チリル４．８ｇを白色粉末として得た。
【０３１０】ｍｐ：２１５〜２１６℃。
【０３１１】参考例６ ６−α−アミノアセチル−３，４−ジヒドロカルボスチ
リル・１塩酸塩３ｇをテトラヒドロフラン６０ｍｌに懸
濁させ、トリエチルアミン７ｍｌ、３，４−ジメトキシ
ベンゾイルクロリド２．８ｍｇを加え、室温にて攪拌し
た。３時間後析出した結晶を濾取し、メタノールで洗浄
し、乾燥した。メタノールより再結晶し６−〔２−
（３，４−ジメトキシベンゾイルアミノ）アセチル〕−
３，４−ジヒドロカルボスチリル２．６ｇを白色針状晶
として得た。
【０３１２】ｍｐ：２４６〜２４７℃。
【０３１３】参考例７〜３８ 参考例１又は２と同様にして適当な出発原料を用いて、
表１〜表９に示す化合物を得た。
【０３１４】
【表１】
【０３１５】
【表２】
【０３１６】
【表３】
【０３１７】
【表４】
【０３１８】
【表５】
【０３１９】
【表６】
【０３２０】
【表７】
【０３２１】
【表８】
【０３２２】
【表９】
【０３２３】参考例３９〜６０ 参考例３又は４と同様にして適当な出発原料を用いて、
表１０〜表１５に示す化合物を得た。
【０３２４】
【表１０】
【０３２５】
【表１１】
【０３２６】
【表１２】
【０３２７】
【表１３】
【０３２８】
【表１４】
【０３２９】
【表１５】
【０３３０】参考例６１ １，３−ジクロロアセトン１．５ｇ及び３，４−ジメト
キシチオベンズアミド２．３ｇをエタノール１００ｍｌ
に懸濁し、３時間加熱完了する。溶媒を留去して、得ら
れる残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出
液；ジクロロメタン）にて精製して、１．８６ｇの２−
（３，４−ジメトキシフェニル）−４−クロロメチルチ
アゾールを得た。
【０３３１】無色粘稠油 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：３．９４（３Ｈ，ｓ）、３．
９９（３Ｈ，ｓ）、４．７４（２Ｈ，ｓ）、６．９０
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．２４（１Ｈ，
ｓ）、７．４６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．３
Ｈｚ）、７．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）。
【０３３２】参考例６２〜７０ 参考例１又は２と同様にして適当な出発原料を用いて表
１６〜表１８に示す化合物を得た。
【０３３３】
【表１６】
【０３３４】
【表１７】
【０３３５】
【表１８】
【０３３６】参考例７１〜７４ 参考例３又は４と同様にして適当な出発原料を用いて表
１９〜表２０に示す化合物を得た。
【０３３７】
【表１９】
【０３３８】
【表２０】
【０３３９】参考例１又は２と同様にして適当な出発原
料を用いて表２１に示す化合物を得た。
【０３４０】
【表２１】
【０３４１】参考例３又は４と同様にして適当な出発原
料を用いて表２２〜表３１に示す化合物を得た。
【０３４２】
【表２２】
【０３４３】
【表２３】
【０３４４】
【表２４】
【０３４５】
【表２５】
【０３４６】
【表２６】
【０３４７】
【表２７】
【０３４８】
【表２８】
【０３４９】
【表２９】
【０３５０】
【表３０】
【０３５１】
【表３１】
【０３５２】1) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；２．
６５（３Ｈ，ｓ）、４．６５（２Ｈ，ｓ）、７．９８−
８，１６（５Ｈ，ｍ）。
【０３５３】2) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；４．
０６（３Ｈ，ｓ）、４．５７（２Ｈ，ｓ）、８．９１
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、８．９８（１Ｈ，ｔ，
Ｊ＝１．９Ｈｚ）、９．０５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１．９Ｈ
ｚ）。
【０３５４】3) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；４．
００（３Ｈ，ｓ）、４．４２（２Ｈ，ｓ）、７．７６
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、８．１１（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、８．３２（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）。
【０３５５】4) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；３．
８８（３Ｈ，ｓ）、４．５２（２Ｈ，ｓ）、５．６２
（２Ｈ，ｂｒｓ）、８．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈ
ｚ）、８．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）。
【０３５６】5) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；４．
４５（２Ｈ，ｓ）、７．６５（１Ｈ，ｍ）、７．６７
（１Ｈ，ｍ）、８．２１（１Ｈ，ｍ）、８．２８（１
Ｈ，ｍ）。
【０３５７】6) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；２．
２７（３Ｈ，ｓ）、２．６２（３Ｈ，ｓ）、３．９４
（３Ｈ，ｓ）、４．４３（２Ｈ，ｓ）、８．３０（１
Ｈ，ｓ）、８．４８（１Ｈ，ｓ）。
【０３５８】7) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；２．
３４（３Ｈ，ｓ）、３．９４（３Ｈ，ｓ）、４．５２
（２Ｈ，ｓ）、７．８９（１Ｈ，ｍ）、７．９７（１
Ｈ，ｍ）、８．４３（１Ｈ，ｍ）。
【０３５９】8) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；２．
３９（３Ｈ，ｓ）、３．９６（３Ｈ，ｓ）、４．４６
（２Ｈ，ｓ）、７．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈ
ｚ）、８．２９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，Ｊ＝
８．６Ｈｚ）、８．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈ
ｚ）。
【０３６０】9) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；３．
９４（３Ｈ，ｓ）、４．５４（２Ｈ，ｓ）、７．０９
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、８．１５（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、８．４９（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、１２．１１（１Ｈ，ｓ）。
【０３６１】10) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；４．
００（３Ｈ，ｓ）、４．６４（２Ｈ，ｓ）、８．７６
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）、８．８５（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝２．２Ｈｚ）、１２．５０（１Ｈ，ｂｒｓ）。
【０３６２】11) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；１．
２７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、２．６８（２Ｈ，
ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、４．６７（３Ｈ，ｓ）、５．７
３（１Ｈ，ｓ）、６．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈ
ｚ）、７．７５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，８．４
Ｈｚ）、７．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ）。
【０３６３】12) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；３．
９１（３Ｈ，ｓ）、４．４８（２Ｈ，ｓ）、７．３５
（１Ｈ，ｍ）、７．７１（１Ｈ，ｍ）、１０．４８（１
Ｈ，ｂｒｓ）。
【０３６４】13) ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；
５．０４（２Ｈ，ｓ）、７．５６（１Ｈ，ｂｒｓ）、
８．１０−８．３９（３Ｈ，ｍ）。
【０３６５】14）ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；２．
５９（３Ｈ，ｓ）、４．００（３Ｈ，ｓ）、４．６４
（２Ｈ，ｓ）、６．９０（１Ｈ，ｓ）、８．２５（１
Ｈ，ｓ）、１１．１２（１Ｈ，ｓ）。
【０３６６】15) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；２．
３３（３Ｈ，ｓ）、３．９６（３Ｈ，ｓ）、４．６２
（２Ｈ，ｓ）、６．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈ
ｚ）、７．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、１１．
４０（１Ｈ，ｓ）。
【０３６７】16) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；１．
２５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、２．７３（２Ｈ，
ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、４．００（３Ｈ，ｓ）、４．６
７（２Ｈ，ｓ）、７．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．７Ｈ
ｚ）、８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ）、１１．
６６（１Ｈ，ｓ）。
【０３６８】17) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；４．
０６（３Ｈ，ｓ）、４．６８（２Ｈ，ｓ）、４．７５
（２Ｈ，ｓ）、７．７４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０Ｈ
ｚ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）、８．０６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
２．０Ｈｚ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）、８．１９（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝２．３Ｈｚ）、８．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈ
ｚ）、１２．０４（１Ｈ，ｓ）。
【０３６９】18) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；３．
９２（３Ｈ，ｓ）、４．２８（２Ｈ，ｓ）、６．９０
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，Ｊ＝３．３Ｈｚ）、
６．９５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，Ｊ＝３．３Ｈ
ｚ）、９．９０（１Ｈ，ｂｒｓ）。
【０３７０】19) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；３．
９５（３Ｈ，ｓ）、４．４２（２Ｈ，ｓ）、７．２６
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．７Ｈｚ）、７．３４（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝３．７Ｈｚ）。
【０３７１】20) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；１．
４７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）、２．６１（３Ｈ，
ｓ）、４．４６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）、５．０
０（２Ｈ，ｓ）、８．２１（２Ｈ，ｍ）。
【０３７２】21) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；１．
４０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）、４．３６（２Ｈ，
ｓ）、４．３８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）、７．７
４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ）、７．７８（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝４．０Ｈｚ）。
【０３７３】22) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；４．
１０（３Ｈ，ｓ）、４．９２（２Ｈ，ｓ）、９．４１−
１０．０１（３Ｈ，ｍ）。
【０３７４】23) ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；
５．０５（２Ｈ，ｓ）、８．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
１．６Ｈｚ，Ｊ＝５．０Ｈｚ）、８．４２（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝０．９Ｈｚ，Ｊ＝１．６Ｈｚ）、９．０１（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．９Ｈｚ，Ｊ＝５．０Ｈｚ）。
【０３７５】24) ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；
２．７３（３Ｈ，ｓ）、５．０３（２Ｈ，ｓ）、８．１
７（１Ｈ，ｂｒｓ）、８．２６（１Ｈ，ｂｒｓ）、８．
４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）、８．５４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）。
【０３７６】25) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；４．
０１（３Ｈ，ｓ）、４．８８（２Ｈ，ｓ）、８．１５
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．７Ｈｚ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、
８．４５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，Ｊ＝８．１Ｈ
ｚ）、９．１３（１Ｈ，ｍ）。
【０３７７】26) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；１．
４５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）、４．５２（２Ｈ，
ｑ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）、４．７８（２Ｈ，ｓ）、８．４
９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、８．９６（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、９．５５（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）。
【０３７８】27) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；３．
９９（３Ｈ，ｓ）、４．７５（２Ｈ，ｓ）、７．００
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、７．５６（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝７．８Ｈｚ）、７．７４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈ
ｚ）、７．９２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，Ｊ＝
７．８Ｈｚ）、８．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈ
ｚ）、１１．４３（１Ｈ，ｓ）。
【０３７９】28) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δｐｐｍ；４．
１１（３Ｈ，ｓ）、４．７６（２Ｈ，ｓ）、７．６０
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）、
８．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，Ｊ＝７．９Ｈ
ｚ）、８．９６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ，Ｊ＝
４．８Ｈｚ）。
【０３８０】29) ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ；
２．８２（３Ｈ，ｓ）、２．８７（３Ｈ，ｓ）、５．２
０（２Ｈ，ｓ）、８．０９（１Ｈ，ｂｒｓ）、８．４２
（１Ｈ，ｂｒｓ）、９．０１（１Ｈ，ｓ）。
【０３８１】実施例１ ３′，４′−ジヒドロキシ−２−クロロアセトフェノン
３６７ｍｇと３，４−ジメトキシチオベンズアミド４３
０ｍｇをエタノール２０ｍｌに懸濁し３時間加熱還流し
た。冷後、析出した結晶を濾取しエタノールで洗浄、乾
燥した。エタノールから再結晶し２−（３，４−ジメト
キシフェニル）−４−（３，４−ジヒドロキシフェニ
ル）チアゾール塩酸塩１６０ｍｇを黄色針状晶として得
た。
【０３８２】ｍｐ：１４６〜１４８℃。
【０３８３】実施例２〜１３６ 実施例１と同様にして、適当な出発原料を用いて、表３
２〜表５９に示す化合物を得た。
【０３８４】
【表３２】
【０３８５】
【表３３】
【０３８６】
【表３４】
【０３８７】
【表３５】
【０３８８】
【表３６】
【０３８９】
【表３７】
【０３９０】
【表３８】
【０３９１】
【表３９】
【０３９２】
【表４０】
【０３９３】
【表４１】
【０３９４】
【表４２】
【０３９５】
【表４３】
【０３９６】
【表４４】
【０３９７】
【表４５】
【０３９８】
【表４６】
【０３９９】
【表４７】
【０４００】
【表４８】
【０４０１】
【表４９】
【０４０２】
【表５０】
【０４０３】
【表５１】
【０４０４】
【表５２】
【０４０５】
【表５３】
【０４０６】
【表５４】
【０４０７】
【表５５】
【０４０８】
【表５６】
【０４０９】
【表５７】
【０４１０】
【表５８】
【０４１１】
【表５９】
【０４１２】
【表６０】
【０４１３】実施例１３７ ６−〔２−（３，４−ジメトキシベンゾイルオキシ）ア
セチル〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル２ｇを酢酸
２５ｍｌに溶解し、酢酸アンモニウム２ｇを加え、１３
０℃にて３時間加熱攪拌した。溶媒を留去し、残留物を
エタノールに溶解し、活性炭処理後エタノールより再結
晶して、２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−
（３，４−ジヒドロカルボスチリル−６−イル）オキサ
ゾール１２０ｍｇを淡褐色針状晶として得た。
【０４１４】ｍｐ：１９１〜１９２℃。
【０４１５】実施例１３８ ６−〔２−（３，４−ジメトキシベンゾイルアミノ）ア
セチル〕−３，４−ジヒドロカルボスチリル５００ｍｇ
と２，４−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−ジ
チア−２，４−ジフォスフェタン−２，４−ジスルフィ
ド（Lawesson'sReagent）を粉末で混ぜ、２００℃に加
熱攪拌した。３時間後、反応を終了した。残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付し（ジクロロメタ
ン：メタノール＝４９：１；Ｖ／Ｖ）、溶出部より得ら
れた固体をメタノールから再結晶し２−（３，４−ジメ
トキシフェニル）−５−（３，４−ジヒドロカルボスチ
リル−６−イル）チアゾール９８ｍｇを白色粉末として
得た。
【０４１６】ｍｐ：２３５〜２３６℃。
【０４１７】実施例１３８と同様にして適当な出発原料
を用いて前記実施例１〜９５、９７〜１３５の各化合物
を得た。
【０４１８】実施例１３９ ２−（ピリジン−３−イル）−４−フェニルチアゾール
１ｇをジクロロメタン５０ｍｌに溶解し室温にてｍ−ク
ロロ過安息香酸９００ｍｇを加え同温にて２時間攪拌し
た。反応溶液を炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し乾燥
した。溶媒を留去し得られた残留物を酢酸エチルより再
結晶し３−（４−フェニルチアゾール−２−イル）ピリ
ジン−Ｎ−オキシド３０６ｍｇを褐色粉末として得た。
【０４１９】ｍｐ：１４０〜１４１℃。
【０４２０】実施例１４０ ３−（４−フェニルチアゾール−２−イル）ピリジン−
Ｎ−オキシド２．８ｇを無水酢酸２５ｍｌに溶解し、６
時間加熱還流した。溶媒を留去し得られる残留物をアン
モニア水で処理しジクロロメタンで抽出した。水洗、乾
燥、溶媒を留去し得られた残留物に少量のジクロロメタ
ンを加え析出する結晶を濾取した。メタノールより再結
晶したことにより２−（２−オキソピリジン−３−イ
ル）−４−フェニルチアゾール６０ｍｇを淡褐色板状晶
として得た。
【０４２１】ｍｐ：２０６〜２０７℃（分解）。
【０４２２】実施例１４１ 水素化リチウムアルミニウム１０３ｍｇをテトラヒドロ
フラン５０ｍｌに懸濁し、２−（３，４−ジメトキシフ
ェニル）−４−（３，４−ジヒドロカルボスチリル−６
−イル）チアゾール１ｇを少量ずつ加え９０℃にて３時
間加熱攪拌した。次いで氷冷下、０．３ｍｌの水を加え
攪拌の後、濾過し、得られた残留物をジクロロメタンで
抽出し水洗、乾燥、溶媒留去した。残留物を活性炭処理
の後、メタノール−塩酸で塩酸塩とした後、エタノール
から再結晶して２−（３，４−ジメトキシフェニル）−
４−（１，２，３，４−テトラヒドロキノリン−６−イ
ル）チアゾール塩酸塩４６５ｍｇを淡褐色粉末として得
た。
【０４２３】ｍｐ：１５６〜１５８℃。
【０４２４】実施例１４２ ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（３，４−
ジヒドロカルボスチリル−６−イル）チアゾール５００
ｍｇを酢酸４ｍｌ、臭化水素酸２ｍｌに懸濁し、６時間
加熱還流した。冷後、析出した結晶を濾取し乾燥した。
エタノールより再結晶することにより６７ｍｇの２−
（３，４−ジヒドロキシフェニル）−４−（３，４−ジ
ヒドロカルボスチリル−６−イル）チアゾールを黄色粉
末として得た。
【０４２５】ｍｐ：２５５〜２５８℃（分解）。
【０４２６】実施例１４３ ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（３，４−
ジヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾチアジン−３（４Ｈ）
−オン−６−イル）チアゾール０．５７ｇをＤＭＦ２０
ｍｌに溶かし、氷冷下、６０％水素化ナトリウム０．０
６５ｇを加え、３０分攪拌した。ヨウ化メチル０．１８
ｍｌを加えて０℃〜室温で一晩攪拌した。溶液を濃縮
し、水を加えて析出した結晶を濾取し、水洗、乾燥し
た。ＤＭＦ−水から再結晶すると、２−（３，４−ジメ
トキシフェニル）−４−（４−メチル−２Ｈ−１，４−
ベンゾチアジン−３（４Ｈ）−オン−６−イル）チアゾ
ール０．３２ｇを淡黄色粉末として得た。
【０４２７】ｍｐ：１４３．５〜１４４℃。
【０４２８】実施例１４３と同様にして適当な出発原料
を用いて、前記実施例１１、２９、３６、４２、４８、
６１、６２、７１、７５、７８、１０２、１２３の各化
合物を得た。
【０４２９】実施例１４４ ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（１，２，
３，４−テトラヒドロキノリン−６−イル）チアゾール
１ｇをピリジン１０ｍｌに溶かし、０℃でベンゾイルク
ロリド０．４４ｇを加えて５時間攪拌した。溶液を濃縮
し、エタノールを加え、水を加えて析出した結晶を濾取
し、エタノールから再結晶して、２−（３，４−ジメト
キシフェニル）−４−（１−ベンゾイル−１，２，３，
４−テトラヒドロキノリン−６−イル）チアゾール０．
７ｇを淡黄色粉末として得た。
【０４３０】ｍｐ：１５２．５〜１５３．５℃。
【０４３１】実施例１４５ ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（３−アミ
ノ−４−ヒドロキシフェニル）チアゾール３００ｍｇを
テトラヒドロフラン２０ｍｌに懸濁し、室温にてトリエ
チルアミン０．４６ｍｌを加え、同温にて３０分攪拌し
た。これにフォスゲン１００ｍｇを吹き込み２時間攪拌
した。溶媒を留去しジエチルエーテルで洗浄後、結晶を
濾取した。これをメタノールより再結晶することにより
２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（ベンズオ
キサゾール−２−オン−５−イル）チアゾール５０ｍｇ
を白色粉末として得た。
【０４３２】ｍｐ：２７１〜２７２℃。
【０４３３】実施例１４６ ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（１，２，
３，４−テトラヒドロキノリン−６−イル）チアゾール
１ｇを無水酢酸１０ｍｌとピリジン１０ｍｌに溶かし
て、室温で一晩攪拌した。反応溶液を濃縮し水を加えて
析出した結晶を濾取し、水洗、乾燥した。エタノールか
ら再結晶して、０．３１ｇの２−（３，４−ジメトキシ
フェニル）−４−（１−アセチル−１，２，３，４−テ
トラヒドロキノリン−６−イル）チアゾールを無色針状
晶として得た。
【０４３４】ｍｐ：１４７．５〜１４８．５℃。
【０４３５】実施例１４６と同様にして適当な出発原料
を用いて、前記実施例５７、６３、６６、７６、７７及
び８１の各化合物を得た。
【０４３６】実施例１４７ ２−（４−エトキシカルボニルフェニル）−４−（３，
４−ジヒドロカルボスチリル−６−イル）チアゾール
２．０５ｇを１０％水酸化カリウム水溶液２０ｍｌとエ
タノール５０ｍｌに懸濁し、５時間還流した。エタノー
ルを留去し、氷冷下、濃塩酸を加えて酸性にし（ｐＨ
１）、結晶を濾取した。ジメチルホルムアミドから再結
晶して、０．７０ｇの２−（４−カルボキシフェニル）
−４−（３，４−ジヒドロカルボスチリル−６−イル）
チアゾールを淡黄色粉末として得た。
【０４３７】ｍｐ：３００℃以上。
【０４３８】実施例１４８ ２−（４−カルボキシフェニル）−４−（３，４−ジヒ
ドロカルボスチリル−６−イル）チアゾール０．６２ｇ
をオキザリルクロリド２０ｍｌに懸濁し、１時間加熱還
流した。オキザリルクロリドを留去し、氷冷下アセトン
に懸濁しアンモニア水を加えて、室温に戻して一晩攪拌
した。水を加えて析出した結晶を濾取し、水洗、乾燥し
た。ジメチルホルムアミドから再結晶して０．２９ｇの
２−（４−カルバモイルフェニル）−４−（３，４−ジ
ヒドロカルボスチリル−６−イル）チアゾールを淡黄色
粉末として得た。
【０４３９】ｍｐ：３００℃以上。
【０４４０】実施例１４９ ２−（３−メトキシ−４−メチルチオフェニル）−４−
（３，４−ジヒドロカルボスチリル−６−イル）チアゾ
ール３．４０ｇをクロロホルム−エタノール１５０ｍｌ
に懸濁し、氷冷下、メタクロロ過安息香酸（８０％）
１．９７ｇを少しずつ加え、１時間攪拌し、室温に戻し
て一晩攪拌した。炭酸ナトリウム水溶液を加えて、クロ
ロホルムで３回抽出し、飽和食塩水で洗浄した。溶媒を
硫酸マグネシウムで乾燥し、留去し、得られる結晶をジ
メチルホルムアミドから再結晶して０．５０ｇの２−
（３−メトキシ−４−メチルスルフィニルフェニル）−
４−（３，４−ジヒドロカルボスチリル−６−イル）チ
アゾールを淡黄色針状晶として得た。
【０４４１】ｍｐ：２６４〜２６５℃。
【０４４２】実施例１４９と同様にして適当な出発原料
を用いて前記実施例４５の化合物を得た。
【０４４３】実施例１５０ ２−（３−メトキシ−４−メチルスルフィニルフェニ
ル）−４−（３，４−ジヒドロカルボスチリル−６−イ
ル）チアゾール２．９ｇをクロロホルム−エタノール１
００ｍｌに懸濁し、氷冷下ｍ−クロロ過安息香酸（８０
％）１．７２ｇを少しずつ加え１時間攪拌後室温に戻し
て一晩攪拌した。結晶を濾取し、エタノール、ジエチル
エーテルで洗浄し、乾燥した。ジメチルホルムアミド−
水から再結晶して、０．５０ｇの２−（３−メトキシ−
４−メチルスルホニルフェニル）−４−（３，４−ジヒ
ドロカルボスチリル−６−イル）チアゾールを白色粉末
として得た。
【０４４４】ｍｐ：２８４〜２８６℃。
【０４４５】実施例１５１ ２−（３，４−ジメトキシベンゾイル）−４−（３，４
−ジヒドロキシカルボスチリル−６−イル）チアゾール
１００ｍｇをクロロホルム６ｍｌに溶解し、メタノール
４ｍｌで希釈し、室温にて水素化ホウ素ナトリウムを加
え、同温にて１時間攪拌した。溶媒を留去し、クロロホ
ルムで抽出、水洗、乾燥し、続いて溶媒を留去した。得
られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶出液；クロロホルム：メタノール＝９９：１）にて
精製後、酢酸エチルより再結晶して、５２ｍｇの２−
〔１−（３，４−ジメトキシフェニル）−１−ヒドロキ
シメチル〕−４−（３，４−ジヒドロキシカルボスチリ
ル−６−イル）チアゾールを淡褐色プリズム状晶として
得た。
【０４４６】ｍｐ：１８８〜１８９℃。
【０４４７】実施例１５２ ２−（３，４−ジメトキシベンジル）−４−（３，４−
ジヒドロキシカルボスチリル−６−イル）チアゾール２
ｇを酢酸５０ｍｌに懸濁し、ＣｒＯ3 １．２ｇを加え、
７０〜８０℃にて、３時間攪拌した。次に活性化マグネ
シウムシリケート（フロリジール、商標名、和光純薬工
業（株）製）２ｇを加え室温にて１時間攪拌した。反応
終了後、溶媒を留去し、得られた残渣をクロロホルム：
メタノール＝４：１混液に懸濁し、濾過し、濾液を留去
し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（溶出液；クロロホルム：メタノール＝１９９：１）
にて精製後、クロロホルム−エタノールより再結晶し
て、３００ｍｇの２−（３，４−ジメトキシベンゾイ
ル）−４−（３，４−ジヒドロキシカルボスチリル−６
−イル）チアゾールを淡褐色針状晶として得た。
【０４４８】ｍｐ：２４９〜２５１℃。
【０４４９】実施例１５４〜２３４ 前記実施例１及び１３８と同様にして適当な出発原料を
用いて下記表６１〜表８１に示す化合物を得る。
【０４５０】
【表６１】
【０４５１】
【表６２】
【０４５２】
【表６３】
【０４５３】
【表６４】
【０４５４】
【表６５】
【０４５５】
【表６６】
【０４５６】
【表６７】
【０４５７】
【表６８】
【０４５８】
【表６９】
【０４５９】
【表７０】
【０４６０】
【表７１】
【０４６１】
【表７２】
【０４６２】
【表７３】
【０４６３】
【表７４】
【０４６４】
【表７５】
【０４６５】
【表７６】
【０４６６】
【表７７】
【０４６７】
【表７８】
【０４６８】
【表７９】
【０４６９】
【表８０】
【０４７０】
【表８１】
【０４７１】実施例２３５ ４−（３，５−ジニトロフェニル）−２−（３，４−ジ
メトキシフェニル）チアゾール５．９ｇ及び塩化第１錫
・２水和物２４．４ｇの濃塩酸９０ｍｌ溶液を室温にて
２時間攪拌する。冷後、析出する結晶を濾取し、エタノ
ール−水より再結晶して、４−（３，５−ジアミノフェ
ニル）−２−（３，４−ジメトキシフェニル）チアゾー
ル・２塩酸塩３．７３ｇを得る。
【０４７２】ｍｐ：１９８〜２００℃、淡黄色粉末状。
【０４７３】実施例２３５と同様にして適当な出発原料
を用いて、前記実施例５５、９１、１０４、１８１、１
９１、１９６、１９７、１９８、２０８、２３２の化合
物を得る。
【０４７４】実施例２３６ ４−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（３，４−ジエ
トキシフェニル）チアゾール１．５ｇ、２，３，４，６
−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グルコピラノース
１．４ｇ及びトリフェニルホスフィン１．３ｇをテトラ
ヒドロフラン４５ｍｌに溶解し、０℃にてジエチルアゾ
ジカルボキシレート０．９ｇのテトラヒドロフラン５ｍ
ｌ溶液を少量ずつ加え、室温にて１４時間攪拌する。溶
媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶出液：ジクロロメタン）にて精製する。
酢酸エチル−ｎ−ヘキサンより再結晶して、１．５２ｇ
の４−〔４−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル
−β−Ｄ−グルコピラノシルオキシ）フェニル〕−２−
（３，４−ジエトキシフェニル）チアゾールを得る。
【０４７５】ｍｐ：１８０〜１８１℃、白色粉末状。
【０４７６】実施例２３６と同様にして適当な出発原料
を用いて、前記実施例１７１及び１８４の化合物を得
る。
【０４７７】実施例２３７ ４−〔４−（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−
β−Ｄ−グルコピラノシルオキシ）フェニル〕−２−
（３，４−ジエトキシフェニル）チアゾール０．１５ｇ
をメタノール−ジクロロメタン（２：１）混合溶媒６ｍ
ｌに懸濁し、これにナトリウムメチラートを触媒量加
え、室温にて２時間攪拌する。溶媒を留去後、メタノー
ルより再結晶して、７１ｍｇの４−〔４−（β−Ｄ−グ
ルコピラノシルオキシ）フェニル〕−２−（３，４−ジ
エトキシフェニル）チアゾールを得る。
【０４７８】ｍｐ：１３８〜１４０℃、白色針状。
【０４７９】実施例２３８ 室温にてピリジン４０ｍｌにクロロスルホン酸２ｍｌを
滴下し、５０℃にて１２時間攪拌する。４−（４−ヒド
ロキシフェニル）−２−（３，４−ジメトキシフェニ
ル）チアゾール０．３３ｇを加えて、更に５０℃にて６
時間攪拌する。その後室温にて一晩攪拌する。反応液を
減圧乾固し、残渣に水を加えて結晶を濾取する。得られ
た４−（４−ヒドロキシスルホニルオキシフェニル）−
２−（３，４−ジメトキシフェニル）チアゾールピリジ
ニウム塩をメタノール３ｍｌに懸濁し、０．１Ｎ水酸化
カリウム水溶液５ｍｌを加えて、室温にて一晩攪拌す
る。反溶液を濃縮し、得られた残渣を水に溶解し、イオ
ン交換樹脂（Dowex ５０ｗ×８）０．５ｇで処理し、濾
液を濃縮して、４−（４−ヒドロキシスルホニルオキシ
フェニル）−２−（３，４−ジメトキシフェニル）チア
ゾール０．０４ｇを得る。
【０４８０】ｍｐ：２４８〜２４９℃、淡黄色粉末状。
【０４８１】実施例２３９ ４−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（３，４−ジメ
トキシフェニル）チアゾール０．５ｇ、パラホルムアル
デヒド１ｇ及びＮ−メチルピペラジン０．５ｇをエタノ
ール２５ｍｌに懸濁し、８時間加熱還流する。反応液を
減圧留去後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶出液：ジクロロメタン：メタノール＝４
９：１；ｖ／ｖ）にて精製する。エタノール１０ｍｌに
溶解し、塩化水素ガス飽和エタノール０．５ｍｌを加え
て、放置する。析出する結晶を濾取、乾燥後エタノール
より再結晶して、０．２ｇの４−〔４−ヒドロキシ−３
−（４−メチル−１−ピペラジニルメチル）フェニル〕
−２−（３，４−ジメトキシフェニル）チアゾール３塩
酸塩を得る。
【０４８２】ｍｐ：１７８〜１９０℃、黄色粉末状 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：２．８３（３Ｈ，ｂｒ
ｓ）、３．２８−３．８２（８Ｈ，ｍ）、３．８５（３
Ｈ，ｓ）、３．９１（３Ｈ，ｓ）、７．１１（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．５２−７．６８（２Ｈ，
ｍ）、７．８７（１Ｈ，ｓ）、７．９８（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．５Ｈｚ）、８．３０（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝２．０Ｈｚ）。
【０４８３】実施例２４０ ４−（３−メトキシ−５−カルボキシフェニル）−２−
（３，４−ジエトキシフェニル）チアゾール１．５ｇ、
Ｎ−メチルピペラジン０．４ｇ及びジエチルシアノホス
ホネート０．７ｇのジメチルホルムアミド溶液２０ｍｌ
を氷冷攪拌下、トリエチルアミン０．６ｍｌを加え、室
温にて１４時間攪拌する。溶媒を留去し、得られた残渣
に、ジクロロメタン８０ｍｌ及び水３０ｍｌを加え、分
液する。ジクロロメタン層を飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液２０ｍｌ及び飽和食塩水２０ｍｌで洗浄する。乾燥
後、溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（溶出液；ジクロロメタン：メタノー
ル＝２００：３；ｖ／ｖ）にて精製する。酢酸エチルに
溶解し、塩酸−エタノールを加えて析出する結晶を濾
取、乾燥後、酢酸エチルより再結晶して、１．２ｇの４
−〔３−メトキシ−５−（４−メチル−１−ピペラジニ
ルカルボニル）フェニル〕−２−（３，４−ジエトキシ
フェニル）チアゾール塩酸塩１．２ｇを得る。
【０４８４】白色粉末状、ｍｐ：１８５−１８６℃。
【０４８５】実施例２４０と同様にして適当な出発原料
を用いて、前記実施例１２０、２１７及び２３３の化合
物を得る。
【０４８６】実施例２４１ ４−〔３−メトキシ−５−（４−メチル−１−ピペラジ
ニルカルボニル）フェニル〕−２−（３，４−ジエトキ
シフェニル）チアゾール０．４ｇをテトラヒドロフラン
２０ｍｌに溶解し、水素化アルミニウムリチウム３２ｍ
ｇを少量ずつ加え、０℃にて３０分室温にて２時間攪拌
する。１０％水酸化ナトリウム水溶液０．０５ｍｌ及び
水０．１ｍｌを加え、更に室温にて２０分攪拌する。反
応液を濾過後、濾液を濃縮して得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ジクロロメタ
ン：メタノール＝９９：１；ｖ／ｖ）にて精製する。酢
酸エチルに溶解し、塩酸−エタノールを加えて、析出す
る結晶を濾取、乾燥後、酢酸エチルより再結晶して、４
０ｍｇの４−〔３−メトキシ−５−（４−メチル−１−
ピペラジニルメチル）フェニル〕−２−（３，４−ジエ
トキシフェニル）チアゾール２塩酸塩を得る。
【０４８７】白色粉末状、ｍｐ：２１２−２１４℃。
【０４８８】実施例２４１と同様にして適当な出発原料
を用いて、前記実施例２０９の化合物を得る。
【０４８９】実施例２４２ ４−（４−クロロ−３−ニトロフェニル）−２−（３，
４−ジエトキシフェニル）チアゾール１ｇ及びモルホリ
ン６３６ｍｇのジメチルホルムアミド２０ｍｌ及びジメ
チルスルホキシド２０ｍｌ溶液を１５０℃にて２〜３．
５時間加熱還流する。反応液を減圧留去後、残渣を氷水
に移し、炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、ジクロロメ
タンにて３回抽出する。食塩水にて洗浄後、硫酸マグネ
シウムで乾燥する。溶媒を留去して得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにて精製後、酢酸エチ
ル−ｎ−ヘキサンで再結晶して、１．０３ｇの４−（４
−モルホリノ−３−ニトロフェニル）−２−（３，４−
ジエトキシフェニル）チアゾールを得る。
【０４９０】橙色針状晶、ｍｐ：１１９−１２０℃。
【０４９１】実施例２４２と同様にして適当な出発原料
を用いて、前記実施例１７３、１８０、１８８及び１８
９の化合物を得る。
【０４９２】実施例２４３ ４，５−ジエトキシカルボニル−２−（３，４−ジエト
キシフェニル）チアゾール１ｇをエタノール４ｍｌに懸
濁し、ヒドラジン水和物２ｍｌを加え、封管にて１３０
℃、４８時間加熱する。冷後、析出する結晶を濾取す
る。エタノールで洗浄、乾燥後、ジメチルホルムアミド
