JPH02282257A - 湿し水不要感光性平版印刷版 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0752—Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は湿し水不要感光性平版印刷版に関するものであ
り、更に詳しくは、基板上に少なくども感光層、シリコ
ーンゴム層をこの順に塗設して成る湿し水不要感光性平
版印刷版に関する。
り、更に詳しくは、基板上に少なくども感光層、シリコ
ーンゴム層をこの順に塗設して成る湿し水不要感光性平
版印刷版に関する。
[従来の技術]
従来、平版印刷においては、画線部の親油性と非画線部
の親水性を利用し、水とインキの微妙なバランスにより
印刷を行なう必要があり、かなりの熟練度が必要とされ
る。
の親水性を利用し、水とインキの微妙なバランスにより
印刷を行なう必要があり、かなりの熟練度が必要とされ
る。
すなわち従来の湿し水を必要とする印刷方式では親水性
の支持体上に親油性の感光層が塗設された版材に画像フ
ィルムを通して露光した後説像する事により画像状の親
油部分と非画線部である親水部分を設りて印刷版とする
。印刷にあたってはまず非画線部に水を転移させ次にイ
ンキを転移させる。インキは水が存在する非画線部には
付着せず、画線部のみに付着する。しかしこの方式は、
湿1ノ水とインキの微妙なバランスのコントロールが難
しくインキの乳化をひぎおこしたり、湿し水にインキが
まざったりしてインキ濃度不良や地汚れをひきおこし損
紙の大きな原因となるなど大きな問題点を有していた。
の支持体上に親油性の感光層が塗設された版材に画像フ
ィルムを通して露光した後説像する事により画像状の親
油部分と非画線部である親水部分を設りて印刷版とする
。印刷にあたってはまず非画線部に水を転移させ次にイ
ンキを転移させる。インキは水が存在する非画線部には
付着せず、画線部のみに付着する。しかしこの方式は、
湿1ノ水とインキの微妙なバランスのコントロールが難
しくインキの乳化をひぎおこしたり、湿し水にインキが
まざったりしてインキ濃度不良や地汚れをひきおこし損
紙の大きな原因となるなど大きな問題点を有していた。
更に湿し水の被印刷物への転移は、被印刷物の寸法変化
の原因となり特に多色刷り時には画像の鮮明さが損なわ
れるという欠点もあった。
の原因となり特に多色刷り時には画像の鮮明さが損なわ
れるという欠点もあった。
このため湿し水を必要としない平版印刷版(以下「水な
Q平版」と称ず)の開発が試みられており、例えば、特
公昭44−23042号及び同46−16044号には
、支持体上の感光層の上にシリコーンゴム層を設(プた
構造の水なし平版が開示され、更に感光層が現像液で溶
解覆ることにより上部のシリコンゴム層が除去されて画
線部を形成する製版方法が記載されている。また、特公
昭54−26923号及び同56−23150号には、
支持体上の感光層の上にシリコーンゴム層を設けた構造
という点では上記と同様であるが、感光層が現像液に溶
解せず、画像露光により感光層とシリコーンゴム層が光
接着あるいは光剥離をa3こし、シリコーンゴム層のみ
を選択的に膨我除去する方法が開示されている。
Q平版」と称ず)の開発が試みられており、例えば、特
公昭44−23042号及び同46−16044号には
、支持体上の感光層の上にシリコーンゴム層を設(プた
構造の水なし平版が開示され、更に感光層が現像液で溶
解覆ることにより上部のシリコンゴム層が除去されて画
線部を形成する製版方法が記載されている。また、特公
昭54−26923号及び同56−23150号には、
支持体上の感光層の上にシリコーンゴム層を設けた構造
という点では上記と同様であるが、感光層が現像液に溶
解せず、画像露光により感光層とシリコーンゴム層が光
接着あるいは光剥離をa3こし、シリコーンゴム層のみ
を選択的に膨我除去する方法が開示されている。
更に特公昭61−54219号、特開昭60−2290
31号及び同62−194255号には支持体上のプラ
イマー層の上に感光層、シリコーン層を設(プた構造の
水なし平版が開示されている。
31号及び同62−194255号には支持体上のプラ
イマー層の上に感光層、シリコーン層を設(プた構造の
水なし平版が開示されている。
[発明が解決しようとする問題点]
上記特公昭44−23042号及び同4.6−1604
4号に[IH示された方法は、画線部が比較的深い凹部
ど4fらざるを得ず、インキを十分着肉さける為には厚
盛りにしな【プればならないという問題があり、更に感
光層とシリコーンゴム層又は支持体との接着性も不十分
であった。また、特公昭54−26923号及び同56
−23150@に記載の方法は、上記のインキ盛りの欠
点は回避できるが、シリコーンゴム層と感光層の微妙な
接着性を利用しているため、シリコーン層の設削が勤し
く引っかき強度や画像再現性に難点があった。
4号に[IH示された方法は、画線部が比較的深い凹部
ど4fらざるを得ず、インキを十分着肉さける為には厚
盛りにしな【プればならないという問題があり、更に感
光層とシリコーンゴム層又は支持体との接着性も不十分
であった。また、特公昭54−26923号及び同56
−23150@に記載の方法は、上記のインキ盛りの欠
点は回避できるが、シリコーンゴム層と感光層の微妙な
接着性を利用しているため、シリコーン層の設削が勤し
く引っかき強度や画像再現性に難点があった。
更に特開昭60−229031号開示の方法では上記の
欠点は改良されるものの感光層とシリコーンゴム層又は
支持体との接着、またプライマー層を右づ−る場合には
感光層とプライマー層どの接着が不充分であるという欠
点を有しており、また特公昭61−54219号及び特
開昭62−194255号記載の方法はプライマー層が
熱架橋性であり、支持体上に塗布した後加熱硬化するも
のであるため生産効率が劣り、経済的にも不利であると
いう欠点を有していた。
欠点は改良されるものの感光層とシリコーンゴム層又は
支持体との接着、またプライマー層を右づ−る場合には
感光層とプライマー層どの接着が不充分であるという欠
点を有しており、また特公昭61−54219号及び特
開昭62−194255号記載の方法はプライマー層が
熱架橋性であり、支持体上に塗布した後加熱硬化するも
のであるため生産効率が劣り、経済的にも不利であると
いう欠点を有していた。
従って本発明の目的は、上記諸欠点を除いた新規な湿し
水不要感光性平版印刷版を提供することにあり、特に、
感光層とシリコーンゴム層との接着性及び感光層と支持
体ないしはプライマー層との接着性に優れた湿し水不要
感光性平版印刷版を提供することにある。
水不要感光性平版印刷版を提供することにあり、特に、
感光層とシリコーンゴム層との接着性及び感光層と支持
体ないしはプライマー層との接着性に優れた湿し水不要
感光性平版印刷版を提供することにある。
し問題点を解決するための手段]
本発明者等は上記問題点に鑑みて、鋭意研究の結果、本
発明の上記目的は、基板上に該基板側から少なくとも感
光層及びシリコーンゴム層をこの順に有し、かつ該感光
層が少なくとも (1)ジアゾ樹脂及び (2)水酸基
を有する(メタ)アクリル酸のエステル又はアミド含有
ポリマー、を含有ザることを特徴とする湿し水不要感光
性平版印刷版、又は、基板上に該基板側から少なくとも
プライマ層、感光層及びシリコーンゴム層をこの順に右
し、かつ該感光層が少なくとも (月ジアゾ樹脂及び
(2)水酸基を有する(メタ)アクリル酸のエステル又
はアミド含有ポリマー、を含有することを特徴とする湿
し水不要感光性平版印刷版を提供することにより達成さ
れることを見出した。
発明の上記目的は、基板上に該基板側から少なくとも感
光層及びシリコーンゴム層をこの順に有し、かつ該感光
層が少なくとも (1)ジアゾ樹脂及び (2)水酸基
を有する(メタ)アクリル酸のエステル又はアミド含有
ポリマー、を含有ザることを特徴とする湿し水不要感光
性平版印刷版、又は、基板上に該基板側から少なくとも
プライマ層、感光層及びシリコーンゴム層をこの順に右
し、かつ該感光層が少なくとも (月ジアゾ樹脂及び
