JPH03218483A - スキャンテスト回路およびそれを用いた半導体集積回路装置 - Google Patents
スキャンテスト回路およびそれを用いた半導体集積回路装置Info
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- JPH03218483A JPH03218483A JP2014392A JP1439290A JPH03218483A JP H03218483 A JPH03218483 A JP H03218483A JP 2014392 A JP2014392 A JP 2014392A JP 1439290 A JP1439290 A JP 1439290A JP H03218483 A JPH03218483 A JP H03218483A
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/317—Testing of digital circuits
- G01R31/3181—Functional testing
- G01R31/3185—Reconfiguring for testing, e.g. LSSD, partitioning
- G01R31/318533—Reconfiguring for testing, e.g. LSSD, partitioning using scanning techniques, e.g. LSSD, Boundary Scan, JTAG
- G01R31/318541—Scan latches or cell details
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
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- G01R31/318533—Reconfiguring for testing, e.g. LSSD, partitioning using scanning techniques, e.g. LSSD, Boundary Scan, JTAG
- G01R31/318558—Addressing or selecting of subparts of the device under test
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明はスキャンテスト回路およびそれを用いた半導
体集積回路装置に関し、特に、半導体集積回路装置内に
スキャンレジスタを含むスキャンテスト回路を設け、こ
のスキャンテスト回路によって半導体集積回路装置をテ
ストするようなスキャンテスト回路およびそれを用いた
半導体集積回路装置に関する。
体集積回路装置に関し、特に、半導体集積回路装置内に
スキャンレジスタを含むスキャンテスト回路を設け、こ
のスキャンテスト回路によって半導体集積回路装置をテ
ストするようなスキャンテスト回路およびそれを用いた
半導体集積回路装置に関する。
[従来の技術]
微細加工技術の進歩により、半導体集積回路の集積度は
飛躍的に向上し、今後もさらに増大する傾向にある。こ
のような集積度(ゲート数)の増大とともに、半導体集
積回路の試験の難易度が指数関数的に増大している。こ
こで、或る装置のテスト容品度は、各端子の故障を観測
する容易さ(可観測性)と、各端子を所望の論理値に設
定する容易さ(可制御性)の2点から決定され、一般に
大規模な論理回路網の奥深い端子は可観測性,61制御
性が共に悪くなる。
飛躍的に向上し、今後もさらに増大する傾向にある。こ
のような集積度(ゲート数)の増大とともに、半導体集
積回路の試験の難易度が指数関数的に増大している。こ
こで、或る装置のテスト容品度は、各端子の故障を観測
する容易さ(可観測性)と、各端子を所望の論理値に設
定する容易さ(可制御性)の2点から決定され、一般に
大規模な論理回路網の奥深い端子は可観測性,61制御
性が共に悪くなる。
半導体集積回路のテスト方法の1つとしてスキャンテス
ト方法がある。このスキャンテスト方法は、シフトレジ
スタ機能を有するレジスタ回路が論理回路網の適当な箇
所に挿入され、これらのレジスタ回路が1本のシフトレ
ジスタバスにつながれる。テスト動作時には、チップ外
部からテストパターンがシリアルに入力されて所定のデ
ータが各レジスタに設定される。これらのレジスタのデ
ータ出力端子には論理回路が接続されていて、所望の論
理信号が論理回路に入力される。各論理回路はその論理
信号に応じて動作し、その結果がレジスタのパラレル入
力端子からそのレジスタ内にパラレルに取込まれる。そ
の後、レジスタに設定されたデータがシリアルにチ.ツ
ブ外部に出力され、その出力を観測することによって大
規模な論理回路網の奥深い端子の可観測性,可制御性を
向上できる。
ト方法がある。このスキャンテスト方法は、シフトレジ
スタ機能を有するレジスタ回路が論理回路網の適当な箇
所に挿入され、これらのレジスタ回路が1本のシフトレ
ジスタバスにつながれる。テスト動作時には、チップ外
部からテストパターンがシリアルに入力されて所定のデ
ータが各レジスタに設定される。これらのレジスタのデ
ータ出力端子には論理回路が接続されていて、所望の論
理信号が論理回路に入力される。各論理回路はその論理
信号に応じて動作し、その結果がレジスタのパラレル入
力端子からそのレジスタ内にパラレルに取込まれる。そ
の後、レジスタに設定されたデータがシリアルにチ.ツ
ブ外部に出力され、その出力を観測することによって大
規模な論理回路網の奥深い端子の可観測性,可制御性を
向上できる。
また、非同期な順序回路を対象としたスキャンテスト回
路に関しては、特開昭56−74668号公報.特開昭
63−38179号公報および特開昭63−38184
号公報などに記載されている。以下には、特開昭63−
38184号公報に記載された従来技術について説明す
る。
路に関しては、特開昭56−74668号公報.特開昭
63−38179号公報および特開昭63−38184
号公報などに記載されている。以下には、特開昭63−
38184号公報に記載された従来技術について説明す
る。
第16図は従来のスキャンテストを実施するためのスキ
ャンテスト回路の一例を示すブロック図である。第16
図を参照して、スキャンテスト回路SRLはラッチ回路
Ll,L2およびL3とインバータ1〜4とを含む。イ
ンバータ1には第2の入力端子Slからシリアルデータ
が入力される。
ャンテスト回路の一例を示すブロック図である。第16
図を参照して、スキャンテスト回路SRLはラッチ回路
Ll,L2およびL3とインバータ1〜4とを含む。イ
ンバータ1には第2の入力端子Slからシリアルデータ
が入力される。
インバータ1の出力はラッチ回路L1に与えられる。ラ
ッチ回路L1はインバータ5.6、とnチャネルMOS
トランジスタからなるトランスファゲート13.15と
を含む。インバータ5の入力とインバータ6の出力は接
続され、インバータ5の出力とインバータ6の入力とが
接続されてレジスタが構成される。
ッチ回路L1はインバータ5.6、とnチャネルMOS
トランジスタからなるトランスファゲート13.15と
を含む。インバータ5の入力とインバータ6の出力は接
続され、インバータ5の出力とインバータ6の入力とが
接続されてレジスタが構成される。
インバータ5の入力とインバータ2の出力との間にはト
ランスファゲート13が接続される。インバータ2には
第1の入力端子DIからデータが入力される。トランス
ファゲート13のゲートには入力端子TDからクロック
信号が与えられる。
ランスファゲート13が接続される。インバータ2には
第1の入力端子DIからデータが入力される。トランス
ファゲート13のゲートには入力端子TDからクロック
信号が与えられる。
インバータ5の入力とインバータ1の出力との間にはト
ランスファゲート15が接続され、トランスファゲート
15のゲートには入力端子T1を介してクロック信号が
与えられる。ラッチ回路L1の出力はラッチ回路L2と
L3とに与えられる。
ランスファゲート15が接続され、トランスファゲート
15のゲートには入力端子T1を介してクロック信号が
与えられる。ラッチ回路L1の出力はラッチ回路L2と
L3とに与えられる。
ラッチ回路L2はインバータ7,8とトランスファゲー
ト19とを含む。インバータ7の入力とインバータ8の
出力とが接続され、インバータ7の出力とインバータ8
の入力とが接続されてレジスタが構成される。インバー
タ7の入力とラッチ回路L1の出力との間にはトランス
ファゲート19が接続され、トランスファゲート19の
ゲートには入力端子T2からクロック信号が与えられる
。
ト19とを含む。インバータ7の入力とインバータ8の
出力とが接続され、インバータ7の出力とインバータ8
の入力とが接続されてレジスタが構成される。インバー
タ7の入力とラッチ回路L1の出力との間にはトランス
ファゲート19が接続され、トランスファゲート19の
ゲートには入力端子T2からクロック信号が与えられる
。
ラッチ回路L2の出力信号はインバータ4を介して第2
の出力端子SOに出力される。
の出力端子SOに出力される。
ラッチ回路L3はインバータ9.10とトランスファゲ
ート17とを含む。インバータ9の入力とインバータ1
0の出力が接続され、インバータ9の出力とインバータ
10の入力とが接続されてレシスタを構成している。イ
ンバータ9の入力トラッチ回路L1との間にはトランス
ファゲート17が接続され、トランスファゲート17の
ゲートには入力端子T3からクロック信号が与えられる
。
ート17とを含む。インバータ9の入力とインバータ1
0の出力が接続され、インバータ9の出力とインバータ
10の入力とが接続されてレシスタを構成している。イ
ンバータ9の入力トラッチ回路L1との間にはトランス
ファゲート17が接続され、トランスファゲート17の
ゲートには入力端子T3からクロック信号が与えられる
。
ラッチ回路L3の出力信号はインバータ3を介して第1
の出力端子DOに出力される。
の出力端子DOに出力される。
第17図は第16図に示したスキャンテスト回路を設け
た半導体集積回路チップのブロック図である。第17図
を参照して、1つのチップ内には2つのテスト対象とな
る回路ブロックCBI,CB2が内蔵されている。回路
ブロックCBIの入力端子11.12にはそれぞれスキ
ャンテスト回路SRLI,SRL2の出力端子DOが接
続されている。回路ブロックCBIの出力端子01には
スキャンテスト回路SRL3,SRL4の入力端子DI
が接続され、スキャンテスト回路SRL3,SRL4の
出力端子DOは回路ブロックCB2の入力端子11.1
2に接続されている。
た半導体集積回路チップのブロック図である。第17図
を参照して、1つのチップ内には2つのテスト対象とな
る回路ブロックCBI,CB2が内蔵されている。回路
ブロックCBIの入力端子11.12にはそれぞれスキ
ャンテスト回路SRLI,SRL2の出力端子DOが接
続されている。回路ブロックCBIの出力端子01には
スキャンテスト回路SRL3,SRL4の入力端子DI
が接続され、スキャンテスト回路SRL3,SRL4の
出力端子DOは回路ブロックCB2の入力端子11.1
2に接続されている。
回路ブロックCB2の出力端子01,02にはスキャン
