JPH01112235A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
- G03C1/061—Hydrazine compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
- G03C1/08—Sensitivity-increasing substances
- G03C1/28—Sensitivity-increasing substances together with supersensitising substances
- G03C1/29—Sensitivity-increasing substances together with supersensitising substances the supersensitising mixture being solely composed of dyes ; Combination of dyes, even if the supersensitising effect is not explicitly disclosed
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、ハロゲン化銀写真感光材料及びそれを用いた
超硬調ネガ画像形成方法に関するものであシ、特に写真
製版工程に用いられるハロゲン化銀写真感光材料及びそ
れを用いた超硬調ネガ画像形成方法に関するものである
。
超硬調ネガ画像形成方法に関するものであシ、特に写真
製版工程に用いられるハロゲン化銀写真感光材料及びそ
れを用いた超硬調ネガ画像形成方法に関するものである
。
(従来技術)
グラフィック・アークの分野においては網点画像による
連続階調の画像の再生あるいは線画像の再生を良好なら
しめるために、超硬調(特にガンマが70以上)の写真
特性を示す画像形成システムが必要である。
連続階調の画像の再生あるいは線画像の再生を良好なら
しめるために、超硬調(特にガンマが70以上)の写真
特性を示す画像形成システムが必要である。
従来この目的のためにはリス現像液と呼ばれる特別な現
像液が用いられてきた。リス現像液は現像主薬としてハ
イドロキノンのみを含み、その伝染現像性を阻害しない
ように保恒剤たる亜硫酸塩をホルムアルデヒドとの付加
物の形にして用い遊離の亜硫酸イオンの濃度を極めて低
く(通常Q。
像液が用いられてきた。リス現像液は現像主薬としてハ
イドロキノンのみを含み、その伝染現像性を阻害しない
ように保恒剤たる亜硫酸塩をホルムアルデヒドとの付加
物の形にして用い遊離の亜硫酸イオンの濃度を極めて低
く(通常Q。
1モル/l以下)しである。そのためリス現像液は極め
て空気酸化を受けやすく3日を越える保存に耐えられな
いという重大な欠点を持っている。
て空気酸化を受けやすく3日を越える保存に耐えられな
いという重大な欠点を持っている。
高コントラストの写真特性を安定な現像液を用いて得る
方法としては米国特許第+、、2.2≠、グO/号、同
第4Z、/Alr、F77号、同第≠、/I!lt!;
、7I1.J号、同第xi−、3ii、’yri号、同
第≠、27コ、tot号、同第グ、2// 、♂タフ号
、同第弘、2≠3,737号等に記載されているヒドラ
ジン誘導体を用いる方法がある。この方法によれば、超
硬調で感度の高い写真特性が得られ、更に現像液中に高
濃度の亜硫酸塩を加えることが許容されるので、現像液
の空気酸化に対する安定性はリス現像液に比べて飛躍的
に向上する。
方法としては米国特許第+、、2.2≠、グO/号、同
第4Z、/Alr、F77号、同第≠、/I!lt!;
、7I1.J号、同第xi−、3ii、’yri号、同
第≠、27コ、tot号、同第グ、2// 、♂タフ号
、同第弘、2≠3,737号等に記載されているヒドラ
ジン誘導体を用いる方法がある。この方法によれば、超
硬調で感度の高い写真特性が得られ、更に現像液中に高
濃度の亜硫酸塩を加えることが許容されるので、現像液
の空気酸化に対する安定性はリス現像液に比べて飛躍的
に向上する。
一方、写真感光材料の露光用に種々の光源(たとえばL
E D、 He −Ne v−ザー、Arレーザー等
)が開発・実用化されておシ、これらの光源の分光エネ
ルギー分布に対し最適の分光感度を持たせるために、分
光増感色素を選択する必要があり、従来のリス現像液を
用いるシステムでも行われて来た。すなわち、ヒドラジ
ン誘導体を用い、高コントラストの写真特性を安定な現
像液を用いて得る上記画像形成システムでは、従来知ら
れているようにカチオン系化合物(特願昭31−.24
/4り7号、同昭to−タ34t7号)によって高感・
硬調化が促進され実技Dmax(後述)が高くなる。
E D、 He −Ne v−ザー、Arレーザー等
)が開発・実用化されておシ、これらの光源の分光エネ
ルギー分布に対し最適の分光感度を持たせるために、分
光増感色素を選択する必要があり、従来のリス現像液を
用いるシステムでも行われて来た。すなわち、ヒドラジ
ン誘導体を用い、高コントラストの写真特性を安定な現
像液を用いて得る上記画像形成システムでは、従来知ら
れているようにカチオン系化合物(特願昭31−.24
/4り7号、同昭to−タ34t7号)によって高感・
硬調化が促進され実技Dmax(後述)が高くなる。
分光増感色素でもカチオン色素を用いることによってア
ニオン色素、ベタイン色素を用いた場合よりも高い実技
I)maxが実現される。
ニオン色素、ベタイン色素を用いた場合よりも高い実技
I)maxが実現される。
(発明が解決しようとする問題点)
しかしながら、同時に黒ボッ(ブラック・ペラ・に−な
どとも称せられる)の増加という好まし7くない現象を
ひき起し、写真製版工程−ト大きな問題となる。
どとも称せられる)の増加という好まし7くない現象を
ひき起し、写真製版工程−ト大きな問題となる。
その為に、分光増感色素としてカチオン色素を用い、そ
の高い実技I)maxを維持した上で黒ボッを改良する
ことに多大な努力が払われている。
の高い実技I)maxを維持した上で黒ボッを改良する
ことに多大な努力が払われている。
黒ボツ改良の手段としては、特開昭A2−2t。
74t!には、アスコルビン酸、酢酸、クエン酸、サリ
チル酸などの有機酸を用いて、膜面pHを!。
チル酸などの有機酸を用いて、膜面pHを!。
r以下にすることが開示されている。しかしながら、こ
の手段だけでは、黒ボッを完全に除くことができないこ
と、また、膜面pHが低くなると、ハロゲン化銀感光層
の硬膜が阻害され、引掻き傷がつきやすくなるなどの問
題を生じる。
の手段だけでは、黒ボッを完全に除くことができないこ
と、また、膜面pHが低くなると、ハロゲン化銀感光層
の硬膜が阻害され、引掻き傷がつきやすくなるなどの問
題を生じる。
(発明の目的)
従って本発明の目的は安定な現像液を用いてγがioを
越える極めて高感硬調で、実技1)max及び感度が高
くかつ黒ボッが少ない写真特性を有し、種々の光源の分
光エネルギー分布に対して最適の分光感度を有するハロ
ゲン化銀写真感光材料を提供することである。
越える極めて高感硬調で、実技1)max及び感度が高
くかつ黒ボッが少ない写真特性を有し、種々の光源の分
光エネルギー分布に対して最適の分光感度を有するハロ
ゲン化銀写真感光材料を提供することである。
本発明の目的は、支持体上に少なくとも一層のハロゲン
化銀乳剤層を有し、該ハロゲン化銀乳剤−!− 層もしくはその他の親水性コロイド層中に、1−ドラジ
ン誘導体、シアニン、ヘミシアニンおよびロダシアニン
から選ばれる少なくとも一種のカチオン色素及び下記一
般式(I)で表わされる実質的に可視域に吸収極大を持
たない化合物を含有することを特徴とするネガ型ハロゲ
ン化銀写真感光材料により達成された。
化銀乳剤層を有し、該ハロゲン化銀乳剤−!− 層もしくはその他の親水性コロイド層中に、1−ドラジ
ン誘導体、シアニン、ヘミシアニンおよびロダシアニン
から選ばれる少なくとも一種のカチオン色素及び下記一
般式(I)で表わされる実質的に可視域に吸収極大を持
たない化合物を含有することを特徴とするネガ型ハロゲ
ン化銀写真感光材料により達成された。
一般式(I)
z 11 及ヒz 12は各々ペンズオキザゾール核、
ベンゾチアゾール核、ベンゾセレナゾール核、ナフトオ
キサゾール核、ナフトチアゾール核、ナフトセレナゾー
ル核、チアゾール核、チアゾリン核、オキサゾール核、
セレナゾール核、セレナゾリン核、ピリジン核、ベンズ
イミダゾール核又はキノリン核を完成するに必要な非金
属原子群を表わす。
ベンゾチアゾール核、ベンゾセレナゾール核、ナフトオ
キサゾール核、ナフトチアゾール核、ナフトセレナゾー
ル核、チアゾール核、チアゾリン核、オキサゾール核、
セレナゾール核、セレナゾリン核、ピリジン核、ベンズ
イミダゾール核又はキノリン核を完成するに必要な非金
属原子群を表わす。
R11及びR12は各々酸基を有したアルキル基まl−
たはアラルキル基を表わし、そのうち少なくとも一つは
酸基を有する。Xは電荷バランス対イオンであり、nは
O又は/を表わす。
酸基を有する。Xは電荷バランス対イオンであり、nは
O又は/を表わす。
以下に、本発明の詳細な説明する。
一般式(I)において、2 及び2 で形成される複素
環として好ましくはベンゾオキサゾール核、ベンゾチア
ゾール核、ナフトオキサゾール核、ナフトチアゾール核
、チアゾール核、またはオキサゾール核であり、更に好
ましくは、ベンゾオキサゾール核、ベンゾチアゾール核
、またはナフトオキサゾール核であシ、最も好ましくは
、ベンゾオキサゾール核またはナフトオキサゾール核で
ある。一般式(I)において、zll又はz12で形成
される複素環は少くとも一つの置換基で置換されていて
もよく、その置換基としてはノ・ロゲン原子(例えば弗
素、塩素、臭素、沃素)、ニトロ基、アルキル基(好ま
しくは炭素数/〜tのもの、例えばメチル基、エチル基
、トリフルオロメチル基、ベンジル基、フェネチル基)
、アリール基(例えばフェニル基)、アルコキシ基(好
ましくは炭素数/〜μのもの、例えばメトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基、ブトキシ基)、カルボキシル基
、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜jの
もの、例えばエトキシカルボニル基)、ヒドロキシ基、
シアノ基等を挙げることができる。
環として好ましくはベンゾオキサゾール核、ベンゾチア
ゾール核、ナフトオキサゾール核、ナフトチアゾール核
、チアゾール核、またはオキサゾール核であり、更に好
ましくは、ベンゾオキサゾール核、ベンゾチアゾール核
、またはナフトオキサゾール核であシ、最も好ましくは
、ベンゾオキサゾール核またはナフトオキサゾール核で
ある。一般式(I)において、zll又はz12で形成
される複素環は少くとも一つの置換基で置換されていて
もよく、その置換基としてはノ・ロゲン原子(例えば弗
素、塩素、臭素、沃素)、ニトロ基、アルキル基(好ま
しくは炭素数/〜tのもの、例えばメチル基、エチル基
、トリフルオロメチル基、ベンジル基、フェネチル基)
、アリール基(例えばフェニル基)、アルコキシ基(好
ましくは炭素数/〜μのもの、例えばメトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基、ブトキシ基)、カルボキシル基
、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜jの
もの、例えばエトキシカルボニル基)、ヒドロキシ基、
シアノ基等を挙げることができる。
一般式(I)でzll及びz12に関し、ベンゾチアゾ
ール核としては、例えばはンゾチアゾール、!−クロロ
ベンゾチアゾール、j−ニトロ(ンゾチアゾール、!−
メチルベンゾチアゾール、t−ブロモベンゾチアゾール
、!−ヨードベンゾチアゾール、!−フェニルベンゾチ
アゾール、!−メトキシベンゾチアゾール、6−メドキ
シベンゾチアゾール、j−カルゼキシベンゾチアゾール
、!−エトキシカルボニルベンゾチアゾール、!−フル
オロベンゾチアゾール、!−ジクロロ−6−メチルベン
ゾチアゾール!−トリフルオロメチルベンゾチアゾール
、などを、ナフトチアゾール核としては例えば、ナフ)
[J、/−d〕チアゾール、ナフト(/、、2−d)チ
アゾール、ナンド〔コ。
ール核としては、例えばはンゾチアゾール、!−クロロ
ベンゾチアゾール、j−ニトロ(ンゾチアゾール、!−
メチルベンゾチアゾール、t−ブロモベンゾチアゾール
、!−ヨードベンゾチアゾール、!−フェニルベンゾチ
アゾール、!−メトキシベンゾチアゾール、6−メドキ
シベンゾチアゾール、j−カルゼキシベンゾチアゾール
、!−エトキシカルボニルベンゾチアゾール、!−フル
オロベンゾチアゾール、!−ジクロロ−6−メチルベン
ゾチアゾール!−トリフルオロメチルベンゾチアゾール
、などを、ナフトチアゾール核としては例えば、ナフ)
[J、/−d〕チアゾール、ナフト(/、、2−d)チ
アゾール、ナンド〔コ。
3−d〕チアゾール、ターメトキシナフト〔/。
2−d〕チアゾール、ターメトキシナフト〔コ。
J−d’)チアゾール、などを、ベンゾセレナゾール核
としては例えば、ベンゾセレナゾール、j−クロロイン
ゾセレナゾール、!−メトキシベンゾセレナゾール、!