(2)水酸基を有する(メタ)アクリル酸のエステル又
はアミド含有ポリマー、を含有することを特徴とする湿
し水不要感光性平版印刷版を提供することにより達成さ
れることを見出した。
以下に本発明を更に詳細に説明する。
本発明に使用される感光層はジアゾ杵脂及び水酸基含有
(メタ)アクリル酸のエステル又はアミド含有ポリマー
(以下、水酸基含有ポリマーど略す)を必須成分として
含むものである。
(メタ)アクリル酸のエステル又はアミド含有ポリマー
(以下、水酸基含有ポリマーど略す)を必須成分として
含むものである。
上記ジアゾ樹脂としては、例えば、フA]−グラフィッ
ク・ザイエンス・アンド・エンジニアリング(Phot
o、 3ciEng、)第17巻、第33頁(1973
) 、米国特許第2,063,631号、同第2,67
9498号、同第3.050.502号各明細書、特開
昭59−78340号公報等にその製造方法が記載され
ているジアゾ化合物と活性カルボニル化合物(例えばホ
ルムアルデヒド、アセl−アルデヒドあるい(jベンズ
アルデヒド等)とを、硫酸、リン酸、塩酸等の酸性媒体
中で縮合させて得られたジアゾ樹脂、特公昭49−40
01号公報にその製造方法が記載されているジアゾ化合
物とジフェニルエーテル誘導体とを縮合反応させて(q
られるジアゾ樹脂等を使用することができる。
ク・ザイエンス・アンド・エンジニアリング(Phot
o、 3ciEng、)第17巻、第33頁(1973
) 、米国特許第2,063,631号、同第2,67
9498号、同第3.050.502号各明細書、特開
昭59−78340号公報等にその製造方法が記載され
ているジアゾ化合物と活性カルボニル化合物(例えばホ
ルムアルデヒド、アセl−アルデヒドあるい(jベンズ
アルデヒド等)とを、硫酸、リン酸、塩酸等の酸性媒体
中で縮合させて得られたジアゾ樹脂、特公昭49−40
01号公報にその製造方法が記載されているジアゾ化合
物とジフェニルエーテル誘導体とを縮合反応させて(q
られるジアゾ樹脂等を使用することができる。
本発明において使用されるジアゾ樹脂の対アオーンは、
該ジアゾ樹脂と安定な塩を形成し、且つ該樹脂を有機溶
媒に可溶となすアニオンを含む。
該ジアゾ樹脂と安定な塩を形成し、且つ該樹脂を有機溶
媒に可溶となすアニオンを含む。
これらは、デカン酸及び安息香酸等の有機カルボン酸、
フェニルリン酸等の有機リン酸及びスルホン酸を含み、
典型的な例としては、メタンスルホン酸、クロロエタン
スルボン酸、ドデカンスルボン酸、ベンゼンスルボン酸
、トルエンスルホン酸、メシチレンスルホン酸及びアン
トラキノンスルボン酸、2−ヒドロキシ−4−メトキシ
ベンゾフェノン−5−スルホン酸、ヒドロキノンスルホ
ン酸、4−アセチルベンゼンスルホン酸、ジメチル−5
スルボイソフタレ−1〜等の脂肪族並びに芳香族スルボ
ン酸、2.2’ 、4.1−テトラヒドロキシベンゾ
フェノン、1,2.31〜リヒドロキシベンゾフエノン
、2.2’ 、4−1〜リビドロキシベンゾフエノン等
の水酸基含有芳香族化合物、ヘキサフルオロリン酸、テ
1〜ラフルオロホウ酸等のハロゲン化ルイス酸、CρO
+、1o4Wの過ハロゲン酸等が挙げられるが、これに
限られるものではない。β−ナフ1〜−ルとのカップリ
ング体をゲルパーミェーションクロマlルブラフィー法
(GPC)で測定した重量平均分子量は200〜100
00 (スチレン換n)の範囲が好ましく、500〜5
000の範囲がより好ましい。
フェニルリン酸等の有機リン酸及びスルホン酸を含み、
典型的な例としては、メタンスルホン酸、クロロエタン
スルボン酸、ドデカンスルボン酸、ベンゼンスルボン酸
、トルエンスルホン酸、メシチレンスルホン酸及びアン
トラキノンスルボン酸、2−ヒドロキシ−4−メトキシ
ベンゾフェノン−5−スルホン酸、ヒドロキノンスルホ
ン酸、4−アセチルベンゼンスルホン酸、ジメチル−5
スルボイソフタレ−1〜等の脂肪族並びに芳香族スルボ
ン酸、2.2’ 、4.1−テトラヒドロキシベンゾ
フェノン、1,2.31〜リヒドロキシベンゾフエノン
、2.2’ 、4−1〜リビドロキシベンゾフエノン等
の水酸基含有芳香族化合物、ヘキサフルオロリン酸、テ
1〜ラフルオロホウ酸等のハロゲン化ルイス酸、CρO
+、1o4Wの過ハロゲン酸等が挙げられるが、これに
限られるものではない。β−ナフ1〜−ルとのカップリ
ング体をゲルパーミェーションクロマlルブラフィー法
(GPC)で測定した重量平均分子量は200〜100
00 (スチレン換n)の範囲が好ましく、500〜5
000の範囲がより好ましい。
本発明における上記ジアゾ樹脂の感光層中に占める割合
は通常1〜90重量%で、3〜60重量%が好ましい。
は通常1〜90重量%で、3〜60重量%が好ましい。
また、本発明における水酸基含有ポリマーとしてはアル
コール性水酸基含有ポリ(メタ)アクリル酸のエステル
又はアミドが好ましく用いられる。
コール性水酸基含有ポリ(メタ)アクリル酸のエステル
又はアミドが好ましく用いられる。
アルコール性水酸基を有する七ツマ−としては、例えば
2−ヒドロキシエヂルアクリレート、2ヒドロキシエチ
ルメタクリレ−1〜、N−(4−ヒドロキシエチルフェ
ニル)メタクリルアミド、ヒドロキシーメチルジアセ1
〜ン(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。
2−ヒドロキシエヂルアクリレート、2ヒドロキシエチ
ルメタクリレ−1〜、N−(4−ヒドロキシエチルフェ
ニル)メタクリルアミド、ヒドロキシーメチルジアセ1
〜ン(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。
上記水M基含有モノマーと共重合可能な七ツマとしては
、 (1)芳香族水酸基を有するモノマー、例えばN−(4
−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒ
ドロキシフェニル)メタクリルアミド、0−1川−1p
−ヒドロキシスチレン、0m−1p−ヒドロキシフェニ
ル−アクリレート又は−メタクリレ−1〜、 (2)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸等の
α、β−不飽和カルボン酸、 (3)アクリル酸メチル、アクリル酸エヂル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクヂル、アクリル酸−
2−クロロエチル、2−ヒドロキシエヂルアクリレート
、グリシジルアクリレ=1〜、N−ジメチルアミンエチ
ルアクリレ−1へ舌の(置換)アルキルアクリレート、 (4)メチルメタクリレート、エチルメタクリレ−ト、
プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレ−1〜、ア
ミルメタクリレ−1へ、シクロヘキシルメタクリレ−1
〜、2−ヒドロキシブチルメタクリレ−1〜、4−ヒド
ロキシブチルメタクリレ−1〜、グリシジルメタクリレ
ート、N−ジメチルアミノエチルメタクリレ−1〜等の
(置換)アルキルメタクリレ−1〜、 (5)アクリルアミド、メタクリルアミド、Nメチロー
ルアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、
N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリルア
ミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ビドロ
キシエヂルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミ
ド、N−二1〜口フェニルアクリルアミド、N−エチル
−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若し
くはメタクリルアミド類、 (6)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類、 (7)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安患香酸ビニル等のビルエステル類、 (8)スチレン、α−メメチスチレン、メチルスチレン
