JPH0380293B2 - - Google Patents

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JPH0380293B2
JPH0380293B2 JP60148026A JP14802685A JPH0380293B2 JP H0380293 B2 JPH0380293 B2 JP H0380293B2 JP 60148026 A JP60148026 A JP 60148026A JP 14802685 A JP14802685 A JP 14802685A JP H0380293 B2 JPH0380293 B2 JP H0380293B2
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Masao Sasaki
Koji Kadowaki
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Konica Minolta Inc
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Publication of JPH0380293B2 publication Critical patent/JPH0380293B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C7/00Multicolour photographic processes or agents therefor; Regeneration of such processing agents; Photosensitive materials for multicolour processes
    • G03C7/30Colour processes using colour-coupling substances; Materials therefor; Preparing or processing such materials
    • G03C7/392Additives
    • G03C7/39208Organic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/76Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/95Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers rendered opaque or writable, e.g. with inert particulate additives
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野] 本発明はハロゲン化銀写真感光材料に関するも
のであり、特に長期保存した時の写真表面付近に
おけるくもり(以下、ヘイズと称する)の発生が
防止されたハロゲン化銀写真感光材料に関する。 [発明の背景] 一般にハロゲン化銀カラー写真感光材料は支持
体上に青色光・緑色光および赤色光に感光性を有
するように選択的に増感された3種のハロゲン化
銀カラー写真用乳剤層が塗設されている。たとえ
ばカラーネガ用感光材料では、一般に露光される
側から青感性乳剤層、緑感性乳剤層、赤感性乳剤
層の順に塗設されており、青感性乳剤層と緑感性
乳剤層の間には青感性乳剤層を透過する青色光を
吸収させるために漂白可能な黄色フイルター層が
設けられている。さらに各乳剤層の間には各々特
殊な目的で他の中間層を、また最外層として保護
層を設けることが行なわれている。また、たとえ
ばカラー印画紙用感光材料では一般に露光される
側から赤感性乳剤層、緑感性乳剤層、青感性乳剤
層の順に塗設されており、カラーネガ用感光材料
におけると同様に各々特殊の目的で紫外線吸収層
をはじめとする中間層、保護層等が設けられてい
る。これらの各乳剤層は前記とは別の配列でもう
ることも知られており、さらに感光域の異なる各
乳剤層を1層用いる代りに各々の色光に対して実
質的に同じ感光域に感光性を有する2種の感光性
乳剤層を用いることも知られている。これらのハ
ロゲン化銀カラー写真感光材料においては、発色
現像主薬として、例えば芳香族第1級アミン化合
物を用いて、露光されたハロゲン化銀粒子を現像
し、生成した発色現像主薬の酸化生成物と色素形
成カプラーとの反応により色素画像が形成され
る。この方法においては通常シアン、マゼンタお
よびイエローの色素画像を形成するために、それ
ぞれフエノールもしくはナフトール系シアンカプ
ラー、5−ピラゾロン、ピラゾリノベンツイミダ
ゾール、ピラゾロトリアゾール、インダゾロンも
しくはシアノアセチル系マゼンタカプラーおよび
アシルアセトアミドもしくはベンゾイルメタン系
イエローカプラーが用いられる。これらの色素形
成カプラーは感光性カラー写真用乳剤層中もしく
は現像液中に含有される。 一般に色素画像は様々な保存条件の下で変退色
することが知られている。例えばカラープリント
を写真館のシヨーウインドーでのテイスプレイの
如く、長時間光に曝されて保存される場合の変退
色があり、明変退色と呼んでいる。更に、カラー
プリントのアルバムでの保存の如く、光に曝され
る時間は短いものの長時間高温多湿の暗所に保存
される場合の変退色もあり、暗変退色と呼んでい
る。前記カラープリントの如く色素画像を有する
写真製品を記録材料としてみた場合、担持される
色素画像の保存性が半永久的であるためには、如
何なる保存条件においても前記の変退色が極力小
さいことが望まれ、近年この要望は高まるばかり
である。 上記のうち、特に明変退色性の改良方法として
特開昭58−209734号および同58−211147号公報に
記載されている如く2−(2′−ヒドロキシフエニ
ル)ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤を含有
する写真層および該層に関わる層に関連した層構
成技術が提案されている。 この方法によれば確かに色素画像の明退色は軽
減されるが、一方、長期保存時における感光材料
のヘイズが発生する傾向は十分に改善されている
とは言えない。前記のヘイズとは光、熱または湿
度の厳しい条件下において長期保存した際に写真
感光材料によつては表面にくもりが発生し、例え
ば黒字部分の視感的濃度低下や、もやがかかつた
如き絵となり、視覚的鮮鋭度も低下する減少をい
う。たとえば、カラープリントにおいて、仕上が
つたプリントをアルバム等における長期保存後に
該カラープリントにヘイズが発生した場合、たと
えば色素画像の退色が起きなかつたと仮定して
も、総合的な画室という観点からは著しく価値が
低下してしまうことになり好ましくない。 従来より、単なる表面物性の改良としては、例
えば英国特許第1320564号、同第1320565号、同第
1320757号、特開昭49−5017号、同51−141623号、
同53−57023号、同54−159221号等に記載の方法
が挙げられるが、いずれもヘイズの改良を意図し
たものではないため、上記方法による改良効果は
ほとんど得られなかつた。 すなわち、現像処理直後の写真材料を長期保存
した場合に劣化するヘイズの改良について満足の
ゆく方法が見出されていないのが実情であり改良
が大いに望まれていた。 [発明の目的] 本発明の目的は、長期保存時のヘイズが改良さ
れ、かつ明退色性に優れたハロゲン化銀写真感光
材料を提供することにある。 本発明の他の目的は以下の記載より自ら明らか
となろう。 [発明の構成] 本発明の前記目的は、反射支持体上にハロゲン
化銀乳剤層および非感光性層を有するハロゲン化
銀写真感光材料において、前記支持体からみて最
も遠いハロゲン化銀乳剤層の支持体側とは反対側
に2つ以上の非感光性層を有し、該非感光性層の
うち最外層には平均粒径1〜10μmの微粒子粉末
を含有し、残りの非感光性層の少なくとも一層が
下記一般式[UV−]で示される紫外線吸収剤
の異なる2種以上が混合して含有されている如き
構成を有するハロゲン化銀写真感光材料によつて
達成されることをみいだした。 一般式[UV−] {上記一般式[UV−]において、R1、R2およ
びR3は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、ア
ルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリール
オキシ基、アルケニル基、ニトロ基または水酸基
を表わす。} [発明の具体的構成] 前記一般式[UV−]において、R1、R2およ
びR3で表わされるハロゲン原子としては例えば
弗素原子、塩素原子および臭素原子等が挙げら
れ、特に塩素原子が好ましい。 R1、R2およびR3で表わされるアルキル基、ア
ルコキシ基としては、炭素数1〜20のもの、アル
ケニル基としては、炭素数2〜20のものが好まし
く、これらは直鎖でも分岐でもよい。 また、これらアルキル基、アルケニル基、アル
コキシ基、置換を有するものでもよい。置換基と
しては、例えばアリール、シアノ、ハロゲン原
子、ヘテロ環、シクロアルキル、シクロアルケニ
ル、スピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残基
の他、アシル、カルボキシ、カルバモイル、アル
コシキカルボニル、アリールオキシカルボニルの
如くカルボニル基を介して置換するもの、更には
ヘトロ原子を介して置換するもの{具体的にはヒ
ドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ヘトロ
環オキシ、シロキシ、アシルオキシ、カルバモイ
ルオキシ等の酸素原子を介して置換するもの、ニ
トロ、アミノ(ジアルキルアミノ等を含む)、ス
ルフアモイルアミノ、アルコキシカルボニルアミ
ノ、アリールオキシカルボニルアミノ、アシルア
ミノ、スルホンアミド、イミド、ウレイド等の窒
素原子を介して置換するもの、アルキルチオ、ア
リールチオ、ヘテロ環チオ、スルホニル、スルフ
イニル、スルフアモイル等の硫黄原子を介して置
換するもの、ホスホニル等の燐原子を介して置換
するもの等}が挙げられる。 具体的には、例えばメチル基、エチル基、イソ
プロピル基、t−ブチル基、sec−ブチル基、n
−ブチル基、n−アミル基、sec−アミル基、t
−アミル基、α,α−ジメチルベンジル基、オク
チルオキシカルボニルエチル基、メトキシ基、エ
トキシ基、オクチルオキシ基、アリル基等が挙げ
られる。 R1、R2およびR3で表わされるアリール基、ア
リールオキシ基としては、例えばフエニル基、フ
エニルオキシ基が特に好ましく、置換基(例えば
アルキル基、アルコキシ基等)を有するものでも
よい。具体的には、例えばフエニル基、4−t−
ブチルフエニル基、2,4−ジ−t−アミルフエ
ニル基等が挙げられる。 R1およびR2で表わされる基のうち、水素原子、
アルキル基、アルコキシ基およびアリール基が好
ましく、特に水素原子、アルキル基およびアルコ
キシ基が好ましい。 R3で表わされる基のうち特に水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基、アルコキシ基が好まし
い。 本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料に用い
られる層構成としては支持体からみて最も遠いハ
ロゲン化銀乳剤層の支持体側とは反対側に、2つ
以上の非感光性層を有し、該非感光性層のうち最
外層には平均粒径1〜10μmの微粒子粉末を含有
している。 なお、非感光性層のうち最外層に含有されてい
る平均粒径1〜10μmの微粒子粉末は当業界でマ
ツト剤と一般に称されるものであり、従つて以下
では、特に断わりのない限りマツト剤と称す。 前記の支持体側からみて最も遠いハロゲン化銀
乳剤層としては如何なる感色性をもつハロゲン化
銀乳剤でもよく、具体的には青感性ハロゲン化銀
乳剤層、緑感性ハロゲン化銀乳剤層または赤感性
ハロゲン化銀乳剤層が挙げられるが、好ましくは
赤感性ハロゲン化銀乳剤層である。 本発明において、前記の非感光性層中の親水性
バインダーとしては、ゼラチン、ゼラチン誘導体
(例えばアセチル化ゼラチン、フタル化ゼラチン
等)アルブミン、コロジオン等が用いられるが、
ゼラチンが好ましい。 本発明に係るマツト剤としては、例えば、結晶
性または非結晶性シリカ、二酸化チタン、酸化マ
グネシウム、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、ケ
イ酸アルミナマグネシウム、アクリル酸−エチル
アクリレート共重合体、アクリル酸−メチルメタ
クリレート共重合体、イタコン酸−スチレン共重
合体、マレイン酸−メチルメタクリレート共重合
体、マレイン酸−スチレン共重合体、アクリル酸
−フエニルアクリレート共重合体、ポリメチルメ
タクリレート、アクリル酸−メタクリル酸−エチ
レメタクリレート共重合体、ポリスチレン、デン
プン、セルロースアセテートプロピオネート等を
挙げることができ、その他米国特許第1221980号、
同第2992101号等に記載の化合物等が挙げられ、
これらを単独で、もしくは2種以上組み合わせて
用いることができる。 上記マツト剤の粒子サイズは平均粒径が1〜
10μmであればよいが好ましくは2〜7μmであ
る。 ここでいう平均粒径とは、球状の粒子の場合は
その直径、また立方体や球状以外の形状の粒子の
場合はその投影像を同面積の円像に換算した時の
直径の平均値であつて、個々のその粒径がriであ
り、その数がniである時下記の式によつて定義さ
れる。 =Σniri/Σni 具体的な測定方法は特開昭59−29243号公報に
記載された方法を用いることができる。 本発明に係るマツト剤は非感光性層の最外層中
に分散含有されるが分散含有させる方法として
は、必要に応じてノニオン性、カチオン性または
アニオン性界面活性剤を含む親水性バインダー中
に、必要により他の添加剤を加え、高速回転ミキ
サー、ホモジナイザー、超音波分散、ボールミル
