JP2000281664A - チアゾール誘導体 - Google Patents

チアゾール誘導体

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JP2000281664A
JP2000281664A JP11088333A JP8833399A JP2000281664A JP 2000281664 A JP2000281664 A JP 2000281664A JP 11088333 A JP11088333 A JP 11088333A JP 8833399 A JP8833399 A JP 8833399A JP 2000281664 A JP2000281664 A JP 2000281664A
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compound
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lower alkyl
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JP11088333A
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English (en)
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Noriyuki Matsuzaki
敬之 松▲崎▼
Masatoshi Chihiro
正利 千尋
Hiroshi Yamashita
博司 山下
Muneaki Kurimura
宗明 栗村
Toyoki Mori
豊樹 森
Kazuyoshi Kitano
和良 北野
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Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Otsuka Pharmaceutical Co Ltd
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  • Thiazole And Isothizaole Compounds (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、好中球からの活性酸素の放出を抑
制する作用、サイトカイン産生抑制作用、接着抑制作用
等を有する新規チアゾール誘導体を提供することを課題
とする。 【解決手段】 本発明のチアゾール誘導体は、一般式 【化1】 〔式中、R1はフェニル環上に置換基として低級アルコ
キシ基及び低級アルコキシ置換低級アルキル基なる群よ
り選ばれる基を1〜3個有することのあるフェニル基等
を示す。R2はフリル環上に置換基として低級アルコキ
シ置換低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基及
びカルボキシ基なる群より選ばれる基を有するフリル基
等を示す。〕で表される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なチアゾール
誘導体に関する。
【0002】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、医薬品とし
て有用な新規チアゾール誘導体を提供することを課題と
する。
【0003】
【課題を解決するための手段】本発明のチアゾール誘導
体は、文献未記載の新規化合物であって、下記一般式
(1)で表される。
【0004】
【化4】
【0005】〔式中、R1はフェニル環上に置換基とし
て低級アルコキシ基及び低級アルコキシ置換低級アルキ
ル基なる群より選ばれる基を1〜3個有することのある
フェニル基又はフェニル環上に置換基として低級アルキ
レンジオキシ基を有するフェニル基を示す。
【0006】R2はフリル環上に置換基として低級アル
コキシ置換低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル
基及びカルボキシ基なる群より選ばれる基を有するフリ
ル基、ピロリル環上に置換基として低級アルコキシ置換
低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基及びカル
ボキシ基なる群より選ばれる基を有するピロリル基、チ
エニル環上に置換基として低級アルコキシ置換低級アル
キル基、低級アルコキシカルボニル基及びカルボキシ基
なる群より選ばれる基を有するチエニル基、ピリジル環
上に置換基として低級アルコキシ置換低級アルキル基、
低級アルコキシカルボニル基及びカルボキシ基なる群よ
り選ばれる基を有するピリジル基、又は基
【0007】
【化5】
【0008】を示す。
【0009】ここで、R3は低級アルコキシカルボニル
基又はカルボキシ基を示す。R4は低級アルコキシ基を
示す。R5は水素原子、アジド置換低級アルキル基、水
酸基置換低級アルケニル基、シアノ置換低級アルキル
基、低級アルコキシ置換低級アルキル基、低級アルキル
チオ置換低級アルキル基、低級アルキルスルホニル置換
低級アルキル基、ピロリジン環上に置換基として低級ア
ルキルカルボニル基及びカルボキシ基なる群より選ばれ
る基を有するピロリジニル基置換低級アルキル基、基−
A−NR67(Aは置換基として水酸基を有する低級ア
ルキレン基を示す。R6及びR7は、同一又は異なって、
水素原子又は低級アルキル基を示す。)、基−Z−NR
89(Zは低級アルキレン基又は基−CO−を示す。R
8及びR9は、同一又は異なって、水素原子、低級アルコ
キシ基、置換基として水酸基を有することのある低級ア
ルキル基、置換基として低級アルキル基又は低級アルコ
キシカルボニル基を有することのあるアミノ基、水酸
基、低級アルキルスルホニル基、置換基として低級アル
キル基を有することのあるアミノカルボニル基、シアノ
置換低級アルキル基、低級アルケニル基、シクロアルキ
ル基又はハロゲン置換低級アルキル基を示す。)、オキ
シラニル基、又は基−CH=N−R10(R10は、水酸
基、低級アルコキシ基又は置換基として低級アルキル基
を有することのあるアミノ基を示す。)を示す。
【0010】但し、R2がフリル環上に置換基として低
級アルコキシカルボニル基及びカルボキシ基なる群より
選ばれる基を有するフリル基、ピロリル環上に置換基と
して低級アルコキシカルボニル基及びカルボキシ基なる
群より選ばれる基を有するピロリル基、チエニル環上に
置換基として低級アルコキシカルボニル基及びカルボキ
シ基なる群より選ばれる基を有するチエニル基、ピリジ
ル環上に置換基として低級アルコキシカルボニル基及び
カルボキシ基なる群より選ばれる基を有するピリジル基
を示すか、或いはR2が基
【0011】
【化6】
【0012】を示し、且つR3が低級アルコキシカルボ
ニル基又はカルボキシ基、R4が低級アルコキシ基、R5
が水素原子を示す場合には、R1はフェニル環上に置換
基として低級アルコキシ基を1〜3個有することのある
フェニル基又はフェニル環上に置換基として低級アルキ
レンジオキシ基を有するフェニル基であってはならな
い。〕 好中球は、生体に於いて侵入した外敵に対し、遊走反
応、貧食作用、活性酸素O2 -の産生、リソゾーム酵素の
放出によって殺菌作用を示し、生体防御で重要な役割を
担っていると考えられている。ところが、この生体防御
反応と共に、各組織の虚血、及びそれに引き続く血液の
再灌流時、或いは急性期の炎症時において組織或いは好
中球が放出する活性酵素が、細胞を破壊し組織機能に障
害を与えるということが、明らかにされてきている〔B.
R.Lucchesi,アニュアル レビューオブ ファーマコロ
ジー アンド トキシコロジー(Ann.Rev.Pharmacol.To
xicol.),26,201(1986);B.A.Freeman et al., ラボラ
トリー インベスティゲーション(Laboratory Investi
gation),47,412(1982);E.Braunwald.,R.A.Kloner,ジ
ャーナル オブ クリニカル インベスティゲーション
(J.Clin. Invest.),76,1713(1985);J.L.Romson et a
l.,サーキュレーション(Circulation),67,1016(198
3)〕。
【0013】上記一般式(1)で表されるチアゾール誘
導体又はその塩は、好中球からの活性酸素の放出を抑制
し、又は活性酸素種(ラジカル)を除去(スカベンジ)
する活性を有する。従って、過酸化脂質の生体内生成を
防止する作用及びこれを低下させる作用を発揮する。
【0014】従って、本発明の化合物は、上記活性酸素
種の過剰発生、過酸化脂質の生体内蓄積、或いはこれら
に対する防御機構の欠損に起因する各種障害乃至疾患の
予防及び治療剤として有用である。より具体的には、本
発明の化合物は、虚血及び血液再開通に伴う障害から各
種組織細胞を保護するような薬剤、例えばストレス性潰
瘍等の消化器性潰瘍に対する治療剤;心筋梗塞・不整脈
等の心臓虚血疾患に対する治療剤;脳出血・脳梗塞・一
過性脳虚血発作等の脳血管疾患に対する治療剤;移植・
微小循環不全等による障害に対する肝及び腎機能改善
剤;又は、虚血以外の原因で異常に発生した活性酸素に
よると考えられる各種細胞障害を抑制する様な薬剤、例
えばベーチェット病、皮膚血管炎、潰瘍性大腸炎、悪性
リウマチ、関節炎、動脈硬化、糖尿病、成人呼吸窮迫症
候群(Adult Respinatory DistressSyndrom、ARD
S)等の治療剤として医薬品分野で有用である。
【0015】また、上記一般式(1)で表されるチアゾ
ール誘導体又はその塩は、サイトカイン産生抑制作用、
特にTNF−α産生抑制作用、及び接着抑制作用を有す
る。
【0016】生体の免疫応答、炎症反応、造血反応等の
生体機能の発現を抑制する蛋白因子として数多くのサイ
トカインが発見され、その構造や作用が解明されるにつ
れて、該サイトカインの作用が免疫系に限らず、生体の
様々な機能に影響を及ぼし、生体の発生、分化、恒常性
維持や病態生理とも関連深いことが明らかにされつつあ
る。
【0017】サイトカインとしては、TNF−α、IL
−1β、IL−6、IFN−γ等多数知られており、各
種薬理作用を有することも知られている。
【0018】上記サイトカインの内でTNF(Tumor Ne
crosis Factor:腫瘍壊死因子)−αは、抗腫瘍性のサイ
トカインとして発見され、抗癌剤として期待されたが、
その後、悪液質誘発因子であるカケクチンと同一である
ことが判明し、IL−1等の他のサイトカインの産生刺
激作用や、線維芽細胞に対する増殖作用、エンドトキシ
ンショック誘発作用、内皮細胞の白血球接着蛋白である
ICAM−1、ICAM−2(Intercellular adhesion
molecules)、ELAM(Endothelial Leukocyte adhe
sion molecule-1 )等を増加させて白血球が内皮細胞に
付着するのを促進する作用、骨吸収の作用、軟骨破壊作
用等の関節炎の成因作用等が報告されている〔Beutler,
B., et al., Nature, 316, 552-554(1985) : Peetre,
C., et al., J.Clin.Invest.,78, 1694-1700(1986) : K
urt-Jones,E.A., et al., J.Immunol.,139, 2317-2324
(1987) : Bevilacqua,M.P., et al., Science, 241, 11
60-1165(1989) : Akatu,K. & Suda,T., Medical Practi
ce, 8 (9) 1393-1396(1991)〕。
【0019】更に、細菌や寄生虫の感染症では、血液中
や髄液中のTNFの濃度が上昇すると報告されている
〔Mituyama,M.,医学のあゆみ, 159 (8) 467-470(1991)
: Nakao,M., 医学のあゆみ, 159 (8) 471-474(1991)
〕。
【0020】また、慢性関節リウマチ(Rheumatoid Art
hritis; RA)でも、関節液中や血清中にTNF活性が認
められ、この活性はTNF−α活性であると報告されて
いる〔Saxne,T., et al., Arthritis Rheum., 31, 1041
(1988) : Chu,C.Q., et al.,Arthritis Rheum.,34, 112
5-1132(1991) : Macnaul,K.L., et al., J.Immunol., 1
45, 4154-4166(1990) : Brennan,F.M., et al., J.Immu
nol.,22, 1907-1912(1992) : Brennan,F.M., et al., B
ri.J.Rheum., 31, 293-298(1992) 〕。
【0021】また、重篤な呼吸器疾患であるARDS
(Acute Respiratory Distress Syndrom: 急性呼吸促迫
症候群)患者の喀痰中でもTNF濃度が上昇しているこ
とが報告され〔Millar,A.B., et al., Nature,324, 73
(1986)〕、ウィルス性肝炎の劇症化にもTNFが関与す
るとされている〔Muto,Y., et al., Lancet, ii, 72-74
(1986)〕。
【0022】また、急性心筋梗塞のような心筋虚血時に
血液中のTNF−αの濃度が高くなっていることが報告
されており〔Latini,R.,et.al.,J.Cardiovasc.Pharmaco
l.,23,1-6(1994)〕、このような病態におけるTNF−
αの関与が示唆されている〔Lefer,A.M.,et.al.,Scienc
e,249 ,61-64(1990)〕。更に最近、TNF−αが心筋収
縮力を抑制することが報告されている〔Finkel,M.S.,e
t.al.,Science, 257 ,387-389(1992);Pagani,D.F.,et.a
l.,J.Clin.Invest., 90,389-398(1992)〕。
【0023】しかるに、現在、上記慢性関節リウマチ、
エンドトキシンショックやARDS等の各疾患に対して
満足できる結果を奏する化学療法剤は、未だ開発されて
おらず、ステロイド剤や抗炎症剤、血小板凝集抑制剤、
抗生物質等が対症療法的に適用されているに過ぎない。
また、上記の通り、これら各疾患と、TNF−αの濃度
上昇や活性上昇とが、深い関連を持つことが示唆される
に至り、最近TNF−α抗体等のこれらの疾患治療への
適用も試みられつつあるが、これらも尚、満足な結果を
得られるには至っておらず、斯かる各疾患の治療のため
の、殊にTNF−αの過剰産生を抑制できる新しい作用
機序による薬剤の開発が当業界で要望される現状にあ
る。
【0024】IL−6は、抗原刺激により、活性化され
たB細胞は増殖し、抗体産生細胞へと分化するが、その
分化に関与するサイトカインとして知られている。
【0025】該IL−6は、B細胞の抗体産生系に重要
な役割を果たしているだけでなく、T細胞に増殖分化誘
導することや、肝細胞に作用して急性期の蛋白の合成を
誘導すること、造血系細胞に対して多分化能コロニー形
成を促すこと等、免疫系だけでなく造血系、神経系、肝
等の生体防御系の重要な因子であることが明らかであ
る。
【0026】IL−6が関与していると考えられる疾患
としては、高γグロブリン血症、慢性関節リウマチ、全
身性エリトマトーデス(SLE)等一連の自己免疫疾
患、モノクローナルB細胞異常症(ミエローマ等)、ポ
リクローナルB細胞異常症、心房粘液腫、カストルマン
(Castleman)症候群、原発性糸球体腎炎、メサンギュ
ウム増殖性腎炎、癌カヘキシー、レンネルトリンパ腫、
乾癬、エイズに伴うカポシ肉腫、閉経後骨粗しょう症等
が挙げられる。
【0027】IL−1βは多様な生理活性が知られてお
り、斯かる活性としては具体的には、腫瘍細胞抑制作
用、活性化T細胞よりのサイトカイン産生亢進作用、繊
維芽細胞、滑膜細胞及び血管内皮の増殖作用、細胞の異
化作用及び発熱作用、活性化B細胞の分化作用、NK活
性の増強作用、好中球接着作用、炎症に対する作用、放
射線障害防止作用等が挙げられる。
【0028】IL−1βの産生が亢進し、過剰に生産さ
れる状態になった場合、種々の疾患の原因となることが
考えられる。例えば、慢性関節リウマチ、種々の慢性炎
症性疾患等が挙げられる。
【0029】IFNには種々の生物活性が知られてお
り、実際、IFNは、多くの疾患で組織中や血液中に検
出される。IFNが病態形成に強く関与していると考え
られる疾患には、ウィルス感染症、ウィルス以外の微生
物による感染症、慢性関節リウマチ、SLE等の膠原
病、I型アレルギー、ブドウ膜炎、ベーチェット病、サ
ルコイドーシス、動脈硬化、糖尿病、劇症肝炎、悪性腫
瘍、川崎病、皮膚・粘膜の創傷治癒等が挙げられる〔医
学のあゆみ、174(14),p1077,1995〕。
【0030】また、好中球は生体において侵入した外敵
に対し、遊走反応、貧食作用、活性酸素の産生、リソゾ
ーム酵素の放出によって殺菌作用を発現する。ところ
が、各組織の虚血・再灌流時或いは急性の炎症時におい
て、好中球が血管内皮細胞に接着し組織に浸潤すること
が、その後の組織障害の発端となることが知られてい
る。
【0031】上記のようにサイトカインの異常産生等に
より、各種サイトカインが過剰な状態になった場合には
種々の疾患の原因となることが知られており、サイトカ
インの異常な状態を改善して各種の疾患を予防乃至治療
することが望まれている。
【0032】また、好中球の血管内皮細胞の接着による
組織障害を抑制する薬剤が望まれている。
【0033】上記一般式(1)で表されるチアゾール誘
導体及びその塩は更にサイトカイン産生抑制作用、特に
TNF−α産生抑制作用、及び接着抑制作用を有する。
【0034】従って、本発明の化合物は、サイトカイン
産生異常、特にTNF−α、IL−1β、IL−6、I
FN−γ等の産生異常に伴う各種疾患又は接着作用の亢
進状態に伴う各種疾患に有効である。特に慢性関節リウ
マチ、エンドトキシンショック、胃液等の誤飲や毒性ガ
ス又は敗血症等に起因するARDS、熱傷、喘息等の各
疾患、心筋虚血状態である心筋梗塞、ウィルス性心筋炎
の急性期、特発性拡張型心筋症、虚血性心筋症等の慢性
心不全等の予防乃至治療剤として、冠動脈バイパス手術
(CABG)時や人工心肺使用時の虚血再灌流障害、S
IRS(全身性炎症反応症候群)からの臓器不全(重症
急性膵炎、DIC等)への移行、肝臓癌等の肝切除後の
肝不全や重傷急性膵炎等に起因する多臓器不全、潰瘍性
大腸炎、クローン病等の炎症性腸疾患、高γグロブリン
血症、全身性エリトマトーデス(SLE)、多発性硬化
症等一連の自己免疫疾患、癌転移抑制、移植時による拒
絶反応抑制、モノクローナルB細胞異常症(ミエローマ
等)、ポリクローナルB細胞異常症、心房粘液腫、カス
トルマン症候群、原発性糸球体腎炎、メサンギュウム増
殖性腎炎、癌カヘキシー、レンネルトリンパ腫、乾癬、
アトピー性皮膚炎、エイズに伴うカポシ肉腫、閉経後骨
粗しょう症、糖尿病、敗血症、動脈硬化、血管炎、肝炎
等の炎症性疾患の予防乃至治療剤として、好適に使用さ
れ得る。
【0035】適応症に関する文献を以下に列挙する。 (1)移植に関する文献 (a)Kojima, Y. et al., (1993) Cardiovasc. Surg.,
1,577-582 (b)Yamataka, T et al., (1993) J. Pediatr. Sur
g., 28,1451-1457 (c)Stepkowshi, S.M. et al., (1994) J Immunol.,
153,5336-5346。 (2)喘息に関する文献 (a)Ohkawara, Y. et al., (1995) Am J. Respir. Ce
ll Mol. Biol.,12,4-12 (b)Chihara, J. et al., (1995) Immunol. Lett.,4
6,241-244 (c)Hakansson, L. et al., (1995) J. Allergy Cli
n. Immunol., 96,941-950。 (3)動脈硬化に関する文献 (a)Poston, R.N. et al., (1992) Am. J. Pathol.,
140,665-673 (b)Ross,P., (1993) Nature, 362,801-809 (c)Li, H. et al., (1993) Arterioscler. & Throm
b.,13,197-204 (d)Walpola, P.L. et al., (1995) Artherioscler.
Thromb. Vasc. Biol.,15,2-10。 (4)癌転移に関する文献 (a)Garofalo, A. et al., (1995) Cancer Res.,55,4
14-419 (b)Gardner, M.J. et al., (1995) Cancer Lett.,9
1,229-234。 (5)糖尿病に関する文献 (a)McLeod, D.S. et al., (1995) Am. J. Pathol,14
7,642-653 (b)Schmidt, A.M. et al., (1995) J. Clin. Inves
t.,96,1395-1403 (c)Jakubowski, A. et al., (1995) J.Immunol., 15
5,938-946。 (6)多発性硬化症に関する文献 (a)Dore-Duffy, P. et al., (1993) Adv.Exp. Med.
