JPH01155352A - 水なしオフセット印刷用感光性印刷版 - Google Patents
水なしオフセット印刷用感光性印刷版Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/095—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer
- G03F7/0955—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer one of the photosensitive systems comprising a non-macromolecular photopolymerisable compound having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、非水性オフセット印刷に好適であシ、主とし
て基板、ネがチデ感光層及び上張りの印刷イン中皮発性
シリコンデム層よりなる感光性印刷版に関する。
て基板、ネがチデ感光層及び上張りの印刷イン中皮発性
シリコンデム層よりなる感光性印刷版に関する。
感光性化合物として芳香族ジアゾニウム化合物の重縮合
生成物を含有する記載型の感光性印刷版は、欧州特許(
刊p−A)#!0226201号明細書から公知である
。この感光層は露光時に不溶性になり、有機溶剤混合物
を用いて現像されうる。現像の間に、可溶性で、未硬化
の感光層の上にあるクリコンゴム層の領域は、それ自体
は現像剤中に溶けないが、可溶性領域と一緒に除去され
る。しかしながら、現像剤は、適当量の有機溶剤(これ
は、シリコン♂ム層を膨潤させ、この際に軟化させる)
を含有することが必要である。
生成物を含有する記載型の感光性印刷版は、欧州特許(
刊p−A)#!0226201号明細書から公知である
。この感光層は露光時に不溶性になり、有機溶剤混合物
を用いて現像されうる。現像の間に、可溶性で、未硬化
の感光層の上にあるクリコンゴム層の領域は、それ自体
は現像剤中に溶けないが、可溶性領域と一緒に除去され
る。しかしながら、現像剤は、適当量の有機溶剤(これ
は、シリコン♂ム層を膨潤させ、この際に軟化させる)
を含有することが必要である。
米国時A’F(US−A)第3894873号明細書中
には、光重合可能な混合物から製造された感光R1−有
する非水性オフセット印刷用の印刷版が記載されている
。露光時に、この層は重合し、上張りのクリコンゴム層
と交叉結合する。
には、光重合可能な混合物から製造された感光R1−有
する非水性オフセット印刷用の印刷版が記載されている
。露光時に、この層は重合し、上張りのクリコンゴム層
と交叉結合する。
露光後にこの版’t−7リコン♂ムt−膨潤する液体で
処理する。このクリコンゴムは、非g光点でPjg?1
1シ、#I搾により除去することができるが、露光点で
は堅固に接着する。光重合可能な層は、大気中の酸垢に
対して敏感であり、クリコンゴム層は極めて酸素透過性
であるので、一般に、fR素不透過性の被覆膜が必要で
あり、これは、クリコン層上に積層され、露光後に除か
れる。
処理する。このクリコンゴムは、非g光点でPjg?1
1シ、#I搾により除去することができるが、露光点で
は堅固に接着する。光重合可能な層は、大気中の酸垢に
対して敏感であり、クリコンゴム層は極めて酸素透過性
であるので、一般に、fR素不透過性の被覆膜が必要で
あり、これは、クリコン層上に積層され、露光後に除か
れる。
ンリコン層と一緒になって、この膜は、オリジナルの1
Ilii像層からの感光層の距離に増大し、従って解像
度を低下する。
Ilii像層からの感光層の距離に増大し、従って解像
度を低下する。
前記型の光重合可能な層を有する印刷版はそれ自体極め
て感光性である。しかしながら、非水性オフセット印刷
を意図する態様においては、明らかに光重合可能な層へ
の印刷インキ反発性クリコン層の逼切な結合を達成する
ためには、比較的長い露光が必要である。従って、この
ような版の感光性の増加は望まれる。
て感光性である。しかしながら、非水性オフセット印刷
を意図する態様においては、明らかに光重合可能な層へ
の印刷インキ反発性クリコン層の逼切な結合を達成する
ためには、比較的長い露光が必要である。従って、この
ような版の感光性の増加は望まれる。
更に、インキ溶液を用いるオフセット印刷用の、ジアゾ
ニウム塩重縮合生成物、遊離ラジカルを用いて重合しう
る化合物、光重合開始剤及び少なくとも1種の結合剤か
ら製造された感光層含有する印刷版は公知である。この
ような印刷版は英国特許(()B−^)第204478
8号明細書中に記載されている。ここでは、純粋な光重
合可能な層と比較して複写の良好な解像度及び感光性物
質としてジアゾニウム化合物のみを含有゛する層と比較
した印刷数の増加が利点として挙げられている。特定の
場合に、水溶液を用いるか又は純水を用いる現像を実施
すると ・とも可能である。
ニウム塩重縮合生成物、遊離ラジカルを用いて重合しう
る化合物、光重合開始剤及び少なくとも1種の結合剤か
ら製造された感光層含有する印刷版は公知である。この
ような印刷版は英国特許(()B−^)第204478
8号明細書中に記載されている。ここでは、純粋な光重
合可能な層と比較して複写の良好な解像度及び感光性物
質としてジアゾニウム化合物のみを含有゛する層と比較
した印刷数の増加が利点として挙げられている。特定の
場合に、水溶液を用いるか又は純水を用いる現像を実施
すると ・とも可能である。
欧州特許(BP−A)第167963番明細書中には、
ジアゾニウム塩単位に加えて、ジアゾニウム基不含で、
ホルムアルデヒドと縮合しうる化合物を含有する類似の
印刷版が記載されている。
ジアゾニウム塩単位に加えて、ジアゾニウム基不含で、
ホルムアルデヒドと縮合しうる化合物を含有する類似の
印刷版が記載されている。
後者の印刷版は意図するものではなく、これらは、非水
性オフセット印刷に好適でもない。