より再結晶して、２２０ｍｇの２−（３，４−ジエトキ
シフェニル）−５，６−ジヒドロチアゾロ〔４，５−
ｄ〕ピリダジン−４，７−ジオンを得る。
【０４９３】ｍｐ：２７０−２７９℃（分解）、黄色粉
末状 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：１．３９（３Ｈ，ｔ，Ｊ
＝６．８Ｈｚ）、１．４０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈ
ｚ）、４．００−４．３５（４Ｈ，ｍ）、７．１３（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
２．０Ｈｚ）、７．６８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０Ｈ
ｚ，８．４Ｈｚ）、１１．９７（２Ｈ，ｂｒｓ）。
【０４９４】実施例２４４ ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−クロロメチ
ルチアゾール８６０ｍｇ及びＮ−メチルピペラジン３２
０ｍｇをジメチルホルムアミド１０ｍｌに溶解し、水素
化ナトリウム１３０ｍｇを加え、室温にて１４時間撹拌
する。溶媒を留去して得られた残渣をクロロホルムに抽
出する。水洗、乾燥後、溶媒を留去する。得られた残渣
をエタノールに溶解し、塩化水素ガス飽和エタノールを
加え放置する。析出する結晶を濾取し、少量のエタノー
ルで洗浄、乾燥する。エタノールより再結晶して、８２
０ｍｇの２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−
（４−メチルピペラジニルメチル）チアゾールを得る。
【０４９５】ｍｐ：１８８−２１０℃（分解）、淡褐色
粉末状。
【０４９６】実施例２４４と同様にして適当な出発原料
を用いて、前記実施例２０９、２１２、２１８の化合物
を得る。
【０４９７】実施例２４５ １−ブロモ−３，４−ジメトキシベンゼン２．４ｇより
調整したグリニャール試薬のテトラヒドロフラン溶液６
０ｍｌを氷冷撹拌し、これに２−（３，４−ジエトキシ
フェニル）−４−ホルミルチアゾール３ｇのテトラヒド
ロフラン溶液２０ｍｌを加え、同温にて１時間室温にて
３時間撹拌する。飽和塩化アンモニウム水１０ｍｌを加
え、溶媒を留去する。得られた残渣をクロロホルム１０
０ｍｌで抽出する。水２０ｍｌ、飽和食塩水２０ｍｌで
洗浄後、乾燥する。溶媒を留去して得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：ジクロロメ
タン：アセトン＝９９：１；ｖ／ｖ）にて精製する。ジ
エチルエーテルより再結晶して、２．２ｇの２−（３，
４−ジエトキシフェニル）−４−〔１−ヒドロキシ−１
−（３，４−ジメトキシフェニル）メチル〕チアゾール
を得る。
【０４９８】ｍｐ：１２２−１２３℃、淡褐色粉末状。
【０４９９】実施例２４５と同様にして適当な出発原料
を用いて、前記実施例１２８の化合物を得る。
【０５００】実施例２４６ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−〔１−ヒド
ロキシ−１−（３，４−ジメトキシフェニル）メチル〕
チアゾール１５０ｍｇをクロロホルム２０ｍｌに溶解
し、二酸化マンガン１ｇを加え、２時間加熱還流する。
反応液を濾過し、濾液を濃縮する。酢酸エチル−ｎ−ヘ
キサンより再結晶して、９８ｍｇの２−（３，４−ジエ
トキシフェニル）−４−（３，４−ジメトキシベンゾイ
ル）チアゾールを得る。
【０５０１】ｍｐ：１２８−１２９℃、白色粉末状。
【０５０２】実施例２４６と同様にして適当な出発原料
を用いて、前記実施例１２７の化合物を得る。
【０５０３】実施例２４７ ベンジルトリフェニルホスホニウムクロリド２．６ｇの
テトラヒドロフラン１０ｍｌ懸濁液を−５０℃にて撹拌
下、ｎ−ブチルリチウム４．２ｍｌを少量ずつ滴下す
る。一度室温まで昇温後、再び−５０℃にて２−（３，
４−ジエトキシフェニル）−４−ホルミルチアゾール２
ｇのテトラヒドロフラン溶液１２ｍｌを加え、同温にて
３０分、室温にて１４時間撹拌する。水１０ｍｌ、酢酸
エチル４０ｍｌを加え、分液抽出する。乾燥後溶媒を留
去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにて精製して、シス体：トランス体＝１：１の混合
物として２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−ス
チリルチアゾール２ｇを得る。
【０５０４】ｍｐ：９４−９５℃、淡黄色粉末状。
【０５０５】実施例２４７と同様にして適当な出発原料
を用いて、前記実施例１２９及び１３５の化合物を得
る。
【０５０６】実施例２４８ 前記実施例１４２と同様にして適当な出発原料を用い
て、前記実施例１５５、１６９、１７５、１８２、１９
０、１９６、２０１、２０８、２０９、２１０、２１
１、２１９、２２０、２２８及び２３３の化合物を得
る。
【０５０７】実施例２４９ 前記実施例１４３と同様にして適当な出発原料を用い
て、前記実施例１７２、１７８、１８０、１８１、１８
６、２０１、２０６、２０７、２０９、２１０、２１
１、２１６及び２３４の化合物を得る。
【０５０８】実施例２５０ 前記実施例１５１と同様にして適当な出発原料を用い
て、前記実施例２２６の化合物を得る。
【０５０９】実施例２５１ 前記実施例１５２と同様にして適当な出発原料を用い
て、前記実施例２２７の化合物を得る。
【０５１０】実施例２５２ 前記実施例１４６と同様にして適当な出発原料を用い
て、前記実施例１５９、１７５、１８６、２０２及び２
０３の化合物を得る。
【０５１１】実施例２５３〜３５１ 前記実施例１及び１３８と同様にして適当な出発原料を
用いて、下記表８２〜表１０２に示す化合物を得る。
【０５１２】
【表８２】
【０５１３】
【表８３】
【０５１４】
【表８４】
【０５１５】
【表８５】
【０５１６】
【表８６】
【０５１７】
【表８７】
【０５１８】
【表８８】
【０５１９】
【表８９】
【０５２０】
【表９０】
【０５２１】
【表９１】
【０５２２】
【表９２】
【０５２３】
【表９３】
【０５２４】
【表９４】
【０５２５】
【表９５】
【０５２６】
【表９６】
【０５２７】
【表９７】
【０５２８】
【表９８】
【０５２９】
【表９９】
【０５３０】
【表１００】
【０５３１】
【表１０１】
【０５３２】
【表１０２】
【０５３３】1) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．４９
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ）、１．５２（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝５．６Ｈｚ）、３．０８（３Ｈ，ｓ）、３．４３
（３Ｈ，ｓ）、３．４９（３Ｈ，ｓ）、３．６７（３
Ｈ，ｓ）、４．１０−４．３０（４Ｈ，ｍ）、６．９２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）、７．１１（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝６．７Ｈｚ）、７．４７（１Ｈ，ｓ）、７．５２
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ，６．７Ｈｚ）、７．６
１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ）、８．２０（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，６．４Ｈｚ）、８．５６（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）。
【０５３４】2) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．５０
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、１．５２（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝６．９Ｈｚ）、２．２５−２．４０（１Ｈ，ｍ）、
２．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ）、２．８６−
３．１４（２Ｈ，ｍ）、３．４５−３．８０（２Ｈ，
ｍ）、４．０１（３Ｈ，ｓ）、４．０１（１Ｈ，ｂｒ
ｓ）、４．１０−４．３０（４Ｈ，ｍ）、６．９３（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．３２（１Ｈ，ｓ）、
７．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．３Ｈ
ｚ）、７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）、８．０
２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）、８．３４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）、１１．４０（１Ｈ，ｓ）。
【０５３５】3) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．５０
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．５２（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．８２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈ
ｚ）、４．０１（３Ｈ，ｓ）、４．１０−４．３０（４
Ｈ，ｍ）、６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、
７．３３（１Ｈ，ｓ）、７．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
２．１Ｈｚ，８．４Ｈｚ）、７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
２．１Ｈｚ）、８．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈ
ｚ）、８．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）、９．８
１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）、１１．２０（１Ｈ，
ｓ）。
【０５３６】4) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．４０−
１．６０（９Ｈ，ｍ）、２．２６（３Ｈ，ｓ）、４．１
６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、４．２３（２Ｈ，
ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、４．４４（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．
１Ｈｚ）、６．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、
７．４０（１Ｈ，ｓ）、７．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
２．１Ｈｚ，８．４Ｈｚ）、７．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
２．１Ｈｚ）、８．１４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２Ｈ
ｚ，８．８Ｈｚ）、８．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈ
ｚ）、８．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）、１１．
２０（１Ｈ，ｓ）。
【０５３７】5) ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：３．９
７（３Ｈ，ｓ）、６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈ
ｚ）、７．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）、７．３
２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．２Ｈｚ）、７．
４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）、７．８０（１Ｈ，
ｓ）、８．１１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，８．９
Ｈｚ）、８．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、１
０．８５（１Ｈ，ｂｒｓ）。
【０５３８】6) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．３５−
１．６０（６Ｈ，ｍ）、３．９４（３Ｈ，ｓ）、４．１
０−４．３０（４Ｈ，ｍ）、５．７３（１Ｈ，ｓ）、
６．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．０３（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）、７．３０（１Ｈ，ｓ）、
７．４８−７．６５（２Ｈ，ｍ）、８．１３（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，８．８Ｈｚ）、８．４１（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ）。
【０５３９】7) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．４６
（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．９２（３Ｈ，
ｓ）、４．０７−４．２１（４Ｈ，ｍ）、６．９０（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．１５（１Ｈ，ｂｒ
ｓ）、７．２７−７．４９（２Ｈ，ｍ）、７．５７（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）、７．７４（１Ｈ，ｍ）、
８．１６（１Ｈ，ｓ）。
【０５４０】8) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．５０
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、１．５１（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝６．９Ｈｚ）、３．９３（３Ｈ，ｓ）、４．１１−
４．２４（４Ｈ，ｍ）、６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
２Ｈｚ）、７．４４−７．４９（３Ｈ，ｍ）、８．３４
（１Ｈ，ｓ）、８．４０（１Ｈ，ｓ）、１１．１９（１
Ｈ，ｓ）。
【０５４１】9) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．４９
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．５１（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．９３（３Ｈ，ｓ）、４．０２
（３Ｈ，ｓ）、４．１０−４．２９（４Ｈ，ｍ）、６．
９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．０５（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．５５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
２．０Ｈｚ，８．３Ｈｚ）、７．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
２．０Ｈｚ）、７．８６（１Ｈ，ｓ）、８．００（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，８．７Ｈｚ）、９．０５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ）。
【０５４２】10) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．００
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）、１．０１（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．３Ｈｚ）、１．５１−１．５８（４Ｈ，ｍ）、
１．８１−１．９０（４Ｈ，ｍ）、４．０１（３Ｈ，
ｓ）、４．０３−４．１７（４Ｈ，ｍ）、６．９５（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．７Ｈｚ）、７．３３（１Ｈ，ｓ）、７．５２（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．３Ｈｚ）、７．６０
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）、８．０６（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，８．７Ｈｚ）、８．４４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ）。
【０５４３】11) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．０７
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）、１．０９（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．４Ｈｚ）、１．８３−１．９６（４Ｈ，ｍ）、
４．００−４．１３（４Ｈ，ｍ）、４．０１（３Ｈ，
ｓ）、６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．０
９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）、７．３２（１Ｈ，
ｓ）、７．５２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．４
Ｈｚ）、７．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）、８．
０８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．８Ｈｚ）、
８．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）、１０．８６
（１Ｈ，ｓ）。
【０５４４】12) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．５４
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．９４（３Ｈ，
ｓ）、４．０１（３Ｈ，ｓ）、４．２６（２Ｈ，ｑ，Ｊ
＝７．０Ｈｚ）、６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈ
ｚ）、７．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、７．３
２（１Ｈ，ｓ）、７．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０Ｈ
ｚ，８．４Ｈｚ）、７．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈ
ｚ）、８．０９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．６
Ｈｚ）、８．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）、１
０．８６（１Ｈ，ｓ）。
【０５４５】13) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：０．８８
（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、１．２７（２８Ｈ，ｂ
ｒｓ）、１．４０−１．６３（４Ｈ，ｍ）、１．７８−
１．９１（４Ｈ，ｍ）、３．９９（３Ｈ，ｓ）、４．０
１−４．１５（４Ｈ，ｍ）、６．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．４Ｈｚ）、７．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈ
ｚ）、７．３０（１Ｈ，ｓ）、７．５１（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．４Ｈｚ）、７．５９（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝２．２Ｈｚ）、８．０７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２
Ｈｚ，８．６Ｈｚ）、８．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２
Ｈｚ）、１０．８６（１Ｈ，ｓ）。
【０５４６】14) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．４５
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．６２（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、４．０１（３Ｈ，ｓ）、４．０９
（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、４．２２（２Ｈ，ｑ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、６．５５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈ
ｚ）、６．６１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，８．８
Ｈｚ）、７．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）、７．
３７（１Ｈ，ｓ）、８．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４
Ｈｚ，８．８Ｈｚ）、８．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８
Ｈｚ）、８．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、１
０．８４（１Ｈ，ｓ）。
【０５４７】15) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．０７
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、１．５０（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝６．８Ｈｚ）、１．８０−２．１０（２Ｈ，ｍ）、
４．００（３Ｈ，ｓ）、４．１２−４．４７（４Ｈ，
ｍ）、６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．０
９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、７．３１−７．４９
（１Ｈ，ｍ）、７．５０−７．７７（２Ｈ，ｍ）、８．
１３−８．２７（１Ｈ，ｍ）、８．４５（１Ｈ，ｓ）、
１０．８６（１Ｈ，ｓ）。
【０５４８】16) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．０７
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ）、１．５２（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．８５−１．９６（２Ｈ，ｍ）、
４．０４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）、４．２５（２
Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．３Ｈｚ）、７．４９−７．６３（５Ｈ，ｍ）、８．
１６−８．２０（１Ｈ，ｍ）、８．３４（１Ｈ，ｓ）。
【０５４９】17) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．０５
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ）、１．４３（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．４６（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈ
ｚ）、４．０２−４．２２（６Ｈ，ｍ）、６．８７（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．３４−７．４９（３
Ｈ，ｍ）、７．５８−７．６２（２Ｈ，ｍ）、７．６３
−７．７４（１Ｈ，ｍ）。
【０５５０】18) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．５０
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．５２（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．５４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈ
ｚ）、３．９２（３Ｈ，ｓ）、４．１２−４．２６（４
Ｈ，ｍ）、５．０９−５．１８（２Ｈ，ｍ）、６．０９
−６．１２（１Ｈ，ｍ）、６．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．３Ｈｚ）、７．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈ
ｚ）、７．４９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．３
Ｈｚ）、７．５４（１Ｈ，ｓ）、７．８４（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝２．２Ｈｚ）、８．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈ
ｚ）、１２．８４（１Ｈ，ｓ）。
【０５５１】19) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．４２
（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．５０（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．５２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈ
ｚ）、４．００（３Ｈ，ｓ）、４．１０−４．３３（４
Ｈ，ｍ）、５．０７−５．２３（２Ｈ，ｍ）、６．０３
−６．２５（１Ｈ，ｍ）、６．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．３Ｈｚ）、７．３１（１Ｈ，ｓ）、７．５０−７．
６６（２Ｈ，ｍ）、７．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈ
ｚ）、８．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ）、１１．
２６（１Ｈ，ｓ）。
【０５５２】20) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．４９
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．５１（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．７８（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈ
ｚ）、３．９３（３Ｈ，ｓ）、４．１０−４．３０（４
Ｈ，ｍ）、４．６８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、
５．４２−５．６２（１Ｈ，ｍ）、６．９２（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
８Ｈｚ）、７．３４（１Ｈ，ｓ）、７．５２（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．３Ｈｚ）、７．６１（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、８．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
２．４Ｈｚ，８．７Ｈｚ）、８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
２．３Ｈｚ）。
【０５５３】21) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．４９
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．４９（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．９８（３Ｈ，ｓ）、４．０５−
４．３０（４Ｈ，ｍ）、５．０１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
１．２Ｈｚ，５．８Ｈｚ）、５．０８（１Ｈ，ｓ）、
６．２３−６．４３（１Ｈ，ｍ）、６．９２（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．３０（１Ｈ，ｓ）、７．５
４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．３Ｈｚ）、７．
６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、８．１０（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）、８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．
２Ｈｚ）、１１．６０（１Ｈ，ｓ）。
【０５５４】22) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．４９
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、１．５１（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝６．９Ｈｚ）、１．８７（３Ｈ，ｓ）、３．９４
（３Ｈ，ｓ）、４．１０−４．３０（４Ｈ，ｍ）、４．
５６（２Ｈ，ｓ）、５．０３（１Ｈ，ｂｒｓ）、５．２
２（１Ｈ，ｂｒｓ）、６．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４
Ｈｚ）、７．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）、７．
３４（１Ｈ，ｓ）、７．５２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１
Ｈｚ，８．４Ｈｚ）、７．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１
Ｈｚ）、８．１０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，８．
８Ｈｚ）、８．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）。
【０５５５】23) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．５３
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．９２（３Ｈ，
ｓ）、３．９５（３Ｈ，ｓ）、４．２１（２Ｈ，ｑ，Ｊ
＝７．０Ｈｚ）、６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈ
ｚ）、７．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、７．４
５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）、７．５２（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．４Ｈｚ）、７．６４（１Ｈ，
ｓ）、７．９５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．６
Ｈｚ）、８．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）、１
２．６６（１Ｈ，ｓ）。
【０５５６】24) ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：１．３
８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．４０（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、４．０７−４．２７（４Ｈ，
ｍ）、６．８１（２Ｈ，ｓ）、７．０８（１Ｈ，ｑ，Ｊ
＝８．３Ｈｚ）、７．４８−７．５８（２Ｈ，ｍ）、
８．０４（１Ｈ，ｓ）、１４．７７（２Ｈ，ｓ）。
【０５５７】25) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．５０
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．５１（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、４．１０−４．３３（４Ｈ，ｍ）、
６．４４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ，８．５Ｈ
ｚ）、６．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）、６．９
３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）、７．２９（１Ｈ，
ｓ）、７．４２−７．５７（３Ｈ，ｍ）。
【０５５８】実施例３５２ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（４−ヒド
ロキシ−３−メトキシカルボニルフェニル）チアゾール
１ｇ及び炭酸カリウム０．３５ｇをジメチルホルムアミ
ド１０ｍｌに懸濁し、室温にて３０分撹拌する。これに
ブロモ酢酸メチル０．４６ｇを加え、同温にて４時間撹
拌する。溶媒を留去し、残渣をジクロロメタン４０ｍｌ
で抽出する。水１０ｍｌ及び飽和食塩水１０ｍｌで洗
浄、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去する。得ら
れた残渣をジイソプロピルエーテルで再結晶して、１．
１ｇの２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（４
−メトキシカルボニルメトキシ−３−メトキシカルボニ
ルフェニル）チアゾールを得る。
【０５５９】無色針状、ｍｐ：９６−９７℃。
【０５６０】実施例３５２と同様にして適当な出発原料
を用いて前記実施例１、６、２３、２６〜８１、９２、
９４〜９６、１０１〜１０８、１１２、１１５、１１
８、１２１、１２４、１２５〜１２８、１３０〜１３
３、１３５、１３６、１５４〜１６５、１６７〜２２
７、２２９〜２３４、２５３〜２７３、２７５〜３０
７、３０９〜３１６、３１８〜３２８、３３０〜３５１
の化合物を得る。
【０５６１】実施例３５３ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（４−アリ
ルオキシ−３−メトキシカルボニルフェニル）チアゾー
ル１ｇのｏ−ジクロロベンゼン２５ｍｌ溶液を１５時間
加熱還流する。反応終了後、溶媒を留去して得られた残
渣をジイソプロピルエーテルより再結晶して、１ｇの２
−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３−メトキ
シカルボニル−４−ヒドロキシ−５−アリルフェニル）
チアゾールを得る。
【０５６２】無色プリズム状、ｍｐ：１１８−１１９
℃。
【０５６３】実施例３５３と同様にして適当な出発原料
を用いて前記実施例２６２、２７５、２７７、３１６、
３４２、３４４、３４６、３４８の化合物を得る。
【０５６４】実施例３５４ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（４−ジメ
チルアミノチオカルボニルオキシ−３−メトキシカルボ
ニルフェニル）チアゾール４．９ｇを無溶媒１７０℃に
て５時間加熱撹拌する。シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（溶出液：ジクロロメタン）より精製後、エタノ
ールより再結晶して、２．８３ｇの２−（３，４−ジエ
トキシフェニル）−４−（４−ジメチルアミノカルボニ
ルチオ−３−メトキシカルボニルフェニル）チアゾール
を得る。
【０５６５】黄色粉末状、ｍｐ：１０８−１０９℃。
【０５６６】実施例３５５ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（４−ジメ
チルアミノカルボニルチオ−３−メトキシカルボニルフ
ェニル）チアゾール２５０ｍｇのエタノール５ｍｌ溶液
に、１０％水酸化カリウム１ｍｌを加え、８時間加熱還
流する。溶媒を留去して、得られた残渣を熱酢酸エチル
４０ｍｌで抽出する。１０％塩酸にて酸性とした後、水
５ｍｌ、飽和食塩水１０ｍｌで洗浄、乾燥する。溶媒を
留去して得られた残渣をジオキサン−エタノールより再
結晶して１３０ｍｇの２−（３，４−ジエトキシフェニ
ル）−４−（４−メルカプト−２−カルボキシフェニ
ル）チアゾールを得る。
【０５６７】淡褐色粉末状、ｍｐ：２８３−２８５℃。
【０５６８】実施例３５６ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３−メト
キシカルボニル−４−ヒドロキシ−５−アリルフェニ
ル）チアゾール１ｇのメタノール２０ｍｌ及びテトラヒ
ドロフラン２０ｍｌ溶液に四酸化オスミウム（４％水溶
液）０．５ｍｌ及び４−メチルモルホリンＮ−オキシド
１．２２ｇを加え室温にて４時間撹拌後、溶媒を留去す
る。得られた残渣をジクロロメタン５０ｍｌ及び水２５
ｍｌで分液後、飽和食塩水２５ｍｌで洗浄、乾燥する。
溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（溶出液：ジクロロメタン−メタノール＝
１９９：１）にて精製して、８６０ｍｇの２−（３，４
−ジエトキシフェニル）−４−〔３−メトキシカルボニ
ル−４−ヒドロキシ−５−（２，３−ジヒドロキシプロ
ピル）フェニル〕チアゾールを得る。
【０５６９】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．５０
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、１．５２（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝６．９Ｈｚ）、２．２５−２．４０（１Ｈ，ｍ）、
２．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ）、２．８６−
３．１４（２Ｈ，ｍ）、３．４５−３．８０（２Ｈ，
ｍ）、４．０１（３Ｈ，ｓ）、４．０１（１Ｈ，ｂｒ
ｓ）、４．１０−４．３０（４Ｈ，ｍ）、６．９３（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．３２（１Ｈ，ｓ）、
７．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．３Ｈ
ｚ）、７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）、８．０