、クロロメチルスチレン等のスチレン類、(9)メチル
ビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケ
トン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類、 (10)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジ
ェン、イソプレン等のオレフィン類、(11) N−ビ
ニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビニル
ピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等、 等が挙げられる。
、 (1)芳香族水酸基を有するモノマー、例えばN−(4
−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒ
ドロキシフェニル)メタクリルアミド、0−1川−1p
−ヒドロキシスチレン、0m−1p−ヒドロキシフェニ
ル−アクリレート又は−メタクリレ−1〜、 (2)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸等の
α、β−不飽和カルボン酸、 (3)アクリル酸メチル、アクリル酸エヂル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクヂル、アクリル酸−
2−クロロエチル、2−ヒドロキシエヂルアクリレート
、グリシジルアクリレ=1〜、N−ジメチルアミンエチ
ルアクリレ−1へ舌の(置換)アルキルアクリレート、 (4)メチルメタクリレート、エチルメタクリレ−ト、
プロピルメタクリレート、ブチルメタクリレ−1〜、ア
ミルメタクリレ−1へ、シクロヘキシルメタクリレ−1
〜、2−ヒドロキシブチルメタクリレ−1〜、4−ヒド
ロキシブチルメタクリレ−1〜、グリシジルメタクリレ
ート、N−ジメチルアミノエチルメタクリレ−1〜等の
(置換)アルキルメタクリレ−1〜、 (5)アクリルアミド、メタクリルアミド、Nメチロー
ルアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、
N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリルア
ミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ビドロ
キシエヂルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミ
ド、N−二1〜口フェニルアクリルアミド、N−エチル
−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若し
くはメタクリルアミド類、 (6)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類、 (7)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安患香酸ビニル等のビルエステル類、 (8)スチレン、α−メメチスチレン、メチルスチレン
、クロロメチルスチレン等のスチレン類、(9)メチル
ビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケ
トン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類、 (10)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジ
ェン、イソプレン等のオレフィン類、(11) N−ビ
ニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビニル
ピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等、 等が挙げられる。
上記水酸基含有ポリマー中における水酸基含有モノマー
吊は特に限定されないが、好ましくは5〜100重量%
、特に好ましくは20〜100重量%である。
吊は特に限定されないが、好ましくは5〜100重量%
、特に好ましくは20〜100重量%である。
本発明の水酸基含有ポリマーのGPC法で測定した重量
平均分子圧は5000〜1000000 (スチレン
換算)が好ましい。5000より低い値だと光硬化後も
感光層の塗布溶剤あるいは視像液にやられる場合があり
、1000000より大きい値だと塗布溶剤の選択が難
しい。
平均分子圧は5000〜1000000 (スチレン
換算)が好ましい。5000より低い値だと光硬化後も
感光層の塗布溶剤あるいは視像液にやられる場合があり
、1000000より大きい値だと塗布溶剤の選択が難
しい。
上記水酸基含有ポリマーの感光層・中に占める割合は通
常10〜99重量%で、好ましくは40〜97重量%で
ある。
常10〜99重量%で、好ましくは40〜97重量%で
ある。
ジアゾ樹脂と水酸基含有ポリマーの重量比率は、1/9
9〜90/10の範囲が好ましい。
9〜90/10の範囲が好ましい。
1/99よりもジアゾ樹脂が少ない場合、光硬化した後
も充分架橋されず塗布溶剤や視像液にやられる場合があ
り、一方、90/10よりもジアゾ樹脂が多い場合、必
然的にポリマーの比率が小さくなり、水酸基含有量が低
くなるためシリコーン層との接着が低下する傾向にある
。
も充分架橋されず塗布溶剤や視像液にやられる場合があ
り、一方、90/10よりもジアゾ樹脂が多い場合、必
然的にポリマーの比率が小さくなり、水酸基含有量が低
くなるためシリコーン層との接着が低下する傾向にある
。
また、本発明の感光層には、例えば、(=I加加重付性
ビニル基有する化合物等信の光不溶化型感光性物質も含
むこともできる。
ビニル基有する化合物等信の光不溶化型感光性物質も含
むこともできる。
付加重合性ビニル基を有する化合物どしては、常圧下の
沸点がi o O’C以上で2個以上の重合可能な末端
エチレン基を有する化合物、例えば、不飽和カルボン酸
、不飽和カルボン酸と脂肪族ポリヒドロキシ化合物との
エステル、不飽和カルボン酸と芳香族ポリヒドロキシ化
合物とのエステル、不飽和カルボン酸と多価カルボン酸
及び前述の脂肪族ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポリヒ
ドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化合物とのエステル
化反応により得られるエステル等が挙げられ、具体的に
は、特開昭59−71048号公報等に記載されている
。
沸点がi o O’C以上で2個以上の重合可能な末端
エチレン基を有する化合物、例えば、不飽和カルボン酸
、不飽和カルボン酸と脂肪族ポリヒドロキシ化合物との
エステル、不飽和カルボン酸と芳香族ポリヒドロキシ化
合物とのエステル、不飽和カルボン酸と多価カルボン酸
及び前述の脂肪族ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポリヒ
ドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化合物とのエステル
化反応により得られるエステル等が挙げられ、具体的に
は、特開昭59−71048号公報等に記載されている
。
また、本発明の感光層では、以上に説明した各素材の伯
に必要に応じて更に染おlや顔料あるいは露光可視画剤
、塗布性向上剤等を添加し、現像可視画性、露光可視画
性及び塗布性を向上させる事ができる。
に必要に応じて更に染おlや顔料あるいは露光可視画剤
、塗布性向上剤等を添加し、現像可視画性、露光可視画
性及び塗布性を向上させる事ができる。
上記染料としては、例えばビグ1〜リアピユアーブルー
B OH,オイルブルー#603、オイルピンク#31
2、パチン1〜ピユアブルー、クリスタルバイオレッ1
〜、ロイコクリスタルバイオレット、ブリリアンi−グ