等により、せん断応力を利用した乳化分散法によ
り分散し、写真分野で用いられる任意の方法によ
り感光材料の最外層として塗布することにより形
成できる。 本発明に係るマツト剤の塗布量としては、最外
層の非感光性層において、1m2当たり0.5〜50mg
含有させることが好ましい。更に好ましくは1m2
当たり1〜20mg含有させる。 また、マツト剤の含有量は、親水性バインダー
に対して、0.1〜2重量%が好ましい。 又、本発明に係る反射支持体の面質としては如
何なる面質を用いることもできるが、少なくとも
ハロゲン化銀乳剤の塗布面側が型押しされていな
い支持体であることが本発明の効果の点から有利
である。 一方、前記の一般式[UV−]で示される2
−(2′−ヒドロキシフエニル)ベンゾトリアゾー
ル系紫外線吸収剤は従来より析出性が強く、水中
油滴分散物の安定性も著しく低いことが知られて
おり、この欠点を改良するための技術として特公
昭48−5496号、同48−41572号、特開昭53−85425
号、同59−215378号等に紫外線吸収剤の混合技術
が提案されている。 これらの方法は確かに析出性改良には効果があ
るけれども、未だ満足のゆくものではなく、経時
による分散粒子の粗大化に対して効果が小さい。 これに対して、国際公開81−01473号および欧
州特許公開57160号の各明細書等には、常温にて
液体状である紫外線吸収剤が開示されており、析
出性については満足できるものであるが、取り扱
いにくい製造工程においてロスを生じ易い、およ
び精製が難しいために成分がロツトによりばらつ
く、コスト高等の欠点があつた。 また公開技報85−800号に常温にて固体状の紫
外線吸収剤と液体状の紫外線吸収剤を混合する技
術が記載されている。しかしながら我々の結果に
よれば上記において分散液安定性等は改善された
が、イエローカプラー、マゼンタカプラーおよび
シアンカプラーをそれぞれ含有するハロゲン化銀
乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料に応用
した場合に該写真感光材料に含有される色素画像
の明退色性において特に退色の後期においてカラ
ーバランスのずれが増大するという欠点を示し
た。 そこで前記の如き紫外線吸収剤を用いた場合の
分散液安定性と該分散液を用いたハロゲン化銀写
真感光材料における明退色カラーバランスとを同
時に解決すべく検討したところ、反射支持体上
に、イエローカプラー、マゼンタカプラー、およ
びシアンカプラーをそれぞれ含有するハロゲン化
銀乳剤層および該支持体からみて最も遠いハロゲ
ン化銀乳剤層の支持体側とは反対側に紫外線吸収
剤を含有する非感光性層を有するハロゲン化銀写
真感光材料において、前記含有されている紫外線
吸収剤は一般式[UV−]の2−(2′−ヒドロキ
シフエニル)ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収
剤であり、常温にて固体状のものと常温にて液体
状のものの組み合せであり、液体状のものは全紫
外線吸収剤に対する重量比が30%以上であり、少
なくとも固体状のものは異なる構造を有する2種
以上の組み合せであり、該固体状のものの少なく
とも一つは一般式[UV−]におけるR1および
R2の各基の炭素原子数の総和が8以上のもので
ありかつ該8以上のものは全固体状の紫外線吸収
剤に対する重量比が35%以上であること、ならび
に前記イエローカプラーを含有するハロゲン化銀
乳剤層中に一般式[A]で示される化合物が含有
されていることを特徴とするハロゲン化銀写真感
光材料によつて達成されることをみいだした。 更に好ましい態様としては、紫外線吸収剤を含
有する比感光性層の支持体側とは反対側、好まし
くは最外層に前記したマツト剤を含有させておく
ことである。 紫外線吸収剤について以下に詳しく述べる。 紫外線吸収剤は常温にて液体状のものと常温に
て固体状のものの組み合せであるが、常温にて液
体状の紫外線吸収剤は融点が30℃以下であること
が好ましく、特に15℃において液体であるこど好
ましい。また液体状を呈する紫外線吸収剤は単一
成分あつても、あるいは数種の構造異性体から構
成される混合物であつてもかまわない。 紫外線吸収剤の混合比率は、前記した様に常温
にて液体状の紫外線吸収剤の量は、全紫外線吸収
剤に対する重量比が30%以上好ましくは30%以上
99%以下特に好ましくは30%以上95%以下であ
る。また、常温にて固体状の紫外線吸収剤の方に
関しては、前記の一般式[UV−]におけるR1
およびR2の各基の炭素原子数の総和が8以上の
紫外線吸収剤の全固体状の紫外線吸収剤に対する
重量比が35%以上であればよいが好ましくは、35
%以上100%まで、より好ましくは50%以上100%
までである。 なお、常温にて固体状の紫外線吸収剤の少なく
とも一つは前記一般式[UV−]におけるR1
よびR2の各基の炭素原子数の総和が8以上であ
ればよいが、その上限は、R1およびR2の基、更
にはR3の基によつて異なるが概ね12までが好ま
しいといえる。また紫外線吸収剤の総添加量は紫
外線吸収剤を含有する非感光性層のバインダーに
対する重量比で一般に0.1〜300%の範囲であれば
よく、好ましくは1〜200%、より好ましくは5
〜100%の範囲である。 紫外線吸収剤を含有する非感光性層に用いられ
るバインダーとしては親水性バインダーが好まし
く、ゼラチン、ゼラチン誘導体(例えばアセチル
化ゼラチン、フタル化ゼラチン等)アルブミン、
コロジオン等が挙げられるがゼラチンが好まし
い。紫外線吸収剤を非感光性層に含有させるに
は、いわゆる、アルカリ水溶液分散法、固体分散
法、ラテツクス分散法、水中油滴型乳化分散法
等、種々の方法を用いることができ、これは紫外
線吸収剤の科学構造等に応じて適宜選択すること
ができるが、ラテツクス分散法や水中油滴型乳化
分散法が特に有効である。これらの分散方法は従
来からよく知られており、ラテツクス分散法およ
びその効果は、特願昭49−74538号、同51−59943
号、同54−32552号各公報やリサーチ・デイスク
ロージヤー(Research Disclosure)誌、1976年
8月、No.14850、77〜79頁に記載されている。 適当なラテツクスは、例えばスチレン、エチル
アクリレート、n−ブチルアクリレート、n−ブ
チルメタクリレート、2−アセトアセトキシエチ
ルメタクリレート、2−(メタクリロイルオキシ)
エチルトリメチルアンモニウムメトサルフエー
ト、3−(メタクリロイルオキシ)プロパン−1
−スルホン酸ナトリウム塩、N−イソプロピルア
クリルアミド、N−[2−(2−メチル−4−オキ
ソペンチル)]アクリルアミド、2−アクリルア
ミド−2−メチルプロパンスルホン酸などのよう
なモノマーのホモポリマー、コポリマーおよびタ
ーポリマーである。水中油滴型乳化分散法は、カ
プラー等の疎水性添加物を分散させる従来公知の
方法が適用でき、例えば通常沸点約175℃以上の
高沸点有機溶媒に、必要に応じて低沸点溶媒を併
用し溶解し、ゼラチン水溶液などの親水性バイン
ダー中に界面活性剤を用いて、微分散し、この分
散物を目的とする層中に添加すればよい。 常温にて液体状である2−(2′−ヒドロキシフ
エニル)ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の代
表的具体例を示す。 次に、常温にて固体状の2−(2′−ヒドロキシ
フエニル)ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の
代表的具体例を挙げる。 なお、これらの液状ないし固体状のベンゾトリ
アゾール系化合物は、特公昭36−10466号、同42
−26187号、同48−5496号、同48−41572号、米国
特許3754919号、同4220711号、国際公開81−
01473号、欧州特許公開57160号等に記載されてい
る。 反射支持体上に設けられたイエローカプラー、
マゼンタカプラーおよびシアンカプラーをそれぞ
れ含有するハロゲン化銀乳剤層の層順に関しては
特に限定はないが、一般的には反射支持体から順
次イエローカプラーを含有する青感性ハロゲン化
銀乳剤層、マゼンタカプラーをが有する緑感性ハ
ロゲン化銀乳剤層、シアンカプラーを含有する青
感性ハロゲン化銀乳剤層の順番で設けられている
態様が好ましい。 次に、イエローカプラーを含有するハロゲン化
銀乳剤層中に含有せしめる一般式[A]で示され
る化合物について述べる。 一般式〔A〕 〔式中、R1およびR2は、それぞれアルキル基
を表わす。R3はアルキル基、−NR′R″基、−SR′基
(R′は1価の有機基を表わす。)、または−
COOR″基(R″は水素原子または1価の有機基を
表わす。)を表わす。mは0〜3の整数を表わ
す。〕 一般式(A)のR1およびR2で表わされるアルキル
基の好ましくは、炭素原子数1〜12個のアルキル
基、更に好ましくは炭素原子数3〜8個のα位が
分岐のアルキル基である。R1およびR2の特に好
ましくは、t−ブチル基またはt−ペンチル基で
ある。 R3で表わされるアルキル基は、直鎖または分
岐のものであり、例えばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ペンチル基、オクチル基、
ノニル基、ドデシル基、オクタデシル基等であ
る。このアルキル基が置換基を有する場合、これ
らの置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ
ル基、ニトロ基、シアノ基、アリール基(例えば
フエニル基、ヒドロキシフエニル基、3,5−ジ
−t−ブチル−4−ヒドロキシフエニル基、3,
5−ジ−t−ペンチル−4−ヒドロキシフエニル
基等)、アミノ基(例えばジメチルアミノ基、ジ
エチルアミノ基、1,3,5−トリアジニルアミ
ノ基等)、アルキルオキシカルボニル基(例えば
メトキシカシボニル基、エトキシカルボニル基、
プロピルオキシカルボニル基、ブトキシカルボニ
ル基、ペンチルオキシカルボニル基、オクチルオ
キシカルボニル基、ノニルオキシカルボニル基、
ドデシルオキシカルボニル基、オクタデシルオキ
シカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル
基(例えばフエノキシカルボニル基等)、カルバ
モイル基(例えばメチルカルバモイル基、エチル
カルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ブチ
ルカルバモイル基、ヘプチルカルバモイル基等の
アルキルカルバモイル基、フエニルカルバモイル
基等のアリールカルバモイル基、シクロヘキシル
カルバモイル基等のシクロアルキルカルバモイル
基等)、イソシアヌリル基、1,3,5−トリア
ジニル基等の複素環基が挙げられる。R3で表わ
されるアミノ基は、例えばジメチルアミノ基、ジ
エチルアミノ基、メチルエチルアミノ基等のアル
キルアミノ基、フエニルアミノ基、ヒドロキシル
フエニルアミノ基等のアリールアミノ基、シクロ
ヘキシル基等のシクロアルキルアミノ基、1,
3,5−トリアジニルアミノ基、イソシアヌリル
基等の複素環アミノ基などを包含する。R′およ
びR″で表わされる1価の有機基は、例えばアル
キル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、アミル基、デシル基、ドデシル
基、ヘキサデシル基、オクタデシル基等)、アリ
ール基(例えばフエニル基、ナフチル基等)、シ
クロアルキル基(例えばシクロヘキシル基等)、
複素環基(例えば1,3,5−トリアジニル基、
イソシアヌリル基等)を包含する。これらの有機
基が置換基を有する場合、この置換基としては、
例えばハロゲン原子(例えばフツ素、塩素、臭素
等)、ヒドロキシル基、ニトロ基、シアノ基、ア
ミノ基、アルキル基(例えばメチル基、エチル
基、i−プロピル基、t−ブチル基、t−アミル
基等)、アリール基(例えばフエニル基、トリル
基等)、アルケニル基(例えばアリル基等)、アル
キルカルボニルオキシ基(例えばメチルカルボニ
ルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ベンジ
ルカルボニルオキシ基等)、アリールカルボニル
オキシ基(例えばベンゾイルオキシ基等)などが
挙げられる。 本発明において前記一般式(A)で表わされる化合
物の好ましくは下記一般式〔A′〕、〔A″〕及び
〔A〓〕で表わされる化合物である。 一般式〔A′〕 〔式中、R11およびR12は、それぞれ炭素原子数
3〜8価の直鎖または分岐のアルキル基、特にt
−ブチル基、t−ペンチル基を表わす。R13はk
価の有機基を表わす。kは1〜6の整数を表わ
す。〕 R13で表わされるk価の有機基としては、例え
ばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ペンチル基、オクチル基、ヘキサデシル基、メト
キシエチル基、クロロメチル基、1,2−ジブロ
モエチル基、2−クロロエチル基、ベンジル基、
フエネチル基等のアルキル基、アリル基、プロペ
ニル基、ブテニル基等のアルケニル基、エチレ
ン、トリメチレン、プロピレン、ヘキサメチレ
ン、2−クロロトリメチレン等の多価不飽和炭化
水素基、グリセリン、ジグリセリル、ペンタエリ
スリチル、ジペンタエリスリチル等の不飽和炭化
水素基、シクロプロピル、シクロヘキシル、シク
ロヘキセニル基等の脂環式炭化水素基、フエニル
基、p−オクチルフエニル基、2,4−ジメチル
フエニル基、2,4−ジ−t−ブチルフエニル
基、2,4−ジ−t−ペンチルフエニル基、p−
クロロフエニル基、2,4−ジブロモフエニル
基、ナフチル基等のアリール基、1,2−または
1,3−あるいは1,4−フエニレン基、3,5
−ジメチル−1,4−フエニレン基、2−t−ブ
チル−1,4−フエニレン基、2−クロロ−1,
4−フエニレン基、ナフタレン基等のアリーレン
基、1,3,5−三置換ベンゼン基等が挙げられ
る。 R13は、更に上記の基以外に、上記基のうち任
意の基を−O−、−S−、−SO2−基を介して結合