テスト回路SRL5,SRL6の入力端子DIが接続さ
れている。チップのシリアルデータ入力端子Slとシリ
アルデータ出力端子SOとの間には、スキャンテスト回
路SRLI〜SRL6が接続され、スキャンパスを構成
している。チップのクロツク入力端子T3aにはスキャ
ンテスト回路SRLIの入力端子T3が接続され、クロ
ック信号が与えられる。チップの入力端子T3bにはス
キャンテスト回路SRL2,SRL3,SRL4の入力
端子T3が接続され、クロック信号が与えられる。チッ
プの入力端子TDにはスキャンテスト回路SRL3ない
しSRL6の入力端子TDが接続され、クロック信号が
与えられる。
テスト回路SRL5,SRL6の入力端子DIが接続さ
れている。チップのシリアルデータ入力端子Slとシリ
アルデータ出力端子SOとの間には、スキャンテスト回
路SRLI〜SRL6が接続され、スキャンパスを構成
している。チップのクロツク入力端子T3aにはスキャ
ンテスト回路SRLIの入力端子T3が接続され、クロ
ック信号が与えられる。チップの入力端子T3bにはス
キャンテスト回路SRL2,SRL3,SRL4の入力
端子T3が接続され、クロック信号が与えられる。チッ
プの入力端子TDにはスキャンテスト回路SRL3ない
しSRL6の入力端子TDが接続され、クロック信号が
与えられる。
第18図は第17図に示した回路ブロックをテストする
動作を説明するためのフロー図であり、第19図は同じ
くタイミング図である。
動作を説明するためのフロー図であり、第19図は同じ
くタイミング図である。
次に、第16図ないし第19図を参照して、従来のスキ
ャンテスト回路の動作について説明する。
ャンテスト回路の動作について説明する。
回路ブロックは通常動作とテスト動作に分けられる。通
常動作時には、チップのテスト用入力端子TI.T2に
与えられる信号が“L”レベルに設定され、入力端子T
D,T3a,T3bに与えられる信号が“H“レベルに
設定される。このように信号が設定されることにより、
第16図に示したスキャンテスト回路SRLにおいて、
トランスファゲート13と17が導通し、トランスファ
ゲ−ト15.19が非導通になる。それによって、ラッ
チ回路L1は入力端子DIからインバータ2を介して入
力されたデータをスルーにするスルー回路になり、ラッ
チ回路L3も同様にして、ラッチ回路L1から入力され
たデータをインバータ3にデータスルーにするスルー回
路として作用する。
常動作時には、チップのテスト用入力端子TI.T2に
与えられる信号が“L”レベルに設定され、入力端子T
D,T3a,T3bに与えられる信号が“H“レベルに
設定される。このように信号が設定されることにより、
第16図に示したスキャンテスト回路SRLにおいて、
トランスファゲート13と17が導通し、トランスファ
ゲ−ト15.19が非導通になる。それによって、ラッ
チ回路L1は入力端子DIからインバータ2を介して入
力されたデータをスルーにするスルー回路になり、ラッ
チ回路L3も同様にして、ラッチ回路L1から入力され
たデータをインバータ3にデータスルーにするスルー回
路として作用する。
一方、ラッチ回路L2はトランスファゲート19が非導
通になっていることにより、データ保持状態となる。し
たがって、第12図に示した各スキャンテスト回路SR
Lはシリアルデータ入力端子Slから入力されたデータ
の入力が抑制され、入力端子DIから出力端子Doまで
を単なるデータの伝搬回路として作用する。このため、
第17図に示す各回路ブロックCBI,CB2の間のス
キャンテスト回路SRLの入力端子DIから出力端子D
Oまでがデータスルー状態となるので、各回路ブロック
CBI,CB2の間の配線が論理的に導通された状態と
なり、スキャンテスト回路SRLI〜SRL6を挿入す
る前と同様の論理機能を果たす。
通になっていることにより、データ保持状態となる。し
たがって、第12図に示した各スキャンテスト回路SR
Lはシリアルデータ入力端子Slから入力されたデータ
の入力が抑制され、入力端子DIから出力端子Doまで
を単なるデータの伝搬回路として作用する。このため、
第17図に示す各回路ブロックCBI,CB2の間のス
キャンテスト回路SRLの入力端子DIから出力端子D
Oまでがデータスルー状態となるので、各回路ブロック
CBI,CB2の間の配線が論理的に導通された状態と
なり、スキャンテスト回路SRLI〜SRL6を挿入す
る前と同様の論理機能を果たす。
次に、テスト動作について説明する。テスト動作はスキ
ャン動作モードとブロックテスト動作モードに分割され
、スキャン動作モードにより、テストの対象となる回路
ブロックCBI,CB2のテストパターンがシリアルに
シリアルデータ入力端子Slから入力されると同時に、
テストの対象となる回路ブロックCBI,CB2の出力
データがシリアルデータ出力端子SOからシリアルに出
力される。そして、ブロックテスト動作モードにおいて
は、各スキャンテスト回路SRL1〜SRL6に入力さ
れたテストの対象となる回路ブロックCBI,CB2の
テストパターンが入力端子T3a,T3bに与えられる
クロック信号に同期して、実際にテスト対象となる回路
ブロックCBI,CB2の入力端子に入力される。次に
、それにより応答波形と入力端子TDに与えられるクロ
ック信号に同期して対応するスキャンテスト回路SRL
内のラッチ回路L1にテストデータが保持される。この
スキャン動作モードとブロックテストモードがテスト対
象の回路ブロックのテストパターンの1パターンごとに
交互に繰返されて、そのテスト対象の回路ブロックのス
キャンテストが達成される。また、この手順でチップ内
に存在する回路ブロック数だけ処理を繰返すことにより
、チップのテストが達成される。
ャン動作モードとブロックテスト動作モードに分割され
、スキャン動作モードにより、テストの対象となる回路
ブロックCBI,CB2のテストパターンがシリアルに
シリアルデータ入力端子Slから入力されると同時に、
テストの対象となる回路ブロックCBI,CB2の出力
データがシリアルデータ出力端子SOからシリアルに出
力される。そして、ブロックテスト動作モードにおいて
は、各スキャンテスト回路SRL1〜SRL6に入力さ
れたテストの対象となる回路ブロックCBI,CB2の
テストパターンが入力端子T3a,T3bに与えられる
クロック信号に同期して、実際にテスト対象となる回路
ブロックCBI,CB2の入力端子に入力される。次に
、それにより応答波形と入力端子TDに与えられるクロ
ック信号に同期して対応するスキャンテスト回路SRL
内のラッチ回路L1にテストデータが保持される。この
スキャン動作モードとブロックテストモードがテスト対
象の回路ブロックのテストパターンの1パターンごとに
交互に繰返されて、そのテスト対象の回路ブロックのス
キャンテストが達成される。また、この手順でチップ内
に存在する回路ブロック数だけ処理を繰返すことにより
、チップのテストが達成される。
次に、第17図に示したチップを例にして、テスト動作
についてさらに具体的に説明する。このチップは回路ブ
ロックCBI,CB2を含み、回路ブロックCBI.C
B2のテストをそれぞれ行なうことによってチップのテ
ストが達成される。
についてさらに具体的に説明する。このチップは回路ブ
ロックCBI,CB2を含み、回路ブロックCBI.C
B2のテストをそれぞれ行なうことによってチップのテ
ストが達成される。
回路ブロックCBIのテストに必要なテストパターンを
表IAに示し、回路ブロックCB2のテストに必要なテ
ストパターンを表IBに示す。
表IAに示し、回路ブロックCB2のテストに必要なテ
ストパターンを表IBに示す。
表
1
A
CBIテストパターン
表
1
B
CB2テストパターン
表IAに示すように、回路ブロックCBIのテストパタ
ーンとして4パターンが必要となる。たとえば、回路ブ
ロックCBIの入力端子I1,12に所望のタイミング
で“H”. “H゜レベル信号を与えると、回路ブロッ
クCBIの出カ端子01から“H゜レベルの出方信号が
与えられる。同様に、“H′,“L”レベル信号に対し
て“L”レベルの出力信号が得られ、入力“L”L”レ
ベル信号に対して′H1レベルの出カ信号が得られ、入
力“L゛,“H”レベル信号に対して“H”レベルの出
力信号が得られる。回路ブロックCB2の場合も同様に
して、入方パターンに対する出力パターンを観測するこ
とにより、各回路ブロックのテストが達成される。
ーンとして4パターンが必要となる。たとえば、回路ブ
ロックCBIの入力端子I1,12に所望のタイミング
で“H”. “H゜レベル信号を与えると、回路ブロッ
クCBIの出カ端子01から“H゜レベルの出方信号が
与えられる。同様に、“H′,“L”レベル信号に対し
て“L”レベルの出力信号が得られ、入力“L”L”レ
ベル信号に対して′H1レベルの出カ信号が得られ、入
力“L゛,“H”レベル信号に対して“H”レベルの出
力信号が得られる。回路ブロックCB2の場合も同様に
して、入方パターンに対する出力パターンを観測するこ
とにより、各回路ブロックのテストが達成される。
これらテストパターンをシリアルデータ入力端子Slか
らシリアルに入力し、スキャンパス上を伝搬させ、所望
のスキャンテスト回路SRLに入力データをセットし、
さらにテスト出力データをシリアルデータ出力端子so
がらシリアルに出力させるために、表IAおよびIBに
示したテストパターンをシリアルデータに変換する必要
がある。
らシリアルに入力し、スキャンパス上を伝搬させ、所望
のスキャンテスト回路SRLに入力データをセットし、
さらにテスト出力データをシリアルデータ出力端子so
がらシリアルに出力させるために、表IAおよびIBに
示したテストパターンをシリアルデータに変換する必要
がある。
このようなシリアルデータに変換されたテストパターン
を表2A,2Bに示す。
を表2A,2Bに示す。
表2A
表2B
チップテストパターン
(スキャンパス入出力シリアルデータ)表2Aはシリア
ルデータ入力端子Slから入力されるテスト入力パター
ンを示し、表2Bはシリアルデータ出力端子SOから出
力されるテスト出力パターンを示している。第17図に
おいて、シリアルデータ入力端子Slからシリアルデー
タ出力端子SOまでのスキャンパス上には6個のスキャ
ンテスト回路SRLI〜SRL6が接続されているので
、1スキャン動作には6周期分必要となる。表2A,2
B中において、Xはスキャンシフトの際、必要となるダ
ミーデータであり、テスト入力データをシリアルデータ
入力端子Stから所定のスキャンテスト回路SRLにセ
ットし、所定のスキャンテスト回路SRLからテスト出
力データをスキャンデータ出力端子SOに出力するため
に必要なシフトのためのデータである。
ルデータ入力端子Slから入力されるテスト入力パター
ンを示し、表2Bはシリアルデータ出力端子SOから出
力されるテスト出力パターンを示している。第17図に
おいて、シリアルデータ入力端子Slからシリアルデー
タ出力端子SOまでのスキャンパス上には6個のスキャ
ンテスト回路SRLI〜SRL6が接続されているので
、1スキャン動作には6周期分必要となる。表2A,2
B中において、Xはスキャンシフトの際、必要となるダ
ミーデータであり、テスト入力データをシリアルデータ
入力端子Stから所定のスキャンテスト回路SRLにセ
