JP2001109148A - 化学的安定性及び現像剤安定性を改良するための印刷版用放射感受性組成物、並びに上記組成物を含む印刷版 - Google Patents

化学的安定性及び現像剤安定性を改良するための印刷版用放射感受性組成物、並びに上記組成物を含む印刷版

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JP2001109148A
JP2001109148A JP2000234922A JP2000234922A JP2001109148A JP 2001109148 A JP2001109148 A JP 2001109148A JP 2000234922 A JP2000234922 A JP 2000234922A JP 2000234922 A JP2000234922 A JP 2000234922A JP 2001109148 A JP2001109148 A JP 2001109148A
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radiation
copolymer
sensitive composition
alkyl
novolak
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JP2000234922A
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Mathias Jarek
マティアス・ヤレク
Gerhard Hauck
ゲルハルト・ホーク
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides
    • G03F7/023Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0233Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides

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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 積算回路のためのサーキットボード、フォト
マスク及び特に印刷フォームの化学的安定性を顕著に増
大する、放射感受性組成物の提供。 【解決手段】 (a)少なくとも一つのノボラック
(b)少なくとも一つのナフトキノンジアジド誘導体及
び(c)下記のユニットA、B及びCより成るコポリマ
ーを含むことを特徴とする放射感受性組成物。 [式中、R及びRは、Aのホモポリマーがアルカリ
可溶性であるように選択される] [式中、R、R及びRは、Bのホモポリマーが高
いガラス転移温度を有するように選択される] [式中、R及びRは、ユニットCがユニットAと異
なることを条件に、Cのホモポリマーが水溶性であるよ
うに選択される]

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、放射(radiation)
感受性組成物、並びにそれから生産されるポジ型印刷版
に関する;特に、本発明は、ポジ型印刷版等の増大した
化学的及び現像剤安定性を導く放射感受性組成物に関す
る。
【0002】
【従来の技術】近年、溶剤、及び版洗浄剤及びゴムブラ
ンケット洗浄剤のような一般的な印刷室用化学薬品、並
びに湿し水中のアルコール置換体に対する、オフセット
印刷版の安定性が、常に増大する要求に満足される必要
にあった。特に、UV硬化インキを使用する印刷方式に
おいて、高含有量のエステル、エーテルまたはケトンを
有するすすぎ剤を使用する場合、従来のポジ型印刷版の
化学的安定性は、特別な安定化工程なしではもはや十分
ではない。ポジ型オフセット印刷版の化学的安定性を改
良するために、3種のアプローチが本質的に議論されて
いる。
【0003】1)最も基本的な場合において、ポジ型オ
フセット印刷版は、主としてナフトキノンジアジド誘導
体(NQD誘導体)及びノボラックという、二つの構成
成分を含む。一つの可能性は、増大した化学的及び溶剤
安定性を与えるように、NQDを化学的に改変すること
である(US-A-5,609,983参照)。この方法の欠点は、N
QD含有量が、実践的な観点から意味をなす特定の範囲
にある必要があるため、該改良から得られる印刷版の安
定性が、NQD含有量を増大することにより無限に増大
できないことである。
【0004】2)別のアプローチは、従来のポジ型印刷
版(ノボラック及びNQDに基づく)を熱的に安定化す
ることである。これは、「ベーキング」("baking")また
はPulsar(登録商標)工程のいずれかによって実施でき
る。ベーキングの間、完全に現像された印刷フォーム
は、約230℃で数分間加熱され、ほとんどのフェノー
ル性バインダーの架橋が生ずる。これは、非常に高い化
学的及び機械的安定性を生ずる。他の熱的工程(Pulsar
(登録商標)工程)において、現像された印刷版は、約
175℃で短時間の「ショックヒーティング」を受け
る。
【0005】これは、画像領域のわずかな架橋(それ故
化学的安定性の増大)を生ずる。
【0006】ユーザーにとって、上記二つの熱的安定化
工程は、幾分複雑な器具を必要とし、それ故非常に高価
であるという重要な欠点を伴う。
【0007】3)第三の選択肢は、放射感受性組成物の
バインダー含有量を変えることである。例えば、添加剤
をその処方に加えることができる。しかしながら、商業
的に入手可能な添加剤の場合、これらの物質は該組成物
に適応せず、それ故あまりに高い濃度で加えられた場
合、ほとんどの時間で印刷版の特性に影響するため、加
えられる量はしばしば制限される。
【0008】別の頻繁に使用される方法は、高分子ノボ
ラックの使用である;しかしながら、これは該組成物の
感光性の低下を生じ、特に非常に多数のプリントの場
合、またはStep & Repeat露光器を使用する場合に、ユ
ーザーに対してかなりの時間のロスを導く。
【0009】さらに、感光性組成物中のバインダーの特
性は、化学的修飾によって改良することができる。高い
度合の化学的安定性を有する上記特別なバインダーは、
商業的に入手可能ではないかまたは非常に高価であるた
め(例えばEP-A-0 737 896)、製造者は独自のバインダ
ーを開発することがしばしば必要である。非常に高価な
開発工程を避けるために、そのような特注の高性能のバ
インダーを調製するための合成の必要条件性をできるだ
け単純に維持する努力がなされなければならない。
【0010】それ故、オフセット印刷版用の化学的に安
定なバインダーの分野における過度の研究にも関わら
ず、この問題を解決する利用可能なアプローチは、特に
より融通がきき、且つ、より安価なバインダーの点で、
