JPH01155639U - - Google Patents

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JPH01155639U
JPH01155639U JP5163288U JP5163288U JPH01155639U JP H01155639 U JPH01155639 U JP H01155639U JP 5163288 U JP5163288 U JP 5163288U JP 5163288 U JP5163288 U JP 5163288U JP H01155639 U JPH01155639 U JP H01155639U
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JP
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plasma
plasma generation
microwave
transport pipe
processed
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JP5163288U
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  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第1図はこの考案の一実施例に係るマイクロ波
プラズマ処理装置を示す概略構成図、第2図は動
作状態を示す概略構成図、第3図はこの考案の一
実施例の縦断面図、第4図はケース18の説明図
、第5図はこの考案の変形例を示す断面図、第6
図は従来のマイクロ波プラズマ処理装置を示す概
略構成図である。 1……マイクロ波発振源、2……アイソレータ
、3……パワーモニタ、4……整合器、5……プ
ラズマ発生炉、7……プラズマ発生管、13……
ガス輸送管、16……プラズマシヤワー、18…
…ケース、19……被処理物、23,24……上
下機構(トイレ、シヤフト)。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. マイクロ波発振源と、このマイクロ波発振源に
    アイソレータ、方向性結合器、整合器を直列に配
    して連設されたプラズマ発生炉と、このプラズマ
    発生炉に貫通装着されているプラズマ発生管と、
    このプラズマ発生管に連設されプラズマ発生管に
    て発生した活性化ガスを輸送するガス輸送管と、
    このガス輸送管に連設され被処理物に上記活性化
    ガスを照射する処理室とを備えたマイクロ波プラ
    ズマ処理装置において、前記ガス輸送管に連設さ
    れたプラズマシヤワーを設け、被処理物を前記プ
    ラズマシヤワー近傍に被処理物を移動させる手段
    を具備したことを特徴とするマイクロ波プラズマ
    処理装置。
JP5163288U 1988-04-19 1988-04-19 Pending JPH01155639U (ja)

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JPH01155639U true JPH01155639U (ja) 1989-10-25

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JP5163288U Pending JPH01155639U (ja) 1988-04-19 1988-04-19

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JP (1) JPH01155639U (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010225443A (ja) * 2009-03-24 2010-10-07 Canon Inc イオン源

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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