したk価の有機基を包含する。 R13の更に好ましくは、2,4−ジ−t−ブチ
ルフエニル基、2,4−ジ−t−ペンチルフエニ
ル基、p−オクチルフエニル基、p−ドデシルフ
エニル基、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロ
キシルフエニル基、3,5−ジ−t−ペンチル−
4−ヒドロキシフエニル基である。 kの好ましくは、1〜4の整数である。 一般式[A″] [式中R11乃至R13およびkは一般式[A′]で示
したものと同一であり、Yは2価の有機基を表わ
す。lは正の整数、nおよびqは0または正の整
数を表わす。] Yで表わされる2価の有機基としてはアリーレ
ン基(例えばフエニレン基)、オキシカルボニル
基、カルボニルオキシ基、スルホニル基、アミノ
基、スルホンアミド基、スルフアモイル基、アシ
ルアミノ基、カルバモイル基等を挙げることがで
きる。 一般式[A] [式中、R11、R12は一般式[A′]で示したもの
と同一であり、lは一般式[A″]で示したもの
と同一であり、R14およびR15は水素原子、アル
キル基、(例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ベンジル基等)、ア
ルケニル基(例えばビニル基、アリル基、イソプ
ロペニル基等)、アルキニル基、(例えば、エチニ
ル基、プロペニル基等)、アシル基(例えばホル
ミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル
基、アクリロイル基、プロピオロイル基、メタク
リロイル基、クロトノイル基等)を表わす。nお
よびQは1乃至3の整数を表わし、pは0乃至2
の整数を表わし、n+Q+p=4である。 R14、R15の更に好ましい基としては、メチル
基、エチル基、ビニル基、アリル基、プロピニル
基、ベンジル基、アセチル基、プロピオニル基、
アクリロイル基、メタクリロイル基、クロトノイ
ル基である。 以下に一般式(A)で示される化合物の具体的化合
物を挙げる。 一般式[A]で表わされる化合物の添加量は、
イエローカプラーの塗布量100重量部に対して、
5〜300重量部、好ましくは10〜100重量部の割合
で用いる。 添加方法に関しては前記した紫外線吸収剤の添
加方法と同様な手段を用いればよい。 次にイエローカプラーについて述べる。 本発明に係る色素画像を形成するカプラーとし
ては限定される事なく種々のカプラーを用いるこ
とができるが、イエロー色素画像形成カプラーと
しては、下記一般式[B]で示されるカプラーを
用いることができる。 一般式[B] 式中、R1はアルキル基またはアリール基を表
わし、R2はアリール基を表わし、Xは水素原子
または発色現像反応の過程で脱離する基を表わ
す。R1としては直鎖または分岐のアルキル基
(例えばブチル基)またはアリール基(例えばフ
エニル基)であるが、好ましくはアルキル基(特
にt−ブチル基)が挙げられ、R2としてはアリ
ール基(好ましくはフエニル基)を表わし、これ
らR1、R2の表わすアルキル基、アリール基は置
換基を有するものも含まれ、R2のアリール基に
はハロゲン原子、アルキル基等が置換されている
ことが好ましい。Xとしては下記一般式[C]ま
たは[D]で示される基が好ましく、さらに一般
式[C]のうち一般式[C′]で示される基が特に
好ましい。 一般式[C] 式中、Z1は4員〜7員環を形成し得る非金属原
子群を表わす。 一般式[D] −O−R11 式中、R11はアリール基、複素環基またはアシ
ル基を表わすがアリール基が好ましい。 一般式[C′] 式中、Z2
【式】と共に4員〜6員環を 形成し得る非金属原子群を表わす。 前記一般式[B]において好ましい本発明に係
るイエローカプラーは次の一般式[B′]で示さ
れる。 一般式[B′] 式中、R14は水素原子、ハロゲン原子、また
は、アルコキシ基を表わし、ハロゲン原子が好ま
しい。またR15、R16及びR17はそれぞれ水素原
子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、アリール基、カルボキシ基、アル
コキシカルボニル基、カルバミル基、スルフオン
基、スルフアミル基、アルキルスルフオンアミド
基、アシルアミド基、ウレイド基またはアミノ基
を表わし、R15及びR16がそれぞれ水素原子であ
つてR17がアルコキシカルボニル基、アシルアミ
ド基またはアルキルスルホアミド基が好ましい。
また、Xは前記一般式[B]で示されたものと同
義の基を表わし、好ましくは前記一般式[C]ま
たは[D]、または[C]のうちでさらに好まし
くは前記一般式[C′]で表わされる基が挙げられ
る。 また、前記一般式[B]において別の好ましい
本発明に係るイエローカプラーは次の一般式
[B″]で示される。 一般式[B″] 式中、R18は前記一般式[B′]におけるR14
同義の基を表わし、R19、R20及びR21はそれぞれ
水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニ
ル基、アルコキシ基、アリール基、カルボキシル
基、アルコキシカルボニル基、カルバミル基、ス
ルホン基、スルフアミル基、スルホンアミド基、
アシルアミド基、ウレイド基、アミノ基のいずれ
かを表わす。また、Xは前記一般式[B′]で示
されたものと同義の基を表わす。 イエローカプラーの添加量は任意のハロゲン化
銀乳剤層でよいが好ましくは青感光性ハロゲン化
銀乳剤層であり、添加量としては銀1モル当り2
×10-3〜5×10-1モルが好ましく、より好ましく
は1×10-2〜5×10-1モルである。 以下に、本発明に係るイエローカプラーの具体
例を挙げるが、これに限定されるものではない。 シアン画像形成カプラーとしては、下記一般式
[D]、[E]で示されるカプラーを好ましく用い
ることができる。 一般式[E] 式中、R1はアリール基、シクロアルキル基ま
たは複素環基を表わす。R2はアルキル基または
フエニル基を表わす。R3は水素原子、ハロゲン
原子、アルキル基またはアルコキシ基を表わす。
Z1は水素原子、ハロゲン原子または芳香族第一級
アミン系発色現像主薬の酸化体との反応により離
脱し得る基を表わす。 一般式[F] 式中、R4はアルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ノニル基等)を
表わす。R9はアルキル基(例えばメチル基、エ
チル基等)を表わす。R6は水素原子、ハロゲン
原子(例えばフツ素、塩素、臭素等)またはアル
キル基(例えばメチル基、エチル基等)を表わ
す。Z2は水素原子、ハロゲン原子または芳香族第
1級アミン系発色現像主薬の酸化体との反応によ
り離脱し得る基を表わす。 本発明において前期一般式[E]のR1で表わ
されるアリール基は、例えばフエニル基、ナフチ
ル基であり、好ましくはフエニル基である。R1
で表わされる複素環基は、例えばピリジル基、フ
ラン基等である。R1で表わされるシクロアルキ
ル基は例えばシクロプロピル基、シクロヘキシル
基等である。これらのR1で表わされる基は単一
もしくは複数の置換基を有していても良く、例え
ばフエニル基に導入される置換基としては代表的
なものにハロゲン原子(例えばフツ素、塩素、臭
素等)、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ドデシル基等)、ヒドロ
キシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシ基
(例えばメトキシ基、エトキシ基、等)、アルキル
スルホンアミド基(例えばメチルスルホンアミド
基、オクチルスルホンアミド基等)、アリールス
ルホンアミド基(例えばフエニルスルホンアミド
基、ナフチルスルホンアミド基等)、アルキルス
ルフアモイル基(例えばブチルスルフアモイル基
等)、アリールスルフアモイル基(例えばフエニ
ルスルフアモイル基等)、アルキルオキシカルボ
ニル基(例えばメチルオキシカルボニル基等)、
アリールオキシカルボニル基(例えばフエニルオ
キシカルボニル基等)、アミノスルホンアミド基、
アシルアミノ基、カルバモイル基、スルホニル
基、スルフイニル基、スルホオキシ基、スルホ
基、アリールオキシ基、アルコキシ基、カルボキ
シル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボ
ニル酸、アミノカルボニル基などを挙げることが
できる。これらの置換基は2種以上がフエニル基
に置換されていても良い。R1で表わされる好ま
しい基としては、フエニル基またはハロゲン原
子、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホ
ンアミド基、アルキルフルフアモイル基、アリー
ルスルフアモイル基、アルキルスルホニル基、ア
リールスルホニル基、アルキルカルボニル基、ア
リールカルボニル基、もしくはシアノ基を置換基
として1つまたは2つ以上有するフエニル基であ
る。 R2で表わされるアルキル基は、直鎖もしくは
分岐のものであり例えばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、オクチル基等である。 本発明において一般式[E]で表わされるシア
ンカプラーの好ましくは、下記一般式[E′]で表
わされる化合物である。 一般式[E′] 一般式[E′]において、R7はフエニル基を表
わす。 このフエニル基は単一もしくは複素の置換基を
有していても良く、導入される置換基としては代
表的なものにハロゲン原子(例えばフツ素、塩
素、臭素等)、アルキル基(例えばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基、ド
デシル基等)、ヒドロキシル基、シアノ基、ニト
ロ基、アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキ
シ基等)、アルキルスルホンアミド基(例えばメ
チルスルホンアミド基、オクチルスルホンアミド
基等)、アリールスルホンアミド基(例えばフエ
ニルスルホンアミド基、ナフチルスルホンアミド
基等)、アルキルスルフアモイル基(例えばブチ
ルスルフアモイル基等)、アリールスルフアモイ
ル基(例えばフエニルスルフアモイル基等)アル
キルオキシカルボニル基(例えばメチルオキシカ
ルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基
(例えばフエニルオキシカルボニル基等)などを
挙げることができる。これらの置換基は2種以上
がフエニル基に置換されていても良い。R7で表
わされる好ましい基としては、フエニル、または
ハロゲン原子(好ましくはフツ素、臭素)アルキ
ルスルホンアミド基)(好ましくはo−メチルス
ルホンアミド基、p−オクチルスルホンアミド
基、o−ドデシルスルホンアミド基)、アリール
スルホンアミド基(好ましくはフエニルスルホン
アミド基)、アルキルスルフアモイル基(好まし
くはブチルスルフアモイル基)、アリールスルフ
アモイル基(好ましくはフエニルスルフアモイル
基)、アルキル基(好ましくはメチル基、トリフ
ルオロメチル基)アルコキシ基(好ましくはメト
キシ基、エトキシ基)を置換基として1つまたは
2つ以上有するフエニル基である。 R8はアルキル基またはアリール基である。ア
ルキル基またはアリール基は単一もしくは複数の
置換基を有していても良く、この置換基としては
代表的なものに、ハロゲン原子(例えばフツ素、
塩素、臭素等)ヒドロキシル基、カルボキシル
基、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基
等)、アラルキル基、シアノ基、ニトロ基、アル
コキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基)アリ
ールオキシ基、アルキルスルホンアミト基(例え
ばメチルスルホンアミド基、オクチルスルホンア
ミド基等)アリールスルホンアミド基(例えばフ
エニルスルホンアミド基、ナフチルスルホンアミ
ド基等)アルキルスルフアモイル基(例えばブチ
ルスルフアモイル基等)、アリールスルフアモイ
ル基(例えばフエニルスルフアモイル基等)、ア
ルキルオキシカルボニル基(例えばメチルオキシ
カルボニル基等)アリールオキシカルボニル基
(例えばフエニルオキシカルボニル基等)、アミノ
スルホンアミド基(例えばジメチルアミノスルホ
ンアミド基等)、アルキルスルホニル基、アリー
ルスルホニル基、アルキルカルボニル基、アリー
ルカルボニル基、アミノカルボニルアミド基、カ
ルバモイル基、スルフイニル基などを挙げること
ができる。これらの置換基は2種以上が導入され
ても良い。 R8で表わされる好ましい基としては、n=o
のときはアルキル基、n=1以上のときはアリー
ル基である。R8で表わされているさらに好まし
い基としては、n=oのときは炭素数1〜22個の
アルキル基(好ましくはメチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基)
であり、n=1以上のときはフエニル基、または
アルキル基(好ましくはt−ブチル基、t−アミ
ル基、オクチル基)、アルキルスルホンアミド基
(好ましくはブチルスルホンアミド基、オクチル
スルホンアミド基、ドデシルスルホンアミド基)、
アリールスルホンアミド基(好ましくはフエニル
スルホンアミド基)、アミノスルホンアミド基
(好ましくはジメチルアミノスルホンアミド基)、
アルキルオキシカルボニル基(好ましくはメチル
オキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル
基)を置換基として1つまたは2つ以上有するフ
エニル基である。 R9はアルキレン基を表わす。直鎖または分岐
の炭素原子数1〜20個、更には炭素原子数1〜12
個のアルキレン基を表わす。 R10は水素原子またはハロゲン原子(フツ素、
塩素、臭素または沃素)を表わす。好ましくは水
素原子である。 nは0または正の整数であり、好ましくは0ま
たは1である。 Xは−O−、−CO−、−COO−、−OCO−、−