性オフセット印刷に好適でもない。
本発明の目的は、良好な画像解像度を有し、長時間印刷
敷金提供し、同時に従来公知の印刷版よシも高い感光性
を有する非水性オフセット印刷用印刷版を提供すること
である。
敷金提供し、同時に従来公知の印刷版よシも高い感光性
を有する非水性オフセット印刷用印刷版を提供すること
である。
本発明は、基板、シフアゾニウム塩重縮合生成物よりな
る感光層及びその上張シの印刷インキ反発性シリコン♂
ム層よシなる非水性オフセット印刷用印刷版から出発す
る。
る感光層及びその上張シの印刷インキ反発性シリコン♂
ム層よシなる非水性オフセット印刷用印刷版から出発す
る。
本発明による印刷版において、感光層は、更に遊離ラジ
カルにより重合することができ、少なくとも1個の末端
エチレン性不飽和基を有し、大気圧で約100℃の沸点
を有する化合物を含有し、化学線の作用下に遊離ラジカ
ルを形成する重合開始剤を含有する。
カルにより重合することができ、少なくとも1個の末端
エチレン性不飽和基を有し、大気圧で約100℃の沸点
を有する化合物を含有し、化学線の作用下に遊離ラジカ
ルを形成する重合開始剤を含有する。
この感光層の成分は、本質的に欧州特許(BP−A)第
167965号及び同 第211391号明i書に記載されている。
167965号及び同 第211391号明i書に記載されている。
好適なジアゾニウム塩重縮合生成物は、縮合可能な芳香
族ジアゾニウム塩例えばジフェニルアミン4−ジアゾニ
ウム塩とアルデヒド有利にホルムアルデヒドとの縮合の
生成物である。ジアゾニウム塩単位に加えて、縮合可能
な化合物特に芳香族アミン類、フェノール類、フェノー
ルエーテル類、芳香族チオエーテル類、芳香族炭化水素
類、芳香族へテロ環式化合物又は有機酸アミドから誘導
され九他の非感光性単位を含有する共縮合生成物は特に
有利に使用される。
族ジアゾニウム塩例えばジフェニルアミン4−ジアゾニ
ウム塩とアルデヒド有利にホルムアルデヒドとの縮合の
生成物である。ジアゾニウム塩単位に加えて、縮合可能
な化合物特に芳香族アミン類、フェノール類、フェノー
ルエーテル類、芳香族チオエーテル類、芳香族炭化水素
類、芳香族へテロ環式化合物又は有機酸アミドから誘導
され九他の非感光性単位を含有する共縮合生成物は特に
有利に使用される。
これら縮合生成物は、西ドイツ特FF (pg−c)第
2024244号明細書中に記載されている。
2024244号明細書中に記載されている。
一般に、西ドイツ特許公開(DE−A)第273977
4号明細書中に記載のすべてのジアゾニウム塩重縮合生
成物が好適である。
4号明細書中に記載のすべてのジアゾニウム塩重縮合生
成物が好適である。
ジアゾニウム塩単位A −IJaXは、有利に式=(R
1−R3−)p’R”−N、xの化合物から誘導され、
ここでXはジアゾニウム化合物のアニオンを表わし、p
は1〜3の整数であり R1は活性カルボニル化合物と
縮合可能な位置少なくとも1個を有する芳香族基を表わ
し Hllはフェニレン基上表わし、R3は単結合又は
基: −(C1(、)q−NR4−1−o−(cH2)
r−NR4−1−8−(CHa)r−NR4−1−8−
CH2CO−NR4−、−0−R6−0−、−0+、−
8−又は−〇〇−NR4−を表わしくここでqは0〜5
の数値であり、rは2〜5の数値である)、R4は水素
、炭素原子数1〜5を有するアルキル基、炭素原子数7
〜12’に有するアルアルキル基又は炭素原子数6〜1
2t−有するアリール基を表わし、Rhは炭素原子数6
〜12t−有するアリーレン基を表わす。
1−R3−)p’R”−N、xの化合物から誘導され、
ここでXはジアゾニウム化合物のアニオンを表わし、p
は1〜3の整数であり R1は活性カルボニル化合物と
縮合可能な位置少なくとも1個を有する芳香族基を表わ
し Hllはフェニレン基上表わし、R3は単結合又は
基: −(C1(、)q−NR4−1−o−(cH2)
r−NR4−1−8−(CHa)r−NR4−1−8−
CH2CO−NR4−、−0−R6−0−、−0+、−
8−又は−〇〇−NR4−を表わしくここでqは0〜5
の数値であり、rは2〜5の数値である)、R4は水素
、炭素原子数1〜5を有するアルキル基、炭素原子数7
〜12’に有するアルアルキル基又は炭素原子数6〜1
2t−有するアリール基を表わし、Rhは炭素原子数6
〜12t−有するアリーレン基を表わす。
前記群の化合物のうち、アル中ル基で又はアルコキシ基
で又はハロゲン原子で置換され九又は非置換のジフェニ
ル類き/4−ジアゾニウム塩の縮合生成物が有利である
。第2成分Bとしては、置換又は非置換のジフェニルエ
ーテル風ジフェニルスルファイド類、ジフェニルメタン
鶏又はジフェニル類が有利である。殊に、親構造のビス
−メトキクメチル、ビス−ヒドロキクメチル又はビスー
アセト午ジメチル誘導体は、縮合の丸めに特に有利に夏
用される。縮合生成物は、A −N2X単位1個当りB
単位平均0.1〜50有利に0.2〜20個を含有して
いてよい。
で又はハロゲン原子で置換され九又は非置換のジフェニ
ル類き/4−ジアゾニウム塩の縮合生成物が有利である
。第2成分Bとしては、置換又は非置換のジフェニルエ
ーテル風ジフェニルスルファイド類、ジフェニルメタン
鶏又はジフェニル類が有利である。殊に、親構造のビス
−メトキクメチル、ビス−ヒドロキクメチル又はビスー
アセト午ジメチル誘導体は、縮合の丸めに特に有利に夏
用される。縮合生成物は、A −N2X単位1個当りB
単位平均0.1〜50有利に0.2〜20個を含有して
いてよい。
混合物中のジアゾニウム塩重縮合生成物の割合は、一般
に、不揮発性成分の全含量に対して5〜60重量係有利
に10〜40重ftsである。
に、不揮発性成分の全含量に対して5〜60重量係有利
に10〜40重ftsである。
更に特に有利な重縮合生成物は、まず置換又は非置換の
ジフェニルアミンジアゾニウム塩と芳香族化合物R’−
0−C!!(2−Bと次いで芳香族化合物R’−0−C
H11−B−CH,−0−R’ (ここでR′は水素原