所望の程度の改良に未だ至らない。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、上述の欠点に苦しめられることなく、集積回路のた
めのサーキットボード、フォトマスク及び特に印刷フォ
ームの化学的安定性を顕著に増大する、放射感受性組成
物を提供することである。さらに、従来の現像液での現
像が可能であり、高い度合の放射線感受性、優れた解像
度、及び迅速なインキ受容性が保証されるべきである;
さらに、使用されるバインダーは、安価であるべきであ
る。本発明の別の目的は、上記放射感受性組成物の調製
方法、並びにそれから生産される印刷版を提供すること
である。
【0012】
【課題を解決するための手段】この目的は、以下のもの
を含む放射感受性組成物によって達成される: (a)少なくとも一つのノボラック (b)少なくとも一つのナフトキノンジアジド誘導体及
び (c)ユニットA、B及びCより成るコポリマー、ここ
でユニットAは、少なくとも5から最大50モル%の量
で存在し、以下の式を有する:
【化4】 [式中、R1及びR4は、Aのホモポリマーがアルカリ可
溶性であるように選択される] ユニットBは、20から70モル%の量で存在し、以下
の式を有する:
【化5】 [式中、R2,R6及びR7は、Bのホモポリマーが高い
ガラス転移温度を有するように選択される] 並びにユニットCは、10から50モル%の量で存在
し、以下の式を有する:
【化6】 [式中、R3及びR5は、ユニットCがユニットAと異な
ることを条件に、Cのホモポリマーが水溶性であるよう
に選択される]。
【0013】本発明に従った印刷版は、基板及び上述の
組成物より成る放射感受性層を含む。
【0014】
【発明の実施の形態】コポリマーはターポリマーであ
り、その骨格はユニットAからCより成る:
【化7】 それらのそれぞれは、コポリマー中で特定の機能を有す
る。
【0015】構造ユニットAは、本発明に従ったコポリ
マーのアルカリ溶解性に関与する。必須の条件として、
モノマーAのホモポリマーは、アルカリ可溶性でなけれ
ばならないが、それは水溶性である必要はないであろ
う。
【0016】構造ユニットBは、主としてコポリマーの
高いガラス転移温度に関与し、それ故有機溶剤の迅速な
浸透を妨げる。必須の条件として、Bのホモポリマー
は、好ましくは約100℃以上の高いガラス転移温度を
有さなければならない。
【0017】構造ユニットCは、コポリマーが迅速に且
つ完全に現像でき、現像工程の間に非所望の薄膜の形成
が存在しないように、コポリマーの十分な親水性を確保
する。必須の条件として、構造ユニットCのホモポリマ
ーは水溶性であり、それはアルカリ可溶性もまたしばし
ば導く。
【0018】以下のものは、本出願を通じて適用され
る:
【0019】他に定義するところがなければ、本出願中
の用語、「アルキル」は、1から12の炭素原子、好ま
しくは1から4の炭素原子を有する直鎖状または分枝状
アルキル基を示すように企図され、用語、「シクロアル
キル」は、3から8の環形成炭素原子、好ましくは5か
ら6の環形成炭素原子を有するシクロアルキル基を示
し、用語、「アリール」は、フェニル、ナフチル、アン
トリル、またはN-置換カルバゾール基を示し、並びに用
語、「ハロゲン」は、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素
を意味する。
【0020】他に断り書きがなければ、用語、「アルキ
ル」及び「シクロアルキル」は、置換されていないアル
キル基/シクロアルキル基、並びにハロゲン原子及び−
NO 2から選択される少なくとも一つの置換基を有する
アルキル基/シクロアルキル基を含む。
【0021】さらに、他に断り書きがなければ、本出願
中の用語、「アリール」は、置換されていないアリール
基、並びにハロゲン原子、アルキル基及び−NO2から
選択される少なくとも一つの置換基を有するアリール基
を示すように企図される。
【0022】用語、「アルコキシ基」は、1から12の
炭素原子を有するアルコキシ基を含む;アルコキシ基の
アルキルユニットは、分枝状、直鎖状または環状であり
得、さらに、−OH、ハロゲン原子、アルキル基、及び
アリール基から選択される一つ以上の置換基を任意に含
み得る。
【0023】好ましくは、R1は、水素;少なくとも一
つのヒドロキシ基を有し、そしてさらにハロゲン、(C
1−C12)アルキル及び−NO2から選択される少なくと
も一つの置換基を任意に有するアリール;アリールスル
ホンアミド基(フェニルスルホンアミドも同様);また
は少なくとも一つのカルボキシ基を有する(C1
1 2)アルキルである。
【0024】特に好ましくは、R1は、水素、ヒドロキ
シフェニル、またはカルボキシ−(C1−C4)アルキル
である。
【0025】好ましくは、R4及びR5は、独立に水素、
ハロゲン、または(C1−C12)アルキルである。
【0026】特に好ましくは、R4は、Hまたは−CH3
である;同じことがR5にも当てはまる。
【0027】R2は好ましくは、水素;ハロゲン、アル
キル、−NO2及び−OHから選択される一つ以上の置
換基を任意に有するアリール;アルキル;シクロアルキ
ル;アリールスルホンアミド基(フェニルスルホンアミ
ドも同様);またはスルホンアミド基である。
【0028】特に好ましくは、R2は、水素、フェニ
ル、シクロヘキシル、またはヒドロキシフェニルであ
る。
【0029】好ましくは、R6及びR7は、独立に水素、
ハロゲン、(C1−C4)アルキル、またはフェニルであ
る。
【0030】特に好ましくは、R6及びR7は、両者とも
水素である。
【0031】好ましくは、R3は、水素;少なくとも一
つのヒドロキシ基を有し、そしてさらにハロゲン及び−
NO2から選択される一つ以上の置換基をも任意に有す
る(C1−C12)アルキル;少なくとも一つのヒドロキ
シ基を有し、そしてさらにハロゲン及び−NO2から選
択される一つ以上の置換基をも任意に有する(C3
8)シクロアルキル;少なくとも一つのヒドロキシ基
を有し、そしてさらにハロゲン、(C1−C12)アルキ
ル及び−NO2から選択される一つ以上の置換基を任意
に含むアリール;(C1−C12)アルキルスルホンアミ
ド基;アリールスルホンアミド基;−NH(CH2n
−アルキル(式中、nは1から20の整数である);−
NHR8(式中、R8は水素、(C1−C12)アルキルま
たはアリールである);または(C1−C12)アルコキ
シである。
【0032】特に好ましくは、R3は、−NH2または−
CH2−CH2−OHである。
【0033】本発明のコポリマー中のモノマーユニット
Aの含有量は、コポリマーに基づいて、少なくとも5か
ら多くとも50モル%であり、好ましくはAの含有量
は、7から40モル%、特に好ましくは10から30モ
ル%である。