SO2NR″−、NR′SO2NR″−、−S−、−SO−また
は−SO2−基の2価基を表わす。ここで、R′、
R″は置換または非置換のアルキル基を表わす。
Xの好ましくは、−O−、−S−、−SO−、−SO2
−基である。 Z3は水素原子、ハロゲン原子または芳香族第1
級アミン系発色現像主薬の酸化体との反応により
離脱し得る基を表わす。 好ましくは、塩素原子、フツ素原子である。 以下に式〔E〕で表わされるシアンカプラーの
代表的具体例を示すが、これらに限定されるもの
ではない。 本発明において、前記一般式〔F〕で表わされ
るシアンカプラーは、より好ましくは下記一般式
〔F′〕で表わされるものである。 一般式〔F′〕 式中、R11およびR12は、同一でありまたは異
なり、水素原子、アルキル基(例えばメチル基、
エチル基、プロピル基、ブチル基、アミル基、オ
クチル基、ドデシル基等)、アルコキシ基(例え
ばメトキシ基、エトキシ基等)を表わす。 但しR11とR12の炭素原子数の総和は8〜16個
である。より好ましくは、R11およびR12が、そ
れぞれブチル基またはアミル基である。 R13は水素原子またはアルキル基(例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチ
ル基等)である。 好ましくは水素原子、エチル基、ブチル基であ
る。R′5はアルキル基(例えばメチル基、エチル
基等)である。 mは0〜2の整数を表わす。Z4は水素原子、ハ
ロゲン原子または芳香族第1級アミン系発色現像
主薬の酸化体との反応により離脱し得る基を表わ
す。 式〔E〕、〔F〕、〔E′〕および〔F′〕において、
Z1、Z2、Z3およびZ4で表わされる芳香族第1級ア
ミン系発色現像主薬の酸化体との反応により離脱
し得る基は、当業者の周知のものであり、カプラ
ーの反応性を改質し、またはカプラーから離脱し
て、ハロゲン化銀カラー写真感光材料中のカプラ
ーを含む塗布層もしくはその他の層において、現
像抑制、漂白抑制、色補正などの機能を果たすこ
とにより有利に作用するものである。代表的なも
のとしては、例えばアルコキシ基、アリールオキ
シ基、アリールアゾ基、チオエーテル、カルバモ
イルオキシ基、アシルオキシ基、イミド基、スル
ホンアミド基、チオシアノ基または複素環基(例
えば、オキサゾリル、ジアゾリル、トリアゾリ
ル、テトラゾリル等)などが挙げられる。Zで表
わされる特に好適な例は、水素原子または塩素原
子である。 以下に式〔F〕で表わされるシアンカプラーの
代表的具体例を示すが、これらに限定されるもの
ではない。 本発明におけるハロゲン化銀写真感光材料にお
いて、マゼンタ色素画像形成カプラーとしては下
記一般式〔a〕および〔〕で示されるカプラー
を好ましく用いることができる。 一般式[a] [式中、Arはアリール基を表わし、R1は水素原
子又は置換基を表わし、R2は置換基を表わす。
Yは水素原子または発色現像主薬の酸化体との反
応により離脱しうる置換基を、Wは−NH−、−
NHCO−(N原子はピラゾロン核の炭素原子に結
合)または−NHCONH−を表わし、mは1また
は2の整数である。) 一般式[] [式中Zは含窒素複素環を形成するに必要な非金
属原子群を表し、該Zにより形成される環は置換
基を有してもよい。Xは水素原子または発色現像
主薬の酸化体との反応により離脱しうる置換基を
表す。またRは水素原子または置換基を表す。] 次に前記一般式[a]で表わされるカプラーに
ついて詳述する。 Arで表わされるアリール基としてはフエニル
基およびナフチル基等が挙げられ、好ましくはフ
エニル基であり、特に好ましくは置換されたフエ
ニル基である。 この置換基としては、例えばハロゲン原子、ア
ルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
ルコキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル
基、スルフアモイル基、スルホニル基、スルホン
アミド基、アシルアミノ基等であり、Arであら
わされるフエニル基に2個以上の置換基を有して
もよい。 以下に置換基の具体的な例を挙げる。 ハロゲン原子:塩素、臭素、フツ素 アルキル基:メチル基、エチル基、iso−プロピ
ル基、ブチル基、t−ブチル基、t−ペンチル
基等であるが特に炭素原子数1〜5のアルキル
基が好ましい。 アルコキシ基:メトキシ基、エトキシ基、ブトキ
シ基、sec−ブトキシ基、iso−ペンチルオキシ
基等であるが、特に炭素原子数1〜5のアルコ
キシ基が好ましい。 アリールオキシ基:フエノキシ基、β−ナフトキ
シ基等であるが、このアリール部分には更に
Arで示されるフエニル基に挙げていると同様
な置換基を有してもよい。 アルコキシカルボニル基:上述したアルコキシ基
の付いたカルボニル基であり、メトキシカルボ
ニル基、ペンチルオキシカルボニル基等のアル
キル部分の炭素原子数が1〜5のものが好まし
い。 カルバモイル基:カルバモイル基、ジメチルカル
バモイル基等のアルキルカルバモイル基 スルフアモイル基:スルフアモイル基、メチルス
ルフアモイル基、ジメチルスルフアモイル基、
エチルスルフアモイル基等のアルキルスルフア
モイル基 スルホニル基:メタンスルホニル基、エタンスル
ホニル基、ブタンスルホニル基等アルキルスル
ホニル基 スルホンアミド基:メタンスルホンアミド基、ト
ルエンスルホンアミド基等のアルキルスルホン
アミド基、アリールスルホンアミド基等 アシルアミノ基:アセトアミノ基、ピバロイルア
ミノ基、ベンズアミド基等 特に好ましくはハロゲン原子であり、その中で
も塩素が最も好ましい。 R1で表わされる置換基はハロゲン原子、アル
キル基、アルコキシ基等である。 具体的な例を以下に挙げる。 ハロゲン原子:塩素、臭素、フツ素 アルコキシ基:メトキシ基、エトキシ基、ブトキ
シ基、sec−ブトキシ基、iso−ペンチルオキシ
基等の炭素原子数が1〜5のアルコキシ基が好
ましい。 アルキル基:メチル基、エチル基、iso−プロピ
ル基、ブチル基、t−ブチル基、t−ペンチル
基等の炭素原子数が1〜5のアルキル基が好ま
しい。 特に好ましくはハロゲン原子であり、中でも塩
素が好ましい。 R2で表わされる置換基はハロゲン原子、アル
キル基、アミド基、イミド基、N−アルキルカル
バモイル基、N−アルキルスルフアモイル基、ア
ルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、スルホ
ンアミド基、またはウレタン基等である。これら
の基のうちアミド基(例えば、テトラデカンアミ
ド基、3−t−ブチル−4−ヒドロキシフエノキ
シテトラデカンアミド基等)、イミド基(例えば
ドデシルスルシンイミド基、オクタデセニルスク
シンイミド基等)およびスルホンアミド基(例え
ばブチルスルホンアミド基、ドデシルスルホンア
ミド基等)を好ましく用いることができる。 Wは−NH−、−NHCO−(窒素原子はピラゾロ
ン核の炭素原子に結合)または−NHCONH−の
いずれでもよいが、Wは−NH−を特に好ましく
用いることができる。 Yで表わされる芳香族第1級アミン系発色現像
主薬の酸化体とカツプリング反応により離脱しう
る置換基としては、例えばハロゲン原子、アルコ
キシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、ア
リールチオ基、アルキルチオ基、
【式】 (Z2は窒素原子と共に炭素原子、酸素原子、窒素
原子、イオウ原子の中から選ばれた原子と5ない
し6員環を形成するに要する原子郡を表わす。)
等が挙げられる。 以下に具体的な例を挙げる。 ハロゲン原子:塩素、臭素、フツ素 アルコキシ基:エトキシ基、ベンジルオキシ基、
メトキシエチルカルバモイルメトキシ基、テト
ラデシルカルバモイルメトキシ基等 アリールオキシ基:フエノキシ基、4−メトキシ
フエノキシ基、4−ニトロフエノキシ基等 アシルオキシ基:アセトキシ基、ミリストイルオ
キシ基、ベンゾイルオキシ基等 アリールチオ基:フエニルチオ基、2−ブトキシ
−5−オクチルフエニルチオ基、2,5−ジヘ
キシルオキシフエニルチオ基等 アルキルチオ基:メチルチオ基、オクチルチオ
基、ヘキサデシルチオ基、ベンジルチオ基、2
−(ジエチルアミノ)エチルチオ基、エトキシ
カルボニルメチルチオ基、エトキジエチルチオ
基、フエノキシエチルチオ基等
【式】ピラゾリル基、イミダゾリル基、 トリアゾリル基、テトラゾリル基等 次に前記一般式[a]で表わされるマゼンタカ
プラーの具体的代表例を挙げるが、本発明がこれ
らに限定されるものではない。 これらは、例えば米国特許第2600788号、同第
3061432号、同第3062653号、同第3127269号、同
第3311476号、同第3152896号、同第3419391号、
同第3519429号、同第3555318号、同第3684514号、
同第3888680号、同第3907571号、同第3928044号、
同第3930861号、同第3930866号、同第3933500号
等の明細書、特開昭49−29639号、同49−111631
号、同49−129538号、同50−13041号、同52−
58922号、同55−62454号、同55−118034号、同56
−38043号、同57−35858号、同60−23855号の各
公報、英国特許第1247493号、ベルギー特許第
769116号、同第792525号、西独特許2156111号の
各明細書、特公昭46−60479号公報等に記載され
ている。 本発明に係る前記一般式〔〕 一般式〔〕 で表わされるマゼンタカプラーに於いて、Zは含
窒素複素環を形成するに必要な非金属原子郡を表
し、該Zにより形成される環は置換基を有しても
よい。 Xは水素原子または発色現像主薬の酸化体との
反応により離脱しうる置換基を表す。 またRは水素原子または置換基を表す。 前記Rの表す置換基としては、例えばハロゲン
原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニ
ル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリ
ール基、ヘテロ環基、アシル基、スルホニル基、
スルフイニル基、ホスホニル基、カルバモイル
基、スルフアモイル基、シアノ基、スピロ化合物
残基、有橋炭化水素化合物残基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、シロキシ
基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、ア
ミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、イ
ミド基、ウレイド基、スルフアモイルアミノ基、
アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシ
カルボニルアミノ基、アルコキシカルボニル基、
アリールオキシカルボニル基、アルキルチオ基、
アリールチオ基、ヘテロ環チオ基が挙げられる。 ハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素
原子が挙げられ、特に塩素原子が好ましい。 Rで表されるアルキル基としては、炭素数1〜
32のもの、アルケニル基、アルキニル基としては
炭素数2〜32のもの、シクロアルキル基、シクロ
アルケニル基としては炭素数3〜12、特に5〜7
のものが好ましく、アルキル基、アルケニル基、
アルキニル基は直鎖でも分岐でもよい。 また、これらアルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル
基は置換基〔例えばアリール、シアノ、ハロゲン
原子、ヘテロ環、シクロアルキル、シクロアルケ
ニル、スピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残
基の他、アシル、カルボキシ、カルバモイル、ア
ルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル
の如くカルボニル基を介して置換するもの、更に
はヘテロ原子を介して置換するもの{具体的には
ヒドロキシ、アルコキシ、アリールオキシ、ヘテ
ロ環オキシ、シロキシ、アシルオキシ、カルバモ
イルオキシ等の酸素原子を介して置換するもの、
ニトロ、アミノ(ジアルキルアミノ等を含む)、
スルフアモイルアミノ、アルコキシカルボニルア
ミノ、アリールオキシカルボニルアミノ、アシル
アミノ、スルホンアミド、イミド、ウレイド等の
窒素原子を介して置換するもの、アルキルチオ、
アリールチオ、ヘテロ環チオ、スルホニル、スル
フイニル、スルフアモイル等の硫黄原子を介して
置換するもの、ホスホニル等の燐原子を介して置
換するもの等}〕を有していてもよい。 具体的には例えばメチル基、エチル基、イソプ
ロピル基、t−ブチル基、ペンタデシル基、ヘブ
タデシル基、1−ヘキシルノニル基、1,1′−ジ
ペンチルノニル基、2−クロル−t−ブチル基、
トリフルオロメチル基、1−エトキシトリデシル
基、1−メトキシイソプロピル基、メタンスルホ
ニルエチル基、2,4−ジ−t−アミルフエノキ
シメチル基、アニリノ基、1−フエニルイソプロ
ピル基、3−m−ブタンスルホンアミノフエノキ
シプロピル基、3−4′−{α−〔4″(p−ヒドロキ
シベンゼンスルホニル)フエノキシ〕ドデカノイ
ルアミノ}フエニルプロピル基、3−{4′−〔α−
(2″,4″−ジ−t−アミノフエノキシ)ブタンア
ミド〕フエニル}−プロピル基、4−〔α−(o−
クロルフエノキシ)テトラデカンアミドフエノキ
シ〕プロピル基、アリル基、シクロペンチル基、
シクロヘキシル基等が挙げられる。 Rで表されるアリール基としてはフエニル基が
好ましく、置換基(例えば、アルキル基、アルコ
キシ基、アシルアミノ基等)を有していてもよ
い。 具体的には、フエニル基、4−t−ブチルフエ
ニル基、2,4−ジ−t−アミルフエニル基、4
−テトラデカンアミドフエニル基、ヘキサデシロ
キシフエニル基、4′−〔α−(4″−t−ブチルフエ