リーン、エチルバイオレット、メチルグリーン、エリス
ロシンB1ベイシックツクシン、マラカイトグリーン、
ロイコマクカイ1〜グリーン、m−クレゾールパープル
、クレゾールレッド、キシレノールブルー、ローダミン
B、オーラミン、4−p−ジエヂルアミノフェニルイミ
ノナフトキノン、シアノ−p−ジエチルアミノフ工ルア
レトアニリド等に代表されるトリフェニルメタン系、ジ
フェニルメタン系、オキザジン系、キサンチン系、イミ
ノナフトキノン系、アゾメヂン系またはアントラキノン
系の色素が挙げられる。
B OH,オイルブルー#603、オイルピンク#31
2、パチン1〜ピユアブルー、クリスタルバイオレッ1
〜、ロイコクリスタルバイオレット、ブリリアンi−グ
リーン、エチルバイオレット、メチルグリーン、エリス
ロシンB1ベイシックツクシン、マラカイトグリーン、
ロイコマクカイ1〜グリーン、m−クレゾールパープル
、クレゾールレッド、キシレノールブルー、ローダミン
B、オーラミン、4−p−ジエヂルアミノフェニルイミ
ノナフトキノン、シアノ−p−ジエチルアミノフ工ルア
レトアニリド等に代表されるトリフェニルメタン系、ジ
フェニルメタン系、オキザジン系、キサンチン系、イミ
ノナフトキノン系、アゾメヂン系またはアントラキノン
系の色素が挙げられる。
上記染料は、感光層中に通常約001〜約10重量%、
好ましくは約0.05〜8重量%含有させることが好ま
しい。
好ましくは約0.05〜8重量%含有させることが好ま
しい。
塗布性向上剤としては、アルキルエーテル類(例えばエ
チルセルロース、メチルセルロース)、フッ素系界面活
性剤類や、ノニオン系界面活性剤(例えば、プルロニッ
クL−64(層重化社製))F(、−430(住友3M
製)等が挙げられる。
チルセルロース、メチルセルロース)、フッ素系界面活
性剤類や、ノニオン系界面活性剤(例えば、プルロニッ
クL−64(層重化社製))F(、−430(住友3M
製)等が挙げられる。
また露光可視画剤としては、例えば、特開昭541I
74728号公報に記載されているオキ→ノージアゾー
ル化合物や特開昭53−36223号公報に記載されて
いる1〜リアジン化合物等が挙げられる。
ル化合物や特開昭53−36223号公報に記載されて
いる1〜リアジン化合物等が挙げられる。
本発明にa3いては感光層の膜厚は0.1m(J/ d
n2〜301ng/dTI2が好ましく、0.5mg/
dm’ 〜10mQ/ dv’がより好ましい。
n2〜301ng/dTI2が好ましく、0.5mg/
dm’ 〜10mQ/ dv’がより好ましい。
本発明においては、上記感光層と基板の間にプライマー
層を設りることもできる。
層を設りることもできる。
プライマー層としては公知の種々のプライマーをいずれ
も適用できるが、例えばエポキシ樹脂、ポリウレタン樹
脂等を適当な硬化剤を用いて加熱硬化させたもの等特公
昭61−54219号公報に記載のプライマー層、又は
光二量体型硬化性樹脂等からなる層を光硬化させたもの
等の特開昭60−229031号公報に記載のプライマ
ー層等が使用できる。更に、主としてジアゾ樹脂及び水
酸基含有ポリマーカ冒ろ成る層を光硬化さセだプライマ
ー層も好ましく用いられる。このようなジアゾ樹脂は前
記感光層に含まれるジアゾ樹脂と同様のものが用いられ
、プライマー層中に通常1〜90重量%、好ましくは3
〜60重量%含有される。また水酸基含有ポリマーとし
ては前記感光層に含有される水酸基含有ポリマーと同様
のもの、又はポリビニルアルコール誘導体、エポキシ樹
脂、ノボラック樹脂、ゼラチン、セルロース等が用いら
れる。このJ:うな水酸基含有ポリマーはプライマー層
中に10〜99重量%、好ましくは40〜97重量%の
範囲の量で含まれる。
も適用できるが、例えばエポキシ樹脂、ポリウレタン樹
脂等を適当な硬化剤を用いて加熱硬化させたもの等特公
昭61−54219号公報に記載のプライマー層、又は
光二量体型硬化性樹脂等からなる層を光硬化させたもの
等の特開昭60−229031号公報に記載のプライマ
ー層等が使用できる。更に、主としてジアゾ樹脂及び水
酸基含有ポリマーカ冒ろ成る層を光硬化さセだプライマ
ー層も好ましく用いられる。このようなジアゾ樹脂は前
記感光層に含まれるジアゾ樹脂と同様のものが用いられ
、プライマー層中に通常1〜90重量%、好ましくは3
〜60重量%含有される。また水酸基含有ポリマーとし
ては前記感光層に含有される水酸基含有ポリマーと同様
のもの、又はポリビニルアルコール誘導体、エポキシ樹
脂、ノボラック樹脂、ゼラチン、セルロース等が用いら
れる。このJ:うな水酸基含有ポリマーはプライマー層
中に10〜99重量%、好ましくは40〜97重量%の
範囲の量で含まれる。
本発明においてはプライマー層にば上記必須成分に加え
て必要に応じて酸化チタン等の充填剤あるいはハレーシ
ョン防止剤、染料、顔料等の着色剤、塗布性改良剤、可
塑剤、安定剤、感脂化剤等を10重量%を越えない範囲
で含んでも良い。
て必要に応じて酸化チタン等の充填剤あるいはハレーシ
ョン防止剤、染料、顔料等の着色剤、塗布性改良剤、可
塑剤、安定剤、感脂化剤等を10重量%を越えない範囲
で含んでも良い。
上記染料及び塗布性改良剤としては各々前記感光層に含
有されるものと同様のものが用いられる。
有されるものと同様のものが用いられる。
塗膜の柔軟性、耐摩耗性を付与するだめの可塑剤として
は、例えばブチルフタリル、ポリエチレングリコール、
クエン酸1〜リブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジ
ブデル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リ
ン酸トリクレジル、リン酸1〜リブデル、リン酸1〜リ
オ゛クチル、オレイン酸テ1〜ラヒドラフルフリル、ア
クリル酸またはメタクリル酸のオリゴマー等が挙げられ
る。
は、例えばブチルフタリル、ポリエチレングリコール、
クエン酸1〜リブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジ
ブデル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リ
ン酸トリクレジル、リン酸1〜リブデル、リン酸1〜リ
オ゛クチル、オレイン酸テ1〜ラヒドラフルフリル、ア
クリル酸またはメタクリル酸のオリゴマー等が挙げられ
る。
また、画像の印刷インキ着肉性を高めるために、疎水性
基を有する各種添加剤、例えばp−オクチルフェノール
・ホルマリンノボラック樹脂、0−1−ブチルフェノー
ル・ホルマリンノボラック樹脂、p−t−ブチルフェノ
ール・ベンズアルデヒド(的脂、ロジン変性ノボラック
樹脂等の変性ノボラック樹脂、また、更にこれら変性ノ
ボラック樹脂のO−ナフトキノンジアジドスルホン酸ニ
スデル(Ol−I Wのエステル化率20〜70モル%
)を添加して用いることができる。
基を有する各種添加剤、例えばp−オクチルフェノール
・ホルマリンノボラック樹脂、0−1−ブチルフェノー
ル・ホルマリンノボラック樹脂、p−t−ブチルフェノ
ール・ベンズアルデヒド(的脂、ロジン変性ノボラック
樹脂等の変性ノボラック樹脂、また、更にこれら変性ノ
ボラック樹脂のO−ナフトキノンジアジドスルホン酸ニ
スデル(Ol−I Wのエステル化率20〜70モル%
)を添加して用いることができる。
上述のような、光硬化性ジアゾ樹脂またはこれを含む組
成物及び水M基含有ポリマーは、必要に応じて添カロさ
れる他の添加剤と共に適当な有機溶剤に溶解されて支持
体上に塗膜b・乾燥された後、露光され、完全にジアゾ
樹脂を分解さけ、硬化させる事によりプライマー層が形
成される。
成物及び水M基含有ポリマーは、必要に応じて添カロさ
れる他の添加剤と共に適当な有機溶剤に溶解されて支持
体上に塗膜b・乾燥された後、露光され、完全にジアゾ
樹脂を分解さけ、硬化させる事によりプライマー層が形
成される。
プライマー・層の厚さは1 mg/ d112〜2oo
n+O/d TI2であることが好ましく、より好まし
くは3n+。
n+O/d TI2であることが好ましく、より好まし
くは3n+。
/ (1m2〜100m0/ 6m2テある。