【0034】ユニットBの含有量は、コポリマーに基づ
いて、20から70モル%、好ましくは35から60モ
ル%である。
【0035】ユニットCの含有量は、コポリマーに基づ
いて、10から50モル%、好ましくは20から45モ
ル%である。
【0036】コポリマーの重量平均分子量は、好ましく
は500から1,000,000、特に好ましくは2,
000から250,000である。
【0037】コポリマーは、以下のモノマーA’、B’
及びC’から、周知の重合工程(例えば溶液重合、バル
ク重合、エマルション及び懸濁液重合)によって、調製
できる:
【化8】 [式中、R1からR7は、A、B及びCについて定義され
たものと同様である]。好ましくは、モノマーA’、
B’及びC’を含む溶液は加熱され、一般的な開始剤が
加えられる。モノマー混合物に開始剤を加え、次いで有
機溶剤を加え、次に生じた溶液を加熱することも可能で
ある。
【0038】特に好ましいモノマーA’は、メタクリル
酸である。
【0039】特に好ましいモノマーB’は、N-フェニル
マレイミド及びN-シクロヘキシルマレイミドである。
【0040】特に好ましいモノマーC’は、メタクリル
アミド及びメタクリル酸N-メトキシメチルである。
【0041】コポリマーは、「スタンド−アローン("st
and-alone")」バインダーとして、及び添加剤としての
両者で使用できる、即ち、本発明の放射感受性組成物に
一つ以上のさらなるバインダーを加えることもできる。
【0042】コポリマーの調製は安価であり、それは個
々の組成物に合成的に容易に適用できる、即ち、「スタ
ンド−アローン」バインダーとしてまたは添加剤として
使用されるかどうかに関わらず、それは適用できる。
【0043】上記放射感受性組成物で生産される本発明
の印刷フォームは、その高い度合の化学的安定性、即ち
印刷室での化学薬品及び現像剤に対する安定性によって
特徴付けられる。
【0044】放射感受性組成物の好ましい特性を十分に
利用するために、コポリマーを添加剤として、またはス
タンド−アローンバインダーとしての何れで使用するに
せよ、企図した使用にコポリマーを適用することは、理
にかなったものである。この適用は、例えばモノマーA
の含有量を修正することによって容易に影響され得、そ
の含有量はアルカリ可溶性に影響するのである。もし企
図した使用が、一般的なポジ型処方における安定性増大
用添加剤としてであれば、UVインキ印刷版のためのス
タンド−アローンバインダーとしての使用のための含有
量(好ましくは5から20モル%)よりも高い、好まし
くは20から40モル%の高含有量のユニットAがコポ
リマー中に推奨される。この関係において、コポリマー
中のこの基によってのみ示される重要な効果は、決定的
な役割を演じる。この効果は、以下により詳細に記載さ
れるであろう。
【0045】印刷版のようなポジ型システムの基本的な
作動原理は、露光及び非露光画像領域が現像液中に異な
る速度で溶解することである。原則的には、露光領域は
可能な限り迅速に溶解するはずであり、非露光領域は全
く溶解しないはずである。露光要素の溶解速度は、印刷
版の感光性(または「スピード」)を決定する;非露光
版の溶解速度は、現像剤安定性である。実践的な応用に
おいて、露光領域が完全に現像される時点と、非露光領
域が現像液に溶解する時点の間では、ほぼ1から4分の
時間が経過する。この時間間隔は、現像マージンとも称
される。特に反応性の現像液の場合、現実の現像時間
(15−30秒)よりわずかに長いものであり得るよう
に、このマージンは顕著に減少され得る。
【0046】本発明の放射感受性組成物において、ノボ
ラックとナフトキノンジアジド誘導体との組み合わせ中
のコポリマーは、感光性を減少することなく、同時に現
像マージンを顕著に増大することができる。図1に示さ
れるように、最大の現像剤安定性(実線)は、ノボラッ
ク/コポリマー混合物のシリーズの中間で生じる。この
非直線状の挙動は、予測曲線(点線)と明らかに異な
る。対照的に、高い現像剤安定性を有する処方は一般的
により感光性ではないため、該混合物シリーズの感光性
(破線)は、予測されるであろう最小値を示さない。
【0047】最大の安定性の現象は、NQDを欠くノボ
ラック/コポリマーの混合物中では生じない;その場
合、直線状の曲線が得られる。全ての3種の構成成分、
即ちノボラック、コポリマー及びNQDは、この効果に
おいて不溶化相助作用を示すので、該効果はまた、以下
において「交差−不溶化」("cross-insolubilisation")
としても称される。
【0048】もし、コポリマーとNQDのみを含む組成
物から開始し、増大する量のノボラックを加え続けたな
らば、現像剤安定性は増大する。これは、UVインキ印
刷で使用される印刷版について特に興味深い;それらに
適した組成物は、可能な限り最高の化学的安定性と、好
ましい現像マージンを必要とする。
【0049】コポリマー添加物による、ノボラックとN
QDに基づく放射感受性組成物の化学的安定性を改良す
ることのみを企図する場合、コポリマー中のユニットA
の量を増大することが推奨される(図2参照)。もし低
いユニットA含有量を有するポリマーが使用されるなら
ば(例えば15モル%)、版の感光性が影響を受ける
(図2a参照)。NQDと共にスタンド−アローンバイ
ンダーとしてのバインダーは、組成物の現像剤安定性を
ほとんど示さないが(図2b参照)、「交差−不溶化」
効果は、50%までのコポリマーの含有量(コポリマー
とノボラックの全量に基づく)で、もしユニットA含有
量が増大すれば(例えば20%以上)、優れた現像剤安
定性が感光性の決定的な減少を生ずることなく得られる
ことを可能にする。化学的安定性を増大するための大量
のアルカリ可溶性基を含む一般的な商業的添加剤(例え
ばセルロースアセテートハイドロジェンフラレート)の
場合、現像剤安定性が迅速に降下する曲線が生じ、それ
は点線によって図2bで示される。しかしながら、「交
差−不溶化」効果のため、コポリマーは、広範囲に亘っ
て感光性と現像剤安定性の両者を一定に維持できる;非
常に高いコポリマー含有量に達したときに、該系の「オ
ーバーターン」が始まる。特別なコポリマーは、一般的
な安定性増大用添加剤と比較して、顕著に増大した処方
マージンを提供する。
【0050】反応性の化学薬品に対する安定性は顕著に
増大し、それは図2bから推測できる(ある場合は10
0倍)。感光性組成物において、重合性バインダーが高
いまたは低い含有量の例えばユニットAを含むかどうか
は、印刷室の化学薬品に対する安定性とは無関係であ
る。
【0051】さらに、上記ポジ型放射感受性組成物は、
もし変換性(または互換性)であるならば、著しく増大
した変換マージンを示すことが見出された。試験された
場合、より高温での酸化及び架橋工程はもはや生じない
ので、変換温度は低下することができ、それは実践的な