２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）、８．３４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）、１１．４０（１Ｈ，ｓ）。
【０５７０】実施例３５７ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３−メト
キシカルボニル−４−ヒドロキシ−５−アリルフェニ
ル）チアゾール２ｇのテトラヒドロフラン１００ｍｌ及
び水１５ｍｌの溶液に四酸化オスミウム（４％水溶液）
２．５ｍｌ及びメタ過沃素酸ナトリウム３．９ｇを加え
室温にて１４時間撹拌する。反応終了後、溶媒を留去
し、得られた残渣をジクロロメタン６０ｍｌ及び水３０
ｍｌで分液抽出する。乾燥後、溶媒を留去して得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：
ジクロロメタン）にて精製して、１．３３ｇの２−
（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３−メトキシ
カルボニル−４−ヒドロキシ−５−ホルミルメチルフェ
ニル）チアゾールを得る。
【０５７１】1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．５０
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．５２（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．８２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈ
ｚ）、４．０１（３Ｈ，ｓ）、４．１０−４．３０（４
Ｈ，ｍ）、６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、
７．３３（１Ｈ，ｓ）、７．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
２．１Ｈｚ，８．４Ｈｚ）、７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
２．１Ｈｚ）、８．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈ
ｚ）、８．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）、９．８
１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）、１１．２０（１Ｈ，
ｓ）。
【０５７２】実施例３５８ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３−メト
キシカルボニル−４−ヒドロキシ−５−ホルミルメチル
フェニル）チアゾール１．３ｇのメタノール３０ｍｌ溶
液に氷冷撹拌下、水素化ホウ素ナトリウム１１１ｍｇを
加え、同温にて３０分撹拌する。反応終了後、溶媒を留
去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（溶出液：ジクロロメタン：ｎ−ヘキサン＝４：
１）にて精製する。ジエチルエーテルより再結晶して、
５７０ｍｇの２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４
−〔３−メトキシカルボニル−４−ヒドロキシ−５−
（２−ヒドロキシエチル）フェニル〕チアゾールを得
る。
【０５７３】淡褐色針状、ｍｐ：１１３−１１４℃。
【０５７４】実施例３５９ ３−〔２−（３，４−ジエトキシフェニル）−チアゾー
ル−４−イル〕−６−アセチルアミノ安息香酸カリウム
塩１ｇの水５０ｍｌ及び３０％水酸化カリウム１０ｍｌ
溶液を８時間加熱還流する。反応終了後、溶媒を留去し
て得られた残渣を１０％塩酸にて弱酸性とし、酢酸エチ
ル８０ｍｌで抽出する。飽和食塩水２０ｍｌで洗浄、乾
燥後、溶媒を留去する。酢酸エチルより再結晶して１６
８ｍｇの２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−
（３−カルボキシ−４−アミノフェニル）チアゾールを
得る。
【０５７５】黄色針状、ｍｐ：２２８−２２９℃。
【０５７６】実施例３５９と同様に適当な出発原料を用
いて前記実施例２９８の化合物を得る。
【０５７７】実施例３６０ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（２，４−
ジヒドロキシフェニル）チアゾール１．５ｇのアセトン
４０ｍｌ溶液に炭酸カリウム２ｇを加え、−７８℃冷却
下、ドライアイス４０ｇを加え、封管する。１５０℃に
て１８時間撹拌する。溶媒を留去後、得られた残渣を酢
酸エチル１００ｍｌ及び１０％塩酸で弱酸性にし分液抽
出する。飽和食塩水３０ｍｌにて洗浄後、乾燥する。溶
媒を留去して得られた残渣にジクロロメタン４０ｍｌを
加え不溶物を濾取、少量のジクロロメタンで洗浄、乾燥
する。酢酸エチルより再結晶して２４１ｍｇの２−
（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３−カルボキ
シ−４，６−ジヒドロキシフェニル）チアゾールを得
る。
【０５７８】淡褐色板状、ｍｐ：２３３−２３４℃。
【０５７９】実施例３６０と同様にして適当な出発原料
を用いて前記実施例１９０、２６２、２７５、２７６、
２７７、２７８、２８２、２８４〜２８６、２８８〜２
９３、２９５、２９７、２９９、３０４、３０５及び３
０８の化合物を得る。
【０５８０】実施例３６１ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３−エチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）チアゾール１ｇ、パラホ
ルムアルデヒド１ｇ及び塩酸ジメチルアミン１．１ｇの
エタノール２０ｍｌ懸濁液を１００℃にて４時間加熱撹
拌する。溶媒を留去して得られた残渣に水２０ｍｌ及び
酢酸エチル３０ｍｌを加え分液抽出する。酢酸エチル層
を再び１０％塩酸（２０ｍｌ×３）にて抽出する。水層
をあわせて１０％水酸化ナトリウムにて塩基性としジク
ロロメタンにて抽出する。飽和食塩水２０ｍｌで洗浄、
乾燥後、溶媒を留去する。得られた残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（溶出液；ジクロロメタン：メ
タノール＝４９：１）にて精製する。アセトンに溶か
し、塩酸−メタノールを加え加熱する。析出する結晶を
濾取、乾燥する。アセトンより再結晶して、１１７ｍｇ
の２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３−エ
チル−４−ヒドロキシフェニル）−５−ジメチルアミノ
メチルチアゾール２塩酸塩を得る。
【０５８１】黄色粉末状、ｍｐ：１６３−１６８℃。
【０５８２】実施例３６２ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３−シア
ノフェニル）チアゾール１６ｇのエタノール１２０ｍｌ
及び４０％水酸化ナトリウム水溶液９０ｍｌ溶液を１５
時間加熱還流する。反応液に水を加え、濃塩酸で酸性と
し、酢酸エチル（２００ｍｌ×３）で抽出する。水洗
（１００ｍｌ×３）後、溶媒を留去する。得られた残渣
をエタノールより再結晶して、７ｇの２−（３，４−ジ
エトキシフェニル）−４−（３−カルボキシフェニル）
チアゾールを得る。
【０５８３】淡桃色針状、ｍｐ：１９２−１９２．８
℃。
【０５８４】実施例３６３ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３−カル
ボキシ−４−ヒドロキシ−５−アリルフェニル）チアゾ
ール２５０ｍｇのメタノール１０ｍｌ溶液に５％Ｐｄ−
Ｃを触媒量加え水素雰囲気下室温にて６時間撹拌する。
反応終了後、反応液を濾去し、濾液を濃縮、残留物をエ
タノールより再結晶して、１９３ｍｇの２−（３，４−
ジエトキシフェニル）−４−（３−カルボキシ−４−ヒ
ドロキシ−５−プロピルフェニル）チアゾールを得る。
【０５８５】白色粉末状、ｍｐ：１７９−１８０℃。
【０５８６】実施例３６３と同様にして適当な出発原料
を用いて前記実施例２９５、３０２、３１９の化合物を
得る。
【０５８７】実施例３６４ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３−カル
ボキシ−４−ヒドロキシフェニル）チアゾール１ｇの無
水酢酸５ｍｌ溶液を１００℃にて４時間加熱撹拌する。
溶媒を留去後、得られた残渣を酢酸エチル５０ｍｌに溶
解し、飽和炭酸水素ナトリウム１０ｍｌにを加え、分液
する。酢酸エチル層を１０％塩酸で酸性とし、飽和食塩
水１０ｍｌで洗浄後、乾燥、溶媒を留去する。酢酸エチ
ルより再結晶して、１４５ｍｇの２−（３，４−ジエト
キシフェニル）−４−（３−カルボキシ−４−アセチル
オキシフェニル）チアゾールを得る。
【０５８８】白色針状、ｍｐ：１７８−１７９℃。
【０５８９】実施例３６５ ２−（３−メトキシカルボニル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−４−（３，４−ジヒドロキシフェニル）チアゾー
ル１．２ｇのジメチルホルムアミド２０ｍｌ溶液にヨウ
化エチル１．２ｇ及び炭酸カリウム１．５ｇを加え、室
温にて１４時間撹拌する。溶媒を留去し、得られた残渣
にクロロホルム４０ｍｌ及び水４０ｍｌを加え、１０％
塩酸で酸性とし、分液する。飽和食塩水２０ｍｌで洗
浄、乾燥後、溶媒を留去して得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（溶出液；ジクロロメタン：
ｎ−ヘキサン＝３：１）にて精製して、４００ｍｇの２
−（３−メトキシカルボニル−４−ヒドロキシフェニ
ル）−４−（３，４−ジエトキシフェニル）チアゾール
を得る。
【０５９０】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．３５−１．
６０（６Ｈ，ｍ）、３．９４（３Ｈ，ｓ）、４．１０−
４．３０（４Ｈ，ｍ）、５．７３（１Ｈ，ｓ）、６．９
０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．０３（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）、７．３０（１Ｈ，ｓ）、７．４
８−７．６５（２Ｈ，ｍ）、８．１３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝２．３Ｈｚ，８．８Ｈｚ）、８．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝２．３Ｈｚ）。
【０５９１】実施例３６５と同様にして適当な出発原料
を用いて前記実施例１、６、２３、２６〜８１、９２、
９４〜９６、１０１〜１０８、１１２、１１５、１１
８、１２１、１２４、１２５〜１２８、１３０〜１３
３、１３５、１３６、１５４〜１６５、１６７〜２２
７、２２９〜２３４、２５３〜２７３、２７５〜３０
７、３０９〜３１６、３１８〜３２８、３３０〜３５１
の化合物を得る。
【０５９２】実施例３６６ 実施例１４７と同様にして適当な出発原料を用いて前記
実施例２５３、２５７、２５９、２６１〜２６３、２６
７、２６９、２７１、２７５〜２７８、２８１、２８
２、２８４〜２９６、２９７〜３０１、３０３〜３０
６、３０８、３１２、３１４〜３１８、３２０の化合物
を得る。
【０５９３】実施例３６７ 実施例１４８と同様にして適当な出発原料を用いて前記
実施例２５８の化合物を得る。
【０５９４】実施例３６８ 実施例２３５と同様にして適当な出発原料を用いて前記
実施例２６８、２７１、２７２、２８３、２８５、２９
８、３００、３１０、３２０の化合物を得る。
【０５９５】実施例３６７〜３７４ 実施例１及び１３８と同様にして適当な出発原料を用い
て表１０３及び表１０４に示す化合物を得る。
【０５９６】
【表１０３】
【０５９７】
【表１０４】
【０５９８】1) ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：１．３
７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、１．３９（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、３．８２（３Ｈ，ｓ）、４．１
３（４Ｈ，ｍ）、７．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈ
ｚ）、７．３０（１Ｈ，ｍ）、７．４８（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．４Ｈｚ）、７．５８（２Ｈ，
ｍ）、７．７１（１Ｈ，ｓ）、１２．１０（１Ｈ，ｂｒ
ｓ）。
【０５９９】2) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．４１−
１．５４（９Ｈ，ｍ）、４．０７−４．２６（６Ｈ，
ｍ）、６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．４
９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．４Ｈｚ）、７．
６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、７．８６−８．０
５（２Ｈ，ｍ）、８．２０（１Ｈ，ｓ）、８．４４（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，７．７Ｈｚ）。
【０６００】実施例３７５ 実施例１４７と同様にして適当な出発原料を用いて前記
実施例３６８〜３７１の化合物を得る。
【０６０１】実施例３７６ 実施例３６３と同様にして適当な出発原料を用いて前記
実施例３６８の化合物を得る。
【０６０２】実施例３７７ 実施例３６５と同様にして適当な出発原料を用いて前記
実施例３６７〜３７４の化合物を得る。
【０６０３】適当な出発原料を用い、実施例１及び実施
例１３８と同様にして下記表１０５〜表１２０に示す化
合物を得る。
【０６０４】
【表１０５】
【０６０５】
【表１０６】
【０６０６】
【表１０７】
【０６０７】
【表１０８】
【０６０８】
【表１０９】
【０６０９】
【表１１０】
【０６１０】
【表１１１】
【０６１１】
【表１１２】
【０６１２】
【表１１３】
【０６１３】
【表１１４】
【０６１４】
【表１１５】
【０６１５】
【表１１６】
【０６１６】
【表１１７】
【０６１７】
【表１１８】
【０６１８】
【表１１９】
【０６１９】
【表１２０】
【０６２０】1) ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：１．３
８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．４０（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、２．２２（３Ｈ，ｓ）、３．８
７（２Ｈ，ｓ）、４．０８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈ
ｚ）、４．１６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、７．１
０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．４８−７．６０
（２Ｈ，ｍ）、７．９９（１Ｈ，ｓ）、８．０８（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ）、８．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
２．３Ｈｚ）。
【０６２１】2) ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：１．３
８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、１．４０（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、４．１１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．
９Ｈｚ）、４．１５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、
４．６０（２Ｈ，ｓ）、７．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
９Ｈｚ）、７．４５−７．６３（２Ｈ，ｍ）、７．７７
（１Ｈ，ｓ）、８．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈ
ｚ）、８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）。
【０６２２】3) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．４８
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．５０（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、２．７８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈ
ｚ）、３．０９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ）、４．０
７−４．３０（４Ｈ，ｍ）、６．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．３Ｈｚ）、７．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈ
ｚ）、７．６０（１Ｈ，ｂｒｓ）、８．０２（１Ｈ，ｂ
ｒｓ）、８．３８（１Ｈ，ｂｒｓ）。
【０６２３】4) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：０．８０−
１．００（３Ｈ，ｍ）、１．００−１．６７（１８Ｈ，
ｍ）、１．６７−１．９５（２Ｈ，ｍ）、３．５４（３
Ｈ，ｓ）、４．１６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、
４．２３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、４．３５（２
Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）、５．３０（２Ｈ，ｓ）、
６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．２７（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．３６（１Ｈ，ｓ）、
７．５３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．４Ｈ
ｚ）、７．６２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、８．０
８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ，８．７Ｈｚ）、８．
３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ）。
【０６２４】5) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．４９
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．５１（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．７８（３Ｈ，ｓ）、３．５４
（２Ｈ，ｓ）、３．５９（３Ｈ，ｓ）、４．１６（２
Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、４．２２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝
７．０Ｈｚ）、４．７１（１Ｈ，ｂｒｓ）、４．９０
（１Ｈ，ｂｒｓ）、５．０９（２Ｈ，ｓ）、５．５１
（２Ｈ，ｓ）、６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈ
ｚ）、７．４０（１Ｈ，ｓ）、７．５３（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．４Ｈｚ）、７．６１（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝２．１Ｈｚ）、７．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈ
ｚ）、８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）。
【０６２５】6) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．４９
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．５１（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、２．２４（３Ｈ，ｓ）、３．５６
（３Ｈ，ｓ）、３．５９（３Ｈ，ｓ）、３．９５（２
Ｈ，ｓ）、４．１６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、
４．２２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、５．０９（２
Ｈ，ｓ）、５．５０（２Ｈ，ｓ）、６．９２（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．４２（１Ｈ，ｓ）、７．５
２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．４Ｈｚ）、７．
６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）、８．０１（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ）、８．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．
３Ｈｚ）。
【０６２６】7) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．５０
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．５１（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．９７（３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．６
Ｈｚ，６．６Ｈｚ）、３．５８（３Ｈ，ｓ）、３．５９
（３Ｈ，ｓ）、４．１６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈ
ｚ）、４．２２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、５．０
９（２Ｈ，ｓ）、５．５０（２Ｈ，ｓ）、６．３８（１
Ｈ，ｄｑ，Ｊ＝１５．９Ｈｚ，６．６Ｈｚ）、６．８３
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５．９Ｈｚ）、６．９３（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．４２（１Ｈ，ｓ）、７．５
５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．４Ｈｚ）、７．
６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）、８．２３（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）、８．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．
２Ｈｚ）。
【０６２７】8) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．１６
（１．５Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、１．２２（１．５
Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、１．４３−１．５７（６
Ｈ，ｍ）、３．５９（３Ｈ，ｓ）、３．６２（３Ｈ，
ｓ）、４．０５−４．３６（４Ｈ，ｍ）、５．０７−
５．２８（２Ｈ，ｍ）、５．３０（２Ｈ，ｓ）、５．５
０（２Ｈ，ｓ）、６．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈ
ｚ）、７．４５（１Ｈ，ｓ）、７．５４（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．４Ｈｚ）、７．６１（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝２．１Ｈｚ）、８．２１（０．５Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．
３Ｈｚ）、８．３２（０．５Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈ
ｚ）、８．４８（１Ｈ，ｍ）。
【０６２８】9) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．５０
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．５２（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、２．５５（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝０．９Ｈ
ｚ）、４．０４（３Ｈ，ｓ）、４．１６（２Ｈ，ｑ，Ｊ
＝７．０Ｈｚ）、４．２３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈ
ｚ）、６．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ）、６．９
３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．４５（１Ｈ，
ｓ）、７．５５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．４
Ｈｚ）、７．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）、８．
３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）、８．４２（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ）。
【０６２９】実施例４５３ ４−〔２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−チア
ゾリル〕−１−メチルピリジニウム・アイオダイド５４
０ｍｇのメタノール６０ｍｌ溶液に０℃にて水素化ホウ
素ナトリウム９４ｍｇを加え、室温にて、１５時間撹拌
する。反応終了後、反応液を濃縮して得られた残渣に酢
酸エチル１００ｍｌを加え、水５０ｍｌで洗浄する。酢
酸エチル層を硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮する。ジエ
チルエーテルにて再結晶して、３００ｍｇの２−（３，
４−ジエトキシフェニル）−４−（１−メチル−１，
２，５，６−テトラヒドロピリジン−４−イル）チアゾ
ールを得る。
【０６３０】淡褐色粉末状、ｍｐ：８１．２〜８３．６
℃。
【０６３１】実施例４５４ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（２−エト
キシカルボニル−６−ピリジル）チアゾール１．９２ｇ
のテトラヒドロフラン１５０ｍｌ溶液に０℃にて水素化
リチウムアルミニウム２００ｍｇを加え、アルゴンガス
雰囲気下、２時間撹拌する。反応液に飽和硫酸ナトリウ
ム水溶液１ｍｌを加え、０℃にて３０分撹拌後、セライ
ト濾過する。濾液を濃縮して、得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーにより精製後、酢酸エチル
−ｎ−ヘキサンより再結晶して、３６０ｍｇの２−
（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（２−ヒドロキ
シメチル−６−ピリジル）チアゾールを得る。
【０６３２】白色針状、ｍｐ：１０９〜１１３℃。
【０６３３】実施例４５４と同様にして適当な出発原料
を用いて実施例４１２、４２３及び４４２の化合物を得
る。
【０６３４】実施例４５５ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（２−カル
ボキシ−６−ピリジル）チアゾール１ｇ、塩酸ジメチル
アミン２４５ｍｇ及びシアノリン酸ジエチル５１５ｍｇ
のジメチルホルムアミド１５ｍｌ溶液に、室温にてトリ
エチルアミン１．１３ｍｌを滴下し、同温度にて、３時
間撹拌する。続いて、反応液に水２０ｍｌを加え、ジク
ロロメタン５０ｍｌで３回抽出する。ジクロロメタン層
を硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮して、得られた残渣を
ｎ−ヘキサン−酢酸エチル−ジクロロメタンにて再結晶
して、８００ｍｇの２−（３，４−ジエトキシフェニ
ル）−４−（２−ジメチルアミノカルボニル−６−ピリ
ジル）チアゾールを得る。
【０６３５】白色針状、ｍｐ：１６３．２〜１６４．１
℃。
【０６３６】実施例４５５と同様にして適当な出発原料
を用いて実施例３７９、４００及び４０１の化合物を得
る。
【０６３７】実施例４５６ アルゴンガス雰囲気下、水素化リチウムアルミニウム７
０ｍｇのジエチルエーテル１０ｍｌの懸濁液に室温で２
−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（２−ジメチ
ルアミノカルボニル−６−ピリジル）チアゾール７３０
ｍｇのテトラヒドロフラン１５ｍｌ溶液を還流するよう
に滴下し、さらに１時間３０分還流する。水５０ｍｌを
加えジクロロメタン（５０ｍｌ×３）で抽出する。ジク
ロロメタン層を濃縮後残渣をシリカゲル薄層クロマトグ
ラフィーにて精製後、エタノール溶液に濃塩酸を加え塩
酸塩とし、ジエチルエーテル−エタノールより再結晶し
て、２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（２−
ジメチルアミノメチル−６−ピリジル）チアゾール２塩
酸塩６０ｍｇを得る。
【０６３８】黄色粉末状、ｍｐ：１９５℃（分解）。
【０６３９】実施例４５７ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３−メト
キシカルボニル−４−ヒドロキシフェニル）チアゾール
１０ｇをジクロロメタン１００ｍｌに溶解し、これに無
水トリフルオロメタンスルホン酸８．５ｇを加え氷冷撹
拌下トリエチルアミン６ｍｌを滴下する。室温にて２時
間撹拌する。水４０ｍｌを加え分液する。乾燥後溶媒留
去し得られる残留物をエタノールより再結晶し、１２．
７ｇの２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３
−メトキシカルボニル−４−トリフルオロメタンスルホ
ニルオキシフェニル）チアゾールを得る。
【０６４０】白色粉末状、ｍｐ：１１２−１１３℃ 実施例４５８ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３−カル
ボキシ−４−メトキシメトキシフェニル）チアゾール６
００ｍｇをジメチルホルムアミド５ｍｌに溶解し、水素
化ナトリウム５６ｍｇ及び１−ブロモノナン２９０ｍｇ
を加え室温にて１４時間撹拌する。溶媒を留去し、残留
物にジクロロメタン８０ｍｌ及び１０％水酸化ナトリウ
ム水溶液３０ｍｌを加え分液する。ジクロロメタン層を
飽和食塩水２０ｍｌで洗い、乾燥後溶媒を留去する。シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ジクロロメ
タン溶出部より２−（３，４−ジエトキシフェニル）−
４−（３−ノニルオキシカルボニル−４−メトキシメト
キシフェニル）チアゾール３４０ｍｇを得る。
【０６４１】無色油状 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：０．８０−１．００（３Ｈ，
ｍ）、１．００−１．６７（１８Ｈ，ｍ）、１．６７−
１．９５（２Ｈ，ｍ）、３．５４（３Ｈ，ｓ）、４．１
６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、４．２３（２Ｈ，
ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、４．３５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．
６Ｈｚ）、５．３０（２Ｈ，ｓ）、６．９２（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
７Ｈｚ）、７．３６（１Ｈ，ｓ）、７．５３（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．４Ｈｚ）、７．６２（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、８．０８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
２．３Ｈｚ，８．７Ｈｚ）、８．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
２．３Ｈｚ）。
【０６４２】実施例４５８と同様にして適当な出発原料
を用いて、前記実施例３８２〜３８５、３９０、３９
８、４０４、４０７、４１５、４４３〜４４５、４４７
〜４５０及び４５２の化合物を得る。
【０６４３】実施例４５９ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−クロロメチ
ルチアゾール２００ｍｇ、２−アセチルピロール７３ｍ
ｇ、ヨウ化ナトリウム２００ｍｇ及び水酸化ナトリウム
２００ｍｇをジメチルホルムアミド２ｍｌ及び水０．２
ｍｌの混合溶媒に溶解し、８０℃にて４時間撹拌する。
溶媒を留去しジクロロメタン３０ｍｌ及び水２０ｍｌで
分液する。飽和食塩水１５ｍｌで洗浄し、乾燥後溶媒を
留去する。メタノールより再結晶し、６０ｍｇの２−
（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（２−アセチル
−１−ピロリル）メチルチアゾールを得る。
【０６４４】白色針状、ｍｐ：１２３〜１２４℃。
【０６４５】実施例４６０ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３−メト
キシカルボニル−４−トリフルオロメチルスルホニルオ
キシフェニル）チアゾール１ｇ及び１−（２−アミノエ
チル）ピペリジン０．７３ｇをジメチルスルホキシド５
ｍｌに溶解し、８０℃にて５時間撹拌する。酢酸エチル
４０ｍｌ及び水２０ｍｌを加えて分液する。飽和食塩水
１５ｍｌで洗浄し乾燥する。溶媒を留去しシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー〔溶出液；ジクロロメタン：メ
タノール（４９：１；Ｖ／Ｖ）〕にて精製後、ジエチル
エーテルに溶解し、塩酸−メタノールにて塩酸塩とし、
ジエチルエーテルにて再結晶して、３３０ｍｇの２−
（３，４−ジエトキシフェニル）−４−｛３−メトキシ
カルボニル−４−〔２−（１−ピペリジニル）エチルア
ミノ〕フェニル｝チアゾール・２塩酸塩を得る。
【０６４６】黄色粉末状、ｍｐ：９３〜９４℃。
【０６４７】実施例４６０と同様にして適当な出発原料
を用いて、前記実施例３８９、４０３、４３３、４３４
及び４４２並びに後記４９９、５００、５０４及び５０
５の化合物を得る。
【０６４８】実施例４６１ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３−ノニ
ルオキシカルボニル−４−メトキシメトキシフェニル）
チアゾール３４０ｍｇをエタノール２０ｍｌに溶解し、
１０％塩酸２ｍｌを加え、２０分還流する。溶媒を留去
し、残留物にジクロロメタン４０ｍｌ及び水２０ｍｌを
加え分液する。飽和食塩水１５ｍｌで洗浄後乾燥する。
溶媒を留去し、残留物をエタノールより再結晶し、２４
５ｍｇの２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−
（３−ノニルオキシカルボニル−４−ヒドロキシフェニ
ル）チアゾールを得る。
【０６４９】白色粉末状、ｍｐ：６７〜６８℃。
【０６５０】実施例４６１と同様にして適当な出発原料
を用いて、前記実施例３７９、３８０、３８２〜３８
５、３９５、３９６、４０３、４１１、４１２、４１
７、４２１〜４３５、４４５及び４５１の化合物を得
る。
【０６５１】実施例４６２ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−５−（３−メト
キシカルボニル−４−ヒドロキシ−５−アリルフェニ
ル）チアゾール１ｇ、Ｐｄ（ＯＣＯＣＨ3 ）2 ５０ｍｇ
及びＣｕ（ＯＣＯＣＨ3 ）2 ・Ｈ2 Ｏ ２３０ｍｇをメ
タノール５０ｍｌ及び水５ｍｌの混合溶媒に懸濁し、酸
素雰囲気下５０℃にて６時間撹拌後、Ｐｄ（ＯＣＯＣＨ
3 ）2 ５０ｍｇを追加し、１０時間後さらに５０ｍｇ追
加する。１４時間後原料が消失する。反応液を濾過し、
濾液を濃縮する。残留物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー〔溶出液；塩化メチレン−ｎ−ヘキサン（１：
１；Ｖ／Ｖ）〕にて精製後、メタノール−ジクロロメタ
ンより再結晶して、２−（３，４−ジエトキシフェニ
ル）−４−（２−メチル−７−メトキシカルボニル−５
−ベンゾフリル）チアゾール２３０ｍｇを得る。
【０６５２】淡褐色プリズム状、ｍｐ：１４４−１４５
℃ 実施例４６３ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−〔３−メト
キシメトキシカルボニル−４−メトキシメトキシ−５−
（２−メチル−２−プロペニル）フェニル〕チアゾール
１ｇをメタノール２０ｍｌに溶解し、氷冷攪拌下オゾン
を吹き込む。１時間後メチルスルフィド０．５ｍｌを加
え、同温度にて３０分攪拌する。溶媒を留去し、残留物
をジクロロメタン５０ｍｌ及び水２５ｍｌで分液する。
飽和食塩水１５ｍｌで洗浄し、乾燥後溶媒を留去する。
シリカゲルカラムクロマトグラフィー〔溶出液；ジクロ
ロメタン：ｎ−ヘキサン（２：３；Ｖ／Ｖ）〕にて精製
して、５００ｍｇの２−（３，４−ジエトキシフェニ
ル）−４−（３−メトキシメトキシカルボニル−４−メ
トキシメトキシ−５−アセチルメチルフェニル）チアゾ
ールを得る。
【０６５３】無色油状 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．４９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
７．０Ｈｚ）、１．５１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈ
ｚ）、２．２４（３Ｈ，ｓ）、３．５６（３Ｈ，ｓ）、
３．５９（３Ｈ，ｓ）、３．９５（２Ｈ，ｓ）、４．１
６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、４．２２（２Ｈ，
ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、５．０９（２Ｈ，ｓ）、５．５
０（２Ｈ，ｓ）、６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈ
ｚ）、７．４２（１Ｈ，ｓ）、７．５２（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．４Ｈｚ）、７．６０（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝２．１Ｈｚ）、８．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈ
ｚ）、８．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ）。
【０６５４】実施例４６３と同様にして適当な出発原料
を用いて、前記実施例４５０の化合物を得る。
【０６５５】実施例４６４ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３−メト
キシメトキシカルボニル−４−メトキシメトキシ−５−
アセチルメチルフェニル）チアゾール２２０ｍｇをエタ
ノール１５ｍｌに溶解し、１０％塩酸１ｍｌを加え、２
時間加熱還流する。溶媒を留去し、残留物を酢酸エチル
２０ｍｌ及び水１０ｍｌで分液する。飽和食塩水１０ｍ