−ヒドロキシベンゾセレナゾール、!−クロロー2−メ
チルベンゾセレナゾール、などを、ナフトセレナゾール
核としては例えば、ナフト[:/、、2−d:1セレナ
ゾール、ナフト〔,2゜t−d)セレナゾールなどを、
チアゾール核としては例えば、チアゾール核、≠−メチ
ルチアゾール’tL +−フェニルチアゾール核、4’
+ j yメ・ チルチアゾール核、などを、チ
アゾリン核としては例えば、チアゾリン核、≠−メチル
チアゾリン核などが挙げられる。
としては例えば、ベンゾセレナゾール、j−クロロイン
ゾセレナゾール、!−メトキシベンゾセレナゾール、!
−ヒドロキシベンゾセレナゾール、!−クロロー2−メ
チルベンゾセレナゾール、などを、ナフトセレナゾール
核としては例えば、ナフト[:/、、2−d:1セレナ
ゾール、ナフト〔,2゜t−d)セレナゾールなどを、
チアゾール核としては例えば、チアゾール核、≠−メチ
ルチアゾール’tL +−フェニルチアゾール核、4’
+ j yメ・ チルチアゾール核、などを、チ
アゾリン核としては例えば、チアゾリン核、≠−メチル
チアゾリン核などが挙げられる。
一般式(I)においてzll及びz12に関し、ベンゾ
オキサゾール核としては例えば、ベンゾオキサゾール核
、!−クロロベンゾオキサゾール核、!−メチルベンゾ
オキサゾール核、z−yロモベンゾオキサゾール核、!
−フルオロベンゾオキサーター ゾール核、!−フェニルベンゾオキサゾール核、!−メ
トキシベンゾオキサゾール核、!−エトキシベンゾオキ
サゾール核、!−トリフルオロメチルベンゾオキサゾー
ル核、!−ヒドロキシベンゾオキサゾール核、ターカル
ボキシベンゾオキサゾール核、t−メチルベンゾオキサ
ゾール核、t−クロロベンゾオキサゾール核、6−メド
キシベンゾオキサゾール核、t−ヒドロキシベンゾオキ
サゾール核、!、6−シメチルベンゾオキサゾール核な
どを、ナフトオキサゾール核としては例えば、ナ7)[
,2,/−d]オキサゾール核、ナンド[/、、2−d
]オキサゾール核、ナフト〔コ、3−d)オキサゾール
核、!−メトキシナフ)(/。
オキサゾール核としては例えば、ベンゾオキサゾール核
、!−クロロベンゾオキサゾール核、!−メチルベンゾ
オキサゾール核、z−yロモベンゾオキサゾール核、!
−フルオロベンゾオキサーター ゾール核、!−フェニルベンゾオキサゾール核、!−メ
トキシベンゾオキサゾール核、!−エトキシベンゾオキ
サゾール核、!−トリフルオロメチルベンゾオキサゾー
ル核、!−ヒドロキシベンゾオキサゾール核、ターカル
ボキシベンゾオキサゾール核、t−メチルベンゾオキサ
ゾール核、t−クロロベンゾオキサゾール核、6−メド
キシベンゾオキサゾール核、t−ヒドロキシベンゾオキ
サゾール核、!、6−シメチルベンゾオキサゾール核な
どを、ナフトオキサゾール核としては例えば、ナ7)[
,2,/−d]オキサゾール核、ナンド[/、、2−d
]オキサゾール核、ナフト〔コ、3−d)オキサゾール
核、!−メトキシナフ)(/。
コーd〕オキサゾール核、などを挙げる事ができる。
更にzll及びz12に関し、オキサゾール核としては
例えば、オキサゾール核、グーメチルオキサゾール核、
クーフェニルオキサゾール核、≠−メトキシオキサゾー
ル核、グ、!−ジメチルオキサゾール核、!−フェニル
オキサゾール核又は≠−メトキシオキサゾール核などを
、ピリジン核としては例えばコーピリジン核、≠−ぎり
ジン核、!−メチルー2−ピリジン核、3−メチル−グ
ーぎリジン核などを、又キノリン核としては例えば、コ
ーキノリン核、グーキノリン核、3−メチルーコーキノ
リン核、!−エチルーコーキノリン核、♂−フルオロー
2−キノリン核、6−メドキシーコーキノリン核、?−
クロローグーキノリン核、♂−メチルーグーキノリン核
、などを挙げる事ができる。ベンズイミダゾール核とし
ては、例えばs、jp−ジクロロ−/−エチルベンズイ
ミダソール核、t−クロロ−/−エチル−,1t−)
IJフルオロメチルベンズイミダゾール核女どを挙げる
事ができる。
例えば、オキサゾール核、グーメチルオキサゾール核、
クーフェニルオキサゾール核、≠−メトキシオキサゾー
ル核、グ、!−ジメチルオキサゾール核、!−フェニル
オキサゾール核又は≠−メトキシオキサゾール核などを
、ピリジン核としては例えばコーピリジン核、≠−ぎり
ジン核、!−メチルー2−ピリジン核、3−メチル−グ
ーぎリジン核などを、又キノリン核としては例えば、コ
ーキノリン核、グーキノリン核、3−メチルーコーキノ
リン核、!−エチルーコーキノリン核、♂−フルオロー
2−キノリン核、6−メドキシーコーキノリン核、?−
クロローグーキノリン核、♂−メチルーグーキノリン核
、などを挙げる事ができる。ベンズイミダゾール核とし
ては、例えばs、jp−ジクロロ−/−エチルベンズイ
ミダソール核、t−クロロ−/−エチル−,1t−)
IJフルオロメチルベンズイミダゾール核女どを挙げる
事ができる。
一般式(I)において、R11及びR12で表わされる
アルキル基は無置換及び置換アルキル基を含み、少なく
とも一方がスルホ基もしくはカルボキシル基などの酸基
を有する。無置換アルキル基としては、炭素原子の数が
/♂以下、特にt以下が好ましく、例えばメチル基、エ
チル基、n−プロピル基、n−メチル基、n−ヘギシル
基、n−オクタデシル基などがあげられる。また、置換
アルキル基としては、アルギル部分の炭素数原子の数が
t以下のものが好ましく、特に炭素原子の数かび以下の
ものが好ましく、例えば、スルホ基で置換されたアルキ
ル基(スルホ基はアルコキシ基やアリール基等を介して
結合していてもよい。例エハコースルホエチル基、3−
スルホプロピル基、3−スルホブチル基、≠−スルホブ
チル基、コ−(3−スルホプロポキシ)エチル基1.!
−[、!−(3−スルホプロポキシ)エトキシ〕エチル
基、ユーヒドロキシ−3−スルホプロピルL p−ス
ルホフェネチル基、p−スルホフェニルプロピル基など
)カルボキシ基で置換されたアルキル基(カルボキシ基
はアルコキシ基やアリール基等を介して結合していても
よい。例えば、カルボキシメチル基、コーカルボキシエ
チル基、3−カルボキシプロピル基、l−カルボキシブ
チル基、など)、ヒドロキシアルキル基(例えば、!−
ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、ナト
)、アシロキシアルキル基(例えば、コーアセトキシエ
チル基、3−アセトキシプロピル基など)、アルコキシ
アルキル基(例えばコーメトキシエチル基、3−メトキ
シプロピル基、なト)、アルコキシカルボニルアルキル
基(例えば、コーメトキシカルボニルエチル基、3−メ
トキシカルボニルプロピル基、≠−エトキシカルボニル
ブチル基、など)、ビニル基置換アルキル基(例えばア
リル基)、シアノアルキル基(例えばコーシアノエチル
基なト)、カルバモイルアルギル基(例エバー4− 力
#バモイルエチル基なト)、アリーロキシアルキル基(
例えば2−フェノキシエチル基、3−フェノキシプロビ
ル基など)、アラルキル基(例えばコーフエネチル基、
3−フェニルプロピル基など)、又はアリーロキシアル
キル基(例えばコーフエノキシエチル基、3−フェノキ
シプロビル基なト)などがあげられる。
アルキル基は無置換及び置換アルキル基を含み、少なく
とも一方がスルホ基もしくはカルボキシル基などの酸基
を有する。無置換アルキル基としては、炭素原子の数が
/♂以下、特にt以下が好ましく、例えばメチル基、エ
チル基、n−プロピル基、n−メチル基、n−ヘギシル
基、n−オクタデシル基などがあげられる。また、置換
アルキル基としては、アルギル部分の炭素数原子の数が
t以下のものが好ましく、特に炭素原子の数かび以下の
ものが好ましく、例えば、スルホ基で置換されたアルキ
ル基(スルホ基はアルコキシ基やアリール基等を介して
結合していてもよい。例エハコースルホエチル基、3−
スルホプロピル基、3−スルホブチル基、≠−スルホブ
チル基、コ−(3−スルホプロポキシ)エチル基1.!
