JPS6237082U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6237082U JPS6237082U JP12792885U JP12792885U JPS6237082U JP S6237082 U JPS6237082 U JP S6237082U JP 12792885 U JP12792885 U JP 12792885U JP 12792885 U JP12792885 U JP 12792885U JP S6237082 U JPS6237082 U JP S6237082U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma gas
- extract
- thin film
- base material
- utility
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
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- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
第1図a及び第1図bはこの考案を実施する装
置の概略図で、第1図aは2種類のガスを導入す
る場合を示し、第1図bは、1種類のガスを導入
し、2種目の物質は8で示すターゲツトに主とし
て含まれる場合を示し、第2図は、従来技術のI
VD法を実施する装置の概略図、第3図aは従来
技術のプラズマCVD法を実施する装置の概略図
、第3図bはECRを利用したプラズマCVD法
を実施する装置の概略図である。 1,1′,21,31,31′……ガス導入系
、2,32′……マイクロ波発振器系、32……
高周波電源、3,23,33′……プラズマ室、
33……処理室、4,34′……磁気コイル、5
,35′……引き出し及び加速系、6,26,3
6′……試料系、7,27……真空系、8……タ
ーゲツト、29……蒸発系。
置の概略図で、第1図aは2種類のガスを導入す
る場合を示し、第1図bは、1種類のガスを導入
し、2種目の物質は8で示すターゲツトに主とし
て含まれる場合を示し、第2図は、従来技術のI
VD法を実施する装置の概略図、第3図aは従来
技術のプラズマCVD法を実施する装置の概略図
、第3図bはECRを利用したプラズマCVD法
を実施する装置の概略図である。 1,1′,21,31,31′……ガス導入系
、2,32′……マイクロ波発振器系、32……
高周波電源、3,23,33′……プラズマ室、
33……処理室、4,34′……磁気コイル、5
,35′……引き出し及び加速系、6,26,3
6′……試料系、7,27……真空系、8……タ
ーゲツト、29……蒸発系。
Claims (1)
- イオン源として電子サイクロトロン共鳴を利用
したプラズマガスを用い、該プラズマガスの引き
出しにイオン加速器を利用した、金属等の母材表
面に高硬度薄膜を形成する製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12792885U JPS6237082U (ja) | 1985-08-23 | 1985-08-23 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12792885U JPS6237082U (ja) | 1985-08-23 | 1985-08-23 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6237082U true JPS6237082U (ja) | 1987-03-05 |
Family
ID=31023136
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12792885U Pending JPS6237082U (ja) | 1985-08-23 | 1985-08-23 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6237082U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015107628A1 (ja) * | 2014-01-15 | 2015-07-23 | Jdc株式会社 | テンションパッド装置のフェルト保持構造 |
-
1985
- 1985-08-23 JP JP12792885U patent/JPS6237082U/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015107628A1 (ja) * | 2014-01-15 | 2015-07-23 | Jdc株式会社 | テンションパッド装置のフェルト保持構造 |
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