Biol.,331,243-248 (b)Mizobuchi, M. and Iwasaki, Y., (1994) Nippon
Rinsho,52,2830-2836 (c)Cannella, B. and Raine, C.S., (1995) Ann. Ne
urol.,37,424-435。 (7)多臓器不全に関する文献 (a)Law, M.M. et al., (1994) J.Trauma., 37,100-1
09 (b)Anderson, J.A. et al, (1996) J. Clin. Inves
t.,97, 1952-1959。 (8)アトピー性皮膚炎に関する文献 (a)Meng, H. et al., (1995) J. Cell Physiol., 16
5,40-53 (b)Santamaria, L.F. et al., (1995) Int. Arch. A
llergy Immunol.,107,359-362 (c)Wakita, H. et al., (1994) J.Cutan. Pathol.,
21, 33-39。 (9)乾癬に関する文献 (a)Groves, R.W. et al., (1993) J. Am. Acad. Der
matol., 29,67-72 (b)Uyemura, K., (1993) J.Invest. Dermatol.,101,
701-705 (c)Lee, M.L. et al, (1994) Australas J. Dermato
l., 35,65-70 (d)Wakita, H. and Takigawa, M., (1994) Arch. De
rmatol.,130,457-463。 (10)慢性関節リウマチに関する文献 (a)Hale, P.L. et al., (1993) Arthritis Rheum.,
32,22-30 (b)Iigo Y. et al., (1991) J.Immunol.,147,4167-4
171。 (11)急性呼吸促迫症候群に関する文献 (a) Tate, R.M. and Repine, J.E., (1983) Am. Re
v. Respir. Dis., 128,552-559 (b)Beutler, B., Milsark, I.W. and Cerami, A.C.,
(1985) Science,229,869-871 (c)Holman, R.G. and Maier, R.V., (1988) Arch.Su
rg.,123,1491-1495 (d)Windsor, A. et al, (1993) J. Clin. Invest,9
1,1459-1468 (e)van der Poll, T. and Lowry, S.F., (1995) Pro
g. Surg. Basel. Karger, 20,18-32。 (12)虚血再灌流障害に関する文献 (a)Yamazaki, T. et al., (1993) Am. J.Pathol.,14
3,410-418 (b)Vaage, J. and Valen, G., (1993) Acand. J. Th
orac. Cardiovasc. Surg. Suppl., 41 (c)McMillen, M.A. et al, (1993) Am. J. Surg.,16
6,557-562 (d)Bevilacqua, M.P. et al (1994) Annu. Rev. Me
d.,45,361-378 (e)Panes, J. and Granger, D.N., (1994) Dig. Di
s.,12,232-241。 (13)炎症性腸疾患に関する文献 (a)Mahida, Y.R. et al., (1989) Gut,30,835-838 (b)Nakamura, S. et al., (1993) Lab. Invest., 6
9,77-85 (c)Beil, W.J. et al., (1995) J. Luekocyte Bio.,
58,284-298 (d)Jones, S.C. et al., (1995) Gut, 36,724-730。 (14)SIRSに関する文献 (a)K.Mori, M.Ogawa, (1996) Molecular Medicine,
33, 9,1080-1088 (b)Dinarello, C.A. et al., (1993) JAMA,269, 182
9。
【0036】本発明の一般式(1)のチアゾール誘導体
には、下記の種々の態様の化合物が包含される。これら
の態様においてR4及びR5は、すべて前記一般式(1)
における定義と同じである。 (1)R1がフェニル環上に置換基として低級アルコキ
シ基及び低級アルコキシ置換低級アルキル基なる群より
選ばれる基を1〜3個有することのあるフェニル基を示
し、R2がフリル環上に置換基として低級アルコキシ置
換低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基及びカ
ルボキシ基なる群より選ばれる基を有するフリル基であ
る前記一般式(1)で表されるチアゾール誘導体又はそ
の塩。 (2)R1がフェニル環上に置換基として低級アルコキ
シ基及び低級アルコキシ置換低級アルキル基なる群より
選ばれる基を1〜3個有することのあるフェニル基を示
し、R2がピロリル環上に置換基として低級アルコキシ
置換低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基及び
カルボキシ基なる群より選ばれる基を有するピロリル基
である前記一般式(1)で表されるチアゾール誘導体又
はその塩。 (3)R1がフェニル環上に置換基として低級アルコキ
シ基及び低級アルコキシ置換低級アルキル基なる群より
選ばれる基を1〜3個有することのあるフェニル基を示
し、R2がチエニル環上に置換基として低級アルコキシ
置換低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基及び
カルボキシ基なる群より選ばれる基を有するチエニル基
である前記一般式(1)で表されるチアゾール誘導体又
はその塩。 (4)R1がフェニル環上に置換基として低級アルコキ
シ基及び低級アルコキシ置換低級アルキル基なる群より
選ばれる基を1〜3個有することのあるフェニル基を示
し、R2がピリジル環上に置換基として低級アルコキシ
置換低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基及び
カルボキシ基なる群より選ばれる基を有するピリジル基
である前記一般式(1)で表されるチアゾール誘導体又
はその塩。 (5)R1がフェニル環上に置換基として低級アルキレ
ンジオキシ基を有するフェニル基を示し、R2が基
【0037】
【化7】
【0038】を示し、且つR3が低級アルコキシカルボ
ニル基である前記一般式(1)で表されるチアゾール誘
導体又はその塩。 (6)R1がフェニル環上に置換基として低級アルコキ
シ基及び低級アルコキシ置換低級アルキル基なる群より
選ばれる基を1〜3個有することのあるフェニル基を示
し、R2が基
【0039】
【化8】
【0040】を示し、且つR3がカルボキシ基である前
記一般式(1)で表されるチアゾール誘導体又はその
塩。 (7)R1がフェニル環上に置換基として低級アルキレ
ンジオキシ基を有するフェニル基を示し、R2がフリル
環上に置換基として低級アルコキシ置換低級アルキル
基、低級アルコキシカルボニル基及びカルボキシ基なる
群より選ばれる基を有するフリル基である前記一般式
(1)で表されるチアゾール誘導体又はその塩。 (8)R1がフェニル環上に置換基として低級アルキレ
ンジオキシ基を有するフェニル基を示し、R2がピロリ
ル環上に置換基として低級アルコキシ置換低級アルキル
基、低級アルコキシカルボニル基及びカルボキシ基なる
群より選ばれる基を有するピロリル基である前記一般式
(1)で表されるチアゾール誘導体又はその塩。 (9)R1がフェニル環上に置換基として低級アルキレ
ンジオキシ基を有するフェニル基を示し、R2がチエニ
ル環上に置換基として低級アルコキシ置換低級アルキル
基、低級アルコキシカルボニル基及びカルボキシ基なる
群より選ばれる基を有するチエニル基である前記一般式
(1)で表されるチアゾール誘導体又はその塩。 (10)R1がフェニル環上に置換基として低級アルキ
レンジオキシ基を有するフェニル基を示し、R2がピリ
ジル環上に置換基として低級アルコキシ置換低級アルキ
ル基、低級アルコキシカルボニル基及びカルボキシ基な
る群より選ばれる基を有するピリジル基である前記一般
式(1)で表されるチアゾール誘導体又はその塩。 (11)R1がフェニル環上に置換基として低級アルキ
レンジオキシ基を有するフェニル基を示し、R2が基
【0041】
【化9】
【0042】を示し、且つR3が低級アルコキシカルボ
ニル基である前記一般式(1)で表されるチアゾール誘
導体又はその塩。 (12)R1がフェニル環上に置換基として低級アルキ
レンジオキシ基を有するフェニル基を示し、R2が基
【0043】
【化10】
【0044】を示し、且つR3がカルボキシ基である前
記一般式(1)で表されるチアゾール誘導体又はその
塩。
【0045】本明細書において示される各基は、より具
体的にはそれぞれ次の通りである。
【0046】低級アルコキシ基としては、例えばメトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、tert−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ
基等の炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基を
例示できる。
【0047】低級アルコキシ置換低級アルキル基として
は、例えばメトキシメチル、3−メトキシプロピル、エ
トキシメチル、4−エトキシブチル、6−プロポキシヘ
キシル、5−イソプロポキシペンチル、1、1−ジメチ
ル−2−ブトキシエチル、2−メチル−3−tert−ブト
キシプロピル、2−ペンチルオキシエチル、ヘキシルオ
キシメチル、1,1−ジメトキシメチル基等の炭素数1
〜6の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基が1〜2個置換し
た炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を挙げる
ことができる。
【0048】フェニル環上に置換基として低級アルコキ
シ基及び低級アルコキシ置換低級アルキル基なる群より
選ばれる基を1〜3個有することのあるフェニル基とし
ては、例えば、フェニル、2−メトキシフェニル、3−
メトキシフェニル、4−メトキシフェニル、2−エトキ
シフェニル、3−エトキシフェニル、4−エトキシフェ
ニル、4−イソプロポキシフェニル、4−ペンチルオキ
シフェニル、4−ヘキシルオキシフェニル、3,4−ジ
メトキシフェニル、3−エトキシ−4−メトキシフェニ
ル、2,3−ジメトキシフェニル、3,4−ジエトキシ
フェニル、2,5−ジメトキシフェニル、2,6−ジメ
トキシフェニル、3−プロポキシ−4−メトキシフェニ
ル、3,5−ジメトキシフェニル、3,4−ジペンチル
オキシフェニル、3,4,5−トリメトキシフェニル、
4−メトキシ−3−エトキシフェニル、3−n−プロポ
キシ−4−メトキシフェニル、2−メトキシメチルフェ
ニル、3−(3−メトキシプロピル)フェニル、4−エ
トキシメチルフェニル、2−(4−エトキシブチル)フ
ェニル、3−(6−プロポキシヘキシル)フェニル、4
−(5−イソプロポキシペンチル)フェニル、2−
(1,1−ジメチル−2−ブトキシエチル)フェニル、
3−(2−メチル−3−tert−ブトキシプロピル)フェ
ニル、4−(2−ペンチルオキシエチル)フェニル、2
−ヘキシルオキシメチルフェニル、4−メトキシ−3−
(2−メトキシエチル)フェニル、4−メトキシ−3−
(2−エトキシエチル)フェニル、4−エトキシ−3−
(2−メトキシエチル)フェニル、4−エトキシ−3−
(2−エトキシエチル)フェニル、3−メトキシ−4−
(2−メトキシエチル)フェニル、3−メトキシ−4−
(2−エトキシエチル)フェニル、3−エトキシ−4−
(2−メトキシエチル)フェニル、3−エトキシ−4−
(2−エトキシエチル)フェニル、3−エトキシ−4−
(2−メトキシエチル)フェニル、3,4−ジメトキシ
メチルフェニル、3,4,5−トリメトキシメチルフェ
ニル基等のフェニル環上に置換基として炭素数1〜6の
直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基及び炭素数1〜6の直鎖
又は分枝鎖状アルコキシ基が1〜2個置換した炭素数1
〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基なる群より選ばれる
基を1〜3個有することのあるフェニル基を挙げること
ができる。
【0049】低級アルキレンジオキシ基としては、例え
ばメチレンジオキシ、エチレンジオキシ、トリメチレン
ジオキシ、テトラメチレンジオキシ基等の炭素数1〜4
の直鎖又は分枝鎖状のアルキレンジオキシ基を挙げるこ
とができる。
【0050】フェニル環上に置換基として低級アルキレ
ンジオキシ基を有するフェニル基としては、例えば、
3,4−メチレンジオキフェニル、3,4−エチレンジ
オキシフェニル、2,3−トリメチレンジオキシフェニ
ル、3,4−テトラメチレンジオキシフェニル基等のフ
ェニル環上に置換基として炭素数1〜4の直鎖又は分枝
鎖状のアルキレンジオキシ基を有するフェニル基を例示
できる。
【0051】フリル環上に置換基として低級アルコキシ
置換低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基及び
カルボキシ基なる群より選ばれる基を有するフリル基と
しては、例えば、2−カルボキシフリル、3−カルボキ
シフリル、2,3−ジカルボキシフリル、2,3,5−
トリカルボキシフリル、2−メトキシカルボニルフリ
ル、3−エトキシカルボニルフリル、2,3−ジメトキ
シカルボニルフリル、2,3,5−トリメトキシカルボ
ニルフリル、2−メトキシメチルフリル、3−(3−メ
トキシプロピル)フリル、2−エトキシメチルフリル、
3−(4−エトキシブチル)フリル、2−(6−プロポ
キシヘキシル)フリル、3−(5−イソプロポキシペン
チル)フリル、2−(1,1−ジメチル−2−ブトキシ
エチル)フリル、3−(2−メチル−3−tert−ブトキ
シプロピル)フリル、2−(2−ペンチルオキシエチ
ル)フリル、3−ヘキシルオキシメチルフリル、2,3
−ジメトキシメチルフリル、2,3,4−トリメトキシ
メチルフリル、2−メトキシカルボニル−3−メトキシ
メチルフリル、2−カルボキシ−3−メトキシメチルフ
リル基等のフリル環上に置換基として炭素数1〜6の直
鎖又は分枝鎖状アルコキシ基が1〜2個置換した炭素数
1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基、炭素数1〜6の
直鎖又は分枝鎖状アルコキシカルボニル基及びカルボキ
シ基なる群より選ばれる基を1〜3個有するフリル基を
挙げることができる。
【0052】ピロリル環上に置換基として低級アルコキ
シ置換低級アルキル基及びカルボキシ基なる群より選ば
れる基を有するピロリル基としては、例えば、2−カル
ボキシピロリル、3−カルボキシピロリル、2,3−ジ
カルボキシピロリル、2,3,5−トリカルボキシピロ
リル、2−メトキシカルボニルピロリル、3−エトキシ
カルボニルピロリル、2,3−ジメトキシカルボニルピ
ロリル、2,3,5−トリメトキシカルボニルピロリ
ル、2−メトキシメチルピロリル、3−(3−メトキシ
プロピル)ピロリル、2−エトキシメチルピロリル、3
−(4−エトキシブチル)ピロリル、2−(6−プロポ
キシヘキシル)ピロリル、3−(5−イソプロポキシペ
ンチル)ピロリル、2−(1,1−ジメチル−2−ブト
キシエチル)ピロリル、3−(2−メチル−3−tert−
ブトキシプロピル)ピロリル、2−(2−ペンチルオキ
シエチル)ピロリル、3−ヘキシルオキシメチルピロリ
ル、2,3−ジメトキシメチルピロリル、2,3,4−
トリメトキシメチルピロリル、2−メトキシカルボニル
−1−メトキシメチルピロリル、2−カルボキシ−1−
メトキシメチルピロリル基等のピロリル環上に炭素数1
〜6の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基が1〜2個置換し
た炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基、炭素数
1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルコキシカルボニル基及び
カルボキシ基なる群より選ばれる基を1〜3個有するピ
ロリル基を挙げることができる。
【0053】チエニル環上に置換基として低級アルコキ
シ置換低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基及
びカルボキシ基なる群より選ばれる基を有するチエニル
基としては、例えば、2−カルボキシチエニル、3−カ
ルボキシチエニル、2,3−ジカルボキシチエニル、
2,3,5−トリカルボキシチエニル、2−メトキシカ
ルボニルチエニル、3−エトキシカルボニルチエニル、
2,3−ジメトキシカルボニルチエニル,2,3,5−
トリメトキシカルボニルチエニル、2−メトキシメチル
チエニル、3−(3−メトキシプロピル)チエニル、2
−エトキシメチルチエニル、3−(4−エトキシブチ
ル)チエニル、2−(6−プロポキシヘキシル)チエニ
ル、3−(5−イソプロポキシペンチル)チエニル、2
−(1,1−ジメチル−2−ブトキシエチル)チエニ
ル、3−(2−メチル−3−tert−ブトキシプロピル)
チエニル、2−(2−ペンチルオキシエチル)チエニ
ル、3−ヘキシルオキシメチルチエニル、2,3−ジメ
トキシメチルチエニル、2,3,4−トリメトキシメチ
ルチエニル、2−メトキシカルボニル−3−メトキシメ
チルチエニル、2−カルボキシ−3−メトキシメチルチ
エニル基等のチエニル環上に置換基として炭素数1〜6
の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基が1〜2個置換した炭
素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基、炭素数1〜
6の直鎖又は分枝鎖状アルコキシカルボニル基及びカル
ボキシ基なる群より選ばれる基を1〜3個有するチエニ
ル基を挙げることができる。
【0054】ピリジル環上に置換基として低級アルコキ
シ置換低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基及
びカルボキシ基なる群より選ばれる基を有するピリジル
基としては、例えば、2−カルボキシピリジル、3−カ
ルボキシピリジル、2,3−ジカルボキシピリジル、
2,3,5−トリカルボキシピリジル、2−メトキシカ
ルボニルピリジル、3−エトキシカルボニルピリジル、
2,3−ジメトキシカルボニルピリジル、2,3,5−
トリメトキシカルボニルピリジル、2−メトキシメチル
ピリジル、3−(3−メトキシプロピル)ピルジル、2
−エトキシメチルピリジル、3−(4−エトキシブチ
ル)ピリジル、2−(6−プロポキシヘキシル)ピリジ
ル、3−(5−イソプロポキシペンチル)ピリジル、2
−(1,1−ジメチル−2−ブトキシエチル)ピリジ