−[、!−(3−スルホプロポキシ)エトキシ〕エチル
基、ユーヒドロキシ−3−スルホプロピルL p−ス
ルホフェネチル基、p−スルホフェニルプロピル基など
)カルボキシ基で置換されたアルキル基(カルボキシ基
はアルコキシ基やアリール基等を介して結合していても
よい。例えば、カルボキシメチル基、コーカルボキシエ
チル基、3−カルボキシプロピル基、l−カルボキシブ
チル基、など)、ヒドロキシアルキル基(例えば、!−
ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基、ナト
)、アシロキシアルキル基(例えば、コーアセトキシエ
チル基、3−アセトキシプロピル基など)、アルコキシ
アルキル基(例えばコーメトキシエチル基、3−メトキ
シプロピル基、なト)、アルコキシカルボニルアルキル
基(例えば、コーメトキシカルボニルエチル基、3−メ
トキシカルボニルプロピル基、≠−エトキシカルボニル
ブチル基、など)、ビニル基置換アルキル基(例えばア
リル基)、シアノアルキル基(例えばコーシアノエチル
基なト)、カルバモイルアルギル基(例エバー4− 力
#バモイルエチル基なト)、アリーロキシアルキル基(
例えば2−フェノキシエチル基、3−フェノキシプロビ
ル基など)、アラルキル基(例えばコーフエネチル基、
3−フェニルプロピル基など)、又はアリーロキシアル
キル基(例えばコーフエノキシエチル基、3−フェノキ
シプロビル基なト)などがあげられる。
電荷バランス対イオンXは、複素環中の四級アンモニウ
ム塩で生じた正電荷を相殺することができる任意の陰イ
オンであシ、例えば、臭素イオン、塩素イオン、沃素イ
オン、I’ )ルエンスルホン酸イオン、エチルスル
ホン酸イオン、過塩素酸イオン、トリフルオロメタンス
ルホン酸イオン、チオシアンイオンなどである。この場
合nは/である。
ム塩で生じた正電荷を相殺することができる任意の陰イ
オンであシ、例えば、臭素イオン、塩素イオン、沃素イ
オン、I’ )ルエンスルホン酸イオン、エチルスル
ホン酸イオン、過塩素酸イオン、トリフルオロメタンス
ルホン酸イオン、チオシアンイオンなどである。この場
合nは/である。
電荷・くランス対イオンXは、R11又はR12のどち
らか一方がスルホアルキル置換基のような陰イオン置換
基を含む場合は、塩はベタインの形をとることができ、
その場合には対イオンは必要なく、nはQである。R1
1及びR12が2個の陰イオン置換基、たとえば2個の
スルホアルギル基を有する場合には X4は陰イオン性
対イオンであシ、例えばアルカリ金属イオン(ナトリウ
ムイオン、カリウムイオンなど)やアンモニウム塩(ト
リエチルアンモニウムなど)などがあげられる。
らか一方がスルホアルキル置換基のような陰イオン置換
基を含む場合は、塩はベタインの形をとることができ、
その場合には対イオンは必要なく、nはQである。R1
1及びR12が2個の陰イオン置換基、たとえば2個の
スルホアルギル基を有する場合には X4は陰イオン性
対イオンであシ、例えばアルカリ金属イオン(ナトリウ
ムイオン、カリウムイオンなど)やアンモニウム塩(ト
リエチルアンモニウムなど)などがあげられる。
ここで、「実質的に可視光域に吸収極大を持たない」化
合物とは写真感光材料上の残色が実用上問題のないレベ
ル以下の色調をもつ化合物を意味し、より詳しくは、現
像処理後の残色が実用上問題のないレベル以下の色調を
もつ化合物である。
合物とは写真感光材料上の残色が実用上問題のないレベ
ル以下の色調をもつ化合物を意味し、より詳しくは、現
像処理後の残色が実用上問題のないレベル以下の色調を
もつ化合物である。
−/4’−
好ましくは、上記化合物のメタノール中での吸収極大が
’I l Onm以下のもの、よシ好ましくは弘J O
nm以下のものである。
’I l Onm以下のもの、よシ好ましくは弘J O
nm以下のものである。
一般式(I)で示される化合物の具体例を以下に示す。
但し本発明は以下の化合物に限定されるものではない。
■−/
1−.2
I−グ
I−よ
■−J
I−ざ
一/ 7−
■−7
1−/ O
I−ノ ノ
ー/I−
1−/、2
■−/3
I−/ ≠
■−/ !
1−/&
I−/7
■−/ ざ
■−/り
■−−〇
1−.2/
■−22
1−,23
−+2 +2−
■−,2グ
C2H5
書
1−.2j
2H5
■
■−,24
次に本発明で用いるヒドラジン誘導体としては下記の一
般式(If)で示されるものが好ましい。
般式(If)で示されるものが好ましい。
一般式(IF)
式中、Aは脂肪族基、または芳香族基を表わし、Bはホ
ルミル基、アシル基、アルキルもしくはアリールスルホ
ニル基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基、カ
ルバモイル基、アルコキシもしくはアリールオキシカル
ボニル基、スルフィナモイル基、アルコキシスルホニル
基、チオアシル基、チオカルバモイル基、スルファニイ
ル基又はへテロ環基を表わし、RolRlはともに水素
原子あるいは一方が水素原子で他方が置換もしくは無置
換のアルキルスルホニル基、又は置換もしくは無置換の
アリールスルホニル基、又は置換もしくは無置換のアシ
ル基を表わす。
ルミル基、アシル基、アルキルもしくはアリールスルホ
ニル基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基、カ
ルバモイル基、アルコキシもしくはアリールオキシカル
ボニル基、スルフィナモイル基、アルコキシスルホニル
基、チオアシル基、チオカルバモイル基、スルファニイ
ル基又はへテロ環基を表わし、RolRlはともに水素
原子あるいは一方が水素原子で他方が置換もしくは無置
換のアルキルスルホニル基、又は置換もしくは無置換の
アリールスルホニル基、又は置換もしくは無置換のアシ
ル基を表わす。
ただし、B1R1およびそれらが結合する窒素原子がヒ
ドラゾンの部分構造−N=Cくを形成してもよい。
ドラゾンの部分構造−N=Cくを形成してもよい。
次に一般式(II)について詳しく説明する。
一般式(If)において、Aで表わされる脂肪族基は好
ましくは炭素数l〜30のものであって、特に炭素数7
〜.20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。
ましくは炭素数l〜30のものであって、特に炭素数7
〜.20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。
ここで分岐アルキル基はその中に一つまたはそれ以上の
へテロ原子を含んだ飽和のへテロ環を形成するように環
化されていてもよい。またこのアルキル基は、アリール
基、アルコキシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、
カルボンアミド基等の置換基を有していてもよい。
へテロ原子を含んだ飽和のへテロ環を形成するように環
化されていてもよい。またこのアルキル基は、アリール
基、アルコキシ基、スルホキシ基、スルホンアミド基、
カルボンアミド基等の置換基を有していてもよい。
例えばt−ブチル基、n−オクチル基、t−オクチル基
、シクロヘキシル基、ピロリジル基、イミダゾリル基、
テトラヒドロフリル基、モルフオーコ !− リノ基などをその例として挙げることができる。
、シクロヘキシル基、ピロリジル基、イミダゾリル基、
テトラヒドロフリル基、モルフオーコ !− リノ基などをその例として挙げることができる。
一般式(If)においてAで表わされる芳香族基は単環
またはコ環のアリール基または不飽和へテロ環基である
。ここで不飽和へテロ環基は単環または2環のアリール
基と縮合してヘテロアリール基を形成してもよい。
またはコ環のアリール基または不飽和へテロ環基である
。ここで不飽和へテロ環基は単環または2環のアリール
基と縮合してヘテロアリール基を形成してもよい。
例えばべ/ゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミ
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環
、ベンゾチアゾール環等があるなかでもベンゼン環を含
むものが好ましい。
ジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、
イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環
、ベンゾチアゾール環等があるなかでもベンゼン環を含
むものが好ましい。
Aとして特に好ましいものは了り−ル基である。
Aのアリール基または不飽和へテロ環基は置換基を持っ
ていてもよい。代表的な置換基としては、直鎖、分岐ま
たは環状のアルキル基、(好ましくは炭素数l〜、20
のもの)、アラルキル基(好ましくはアルキル部分の炭
素数が/〜3の単環またはコ環のもの)、アルコキシ基
(好ましくは炭素数/〜、20のもの)、置換アミン基
(好ましくは炭素数/−20のアルキル基で置換された
アミノーコ 6− 基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を持
つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数/〜3
Qを持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数/〜3
0を持つもの)などがある。
ていてもよい。代表的な置換基としては、直鎖、分岐ま
たは環状のアルキル基、(好ましくは炭素数l〜、20
のもの)、アラルキル基(好ましくはアルキル部分の炭
素数が/〜3の単環またはコ環のもの)、アルコキシ基
(好ましくは炭素数/〜、20のもの)、置換アミン基
(好ましくは炭素数/−20のアルキル基で置換された
アミノーコ 6− 基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を持
つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数/〜3
Qを持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数/〜3
0を持つもの)などがある。
一般式(II)のAはその中にカプラー等の不動性写真
用添加剤において常用されているパラスト基が組み込ま
れているものでもよい。バラスト基はg以上の炭素数を
有する写真性に対して比較的不活性な基であり、例えば
アルキル基、アルコキシ基、フェニル基、アルキルフェ
ニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基などの中
から選ぶことができる。
用添加剤において常用されているパラスト基が組み込ま
れているものでもよい。バラスト基はg以上の炭素数を
有する写真性に対して比較的不活性な基であり、例えば
アルキル基、アルコキシ基、フェニル基、アルキルフェ
ニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基などの中
から選ぶことができる。
一般式(If)のAはその中にハロゲン化銀粒子表面に
対する吸着を強める基が組み込まれているものでもよい
。かかる吸着基としては、チオ尿素基、複素環チオアミ
ド基、メルカプト複素環基、トリアゾール基などの米国
