JPH02125331U - - Google Patents

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JPH02125331U
JPH02125331U JP3421989U JP3421989U JPH02125331U JP H02125331 U JPH02125331 U JP H02125331U JP 3421989 U JP3421989 U JP 3421989U JP 3421989 U JP3421989 U JP 3421989U JP H02125331 U JPH02125331 U JP H02125331U
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JP
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exhaust means
plasma generation
chamber
electromagnetic coil
generation chamber
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例を示すマイクロ波プ
ラズマ処理装置の概略縦断面図、第2図は従来の
マイクロ波プラズマ処理装置の概略縦断面図であ
る。 1……プラズマ生成室、2……第1の電磁コイ
ル、3……処理室、4……試料、50……第2の
電磁コイル、60……主排気手段、70……副排
気手段。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 電子サイクロトロン共鳴を利用してプラズマを
    発生するプラズマ生成室と、前記プラズマ生成室
    内に電子サイクロトロン共鳴条件を与える磁場を
    形成する第1の電磁コイルと、前記プラズマ生成
    室に連通して設けられた試料の処理を行う処理室
    と、ミラー磁場を形成する第2の電磁コイルと、
    前記プラズマ生成室及び処理室を排気する排気手
    段とが各々同軸上に配設されたマイクロ波プラズ
    マ処理装置において、前記処理室の排気口と異な
    る位置に主排気手段を設け、前記排気手段を前記
    主排気手段のバイパス路とし、かつ前記主排気手
    段の排気管口径よりも小さくした副排気手段とし
    、前記第2の電磁コイルを前記副排気手段の排気
    管の外周に設けたマイクロ波プラズマ処理装置。
JP3421989U 1989-03-24 1989-03-24 Pending JPH02125331U (ja)

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JPH02125331U true JPH02125331U (ja) 1990-10-16

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