ットし、所定のスキャンテスト回路SRLからテスト出
力データをスキャンデータ出力端子SOに出力するため
に必要なシフトのためのデータである。
テストパターン数は回路ブロックCBIのテストのため
に4パターン必要であり、回路ブロックCB2のテスト
のために4パターン必要となり、さらに第18図に示し
たフロー図から明らかなように、回路ブロックCB2の
テスト動作終了後のテスト出力データをシリアルデータ
出力端子SOから出力するために1パターンが必要とな
り、合計9パターンでこのチップのテストが終了する。
に4パターン必要であり、回路ブロックCB2のテスト
のために4パターン必要となり、さらに第18図に示し
たフロー図から明らかなように、回路ブロックCB2の
テスト動作終了後のテスト出力データをシリアルデータ
出力端子SOから出力するために1パターンが必要とな
り、合計9パターンでこのチップのテストが終了する。
シリアル弯換されたデータはスキャンモードにおいて、
シリアルデータ入力端子Stからシリアルに入力される
。テスト動作時には、スキャンモードとテストモードを
順次繰返し実行し、各ブロックのテストを実施する。
シリアルデータ入力端子Stからシリアルに入力される
。テスト動作時には、スキャンモードとテストモードを
順次繰返し実行し、各ブロックのテストを実施する。
第19図は第18図の各部のタイミングを示すタイミン
グ図である。次に、第19図を参照してスキャンモード
についてより詳細に説明する。入力端子TDに第19図
(g)に示すように、″L゜レベルのクロック信号が与
えられてスキャンモードにされる。次に、:*19図(
c). (d)に示すように、入力端子TI,T2に
第1および第2のスキャンクロツク信号がノンオーバラ
ップのポジティブクロックとして与えられると、それに
同期してスキャンデー夕入力端子Slからデータが各ス
キャンテスト回路SRLI〜SRL6に順次スキャンイ
ンされる。所定のスキャンテスト回路SRLに所望のデ
ータを入力するのにスキャンクロック信号が6周期分必
要となる。同時に、スキャンデータ出力端子SOから第
19図(b)に示すように、前回のテストの際の所定の
スキャンテスト回路(第17図に示した例においてはス
キャンテスト回路SRL3,SRL4)に取込んだ回路
ブロックCBIの出力データが順次スキャンアウトされ
る。
グ図である。次に、第19図を参照してスキャンモード
についてより詳細に説明する。入力端子TDに第19図
(g)に示すように、″L゜レベルのクロック信号が与
えられてスキャンモードにされる。次に、:*19図(
c). (d)に示すように、入力端子TI,T2に
第1および第2のスキャンクロツク信号がノンオーバラ
ップのポジティブクロックとして与えられると、それに
同期してスキャンデー夕入力端子Slからデータが各ス
キャンテスト回路SRLI〜SRL6に順次スキャンイ
ンされる。所定のスキャンテスト回路SRLに所望のデ
ータを入力するのにスキャンクロック信号が6周期分必
要となる。同時に、スキャンデータ出力端子SOから第
19図(b)に示すように、前回のテストの際の所定の
スキャンテスト回路(第17図に示した例においてはス
キャンテスト回路SRL3,SRL4)に取込んだ回路
ブロックCBIの出力データが順次スキャンアウトされ
る。
次にテストモードについて説明する。所望のテスト入力
データが所定のスキャンテスト回路SRLに設定される
と、入力端子T3aに第19図(e)に示す正のクロツ
クパルスが1つ与えられる。これにより、このテスト入
力データがスキャンテスト回路SRLの第3のラッチ回
路L3にラッチされるとともに、回路ブロックCBIに
与えられる。次に、各回路ブロックCBI.CB2の動
作が完了した時点で、入力端子TDに第19図(g)に
示すデータクロツク信号として正のクロックパルスが与
えられる。これにより、各回路ブロックの出力信号がそ
れぞれ対応するスキャンテスト回路SRLの入力端子D
Iを介してスキャンテスト回路SRLの第1のラッチ回
路L1にラッチされる。
データが所定のスキャンテスト回路SRLに設定される
と、入力端子T3aに第19図(e)に示す正のクロツ
クパルスが1つ与えられる。これにより、このテスト入
力データがスキャンテスト回路SRLの第3のラッチ回
路L3にラッチされるとともに、回路ブロックCBIに
与えられる。次に、各回路ブロックCBI.CB2の動
作が完了した時点で、入力端子TDに第19図(g)に
示すデータクロツク信号として正のクロックパルスが与
えられる。これにより、各回路ブロックの出力信号がそ
れぞれ対応するスキャンテスト回路SRLの入力端子D
Iを介してスキャンテスト回路SRLの第1のラッチ回
路L1にラッチされる。
続いて、入力端子T2に第2のスキャンクロック信号と
して正のクロックパルスが1つ与えられることによって
、スキャンテスト回路SRLの第2のラッチ回路L2に
も回路ブロックの出力信号が保持される。その後は、ス
キャンモードに移り、テストが進行する。
して正のクロックパルスが1つ与えられることによって
、スキャンテスト回路SRLの第2のラッチ回路L2に
も回路ブロックの出力信号が保持される。その後は、ス
キャンモードに移り、テストが進行する。
このようにして、各回路ブロックCBI,CB2のテス
トが実行されるが、第12図に示した回路では、スキャ
ン動作中ラッチ回路は前回のテストパターンをラッチし
ており、そのパターンが回路ブロックCBI,CB2の
入力端子11.12に与えられ続けるため、スキャン動
作中にラッチ回路Ll,L2の値が次に変化しても凹路
ブロックCBI,CB2の内部の状態は変化せず、スキ
ャンテストが11能となる。
トが実行されるが、第12図に示した回路では、スキャ
ン動作中ラッチ回路は前回のテストパターンをラッチし
ており、そのパターンが回路ブロックCBI,CB2の
入力端子11.12に与えられ続けるため、スキャン動
作中にラッチ回路Ll,L2の値が次に変化しても凹路
ブロックCBI,CB2の内部の状態は変化せず、スキ
ャンテストが11能となる。
なお、上述の例においては、回路ブロックCB1,CB
2として非同期回路を対欧とし、それに対応したスキャ
ンテスト回路として第11図に示した回路を用いている
が、回路ブロックとして同期回路を対象とした場合、第
16図に示した第3のラッチ回路L3が不要となる。
2として非同期回路を対欧とし、それに対応したスキャ
ンテスト回路として第11図に示した回路を用いている
が、回路ブロックとして同期回路を対象とした場合、第
16図に示した第3のラッチ回路L3が不要となる。
第20図および第21図はテストしようとする回路ブロ
ックとして同期回路を対象としたスキャンテスト回路を
示すブロック図である。第20図に示した例では、第1
6図に示したラッチL3とクロック信号が入力される入
力端子T3が省略され、インバータ3の入力がインバー
タ5の入力に接続されている。第21図に示した例はラ
ッチ回路L3と入力端子T3のみならずインバータ3も
省略したものであり、インバータ4の出力が出力端子D
oに接続されている。なお、第20図および第21図に
示したスキャンテスト回路においても、前述のダミーパ
ターンは必要とされる。
ックとして同期回路を対象としたスキャンテスト回路を
示すブロック図である。第20図に示した例では、第1
6図に示したラッチL3とクロック信号が入力される入
力端子T3が省略され、インバータ3の入力がインバー
タ5の入力に接続されている。第21図に示した例はラ
ッチ回路L3と入力端子T3のみならずインバータ3も
省略したものであり、インバータ4の出力が出力端子D
oに接続されている。なお、第20図および第21図に
示したスキャンテスト回路においても、前述のダミーパ
ターンは必要とされる。
[発明が解決しようとする課1ftF
従来のスキャンテスト回路は上述のごとく構成されてい
るため、対象となる回路ブロックCB1,CB2のスキ
ャンテストを実施する際に、その回路ブロックCBI,
CB2のテストに不要なスキャンテスト同路が存在する
。たとえば、回路ブロックCBIのみをテストする場合
、スキャンテスト回路SRL 1〜SRL4のみを動作
させればよいにもかかわらず、スキャンテスト回路SR
L5.SRL6もシフトさせなくてはならない。したが
って、テスト動作時のスキャン動作においてその不要な
本来不必要なダミーデータも同時にスキャンインする必
要がある。これは、スキャンテスト回路SRL1つに対
して、ダミーデータが1つのスキャンクロック周期分必
要となり、スキャン動作全体でかなりのテスト時間の浪
費が発生するという問題があった。
るため、対象となる回路ブロックCB1,CB2のスキ
ャンテストを実施する際に、その回路ブロックCBI,
CB2のテストに不要なスキャンテスト同路が存在する
。たとえば、回路ブロックCBIのみをテストする場合
、スキャンテスト回路SRL 1〜SRL4のみを動作
させればよいにもかかわらず、スキャンテスト回路SR
L5.SRL6もシフトさせなくてはならない。したが
って、テスト動作時のスキャン動作においてその不要な
本来不必要なダミーデータも同時にスキャンインする必
要がある。これは、スキャンテスト回路SRL1つに対
して、ダミーデータが1つのスキャンクロック周期分必
要となり、スキャン動作全体でかなりのテスト時間の浪
費が発生するという問題があった。
それゆえに、この発明の主たる目的は、スキャン動作時
に必要なスキャンテスト回路の段数分だけのスキャンク
ロック周期でスキャン動作を実施できるようなスキャン
テスト回路およびそれを用いた半導体集積回路装置を提
供することである。
に必要なスキャンテスト回路の段数分だけのスキャンク
ロック周期でスキャン動作を実施できるようなスキャン
テスト回路およびそれを用いた半導体集積回路装置を提
供することである。
[課題を解決するための手段]
第1請求項にかかる発明は、従来の第1および第2のラ
ッチ手段に加えて第3のラッチ手段と、この第3のラッ
チ手段をリセットする機能とを追加し、第3のラッチ手
段の出力が第1の論理であることに応答して、第3のラ
ッチ手段の出力が第1の論理であることに応じて、第2
の入力端子に入力されたシリアルデータのうちの1ビッ
トのデータを第2の入力手段から出力端子にスルーにし
て出力するとともに、第1の入力端子に入力される1ビ
ットのデータが第1のラッチ手段に入力されるのを禁止
させる第1の動作と、制御信号の入力に応じて、第2の
入力端子に入力されたシリアルデータを第1のラッチ手
段を介して第3のラッチ手段にラッチさせる第2の動作
と、リセット信号によって第3のラッチ手段がリセット
されてその出力が第2の論理に反転したことに応じて、
第1または第2の入力端子に入力されたデータが第1の
ラッチ手段から第2のラッチ手段にシフトされるのを許
容する第3の動作とを制御手段によって選択的に制御さ
れる。
ッチ手段に加えて第3のラッチ手段と、この第3のラッ
チ手段をリセットする機能とを追加し、第3のラッチ手
段の出力が第1の論理であることに応答して、第3のラ
ッチ手段の出力が第1の論理であることに応じて、第2
の入力端子に入力されたシリアルデータのうちの1ビッ
トのデータを第2の入力手段から出力端子にスルーにし
て出力するとともに、第1の入力端子に入力される1ビ
ットのデータが第1のラッチ手段に入力されるのを禁止