特許第μ、313.lor号、同≠、≠タタ、J4t7
号、特開昭jター/’?j、233号、同75’−20
0,23/号、同タター2θ/、0弘!号、同!ター2
0/、0+J号、同!?−,20/ 、0//7号、同
! ?−、20/、0グざ号、同jター、20/、04
/−タ号、特願昭jター3A、71に号、同1.0−/
/11.tり号、同1.0−/7739号等に記載され
た基が挙げられる。
対する吸着を強める基が組み込まれているものでもよい
。かかる吸着基としては、チオ尿素基、複素環チオアミ
ド基、メルカプト複素環基、トリアゾール基などの米国
特許第μ、313.lor号、同≠、≠タタ、J4t7
号、特開昭jター/’?j、233号、同75’−20
0,23/号、同タター2θ/、0弘!号、同!ター2
0/、0+J号、同!?−,20/ 、0//7号、同
! ?−、20/、0グざ号、同jター、20/、04
/−タ号、特願昭jター3A、71に号、同1.0−/
/11.tり号、同1.0−/7739号等に記載され
た基が挙げられる。
Bは、具体的にはホルミル基、アシル基(アセチル基、
プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセ
チル基、ベンゾイル基、クークロロベンゾイル基、ピル
ボ゛イル基、メトギザリル基、メチルオキサモイル基等
)、アルキルスルホニル基(メタンスルホニル基、コー
クロロエタンスルホニル基等)、アリールスルホニル基
(ベンゼンスルホニル基等)、アルキルスルフィニル基
(メタンスルフィニル基等)、アリールスルフィニル基
(ベンゼンスルフィニル基等)、カルバモイル基(メチ
ルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基等)、スル
ファモイル基(ジメチルスルファモイル基等)、アルコ
キシカルボニル基(メトキシカルボニル基、メトキシエ
トキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボ゛ニル
基(フエノキシカルゼニル基等)、スルフィナモイル基
(メチルスルフィナモイル基等)、アルコキシスルホニ
ル(メトキシスルホニル基、エトキシスルホニル基等)
、チオアシル基(メチルチオカルボニル基等)、チオカ
ルバモイル基(メチルチオカルバモイル基等)又はへテ
ロ環基(ピリジン環等)を表わす。
プロピオニル基、トリフルオロアセチル基、クロロアセ
チル基、ベンゾイル基、クークロロベンゾイル基、ピル
ボ゛イル基、メトギザリル基、メチルオキサモイル基等
)、アルキルスルホニル基(メタンスルホニル基、コー
クロロエタンスルホニル基等)、アリールスルホニル基
(ベンゼンスルホニル基等)、アルキルスルフィニル基
(メタンスルフィニル基等)、アリールスルフィニル基
(ベンゼンスルフィニル基等)、カルバモイル基(メチ
ルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基等)、スル
ファモイル基(ジメチルスルファモイル基等)、アルコ
キシカルボニル基(メトキシカルボニル基、メトキシエ
トキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボ゛ニル
基(フエノキシカルゼニル基等)、スルフィナモイル基
(メチルスルフィナモイル基等)、アルコキシスルホニ
ル(メトキシスルホニル基、エトキシスルホニル基等)
、チオアシル基(メチルチオカルボニル基等)、チオカ
ルバモイル基(メチルチオカルバモイル基等)又はへテ
ロ環基(ピリジン環等)を表わす。
Bどしてはホルミル基又はアシル基が特に好ましい。
一般式(I[)のBはR1及びこれらが結合している窒
素原子とともにヒドラゾンの部分構造上記においてR2
はアルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表わす。R
3は水素原子、アルキル基、アリール基またはへテロ環
基を表わす。
素原子とともにヒドラゾンの部分構造上記においてR2
はアルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表わす。R
3は水素原子、アルキル基、アリール基またはへテロ環
基を表わす。
ROXRlは水素原子、炭素数2θ以下のアルキルスル
ホニル基およびアリールスルホニル基(好ましくはフェ
ニルスルホニル基又は)・メットの置換基定数の和が一
〇、S以上となるように置換すれたフェニルスルホニル
基)、炭素数20以−,2ター 下のアシル基(好ましくはベンゾイル基、又はハメット
の置換基定数の和が一〇、!以上となるように置換され
たベンゾイル基、あるいは直鎖又は分岐状又は環状の無
置換及び置換脂肪族アシル基(置換基としては例えばハ
ロゲン原子、エーテル基、スルホンアミド基、カルボン
アミド基、水酸基、カルボキシ基、スルホン酸基が挙げ
られる。))ROsRlとしては水素原子が最も好まし
い。
ホニル基およびアリールスルホニル基(好ましくはフェ
ニルスルホニル基又は)・メットの置換基定数の和が一
〇、S以上となるように置換すれたフェニルスルホニル
基)、炭素数20以−,2ター 下のアシル基(好ましくはベンゾイル基、又はハメット
の置換基定数の和が一〇、!以上となるように置換され
たベンゾイル基、あるいは直鎖又は分岐状又は環状の無
置換及び置換脂肪族アシル基(置換基としては例えばハ
ロゲン原子、エーテル基、スルホンアミド基、カルボン
アミド基、水酸基、カルボキシ基、スルホン酸基が挙げ
られる。))ROsRlとしては水素原子が最も好まし
い。
本発明に用いられるヒドラジン誘導体としては、上記の
ものの他に、RESEARCHDISCLO8UREI
teyn2Jj/ 4 (/ タ13年//月号、P、
3グ6)およびそこに引用された文献の他、米国特許I
I−、0#0.207号、同11..2t9.?、29
号、同4t、27t、3tμ号、同μ、27g、74t
と号、同4t、3♂z、ior号、同グ、グjり。
ものの他に、RESEARCHDISCLO8UREI
teyn2Jj/ 4 (/ タ13年//月号、P、
3グ6)およびそこに引用された文献の他、米国特許I
I−、0#0.207号、同11..2t9.?、29
号、同4t、27t、3tμ号、同μ、27g、74t
と号、同4t、3♂z、ior号、同グ、グjり。
3117号、同11.!60.t38’号、同f、&7
F 、921号、英国特許2,0//、35’/B。
F 、921号、英国特許2,0//、35’/B。
特開昭乙O−/7り73グ号に記載されたものを用いる
ことができる。
ことができる。
次に一般式(n)で表わされる化合物を例示する。
■−/)
II−,2)
■−3)
■−弘)
n−t>
n−x)
■−7)
■−ざ)
■−タ)
CH2CH2CH2SH
If−10)
If−//)
1−/コ)
If−/J)
〇
11−/ダ)
n−is)
It−/J)
−3ダー
1−/f)
If−/!i’)
■−,20)
II−,2/)
I[−,2,り
1l−IJ)
■−,za)
]1−2夕)
町 田
IC,)
… −
本発明において、一般式(I)で表される化合物および
一般式(n)で表されるヒドラジン誘導体を写真感光材
料中に含有させるときには、ハロゲン化銀乳剤層に含有
させるのが好ましいがそれ以外の非感光性の親水性コロ
イド層(例えば保護層、中間層、フィルター層、ハレー
ション防止層ガど)に含有させてもよい。具体的には使
用する化合物が水溶性の場合には水溶液として、また難
水溶性の場合にはアルコール類、エステル類、ケトン類
などの水と混和しうる有機溶媒の溶液として、親水性コ
ロイド溶液に添加すればよい。ハロゲン化銀乳剤層に添
加する場合は化学熟成の開始から塗布前壕での任意の時
期に行ってよいが、化学熟成終了後から塗布前の間に添
加するのが好ましい。特に塗布のために用意された塗布
液中に添加するのがよい。
一般式(n)で表されるヒドラジン誘導体を写真感光材
料中に含有させるときには、ハロゲン化銀乳剤層に含有
させるのが好ましいがそれ以外の非感光性の親水性コロ
イド層(例えば保護層、中間層、フィルター層、ハレー
ション防止層ガど)に含有させてもよい。具体的には使
用する化合物が水溶性の場合には水溶液として、また難
水溶性の場合にはアルコール類、エステル類、ケトン類
などの水と混和しうる有機溶媒の溶液として、親水性コ
ロイド溶液に添加すればよい。ハロゲン化銀乳剤層に添
加する場合は化学熟成の開始から塗布前壕での任意の時
期に行ってよいが、化学熟成終了後から塗布前の間に添
加するのが好ましい。特に塗布のために用意された塗布
液中に添加するのがよい。
本発明の一般式(I)で表わされる化合物の含有量はハ
ロゲン化銀乳剤の粒子径、ハロゲン組成、化学増感の方
法と程度、該化合物を含有させる層とハロゲン化銀乳剤
の関係、カブリ防止化合物の種類などに応じて最適の量
を選択することが望壕しく、その選択のだめの試験の方
法は当業者のよく知るところである。通常は好ましくは
ハロゲン化銀1モル当りlo−6モルないし/ X /
0−2モル、特に10−5ないし!×10−3モルの
範囲で用いられる。
ロゲン化銀乳剤の粒子径、ハロゲン組成、化学増感の方
法と程度、該化合物を含有させる層とハロゲン化銀乳剤
の関係、カブリ防止化合物の種類などに応じて最適の量
を選択することが望壕しく、その選択のだめの試験の方
法は当業者のよく知るところである。通常は好ましくは
ハロゲン化銀1モル当りlo−6モルないし/ X /
0−2モル、特に10−5ないし!×10−3モルの
範囲で用いられる。
本発明において、一般式(It)で表わされるヒドラジ
ン誘導体は、前記一般式(I)の化合物と同様の方法で
添加することができ、ハロゲン化銀1モル当り/X10
−6モルないし/×/θ−1モル含有させるのが好まし
く特に/×/θ−5ないし&X10−3モル含有させる
のが好11〜い。
ン誘導体は、前記一般式(I)の化合物と同様の方法で
添加することができ、ハロゲン化銀1モル当り/X10
−6モルないし/×/θ−1モル含有させるのが好まし
く特に/×/θ−5ないし&X10−3モル含有させる
のが好11〜い。
次に本発明に用いられるカチオン色素について記載する
。シアニン色素は下記一般式(III)で表わされる。
。シアニン色素は下記一般式(III)で表わされる。
一般式(I■)
(X1θ)k
式中 z!およびZ2は!ないしt員複素環を形成する
に必要な原子群を表わし、それぞれが同じでも異ってい
てもよい。ここでR1およびR2は同一でも異なっても
よく、アルキル基あるいは置換アルキル基を表わす。L
l、R2およびR3はメチン基あるいは置換メチン基を
表わす。pおよびqはOまたば/を表わす。mは0./
1.2または3を表わす。Xl はアニオンを表わす。
に必要な原子群を表わし、それぞれが同じでも異ってい
てもよい。ここでR1およびR2は同一でも異なっても
よく、アルキル基あるいは置換アルキル基を表わす。L
l、R2およびR3はメチン基あるいは置換メチン基を
表わす。pおよびqはOまたば/を表わす。mは0./
1.2または3を表わす。Xl はアニオンを表わす。
kはOまたは/を表わす。ヘミシアニン色素は下記一般
式(IV)で表わされる。
式(IV)で表わされる。
一般式(IV)
式中 z3は、ZlおよびZ2と同義であり、R3はR
1およびR2と同着である。R4、R5、R6およびR
7は、Ll、R2およびR3と同義であり、rはpおよ