ル、3−(2−メチル−3−tert−ブトキシプロピル)
ピリジル、2−(2−ペンチルオキシエチル)ピリジ
ル、3−ヘキシルオキシメチルピリジル、2,3−ジメ
トキシメチルピリジル、2,3,4−トリメトキシメチ
ルピリジル、2−メトキシカルボニル−3−メトキシメ
チルピリジル、2−カルボキシ−3−メトキシメチルピ
リジル基等のピリジル環上に置換基として炭素数1〜6
の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基が1〜2個置換した炭
素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基、炭素数1〜
6の直鎖又は分枝鎖状アルコキシカルボニル基及びカル
ボキシ基なる群より選ばれる基を1〜3個有するピリジ
ル基を挙げることができる。
【0055】低級アルコキシカルボニル基としては、例
えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポ
キシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシ
カルボニル、tert−ブトキシカルボニル、ペンチルオキ
シカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数
1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルコキシカルボニル基を例
示できる。
【0056】アジド置換低級アルキル基としては、例え
ば、アジドメチル、2−アジドエチル、1−アジドエチ
ル、3−アジドプロピル、4−アジドブチル、5−アジ
ドペンチル、6−アジドヘキシル、1,1−ジメチル−
2−アジドエチル、2−メチル−3−アジドプロピル基
等のアジド基が置換した炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖
状アルキル基を挙げることができる。
【0057】水酸基置換低級アルケニル基としては、例
えば2−ヒドロキシビニル、3−ヒドロキシアリル、4
−ヒドロキシ−2−ブテニル、1−ヒドロキシ−3−ブ
テニル、6−ヒドロキシ−3−ヘキセニル、5−ヒドロ
キシ−1−ペンテニル、1,1−ジメチル−2−ヒドロ
キシ−2−プロペニル、2−メチル−3−ヒドロキシ−
1−プロペニル、5−ヒドロキシ−4−ペンテニル、4
−ヒドロキシ−1−ブテニル基等の水酸基が置換した炭
素数2〜6の直鎖又は分枝鎖状アルケニル基を挙げるこ
とができる。
【0058】シアノ置換低級アルキル基としては、例え
ば、シアノメチル、2−シアノエチル、1−シアノエチ
ル、3−シアノプロピル、4−シアノブチル、5−シア
ノペンチル、6−シアノヘキシル、1,1−ジメチル−
2−シアノエチル、2−メチル−3−シアノプロピル基
等のシアノ基が置換した炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖
状アルキル基を挙げることができる。
【0059】低級アルキルチオ置換低級アルキル基とし
ては、例えば、メチルチオメチル、2−メチルチオエチ
ル、3−メチルチオプロピル、エチルチオメチル、4−
エチルチオブチル、6−プロピルチオヘキシル、5−イ
ソプロピルチオペンチル、1,1−ジメチル−2−ブチ
ルチオエチル、2−メチル−3−tert−ブチルチオプロ
ピル、2−ペンチルチオエチル、ヘキシルチオメチル基
等の炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキルチオ基が
置換した炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を
挙げることができる。
【0060】低級アルキルスルホニル置換低級アルキル
基としては、例えば、メチルスルホニルメチル、2−メ
チルスルホニルエチル、3−メチルスルホニルプロピ
ル、エチルスルホニルメチル、4−エチルスルホニルブ
チル、6−プロピルスルホニルヘキシル、5−イソプロ
ピルスルホニルペンチル、1,1−ジメチル−2−ブチ
ルスルホニルエチル、2−メチル−3−tert−ブチルス
ルホニルプロピル、2−ペンチルスルホニルエチル、ヘ
キシルスルホニルメチル基等の炭素数1〜6の直鎖又は
分枝鎖状アルキルスルホニル基が置換した炭素数1〜6
の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を挙げることができる。
【0061】ピロリジン環上に置換基として低級アルコ
キシカルボニル基及びカルボキシ基なる群より選ばれる
基を有するピロリジニル基置換低級アルキル基として
は、例えば、(1−ピロリジニル)メチル、2−(1−
ピロリジニル)エチル、3−(2−ピロリジニル)プロ
ピル、(2−カルボキシ−1−ピロリジニル)メチル、
4−(3−ピロリジニル)ブチル、6−(1−ピロリジ
ニル)ヘキシル、5−(1−ピロリジニル)ペンチル、
1,1−ジメチル−2−(2−ピロリジニル)エチル、
2−メチル−3−(2,3,5−トリカルボキシ−1−
ピロリジニル)プロピル、2−(3−カルボキシ−1−
ピロリジニル)エチル,(2,3−ジカルボキシ−1−
ピロリジニル)メチル、(2−メトキシカルボニル−1
−ピロリジニル)メチル、2−(3−エトキシカルボニ
ル−1−ピロリジニル)エチル、4−(2,3,5−ト
リメトキシカルボニル−1−ピロリジニル)ブチル基等
のピロリジン環上に置換基として炭素数1〜6の直鎖又
は分枝鎖状アルコキシカルボニル基及びカルボキシ基な
る群より選ばれる基を1〜3個有するピロリジニル基が
置換した炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を
挙げることができる。
【0062】置換基として水酸基を有する低級アルキレ
ン基としては、例えば1−ヒドロキシメチレン、1−ヒ
ドロキシエチレン、2−ヒドロキシエチレン、2−ヒド
ロキシトリメチレン、2−ヒドロキシテトラメチレン、
3−ヒドロキシペンタメチレン、3−ヒドロキシヘキサ
メチレン基等の置換基として水酸基を有する炭素数1〜
6の直鎖又は分枝鎖状アルキレン基を例示できる。
【0063】低級アルキル基としては、例えばメチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、tert−ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル基等の炭素数1〜6の直鎖又は
分枝鎖状アルキル基を挙げることができる。
【0064】低級アルキレン基としては、例えば、メチ
レン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペン
タメチレン、ヘキサメチレン、2−メチルトリメチレ
ン、2,2−ジメチルトリメチレン、1−メチルトリメ
チレン、メチルメチレン、エチルメチレン基等の炭素数
1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキレン基を例示できる。
【0065】置換基として水酸基を有することのある低
級アルキル基としては、例えば、前記低級アルキル基に
加えて、ヒドロキシメチル、2−ヒドロキシエチル、1
−ヒドロキシエチル、1,2−ヒドロキシエチル、3−
ヒドロキシプロピル、2,3−ジヒドロキシプロピル、
4−ヒドロキシブチル、1,1−ジメチル−2−ヒドロ
キシエチル、5,5,4−トリヒドロキシペンチル、5
−ヒドロキシペンチル、6−ヒドロキシヘキシル、1−
ヒドロキシイソプロピル、2−メチル−3−ヒドロキシ
プロピル基等の置換基として水酸基を1〜3個有するこ
とのある炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を
例示できる。
【0066】置換基として低級アルキル基又は低級アル
コキシカルボニル基を有することのあるアミノ基として
は、例えばアミノ、メチルアミノ、エチルアミノ、プロ
ピルアミノ、イソプロピルアミノ、ブチルアミノ、ペン
チルアミノ、ヘキシルアミノ、ジメチルアミノ、N−エ
チル−N−プロピルアミノ、N−メチル−N−ヘキシル
アミノ、ジメトキシカルボニルアミノ、N−エチル−N
−ペンチルオキシカルボニルアミノ、ヘキシルオキシカ
ルボニルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、エトキシ
カルボニルアミノ、tert−ブトキシカルボニルアミノ、
N−メチル−N−プロポキシカルボニルアミノ基等の置
換基として炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基
又は炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルコキシカルボ
ニル基を1〜2個有することのあるアミノ基を例示でき
る。
【0067】低級アルキルスルホニル基としては、例え
ばメチルスルホニル、エチルスルホニル、イソプロピル
スルホニル、ブチルスルホニル、tert−ブチルスルホニ
ル、ペンチルスルホニル、ヘキシルスルホニル基等の炭
素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキルスルホニル基を
例示できる。
【0068】置換基として低級アルキル基を有すること
のあるアミノカルボニル基としては、例えばアミノカル
ボニル、メチルアミノカルボニル、エチルアミノカルボ
ニル、プロピルアミノカルボニル、イソプロピルアミノ
カルボニル、ブチルアミノカルボニル、ペンチルアミノ
カルボニル、ヘキシルアミノカルボニル、ジメチルアミ
ノカルボニル、(N−エチル−N−プロピルアミノ)カ
ルボニル、(N−メチル−N−ヘキシルアミノ)カルボ
ニル基等の置換基として炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖
状アルキル基を1〜2個有することのあるアミノ基を有
するカルボニル基を例示できる。
【0069】低級アルケニル基としては、例えばビニ
ル、アリル、2−ブテニル、3−ブテニル、1−メチル
アリル、2−ペンテニル、2−ヘキセニル基等の炭素数
2〜6の直鎖又は分枝鎖状アルケニル基を例示できる。
【0070】シクロアルキル基としては、例えばシクロ
プロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキ
シル、シクロヘプチル、シクロオクチル基等の炭素数3
〜8のシクロアルキル基を例示できる。
【0071】ハロゲン置換低級アルキル基としては、例
えばクロロメチル、ブロモメチル、ヨードメチル、トリ
フルオトメチル、2−フルオロエチル、2,2−ジフル
オロエチル、2,2,2−トリフルオロエチル、3−ク
ロロプロピル、4−クロロブチル、3,4−ジクロロブ
チル、3−フルオロペンチル、2,3,4−トリフルオ
ロペンチル、2,3−ジクロロヘキシル、6,6−ジブ
ロモヘキシル基等のハロゲン原子を1〜3個有する炭素
数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を例示できる。
【0072】置換基として低級アルキル基を有すること
のあるアミノ基としては、例えばアミノ、メチルアミ
ノ、エチルアミノ、プロピルアミノ、イソプロピルアミ
ノ、ブチルアミノ、ペンチルアミノ、ヘキシルアミノ、
ジメチルアミノ、N−エチル−N−プロピルアミノ、N
−メチル−N−ヘキシルアミノ基等の置換基として炭素
数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を1〜2個有す
ることのあるアミノ基を例示できる。
【0073】フリル環上に置換基として低級アルコキシ
カルボニル基及びカルボキシ基なる群より選ばれる基を
有するフリル基としては、例えば2−カルボキシフリ
ル、3−カルボキシフリル、2,3−ジカルボキシフリ
ル、2,3,5−トリカルボキシフリル、2−メトキシ
カルボニルフリル、3−エトキシカルボニルフリル、
2,3−ジメトキシカルボニルフリル、2,3,5−ト
リメトキシカルボニルフリル基等のフリル環上に置換基
として炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルコキシカル
ボニル基及びカルボキシ基なる群より選ばれる基を1〜
3個有するフリル基を挙げることができる。
【0074】ピロリル環上に置換基として低級アルコキ
シカルボニル基及びカルボキシ基なる群より選ばれる基
を有するピロリル基としては、例えば2−カルボキシピ
ロリル、3−カルボキシピロリル、2,3−ジカルボキ
シピロリル、2,3,5−トリカルボキシピロリル、2
−メトキシカルボニルピロリル、3−エトキシカルボニ
ルピロリル、2,3−ジメトキシカルボニルピロリル、
2,3,5−トリメトキシカルボニルピロリル基等のピ
ロリル環上に置換基として炭素数1〜6の直鎖又は分枝
鎖状アルコキシカルボニル基及びカルボキシ基なる群よ
り選ばれる基を1〜3個有するピロリル基を挙げること
ができる。
【0075】チエニル環上に置換基として低級アルコキ
シカルボニル基及びカルボキシ基なる群より選ばれる基
を有するチエニル基としては、例えば2−カルボキシチ
エニル、3−カルボキシチエニル、2,3−ジカルボキ
シチエニル、2,3,5−トリカルボキシチエニル、2
−メトキシカルボニルチエニル、3−エトキシカルボニ
ルチエニル、2,3−ジメトキシカルボニルチエニル、
2,3,5−トリメトキシカルボニルチエニル基等のチ
エニル環上に置換基として炭素数1〜6の直鎖又は分枝
鎖状アルコキシカルボニル基及びカルボキシ基なる群よ
り選ばれる基を1〜3個有するチエニル基を挙げること
ができる。
【0076】ピリジル環上に置換基として低級アルコキ
シカルボニル基及びカルボキシ基なる群より選ばれる基
を有するピリジル基としては、例えば2−カルボキシピ
リジル、3−カルボキシピリジル、2,3−ジカルボキ
シピリジル、2,4,5−トリカルボキシピリジル、2
−メトキシカルボニルピリジル、3−エトキシカルボニ
ルピリジル、2,3−ジメトキシカルボニルピリジル、
2,3,5−トリメトキシカルボニルピリジル基等のピ
リジル環上に置換基として炭素数1〜6の直鎖又は分枝
鎖状アルコキシカルボニル基及びカルボキシ基なる群よ
り選ばれる基を1〜3個有するピリジル基を挙げること
ができる。
【0077】フェニル環上に置換基として低級アルコキ
シ基を1〜3個有することのあるフェニル基としては、
例えばフェニル、2−メトキシフェニル、3−メトキシ
フェニル、4−メトキシフェニル、2−エトキシフェニ
ル、3−エトキシフェニル、4−エトキシフェニル、4
−イソプロポキシフェニル、3−ブトキシフェニル、4
−ペンチルオキシフェニル、4−ヘキシルオキシフェニ
ル、3,4−ジメトキシフェニル、3−エトキシ−4−
メトキシフェニル、2,3−ジメトキシフェニル、3,
4−ジエトキシフェニル、3,5−ジメトキシフェニ
ル、2,5−ジメトキシフェニル、2,6−ジメトキシ
フェニル、3,4,5−トリメトキシフェニル、3,4
−ジペンチルオキシフェニル基等のフェニル環上に置換
基として炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基
を1〜3個有することのあるフェニル基を例示できる。
【0078】本発明の一般式(1)の化合物は、例えば
下記に示す方法により製造される。
【0079】
【化11】
【0080】〔式中、R1 及びR2 は前記に同じ。Yは
ハロゲン原子を示す。〕 化合物(2)と化合物(3)との反応は、適当な溶媒中
加熱することにより行なうことができる。ここで使用さ
れる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、
プロパノール、ブタノール、3−メトキシ−1−ブタノ
ール、エチルセロソルブ、メチルセロソルブ等のアルコ
ール類、ベンゼン、トルエン、キシレン、o−ジクロロ
ベンゼン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、ジグライム、モノグラ
イム等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム、
四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸ト
リアミド、アセトニトリル等の極性溶媒等又はこれらの
混合溶媒等を例示できる。該反応は通常室温〜150
℃、好ましくは室温〜100℃付近にて1〜15時間程
度にて終了する。化合物(3)の使用量は、化合物
(2)に対して少なくとも等モル、好ましくは等モル〜
1.5倍モル量程度とするのがよい。
【0081】
【化12】
【0082】〔式中、R1 及びR2 は前記に同じ。〕 出発原料として用いられる化合物(4)は、公知化合物
であるか又は公知の方法に従い容易に製造される化合物
である。また化合物(5)は、いずれも公知の化合物で
ある。
【0083】化合物(4)と化合物(5)との反応は、
通常のアミド結合生成反応に付すことにより達成され
る。この場合、カルボン酸(5)は活性化された化合物
を用いてもよい。アミド結合生成反応として通常のアミ
ド結合生成反応の条件を適用することができる。例えば
(イ)混合酸無水物法、すなわちカルボン酸(5)にア
ルキルハロカルボン酸を反応させて混合酸無水物とし、
これに化合物(4)を反応させる方法、(ロ)活性エス
テル法又は活性アミド法、すなわちカルボン酸(5)を
例えばp−ニトロフェニルエステル、N−ヒドロキシコ
ハク酸イミドエステル、1−ヒドロキシベンゾトリアゾ
ールエステル等の活性エステル、又はベンズオキサゾリ
ン−2−チオンとの活性アミドとし、これに化合物
(4)を反応させる方法、(ハ)カルボジイミド法、す
なわちカルボン酸(5)に化合物(4)を例えばジシク
ロヘキシルカルボジイミド、カルボニルジイミダゾール
等の脱水剤の存在下に脱水結合させる方法、(ニ)カル
ボン酸ハライド法、すなわちカルボン酸(5)をハライ
ド体に誘導し、これに化合物(4)を反応させる方法、
(ホ)その他の方法としてカルボン酸(5)を例えば無
水酢酸等の脱水剤により、カルボン酸無水物とし、これ
に化合物(4)を反応させる方法、カルボン酸(5)と
例えば低級アルコールとのエステルに化合物(4)を高
圧高温下に反応させる方法等を挙げることができる。ま
たカルボン酸(5)をトリフェニルホスフインやジエチ
ルクロロホスフエート等のリン化合物で活性化し、これ
に化合物(5)を反応させる方法も採用されうる。
【0084】混合酸無水物法において使用されるアルキ
ルハロカルボン酸としては、例えばクロルギ酸メチル、
ブロムギ酸メチル、クロルギ酸エチル、ブロムギ酸エチ
ル、クロルギ酸イソブチル等が挙げられる。混合酸無水
物は通常のショッテン−バウマン反応により得られ、こ
れを通常単離することなく化合物(4)と反応させるこ
とにより化合物(6)が製造される。ショッテン−バウ
マン反応は通常塩基性化合物の存在下行なわれる。用い
られる塩基性化合物としてはショッテン−バウマン反応
に慣用の化合物が用いられ、例えばトリエチルアミン、
トリメチルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、N−
メチルモルホリン、4−ジメチルアミノピリジン、1,
5−ジアザビシクロ〔4.3.0〕ノネン−5(DB
N)、1,8−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデセ
ン−7(DBU)、1,4−ジアザビシクロ〔2.2.
