JPS622245U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS622245U JPS622245U JP9151685U JP9151685U JPS622245U JP S622245 U JPS622245 U JP S622245U JP 9151685 U JP9151685 U JP 9151685U JP 9151685 U JP9151685 U JP 9151685U JP S622245 U JPS622245 U JP S622245U
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- JP
- Japan
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- waveguide
- plasma
- plasma generating
- generation source
- microwave generation
- Prior art date
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- Granted
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第１図は本考案の一実施例に係るプラズマ発生
装置の構成を示す断面図、第２図は上記装置にお
けるホーン部近傍を取出して示す図であり、同図
ａは平面図、同図ｂは側面図、第３図は同装置の
作用を説明するための図、第４図は従来のプラズ
マ発生装置の一部断面図である。 １，１２……導波管、２，１３……プラズマ発
生部、２１……ダミーロード、２２……アイソレ
ータ、２３，２４，２５……整合用ねじ、２６…
…スリースタブチユーナー、２７……ホーン部、
２８……短絡部、２９……ホルダ部、３０……石
英管、３１……ガス導入管、３２……ガス排出管
、Ｇ……反応性ガス。
装置の構成を示す断面図、第２図は上記装置にお
けるホーン部近傍を取出して示す図であり、同図
ａは平面図、同図ｂは側面図、第３図は同装置の
作用を説明するための図、第４図は従来のプラズ
マ発生装置の一部断面図である。 １，１２……導波管、２，１３……プラズマ発
生部、２１……ダミーロード、２２……アイソレ
ータ、２３，２４，２５……整合用ねじ、２６…
…スリースタブチユーナー、２７……ホーン部、
２８……短絡部、２９……ホルダ部、３０……石
英管、３１……ガス導入管、３２……ガス排出管
、Ｇ……反応性ガス。
Claims (1)
- マイクロ波発生源と、このマイクロ波発生源か
らのマイクロ波を導く導波管と、この導波管の中
途位置に配置されたプラズマ発生部とを具備して
なるプラズマ発生装置において、前記導波管の前
記プラズマ発生部に対向する部分をホーン状に形
成したことを特徴とするプラズマ発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985091516U JPH0447958Y2 (ja) | 1985-06-19 | 1985-06-19 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985091516U JPH0447958Y2 (ja) | 1985-06-19 | 1985-06-19 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS622245U true JPS622245U (ja) | 1987-01-08 |
| JPH0447958Y2 JPH0447958Y2 (ja) | 1992-11-12 |
Family
ID=30647476
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985091516U Expired JPH0447958Y2 (ja) | 1985-06-19 | 1985-06-19 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0447958Y2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5887825A (ja) * | 1981-11-20 | 1983-05-25 | Fujitsu Ltd | マイクロ波プラズマ処理装置 |
-
1985
- 1985-06-19 JP JP1985091516U patent/JPH0447958Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5887825A (ja) * | 1981-11-20 | 1983-05-25 | Fujitsu Ltd | マイクロ波プラズマ処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0447958Y2 (ja) | 1992-11-12 |