子、アル中ル基又は脂肪族アクル基である)との縮合に
よシ得られる。これら縮合生成物は欧州特許(Ep−A
)第126875号明細書に記載されている。
ジフェニルアミンジアゾニウム塩と芳香族化合物R’−
0−C!!(2−Bと次いで芳香族化合物R’−0−C
H11−B−CH,−0−R’ (ここでR′は水素原
子、アル中ル基又は脂肪族アクル基である)との縮合に
よシ得られる。これら縮合生成物は欧州特許(Ep−A
)第126875号明細書に記載されている。
遊離基によりi合されうる化合物として、多価アルコー
ル殊に1級アルコールのアクリレート又はメタクリレー
トが有利に便用される。アルコールは、2〜6個の有利
に2〜4個のOH基を含有していてよい。この混合物中
には、少量の1価アルコールの(メタ)アクリレートが
存在することも可能である。好適なエステルの例はトリ
メチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート及びテトラアクリレート、プロ
ピレングリコールモノメタクリレート、グリセロールジ
メタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレ
ート、ポリエチレングリコールモノアクリレート及びオ
命りエチル化されたビスフェノールAm導体のモノアク
リレート又はビスアクリレートである。有利なモノマー
は、1i@の遊WmoH基又は1個のアtノ基を有する
ものである。例は、ジエチレングリコールモノメタクリ
レート、グリセロールモノアクリレート及びジアクリレ
ート及びトリエタノ−ルアインとグリフゾルメタクリレ
ートとの反応の生成物である。ウレタン基を有するアク
リレート及びメタクリレートも好適である。重合可能な
化合物の量は一般に5〜6011量係有利に10〜40
1量慢である。
ル殊に1級アルコールのアクリレート又はメタクリレー
トが有利に便用される。アルコールは、2〜6個の有利
に2〜4個のOH基を含有していてよい。この混合物中
には、少量の1価アルコールの(メタ)アクリレートが
存在することも可能である。好適なエステルの例はトリ
メチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート及びテトラアクリレート、プロ
ピレングリコールモノメタクリレート、グリセロールジ
メタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレ
ート、ポリエチレングリコールモノアクリレート及びオ
命りエチル化されたビスフェノールAm導体のモノアク
リレート又はビスアクリレートである。有利なモノマー
は、1i@の遊WmoH基又は1個のアtノ基を有する
ものである。例は、ジエチレングリコールモノメタクリ
レート、グリセロールモノアクリレート及びジアクリレ
ート及びトリエタノ−ルアインとグリフゾルメタクリレ
ートとの反応の生成物である。ウレタン基を有するアク
リレート及びメタクリレートも好適である。重合可能な
化合物の量は一般に5〜6011量係有利に10〜40
1量慢である。
便用できる光反応開始剤は、多くの化合物であり、過当
な場合には、2種以上の異なる化合物屡々相乗作用を有
する化合物の混合物でもある。例は次のものである:ベ
ンゾイン及びその誘導体、多核Φノン、アクリジン誘導
体例えば9−フェニルアクリジン、9−p−メトキシフ
ェニルアクリジン及びベンズ(ア)アクリジン、フェナ
ジン誘導体例えば9,10−ジメチルベンズ(ア)フェ
ナジン及び10−メト午ジベンズ(ア)フェナジン、キ
ノキサリン誘導体例えば、6.4’、e−)ジメトキシ
す2,3−ゾフエニルキノ中サリン及び4,4′−ジメ
ト午クー2 a 3−9 yユニルー5−アゾキノキサ
リン;芳香性置換ビス−トリクロルメチル−8−トリア
ゾン例えば2−ナフチ−1−イル−4,6−ビス−トリ
クロロメチル−,2−アセナフチル−4,6−トリクロ
ロメチルー、2−(4−エト午シーエトキシナフチー2
−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−及び2−
(4−スチリルフェニル)−4,6−ビス−トリクロロ
メチル−6−トリアゾン又はトリクロロメチル−置換カ
ルバモイルメチレンへテロ環式化合物例えば2− (p
−)リクロロメチルペンゾイルメチレン)−6−ニチル
ペンゾチアゾリン。トリクロロメチル化合物が特に有利
である。光反応開始剤の量は、一般ニ0.05〜101
1ikts有利に0.5〜531量チである。
な場合には、2種以上の異なる化合物屡々相乗作用を有
する化合物の混合物でもある。例は次のものである:ベ
ンゾイン及びその誘導体、多核Φノン、アクリジン誘導
体例えば9−フェニルアクリジン、9−p−メトキシフ
ェニルアクリジン及びベンズ(ア)アクリジン、フェナ
ジン誘導体例えば9,10−ジメチルベンズ(ア)フェ
ナジン及び10−メト午ジベンズ(ア)フェナジン、キ
ノキサリン誘導体例えば、6.4’、e−)ジメトキシ
す2,3−ゾフエニルキノ中サリン及び4,4′−ジメ
ト午クー2 a 3−9 yユニルー5−アゾキノキサ
リン;芳香性置換ビス−トリクロルメチル−8−トリア
ゾン例えば2−ナフチ−1−イル−4,6−ビス−トリ
クロロメチル−,2−アセナフチル−4,6−トリクロ
ロメチルー、2−(4−エト午シーエトキシナフチー2
−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−及び2−
(4−スチリルフェニル)−4,6−ビス−トリクロロ
メチル−6−トリアゾン又はトリクロロメチル−置換カ
ルバモイルメチレンへテロ環式化合物例えば2− (p
−)リクロロメチルペンゾイルメチレン)−6−ニチル
ペンゾチアゾリン。トリクロロメチル化合物が特に有利
である。光反応開始剤の量は、一般ニ0.05〜101
1ikts有利に0.5〜531量チである。
この感光層は、有利にポリマー性結合剤をも含有する。
好適な結合剤は、有利に、水に不溶なポリマー例えばエ