本発明においては前記感光層上に更にシリコンゴム層が
設けられるが該シリコーンゴム層に用いられるシリコー
ンゴムとしては、線状あるいはある程麿架橋したオルガ
ノポリシロキサンが好ましい。該オルガノポリシロキサ
ンは、分子量が通常壬ないし数十万のものであり、常温
では液体ないしはワックスまたは凹状に適度に架橋され
たものである。該オルガノポリシロキサンは架橋の方法
により綜合型と付加型に分けられる。
設けられるが該シリコーンゴム層に用いられるシリコー
ンゴムとしては、線状あるいはある程麿架橋したオルガ
ノポリシロキサンが好ましい。該オルガノポリシロキサ
ンは、分子量が通常壬ないし数十万のものであり、常温
では液体ないしはワックスまたは凹状に適度に架橋され
たものである。該オルガノポリシロキサンは架橋の方法
により綜合型と付加型に分けられる。
綜合型は縮合反応によって架橋が行なわれるもので反応
によって水、アルコール、有機酸などが放出される。特
に有用な綜合型のシリコーンゴムとしては、両末端ある
いは主鎖の1部に水酸基を有する線状オルガノポリシロ
キサンとシリコーン架橋剤の混合物が、水酸基にシリコ
ーン架橋剤を反応させたものが挙げられ、いずれも縮合
触媒を加えた方が架橋速度の点で右利である。
によって水、アルコール、有機酸などが放出される。特
に有用な綜合型のシリコーンゴムとしては、両末端ある
いは主鎖の1部に水酸基を有する線状オルガノポリシロ
キサンとシリコーン架橋剤の混合物が、水酸基にシリコ
ーン架橋剤を反応させたものが挙げられ、いずれも縮合
触媒を加えた方が架橋速度の点で右利である。
上記オルガノポリシロキサンは主鎖に下肥の繰り返し単
位を有する。
位を有する。
R1
→5i−0−)−
式中、R1及びR2は各々シアノ基、ハロゲン原子、水
酸基等の置換基を有していてもよいアルキル、アリール
、アルケニルまたはその組み合わせでありメチル基、フ
ェニル基、ビニル基、トリフルオロプロピル基が好まし
く、特にメチル基も好ましい。
酸基等の置換基を有していてもよいアルキル、アリール
、アルケニルまたはその組み合わせでありメチル基、フ
ェニル基、ビニル基、トリフルオロプロピル基が好まし
く、特にメチル基も好ましい。
上記シリコーン架橋剤としては、
/
または−○H(式中、RとR′はアルキル基である)で
表わされる官能基を持つ、いわゆる脱酢酸型、脱オキシ
ム型、脱アルコール型、脱アミン型、脱水型などの縮合
型シリコーン架橋剤が挙げられる。このような架橋剤の
例としては、テ1〜ラアセトキシシラン、メチルトリア
セ[ヘキシシラン、エチル1ヘリアセトキシシラン、フ
ェニルトリアセ[ヘキシシラン、ジメチルジアセ1〜キ
シシラン、ジ■チルジアセ1−キシシラン、ビニル1〜
リアセ[ヘキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジ
メチルジメトキシシラン、ビニルトリメ1〜キシシラン
、メチルトリス(アセトンオキシム)シラン、メチルト
リ(N−メチル、N−アセチルアミノ)シラン、ビニル
トリ(メチルエチルケトオキシム)シラン、メチルトリ
(メチルエチルケトオキシム)シランまたはそのオリゴ
マーなどを挙げることかできる。
表わされる官能基を持つ、いわゆる脱酢酸型、脱オキシ
ム型、脱アルコール型、脱アミン型、脱水型などの縮合
型シリコーン架橋剤が挙げられる。このような架橋剤の
例としては、テ1〜ラアセトキシシラン、メチルトリア
セ[ヘキシシラン、エチル1ヘリアセトキシシラン、フ
ェニルトリアセ[ヘキシシラン、ジメチルジアセ1〜キ
シシラン、ジ■チルジアセ1−キシシラン、ビニル1〜
リアセ[ヘキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジ
メチルジメトキシシラン、ビニルトリメ1〜キシシラン
、メチルトリス(アセトンオキシム)シラン、メチルト
リ(N−メチル、N−アセチルアミノ)シラン、ビニル
トリ(メチルエチルケトオキシム)シラン、メチルトリ
(メチルエチルケトオキシム)シランまたはそのオリゴ
マーなどを挙げることかできる。
これらの架橋剤はいずれもオルガノポリシロキサン 1
00重量部に対して05〜30重量部の範囲とするのが
よい。
00重量部に対して05〜30重量部の範囲とするのが
よい。
前記縮合触媒としては、有機のカルボン酸、チタン酸エ
ステル、ナフテン酸等があげられる。
ステル、ナフテン酸等があげられる。
何7J[]型とは、本体中の不飽和基、例えばビニル基
(−CH=CH2)に架橋剤中の水酸基が付加して架橋
するようなものを言う。
(−CH=CH2)に架橋剤中の水酸基が付加して架橋
するようなものを言う。
具体的にはビニル基含有オルガノポリシロキサン、水素
化オルガノポリシロキサン等に白金系触媒(例えば塩化
白金酸)等を混合させたものが挙げられる。
化オルガノポリシロキサン等に白金系触媒(例えば塩化
白金酸)等を混合させたものが挙げられる。
該オルガノポリシロキサンは主鎖に前記縮合型と同様の
繰り返し単位を有する。
繰り返し単位を有する。
本発明のシリコーンゴム層には、縮合型及び付加型シリ
コーンゴムのいずれかあるいtよ両方用いる事が可能で
ある。
コーンゴムのいずれかあるいtよ両方用いる事が可能で
ある。
また1つのオルガノポリシロキサンの中に水酸基、不飽
和基等を有する縮合かつ付加型のものを使用する事も可
能である。
和基等を有する縮合かつ付加型のものを使用する事も可
能である。
本発明に係るシリコーンゴムとして入手しうる市販品の
内、好ましい例としては、信越側製KS705F 、
K E−41,42,44、東芝シリコーン(製) Y
E 5505. Y F 3057、東しシリコーン
(製)St−1781、PR;X−305、5t−1−
237等ノ11型シリコーンゴム及び信越+Il製KS
−837、KE103 、 KE−106、KE−13
00,東芝シリコ−ン(製)TSI−3032,RTU
−8、東しシリコン(製) S l−1−9555等の
付加型シリコーンゴムがあげられる。
内、好ましい例としては、信越側製KS705F 、
K E−41,42,44、東芝シリコーン(製) Y
E 5505. Y F 3057、東しシリコーン
(製)St−1781、PR;X−305、5t−1−
237等ノ11型シリコーンゴム及び信越+Il製KS
−837、KE103 、 KE−106、KE−13
00,東芝シリコ−ン(製)TSI−3032,RTU
−8、東しシリコン(製) S l−1−9555等の
付加型シリコーンゴムがあげられる。
また、シリコーンゴムの強度を向上さける目的で、シリ
カ、酸化チタン、酸化アルミニウムなどの無機質充填剤
を添加しても良く、特にシランJは好ましく用いられる
。このような充填剤どしては分散性あるいは分散安定性
の点から平均粒子径500μm以下のものが好ましい。
カ、酸化チタン、酸化アルミニウムなどの無機質充填剤
を添加しても良く、特にシランJは好ましく用いられる
。このような充填剤どしては分散性あるいは分散安定性
の点から平均粒子径500μm以下のものが好ましい。
本発明においてシリコーンゴム層の膜厚は、画質及び視
像性の点からは薄い程好ましく、耐刷性、印刷汚れ等の
点からは逆にある程度の厚さを必要とするため、一般に
は3mg/dTI2〜50mg/ d12が好ましく、
5 m(1/ 612〜30 m!+/ dn’がより
好ましい。
像性の点からは薄い程好ましく、耐刷性、印刷汚れ等の
点からは逆にある程度の厚さを必要とするため、一般に
は3mg/dTI2〜50mg/ d12が好ましく、
5 m(1/ 612〜30 m!+/ dn’がより
好ましい。
尚、本発明においては感光層とシリコーン層との間にエ
ポキシ樹脂等から成る接着層を設けても良く、接着層に
は種々の反応性架橋剤、シランカップリング剤等を含む
こともでき、また接着層の膜厚としては0.1m(]/
d12”−5m(J/ d’m2が分法しい。
ポキシ樹脂等から成る接着層を設けても良く、接着層に
は種々の反応性架橋剤、シランカップリング剤等を含む
こともでき、また接着層の膜厚としては0.1m(]/
d12”−5m(J/ d’m2が分法しい。