びqと同義である。X2° はX1°と同義であり、j
はkと同義である。nは4I O− 0、/またはコを表わしG1およびG2は同じでも異っ
ていてもよく、水素原子、アルキル基あるいは置換アル
キル基、アリール基あるいは置換アリール基を表わし壕
だG1とG2とで環状2級アミンから誘導される環を形
成してもよい。
1およびR2と同着である。R4、R5、R6およびR
7は、Ll、R2およびR3と同義であり、rはpおよ
びqと同義である。X2° はX1°と同義であり、j
はkと同義である。nは4I O− 0、/またはコを表わしG1およびG2は同じでも異っ
ていてもよく、水素原子、アルキル基あるいは置換アル
キル基、アリール基あるいは置換アリール基を表わし壕
だG1とG2とで環状2級アミンから誘導される環を形
成してもよい。
ロダシアニン色素は下記一般式(V)で表わされる。
一般式(V)
式中、Z4、Z5はZl、Z2と同義である。
R4,R5はR1、R2と同義である。R6は水素原子
、アルギル基、置換アルキル基、了り一ル基、置換アI
J−ル基捷たは複素環基を表わす。
、アルギル基、置換アルキル基、了り一ル基、置換アI
J−ル基捷たは複素環基を表わす。
L、L、L 、L 、L は、Ll−41!/−
L2、L3と同義である。W は!ないしt員複素環を
形成するに必要な原子群を表わす。hllはmと同義で
ある。s、tはP% Qと同義である。
形成するに必要な原子群を表わす。hllはmと同義で
ある。s、tはP% Qと同義である。
X2°はX1°と同義である。iはkと同義である。
zl、Z2、Z3、z4、z5によって形成される!な
いし6員複素環としては次のものが挙げられる。
いし6員複素環としては次のものが挙げられる。
チアゾール核(例えば、チアゾール、≠−メチルチアソ
ール、≠−フェニルチアゾール、≠、j−ジメチルチア
ゾール、ゲ、!−ジフェニルチアゾールなど)、ベンゾ
チアゾール核(例えば、ベンゾチアゾール、グークロロ
ベンゾチアゾール、!−クロロベンゾチアゾール、2−
クロロベンゾチアゾール、j−二トロベンゾチアゾール
、+ −メチルベンゾチアゾール、!−メチルベンゾチ
アゾール、t−メチルベンゾチアゾール、z−−70モ
ベンゾチアゾール、A−−7’ロモベンゾチアゾール、
!−ヨートヘンノチアゾール、!−フェニルベンゾチア
ゾール、!−メトキシベンゾチアゾール、t−メトキシ
ベンゾチアゾール、!−エトキシベンゾチアゾール、j
−エトキシカルボニルベンゾチアゾール、!−カルボキ
シベンゾチアゾール、!−フェネチルベンゾチアゾール
、!−フルオロベンゾチアゾール、j−クロロ−2−メ
チルベンゾチアゾール、j、4−メチルベンゾチアゾー
ル、!−ヒドロキシーt−メチルベンゾチアゾール、テ
トラヒドロベンゾチアゾール、グー7エニルベンゾチア
ゾールなど)、ナフトチアゾール核(例えば、ナフ)[
,2、/−d]チアソール、ナンド[/、、2−d]チ
アゾール、ナンド〔2゜3−d〕チアゾール、ターメト
キシナフト〔/。
ール、≠−フェニルチアゾール、≠、j−ジメチルチア
ゾール、ゲ、!−ジフェニルチアゾールなど)、ベンゾ
チアゾール核(例えば、ベンゾチアゾール、グークロロ
ベンゾチアゾール、!−クロロベンゾチアゾール、2−
クロロベンゾチアゾール、j−二トロベンゾチアゾール
、+ −メチルベンゾチアゾール、!−メチルベンゾチ
アゾール、t−メチルベンゾチアゾール、z−−70モ
ベンゾチアゾール、A−−7’ロモベンゾチアゾール、
!−ヨートヘンノチアゾール、!−フェニルベンゾチア
ゾール、!−メトキシベンゾチアゾール、t−メトキシ
ベンゾチアゾール、!−エトキシベンゾチアゾール、j
−エトキシカルボニルベンゾチアゾール、!−カルボキ
シベンゾチアゾール、!−フェネチルベンゾチアゾール
、!−フルオロベンゾチアゾール、j−クロロ−2−メ
チルベンゾチアゾール、j、4−メチルベンゾチアゾー
ル、!−ヒドロキシーt−メチルベンゾチアゾール、テ
トラヒドロベンゾチアゾール、グー7エニルベンゾチア
ゾールなど)、ナフトチアゾール核(例えば、ナフ)[
,2、/−d]チアソール、ナンド[/、、2−d]チ
アゾール、ナンド〔2゜3−d〕チアゾール、ターメト
キシナフト〔/。
、z−d)チアゾール、7−ニトキシナフト〔2゜t−
d)チアゾール、r−メトキシナフト[コ。
d)チアゾール、r−メトキシナフト[コ。
/−d]チアゾール、j−メトキシナフト〔2゜3−d
〕チアゾールなど)、チアゾリン核(例えば、チアゾリ
ン、グーメチルチアゾリン、グーニトロチアゾリンなど
)、オキサゾール核(例えば、オキサゾール、≠−メチ
ルオキサゾール、t−ニトロオキサゾール、!−メチル
オキサゾール、グーフェニルオキサソール、a、Z−ジ
フェニルオキサゾール、≠−エチルオキサゾールなど)
、ベンゾオキサゾール核(ベンゾオキサゾ−ル、j−ク
ロロベンゾオキサゾール、!−メチルベンゾオキサゾー
ル、z−−y’ロモベンゾオキサゾール、!−フルオロ
ベンゾオキサゾール、!−フェニルベンゾオキサゾール
、オーメトキシベンゾオキサゾール、j−二トロベンゾ
オキサゾール、s’r’リフルオロメチルベンゾオキサ
ゾール、!−ヒドロキシベンゾオキサゾール、!−力ル
ボキシベンゾオキサゾール、6−メチルベンゾオキサゾ
ール、t−クロロベンゾオキサゾール、t−ニトロベン
ゾオキサゾール、6−メチルベンゾチアゾール、t−ヒ
ドロキシベンゾオキサゾール、!、を一ジメチルベ/ゾ
オキサゾール、4.J−ジメチルベンゾオキサゾール、
j−エトキシベンゾオキサゾールなど)、ナフトオキサ
ゾール核(例えば、ナンド(:j、/−d)オキサゾー
ル、ナンド〔/。
〕チアゾールなど)、チアゾリン核(例えば、チアゾリ
ン、グーメチルチアゾリン、グーニトロチアゾリンなど
)、オキサゾール核(例えば、オキサゾール、≠−メチ
ルオキサゾール、t−ニトロオキサゾール、!−メチル
オキサゾール、グーフェニルオキサソール、a、Z−ジ
フェニルオキサゾール、≠−エチルオキサゾールなど)
、ベンゾオキサゾール核(ベンゾオキサゾ−ル、j−ク
ロロベンゾオキサゾール、!−メチルベンゾオキサゾー
ル、z−−y’ロモベンゾオキサゾール、!−フルオロ
ベンゾオキサゾール、!−フェニルベンゾオキサゾール
、オーメトキシベンゾオキサゾール、j−二トロベンゾ
オキサゾール、s’r’リフルオロメチルベンゾオキサ
ゾール、!−ヒドロキシベンゾオキサゾール、!−力ル
ボキシベンゾオキサゾール、6−メチルベンゾオキサゾ
ール、t−クロロベンゾオキサゾール、t−ニトロベン
ゾオキサゾール、6−メチルベンゾチアゾール、t−ヒ
ドロキシベンゾオキサゾール、!、を一ジメチルベ/ゾ
オキサゾール、4.J−ジメチルベンゾオキサゾール、
j−エトキシベンゾオキサゾールなど)、ナフトオキサ
ゾール核(例えば、ナンド(:j、/−d)オキサゾー
ル、ナンド〔/。
コーd〕オキサゾール、ナフト〔コ、3−d:)オキサ
ゾール、!−二トロナフト[J、/−d)オキサゾール
など)、インオキサゾール核(たとえ−μ グー ば!−メチルイソオキサゾール、ベンゾイソオキサゾー
ルなど)、オキサゾリン核(例えば、弘。
ゾール、!−二トロナフト[J、/−d)オキサゾール
など)、インオキサゾール核(たとえ−μ グー ば!−メチルイソオキサゾール、ベンゾイソオキサゾー
ルなど)、オキサゾリン核(例えば、弘。
ケージメチルオキサゾリンなど)、セレナゾール核(例
えば、グーメチルセレナゾール、グーニトロセレナソー
ル、グーフェニルセレナゾールナト)、ベンゾセレナゾ
ール核(例えば、ベンゾセレナゾール、j−クロロベン
ゾセレナゾール、!−ニトロベンゾセレナゾール、!−
メトキシベンゾセレナゾール、!−ヒドロキシベンゾセ
レナゾール、6−ニトロベンゾセレナゾール、!−クロ
ロー2−二トロベンゾセレナゾールなど)、ナフトセレ
ナゾール核(例えば、ナフト〔λ、/−d)セレナゾー
ル、ナフ)[/、、2−d:lセレナゾールなど)、テ
ルラゾール核(たとえばペンゾテルラゾール、!−メチ
ルベンゾテルラゾール、t、g−ジメチルテルラゾール
、!−メトキシベンゾテルラソール、!−ヒドロキシベ
ンゾテルラゾール、!−メチルチオベンゾテルラゾール
、!、6−シメトキシベンゾテルラゾール、ナフト〔/
、λ−d〕テルラゾール、t−メチルナンド[i、t−
一グ j− d)テルラゾール、t−メトキシナフ)[/ 、2−d
]テルラゾールなど)、3,3−ジアルキルインドレニ
ン核(例えば、3,3−ジメチルインドレニン、3,3
−ジエチルインドレニン、3゜3−ジメチル−よ−シア
ノインドレニン、3,3−ジメチル−2−ニトロインド
レニン1.3.3−ジメチル−よ−ニトロインドレニン
、3,3−ジメチル−!−メトキシインドレニン、3,
3.!−トリメチルインドレニン、3,3−ジメチル−
!−クロロインドレニンなど)、イミダゾール核(例え
ば、/−アルキルイミダゾール、/−アルキル−≠−フ
ェニルイミダゾール、l−アルキルベンゾイミダゾール
、/−アルキル−タークロロベンゾイミダゾール、/−
アルキル−!、6−ジクロロベンゾイミダゾール、/−
アルキル−!−メトキシベンゾイミダゾール、/−アル
キル−よ−シアノベンゾイミダゾール、/−アルキル−
よ−フルオロベンゾイミダゾール、/−アルキル−!−
トリフルオロメチルベンゾイミダゾール、/−アルキル
ー乙−クロロー!−シアノベンゾイミダゾール、/−ア
ルキル−2−クロロ−!−トリフルオロメチルベンゾイ
ミダゾール、/−アルキルナフト[/、、2−d)イミ
ダゾール、/−アリル−!、z−ジクロロペンツイミダ
ゾール、/−アリル−タークロロベンゾイミダゾール、
/−アリールイミダゾール、/−アリールベンゾイミダ
ゾール、/−アリール−S−クロロベンゾイミダゾール
、/−アリ−ルータ、t−ジクロロベンゾイミダゾール
、/−ア肝−ルー!−メトキシーζンゾイミダゾール、
/−アリール−!−シアノベンゾイミダゾール、/−ア
リールナフト[/、、2−d〕イミダゾール、前述のア
ルキル基は炭素原子/〜r個のもの、たとえば、メチル
、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル等の無置換
アルキル基やヒドロキシエルキル基(例えば、2−ヒド
ロキシエチル、3−ヒドロキシプロピル等)等が好まし
い。特に好ましくはメチル基、エチル基である。前述の
アリールは、フェニル、ノ\ロゲン(例工ばクロロ)置
換フェニル、アルキル(例工ばメチル)置換フェニル、
アルコキシ(例えばメトキシ)置換フェニルなどを表わ
す。)、ピリジン核(例えば、コーピリジン、グーピリ
ジン、!−メチルー2−ピリジン、3−メチル−グーピ
リジンなど)、キノリン核(例えば、コーキノリン、3
−メチルーコーキノリン、!−エチルーλ−キノリン、
6−メチルーコーキノリン、t−ニトローコーキノリン
、ざ−フルオローコーキノリン、乙−メトキシーコーキ
ノリン、2−ヒドロキシ−2−キ/IJン、g−クロロ
−2−キノリン、グーキノリン、2−エトキシ−μmキ
ノリン、を−ニトロ−弘−キノリン、ざ−クロロ−グー
キノリン、t−フルオロ−グーキノリン、t−メチル−
+ −キノリン、ざ−メトキシーグーキノリン、インキ
ノリン、A−ニトロ−l−イソキノリン、3.弘−シヒ
ドロ−/−インキノリン、6−ニトロ−3−イソキノリ
ンなど)、イミダゾ〔≠、5−b)キノキザリン核(例
えば、l、3−ジエチルイミダゾ(+、t−b:)キノ
キサリン、6−クロロ−/、3−ジアリルイミダゾ〔≠