利点を構成する。
【0052】該コポリマーは、感光性と現像剤安定性に
影響することなく、例えば印刷版のようなポジ型系の、
例えば印刷室の化学薬品に対する化学的安定性を劇的に
増大することが可能である。他方で、これらのコポリマ
ーは、UV硬化インキに対する最高の化学的安定性を有
するポジ型印刷版において、主なバインダー構成要素と
して使用することもできる。
【0053】ノボラックとNQDと共に不溶化相助作用
(「交差−不溶化」効果)を誘発するコポリマーの能力
は、非常に融通がきく応用に対する鍵となる。
【0054】ノボラックとして、当業者に周知である、
酸性触媒または中性触媒から得られる、ホルムアルデヒ
ドとフェノールから生産される全ての重縮合製品が使用
できる。
【0055】当業者に周知である全てのナフトキノンジ
アジド誘導体が使用できる。例として、ナフトキノン-
1,2-ジアジド-5-スルホン酸塩化物または-4-スルホン酸
塩化物と、2,4-ジヒドロキシベンゾフェノンまたは2,3,
4-トリヒドロキシベンゾフェノンから得られるエステル
が含まれる。
【0056】本発明において、ノボラックとナフトキノ
ンジアジド誘導体を、別個の構成成分として使用する必
要はない;ノボラックと反応させたナフトキノンジアジ
ド誘導体もまた使用できる(それは「トゥー−イン−ワ
ン」("two-in-one")系と称される)。
【0057】本発明の組成物中のコポリマーに対するノ
ボラックの重量比は、好ましくは90:10から10:
90の範囲である。
【0058】原則として、該コポリマーは、NQDとノ
ボラックに基づく一般的なポジ型組成物といずれかの割
合で混合できる。約100/0から約60/40(重量
%)のノボラック/コポリマーの割合で、コポリマーは
依然として添加剤と称すことができる。それらから生産
される本発明に従ったポジ型印刷版は、感光性組成物が
該コポリマーを含まない印刷版と比較して、顕著に改良
された化学的安定性を示す。もし、約40/60から約
0/100(重量%)のノボラック/コポリマー比を有
する組成物が、本発明に従ったポジ型印刷版の生産のた
めに使用されたならば、UV硬化インキを使用する印刷
工程に完全に適した、最高の化学的安定性を有する印刷
版が得られる。
【0059】必須の構成成分(コポリマー、ノボラック
及びNQD)に加えて、本発明の放射感受性組成物は、
放射線感受性酸性ドナー、イメージのコントラストを増
大するための染料または顔料、露光指標、可塑剤、及び
それらの混合物から選択される一つ以上の追加の構成要
素をさらに含むことができる。
【0060】放射感受性組成物における使用に適した露
光指標は、当業者に周知である。トリアリールメタン染
料(Victoria Pure Blue BO、Victoria Blue R、クリス
タルバイオレットのような)またはアゾ染料(4-フェニ
ルアゾジフェニルアミン、アゾベンゼン、または4-N,N-
ジメチルアミノアゾベンゼンのような)から選択される
露光指標が好ましい。露光指標は、0.02から10重
量%の量、特に好ましくは0.5から6重量%の量で、
該組成物中に存在できる。
【0061】画像のコントラストを増大するための適切
な染料は、コーティングのために使用される溶剤若しく
は溶剤混合物中に十分に溶解するもの、または特定の形
態で顔料として導入できるものを含む。適切なコントラ
スト染料には、とりわけローダミン染料、メチルバイオ
レット、アントラキノン顔料、及びフタロシアニン染料
または顔料が含まれる。
【0062】適切な可塑剤には、ジブチルフタラート、
トリアリールホスファート、及びジオクチルフタラート
が含まれる。ジオクチルフタラートが特に好ましい。可
塑剤は、0.25から2重量%の量で好ましくは使用さ
れる。
【0063】全重量に基づいて、放射感受性組成物は、
好ましくは2から90重量%、より好ましくは7から8
0重量%、最も好ましくは10から70重量%のコポリ
マーを含む。
【0064】感光性組成物は、印刷フォーム(特にオフ
セット印刷版)、集積回路用の印刷されたサーキットボ
ード、並びにフォトマスクの生産において使用できる。
【0065】本発明の印刷版のために使用される担体
は、好ましくは優れた平面安定性を有する、シートまた
はフィルムの形態の材料である。上記平面安定性のシー
トまたはフィルム材料として、印刷物のための担体とし
て既に使用されている材料が、好ましくは使用される。
上記担体の例として、紙、プラスチック材料(ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリスチレンのような)で皮膜
された紙、例えばアルミニウム(アルミニウム合金を含
む)、亜鉛及び銅シートのような金属シートまたはホイ
ル、例えば二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロ
ピオン酸セルロース、酢酸セルロース、酢酸酪酸セルロ
ース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタラート、
ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカ
ーボナート、及びポリビニルアセタートから作製された
プラスチックフィルム、並びに紙またはプラスチックフ
ィルム及び上述の金属の一つを含むラミネート、または
化学的蒸着によって金属化された紙/プラスチックフィ
ルムが含まれる。これらの担体の中では、顕著な平面安
定性を有し、安価であり、且つ放射線感受性層の優れた
接着をさらに示すために、アルミニウムシートまたはホ
イルが特に好ましい。さらに、アルミホイルがポリエチ
レンテレフタラートフィルム上にラミネートされている
コンポジットフィルムが使用できる。
【0066】金属担体、特にアルミニウム担体は、例え
ば乾燥状態におけるブラッシング、研磨懸濁液でのブラ
ッシング、または例えば塩酸電解質中の電気化学的な粒
状化(graining)といった表面処理、並びに任意に陽極酸
化を好ましくは受ける。
【0067】さらに、硫酸またはリン酸中で任意に陽極
酸化された、粒状化金属担体の表面の親水性特性を改良
するために、それはケイ酸ナトリウム、カルシウムジル
コニウムフッ化物、ポリビニルリン酸、またはリン酸の
水溶液中で、後処理を受ける。
【0068】上述の基板の予備処理の詳細は、当業者に
周知である。
【0069】後に乾燥された版は、好ましくは0.5か
ら4g/m2、特に好ましくは0.8から3g/m2の範
囲の乾燥層が得られるように、有機溶剤または溶剤混合
物の放射線感受性層で皮膜される。
【0070】ある場合、放射線感受性層上に、酸素及び
/または水蒸気ブロッキング皮膜をさらに適用すること
が有利であろう。
【0071】かくして生産された本発明の印刷版は、当
業者に周知の一般的な工程で露光され現像される。現像
