JPH02125331U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH02125331U JPH02125331U JP3421989U JP3421989U JPH02125331U JP H02125331 U JPH02125331 U JP H02125331U JP 3421989 U JP3421989 U JP 3421989U JP 3421989 U JP3421989 U JP 3421989U JP H02125331 U JPH02125331 U JP H02125331U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exhaust means
- plasma generation
- chamber
- electromagnetic coil
- generation chamber
- Prior art date
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- Pending
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- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第1図は本考案の一実施例を示すマイクロ波プ
ラズマ処理装置の概略縦断面図、第2図は従来の
マイクロ波プラズマ処理装置の概略縦断面図であ
る。 1……プラズマ生成室、2……第1の電磁コイ
ル、3……処理室、4……試料、50……第2の
電磁コイル、60……主排気手段、70……副排
気手段。
ラズマ処理装置の概略縦断面図、第2図は従来の
マイクロ波プラズマ処理装置の概略縦断面図であ
る。 1……プラズマ生成室、2……第1の電磁コイ
ル、3……処理室、4……試料、50……第2の
電磁コイル、60……主排気手段、70……副排
気手段。
Claims (1)
- 電子サイクロトロン共鳴を利用してプラズマを
発生するプラズマ生成室と、前記プラズマ生成室
内に電子サイクロトロン共鳴条件を与える磁場を
形成する第1の電磁コイルと、前記プラズマ生成
室に連通して設けられた試料の処理を行う処理室
と、ミラー磁場を形成する第2の電磁コイルと、
前記プラズマ生成室及び処理室を排気する排気手
段とが各々同軸上に配設されたマイクロ波プラズ
マ処理装置において、前記処理室の排気口と異な
る位置に主排気手段を設け、前記排気手段を前記
主排気手段のバイパス路とし、かつ前記主排気手
段の排気管口径よりも小さくした副排気手段とし
、前記第2の電磁コイルを前記副排気手段の排気
管の外周に設けたマイクロ波プラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3421989U JPH02125331U (ja) | 1989-03-24 | 1989-03-24 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3421989U JPH02125331U (ja) | 1989-03-24 | 1989-03-24 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02125331U true JPH02125331U (ja) | 1990-10-16 |
Family
ID=31538498
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3421989U Pending JPH02125331U (ja) | 1989-03-24 | 1989-03-24 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02125331U (ja) |
-
1989
- 1989-03-24 JP JP3421989U patent/JPH02125331U/ja active Pending
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