ボ午り樹脂、尿素及びメラミン樹脂、ケトン樹脂、酢酸
ビニルホモポリマー及びコポリY −、ポリ(酢酸ビニ
ル)、例えばポリ(ビニルホルマール)又はポリ(ビニ
ルブチラール);ポリウレタン、Iリアクリレート、ポ
リメタクリレート及びセルロースエステルである。前記
ポリマーのうち、ポリ(ビニルアセタール)、殊に遊離
のビニルアルコール及びビニルエステル単位を有するも
のが有利であるO 水中に不溶であるが水性アルカリ溶液中に可溶である結
合剤を便用することもできる。このような結合剤はフェ
ノール樹脂、ポリ−ニルフェノール、ポリスルホニルウ
レタン、アクリル酸とメタクリル酸とのコポリマー、ス
チレン/無水マレイン酸コポリマー及びOH基基含有ポ
リ−殊にビニルアルコール単位含有ポリマーと多価カル
ボン酸殊にジカルボン酸又はトリカルボン酸との反応の
生成物である。最後に記載のポリマーが特に有利である
。これらは、欧州特許(113P−A)第152819
号明細書に記載されている。
ボ午り樹脂、尿素及びメラミン樹脂、ケトン樹脂、酢酸
ビニルホモポリマー及びコポリY −、ポリ(酢酸ビニ
ル)、例えばポリ(ビニルホルマール)又はポリ(ビニ
ルブチラール);ポリウレタン、Iリアクリレート、ポ
リメタクリレート及びセルロースエステルである。前記
ポリマーのうち、ポリ(ビニルアセタール)、殊に遊離
のビニルアルコール及びビニルエステル単位を有するも
のが有利であるO 水中に不溶であるが水性アルカリ溶液中に可溶である結
合剤を便用することもできる。このような結合剤はフェ
ノール樹脂、ポリ−ニルフェノール、ポリスルホニルウ
レタン、アクリル酸とメタクリル酸とのコポリマー、ス
チレン/無水マレイン酸コポリマー及びOH基基含有ポ
リ−殊にビニルアルコール単位含有ポリマーと多価カル
ボン酸殊にジカルボン酸又はトリカルボン酸との反応の
生成物である。最後に記載のポリマーが特に有利である
。これらは、欧州特許(113P−A)第152819
号明細書に記載されている。
無水マレイン酸、無水フタル酸、無水コハク酸及び無水
3−オ午ソグルタール酸との反応の生成物が有利である
。
3−オ午ソグルタール酸との反応の生成物が有利である
。
ヒドロキク基を有する好適な合成ポリマーは、 ′殊
に、ビニルアルコール単位含有ポリマーであるが、エボ
命シ樹脂及び加水分解されたエボ會シ樹脂、アリルアル
コール又は高不飽和アルコールのコポリマー、ポリヒド
ロ中りアル午ルアクリレート及びメタクリレート及び同
様なポリマーでもある。
に、ビニルアルコール単位含有ポリマーであるが、エボ
命シ樹脂及び加水分解されたエボ會シ樹脂、アリルアル
コール又は高不飽和アルコールのコポリマー、ポリヒド
ロ中りアル午ルアクリレート及びメタクリレート及び同
様なポリマーでもある。
感光層を安定化するために、この層に*特性を有する化
合物t−i加するのが有利である。無機酸及び強有機酸
が有利であり、そのうち、燐酸、硫酸、過塩素酸、ホウ
酸及びp−’pルエンスルホン酸が有利である。特に好
適な酸は燐酸である。
合物t−i加するのが有利である。無機酸及び強有機酸
が有利であり、そのうち、燐酸、硫酸、過塩素酸、ホウ
酸及びp−’pルエンスルホン酸が有利である。特に好
適な酸は燐酸である。
この感光性混合物は、更にコントラスト剤として作用す
ることのできる染料及び/又は顔料を含有していてよい
。好適な染料は、例えば米国特許(as−A)m321
8167号、同第3884693号明細書中に記載され
七いる。
ることのできる染料及び/又は顔料を含有していてよい
。好適な染料は、例えば米国特許(as−A)m321
8167号、同第3884693号明細書中に記載され
七いる。
例えばビクトリア・ビエアφデル−FGA 、レノール
・ブルー82G−H(C,1,74160)、クリスタ
ル・バイオレット又はローダミン6GDN(C,1,4
5160)。露光後の1儂コントラストを坤l加する九
めに、メタニル・イエロー(C,1,13065)、メ
チル・オレンジ(C,1,15025’)又はフェニル
アゾジフェニルアミンを便用することができる。
・ブルー82G−H(C,1,74160)、クリスタ
ル・バイオレット又はローダミン6GDN(C,1,4
5160)。露光後の1儂コントラストを坤l加する九
めに、メタニル・イエロー(C,1,13065)、メ
チル・オレンジ(C,1,15025’)又はフェニル
アゾジフェニルアミンを便用することができる。
感光層の厚さは、一般に、0.2〜5μ風特に0.5〜
3μ属である。
3μ属である。
は、非極性溶媒例えば、感光層がコーティング条件下に
実質的にその中に不溶である非極性溶剤例えば脂肪族又
は芳香族炭化水素中の溶液から適用される。好適なシリ
コンカウチュクは欧州特許(BP−A)@226201
号明細書中に記載されている。
実質的にその中に不溶である非極性溶剤例えば脂肪族又
は芳香族炭化水素中の溶液から適用される。好適なシリ
コンカウチュクは欧州特許(BP−A)@226201
号明細書中に記載されている。
原則的に、充分にイン午反発性である任意のクリコンカ
ウチュクがイン中溶液なしてのオフセット印刷を可能に
するために好適である。本発明において、「クリーンカ
ウチェク (8111aOn oaoutohoucs )は、ノ
ル(N011 )によるヘミーΦウント・テヒノロジイ
・デル・シリコン(Chamia un4 T@ahn
olOgy a@F8111jcons 、 Ch@
m1stry an4 Teahnology oft
hs 8111aoHes 、 V@rlag Ch@
凪e1968)用語「クリコンビムJ (8111oO
n rubber )は、架橋又は硬化された製品に対
して用いる。各々の場合に、シリコンカウチェク溶液を
感光層に適用し、乾燥させ、次いで架橋させる。
ウチュクがイン中溶液なしてのオフセット印刷を可能に
するために好適である。本発明において、「クリーンカ
ウチェク (8111aOn oaoutohoucs )は、ノ