された版は、保存剤(「ラバーコーティング」)で処理
される。保存剤は、親水性コポリマー、保湿剤、及び他
の周知の添加剤の水溶液である。
【0072】本発明は、以下の実施例を参照してより詳
細に記載されるが、実施例は何れの方法であっても本発
明を制限するものとして理解されるべきではない。
【0073】
【実施例】合成例:表1に挙げられたモノマーを、コポ
リマーの調製のために使用した。重合のために、モノマ
ーをメチルグリコール(全モノマー濃度:2.5モル/
l)と共に、スターラー及び窒素流入口を備えたフラス
コに60℃で入れ、0.1モル%のアゾビスイソブチロ
ニトリルを開始剤として加えた。3倍量のメタノール中
で、再沈降を実施した。得られたコポリマーを、50℃
で48時間乾燥させた。
【0074】表1:異なるコポリマーのモノマー含有量
(単位:モル%)
【表1】 *APKは以下のものである:
【化9】
【0075】コポリマーCP1、CP2、CP3及びC
P4は、比較コポリマーである。
【0076】コポリマーP1−P6は、非常に安価に調
製できる;モノマー原料のコストは、5−25DM/k
gの範囲にある。また、高濃度で少量の沈降剤を使用す
るため、溶媒の破棄物はあまり多くない。比較コポリマ
ーCP2及びCP3の場合、原材料のコストは、かなり
より高価であり、特にCP2中のAPKモノマーは、高
価な中間生成物、メタクリロイルオキシエチルイソシア
ナートを経て複雑な態様で調製されなければならない。
【0077】調製例1:合成例で得られたコポリマー
を、印刷版のためのポジ型放射線感受性の標準的組成物
に加えた。ナフトキノンジアジドとノボラックに加え
て、これらの標準的組成物は、感光性酸性ドナー、並び
に露光及び非露光領域の間の画像のコントラストを増大
するための顔料をも含む(表2参照)。
【0078】表2:表1から得られるコポリマーを有す
る標準的組成物(単位:重量%)
【表2】
【0079】配合A0からA5で、固体の構成成分は、
10%の溶液を与えるようにメチルグリコールで溶解さ
れる。該溶液の濾過の後、それは電気化学的に粒状化さ
れ陽極化されたアルミホイルであって、ポリビニルリン
酸で後処理を受けたものに一般的な手段によって適用さ
れ、最初は空気供給及び加熱することなく乾燥される。
最終乾燥は100℃で5分行われた。乾燥層の重量は、
全ての場合において2g/m2であった。
【0080】コピー層を、0.15から1.95の密度
範囲を有する銀フィルムハーフステップスケール(a sil
ver film half-step scale)(UGRAグレースケール)の
下で800mJ/cm2を有する金属ハロゲン化物ラン
プ(MH-Burner 5,000W、Sack社)によって露光した。該
密度の増分は、ポジコピーとして0.15である。
【0081】露光された層を、以下のものより成る現像
液で15秒処理する: 87.79重量%の脱ミネラル水 9.20重量%のナトリウム水ガラス 2.10重量%の水酸化ナトリウム 0.90重量%のエチレングリコール 0.01重量%のテトラメチルアンモニウムクロリド
(50%水溶液)
【0082】引き続き、再び5秒間現像液で湿った布で
表面を拭い、次いで版全体を水ですすぐ。この処理の
後、非露光領域は該版の上に維持される。版の感光性と
インキ受容性を評価するために、湿った版を印刷インキ
で黒色化する。製品PC 904(登録商標)(Polychrome
社)及びRC 43(登録商標)(Hoechst社)を印刷インキ
として使用した。その結果が表3に示されている。表中
の"soak loss"(ソークロス)と記載された部分に関し
ては、これらのサンプルが現像液によって既に攻撃を受
けているため、評価が不可能であった。
【0083】表3:表2から得られた版処方の感光性
(UGRAステップフリー)
【表3】
【0084】表3から結論付けられるように、コポリマ
ーP3は、40/60(重量%)より高いノボラック/
P3比で一定の感光性を示す。それ故このコポリマー
は、現像剤安定性及び感光性に負の効果を有することな
く、化学的及び溶剤安定性を増大するための添加剤とし
て特に適切である(それはさらに表4において説明され
るであろう)。
【0085】比較コポリマーCP1及びCP2は、版に
おける適用範囲を制限する弱い現像剤安定性を示す;こ
の処方は20%より多くは含まない。CP4は、処方中
で長い露光時間を必要とする。
【0086】露光層の現像能を調べ、他の処方とそれを
比較することを可能にするため、以下の工程を実施す
る;5秒の間隔で、上記現像液をピペットにより露光版
に縞模様に適用する。20秒間の放置時間の後、版全体
を水で迅速にリンスし、印刷インキで黒色化し、次いで
乾燥させる。黒色化の後に、現像作用の時間(それ以降
は該層がもはやインキを受容しない)を測定した。(以
下でこの試験はドロップ試験と称される)。
【0087】全てのサンプルA0−A5において、該版
はわずか5秒後に完全に現像された。
【0088】非露光層(画像領域)の現像剤安定性を調
べるために、上述の現像液をピペットにより30秒の間
隔で非露光版に縞模様で適用する。4分間の放置時間の
後、版全体を水で迅速にリンスする。もし必要であれ
ば、この時間は延長できる。その時点で層がはっきりと
した明るい領域を示す、現像作用の時点を測定した。
(以下でこの試験はソーク試験と称される)。
【0089】表4は、異なるノボラック/コポリマー比
で、異なる表1のコポリマーを用いた、表2から得られ
るポジ型処方の現像剤安定性を示す。
【0090】表4:表1から得られた異なるコポリマー
を使用した分単位の現像剤安定性
【表4】
【0091】攻撃性の大抵のアルコール含有洗浄剤(例
えばフィルム及びガラスクリーナー、並びに印刷室にお
いては印刷フォーム、ゴムブランケット及びロールのた
めのクリーナー)に対する感光層の安定性を評価するた
めに、研究室用の試験洗浄剤(WA)を使用する。この
試験は、他の有機溶剤に対する化学的安定性に関する信
頼できる主張を許容する。試験洗浄剤の組成は以下のも
のである:20重量%のイソプロパノール(0.1%よ
り低い水分含有量)、85重量%のガソリン135/1
80(タイプK21とも称される)及び1重量%の水。
最終水分含有量は、Karl Fischer法で測定されるが、±
0.1%まで変動し得る。この試験を以下のように実施
する:約10×10cmのサイズを有する印刷版サンプ
ルの上部3分の1を露光し、洗浄液で満たした乾燥ペト
リ皿に浸し、〜25℃の温度で維持する。1,2,3及
び4分の間隔(もし必要であれば、この時間は延長でき
る)で、布でサンプルの上部から下部をこすり、圧力も
与える。非露光の半分を評価する。それ以降コントラス
トの明らかなロスが観察できる時間(分単位)を測定す
る(約30%のコントラストのロス)。露光部分が0.