ｌで洗浄し乾燥後溶媒を留去する。シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー〔溶出液；クロロホルム：メタノール
（９９：１；Ｖ／Ｖ）〕にて精製後、ｎ−ヘキサン−酢
酸エチルより再結晶することにより２−（３，４−ジエ
トキシフェニル）−４−（３−カルボキシ−４−ヒドロ
キシ−５−アセチルメチルフェニル）チアゾールを得
る。
【０６５６】白色粉末状 ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：１．３８（３Ｈ，ｔ，Ｊ
＝７．０Ｈｚ）、１．４０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈ
ｚ）、２．２２（３Ｈ，ｓ）、３．８７（２Ｈ，ｓ）、
４．０８（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、４．１６（２
Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、７．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．２Ｈｚ）、７．４８−７．６０（２Ｈ，ｍ）、７．
９９（１Ｈ，ｓ）、８．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈ
ｚ）、８．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ）。
【０６５７】実施例４６４と同様にして適当な出発原料
を用いて、前記実施例３７９〜３８５、３８９、３９
１、３９４〜３９６、３９９、４０３、４１１〜４１
４、４１６〜４１８、４２１〜４３５、４４５及び４５
１の化合物を得る。
【０６５８】実施例４６５ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−〔３−カル
ボキシ−４−ヒドロキシ−５−（２−メチル−２−プロ
ペニル）フェニル〕チアゾール２ｇをｏ−ジクロロベン
ゼン４０ｍｌに加熱溶解し、これに沃素約１０ｍｇ及び
沃化カリウム１．５ｇ（乳ばちですりつぶしたもの）を
加え、１４時間加熱還流する。反応溶液に水３０ｍｌを
加え分液する。酢酸エチル３０ｍｌを加え、飽和食塩水
２０ｍｌで洗浄し、乾燥後溶媒を留去する。シリカゲル
カラムクロマトグラフィー（溶出液；ジクロロメタン）
にて精製後、ジイソプロピルエーテルより再結晶して２
−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（２，２−ジ
メチル−７−カルボキシ−２，３−ジヒドロベンゾフラ
ン−５−イル）チアゾール１ｇを得る。
【０６５９】白色粉末状、ｍｐ：１０６−１０７℃ 実施例４６６ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−〔３−メト
キシカルボニル−４−メトキシメトキシ−５−（１−プ
ロペニル）フェニル〕チアゾール３．７ｇをテトラヒド
ロフラン１００ｍｌ及び水４０ｍｌの混合溶媒に溶か
し、ＯｓＯ4 １００ｍｇ及びＮａＩＯ4 ５．６ｇを加
え、室温にて１４時間撹拌する。反応液を濾過し、濾液
を１／３まで濃縮する。酢酸エチル１００ｍｌを加え分
液する。飽和食塩水４０ｍｌで洗浄、乾燥後溶媒を留去
する。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（溶出液；ジクロロメタン）にて精製して２−（３，４
−ジエトキシフェニル）−４−（３−メトキシメトキシ
カルボニル−４−メトキシメトキシ−５−ホルミルフェ
ニル）チアゾール６００ｍｇ及び２−（３，４−ジエト
キシフェニル）−４−〔３−メトキシメトキシカルボニ
ル−４−メトキシメトキシ−５−（１，２−ジヒドロキ
シプロピル）フェニル〕チアゾール１．２８ｇを得る。
得られた２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−
〔３−メトキシメトキシカルボニル−４−メトキシメト
キシ−５−（１，２−ジヒドロキシプロピル）フェニ
ル〕チアゾールをメタノール４０ｍｌに溶解しＮａＩＯ
4 ５ｇ及び水１０ｍｌを加え、室温にて１４時間撹拌す
る。溶媒を留去し、酢酸エチル８０ｍｌ及び水４０ｍｌ
を加え分液する。飽和食塩水２０ｍｌで洗浄し、乾燥後
溶媒を留去する。先の６００ｍｇの２−（３，４−ジエ
トキシフェニル）−４−（３−メトキシメトキシカルボ
ニル−４−メトキシメトキシ−５−ホルミルフェニル）
チアゾールと合せ、エタノールより再結晶して１．６ｇ
の２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３−メ
トキシメトキシカルボニル−４−メトキシメトキシ−５
−ホルミルフェニル）チアゾールを得る。
【０６６０】白色針状晶、ｍｐ：１１３−１１４℃。
【０６６１】実施例４６６と同様にして適当な出発原料
を用いて前記実施例４１７の化合物を得る。
【０６６２】適当な出発原料を用い、実施例１及び実施
例１３８と同様にして下記表１２１〜表１２９に示す化
合物を得る。
【０６６３】
【表１２１】
【０６６４】
【表１２２】
【０６６５】
【表１２３】
【０６６６】
【表１２４】
【０６６７】
【表１２５】
【０６６８】
【表１２６】
【０６６９】
【表１２７】
【０６７０】
【表１２８】
【０６７１】
【表１２９】
【０６７２】1) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．４９
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．５０（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．４９（３Ｈ，ｓ）、４．１７
（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、４．１９（２Ｈ，ｑ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、５．２８（２Ｈ，ｓ）、５．４０
（２Ｈ，ｓ）、６．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈ
ｚ）、７．２２−７．７０（９Ｈ，ｍ）、８．０８（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，８．７Ｈｚ）、８．４０
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）。
【０６７３】2) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．４４−
１．６７（１２Ｈ，ｍ）、４．０４（３Ｈ，ｓ）、４．
１０−４．３３（８Ｈ，ｍ）、６．９２（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８．４Ｈｚ）、７．３７（１Ｈ，ｓ）、７．４６（１
Ｈ，ｓ）、７．５２−７．６３（３Ｈ，ｍ）、７．６６
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、７．７５（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．４Ｈｚ）、８．０８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈ
ｚ）、８．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）、８．４
６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）、１１．４３（１Ｈ，
ｓ）。
【０６７４】3) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．５０
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．５３（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、２．４２（３Ｈ，ｓ）、３．９６
（３Ｈ，ｓ）、４．１７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈ
ｚ）、４．２３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、６．９
４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．５４（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．４Ｈｚ）、７．５９（１Ｈ，
ｓ）、７．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）、８．７
６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ）、８．８０（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ）。
【０６７５】4) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．４９
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．５１（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．５９（３Ｈ，ｓ）、３．５９
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、３．９４（３Ｈ，
ｓ）、４．１６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、４．２
２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、５．０８（２Ｈ，
ｓ）、５．０７−５．１７（１Ｈ，ｍ）、５．１７−
５．２７（１Ｈ，ｍ）、５．９６−６．１６（１Ｈ，
ｍ）、６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．４
０（１Ｈ，ｓ）、７．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１Ｈ
ｚ，８．４Ｈｚ）、７．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈ
ｚ）、７．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、８．２
７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）。
【０６７６】5) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．４８
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．５１（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．５５（３Ｈ，ｓ）、３．８９
（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．７Ｈｚ）、３．９４（３Ｈ，
ｓ）、４．１５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、４．２
１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、５．０９（２Ｈ，
ｓ）、６．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．４
３（１Ｈ，ｓ）、７．５２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１Ｈ
ｚ，８．４Ｈｚ）、７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈ
ｚ）、８．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ）、８．３
６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ）、９．７９（１Ｈ，
ｔ，Ｊ＝１．７Ｈｚ）。
【０６７７】6) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．５０
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．５２（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．６０（３Ｈ，ｓ）、３．９８
（３Ｈ，ｓ）、４．１６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈ
ｚ）、４．２３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、５．２
２（２Ｈ，ｓ）、６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈ
ｚ）、７．５０（１Ｈ，ｓ）、７．５４（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．４Ｈｚ）、７．６０（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝２．１Ｈｚ）、８．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈ
ｚ）、８．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ）、１０．
５０（１Ｈ，ｓ）。
【０６７８】7) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．４９
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．５１（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、２．５０（３Ｈ，ｓ）、３．６０
（３Ｈ，ｓ）、３．９２（２Ｈ，ｓ）、３．９４（３
Ｈ，ｓ）、４．１５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、
４．２２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、５．１２（２
Ｈ，ｓ）、６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、
７．４４（１Ｈ，ｓ）、７．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
２．１Ｈｚ，８．４Ｈｚ）、７．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
２．１Ｈｚ）、８．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈ
ｚ）、８．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）。
【０６７９】8) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．５０
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．５２（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、２．４１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈ
ｚ）、４．０１（３Ｈ，ｓ）、４．１６（２Ｈ，ｑ，Ｊ
＝７．０Ｈｚ）、４．２３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈ
ｚ）、４．８２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）、６．９
３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．３４（１Ｈ，
ｓ）、７．５５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．４
Ｈｚ）、７．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、８．
１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ）、８．４０（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ）、１１．３８（１Ｈ，ｓ）。
【０６８０】9) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．４９
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．５１（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．５８（３Ｈ，ｓ）、３．９５
（３Ｈ，ｓ）、４．１５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈ
ｚ）、４．２２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、５．０
８（２Ｈ，ｓ）、５．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．１Ｈ
ｚ，１１．１Ｈｚ）、５．８９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．
１Ｈｚ，１７．７Ｈｚ）、６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．４Ｈｚ）、７．１７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１Ｈ
ｚ，１７．７Ｈｚ）、７．４３（１Ｈ，ｓ）、７．５４
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．４Ｈｚ）、７．６
１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）、８．２９（２Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ）。
【０６８１】10) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．４９
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．５１（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、３．５８（３Ｈ，ｓ）、３．５９
（３Ｈ，ｓ）、４．１５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈ
ｚ）、４．２２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、５．１
０（２Ｈ，ｓ）、５．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．１Ｈ
ｚ，１１．１Ｈｚ）、５．５１（２Ｈ，ｓ）、５．８９
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，１７．７Ｈｚ）、６．
９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．１８（１Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝１１．１Ｈｚ，１７．７Ｈｚ）、７．４３
（１Ｈ，ｓ）、７．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１Ｈ
ｚ，８．４Ｈｚ）、７．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈ
ｚ）、８．２９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ）。
【０６８２】11) ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δ：１．３
５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、１．３７（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、２．７２（３Ｈ，ｓ）、４．１
１（４Ｈ，ｍ）、７．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈ
ｚ）、７．５７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，９．０
Ｈｚ）、７．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）、７．
８９（１Ｈ，ｂｒｓ）、８．２２（１Ｈ，ｂｒｓ）、
８．４４（１Ｈ，ｓ）、８．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．
０Ｈｚ）、９．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）。
【０６８３】12) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：０．２４
（６Ｈ，ｓ）、１．０３（９Ｈ，ｓ）、１．４９（３
Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．５１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
７．０Ｈｚ）、３．９１（３Ｈ，ｓ）、４．１５（２
Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、４．２２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝
７．０Ｈｚ）、６．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈ
ｚ）、６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、７．３
４（１Ｈ，ｓ）、７．５１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０Ｈ
ｚ，８．３Ｈｚ）、７．６２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈ
ｚ）、８．０３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，８．５
Ｈｚ）、８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）。
【０６８４】13) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．４９
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．５１（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、２．９１（６Ｈ，ｓ）、３．９４
（３Ｈ，ｓ）、４．１５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈ
ｚ）、４．２２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、６．９
１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、６．９９（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）、７．２８（１Ｈ，ｓ）、７．５
２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．４Ｈｚ）、７．
６２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、７．９７（１Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．８Ｈｚ）、８．２５（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）。
【０６８５】14) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．４９
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．５１（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝６．９Ｈｚ）、２．６３（３Ｈ，ｓ）、４．１０−
４．２７（４Ｈ，ｍ）、６．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
４Ｈｚ）、７．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，
８．４Ｈｚ）、７．５９−７．６４（３Ｈ，ｍ）、７．
７４（１Ｈ，ｓ）、８．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈ
ｚ）。
【０６８６】15) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．４５
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．４９（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．０Ｈｚ）、４．０９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈ
ｚ）、４．１７（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、６．８
９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．２５−７．３２
（１Ｈ，ｍ）、７．４２−７．４６（２Ｈ，ｍ）、７．
４９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ，８．４Ｈｚ）、
７．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）、７．８１（１
Ｈ，ｓ）、８．０８−８．１５（３Ｈ，ｍ）、８．５７
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．６Ｈｚ，５．０Ｈｚ）、９．２
０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．６Ｈｚ，１．５Ｈｚ）、１
２．１１（１Ｈ，ｂｒｓ）。
【０６８７】16) ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）：１．４７（３
Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．５０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
７．０Ｈｚ）、３．８１（３Ｈ，ｓ）、４．１０−４．
２４（４Ｈ，ｍ）、６．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈ
ｚ）、７．４６−７．５５（３Ｈ，ｍ）、８．００（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．６Ｈｚ，７．８Ｈｚ）、８．２１
（１Ｈ，ｓ）、８．７４−８．７６（１Ｈ，ｍ）。
【０６８８】実施例５１０ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３−メト
キシカルボニル−４−メトキシメトキシ−５−ホルミル
フェニル）チアゾール５００ｍｇをメタノール３０ｍｌ
に溶解し、３０％メチルアミン溶液３ｍｌを加え室温に
て１４時間撹拌する。さらに７０℃にて１時間撹拌す
る。氷冷攪拌下水素化ホウ素ナトリウム５３０ｍｇを加
え室温にて３時間撹拌する。溶媒を留去し残留物に酢酸
エチル４０ｍｌ及び水２０ｍｌを加え分液する。飽和食
塩水１０ｍｌで洗い、乾燥後溶媒を留去する。残留物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー〔溶出液：ジクロ
ロメタン−メタノール（４９：１；Ｖ／Ｖ）〕に付し、
溶出部より１５０ｍｇの２−（３，４−ジエトキシフェ
ニル）−４−（３−メトキシカルボニル−４−メトキシ
メトキシ−５−メチルアミノメチルフェニル）チアゾー
ルを得る。
【０６８９】無色油状 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．４９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
７．０Ｈｚ）、１．５１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈ
ｚ）、２．５０（３Ｈ，ｓ）、３．６０（３Ｈ，ｓ）、
３．９２（２Ｈ，ｓ）、３．９４（３Ｈ，ｓ）、４．１
５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、４．２２（２Ｈ，
ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、５．１２（２Ｈ，ｓ）、６．９
２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．４４（１Ｈ，
ｓ）、７．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．４
Ｈｚ）、７．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）、８．
１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、８．３７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）。
【０６９０】実施例５１０と同様にして適当な出発原料
を用いて、前記実施例４０２の化合物を得る。
【０６９１】実施例５１１ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３−メト
キシカルボニル−４−ヒドロキシ−５−ホルミルフェニ
ル）チアゾール３００ｍｇをメタノー２０ｍｌに懸濁撹
拌し、０℃にて水素化ホウ素ナトリウム２６．５ｍｇを
加え、室温にて１時間撹拌する。水素化ホウ素ナトリウ
ム２６．５ｍｇを追加し、同温度にて更に１時間撹拌す
る。溶媒を留去しジクロロメタン３０ｍｌ及び水１５ｍ
ｌを加え分液する。飽和食塩水１０ｍｌで洗い、乾燥後
溶媒を留去する。３００ｍｇの２−（３，４−ジエトキ
シフェニル）−４−（３−メトキシカルボニル−４−ヒ
ドロキシ−５−ヒドロキシメチルフェニル）チアゾール
を得る。
【０６９２】黄色固体 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．５０（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
７．０Ｈｚ）、１．５２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈ
ｚ）、２．４１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）、４．０
１（３Ｈ，ｓ）、４．１６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈ
ｚ）、４．２３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、４．８
２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ）、６．９３（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．３４（１Ｈ，ｓ）、７．５
５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．４Ｈｚ）、７．
６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、８．１０（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝２．３Ｈｚ）、８．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．
３Ｈｚ）、１１．３８（１Ｈ，ｓ）。
【０６９３】実施例５１１と同様にして適当な出発原料
を用いて、前記実施例３９７、４１２、４２３、４４２
及び４９８の化合物を得る。
【０６９４】実施例５１２ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３−メト
キシメトキシカルボニル−４−メトキシメトキシ−５−
ホルミルフェニル）チアゾール５００ｍｇを調整したウ
ィティッヒ試薬（トリエチルホスホノアセテート２７０
ｍｇ；水素化ナトリウム４８ｍｇ）のテトラヒドロフラ
ン溶液２０ｍｌに加え室温にて４時間撹拌する。溶媒を
留去し、残留物を酢酸エチル２０ｍｌ及び水１５ｍｌで
分液する。飽和食塩水１０ｍｌで洗浄後乾燥し、溶媒を
留去する。エタノールより再結晶し、３８０ｍｇの２−
（３，４−ジエトキシフェニル）−４−〔３−メトキシ
メトキシカルボニル−４−メトキシメトキシ−５−（２
−エトキシカルボニルビニル）フェニル〕チアゾールを
得る。
【０６９５】黄色粉末状、ｍｐ：９４〜９６℃。
【０６９６】実施例５１２と同様にして適当な出発原料
を用いて、前記実施例４７８、４８５、４８６、５０１
及び５０２の化合物を得る。
【０６９７】実施例５１３ メチルトリフェニルホスホニウムブロマイド５３５ｍｇ
をテトラヒドロフラン１０ｍｌに懸濁撹拌し、−５℃に
てカリウムｔ−ブトキシド１９０ｍｇを加え、同温度に
て１時間撹拌する。これに２−（３，４−ジエトキシフ
ェニル）−４−（３−メトキシメトキシカルボニル−４
−メトキシメトキシ−５−ホルミルフェニル）チアゾー
ル５００ｍｇを加え、同温度にて２時間、室温に戻し１
時間撹拌する。酢酸エチル３０ｍｌ及び水２０ｍｌを加
え分液する。飽和食塩水２０ｍｌで洗浄し、乾燥後溶媒
を留去する。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー〔溶出液：ジクロロメタン：ｎ−ヘキサン（２：
１；Ｖ／Ｖ）〕にて、精製して２４０ｍｇの２−（３，
４−ジエトキシフェニル）−４−（３−メトキシメトキ
シカルボニル−４−ヒドロキシ−５−ビニルフェニル）
チアゾール（Ａ）及び１２０ｍｇの２−（３，４−ジエ
トキシフェニル）−４−（３−メトキシメトキシカルボ
ニル−４−メトキシメトキシ−５−ビニルフェニル）チ
アゾール（Ｂ）を得る。
【０６９８】（Ａ）の物性； 無色油状 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．４９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
７．０Ｈｚ）、１．５１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈ
ｚ）、３．５８（３Ｈ，ｓ）、３．９５（３Ｈ，ｓ）、
４．１５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、４．２２（２
Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、５．０８（２Ｈ，ｓ）、
５．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，１１．１Ｈ
ｚ）、５．８９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，１７．
７Ｈｚ）、６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、
７．１７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１Ｈｚ，１７．７Ｈ
ｚ）、７．４３（１Ｈ，ｓ）、７．５４（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．４Ｈｚ）、７．６１（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝２．１Ｈｚ）、８．２９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．３Ｈ
ｚ）。
【０６９９】（Ｂ）の物性； 無色油状 ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：１．４９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝
７．０Ｈｚ）、１．５１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈ
ｚ）、３．５８（３Ｈ，ｓ）、３．５９（３Ｈ，ｓ）、
４．１５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、４．２２（２
Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、５．１０（２Ｈ，ｓ）、
５．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．１Ｈｚ，１１．１Ｈ
ｚ）、５．５１（２Ｈ，ｓ）、５．８９（１Ｈ，ｄｄ，
Ｊ＝１．１Ｈｚ，１７．７Ｈｚ）、６．９２（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、７．１８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１
１．１Ｈｚ，１７．７Ｈｚ）、７．４３（１Ｈ，ｓ）、
７．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，８．４Ｈ
ｚ）、７．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）、８．２
９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ）。
【０７００】実施例５１４ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３−メト
キシメトキシカルボニル−４−メトキシメトキシ−５−
（２−エトキシカルボニルビニル）フェニル〕チアゾー
ル３５０ｍｇをエタノール１０ｍｌに溶解し、１０％塩
酸０．２ｍｌを加え、６０℃にて１時間加熱撹拌する。
これに１０％水素化ナトリウム１ｍｌを加え４時間加熱
還流する。溶媒を留去し、残留物に水１５ｍｌを加え１
０％塩酸で弱酸性にして熱い酢酸エチルにて抽出する。
飽和食塩水１５ｍｌで洗浄し、乾燥後溶媒を留去する。
残留物を酢酸エチル４０ｍｌより再結晶し、１７０ｍｇ
の黄色粉末状の２−（３，４−ジエトキシフェニル）−
４−〔３−カルボキシ−４−ヒドロキシ−５−（２−カ
ルボキシビニル）フェニル〕チアゾールを得る。
【０７０１】ｍｐ：２６０−２６１℃。
【０７０２】実施例５１５ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３−メト
キシカルボニル−４−メトキシメトキシ−５−メチルア
ミノメチルフェニル）チアゾール１５０ｍｇをメタノー
ル２０ｍｌに溶解し、１０％塩酸０．２ｍｌを加え、６
０℃にて３０分撹拌する。次いで１０％水酸化ナトリウ
ム水溶液２ｍｌを加え１時間加熱還流する。反応液を１
０％塩酸で中性にし、溶媒を留去する。残渣にエタノー
ルを加え不溶物を濾取する。水で洗浄し、乾燥する。ジ
メチルホルムアミドより再結晶し、３５ｍｇの２−
（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３−カルボキ
シ−４−ヒドロキシ−５−メチルアミノメチルフェニ
ル）チアゾールを得る。
【０７０３】淡褐色粒状、ｍｐ：２７１−２７３℃。
【０７０４】実施例５１６ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（４−シア
ノ−２−ピリジル）チアゾール５００ｍｇ、エタノール
２０ｍｌ及び４０％水酸化ナトリウム水溶液１７ｍｌの
混合物を１６時間加熱還流する。反応混合物を放冷後、
水２００ｍｌを加え、ジクロロメタン（８０ｍｌで２
回）で抽出後、水層を濃塩酸で酸性（ｐＨ約３）とし、
酢酸エチル（１５０ｍｌで３回）にて抽出する。酢酸エ
チル層を硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮して得られた残
渣を酢酸エチルにて再結晶して、２９０ｍｇの２−