2〕オクタン(DABCO)等の有機塩基、炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナト
リウム等の無機塩基が挙げられる。該反応は−20〜1
00℃程度、好ましくは0〜50℃において行なわれ、
反応時間は5分〜10時間程度、好ましくは5分〜2時
間である。得られた混合酸無水物と化合物(4)との反
応は−20℃〜150℃程度、好ましくは10〜50℃
にて5分〜10時間程度、好ましくは5分〜5時間程度
行なわれる。混合酸無水物法は特に溶媒を用いなくても
よいが、一般に溶媒中で行なわれる。用いられる溶媒は
混合酸無水物法に慣用の溶媒がいずれも使用可能であ
り、具体的には塩化メチレン、クロロホルム、ジクロル
エタン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
メトキシエタン等のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチ
ル等のエステル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等の非プロ
トン性極性溶媒等が挙げられる。該法におけるカルボン
酸(5)、アルキルハロカルボン酸及び化合物(4)の
使用割合は、通常少なくとも当モルづつ使用されるが、
カルボン酸(5)に対してアルキルハロカルボン酸及び
化合物(4)をそれぞれ1〜2倍モル用いるのが好まし
い。
【0085】上記(ロ)の活性エステル法又は活性アミ
ド法は、例えばベンズオキサゾリン−2−チオンアミド
を用いる場合を例にとれば、反応に影響を与えない適当
な溶媒、例えば上記混合酸無水物法に用いるものと同様
の溶媒のほか1−メチル−2−ピロリドン等を用い、0
〜150℃、好ましくは10〜100℃にて、0.5〜
75時間反応させることにより行なわれる。この場合、
化合物(4)とベンズオキサゾリン−2−チオンアミド
との使用割合は、前者に対して後者を通常少なくとも等
モル、好ましくは等モル〜2倍モルとする。またN−ヒ
ドロキシコハク酸イミドエステルを用いる場合は、適当
な塩基、例えば後記カルボン酸ハライド法に用いられる
ものと同様の塩基を用いると反応は有利に進行する。
【0086】上記(ハ)のカルボン酸ハライド法は、カ
ルボン酸(5)にハロゲン化剤を反応させて、カルボン
酸ハライドとし、このカルボン酸ハライドを単離精製
し、又は単離精製することなく、これに化合物(4)を
反応させて行なわれる。このカルボン酸ハライドと化合
物(4)との反応は、脱ハロゲン化水素剤の存在下又は
非存在下に適当な溶媒中で行なわれる。脱ハロゲン化水
素剤として通常塩基性化合物が用いられ、上記ショッテ
ン−バウマン反応に用いられる塩基性化合物のほか、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、
水素化カリウム、炭酸銀、ナトリウムメチラート、ナト
リウムエチラート等のアルカリ金属アルコラート等が挙
げられる。なお化合物(4)を過剰量用いて脱ハロゲン
化水素剤として兼用させることもできる。溶媒としては
前記ショッテン−バウマン反応に用いられる溶媒の他、
例えば水、メタノール、エタノール、プロパノール、ブ
タノール、3−メトキシ−1−ブタノール、エチルセロ
ソルブ、メチルセロソルブ等のアルコール類、ピリジ
ン、アセトン、アセトニトリル等、又はそれらの2種以
上の混合溶媒が挙げられる。化合物(4)とカルボン酸
ハライドとの使用割合は特に限定されず広範囲に選択さ
れるが、通常前者に対して後者を少なくとも等モル、好
ましくは等モル〜5倍モル用いられる。反応温度は通常
−30〜180℃程度、好ましくは約0〜150℃で、
一般に5分〜30時間で反応は完結する。用いられるカ
ルボン酸ハライドは、カルボン酸(5)とハロゲン化剤
とを無溶媒または溶媒中にて反応させて製造される。溶
媒としては、反応に悪影響を与えないものであれば使用
でき、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族
炭化水素類、クロロホルム、塩化メチレン、四塩化炭素
等のハロゲン化炭化水素類、ジオキサン、テトラヒドロ
フラン、ジエチルエーテル等のエーテル類、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。ハ
ロゲン化剤としては、カルボキシ基の水酸基をハロゲン
に変え得る通常のハロゲン化剤を使用でき、例えば塩化
チオニル、オキザリルクロリド、オキシ塩化リン、オキ
シ臭化リン、五塩化リン、五臭化リン等が例示できる。
カルボン酸(5)とハロゲン化剤との使用割合は特に限
定されず適宜選択されるが、無溶媒下で反応を行なう場
合には、通常前者に対して、後者を大過剰量、また溶媒
中で反応を行なう場合には、通常前者に対して後者を少
なくとも等モル量程度、好ましくは2〜4倍モル量を用
いる。その反応温度及び反応時間も特に限定されない
が、通常室温〜100℃程度、好ましくは50〜80℃
にて、30分間〜6時間程度で行なわれる。
【0087】カルボン酸(5)をトリフェニルホスフイ
ンやジエチルクロロホスフエート、シアノリン酸ジエチ
ル等のリン化合物で活性化し、これに化合物(4)を反
応させる方法は、適当な溶媒中で行なわれる。溶媒とし
ては反応に影響を与えないものならば、いずれも使用す
ることができ、具体的には塩化メチレン、クロロホル
ム、ジクロルエタン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等
のエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル
類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘ
キサメチルリン酸トリアミドの非プロトン性極性溶媒等
が挙げられる。該反応では化合物(4)自体が塩基性化
合物として働くため、これを理論量より過剰に用いるこ
とによって反応は良好に進行するが、必要に応じて、他
の塩基性化合物、例えば、トリエチルアミン、トリメチ
ルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、N−メチルモ
ルホリン、4−ジメチルアミノピリジン、DBN、DB
U、DABCO等の有機塩基、炭酸カリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無
機塩基を用いることもできる。該反応は約0〜150
℃、好ましくは約0〜100℃で、約1〜75時間行な
うことにより達成される。化合物(4)に対するリン化
合物及びカルボン酸(5)の使用割合は、それぞれ、通
常少なくとも等モル量程度、好ましくは1〜3倍モル量
である。
【0088】化合物(6)を化合物(1)に導く反応
は、2,4−ビス(4−メトキシフェニル)−1,3−
ジチア−2,4−ジフォスフェタン−2,4−ジサルフ
ィド(Lawesson's Reagent)、五硫化リン等の硫黄化剤
の存在下、無溶媒下又は適当な溶媒中反応させることに
より製造されることができる。ここで使用される溶媒と
しては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール
等の低級アルコール類、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチル
エーテル等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホル
ム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチ
ル、酢酸メチル等のエステル類、アセトン、メチルエチ
ルケトン等のケトン類、アセトニトリル、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルリン酸
トリアミド等の極性溶媒又はこれらの混合溶媒等を挙げ
ることができる。硫黄化剤の使用量は、化合物(6)に
対して、通常0.5〜2倍モル量、好ましくは0.5〜
1.5倍モル量とするのがよい。該反応は、通常50〜
300℃、好ましくは50〜250℃付近にて、1〜7
時間程度にて終了する。
【0089】出発原料としての化合物(2)は例えば下
記反応式−3又は−4の方法にて製造することができ
る。
【0090】
【化13】
【0091】〔式中、R2 及びYは前記に同じ。〕 化合物(7)のハロゲン化反応は、適当な溶媒中、ハロ
ゲン化剤の存在下行なわれることができる。ここで使用
されるハロゲン化剤としては、例えば臭素、塩素等のハ
ロゲン分子、塩化ヨウ素、スルフリルクロリド、臭化第
1銅等の銅化合物、N−ブロモコハク酸イミド、N−ク
ロロコハク酸イミド等のN−ハロゲン化コハク酸イミド
等を例示できる。使用される溶媒としては、例えばジク
ロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭
素等のハロゲン化炭化水素類、酢酸、プロピオン酸等の
脂肪酸、二硫化炭素等を例示できる。ハロゲン化剤の使
用量としては、化合物(7)に対して、通常等モル〜1
0倍モル量、好ましくは等モル〜5倍モル量使用するの
がよい。該反応は、通常0〜溶媒の沸点温度、好ましく
は0〜100℃付近にて通常5分〜20時間程度にて終
了する。
【0092】
【化14】
【0093】〔式中、R2 及びYは前記に同じ。Y
1 は、ハロゲン原子を示す。〕 化合物(8)と化合物(9)又は(10)の反応は、一
般にフリーデル−クラフツ反応(Friedel-Crafts react
ion )と呼ばれ、適当な溶媒中ルイス酸の存在下に行な
われることができる。ここで使用されるルイス酸として
は、一般に該反応で用いられるルイス酸はいずれも使用
可能であるが、例えば塩化アルミニウム、塩化亜鉛、塩
化鉄、塩化錫、三臭化ホウ素、三弗化ホウ素、濃硫酸等
を例示できる。使用される溶媒としては、例えば二硫化
炭素、ニトロベンゼン、クロロベンゼン等の芳香族炭化
水素類、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭
素、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類等を
例示できる。化合物(9)又は(10)の使用量として
は、化合物(8)に対して、少なくとも等モル、好まし
くは等モル〜5倍モル量使用するのがよい。ルイス酸の
使用量としては、化合物(8)に対して、通常2〜6倍
モル量とするのがよい。該反応は、通常0〜120℃、
好ましくは0〜70℃程度で、0.5〜24時間程度に
て終了する。
【0094】出発原料としての化合物(3)は例えば下
記反応式−5又は−6の方法にて製造することができ
る。
【0095】
【化15】
【0096】〔式中、R1 は前記に同じ。R11は低級ア
ルキル基を示す。〕 化合物(11)と化合物(12)の反応は、適当な溶媒
中、酸の存在下反応させることにより行なわれることが
できる。ここで使用される溶媒としては、前記反応式−
2の化合物(6)を化合物(1)に導く反応で用いられ
た溶媒であればいずれも使用可能である。使用される酸
としては、塩酸、臭化水素酸、硫酸等の鉱酸を例示でき
る。化合物(12)の使用量は、化合物(11)に対し
て、通常等モル〜5倍モル量、好ましくは等モル〜3倍
モル量とするのがよい。該反応は通常室温〜200℃、
好ましくは室温〜150℃付近にて、1〜15時間程度
にて終了する。
【0097】
【化16】
【0098】〔式中、R1 は前記に同じ。〕 化合物(13)を化合物(3)に導く反応は、適当な溶
媒中、硫黄化剤の存在下反応させることにより製造され
ることができる。ここで使用される溶媒としては、前記
反応式−2の化合物(6)を化合物(1)に導く反応で
用いられた溶媒であれば、いずれも使用可能である。こ
こで使用される硫黄化剤としては、例えば五硫化リン、
Lawesson's Reagent等を例示できる。硫黄化剤の使用割
合としては、通常1〜10倍モル量、好ましくは1〜2
倍モル量使用するのがよい。該反応は、通常室温〜15
0℃、好ましくは室温〜100℃付近にて、10分〜5
時間程度にて終了する。
【0099】化合物(1)において、R2 が低級アルコ
キシカルボニル基を少なくとも一つ有するフリル基、ピ
ロリル基、チエニル基もしくはピロリジニル基、R3
低級アルコキシカルボニル基又はR5がピロリジン環上
に置換基として低級アルコキシカルボニル基を少なくと
も一つ有するピロリジニル基置換低級アルキル基を示す
化合物(1)は、該化合物を加水分解することにより、
対応するR2 がカルボキシ基を少なくとも一つ有するフ
リル基、ピロリル基、チエニル基もしくはピロリジニル
基、R3 がカルボキシ基又はR5がピロリジン環上に置
換基としてカルボキシ基を少なくとも一つ有するピロリ
ジニル基置換低級アルキル基を示す化合物(1)に各々
導くことができる。
【0100】この加水分解反応には、通常の加水分解の
反応条件をいずれも適用でき、具体的には例えば炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化バリウム、水酸化リチウム等の塩基性化
合物、硫酸、塩酸、硝酸等の鉱酸、酢酸、芳香族スルホ
ン酸等の有機酸等の存在下、水、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール等のアルコール類、アセトン、メ
チルエチルケトン等のケトン類、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル等の
エーテル類、酢酸等の溶媒又はそれらの混合溶媒中にて
行なわれる。該反応は、通常室温〜200℃、好ましく
は室温〜180℃付近にて進行し、一般に10分〜50
時間程度で終了する。
【0101】化合物(1)において、R2がカルボキシ
基を少なくとも一つ有するフリル基、ピロリル基、チエ
ニル基もしくはピリジル基、R3がカルボキシ基又はR5
がピロリジン環上に置換基としてカルボキシ基を少なく
とも一つ有するピロリジニル置換低級アルキル基を示す
化合物(1)は、該化合物をエステル化反応することに
より、対応するR2が低級アルコキシカルボニル基を少
なくとも一つ有するフリル基、ピロリル基、チエニル基
もしくはピリジル基、R3が低級アルコキシカルボニル
基又はR5がピロリジン環上に置換基として低級アルコ
キシカルボニル基を少なくとも一つ有するピロリジニル
基置換低級アルキル基を示す化合物(1)に各々導くこ
とができる。
【0102】このエステル化反応は、例えば溶媒中又は
無溶媒下、塩酸、硫酸等の鉱酸、チオニルクロリド、オ
キシ塩化リン、五塩化リン、三塩化リン、塩化オキザリ
ル等のハロゲン化剤の存在下、原料化合物とメタノー
ル、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類と
を、通常0〜150℃、好ましくは50〜100℃に
て、1〜10時間程度反応させることにより行われる。
【0103】エステル化反応で使用される溶媒として
は、例えば前記反応式−2の化合物(4)と化合物
(5)の反応における(ロ)の活性エステル又は活性ア
ミド法で用いた溶媒をいずれも使用することができ、ま
たこれらの混合溶媒を使用することもできる。
【0104】化合物(1)において、R8が低級アルコ
キシカルボニル基を少なくとも一つ有するアミノ基を示
す化合物(1)は、該化合物を加水分解することによ
り、対応するR8が少なくとも一つ脱低級アルコキシカ
ルボニル化されたアミノ基を示す化合物(1)に導くこ
とができる。
【0105】この加水分解は、例えば適当な溶媒中、ト
リフルオロ酢酸の存在下に行われる。ここで使用される
溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化
炭素等のハロゲン化炭化水素類等を例示できる。トリフ
ルオロ酢酸の使用量は、出発原料に対して、通常等モル
〜大過剰量、好ましくは等モル〜15倍モル量程度とす
るのがよい。該反応は、通常0〜100℃、好ましくは
0〜70℃付近にて行われ、一般に1〜20時間程度に
て終了する。
【0106】
【化17】
【0107】〔式中、R1、R3及びR4は前記に同じ。
12は水酸基置換低級アルキル基を示す。R5aはアジド
置換低級アルキル基を示す。〕 化合物(14)を化合物(1a)に導く反応は、適当な
溶媒中、例えばジエチルアゾジカルボキシレート、ジブ
チルアゾジカルボキシレート等のジアルキルアゾジカル
ボキシレート類、1,1’−アゾジカルボニルジ(ピペ
リジン)等のジアルキルアゾジカルボキシアミド類及び
トリアルキルホスフィン、トリアリールホスフィン等の
リン酸化合物の存在下に、化合物(14)をアジド化剤
と反応させることにより製造される。
【0108】該反応において使用されるアジド化剤とし
ては、アジ化水素酸、ジフェニルホスホリルアジド(D
PPA)等を例示できる。また使用される溶媒として
は、例えばテトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエ
タン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ
グライム等のエーテル類、ベンゼン、トルエン等の芳香
族炭化水素類又はこれらの混合溶媒等が挙げられる。
【0109】ジアルキルアゾジカルボキシレート類、リ
ン酸化合物及びアジド化剤は、化合物(14)に対して
それぞれ少なくとも等モル程度、好ましくは1〜1.5
倍モル程度用いるのがよい。該反応は、通常−20〜1
00℃、好ましくは−20〜50℃にて進行し、一般に
1〜30時間で反応は終了する。
【0110】
【化18】
【0111】〔式中、R1、R3、R4、R6及びR7は前
記に同じ。R5bはオキシラニル基を示す。R5cは基−C
H(OH)−CH2NR67(R6及びR7は前記に同
じ。)を示す。R13及びR14は、各々低級アルキル基を
示す。Xはハロゲン原子を示す。〕 化合物(15)と化合物(16)の反応は、塩基性化合
物の存在下、適当な溶媒中で行われる。
【0112】用いられる塩基性化合物としては、金属ナ
トリウム、金属カリウム、水素化ナトリウム、ナトリウ
ムアミド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機
塩基、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート、
カリウム−tert−ブトキシド等の金属アルコラート類、
メチルリチウム、n−ブチルリチウム、フェニルリチウ
ム、リチウムジイソプロピルアミド等のアルキル及びア
リールリチウム又はリチウムアミド類、ピリジン、ピペ
リジン、キノリン、トリエチルアミン、N,N−ジメチ
ルアニリン等の有機塩基等を例示できる。
【0113】溶媒としては、反応に影響を与えないもの
であればいずれも使用できるが、例えばジエチルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、モノグライム、
ジグライム等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素類、n−ヘキサン、n−ヘプタ
ン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類、ピリジン、
N,N−ジメチルアニリン等のアミン類、N,N−ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチ
ルリン酸トリアミド等の非プロトン性極性溶媒、メタノ
ール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類
等が挙げられる。
【0114】反応温度は、通常−80〜150℃、好ま
しくは−80〜120℃付近とするのがよく、一般に
0.5〜15時間程度で反応は終了する。化合物(1
6)の使用量は、化合物(15)に対して、少なくとも
等モル、好ましくは等モル〜1.5倍モル量とするのが
よい。
【0115】化合物(1b)と化合物(17)との反応
は、一般に適当な不活性溶媒中、塩基性化合物の存在下
又は不存在下にて行われる。
【0116】用いられる不活性溶媒としては例えばベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジ
メチルエーテル等のエーテル類、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、ブタノール等の低級アルコール
類、酢酸、酢酸エチル、アセトン、アセトニトリル、ジ
メチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ヘキサメ
チルリン酸トリアミド等を挙げることができる。
【0117】また塩基性化合物としては例えば炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素
カリウム等の炭酸塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム等の金属水酸化物、水素化ナトリウム、カリウム、ナ
トリウム、ナトリウムアミド、ナトリウムメチラート、
ナトリウムエチラート等の金属アルコラート、ピリジ
ン、エチル−ジイソプロピルアミン、ジメチルアミノピ
リジン、トリエチルアミン、DBN、DBU、DABC
O等の有機塩基等を挙げることができる。
【0118】化合物(1b)と化合物(15)との使用
割合としては、特に限定がなく広い範囲で適宜選択すれ
ばよいが、前者に対して後者を少なくとも等モル量程
度、好ましくは等モル〜大過剰量程度とするのがよい。
該反応は通常0〜200℃程度、好ましくは0〜170
℃程度にて行われ、一般に30分〜30時間程度で反応
は終了する。
【0119】
【化19】
【0120】〔式中、R1、R3及びR4は前記に同じ。
15、R16及びR17は各々低級アルキル基を示す。R18
は低級アルケニル基を示す。〕 化合物(15)と化合物(18)との反応は、適当な溶
媒中、一般に−70℃〜室温付近、好ましくは−30℃
〜室温付近にて、1〜6時間で行われる。ここで使用さ
れる溶媒としては、例えばジエチルエーテル、ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ベンゼン、ト