、s−b〕キノキザリン女と)、オキサジアゾール核、
チアジアゾ−4t ざ− 一ル核テトラゾール核、ピリミジン核などを挙げること
ができる。
えば、グーメチルセレナゾール、グーニトロセレナソー
ル、グーフェニルセレナゾールナト)、ベンゾセレナゾ
ール核(例えば、ベンゾセレナゾール、j−クロロベン
ゾセレナゾール、!−ニトロベンゾセレナゾール、!−
メトキシベンゾセレナゾール、!−ヒドロキシベンゾセ
レナゾール、6−ニトロベンゾセレナゾール、!−クロ
ロー2−二トロベンゾセレナゾールなど)、ナフトセレ
ナゾール核(例えば、ナフト〔λ、/−d)セレナゾー
ル、ナフ)[/、、2−d:lセレナゾールなど)、テ
ルラゾール核(たとえばペンゾテルラゾール、!−メチ
ルベンゾテルラゾール、t、g−ジメチルテルラゾール
、!−メトキシベンゾテルラソール、!−ヒドロキシベ
ンゾテルラゾール、!−メチルチオベンゾテルラゾール
、!、6−シメトキシベンゾテルラゾール、ナフト〔/
、λ−d〕テルラゾール、t−メチルナンド[i、t−
一グ j− d)テルラゾール、t−メトキシナフ)[/ 、2−d
]テルラゾールなど)、3,3−ジアルキルインドレニ
ン核(例えば、3,3−ジメチルインドレニン、3,3
−ジエチルインドレニン、3゜3−ジメチル−よ−シア
ノインドレニン、3,3−ジメチル−2−ニトロインド
レニン1.3.3−ジメチル−よ−ニトロインドレニン
、3,3−ジメチル−!−メトキシインドレニン、3,
3.!−トリメチルインドレニン、3,3−ジメチル−
!−クロロインドレニンなど)、イミダゾール核(例え
ば、/−アルキルイミダゾール、/−アルキル−≠−フ
ェニルイミダゾール、l−アルキルベンゾイミダゾール
、/−アルキル−タークロロベンゾイミダゾール、/−
アルキル−!、6−ジクロロベンゾイミダゾール、/−
アルキル−!−メトキシベンゾイミダゾール、/−アル
キル−よ−シアノベンゾイミダゾール、/−アルキル−
よ−フルオロベンゾイミダゾール、/−アルキル−!−
トリフルオロメチルベンゾイミダゾール、/−アルキル
ー乙−クロロー!−シアノベンゾイミダゾール、/−ア
ルキル−2−クロロ−!−トリフルオロメチルベンゾイ
ミダゾール、/−アルキルナフト[/、、2−d)イミ
ダゾール、/−アリル−!、z−ジクロロペンツイミダ
ゾール、/−アリル−タークロロベンゾイミダゾール、
/−アリールイミダゾール、/−アリールベンゾイミダ
ゾール、/−アリール−S−クロロベンゾイミダゾール
、/−アリ−ルータ、t−ジクロロベンゾイミダゾール
、/−ア肝−ルー!−メトキシーζンゾイミダゾール、
/−アリール−!−シアノベンゾイミダゾール、/−ア
リールナフト[/、、2−d〕イミダゾール、前述のア
ルキル基は炭素原子/〜r個のもの、たとえば、メチル
、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル等の無置換
アルキル基やヒドロキシエルキル基(例えば、2−ヒド
ロキシエチル、3−ヒドロキシプロピル等)等が好まし
い。特に好ましくはメチル基、エチル基である。前述の
アリールは、フェニル、ノ\ロゲン(例工ばクロロ)置
換フェニル、アルキル(例工ばメチル)置換フェニル、
アルコキシ(例えばメトキシ)置換フェニルなどを表わ
す。)、ピリジン核(例えば、コーピリジン、グーピリ
ジン、!−メチルー2−ピリジン、3−メチル−グーピ
リジンなど)、キノリン核(例えば、コーキノリン、3
−メチルーコーキノリン、!−エチルーλ−キノリン、
6−メチルーコーキノリン、t−ニトローコーキノリン
、ざ−フルオローコーキノリン、乙−メトキシーコーキ
ノリン、2−ヒドロキシ−2−キ/IJン、g−クロロ
−2−キノリン、グーキノリン、2−エトキシ−μmキ
ノリン、を−ニトロ−弘−キノリン、ざ−クロロ−グー
キノリン、t−フルオロ−グーキノリン、t−メチル−
+ −キノリン、ざ−メトキシーグーキノリン、インキ
ノリン、A−ニトロ−l−イソキノリン、3.弘−シヒ
ドロ−/−インキノリン、6−ニトロ−3−イソキノリ
ンなど)、イミダゾ〔≠、5−b)キノキザリン核(例
えば、l、3−ジエチルイミダゾ(+、t−b:)キノ
キサリン、6−クロロ−/、3−ジアリルイミダゾ〔≠
、s−b〕キノキザリン女と)、オキサジアゾール核、
チアジアゾ−4t ざ− 一ル核テトラゾール核、ピリミジン核などを挙げること
ができる。
W によって形成されるjないしt員複素環としては次
のものが挙げられる。例えばロダニン核、コーチオヒダ
ントイン核、コーチオキソオキザゾリジンーグーオン核
、コービラゾリンーj−オン核、バルビッール酸核、コ
ーチオパルビツール酸核、チアゾリジン−,2,4−ジ
オン核、チアゾリジン−グーオン核、イソオキサシロン
核、ヒダントイン核、インダンジオン核などがある。
のものが挙げられる。例えばロダニン核、コーチオヒダ
ントイン核、コーチオキソオキザゾリジンーグーオン核
、コービラゾリンーj−オン核、バルビッール酸核、コ
ーチオパルビツール酸核、チアゾリジン−,2,4−ジ
オン核、チアゾリジン−グーオン核、イソオキサシロン
核、ヒダントイン核、インダンジオン核などがある。
LI L2 L3 L4 L5 L6 L
7L8 L9 Llo、Lll、L12、で表わさ
れるメチン基および置換メチン基のうち、その置換基と
しては、例えばアルキル基(例えばメチル、エチルなど
)、アリール基(例えばフェニル等)、アラルキル基(
例えばベンジル基)又はハロゲン(例えば、クロロ、ヅ
ロモなど)アルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシな
ど)などであり、またメチン鎖の置換基同志でグないし
t員環を形成してもよい。
7L8 L9 Llo、Lll、L12、で表わさ
れるメチン基および置換メチン基のうち、その置換基と
しては、例えばアルキル基(例えばメチル、エチルなど
)、アリール基(例えばフェニル等)、アラルキル基(
例えばベンジル基)又はハロゲン(例えば、クロロ、ヅ
ロモなど)アルコキシ基(例えばメトキシ、エトキシな
ど)などであり、またメチン鎖の置換基同志でグないし
t員環を形成してもよい。
−グター
R1、R2、R3、R4、R5、で表わされる置換され
ていてもよいアルキル基としては例えば、炭素原子/−
II好ましくは7〜7特に好ましくはl−≠のアルキル
基(無置換アルキル基(例えば、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ヘキシル、
オクチル、ドデシル、オクタデシルなど)、置換アルキ
ル基、例えばアラルキル基(例えばベンジル、コーフェ
ニルエチルなど)、ヒドロキシアルキル基(例えば、コ
ーヒドロキシエチル、3−ヒドロキシプロピルなど)、
アルコキシアルキル基(例えば、コーメトキシエチル、
2−メトキシエトキシ)エチルなど)、複素環置換アル
キル基(例えば−一(ピロリジン−2−オンー/−イル
)エチル、テトラヒドロフルフリルなど)、コーアセト
キシエチル、カルボメトキシメチル、−一メタンスルホ
ニルアミノエチル、アリル基など)がある。
ていてもよいアルキル基としては例えば、炭素原子/−
II好ましくは7〜7特に好ましくはl−≠のアルキル
基(無置換アルキル基(例えば、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ヘキシル、
オクチル、ドデシル、オクタデシルなど)、置換アルキ
ル基、例えばアラルキル基(例えばベンジル、コーフェ
ニルエチルなど)、ヒドロキシアルキル基(例えば、コ
ーヒドロキシエチル、3−ヒドロキシプロピルなど)、
アルコキシアルキル基(例えば、コーメトキシエチル、
2−メトキシエトキシ)エチルなど)、複素環置換アル
キル基(例えば−一(ピロリジン−2−オンー/−イル
)エチル、テトラヒドロフルフリルなど)、コーアセト
キシエチル、カルボメトキシメチル、−一メタンスルホ
ニルアミノエチル、アリル基など)がある。
R6で表わされるアルキル基、置換アルキル基、アリー
ル基、置換アリール基、複素環基としては、例えば炭素
数l〜/と、好ましくは/〜7、特に好ましくは/〜グ
のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、ヅチル基、イソブチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、ドデシル基、オクタデシル基など)
、置換アルキル基(例えばアラルキル基(例えばベンジ
ル基、コーフェニルエチル基ナト)、ヒドロキシアルキ
ル基(側光l、i’、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒ
ドロキシプロピル基など)、アルコキシアルキル基(例
えば、2−メトキシエチル基1.2−(,2−メトキシ
エトキシ)エチル基など)、複素環置換アルキル基(例
えばコー(ピロリジンーコーオンー/−イル)エチル基
、テトラヒドロフルフリル基、λ−モルホリノエチル基
など)、コーアセトキシエチル基、カルボメトキシメチ
ル基、2−メタンスルホニルアミノエチル基、アリル基
など)、アリール基(例えばフェニル基、2−ナフチル
基など)、置換アリール基(例えば、グーカルボキシフ
ェニル基、tt−スルホフェニル基、3−10ロフエニ
ル基、3−メチルフェニル基ナト)、複素環基(例えば
、コーピリジル基、λ−チアゾリル基など)などがある
。
ル基、置換アリール基、複素環基としては、例えば炭素
数l〜/と、好ましくは/〜7、特に好ましくは/〜グ
のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、ヅチル基、イソブチル基、ヘキシ
ル基、オクチル基、ドデシル基、オクタデシル基など)
、置換アルキル基(例えばアラルキル基(例えばベンジ
ル基、コーフェニルエチル基ナト)、ヒドロキシアルキ
ル基(側光l、i’、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒ
ドロキシプロピル基など)、アルコキシアルキル基(例
えば、2−メトキシエチル基1.2−(,2−メトキシ
エトキシ)エチル基など)、複素環置換アルキル基(例
えばコー(ピロリジンーコーオンー/−イル)エチル基
、テトラヒドロフルフリル基、λ−モルホリノエチル基
など)、コーアセトキシエチル基、カルボメトキシメチ
ル基、2−メタンスルホニルアミノエチル基、アリル基
など)、アリール基(例えばフェニル基、2−ナフチル
基など)、置換アリール基(例えば、グーカルボキシフ
ェニル基、tt−スルホフェニル基、3−10ロフエニ
ル基、3−メチルフェニル基ナト)、複素環基(例えば
、コーピリジル基、λ−チアゾリル基など)などがある
。
T)z qX ”% ’% tはOまたはlを表わ
す。m17S hはOX IXコ、3のいずれかを表わ
す。klj、、iは0または/を表わす。nは0./ま
たは−を表わす。
す。m17S hはOX IXコ、3のいずれかを表わ
す。klj、、iは0または/を表わす。nは0./ま
たは−を表わす。
以下に具体例を挙げて示すが、本発明の範囲はこれのみ
に限定されるものではがい。
に限定されるものではがい。
−jt +2−
5O2CH3Br−
よ
CF3SO3−
j 3−
■
、、n−C4Hg
♂
、 CH3
/ /。
r−
/2
/3゜
/≠
−よ 乙−
/!