（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（４−カルボキ
シ−２−ピリジル）チアゾールを得る。
【０７０５】白色針状、ｍｐ：２３６．２−２３７．２
℃。
【０７０６】実施例５１７ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３−メト
キシカルボニル−４−ヒドロキシフェニル）チアゾール
４．０２ｇのジメチルホルムアミド６０ｍｌ懸濁液に、
室温下、イミダゾール５．２３ｇ及びｔ−ブチルジメチ
ルクロロシラン４．８５ｇを順次加え、同温度にて４時
間撹拌する。反応液に氷水１００ｍｌ及び酢酸エチル２
００ｍｌを加え、有機層を分取する。水１００ｍｌ及び
飽和食塩水５０ｍｌにて順次洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウムにて乾燥、溶媒留去後、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー（溶出液：ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１
０：１）にて精製して、２−（３，４−ジエトキシフェ
ニル）−４−（３−メトキシカルボニル−４−ｔ−ブチ
ルジメチルシリルオキシフェニル）チアゾール５．１４
ｇを無色油状物として得る。
【０７０７】ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 ）δ：０．２４（６
Ｈ，ｓ）、１．０３（９Ｈ，ｓ）、１．４９（３Ｈ，
ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、１．５１（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．
０Ｈｚ）、３．９１（３Ｈ，ｓ）、４．１５（２Ｈ，
ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）、４．２２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．
０Ｈｚ）、６．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、
６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）、７．３４（１
Ｈ，ｓ）、７．５１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，
８．３Ｈｚ）、７．６２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈ
ｚ）、８．０３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，８．５
Ｈｚ）、８．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）。
【０７０８】実施例５１８ ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３−メト
キシカルボニル−４−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ
フェニル）チアゾール５．４３ｇのテトラヒドロフラン
１００ｍｌ溶液に、氷冷下、水素化リチウムアルミニウ
ム５４８ｍｇを加え、同温度にて７時間撹拌する。反応
液に水１．１ｍｌ及び硫酸ナトリウム３ｇを加え、セラ
イト濾過、溶媒留去後、酢酸エチル２００ｍｌ及び水５
０ｍｌを加えた後、５Ｎ塩酸にて中和後、不溶物を濾去
する。濾液を分液した後、有機層を水５０ｍｌにて洗浄
し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥後、溶媒留去する。
シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：
酢酸エチル＝１０：１）にて精製した後、酢酸エチル−
ｎ−ヘキサンから再結晶し、２−（３，４−ジエトキシ
フェニル）−４−（３−ヒドロキシメチル−４−ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシフェニル）チアゾール１．２
３ｇを得る。
【０７０９】白色プリズム晶、ｍｐ：１０１．３−１０
３℃。
【０７１０】実施例５３６と同様にして適当な出発原料
を用いて、前記実施例３９７、４１２、４２３、４４２
及び４８３の化合物を得る。
【０７１１】実施例５１９ 適当な出発原料を用い、実施例１及び実施例１３８と同
様にして、下記の化合物を得る。
【０７１２】２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４
−〔３−カルボキシ−４−ヒドロキシ−５−（１−イソ
ブテニル）フェニル〕チアゾール 1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ：１．３８
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、１．４０（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝６．９Ｈｚ）、１．８６（３Ｈ，ｓ）、１．９５
（３Ｈ，ｓ）、４．１２（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．９Ｈ
ｚ）、４．１５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、６．３
３（１Ｈ，ｂｒｓ）、７．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７
Ｈｚ）、７．４８−７．６２（２Ｈ，ｍ）、７．９３
（１Ｈ，ｓ）、７．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈ
ｚ）、８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ）。
【０７１３】４−〔２−（３，４−ジエトキシフェニ
ル）−４−チアゾリル〕ピリジニウム１−オキシド 1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ：１．３５
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、１．３７（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝６．９Ｈｚ）、４．０７（４Ｈ，ｍ）、７．０７
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．５２（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．３Ｈｚ）、７．５８（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、８．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．
２Ｈｚ）、８．２９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、
８．３３（１Ｈ，ｓ）。
【０７１４】２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４
−（２−シアノ−４−ピリジル）チアゾール 1 Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6 ）δｐｐｍ：１．３６
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）、１．３８（３Ｈ，ｔ，
Ｊ＝６．９Ｈｚ）、４．０８−４．２３（４Ｈ，ｍ）、
７．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．５５−
７．６１（２Ｈ，ｍ）、８．３２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
１．３Ｈｚ，５．２Ｈｚ）、８．６４（２Ｈ，ｓ）、
８．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ）。
【０７１５】実施例５２０ ５−エトキシカルボニル−２−（α−ブロモアセチル）
ピラジン及び３，４−ジエトキシチオベンズアミドを用
い、実施例１と同様にして反応させた後、実施例１４７
と同様に加水分解して、２−（３，４−ジエトキシフェ
ニル）−４−（５−カルボキシ−２−ピラジル）チアゾ
ールを得る。
【０７１６】実施例５２１ ４−エトキシカルボニル−２−（α−ブロモアセチル）
ピリミジン及び３，４−ジエトキシチオベンズアミドを
用い、実施例１と同様にして反応させた後、実施例１４
７と同様に加水分解して、２−（３，４−ジエトキシフ
ェニル）−４−（４−カルボキシ−２−ピリミジル）チ
アゾールを得る。
【０７１７】実施例５２２ ５−エトキシカルボニル−２−（α−ブロモアセチル）
ピリミジン及び３，４−ジエトキシチオベンズアミドを
用い、実施例１と同様にして反応させた後、実施例１４
７と同様に加水分解して、２−（３，４−ジエトキシフ
ェニル）−４−（５−カルボキシ−２−ピリミジル）チ
アゾールを得る。
【０７１８】実施例５２３ ６−エトキシカルボニル−２−（α−ブロモアセチル）
ピラジン及び３，４−ジエトキシチオベンズアミドを用
い、実施例１と同様にして反応させた後、実施例１４７
と同様に加水分解して、２−（３，４−ジエトキシフェ
ニル）−４−（６−カルボキシ−２−ピラジル）チアゾ
ールを得る。
【０７１９】実施例５２４ ４−エトキシカルボニル−２−（α−ブロモアセチル）
ピロール及び３，４−ジエトキシチオベンズアミドを用
い、実施例１と同様にして反応させた後、実施例１４７
と同様に加水分解して、２−（３，４−ジエトキシフェ
ニル）−４−（４−カルボキシ−２−ピロリル）チアゾ
ールを得る。
【０７２０】実施例５２５ ４−エトキシカルボニル−２−（α−ブロモアセチル）
フラン及び３，４−ジエトキシチオベンズアミドを用
い、実施例１と同様にして反応させた後、実施例１４７
と同様に加水分解して、２−（３，４−ジエトキシフェ
ニル）−４−（４−カルボキシ−２−フリル）チアゾー
ルを得る。
【０７２１】実施例５２６ ５−エトキシカルボニル−３−（α−ブロモアセチル）
フラン及び３，４−ジエトキシチオベンズアミドを用
い、実施例１と同様にして反応させた後、実施例１４７
と同様に加水分解して、２−（３，４−ジエトキシフェ
ニル）−４−（５−カルボキシ−３−フリル）チアゾー
ルを得る。
【０７２２】実施例５２７ ４−エトキシカルボニル−２−（α−ブロモアセチル）
チオフェン及び３，４−ジエトキシチオベンズアミドを
用い、実施例１と同様にして反応させた後、実施例１４
７と同様に加水分解して、２−（３，４−ジエトキシフ
ェニル）−４−（４−カルボキシ−２−チエニル）チア
ゾールを得る。
【０７２３】実施例５２８ ５−エトキシカルボニル−３−（α−ブロモアセチル）
チオフェン及び３，４−ジエトキシチオベンズアミドを
用い、実施例１と同様にして反応させた後、実施例１４
７と同様に加水分解して、２−（３，４−ジエトキシフ
ェニル）−４−（５−カルボキシ−３−チエニル）チア
ゾールを得る。
【０７２４】実施例５２９ ５−エトキシカルボニル−２−（α−ブロモアセチル）
チアゾール及び３，４−ジエトキシチオベンズアミドを
用い、実施例１と同様にして反応させた後、実施例１４
７と同様に加水分解して、２−（３，４−ジエトキシフ
ェニル）−４−（５−カルボキシ−２−チアゾリル）チ
アゾールを得る。
【０７２５】製剤例１ ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（３，４−ジヒドロキシ カルボスチリル−６−イル）チアゾール ５ｍｇ デンプン １３２ｍｇ マグネシウムステアレート １８ｍｇ 乳糖 ４５ｍｇ 計 ２００ｍｇ 常法により、１錠中に上記組成を含有する錠剤を製造し
た。
【０７２６】製造例２ ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（２−オキソ−ベンゾ オキサゾール−５−イル）チアゾール ５００ｍｇ ポリエチレングリコール（分子量：４０００） ０．３ｇ 塩化ナトリウム ０．９ｇ ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート ０．４ｇ メタ重亜硫酸ナトリウム ０．１ｇ メチル−パラベン ０．１８ｇ プロピル−パラベン ０．０２ｇ注射用蒸留水 １００ｍｌ 上記パラベン類、メタ重亜硫酸ナトリウム及び塩化ナト
リウムを攪拌しながら８０℃で上記の蒸留水に溶解し
た。得られた溶液を４０℃まで冷却し、本発明化合物、
ポリエチレングリコール及びポリオキシエチレンソルビ
タンモノオレートを順次溶解させ、次にその溶液に注射
用蒸留水を加えて最終の容量に調整し、適当なフィルタ
ーペーパーを用いて滅菌濾過して１ｍｌずつアンプルに
分注し、注射剤を調製した。
【０７２７】薬理試験 下記方法により、本発明化合物の薬理試験を行なった。
【０７２８】ヒト好中球からのＯ2 - 生成に対する作用 ヒト好中球は、M. Markertらの方法〔メソッド・イン・
エンザイモロジー Methods in Enzymology ，１０５；
３５８−３６５，１９８４〕に従い調製した。即ち、健
常成人より得た抗凝固処理全血に、デキストラン−低張
処理を施し、白血球細胞を得た。この白血球細胞を更に
フィコール−パック（Ficoll-Paque）による密度勾配遠
心法で好中球分画を得た。
【０７２９】Ｏ2 - 生成については、B. N. Cronstein
らの方法〔ジャーナル・オブ・エクスペリメンタル・メ
ディスン（J. Exp. Med.），１５８，１１６０−１１７
７（１９８３）〕に準じ、フェリシトクローム C（ferr
icytochrome C ）法により調べた。即ち、ヘペス緩衝ハ
ンクス（Hepes-Buffered Hanks' ）（ｐＨ７．４）溶液
中に於いて、１．３ｍｇ／ｍｌフェリシトクローム C
（ferricytochrome C ）及び５μｇ／ｍｌサイトカラシ
ン B（cytochalasin B）存在下、３７℃、１×１０-6ce
llの好中球を３×１０-7ＭのＮ−フォルミル−Ｌ−メチ
オニル−Ｌ−ロイシル−Ｌ−フェニルアラニン（N-Form
yl-L-Methionyl-L- Leucyl-L-Phenylalanine，ｆＭＬ
Ｐ）により刺激し、４分間に還元されたフェロシトクロ
ーム C（ferrocytochrome C ）の量を分光光度計を用い
て５５０nmの波長で吸光度を測定し、２５．１μｇ／ｍ
ｌスーパーオキサイドディスムターゼ（superoxide dis
mutase，ＳＯＤ）存在下での吸光度との差をＯ2 - 産生
量とした。被験薬物は、ジメチルスルフォキサイド（Ｄ
ＭＳＯ）に溶解し、ｆＭＬＰ添加前に好中球に加え、３
７℃、２０分間プレインキュベートした。Ｏ2 - 生成の
抑制作用は溶媒（ＤＭＳＯ）のみを添加したものと比較
し、％抑制率を算出し、５０％抑制濃度（ＩＣ50）で表
した。
【０７３０】供試化合物 1. ２−（３−ピリジル）−４−フェニルチアゾール 1
/4塩化第１鉄塩 2. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−フェニ
ルチアゾール 3. ２，４−ジ（３−ピリジル）チアゾール 4. ２−（３−ピリジル）−４−メチル−５−エトキシ
カルボニルチアゾール塩酸塩 5. ２−（２，４−ジメトキシフェニル）−４−（３，
４−ジヒドロカルボスチリル−６−イル）チアゾール 6. ２−（２−ピリドン−３−イル）−４−フェニルチ
アゾール 7. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（３，
４−ジヒドロカルボスチリル−６−イル）チアゾール 8. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（３，
４−ジヒドロキシフェニル）チアゾール塩酸塩 9. ２−（４−ピリジル）−４−（３，４−ジヒドロキ
シフェニル）チアゾール塩酸塩 10. ２−（３−チエニル）−４−（３，４−ジヒドロキ
シフェニル）チアゾール 11. ２−（２−チエニル）−４−（３，４−ジヒドロキ
シフェニル）チアゾール 12. ２−（４−オキソ−１，４−ジヒドロキノリン−３
−イル）−４−（３，４−ジヒドロキシフェニル）チア
ゾール 13. ２−（ピラジン−２−イル）−４−（３，４−ジヒ
ドロキシフェニル）チアゾール 14. ２−（３，４−ジヒドロキシフェニル）−４−
（３，４−ジヒドロカルボスチリル−６−イル）チアゾ
ール臭化水素酸塩 15. ２−（カルボスチリル−３−イル）−４−（３，４
−ジヒドロキシフェニル ）チアゾール16. ２−（ピロール−２−イル）−４−
（３，４−ジヒドロキシフェニル）チアゾール 17. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（４−
メチル−２Ｈ−１，４−ベンゾチアジン−３（４Ｈ）−
オン−６−イル）チアゾール 18. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（３−
ヒドロキシ−４−ペンチルオキシフェニル）チアゾール 19. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（４−
メチルスルホニルフェニル）チアゾール 20. ２−フェニル−４−（３，４−ジヒドロキシフェニ
ル）チアゾール塩酸塩 21. ２−（３，４，５−トリメトキシフェニル）−４−
（３，４−ジヒドロキシフェニル）チアゾール塩酸塩 22. ２−（３，４−メチレンジオキシフェニル）−４−
（３，４−ジヒドロキシフェニル）チアゾール 23. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（カル
ボスチリル−６−イル）チアゾール 24. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（７−
ヒドロキシ−３，４−ジヒドロカルボスチリル−６−イ
ル）チアゾール 25. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（２−
オキシインドール−５−イル）チアゾール 26. ２−（３，４−ジヒドロカルボスチリル−６−イ
ル）−４−（３，４−ジヒドロキシフェニル）チアゾー
ル塩酸塩 27. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（３−
オキソ−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾキサ
ジン−６−イル）チアゾール 28. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（３，
４−ジヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾキサジン−６−イ
ル）チアゾール塩酸塩 29. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（２−
オキソベンズイミダゾール−５−イル）チアゾール 30. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（３−
オキソ−４−メチル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１，４
−ベンゾキサジン−６−イル）チアゾール 31. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（１０
−アセチルフェノチアジン−２−イル）チアゾール 32. ２，４−ジ（３，４−ジメトキシフェニル）チアゾ
ール 33. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（３−
アセチルアミノ−４−ヒドロキシフェニル）チアゾール 34. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（３，
４−ジヒドロカルボスチリル−７−イル）チアゾール 35. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（２−
オキソベンゾチアゾール−６−イル）チアゾール 36. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（２−
オキソベンゾオキサゾール−５−イル）チアゾール 37. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（３−
アミノ−４−ヒドロキシフェニル）チアゾール・２塩酸
塩 38. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（１−
メチル−３，４−ジヒドロカルボスチリル−７−イル）
チアゾール 39. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（３，
５−ジヒドロキシフェニル）チアゾール 40. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（２，
５−ジヒドロキシフェニル）チアゾール 41. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（２，
６−ジヒドロキシフェニル）チアゾール 42. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（２−
オキソ−３−メチルベンゾチアゾール−６−イル）チア
ゾール 43. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（３−
ニトロ−４−アセチルアミノフェニル）チアゾール 44. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（１，
３−ジメチル−２−オキソベンゾイミダゾール−５−イ
ル）チアゾール 45. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（２，
４−ジヒドロキシフェニル）チアゾール 46. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（３−
ニトロ−４−クロロフェニル）チアゾール 47. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−５−（３，
４−ジヒドロカルボスチリル−６−イル）チアゾール 48. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（３，
４−ジアセチルアミノフェニル）チアゾール 49. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（２−
オキソ−３−メチルベンゾオキサゾール−５−イル）チ
アゾール 50. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（３−
ニトロフェニル）チアゾール 51. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（３，
５−ジアミノ−４−ヒドロキシフェニル）チアゾール 52. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（３，
５−ジニトロ−４−ヒドロキシフェニル）チアゾール 53. ２−（３−メトキシ−４−メチルチオフェニル）−
４−（３，４−ジヒドロカルボスチリル−６−イル）チ
アゾール 54. ２−（３−メトキシ−４−メチルスルフィニルフェ
ニル）−４−（３，４−ジヒドロカルボスチリル−６−
イル）チアゾール 55. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（２−
オキソベンゾオキサゾール−６−イル）チアゾール 56. ２−（３−ピリジル）−４−（４−フルオロフェニ
ル）チアゾール・ 1/3ＦｅＣｌ2 塩 57. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（２，
３−ジオキソ−１，２，３，４−テトラヒドロキノキサ
リン−６−イル）チアゾール 58. ２−（３，４−ジメトキシベンゾイル）−４−
（３，４−ジヒドロカルボスチリル−６−イル）チアゾ
ール 59. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３，
４−ジヒドロカルボスチリル−６−イル）チアゾール 60. ２−（３，４−ジメトキシフェニル）−４−（２−
ピリジル）チアゾール塩酸塩 61. ４−（３，５−ジヒドロキシフェニル）−２−
（３，４−ジエトキシフェニル）チアゾール 62. ４−（３−カルボキシ−４−ヒドロキシフェニル）
−２−（３，４−ジエトキシフェニル）チアゾール 63. ４−（４−ヒドロキシスルホニルオキシフェニル）
−２−（３，４−ジメトキシフェニル）チアゾール 64. ４−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（３，４−
ジエトキシフェニル）チアゾール 65. ４−（３−アセチルアミノ−４−ヒドロキシフェニ
ル）−２−（３，４−ジエトキシフェニル）チアゾール 66. ４−（４−ヒドロキシ−３−アミノフェニル）−２
−（３，４−ジエトキシフェニル）チアゾール・２塩酸
塩 67. ４−（４−シアノフェニル）−２−（３，４−ジエ
トキシフェニル）チアゾール 68. ４−（３，４−ジヒドロカルボスチリル−６−イ
ル）−２−（４−メトキシ−３−プロポキシフェニル）
チアゾール 69. ４−（４−アミジノフェニル）−２−（３，４−ジ
エトキシフェニル）チアゾール塩酸塩 70. ４−（２，４，６−トリヒドロキシフェニル）−２
−（３，４−ジメトキシフェニル）チアゾール 71. ４−（３，５−ジアミノフェニル）−２−（３，４
−ジメトキシフェニル）チアゾール２塩酸塩 72. ４−（４−アミノフェニル）−２−（３，４−ジエ
トキシフェニル）チアゾール塩酸塩 73. ４−〔１−ヒドロキシ−１−（３，４−ジメトキシ
フェニル）メチル〕−２−（３，４−ジエトキシフェニ
ル）チアゾール 74. ４−〔４−メトキシ−３−（４−エチル−１−ピペ
ラジニル）フェニル〕−２−（３，４−ジヒドロキシフ
ェニル）チアゾール・３塩酸塩 75. ４−（４−クロロフェニル）−２−（３，４−ジエ
トキシフェニル）チアゾール 76. ４−（３，４−ジアセチルオキシフェニル）−２−
（３−ピリジル）チアゾール 77. メチル ４−〔２−（３，４−ジメトキシフェニ
ル）チアゾール−４−イル〕フェニル−β−Ｄ−グルコ
ピラノシドウロネート 78. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−〔４−
（２，３，４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−グ
ルコピラノシルオキシ）フェニル〕チアゾール 79. ４−（３，５−ジアセチルオキシフェニル）−２−
（３，４−ジエトキシフェニル）チアゾール 80. ４−（４−ヒドロキシ−３−メトキシカルボニルフ
ェニル）−２−（３，４−ジエトキシフェニル）チアゾ
ール 81. ４−（４−メトキシカルボニルメトキシ−３−メト
キシカルボニルフェニル）−２−（３，４−ジエトキシ
フェニル）チアゾール 82. ４−（４−ヒドロキシ−３−カルバモイルフェニ
ル）−２−（３，４−ジエトキシフェニル）チアゾール 83. ４−（３−カルボキシ−４−ヒドロキシ−５−アリ
ルフェニル）−２−（３，４−ジエトキシフェニル）チ
アゾール 84. ４−｛３−カルボキシ−４−ヒドロキシ−５−（２
−メチル−２−プロペニル）フェニル｝−２−（３，４
−ジエトキシフェニル）チアゾール 85. ４−（３−カルボキシ−４−ヒドロキシ−５−メチ
ルフェニル）−２−（３，４−ジエトキシフェニル）チ
アゾール 86. ４−（３−メトキシカルボニル−４−ヒドロキシフ
ェニル）−２−（３−メトキシ−４−エトキシフェニ
ル）チアゾール 87. ４−（３−カルボキシフェニル）−２−（３，４−
ジエトキシフェニル）チアゾール 88. ４−（３−カルボキシ−４−ヒドロキシフェニル）
−２−（３−メトキシ−４−エトキシフェニル）チアゾ
ール 89. ４−（３−アミノ−４−ヒドロキシ−５−メトキシ
カルボニルフェニル）−２−（３，４−ジエトキシフェ
ニル）チアゾール 90. ４−（３−カルボキシ−４−ヒドロキシ−５−プロ
ピルフェニル）−２−（３，４−ジエトキシフェニル）
チアゾール 91. ４−（３−カルボキシ−６−ヒドロキシフェニル）
−２−（３，４−ジエトキシフェニル）チアゾール 92. ４−（３−カルボキシ−４−ヒドロキシフェニル）
−２−（３−エトキシ−４−メトキシフェニル）チアゾ
ール 93. ４−（３−カルボキシ−４−ヒドロキシ−５−イソ
ブチルフェニル）−２−（３，４−ジエトキシフェニ
ル）チアゾール 94. ４−｛３−カルボキシ−４−ヒドロキシ−５−（２
−ヒドロキシエチル）フェニル｝−２−（３，４−ジエ
トキシフェニル）チアゾール 95. ４−（３−カルボキシ−４−アミノ−６−ヒドロキ
シフェニル）−２−（３，４−ジエトキシフェニル）チ
アゾール 96. ４−（３−カルボキシ−４−アミノフェニル）−２
−（３，４−ジエトキシフェニル）チアゾール 97. ４−（３−カルボキシ−４−アセチルオキシフェニ
ル）−２−（３，４−ジエトキシフェニル）チアゾール 98. ４−（３−エチル−４−ヒドロキシフェニル）−２
−（３，４−ジエトキシフェニル）チアゾール 99. ４−（３−カルボキシ−４−ヒドロキシフェニル）
−２−（３，４−ジエトキシフェニル）−５−メチルチ
アゾール 100. ４−（３−カルボキシ−４，６−ジヒドロキシフ
ェニル）−２−（３，４−ジエトキシフェニル）チアゾ
ール 101. ４−（３−メトキシカルボニル−５−ニトロ−６
−ヒドロキシフェニル）−２−（３，４−ジエトキシフ
ェニル）チアゾール 102. ４−（３−メトキシカルボニル−５−アミノ−６
−ヒドロキシフェニル）−２−（３，４−ジエトキシフ
ェニル）チアゾール 103. ４−（３−カルボキシ−５−アリル−６−ヒドロ
キシフェニル）−２−（３，４−ジエトキシフェニル）
チアゾール 104. ４−（３−カルボキシ−６−ヒドロキシフェニ
ル）−２−（３−エトキシ−４−メトキシフェニル）チ
アゾール 105. ４−（３−カルボキシ−４−ヒドロキシフェニ
ル）−２−（３，４−ジメトキシフェニル）チアゾール
（特公昭４６−１５９３５号公報に記載の実施例３の化
合物） 106. ４−（３−カルボキシ−４−ヒドロキシフェニ
ル）−２−フェニルチアゾール（特公昭４６−１５９３
５号公報に記載の実施例２の化合物） 107. ４−（３−カルボキシ−４−メトキシフェニル）
−２−フェニルチアゾール（特公昭４６−１５９３５号
公報の実施例４の化合物） 108. ４−（３−カルボキシ−４−メトキシフェニル）
−２−ベンジルチアゾール（特公昭４６−１５９３５号
公報の実施例９の化合物） 109. ４−（３−カルボキシフェニル）−２−（４−ク
ロロフェニル）チアゾール（特公昭４６−１５９３５号
公報に含まれる化合物） 110. ４−（３−カルボキシ−５−ヒドロキシフェニ
ル）−２−（３，４−ジエトキシフェニル）チアゾール
（特公昭４６−１５９３５号公報に含まれる化合物） 111. ４−（３−カルボキシ−４−ヒドロキシフェニ
ル）−２−（３，４−ジブトキシフェニル）チアゾール
（特公昭４６−１５９３５号公報に含まれる化合物） 112. ４−（３−カルボキシ−６−メトキシフェニル）
−２−（３，４−ジエトキシフェニル）チアゾール（特
公昭４６−１５９３５号公報に含まれる化合物） 113. ４−（２−ヒドロキシ−３−アミノ−５−カルボ
キシフェニル）−２−（３，４−ジエトキシフェニル）
チアゾール・塩酸塩 114. ４−（２−ヒドロキシ−３−プロピル−５−カル
ボキシフェニル）−２−（３，４−ジエトキシフェニ
ル）チアゾール 115. ４−（６−カルボキシ−２−ピリジル）−２−
（３，４−ジエトキシフェニル）チアゾール 116. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−フェ
ニルチアゾール 117. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−｛３
−メトキシカルボニル−４−〔２−（１−ピペリジニ
ル）エチルアミノ〕フェニル｝チアゾール２塩酸塩 118. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−〔４
−ヒドロキシ−３−（２−ジメチルアミノエトキシカル
ボニル）フェニル〕チアゾール３塩酸塩 119. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（２
−カルボキシ−５−ピロリル）チアゾール 120. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（４
−ヒドロキシ−３−ｎ−ノニルオキシカルボニルフェニ
ル）チアゾール 121. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（２
−メトキシカルボニル−５−フリル）チアゾール 122. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（２
−カルボキシ−５−フリル）チアゾール 123. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（２
−ジメチルアミノカルボニル−６−ピリジル）チアゾー
ル 124. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（２
−アセチル−１−ピロリル）メチルチアゾール 125. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３
−カルボキシ−４−メトキシフェニル）チアゾール 126. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３
−カルボキシ−４−ヒドロキシ−５−エチルフェニル）
チアゾール 127. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（２
−ヒドロキシメチル−６−ピリジル）チアゾール 128. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−〔２
−（４−メチル−１−ピペラジニル）カルボニル）−６
−ピリジル〕チアゾール 129. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（２
−カルボキシ−５−チエリル）チアゾール 130. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（２
−メチル−７−カルボキシ−５−ベンゾフリル）チアゾ
ール 131. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（４
−エトキシカルボニル−２−チアゾリル）チアゾール 132. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（４
−カルボキシ−２−チアゾリル）チアゾール 133. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（４
−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルフェニル）チアゾ
ール 134. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（４
−エトキシ−３−カルボキシフェニル）チアゾール 135. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３
−カルボキシ−５−ピリジル）チアゾール塩酸塩 136. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３
−ｎ−ブトキシカルボニル−４−ｎ−ブトキシフェニ
ル）チアゾール 137. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３
−カルボキシ−４−ｎ−ブトキシフェニル）チアゾール 138. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３
−カルボキシ−４−ｎ−プロポキシフェニル）チアゾー
ル 139. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−
（２，２−ジメチル−７−カルボキシ−２，３−ジヒド
ロベンゾフラン−５−イル）チアゾール 140. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−〔３
−カルボキシ−４−ヒドロキシ−５−（１−プロペニ
ル）フェニル〕チアゾール 141. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（２
−メチル−３−カルボキシ−５−ピリジル）チアゾール 142. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３
−カルボキシ−４−ヒドロキシ−５−ホルミルフェニ
ル）チアゾール 143. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３
−カルボキシ−６−ピリジル）チアゾール 144. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（２
−カルボキシ−５−ピリジル）チアゾール 145. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３
−カルボキシ−４−ヒドロキシ−５−ブロモフェニル）
チアゾール 146. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３
−カルボキシ−４−ジメチルアミノフェニル）チアゾー
ル 147. ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（３
−カルボキシ−４−ヒドロキシ−５−ビニルフェニル）
チアゾール 結果を表１３０〜表１３２に示す。
【０７３１】
【表１３０】
【０７３２】
【表１３１】
【０７３３】
【表１３２】
【０７３４】ラット心臓の冠動脈閉鎖−再潅流時に於け
る心室性不整脈発生に対する作用 この試験には雄性ＳＤラット（７−１０週，２５０−３
５０ｇ）を用いた。供試化合物は、生理食塩水に溶解し
た溶液状態で３３μｌ／ｋｇの割合で投与した。ペント
バルビタール麻酔、人工呼吸下に開胸し、左冠動脈前下
行枝を絹糸で１０分間結紮し、次いで再潅流、１０分間
観察した。標準四肢第ＩＩ誘導心電図を記録し心室性不
整脈の発生を調べた。供試化合物は冠結紮５分前に１ｍ
ｇ／ｋｇ静脈内投与した。
【０７３５】対照としての生理食塩水投与群と、前記供
試化合物投与群とについての結果を表１３３に示す。
【０７３６】
【表１３３】
【０７３７】腎臓の虚血再潅流腎障害に対する作用 この試験には、体重２５０ｇ前後のＳＤ雄性ラットを１
８時間絶食させた後、用いた。供試化合物は２０％又は
４０％ＤＭＦに溶解した溶液状態で、１ｍｌ／kgの割合
で投与した。ラットの右腎臓を摘出し、左腎動脈血を６
０分間遮断した後、血流を再開通させた。供試化合物は
血流再開通１５分前に、３ｍｇ／ｋｇ静脈投与し、血流
再開通の２４時間、４８時間後にラットより採血し、血
漿クレアチニン（ｍｇ／１００ｍｌ）を和光純薬工業
（株）製クレアチニン−テストにより測定し、「mean±
ＳＥ」を算出した。
【０７３８】結果を表１３４に示す。
【０７３９】
【表１３４】
【０７４０】ラット心臓の冠動脈閉鎖−再潅流液に依る
心筋壊死に対する作用 この試験には雄性ＳＤラット（７−１０週，２５０−３
５０ｇ）を用い、心筋壊死の指標として組織内クレアチ
ンホスホキナーゼ（ＣＰＫ）活性を用いた。
【０７４１】供試化合物は、少量の１Ｎ ＮａＯＨで溶
解後、生理食塩水で稀釈し１ｍｌ／ｋｇの割合で投与し
た。ペントバルビタール麻酔、人工呼吸下に開胸し、左
冠動脈前下行枝を絹糸で１２分間結紮し、次いで再潅流
した。その後閉胸し麻酔より覚醒させた。再潅流の２時
間後に麻酔下、心臓を摘出し、虚血部位のみをホモゲナ
イズしそこに含まれるＣＰＫの活性を測定した。供試化
合物は、冠結紮５分前に６ｍｇ／ｋｇ静脈内投与した。
【０７４２】対照としてのＮａＯＨ生理食塩水投与群
と、化合物投与群とについての結果を表１３５に示す。
【０７４３】
【表１３５】
【０７４４】組織内ＣＰＫ活性の低下が有意に抑制され
ていたことから、本薬物は心臓の虚血再潅流に伴う細胞
障害を抑制したと考えられた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 263/32 9283−4Ｃ 263/34 9283−4Ｃ 263/52 9283−4Ｃ 263/56 9283−4Ｃ 277/24 7019−4Ｃ 277/28 7019−4Ｃ 277/56 7019−4Ｃ 277/60 7019−4Ｃ 413/04 8829−4Ｃ 417/04 9051−4Ｃ 498/04 １０５ 8415−4Ｃ 513/04 ３５１ 8415−4Ｃ