ノキシ)テトラデカンアミド〕フエニル基等が挙
げられる。 Rで表されるヘテロ環基としては5〜7員のも
のが好ましく、置換されていてもよく、又縮合し
ていてもよい。具体的には2−フリル基、2−チ
エニル基、2−ピリミジニル基、2−ベンゾチア
ゾリル基等が挙げられる。 Rで表されるアシル基としては、例えばアセチ
ル基、フエニルアセチル基、ドデカノイル基、α
−2,4−ジ−t−アミルフエノキシブタノイル
基等のアルキルカルボニル基、ベンゾイル基、3
−ペンタデシルオキシベンゾイル基、p−クロル
ベンゾイル基等のアリールカルボニル基等が挙げ
られる。 Rで表されるスルホニル基としてはメチルスル
ホニル基、ドデシルスルホニル基の如きアルキル
スルホニル基、ベンゼンスルホニル基、p−トル
エンスルホニル基の如きアリールスルホニル基等
が挙げられる。 Rで表されるスルフイニル基としては、エチル
スルフイニル基、オクチルスルフイニル基、3−
フエノキシブチルスルフイニル基の如きアルキル
スルフイニル基、フエニルスルフイニル基、m−
ペンタデシルフエニルスルフイニル基の如きアリ
ールスルフイニル基等が挙げられる。 Rで表されるホスホニル基としてはブチルオク
チルホスホニル基の如きアルキルホスホニル基、
オクチルオキシホスホニル基の如きアルコキシホ
スホニル基、フエノキシホスホニル基の如きアリ
ールオキシホスホニル基、フエニルホスホニル基
の如きアリールホスホニル基等が挙げられる。 Rで表されるカルバモイル基は、アルキル基、
アリール基(好ましくはフエニル基)等が置換し
ていてもよく、例えばN−メチルカルバモイル
基、N,N−ジブチルカルバモイル基、N−(2
−ペンタデシルオクチルエテル)カルバモイル
基、N−エチル−N−ドデシルカルバモイル基、
N−{3−(2,4−ジ−t−アミノフエノキシ)
プロピル}カルバモイル基等が挙げられる。 Rで表されるスルフアモイル基はアルキル基、
アリール基(好ましくはフエニル基)等が置換し
ていてもよく、例えばN−プロピルスルフアモイ
ル基、N,N−ジエチルスルフアモイル基、N−
(2−ペンタデシルオキシエチル)スルフアモイ
ル基、N−エチル−N−ドデシルスルフアモイル
基、N−フエニルスルフアモイル基等が挙げられ
る。 Rで表されるスピロ化合物残基としては例えば
スピロ[3.3]ヘプタン−1−イル等が挙げられ
る。 Rで表される有橋炭化化合物残基としては例え
ばビシクロ[2.2.1]ヘプタン−1−イル、トリ
シクロ[3.3.1.137]デカン−1−イル、7,7−
イル等が挙げられる。 Rで表されるアルコキシ基は、更に前記アルキ
ル基への置換基として挙げたものを置換していて
もよく、例えばメトキシ基、プロポキシ基、2−
エトキシエトキシ基、ペンタデシルオキシ基、2
−ドデシルオキシエトキシ基、フエネチルオキシ
エトキシ基等が挙げられる。 Rで表されるアリールオキシ基としてはフエニ
ルオキシが好ましく、アリール核は更に前記アリ
ール基への置換基又は原子として挙げたもので置
換されていてもよく、例えばフエノキシ基、p−
t−ブチルフエノキシ基、m−ペンタデシルフエ
ノキシ基等が挙げられる。 Rで表されるヘテロ環オキシ基としては5〜7
員のヘテロ環を有するものが好ましく該ヘテロ環
は更に置換基を有していてもよく、例えば、3,
4,5,6−テトラヒドロピラニル−2−オキシ
基、1−フエニルテトラゾール−5−オキシ基が
挙げられる。 Rで表されるシロキシ基は、更にアルキル基等
で置換されていてもよく、例えば、トリメチルシ
ロキシ基、トリエチルシロキシ基、ジメチルブチ
ルシロキシ基等が挙げられる。 Rで表されるアシルオキシ基としては、例えば
アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニ
ルオキシ基等が挙げられ、更に置換基を有してい
てもよく、具体的にはアセチルオキシ基、α−ク
ロルアセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等が
挙げられる。 Rで表されるカルバモイルオキシ基は、アルキ
ル基、アリール基等が置換していてもよく、例え
ばN−エチルカルバモイルオキシ基、N,N−ジ
エチルカルバモイルオキシ基、N−フエニルカル
バモイルオキシ基等が挙げられる。 Rで表されるアミノ基はアルキル基、アリール
基(好ましくはフエニル基)等で置換されていて
もよく、例えばエチルアミノ基、アニリノ基、m
−クロルアニリノ基、3−ペンタデシルオキシカ
ルボニルアニリノ基、2−クロル−5−ヘキサデ
カンアミドアニリノ基等が挙げられる。 Rで表されるアシルアミノ基としては、アルキ
ルカルボニルアミノ基、アリールカルボニルアミ
ノ基(好ましくはフエニルカルボニルアミノ基)
等が挙げられ、更に置換基を有してもよく具体的
にはアセトアミド基、α−エチルプロパンアミド
基、N−フエニルアセトアミド基、ドデカンアミ
ド基、2,4−ジ−t−アミルフエノキシアセト
アミド基、α−3−t−ブチル4−ヒドロキシフ
エノキシブタンアミド基等が挙げられる。 Rで表されるスルホンアミド基としては、アル
キルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルア
ミノ基等が挙げられ、更に置換基を有してもよ
い。具体的にはメチルスルホニルアミノ基、ペン
タデシルスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホン
アミド基、p−トルエンスルホンアミド基、2−
メトキシ−5−t−アミルベンゼンスルホンアミ
ド基等が挙げられる。 Rで表されるイミド基は、開鎖状のものでも、
環状のものでもよく、置換基を有していてもよ
く、例えばコハク酸イミド基、3−ヘプタデシル
コハク酸イミド基、フタルイミド基、グルタルイ
ミド基等が挙げられる。 Rで表されるウレイド基は、アルキル基、アリ
ール基(好ましくはフエニル基)等により置換さ
れていてもよく、例えばN−エチルウレイド基、
N−メチル−N−デシルウレイド基、N−フエニ
ルウレイド基、N−p−トリルウレイド基等が挙
げられる。 Rで表されるスルフアモイルアミノ基は、アル
キル基、アリール基(好ましくはフエニル基)等
で置換されていてもよく、例えばN,N−ジブチ
ルスルフアモイルアミノ基、N−メチルスルフア
モイルアミノ基、N−フエニルスルフアモイルア
ミノ基等が挙げられる。 Rで表されるアルコキシカルボニルアミノ基と
しては、更に置換基を有していてもよく、例えば
メトキシカルボニルアミノ基、メトキシエトキシ
カルボニルアミノ基、オクタデシルオキシカルボ
ニルアミノ基等が挙げられる。 Rで表されるアリールオキシカルボニルアミノ
基は、置換基を有していてもよく、例えばフエノ
キシカルボニルアミノ基、4−メチルフエノキシ
カルボニルアミノ基が挙げられる。 Rで表されるアルコキシカルボニル基は更に置
換基を有していてもよく、例えばメトキシカルボ
ニル基、ブチルオキシカルボニル基、ドデシルオ
キシカルボニル基、オクタデシルオキシカルボニ
ル基、エトキシメトキシカルボニルオキシ基、ベ
ンジルオキシカルボニル基等が挙げられる。 Rで表されるアリールオキシカルボニル基は更
に置換基を有していてもよく、例えばフエノキシ
カルボニル基、p−クロルフエノキシカルボニル
基、m−ペンタデシルオキシフエノキシカルボニ
ル基が挙げられる。 Rで表されるアルキルチオ基等は、更に置換基
を有していてもよく、例えば、エチルチオ基、ド
デシルチオ基、オクタデシルチオ基、フエネチル
チオ基、3−フエノキシプロピルチオ基が挙げら
れる。 Rで表されるアリールチオ基はフエニルチオ基
が好ましく更に置換基を有してもよく、例えばフ
エニルチオ基、p−メトキシフエニルチオ基、2
−t−オクチルフエニルチオ基、3−オクタデシ
ルフエニルチオ基、2−カルボキシフエニルチオ
基、p−アセトアミノフエニルチオ基等が挙げら
れる。 Rで表されるヘテロ環チオ基としては、5〜7
員のヘテロ環チオ基が好ましく、更に縮合環を有
してもよく、又置換基を有していてもよい。例え
ば2−ピリジルチオ基、2−ベンゾチアゾリルチ
オ基、2,4−ジフエノキシ−1,3,5−トリ
アゾール−6−チオ基が挙げられる。 Xの表す発色現像主薬の酸化体との反応により
離脱しうる置換基としては、例えばハロゲン原子
(塩素原子、臭素原子、フツソ原子等)の他炭素
原子、酸素原子、硫黄原子または窒素原子を介し
て置換する基が挙げられる。 炭素原子を介して置換する基としては、カルボ
キシル基の他例えば一般式 (R1′は前記Rと同義であり、Z′は前記Zと同義
であり、R2′及びR3′は水素原子、アリール基、ア
ルキル決又はヘテロ環基を表す。)で示される基、
ヒドロキシメチル基、トリフエニルメチル基が挙
げられる。 酸素原子を介して置換する基としては例えばア
ルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ
基、アシルオキシ基、スルホニルオキシ基、アル
コキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカル
ボニルオキシ基、アルキルオキサリルオキシ基、
アルコキシオキサリルオキシ基が挙げられる。 該アルコキシ基は更に置換基を有してもよく、
例えば、エトキシ基、2−フエノキシエトキシ
基、2−シアノエトキシ基、フエネチルオキシ
基、p−クロルベンジルオキシ基等が挙げられ
る。 該アリールオキシ基としては、フエノキシ基が
好ましく、該アリール基は、更に置換基を有して
いてもよい。具体的にはフエノキシ基、3−メチ
ルフエノキシ基、3−ドデシルフエノキシ基、4
−メタンスルホンアミドフエノキシ基、4−〔α
−(3′−ペンタデシルフエノキシ)ブタンアミド〕
フエノキシ基、ヘキシデシルカルバモイルメトキ
シ基、4−シアノフエノキシ基、4−メタンスル
ホニルフエノキシ基、1−ナフチルオキシ基、p
−メトキシフエノキシ基等が挙げられる。 該ヘテロ環オキシ基としては、5〜7員のヘテ
ロ環オキシ基が好ましく、縮合環であつてもよ
く、又置換基を有していてもよい。具体的には、
1−フエニルテトラゾリルオキシ基、2−ベンゾ
チアゾリルオキシ基等が挙げられる。 該アシルオキシ基としては、例えばアセトキシ
基、ブタノルオキシ基等のアルキルカルボニルオ
キシ基、シンナモイルオキシ基の如きアルケニル
カルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基の如き
アリールカルボニルオキシ基が挙げられる。 該スルホニルオキシ基としては、例えばブタン
スルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基
が挙げられる。 該アルコキシカルボニルオキシ基としては、例
えばエトキシカルボニルオキシ基、ベンジルオキ
シカルボニルオキシ基が挙げられる。 該アリールオキシカルボニル基としてはフエノ
キシカルボニルオキシ基等が挙げられる。 該アルキルオキサリルオキシ基としては、例え
ばメチルオキサリルオキシ基が挙げられる。 該アルコキシオキサリルオキシ基としては、エ
トキシオキサリルオキシ基等が挙げられる。 硫黄原子を介して置換する基としては、例えば
アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ
基、アルキルオキシチオカルボニルチオ基が挙げ
られる。 該アルキルチオ基としては、ブチルチオ基、2
−シアノエチルチオ基、フエネチルチオ基、ベン
ジルチオ基等が挙げられる。 該アリールチオ基としてはフエニルチオ基、4
−メタンスルホンアミドフエニルチオ基、4−ド
デシルフエネチルチオ基、4−ノナフルオロペン
タンアミドフエネチルチオ基、4−カルボキシフ
エニルチオ基、2−エトキシ−5−t−ブチルフ
エニルチオ基等が挙げられる。 該ヘテロ環チオ基としては、例えば1−フエニ
ル−1,2,3,4−テトラゾリル−5−チオ
基、2−ベンゾチアゾリルチオ基等が挙げられ
る。 該アルキルオキシチオカルボニルチオ基として
は、ドデシルオキシチオカルボニルチオ基等が挙
げられる。 上記窒素原子を介して置換する基としては、例
えば一般式
【式】で示されるものが挙げら れる。ここにR4′及びR5′は水素原子、アルキル
基、アリール基、ヘテロ環基、スルフアモイル
基、カルバモイル基、アシル基、スルホニル基、
アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボ
ニル基を表し、R4′とR5′は結合してヘテロ環を形
成してもよい。但しR4′とR5′が共に水素原子であ
ることはない。 該アルキル基は直鎖でも分岐でもよく、好まし
くは、炭素数1〜22のものである。又、アルキル
基は、置換基を有していてもよく、置換基として
は例えばアリール基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アル
キルアミノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ
基、スルホンアミド基、イミノ基、アシル基、ア
ルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、カ
ルバモイル基、スルフアモイル基、アルコキシカ
ルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アル
キルオキシカルボニルアミノ基、アリールオキシ
カルボニルアミノ基、ヒドロキシル基、カルボキ
シル基、シアノ基、ハロゲン原子が挙げられる。
該アルキル基の具体的なものとしては、例えばエ
チル基、オキチル基、2−エチルヘキシル基、2
−クロルエチル基が挙げられる。 R4′又はR5′で表されるアリール基としては、炭
素数6〜32、特にフエニル基、ナフチル基が好ま
しく、該アリール基は、置換基を有してもよく置
換基としては上記R4′又はR5′で表されるアルキル
基への置換基として挙げたもの及びアルキル基が
挙げられる。該アリール基として具体的なものと
しては、例えばフエニル基、1−ナフチル基、4