r−
/l
■−
一! 7−
/lr。
19゜
20゜
コt
2H5
■−
2H5
■−
2H5
―
一!r−
+24/。
コよ
し3
.2乙。
aO−
一!ター
フ
、2と
■−
コタ
6 l−
30゜
C2H5
r
Z
■−
2H5
1A
2H5
r
3よ
2H5
■
C2H5□−
−1,2−
3t。
31r。
2H5
CH2CH2CH2CN ニー
11I−−
t 3−
7O1
≠/
4t2゜
■=
≠3
−6 !−一
ソ
ご
+4 辱■
匡
4 Q
蔓
これらは単独で用いてもよいし三者以上を併用してもよ
い。とれらの色素の使用量に特に制限はないが、ハロゲ
ン化銀3モル当り/ X/ 0−7〜/×10−2モル
、特に/×10−6〜/×70−3モルであることが好
ましい。
い。とれらの色素の使用量に特に制限はないが、ハロゲ
ン化銀3モル当り/ X/ 0−7〜/×10−2モル
、特に/×10−6〜/×70−3モルであることが好
ましい。
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は塩化銀、塩臭化
銀、沃臭化銀、沃塩臭化銀等どの組成でもかまわないが
、70モルチ以上、とくに70モル係以上が臭化銀から
なるハロゲン化銀が好ましい。
銀、沃臭化銀、沃塩臭化銀等どの組成でもかまわないが
、70モルチ以上、とくに70モル係以上が臭化銀から
なるハロゲン化銀が好ましい。
沃化銀の含量は10モルチ以下、特に0./〜tモルチ
であることが好ましい。
であることが好ましい。
本発明に用いられるハロゲン化銀の平均粒子サイズは微
粒子(例えば0.7μ以下)の方が好ましく、特に0.
夕μ以下が好ましい。粒子サイズ分布は基本的には制限
はないが、卸分散である方が好ましい。ここでいう単分
散とは重量もしくは粒子数で少なくともそのり!チが平
均粒子サイズの±410%以内の大きさを持つ粒子群か
ら構成されていることをいう。
粒子(例えば0.7μ以下)の方が好ましく、特に0.
夕μ以下が好ましい。粒子サイズ分布は基本的には制限
はないが、卸分散である方が好ましい。ここでいう単分
散とは重量もしくは粒子数で少なくともそのり!チが平
均粒子サイズの±410%以内の大きさを持つ粒子群か
ら構成されていることをいう。
写真乳剤中のハロゲン化銀粒子は立方体、八面体のよう
な規則的(regular)な結晶体を有するものでも
よく、また球状、板状などのような変則的(i rre
gular)な結晶を持つもの、あるいはこれらの結晶
形の複合形を持つものであってもよい。
な規則的(regular)な結晶体を有するものでも
よく、また球状、板状などのような変則的(i rre
gular)な結晶を持つもの、あるいはこれらの結晶
形の複合形を持つものであってもよい。
ハロゲン化銀粒子は内部と表層が均一な相から成ってい
ても、異なる相からなっていてもよい。
ても、異なる相からなっていてもよい。
別々に形成した2種以上のハロゲン化銀乳剤を混合して
使用してもよい。
使用してもよい。
ここで、二種併用する場合には、特開昭27−2237
34を号及び同&、2−2ot76号に開示されている
ような平均粒子サイズの異なる二種類の単分散乳剤を含
むことが最高濃度(Dmax) 上昇という点で好−
jl〜く、小サイズ単分散粒子は化学増感されているこ
とが好ましく、化学増感の方法は硫黄増感が最も好まし
い。大サイズ単分散乳剤の化学増感はされていなくても
よいが、化学増感されていてもよい。大サイズ単分散乳
剤は一般に黒ボッが発生しやすいので化学増感を行なわ
ないか、化学増感するときけ黒ボッが発生しない程度に
浅く施すことが特に好ましい。ここで「浅く施す」とは
小サイズ粒子の化学増感に較べ化学増感を施す時間を短
かくしたシ、温度を低くしたり化学増感剤の添加量を抑
えたシして行なうことである。大サイズ単分散乳剤と小
サイズ単分散乳剤の感度差には特に制限はないがΔlo
gEとしてO8/〜/801より好ましくはOo、2〜
0.7であり、大サイズ単分散乳剤が高い方が好ましい
。
34を号及び同&、2−2ot76号に開示されている
ような平均粒子サイズの異なる二種類の単分散乳剤を含
むことが最高濃度(Dmax) 上昇という点で好−
jl〜く、小サイズ単分散粒子は化学増感されているこ
とが好ましく、化学増感の方法は硫黄増感が最も好まし
い。大サイズ単分散乳剤の化学増感はされていなくても
よいが、化学増感されていてもよい。大サイズ単分散乳
剤は一般に黒ボッが発生しやすいので化学増感を行なわ
ないか、化学増感するときけ黒ボッが発生しない程度に
浅く施すことが特に好ましい。ここで「浅く施す」とは
小サイズ粒子の化学増感に較べ化学増感を施す時間を短
かくしたシ、温度を低くしたり化学増感剤の添加量を抑
えたシして行なうことである。大サイズ単分散乳剤と小
サイズ単分散乳剤の感度差には特に制限はないがΔlo
gEとしてO8/〜/801より好ましくはOo、2〜
0.7であり、大サイズ単分散乳剤が高い方が好ましい
。
また、ハロゲン化銀乳剤層は単層であってもよいし、ま
た重層(2層、3層など)であってもよい。重層の場合
、互に異なったハロゲン化銀乳剤を用いてもよいし、同
一のものを用いてもよい。
た重層(2層、3層など)であってもよい。重層の場合
、互に異なったハロゲン化銀乳剤を用いてもよいし、同
一のものを用いてもよい。
本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはノ・ロゲン化銀粒
子の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、
亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩、ロジウム塩もしくはその
錯塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などを共存させて
もよい。
子の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、
亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩、ロジウム塩もしくはその
錯塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などを共存させて
もよい。
本発明に用いるに特に適したハロゲン化銀は、銀1モル
当り10−8〜1o−sモルのイリジウム塩若しくはそ
の錯塩を存在させて調製され、かつ粒子表面の沃化銀含
有率が粒子平均の沃化銀金右室よりも大きいハロ沃化銀
である。かかるハロ沃化銀を含む乳剤を用いるとより一
層高感度でガンマの高い写真特性が得られる。
当り10−8〜1o−sモルのイリジウム塩若しくはそ
の錯塩を存在させて調製され、かつ粒子表面の沃化銀含
有率が粒子平均の沃化銀金右室よりも大きいハロ沃化銀
である。かかるハロ沃化銀を含む乳剤を用いるとより一
層高感度でガンマの高い写真特性が得られる。
−F記においては、ハロゲン化銀乳剤の製造工程の物理
熟成終了前とくに粒子形成時に上記の量のイリジウム塩
を加えることが望ましい。
熟成終了前とくに粒子形成時に上記の量のイリジウム塩
を加えることが望ましい。
ここで用いられるイリジウム塩は水溶性のイリジウム塩
またはイリジウム錯塩で、例えば三塩化イリジウム、四
塩化イリジウム、ヘキサクロロイリジウム(’l酸カリ
ウム、ヘキサクロロイリジウム(IV)酸カリウム、ヘ
キサクロロイリジウム(I)酸アンモニウムなどがある
。
またはイリジウム錯塩で、例えば三塩化イリジウム、四
塩化イリジウム、ヘキサクロロイリジウム(’l酸カリ
ウム、ヘキサクロロイリジウム(IV)酸カリウム、ヘ
キサクロロイリジウム(I)酸アンモニウムなどがある
。
写真乳剤の結合剤または保護コロイドとしては、ゼラチ
ンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロイ
ドも用いることができる。たとえばゼラチン誘導体、ゼ
ラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミン
、カゼイン等の蛋白質;ヒドロキシエチルセルロース、
カルボ゛キシメチルセルロース、セルロース硫酸エステ
ル類等の如キセルロース誘導体、アルギン酸ソーダ、澱
粉誘導体などの糖誘導体、ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルアルコール部分アセタール、ポリ−N−ビニルピ
ロリドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリア
クリルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピ
ラゾール等の単一あるいは共重合体の如き多種の合成親
水性高分子物質を用いることができる。
ンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロイ
ドも用いることができる。たとえばゼラチン誘導体、ゼ
ラチンと他の高分子とのグラフトポリマー、アルブミン
、カゼイン等の蛋白質;ヒドロキシエチルセルロース、
カルボ゛キシメチルセルロース、セルロース硫酸エステ
ル類等の如キセルロース誘導体、アルギン酸ソーダ、澱
粉誘導体などの糖誘導体、ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルアルコール部分アセタール、ポリ−N−ビニルピ
ロリドン、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリア
クリルアミド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピ
ラゾール等の単一あるいは共重合体の如き多種の合成親
水性高分子物質を用いることができる。
本発明で用いるハロゲン化銀乳剤は化学増感されていな
くてもよいが、化学増感されていてもよい。ハロゲン化
銀乳剤の化学増感の方法として、硫黄増感、還元増感及
び貴金属増感法が知られており、これらのいずれをも単
独で用いても、又併用して化学増感してもよい。
くてもよいが、化学増感されていてもよい。ハロゲン化
銀乳剤の化学増感の方法として、硫黄増感、還元増感及
び貴金属増感法が知られており、これらのいずれをも単
独で用いても、又併用して化学増感してもよい。
貴金属増感法のうち金増感法はその代表的なもので金化
合物、主として全錯塩を用いる。全以外の貴金属、たと
えば白金、ノラジウム、ロジウム等の錯塩を含有しても
差支えない。
合物、主として全錯塩を用いる。全以外の貴金属、たと
えば白金、ノラジウム、ロジウム等の錯塩を含有しても
差支えない。
硫黄増感剤としては、ゼラチン中に含まれる硫黄化合物
のはか、種々の硫黄化合物、たとえばチオ硫酸塩、チオ
尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用いることが
できる。
のはか、種々の硫黄化合物、たとえばチオ硫酸塩、チオ
尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用いることが
できる。
還元増感剤としては第一すず塩、アミン類、ホルムアミ
ジンスルフィン酸、7ラン化合物などを用いることがで
きる。
ジンスルフィン酸、7ラン化合物などを用いることがで
きる。
本発明の写真感光材料には、高感、硬調化促進を目的と
して特開昭40−/11034tO号及び同4/−/4
7り3り号に記載された化合物を添加することができる
。これらは単独で用いてもよく2種以上の組合せで用い
てもよい。