Claims (41)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一般式 【化１】 〔式中、Ｒ1 及びＲ3 は、同一又は異なって、フェニル
    環上に置換基としてアルコキシ基、トリ低級アルキル基
    置換シリルオキシ基、低級アルキル基、水酸基、低級ア
    ルケニルオキシ基、低級アルキルチオ基、フェニル基
    （該フェニル基には、チアゾリル環上に置換基としてフ
    ェニル環上に低級アルコキシ基を有することのあるフェ
    ニル基を有するチアゾリル基、カルボキシル基及び水酸
    基なる群から選ばれた基を置換基として有していてもよ
    い）、低級アルキルスルフィニル基、低級アルキルスル
    ホニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、基−（Ａ）ｌ−Ｎ
    Ｒ8 Ｒ9 （式中、Ａは低級アルキレン基又は基−Ｃ（＝
    Ｏ）−を示す。ｌは０又は１を示す。Ｒ8 及びＲ9 は同
    一又は異なって水素原子、低級アルキル基、低級アルカ
    ノイル基、置換基として低級アルキル基を有することの
    あるアミノ低級アルキル基又はピペリジニル低級アルキ
    ル基を示す。またＲ8 及びＲ9 は、これらが結合する窒
    素原子と共に、窒素原子もしくは酸素原子を介し又は介
    することなく互いに結合して５〜６員環の飽和又は不飽
    和の複素環を形成してもよい。該複素環には置換基とし
    て、低級アルカノイル基又は低級アルキル基を有してい
    てもよい。）、低級アルカノイル基、低級アルカノイル
    オキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、置換基
    として水酸基、低級アルコキシカルボニル基、フェニル
    低級アルコキシ基、水酸基及び／又は低級アルカノイル
    オキシ基置換低級アルキル基及び低級アルカノイルオキ
    シ基なる群より選ばれた基を１〜４個有することのある
    テトラヒドロピラニルオキシ基、アミジノ基、ヒドロキ
    シスルホニルオキシ基、低級アルコキシカルボニル置換
    低級アルコキシ基、カルボキシ置換低級アルコキシ基、
    メルカプト基、低級アルコキシ置換低級アルコキシ基、
    水酸基を有する低級アルキル基、低級アルケニル基、置
    換基として低級アルキル基を有することのあるアミノチ
    オカルボニルオキシ基、置換基として低級アルキル基を
    有することのあるアミノカルボニルチオ基、低級アルカ
    ノイル置換低級アルキル基、カルボキシ基、基−Ｐ（＝
    Ｏ）（ＯＲ21）（ＯＲ22）（式中Ｒ21及びＲ22は、同一
    又は異なって水素原子又は低級アルキル基を示す。）、
    フェニル低級アルコキシカルボニル基、低級アルキニル
    基、低級アルコキシカルボニル置換低級アルキル基、カ
    ルボキシ置換低級アルキル基、低級アルコキシカルボニ
    ル置換低級アルケニル基、カルボキシ置換低級アルケニ
    ル基、ハロゲン原子を有することのある低級アルキルス
    ルホニルオキシ基、低級アルコキシ置換低級アルコキシ
    カルボニル基、ハロゲン原子を有する低級アルケニル基
    及びフェニル低級アルコキシ基なる群より選ばれた基を
    １〜５個有することのあるフェニル基；低級アルキレン
    ジオキシ基を有するフェニル基；窒素原子、酸素原子又
    は硫黄原子を１〜２個有する５〜１５員環の単環、二項
    環又は三項環の複素環残基（該複素環には置換基とし
    て、オキソ基、アルキル基、ベンゾイル基、低級アルカ
    ノイル基、水酸基、カルボキシ基、低級アルコキシカル
    ボニル基、低級アルキルチオ基、基−Ａ−ＮＲ23Ｒ
    24（式中Ａは前記に同じ。Ｒ23及びＲ24は、同一又は異
    なって水素原子又は低級アルキル基を示す。またＲ23及
    びＲ24は、これらが結合する窒素原子と共に、窒素原子
    もしくは酸素原子を介し又は介することなく互いに結合
    して５〜６員環の飽和の複素環を形成してもよい。該複
    素環上には低級アルキル基が置換していてもよい。）、
    シアノ基、水酸基を有する低級アルキル基、フェニルア
    ミノチオカルボニル基及び置換基として低級アルキル基
    を有することのあるアミノ低級アルコキシカルボニル基
    なる群より選ばれた基を１〜３個有していてもよ
    い。）；低級アルキル基；低級アルコキシカルボニル低
    級アルキル基；低級アルコキシカルボニル基；カルバモ
    イル低級アルキル基；置換基としてオキソ基又は／及び
    水酸基を有することのある２，３−ジヒドロインデニル
    基；フェニル環上に置換基として低級アルコキシ基を有
    することのある又低級アルキル基上に置換基として水酸
    基を有することのあるフェニル低級アルキル基；フェニ
    ル環上に置換基として低級アルコキシ基を有することの
    あるベンゾイル基；フェニル環上に置換基として低級ア
    ルコキシ基を有することのあるフェニル低級アルケニル
    基；ピペラジン環上に置換基として低級アルキル基を有
    することのあるピペラジニル低級アルキル基又はアダマ
    ンチル基を示す。Ｒ3 は、前記の他に水素原子を示して
    もよい。Ｒ2 は、水素原子、フェニル基、ハロゲン原
    子、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキル基、置
    換基として低級アルキル基を有することのあるアミノ低
    級アルキル基又はジヒドロカルボスチリル基を示す。ま
    たＲ2 及びＲ3 は、結合して、基 【化２】 、基 【化３】 又は基 【化４】 を形成してもよい。Ｘは硫黄原子又は酸素原子を示
    す。〕で表わされるアゾール誘導体又はその塩を含有す
    ることを特徴とする活性酸素抑制剤。
  2. 【請求項２】 一般式 【化５】 〔式中ＲA は水素原子又は水酸基を示す。Ｒ1A及びＲ2A
    はそれぞれメトキシ基又はエトキシ基を示す。Ｒ3Aは水
    素原子又は低級アルキル基を示す。ＲA はフェニル環上
    の４位又は６位に位置するものとする。但しＲ1A及びＲ
    2Aは同時にメトキシ基であってはならない。〕で表わさ
    れるチアゾール誘導体又はその塩を含有する請求項１記
    載の活性酸素抑制剤。
  3. 【請求項３】 一般式 【化６】 〔式中Ｒ1Bはフェニル環上に置換基として低級アルコキ
    シ基を１〜３個有することのあるフェニル基、低級アル
    キレンジオキシ基を有するフェニル基、オキソ基を有す
    ることのあるピリジル基、チェニル基、カルボスチリル
    基、ピラジル基、ピロリル基、オキソ基を有することの
    あるキノリル基又は３，４−ジヒドロカルボスチリル基
    を示す。Ｒ2Bは水素原子を示す。Ｒ3Bは基 【化７】 （Ｒ4Bはアルコキシ基、トリ低級アルキル基置換シリル
    オキシ基、低級アルキル基、水酸基、低級アルケニルオ
    キシ基、低級アルキルチオ基、フェニル基（該フェニル
    基には、チアゾリル環上に置換基としてフェニル環上に
    低級アルコキシ基を有することのあるフェニル基を有す
    るチアゾリル基、カルボキシル基及び水酸基なる群から
    選ばれた基を置換基として有していてもよい）、低級ア
    ルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニル基、ハ
    ロゲン原子、ニトロ基、基−（Ａ）ｌ−ＮＲ8 Ｒ9 （式
    中、Ａは低級アルキレン基又は基−Ｃ（＝Ｏ）−を示
    す。ｌは０又は１を示す。Ｒ8 及びＲ9 は同一又は異な
    って水素原子、低級アルキル基、低級アルカノイル基、
    置換基として低級アルキル基を有することのあるアミノ
    低級アルキル基又はピペリジニル低級アルキル基を示
    す。またＲ8 及びＲ9 は、これらが結合する窒素原子と
    共に、窒素原子もしくは酸素原子を介し又は介すること
    なく互いに結合して５〜６員環の飽和又は不飽和の複素
    環を形成してもよい。該複素環には置換基として、低級
    アルカノイル基又は低級アルキル基を有していてもよ
    い。）、低級アルカノイル基、低級アルカノイルオキシ
    基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、置換基として
    水酸基、低級アルコキシカルボニル基、フェニル低級ア
    ルコキシ基、水酸基及び／又は低級アルカノイルオキシ
    基置換低級アルキル基及び低級アルカノイルオキシ基な
    る群より選ばれた基を１〜４個有することのあるテトラ
    ヒドロピラニルオキシ基、アミジノ基、ヒドロキシスル
    ホニルオキシ基、低級アルコキシカルボニル置換低級ア
    ルコキシ基、カルボキシ置換低級アルコキシ基、メルカ
    プト基、低級アルコキシ置換低級アルコキシ基、水酸基
    を有する低級アルキル基、低級アルケニル基、置換基と
    して低級アルキル基を有することのあるアミノチオカル
    ボニルオキシ基、置換基として低級アルキル基を有する
    ことのあるアミノカルボニルチオ基、低級アルカノイル
    置換低級アルキル基、カルボキシ基、基−Ｐ（＝Ｏ）
    （ＯＲ21）（ＯＲ22）（式中Ｒ21及びＲ22は、同一又は
    異なって水素原子又は低級アルキル基を示す。）、フェ
    ニル低級アルコキシカルボニル基、低級アルキニル基、
    低級アルコキシカルボニル置換低級アルキル基、カルボ
    キシ置換低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル置
    換低級アルケニル基、カルボキシ置換低級アルケニル
    基、ハロゲン原子を有することのある低級アルキルスル
    ホニルオキシ基、低級アルコキシ置換低級アルコキシカ
    ルボニル基、ハロゲン原子を有する低級アルケニル基又
    はフェニル低級アルコキシ基を示す。ｍは０、１又は２
    を示す。）又は、フェニル環上に置換基として、低級ア
    ルカノイルオキシ基、ヒドロキシスルホニルオキシ基、
    シアノ基、アミジノ基、ニトロ基、低級アルキルチオ
    基、低級アルキルスルホニル基、置換基として水酸基、
    低級アルコキシカルボニル基、フェニル低級アルコキシ
    基、水酸基及び／又は低級アルカノイルオキシ基置換低
    級アルキル基及び低級アルカノイルオキシ基なる群より
    選ばれた基を１〜４個有することのあるテトラヒドロピ
    ラニルオキシ基、フェニル基（該フェニル基には、チア
    ゾリル環上に置換基としてフェニル環上に低級アルコキ
    シ基を有することのあるフェニル基を有するチアゾリル
    基、カルボキシル基及び水酸基なる群から選ばれた基を
    置換基として有していてもよい）、水酸基を有する低級
    アルキル基及び基−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ21）（ＯＲ22）
    （式中Ｒ21及びＲ22は前記に同じ）なる群より選ばれた
    基を１〜３個有するフェニル基、低級アルキレンジオキ
    シ基を有するフェニル基、低級アルキル基、低級アルコ
    キシカルボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボ
    ニル基、カルバモイル低級アルキル基、置換基としてオ
    キソ基又は／及び水酸基を有することのある２，３−ジ
    ヒドロインデニル基、フェニル環上に置換基として低級
    アルコキシ基を有することのある又低級アルキル基上に
    置換基として水酸基を有することのあるフェニル低級ア
    ルキル基、フェニル環上に置換基として低級アルコキシ
    基を有することのあるベンゾイル基、フェニル環上に置
    換基として低級アルコキシ基を有することのあるフェニ
    ル低級アルケニル基、ピペラジン環上に置換基として低
    級アルキル基を有することのあるピペラジニル低級アル
    キル基又はアダマンチル基を示す。但しＲ4Bの少なくと
    も１つがカルボキシル基、低級アルコキシカルボニル基
    置換低級アルキル基又はカルボキシ置換低級アルキル基
    を示す場合、ｍは２を示すものとする。〕で表わされる
    チアゾール誘導体又はその塩を含有する請求項１記載の
    活性酸素抑制剤。
  4. 【請求項４】 一般式 【化８】 〔式中Ｒ1Cはフェニル環上に置換基として低級アルコキ
    シ基を１〜３個有することのあるフェニル基を示す。Ｒ
    2Cは水素原子を示す。Ｒ3Cは、基 【化９】 （式中Ｒ4Cは水素原子、低級アルキル基、フェニル低級
    アルキル基又は低級アルコキシ置換低級アルキル基を示
    す。Ｒ5Cはアミノ基、低級アルコキシ基置換低級アルコ
    キシ基、低級アルキル基、ニトロ基、低級アルケニル
    基、低級アルカノイル基、ハロゲン原子を有する低級ア
    ルケニル基、フェニル低級アルコキシ基、ハロゲン原子
    又は水酸基置換低級アルキル基を示す。ｎは２を示
    す。）を示す。〕で表わされるチアゾール誘導体又はそ
    の塩を含有する請求項１記載の活性酸素抑制剤。
  5. 【請求項５】 一般式 【化１０】 〔式中Ｒ1Dはフェニル環上に置換基として低級アルコキ
    シ基を１〜３個有することのあるフェニル基を示す。Ｒ
    2Dは、水素原子を示す。Ｒ3Dは、基 【化１１】 （式中Ｒ4Dは水素原子又は低級アルキル基を示す。Ｒ5D
    は、アミノ基、低級アルコキシカルボニル低級アルコキ
    シ基、ニトロ基、低級アルケニルオキシ基、低級アルコ
    キシ置換低級アルコキシ基、メルカプト基、低級アルカ
    ノイルオキシ基、置換基として低級アルキル基を有する
    ことのあるアミノカルボニルチオ基、置換基として低級
    アルキル基を有することのあるアミノチオカルボニルオ
    キシ基、カルボキシ置換低級アルコキシ基又はハロゲン
    原子を有することのある低級アルキルスルホニルオキシ
    基を示す。）を示す。〕で表わされるチアゾール誘導体
    又はその塩を含有する請求項１記載の活性酸素抑制剤。
  6. 【請求項６】 一般式 【化１２】 〔式中Ｒ1 は前記に同じ。Ｒ2Eは水素原子を示す。Ｒ3E
    は窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を１〜２個有する５
    〜１５員環の単環、二項環又は三項環の複素環残基（該
    複素環には置換基として、オキソ基、アルキル基、ベン
    ゾイル基、低級アルカノイル基、水酸基、カルボキシ
    基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキルチオ
    基、基−Ａ−ＮＲ23Ｒ24（式中Ａは前記に同じ。Ｒ23及
    びＲ24は、同一又は異なって水素原子又は低級アルキル
    基を示す。またＲ23及びＲ24は、これらが結合する窒素
    原子と共に、窒素原子もしくは酸素原子を介し又は介す
    ることなく互いに結合して５〜６員環の飽和の複素環を
    形成してもよい。該複素環上には低級アルキル基が置換
    していてもよい。）、シアノ基、水酸基を有する低級ア
    ルキル基、フェニルアミノチオカルボニル基及び置換基
    として低級アルキル基を有することのあるアミノ低級ア
    ルコキシカルボニル基なる群より選ばれた基を１〜３個
    有していてもよい。）を示す。〕で表わされるチアゾー
    ル誘導体又はその塩を含有する請求項１記載の活性酸素
    抑制剤。
  7. 【請求項７】 一般式 【化１３】 〔式中Ｒ1 は前記に同じ。Ｒ2Fは水素原子を示す。Ｒ3F
    は基 【化１４】 （式中Ａ、ｌ及びｍは前記に同じ。Ｒ8F及びＲ9Fは、同
    一又は異なって低級アルカノイル基、置換基として低級
    アルキル基を有することのあるアミノ低級アルキル基又
    はピペリジニル低級アルキル基を示す。またＲ8F及びＲ
    9Fは、これらが結合する窒素原子と共に、窒素原子もし
    くは酸素原子を介し又は介することなく互いに結合して
    ５〜６員の飽和又は不飽和の複素環を形成してもよい。
    該複素環には置換基として低級アルカノイル基又は低級
    アルキル基を有していてもよい。Ｒ4Fは水酸基以外の前
    記Ｒ4Bと同一の基を示す。〕で表わされるチアゾール誘
    導体又はその塩を含有する請求項１記載の活性酸素抑制
    剤。
  8. 【請求項８】 ２−（３，４−ジエトキシフェニル）−
    ４−（３−カルボキシ−４−ヒドロキシフェニル）チア
    ゾール、２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−
    〔３−カルボキシ−４−ヒドロキシ−５−（２−メチル
    −２−プロペニル）フェニル〕チアゾール、２−（３，
    ４−ジエトキシフェニル）−４−（３−カルボキシ−４
    −ヒドロキシ−５−メチルフェニル）チアゾール及び２
    −（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（２−カルボ
    キシ−６−ピリジル）チアゾールからなる群から選ばれ
    るチアゾール誘導体又はその塩を含有する請求項１記載
    の活性酸素抑制剤。
  9. 【請求項９】 一般式 【化１５】 〔式中ＲA 、Ｒ1A、Ｒ2A及びＲ3Aは前記に同じ。ＲA は
    フェニル環上の４位又は６位に位置するものとする。但
    しＲ1A及びＲ2Aは同時にメトキシ基であってはならな
    い。〕で表わされるチアゾール誘導体又はその塩。
  10. 【請求項１０】 一般式 【化１６】 〔式中Ｒ1B、Ｒ2B及びＲ3Bは前記に同じ。〕で表わされ
    るチアゾール誘導体又はその塩。
  11. 【請求項１１】 一般式 【化１７】 〔式中Ｒ1C、Ｒ2C及びＲ3Cは前記に同じ。〕で表わされ
    るチアゾール誘導体又はその塩。
  12. 【請求項１２】 一般式 【化１８】 〔式中Ｒ1D、Ｒ2D及びＲ3Dは前記に同じ。〕で表わされ
    るチアゾール誘導体又はその塩。
  13. 【請求項１３】 一般式 【化１９】 〔式中Ｒ1 、Ｒ2E及びＲ3Eは前記に同じ。〕で表わされ
    るチアゾール誘導体又はその塩。
  14. 【請求項１４】 一般式 【化２０】 〔式中Ｒ1 、Ｒ2F及びＲ3Fは前記に同じ。〕で表わされ
    るチアゾール誘導体又はその塩。
  15. 【請求項１５】 Ｒ1Bがフェニル環上に置換基として低
    級アルコキシ基を１〜３個有することのあるフェニル基
    又は低級アルキレンジオキシ基を有するフェニル基であ
    る請求項１０記載のチアゾール誘導体又はその塩。
  16. 【請求項１６】 Ｒ1Bがオキソ基を有することのあるピ
    リジル基、チェニル基、カルボスチリル基、ピラジル
    基、ピロリル基、オキソ基を有することのあるキノリル
    基又は３，４−ジヒドロカルボスチリル基である請求項
    １０記載のチアゾール誘導体又はその塩。
  17. 【請求項１７】 Ｒ3Bが基 【化２１】 〔式中Ｒ4B及びｍは前記に同じ。〕である請求項１５記
    載のチアゾール誘導体又はその塩。
  18. 【請求項１８】 Ｒ3Bが基 【化２２】 〔式中Ｒ4B及びｍは前記に同じ。〕である請求項１６記
    載のチアゾール誘導体又はその塩。
  19. 【請求項１９】 Ｒ3Bがフェニル環上に置換基として、
    低級アルカノイルオキシ基、ヒドロキシスルホニルオキ
    シ基、シアノ基、アミジノ基、ニトロ基、低級アルキル
    チオ基、低級アルキルスルホニル基、置換基として水酸
    基、低級アルコキシカルボニル基、フェニル低級アルコ
    キシ基、水酸基及び／又は低級アルカノイルオキシ基置
    換低級アルキル基及び低級アルカノイルオキシ基なる群
    より選ばれた基を１〜４個有することのあるテトラヒド
    ロピラニルオキシ基、フェニル基（該フェニル基には、
    チアゾリル環上に置換基としてフェニル環上に低級アル
    コキシ基を有することのあるフェニル基を有するチアゾ
    リル基、カルボキシル基及び水酸基なる群から選ばれた
    基を置換基として有していてもよい）、水酸基を有する
    低級アルキル基及び基−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ21）（Ｏ
    Ｒ22）（式中Ｒ21及びＲ22は前記に同じ）なる群より選
    ばれた基を１〜３個有するフェニル基である請求項１５
    又は請求項１６記載のチアゾール誘導体又はその塩。
  20. 【請求項２０】 Ｒ3Bが低級アルキレンジオキシ基を有
    するフェニル基、低級アルキル基、低級アルコキシカル
    ボニル低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基、
    カルバモイル低級アルキル基、置換基としてオキソ基又
    は／及び水酸基を有することのある２，３−ジヒドロイ
    ンデニル基、フェニル環上に置換基として低級アルコキ
    シ基を有することのある又低級アルキル基上に置換基と
    して水酸基を有することのあるフェニル低級アルキル
    基、フェニル環上に置換基として低級アルコキシ基を有
    することのあるベンゾイル基、フェニル環上に置換基と
    して低級アルコキシ基を有することのあるフェニル低級
    アルケニル基、ピペラジン環上に置換基として低級アル
    キル基を有することのあるピペラジニル低級アルキル基
    又はアダマンチル基である請求項１５又は請求項１６記
    載のチアゾール誘導体又はその塩。
  21. 【請求項２１】 Ｒ4Bが水酸基、カルボキシ基、低級ア
    ルケニル基又は低級アルキル基である請求項１７又は請
    求項１８記載のチアゾール誘導体又はその塩。
  22. 【請求項２２】 Ｒ4Bがアルコキシ基、トリ低級アルキ
    ル基置換シリルオキシ基、低級アルケニルオキシ基、低
    級アルキルチオ基、フェニル基（該フェニル基には、チ
    アゾリル環上に置換基としてフェニル環上に低級アルコ
    キシ基を有することのあるフェニル基を有するチアゾリ
    ル基、カルボキシル基及び水酸基なる群から選ばれた基
    を置換基として有していてもよい）、低級アルキルスル
    フィニル基、低級アルキルスルホニル基、ハロゲン原
    子、ニトロ基、基−（Ａ）ｌ−ＮＲ8 Ｒ9 （式中、Ａは
    低級アルキレン基又は基−Ｃ（＝Ｏ）−を示す。ｌは０
    又は１を示す。Ｒ8 及びＲ9 は同一又は異なって水素原
    子、低級アルキル基、低級アルカノイル基、置換基とし
    て低級アルキル基を有することのあるアミノ低級アルキ
    ル基又はピペリジニル低級アルキル基を示す。またＲ8
    及びＲ9 は、これらが結合する窒素原子と共に、窒素原
    子もしくは酸素原子を介し又は介することなく互いに結
    合して５〜６員環の飽和又は不飽和の複素環を形成して
    もよい。該複素環には置換基として、低級アルカノイル
    基又は低級アルキル基を有していてもよい。）、低級ア
    ルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、アルコキシ
    カルボニル基、シアノ基、置換基として水酸基、低級ア
    ルコキシカルボニル基、フェニル低級アルコキシ基、水
    酸基及び／又は低級アルカノイルオキシ基置換低級アル
    キル基及び低級アルカノイルオキシ基なる群より選ばれ
    た基を１〜４個有することのあるテトラヒドロピラニル
    オキシ基、アミジノ基、ヒドロキシスルホニルオキシ
    基、低級アルコキシカルボニル置換低級アルコキシ基、
    カルボキシ置換低級アルコキシ基、メルカプト基、低級
    アルコキシ置換低級アルコキシ基、水酸基を有する低級
    アルキル基、置換基として低級アルキル基を有すること
    のあるアミノチオカルボニルオキシ基、置換基として低
    級アルキル基を有することのあるアミノカルボニルチオ
    基、低級アルカノイル置換低級アルキル基、基−Ｐ（＝
    Ｏ）（ＯＲ21）（ＯＲ22）（式中Ｒ21及びＲ22は、同一
    又は異なって水素原子又は低級アルキル基を示す。）、
    フェニル低級アルコキシカルボニル基、低級アルキニル
    基、低級アルコキシカルボニル置換低級アルキル基、カ
    ルボキシ置換低級アルキル基、低級アルコキシカルボニ
    ル置換低級アルケニル基、カルボキシ置換低級アルケニ
    ル基、ハロゲン原子を有することのある低級アルキルス
    ルホニルオキシ基、低級アルコキシ置換低級アルコキシ
    カルボニル基、ハロゲン原子を有する低級アルケニル基
    又はフェニル低級アルコキシ基である請求項１７又は請
    求項１８記載のチアゾール誘導体又はその塩。
  23. 【請求項２３】 Ｒ4Cが水素原子である請求項１１記載
    のチアゾール誘導体又はその塩。
  24. 【請求項２４】 Ｒ4Cが低級アルキル基、フェニル低級
    アルキル基又は低級アルコキシ置換低級アルキル基であ
    る請求項１１記載のチアゾール誘導体又はその塩。
  25. 【請求項２５】 Ｒ1 がフェニル環上に置換基としてア
    ルコキシ基、トリ低級アルキル基置換シリルオキシ基、
    低級アルキル基、水酸基、低級アルケニルオキシ基、低
    級アルキルチオ基、フェニル基（該フェニル基には、チ
    アゾリル環上に置換基としてフェニル環上に低級アルコ
    キシ基を有することのあるフェニル基を有するチアゾリ
    ル基、カルボキシル基及び水酸基なる群から選ばれた基
    を置換基として有していてもよい）、低級アルキルスル
    フィニル基、低級アルキルスルホニル基、ハロゲン原
    子、ニトロ基、基−（Ａ）ｌ−ＮＲ8 Ｒ9 （式中、Ａは
    低級アルキレン基又は基−Ｃ（＝Ｏ）−を示す。ｌは０
    又は１を示す。Ｒ8 及びＲ9 は同一又は異なって水素原
    子、低級アルキル基、低級アルカノイル基、置換基とし
    て低級アルキル基を有することのあるアミノ低級アルキ
    ル基又はピペリジニル低級アルキル基を示す。またＲ8
    及びＲ9 は、これらが結合する窒素原子と共に、窒素原
    子もしくは酸素原子を介し又は介することなく互いに結
    合して５〜６員環の飽和又は不飽和の複素環を形成して
    もよい。該複素環には置換基として、低級アルカノイル
    基又は低級アルキル基を有していてもよい。）、低級ア
    ルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、アルコキシ
    カルボニル基、シアノ基、置換基として水酸基、低級ア
    ルコキシカルボニル基、フェニル低級アルコキシ基、水
    酸基及び／又は低級アルカノイルオキシ基置換低級アル
    キル基及び低級アルカノイルオキシ基なる群より選ばれ
    た基を１〜４個有することのあるテトラヒドロピラニル
    オキシ基、アミジノ基、ヒドロキシスルホニルオキシ
    基、低級アルコキシカルボニル置換低級アルコキシ基、
    カルボキシ置換低級アルコキシ基、メルカプト基、低級
    アルコキシ置換低級アルコキシ基、水酸基を有する低級
    アルキル基、低級アルケニル基、置換基として低級アル
    キル基を有することのあるアミノチオカルボニルオキシ
    基、置換基として低級アルキル基を有することのあるア
    ミノカルボニルチオ基、低級アルカノイル置換低級アル
    キル基、カルボキシ基、基−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ21）（Ｏ
    Ｒ22）（式中Ｒ21及びＲ22は、同一又は異なって水素原
    子又は低級アルキル基を示す。）、フェニル低級アルコ
    キシカルボニル基、低級アルキニル基、低級アルコキシ
    カルボニル置換低級アルキル基、カルボキシ置換低級ア
    ルキル基、低級アルコキシカルボニル置換低級アルケニ
    ル基、カルボキシ置換低級アルケニル基、ハロゲン原子
    を有することのある低級アルキルスルホニルオキシ基、
    低級アルコキシ置換低級アルコキシカルボニル基、ハロ
    ゲン原子を有する低級アルケニル基及びフェニル低級ア
    ルコキシ基なる群より選ばれた基を１〜５個有すること
    のあるフェニル基；又は低級アルキレンジオキシ基を有
    するフェニル基である請求項１７記載のチアゾール誘導
    体又はその塩。
  26. 【請求項２６】 Ｒ1 が窒素原子、酸素原子又は硫黄原
    子を１〜２個有する５〜１５員環の単環、二項環又は三
    項環の複素環残基（該複素環には置換基として、オキソ
    基、アルキル基、ベンゾイル基、低級アルカノイル基、
    水酸基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、
    低級アルキルチオ基、基−Ａ−ＮＲ23Ｒ24（式中Ａは前
    記に同じ。Ｒ23及びＲ24は、同一又は異なって水素原子
    又は低級アルキル基を示す。またＲ23及びＲ24は、これ
    らが結合する窒素原子と共に、窒素原子もしくは酸素原
    子を介し又は介することなく互いに結合して５〜６員環
    の飽和の複素環を形成してもよい。該複素環上には低級
    アルキル基が置換していてもよい。）、シアノ基、水酸
    基を有する低級アルキル基、フェニルアミノチオカルボ
    ニル基及び置換基として低級アルキル基を有することの
    あるアミノ低級アルコキシカルボニル基なる群より選ば
    れた基を１〜３個有していてもよい。）である請求項１
    ３記載のチアゾール誘導体又はその塩。
  27. 【請求項２７】 Ｒ1 が低級アルキル基；低級アルコキ
    シカルボニル低級アルキル基；低級アルコキシカルボニ
    ル基；カルバモイル低級アルキル基；置換基としてオキ
    ソ基又は／及び水酸基を有することのある２，３−ジヒ
    ドロインデニル基；フェニル環上に置換基として低級ア
    ルコキシ基を有することのある又低級アルキル基上に置
    換基として水酸基を有することのあるフェニル低級アル
    キル基；フェニル環上に置換基として低級アルコキシ基
    を有することのあるベンゾイル基；フェニル環上に置換
    基として低級アルコキシ基を有することのあるフェニル
    低級アルケニル基；ピペラジン環上に置換基として低級
    アルキル基を有することのあるピペラジニル低級アルキ
    ル基又はアダマンチル基である請求項１３記載のチアゾ
    ール誘導体又はその塩。
  28. 【請求項２８】 Ｒ1 がアルコキシ基又は／及び水酸基
    を１〜３個有することのあるフェニル基である請求項２
    ５記載のチアゾール誘導体又はその塩。
  29. 【請求項２９】 Ｒ1 の複素環残基がピロリジニル、ピ
    ペリジニル、ピペラジニル、モルホリノ、ピリジル、
    １，２，５，６−テトラヒドロピリジル、チエニル、キ
    ノリル、１，４−ジヒドロキノリル、ベンゾチアゾリ
    ル、ピラジル、ピリミジル、ピリダジル、ピロリル、カ
    ルボスチリル、３，４−ジヒドロカルボスチリル、１，
    ２，３，４−テトラヒドロキノリル、インドリル、イソ
    インドリル、インドリニル、ベンゾイミダゾリル、ベン
    ゾオキサゾリル、イミダゾリジニル、イソキノリル、キ
    ナゾリジニル、キノキサリニル、シンノリニル、フタラ
    ジニル、カルバゾリル、アクリジニル、クロマニル、イ
    ソインドリニル、イソクロマニル、ピラゾリル、イミダ
    ゾリル、ピラゾリジニル、フェノチアジニル、ベンゾフ
    リル、２，３−ジヒドロベンゾ〔ｂ〕フリル、ベンゾチ
    エニル、フェノキサチイニル、フェノキサジニル、４Ｈ
    −クロメニル、１Ｈ−インダゾリル、フェナジニル、キ
    サンテニル、チアントレニル、イソインドリニル、２−
    イミダゾリニル、２−ピロリニル、フリル、オキサゾリ
    ル、イソオキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、
    ピラニル、ピラゾリジニル、２−ピラゾリニル、キヌク
    リジニル、１，４−ベンゾオキサジニル、３，４−ジヒ
    ドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジニル、３，４−ジ
    ヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾチアジニル、１，４−ベ
    ンゾチアジニル、１，２，３，４−テトラヒドロキノキ
    サリニル、１，３−ジチア−２，４−ジヒドロナフタレ
    ニル、フェナントリジニル、１，４−ジチアナフタレニ
    ル、ジベンズ〔ｂ，ｅ〕アゼピン又は６，１１−ジヒド
    ロ−５Ｈ−ジベンズ〔ｂ，ｅ〕アゼピン基である請求項
    ２６記載のチアゾール誘導体又はその塩。
  30. 【請求項３０】 Ｒ1 がアルコキシ基を１〜３個有する
    ことのあるフェニル基である請求項２８記載のチアゾー
    ル誘導体又はその塩。
  31. 【請求項３１】 Ｒ3Eの複素環残基がピロリジニル、ピ
    ペリジニル、ピペラジニル、モルホリノ、ピリジル、
    １，２，５，６−テトラヒドロピリジル、チエニル、キ
    ノリル、１，４−ジヒドロキノリル、ベンゾチアゾリ
    ル、ピラジル、ピリミジル、ピリダジル、ピロリル、カ
    ルボスチリル、３，４−ジヒドロカルボスチリル、１，
    ２，３，４−テトラヒドロキノリル、インドリル、イソ
    インドリル、インドリニル、ベンゾイミダゾリル、ベン
    ゾオキサゾリル、イミダゾリジニル、イソキノリル、キ
    ナゾリジニル、キノキサリニル、シンノリニル、フタラ
    ジニル、カルバゾリル、アクリジニル、クロマニル、イ
    ソインドリニル、イソクロマニル、ピラゾリル、イミダ
    ゾリル、ピラゾリジニル、フェノチアジニル、ベンゾフ
    リル、２，３−ジヒドロベンゾ〔ｂ〕フリル、ベンゾチ
    エニル、フェノキサチイニル、フェノキサジニル、４Ｈ
    −クロメニル、１Ｈ−インダゾリル、フェナジニル、キ
    サンテニル、チアントレニル、イソインドリニル、２−
    イミダゾリニル、２−ピロリニル、フリル、オキサゾリ
    ル、イソオキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、
    ピラニル、ピラゾリジニル、２−ピラゾリニル、キヌク
    リジニル、１，４−ベンゾオキサジニル、３，４−ジヒ
    ドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジニル、３，４−ジ
    ヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾチアジニル、１，４−ベ
    ンゾチアジニル、１，２，３，４−テトラヒドロキノキ
    サリニル、１，３−ジチア−２，４−ジヒドロナフタレ
    ニル、フェナントリジニル、１，４−ジチアナフタレニ
    ル、ジベンズ〔ｂ，ｅ〕アゼピン又は６，１１−ジヒド
    ロ−５Ｈ−ジベンズ〔ｂ，ｅ〕アゼピン基である請求項
    ３０記載のチアゾール誘導体又はその塩。
  32. 【請求項３２】 複素環残基がピリジル基である請求項
    ３１記載のチアゾール誘導体又はその塩。
  33. 【請求項３３】 Ｒ1 がフェニル環上に置換基としてア
    ルコキシ基、トリ低級アルキル基置換シリルオキシ基、
    低級アルキル基、水酸基、低級アルケニルオキシ基、低
    級アルキルチオ基、フェニル基（該フェニル基には、チ
    アゾリル環上に置換基としてフェニル環上に低級アルコ
    キシ基を有することのあるフェニル基を有するチアゾリ
    ル基、カルボキシル基及び水酸基なる群から選ばれた基
    を置換基として有していてもよい）、低級アルキルスル
    フィニル基、低級アルキルスルホニル基、ハロゲン原
    子、ニトロ基、基−（Ａ）ｌ−ＮＲ8 Ｒ9 （式中、Ａは
    低級アルキレン基又は基−Ｃ（＝Ｏ）−を示す。ｌは０
    又は１を示す。Ｒ8 及びＲ9 は同一又は異なって水素原
    子、低級アルキル基、低級アルカノイル基、置換基とし
    て低級アルキル基を有することのあるアミノ低級アルキ
    ル基又はピペリジニル低級アルキル基を示す。またＲ8
    及びＲ9 は、これらが結合する窒素原子と共に、窒素原
    子もしくは酸素原子を介し又は介することなく互いに結
    合して５〜６員環の飽和又は不飽和の複素環を形成して
    もよい。該複素環には置換基として、低級アルカノイル
    基又は低級アルキル基を有していてもよい。）、低級ア
    ルカノイル基、低級アルカノイルオキシ基、アルコキシ
    カルボニル基、シアノ基、置換基として水酸基、低級ア
    ルコキシカルボニル基、フェニル低級アルコキシ基、水
    酸基及び／又は低級アルカノイルオキシ基置換低級アル
    キル基及び低級アルカノイルオキシ基なる群より選ばれ
    た基を１〜４個有することのあるテトラヒドロピラニル
    オキシ基、アミジノ基、ヒドロキシスルホニルオキシ
    基、低級アルコキシカルボニル置換低級アルコキシ基、
    カルボキシ置換低級アルコキシ基、メルカプト基、低級
    アルコキシ置換低級アルコキシ基、水酸基を有する低級
    アルキル基、低級アルケニル基、置換基として低級アル
    キル基を有することのあるアミノチオカルボニルオキシ
    基、置換基として低級アルキル基を有することのあるア
    ミノカルボニルチオ基、低級アルカノイル置換低級アル
    キル基、カルボキシ基、基−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ21）（Ｏ
    Ｒ22）（式中Ｒ21及びＲ22は、同一又は異なって水素原
    子又は低級アルキル基を示す。）、フェニル低級アルコ
    キシカルボニル基、低級アルキニル基、低級アルコキシ
    カルボニル置換低級アルキル基、カルボキシ置換低級ア
    ルキル基、低級アルコキシカルボニル置換低級アルケニ
    ル基、カルボキシ置換低級アルケニル基、ハロゲン原子
    を有することのある低級アルキルスルホニルオキシ基、
    低級アルコキシ置換低級アルコキシカルボニル基、ハロ
    ゲン原子を有する低級アルケニル基及びフェニル低級ア
    ルコキシ基なる群より選ばれた基を１〜５個有すること
    のあるフェニル基；又は低級アルキレンジオキシ基を有
    するフェニル基である請求項１４記載のチアゾール誘導
    体又はその塩。
  34. 【請求項３４】 Ｒ1 が窒素原子、酸素原子又は硫黄原
    子を１〜２個有する５〜１５員環の単環、二項環又は三
    項環の複素環残基（該複素環には置換基として、オキソ
    基、アルキル基、ベンゾイル基、低級アルカノイル基、
    水酸基、カルボキシ基、低級アルコキシカルボニル基、
    低級アルキルチオ基、基−Ａ−ＮＲ23Ｒ24（式中Ａは前
    記に同じ。Ｒ23及びＲ24は、同一又は異なって水素原子
    又は低級アルキル基を示す。またＲ23及びＲ24は、これ
    らが結合する窒素原子と共に、窒素原子もしくは酸素原
    子を介し又は介することなく互いに結合して５〜６員環
    の飽和の複素環を形成してもよい。該複素環上には低級
    アルキル基が置換していてもよい。）、シアノ基、水酸
    基を有する低級アルキル基、フェニルアミノチオカルボ
    ニル基及び置換基として低級アルキル基を有することの
    あるアミノ低級アルコキシカルボニル基なる群より選ば
    れた基を１〜３個有していてもよい。）である請求項１
    ４記載のチアゾール誘導体又はその塩。
  35. 【請求項３５】 Ｒ1 が低級アルキル基；低級アルコキ
    シカルボニル低級アルキル基；低級アルコキシカルボニ
    ル基；カルバモイル低級アルキル基；置換基としてオキ
    ソ基又は／及び水酸基を有することのある２，３−ジヒ
    ドロインデニル基；フェニル環上に置換基として低級ア
    ルコキシ基を有することのある又低級アルキル基上に置
    換基として水酸基を有することのあるフェニル低級アル
    キル基；フェニル環上に置換基として低級アルコキシ基
    を有することのあるベンゾイル基；フェニル環上に置換
    基として低級アルコキシ基を有することのあるフェニル
    低級アルケニル基；ピペラジン環上に置換基として低級
    アルキル基を有することのあるピペラジニル低級アルキ
    ル基又はアダマンチル基である請求項１４記載のチアゾ
    ール誘導体又はその塩。
  36. 【請求項３６】 Ｒ1 がアルコキシ基又は／及び水酸基
    を１〜３個有することのあるフェニル基である請求項３
    ３記載のチアゾール誘導体又はその塩。
  37. 【請求項３７】 Ｒ1 の複素環残基がピロリジニル、ピ
    ペリジニル、ピペラジニル、モルホリノ、ピリジル、
    １，２，５，６−テトラヒドロピリジル、チエニル、キ
    ノリル、１，４−ジヒドロキノリル、ベンゾチアゾリ
    ル、ピラジル、ピリミジル、ピリダジル、ピロリル、カ
    ルボスチリル、３，４−ジヒドロカルボスチリル、１，
    ２，３，４−テトラヒドロキノリル、インドリル、イソ
    インドリル、インドリニル、ベンゾイミダゾリル、ベン
    ゾオキサゾリル、イミダゾリジニル、イソキノリル、キ
    ナゾリジニル、キノキサリニル、シンノリニル、フタラ
    ジニル、カルバゾリル、アクリジニル、クロマニル、イ
    ソインドリニル、イソクロマニル、ピラゾリル、イミダ
    ゾリル、ピラゾリジニル、フェノチアジニル、ベンゾフ
    リル、２，３−ジヒドロベンゾ〔ｂ〕フリル、ベンゾチ
    エニル、フェノキサチイニル、フェノキサジニル、４Ｈ
    −クロメニル、１Ｈ−インダゾリル、フェナジニル、キ
    サンテニル、チアントレニル、イソインドリニル、２−
    イミダゾリニル、２−ピロリニル、フリル、オキサゾリ
    ル、イソオキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、
    ピラニル、ピラゾリジニル、２−ピラゾリニル、キヌク
    リジニル、１，４−ベンゾオキサジニル、３，４−ジヒ
    ドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジニル、３，４−ジ
    ヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾチアジニル、１，４−ベ
    ンゾチアジニル、１，２，３，４−テトラヒドロキノキ
    サリニル、１，３−ジチア−２，４−ジヒドロナフタレ
    ニル、フェナントリジニル、１，４−ジチアナフタレニ
    ル、ジベンズ〔ｂ，ｅ〕アゼピン又は６，１１−ジヒド
    ロ−５Ｈ−ジベンズ〔ｂ，ｅ〕アゼピン基である請求項
    ３４記載のチアゾール誘導体又はその塩。
  38. 【請求項３８】 Ｒ1 がアルコキシ基を１〜３個有する
    ことのあるフェニル基である請求項３６記載のチアゾー
    ル誘導体又はその塩。
  39. 【請求項３９】 一般式 【化２３】 〔式中Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は前記に同じ。〕で表わされ
    るオキサゾール誘導体又はその塩。
  40. 【請求項４０】 一般式 【化２４】 〔式中Ｒ1 は前記に同じ。Ｒ2H及びＲ3Hは、結合して、
    基 【化２５】 、基 【化２６】 又は基 【化２７】 を形成する。〕で表わされるチアゾール誘導体又はその
    塩。
  41. 【請求項４１】 ２−（３，４−ジエトキシフェニル）
    −４−（３−カルボキシ−４−ヒドロキシフェニル）チ
    アゾール、２−（３，４−ジエトキシフェニル）−４−
    〔３−カルボキシ−４−ヒドロキシ−５−（２−メチル
    −２−プロペニル）フェニル〕チアゾール、２−（３，
    ４−ジエトキシフェニル）−４−（３−カルボキシ−４
    −ヒドロキシ−５−メチルフェニル）チアゾール及び２
    −（３，４−ジエトキシフェニル）−４−（２−カルボ
    キシ−６−ピリジル）チアゾールからなる群から選ばれ
    るチアゾール誘導体又はその塩。
JP3342495A 1990-11-30 1991-11-29 活性酸素抑制剤 Expired - Lifetime JP2829451B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2-337727 1990-11-30
JP33772790 1990-11-30