ル(N011 )によるヘミーΦウント・テヒノロジイ
・デル・シリコン(Chamia un4 T@ahn
olOgy a@F8111jcons 、 Ch@
m1stry an4 Teahnology oft
hs 8111aoHes 、 V@rlag Ch@
凪e1968)用語「クリコンビムJ (8111oO
n rubber )は、架橋又は硬化された製品に対
して用いる。各々の場合に、シリコンカウチェク溶液を
感光層に適用し、乾燥させ、次いで架橋させる。
好適なシリコンカウチュクは、例えば西ドイツ特許(D
m−A)第2350211号、同jJ2357871号
及び同f!2359102号明細書に記載のような単一
成分及び多成分型である。
m−A)第2350211号、同jJ2357871号
及び同f!2359102号明細書に記載のような単一
成分及び多成分型である。
単一成分シリコンカウチ3−りは、例えば末端アセチル
、オキシム、アルコキシ又はアミノ基又は水素原子を有
するポリシロ午サンを基体とする。更に、このポリシロ
午サンは、主として1個のジメチルポリクロキサン鎖よ
シなる。少数のメチル基は、他のアルキル基、ノ10ア
ル中ル基又は置換又は非置換のアリール基により代えら
れていてもよい。これらの末端官能基は、容易に加水分
解され、数分から数時間にわたる時間内に水分の作用下
に硬化する。
、オキシム、アルコキシ又はアミノ基又は水素原子を有
するポリシロ午サンを基体とする。更に、このポリシロ
午サンは、主として1個のジメチルポリクロキサン鎖よ
シなる。少数のメチル基は、他のアルキル基、ノ10ア
ル中ル基又は置換又は非置換のアリール基により代えら
れていてもよい。これらの末端官能基は、容易に加水分
解され、数分から数時間にわたる時間内に水分の作用下
に硬化する。
多成分シリコンカウチュクは、付加又は縮合により架橋
することができる。この付加架橋可能な型は、一般に、
置換分としてのアルケニル基金有するポリシロ中サン及
び7リコン結合水素原子を有するものを含有する。これ
らは、50℃より高い温度で、白金触媒の存在で架橋さ
れる。これらは、高められ九温度例えば100℃付近の
温度で迅速に架橋する利点を有する。他方、この系の処
理時間(ポット時間)は相対的に短かくてよい。
することができる。この付加架橋可能な型は、一般に、
置換分としてのアルケニル基金有するポリシロ中サン及
び7リコン結合水素原子を有するものを含有する。これ
らは、50℃より高い温度で、白金触媒の存在で架橋さ
れる。これらは、高められ九温度例えば100℃付近の
温度で迅速に架橋する利点を有する。他方、この系の処
理時間(ポット時間)は相対的に短かくてよい。
縮合−架橋可能な混合物は、反応性末端基例えばOH及
びアセト中シ基を有するジオルガノポリクロキサンを含
有する。これらは、触媒の存在で、反応性7ラン又はオ
リザク口中サンと架橋される。これら組成物は、比較的
迅速に反応し、従って、限られ九ポット時間を有する。
びアセト中シ基を有するジオルガノポリクロキサンを含
有する。これらは、触媒の存在で、反応性7ラン又はオ
リザク口中サンと架橋される。これら組成物は、比較的
迅速に反応し、従って、限られ九ポット時間を有する。
例えば西ドイツ特許(DE−A)
第2654893号明細書に記載のような付加−架橋可
能な多成分シリコンカウチュクが特に有利に使用される
。
能な多成分シリコンカウチュクが特に有利に使用される
。
これらの有利なシリコンカウチュクは、a)末端S1−
ビニル基金有するジオルがノボリクロキサンb)少なく
とも3個の7リコン結合水素原子を有するオルガノボリ
フ四キサンC)ビニルクロ午サンの白金錯体及びd)シ
リコン結合水素原子と脂肪族多結合との室温での反応を
遅延させる薬剤より成る付加−架橋可能な多成分クリコ
ンカウチュクである。
ビニル基金有するジオルがノボリクロキサンb)少なく
とも3個の7リコン結合水素原子を有するオルガノボリ
フ四キサンC)ビニルクロ午サンの白金錯体及びd)シ
リコン結合水素原子と脂肪族多結合との室温での反応を
遅延させる薬剤より成る付加−架橋可能な多成分クリコ
ンカウチュクである。
層として通用の後に、このシリコンカウチュクは水分の
作用による公知方法で又は自発的に室温又は高められた
温度で架橋されて、実質的に有機溶剤中に不溶の7リコ
ンプムを形・成する。
作用による公知方法で又は自発的に室温又は高められた
温度で架橋されて、実質的に有機溶剤中に不溶の7リコ
ンプムを形・成する。
完成されたシリコンプム層バ一般に1〜20μ有利に2
〜10μ属の厚さを有する。前記のように、コーティン
グは、一般に非極性溶剤例えば、下にある感光層が著る
しく可溶又は不溶であるパラフィン炭化水素から行なう
。
〜10μ属の厚さを有する。前記のように、コーティン
グは、一般に非極性溶剤例えば、下にある感光層が著る
しく可溶又は不溶であるパラフィン炭化水素から行なう
。
前記のジアゾニウム塩縮合生成物及び前記エチレン性不
飽和重合可能な化合物と有利な特に抵抗性でインキ反発
性の多成分シリコンカウチュクのカバー層と組合せ次層
は、有機溶剤相互いて、過当な場合には水tfA加して
も、容易かつ鮮明に現像することができる。
飽和重合可能な化合物と有利な特に抵抗性でインキ反発
性の多成分シリコンカウチュクのカバー層と組合せ次層
は、有機溶剤相互いて、過当な場合には水tfA加して
も、容易かつ鮮明に現像することができる。
ジアゾニウム塩il縮合生底物及び重合可能な化合物と
光反応開始剤との光1合可能な混合物の感光層を有する
本発明による印刷版は、光重合可能な系の1個のみよシ
なる層を有する印刷版よりも高い感光性を有する。結果
として達成される高い実質的感光性の理由は詳細には未
知であるが、クリコ/♂ム層への露光された感光層の付
着性は、これにとって極めて重要であることは推測され
る。従って、この型の印刷版の実際における感光性は、
相応する感光層のみを有し、クリコツ層を有しない版の
感光性と相互に関連しないらしい。
光反応開始剤との光1合可能な混合物の感光層を有する
