JPS61123010A - 非晶質薄膜磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents
非晶質薄膜磁気ヘツドの製造方法Info
- Publication number
- JPS61123010A JPS61123010A JP24551784A JP24551784A JPS61123010A JP S61123010 A JPS61123010 A JP S61123010A JP 24551784 A JP24551784 A JP 24551784A JP 24551784 A JP24551784 A JP 24551784A JP S61123010 A JPS61123010 A JP S61123010A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- magnetic field
- amorphous thin
- etching
- magnetic head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、磁界中熱処理が必要な非晶質軟磁性薄膜を
磁極とする磁気ヘッドの製造方法に関する。
磁極とする磁気ヘッドの製造方法に関する。
（従来の技術）
非晶質薄膜、特に、ＧＯ基の非晶質薄膜は、軟磁性特性
が侵れているので、磁気ヘッドへの応用が注目されてい
る。
が侵れているので、磁気ヘッドへの応用が注目されてい
る。
しかし、この種の薄膜は主にスパッタ法により作成され
るが、そのままの状態では磁気異方性が大きい。磁気ヘ
ッドの磁極としては、周波数特性の良好な磁化困難軸方
向を利用することが望ましいが、上記したように磁気異
方性が大きいために、この方向の透磁率が小さい。
るが、そのままの状態では磁気異方性が大きい。磁気ヘ
ッドの磁極としては、周波数特性の良好な磁化困難軸方
向を利用することが望ましいが、上記したように磁気異
方性が大きいために、この方向の透磁率が小さい。
そこで、この透磁率を高めるために、当該薄膜を回転磁
界中で熱処理することが一般に行なわれている。
界中で熱処理することが一般に行なわれている。
このようにして透磁率を高めた磁気ヘッドは、フォトリ
ングラフィ法でレジストを形成した後、湿式あるいはド
ライエツチング法により、当該ヘッドの成形をする。
ングラフィ法でレジストを形成した後、湿式あるいはド
ライエツチング法により、当該ヘッドの成形をする。
（本発明が解決しようとする問題点）
上記のようにした従来の磁気ヘッドの製造方法では、ス
パッタ法による薄膜形成、磁界中熱処理及びフォトリン
グラフィ法等によるヘッド磁極形成の各行程を必要とし
ていたが、実際には、その行程の短縮を要望されていた
。
パッタ法による薄膜形成、磁界中熱処理及びフォトリン
グラフィ法等によるヘッド磁極形成の各行程を必要とし
ていたが、実際には、その行程の短縮を要望されていた
。
この発明の目的は、ドライエツチング時に発生する熱を
利用して、そのエツチングと磁界中熱処理とを同時に行
なって、処理行程を短縮化することである。
利用して、そのエツチングと磁界中熱処理とを同時に行
なって、処理行程を短縮化することである。
（問題点を解決するための手段）
この発明は、上記の目的を達成するために、真空プラズ
マ中でドライエツチングするとともに、このドライエツ
チング時に発生する熱を利用して磁界中熱処理を同時に
行なうようにしている。
マ中でドライエツチングするとともに、このドライエツ
チング時に発生する熱を利用して磁界中熱処理を同時に
行なうようにしている。
（本発明の作用）
真空プラズマ中でドライエツチングをすれば熱を発生す
るので、その熱を利用して磁界中熱処理ができる。
るので、その熱を利用して磁界中熱処理ができる。
（本発明の効果）
ドライエツチングと磁界中熱処理とを同時にできるので
、処理行程を短縮でき、それだけ製造コスｉ・も低減で
きる。
、処理行程を短縮でき、それだけ製造コスｉ・も低減で
きる。
また、この方法では、従来のスパッタ法に用いた装置を
そのまま使用できるので、特別な設備を必要としない利
点もある。
そのまま使用できるので、特別な設備を必要としない利
点もある。
（本発明の実施例）
周囲にヘルムホルツコイル１を設けた真空室２には、回
転自在にした陰極板３を設けるとともに、この陰極板３
に当該磁気ヘッドに使用する基板４を載置する。
転自在にした陰極板３を設けるとともに、この陰極板３
に当該磁気ヘッドに使用する基板４を載置する。
このようにした真空室２は排気口５から図示していない
真空ポンプで排気されるとともに、ガス導入口６からＡ
ｒガスあるいは他の活性ガスを導入するようにしている
。
真空ポンプで排気されるとともに、ガス導入口６からＡ
ｒガスあるいは他の活性ガスを導入するようにしている
。
そして、基板４上には非晶質薄膜７を形成するとともに
、さらにこの非晶質簿膜７上にレジスト８を形成する。
、さらにこの非晶質簿膜７上にレジスト８を形成する。
このようにした基板４を陰極板３に載置した後、真空室
２を図示していない真空ポンプで排気する。
２を図示していない真空ポンプで排気する。
この真空室２を排気した後、ガス導入口６からＡｒガス