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23337097A Division JP3182556B2 (ja) 1990-11-30 1997-08-13 活性酸素抑制剤

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0551318A true JPH0551318A (ja) 1993-03-02
JP2829451B2 JP2829451B2 (ja) 1998-11-25

Family

ID=18311399

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3342495A Expired - Lifetime JP2829451B2 (ja) 1990-11-30 1991-11-29 活性酸素抑制剤
JP23337097A Expired - Lifetime JP3182556B2 (ja) 1990-11-30 1997-08-13 活性酸素抑制剤

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23337097A Expired - Lifetime JP3182556B2 (ja) 1990-11-30 1997-08-13 活性酸素抑制剤

Country Status (11)

Country Link
US (4) US5643932A (ja)
EP (3) EP0934937B1 (ja)
JP (2) JP2829451B2 (ja)
KR (2) KR100195433B1 (ja)
CA (3) CA2396738C (ja)
DE (3) DE69132944T2 (ja)
DK (3) DK0934937T3 (ja)
ES (3) ES2144403T3 (ja)
HK (1) HK1003938A1 (ja)
TW (1) TW311136B (ja)
WO (1) WO1992009586A1 (ja)

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09255678A (ja) * 1996-03-25 1997-09-30 Otsuka Pharmaceut Co Ltd チアゾール誘導体−金属錯体
JPH10152437A (ja) * 1996-09-30 1998-06-09 Otsuka Pharmaceut Co Ltd サイトカイン産生抑制剤及び接着抑制剤
JP2000229920A (ja) * 1999-02-12 2000-08-22 Otsuka Pharmaceut Co Ltd アミド誘導体の製造方法
JP2000281664A (ja) * 1999-03-30 2000-10-10 Otsuka Pharmaceut Co Ltd チアゾール誘導体
JP2001131151A (ja) * 1999-11-02 2001-05-15 Shionogi & Co Ltd オレフィン誘導体の新規用途
JP2002512235A (ja) * 1998-04-17 2002-04-23 ベーリンガー インゲルハイム ファルマ コマンディトゲゼルシャフト 新規ジフェニル置換５員環複素環化合物、それらの製造方法及び薬物としてのそれらの使用
JP2002234843A (ja) * 2000-12-08 2002-08-23 Takeda Chem Ind Ltd ３−ピリジル基を有する置換チアゾール誘導体、その製造法および用途
JP2005002132A (ja) * 1996-09-30 2005-01-06 Otsuka Pharmaceut Co Ltd サイトカイン産生抑制剤及び接着抑制剤
WO2005007160A1 (en) * 2003-07-17 2005-01-27 Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. Enema preparation
WO2005111007A1 (ja) * 2004-05-17 2005-11-24 Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. チアゾール化合物及びその用途
JP2006083192A (ja) * 1996-09-30 2006-03-30 Otsuka Pharmaceut Co Ltd サイトカイン異常産生又は接着作用の亢進に伴う疾患を予防又は治療するための薬剤
WO2007043400A1 (ja) * 2005-10-07 2007-04-19 Kissei Pharmaceutical Co., Ltd. 含窒素芳香族複素環化合物およびそれを含有する医薬組成物
JP2007277235A (ja) * 2006-03-17 2007-10-25 Otsuka Pharmaceut Co Ltd 新規なテトミラスト結晶、該結晶の製造方法及び医薬組成物
US7932276B2 (en) 2001-07-24 2011-04-26 Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. Agent for curing chronic obstructive pulmonary disease
JP2011524422A (ja) * 2008-06-16 2011-09-01 ユニバーシティ オブ テネシー リサーチ ファウンデーション 癌を処置するための化合物
US8053445B2 (en) 2001-09-14 2011-11-08 Shionogi & Co., Ltd. Utilities of olefin derivatives
US8435999B2 (en) 2007-08-13 2013-05-07 Monsanto Technology Llc Compositions and methods for controlling nematodes
JP2015129152A (ja) * 2007-09-06 2015-07-16 ボストン バイオメディカル， インコーポレイテッド キナーゼ阻害剤の組成物ならびに癌およびキナーゼに関連する他の疾患の治療のためのそれらの使用
JP2016534124A (ja) * 2013-08-29 2016-11-04 ベイラー カレッジ オブ メディスンＢａｙｌｏｒ Ｃｏｌｌｅｇｅ Ｏｆ Ｍｅｄｉｃｉｎｅ 代謝並びに体重関連疾患の処置のための組成物および方法
JP2018505860A (ja) * 2014-12-19 2018-03-01 ガルデルマ・リサーチ・アンド・デヴェロップメント 新規化合物、その合成方法、並びに医薬品及び化粧品におけるその使用