更に本発明の水なし平版はシリコーンゴム層の上に保護
層を設けても良く、該保護層を設ける方法として特公昭
61−614号に記載のポリプロピレンフィルム等をラ
ミネートする方法や特開昭61−27545号に記載の
高分子重合体を塗布づ゛る方法等が知られている。
層を設けても良く、該保護層を設ける方法として特公昭
61−614号に記載のポリプロピレンフィルム等をラ
ミネートする方法や特開昭61−27545号に記載の
高分子重合体を塗布づ゛る方法等が知られている。
本発明において用いられる基板としては、通常の平版印
刷機にセットできるたわみ性を有し、印刷時にかかる荷
重に耐えうるちのであればいかなるものも用いることが
でき、層構成も含めて特に制限されない。例えば、コー
ト紙などの紙類、アルミニウム板などの金属板、あるい
は、ポリエチレンテレフタレートなどのプラスチックフ
ィルムを例として挙げることができる。
刷機にセットできるたわみ性を有し、印刷時にかかる荷
重に耐えうるちのであればいかなるものも用いることが
でき、層構成も含めて特に制限されない。例えば、コー
ト紙などの紙類、アルミニウム板などの金属板、あるい
は、ポリエチレンテレフタレートなどのプラスチックフ
ィルムを例として挙げることができる。
本発明に用いられる基板としては、アルミニウム板、又
は、アルミニウム箔と他の複合材が好ましく、耐刷性の
点から、アルミニウム板が特に好ましい。
は、アルミニウム箔と他の複合材が好ましく、耐刷性の
点から、アルミニウム板が特に好ましい。
特に本発明にi15いては、アルミニウム板、又はアル
ミニウム箔の表面を必要に応じ砂目立てした後陽極酸化
処理し、更にケイ酸塩で処理するのが特に好ましい。そ
の際、ケイ酸処理は、例えば、濃度0.1〜10%のケ
イ酸ナトリウム水溶液に、温度30〜95℃で1秒〜2
分間浸漬して行なわれ、好ましくはその後に40〜95
℃の水に10秒〜2分間浸漬して処理される。
ミニウム箔の表面を必要に応じ砂目立てした後陽極酸化
処理し、更にケイ酸塩で処理するのが特に好ましい。そ
の際、ケイ酸処理は、例えば、濃度0.1〜10%のケ
イ酸ナトリウム水溶液に、温度30〜95℃で1秒〜2
分間浸漬して行なわれ、好ましくはその後に40〜95
℃の水に10秒〜2分間浸漬して処理される。
本発明においては、上記の如く作製した感光性平版印刷
版を像様露光した後、現像液で現像して感光層を溶解し
、その上のシリコーンゴム層と共に除去した結果、基板
又はプライマー層が画像部として露出し、水なし平版が
形成される。
版を像様露光した後、現像液で現像して感光層を溶解し
、その上のシリコーンゴム層と共に除去した結果、基板
又はプライマー層が画像部として露出し、水なし平版が
形成される。
この場合、視像時あるいは頂像後にクリスタルバイオレ
ッ1〜、ビクトリアブルーB Ol−1等のカチオン染
料により画像部を染色することが好ましい。
ッ1〜、ビクトリアブルーB Ol−1等のカチオン染
料により画像部を染色することが好ましい。
露光に用いられる光源としては、180nm以上の紫外
線、可視光線を含む汎用の光源ならばどのようなもので
も良いが、特にカーボンアーク灯、水銀幻、キセノンラ
ンプ、メタルハライドランプ、ストロボ等がよい。
線、可視光線を含む汎用の光源ならばどのようなもので
も良いが、特にカーボンアーク灯、水銀幻、キセノンラ
ンプ、メタルハライドランプ、ストロボ等がよい。
視像処理に用いられる現像液としては、水に下記の極性
溶媒、アミン類等のアルカリ化合物、界面活性剤、更に
必要に応じて脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、
゛′アイソパーE、l」、G”(エツソ化学製脂肪族炭
化水素類の商品名)あるいはガソリン、灯油など)、芳
香族炭化水素類(トルエン、キシレンなど)あるいはハ
ロゲン化炭化水素類(トリクレンなど)を添加したもの
である。
溶媒、アミン類等のアルカリ化合物、界面活性剤、更に
必要に応じて脂肪族炭化水素類(ヘキサン、ヘプタン、
゛′アイソパーE、l」、G”(エツソ化学製脂肪族炭
化水素類の商品名)あるいはガソリン、灯油など)、芳
香族炭化水素類(トルエン、キシレンなど)あるいはハ
ロゲン化炭化水素類(トリクレンなど)を添加したもの
である。
極性溶媒
アルコール類(メタノール、エタノール、水など)
エーテル類(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブ
チルセロソルブ、メチルカルピトール、エチルカルピト
ール キサンなど) ケトン類(アセ[〜ン、メチルエチルケ1〜ンなど)エ
ステル類(酢酸エチル、メチルセロソルブアセテ−1〜
、セロソルブアセテート、カルピトールアセテートなど
) 現像は、例えば上記のような現像液を含む視像用パッド
でこすったり、現像液を版面に注いだ後に現像ブラシで
こするなど、公知の種々の方法で行なうことができる。
チルセロソルブ、メチルカルピトール、エチルカルピト
ール キサンなど) ケトン類(アセ[〜ン、メチルエチルケ1〜ンなど)エ
ステル類(酢酸エチル、メチルセロソルブアセテ−1〜
、セロソルブアセテート、カルピトールアセテートなど
) 現像は、例えば上記のような現像液を含む視像用パッド
でこすったり、現像液を版面に注いだ後に現像ブラシで
こするなど、公知の種々の方法で行なうことができる。
(実施例)
以下本発明を実施例により更に詳述するが本発明は以下
の実施例に限定されるものではない。
の実施例に限定されるものではない。
(ジアゾ樹脂−1の合成)
p−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩14.5gを水冷下
で4.09(]の濃硫酸に溶解した。この反応液に1、
0(lのバラホルムアルデヒドを反応温度が10°Cを
越えないようにゆっくり滴下した。その後、2時間水冷
下にて撹拌を続けた。この反応混合物を水冷下、500
dのエタノールに滴下し、生じた沈澱を濾過した。エタ
ノールで洗浄後、この沈澱物を100mQの純水に溶解
し、この液に6.8gの塩化亜鉛を溶解した冷81厚水
溶液を加えた。生じた沈澱を濾過しIC後、エタノール
で洗浄し、これを150背の純水に溶解した。この液に
、8gのへキサフルオロリン酸アンモニウムを溶解した
冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈澱を濾取し水洗した後
、30°Cで一昼夜乾燥してジアゾ樹脂−1を得た。
で4.09(]の濃硫酸に溶解した。この反応液に1、
0(lのバラホルムアルデヒドを反応温度が10°Cを
越えないようにゆっくり滴下した。その後、2時間水冷
下にて撹拌を続けた。この反応混合物を水冷下、500
dのエタノールに滴下し、生じた沈澱を濾過した。エタ
ノールで洗浄後、この沈澱物を100mQの純水に溶解
し、この液に6.8gの塩化亜鉛を溶解した冷81厚水
溶液を加えた。生じた沈澱を濾過しIC後、エタノール
で洗浄し、これを150背の純水に溶解した。この液に
、8gのへキサフルオロリン酸アンモニウムを溶解した
冷濃厚水溶液を加えた。生じた沈澱を濾取し水洗した後
、30°Cで一昼夜乾燥してジアゾ樹脂−1を得た。
GPC法で測定した該ジアゾ樹脂のスヂレン換算の重量
平均分子m (MW )は1500、数平均分子量は5
00であった。
平均分子m (MW )は1500、数平均分子量は5
00であった。
[ポリマー1の合成]
2−ヒドロキシエチルメタクリレート 150g、アク
リロニトリル60g、、メチルメタクリレ−1〜79.
5g、メタクリル1io、sg (それぞれのモル比
は37:35:24:4)を蒸留ジオキサン700(1
に溶解させ(トータルモノマー濃度:46モル/りベン
ゾイルパーオキシド15q(2モル%)を徐々に投入し
、窒素気流中、還流状態で8時間重合反応を行った。反
応終了後、ヒドロキノン0、5gを投入し、減圧下、溶
媒を留去し、粘度が上昇したところでステンレスプレー
1〜上に流し出し真空乾燥を行ない、270i;lの板
状樹脂(ポリマー1)を得た。該ポリマーのG ))
C測定値を以下にボす。
リロニトリル60g、、メチルメタクリレ−1〜79.