させる第1の動作と、制御信号の入力に応じて、第2の
入力端子に入力されたシリアルデータを第1のラッチ手
段を介して第3のラッチ手段にラッチさせる第2の動作
と、リセット信号によって第3のラッチ手段がリセット
されてその出力が第2の論理に反転したことに応じて、
第1または第2の入力端子に入力されたデータが第1の
ラッチ手段から第2のラッチ手段にシフトされるのを許
容する第3の動作とを制御手段によって選択的に制御さ
れる。
第2請求項にかかる発明は、第1請求項にかかる発明に
加えて、さらに第1のラッチ手段にラッチされているデ
ータをラッチして第2の出力端子に出力する第4のラッ
チ手段を設け、第3のラッチ手段の出力が第1の論理で
あることに応じて、第1のラッチ手段にラッチされてい
るデータが第4のラッチ手段に入力されるのを禁止し、
第3のラッチ手段の出力が第2の論理であることに応じ
て、第1のラッチ手段にラッチされているデータが第4
のラッチ手段にシフトされるのを許容する。
加えて、さらに第1のラッチ手段にラッチされているデ
ータをラッチして第2の出力端子に出力する第4のラッ
チ手段を設け、第3のラッチ手段の出力が第1の論理で
あることに応じて、第1のラッチ手段にラッチされてい
るデータが第4のラッチ手段に入力されるのを禁止し、
第3のラッチ手段の出力が第2の論理であることに応じ
て、第1のラッチ手段にラッチされているデータが第4
のラッチ手段にシフトされるのを許容する。
第3詰求項にかかる発明は、第1請求項にかかる発明に
加えて、第1のラッチ手段に入力されたデータを直接第
2の端子に出力する。
加えて、第1のラッチ手段に入力されたデータを直接第
2の端子に出力する。
第4請求項にかかる発明は、第1請求項にかかる発明に
加えて、第3のラッチ手段の出力が第1の論理であるこ
とに応じて、第1のラッチ手段にラッチされているデー
タが第2の出力端子に出力されるのを禁止し、第3のラ
ッチ手段の出力が第2の論理であることに応じて、第1
のラッチ手段にラッチされているデータを第2の出力端
子に出力する。
加えて、第3のラッチ手段の出力が第1の論理であるこ
とに応じて、第1のラッチ手段にラッチされているデー
タが第2の出力端子に出力されるのを禁止し、第3のラ
ッチ手段の出力が第2の論理であることに応じて、第1
のラッチ手段にラッチされているデータを第2の出力端
子に出力する。
第5請求項にかかる発明は、第1請求項にかかるスキャ
ンテスト回路を用いた半導体集積回路装置であって、被
テスト回路ブロックの入力端子がスキャンテスト回路の
出力端子に接続され、この被テスト回路ブロックの出力
端子がスキャンテスト回路の第1の入力端子に接続され
、かつシリアルデータ入力端子とシリアルデータ出力端
子との間で1本のスキャンパスが形成されるようにスキ
ャンテスト回路の第2の入力端子と別のスキャンテスト
回路の出力端子とが接続される。
ンテスト回路を用いた半導体集積回路装置であって、被
テスト回路ブロックの入力端子がスキャンテスト回路の
出力端子に接続され、この被テスト回路ブロックの出力
端子がスキャンテスト回路の第1の入力端子に接続され
、かつシリアルデータ入力端子とシリアルデータ出力端
子との間で1本のスキャンパスが形成されるようにスキ
ャンテスト回路の第2の入力端子と別のスキャンテスト
回路の出力端子とが接続される。
第6請求項にかかる発明は、第2請求項および第3請求
項にかかる発明のスキャンテスト回路を用いた半導体集
積回路装置であって、被テスト回路ブロックの入力端子
がスキャンテスト回路の出力端子に接続され、被テスト
回路ブロックの出力端子がスキャンテスト回路の第1の
入力端子に接続され、かつシリアルデータ入力端子とシ
リアルデータ出力端子との間で1本のスキャンパスが形
成されるように、スキャンテスト回路の第2の入力端子
と別のスキャンテスト回路の出力端子とが接続される。
項にかかる発明のスキャンテスト回路を用いた半導体集
積回路装置であって、被テスト回路ブロックの入力端子
がスキャンテスト回路の出力端子に接続され、被テスト
回路ブロックの出力端子がスキャンテスト回路の第1の
入力端子に接続され、かつシリアルデータ入力端子とシ
リアルデータ出力端子との間で1本のスキャンパスが形
成されるように、スキャンテスト回路の第2の入力端子
と別のスキャンテスト回路の出力端子とが接続される。
〔作用〕
この発明にかかるスキャンテスト回路は、従来の第1お
よび第2のラッチ手段に加えて第3のラッチ手段を設け
、この第3のラッチ手段に選択データをラッチさせ、こ
のデータに応じて、対象となる同路ブロックをスキャン
テストする際に必要となるスキャンレジスタのみを有効
にし、不要なスキャンレジスタをスルー状態にすること
により、スキャン動作時のスキャンパスの段数を実質的
に削減させ、テスト時間を削減する。
よび第2のラッチ手段に加えて第3のラッチ手段を設け
、この第3のラッチ手段に選択データをラッチさせ、こ
のデータに応じて、対象となる同路ブロックをスキャン
テストする際に必要となるスキャンレジスタのみを有効
にし、不要なスキャンレジスタをスルー状態にすること
により、スキャン動作時のスキャンパスの段数を実質的
に削減させ、テスト時間を削減する。
[発明の実施例]
第1図はこの発明の一実施例のスキャンテスト回路を示
す具体的なブロック図である。この第1図に示したスキ
ャンテスト回路は前述の第16図に示したスキャンテス
ト回路に対して、新たに以下の要素が追加される。すな
わち、ラッチ回路L10に含まれるトランスファゲート
13とインバータ2の出力との間にトランスファゲート
14が直列接続され、ラッチ回路L30に含まれるトラ
ンスファゲート17とラッチ回路L10の出力との間に
トランスファゲート18が接続される。これらのトラン
スファゲート14.18はそれぞれが導通したときにの
み、ラッチ回路L10.L30にデータが入力される。
す具体的なブロック図である。この第1図に示したスキ
ャンテスト回路は前述の第16図に示したスキャンテス
ト回路に対して、新たに以下の要素が追加される。すな
わち、ラッチ回路L10に含まれるトランスファゲート
13とインバータ2の出力との間にトランスファゲート
14が直列接続され、ラッチ回路L30に含まれるトラ
ンスファゲート17とラッチ回路L10の出力との間に
トランスファゲート18が接続される。これらのトラン
スファゲート14.18はそれぞれが導通したときにの
み、ラッチ回路L10.L30にデータが入力される。
ラッチ回路LIOに含まれるトランスファゲート15に
対してトランスファゲート16が並列接続され、ラッチ
回路L20に含まれるトランスファゲート19に対して
トランスファゲート20が並列接続される。トランスフ
ァゲート15または16のいずれかが導通すると、シリ
アルデータ入力端子S!に入力されたシリアルデータが
ラッチ回路L10に入力される。同様にして、トランス
ファゲート19または20のいずれかが導通すると、ラ
ッチ回路LIOにラッチされたデータがラッチ回路L2
0に入力される。前述のトランスファゲート14.18
.16および20を制御するために、新たにラッチ回路
L40とNOR回路23が設けられる。ラッチ回路L4
0はトランスファゲート21とプルダウン回路22とイ
ンバータ11.12を含む。
対してトランスファゲート16が並列接続され、ラッチ
回路L20に含まれるトランスファゲート19に対して
トランスファゲート20が並列接続される。トランスフ
ァゲート15または16のいずれかが導通すると、シリ
アルデータ入力端子S!に入力されたシリアルデータが
ラッチ回路L10に入力される。同様にして、トランス
ファゲート19または20のいずれかが導通すると、ラ
ッチ回路LIOにラッチされたデータがラッチ回路L2
0に入力される。前述のトランスファゲート14.18
.16および20を制御するために、新たにラッチ回路
L40とNOR回路23が設けられる。ラッチ回路L4
0はトランスファゲート21とプルダウン回路22とイ
ンバータ11.12を含む。
トランスファゲート21のゲートとNOR回路23の一
方入力端にはクロック入力端子Tssに入力されたクロ
ック信号が与えられる。トランスファゲート21のドレ
インはラッチ回路L10の出力に接続され、ソースはイ
ンバータ11の入力端とインバータ12の出力端とプル
ダウン回路22のドレインに接続される。プルダウン回
路22のゲートにはリセット入力端子Rssに入力され
たリセット信号が与えられる。プルダウン回路22のソ
ースは接地される。インバータ11の出力端はインバー
タ12の入力端とNOR回路23の他方入力端とトラン
スファゲート14.18のそれぞれのゲートに接続され
る。NOR回路23の出力端はトランスファゲート16
.20のそれぞれのゲートに接続される。
方入力端にはクロック入力端子Tssに入力されたクロ
ック信号が与えられる。トランスファゲート21のドレ
インはラッチ回路L10の出力に接続され、ソースはイ
ンバータ11の入力端とインバータ12の出力端とプル
ダウン回路22のドレインに接続される。プルダウン回
路22のゲートにはリセット入力端子Rssに入力され
たリセット信号が与えられる。プルダウン回路22のソ
ースは接地される。インバータ11の出力端はインバー
タ12の入力端とNOR回路23の他方入力端とトラン
スファゲート14.18のそれぞれのゲートに接続され
る。NOR回路23の出力端はトランスファゲート16
.20のそれぞれのゲートに接続される。
第2図は第1図に示したスキャンテスト回路を内蔵した
半導体集積回路装置を示す概略ブロック図である。第2
図を参照して、テストの対象となる回路ブロックCBI
,CB2は前述の第12図?示したものと同じである。
半導体集積回路装置を示す概略ブロック図である。第2
図を参照して、テストの対象となる回路ブロックCBI
,CB2は前述の第12図?示したものと同じである。
スキャンテスト回路SRLI〜SRL6は第1図に示し
たものが用いられる。これらの回路ブロックCB1とス
キャンテスト回路SRLI〜SRL6が内蔵されたチッ
プには、各スキャンテスト回路SRLI〜SRL6のク
ロック入力端子Tssにクロツク信号を共通的に与える
ためのクロック端子Tss’ と、各スキャンテスト回
路SRLI〜SRL6のリセット入力端子Rssにリセ
ット信号を与えるためのリセット端子Rss’が設けら
れる。それ以外の構成は前述の第17図と同じである。
たものが用いられる。これらの回路ブロックCB1とス
キャンテスト回路SRLI〜SRL6が内蔵されたチッ
プには、各スキャンテスト回路SRLI〜SRL6のク
ロック入力端子Tssにクロツク信号を共通的に与える
ためのクロック端子Tss’ と、各スキャンテスト回
路SRLI〜SRL6のリセット入力端子Rssにリセ
ット信号を与えるためのリセット端子Rss’が設けら
れる。それ以外の構成は前述の第17図と同じである。
次に、動作について説明するが、従来例と同様にして、
通常動作とテスト動作に分けて説明する。
通常動作とテスト動作に分けて説明する。
通常動作時には、チップのテスト用入力端子TI,T2
,Tssは“L“レベルに設定され、端子T3a,T3
b,T■ ,Rs sは“H” レベルに設定される。
,Tssは“L“レベルに設定され、端子T3a,T3
b,T■ ,Rs sは“H” レベルに設定される。