Families Citing this family (76)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1993024472A1 (en) * 1992-05-29 1993-12-09 Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. Thiazole derivative
US5639770A (en) * 1992-05-29 1997-06-17 Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. Thiazole derivatives
NZ255580A (en) * 1992-09-14 1997-08-22 Yamanouchi Pharma Co Ltd 2-(imidazolyl)alkylene-condensed thiazole derivatives and pharmaceutical compositions
WO1994017077A1 (en) * 1993-01-19 1994-08-04 Shiseido Company, Ltd. Active oxygen inhibitor composition
EP0749966A4 (en) * 1994-03-11 1997-07-02 Yamanouchi Pharma Co Ltd 5-HT 3 RECEPTOR AGONIST, NEW THIAZOLE DERIVATIVE AND INTERMEDIATE FOR OBTAINING IT
WO1996003392A1 (en) * 1994-07-27 1996-02-08 G.D. Searle & Co. Substituted thiazoles for the treatment of inflammation
US6696459B1 (en) 1994-12-22 2004-02-24 Ligand Pharmaceuticals Inc. Steroid receptor modulator compounds and methods
DK0800519T3 (da) * 1994-12-22 2004-03-01 Ligand Pharm Inc Steroidreceptormodulatorforbindelser og fremgangsmåder
US5696127A (en) 1994-12-22 1997-12-09 Ligand Pharmaceuticals Incorporated Steroid receptor modulator compounds and methods
AU4205197A (en) * 1996-08-26 1998-03-19 Byk Gulden Lomberg Chemische Fabrik Gmbh New thiazole derivatives with phosphodiesterase-inhibiting effect
AU4298997A (en) * 1996-08-26 1998-03-19 Byk Gulden Lomberg Chemische Fabrik Gmbh Thiazole derivatives useful as selective inhibitors of pde-iv
MY128323A (en) 1996-09-30 2007-01-31 Otsuka Pharma Co Ltd Thiazole derivatives for inhibition of cytokine production and of cell adhesion
WO1998021207A1 (de) * 1996-11-12 1998-05-22 Byk Gulden Lomberg Chemische Fabrik Gmbh (2,3-dihydrobenzofuranyl)-thiazole als phosphodiesterasehemmer
DE69720773T2 (de) * 1996-12-23 2004-01-29 Bristol Myers Squibb Pharma Co SAUERSTOFF ODER SCHWEFEL ENTHALTENDE 5-GLIEDRIGE HETEROAROMATISHE DERIVATIVE ALS FACTOR Xa HEMMER
US6187797B1 (en) 1996-12-23 2001-02-13 Dupont Pharmaceuticals Company Phenyl-isoxazoles as factor XA Inhibitors
US5998424A (en) 1997-06-19 1999-12-07 Dupont Pharmaceuticals Company Inhibitors of factor Xa with a neutral P1 specificity group
ZA985251B (en) 1997-06-19 1999-12-17 Du Pont Merck Pharma Inhibitors of factor Xa with a neutral P1 specificity group.
EA200000048A1 (ru) * 1997-06-19 2000-08-28 Дюпон Фармасьютикалз Компани ИНГИБИТОРЫ ФАКТОРА Ха, СОДЕРЖАЩИЕ ГРУППУ С НЕЙТРАЛЬНОЙ P1-СПЕЦИФИЧНОСТЬЮ
US6339099B1 (en) 1997-06-20 2002-01-15 Dupont Pharmaceuticals Company Guanidine mimics as factor Xa inhibitors
US5886191A (en) * 1997-08-18 1999-03-23 Dupont Pharmaceuticals Company Amidinoindoles, amidinoazoles, and analogs thereof
DE69821132T2 (de) * 1997-10-27 2004-10-21 Takeda Chemical Industries Ltd 1,3-thiazole als adenosine a3 rezeptor antagonisten zur behandlung von asthma, allergien und diabetes
IL137511A0 (en) 1998-01-28 2001-07-24 Shionogi & Co Novel tricyclic compound
US6322449B1 (en) 1998-02-04 2001-11-27 Klitsner Industrial Design, Llc Mechanical interface device
PL345247A1 (en) 1998-07-01 2001-12-03 Takeda Chemical Industries Ltd Retinoid-associated receptor regulators
US6083966A (en) * 1998-08-31 2000-07-04 University Of Florida Thiazoline acid derivatives
NZ509172A (en) * 1998-09-21 2004-02-27 Univ Florida Antimalarial agents
EP1175419B1 (en) 1999-04-02 2003-05-28 Bristol-Myers Squibb Pharma Company Aryl sulfonyls as factor xa inhibitors
WO2001030757A1 (fr) * 1999-10-28 2001-05-03 Microcide Pharmaceuticals, Inc. Inhibiteurs de la pompe par liberation de medicaments
WO2002028837A1 (en) * 2000-10-02 2002-04-11 Janssen Pharmaceutica N.V. Metabotropic glutamate receptor antagonists
DE10102084B4 (de) 2001-01-18 2006-06-29 Wella Ag 1,4-Diamino-2-(thiazol-2-yl)-benzol-Derivate enthaltende Haarfärbemittel
US7056917B2 (en) * 2001-04-26 2006-06-06 Daiichi Pharmaceutical Co., Ltd. Drug efflux pump inhibitor
CA2665516A1 (en) * 2001-04-26 2002-11-07 Daiichi Pharmaceutical Co., Ltd. Drug efflux pump inhibitor
US7163952B2 (en) * 2001-12-03 2007-01-16 Japan Tobacco Inc. Azole compound and medicinal use thereof
FR2835254B1 (fr) * 2002-01-25 2006-04-07 Sod Conseils Rech Applic Derives de thiazoles dans le traitement de maladies neurologiques
US6822097B1 (en) * 2002-02-07 2004-11-23 Amgen, Inc. Compounds and methods of uses
AR038703A1 (es) 2002-02-28 2005-01-26 Novartis Ag Derivados de 5-feniltiazol y uso como inhibidor de quinasa p i 3
CA2483771A1 (en) * 2002-04-30 2004-03-25 Merck & Co., Inc. Aryl-link-aryl substituted thiazolidine-dione and oxazolidine-dione as sodium channel blockers
JP2005530800A (ja) * 2002-05-15 2005-10-13 スミスクライン・ビーチャム・コーポレイション ベンゾオキサジンおよびベンゾオキサジノン置換トリアゾール
US20040044220A1 (en) * 2002-08-22 2004-03-04 University Of Florida Antioxidant and radical scavenging activity of synthetic analogs of desferrithiocin
AU2003263948A1 (en) * 2002-08-22 2004-03-11 University Of Florida Antioxidant and radical scavenging activity of synthetic analogs of desferrithiocin
DE20301728U1 (de) 2002-10-11 2004-03-11 Ligand Pharmaceuticals, Inc., San Diego 5-substituierte 7,9-Difluor-5H-Chromeno(3,4-f) -Chinolin-Verbindungen als selektive Progesteronrezeptormodulator-Verbindungen
US20040147561A1 (en) * 2002-12-27 2004-07-29 Wenge Zhong Pyrid-2-one derivatives and methods of use
JP3819415B2 (ja) * 2003-04-09 2006-09-06 日本たばこ産業株式会社 複素芳香５員環化合物及びその医薬用途
WO2005034949A1 (en) * 2003-09-09 2005-04-21 University Of Florida Desferrithiocin derivatives and their use as iron chelators
BRPI0510095A (pt) * 2004-04-20 2007-10-16 Transtech Pharma Inc tiazol substituìdo e derivados de pirimidina como moduladores de receptores de melanocortina
MX2007012226A (es) 2005-04-04 2007-12-10 Univ Florida Analogos de polieter de desferritiocina.
TW200732331A (en) * 2005-12-28 2007-09-01 Takeda Pharmaceuticals Co Fused heterocyclic compound and use thereof
TWI436761B (zh) 2006-06-19 2014-05-11 Otsuka Pharma Co Ltd 使用噻唑衍生物之方法
MX2008016123A (es) 2006-07-05 2009-01-15 Nycomed Gmbh Combinacion de inhibidores de reductasa hmg-coa con inhibidores de fosfodiesterasa 4 para el tratamiento de enfermedades inflamatorias pulmonares.
WO2008021338A2 (en) 2006-08-15 2008-02-21 Wyeth Tricyclic oxazolidone derivatives useful as pr modulators
US7652018B2 (en) 2006-08-15 2010-01-26 Wyeth Llc Imidazolidin-2-one derivatives useful as PR modulators
WO2008021337A1 (en) 2006-08-15 2008-02-21 Wyeth Oxazinan-2-one derivatives useful as pr modulators
US7649007B2 (en) 2006-08-15 2010-01-19 Wyeth Llc Oxazolidine derivatives as PR modulators
TW200815428A (en) 2006-08-15 2008-04-01 Wyeth Corp Oxazolidone derivatives as PR modulators
US9233941B2 (en) 2007-02-02 2016-01-12 Baylor College Of Medicine Methods and compositions for the treatment of body weight related disorders
AU2008214095B2 (en) 2007-02-02 2014-07-10 Baylor College Of Medicine Compositions and methods for the treatment of metabolic disorders
US9212179B2 (en) 2007-02-02 2015-12-15 Baylor College Of Medicine Compositions and methods for the treatment of metabolic disorders
US9085566B2 (en) 2007-02-02 2015-07-21 Baylor College Of Medicine Compositions and methods for the treatment of metabolic and related disorders
US9187485B2 (en) 2007-02-02 2015-11-17 Baylor College Of Medicine Methods and compositions for the treatment of cancer and related hyperproliferative disorders
EP2137170B1 (en) 2007-03-15 2016-03-09 University of Florida Research Foundation, Inc. Desferrithiocin polyether analogues
US8822513B2 (en) 2010-03-01 2014-09-02 Gtx, Inc. Compounds for treatment of cancer
US9447049B2 (en) 2010-03-01 2016-09-20 University Of Tennessee Research Foundation Compounds for treatment of cancer
US9029408B2 (en) 2008-06-16 2015-05-12 Gtx, Inc. Compounds for treatment of cancer
US8563742B2 (en) * 2008-08-29 2013-10-22 High Point Pharmaceuticals, Llc Substituted aminothiazole derivatives, pharmaceutical compositions, and methods of use
CA2740484C (en) * 2008-10-17 2021-09-21 Akaal Pharma Pty Ltd S1p receptors modulators and their use thereof
US9181182B2 (en) 2008-10-17 2015-11-10 Akaal Pharma Pty Ltd S1P receptors modulators
AU2010347233B2 (en) 2010-03-01 2015-06-18 Oncternal Therapeutics, Inc. Compounds for treatment of cancer
US8937065B2 (en) * 2011-06-07 2015-01-20 Clevexel Pharma Compositions and methods for modulating a kinase
WO2012170371A1 (en) * 2011-06-10 2012-12-13 N30 Pharmaceuticals, Llc Compounds as s-nitrosoglutathione reductase inhibitors
AU2012352025B2 (en) 2011-12-16 2018-01-18 University Of Florida Research Foundation, Inc. Uses of 4'-desferrithiocin analogs
EP2888254B1 (en) * 2012-08-23 2016-10-05 The Institute of Cancer Research: Royal Cancer Hospital Fused heterocyclic compounds and their use
WO2014074926A1 (en) * 2012-11-09 2014-05-15 Rutgers, The State University Of New Jersey Therapeutic hydroxyquinolones
JP6835472B2 (ja) 2013-03-05 2021-02-24 ユニバーシティ オブ テネシー リサーチ ファウンデーション 癌の処置のための組成物
US9408796B2 (en) 2013-03-13 2016-08-09 Avon Products, Inc Cosmetic compositions for improving the appearance of skin
WO2015077655A1 (en) 2013-11-22 2015-05-28 University Of Florida Research Foundation, Inc. Desferrithiocin analogs and uses thereof
WO2016176343A1 (en) 2015-04-27 2016-11-03 University Of Florida Research Foundation, Incorporated Metabolically programmed metal chelators and uses thereof

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4615935B1 (ja) * 1968-12-16 1971-04-30
JPS6110557A (ja) * 1984-02-22 1986-01-18 メルク・パテント・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング 新規なピリドン化合物
JPS62252780A (ja) * 1986-01-16 1987-11-04 Hisamitsu Pharmaceut Co Inc 新規なインデノチアゾ−ル誘導体及びその製造法

Family Cites Families (82)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1970656A (en) * 1931-11-04 1934-08-21 Winthrop Chem Co Inc Thiazole compound and process of producing the same
BE623714A (ja) * 1961-10-19
JPS3910130B1 (ja) * 1962-05-10 1964-06-10
US3320270A (en) * 1963-10-08 1967-05-16 Tri Kem Corp Certain 2-acylimidothiazole compounds
US3401120A (en) * 1965-10-23 1968-09-10 Gaf Corp Corrosion inhibitors
GB1139940A (en) * 1966-09-30 1969-01-15 Ici Ltd Oxazole derivatives
DE1670383A1 (de) * 1966-09-14 1970-10-29 Ciba Geigy Neue Tetrahydroimidazole und Verfahren zu ihrer Herstellung
US3462448A (en) * 1966-10-27 1969-08-19 Dow Chemical Co Substituted phenyl thiazole compounds
IL28803A (en) * 1966-11-18 1974-05-16 Wyeth John & Brother Ltd Oxazole and thiazole compounds,their preparation and pharmaceutical compositions containing them
GB1226548A (ja) * 1967-06-14 1971-03-31 Wyeth John & Brother Ltd
GB1245087A (en) * 1967-10-26 1971-09-02 Wyeth John & Brother Ltd Heterocyclic compounds
US3625999A (en) * 1968-02-19 1971-12-07 Lever Brothers Ltd Process for the preparation of phosphonium sulfonate salts
FR96117E (fr) * 1968-03-28 1972-05-19 Aquitaine Petrole Synthese d'oxazoles.
CY800A (en) * 1968-04-09 1976-12-01 Wyeth John & Brother Ltd Novel thiazoline derivatives, the preparation thereof and compositions containing the same
US4001420A (en) * 1968-12-12 1977-01-04 Science Union Et Cie, Societe Francaise De Recherche Medical Thiazolyl benzoic acid compounds
US3635999A (en) 1969-03-25 1972-01-18 Aquitaine Petrole Synthesis of oxazoles
US3705153A (en) * 1969-05-14 1972-12-05 Sumitomo Chemical Co Novel thiazolyacetic acids and salts thereof
JPS4637822B1 (ja) * 1969-05-31 1971-11-08
JPS4624696B1 (ja) * 1969-06-30 1971-07-15
FR2082164A5 (en) * 1970-03-05 1971-12-10 Aries Robert Phenylalkyl esters of oxazolyl and thiazolyl carboxylic - acids - analgesics, antiinflammatories, tranquilisers
GB1308028A (en) * 1970-06-12 1973-02-21 Science Union & Cie Thiazolylbenzoic acid derivatives and a process for their manufactur
DE2048272C3 (de) * 1970-10-01 1974-10-17 Dynamit Nobel Ag, 5210 Troisdorf Verfahren zur Herstellung von 1,1,2-Trimethoxyäthanund o-Essigsäuremethylester
CA962269A (en) * 1971-05-05 1975-02-04 Robert E. Grahame (Jr.) Thiazoles, and their use as insecticides
GB1381860A (en) * 1971-06-03 1975-01-29 Wyeth John & Brother Ltd Tetrazole derivatives
JPS471469A (ja) * 1971-06-22 1972-01-25
DE2152367C2 (de) * 1971-10-21 1985-01-03 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Verfahren zur Herstellung von 4- Methyl-oxazolen
BE791087A (fr) * 1971-11-15 1973-03-01 Lepetit Spa Oxazoles 2,4,5-trisubstitues et leur preparation
BE794096A (fr) * 1972-08-07 1973-05-16 Lepetit Spa Oxazoles 2,4,5-trisubstitues et leur preparation
JPS4938268A (ja) * 1972-08-16 1974-04-09
JPS4938267A (ja) * 1972-08-18 1974-04-09
JPS5327586B2 (ja) * 1972-08-23 1978-08-09
JPS503315A (ja) * 1973-05-10 1975-01-14
US4072689A (en) * 1973-02-22 1978-02-07 Gruppo Lepetit S.P.A. Monoamino 2,4,5-trisubstituted oxazoles
JPS5030619A (ja) * 1973-07-23 1975-03-26
HU168036B (ja) * 1973-11-09 1976-02-28
DE2711655A1 (de) * 1977-03-17 1978-09-21 Basf Ag Pyridinyl-aminoalkylaether
US4259341A (en) * 1977-06-01 1981-03-31 Merck & Co., Inc. Di- and tri-substituted thiazoles
US4153703A (en) * 1977-06-30 1979-05-08 Uniroyal, Inc. Method of controlling insects and acarids with certain aryl-substituted thiazoles
JPS5461936A (en) * 1977-10-26 1979-05-18 Ricoh Co Ltd Photoreceptor for electrophotography
JPS6051475B2 (ja) * 1977-11-08 1985-11-14 久光製薬株式会社 新規なフエニル酢酸誘導体
GB1574583A (en) * 1978-02-09 1980-09-10 Wyeth John & Brother Ltd Process for preparing thiazoles
US4267179A (en) * 1978-06-23 1981-05-12 Janssen Pharmaceutica, N.V. Heterocyclic derivatives of (4-phenylpiperazin-1-yl-aryloxymethyl-1,3-dioxolan-2-yl)methyl-1H-imidazoles and 1H-1,2,4-triazoles
US4221584A (en) * 1979-02-09 1980-09-09 Chevron Research Company Herbicidal and plant-growth-regulating N-(heterocyclyl)-methylacetanilides
JPS55111418A (en) * 1979-02-21 1980-08-28 Santen Pharmaceut Co Ltd Remedy for eye disease and its preparation
NZ193011A (en) * 1979-03-19 1983-03-15 Ici Australia Ltd Diarylamine derivatives intermediates herbicidal compositions
AU534093B2 (en) * 1979-03-19 1984-01-05 Ici Australia Limited Thiazoles,benzthiazoles, benzoxazoles and benzimidazoles
JPS55133366A (en) * 1979-04-05 1980-10-17 Otsuka Pharmaceut Factory Inc Thiazole derivative
US4298743A (en) * 1979-09-11 1981-11-03 Merck & Co., Inc. 4-(Substituted phenyl thiazolyl)-3-hydroxy-3-pyrroline-2,5-diones
JPS56123544A (en) * 1980-03-03 1981-09-28 Hitachi Ltd Composite type electrophotographic plate and electrophotographic method using it
US4322428A (en) * 1980-04-02 1982-03-30 Eli Lilly And Company 2(4-Fluorophenyl)-4,5,-bis(4-methoxyphenyl)thiazole and method of use
ZA811691B (en) * 1980-04-03 1982-10-27 Wyeth John & Brother Ltd Thiazoles
US4329459A (en) * 1980-05-05 1982-05-11 The Upjohn Company Tetrahydrobenzopyran derivatives
US4282364A (en) * 1980-05-22 1981-08-04 Merck & Co., Inc. Process for the preparation of thiazoles
JPS58120257A (ja) * 1982-01-12 1983-07-18 Hitachi Chem Co Ltd 電子写真感光体
DD204094A1 (de) * 1982-02-11 1983-11-16 Horst Hartmann Verfahren zur herstellung von 2-aryl-4-cumaryl-(3')- bzw. 2,4-bis-cumaryl-(3')-thiazolen
JPS58201771A (ja) * 1982-05-19 1983-11-24 Tanabe Seiyaku Co Ltd アルキルオキサゾリル酢酸誘導体
JPS58219169A (ja) * 1982-06-15 1983-12-20 Takeda Chem Ind Ltd オキサゾ−ル酢酸誘導体
JPS5925380A (ja) * 1982-06-30 1984-02-09 Hisamitsu Pharmaceut Co Inc 新規なフエニル酢酸誘導体
JPS5925381A (ja) * 1982-06-30 1984-02-09 Hisamitsu Pharmaceut Co Inc 新規なフエニル酢酸誘導体
US4659657A (en) * 1982-12-24 1987-04-21 Bayer Aktiengesellschaft Chromogenic and fluorogenic esters for photometric or fluorimetric determination of phosphatases or sulphatases
JPS6058981A (ja) * 1983-09-09 1985-04-05 Takeda Chem Ind Ltd ５−ピリジル−１，３−チアゾ−ル誘導体，その製造法およびそれを含んでなる医薬組成物
JPS6051111A (ja) * 1983-08-30 1985-03-22 Tanabe Seiyaku Co Ltd 抗脂血剤
JPS60151045A (ja) * 1984-01-19 1985-08-08 富士写真フイルム株式会社 感光材料用包装材料
JPS61200985A (ja) * 1985-02-28 1986-09-05 Kanebo Ltd 新規なジフエニルピロリルチアゾ−ル誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする医薬組成物
JPS6133186A (ja) * 1984-07-25 1986-02-17 Kanebo Ltd 新規なジフエニルピロリルチアゾ−ル誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする医薬組成物
JPS60222481A (ja) * 1984-04-19 1985-11-07 Kanebo Ltd 新規なジフエニルピロリルチアゾ−ル誘導体、その製造法およびそれを有効成分とする医薬組成物
US4659726A (en) * 1984-04-19 1987-04-21 Kanebo, Ltd. Novel 4,5-Bis (4-methoxyphenyl)-2-(pyrrol-2-yl) thiazoles and pharmaceutical composition containing the same
JPS60230147A (ja) * 1984-04-27 1985-11-15 Ricoh Co Ltd 電子写真製版用印刷原版
DE3425118A1 (de) * 1984-07-07 1986-01-16 Boehringer Mannheim Gmbh, 6800 Mannheim Neue redox-indikatoren
JPS6123790A (ja) * 1984-07-12 1986-02-01 Hitachi Cable Ltd ＮｉまたはＮｉ合金表面へのメツキ方法
DE3501696A1 (de) * 1985-01-19 1986-07-24 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Pyridopyrimidine, mehrere verfahren zu ihrer herstellung sowie ihre verwendung als arzneimittel
DE3525689C1 (de) * 1985-07-18 1986-10-30 Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V., 3400 Göttingen Verfahren und Einrichtung zum Betrieb eines mit einer Protonenuebertragungsreaktion arbeitenden Farbstoff-Lasers
DE3601411A1 (de) * 1986-01-20 1987-07-23 Nattermann A & Cie 3-amino-1-(2-thiazolyl)-2-pyrazoline, verfahren zu ihrer herstellung und diese enthaltende pharmazeutische praeparate
WO1987006429A1 (en) * 1986-04-30 1987-11-05 Fmc Corporation Photoactive azole pesticides
JPH075579B2 (ja) * 1986-09-01 1995-01-25 吉富製薬株式会社 アミノチアゾ−ル化合物
JPS63192755A (ja) * 1987-02-06 1988-08-10 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd ２−フエニルアゾ−ル誘導体およびその塩
US4791200A (en) * 1987-06-22 1988-12-13 Ortho Pharmaceutical Corporation 2-substituted-4-aryl-substituted thiazoles
JPS6422861A (en) * 1987-07-18 1989-01-25 Kirin Brewery New substance ag55-2
MY104933A (en) * 1987-09-30 1994-07-30 Pfizer Ltd Platelet activating factor antagonists
JPH02171280A (ja) * 1988-12-26 1990-07-02 Agency Of Ind Science & Technol インクジェット用蛍光性インク組成物
DE3929233A1 (de) 1989-09-02 1991-03-07 Bayer Ag 5-heterocyclyl-pyridin-3-carbon-benzylamide und -anilide
AU621245B2 (en) * 1989-10-17 1992-03-05 Boehringer Mannheim Gmbh Hydrolase substrates, a process for the preparation thereof and agents containing them

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4615935B1 (ja) * 1968-12-16 1971-04-30
JPS6110557A (ja) * 1984-02-22 1986-01-18 メルク・パテント・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング 新規なピリドン化合物
JPS62252780A (ja) * 1986-01-16 1987-11-04 Hisamitsu Pharmaceut Co Inc 新規なインデノチアゾ−ル誘導体及びその製造法

Cited By (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09255678A (ja) * 1996-03-25 1997-09-30 Otsuka Pharmaceut Co Ltd チアゾール誘導体−金属錯体
JP2005002132A (ja) * 1996-09-30 2005-01-06 Otsuka Pharmaceut Co Ltd サイトカイン産生抑制剤及び接着抑制剤
JPH10152437A (ja) * 1996-09-30 1998-06-09 Otsuka Pharmaceut Co Ltd サイトカイン産生抑制剤及び接着抑制剤
JP2006083192A (ja) * 1996-09-30 2006-03-30 Otsuka Pharmaceut Co Ltd サイトカイン異常産生又は接着作用の亢進に伴う疾患を予防又は治療するための薬剤
JP2002512235A (ja) * 1998-04-17 2002-04-23 ベーリンガー インゲルハイム ファルマ コマンディトゲゼルシャフト 新規ジフェニル置換５員環複素環化合物、それらの製造方法及び薬物としてのそれらの使用
JP2000229920A (ja) * 1999-02-12 2000-08-22 Otsuka Pharmaceut Co Ltd アミド誘導体の製造方法
JP2000281664A (ja) * 1999-03-30 2000-10-10 Otsuka Pharmaceut Co Ltd チアゾール誘導体
JP2001131151A (ja) * 1999-11-02 2001-05-15 Shionogi & Co Ltd オレフィン誘導体の新規用途
JP2002234843A (ja) * 2000-12-08 2002-08-23 Takeda Chem Ind Ltd ３−ピリジル基を有する置換チアゾール誘導体、その製造法および用途
US7932276B2 (en) 2001-07-24 2011-04-26 Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. Agent for curing chronic obstructive pulmonary disease
US8124625B2 (en) 2001-09-14 2012-02-28 Shionogi & Co., Ltd. Method of enhancing the expression of apolipoprotein AI using olefin derivatives
US8053445B2 (en) 2001-09-14 2011-11-08 Shionogi & Co., Ltd. Utilities of olefin derivatives
WO2005007160A1 (en) * 2003-07-17 2005-01-27 Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. Enema preparation
WO2005111007A1 (ja) * 2004-05-17 2005-11-24 Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. チアゾール化合物及びその用途
US8450352B2 (en) 2004-05-17 2013-05-28 Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. Thiazole compounds and their use for inhibiting phosphodiesterase 4, TNF-α, and IL-4
US7655680B2 (en) 2004-05-17 2010-02-02 Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. Thiazole compound and use thereof
JPWO2007043400A1 (ja) * 2005-10-07 2009-04-16 キッセイ薬品工業株式会社 含窒素芳香族複素環化合物およびそれを含有する医薬組成物
WO2007043400A1 (ja) * 2005-10-07 2007-04-19 Kissei Pharmaceutical Co., Ltd. 含窒素芳香族複素環化合物およびそれを含有する医薬組成物
JP5222561B2 (ja) * 2005-10-07 2013-06-26 キッセイ薬品工業株式会社 含窒素芳香族複素環化合物およびそれを含有する医薬組成物
EP2311833A1 (en) 2006-03-17 2011-04-20 Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. Tetomilast polymorphs
EP2311832A1 (en) 2006-03-17 2011-04-20 Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. Tetomilast polymorphs
JP2008285498A (ja) * 2006-03-17 2008-11-27 Otsuka Pharmaceut Co Ltd 新規なテトミラスト結晶、該結晶の製造方法及び医薬組成物
JP2007277235A (ja) * 2006-03-17 2007-10-25 Otsuka Pharmaceut Co Ltd 新規なテトミラスト結晶、該結晶の製造方法及び医薬組成物
US10827753B2 (en) 2007-08-13 2020-11-10 Monsanto Technology Llc Compositions and methods for controlling nematodes
US8435999B2 (en) 2007-08-13 2013-05-07 Monsanto Technology Llc Compositions and methods for controlling nematodes
US10112930B2 (en) 2007-08-13 2018-10-30 Monsanto Technology Llc Compositions and methods for controlling nematodes
US9125410B2 (en) 2007-08-13 2015-09-08 Monsanto Technology Llc Compositions and methods for controlling nematodes
US9420788B2 (en) 2007-08-13 2016-08-23 Monsanto Technology Llc Compositions and methods for controlling nematodes
US10375958B2 (en) 2007-08-13 2019-08-13 Monsanto Technology Llc Compositions and methods for controlling nematodes
US9642364B2 (en) 2007-08-13 2017-05-09 Monsanto Technology Llc Compositions and methods for controlling nematodes
JP2015129152A (ja) * 2007-09-06 2015-07-16 ボストン バイオメディカル， インコーポレイテッド キナーゼ阻害剤の組成物ならびに癌およびキナーゼに関連する他の疾患の治療のためのそれらの使用
JP2011524422A (ja) * 2008-06-16 2011-09-01 ユニバーシティ オブ テネシー リサーチ ファウンデーション 癌を処置するための化合物
JP2012162541A (ja) * 2008-06-16 2012-08-30 Univ Of Tennessee Research Foundation 癌を処置するための化合物
JP2016534124A (ja) * 2013-08-29 2016-11-04 ベイラー カレッジ オブ メディスンＢａｙｌｏｒ Ｃｏｌｌｅｇｅ Ｏｆ Ｍｅｄｉｃｉｎｅ 代謝並びに体重関連疾患の処置のための組成物および方法
JP2018505860A (ja) * 2014-12-19 2018-03-01 ガルデルマ・リサーチ・アンド・デヴェロップメント 新規化合物、その合成方法、並びに医薬品及び化粧品におけるその使用
US10647688B2 (en) 2014-12-19 2020-05-12 Galderma Research & Development Compounds, synthesis method thereof and use of same in medicine and in cosmetics

Also Published As

Publication number Publication date
DE69133471D1 (de) 2005-07-21
ES2173683T3 (es) 2002-10-16
DK1130017T3 (da) 2005-10-10
CA2074933A1 (en) 1992-05-31
CA2547947C (en) 2007-09-25
JPH10101562A (ja) 1998-04-21
DE69132944T2 (de) 2002-11-21
KR100195433B1 (ko) 1999-06-15
CA2396738A1 (en) 1992-06-25
US5643932A (en) 1997-07-01
EP1130017A2 (en) 2001-09-05
EP0513387A4 (en) 1993-04-21
WO1992009586A1 (en) 1992-06-11
DE69132944D1 (de) 2002-04-04
DE69133471T2 (de) 2006-05-11
EP0934937B1 (en) 2002-02-27
HK1003938A1 (en) 1998-11-13
US5677319A (en) 1997-10-14
US6080764A (en) 2000-06-27
CA2547947A1 (en) 1992-06-25
EP0934937A1 (en) 1999-08-11
KR927003551A (ko) 1992-12-18
DK0934937T3 (da) 2002-04-02
DE69132006T2 (de) 2000-08-03
AU656930B2 (en) 1995-02-23
CA2074933C (en) 2002-12-03
ES2245660T3 (es) 2006-01-16
TW311136B (ja) 1997-07-21
KR100249545B1 (en) 2000-04-01
EP1130017A3 (en) 2001-09-19
EP1130017B1 (en) 2005-06-15
EP0513387A1 (en) 1992-11-19
DK0513387T3 (da) 2000-06-05
JP2829451B2 (ja) 1998-11-25
AU8936791A (en) 1992-06-25
USRE37556E1 (en) 2002-02-19
JP3182556B2 (ja) 2001-07-03
EP0513387B1 (en) 2000-03-01
DE69132006D1 (de) 2000-04-06
CA2396738C (en) 2006-08-29
ES2144403T3 (es) 2000-06-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2829451B2 (ja) 活性酸素抑制剤
US10822343B2 (en) Imidazothiadiazole and imidazopyrazine derivatives as protease activated receptor4 (PAR4) inhibitors for treating platelet aggregation
EP0858452B1 (en) Thiazole derivative as protein kinase c inhibitors
JP5597542B2 (ja) Ｓｃｄ阻害薬としてのトリアゾール誘導体
TW201811748A (zh) 吡啶酮醯胺類衍生物、其製備方法及其在醫藥上的應用
RU2379298C2 (ru) Соединение тиазола и его применение
KR0183043B1 (ko) 피라진 유도체
KR20010012926A (ko) 신규한 사이클릭 디아민 화합물 및 그것을 포함하는 의약
WO2021055589A1 (en) Heteroaryl plasma kallikrein inhibitors
CA3226869A1 (en) Substituted pyridine derivatives as sarm1 inhibitors
US5639770A (en) Thiazole derivatives
AU657413B2 (en) Thiazole derivatives for the release of superoxide radical
JP3385387B2 (ja) チアゾール誘導体
JPH11222431A (ja) 医薬組成物
US20240092770A1 (en) Heterocycle RMB39 Modulators
JPH1095777A (ja) チアゾール誘導体
CN116531373A (zh) 噻唑类化合物、其药物组合物及应用
JPH09255678A (ja) チアゾール誘導体−金属錯体
EP1802599A2 (en) Heteroaryl-containing isoflavones as aromatase inhibitors

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070925

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100925

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120925

Year of fee payment: 14

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120925

Year of fee payment: 14