JP2000206698A - 乾式オフセット印刷板製造用の放射線感応性記録材料 - Google Patents

乾式オフセット印刷板製造用の放射線感応性記録材料

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JP2000206698A JP31988799A JP31988799A JP2000206698A JP 2000206698 A JP2000206698 A JP 2000206698A JP 31988799 A JP31988799 A JP 31988799A JP 31988799 A JP31988799 A JP 31988799A JP 2000206698 A JP2000206698 A JP 2000206698A
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Willi-Kurt Dr Griess
ウィリ‐クルト、グリース
Hans-Joachim Dr Schlosser
ハンス‐ヨアヒム、シュロサー
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 水現像が可能な乾式オフセット印刷板製造用
の放射線感応性記録材料の提供。 【解決手段】 支持体、放射線感応性層およびシリコー
ン層をこの順序で有する記録材料。放射線感応性層は、
放射線感応性成分として、ジアゾニウム塩重縮合生成
物、およびバインダーとして、（Ｃ１〜Ｃ１２）アルキ
ルビニルエーテル単位からなるか、または少なくとも５
モル％のその様な単位を含むが、同時に、脂肪族水酸基
を含まない単独重合体および／または共重合体を含む。
乾式オフセット印刷用の印刷板を製造するために、この
記録材料を像様露光し、続いて水または水溶液を使用し
て現像する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】本発明は、支持体、放射線感応性層および
シリコーン層をこの順序で有する記録材料に関するもの
である。本発明はさらに、この記録材料から乾式オフセ
ット印刷用の印刷板を製造するための方法にも関するも
のである。
【０００２】乾式(water-free)オフセット印刷板を製造
できる記録材料はすでに公知である。例えば、英国特許
第１，３９９，９４９号明細書には、支持体、印刷イン
クを載せる放射線感応性層、印刷インクをはじくシリコ
ーン層、および好ましくは透明な保護被膜を有するポジ
型材料が記載されている。放射線感応性層は、必須成分
として、沸点が１００℃を超える光重合可能なエチレン
性不飽和モノマーまたはオリゴマー、光反応開始剤およ
び一般的にバインダーも含んでなる。バインダーは、好
ましくはビニル重合体または共重合体（例えばポリ酢酸
ビニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラー
ル、ポリビニルブチルエーテル、ポリ塩化ビニル、また
はポリエチレン）、ポリエーテル（例えばポリエチレン
オキシドまたはポリプロピレンオキシド）、ポリアミ
ド、ポリエステル、セルロース誘導体、尿素−ホルムア
ルデヒド樹脂、アルキド樹脂、メラミン−ホルムアルデ
ヒド樹脂、またはフェノール−ホルムアルデヒド樹脂で
ある。放射線感応性層の露光区域では、モノマーまたは
オリゴマーが重合し、シリコーン層に接着する。次い
で、記録材料を現像剤溶液で処理する。この処理の際
に、シリコーン層が非露光区域で大きく膨潤し、ブラシ
掛けまたは類似の手段により除去することができる。露
光区域では、対照的に、シリコーン層が感光層に接着し
て残る。加熱または全面露光により、感光層とシリコー
ン層の密着性をさらに強化することができる。同時に、
感光層は、本来露光していない区域で硬化し、乾式印刷
板の耐引っ掻き性を増加させ、印刷寿命を延ばすことが
できる。
【０００３】ＥＰ−Ａ ０３９４９２３明細書による記
録材料も同様に支持体、感光層およびシリコーン層を含
んでなる。ここでは感光性成分がジアゾニウム塩重縮合