−メチルスルホニルフエニル基が挙げられる。 R4′又はR5′で表されるヘテロ環基としては5〜
6員のものが好ましく、縮合環であつてもよく、
置換基を有してもよい。具体例としては、2−フ
リル基、2−キノリル基、2−ピリミジル基、2
−ベンゾチアゾリル基、2−ビリジル基等が挙げ
られる。 R4′又はR5′で表たれるスルフアモイル基として
は、N−アルキルスルフアモイル基、N,N−ジ
アルキルスルフアモイル基、N−アリールスルフ
アモイル基、N,N−ジアリールスルフアモイル
基等が挙げられ、これらのアルキル基及びアリー
ル基は前記アルキル基及びアリール基について挙
げた置換基を有してていもよい。スルフアモイル
基の具体例としては例えばN,N−ジエチルスル
フアモイル基、N−メチルスルフアモイル基、N
−ドデシルスルフアモイル基、N−p−トリルス
ルフアモイル基が挙げられる。 R4′又はR5′で表されるカルバモイル基として
は、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジア
ルキルカルバモイル基、N−アリールカルバモイ
ル基、N,N−ジアリールカルバモイル基等が挙
げられ、これらのアルキル基及びアリール基は前
記アルキル基及びアリール基について挙げた置換
基を有していてもよい。カルバモイル基の具体例
としては例えばN,N−ジエチルカルバモイル
基、N−メチルカルバモイル基、N−ドデシルカ
ルバモイル基、N−p−シアノフエニルカルバモ
イル基、N−p−トリルカルバモイル基が挙げら
れる。 R4′又はR5′で表されるアシル基としては、例え
ばアルキルカルボニル基、アリールカルボニル
基、ヘテロ環カルボニル基が挙げられ、該アルキ
ル基、該アリール基、該ヘテロ環基は置換基を有
していてもよい。アシル基として具体的なものと
しては、例えばヘキサフルオロブタノイル基、
2,3,4,5,6−ペンタフルオロベンゾイル
基、アセチル基、ベンゾイル基、ナフトエル基、
2−フリルカルボニル基等が挙げられる。 R4′又はR5′で表されるスルホニル基としては、
アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、
ヘテロ環スルホニル基が挙げられ、置換基を有し
てもよく、具体的なものとしては例えばエタンス
ルホニル基、ベンゼンスルホニル基、オクタンス
ルホニル基、ナフタレンスルホニル基、p−クロ
ルベンゼンスルホニル基等が挙げられる。 R4′又はR5′で表されるアリールオキシカルボニ
ル基は、前記アリール基について挙げたものを置
換基として有してもよく、具体的にはフエノキシ
カルボニル基等が挙げられる。 R4′又はR5′で表されるアルコキシカルボニル基
は、前記アルキル基について挙げた置換基を有し
てもよく、具体的なものとしてはメトキシカルボ
ニル基、ドデシルオキシカルボニル基、ベンジル
オキシカルボニル基等が挙げられる。 R4′及びR5′が結合して形成するヘテロ環として
は5〜6員のものが好ましく、飽和でも、不飽和
でもよく、又、芳香族性を有していても、いなく
てもよく、又、縮合環でもよい。該ヘテロ環とし
ては例えばN−フタルイミド基、N−コハク酸イ
ミド基、4−N−ウラゾリル基、1−N−ヒダン
トイニル基、3−N−2,4−ジオキソオキサゾ
リジニル基、2−N−1,1−ジオキソ−3−
(2H)−オキソ−1,2−ベンズチアゾリル基、
1−ピロリル基、1−ピロリジニル基、1−ピラ
ゾリル基、1−ピラゾリジニル基、1−ピペリジ
ニル基、1−ピロリニル基、1−イミダゾリル
基、1−イミダゾリニル基、1−インドリル基、
1−イソインドリニル基、2−イソインドリル
基、2−イソインドリニル基、1−ベンゾソトリ
アゾリル基、1−ベンゾイミダゾリル基、1−
(1,2,4−トリアゾリル)基、1−(1,2,
3−トリアゾリル)基、1−(1,2,3,4−
テトラゾリル)基、N−モルホリニル基、1,
2,3,4−テトラヒドロキノリル基、2−オキ
ソ−1−ピロリジニル基、2−1H−ピリドン基、
フタラジオン基、2−オキソ−1−ピペリジニル
基等が挙げられ、これらヘテロ環基はアルキル
基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオ
キシ基、アシル基、スルホニル基、アルキルアミ
ノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、スル
ホンアミノ基、カルバモイル基、スルフアモイル
基、アルキルチオ基、アリールチオ、ウレイド
基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカ
ルボニル基、イミド基、ニトロ基、シアノ基、カ
ルボキシル基、ハロゲン原子等により置換されて
いてもよい。 またZ又はZ′により形成される含窒素複素環と
しては、ピラゾール環、イミダゾール環、トリア
ゾール環またはテトラゾール環等が挙げられ、前
記環が有してもよい置換基としては前記Rについ
て述べたものが挙げられる。 又、一般式〔〕及び後述の一般式〔〕〜
〔〕に於ける複素環上の置換基(例えば、R、
R1〜R8)が 部分(ここにR″、X及びZ″は一般式〔〕に
おけるR、X、Zと同義である。)を有する場合、
所謂ビス体型カプラーを形成するが勿論本発明に
包含される。又、Z、Z′、Z″及び後述のZ1により
形成される環は、更に他の環(例えば5〜7員の
シクロアルケン)が縮合していてもよい。例えば
一般式〔〕においてはR5とR8が、一般式〔〕
においてはR7とR8とが、互いに結合して環(例
えば5〜7員のシクロアルケン、ベンゼン)を形
成してもよい。 一般式〔〕で表されるものは更に具体的には
例えば下記一般式〔〕〜〔〕により表され
る。 一般式〔〕 一般式〔〕 一般式〔〕 一般式〔〕 一般式〔〕 一般式〔〕 前記一般式〔〕〜〔〕に於いてR1〜R8
びXは前記R及びXと同義である。 又、一般式〔〕の中でも好ましいのは、下記
一般式〔〕で表されるものである。 一般式〔〕 式中R1、X及びZ1は一般式〔〕におけるR、
X及びZと同義である。 前記一般式〔〕〜〔〕で表されるマゼンタ
カプラーの中で特に好ましいのものは一般式
〔〕で表されるマゼンタカプラーである。 又、一般式〔〕〜〔〕における複素環上の
置換基についていえば、一般式〔〕においては
Rが、また一般式〔〕〜〔〕においてはR1
が下記条件1を満足する場合が好ましく更に好ま
しいのは下記条件1及び2を満足する場合であ
り、特に好ましいのは下記条件1、2及び3を満
足する場合である。 条件1 複素環に直結する根元原子が炭素原子で
ある。 条件2 該炭素原子に水素原子が1個だけ結合し
ている、または全く結合していない。 条件3 該炭素原子と隣接原子との間の結合が全
て単結合である。 前記複素環上の置換基R及びR1として最も好
ましいのは、下記一般式〔〕により表されるも
のである。 一般式〔〕 式中R9、R10及びR11はそれぞれ水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、ア
ルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル
基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、スルホ
ニル基、スルフイニル基、ホスホニル基、カルバ
モイル基、スルフアモイル基、シアノ基、スピロ
化合物残基、有橋炭化水素化合物残基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、シ
ロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ
基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド
基、イミド基、ウレイド基、スルフアモイルアミ
ノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリール
オキシカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニ
ル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルチ
オ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基を表し、
R9、R10及びR11の少なくとも2つは水素原子で
はない。 又、前記R9、R10及びR11の中の2つ例えばR9
とR10は結合して飽和又は不飽和の環(例えばシ
クロアルカン、シクロアルケン、ヘテロ環)を形
成してもよく、更に該環にR11が結合して有橋炭
化水素化合物残基を構成してもよい。 R9〜R11により表される基は置換基を有しても
よく、R9〜R11により表される基の具体例及び該
基が有してもよい置換基としては、前述の一般式
〔〕におけるRが表す基の具体例及び置換基が
挙げられる。 又、例えばR9とR10が結合して形成する環及び
R9〜R11により形成される有橋炭化水素化合物残
基の具体例及びその有してもよい置換基として
は、前述の一般式〔〕におけるRが表すシクロ
アルキル、シクロアルケニル、ヘテロ環基有橋炭
化水素化合物残基の具体例及びその置換基が挙げ
られる。 一般式〔〕の中でも好ましいのは、 () R8〜R11の中の2つがアルキル基の場合、 () R8〜R11の中の1つ例えばR11が水素原子で
あつて、他の2つR9とR10が結合して根元炭素
原子と共にシクロアルキルを形成する場合、 である。 更に()の中でも好ましいのは、R8〜R11
中の2つがアルキル基であつて、他の1つが水素
原子またはアルキル基の場合である。 ここに該アルキル、該シクロアルキルは更に置
換基を有してもよく該アルキル、該シクロアルキ
ル及びその置換基の具体例としては前記一般式
〔〕におけるRが表すアルキル、シクロアルキ
ル及びその置換基の具体例が挙げられる。 又、一般式〔〕におけるZにより形成される
環及び一般式〔〕におけるZ1により形成される
環が有してもよい置換基、並びに一般式〔〕〜
〔〕におけるR2〜R8としては下記一般式〔〕
で表されるものが好ましい。 一般式〔〕 −R1−SO2−R2 式中R1はアルキレンを、R2はアルキル、シク
ロアルキルまたはアリールを表す。 R1で示されるアルキレンは好ましくは直鎖部
分の炭素数が2以上、より好ましくは3ないし6
であり、直鎖、分岐を問わない。またこのアルキ
レンは置換基を有してもよい。 該置換基の例としては、前述の一般式〔〕に
おけるRがアルキル基の場合該アルキル基が有し
てもよい置換基として示したものが挙げられる。 置換基として好ましいものとしてはフエニルが
挙げられる。 R1で示されるアルキレンの、好ましい具体例
を以下に示す。 −CH2CH2CH2−,
【式】
【式】
【式】
【式】−CH2CH2CH2CH2−,
【式】
【式】
【式】 R2で示されるアルキル基は直鎖、分岐を問わ
ない。 具体的にはメチル、エチル、プロピル、iso−
プロピル、ブチル、2−エチルヘキシル、オクチ
ル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オ
クタダシル、2−ヘキシルデシルなどが挙げられ
る。 R2で示されるシクロアルキル基としては5〜
6員のものが好ましく、例えばシクロヘキシルが
挙げられる。 R2で示されるアルキル、シクロアルキルは置
換基を有してもよく、その例としては、前述の
R1への置換基として例示したものが挙げられる。 R2で示されるアリールとしては具体的には、
フエニル、ナフチルが挙げられる。該アリール基
は置換基を有してもよい。該置換基としては例え
ば直鎖ないし分岐のアルキルの他、前述のR1
の置換基として例示したものが挙げられる。 また、置換基が2個以上ある場合それらの置換
基は、同一であつても異なつていてもよい。 一般式〔〕で表わされる化合物の中でも特に
好ましいのは、下記一般式〔XI〕で表されるもの
である。 一般式〔XI〕 式中、R、Xは一般式〔〕におけるR、Xと
同義でありR1、R2は、一般式〔X〕におけるR1
R2と同義である。 また、前記カプラーの合成はジヤーナル・オ
ブ・ザ・ケミカル・ソサイアテイ(Journal of
the Chemical Society)、パーキン(Perkin)
(1977)、2047〜2052、米国特許3725067号、特開
昭59−99437号、特開昭58−42045号、特開昭59−
162548号、特開昭59−171956、特開昭60−33552
号及び特開昭60−43659号等を参考にして合成を
行つた。 前記カプラーは通常ハロゲン化銀1モル当り1
×10-3モル乃至1モル、好ましくは1×10-2モル
乃至8×10-1モルの範囲で用いることができる。 カプラー等の化合物は、ハロゲン化銀写真感光
材料への添加方法としては、一般的な疎水性化合
物の添加方法と同様に、固体分散法、ラテツクス
分散法、水中油滴型乳化分散法等、種々の方法を
用いる事ができ、これはカプラー等の疎水性化合
物の化学構造等に応じて適宜選択することができ
る。水中油滴型乳化分散法は、カプラー等の疎水
性化合物を分散させる従来公知の方法が適用で
き、通常、沸点約150℃以上の高沸点有機溶媒に、
必要に応じて低沸点、及びまたは水溶性有機溶媒
を併用して溶解し、ゼラチン水溶液などの親水性
バインダー中に界面活性剤を用いて撹拌器、ホモ
ジナイザー、コロイドミル、フロージツトミキサ
ー、超音波装置等の分散手段を用いて、乳化分散
した後、目的とする親水性コロイド層中に添加す
ればよい。分散液または分散と同時に低沸点有機
溶媒を除去する工程を入れても良い。 高沸点有機溶媒としては、現像主薬の酸化体と
反応しないフエノール誘導体、フタル酸エステ
ル、リン酸エステル、クエン酸エステル、安息香
酸エステル、アルキルアミド、脂肪酸エステル、
トリメシン酸エステル等の沸点150℃以上の有機
溶媒が用いられる。 本発明において好ましく用いることのできる高
沸点有機溶媒としては、誘電率が6.0以下の化合