本発明による印刷版は、光重合可能な系の1個のみよシ
なる層を有する印刷版よりも高い感光性を有する。結果
として達成される高い実質的感光性の理由は詳細には未
知であるが、クリコ/♂ム層への露光された感光層の付
着性は、これにとって極めて重要であることは推測され
る。従って、この型の印刷版の実際における感光性は、
相応する感光層のみを有し、クリコツ層を有しない版の
感光性と相互に関連しないらしい。
本発明による印刷版の非水性オフセット印刷のためのも
う1つの利点は、純粋な重合可能な層1?[する全知印
刷版に比べて、付加的カバー層の形の酸素バリア又はカ
バーフィルムが必要ではない事実にある。
う1つの利点は、純粋な重合可能な層1?[する全知印
刷版に比べて、付加的カバー層の形の酸素バリア又はカ
バーフィルムが必要ではない事実にある。
使用される基板は通例、金属である。次のものがオフセ
ット印刷版のために使用できる:輝ロー2かけされ、機
械的又は電気的に粗面化され、場合にエフ陽極処理され
九アルミニウム(これは付加的に、例えばポリビニルホ
スホン酸、クリケート、ホスフェート、へ午すフルオロ
ゾルコネート又は加水分解されたテトラエチルオルトシ
リケートを用いる化学的方法で約処理されていてもよい
)。更に好適な金属は、鋼及びクロムである。慣用の平
版印刷版とは対照的に、基板面は親水性である必要はな
く、帆ツクフィルム例えばポリエステル、ポリカーボネ
ート、ポリイミド又は択一的なアセチルセルロースフィ
ルム(この表面は場合によシ、印刷インキによる湿潤性
を増すために約処理されていてよい)を使用することが
できる。♂ム弾性基板材料も好適であり、この型の基板
上用いて、直接的平版印刷も可能である。
ット印刷版のために使用できる:輝ロー2かけされ、機
械的又は電気的に粗面化され、場合にエフ陽極処理され
九アルミニウム(これは付加的に、例えばポリビニルホ
スホン酸、クリケート、ホスフェート、へ午すフルオロ
ゾルコネート又は加水分解されたテトラエチルオルトシ
リケートを用いる化学的方法で約処理されていてもよい
)。更に好適な金属は、鋼及びクロムである。慣用の平
版印刷版とは対照的に、基板面は親水性である必要はな
く、帆ツクフィルム例えばポリエステル、ポリカーボネ
ート、ポリイミド又は択一的なアセチルセルロースフィ
ルム(この表面は場合によシ、印刷インキによる湿潤性
を増すために約処理されていてよい)を使用することが
できる。♂ム弾性基板材料も好適であり、この型の基板
上用いて、直接的平版印刷も可能である。
本発明による材料から製造される印刷版中の基板材料は
、他の慣用の印刷版とは対照的に、イン中担持材料とし
ての機能を有する。露光及び現儂浸に残っているクリコ
ン♂ム層は、画像背景としての機能ヲ有し、乾燥状態で
インキ反発作用を有する。印刷の九めに、非水性オフセ
ット印刷の九め及び逆オフセツト印刷の九めに現像され
、市場で入手できるので、慣用の油基剤印刷インキも特
に親水性印刷イン中も便用することができる。最も慣用
の基板面、例えば粗面化され九か又は陽極酸化されたア
ルミニウムは高親水性であるので、親水性印刷インキが
有利に便用される。
、他の慣用の印刷版とは対照的に、イン中担持材料とし
ての機能を有する。露光及び現儂浸に残っているクリコ
ン♂ム層は、画像背景としての機能ヲ有し、乾燥状態で
インキ反発作用を有する。印刷の九めに、非水性オフセ
ット印刷の九め及び逆オフセツト印刷の九めに現像され
、市場で入手できるので、慣用の油基剤印刷インキも特
に親水性印刷イン中も便用することができる。最も慣用
の基板面、例えば粗面化され九か又は陽極酸化されたア
ルミニウムは高親水性であるので、親水性印刷インキが
有利に便用される。
露光され九印刷版會現像する九めに、有機溶剤相互の又
はそれと水との混合物t−便用するのが有利である。殊
に、シリコンデム層’is潤させることかできる成分及
び選択的に非露光層會溶かす成分が選択される。好適な
現像剤の例は、パラフィン系炭化水素と極性溶剤例えば
エステル、ケトン又はアルコールとの組合せである。
はそれと水との混合物t−便用するのが有利である。殊
に、シリコンデム層’is潤させることかできる成分及
び選択的に非露光層會溶かす成分が選択される。好適な
現像剤の例は、パラフィン系炭化水素と極性溶剤例えば
エステル、ケトン又はアルコールとの組合せである。
水と混ざりうる溶剤例えば低級アルコール又はケトン及
び水の組脅せも好適である。
び水の組脅せも好適である。
次に、本発明の有利な実施例を示す。特にことわりのな
いかぎり、量及びパーセントは重量に関する。作業例の
1に、使用上ツマ−及び便用シリコンカウチュク溶液會
記載する、その量は一般に11部で示す。
いかぎり、量及びパーセントは重量に関する。作業例の
1に、使用上ツマ−及び便用シリコンカウチュク溶液會
記載する、その量は一般に11部で示す。
使用モノマー
1、 N−メチルジェタノールアミンジメタクリレー
ト 2、トリエタノールアミントリメタクリレート6、トリ
エタノールアミン1モルとグリシゾルメタクリレート3
モルとの反応生成物 4、)IJエタノールアミン1そルトトルイレンゾイノ
シアネート3モル更にグリセロール1.3−ジメタクリ
レート3モルを反応させた反応生成物 5、ジエチレングリコールモノメタクリレート& グリ
セロール1.3−ジメタクリレート2 ヒドロキクエチ
ルメタクリレート 8、PI)セロールモノメタクリレート9 トリメチロ
ールプロパントリメタクリレート 便用シリコンカウチュク#液 末端ビニルジメチルシロ中サン単位を有し、25℃での
粘度70 (1’ Ompa・−を有するゾメチルボリ
シロ午すン10重量部を2−メチル−3−ブチン−2−
オール0.02571.ii部、下記のびニルシロ中サ
ンの白金錯体と稀釈剤との混合物0.03重量部、トリ
メチルシロキサン4モル僑、メチルヒドロダンシす午サ
ン72モル係及びツメチルシロ中サン単位(25℃での
粘度50 mpa−s t−有し、Sl−結合水素1.