生成物である。感光層は、他の必須成分として、脂肪族
水酸基を含むエステルの単位、またはアクリル酸または
メタクリル酸のアミドの単位を含む重合体状バインダー
を含む。このバインダーは、一般的にヒドロキシアルキ
ル（メタ）アクリレートまたは（メタ）アクリルアミド
の単位を含む重合体である。さらに、バインダーは他の
モノマーの単位も含むことができる。その例は、芳香族
水酸基を含むモノマー（例えばＮ−（４−ヒドロキシフ
ェニル）アクリルアミドまたはメタクリルアミド、２
−、３−または４−ヒドロキシスチレン、（２−、３−
または４−ヒドロキシフェニル）アクリレートまたはメ
タクリレート）である。さらに、モノマーは、α，β−
不飽和カルボン酸、置換されたアルキルアクリレートま
たはメタクリレート、ビニルエーテル（例えばエチルビ
ニルエーテル、ブチルビニルエーテルまたはフェニルビ
ニルエーテル）、スチレン、ビニルケトン、オレフィ
ン、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、
４−ビニルピリジン、アクリロニトリルまたはメタクリ
ロニトリルでもよい。バインダー中の水酸基の比率（こ
れは明らかに脂肪族水酸基を含む単位の比率を意味す
る）は、５〜１００重量％、好ましくは２０〜１００重
量％、といわれているが、これは、この範囲外では放射
線感応性層とシリコーン層との間の密着性が不十分にな
るためである。像様露光の後、極性溶剤（例えばアルコ
ール、エチレングリコールモノアルキルエーテル、ケト
ンまたはエステル）、アルカリ性化合物、界面活性剤お
よび脂肪族、芳香族またはハロゲン化炭化水素（例えば
ヘキサン、ヘプタン、トルエン、またはキシレン）を含
む水溶液を使用して記録材料を現像する。これによっ
て、放射線感応性層の非露光区域が、その上にあるシリ
コーン層区域と共に除去される。さらに、アルミニウム
支持体と放射線感応性層の間にはプライマー層が配置さ
れている。このプライマー層は現像の際に除去されな
い。印刷の際、インクはプライマー層から転写され、残
ったシリコーン層が印刷インクをはじく。
【０００４】この様に、乾式印刷板製造用の公知の記録
材料は、現像の際に有機溶剤を必要とする。しかし、こ
のことは、職業上の安全性および環境保護の理由から不
利である。使用済み現像剤溶液の廃棄は複雑であり、か
なりのコストがかかる。
【０００５】そこで本発明の目的は、極めて簡単な構造
を有する、すなわち僅かな数の層しかなく、特にプライ
マー層を含まない、記録材料を提供することである。像
様露光の後、その記録材料は水溶液、理想的には純粋な
水、で現像でき、印刷中に湿し水を必要としない印刷板
（乾式印刷板）を形成できるべきである。さらに、この
記録材料は、現像の際に、非露光区域にあるシリコーン
層だけが除去され、（予め）放射線感応性である層は除
去されない様な性質を有するべきである。したがって、
印刷の際、インクはこの層の裸の区域から転写され、同
時に、放射線感応性層の成分が現像剤中に溶解すること
が避けられ、したがって現像剤の耐用寿命が長くなる。
【０００６】この目的は、冒頭に記載した種類の記録材
料であって、放射線感応性層が、放射線感応性成分とし
て、ジアゾニウム塩重縮合生成物、およびバインダーと
して、（Ｃ１〜Ｃ１２）アルキルビニルエーテル単位か
らなるか、または少なくとも５モル％のその様な単位を
含むが、同時に、脂肪族水酸基を含まない、単独重合体
および／または共重合体を含むことを特徴とする記録材
料により達成される。メチルビニルエーテル単位からな
るか、またはメチルビニルエーテル単位を含んでなる重
合体が特に好ましい。単独重合体は、好ましくはＫ値が
１０〜８０である。共重合体は、一般的に不規則な、ま
たは交番する構造を有する、すなわちブロック共重合体
ではない。共重合体中の他の単位は、無水マレイン酸ま
たはマレイン酸モノアルキル、特にマレイン酸モノ（Ｃ
１〜Ｃ６）アルキル、例えばマレイン酸モノエチル、モ
ノイソプロピルまたはモノブチル、であるのが特に有利
である。メチルビニルエーテル−無水マレイン酸共重合
体は、例えばGAF Chemicals Corp. （米国）、からＲGa