5分より長い耐久性を示す場合のみ、この値を同様に記
載する。
【0092】UV硬化インキでの印刷に使用するよう
な、ほとんどの時間、多量の溶剤(エーテル、エステ
ル、ケトン等)を含む非常に攻撃性のリンス剤に対する
感光層の安定性を評価するために、研究室用の試験洗浄
剤を使用する。試験洗浄剤の組成は以下のものである:
80重量%のジアセトンアルコール(DAA)及び20
重量%の水。試験を以下のように実施する:約18×6
cmのサイズを有する印刷版サンプルの上部3分の1を
露光し、上述のUV洗浄剤を、30秒の間隔でピペット
により縞模様に適用する。2分間の放置時間の後、版全
体を水で迅速にリンスし、湿った布で拭く。もし必要で
あれば、この時間は延長できる。層がはっきりとした明
るい領域を示す作用時間を測定する。二つのサンプルが
非露光部分に対して同じ安定性を示す場合、露光された
3分の1の値もまた考慮する。
【0093】表5は、一般的な版洗浄剤に対する個々の
組成物の化学的安定性を示す。個々の混合物のシリーズ
は、洗浄剤試験のために分割された:
【0094】0/100までのコポリマー/ノボラック
比を有し、40/60重量%を含む混合物を、「一般的
な」ガソリン含有リンス剤で処理した。さらに高いコポ
リマー含有量を有するサンプルは非常に高い安定性を示
したため、合理的な期間内で試験洗浄液で評価できなか
った。
【0095】60/40から100/0重量%のコポリ
マー/ノボラック比を有するサンプルの安定性を、UV
洗浄剤で試験した。ここで、<60重量%のコポリマー
含有量を有するサンプルは非常に早く攻撃されるので、
合理的な方法で評価できず、それを試験することはほと
んど意味を有さなかった。
【0096】表5:分単位の版洗浄剤に対する安定性
【表5】
【0097】この表に示されているように、本発明のコ
ポリマーの化学的安定性は非常に高く、それによってコ
ポリマー中の異なる含有量のメタクリル酸は、抵抗特性
にほとんど影響を有さない。比較コポリマーの化学的安
定性は、顕著により低い。空欄の部分は、これらの版が
十分な現像剤安定性を有さないために評価できなかった
(表4参照)。
【0098】印刷試験:印刷版を調製するための調製例
1に記載されたように、コピー層をアルミニウム基板に
適用し、露光し、現像し、水でのリンスの後、該版をし
ぼり、0.5%リン酸と6%アラビアゴムの水溶液で拭
く。かくして生産された版を、シートフェッド型オフセ
ット印刷機(Favoritタイプ、MAN Roland)に乗せ、印
刷を通常の条件下で実施する。印刷の間、機械を10,
000回転毎に停止し、版を85容量%のガソリンと1
5容量%のイソプロパノールより成る版洗浄剤で洗浄す
る。調製例1,表1のいくつかの版のコピーの得られた
数が、表6に示されている。
【0099】表6:調製例1,表2のコピーの得られた
【表6】
【0100】湿し水中の攻撃性アルコール代用品に対す
る抵抗性を調べるために、高濃度代用品(5%Substifi
x(登録商標)+5%イソプロパノール)を湿し水中で
使用した。このタイプの湿し水で得られた、調製例1,
表1から得られたいくつかの版のコピーの数が、表7に
示されている。
【0101】表7:特に反応性の湿し水を使用した場合
のコピーの得られた数
【表7】
【0102】UV硬化インキに対する印刷フォームの安
定性を調べるために、版を一般的な版洗浄剤の代わりに
攻撃性の洗浄剤を使用して、10,000回転毎に洗浄
した。調製例1,表1のいくつかの版のコピーの得られ
た数が、表8に示されている。
【0103】表8:調製例1,表2から得られた反応性
UV硬化インキ洗浄剤を使用した場合のコピーの得られ
た数
【表8】 *第一の洗浄工程が、印刷が継続しないように顕著に放
射線感受性層と既に反応した
【0104】全ての3種の場合で、本発明のコポリマー
を使用した印刷版のコピーの数は、コポリマーまたは比
較コポリマーを含まない印刷版のそれよりも顕著に高
い。CP2と比較して、コポリマーP1は優れており、
P1の生産コストはCP2のそれよりも約10倍低いこ
とは何よりも重要である。
【0105】ベーキング試験:サンプルの熱安定性(ベ
ーキング)のために、それらを250℃で8分オーブン
で加熱した。
【0106】機械的研磨耐久性を測定するために、印刷
版を研磨試験にかけた。その試験の間、水性研磨懸濁液
に浸した布により、所定の時間(15分)毎に振動の動
きで版を拭く。この方法における重量ロスが低いほど、
サンプルの機械的安定性は高い。従って研磨懸濁液を選
択することによって、印刷機での印刷版によって生産さ
れるコピーの数の定量的予測を許容するように、この試
験を調節した。
【0107】機械的安定性は、化学的試験によって間接
的に決定される。この目的のため、ポジ型版のための修
正液(タイプ243、Kodak Polychrome)を、15分間
該層と反応させる。もし反応が観察されなかったなら
ば、バインダー構成成分の架橋、それ故化学的(及び機
械的)安定性が十分である。
【0108】上述の試験の結果は、表9に示されてい
る。
【0109】表9:版の機械的及び化学的安定性(表2
から得られた処方)
【表9】
【0110】P1を有するサンプルA4はUV硬化イン
キ印刷版を表し、P3を有するサンプルA1は従来のポ
ジ型版の高い洗浄剤抵抗性を表す。UV硬化インキ版
(サンプルP1)が、通常のポジ型印刷版と同程度の機
械的強度に到達した一方で、それは未だ修正液に対応す
ることは興味深い。これは、ほぼ以下の理想的な挙動を
表す:すなわち、印刷版が最高の考え得る機械的強度を
示すが、未だ修正できるという挙動である。この特性
は、既に焼き付けられ、さもなければ廃棄されなければ
ならない版の修正を許容するため、非常にユーザーに都
合がよい。
【0111】調製例2:本発明のコポリマーが、特定の
タイプのノボラックまたはNQDにのみ適合的ではない
ことを示すために、表2の対応成分を、表10から12
に示された異なる構造の誘導体によって置換した。この
シリーズにおけるコポリマーは修正されなかった;P1
が全ての処方中で使用された。
【0112】ノボラックとポリマー類似的にエステル化
(グラフト)されたナフトキノンジアジド類が、特別な
場合を構成する、即ちこのクラスの物質は、ノボラック