物であり、例えば、誘電率6.0以下のフタル酸エ
ステル、リン酸エステル等のエステル類、有機酸
アミド類、ケトン類、炭化水素化合物等である。
好ましくは誘電率6.0以下1.9以上で100℃におけ
る蒸気圧が0.5mmHg以下の高沸点有機溶媒であ
る。またより好ましくは、該高沸点有機溶媒中の
フタル酸エステル類あるいはリン酸エステル類で
ある。更に該高沸点有機溶媒は2種以上の混合物
であつてもよい。 なお、本発明における誘電率とは、30℃におけ
る誘電率を示している。 本発明において有利に用いられるフタル酸エス
テルとしては、下記一般式[b]で示されるもの
が挙げられる。 一般式[b] 式中、R16およびR17は、それぞれアルキル基、
アルケニル基またはアリール基を表わす。但し、
R16およびR17で表わされる基の炭素原子数の総
和は8乃至32である。またより好ましくは炭素原
子数の総和が16乃至24である。 本発明において、前記一般式[b]のR16およ
びR17で表わされるアルキル基は、直鎖でも分岐
のものでもよく、例えばブチル基、ペンチル基、
ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル
基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリ
デシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘ
キサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基
等である。R16およびR17で表わされるアリール
基は、例えばフエニル基、ナフチル基等であり、
アルケニル基は、例えばヘキセニル基、ヘプテニ
ル基、オクタデセニル基等である。これらのアル
キル基、アルケニル基およびアリール基は、単一
もしくは複数の置換基を有していても良く、アル
キル基およびアルケニル基の置換基としては、例
えばハロゲン原子、アルコキシ基、アリール基、
アリールオキシ基、アルケニル基、アルコキシカ
ルボニル基等が挙げられ、アリール基の置換基と
しては、例えばハロゲン原子、アルキル基、アル
コキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アル
ケニル基、アルコキシカルボニル基等を挙げるこ
とができる。 本発明において有利に用いられるリン酸エステ
ルとしては、下記一般式[c]で示されるものが
挙げられる。 一般式[c] 式中、R18、R19およびR20は、それぞれアルキ
ル基、アルケニル基またはアリール基を表わす。
但し、R18、R19およびR20で表わされる炭素原子
数の総和は24乃至54である。 一般式[c]のR18、R19およびR20で表わされ
るアルキル基は、例えばブチル基、ペンチル基、
ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル
基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリ
デシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘ
キサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル
基、ノナデシル基等であり、アリール基として
は、例えばフエニル基、ナフチル基等であり、ま
たアルケニル基としては、例えばヘキセニル基、
ヘプテニル基、オクタデセニル基等である。 これらのアルキル基、アルケニル基およびアリ
ール基は、単一もしくは複数の置換基を有してい
ても良い。好ましくはR18、R19およびR20はアル
キル基であり、例えば、2−エチルヘキシル基、
n−オクチル基、3,5,5−トリメチルヘキシ
ル基、n−ノニル基、n−デシル基、sec−デシ
ル基、sec−ドデシル基、t−オクチル基等が挙
げられる。 以下に本発明に用いられる有機溶媒の代表的具
体例を示すが、本発明はこれらに限定されるもの
ではない。 これらの有機溶媒は、一般に本発明に用いるカ
プラーに対し、10乃至150重量%の割合で用いら
れる。好ましくはカプラーに対し20乃至100重量
%である。 カプラー等の疎水性化合物を高沸点溶媒単独又
は低沸点溶媒と併用した溶媒に溶かし、機械的又
は超音波を用いて水中に分散する時の分散助剤と
して、アニオン性界面活性剤、ノニオン性界面活
性剤、カチオン性界面活性剤を用いる事が出来
る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、例えば
カラーネガのネガ及びポジフイルム、ならびにカ
ラー印画紙などに適用されるが、とりわけ直接鑑
賞用に供されるカラー印画紙に適用した場合に本
発明の効果が有効に発揮される。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用いられ
るハロゲン化銀乳剤には、ハロゲン化銀として臭
化銀、沃臭化銀、沃塩化銀、塩臭化銀、及び塩化
銀等の通常のハロゲン化銀乳剤に使用される任意
のものを用いる事が出来る。 ハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、酸性法、中性法、アンモニア法のいずれか
で得られたものでもよい。該粒子は一時に成長さ
せても良いし、種粒子をつくつた後、成長させて
も良い。種粒子をつくる方法と成長させる方法は
同じであつても、異なつても良い。 ハロゲン化銀乳剤はハライドイオンと銀イオン
を同時に混合しても、いずれか一方が存在する中
に、他方を混合してもよい。また、ハロゲン化銀
結晶の臨界成長速度を考慮しつつ、ハライドイオ
ンと銀イオンを混合釜内のPH,p Agをコント
ロールしつつ逐次同時に添加する事により、生成
させても良い。成長後にコンバージヨン法を用い
て、粒子のハロゲン組成を変化させても良い。 ハロゲン化銀乳剤の製造時に、必要に応じてハ
ロゲン化銀溶剤を用いる事により、ハロゲン化銀
粒子の粒子サイズ、粒子の形状、粒子サイズ分
布、粒子の成長速度をコントロール出来る。 ハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、粒子を形成する過程及び/又は成長させる
過程で、カドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリウム
塩、イリジウム塩又は錯塩、ロジウム塩又は錯
塩、鉄塩又は錯塩、を用いて金属イオンを添加
し、粒子内部に及び/又は粒子表面に包含させる
事が出来、また適当な還元的雰囲気におく事によ
り、粒子内部及び/又は粒子表面に還元増感核を
付与出来る。 ハロゲン化銀乳剤は、ハロゲン化銀粒子の成長
の終了後に不要な可溶性塩類を除去しても良い
し、あるいは含有させたままで良い。該塩類を除
去する場合には、リサーチ・デイスクロージヤー
17643号記載の方法に基づいて行う事が出来る。 ハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、内部と表面が均一な層から成つていても良
いし、異なる層から成つていても良い。 ハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、潜像が主として表面に形成されるような粒
子であつても良く、また主として粒子内部に形成
されるような粒子でも良い。 ハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化銀粒
子は、規則的な結晶形を持つものでも良いし、球
状や板状のような変則的な結晶形を持つものでも
良い。これら粒子において、{100}面と{111}
面の比率は任意のものが使用出来る。又、これら
結晶形の複合形を持つものでも良く、様々な結晶
形の粒子が混合されても良い。 ハロゲン化銀乳剤は、別々に形成した2種以上
のハロゲン化銀乳剤を混合して用いても良い。 ハロゲン化銀乳剤は、常法により化学増感され
る。即ち、銀イオンと反応できる硫黄を含む化合
物や、活性ゼラチンを用いる硫黄増感法、セレン
化合物を用いるセレン増感法、還元性物質を用い
る還元増感法、金その他の貴金属化合物を用いる
貴金属増感法などを単独又は組み合わせて用いる
事が出来る。 ハロゲン化銀乳剤は、写真業界において増感色
素として知られている色素を用いて、所望の波長
域に光学的に増感出来る。増感色素は単独で用い
ても良いが、2種以上を組み合わせて用いても良
い。増感色素と共にそれ自身分光増感作用を持た
ない色素、あるいは可視光を実質的に吸収しない
化合物であつて、増感色素の増感作用を強める強
色増感剤を乳剤中に含有させても良い。 ハロゲン化銀乳剤には、感光材料の製造工程、
保存中、あるいは写真処理中のカブリの防止及
び/又は写真性能を安定に保つことを目的とし
て、化学熟成中及び/又は化学熟成の終了後、及
び/又は化学熟成の終了後、ハロゲン化銀乳剤を
塗布するまでに、写真業界においてカブリ防止剤
又は安定剤として知られている化合物を加える事
が出来る。 ハロゲン化銀乳剤のバインダー(又は保護コロ
イド)としては、ゼラチンを用いるのが有利であ
るが、それ以外にゼラチン誘導体、ゼラチンと他
の高分子のグラフトポリマー、蛋白質、糖誘導
体、セルロース誘導体、単一あるいは共重合体の
如き合成親水性高分子物質等の親水性コロイドも
用いる事が出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤
層、その他の親水性コロイド層は、バインダー
(又は保護コロイド)分子を架橋させ、膜強度を
高める硬膜剤を単独又は併用することにより硬膜
される。硬膜剤は、処理液中に硬膜剤を加える必
要がない程度に、感光材料を硬膜出来る量添加す
る事が望ましいが、処理液中に硬膜剤を加える事
も可能である。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料のハロゲン
化銀乳剤層及び/又は他の親水性コロイド層の柔
軟性を高める目的で可塑剤を添加出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤
層その他の親水性コロイド層に、寸度安定性の改
良などを目的として、水不溶又は難溶性合成ポリ
マーの分散物(ラテツクス)を含む事が出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の乳剤層に
は、発色現像処理において、芳香族第1級アミン
現像剤(例えばp−フエニレンジアミン誘導体
や、アミノフエノール誘導体など)の酸化体とカ
ツプリング反応を行い色素を形成する、色素形成
カプラーが用いられる。該色素形成性カプラー
は、各々の乳剤層に対して乳剤層の感光スペクト
ル光を吸収する色素が形成されるように選択され
るのが普通であり、青色光感光性乳剤層にはイエ
ロー色素形成カプラーが、緑色光感光性乳剤層に
はマゼンタ色素形成カプラーが、赤色光感光性乳
剤層にはシアン色素形成カプラーが用いられる。
しかしながら目的に応じて上記組み合わせと異な
つた用い方でハロゲン化銀写真感光材料をつくつ
ても良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料には、フイ
ルター層、ハレーシヨン防止層、及び/又はイラ
ジエーシヨン防止層等の補助層を設ける事が出来
る。これらの層中及び/又は乳剤層中には、現像
処理中にカラー感光材料より流出するか、もしく
は漂白される染料が含有させられても良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の滑り摩擦
を低減させるために滑剤を添加出来る。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料に、帯電防
止を目的とした帯電防止剤を添加出来る。帯電防
止剤は支持体の乳剤を積層してない側の帯電防止
層に用いられる事もあるし、乳剤層及び/又は支
持体に対して乳剤層が積層されている側の乳剤層
以外の保護コロイド層に用いられても良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤
層及び/又は他の親水性コロイド層には、塗布性
改良、帯電防止、スベリ性改良、乳化分散、接着
防止及び(現像促進、硬調化、増感等の)写真特
性改良等を目的として、種々の界面活性剤が用い
られる。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤
層、その他の層が塗布される支持体としてはバラ
イタ層又はα−オレフインポリマー等をラミネー
トした紙、合成紙等の可撓性反射支持体、酢酸セ
ルロース、硝酸セルロース、ポリスチレン、ポリ
塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
カーボネイト、ポリアミド等の半合成又は合成高
分子からなるフイルムや、ガラス、金属、陶器な
どの剛体等である。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、必要に
応じて支持体表面にコロナ放電、紫外線照射、火
焔処理等を施した後、直接又は(支持体表面の接
着性、帯電防止性、寸度安定性、耐摩耗性、硬
さ、ハレーシヨン防止性、摩擦特性及び/又はそ
の他の特性を向上するための)1または2以上の
下塗層を介して塗布されても良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料と塗布に際
して、塗布性を向上させる為に増粘剤を用いても
良い。塗布法としては2種以上の層を同時に塗布
する事の出来るエクストールジヨンコーテイング
及びカーテンコーテイングが特に有用である。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、該感光
材料を構成する乳剤層が感度を有しているスペク
トル領域の電磁波を用いて露光出来る。光源とし
ては、自然光(日光)、タングステン電灯、蛍光
灯、水銀灯、キセノンアーク灯、炭素アーク灯、