ntrez AN(CAS No. 108-88-3) の名称で市販されてい
る。
【０００７】支持体は一般的に金属の板またはホイルで
ある。アルミニウムまたはアルミニウム合金の板または
ホイルが好ましい。支持体は前処理するのが好ましいこ
とが立証されている。アルミニウム系の支持体材料は、
通常、機械的および／または電気化学的に粗面化され、
陽極酸化されることができる。ここでは、例えばポリビ
ニルホスホン酸、ケイ酸塩、リン酸塩、ヘキサフルオロ
ジルコニウム酸塩または加水分解されたオルトケイ酸テ
トラエチルによる化学的前処理も可能である。従来の平
版印刷板と対照的に、親水性の支持体表面を必要としな
いので、銅、黄銅または他の親油性の金属または合金、
およびプラスチック、例えばポリエステル、ポリカーボ
ネート、ポリイミドまたは酢酸セルロース、の支持体材
料も使用することができる。
【０００８】放射線感応性におけるバインダーとして使
用する重合体は、一般的に分子量Ｍ ｗ が４０，０００
〜２，０００，０００、好ましくは５０，０００〜１，
０００，０００、特に好ましくは８０，０００〜５０
０，０００、である。バインダーの比率は、放射線感応
性層の不揮発成分の総重量に対して一般的に５〜４０重
量％である。
【０００９】混合物は、放射線感応性成分として、芳香
族ジアゾニウム塩の縮合生成物を含む。この種の縮合生
成物は公知であり、例えばＤＥ−Ａ １２１４０８６
（＝ＵＳ−Ａ ３，２３５，３８４）明細書に記載され
ている。
【００１０】縮合生成物は、一般的に多環式芳香族ジア
ゾニウム化合物、好ましくは置換された、または置換さ
れていないジフェニルアミン−４−ジアゾニウム塩、
を、活性カルボニル化合物、好ましくはメトキシメチル
ジフェニルエーテルまたはホルムアルデヒド、と、高度
の酸性媒体、好ましくは濃リン酸、中で縮合させること
により製造される。
【００１１】ＵＳ−Ａ ３，８６７，１４７および４，
０２１，２４３各明細書には他の縮合生成物が開示され
ているが、それらの、縮合によりさらに形成された単位
は、ジアゾニウム塩基を含まず、好ましくは芳香族アミ
ン、フェノール、フェノールエーテル、芳香族チオエー
テル、芳香族炭化水素、芳香族複素環式化合物または有
機酸アミドから誘導される。
【００１２】ジアゾニウム塩単位Ａ−Ｎ２Ｘは、好まし
くは式（Ｒ１−Ｒ２）ｐＲ３Ｎ２Ｘの化合物から誘導さ
れる。この式中、Ｒ１は、活性カルボニル化合物と縮合
し得る少なくとも１つ位置を有する芳香族基を表し、Ｒ
２ は、単結合または基−（ＣＨ２）ｑ−ＮＲ４−、−
Ｏ−（ＣＨ２）ｒ−ＮＲ４−、−Ｓ−（ＣＨ２）ｒ−Ｎ
Ｒ４−、−Ｓ−ＣＨ２ＣＯ−ＮＲ４−、−Ｏ−Ｒ５−Ｏ
−、−Ｏ−、−Ｓ−または−ＣＯ−ＮＲ４−を表し、Ｒ
３は、置換された、または置換されていない、フェニレ
ン基を表し、Ｒ４ は水素、炭素数１〜５のアルキル
基、炭素数７〜１２のアラルキル基、または炭素数６〜
１２のアリール基を表し、Ｒ５は炭素数６〜１２のアリ
ーレン基を表し、ｐは１〜３の整数を表し、ｑは０〜５
の整数を表し、ｒは２〜５の整数を表し、Ｘは、水また
は適当な溶剤に対する溶解性を付与する陰イオンを表
す。
【００１３】陰イオンＸは、好ましくは塩化物、硫酸
塩、リン酸塩または置換された、または置換されていな
い、炭素数１〜４のアルカンスルホン酸塩、例えばメタ
ンスルホン酸塩、またはアミノアルカンスルホン酸塩
（ＥＰ−Ａ ０２２４１６２明細書）、ｐ−トルエンス
ルホン酸塩、メシチレンスルホン酸塩、ヘキサフルオロ
ホスホン酸塩、およびその他である。
【００１４】置換された、または置換されていないジフ
ェニルアミン−４−ジアゾニウム塩、特に３−メトキシ
ジフェニルアミン−４−ジアゾニウム塩、から誘導され
る縮合生成物が好ましく、これらの中で、容易に入手で
きるホルムアルデヒドとの縮合生成物が好ましい。縮合
は、好ましくは濃縮された硫酸、リン酸またはメタンス
ルホン酸中で、特にリン酸中で行なう。安定化には、硫
酸、リン酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン
酸およびクエン酸が適当である。
【００１５】放射線感応性成分の比率は、それぞれの場
合に放射線感応性層の不揮発成分の総重量に対して、一
般的に２０〜８０重量％、好ましくは３０〜７０重量
％、特に好ましくは４０〜６５重量％、である。
【００１６】必要に応じて、放射線感応性層は、染料、
可塑剤（例えばグリセリン）、他の重合体状バインダー
（脂肪族水酸基を含むバインダーを包含する）および一
般的な従来の添加剤、例えば流動性調整剤およびコーテ
ィング添加剤、も少量含むことができる。その様な成分
の比率は、それぞれの場合に放射線感応性層の不揮発成
分に対して、一般的に３０重量％まで、好ましくは２０
重量％、までである。
【００１７】放射線感応性層の重量は、一般的に約０．
５〜３．０ g/m２、好ましくは０．８〜１．５ g/m２、
である。
【００１８】シリコーン層は、原則的に、湿し水無しに
印刷できる様に十分にインクをはじく、すべてのシリコ
ーンゴムから製造することができる。
【００１９】ここで使用する用語「シリコーンゴム」
は、"Chemie und Technologie der Silikone"、Verlag
Chemie 、１９６８、３３２頁の、Nollによる定義によ
れば、高分子量の、実質的に直鎖のジオルガノポリシロ
キサンを意味する。これに対して、架橋または加硫した
製品には、用語「加硫シリコーンゴム」を使用する。い
ずれの場合も、シリコーンゴム溶液を放射線感応性層に
塗布し、乾燥させ、同時に架橋させる。
【００２０】シリコーンゴムは、１または多成分ゴムで
よい。それらの例は、ＤＥ−Ａ ２３５０２１１、ＤＥ
−Ａ ２３５７８７１およびＤＥ−Ａ ２３５９１０２
各明細書に記載されている。縮合シリコーンゴム、例え
ば１成分シリコーンゴム（ＲＴＶ−１）が好ましい。こ
れらのゴムは、通常、水素原子、アセチル、オキシム、
アルコキシまたはアミノ基または他の官能基を末端に有
するポリジメチルシロキサンを基剤とする。鎖中のメチ
ル基は、他のアルキル基、ハロアルキル基または置換さ
れた、または置換されていないアリール基で置換するこ
とができる。末端官能基は、容易に加水分解し、水分の
存在下で、数分〜数時間で硬化することができる。
【００２１】多成分シリコーンゴムは、付加または縮合
により架橋することができる。付加により架橋し得る種
類は、一般的に２種類の異なったポリシロキサンを含
む。第一のポリシロキサンは、７０〜９９重量％の比率
で存在し、主鎖のケイ素原子に結合しているアルキレン
基（特にビニル基）を含む。他方のポリシロキサンは、
１〜１０重量％の比率で存在する。この物質では、水素
原子がケイ素原子に直接結合している。付加反応は、約
０．０００５〜０．００２重量％の白金触媒の存在下、
５０℃を超える温度で起こる。多成分シリコーンゴムに
は、高温（約１００℃）で非常に急速に架橋するという
利点がある。これに対して、作業に使用できる時間、い
わゆる「ポットライフ」は比較的短いことが多い。
【００２２】縮合により架橋し得る混合物は、反応性の
末端基、例えば水酸基またはアセトキシ基、を含むジオ
ルガノポリシロキサンを含む。これらの材料は、触媒の
存在下でシランまたはオリゴシランにより架橋する。架
橋剤は、シリコーン層の総重量に対して２〜１０重量％
の比率で存在する。触媒は、やはりシリコーン層の総重
量に対して０．０１〜６重量％の比率で存在する。これ
らの組合せも同様に非常に急速に反応し、ポットライフ
が限られている。
【００２３】シリコーン層はさらに他の成分も含むこと
ができる。これらの成分は、架橋を強化し、密着性、機
械的補強性または色合いを改良する。他の成分の比率
は、それぞれの場合にシリコーン層の総重量に対して１
０重量％以下、好ましくは５重量％以下、の比率で存在
する。
【００２４】好ましい混合物は、ヒドロキシル末端を有
するポリジメチルシロキサン、シラン架橋成分（特に四
または三官能性アルコキシ−、アセトキシ−、アミド
−、アミノ−、アミノキシ−、ケトキシム−またはエノ
キシシラン）、架橋触媒（特に有機スズまたは有機チタ