ルエン等の芳香族炭化水素類、n−ヘキサン、n−ヘプ
タン、n−ペンタン、シクロヘキサン等の飽和炭化水素
類、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハ
ロゲン炭化水素類等を例示できる。化合物(18)の使
用量は、化合物(15)に対して、少なくとも等モル、
好ましくは等モル〜2倍モル量とするのがよい。該反応
は、反応系内に四塩化チタン等のルイス酸を添加するこ
とにより有利に進行する。
【0121】
【化20】
【0122】〔式中、R1、R3、R4、R8及びR9は前
記に同じ。〕 化合物(19)と化合物(20)との反応は、前記反応
式−2における化合物(4)と化合物(5)の反応と同
様の条件下に行われる。
【0123】
【化21】
【0124】〔式中、R1、R3、R4、R12及びXは前
記に同じ。R19は低級アルキルスルホニルオキシ置換低
級アルキル基を示す。R20は低級アルキル基を示す。R
5dはシアノ置換低級アルキル基を示す。Mはナトリウ
ム、カリウム等のアルカリ金属を示す。〕 化合物(14)と化合物(21)との反応は、適当な不
活性溶媒中、脱ハロゲン化水素剤の存在下に行われる。
【0125】ここで使用される不活性溶媒としては、ジ
クロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素
類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテ
ル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチル
リン酸トリアミド、アセトニトリル、アセトン、酢酸、
ピリジン、水等の極性溶媒又はこれらの混合溶媒等を例
示できる。
【0126】使用される脱ハロゲン化水素剤としては、
例えばトリエチルアミン、トリメチルアミン、ジイソプ
ロピルエチルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、N
−メチルモルホリン、4−ジメチルアミノピリジン、4
−(1−ピロリジニル)ピリジン、DBN、DBU、D
ABCO、酢酸ナトリウム等の有機塩基、水素化ナトリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナト
リウム等の無機塩基が挙げられる。
【0127】化合物(14)に対する化合物(21)の
使用量としては、通常少なくとも等モル、好ましくは等
モル〜5倍モルとするのがよい。該反応は、通常−20
〜150℃程度、好ましくは0〜100℃にて行われ、
反応時間は5分〜20時間程度にて終了する。
【0128】化合物(22)と化合物(23)との反応
は、適当な溶媒中、塩基性化合物の存在下にて行われ
る。
【0129】ここで使用される溶媒としては、前記化合
物(14)と化合物(21)の反応で用いた溶媒をいず
れも使用することができる。
【0130】塩基性化合物としては、例えば炭酸ナトリ
ウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カ
リウム等の炭酸塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等の金属水酸化物、水素化ナトリウム、カリウム、ナト
リウム、ナトリウムアミド、カリウムアミド、ナトリウ
ムメチレート、ナトリウムエチレート、カリウム-tert
−ブトキシド等の金属アルコラート、ナトリウムベンジ
ルオキシド等の金属フェニル低級アルコキシド、n−ブ
チルリチウム、メチルリチウム等の低級アルキルリチウ
ム化合物、リチウムジイソプロピルアミド、ピリジン、
エチル−ジイソプロピルアミン、ジメチルアミドピリジ
ン、トリエチルアミン、DBN、DBU、DBACO等
の有機塩基又はこれらの混合物等を挙げることができ
る。
【0131】化合物(22)と化合物(23)との使用
割合としては、特に限定がなく広い範囲内で適宜選択す
ればよいが、前者に対して後者を通常少なくとも等モル
量程度、好ましくは等モル〜5倍モル量用いるのがよ
い。該反応は、通常0〜120℃程度、好ましくは0〜
100℃にて行われ、一般に30分〜30時間程度で反
応は終了する。
【0132】また該反応には、塩基性化合物に加えて、
テトラn−ブチルアンモニウムブロマイド、フェニルト
リエチルアンモニウムクロリド等の四級アンモニウムハ
ライド塩、18−クラウン−6、ベンゾ−18−クラウ
ン−6、ジベンゾ−18−クラウン−6、ジシクロヘキ
サノ−18−クラウン−6、12−クラウン−4、15
−クラウン−5等のクラウンエーテル等の相関移動触媒
等を添加してもよい。相関移動触媒の使用量としては、
化合物(21)に対して0.1〜等モル、好ましくは
0.1〜0.5倍モル量とするのがよい。
【0133】
【化22】
【0134】〔式中、R1、R3、R4及びR12は前記に
同じ。R5eは低級アルコキシ置換低級アルキル基を示
す。〕 化合物(14)を化合物(1g)に導く反応は、例えば
適当な溶媒中、塩基性化合物の存在下、化合物(14)
とアルキル化剤とを反応させることにより行われる。ア
ルキル化剤としては、例えば硫酸ジメチル等の硫酸ジア
ルキル、ジアゾメタン、一般式 R20X (23a) 〔式中R20及びXは前記に同じ。〕で表される化合物等
を挙げることができる。
【0135】使用される溶媒としては、例えば、メタノ
ール、エタノール、プロパノール等の低級アルコール
類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、エチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテ
ル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、アセト
ン、メチルエチルケトン等のケトン類、アセトニトリ
ル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ヘ
キサメチルリン酸トリアミド等の極性溶媒等又はこれら
の混合溶媒等を例示できる。
【0136】使用される塩基性化合物としては、例えば
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム、水素化ナトリウム等の無機塩基、金属ナトリウム、
金属カリウム等のアルカリ金属類、ナトリウムエチラー
ト、ナトリウムメチラート等のアルカリ金属アルコラー
ト類、トリエチルアミン、ピリジン、N,N−ジメチル
アニリン、N−メチルモルホリン、4−メチルアミノピ
リジン,DBN、DBU、DABCO等の有機塩基等を
例示できる。
【0137】アルキル化剤の使用量としては、原料化合
物に対して少なくとも等モル量、好ましくは等モル〜5
倍モル量とするのがよい。該反応は、通常0〜150
℃、好ましくは0〜100℃付近にて行われ、一般に
0.5〜20時間程度にて反応は終了する。
【0138】
【化23】
【0139】〔式中、R1、R3、R4及びR10は前記に
同じ。〕 化合物(15)と化合物(24)との反応は、適当な溶
媒中で行われる。ここで使用される溶媒は、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類に
加えて、前記反応式−11における化合物(14)と化
合物(21)との反応で例示した溶媒を広く使用するこ
とができる。該反応は、通常0〜150℃、好ましくは
0〜100℃付近にて行われ、一般に1〜15時間程度
にて終了する。化合物(24)の使用量としては、化合
物(15)に対して少なくとも等モル、好ましくは等モ
ル〜2倍モル程度とするのがよい。
【0140】
【化24】
【0141】〔式中、R1、R3、R4及びR5aは前記に
同じ。Zaは低級アルキレン基を示す。〕 化合物(1a)を化合物(1i)に導く反応は、適当な
溶媒中接触還元触媒を用いて化合物(1a)を還元する
ことにより行われる。
【0142】使用される溶媒としては、例えば水、酢
酸、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のア
ルコール類、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロ
エタン等のハロゲン化炭化水素類、ヘキサン、シクロヘ
キサン等の炭化水素類、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、ジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチル
エーテル等のエーテル類、酢酸エチル、酢酸メチル等の
エステル類、N,N−ジメチルホルムアミド等の非プロ
トン性極性溶媒等又はこれらの混合溶媒等が挙げられ
る。使用される接触還元触媒としては、例えばパラジウ
ム、パラジウム−黒、パラジウム−炭素、白金、酸化白
金、亜クロム酸銅、ラネ−ニッケル等が挙げられる。斯
かる触媒は、原料化合物に対して一般に0.02〜1倍
重量程度用いるのがよい。反応温度は、通常−20〜1
50℃付近、好ましくは0〜100℃付近、水素圧は通
常1〜10気圧とするのがよく、該反応は一般に0.5
〜10時間程度で終了する。
【0143】
【化25】
【0144】〔式中、R1、R3、R4、R8、Za及びX
は前記に同じ。R9aは置換基として水酸基を有すること
のある低級アルキル基、低級アルキルスルノニル基、シ
アノ置換低級アルキル基、低級アルケニル基、シクロア
ルキル基又はハロゲン置換低級アルキル基を示す。〕 化合物(1i)と化合物(25)との反応は、前記反応
式−11における化合物(14)と化合物(21)との
反応と同様の条件下に行われる。
【0145】
【化26】
【0146】〔式中、R1、R3、R4、R8及びZaは前
記に同じ。R9bは置換基として低級アルキル基を有する
ことのあるアミノ基を示す。〕 化合物(1i)と化合物(26)の反応は、(1)適当
な溶媒中、塩基性化合物の存在下又は非存在下に化合物
(1i)とカルボニル化剤とを反応させた後、次いで
(2)適当な溶媒中、上記で得られる反応生成物を塩基
性化合物の存在下化合物(26)と反応させることによ
り実施される。
【0147】(1)の反応において、使用される溶媒及
び塩基性化合物としては、前記反応式−2におけるカル
ボン酸ハライドに化合物(4)を反応させる方法で用い
られる溶媒及び塩基性化合物をいずれも使用することが
できる。使用されるカルボニル化剤としては、カルボニ
ルジイミダゾール、ホスゲン、ダイホスゲン、尿素、ト
リホスゲン等を例示できる。カルボニル化剤の使用量
は、化合物(1i)に対して、通常0.05〜等モル、
好ましくは0.1〜等モル量とするのがよい。該反応
は、通常0〜200℃、好ましくは0〜180℃付近に
て行われ、一般に1〜10時間程度にて終了する。
【0148】(2)の反応において、使用される溶媒及
び塩基性化合物は、前記(1)の反応で用いた溶媒及び
塩基性化合物をいずれも使用することができる。また
(1)及び(2)の反応は、分離することなくワンポッ
トで行うこともできる。化合物(26)の使用量は、化
合物(1i)に対して通常等モル〜5倍モル、好ましく
は等モル〜3モル量とするのがよい。該反応は通常室温
〜150℃、好ましくは室温〜120℃付近にて行わ
れ、一般に0.5〜5時間程度にて終了する。
【0149】
【化27】
【0150】〔式中、R1、R3、R4及びR20は前記に
同じ。R21は低級アルコキシ基を示す。〕 化合物(15)と化合物(27)との反応は、無溶媒
下、水素化還元剤の存在下に行われる。使用される水素
化還元剤としては、例えば水素化ホウ素ナトリウム等を
挙げることができ、その使用量は、化合物(15)に対
して通常0.05〜等モル、好ましくは0.1〜等モル
量とするのがよい。化合物(27)は化合物(15)に
対して大過剰量使用するのがよい。該反応は、通常0〜
70℃、好ましくは0〜50℃付近にて行われ、一般に
1〜5時間程度にて終了する。
【0151】
【化28】
【0152】〔式中、R1、R3及びR4は前記に同じ。
5fは低級アルキルチオ置換低級アルキル基を示す。R
5gは低級アルキルスルホニル置換低級アルキル基を示
す。〕 化合物(1m)と化合物(1n)に導く反応は、適当な
溶媒中酸化剤の存在下に行われる。ここで使用される溶
媒としては、例えば水、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸
等の有機酸、メタノール、エタノール等のアルコール
類、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化
水素類又はこれらの混合溶媒等を例示できる。使用され
る酸化剤としては、例えば過ギ酸、過酢酸、過トリフル
オロ酢酸、過安息香酸、m−クロロ過安息香酸、o−カ
ルボキシ過安息香酸等の過酸、過酸化水素、メタ過沃素
酸ナトリウム、重クロム酸、重クロム酸ナトリウム、重
クロム酸カリウム等の重クロム酸塩、過マンガン酸、過
マンガン酸カリウム、過マンガン酸ナトリウム等の過マ
ンガン酸塩、四酢酸鉛等の鉛塩等が挙げられる。酸化剤
の使用量としては、原料化合物に対して少なくとも2倍
モル、好ましくは2〜4倍モルとするのがよい。上記反
応は、通常0〜40℃、好ましくは0℃〜室温付近にて
行われ、一般に1〜15時間程度で終了する。
【0153】
【化29】
【0154】〔式中、R1及びXは前記に同じ。R22
同一又は異なって水素原子、低級アルコキシ置換低級ア
ルキル基、低級アルコキシカルボニル基又はカルボキシ
基を示す。R23は低級アルコキシ置換低級アルキル基を
示す。lは1又は2を示す。〕 化合物(1o)と化合物(28)との反応は、前記反応
式−11における化合物(14)と化合物(21)との
反応と同様の条件下に行われる。
【0155】
【化30】
【0156】〔式中、R1、R3及びR4は前記に同じ。
5hはハロゲン置換低級アルキル基を示す。R5iは基−
Za−NR89(Za、R8及びR9は前記に同じ。)又
はピロリジン環上に置換基として低級アルコキシカルボ
ニル基及びカルボキシ基なる群より選ばれる基を有する
(1−ピロリジニル)置換低級アルキル基を示す。R24
は、基−NR89(R8及びR9は前記に同じ。)又は、
ピロリジン環上に置換基として低級アルコキシカルボニ
ル基及びカルボキシ基なる群より選ばれる基を有する
(1−ピロリジニル)基を示す。〕 化合物(29)と化合物(30)との反応は、前記反応
式−11における化合物(14)と化合物(21)の反
応と同様の条件下に行われることができる。
【0157】出発原料の化合物(14)、化合物(1
5)、化合物(19)及び化合物(29)は、公知化合
物を包含しているが、これらの各化合物は、適当な出発
原料を用いて、前記反応式−1又は反2の方法に従っ
て、容易に製造することができる。
【0158】斯くして得られる各々の工程での目的物
は、通常の分離手段により反応混合物から容易に単離精
製することができる。該分離手段としては、例えば溶媒
抽出法、希釈法、再結晶法、カラムクロマトグラフィ
ー、プレパラティブ薄層クロマトグラフィー等を例示で
きる。
【0159】尚本発明の化合物は、立体異性体、光学異
性体も当然に包含するものである。
【0160】本発明の一般式(1)で表わされるチアゾ
ール誘導体は、医薬的に許容される酸を作用させること
により容易に酸付加塩とすることができ、本発明はこの
酸付加塩をも包含する。上記において、酸としては、例
えば塩酸、硫酸、リン酸、臭化水素酸等の無機酸、酢
酸、シュウ酸、コハク酸、マレイン酸、フマール酸、リ
ンゴ酸、酒石酸、クエン酸、マロン酸、メタンスルホン
酸、安息香酸等の有機酸を挙げることができる。
【0161】また本発明の一般式(1)で表わされるチ
アゾール誘導体のうち酸性基を有する化合物は、医薬的
に許容される塩基性化合物を作用させることにより容易
に塩を形成させることができる。該塩基性化合物として
は、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化
カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム等を挙
げることができる。
【0162】本発明の化合物は、通常一般的な医薬製剤
の形態で用いられる。製剤は通常使用される充填剤、増
量剤、結合剤、付湿剤、崩壊剤、表面活性剤、滑沢剤等
の希釈剤あるいは賦形剤を用いて調製される。この医薬
製剤としては各種の形態が治療目的に応じて選択でき、
その代表的なものとして錠剤、丸剤、散剤、液剤、懸濁
剤、乳剤、顆粒剤、カプセル剤、坐剤、注射剤(液剤、
懸濁剤等)、軟膏剤等が挙げられる。錠剤の形態に成形
するに際しては、担体としてこの分野で従来公知のもの
を広く使用でき、例えば乳糖、白糖、塩化ナトリウム、
ブドウ糖、尿素、デンプン、炭酸カルシウム、カオリ
ン、結晶セルロース、ケイ酸等の賦形剤、水、エタノー
ル、プロパノール、単シロップ、ブドウ糖液、デンプン
液、ゼラチン溶液、カルボキシメチルセルロース、セラ
ック、メチルセルロース、リン酸カリウム、ポリビニル
ピロリドン等の結合剤、乾燥デンプン、アルギン酸ナト
リウム、カンテン末、ラミナラン末、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸カルシウム、ポリオキシエチレンソルビタン脂
肪酸エステル類、ラウリル硫酸ナトリウム、ステアリン
酸モノグリセリド、デンプン、乳糖等の崩壊剤、白糖、
ステアリン、カカオバター、水素添加油等の崩壊抑制
剤、第4級アンモニウム塩基、ラウリル硫酸ナトリウム
等の吸収促進剤、グリセリン、デンプン等の保湿剤、デ
ンプン、乳糖、カオリン、ベントナイト、コロイド状ケ
イ酸等の吸着剤、精製タルク、ステアリン酸塩、ホウ酸
末、ポリエチレングリコール等の滑沢剤等が例示でき
る。さらに錠剤は必要に応じ通常の剤皮を施した錠剤、
例えば糖衣錠、ゼラチン被包錠、腸溶被錠、フイルムコ
ーテイング錠あるいは二重錠、多層錠とすることができ
る。丸剤の形態に成形するに際しては、担体としてこの
分野で従来公知のものを広く使用でき、例えばブドウ
糖、乳糖、デンプン、カカオ脂、硬化植物油、カオリ
ン、タルク等の賦形剤、アラビアゴム末、トラガント
末、ゼラチン、エタノール等の結合剤、ラミナランカン
テン等の崩壊剤等が例示できる。坐剤の形態に成形する
に際しては、担体として従来公知のものを広く使用で
き、例えばポリエチレングリコール、カカオ脂、高級ア
ルコール、高級アルコールのエステル類、ゼラチン、半
合成グリセライド等を挙げることができる。注射剤とし
て調製される場合には、液剤、乳剤及び懸濁剤は殺菌さ
れ、かつ血液と等張であるのが好ましく、これら液剤、
乳剤及び懸濁剤の形態に製剤するに際しては、希釈剤と
してこの分野において慣用されているものをすべて使用
でき、例えば水、乳酸水溶液、エチルアルコール、プロ
ピレングリコール、エトキシ化イソステアリルアルコー
ル、ポリオキシ化イソステアリルアルコール、ポリオキ
シエチレンソルビタン脂肪酸エステル類等を挙げること
ができる。なお、この場合等張性の溶液を調製するに充
分な量の食塩、ブドウ糖あるいはグリセリンを医薬製剤
中に含有せしめてもよく、また通常の溶解補助剤、緩衝
剤、無痛化剤等を添加してもよい。更に必要に応じて着
色剤、保存剤、香料、風味剤、甘味剤等や他の医薬品を
医薬製剤中に含有せしめてもよい。ペースト、クリーム
及びゲルの形態に製剤するに際しては、希釈剤としてこ
の分野で従来公知のものを広く使用でき、例えば白色ワ
セリン、パラフイン、グリセリン、セルロース誘導体、
ポリエチレングリコール、シリコン、ベントナイト等を
使用できる。
【0163】本発明の一般式(1)の化合物又はその塩
を医薬製剤中に含有させるべき量は、特に限定されず広
範囲に適宜選択されるが、通常医薬製剤中1〜70重量
%とするのがよい。
【0164】上記の医薬製剤の投与方法は特に制限はな
く、各種製剤形態、患者の年齢、性別その他の条件、患
者の症状の程度等に応じた方法で投与される。例えば錠
剤、丸剤、液剤、懸濁剤、乳剤、顆粒剤及びカプセル剤
の場合には経口投与される。また注射剤の場合には単独
であるいはブドウ糖、アミノ酸等の通常の補液と混合し
て静脈内投与され、更には必要に応じて単独で筋肉内、
皮内、皮下もしくは腹腔内投与される。坐剤の場合には
直腸内投与される。
【0165】本発明の医薬製剤の投与量は用法、患者の
年齢、性別その他の条件、疾患の程度等により適宜選択
されるが、通常有効成分である一般式(1)の化合物の
量は1日当り体重1kg当り約0.2〜200mgとす
るのがよい。
【0166】
【実施例】以下、参考例及び実施例を挙げて、本発明を
より具体的に説明する。
【0167】 製剤例1 2−(3,4−ジエトキシフェニル)−4−(3−カルボキシ −4−メトキシ−5−メトキシメチルフェニル)チアゾール 5mg デンプン 132mg マグネシウムステアレート 18mg 乳糖 45mg 計 200mg 常法により、1錠中に上記組成を含有する錠剤を製造し
た。
【0168】 製造例2 2−(3−エトキシ−4−メトキシフェニル)−4−(2− カルボキシ−3−メトキシメチル−5−フリル)チアゾール 500mg ポリエチレングリコール(分子量:4000) 0.3g 塩化ナトリウム 0.9g ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート 0.4g メタ重亜硫酸ナトリウム 0.1g メチル−パラベン 0.18g プロピル−パラベン 0.02g注射用蒸留水 100ml 上記パラベン類、メタ重亜硫酸ナトリウム及び塩化ナト
リウムを攪拌しながら80℃で上記の蒸留水に溶解し
た。得られた溶液を40℃まで冷却し、本発明化合物、
ポリエチレングリコール及びポリオキシエチレンソルビ
タンモノオレートを順次溶解させ、次にその溶液に注射
用蒸留水を加えて最終の容量に調整し、適当なフィルタ
ーペーパーを用いて滅菌濾過して1mlずつアンプルに
分注し、注射剤を調製した。
【0169】本発明化合物につき、下記に示す方法に従
い、薬理試験を行なった。
【0170】薬理試験1(ヒト好中球からのO2 - 生成
に対する作用) ヒト好中球は、M. Markertらの方法〔メソッド・イン・
エンザイモロジー Methods in Enzymology ,105;
358−365,1984〕に従い調製した。即ち、健
常成人より得た抗凝固処理全血に、デキストラン−低張