第1図に示したスキャンテスト回路SRLにおいて、リ
セット端子Rssに入力されるリセット信号が“H”
レベルであるため、プルダウン回路22が導通し、ラッ
チL40がリセットされる。その結果、インバータ11
の出力が“H“レベルとなり、トランスファゲート14
.18が導通し、NOR回路23の出力が“L″レベル
になるため、トランスファゲート16.20が非導通に
なる。
セット端子Rssに入力されるリセット信号が“H”
レベルであるため、プルダウン回路22が導通し、ラッ
チL40がリセットされる。その結果、インバータ11
の出力が“H“レベルとなり、トランスファゲート14
.18が導通し、NOR回路23の出力が“L″レベル
になるため、トランスファゲート16.20が非導通に
なる。
また、端子ToとT,に入力される信号が“H“レベル
に設定されているため、トランスファゲー}13.17
が導通状態となり、ラツチL10,L30はデータスル
−回路となり、端子DIから端了−DOまでがデータス
ルー状態となる。また、端了一T2,Tlに入力される
信号が“L″レベルに設定されているため、トランスフ
ァゲート15.19が非導通状態となり、ラッチL20
はデータ保持状態となり、端子S1に入力されたデータ
がラッチ回路LIOに入力されるのが抑制される。
に設定されているため、トランスファゲー}13.17
が導通状態となり、ラツチL10,L30はデータスル
−回路となり、端子DIから端了−DOまでがデータス
ルー状態となる。また、端了一T2,Tlに入力される
信号が“L″レベルに設定されているため、トランスフ
ァゲート15.19が非導通状態となり、ラッチL20
はデータ保持状態となり、端子S1に入力されたデータ
がラッチ回路LIOに入力されるのが抑制される。
したがって、第2図においては、各回路ブロックCBI
,CB2の間のスキャンテスト回路SRL1〜SRL6
の端子DIから端子Doの間がデータスルー状態となり
、各回路ブロック間の配線が論理的に導通された状態に
なり、スキャンテスト回路SRLI〜SRL6を挿入す
る前と同様の機能を果たす。
,CB2の間のスキャンテスト回路SRL1〜SRL6
の端子DIから端子Doの間がデータスルー状態となり
、各回路ブロック間の配線が論理的に導通された状態に
なり、スキャンテスト回路SRLI〜SRL6を挿入す
る前と同様の機能を果たす。
第3図はこの発明の一実施例のテスト動作を説明するた
めのフロー図である。次に、第1図ないし第3図を参照
して、テスト動作について説明する。テスト動作は、従
来例で述べたように、スキャン動作モードとブロックテ
ストモードの他にスキャンテスト回路選択データ入力モ
ードがある。
めのフロー図である。次に、第1図ないし第3図を参照
して、テスト動作について説明する。テスト動作は、従
来例で述べたように、スキャン動作モードとブロックテ
ストモードの他にスキャンテスト回路選択データ入力モ
ードがある。
まず、スキャンテスト回路選択データ入力モードの動作
により、テストの対象となる回路ブロックのスキャンテ
ストに必要なスキャンテスト回路のみを有効にし、不必
要なスキャンテストロ路をデータスルー状態に設定し、
実行のスキャン段数が削減される。
により、テストの対象となる回路ブロックのスキャンテ
ストに必要なスキャンテスト回路のみを有効にし、不必
要なスキャンテストロ路をデータスルー状態に設定し、
実行のスキャン段数が削減される。
次に、スキャン動作モードとブロックテスト動作モード
とを交互に繰返し実行することにより、その回路ブロッ
ク以後のスキャンテストが行なわれる。その回路ブロッ
クのスキャンテストが終了すると、別の回路ブロックの
スキャンテストが実施され、新たなスキャンテスト回路
選択データの入力動作が実行される。これを回路ブロッ
クの数だけ繰返すことにより、チップのテストが終了す
る。以下、この発明によるテスト動作を第2図に示した
チップを例にとって説明する。回路プロ・ソクCBI,
CB2のテストパターンは従来例と同様にして、前述の
表1のとおりに定められる。このテストパターンによる
テストが回路ブロックCBl,CB2の順に行なわれる
。そして、第2図に示すスキャンパス上を伝搬し、所定
のスキャンテスト回路SRLに所望のデータをセットさ
せるために、テストパターンがシリアル変換される。
とを交互に繰返し実行することにより、その回路ブロッ
ク以後のスキャンテストが行なわれる。その回路ブロッ
クのスキャンテストが終了すると、別の回路ブロックの
スキャンテストが実施され、新たなスキャンテスト回路
選択データの入力動作が実行される。これを回路ブロッ
クの数だけ繰返すことにより、チップのテストが終了す
る。以下、この発明によるテスト動作を第2図に示した
チップを例にとって説明する。回路プロ・ソクCBI,
CB2のテストパターンは従来例と同様にして、前述の
表1のとおりに定められる。このテストパターンによる
テストが回路ブロックCBl,CB2の順に行なわれる
。そして、第2図に示すスキャンパス上を伝搬し、所定
のスキャンテスト回路SRLに所望のデータをセットさ
せるために、テストパターンがシリアル変換される。
そのテストパターンは表3A,3Bに示される。
表3A
SCAM
入力パターン
(S I)
雲1
HHLLLL
CB1人出力接ISRi,(SRL1〜4)1Rデづ7
LLLLHH
CB2人出力接1sRL(SRL3〜6)I訳データ表
3B SCAN 出力パターン (SO) III xxxxxx 7 xxxxxx 表3Aはスキャンパス入力端子Slから入力されるスキ
ャンテスト回路選択データおよび回路ブロックCB1,
CB2のテスト入力パターンを示していて、SCAN#
■1およびSCAN#−7のときの入力パターンがスキ
ャンテスト回路選択データである。第1図に示したスキ
ャンテスト回路の構成上、スキャンテスト回路を選択す
るためのラッチ回路L40の出力部には、ラッチ回路L
10の出力反転信号がラッチされるため、スキャンテス
ト回路選択信号としてシフト入力される信号は“H゛レ
ベルのとき非選択信号となり、“L”レベルのとき選択
信号となる。
3B SCAN 出力パターン (SO) III xxxxxx 7 xxxxxx 表3Aはスキャンパス入力端子Slから入力されるスキ
ャンテスト回路選択データおよび回路ブロックCB1,
CB2のテスト入力パターンを示していて、SCAN#
■1およびSCAN#−7のときの入力パターンがスキ
ャンテスト回路選択データである。第1図に示したスキ
ャンテスト回路の構成上、スキャンテスト回路を選択す
るためのラッチ回路L40の出力部には、ラッチ回路L
10の出力反転信号がラッチされるため、スキャンテス
ト回路選択信号としてシフト入力される信号は“H゛レ
ベルのとき非選択信号となり、“L”レベルのとき選択
信号となる。
スキャンテスト回路SRLにおいて、端子Sl→SOの
順にスキャンテスト回路選択データが順次スキャンイン
されていくため、回路ブロックCB1の人出力側(11
,12.01)に接続されているスキャンテスト回路S
RLI〜SRL4を選択するためのパターンは“H,
H, L, L, L,L゛となる。同様にして、回路
ブロックCB2の人出力側(11,12,01.02)
に接続されているスキャンテスト回路SRL3〜SRL
6を選択するためのパターンは“L, L, L,
L, H,H″となる。
順にスキャンテスト回路選択データが順次スキャンイン
されていくため、回路ブロックCB1の人出力側(11
,12.01)に接続されているスキャンテスト回路S
RLI〜SRL4を選択するためのパターンは“H,
H, L, L, L,L゛となる。同様にして、回路
ブロックCB2の人出力側(11,12,01.02)
に接続されているスキャンテスト回路SRL3〜SRL
6を選択するためのパターンは“L, L, L,
L, H,H″となる。
テスト入力パターンを所定のスキャンテスト回路SRL
にセットするために必要なスキャンシフトクロック信号
は、スキャンテスト回路選択データにより選択されたス
キャンテスト回路数分の周期が必要となる。たとえば、
回路ブロックCBIのテストを行なう場合、回路ブロッ
クCBIの入力側のスキャンテスト回路SRLI,SR
L2と、回路ブロックCBIの出力側のスキャンテスト
回路SRL3,SRL4の4つであり、1回のスキャン
シフト動作に4周期分のスキャンシフトクロック信号が
必要となる。上述の表3Bはスキャンパス出力端子SO
から出力される出力パターンを小している。なお、表3
A,3B中の×はスキャンシフトのためのダミーパター
ンを示している。
にセットするために必要なスキャンシフトクロック信号
は、スキャンテスト回路選択データにより選択されたス
キャンテスト回路数分の周期が必要となる。たとえば、
回路ブロックCBIのテストを行なう場合、回路ブロッ
クCBIの入力側のスキャンテスト回路SRLI,SR
L2と、回路ブロックCBIの出力側のスキャンテスト
回路SRL3,SRL4の4つであり、1回のスキャン
シフト動作に4周期分のスキャンシフトクロック信号が
必要となる。上述の表3Bはスキャンパス出力端子SO
から出力される出力パターンを小している。なお、表3
A,3B中の×はスキャンシフトのためのダミーパター
ンを示している。
第4図はこの発明の一実施例におけるチップのテスト時
における動作のタイミング図である。次に、表3A.3
Bに示したテストパターンに基づいて、第2図を参照し
ながらテスト動作について説明する。
における動作のタイミング図である。次に、表3A.3
Bに示したテストパターンに基づいて、第2図を参照し
ながらテスト動作について説明する。
スキャンテスト回路選択データ入力モードクロック入力
端子Rss’に、第4図(i)に示す正のクロックパル
スが1つ与えられる。これによって、すべてのスキャン
テスト回路のスキャンテスト回路選択データラッチ(第
1図に示すL40)がリセットされ、すべてのスキャン
テスト回路が選択状態となる。すなわち、すべてのスキ
ャンテスト回路SRLが第4図(c)(d)に示す端子
TI,T2に入力されたスキャンシフト用クロック信号
によりスキャンシフト動作を行なう状態となる。
端子Rss’に、第4図(i)に示す正のクロックパル
スが1つ与えられる。これによって、すべてのスキャン
テスト回路のスキャンテスト回路選択データラッチ(第
1図に示すL40)がリセットされ、すべてのスキャン
テスト回路が選択状態となる。すなわち、すべてのスキ
ャンテスト回路SRLが第4図(c)(d)に示す端子
TI,T2に入力されたスキャンシフト用クロック信号
によりスキャンシフト動作を行なう状態となる。
チップのスキャンイン端子Slから第4図(a)に示す
ように、スキャンパス上に表3Aに示したスキャンテス
ト回路選択データが伝搬され、所定のスキャンテスト回
路SRLに所望の選択データがセットされる。このとき
、伝搬されたスキャンテスト回路選択データは、各スキ
ャンテスト回路SRLのスキャンシフト用ラッチ(第1
図に示すラッチLIO.L20)に保持されている。所
定のスキャンテスト回路数分のスキャンクロツク信号に
応答して、所定のスキャンテスト回路SRLに所望のス
キャンテスト回路選択データがラッチされた後、クロッ
ク入力端子Tss’に第4図(I1)に示す正のクロッ
クパルスが1つ与えられる。これによって、スキャンシ