の主鎖にNQDを既に有しているため、NQDを取り込
む必要がない。それ故、その二つの物質は、ノボラック
部分を置換するだけでなく、さらに表2の処方のNQD
部分をも置換する。この関係において、組成物に対する
コポリマーの添加は、NQD含有量を自動的に減少し、
それは他の組成物には該当しないことを意識すべきであ
る。それ故、60%より多いコポリマーを含む処方を調
べることは意味を有さない。
【0113】表10:コポリマーP1と異なるノボラッ
クの分単位の現像剤安定性
【表10】
【0114】表10から結論付けられるように、顕著に
増大した現像剤安定性が、ノボラック/コポリマー比の
中間の範囲で観察できる(同様に図2aでも示され
る)。これは、本発明のコポリマーが、異なる構造のノ
ボラックでも同様に「交差−不溶化」効果を示すことを
表す。短鎖のノボラックにおいて、「交差−不溶化」効
果は、同種の長鎖のものよりも幾分小さい。
【0115】表11:コポリマーP1と異なるノボラッ
クの感光性(UGRAグレースケールステップフリー)
【表11】
【0116】表11から結論付けられるように、増大し
たコポリマー/ノボラック比では、全てのノボラックは
露光時間の過程において同様な挙動を示す。
【0117】表12:コポリマーP1と異なるノボラッ
クの分単位の洗浄剤に対する安定性
【表12】
【0118】表12から結論付けられるように、約40
%のコポリマー含有量で少なくとも開始された場合、全
てのサンプルは試験洗浄剤に対して十分な安定性を有す
る。
【0119】調製例3:変換的印刷版において使用され
るポジ型組成物において、本発明のコポリマーは、変換
マージンの延長、及びより低い変換温度の減少を示す。
二つの異なる系が表13と15に示され、その結果が表
14と16に示されている。
【0120】表13:変換特性に対するコポリマーの影
響(グラム単位のサンプルの重量)
【表13】
【0121】表13の組成物を版を被覆するために使用
し、該版を露光し、次いで表14に示される異なる温度
で5分間焼き入れした。引き続き、印刷版は全体の露光
を受けた。次いで該版を現像した。
【0122】表14:表13から得られた組成物の変換
特性
【表14】 −:変換層の現像剤安定性が非常に弱い +:最適の変換 n.d.:版は完全に現像できない
【0123】参考サンプルと比較して、コポリマーP3
を有するサンプルは、より低い温度の方向にシフトした
延長した変換マージンを示す。もし狭いマージンでのみ
上記変換が可能であれば、参考ポリマーを有するサンプ
ルがこの目的のためにのみ条件付きで推奨される。同様
に本発明のコポリマーを有する処方の感光性は、参考サ
ンプルと比較して改良されている:UGRAグレーステップ
中のソリッド工程は、ほぼ一つ以上のグレースケールを
示す(変換側に対して)。比較ポリマーを有するサンプ
ルは、考慮に入れなかった。
【0124】表15:変換特性に対するコポリマーの影
響(単位:重量%)
【表15】
【0125】表15の組成物を版を被覆するために使用
し、該版を露光し、次いで表16に示される異なる温度
で5分間焼き入れした。引き続き、印刷版は全体の露光
を受けた。次いで該版を現像した。
【0126】表16:表15から得られた組成物の変換
特性
【表16】 −:変換層の現像剤安定性が非常に弱い +:最適の変換 n.d.:版は完全に現像できない
【0127】参考サンプルと比較して、コポリマーP1
を有するサンプルは、より低い温度の方向にシフトした
延長した変換マージンを示す。これは、表14中の数字
と一致する。もし狭いマージンでのみ上記変換が可能で
あれば、参考ポリマーを有するサンプルがこの目的のた
めにのみ条件付きで推奨される。同様に本発明のコポリ
マーを有する処方の感光性は、参考サンプルと比較して
改良されている:UGRAグレーステップ中のソリッド工程
は、ほぼ一つ以上のグレースケールを示す(変換側に対
して)。比較ポリマーを有するサンプルは、考慮に入れ
なかった。
【0128】図3において、ソリッドUGRAグレースケー
ルステップは、本発明のコポリマーを有する組成物(表
14及び16から得た)の感光性(点線)と、本発明の
コポリマーを有さない組成物の感光性(実線)の指標と
して示される。
【0129】図3から結論付けられるように、本発明の
コポリマーを含む処方は、より広く且つより段階的な作
用範囲を示す。それ故、変換のための温度マージンはよ
り大きい。コポリマーを含まないサンプルは、温度が増
大すると比較的一定の感光性の増大を示し、それは実践
的な観点からあまり望ましくはない。
【図面の簡単な説明】
【図1】 図1は、ノボラック/コポリマー混合物のシ
リーズの現像剤安定性の挙動及び感光性を示す。NQD
含有量は、該シリーズを通じて21重量%で一定に維持
される。点線は、現像剤安定性の予測曲線を示し、実線
は、本実験で見出された値を示す。破線は、感光性を示
す(即ちフリーグレースケールステップ)。
【図2】 図2は、組成物の一定のNQD含有量(21
重量%)での、現像剤安定性、感光性及び化学的安定性
に関する、コポリマー中のユニットA含有量の影響を示
す。
【図3】 図3は、変換温度の関数としての、コポリマ
ーP3の存在下(点線)及び不存在下(実線)での、変
換された版の組成物の感光性を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08F 222/40 C08F 222/40 C08K 5/28 C08K 5/28 C08L 33/02 C08L 33/02 33/26 33/26 35/00 35/00 61/06 61/06 G03F 7/00 503 G03F 7/00 503 7/004 501 7/004 501 504 504 7/022 7/022 7/023 511 7/023 511

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (a)少なくとも一つのナフトキノンジ
    アジド誘導体(b)少なくとも一つのノボラック、及び
    (c)ユニットAが、5から最大50モル%の量で存在
    し、以下の式: 【化1】 [式中、R1及びR4は、Aのホモポリマーがアルカリ可