ン化合物）および、必要に応じて、他の成分（特にＳｉ
−Ｈ結合を含むオルガノポリシロキサン化合物、さらに
付加架橋させるための白金触媒、密着性改良特性を有す
るシラン、反応遅延剤、充填材および／または染料）か
らなる。該シラン架橋成分および架橋の際に起こる反応
は、J.J. LebrunおよびH. Porteにより、"Comprehensiv
e Polymer Science"、第５巻、１９８９年、５９３〜６
０９頁に記載されている。
【００２５】被膜として塗布した後、シリコーンゴムを
公知の様式で、湿分またはそれらの独自の成分の作用に
より、室温または高温で架橋させ、有機溶剤に実質的に
不溶な加硫されたシリコーンゴムを形成させる。完成し
たシリコーン層の重量は、一般的に１．０〜５．０ g/m
２、好ましくは１．２〜３．５ g/m２、特に好ましくは
１．５〜３．０ g/m２、である。
【００２６】必要に応じて、シリコーン層の上に不連続
なつや消し層が存在することができる。つや消し層は、
真空接触複写焼枠中で一定した真空を得るのに要する時
間を短縮することにより、複写特性を改善するのに役立
つ。つや消し層が存在しない場合、真空を作用させて
も、フィルムマスクと（同様に平滑な）シリコーン層の
間に気泡が残るので、マスクと放射線感応性層の間の分
離が場所によって不均一になる。このために、その後の
露光の際に欠陥が生じることがある。つや消し層は、一
般的に水溶性有機重合体、例えばポリビニルピロリド
ン、ポリアクリル酸、ポリビニルブチラール、多糖類、
ゼラチンまたはポリビニルアルコール、からなる。つや
消し層は、一般的に公知の方法、例えば対応する水溶液
または分散液をスプレーし、次いでその層を乾燥させる
ことにより、製造することができる。つや消し層の重量
は、一般的に０．１〜０．５ g/m２記録材料である。水
で現像（乾式印刷板の場合は「デラミネーション」とも
呼ばれる）する際、つや消し層は完全に除去される。
記録材料の像様露光は、一般的に、この目的に通常使用
する光源、例えば水銀高圧蒸気ランプまたはカーボンア
ークランプ、を使用し、接触画像形成により行なう（そ
の際、真空接触複写焼枠中でフィルムマスクを記録材料
の上に直接載せ、次いで、間の空気を完全に吸引す
る）。続いて、露光した記録材料を通常の、乾式印刷板
用に公知の装置中で、水または水溶液を使用して現像す
る。現像工程は、ブラシ処理または他の機械的手段で補
助するのが有利である。この工程で、非画像区域におけ
るシリコーン層は除去されない。シリコーン層上に存在
し得るスペーサー層はすべて同時に除去される。露光し
た記録材料の予備膨潤を省略することもできる。現像の
際に除去されたシリコーン層の成分は、濾過により分離
することができる。したがって、薬品を含む使用済み現
像剤溶液を廃棄する問題は生じない。
【００２７】本発明のポジ型記録材料から製造される乾
式オフセット印刷用の印刷板は、解像度が高く、同時
に、大量の印刷を行なうことができる。
【００２８】下記の諸例は本発明を説明するためのもの
である。これらの例で、「pbw」 は「重量部」を意味す
る。他に指示がない限り、百分率は重量で表示する。
【００２９】例１〜７ 電気分解により粗面化され、陽極酸化された、厚さ０．
３mmで、酸化物重量３．６ g/m２（±０．３ g/m２）の
アルミニウム板に、０．１％濃度のポリビニルホスホン
酸水溶液を使用して親水性を付与した。この支持体に下
記の溶液をスピンコーティングした。２．６５ pbwの、
３−メトキシジフェニルアミン−４−ジアゾニウム硫酸
塩１モルおよび４，４’−ビスメトキシメチルジフェニ
ルエーテルから製造し、メシチレンスルホネートとして
分離したジアゾニウム塩重縮合生成物、０．０８ pbwの
８５％濃度リン酸、０．４０ pbwのグリセリン、０．８
４ pbwの、下記の表に挙げたバインダーの１種（溶解さ
れたバインダーの場合、 pbwは固体含有量に関し、この
場合、溶剤を考慮し、対応して差し引く）、２．４０ p
bwの、ジエチレングリコールモノメチルエーテル（＝メ
チルジグリコール）中、１％濃度シリコーン油溶液、３
