JPH028132U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH028132U JPH028132U JP8557688U JP8557688U JPH028132U JP H028132 U JPH028132 U JP H028132U JP 8557688 U JP8557688 U JP 8557688U JP 8557688 U JP8557688 U JP 8557688U JP H028132 U JPH028132 U JP H028132U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- chamber
- sample
- processing apparatus
- partition
- Prior art date
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- Granted
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- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Description
第1図は本考案の一実施例によるプラズマ処理
装置の断面構成図、第2図はそのプラズマ引出し
窓部の平面図、第3図は従来のプラズマ処理装置
の断面構成図、第4図は従来装置の問題点を説明
するための図である。 1……プラズマ室、2……導波管、3a,3b
……電磁コイル、4……試料室、5……基板、1
0……隔壁、11……孔。
装置の断面構成図、第2図はそのプラズマ引出し
窓部の平面図、第3図は従来のプラズマ処理装置
の断面構成図、第4図は従来装置の問題点を説明
するための図である。 1……プラズマ室、2……導波管、3a,3b
……電磁コイル、4……試料室、5……基板、1
0……隔壁、11……孔。
Claims (1)
- マイクロ波とプラズマ発生用ガスが導入されそ
の内部にプラズマを発生するためのプラズマ室と
、処理すべき試料が収容された試料室と、前記プ
ラズマ室の周囲に配設されたプラズマ発生用電磁
コイルとを備え、前記プラズマ発生用電磁コイル
により前記プラズマ室内な電子サイクロトロン共
鳴条件を満たす磁界を形成するとともに、前記プ
ラズマ室から試料室内の試料に向けて発散する磁
界を形成するようにしたプラズマ処理装置におい
て、前記プラズマ室と試料室との間に隔壁を設け
るとともに、この隔壁に複数の小径の孔を形成し
たことを特徴とするプラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1988085576U JPH0717147Y2 (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1988085576U JPH0717147Y2 (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | プラズマ処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH028132U true JPH028132U (ja) | 1990-01-19 |
JPH0717147Y2 JPH0717147Y2 (ja) | 1995-04-19 |
Family
ID=31310229
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1988085576U Expired - Lifetime JPH0717147Y2 (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0717147Y2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5359586U (ja) * | 1976-10-22 | 1978-05-20 | ||
JPH11251091A (ja) * | 1998-03-02 | 1999-09-17 | Foi:Kk | プラズマ発生装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5817613A (ja) * | 1981-07-24 | 1983-02-01 | Toshiba Corp | グロ−放電による膜形成装置 |
-
1988
- 1988-06-28 JP JP1988085576U patent/JPH0717147Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5817613A (ja) * | 1981-07-24 | 1983-02-01 | Toshiba Corp | グロ−放電による膜形成装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5359586U (ja) * | 1976-10-22 | 1978-05-20 | ||
JPH11251091A (ja) * | 1998-03-02 | 1999-09-17 | Foi:Kk | プラズマ発生装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0717147Y2 (ja) | 1995-04-19 |
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