フト用ラッチL10に保持されている選択データが反転
され、スキャンテスト回路選択データラッチL40に伝
搬されて保持される。スキャンテスト回路選択データラ
ッチL40に“L“レベル信号(非選択信号)が保持さ
れたスキャンテスト回路SRLは単なるデータスル−回
路となる。また、スキャンテスト回路選択データラッチ
に“H゜レベル信号(選択12号)が保持されたスキャ
ンテスト回路SRLのみが第4図(c), (d)に
示すスキャンシフトクロツク信号によりスキャンシフト
動作を行なう通常のスキャンテスト回路SRLとして働
く。
ように、スキャンパス上に表3Aに示したスキャンテス
ト回路選択データが伝搬され、所定のスキャンテスト回
路SRLに所望の選択データがセットされる。このとき
、伝搬されたスキャンテスト回路選択データは、各スキ
ャンテスト回路SRLのスキャンシフト用ラッチ(第1
図に示すラッチLIO.L20)に保持されている。所
定のスキャンテスト回路数分のスキャンクロツク信号に
応答して、所定のスキャンテスト回路SRLに所望のス
キャンテスト回路選択データがラッチされた後、クロッ
ク入力端子Tss’に第4図(I1)に示す正のクロッ
クパルスが1つ与えられる。これによって、スキャンシ
フト用ラッチL10に保持されている選択データが反転
され、スキャンテスト回路選択データラッチL40に伝
搬されて保持される。スキャンテスト回路選択データラ
ッチL40に“L“レベル信号(非選択信号)が保持さ
れたスキャンテスト回路SRLは単なるデータスル−回
路となる。また、スキャンテスト回路選択データラッチ
に“H゜レベル信号(選択12号)が保持されたスキャ
ンテスト回路SRLのみが第4図(c), (d)に
示すスキャンシフトクロツク信号によりスキャンシフト
動作を行なう通常のスキャンテスト回路SRLとして働
く。
スキャンシフト動作モード
データクロック入力端子TDに第4図(g)に示す“L
゜レベルのデータクロック信号が印加されてスキャンモ
ードにされる。第1および第2のスキャンクロツク端子
TI,T2から第4図(C)(d)に示すノンオーバラ
ップのポジティブクロツク信号が与えられると、それに
同期してスキャンイン端子Slから選択されたスキャン
テスト回路SRLに順次データがスキャンインされる。
゜レベルのデータクロック信号が印加されてスキャンモ
ードにされる。第1および第2のスキャンクロツク端子
TI,T2から第4図(C)(d)に示すノンオーバラ
ップのポジティブクロツク信号が与えられると、それに
同期してスキャンイン端子Slから選択されたスキャン
テスト回路SRLに順次データがスキャンインされる。
これと同時に、スキャンアウト端子SOから前回テスト
の際に所定のスキャンテスト回路SRLに保持した被テ
スト回路ブロックCBI,CB2のデータが順次スキャ
ンアウトされる。
の際に所定のスキャンテスト回路SRLに保持した被テ
スト回路ブロックCBI,CB2のデータが順次スキャ
ンアウトされる。
テストモード
テストモードにおける動作は、前述の従来例と同様であ
るため、その動作説明を省略する。
るため、その動作説明を省略する。
上述の動作により、回路ブロックCBI,CB2のテス
トが行なわれる。基本的には、チップ上に存在する回路
ブロックCBI,CB2ごとにこのテストを行なうこと
により、チップの機能テストが終了する。
トが行なわれる。基本的には、チップ上に存在する回路
ブロックCBI,CB2ごとにこのテストを行なうこと
により、チップの機能テストが終了する。
なお、テストデータスキャンシフトの際、テストの対象
となる回路ブロックの入出力端子に接続されたスキャン
テスト回路SRL以外のスキャンテスト回路SRLをす
べて単なるデータスル−回路として動作させることがで
きるが、データスルーとなるシリアル接続されたスキャ
ンテスト回路SRLの段数が増大すると、それに伴なっ
て遅延時間が増大し、シフトクロツクに同期してシフト
することが困難になってくる。
となる回路ブロックの入出力端子に接続されたスキャン
テスト回路SRL以外のスキャンテスト回路SRLをす
べて単なるデータスル−回路として動作させることがで
きるが、データスルーとなるシリアル接続されたスキャ
ンテスト回路SRLの段数が増大すると、それに伴なっ
て遅延時間が増大し、シフトクロツクに同期してシフト
することが困難になってくる。
この問題を回避するために、連続してデータスルーとな
るスキャンテスト回路SRLの段数を制限し、これの制
限値を越える場合は、ダミーのスキャンテスト回路SR
Lを選択し、スキャンクロック端子Tl,T2に与えら
れたスキャンクロックt=号に同期して安定したスキャ
ンシフト動作をiリることができる。
るスキャンテスト回路SRLの段数を制限し、これの制
限値を越える場合は、ダミーのスキャンテスト回路SR
Lを選択し、スキャンクロック端子Tl,T2に与えら
れたスキャンクロックt=号に同期して安定したスキャ
ンシフト動作をiリることができる。
第5図は、スキャンテスト回路の他の実施例を示すブロ
ック図である。次に、第5図を参照して、上述のダミー
のスキャンテスト回路について説明する。第5図を参照
して、チップは回路ブロックCBI,CB2を含み、回
路ブロックCBIはtビット入力を有し(m+1)ビッ
ト出力を有している。回路ブロックCB2はmビット入
力を有し、nビット出力となっている。回路ブロックC
BIの入力側.回路ブロックCB2の入力側およびチッ
プの出力バッファには、それぞれ入出力数に対応したス
キャンテスト回路SRLが接続されている。スキャンテ
スト回路SRLはシリアルに接続されていて、スキャン
シフトクロック信号により、スキャンイン端子Slから
スキャンアウト端子SOまでの1本のスキャンパスを形
成している。回路ブロックCBIの入力側には、スキャ
ンイン端子Slに接続された順序ごとにスキャンテスト
回路SRL (1)からSRL (区)までのスキャン
テスト同路が接続され、回路ブロックCB2の入力側に
は同じ《スキャンテスト回路SRL (1+1)からS
RL (1+m)が接続され、チップ出力側にはスキャ
ンテスト回路SRL (Q+m+1)からSRL (1
+m+n+1)までのスキャンテスト回路が接続されて
いる。
ック図である。次に、第5図を参照して、上述のダミー
のスキャンテスト回路について説明する。第5図を参照
して、チップは回路ブロックCBI,CB2を含み、回
路ブロックCBIはtビット入力を有し(m+1)ビッ
ト出力を有している。回路ブロックCB2はmビット入
力を有し、nビット出力となっている。回路ブロックC
BIの入力側.回路ブロックCB2の入力側およびチッ
プの出力バッファには、それぞれ入出力数に対応したス
キャンテスト回路SRLが接続されている。スキャンテ
スト回路SRLはシリアルに接続されていて、スキャン
シフトクロック信号により、スキャンイン端子Slから
スキャンアウト端子SOまでの1本のスキャンパスを形
成している。回路ブロックCBIの入力側には、スキャ
ンイン端子Slに接続された順序ごとにスキャンテスト
回路SRL (1)からSRL (区)までのスキャン
テスト同路が接続され、回路ブロックCB2の入力側に
は同じ《スキャンテスト回路SRL (1+1)からS
RL (1+m)が接続され、チップ出力側にはスキャ
ンテスト回路SRL (Q+m+1)からSRL (1
+m+n+1)までのスキャンテスト回路が接続されて
いる。
なお、チップの入力DI (1)・・・DI(It)は
すべて回路ブロックCBIの入力端子に接続され、スキ
ャンテスト回路SRL (鉦十m+1)・・・SRL
((1+m+n+1)の出力は出力端子Do (1)・
・・DO (n+1)に接続されている。
すべて回路ブロックCBIの入力端子に接続され、スキ
ャンテスト回路SRL (鉦十m+1)・・・SRL
((1+m+n+1)の出力は出力端子Do (1)・
・・DO (n+1)に接続されている。
次に、データスルー回路として働くスキャンテスト回路
による遅延が問題となるスキャンシフト動作について説
明する。回路ブロックCBI,CB2のテストを行なう
ためには、被テスト回路フロックの入力側のスキャンテ
スト回路SRLにテストデータがラッチされ、所望のタ
イミングで皺テスト回路ブロックに与えられ、その出力
がその回路ブロックの出力側であるスキャンテスト回路
SRLにラッチされ、その後スキャン動作によりシリア
ルアウト端子Soがらスキャンクロック端/−TI,T
2に入力されたスキャンシフトクロック信号に同期され
てシリアルに出方される。
による遅延が問題となるスキャンシフト動作について説
明する。回路ブロックCBI,CB2のテストを行なう
ためには、被テスト回路フロックの入力側のスキャンテ
スト回路SRLにテストデータがラッチされ、所望のタ
イミングで皺テスト回路ブロックに与えられ、その出力
がその回路ブロックの出力側であるスキャンテスト回路
SRLにラッチされ、その後スキャン動作によりシリア
ルアウト端子Soがらスキャンクロック端/−TI,T
2に入力されたスキャンシフトクロック信号に同期され
てシリアルに出方される。
回路ブロックCBIのスキャン動作時に、スキャン動作
に用いられるスキャンテスト回路SRLは同路ブロック
CBIの入力側に接続されているスキャンテスト回路S
RL (1)〜SRL (廷)ならびに回路ブロックC
BIの出力側で回路ブロックCBIの出力データをラッ
チするスキャンテスト回路SRL (Il+1) 〜S
RL (廷十m).SRL (ll+m+n+2)であ
り、これらのスキャンテスト回路はスキャンテスト回路
選択データ入力モード時に選択されている。
に用いられるスキャンテスト回路SRLは同路ブロック
CBIの入力側に接続されているスキャンテスト回路S
RL (1)〜SRL (廷)ならびに回路ブロックC
BIの出力側で回路ブロックCBIの出力データをラッ
チするスキャンテスト回路SRL (Il+1) 〜S
RL (廷十m).SRL (ll+m+n+2)であ
り、これらのスキャンテスト回路はスキャンテスト回路
選択データ入力モード時に選択されている。
第6図ないし第8図は第5図に示した半導体集積回路装
置におけるスキャン動作のタイミング図である。次に第
6図ないし第8図を参照して、この発明の他の実施例の
スキャン動作について説明する。スキャンテスト回路S
RL (1)〜SRL,CIl+m)は、連続的にシリ
アルに接続されているが、スキャンテスト回路SRL
(im)とSRL (Q+m+n+1)の間にnビット
分の単なるデータスル−回路として働《スキャンテスト
回路SRL ((!+m+1)=−SRL (lL+m
+n)が挿入されている。これらのデータスルー回路と
して働くスキャンテスト回路SRLにより、第6図(e
)と(d)との間に伝搬遅延時間tdabが生じている
。この伝搬遅延により、スキャングロック端T−TI,
T2に与えられるスキャンクロック信号による同期が1
周期分とれず、結果として1周期ずれた出力がシリアル
アウト端子SOから出力されることになる。
置におけるスキャン動作のタイミング図である。次に第
6図ないし第8図を参照して、この発明の他の実施例の
スキャン動作について説明する。スキャンテスト回路S
RL (1)〜SRL,CIl+m)は、連続的にシリ
アルに接続されているが、スキャンテスト回路SRL