６．４８ pbwのエタノール（アルコール中にすでに溶解
しているバインダーを使用する場合、この分量を対応し
て差し引く）、４１．７８ pbwのジエチレングリコール
モノメチルエーテル、および１５．３６ pbwのブタン−
２−オン（＝メチルエチルケトン）。
【００３０】次いで、このコーティングを、ファン付き
加熱炉中、１２０℃で２分間乾燥させた。この様にして
製造した放射線感応性層の厚さも表１に示す。 表１ 例 バインダーの種類 層の厚さ [g/m２] １ メチルビニルエーテル−無水マレイン酸共重合体 １．０３ （交番構造、Ｍｗ ＝２１６，０００、エタノール中、 １０％濃度） ２ ポリ（メチルビニルエーテル）、Ｋ値＝５０ ０．８５ ３ ポリ（エチルビニルエーテル）、Ｋ値＝１２ ０．７５ ４ メチルビニルエーテル−マレイン酸共重合体の ０．８９ モノエチルエステル（Ｍｗ ＝１００，０００〜 １５０，０００、エタノール中、５０％濃度） ５ メチルビニルエーテル−マレイン酸共重合体の ０．８８ モノイソプロピルエステル（Ｍｗ ＝１１０，０００〜 １４０，０００、イソプロパノール中、５０％濃度） ６ メチルビニルエーテル−マレイン酸共重合体の ０．９０ モノブチルエステル（Ｍｗ ＝９０，０００〜 １５０，０００、エタノール中、５０％濃度） ７ メチルビニルエーテル−マレイン酸共重合体 １．３２ （Ｍｗ ＝１，９８０，０００）
【００３１】次いで、この放射線感応性層に下記の混合
物を塗布した。８．４２ pbwの、粘度約５０００mPs を
有する、ヒドロキシ末端を有するポリジメチルシロキサ
ン、０．５８ pbwのエチルトリアセトキシシラン、０．
０９ pbwの、沸点範囲１１７〜１３４℃を有するイソパ
ラフィン系炭化水素混合物中、酢酸ジブチルスズの１％
濃度溶液、２７．３０ pbwのブタン−２−オン、および
６３．６１ pbwの、沸点範囲１１７〜１３４℃を有する
イソパラフィン系炭化水素混合物。
【００３２】この様にして製造した層を１２０℃で２分
間乾燥させた。シリコーン層の厚さは２．１ g/m２ に
なった。
【００３３】この様にして製造した記録材料を、ポジ型
マスクの下で、距離１１０cmから、５kWh ハロゲン化金
属ランプで３８秒間像様露光した。次いで、この記録材
料を通常の乾式印刷板現像装置で現像した（その際、機
械的な補助手段により層を現像した）。この装置の予備
膨潤工程では、通常の水を室温で使用した。次いで、放
射線の影響を受けなかった区域のシリコーンゴム層は除
去されたが、放射線感応性層は実質的に支持体上に残っ
た。得られた印刷板は、高い解像度および印刷中の高い
安定性を有し、したがって大量の印刷を行なうことがで
きた。
【００３４】例８（比較例） シリコーン層を有する放射線感応性記録材料を例１〜７
に記載する様にして製造した。しかし、今回製造した放
射線感応性層は、下記の混合物を使用した。２．６５ p
bwの、３−メトキシジフェニルアミン−４−ジアゾニウ
ム硫酸塩１モルおよび４，４’−ビスメトキシメチルジ
フェニルエーテルから製造し、メシチレンスルホネート
として分離したジアゾニウム塩重縮合生成物、０．１０
pbwの８５％濃度リン酸、１．００ pbwのグリセリン、
１．０６ pbwのポリビニルブチラール（ポリビニルブチ
ラール単位８０モル％、ビニルアルコール単位１８モル
％、および酢酸ビニル単位２モル％、Ｔｇ＝７２〜７８
℃）、０．１５ pbwのVictoria Blue FBR (Basic Blue
55) 、３．００ pbwの、ジエチレングリコールモノメチ
ルエーテル中、１％濃度シリコーン油溶液(ＲEdaplan L
A 411) 、３６．１０ pbwのエタノール、４０．７３ pb
wのジエチレングリコールモノメチルエーテル、および
１５．２０ pbwのブタン−２−オン。
【００３５】乾燥後、そこから製造した放射線感応性層
の厚さは１．１ g/m２になった。
【００３６】この記録材料を、本発明の例と同様に像様
露光し、現像した。しかし、記録材料の非露光区域のシ
リコーンゴム層は除去されず、したがって、使用可能な
印刷板は得られなかった。