5g、メタクリル1io、sg (それぞれのモル比
は37:35:24:4)を蒸留ジオキサン700(1
に溶解させ(トータルモノマー濃度:46モル/りベン
ゾイルパーオキシド15q(2モル%)を徐々に投入し
、窒素気流中、還流状態で8時間重合反応を行った。反
応終了後、ヒドロキノン0、5gを投入し、減圧下、溶
媒を留去し、粘度が上昇したところでステンレスプレー
1〜上に流し出し真空乾燥を行ない、270i;lの板
状樹脂(ポリマー1)を得た。該ポリマーのG ))
C測定値を以下にボす。
Mw : 4.80x 1041分散比:2.2[ポリ
マー2の合成1 ポリマー1の2−ヒドロキシエチルメタクリレ−1〜の
かわりに、ヒドロキシ−メチルジアセ1〜ン(メタ)ア
クリルアミドを使用した以外は、ポリマー1の合成と同
様にしてポリマー2を1qだ。
マー2の合成1 ポリマー1の2−ヒドロキシエチルメタクリレ−1〜の
かわりに、ヒドロキシ−メチルジアセ1〜ン(メタ)ア
クリルアミドを使用した以外は、ポリマー1の合成と同
様にしてポリマー2を1qだ。
ポリマー2のGPC測定値を以下に示す。
Mw : 4.5x i Q4.分散比:2.0実施
例1 通常の方法で脱脂したスムースアルミニウム板上に乾燥
膜厚で30 mc+/ 6.2になるよう下記のプライ
マー層組成物を塗布し150℃で10分加熱硬化させて
プライマー層を設けL (H プライマー層組成物 エピコー1〜1001(シェル化学製)100部分子f
i 2000のフェノール・ノボラック樹脂50部 メチルセロソルブ 1ooo部上記プ
ライマー層を塗設したアルミニウム板上に、下記の感光
性組成物を乾燥膜厚で5m(]/ dn’になるよう塗
布し、乾燥して感光層を設(プた。
例1 通常の方法で脱脂したスムースアルミニウム板上に乾燥
膜厚で30 mc+/ 6.2になるよう下記のプライ
マー層組成物を塗布し150℃で10分加熱硬化させて
プライマー層を設けL (H プライマー層組成物 エピコー1〜1001(シェル化学製)100部分子f
i 2000のフェノール・ノボラック樹脂50部 メチルセロソルブ 1ooo部上記プ
ライマー層を塗設したアルミニウム板上に、下記の感光
性組成物を乾燥膜厚で5m(]/ dn’になるよう塗
布し、乾燥して感光層を設(プた。
感光性組成物
ポリマー−1100部
(アルコール性水酸基含有ポリマー)
ジアゾ樹脂−110部
(p−ジアゾジフェニルアミン・ボルムアルデヒド樹脂
) ビクトリアブルーBOH2部 メチルセロソルブ 2000部次に上
記感光層上に、下記シリコーンゴム組成物を乾燥重量で
15mg/dプになるよう岳布し乾燥してシリコーンゴ
ム層を設()だ。
) ビクトリアブルーBOH2部 メチルセロソルブ 2000部次に上
記感光層上に、下記シリコーンゴム組成物を乾燥重量で
15mg/dプになるよう岳布し乾燥してシリコーンゴ
ム層を設()だ。
シリコーンゴム組成物
東芝シリコーン製Y F −3057100部東芝シリ
コーン製TSI−818010部アエロジルR−972
(日本アエロ1ジルIj!e製)3部 ジラウリル酸ジーn−ブヂル錫 08部ヘキサン
1400部上記のようにして
1qられたシリコ−〕、!ゴム層の表面に厚さ5μの片
面マツ1〜化ポリブロビレンフィルムをラミネー1〜し
、水なし平版を得た。この印刷原板にポジフィルムを重
ね3KW超高圧水銀灯で100mJ / (:、2露光
した後、ラミネー1〜フィルムを剥離し、下記現像液に
1分間浸漬し、視像バッ1〜でこすり未露光部の感光層
とシリコーンゴl\層を除去した。
コーン製TSI−818010部アエロジルR−972
(日本アエロ1ジルIj!e製)3部 ジラウリル酸ジーn−ブヂル錫 08部ヘキサン
1400部上記のようにして
1qられたシリコ−〕、!ゴム層の表面に厚さ5μの片
面マツ1〜化ポリブロビレンフィルムをラミネー1〜し
、水なし平版を得た。この印刷原板にポジフィルムを重
ね3KW超高圧水銀灯で100mJ / (:、2露光
した後、ラミネー1〜フィルムを剥離し、下記現像液に
1分間浸漬し、視像バッ1〜でこすり未露光部の感光層
とシリコーンゴl\層を除去した。
l数基
フェニルセロソルブ 10部ジェタノ
ールアミン 4部バイオニンA14
B<竹本油脂(体製) 6部水
80部かく
して得られた版を湿し水供給装置をはずしたハイデルG
T○(ハイデル社製)を用い、東洋インキ製造#製アク
ア1ノスファイブWTPMインキを使用して印刷したと
ころ、着肉性も良好で地汚れの発生しない良好な印刷物
を15000枚以北得る事ができた。
ールアミン 4部バイオニンA14
B<竹本油脂(体製) 6部水
80部かく
して得られた版を湿し水供給装置をはずしたハイデルG
T○(ハイデル社製)を用い、東洋インキ製造#製アク
ア1ノスファイブWTPMインキを使用して印刷したと
ころ、着肉性も良好で地汚れの発生しない良好な印刷物
を15000枚以北得る事ができた。
ま−k、非画線部の版面りに新東利学(株ネ1製連続加
重式引掻強度試験機Type−HE 1. DON18
により直径0.4mmのザファイア針を用いて荷重20
!+で傷つ【プ、上記と同様の条件で印刷したところ侮
状の地汚れは発生しなかった。
重式引掻強度試験機Type−HE 1. DON18
により直径0.4mmのザファイア針を用いて荷重20
!+で傷つ【プ、上記と同様の条件で印刷したところ侮
状の地汚れは発生しなかった。
実施例2
脱脂洗浄したアルミニウム板を3重量%塩酸中、温度2
5℃、電流密度3A/dT12の条件で5分間電解エツ
チングして砂目立てを行ない、09重世%水酸化ナトリ
ウム水溶液でデスマット処理した後水洗した。次いで4
0重量%硫酸中30°C11,5A/ (1m’の条件
で2分間陽極酸化処理を行ない水洗した。更に1重量%
ケイ酸ナトリウム水溶液中で85℃の条件で25秒ケイ
酸ソーダ処理した後水洗を行なって基板上1を得た。
5℃、電流密度3A/dT12の条件で5分間電解エツ
チングして砂目立てを行ない、09重世%水酸化ナトリ
ウム水溶液でデスマット処理した後水洗した。次いで4
0重量%硫酸中30°C11,5A/ (1m’の条件
で2分間陽極酸化処理を行ない水洗した。更に1重量%
ケイ酸ナトリウム水溶液中で85℃の条件で25秒ケイ
酸ソーダ処理した後水洗を行なって基板上1を得た。
この基板上1に、実施例1と同様に感光層とシリコーン
ゴム層を塗布した後乾燥し、湿し水不要の感光性平版印
刷版を得た。
ゴム層を塗布した後乾燥し、湿し水不要の感光性平版印
刷版を得た。
1qられた感光性平版印刷版を実施例1ど同様の方法で
露光し、下記の現像液で現像した。
露光し、下記の現像液で現像した。
現像液
アイソパーH(エツソ化学社製)35部コハク酸ジエチ
ルエステル 5部ポリプロピレングリコー
ル 5部フェニルセロソルブ
5部ジェタノールアミン
2部パイオニンA−44B 3部
水
45部1qられた版を実施例−1と同様に
印刷したところ、地汚れの発生しない良好な印刷物を1
5000枚以上得る事ができた。
ルエステル 5部ポリプロピレングリコー
ル 5部フェニルセロソルブ
5部ジェタノールアミン
2部パイオニンA−44B 3部
水
45部1qられた版を実施例−1と同様に
印刷したところ、地汚れの発生しない良好な印刷物を1
5000枚以上得る事ができた。
比較例−1
実施例−1の感光層のポリマー1のかわりに下記表−1
に示したポリマーを使用した他は実施例1と同様にして
湿し水不要の感光性平版印刷版表−1 得られた感光性平版印刷版NO,A−Fの各々を下記現
像液で現像したところNO,C及びDのみが良好な画像
を形成した。
に示したポリマーを使用した他は実施例1と同様にして
湿し水不要の感光性平版印刷版表−1 得られた感光性平版印刷版NO,A−Fの各々を下記現
像液で現像したところNO,C及びDのみが良好な画像
を形成した。
現像液
フェニルセロソルブ 10部ジェタノ
ールアミン 4部パイオニンA−4
4B 6部水
80部良好な
画像を形成したNo、C及びDを実施例1と同様にして
印刷したところ、No、Dは5000枚で汚れを発生し
、No、Cは15000枚で平網にカスレが生じていた
。
ールアミン 4部パイオニンA−4
4B 6部水
80部良好な
画像を形成したNo、C及びDを実施例1と同様にして
印刷したところ、No、Dは5000枚で汚れを発生し
、No、Cは15000枚で平網にカスレが生じていた
。
実施例−3
脱脂洗浄したアルミニウム板を40重量%硫酸中、温度
30℃、電流密度L5A/ dt虱2の条件で2分間陽
極酸化を行ない水洗した後、1重量%のケイ酸ナトリウ
ム水溶液中、85°C225秒の条件でケイ酸ソーダ処
理し、次いで水洗を行なって基板〜2を得た。
30℃、電流密度L5A/ dt虱2の条件で2分間陽
極酸化を行ない水洗した後、1重量%のケイ酸ナトリウ
ム水溶液中、85°C225秒の条件でケイ酸ソーダ処
理し、次いで水洗を行なって基板〜2を得た。
この基板上2に下記の感光性組成物を乾燥膜厚で5++
+g/ di’になるよう塗布し乾燥して感光層を設け
た。
+g/ di’になるよう塗布し乾燥して感光層を設け
た。
感光性組成物
ポリマー2 100部(ア
ルコール性水酸基含有ポリマー) ジアゾ樹脂−150部 (p−ジアゾジフェニルアミン・ホルムアルデヒド樹脂
) オイルブルー メチルセロソルブ 次に上記感光層上に、下記シリコーンゴム組成物を乾燥
重電で20111(1/ ’d1112になるよう塗布
し乾燥してシリコーンゴム層を設(プた。
ルコール性水酸基含有ポリマー) ジアゾ樹脂−150部 (p−ジアゾジフェニルアミン・ホルムアルデヒド樹脂
) オイルブルー メチルセロソルブ 次に上記感光層上に、下記シリコーンゴム組成物を乾燥
重電で20111(1/ ’d1112になるよう塗布
し乾燥してシリコーンゴム層を設(プた。
シリコーンゴム組成物
東芝シリコーン製S l−(−237100部メチルト
リス(メチルエチルケト オキシム)シラン 4部ジブチル
錫ジアセテート0.4部 この印刷原板にポジフィルムを重ね3KW超高圧水銀灯
で100mJ/ Cu2露光した後、下記現像液に1分
間浸漬し、現像バットでこすり、未露光部の感光層とシ
リコーンゴムを除去した。
リス(メチルエチルケト オキシム)シラン 4部ジブチル
錫ジアセテート0.4部 この印刷原板にポジフィルムを重ね3KW超高圧水銀灯