(im)とSRL (Q+m+n+1)の間にnビット
分の単なるデータスル−回路として働《スキャンテスト
回路SRL ((!+m+1)=−SRL (lL+m
+n)が挿入されている。これらのデータスルー回路と
して働くスキャンテスト回路SRLにより、第6図(e
)と(d)との間に伝搬遅延時間tdabが生じている
。この伝搬遅延により、スキャングロック端T−TI,
T2に与えられるスキャンクロック信号による同期が1
周期分とれず、結果として1周期ずれた出力がシリアル
アウト端子SOから出力されることになる。
ここで、データスル−回路として働くスキャンテスト回
路SRL (麩+m+1) 〜SRL (Q十m +
n )間で適当なダミースキャンテスト回路SRLを選
択し、スキャンクロック信号の同期でデータをシフトさ
せれば、第7図に示すように、遅延時間はスキャンテス
ト回路SRL NL+m+1)〜ダミースキャンテスト
回路SRL間の遅延と、ダミースキャンテスト回路SR
L−SRL l十m+n+1)間の遅延時間に分割でき
、スキャングロック信号同期の安定動作を得ることがで
きる。
路SRL (麩+m+1) 〜SRL (Q十m +
n )間で適当なダミースキャンテスト回路SRLを選
択し、スキャンクロック信号の同期でデータをシフトさ
せれば、第7図に示すように、遅延時間はスキャンテス
ト回路SRL NL+m+1)〜ダミースキャンテスト
回路SRL間の遅延と、ダミースキャンテスト回路SR
L−SRL l十m+n+1)間の遅延時間に分割でき
、スキャングロック信号同期の安定動作を得ることがで
きる。
なお、上述の実施例では、ダミースキャンテスト同路を
データスルー回路として働くスキャンテスト回路SRL
の中から選択してスキャンシフト動作を用いることによ
り、2つのスキャンクロック{i号に同期する安定な動
作を得ることができた。
データスルー回路として働くスキャンテスト回路SRL
の中から選択してスキャンシフト動作を用いることによ
り、2つのスキャンクロック{i号に同期する安定な動
作を得ることができた。
しかし、第8図に示すように、端子TI,T2に入力さ
れるスキャンクロツク信号の周期を長くし、データスル
ー回路による遅延時間でも十分安定した同期がとれるよ
うにしてもよい。また、データスル−回路により、H周
期分のずれが生じるがを明確にし、その分の仮想ダミー
スキャンテスト回路を設け、スキャンシフト動作を行な
うようにしてもよい。
れるスキャンクロツク信号の周期を長くし、データスル
ー回路による遅延時間でも十分安定した同期がとれるよ
うにしてもよい。また、データスル−回路により、H周
期分のずれが生じるがを明確にし、その分の仮想ダミー
スキャンテスト回路を設け、スキャンシフト動作を行な
うようにしてもよい。
第9図はこの発明の他の実施例におけるスキャンテスト
回路のブロック図である。
回路のブロック図である。
前述の第1図に示したスキャンテスト回路はテスト対象
とする回路ブロックとして非同期回路を扱うようにした
が、この第9図に示したスキャンテスト回路はテスト対
9とする回路ブロックを同期回路に限定したものである
。第9図に示した例は、第1図に示したラッチ回路L3
0とこのラッチ回路L30にデータを入力するためのク
ロツク信号が与えられる端子T3が省略され、インバー
タ3の入力端がラッチ回路LIOのインバータ5の入力
に直接接続されている。したがって、この第9図に示し
た例は、ラッチ回路LIOに保持されたデータがインバ
ータ3によって反転され、データ出力端子DOから出力
される。
とする回路ブロックとして非同期回路を扱うようにした
が、この第9図に示したスキャンテスト回路はテスト対
9とする回路ブロックを同期回路に限定したものである
。第9図に示した例は、第1図に示したラッチ回路L3
0とこのラッチ回路L30にデータを入力するためのク
ロツク信号が与えられる端子T3が省略され、インバー
タ3の入力端がラッチ回路LIOのインバータ5の入力
に直接接続されている。したがって、この第9図に示し
た例は、ラッチ回路LIOに保持されたデータがインバ
ータ3によって反転され、データ出力端子DOから出力
される。
第10図は第9図に示したスキャンテスト回路を内蔵し
た半導体集積回路装置の概略ブロック図である。この第
10図に示した例では、端子TI,T2,TDに入力さ
れたクロソク信号がすべてのスキャンテスト回路SRL
1〜SRL6に入力されている点が第2図に示した例に
比べて異なっている。たたし、テスト方法は第2図に示
した例と同しである。
た半導体集積回路装置の概略ブロック図である。この第
10図に示した例では、端子TI,T2,TDに入力さ
れたクロソク信号がすべてのスキャンテスト回路SRL
1〜SRL6に入力されている点が第2図に示した例に
比べて異なっている。たたし、テスト方法は第2図に示
した例と同しである。
第11図に示したスキャンテスト回路は、第9図に示し
たインバータ3が省略され、第2のラッチ回路L20に
保持されたデータがインバータ4によって反転され、シ
リアルデータ出力端子SOとデータ出力端子Doに出力
される。
たインバータ3が省略され、第2のラッチ回路L20に
保持されたデータがインバータ4によって反転され、シ
リアルデータ出力端子SOとデータ出力端子Doに出力
される。
第12図は第11図に示したスキャンテスト回路を内蔵
した半導体集積回路装置の概略ブロック図である。この
第12図に示した例は、スキャンテスト回路SRL1の
出力端子Doが回路ブロックCBIの入力端子I2に接
続されるとともに、スキャンテスト回路SRL2の入力
端子Slに接続され、スキャンテスト回路SRL2の出
力端子Doが回路ブロックC B 1の入力端子I1と
スキャンテスト回路SRL3の入力端子S1に接続され
る。他のスキャンテスト回路SRL3〜SRL6の出力
端子DOも同様にして接続されている。
した半導体集積回路装置の概略ブロック図である。この
第12図に示した例は、スキャンテスト回路SRL1の
出力端子Doが回路ブロックCBIの入力端子I2に接
続されるとともに、スキャンテスト回路SRL2の入力
端子Slに接続され、スキャンテスト回路SRL2の出
力端子Doが回路ブロックC B 1の入力端子I1と
スキャンテスト回路SRL3の入力端子S1に接続され
る。他のスキャンテスト回路SRL3〜SRL6の出力
端子DOも同様にして接続されている。
動作については第2図と同じである。
第13図はスキャンテスト回路のさらに他の例を示すブ
ロック図である。この第13図は以下の点において前述
の第9図と異なる。すなわち、ポジティブクロック信号
によって端子Doからテストデータが出力される。この
ために、3入力NAND回路24が設けられ、このNA
ND回路24の1つの入力端にはラッチ回路LIOの出
力が与えられ、他の1つの入力にはラッチ回路L40の
出力が与えられ、残りの入力端には端子TGからポジテ
ィブクロック信号が与えられ、NAND回路24の出力
はインバータ3に与えられる。そして、端子TGからポ
ジティブクロツク信号が与えられかつラッチ回路L40
から選択信号が与えられているときにのみラッチ回路L
IOの出力であるテストデータがインバータ3を介して
端子Doに出力される。
ロック図である。この第13図は以下の点において前述
の第9図と異なる。すなわち、ポジティブクロック信号
によって端子Doからテストデータが出力される。この
ために、3入力NAND回路24が設けられ、このNA
ND回路24の1つの入力端にはラッチ回路LIOの出
力が与えられ、他の1つの入力にはラッチ回路L40の
出力が与えられ、残りの入力端には端子TGからポジテ
ィブクロック信号が与えられ、NAND回路24の出力
はインバータ3に与えられる。そして、端子TGからポ
ジティブクロツク信号が与えられかつラッチ回路L40
から選択信号が与えられているときにのみラッチ回路L
IOの出力であるテストデータがインバータ3を介して
端子Doに出力される。
第14図はスキャンテスト回路のさらに他の例を示すブ
ロック図である。この第14図に示したスキャンテスト
回路は、ネガティブクロック信号によって端子DOから
テストデータを出力するものである。このために、2入
力OR回路26と2入力NAND回路26が設けられ、
OR回路25の一方入力端には端子TGからネガティブ
クロック信号が与えられ、他の入力端にはラッチ回路L
10の出力が与えられる。OR回路25の出力はNAN
Dゲート26の一方入力端に与えられ、他h”入力端に
はラッチ回路L40から選択信号が与えられる。そして
、OR回路25は端子TGにネガティブクロック信号が
与えられるとラッチ回路LIOの出力であるテストデー
タをNAND回路26に与え、NAND回路26はラッ
チ回路L40から選択信号が与えられると、OR回路2
5の出力を端子DOに出力する。
ロック図である。この第14図に示したスキャンテスト
回路は、ネガティブクロック信号によって端子DOから
テストデータを出力するものである。このために、2入
力OR回路26と2入力NAND回路26が設けられ、
OR回路25の一方入力端には端子TGからネガティブ
クロック信号が与えられ、他の入力端にはラッチ回路L
10の出力が与えられる。OR回路25の出力はNAN
Dゲート26の一方入力端に与えられ、他h”入力端に
はラッチ回路L40から選択信号が与えられる。そして
、OR回路25は端子TGにネガティブクロック信号が
与えられるとラッチ回路LIOの出力であるテストデー
タをNAND回路26に与え、NAND回路26はラッ
チ回路L40から選択信号が与えられると、OR回路2
5の出力を端子DOに出力する。
第15図は第13図または第14図に示したスキャンテ
スト回路を内蔵した半導体集積回路装置のブロック図で
ある。この第15図に示した半導体集積回路装置は、端
子TGIからスキャンテスト回路SRLI.3.4およ
び6にポジティブクロック信号またはネガティブクロツ
ク信号が与えられ、端子TG2からスキャンテスト回路
SRL2および5にポジティブクロック信号またはネガ
ティブクロック信号が与えられる。この半導体集積回路
装置におけるテスト方法の動作は前述の実施例と同じで
ある。
スト回路を内蔵した半導体集積回路装置のブロック図で
ある。この第15図に示した半導体集積回路装置は、端
子TGIからスキャンテスト回路SRLI.3.4およ
び6にポジティブクロック信号またはネガティブクロツ
ク信号が与えられ、端子TG2からスキャンテスト回路
SRL2および5にポジティブクロック信号またはネガ
ティブクロック信号が与えられる。この半導体集積回路
装置におけるテスト方法の動作は前述の実施例と同じで
ある。
[発明の効果]
以上のように、この発明によれば、スキャンテスト回路
内に余分にラッチ手段を設け、このラッチ手段に保持さ
れている選択データにより、スキャンテスト回路をシフ
トレジスタとして動作させるか、あるいはデータをスル
ーにする回路として動作させるようにしたので、シフト
動作とデータをスルーにさせる動作とを選択データによ
り任意に制御できる。しかも、回路ブロックをテストす
るときのスキャン動作におけるスキャンパスの段数を実
質的に削減でき、テスト時間を短縮することができる。
内に余分にラッチ手段を設け、このラッチ手段に保持さ
れている選択データにより、スキャンテスト回路をシフ