【００３７】例９（比較例） ポリビニルブチラールを、同量の、ポリビニルブチラー
ルと無水マレイン酸の反応生成物（ＤＥ−Ａ ３４０４
３６６明細書に記載されている様な）で置き換えた以外
は例８を繰り返し、放射線感応性層の厚さは１．０ g/m
２になった。

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】支持体、放射線感応性層およびシリコーン
    層を有する記録材料であって、放射線感応性層が、放射
    線感応性成分として、ジアゾニウム塩重縮合生成物、お
    よびバインダーとして、（Ｃ１ 〜Ｃ１２）アルキルビ
    ニルエーテル単位からなるか、または少なくとも５モル
    ％の（Ｃ１ 〜Ｃ１２）アルキルビニルエーテル単位を
    含むが、同時に、脂肪族水酸基を含まない、単独重合体
    および／または共重合体を含むことを特徴とする記録材
    料。
  2. 【請求項２】放射線感応性成分の比率が、それぞれの場
    合に放射線感応性層の不揮発成分の総重量に対して、２
    ０〜８０重量％である、請求項１に記載の記録材料。
  3. 【請求項３】バインダーが、メチルビニルエーテル単位
    の単独重合体であるか、またはメチルビニルエーテル単
    位を含む共重合体である、請求項１に記載の記録材料。
  4. 【請求項４】共重合体中の他の単位が、無水マレイン酸
    またはマレイン酸モノアルキルの単位である、請求項１
    〜３のいずれか１項に記載の記録材料。
  5. 【請求項５】放射線感応性におけるバインダーとして使
    用する単独重合体または共重合体の分子量Ｍｗが４０，
    ０００〜２，０００，０００である、請求項１〜４のい
    ずれか１項に記載の記録材料。
  6. 【請求項６】バインダーの比率が、放射線感応性層の不
    揮発成分の総重量に対して５〜４０重量％である、請求
    項１〜５のいずれか１項に記載の記録材料。
  7. 【請求項７】ジアゾニウム塩重縮合生成物が、多環式芳
    香族ジアゾニウム化合物を、活性カルボニル化合物と縮
    合させることにより製造される、請求項１〜６のいずれ
    か１項に記載の記録材料。
  8. 【請求項８】放射線感応性層が、染料または可塑剤をさ
    らに含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の記録材
    料。
  9. 【請求項９】放射線感応性層の重量が約０．５〜３．０
    g/m２である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の記
    録材料。
  10. 【請求項１０】シリコーン層が縮合シリコーンゴムを含
    む、請求項１〜９のいずれか１項に記載の記録材料。
  11. 【請求項１１】シリコーン層の重量が１．０〜５．０ g
    /m２である、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の記
    録材料。
  12. 【請求項１２】シリコーン層の上に不連続なつや消し層
    が存在する、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の記
    録材料。
  13. 【請求項１３】つや消し層が、水溶性有機重合体からな
    る、請求項１２に記載の記録材料。
  14. 【請求項１４】支持体がアルミニウムまたはアルミニウ
    ム合金からなり、その表面が電気化学的に粗面化されて
    いる、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の記録材
    料。
  15. 【請求項１５】請求項１〜１４のいずれか１項に記載の
    記録材料を像様露光し、続いて水または水溶液を使用し
    て現像することを特徴とする乾式オフセット印刷用印刷
    板の製造法。
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