36 % t−含有)24モル俤の;ポリマー0.09
11量部及び大気圧での沸点範囲116〜136℃を有
するイソパラフィン混合物(l5opar W ) 8
8.9次のようにして白金一体を製造した:炭酸水票ナ
トリウム2OTh量部t” H2Pt Cj 6 X
6H@010i1量部、1,6−ジビニル−1,1,5
゜6−チトラメチルゾ70キサン20重量部及びエタノ
ール501i量部の混合物に飽加した。この混合物を攪
拌しながら60分間達流させ、次いで15!li’j+
間放置し、次いで濾過する。濾液から揮発性成分に16
mパールで蒸溜することにより除去した。得られる残分
は液体17重jk部よりなり、これ金ベンゼン中に溶か
し、浴液を濾過し、濾液から蒸榴にニジベンゼンを除寓
した。残分を、稀釈剤としての末端ビニルジメチルシロ
中サン単位を有し、23℃で1 * 4 Pl 11
gの粘度を有するジメチルポリシロキサンと、混合物が
元素として計算して白金111t*t−含有するような
量で混合した。
ト 2、トリエタノールアミントリメタクリレート6、トリ
エタノールアミン1モルとグリシゾルメタクリレート3
モルとの反応生成物 4、)IJエタノールアミン1そルトトルイレンゾイノ
シアネート3モル更にグリセロール1.3−ジメタクリ
レート3モルを反応させた反応生成物 5、ジエチレングリコールモノメタクリレート& グリ
セロール1.3−ジメタクリレート2 ヒドロキクエチ
ルメタクリレート 8、PI)セロールモノメタクリレート9 トリメチロ
ールプロパントリメタクリレート 便用シリコンカウチュク#液 末端ビニルジメチルシロ中サン単位を有し、25℃での
粘度70 (1’ Ompa・−を有するゾメチルボリ
シロ午すン10重量部を2−メチル−3−ブチン−2−
オール0.02571.ii部、下記のびニルシロ中サ
ンの白金錯体と稀釈剤との混合物0.03重量部、トリ
メチルシロキサン4モル僑、メチルヒドロダンシす午サ
ン72モル係及びツメチルシロ中サン単位(25℃での
粘度50 mpa−s t−有し、Sl−結合水素1.
36 % t−含有)24モル俤の;ポリマー0.09
11量部及び大気圧での沸点範囲116〜136℃を有
するイソパラフィン混合物(l5opar W ) 8
8.9次のようにして白金一体を製造した:炭酸水票ナ
トリウム2OTh量部t” H2Pt Cj 6 X
6H@010i1量部、1,6−ジビニル−1,1,5
゜6−チトラメチルゾ70キサン20重量部及びエタノ
ール501i量部の混合物に飽加した。この混合物を攪
拌しながら60分間達流させ、次いで15!li’j+
間放置し、次いで濾過する。濾液から揮発性成分に16
mパールで蒸溜することにより除去した。得られる残分
は液体17重jk部よりなり、これ金ベンゼン中に溶か
し、浴液を濾過し、濾液から蒸榴にニジベンゼンを除寓
した。残分を、稀釈剤としての末端ビニルジメチルシロ
中サン単位を有し、23℃で1 * 4 Pl 11
gの粘度を有するジメチルポリシロキサンと、混合物が
元素として計算して白金111t*t−含有するような
量で混合した。
例1(比較例)
2−メト中7エタノール 9(5,012
重量部中の 3−メトキクジフェニルアミン4− ジアゾニウム塩1モルと4.4’− ビス−メトキクメチルジフェニル エーテル1モルとのシア11ニウム 基線合生成物(メンチレンスルホ ネートとして単離’) 2.54重
量部分子量70000〜80000を 有し、ビニルデチラール71慢、 酢酸ビニル2憾及びビニルアルコ ール単位271t−含有するポリビニルブチラール50
重量部と無水マレイ ンlI24重量部との反応生成物 1.56重
量部H3P04(85部製度”) 0.0
6911に部及び フェニルアゾジフェニルアミン 0.01911
1を部の溶液t−m気分解により粗面化され、陽極酸化
されたアルミニウム板に施与し、100℃で2分間乾燥
させ友。層重量は1g/肩1であった。
重量部中の 3−メトキクジフェニルアミン4− ジアゾニウム塩1モルと4.4’− ビス−メトキクメチルジフェニル エーテル1モルとのシア11ニウム 基線合生成物(メンチレンスルホ ネートとして単離’) 2.54重
量部分子量70000〜80000を 有し、ビニルデチラール71慢、 酢酸ビニル2憾及びビニルアルコ ール単位271t−含有するポリビニルブチラール50
重量部と無水マレイ ンlI24重量部との反応生成物 1.56重
量部H3P04(85部製度”) 0.0
6911に部及び フェニルアゾジフェニルアミン 0.01911
1を部の溶液t−m気分解により粗面化され、陽極酸化
されたアルミニウム板に施与し、100℃で2分間乾燥
させ友。層重量は1g/肩1であった。
助記シリコンカウチェク溶液のカバーNIt−この板に
施こし、110℃で3分間乾燥することによシ架橋させ
た。このシリコン♂ム層は層重量2.7〜2.8 g/
−七有し九。
施こし、110℃で3分間乾燥することによシ架橋させ
た。このシリコン♂ム層は層重量2.7〜2.8 g/
−七有し九。
例2(比較例)
ジアゾニクム基線合生成物七同等量のモノマー8に代え
た。付加的に、2−(4−エトキシナフチ−1−イル)
−4,6−に’ストリクロロメチルーa−)リアシン0
.21重量部を添加し九〇それ以外の操作は例1と同様
であった。
た。付加的に、2−(4−エトキシナフチ−1−イル)
−4,6−に’ストリクロロメチルーa−)リアシン0
.21重量部を添加し九〇それ以外の操作は例1と同様
であった。
例6(比較例)
モノY−8t−モノマー6に代えて、操作は例2におけ
ると同様であつ九。
ると同様であつ九。
例4〜11
例1におけると同機にしてコーティング溶液全製造した
が、この場合に、ジアゾニウム塩縮合生成物全量の0.
78il量部を、表中に記載の七ツマー同量に代え、例
2に記載のトリアジン化合物0.07重量部を添加した
。
が、この場合に、ジアゾニウム塩縮合生成物全量の0.
