JPH0379420U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0379420U JPH0379420U JP13867189U JP13867189U JPH0379420U JP H0379420 U JPH0379420 U JP H0379420U JP 13867189 U JP13867189 U JP 13867189U JP 13867189 U JP13867189 U JP 13867189U JP H0379420 U JPH0379420 U JP H0379420U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- magnetic field
- sample
- generating section
- chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims 1
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第１図から第３図迄は、本考案によるＥＣＲプ
ラズマ装置を示すためのもので、第１図は全体構
成を示す断面図、第２図は他の実施例を示す断面
図、第３図は試料台を示す拡大断面図、第４図は
従来のＥＣＲプラズマ装置を示す断面図である。 ２……励磁コイル、５……プラズマ生成室、１
３……試料室、１６……試料、１７……試料台、
１７ｄ……中央部、１９……磁界生成部である。
ラズマ装置を示すためのもので、第１図は全体構
成を示す断面図、第２図は他の実施例を示す断面
図、第３図は試料台を示す拡大断面図、第４図は
従来のＥＣＲプラズマ装置を示す断面図である。 ２……励磁コイル、５……プラズマ生成室、１
３……試料室、１６……試料、１７……試料台、
１７ｄ……中央部、１９……磁界生成部である。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) プラズマ生成室５内に導入したガスに、マ
イクロ波による高周波電界と前記プラズマ生成室
５の周囲に配した励磁コイル２により形成される
磁界とを作用させてプラズマを発生させると共に
、前記プラズマを前記磁界により前記プラズマ生
成室５と連通した試料室１３に導出し、前記試料
室１３内の試料台１７に設けられた試料１６に対
してプラズマを作用させるようにしたＥＣＲプラ
ズマ装置において、 前記試料台１７の中央部１７ｄ以外の位置にお
ける前記試料台１７に配設した磁界生成部１９を
有し、前記磁界生成部１９により前記プラズマの
プラズマ流分布を制御するように構成したことを
特徴とするＥＣＲプラズマ装置。 (2) 前記磁界生成部１９は、輪状をなしている
ことを特徴とする請求項１記載のＥＣＲプラズマ
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989138671U JPH0521874Y2 (ja) | 1989-12-01 | 1989-12-01 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989138671U JPH0521874Y2 (ja) | 1989-12-01 | 1989-12-01 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0379420U true JPH0379420U (ja) | 1991-08-13 |
| JPH0521874Y2 JPH0521874Y2 (ja) | 1993-06-04 |
Family
ID=31685755
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1989138671U Expired - Lifetime JPH0521874Y2 (ja) | 1989-12-01 | 1989-12-01 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0521874Y2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63283018A (ja) * | 1986-12-29 | 1988-11-18 | Sumitomo Metal Ind Ltd | プラズマ装置 |
-
1989
- 1989-12-01 JP JP1989138671U patent/JPH0521874Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63283018A (ja) * | 1986-12-29 | 1988-11-18 | Sumitomo Metal Ind Ltd | プラズマ装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0521874Y2 (ja) | 1993-06-04 |