処理を施し、白血球細胞を得た。この白血球細胞を更に
フィコール−パック(Ficoll-Paque)による密度勾配遠
心法で好中球分画を得た。
【0171】O2 - 生成については、B. N. Cronstein
らの方法〔ジャーナル・オブ・エクスペリメンタル・メ
ディスン(J. Exp. Med.),158,1160−117
7(1983)〕に準じ、フェリシトクローム C(ferr
icytochrome C )法により調べた。即ち、ヘペス緩衝ハ
ンクス(Hepes-Buffered Hanks' )(pH7.4)溶液
中において、1.3mg/mlフェリシトクローム C
(ferricytochrome C )及び5μg/mlサイトカラシ
ン B(cytochalasin B)存在下、37℃、1×106cel
lの好中球を3×10-7MのN−フォルミル−L−メチ
オニル−L−ロイシル−L−フェニルアラニン(N-Form
yl-L-Methionyl-L- Leucyl-L-Phenylalanine,fML
P)により刺激し、4分間に還元されたフェロシトクロ
ーム C(ferrocytochrome C )の量を分光光度計を用い
て550nmの波長で吸光度を測定し、25.1μg/m
lスーパーオキサイドディスムターゼ(superoxide dis
mutase,SOD)存在下での吸光度との差をO2 - 産生
量とした。試験化合物をジメチルスルフォキサイド(D
MSO)に溶解し、fMLP添加前に好中球に加え、3
7℃、20分間プレインキュベートした。O2 - 生成の
抑制作用は溶媒(DMSO)のみを添加したものと比較
し、%抑制率を算出し、50%抑制濃度(IC50)で表
した。
【0172】結果を下記表1に示す。
【0173】薬理試験2(接着抑制作用) 試験化合物を0.1M水酸化ナトリウムに溶かし、9倍
量のPBS(ダルベッコ組成、タカラ社製)を加えて1
mM溶液を調製した。次に0.1M水酸化ナトリウム/
PBS(1:9)で順次希釈して0.1mM、0.01
mM溶液を調製し、これらをRPMI−1640培地
(10%FCS:牛胎児血清を含む)で40倍希釈した
ものを用意した。また、N−ホルミルメチオニルロイシ
ルフェニルアラニン(fMLP)(2mMジメチルホル
ムアミド保存液)をRPMI−1640(10%FC
S)で希釈し、0.25mM溶液を用意した。
【0174】好中球は健常人全血からデキストラン沈
降、フィコール−パック−密度勾配遠心、赤血球溶血を
経て精製した後、PBS(3ml)に浮遊させ、蛍光標
識試薬(BCECF−AM:同人化学研究所製)50μ
lを加え室温で1時間標識した。ヒト血管内皮細胞(H
UVEC:クローンティクス社製)が24ウェルの培養
プレートでコンフルエントになった時点で実験を行っ
た。
【0175】培養液を除いた後RPMI−1640(1
0%FCS)又は試験化合物溶液を0.2ml、fML
P溶液を0.2mlずつ加え、最後に蛍光標識した好中
球を106個ずつ加え37℃で30分静置した。接着及
び非接着好中球をそれぞれ回収して蛍光強度を測定し
た。別途に作成しておいた好中球数と蛍光強度の標準直
線から細胞数を計算し、50%抑制する濃度(IC50
を求めた。
【0176】結果を下記表1に示す。
【0177】薬理試験3(TNF−α産生抑制作用) 試験化合物0.1M水酸化ナトリウムに溶かし9倍量の
PBS(ダルベッコ組成、タカラ社製)を加えて1mM
溶液を調製した。次に0.1M水酸化ナトリウム/PB
S(1:9)で順次希釈して0.1mM、0.01m
M、1μM,0.1μM、0.01μM溶液を用意し
た。
【0178】リポポリサッカライド(LPS)の50μ
g/ml溶液をRPMI−1640(10%FCS)で
調製した。24ウェルの培養プレートを用い、LPS非
刺激コントロールウェルにRPMI−1640(10%
FCS)1.35ml、LPS刺激コントロールウェル
にRPMI−1640(10%FCS)1.32mlを
加えた。試験化合物処理サンプルウェルにはRPMI−
1640(10%FCS)1.17ml及び試験化合物
希釈溶液0.15mlを加えた。次に全てのウェルにヒ
ト全血0.15mlを加え、37℃で30分保温した。
最後にLPS非刺激ウェルを除く全てのウェルにLPS
溶液0.03mlを加え、37℃で24時間保温した。
低速遠心後の上清を回収し、TNF−α産生量を市販の
ELISAキットで定量した。50%産生を抑制する濃
度(IC50)を求めた。
【0179】結果を下記表1に示す。
【0180】
【表1】
【0181】参考例1 適当な出発原料を用い、後記実施例1又は3と同様にし
て以下の化合物を得た。
【0182】・2−(3,4−ジエトキシフェニル)−
4−(3−メトキシカルボニル−4−メトキシ−5−ホ
ルミルフェニル)チアゾール 融点 120.5〜122℃ 白色粉末状(n−ヘキサン−酢酸エチルより再結晶)。
【0183】・2−(3,4−ジエトキシフェニル)−
4−(3−メトキシカルボニル−4−メトキシ−5−ヒ
ドロキシメチルフェニル)チアゾール白色粉末状(n−
ヘキサン−酢酸エチルより再結晶)。1 H−NMR(CDCl3)δppm:1.44−1.5
9(6H,m)、2.03−2.38(1H,m)、
3.93(3H,s)、3.97(3H,s)、4.0
4−4.31(4H,m)、4.83(2H,s)、
6.92(1H,d,J=8.4Hz)、7.42(1
H,s)、7.53(1H,dd,J=2.1Hz,J
=8.4Hz)、7.61(1H,d,J=2.1H
z)、8.19(1H,d,J=2.4Hz)、8.3
5(1H,d,J=2.4Hz)。
【0184】・2−(3,4−ジエトキシフェニル)−
4−(3−メトキシカルボニル−4−メトキシ−5−カ
ルボキシフェニル)チアゾール 融点 164−165℃ 白色粉末状。
【0185】・2−(3,4−ジエトキシフェニル)−
4−(3−メトキシカルボニル−4−メトキシ−5−ク
ロロメチルフェニル)チアゾール 白色粉末状(n−ヘキサン−ジエチルエーテルより再結
晶)1 H−NMR(CDCl3)δppm:1.45−1.5
9(6H,m)、3.98(6H,s)、4.09−
4.32(4H,m)、4.75(2H,s)、6.9
3(1H,d,J=8.4Hz)、7.43(1H,
s)、7.54(1H,dd,J=2.1Hz,J=
8.4Hz)、7.61(1H,d,J=2.1H
z)、8.23(1H,d,J=2.4Hz)、8.3
7(1H,d,J=2.4Hz)。
【0186】参考例2 クロロホルム(20ml)に3−メトキシメチル−5−
アセチルフラン−2−カルボン酸メチル(751mg)
を溶解後、臭素(0.17ml)−クロロホルム溶液を
加え、15分間加熱還流した。溶媒を減圧留去して、3
−メトキシメチル−5−(2−ブロモアセチル)フラン
−2−カルボン酸メチル900mgを得た。
【0187】参考例3 クロロホルム(20ml)に3−メトキシメチル−5−
アセチルチアゾール−2−カルボン酸メチル(800m
g)を溶解後、氷浴上冷却攪拌下、臭素(0.2ml)
を加え、10分間加熱還流した。溶媒を減圧留去して、
3−メトキシメチル−5−(2−ブロモアセチル)チア
ゾール−2−カルボン酸メチル940mgを得た。
【0188】参考例4 アルゴン雰囲気下、脱気トルエン(60ml)に3−メ
トキシメチル−4−メトキシベンズアミド(3.5
g)、ローソン試薬(5.44g)を加え、50−55
℃にて45分間加熱攪拌した。放冷後、反応液を氷水に
注ぎ、酢酸エチルで抽出(100ml×1、50ml×
1)した。有機層を合わせ、水洗(150ml×2)、
飽和食塩水洗浄(100ml×1)した。硫酸マグネシ
ウム上で乾燥後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン→ジクロロ
メタン:メタノール=25:1)にて精製し、溶媒を減
圧留去した。残渣を酢酸エチル−ジイソプロピルエーテ
ルにて再結晶することにより、3−メトキシメチル−4
−メトキシチオベンズアミドを黄色粉末として2.29
g得た。1 H−NMR(CDCl3)δppm:3.45(3H,
s)、3.89(3H,s)、4.50(2H,s)、
6.88(1H,d,J=8.7Hz)、7.00−
7.29(1H,br−s)、7.31−7.68(1
H,br−s)、7.86(1H,d,J=2.5H
z)、8.01(1H,dd,J=2.5Hz,J=
8.7Hz)。
【0189】適当な出発原料を用い、参考例4と同様に
して以下の化合物を得た。
【0190】・3−メトキシ−4−メトキシメチルチオ
ベンズアミド 淡黄色粉末状(酢酸エチル−n−ヘキサン−ジイソプロ
ピルエーテルより再結晶)1 H−NMR(CDCl3)δppm:3.44(3H,
s)、3.90(3H,s)、4.51(2H,s)、
7.13−7.34(2H,m)、7.42(1H,
d,J=7.8Hz)、7.54−7.78(1H,b
r−s)、7.55(1H,d,J=1.6Hz)。
【0191】・3−(2−メトキシエチル)−4−メト
キシチオベンズアミド 黄色粉末状(n−ヘキサン−ジイソプロピルエーテルよ
り再結晶)1 H−NMR(CDCl3)δppm:2.92(2H,
t,J=6.9Hz)、3.35(3H,s)、3.5
9(2H,t,J=6.9Hz)、3.88(3H,
s)、6.84(1H,d,J=8.6Hz)、7.1
7(1H,br−s)、7.47(1H,br−s)、
7.74(1H,d,J=2.5Hz)、7.85(1
H,dd,J=2.5Hz,J=8.6Hz)。
【0192】実施例1 クロロホルム(10ml)に2−メトキシ−5−アセチ
ル安息香酸メチル(700mg)を溶解後、室温にて、
臭素(0.18ml)を加え、10分間加熱還流した。
溶媒を減圧留去後、得られた2−メトキシ−5−ブロモ
アセチル安息香酸メチルをメタノール(30ml)に溶
解し、3−メトキシメチル−4−メトキシチオベンズア
ミド(710mg)を加え、1時間加熱還流した。溶媒
を減圧留去後、残渣に酢酸エチル(30ml)及び飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液(30ml)を加え、分液
し、有機層を分取した。更に、水層より酢酸エチルで抽
出(20ml×2)した。有機層を合わせ、水洗(10
0ml×1)、飽和食塩水洗浄(100ml×1)後、
硫酸マグネシウム上で乾燥した。残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=1
0:1→5:1)にて精製し、溶媒を減圧留去した。残
渣を酢酸エチルにて再結晶することにより、2−(3−
メトキシメチル−4−メトキシフェニル)−4−(3−
メトキシカルボニル−4−メトキシフェニル)チアゾー
ルを無色針状晶として320mgを得た。1 H−NMR(CDCl3)δppm:3.48(3H,
s)、3.91(3H,s)、3.94(3H,s)、
3.96(3H,s)、4.56(2H,s)、6.9
5(1H,d,J=8.3Hz)、7.06(1H,
d,J=8.7Hz)、7.36(1H,s)、7.9
3−8.02(2H,m)、8.14(1H,dd,J
=2.4Hz,J=8.7Hz)、8.38(1H,
d,J=2.4Hz)。
【0193】実施例2 メタノール(20ml)に2−(3−メトキシメチル−
4−メトキシフェニル)−4−(3−メトキシカルボニ
ル−4−メトキシフェニル)チアゾール(320mg)
を溶解後、5N−水酸化ナトリウム水溶液(2ml)を
加え、1時間加熱還流した。溶媒を減圧留去後、残渣に
水(30ml)及び5N−塩酸(2.2ml)を加えて
弱酸性とし、熱酢酸エチルで抽出(30ml×2、10
ml×1)した。有機層を合わせ、水洗(50ml×
2)、飽和食塩水洗浄(30ml×1)後、硫酸マグネ
シウム上で乾燥した。溶媒を減圧留去後、残渣結晶をイ
ソプロピルアルコール−ジイソプロピルエーテルにて再
結晶することにより、2−(3−メトキシメチル−4−
メトキシフェニル)−4−(3−カルボキシ−4−メト
キシフェニル)チアゾールを淡黄色粉末として200m
gを得た。 融点 158−159℃。
【0194】適当な出発原料を用い、実施例2と同様に
して以下実施例20〜99の化合物を得た。
【0195】実施例3 アセトニトリル(25ml)に2−(2−クロロアセチ
ル)−6−カルボキシピリジン(661mg)及び3−
メトキシ−4−メトキシメチルチオベンズアミド(70
0mg)を加え、1時間加熱還流した。反応液を氷浴上
にて冷却後、析出晶を濾取した。この結晶をアセトニト
リル−水−1,4−ジオキサンにて再結晶することによ
り、2−(3−メトキシ−4−メトキシメチルフェニ
ル)−4−(6−カルボキシ−2−ピリジル)チアゾー
ルを白色粉末として540mg得た。 融点 183−184℃。
【0196】実施例4 テトラヒドロフラン(20ml)に2−(3,4−ジエ
トキシフェニル)−4−(3−メトキシカルボニル−4
−メトキシ−5−ヒドロキシメチルフェニル)チアゾー
ル(1.70g)を溶解し、氷浴上冷却攪拌下、ジフェ
ニルリン酸アジド(1.29ml)、トリフェニルホス
フィン(1.23g)、ジエチルアゾジカルボキシラー
ト(0.72ml)を順次加えた後、室温にて3時間攪
拌した。溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=5:
1)にて精製後、溶媒を減圧留去することにより、2−
(3,4−ジエトキシフェニル)−4−(3−メトキシ
カルボニル−4−メトキシ−5−アジドメチルフェニ
ル)チアゾールを無色油状物をして980mg得た。1 H−NMR(CDCl3)δppm:1.49(3H,
t,J=7.0Hz)、1.50(3H,t,J=7.
0Hz)、2.45(1H,br−s)、3.15(1
H,br−s)、3.60−3.78(1H,m)、
3.87(3H,s)、4.15(2H,q,J=7.
0Hz)、4.21(2H,q,J=7.0Hz)、
5.11−5.27(1H,m)、6.91(1H,
d,J=8.3Hz)、7.41(1H,s)、7.5
2(1H,dd,J=2.1Hz,J=8.3Hz)、
7.58(1H,d,J=2.1Hz)、8.24(1
H,d,J=2.3Hz)、8.34(1H,d,J=
2.3Hz)。
【0197】実施例5 ヨウ化トリメチルスルホキソニウム(1.68g)のジ
メチルホルムアミド(30ml)溶液に、60%水素化
ナトリウム(0.3g)を加え、室温にて30分間攪拌
した。次いで、2−(3,4−ジエトキシフェニル)−
4−(3−メトキシカルボニル−4−メトキシ−5−ホ
ルミルフェニル)チアゾールを加え、1時間攪拌した。
反応液に水を加えた後、酢酸エチルで抽出した。有機層
を水洗、飽和食塩水洗浄後、硫酸マグネシウム上で乾燥
した。溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=2:1)
にて精製後、溶媒を減圧留去することにより、2−
(3,4−ジエトキシフェニル)−4−(3−メトキシ
カルボニル−4−メトキシ−5−オキシラニルフェニ
ル)チアゾールを無色不定形として590mg得た。1 H−NMR(CDCl3)δppm:1.49(3H,
t,J=7.0Hz)、1.51(3H,t,J=7.
0Hz)、2.82(1H,dd,J=2.5Hz,J
=5.6Hz)、3.23(1H,dd,J=4.2H
z,J=5.6Hz)、3.95(3H,s)、3.9
8(3H,s)、4.15(2H,q,J=7.0H
z)、4.22(2H,q,J=7.0Hz)、4.2
6−4.29(1H,m)、6.92(1H,d,J=
8.3Hz)、7.41(1H,s)、7.53(1
H,dd,J=2.0Hz,J=8.3Hz)、7.6
0(1H,d,J=2.0Hz)、7.92(1H,
d,J=2.3Hz)、8.37(1H,d,J=2.
3Hz)。
【0198】実施例6 メタノール(10ml)に2−(3,4−ジエトキシフ
ェニル)−4−(3−メトキシカルボニル−4−メトキ
シ−5−オキシラニルフェニル)チアゾール(430m
g)に溶解後、ジエチルアミン(1ml)を加え、70
℃にて6時間加温攪拌した。溶媒を減圧留去後、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタ
ン:メタノール=20:1)にて精製後、溶媒を減圧留
去することにより、2−(3,4−ジエトキシフェニ
ル)−4−〔3−メトキシカルボニル−4−メトキシ−
5−(2−ジエチルアミノ−1−ヒドロキシエチル)フ
ェニル〕チアゾールを無色油状物として440mg得
た。1 H−NMR(CDCl3)δppm:1.22(6H,
t,J=7.2Hz)、1.49(3H,t,J=7.
0Hz)、1.51(3H,t,J=7.0Hz)、
2.49−2.67(1H,m)、2.68−3.08
(5H,m)、3.90(3H,s)、3.97(3
H,s)、4.16(2H,q,J=7.0Hz)、
4.23(2H,q,J=7.0Hz)、5.12−
5.26(1H,m)、6.93(1H,d,J=8.
3Hz)、7.46(1H,s)、7.5(1H,d
d,J=2.1Hz,J=8.3Hz)、7.61(1
H,d,J=2.1Hz)、8.35(1H,d,J=
2.3Hz)、8.41(1H,d,J=2.3H
z)。
【0199】実施例7 アルゴン雰囲気下、無水塩化メチレン(60ml)に2
−(3,4−ジエトキシフェニル)−4−(3−メトキ
シカルボニル−4−メトキシ−5−ホルミルフェニル)
チアゾール(3g)及びアリルトリメチルシラン(1.
16g)を溶解後、−15℃にて冷却攪拌下、四塩化チ
タン(0.82ml)を滴下した。同温にて1.5時間
攪拌後、水を加え分液した。有機層を分取し、飽和食塩
水洗浄後、硫酸マグネシウム上で乾燥した。溶媒を減圧
留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(ジクロロメタン:メタノール=499:1)にて精製
後、溶媒を減圧留去することにより、2−(3,4−ジ
エトキシフェニル)−4−〔3−メトキシカルボニル−
4−メトキシ−(1−ヒドロキシ−3−ブテニル)フェ
ニル〕チアゾールを黄色カラメル状物質として2.1g
得た。1 H−NMR(CDCl3)δppm:1.50(3H,
t,J=7.0Hz)、1.52(3H,t,J=7.
0Hz)、2.24−2.80(2H,m)、3.90
(3H,s)、3.97(3H,s)、4.16(2
H,q,J=7.0Hz)、4.23(2H,q,J=
7.0Hz)、5.10−5.30(3H,m)、5.
80−6.07(1H,m)、6.92(1H,d,J
=8.4Hz)、7.43(1H,s)、7.54(1
H,dd,J=2.1Hz,J=8.4Hz)、7.6
1(1H,d,J=2.1Hz)、8.23(1H,
d,J=2.3Hz)、8.36(1H,d,J=2.
3Hz)。
【0200】実施例8 ジメチルホルムアミド(25ml)に2−(3,4−ジ
エトキシフェニル)−4−(3−メトキシカルボニル−
4−メトキシ−5−カルボキシフェニル)チアゾール
(1g)、N,O−ジメチルヒドロキシルアミン塩酸塩
(254mg)及びシアノリン酸ジエチル(430m
g)を溶解後、トリエチルアミン(1.1ml)を加
え、室温にて14時間攪拌した。溶媒を減圧留去後、残
留物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を合わ
せ、飽和食塩水洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し
た。溶媒を減圧留去後、残留物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(ジクロロメタン:メタノール=99
7:3)にて精製し、溶媒を減圧留去することにより、
2−(3,4−ジエトキシフェニル)−4−(3−メト
キシカルボニル−4−メトキシ−5−カルボキシフェニ
ル)チアゾールを無色不定形として960mg得た。1 H−NMR(CDCl3)δppm:1.43−1.6
0(6H,m)、3.10−3.65(6H,m)、
3.95(3H,s)、3.98(3H,s)、4.1
6(2H,q,J=6.9Hz)、4.23(2H,
q,J=6.9Hz)、6.92(1H,d,J=8.
4Hz)、7.43(1H,s)、7.51(1H,d
d,J=2.1Hz,J=8.4Hz)、7.61(1
H,d,J=2.1Hz)、8.13(1H,br−
s)、8.45(1H,d,J=2.3Hz)。
【0201】実施例9 塩化メチレン(30ml)に2−(3,4−ジエトキシ
フェニル)−4−(3−メトキシカルボニル−4−メト
キシ−5−ヒドロキシメチルフェニル)チアゾール(2
g)を溶解後、室温攪拌下、トリエチルアミン(2.2
ml)、塩化メタンスルホニル(1.05ml)を滴下
し、同温にて16時間攪拌した。反応液を水洗(30m
l×2)後、硫酸マグネシウム上で乾燥した。溶媒を減
圧留去し、残渣を再び塩化メチレン(40ml)に溶解
し、シアン化カリウム(323mg)、臭化テトラ−n
−ブチルアンモニウム(200mg)及び水(1ml)
を加え、16時間加熱還流した。反応液に水(50m
l)を加え有機層を分取した。更に、塩化メチレンで抽
出(50ml×2)後、有機層を合わせ、水洗(100
ml×1)した。硫酸マグネシウム上で乾燥後、溶媒を
減圧留去後、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=4:1)にて精製
後、溶媒を減圧留去することにより、2−(3,4−ジ
エトキシフェニル)−4−(3−メトキシカルボニル−
4−メトキシ−5−シアノメチルフェニル)チアゾール
を無色油状物として920mg得た。1 H−NMR(CDCl3)δppm:1.61(6H,
m)、3.84(2H,s)、3.95(3H,s)、
3.99(3H,s)、4.10−4.32(4H,
m)、6.93(1H,d,J=8.3Hz)、7.4
5(1H,s)、7.54(1H,dd,J=2.1H
z,J=8.3Hz)、7.61(1H,d,J=2.
1Hz)、8.20(1H,d,J=2.3Hz)、
8.37(1H,d,J=2.3Hz)。
【0202】実施例10 ジメチルホルムアミド(350ml)に2−(3,4−
ジエトキシフェニル)−4−(3−メトキシカルボニル
−4−メトキシ−5−ヒドロキシメチルフェニル)チア
ゾール(34g)を溶解後、ヨウ化メチル(12g)を
加え氷浴上冷却攪拌下、60%水素化ナトリウム(3.