78il量部を、表中に記載の七ツマー同量に代え、例
2に記載のトリアジン化合物0.07重量部を添加した
。
その他の操作は、例1と同様であった。
こうして製造された版t1マスクの下で、金属ハロゲン
化物灯(5KW ) ′t−用いて30秒、50秒、7
0秒及び90秒間露光した。便用マスクは1段の濃度0
.15で開始し、各々0.15の濃度段階の12段を有
するハーフトーン段階くさびであった。
化物灯(5KW ) ′t−用いて30秒、50秒、7
0秒及び90秒間露光した。便用マスクは1段の濃度0
.15で開始し、各々0.15の濃度段階の12段を有
するハーフトーン段階くさびであった。
露光された版を発振フェル) (0scillatio
nf・1t:ストローク4.8m、発揚振動数5000
/win 、圧力150ON/FM”)t−用いて、現
儂剤溶液中で6分間処理した。この現儂剤溶液は次の組
成を有した: 沸点範囲176〜178°(1−有するイソパラフィン
の混合物 401℃量部トリプロピレング
リコール 27重量部及び ジエチレングリコールジメチル エーテル 301it部こ
の版を水で洗浄し、印刷インキでインキ付けし友。結果
を次表に示す。これは、現儂の間に作用されなかった段
の数を示している。
nf・1t:ストローク4.8m、発揚振動数5000
/win 、圧力150ON/FM”)t−用いて、現
儂剤溶液中で6分間処理した。この現儂剤溶液は次の組
成を有した: 沸点範囲176〜178°(1−有するイソパラフィン
の混合物 401℃量部トリプロピレング
リコール 27重量部及び ジエチレングリコールジメチル エーテル 301it部こ
の版を水で洗浄し、印刷インキでインキ付けし友。結果
を次表に示す。これは、現儂の間に作用されなかった段
の数を示している。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、基板、ジアゾニウム塩重縮合生成物を含有する感光
層及び上張りの印刷インキ反発性シリコンゴム層よりな
る非水性オフセット印刷用感光性印刷版において、感光
層は、更に少なくとも1個の末端のエチレン性不飽和基
及び100℃より高い大気圧での沸点を有する、遊離ラ
ジカルにより重合されうる化合物及び化学線照射の作用
下に遊離ラジカルを形成する重合開始剤を含有すること
を特徴とする、非水性オフセット印刷用の感光性印刷版
。 2、ジアゾニウム塩重縮合生成物は、架橋員を介して相
互に結合していて、縮合しうるカルボニル化合物から誘
導されるA−N_2X及びBの繰り返し単位(ここで、
Aはホルムアルデヒドと縮合しうる芳香族ジアゾニウム
化合物の残基であり、Bはホルムアルデヒドと縮合しう
るジアゾニウム基不含化合物の残基である)より成る、
請求項1記載の感光性印刷版。 3、A−N_2X単位は、式: (R^1−R^3−)_pR^2−N_2X〔式中Xは
ジアゾニウム化合物のアニオンを表わし、pは、1〜3
の整数でありR^1は活性カルボニル化合物と縮合可能
な少なくとも1個の位置を有する芳香族基を表わし、R
^2はフェニレン基を表わし、R^3は、単結合を表わ
すか又は基:−(CH_2)_q−NR^4−、−O−
(CH_2)_r−NR^4−、−S−(CH_2)r
_−NR^4−、−S−CH_2CO−NR^4−、−
O−B^b−O−、−O−、−S−又は−CO−NR^
4−の1個を表わし、ここでqは0〜5の数値であり、
rは2〜5の数値であり、R^4は水素、炭素原子数1
〜5を有するアルキル基、炭素原子数7〜12を有する
アルアルキル基又は炭素原子数6〜12を有するアリー
ル基を表わし、R^6は炭素原子数6〜12を有するア
リーレン基を表わす〕の化合物から誘導される、請求項
2記載の感光性印刷版。 4、重合可能な化合物は多価アルコールのアクリレート
又はメタクリレートである、請求項1記載の感光性印刷
版。 5、重合可能な化合物は、少なくとも1個の遊離OH基
又は少なくとも1個のアミノ基を有する、請求項5記載
の感光性印刷版。 6、感光層は、更に1種のポリマー性結合剤を含有する
、請求項1記載の感光性印刷版。 7、結合剤は、有機ポリカルボン酸の分子内無水物とヒ
ドロキシル基を有するが酸無水物と反応しうる官能基を
有しない合成ポリマーとの反応の生成物である、請求項
6記載の感光性印刷版。 8、感光層はジアゾニウム塩重縮合生成物10〜90重
量%及び重合可能な化合物5〜60重量%を含有する、
請求項1記載の感光性印刷版。 9、シリコンゴム層は交叉結合した付加型多成分カウチ
ュクよりなる、請求項1記載の感光性印刷版。 10、感光層は、0.2〜5μmの厚さを有し、シリコ
ンゴム層は1〜20μmの厚さを 有する、請求項1記載の感光性印刷版。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3738863.0 | 1987-11-16 | ||
DE19873738863 DE3738863A1 (de) | 1987-11-16 | 1987-11-16 | Lichtempfindliche druckplatte fuer den wasserlosen offsetdruck |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01155352A true JPH01155352A (ja) | 1989-06-19 |
JP2746617B2 JP2746617B2 (ja) | 1998-05-06 |
Family
ID=6340593
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63287885A Expired - Lifetime JP2746617B2 (ja) | 1987-11-16 | 1988-11-16 | 水なしオフセット印刷用感光性印刷版 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4956262A (ja) |
EP (1) | EP0316705B1 (ja) |
JP (1) | JP2746617B2 (ja) |
DE (2) | DE3738863A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02235064A (ja) * | 1989-03-09 | 1990-09-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
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US5225309A (en) * | 1990-02-08 | 1993-07-06 | Konica Corporation | Light-sensitive litho printing plate with cured diazo primer layer, diazo resin/salt light-sensitive layer containing a coupler and silicone rubber overlayer |
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DE19515804A1 (de) * | 1995-05-04 | 1996-11-07 | Hoechst Ag | Mit Wasser entschichtbares Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von Wasserlos-Offsetdruckplatten |
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JPS5426923B2 (ja) * | 1972-03-21 | 1979-09-06 | ||
NL8001085A (nl) * | 1979-02-27 | 1980-08-29 | Minnesota Mining & Mfg | Fotogevoelige materialen en voorwerpen. |
JPS5953836A (ja) * | 1982-09-21 | 1984-03-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
-
1987
- 1987-11-16 DE DE19873738863 patent/DE3738863A1/de not_active Withdrawn
-
1988
- 1988-11-08 EP EP88118536A patent/EP0316705B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-11-08 DE DE88118536T patent/DE3888790D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1988-11-14 US US07/270,343 patent/US4956262A/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-11-16 JP JP63287885A patent/JP2746617B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Publication date |
---|---|
EP0316705A2 (de) | 1989-05-24 |
DE3888790D1 (de) | 1994-05-05 |
EP0316705B1 (de) | 1994-03-30 |
DE3738863A1 (de) | 1989-05-24 |
EP0316705A3 (en) | 1990-08-01 |
US4956262A (en) | 1990-09-11 |
JP2746617B2 (ja) | 1998-05-06 |
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