で100mJ/ Cu2露光した後、下記現像液に1分
間浸漬し、現像バットでこすり、未露光部の感光層とシ
リコーンゴムを除去した。
現像液
アイソパーH(エッソ化学社製)35部コハク酸ジエチ
ルエステル 5部ポリプロピレングリコール
5部フェニルセロソルブ
5部ジェタノールアミン 2
部パイオニンA−44B 3部水
45部得られた版を実施例−1と同様に印刷
したところ着肉性も良好で地汚れの発生しない良好な印
刷物を得る事ができた。
ルエステル 5部ポリプロピレングリコール
5部フェニルセロソルブ
5部ジェタノールアミン 2
部パイオニンA−44B 3部水
45部得られた版を実施例−1と同様に印刷
したところ着肉性も良好で地汚れの発生しない良好な印
刷物を得る事ができた。
[発明の効果]
以上詳細に説明したように、本発明により、従来技術が
有する諸欠点を改良し、特に感光層とシリコーンゴム層
との、及び感光層と支持体ないしはプライマー層との接
着性に優れた湿し水不要感光性平版印刷版を提供するこ
とができる。
有する諸欠点を改良し、特に感光層とシリコーンゴム層
との、及び感光層と支持体ないしはプライマー層との接
着性に優れた湿し水不要感光性平版印刷版を提供するこ
とができる。
Claims (3)
- (1)基板上に該基板側から少なくとも感光層及びシリ
コーンゴム層をこの順に有し、かつ該感光層が少なくと
も(1)ジアゾ樹脂及び(2)水酸基を有する(メタ)
アクリル酸のエステル又はアミド含有ポリマー、を含有
することを特徴とする湿し水不要感光性平版印刷版。 - (2)基板上に該基板側から少なくともプライマー層、
感光層及びシリコーンゴム層をこの順に有し、かつ該感
光層が少なくとも(1)ジアゾ樹脂及び(2)水酸基を
有する(メタ)アクリル酸のエステル又はアミド含有ポ
リマー、を含有することを特徴とする湿し水不要感光性
平版印刷版。 - (3)水酸基がアルコール性水酸基である請求項(1)
又は(2)記載の湿し水不要感光性平版印刷版。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10428689A JPH02282257A (ja) | 1989-04-24 | 1989-04-24 | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
CA 2015187 CA2015187A1 (en) | 1989-04-24 | 1990-04-23 | Photosensitive lithographic printing plate requiring no wetting water |
EP19900107662 EP0394923B1 (en) | 1989-04-24 | 1990-04-23 | Photosensitive lithographic printing plate requiring no wetting water |
DE69027624T DE69027624D1 (de) | 1989-04-24 | 1990-04-23 | Lichtempfindliche Flachdruckplatte, die kein Befeuchtungswasser benötigt |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10428689A JPH02282257A (ja) | 1989-04-24 | 1989-04-24 | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02282257A true JPH02282257A (ja) | 1990-11-19 |
Family
ID=14376689
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10428689A Pending JPH02282257A (ja) | 1989-04-24 | 1989-04-24 | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0394923B1 (ja) |
JP (1) | JPH02282257A (ja) |
CA (1) | CA2015187A1 (ja) |
DE (1) | DE69027624D1 (ja) |
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---|---|---|---|---|
DE19852258A1 (de) * | 1998-11-11 | 2000-05-18 | Agfa Gevaert Ag | Strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von Wasserlos-Offsetdruckplatten |
DE19515804A1 (de) * | 1995-05-04 | 1996-11-07 | Hoechst Ag | Mit Wasser entschichtbares Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von Wasserlos-Offsetdruckplatten |
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JPS60192948A (ja) * | 1984-03-14 | 1985-10-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要ネガ型感光性平版印刷版および製版方法 |
JPS62157037A (ja) * | 1985-12-20 | 1987-07-13 | ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト | 無水オフセツト印刷用の感光性印刷板 |
JPS63155688A (ja) * | 1986-12-18 | 1988-06-28 | 日本電気株式会社 | 混成集積回路の抵抗体保護膜の形成方法 |
JPS63213848A (ja) * | 1987-03-02 | 1988-09-06 | Toray Ind Inc | 水なし平版印刷用原版 |
JPS63253949A (ja) * | 1987-04-10 | 1988-10-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要感光性平版印刷原板 |
Family Cites Families (4)
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DE3404366A1 (de) * | 1984-02-08 | 1985-08-14 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Lichtempfindliches gemisch auf basis eines diazoniumsalz-polykondensationsprodukts und daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial |
DE3731438A1 (de) * | 1987-09-18 | 1989-03-30 | Hoechst Ag | Lichtempfindliche druckplatte fuer den wasserlosen flachdruck |
DE3738863A1 (de) * | 1987-11-16 | 1989-05-24 | Hoechst Ag | Lichtempfindliche druckplatte fuer den wasserlosen offsetdruck |
JPH028848A (ja) * | 1988-06-28 | 1990-01-12 | Konica Corp | 湿し水不要平版印刷版材料 |
-
1989
- 1989-04-24 JP JP10428689A patent/JPH02282257A/ja active Pending
-
1990
- 1990-04-23 DE DE69027624T patent/DE69027624D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-04-23 CA CA 2015187 patent/CA2015187A1/en not_active Abandoned
- 1990-04-23 EP EP19900107662 patent/EP0394923B1/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS589146A (ja) * | 1981-07-09 | 1983-01-19 | Nippon Paint Co Ltd | 水不要平版用版材 |
JPS60192948A (ja) * | 1984-03-14 | 1985-10-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要ネガ型感光性平版印刷版および製版方法 |
JPS62157037A (ja) * | 1985-12-20 | 1987-07-13 | ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト | 無水オフセツト印刷用の感光性印刷板 |
JPS63155688A (ja) * | 1986-12-18 | 1988-06-28 | 日本電気株式会社 | 混成集積回路の抵抗体保護膜の形成方法 |
JPS63213848A (ja) * | 1987-03-02 | 1988-09-06 | Toray Ind Inc | 水なし平版印刷用原版 |
JPS63253949A (ja) * | 1987-04-10 | 1988-10-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要感光性平版印刷原板 |
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