4g)を少量ずつ加え、室温に戻し、4時間攪拌した。
60℃にて溶媒を減圧留去後、残渣に水(600m
l)、酢酸エチル(1リットル)、10%水酸化ナトリ
ウム水溶液を加え、約pH9で分液した。有機層を分取
し、飽和食塩水洗浄(200ml×1)後、硫酸マグネ
シウム上で乾燥した。溶媒を減圧留去し、残渣をn−ヘ
キサンにてデカンテーションを行った後、シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:メタノール
=199:1)にて精製後、溶媒を減圧留去した。残渣
をリグロインにて再結晶を行い、2−(3,4−ジエト
キシフェニル)−4−(3−メトキシカルボニル−4−
メトキシ−5−メトキシメチルフェニル)チアゾールを
無色プリズム晶として23.5g得た。 融点 88−89℃。
【0203】実施例11 エタノール(40ml)に2−(3,4−ジエトキシフ
ェニル)−4−(3−メトキシカルボニル−4−メトキ
シ−5−ホルミルフェニル)チアゾール(1g)、1,
1−ジメチルヒドラジン(163mg)を加え、9時間
加熱還流した。放冷後、析出晶を濾取し、少量のエタノ
ールにて洗浄することにより、2−(3,4−ジエトキ
シフェニル)−4−(3−メトキシカルボニル−4−メ
トキシ−5−ジメチルヒドラゾノメチルフェニル)チア
ゾールを淡黄色粉末として1.01g得た。 融点 135.5−136.5℃。
【0204】実施例12 メタノール(20ml)に2−(3,4−ジエトキシフ
ェニル)−4−(3−メトキシカルボニル−4−メトキ
シ−5−アジドメチルフェニル)チアゾール(0.5
g)を溶解後、10%パラジウム−炭素(100mg)
を加え、水素雰囲気下、室温、常圧にて4時間攪拌し
た。触媒を濾去後、溶媒を減圧留去した。残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:メタ
ノール=50:1→10:1)にて精製後、溶媒を減圧
留去することにより、2−(3,4−ジエトキシフェニ
ル)−4−(3−メトキシカルボニル−4−メトキシ−
5−アミノメチルフェニル)チアゾールを淡黄色油状物
として0.41g得た。1 H−NMR(CDCl3)δppm:1.49(3H,
t,J=7.0Hz)、1.51(3H,t,J=7.
0Hz)、3.90(3H,s)、3.96(3H,
s)、3.99(2H,s)、4.15(2H,q,J
=7.0Hz)、4.22(2H,q,J=7.0H
z)、6.92(1H,d,J=8.3Hz)、7.4
3(1H,s)、7.53(1H,dd,J=2.1H
z,J=8.3Hz)、7.59(1H,d,J=2.
1Hz)、8.14(1H,d,J=2.3Hz)、
8.29(1H,d,J=2.3Hz)。
【0205】実施例13 塩化メチレン(20ml)に2−(3,4−ジエトキシ
フェニル)−4−(3−メトキシカルボニル−4−メト
キシ−5−アミノメチルフェニル)チアゾール(800
mg)及びジイソプロピルエチルアミン(0.47g)
を溶解後、氷浴上冷却攪拌下、塩化メタンスルホニル
(310mg)を滴下し、室温に戻し、3時間攪拌し
た。反応液を飽和硫酸水素カリウム水溶液で洗浄し、次
いで水洗後、硫酸マグネシウム上で乾燥した。溶媒を減
圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(ジクロロメタン:メタノール=50:1)にて精製
後、溶媒を減圧留去することにより、2−(3,4−ジ
エトキシフェニル)−4−(3−メトキシカルボニル−
4−メトキシ−5−メチルスルホニルアミノメチルフェ
ニル)チアゾールを無色不定形として730mg得た。1 H−NMR(CDCl3)δppm:1.50(3H,
t,J=7.0Hz)、1.52(3H,t,J=7.
0Hz)、2.78(3H,s)、3.93(3H,
s)、3.98(3H,s)、4.16(2H,q,J
=7.0Hz)、4.20(2H,q,J=7.0H
z)、4.45(2H,d,J=6.3Hz)、4.9
0−5.10(1H,m)、6.93(1H,d,J=
8.3Hz)、7.44(1H,s)、7.54(1
H,dd,J=2.1Hz,J=8.3Hz)、8.1
5(1H,d,J=2.3Hz)、8.37(1H,
d,J=2.3Hz)。
【0206】実施例14 1,2−ジクロロエタン(20ml)に2−(3,4−
ジエトキシフェニル)−4−(3−メトキシカルボニル
−4−メトキシ−5−アミノメチルフェニル)チアゾー
ル(800mg)を溶解後、トリホスゲン(200m
g)を加え、1時間加熱還流した。放冷後、室温にて攪
拌下、塩酸メチルアミン(190mg)、トリエチルア
ミン(290mg)の1,2−ジクロロエタン(10m
l)溶液を加え、1時間加熱還流した。放冷後、反応液
を水洗し、硫酸マグネシウム上で乾燥した。溶媒を減圧
留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(ジクロロメタン:メタノール=50:1)にて精製
後、溶媒を減圧留去した。残渣結晶をエタノールにて再
結晶することにより、2−(3,4−ジエトキシフェニ
ル)−4−〔3−メトキシカルボニル−4−メトキシ−
5−(N’−メチルウレイドメチル)フェニル〕チアゾ
ールを白色粉末として340mg得た。1 H−NMR(CDCl3)δppm:1.49(3H,
t,J=7.0Hz)、1.50(3H,t,J=7.
0Hz)、2.73(3H,d,J=4.8Hz)、
3.87(3H,s)、3.94(3H,s)、4.1
5(2H,q,J=7.0Hz)、4.21(2H,
q,J=7.0Hz)、4.66(2H,d,J=4.
8Hz)、4.60−4.75(1H,m)、5.10
−5.25(1H,m)、6.90(1H,d,J=
8.4Hz)、7.36(1H,s)、7.50(1
H,dd,J=2.1Hz,J=8.3Hz)、7.5
7(1H,d,J=2.1Hz)、8.06(1H,
d,J=2.3Hz)、8.30(1H,d,J=2.
3Hz)。
【0207】実施例15 テトラヒドロフラン(10ml)に2−(3,4−ジエ
トキシフェニル)−4−〔3−メトキシカルボニル−4
−メトキシ−5−(N’−メチルウレイドメチル)フェ
ニル〕チアゾール(320mg)を溶解し、2N−水酸
化リチウム水溶液(5ml)を加え、2日間加熱還流し
た。テトラヒドロフランを減圧留去後、水層を酢酸エチ
ル(30ml)洗浄した。水層を2N−塩酸にて弱酸性
とした後、析出晶を濾取した。この結晶をエタノールに
て再結晶することにより、2−(3,4−ジエトキシフ
ェニル)−4−〔3−カルボキシ−4−メトキシ−5−
(N’−メチルウレイドメチル)フェニル〕チアゾール
を白色粉末として300mg得た。 融点 207−209℃。
【0208】実施例16 塩化メチレン(10ml)に2−(3,4−ジエトキシ
フェニル)−4−(3−メトキシカルボニル−4−メト
キシ−5−メチルスルホニルアミノメチルフェニル)チ
アゾール(350mg)、ジイソプロピルエチルアミン
(150mg)及び4−ジメチルアミノピリジン(30
mg)を溶解後、氷浴上冷却攪拌下、塩化メタンスルホ
ニル(140mg)を加え、室温に戻し、15時間攪拌
した。反応液を水洗し、硫酸マグネシウム上で乾燥し
た。溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー(ジクロロメタン:メタノール=50:
1)にて精製し、溶媒を減圧留去することにより、2−
(3,4−ジエトキシフェニル)−4−{3−メトキシ
カルボニル−4−メトキシ−5−〔(N−メチル−N−
メチルスルホニルアミノ)メチル〕フェニル}チアゾー
ルを無色針状晶として300mg得た。1 H−NMR(CDCl3)δppm:1.49(3H,
t,J=7.0Hz)、1.52(3H,t,J=7.
0Hz)、2.82(3H,s)、2.93(3H,
s)、3.89(3H,s)、3.98(3H,s)、
4.16(2H,q,J=7.0Hz)、4.23(2
H,q,J=7.0Hz)、4.49(2H,s)、
6.93(1H,d,J=8.4Hz)、7.45(1
H,s)、7.53(1H,dd,J=2.0Hz,J
=8.4Hz)、7.61(1H,d,J=2.0H
z)、8.19(1H,d,J=2.3Hz)、8.4
1(1H,d,J=2.3Hz)。
【0209】実施例17 メタノール(80ml)に2−(3−エトキシ−4−メ
トキシフェニル)−4−(3−メトキシカルボニル−4
−メトキシ−5−ホルミルフェニル)チアゾール(7
g)を懸濁後、室温にて攪拌下、水素化ホウ素ナトリウ
ム(200mg)を加え、同温にて2時間攪拌した。反
応液を減圧濃縮し、塩化メチレン(100ml)を加
え、析出物を溶解し、希塩酸で洗浄(×3)した。有機
層を分取し、硫酸マグネシウム上で乾燥した。溶媒を減
圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(n−ヘキサン:酢酸エチル=5:1→3:1)にて精
製後、溶媒を減圧留去することにより、2−(3−エト
キシ−4−メトキシフェニル)−4−〔3−メトキシカ
ルボニル−4−メトキシ−5−(1,1−ジメトキシメ
チル)フェニル〕チアゾールを淡黄色粉末として2.8
g得た。1 H−NMR(CDCl3)δppm:1.53(3H,
t,J=7.0Hz)、3.43(6H,s)、3.9
2(3H,s)、3.94(3H,s)、3.98(3
H,s)、4.24(2H,q,J=7.0Hz)、
5.70(1H,s)、6.93(1H,d,J=8.
3Hz)、7.45(1H,s)、7.49−7.72
(2H,m)、8.26(1H,d,J=2.3H
z)、8.49(1H,d,J=2.3Hz)。
【0210】実施例18 塩化メチレン(50ml)に2−(3,4−ジエトキシ
フェニル)−4−(3−カルボキシ−4−メトキシ−5
−メチルチオメチルフェニル)チアゾール(1.1g)
を溶解後、室温にてm−クロロ過安息香酸(1.6g)
を加え、同温にて一晩攪拌した。反応液を水洗(×2)
後、飽和食塩水洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し
た。溶媒を減圧留去後、得られた2−(3,4−ジエト
キシフェニル)−4−(3−カルボキシ−4−メトキシ
−5−メチルスルホニルメチルフェニル)チアゾールを
塩化メチレン(50ml)に懸濁し、塩化オキザリル
(2.4g)、N−メチルピペリドン(3滴)を加え、
3時間加熱還流した。更に、メタノール(30ml)を
加え、1時間加熱還流した。反応液を減圧濃縮後、トル
エンにて共沸した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=1:1→3:
4)にて精製後、溶媒を減圧留去することにより、2−
(3,4−ジエトキシフェニル)−4−(3−メトキシ
カルボニル−4−メトキシ−5−メチルスルホニルメチ
ルフェニル)チアゾールを淡褐色不定形として720m
g得た。1 H−NMR(CDCl3)δppm:1.53(3H,
t,J=7.0Hz)、2.85(3H,s)、3.9
3(6H,s)、3.99(3H,s)、3.95,
4.24(2H,q,J=7.0Hz)、4.44(2
H,s)、6.93(1H,d,J=8.3Hz)、
7.48(1H,s)、7.49−7.66(2H,
m)、8.25(1H,d,J=2.3Hz)、8.4
6(1H,d,J=2.3Hz)。
【0211】実施例19 ジメチルホルムアミド(15ml)に2−(3,4−ジ
エトキシフェニル)−4−(2−メトキシカルボニル−
4−ピロリル)チアゾール(2g)を溶解後、室温にて
攪拌下、水素化ナトリウム(60%油性、258mg)
を加え、同温にして30分間攪拌した。次いで同温にて
クロロメチルエーテル(1.22ml)を滴下し、同温
にて12時間攪拌した。反応液を水(50ml)に注
ぎ、酢酸エチルで抽出(50ml×2)した。有機層を
合わせ、水洗(150ml×3)、飽和食塩水洗浄(5
0ml×1)後、硫酸マグネシウム上で乾燥した。溶媒
を減圧留去後、残渣をイソプロパノールにて再結晶する
ことにより、2−(3,4−ジエトキシフェニル)−4
−(2−メトキシカルボニル−1−メトキシメチル−4
−ピロリル)チアゾールを白色粉末として1.98g得
た。
【0212】適当な出発原料を用い、実施例1又は実施
例3と同様にして、下記に示す本発明の化合物を得た。
【0213】
【表2】
【0214】
【表3】
【0215】
【表4】
【0216】
【表5】
【0217】
【表6】
【0218】
【表7】
【0219】
【表8】
【0220】
【表9】
【0221】
【表10】
【0222】
【表11】
【0223】
【表12】
【0224】
【表13】
【0225】
【表14】
【0226】
【表15】
【0227】
【表16】
【0228】
【表17】
【0229】
【表18】
【0230】
【表19】
【0231】
【表20】
【0232】
【表21】
【0233】
【表22】
【0234】
【表23】
【0235】
【表24】
【0236】
【表25】
【0237】
【表26】
【0238】
【表27】
【0239】上記表における本発明化合物のNMRスペ
クトルデータを以下に示す。
【0240】1)1H−NMR(DMSO−d6)δpp
m:1.08−1.51(6H,m)、1.68−2.
21(3H,m)、3.00−3.61(3H,m)、
3.87(3H,s)、3.95−4.28(4H,
m)、4.30−4.85(3H,m)、7.08(1
H,d,J=8.1Hz)、7.35−7.61(2
H,m)、8.16(1H,s)、8.25−8.58
(2H,m)、10.21(1H,br−s)。
【0241】2)1H−NMR(DMSO−d6)δpp
m:1.29−1.46(6H,m)、2.41,2.
59(全6H,各s)、3.80,3.82(全3H,
各s)、4.01−4.23(4H,m)、7.07
(1H,d,J=8.2Hz)、7.45−7.60
(2H,m)、8.00,8.14(全1H,各d,J
=2.4Hz)、8.16,8.20(全1H,各
s)、8.29,8.34(全1H,各d,J=2.4
Hz)、9.01,9.28(全1H,各br−s)。
【0242】3)1H−NMR(DMSO−d6)δpp
m:1.28−1.43(6H,m)、3.29−3.
46(2H,m)、3.49−3.67(2H,m)、
3.83(3H,s)、4.01−4.24(4H,
m)、4.63−4.91(1H,m)、7.07(1
H,d,J=8.2Hz)、7.43−7.62(2
H,m)、8.19(1H,s)、8.30(1H,
d,J=2.4Hz)、8.35(1H,d,J=2.
4Hz)、8.32−8.48(1H,m)、13.1
2−13.41(1H,m)。
【0243】4)1H−NMR(DMSO−d6)δpp
m:1.50(3H,t,J=7.0Hz)、1.52
(3H,t,J=7.0Hz)、3.02,3.23
(全3H,各s)、3.29−3.48(1H,m)、
3.62−4.02(4H,m)、4.06,4.08
(全3H,各s)、4.16(2H,q,J=7.0H
z)、4.23(2H,q,J=7.0Hz)、6.8
7−6.98(1H,m)、7.43−7.57(2
H,m)、7.59(1H,d,J=2.2Hz)、
8.21,8.24(全1H,各d,J=2.4H
z)、8.63,8.69(全1H,各d,J=2.4
Hz)。
【0244】5)1H−NMR(DMSO−d6)δpp
m:1.50(3H,t,J=7.0Hz)、1.52
(3H,t,J=7.0Hz)、3.32,3.49
(全3H,各s)、4.04(3H,s)、4.16
(2H,q,J=7.0Hz)、4.23(2H,q,
J=7.0Hz)、6.92(1H,d,J=8.4H
z)、7.44−7.56(2H,m)、7.56−
7.67(1H,m)、8.32(1H,d,J=2.
3Hz)、8.59−8.80(1H,m)。
【0245】6)1H−NMR(DMSO−d6)δpp
m:1.35(3H,t,J=6.9Hz)、1.37
(3H,t,J=6.9Hz)、3.83,3.88
(全3H,各s)、4.09(2H,q,J=6.9H
z)、4.13(2H,q,J=6.9Hz)、7.0
7(1H,d,J=8.3Hz)、7.45−7.61
(2H,m)、8.17−8.33(1H,m)、8.
21(1H,s)、8.38,8.41(全1H,各
d,J=2.4Hz)、8.95−10.88(3H,
m)。
【0246】7)1H−NMR(CDCl3)δppm:
1.49(3H,t,J=7.0Hz)、1.50(3
H,t,J=7.0Hz)、2.45(1H,br−
s)、3.15(1H,br−s)、3.60−3.7
8(1H,m)、3.87(3H,s)、4.15(2
H,q,J=7.0Hz)、4.21(2H,q,J=
7.0Hz)、5.11−5.27(1H,m)、6.
91(1H,d,J=8.3Hz)、7.41(1H,
s)、7.52(1H,dd,J=2.1Hz,J=
8.3Hz)、7.58(1H,d,J=2.1H
z)、8.24(1H,d,J=2.3Hz)、8.3
4(1H,d,J=2.3Hz)。
【0247】8)1H−NMR(CDCl3)δppm:
1.22(6H,t,J=7.2Hz)、1.49(3
H,t,J=7.0Hz)、1.51(3H,t,J=
7.0Hz)、2.49−2.67(1H,m)、2.
68−3.08(5H,m)、3.90(3H,s)、
3.97(3H,s)、4.16(2H,q,J=7.
0Hz)、4.23(2H,q,J=7.0Hz)、
5.12−5.26(1H,m)、6.93(1H,
d,J=8.3Hz)、7.46(1H,s)、7.5
(1H,dd,J=2.1Hz,J=8.3Hz)、
7.61(1H,d,J=2.1Hz)、8.35(1
H,d,J=2.3Hz)、8.41(1H,d,J=
2.3Hz)。
【0248】9)1H−NMR(CDCl3)δppm:
1.50(3H,t,J=7.0Hz)、1.52(3
H,t,J=7.0Hz)、2.42−2.80(2
H,m)、3.90(3H,s)、3.97(3H,
s)、4.16(2H,q,J=7.0Hz)、4.2
3(2H,q,J=7.0Hz)、5.10−5.30
(3H,m)、5.80−6.07(1H,m)、6.
92(1H,d,J=8.4Hz)、7.43(1H,
s)、7.54(1H,dd,J=2.1Hz,J=
8.4Hz)、7.61(1H,d,J=2.1H
z)、8.23(1H,d,J=2.3Hz)、8.3
6(1H,d,J=2.3Hz)。
【0249】10)1H−NMR(CDCl3)δpp
m:1.43−1.60(6H,m)、3.10−3.
65(6H,m)、3.95(3H,s)、3.98
(3H,s)、4.16(2H,q,J=6.9H
z)、4.23(2H,q,J=6.9Hz)、6.9
2(1H,d,J=8.4Hz)、7.43(1H,
s)、7.51(1H,dd,J=2.1Hz,J=
8.4Hz)、7.61(1H,d,J=2.1H
z)、8.13(1H,br−s)、8.45(1H,
d,J=2.3Hz)。
【0250】11)1H−NMR(CDCl3)δpp
m:1.61(6H,m)、3.84(2H,s)、
3.95(3H,s)、3.99(3H,s)、4.1
0−4.32(4H,m)、6.93(1H,d,J=
8.3Hz)、7.45(1H,s)、7.54(1
H,dd,J=2.1Hz,J=8.3Hz)、7.6
1(1H,d,J=2.1Hz)、8.20(1H,
d,J=2.3Hz)、8.37(1H,d,J=2.
