JPH02138426U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH02138426U JPH02138426U JP4802189U JP4802189U JPH02138426U JP H02138426 U JPH02138426 U JP H02138426U JP 4802189 U JP4802189 U JP 4802189U JP 4802189 U JP4802189 U JP 4802189U JP H02138426 U JPH02138426 U JP H02138426U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample stage
- plasma generation
- generation chamber
- sample
- reaction chamber
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 claims description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
第１図は本発明に係るプラズマエツチング装置
の一実施例を模式的に示した断面図、第２図はエ
ツチングの終点検出原理を説明する説明図、第３
図は従来例のプラズマエツチング装置を模式的に
示した断面図、第４図は従来の問題点を説明する
ための説明図である。 １……プラズマ生成室、２……反応室、３……
マイクロ波導波管、４……レーザ導入管、１０…
…被エツチング試料、１１……試料台。
の一実施例を模式的に示した断面図、第２図はエ
ツチングの終点検出原理を説明する説明図、第３
図は従来例のプラズマエツチング装置を模式的に
示した断面図、第４図は従来の問題点を説明する
ための説明図である。 １……プラズマ生成室、２……反応室、３……
マイクロ波導波管、４……レーザ導入管、１０…
…被エツチング試料、１１……試料台。
Claims (1)
- プラズマ生成室と、該プラズマ生成室の下部に
接続された反応室と、マイクロ波を前記プラズマ
生成室に導入するマイクロ波導波管と、被エツチ
ング試料を載置して前記反応室内に配設される試
料台とを備えたプラズマエツチング装置において
、 前記試料台の中心軸上を軸芯とするレーザ導
入管が前記導波管の管壁に設けられていることを
特徴とするプラズマエツチング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4802189U JPH02138426U (ja) | 1989-04-24 | 1989-04-24 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4802189U JPH02138426U (ja) | 1989-04-24 | 1989-04-24 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02138426U true JPH02138426U (ja) | 1990-11-19 |
Family
ID=31564469
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4802189U Pending JPH02138426U (ja) | 1989-04-24 | 1989-04-24 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02138426U (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008270013A (ja) * | 2007-04-23 | 2008-11-06 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | プラズマ処理装置 |
| JP2016162990A (ja) * | 2015-03-05 | 2016-09-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置 |
-
1989
- 1989-04-24 JP JP4802189U patent/JPH02138426U/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008270013A (ja) * | 2007-04-23 | 2008-11-06 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | プラズマ処理装置 |
| JP2016162990A (ja) * | 2015-03-05 | 2016-09-05 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置 |