    溶性であるように選択される]を有し、ユニットBが、
    20から70モル%の量で存在し、以下の式: 【化2】 [式中、R2,R6及びR7は、Bのホモポリマーが高い
    ガラス転移温度を有するように選択される]を有し、並
    びにユニットCが、10から50モル%の量で存在し、
    以下の式: 【化3】 [式中、R3及びR5は、ユニットCがユニットAと異な
    ることを条件に、Cのホモポリマーが水溶性であるよう
    に選択される]を有する、ユニットA、B及びCより成
    るコポリマーを含む放射感受性組成物。
  2. 【請求項2】 ノボラック/コポリマー重量比が、9
    0:10から10:90の範囲にある、請求項1記載の
    放射感受性組成物。
  3. 【請求項3】 コポリマーが、コポリマーとノボラック
    の全量に基づき、少なくとも60重量%の量で存在す
    る、請求項2記載の放射感受性組成物。
  4. 【請求項4】 組成物が、さらなるバインダーを含まな
    い、請求項1から3のいずれか一項記載の放射感受性組
    成物。
  5. 【請求項5】 組成物が、放射線感受性酸性ドナー、画
    像のコントラストを増大するための染料または顔料、露
    光指標剤、及び可塑剤から選択される少なくとも一つの
    さらなる構成成分を含む、請求項1から4のいずれか一
    項記載の放射感受性組成物。
  6. 【請求項6】 コポリマーのユニットA中のR1が、水
    素;少なくとも一つのヒドロキシ基を有し、そしてさら
    にハロゲン、(C1−C12)アルキル及び−NO2より成
    る群から選択される少なくとも一つの置換基を任意に有
    するアリール;アリールスルホンアミド;または少なく
    とも一つのカルボキシ基を有する(C1−C12)アルキ
    ルである、請求項1から5のいずれか一項記載の放射感
    受性組成物。
  7. 【請求項7】 ユニットA中のR4及びユニットC中の
    5が、独立に水素;ハロゲン;または(C1−C12)ア
    ルキルである、請求項1から6のいずれか一項記載の放
    射感受性組成物。
  8. 【請求項8】 コポリマーのユニットB中のR2が、水
    素;ハロゲン、(C1−C12)アルキル、−NO2及び−
    OHより成る群から選択される一つの置換基を任意に有
    するアリール;(C1−C12)アルキル;(C3−C8
    シクロアルキル;アリールスルホンアミド;またはスル
    ホンアミドである、請求項1から7のいずれか一項記載
    の放射感受性組成物。
  9. 【請求項9】 コポリマーのユニットC中のR3が、水
    素;少なくとも一つのヒドロキシ基を有し、そしてさら
    にハロゲン及び−NO2より成る群から選択される一つ
    以上の置換基をも任意に有する(C1−C12)アルキ
    ル;少なくとも一つのヒドロキシ基を有し、そしてさら
    にハロゲン及び−NO2より成る群から選択される一つ
    以上の置換基をも任意に有する(C3−C8)シクロアル
    キル;少なくとも一つのヒドロキシ基を有し、そしてさ
    らにハロゲン、(C1−C12)アルキル及び−NO2より
    成る群から選択される一つ以上の置換基をも任意に含む
    アリール;(C1−C12)アルキルスルホンアミド;ア
    リールスルホンアミド;−NH(CH2nO−アルキル
    {式中、nは1から20の整数である};−NHR
    8{式中、R8は水素、(C1−C12)アルキルまたはア
    リールである};または(C1−C12)アルコキシ基で
    ある、請求項1から8のいずれか一項記載の放射感受性
    組成物。
  10. 【請求項10】 コポリマーのユニットB中のR6及び
    7が、独立に水素;ハロゲン;(C1−C4)アルキ
    ル;またはフェニルである、請求項1から9のいずれか
    一項記載の放射感受性組成物。
  11. 【請求項11】 コポリマーが、500から1,00
    0,000の範囲の重量平均分子量を有する、請求項1
    から10のいずれか一項記載の放射感受性組成物。
  12. 【請求項12】 ノボラックとナフトキノンジアジド誘
    導体が、別個の構成成分として使用されず、ノボラック
    と反応したナフトキノンジアジド誘導体の形態で使用さ
    れる、請求項1から11のいずれか一項記載の放射感受
    性組成物。
  13. 【請求項13】 印刷版、集積回路用の印刷されたサー
    キットボード、及びフォトマスクを製造するための、請
    求項1から12のいずれか一項記載の放射感受性組成物
    の使用。
  14. 【請求項14】 所望の割合で、少なくとも一つのノボ
    ラック、少なくとも一つのナフトキノンジアジド誘導
    体、並びに請求項1及び6から12のいずれか一項記載
    のコポリマーを混合し、続いて有機溶剤中に固体の構成
    要素を溶解することを含む、請求項1から12のいずれ
    か一項記載の放射感受性組成物の調製方法。
  15. 【請求項15】 有機溶剤中に個々の構成成分を別個に
    溶解し、続いて該溶液を混合することを含む、請求項1
    から12のいずれか一項記載の放射感受性組成物の調製
    法。
  16. 【請求項16】 基板と放射感受性組成物を含む印刷版
    であって、放射感受性組成物が、請求項1から12のい
    ずれか一項に記載されたものである印刷版。
  17. 【請求項17】 基板が、予備処理を任意に受けている
    アルミニウム基板、または親水性表面を有するポリエチ
    レンテレフタラート基板である、請求項16記載の印刷
    版。
  18. 【請求項18】 (a)基板を提供し、該基板に任意に
    予備処理を施すこと、(b)有機溶剤中に放射感受性組
    成物の溶液を調製すること、(c)基板に工程(b)で
    調製された溶液を適用すること、並びに(d)乾燥する
    ことを含む、請求項16または17に記載の印刷版の生
    産方法。
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