3Hz)。
【0251】12)1H−NMR(CDCl3)δpp
m:1.49(3H,t,J=7.0Hz)、1.51
(3H,t,J=7.0Hz)、3.90(3H,
s)、3.96(3H,s)、3.99(2H,s)、
4.15(2H,q,J=7.0Hz)、4.22(2
H,q,J=7.0Hz)、6.92(1H,d,J=
8.3Hz)、7.43(1H,s)、7.53(1
H,dd,J=2.1Hz,J=8.3Hz)、7.5
9(1H,d,J=2.1Hz)、8.14(1H,
d,J=2.3Hz)、8.29(1H,d,J=2.
3Hz)。
【0252】13)1H−NMR(CDCl3)δpp
m:1.50(3H,t,J=7.0Hz)、1.52
(3H,t,J=7.0Hz)、2.78(3H,
s)、3.93(3H,s)、3.98(3H,s)、
4.16(2H,q,J=7.0Hz)、4.20(2
H,q,J=7.0Hz)、4.45(2H,d,J=
6.3Hz)、4.90−5.10(1H,m)、6.
93(1H,d,J=8.3Hz)、7.44(1H,
s)、7.54(1H,dd,J=2.1Hz,J=
8.3Hz)、8.15(1H,d,J=2.3H
z)、8.37(1H,d,J=2.3Hz)。
【0253】14)1H−NMR(CDCl3)δpp
m:1.49(3H,t,J=7.0Hz)、1.50
(3H,t,J=7.0Hz)、2.73(3H,d,
J=4.8Hz)、3.87(3H,s)、3.94
(3H,s)、4.15(2H,q,J=7.0H
z)、4.21(2H,q,J=7.0Hz)、4.6
6(2H,d,J=4.8Hz)、4.60−4.75
(1H,m)、5.10−5.25(1H,m)、6.
90(1H,d,J=8.4Hz)、7.36(1H,
s)、7.50(1H,dd,J=2.1Hz,J=
8.3Hz)、7.57(1H,d,J=2.1H
z)、8.06(1H,d,J=2.3Hz)、8.3
0(1H,d,J=2.3Hz)。
【0254】15)1H−NMR(CDCl3)δpp
m:1.49(3H,t,J=7.0Hz)、1.52
(3H,t,J=7.0Hz)、2.82(3H,
s)、2.93(3H,s)、3.89(3H,s)、
3.98(3H,s)、4.16(2H,q,J=7.
0Hz)、4.23(2H,q,J=7.0Hz)、
4.49(2H,s)、6.93(1H,d,J=8.
4Hz)、7.45(1H,s)、7.53(1H,d
d,J=2.0Hz,J=8.4Hz)、7.61(1
H,d,J=2.0Hz)、8.19(1H,d,J=
2.3Hz)、8.41(1H,d,J=2.3H
z)。
【0255】16)1H−NMR(CDCl3)δpp
m:1.53(3H,t,J=7.0Hz)、3.43
(6H,s)、3.92(3H,s)、3.94(3
H,s)、3.98(3H,s)、4.24(2H,
q,J=7.0Hz)、5.70(1H,s)、6.9
3(1H,d,J=8.3Hz)、7.45(1H,
s)、7.49−7.72(2H,m)、8.26(1
H,d,J=2.3Hz)、8.49(1H,d,J=
2.3Hz)。
【0256】17)1H−NMR(CDCl3)δpp
m:1.53(3H,t,J=7.0Hz)、2.85
(3H,s)、3.93(6H,s)、3.99(3
H,s)、3.95,4.24(2H,q,J=7.0
Hz)、4.44(2H,s)、6.93(1H,d,
J=8.3Hz)、7.48(1H,s)、7.49−
7.66(2H,m)、8.25(1H,d,J=2.
3Hz)、8.46(1H,d,J=2.3Hz)。
【0257】18)1H−NMR(CDCl3)δpp
m:1.53(3H,t,J=7.0Hz)、3.50
(3H,s)、3.89(3H,s)、3.93(3
H,s)、4.35(2H,q,J=7.1Hz)、
4.85(2H,s)、6.91(1H,d,J=8.
4Hz)、7.48(1H,s)、7.51(1H,d
d,J=2.0Hz,J=8.3Hz)、7.58−
7.68(2H,m)。
【0258】19)1H−NMR(CDCl3)δpp
m:1.49(3H,t,J=7.0Hz)、1.51
(3H,t,J=7.0Hz)、3.35(3H,
s)、3.87(3H,s)、4.15(2H,q,J
=7.0Hz)、4.22(2H,q,J=7.0H
z)、5.71(2H,s)、6.91(1H,d,J
=8.4Hz)、7.12(1H,s)、7.49(1
H,dd,J=2.0Hz,J=8.4Hz)、7.5
9(2H,d,J=2.0Hz)、7.36(1H,
d,J=2.0Hz)。
【0259】20)1H−NMR(CDCl3)δpp
m:3.48(3H,s)、3.91(3H,s)、
3.94(3H,s)、3.96(3H,s)、4.5
6(2H,s)、6.95(1H,d,J=8.3H
z)、7.06(1H,d,J=8.7Hz)、7.3
6(1H,s)、7.93−8.02(2H,m)、
8.14(1H,dd,J=2.4Hz,J=8.7H
z)、8.38(1H,d,J=2.4Hz)。
【0260】21)1H−NMR(CDCl3)δpp
m:1.49(3H,t,J=7.0Hz)、1.51
(3H,t,J=7.0Hz)、2.82(1H,d
d,J=2.5Hz,J=5.6Hz)、3.23(1
H,dd,J=4.2Hz,J=5.6Hz)、3.9
5(3H,s)、3.98(3H,s)、4.15(2
H,q,J=7.0Hz)、4.22(2H,q,J=
7.0Hz)、4.26−4.29(1H,m)、6.
92(1H,d,J=8.3Hz)、7.41(1H,
s)、7.53(1H,dd,J=2.0Hz,J=
8.3Hz)、7.60(1H,d,J=2.0H
z)、7.92(1H,d,J=2.3Hz)、8.3
7(1H,d,J=2.3Hz)。
【0261】22)1H−NMR(CDCl3)δpp
m:1.08(1.5H,d,J=6.6Hz)、1.
21(1.5H,d,J=6.6Hz)、1.29
(1.5H,d,J=6.6Hz)、1.31(1.5
H,d,J=6.6Hz)、1.49(3H,t,J=
7.0Hz)、1.52(3H,t,J=7.0H
z)、3.92(1.5H,s)、3.94(1.5
H,s)、3.93(1.5H,s)、3.98(1.
5H,s)、4.16(2H,q,J=7.0Hz)、
4.23(2H,q,J=7.0Hz)、4.72−
5.03(2H,m)、5.15−5.52(2H,
m)、5.55−6.25(1H,m)、6.92(1
H,d,J=8.4Hz)、7.40(0.5H,
s)、7.42(0.5H,s)、7.52(1H,d
d,J=3.0Hz,J=8.4Hz)、7.58−
7.70(1H,m)、7.95−8.12(1H,
m)、8.38−8.51(1H,m)。
【0262】23)1H−NMR(CDCl3)δpp
m:1.49(3H,t,J=7.0Hz)、1.52
(3H,t,J=7.0Hz)、3.03(3H,
s)、3.91(3H,s)、3.98(3H,s)、
4.16(2H,q,J=7.0Hz)、4.23(2
H,q,J=7.0Hz)、6.93(1H,d,J=
8.4Hz)、7.45(1H,s)、7.52(1
H,dd,J=2.1Hz,J=8.3Hz)、7.6
0(1H,d,J=1.8Hz)、8.11(1H,
d,J=2.3Hz)、8.46(1H,d,J=2.
3Hz)。
【0263】24)1H−NMR(CDCl3)δpp
m:0.30−1.06(4H,m)、1.40−1.
65(6H,m)、2.71−3.05(1H,m)、
3.16(3H,s)、3.93(3H,s)、3.9
7(3H,s)、4.16(2H,q,J=7.2H
z)、4.23(2H,q,J=7.2Hz)、6.9
2(1H,d,J=8.4Hz)、7.43(1H,
s)、7.52(1H,dd,J=1.9Hz,J=
8.3Hz)、7.60(1H,d,J=2.0H
z)、8.02−8.18(1H,m)、8.36−
8.52(1H,m)。
【0264】25)1H−NMR(CDCl3)δpp
m:1.49(3H,t,J=7.0Hz)、1.52
(3H,t,J=7.0Hz)、3.03(2.3H,
s)、3.28(0.7H,s)、3.90(0.7
H,s)、3.91(2.3H,s)、3.98(3
H,s)、4.16(2H,q,J=7.0Hz)、
4.22(2H,q,J=7.0Hz)、6.92(1
H,d,J=8.4Hz)、7.43(0.3H,
s)、7.45(0.7H,s)、7.52(1H,d
d,J=2.1Hz,J=8.3Hz)、7.60(1
H,d,J=2.0Hz)、8.11(1H,d,J=
2.3Hz)、8.46(0.7H,d,J=2.3H
z)、8.50(0.3H,d,J=2.3Hz)。
【0265】26)1H−NMR(CDCl3)δpp
m:1.49(3H,t,J=7.1Hz)、1.51
(3H,t,J=7.1Hz)、1.62−2.30
(6H,m)、2.50(1H,q,J=8.7H
z)、3.05−3.21(1H,m)、3.29−
3.42(1H,m)、3.65(3H,s)、3.8
8(3H,s)、3.96(3H,s)、4.16(2
H,q,J=7.1Hz)、4.24(2H,q,J=
7.1Hz)、6.93(1H,d,J=8.4H
z)、7.44(1H,s)、7.53(1H,dd,
J=2.1Hz,J=8.4Hz)、7.63(1H,
d,J=2.0Hz)、8.15(1H,d,J=2.
3Hz)、8.34(1H,d,J=2.3Hz)。
【0266】実施例122 ジメチルホルムアミド(10ml)に2−(3,4−ジ
エトキシフェニル)−4−(3−メトキシカルボニル−
4−メトキシ−5−クロロメチルフェニル)チアゾール
(800mg)を溶解後、室温にて、L−プロリンメチ
ルエステル塩酸塩(380mg)及びジイソプロピルエ
チルアミン(680ml)を順次加え、同温にて15時
間攪拌した。反応液に酢酸エチル(100ml)を加
え、水洗(×2)後、硫酸マグネシウム上で乾燥した。
溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(n−ヘキサン:酢酸エチル=1:1)にて精
製し、溶媒を減圧留去することにより、2−(3,4−
ジエトキシフェニル)−4−{3−メトキシカルボニル
−4−メトキシ−5−〔(L−2−メトキシカルボニル
−1−ピロリジニル)メチル〕フェニル}チアゾールを
淡黄色固体として600mg得た。1 H−NMR(CDCl3)δppm:1.49(3H,
t,J=7.1Hz)、1.51(3H,t,J=7.
1Hz)、1.62−2.30(6H,m)、2.50
(1H,q,J=8.7Hz)、3.05−3.21
(1H,m)、3.29−3.42(1H,m)、3.
65(3H,s)、3.88(3H,s)、3.96
(3H,s)、4.16(2H,q,J=7.1H
z)、4.24(2H,q,J=7.1Hz)、6.9
3(1H,d,J=8.4Hz)、7.44(1H,
s)、7.53(1H,dd,J=2.1Hz,J=
8.4Hz)、7.63(1H,d,J=2.0H
z)、8.15(1H,d,J=2.3Hz)、8.3
4(1H,d,J=2.3Hz)。
【0267】実施例123 ジメチルホルムアミド(20ml)に2−(3,4−ジ
エトキシフェニル)−4−(3−メトキシカルボニル−
4−メトキシ−5−カルボキシフェニル)チアゾール
(800mg)、カルバジン酸tert−ブチル(347m
g)及びシアノリン酸ジエチル(342mg)を溶解
後、氷浴上冷却攪拌下、トリエチルアミン(0.37m
l)を加え、室温に戻し、3日間攪拌した。反応液を水
(100ml)に注ぎ、酢酸エチルで抽出(100ml
×1、50ml×2)した。有機層を合わせ、水洗(1
00ml×3)後、硫酸マグネシウム上で乾燥した。溶
媒を減圧留去後、残渣結晶を酢酸エチル−ジエチルエー
テル−n−ヘキサンにて再結晶することにより、2−
(3,4−ジエトキシフェニル)−4−〔3−メトキシ
カルボニル−4−メトキシ−5−(3−tert−ブトキシ
カルボニルカルバゾイル)フェニル〕チアゾールを白色
粉末として910mg得た。 融点 157.5−158.5℃(分解)。
【0268】実施例124 メタノール(40ml)及び水(10ml)の混合液に
2−(3,4−ジエトキシフェニル)−4−〔3−メト
キシカルボニル−4−メトキシ−5−(3−tert−ブト
キシカルボニルカルバゾイル)フェニル)チアゾール
(900mg)を懸濁後、炭酸カリウム(1.09g)
を加え、70℃から75℃にて4時間加熱攪拌した。放
冷後、氷浴上にて攪拌下、5N−塩酸(2.83ml)
を加え、弱塩基性とし、溶媒を減圧留去した。残渣に水
(20ml)及び5N−水酸化ナトリウム水溶液(0.
5ml)を加え、均一溶液とし、酢酸エチルで洗浄(5
0ml×1)した。水層に5N−塩酸(1ml)及び酢
酸エチル(30ml)を加え、分液後、有機層を分取し
た。更に、水層より酢酸エチルで抽出(30ml×2)
後、有機層を合わせ、水洗(50ml×5)、飽和食塩
水洗浄(50ml×1)した。硫酸マグネシウム上で乾
燥後、溶媒を減圧留去後、残渣を酢酸エチル−ジエチル
エーテルより再結晶して、2−(3,4−ジエトキシフ
ェニル)−4−〔3−カルボキシ−4−メトキシ−5−
(3−tert−ブトキシカルボニルカルバゾイル)フェニ
ル〕チアゾールを白色粉末状として880mg得た。 融点 146.5−148℃。
【0269】実施例125 塩化メチレン(30ml)に2−(3,4−ジエトキシ
フェニル)−4−〔3−カルボキシ−4−メトキシ−5
−(3−tert−ブトキシカルボニルカルバゾイル)フェ
ニル〕チアゾール(790mg)を溶解後、氷浴上冷却
攪拌下、トリフルオロ酢酸(1.09ml)を滴下し、
室温に戻し、16時間攪拌した。溶媒を減圧留去後、残
渣結晶を含水エタノールにて再結晶することにより、2
−(3,4−ジエトキシフェニル)−4−(3−カルボ
キシ−4−メトキシ−5−カルバゾイルフェニル)チア
ゾール・1/2トリフルオロ酢酸塩を白色粉末として9
10mg得た。 融点 195−205℃(分解)1 H−NMR(DMSO−d6)δppm:1.35(3
H,t,J=6.9Hz)、1.37(3H,t,J=
6.9Hz)、3.83,3.88(全3H,各s)、
4.09(2H,q,J=6.9Hz)、4.13(2
H,q,J=6.9Hz)、7.07(1H,d,J=
8.3Hz)、7.45−7.61(2H,m)、8.
13−8.33(1H,m)、8.21(1H,s)、
8.38,8.41(全1H,各d,J=2.4H
z)、8.95−10.88(3H,m)。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) A61K 31/44 613 A61K 31/44 613 C07D 417/04 C07D 417/04 417/10 417/10 // A61K 31/425 601 A61K 31/425 601 602 602 (72)発明者 栗村 宗明 徳島県徳島市春日1丁目2−10 メゾンサ ンテラスB−102号 (72)発明者 森 豊樹 徳島県鳴門市撫養町北浜字宮の西101−8 (72)発明者 北野 和良 徳島県鳴門市大麻町桧字西山田1−53 Fターム(参考) 4C033 AD09 AD17 4C063 AA01 BB01 BB06 CC62 CC71 CC82 CC92 DD04 DD12 DD62 DD75 EE01 4C086 AA03 BC82 GA02 GA08 NA14 ZA36 ZA44 ZA45 ZA66 ZA68 ZA75 ZA81 ZA96 ZB15 ZC01 ZC35

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式 【化1】 〔式中、R1はフェニル環上に置換基として低級アルコ
    キシ基及び低級アルコキシ置換低級アルキル基なる群よ
    り選ばれる基を1〜3個有することのあるフェニル基又
    はフェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ
    基を有するフェニル基を示す。R2はフリル環上に置換
    基として低級アルコキシ置換低級アルキル基、低級アル
    コキシカルボニル基及びカルボキシ基なる群より選ばれ
    る基を有するフリル基、ピロリル環上に置換基として低
    級アルコキシ置換低級アルキル基、低級アルコキシカル
    ボニル基及びカルボキシ基なる群より選ばれる基を有す
    るピロリル基、チエニル環上に置換基として低級アルコ
    キシ置換低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基
    及びカルボキシ基なる群より選ばれる基を有するチエニ
    ル基、ピリジル環上に置換基として低級アルコキシ置換
    低級アルキル基、低級アルコキシカルボニル基及びカル
    ボキシ基なる群より選ばれる基を有するピリジル基、又
    は基 【化2】 を示す。ここで、R3は低級アルコキシカルボニル基又
    はカルボキシ基を示す。R4は低級アルコキシ基を示
    す。R5は水素原子、アジド置換低級アルキル基、水酸
    基置換低級アルケニル基、シアノ置換低級アルキル基、
    低級アルコキシ置換低級アルキル基、低級アルキルチオ
    置換低級アルキル基、低級アルキルスルホニル置換低級
    アルキル基、ピロリジン環上に置換基として低級アルキ
    ルカルボニル基及びカルボキシ基なる群より選ばれる基
    を有するピロリジニル基置換低級アルキル基、基−A−
    NR67(Aは置換基として水酸基を有する低級アルキ
    レン基を示す。R6及びR7は、同一又は異なって、水素
    原子又は低級アルキル基を示す。)、基−Z−NR89
    (Zは低級アルキレン基又は基−CO−を示す。R8
    びR9は、同一又は異なって、水素原子、低級アルコキ
    シ基、置換基として水酸基を有することのある低級アル
    キル基、置換基として低級アルキル基又は低級アルコキ
    シカルボニル基を有することのあるアミノ基、水酸基、
    低級アルキルスルホニル基、置換基として低級アルキル
    基を有することのあるアミノカルボニル基、シアノ置換
    低級アルキル基、低級アルケニル基、シクロアルキル基
    又はハロゲン置換低級アルキル基を示す。)、オキシラ
    ニル基、又は基−CH=N−R10(R10は、水酸基、低
    級アルコキシ基又は置換基として低級アルキル基を有す
    ることのあるアミノ基を示す。)を示す。但し、R2
    フリル環上に置換基として低級アルコキシカルボニル基
    及びカルボキシ基なる群より選ばれる基を有するフリル
    基、ピロリル環上に置換基として低級アルコキシカルボ
    ニル基及びカルボキシ基なる群より選ばれる基を有する
    ピロリル基、チエニル環上に置換基として低級アルコキ
    シカルボニル基及びカルボキシ基なる群より選ばれる基
    を有するチエニル基、ピリジル環上に置換基として低級
    アルコキシカルボニル基及びカルボキシ基なる群より選
    ばれる基を有するピリジル基を示すか、或いはR2が基 【化3】 を示し、且つR3が低級アルコキシカルボニル基又はカ
    ルボキシ基、R4が低級アルコキシ基、R5が水素原子を
    示す場合には、R1はフェニル環上に置換基として低級
    アルコキシ基を1〜3個有することのあるフェニル基又
    はフェニル環上に置換基として低級アルキレンジオキシ
    基を有するフェニル基であってはならない。〕で表され
    るチアゾール誘導体又はその塩。
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