キセノンフラツシユ灯、陰極線管フライングスポ
ツト、各種レーザー光、発行ダイオード光、電子
線、X線、γ線、α線などによつて励起された蛍
光体から放出する光等、公知の光源のいずれでも
用いることが出来る。 露光時間は通常カメラで用いられる1ミリ秒か
ら1秒の露光時間は勿論、1マイクロ秒より短い
露光、例えば陰極線管やキセノン閃光灯を用いて
100マイクロ秒〜1マイクロ秒の露光を用いるこ
とも出来るし、1秒以上より長い露光も可能であ
る。該露光は連続的に行なわれても、間欠的に行
なわれても良い。 本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、当業界
公知のカラー現像を行う事によりカラー画像を形
成することが出来る。 本発明において発色現像液に使用される芳香族
第1級アミン発色現像主薬は、種々のカラー写真
プロセスにおいて広範囲に使用されている公知の
ものが包含される。これらの現像剤はアミノフエ
ノール系及びp−フエニレンジアミン系誘導体が
含まれる。これらの化合物は遊離状態より安定の
ため一般に塩の形、例えば塩酸塩または硫酸塩の
形で使用される。また、これらの化合物は一般に
発色現像液1について約0.1g〜約30gの濃度、
好ましくは発色現像液1について約1g〜約15
gの濃度で使用する。 本発明において使用される発色現像液には、前
記第1級芳香族アミン系発色現像剤に加えて、更
に発色現像液に通常添加されている種々の成分、
例えば水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウムなどのアルカリ剤、アルカリ金属亜硫酸
塩、アルカリ金属重亜硫酸塩、アルカリ金属チオ
シアン酸塩、アルカリ金属ハロゲン化物、ベンジ
ルアルコール、水軟化剤及び濃厚化剤などを任意
に含有せしめることもできる。この発色現像液の
PH値は、通常7以上であり、最も一般的には約10
〜約13である。 本発明においては、発色現像処理した後、定着
能を有する処理液で処理するが、該定着能を有す
る処理液が定着液である場合、その前に漂白処理
が行なわれる。該漂白工程に用いる漂白剤として
は有機酸の金属錯塩が用いられ、該金属錯塩は、
現像によつて生成した金属銀を酸化してハロゲン
化銀にかえすと同時に発色剤の未発色部を発色さ
せる作用を有するもので、その構成はアミノポリ
カルボン酸または蓚酸、クエン酸等の有機酸で
鉄、コバルト、銅等の金属イオンを配位したもの
である。このような有機酸の金属錯塩を形成する
ために用いられる最も好ましい有機酸としては、
ポリカルボン酸またはアミノポリカルボン酸が挙
げられる。これらのポリカルボン酸またはアミノ
ポリカルボン酸はアルカリ金属塩、アンモニウム
塩もしくは水溶性アミン塩であつてもよい。 これらの具体的代表例としては、次のものを挙
げることができる。 [1] エチレンジアミンテトラ酢酸 [2] ニトリロトリ酢酸 [3] イミジン酢酸 [4] エチレンジアミンテトラ酢酸ジナトリウム
塩 [5] エチレンジアミンテトラ酢酸テトラ(トリ
メチルアンモニウム)塩 [6] エチレンジアミンテトラ酢酸テトラナトリ
ウム塩 [7] ニトリロトリ酢酸ナトリウム塩 使用される漂白剤は、前記の如き有機酸の金属
錯塩を漂白剤として含有すると共に、種々の添加
剤を含むことができる。添加剤としては、特にア
ルカリハライドまたはアンモニウムハライド、例
えば臭化カリウム、臭化ナトリウム、塩化ナトリ
ウム、臭化アンモニウム等の再ハロゲン化剤、金
属塩、キレート剤を含有させることが望ましい。
また硼酸塩、蓚酸塩、酢酸塩、炭酸塩、燐酸塩等
のPH緩衝剤、アルキルアミン類、ポリエチレンオ
キサイド類等の通常漂白液に添加することが知ら
れているものを適宜添加することができる。 更に、定着液及び漂白定着液は、亜硫酸アンモ
ニウム、亜硫酸カリウム、重亜硫酸アンモニウ
ム、重亜硫酸カリウム、重亜硫酸ナトリウム、メ
タ重亜硫酸アンモニウム、メタ重亜硫酸カリウ
ム、メタ重亜硫酸ナトリウム等の亜硫酸塩や硼
酸、硼砂、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重亜硫酸ナトリ
ウム、重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウム、酢
酸、酢酸ナトリウム、水酸化アンモニウム等の各
種の塩から成るPH緩衝剤を単独或いは2種以上含
むことができる。 漂白定着液(浴)に漂白定着補充剤を補充しな
がら本発明のハロゲン化銀写真感光材料の処理を
行なう場合、該漂白定着液(浴)にチオ硫酸塩、
チオシアン酸塩又は亜硫酸塩等を含有せしめても
よいし、該漂白定着補充液にこれらの塩類を含有
せしめて処理浴に補充してもよい。 漂白定着液の活性度を高める為に漂白定着浴中
及び漂白定着補充液の貯蔵タンク内で所望により
空気の吹き込み、又は酸素の吹き込みをおこなつ
てもよく、或いは適当な酸化剤、例えば過酸化水
素、臭素酸塩、過硫酸塩等を適宜添加してもよ
い。 以下に具体的な実施例を示して本発明を更に詳
細に説明するが本発明はこれに限定されるもので
はない。 実施例 1 表1に示した層構成にて以下に詳述するポリエ
チレン被覆紙を用いて多層ハロゲン化銀カラー写
真感光材料を作成した。
【表】 ここで用いたAS−1およびDS−1は下記に示
す構造の化合物である。 ステイン防止剤AS−1 退色防止剤DS−1 以上の如く作成した試料を試料1とする。次
に、試料1において第6層中の紫外線吸収剤、第
7層へのマツト剤の添加、イエロー、マゼンタお
よびシアンカプラーおよび第1層への一般式
[A]で示される化合物の添加を表2に示した如
く変更して試料2乃至29を作成した。 得られた試料1乃至29について以下の処理を施
した。 これらの試料1乃至29に感光計(小西六写真工
業株式会社製KS−7型)を用いて緑色光により
光楔露光を行なつた後、以下の処理を施した。 基準処理工程(処理温度と処理時間) [1] 発色現像 38℃ 3分30秒 [2] 漂白定着 33℃ 1分30秒 [3] 水洗処理 25〜30℃ 3分 [4] 乾 燥 75〜80℃ 約2分 処理液組成 (発色現像液) ベンジルアルコール 15ml エチレングリコール 15ml 亜硫酸カリウム 2.0g 臭化カリウム 0.7g 塩化ナトリウム 0.2g 炭酸カリウム 30.0g ヒドロキシルアミン硫酸塩 3.0g ポリリン酸(TPPS) 2.5g 3−メチル−4−アミノ−N−エチル−N−(β
−メタンスルホンアミドエチル)−アリニン硫酸
塩 5.5g 蛍光増白剤(4,4′−ジアミノスチルベンズスル
ホン酸誘導体) 1.0g 水酸化カリウム 2.0g 水を加えて全量を1とし、PH10.20に調整す
る。 (漂白定着液) エチレンジアミンテトラ酢酸第2鉄アンモニウム
2水塩 60g エチレンジアミンテトラ酢酸 3g チオ硫酸アンモニウム(70%溶液) 100ml 亜硫酸アンモニウム(40%溶液) 27.5ml 炭酸カリウムまたは氷酢酸でPH7.1に調整し水
を加えて全量を1とする。 処理後に得られたニユートラル(中性灰色)の
試料について明退色性を下記方法にて試験した。 [明退色性試験] キセノンフエードメーター(10万ルクス、40℃
40%RH)を用いて100時間および200時間にわた
つて照射した。耐光性評価尺度として、CIE1976
(L*a*b*)色空間による色差△E* abで表示した。
測定は直読式測色計(スガ試験機製カラーコンピ
ユーターSM−3−CH)を用いて行なつた。 (2) 表面状態観察 (1)において200時間照射後の試料について、
特に発色部について物性面から肉眼にて観察評
価した。ヘイズまたはくもり具合については下
記の評価基準を用いてランク付けした。 ランク 状 態 ○ 照射前と殆ど同一。 △ 若干不透明感がある。 × 肉眼にて明らかに白いもやがみえる。 ×× 更にかすんで来て表面光沢に異常発生。 (3) 紫外線吸収剤乳化分散物安定性試験 本発明に係る乳化分散物は、下記の手順で作
成した。 (a) 表2に示す組成の紫外線吸収剤10gジノニ
ルフタレート10gおよび酢酸エチル20gを混
合し、約60℃に加熱して溶解する。 (b) 写真用ゼラチン15g、純水200mlを室温に
て混合し、20分間膨潤させる。 次に約60℃に加熱し溶解させた後にアルカ
ノールB(デユポン社製)の5%水溶液を20
ml添加し、均一に撹拌する。 (c) (a)および(b)にて得られた各溶液を混合し、
超音波分散機にて20分間分散し、乳化分散液
を得た。これを300mlに純水にて仕上げた。 得られた乳化分散物に栓をして、40℃36時
間保温放置を施し、放置前後の濁度上昇△T
を調べた。 ここで「濁度」とは分散粒子の粒径と相関
を示す数値であり、同一条件下では値が小さ
い程粒径が小さい、すなわち、△Tが小さい
程分散粒子の粗大化が起きておらず安定であ
ることを示す。濁度の測定はポイツク積分球
式濁度計(日本精密光学株式会社製、型式
SEP−PT−501D)を用いて行なつた。 (1)乃至(3)にて得られた結果を表2に示す。
【表】
【表】
【表】 表2の結果より第6層に用いた紫外線吸収剤が
1種のみの単独使用である試料1および3につい
て本発明に係る平均粒径1〜10μmの微粒子粉末
を第7層に添加してもヘイズの改良効果は殆どみ
られない。紫外線吸収剤を2種以上併用した試料
7、12および14においては、試料1乃至4より改
良されているが十分ではない。しかし、これら試
料にマツト剤を使用した試料8乃至11、13および
15においては視感では認知できないレベルにまで
向上しており、その改良効果の大きさは相乗的で
あり、驚くべきことであつた。又、前記紫外線吸
収剤とマツト剤とを最外層に添加した試料5にお
いても改良効果は殆ど現われていない。 更に明退色性試験の結果より、試料7乃至15に
ついては試料1乃至6に比較してニユートラル
(中性灰色)からのカラーバランスのずれが抑制
されていることがわかる。 上記の2試験により試料8乃至11、13および15
については保存における色素画像および膜物性の
両面において卓越した感光材料であることがわか
る。 一方、前記の如き紫外線吸収剤を混合使用した
試料16において塗布前に調製された紫外線吸収剤
の乳化分散物の安定性もかなり良好なレベルであ
るが十分とはいえない。これに対して一般式
[UV−1]におけるR1とR2に含まれる炭素数が
8であるUV−6Sの比率を徐々に増加させた試料
18,20および22について、改良されており、特に
試料20および22の分散物の安定性は著しく高いも
のである。しかし、明退色性において特に後期で
の色差が試料7等に比べ劣るという欠点が存在す
る。この欠点に対し、前記の如く、一般式[A]
で示される化合物をイエローカプラー含有層に添
加した場合に改良効果を示していることが明らか
であろう。更にこの効果は特に試料22、26および
28の如き常温にて固体状の紫外線吸収剤のうち、
前記一般式[UV−]におけるR1とR2に含まれ
る炭素数が8以上の紫外線吸収剤の比率が高い試
料について特に絶大であつた。かくして分散物の
安定性と明退色性が著しく改良された試料を得
た。 実施例 2 実施例1における試料7に対して、第7層に添
加したマツト剤の量を表3の如く変更した以外は
試料7と同一の試料30乃至32を、又試料29に対し
て、一般式[A]で示される化合物の種類および
添加層を表3の如く変更した以外は試料29と同一
の試料33乃至37を夫々作成した。
【表】
【表】 ☆ 一般式(A)で示される化合物の添加
量は、いずれも添加層に含有され
るカプラーに対して30重量%とした。
表3の結果より、まずマツト剤の添加量を試料
7に比較して夫々1/10、5、25倍した試料30乃至
32のヘイズの結果よりマツト剤の添加量は0.0003
g/m2では少なすぎて、0.075g/m2では多すぎ
てその効果が比較的小さくなる。 更に試料33乃至37の明退色性より、一般式
[A]で示される化合物は少なくともイエローカ
プラー含有層に添加することが必須であることが
明らかであろう。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 反射支持体上に、イエローカプラー、マゼン
    タカプラー及びシアンカプラーをそれぞれ含有す
    るハロゲン化銀乳剤層、及び該支持体から最も遠
    いハロゲン化銀乳剤層の支持体側とは反対側に二
    層以上の非感光性層を有するハロゲン化銀写真感
    光材料において、前記非感光性層の最外層以外の
    層に、下記一般式[UV−1]で表わされる紫外
    線吸収剤であつて、常温にて液体状の紫外線吸収
    剤及び常温にて固定状の紫外線吸収剤からなる紫
    外線吸収剤を含有し、かつ、該液体状紫外線吸収
    剤の全紫外線吸収剤に対する重量比率が30%以上
    であり、また該固体状紫外線吸収剤が、R1およ
    びR2の各基の炭素原子数の総和が8以上の紫外
    線吸収剤を全固体状紫外線吸収剤に対し重量比率
    で35%以上含む、二種以上の異なる構造のものの
    組合せからなり、更に、前記イエローカプラーを
    含有するハロゲン化銀乳剤層中に下記一般式
    [A]で表わされる化合物を含有することを特徴
    とするハロゲン化銀写真感光材料。 一般式[UV−1] [式中、R1、R2およびR3は、それぞれ、水素原
    子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ア
    ルコキシ基、アリールオキシ基、アルケニル基、
    ニトロ基または水酸基を表わす。] 一般式[A] [式中、R1およびR2は、それぞれアルキル基を
    表わす。R3はアルキル基、−NR′R″基、−SR′基
    (R′は1価の有機基を表わす。)、または−
    COOR″基(R″は水素原子または1価の有機基を
    表わす。)を表わす。mは0〜3の整数を表わ
    す。]
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