あるいは他の活性ガスを導入して、真空室２内に真空プ
ラズマを形成する。
あるいは他の活性ガスを導入して、真空室２内に真空プ
ラズマを形成する。
この状態で陰極板３を回転させながらヘルムホルツコイ
ル１に通電すれば、上記薄膜７に回転磁界が印加される
とともに、スパッタ法によるエツチングが開始される。
ル１に通電すれば、上記薄膜７に回転磁界が印加される
とともに、スパッタ法によるエツチングが開始される。
そして、このエツチング時に発生する熱によって、磁界
中熱処理が同時に行なわれる。
中熱処理が同時に行なわれる。
なお、図中符号９は補助ヒータで、非晶質薄膜７を加熱
するためのものである。ただし、磁気ヘッドの形状、非
晶質薄膜の組成あるいエツチングのための電力等の条件
によっては、この補助ヒータ９が不要となる。
するためのものである。ただし、磁気ヘッドの形状、非
晶質薄膜の組成あるいエツチングのための電力等の条件
によっては、この補助ヒータ９が不要となる。
図面はこの発明の実施例に使用する装置の模式％式％
図面の予告（内７Ｆに変更なし）
痺 １ 品
手Ｕ己祁ｊ正書（方式）
１事件の表示
昭和５８年特許願第２４５５１７号
２発明の名称
非晶質薄ＩＩＩ磁気へ・ンドの製造方法３補正をする者
事件との関係 特許出願人
住所 東京都府中市四谷５−８−１
名称 日電アネルバ株式会社
代表者 織１）善次部
４代理人 〒１７０ ｆｆ （８８７）２！３３Ｂ５
補正命令の日刊 昭和６０年３月２６日６補正の対
象 明細書の図面の簡単な説明の欄および図面７補正の内容
補正命令の日刊 昭和６０年３月２６日６補正の対
象 明細書の図面の簡単な説明の欄および図面７補正の内容
Claims (1)
- 真空プラズマ中でドライエッチングするとともに、この
ドライエッチング時に発生する熱を利用して磁界中熱処
理を同時に行なうことを特徴とする非晶質薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24551784A JPS61123010A (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 | 非晶質薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24551784A JPS61123010A (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 | 非晶質薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61123010A true JPS61123010A (ja) | 1986-06-10 |
Family
ID=17134856
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24551784A Pending JPS61123010A (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 | 非晶質薄膜磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61123010A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SG122873A1 (en) * | 2004-11-25 | 2006-06-29 | Psk Inc | Plasma chamber system and method of ashing photoresist pattern formed on substrate having low-k dielectric layer using the same |
| US9617189B2 (en) | 2013-08-30 | 2017-04-11 | Ut-Battelle, Llc | Apparatus and method for materials processing utilizing a rotating magnetic field |
-
1984
- 1984-11-20 JP JP24551784A patent/JPS61123010A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SG122873A1 (en) * | 2004-11-25 | 2006-06-29 | Psk Inc | Plasma chamber system and method of ashing photoresist pattern formed on substrate having low-k dielectric layer using the same |
| US9617189B2 (en) | 2013-08-30 | 2017-04-11 | Ut-Battelle, Llc | Apparatus and method for materials processing utilizing a rotating magnetic field |
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