トレジスタとして動作させるか、あるいはデータをスル
ーにする回路として動作させるようにしたので、シフト
動作とデータをスルーにさせる動作とを選択データによ
り任意に制御できる。しかも、回路ブロックをテストす
るときのスキャン動作におけるスキャンパスの段数を実
質的に削減でき、テスト時間を短縮することができる。
さらに、テストデータを伝搬させるためのスキャンパス
上を選択データがシリアルに伝搬させるようにしたので
、チップの入出力ビンとしてリセット信号を入力するた
めのピンとクロック信号を入力するためのビンの2つを
増加させるだけで済む。
上を選択データがシリアルに伝搬させるようにしたので
、チップの入出力ビンとしてリセット信号を入力するた
めのピンとクロック信号を入力するためのビンの2つを
増加させるだけで済む。
第1図はこの発明の一実施例のスキャンテスト回路を示
すブロック図である。第2図はこの発明の一実施例のス
キャンテスト回路を用いた半導体集積回路装置の概略ブ
ロック図である。第3図はこの発明の一実施例の動作を
説明するためのフロー図である。第4図はこの発明の一
実施例の動作を説明するためのタイミング図である。第
5図はスキャンテスト回路を用いた半導体集積回路装置
の他の例を示す概略ブロック図である。第6図,第7図
および第8図は第5図に示した半導体集積回路装置の動
作を説明するためのタイミング図である。第9図はスキ
ャンテスト回路の他の例を示すプロ・ツク図である。第
10図は第9図に示したスキャンテスト日路を内蔵した
半導体集積回路装置のブロック図である。第11図はス
キャンテスト回路のさらに他の例を示すブロック図であ
る。 第12図は第11図に示したスキャンテスト回路を内蔵
した半導体集積回路装置のブロック図である。第13図
および第14図はスキャンテスト回路のさらに他の例を
示すブロック図である。第15図は第13図または第1
4図に示したスキャンテスト回路を内蔵した半導体集積
回路装置を示す概略ブロック図である。第16図は従来
のスキャンテスト回路のブロック図である。第17図は
従来のスキャンテスト回路を内蔵した半導体集積回路装
置の概略ブロック図である。第18図は従来のスキャン
テスト回路の動作を説明するための動作を説明するため
のフロー図である。第19図は従来のスキャンテスト回
路の動作を説明するためのタイミング図である。第20
図および第21図はスキャンテスト回路の他の例を示す
ブロック図である。 図において、1〜12はインバータ、13〜22はトラ
ンスファゲート、23はNOR回路、24,26はNA
ND回路、25はOR回路、L10,L20,L30,
L40はラッチ回路、SRL1〜SRL6はスキャンテ
スト回路、CBI, CB2は回路ブロックを示す。 代 理 人 大 石 増 雄 第1図 83図 (b)T2 (9冫 0 第6図 8′7図 萬8図 (b) 丁2 (e) 0 (j) C 萬q図 第11図 菓13口 第14図 第16図 第21図 第18図 手 続 補 正 書 (自発) 平成3 年′ 月″2日 2. 発明の名称 スキャンテスト回路およびそれを用いた半導体集積回路
装置3. 補正をする者 事件との関係
すブロック図である。第2図はこの発明の一実施例のス
キャンテスト回路を用いた半導体集積回路装置の概略ブ
ロック図である。第3図はこの発明の一実施例の動作を
説明するためのフロー図である。第4図はこの発明の一
実施例の動作を説明するためのタイミング図である。第
5図はスキャンテスト回路を用いた半導体集積回路装置
の他の例を示す概略ブロック図である。第6図,第7図
および第8図は第5図に示した半導体集積回路装置の動
作を説明するためのタイミング図である。第9図はスキ
ャンテスト回路の他の例を示すプロ・ツク図である。第
10図は第9図に示したスキャンテスト日路を内蔵した
半導体集積回路装置のブロック図である。第11図はス
キャンテスト回路のさらに他の例を示すブロック図であ
る。 第12図は第11図に示したスキャンテスト回路を内蔵
した半導体集積回路装置のブロック図である。第13図
および第14図はスキャンテスト回路のさらに他の例を
示すブロック図である。第15図は第13図または第1
4図に示したスキャンテスト回路を内蔵した半導体集積
回路装置を示す概略ブロック図である。第16図は従来
のスキャンテスト回路のブロック図である。第17図は
従来のスキャンテスト回路を内蔵した半導体集積回路装
置の概略ブロック図である。第18図は従来のスキャン
テスト回路の動作を説明するための動作を説明するため
のフロー図である。第19図は従来のスキャンテスト回
路の動作を説明するためのタイミング図である。第20
図および第21図はスキャンテスト回路の他の例を示す
ブロック図である。 図において、1〜12はインバータ、13〜22はトラ
ンスファゲート、23はNOR回路、24,26はNA
ND回路、25はOR回路、L10,L20,L30,
L40はラッチ回路、SRL1〜SRL6はスキャンテ
スト回路、CBI, CB2は回路ブロックを示す。 代 理 人 大 石 増 雄 第1図 83図 (b)T2 (9冫 0 第6図 8′7図 萬8図 (b) 丁2 (e) 0 (j) C 萬q図 第11図 菓13口 第14図 第16図 第21図 第18図 手 続 補 正 書 (自発) 平成3 年′ 月″2日 2. 発明の名称 スキャンテスト回路およびそれを用いた半導体集積回路
装置3. 補正をする者 事件との関係
Claims (6)
- (1)データをスキャンして対象回路をテストするスキ
ャンテスト回路であって、 1ビットのデータが入力される第1の入力端子、シリア
ルデータが入力される第2の入力端子、データが出力さ
れる出力端子、 前記第1の入力端子に入力されたデータまたは前記第2
の入力端子に入力されたシリアルデータをラッチする第
1のラッチ手段、 前記第1のラッチ手段にラッチされたデータをラッチす
る第2のラッチ手段、 前記第1のラッチ手段にラッチされたデータをラッチす
る第3のラッチ手段、 リセット信号が入力されるリセット入力端子、制御信号
が入力される制御信号入力端子、前記リセット入力端子
に入力されたリセット信号に応答して、前記第3のラッ
チ手段をリセットするスイッチング素子、および 前記第3のラッチ手段の出力が第1の論理であることに
応じて、前記第2の入力端子に入力されたシリアルデー
タのうちの1ビットのデータを前記第2のラッチ手段か
ら前記出力端子にスルーにして出力するとともに、前記
第1の入力端子に入力される1ビットのデータが前記第
1のラッチ手段に入力されるのを禁止させる第1の動作
と、前記制御信号入力端子に入力された制御信号に応じ
て、前記第2の入力端子に入力されたシリアルデータを
前記第1のラッチ手段を介して前記第3のラッチ手段に
ラッチさせる第2の動作と、前記リセット信号によって
前記第3のラッチ手段がリセットされて該第3のラッチ
手段の出力が第2の論理に反転したことに応じて、前記
第1または第2の入力端子に入力されたデータが前記第
1のラッチ手段から前記第2のラッチ手段にシフトされ
るのを許容する第3の動作とを選択的に制御する制御手
段を備えた、スキャンテスト回路。 - (2)さらに、データが出力される第2の出力端子、お
よび 前記第1のラッチ手段にラッチされているデータをラッ
チして前記第2の出力端子に出力する第4のラッチ手段
を含み、 前記制御手段は、前記第3のラッチ手段の出力が第1の
論理であることに応じて、前記第1のラッチ手段にラッ
チされているデータが前記第4のラッチ手段に入力され
るのを禁止し、前記第3のラッチ手段の出力が第2の論
理であることに応じて、前記第1のラッチ手段にラッチ
されているデータが前記第4のラッチ手段にシフトされ
るのを許容する手段を含む、請求項第1項記載のスキャ
ンテスト回路。 - (3)さらに、前記第1のラッチ手段に入力されたデー
タを直接出力する第2の出力端子を備えた、請求項第1
項記載のスキャンテスト回路。 - (4)さらに、データが出力される第2の出力端子、お
よび 前記第3のラッチ手段の出力が第1の論理であることに
応じて、前記第1のラッチ手段にラッチされているデー
タが前記第2の出力端子に出力されるのを禁止し、前記
第3のラッチ手段の出力が第2の論理であることに応じ
て、前記第1のラッチ手段にラッチされているデータを
前記第2の出力端子に出力する手段を含む、請求項第1
項記載のスキャンテスト回路。 - (5)前記スキャンテスト回路を用いた半導体集積回路
装置であって、 テストされるべき複数の被テスト回路ブロック、データ
がシリアルに入力されるシリアルデータ入力端子、およ
び データがシリアルに出力されるシリアルデータ出力端子
を備え、 前記被テスト回路ブロックの入力端子が前記スキャンテ
スト回路の出力端子に接続され、該被テスト回路ブロッ
クの出力端子が前記スキャンテスト回路の第1の入力端
子に接続され、かつ前記シリアルデータ入力端子と前記
シリアルデータ出力端子との間で1本のスキャンパスが
形成されるように、前記スキャンテスト回路の第2の入
力端子と別のスキャンテスト回路の出力端子とが接続さ
れることを特徴とする、請求項第1項記載のスキャンテ
スト回路を用いた半導体集積回路装置。 - (6)前記スキャンテスト回路を用いた半導体集積回路
装置であって、 テストされるべき複数の被テスト回路ブロック、データ
がシリアルに入力されるシリアルデータ入力端子、およ
び データがシリアルに出力されるシリアルデータ出力端子
を備え、 前記被テスト回路ブロックの入力端子が前記スキャンテ
スト回路の第1の出力端子に接続され、該被テスト回路
ブロックの出力端子が前記スキャンテスト回路の第1の
入力端子に接続され、かつ前記シリアルデータ入力端子
と前記シリアルデータ出力端子との間で1本のスキャン
パスが形成されるように、前記スキャンテスト回路の第
2の入力端子と別のスキャンテスト回路の第2の出力端
子とが接続されることを特徴とする、請求項第2項また
は第3項記載のスキャンテスト回路を用いた半導体集積
回路装置。
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---|---|
JPH03218483A true JPH03218483A (ja) | 1991-09-26 |
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---|---|---|---|
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---|---|
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- 1990-01-23 JP JP2014392A patent/JP2626920B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-01-11 DE DE4100671A patent/DE4100671A1/de active Granted
- 1991-01-14 US US07/641,195 patent/US5130647A/en not_active Expired - Lifetime
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