して特開昭40−/11034tO号及び同4/−/4
7り3り号に記載された化合物を添加することができる
。これらは単独で用いてもよく2種以上の組合せで用い
てもよい。
本発明の感光材料には、感光材料の製造工程、保存中あ
るいは写真処理中のカブリを防止し、あるいは写真性能
を安定化させる目的で、種々の化合物を含有させること
ができる。すなわちアゾール類たとえば、ベンゾチアゾ
リウム塩、ニトロインダゾール類、クロロベンズイミダ
ゾール類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチ
アゾール類、メルカプトベンゾチアゾール類、メルカプ
トチアジアゾール類、アミノトリアゾール類、ベンゾチ
アゾール類、ニトロベンゾトリアゾール類、々ど;メル
カプトピリミジン類;メルカプトトリアジン類:たとえ
ばオキサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザイ
ンデン類、たとえばトリアザインデン類、テトラアザイ
ンデン類(特に弘−ヒドロキシ置換(/、3,3a、y
)テトラザインデン類)、ペンタアザインデン類ナト:
ベンゼンチオスルフォン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベ
ンゼンスルフオン酸アミド等のよりなカブリ防止剤また
は安定剤として知られた多くの化合物を加えることがで
きる。これらのものの中で、好ましいのはベンゾトリア
ゾール類(例えば、!−メチル・ベンゾトリアゾール)
及びニトロインダゾール類(例えば、!−二トロインダ
ゾール)である。また、これらの化合物を処理液に含有
させてもよい。
るいは写真処理中のカブリを防止し、あるいは写真性能
を安定化させる目的で、種々の化合物を含有させること
ができる。すなわちアゾール類たとえば、ベンゾチアゾ
リウム塩、ニトロインダゾール類、クロロベンズイミダ
ゾール類、ブロモベンズイミダゾール類、メルカプトチ
アゾール類、メルカプトベンゾチアゾール類、メルカプ
トチアジアゾール類、アミノトリアゾール類、ベンゾチ
アゾール類、ニトロベンゾトリアゾール類、々ど;メル
カプトピリミジン類;メルカプトトリアジン類:たとえ
ばオキサゾリンチオンのようなチオケト化合物;アザイ
ンデン類、たとえばトリアザインデン類、テトラアザイ
ンデン類(特に弘−ヒドロキシ置換(/、3,3a、y
)テトラザインデン類)、ペンタアザインデン類ナト:
ベンゼンチオスルフォン酸、ベンゼンスルフィン酸、ベ
ンゼンスルフオン酸アミド等のよりなカブリ防止剤また
は安定剤として知られた多くの化合物を加えることがで
きる。これらのものの中で、好ましいのはベンゾトリア
ゾール類(例えば、!−メチル・ベンゾトリアゾール)
及びニトロインダゾール類(例えば、!−二トロインダ
ゾール)である。また、これらの化合物を処理液に含有
させてもよい。
本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性
コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含有してよい。
コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含有してよい。
例えば、クロム塩(クロムミョウバン匁ど)、アルデヒ
ド類(ホルムアルデヒドなど)、N−メチロール化合物
(ジメチロール尿素など)、ジオキサン誘導体、活性ビ
ニル化合物(/、!、j−)リアクリロイル−へキサヒ
ドロ−8−トIJアジン、l、3−ビニルスルホニルー
コープロノRノールなど)、活性ハロゲン化合物(2,
l−ジクロル−t−ヒドロキシ−5−)リアジンなト)
、ムコハロゲン酸M(ムコクロル酸、ムコフェノキシク
ロル酸など)、などを単独または組み合わせて用いるこ
とができる。
ド類(ホルムアルデヒドなど)、N−メチロール化合物
(ジメチロール尿素など)、ジオキサン誘導体、活性ビ
ニル化合物(/、!、j−)リアクリロイル−へキサヒ
ドロ−8−トIJアジン、l、3−ビニルスルホニルー
コープロノRノールなど)、活性ハロゲン化合物(2,
l−ジクロル−t−ヒドロキシ−5−)リアジンなト)
、ムコハロゲン酸M(ムコクロル酸、ムコフェノキシク
ロル酸など)、などを単独または組み合わせて用いるこ
とができる。
本発明の感光材料の写真乳剤層捷たは他の親水性コロイ
ド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性改良、乳化分散
、接着防止及び写真特性改良(例えば、現像促進、硬調
化、増感)等種々の目的で、種々の界面活性剤を含んで
もよい。
ド層には塗布助剤、帯電防止、スベリ性改良、乳化分散
、接着防止及び写真特性改良(例えば、現像促進、硬調
化、増感)等種々の目的で、種々の界面活性剤を含んで
もよい。
側光ば、サボニ/(ステロイド系)、アルキレンオキサ
イド誘導体(例えば、ポリエチレングリコール、ポリエ
チレングリコール/ポリプロピレングリコール縮金物、
ポリエチレングリコールアルキルエーテル類又はポリエ
チレングリコールアルキルアリールエーテルq、ホ)エ
チレングリコールエステル類、ポリエチレングリコール
ソルビタンエステル類、ポリアルキレングリコールアル
−71/l− キルアミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオ
キサイド付加物類)、グリシドール誘導体(例えば、ア
ルケニルコノ・り酸ポリグリセリド、アルキルフェノー
ルポリグリセリド)、多価アルコールの脂肪酸エステル
類、糖のアルキルエステル類などの非イオン性界面活性
剤:アルキルカルボン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、
アルキルベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレン
スルフォン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリ
ン酸エステル類、N−アシル−N−アルキルタウリン類
、スルホコハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキ
シエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエ
チレンアルキルリン酸エステル類などのような、カルボ
キシ基、スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、リン酸
エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;アミ
ノ酸類、アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル
硫酸又はリン酸エステル類、アルキルベタイン類、アミ
ンオキシド類などの両性界面活性剤:アルキルアミン塩
類、脂肪族あるいは芳香族第を級アンモニウム塩類、ピ
リジニウム、イミダゾリウムなどの複素環第μ級アンモ
ニウム塩類、及び脂肪族又は複素環を含むホスホニウム
又はスルホニウム塩類などのカチオン界面活性剤を用い
ることができる。
イド誘導体(例えば、ポリエチレングリコール、ポリエ
チレングリコール/ポリプロピレングリコール縮金物、
ポリエチレングリコールアルキルエーテル類又はポリエ
チレングリコールアルキルアリールエーテルq、ホ)エ
チレングリコールエステル類、ポリエチレングリコール
ソルビタンエステル類、ポリアルキレングリコールアル
−71/l− キルアミン又はアミド類、シリコーンのポリエチレンオ
キサイド付加物類)、グリシドール誘導体(例えば、ア
ルケニルコノ・り酸ポリグリセリド、アルキルフェノー
ルポリグリセリド)、多価アルコールの脂肪酸エステル
類、糖のアルキルエステル類などの非イオン性界面活性
剤:アルキルカルボン酸塩、アルキルスルフォン酸塩、
アルキルベンゼンスルフォン酸塩、アルキルナフタレン
スルフォン酸塩、アルキル硫酸エステル類、アルキルリ
ン酸エステル類、N−アシル−N−アルキルタウリン類
、スルホコハク酸エステル類、スルホアルキルポリオキ
シエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエ
チレンアルキルリン酸エステル類などのような、カルボ
キシ基、スルホ基、ホスホ基、硫酸エステル基、リン酸
エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤;アミ
ノ酸類、アミノアルキルスルホン酸類、アミノアルキル
硫酸又はリン酸エステル類、アルキルベタイン類、アミ
ンオキシド類などの両性界面活性剤:アルキルアミン塩
類、脂肪族あるいは芳香族第を級アンモニウム塩類、ピ
リジニウム、イミダゾリウムなどの複素環第μ級アンモ
ニウム塩類、及び脂肪族又は複素環を含むホスホニウム
又はスルホニウム塩類などのカチオン界面活性剤を用い
ることができる。
特に本発明において好ま1ツ〈用いられる界面活性剤は
特公昭3!−1+/、2号公報に記載された分子xto
o以上のポリアルキレンオキサイド類である。
特公昭3!−1+/、2号公報に記載された分子xto
o以上のポリアルキレンオキサイド類である。
本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親水性
コロイド層に接着防止の目的でシリカ、酸化マグネシウ
ム、ポリメチルメタクリレ−ト等のマット剤を含むこと
ができる。
コロイド層に接着防止の目的でシリカ、酸化マグネシウ
ム、ポリメチルメタクリレ−ト等のマット剤を含むこと
ができる。
本発明の感光材料には寸度安定性の改良などの目的で、
水溶性または難溶性合成ポリマーの分散物を含むことが
できる。たとえば、アルキル(メタ)アクリレート、ア
ルコキシアルキル(メタ)アクリレート、グリシジル(
メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、ビニル
エステル(たとえば、酢酸ビニル)、アクリロニトリル
、オレフィン、スチレンなどの単独もしくは組合せや、
まだはこれらとアクリル酸、メタアクリル酸、α。
水溶性または難溶性合成ポリマーの分散物を含むことが
できる。たとえば、アルキル(メタ)アクリレート、ア
ルコキシアルキル(メタ)アクリレート、グリシジル(
メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、ビニル
エステル(たとえば、酢酸ビニル)、アクリロニトリル
、オレフィン、スチレンなどの単独もしくは組合せや、
まだはこれらとアクリル酸、メタアクリル酸、α。
β−不飽和ジカルボン酸、ヒドロキシアルキル(メタ)
アクリレート、スルフオアルキル(メタ)アクリレート
、スチレンスルフォン酸などの組合せを単量体成分とす
るポリマーを用いることができる。
アクリレート、スルフオアルキル(メタ)アクリレート
、スチレンスルフォン酸などの組合せを単量体成分とす
るポリマーを用いることができる。
本発明の感光材料の支持体としては、セルローストリア
セテート、セルロースジアセテート、ニトロセルロース
、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートなどを用
いうるがポリエチレンテレフタレートフィルムであるこ
とが最も好ましい。
セテート、セルロースジアセテート、ニトロセルロース
、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートなどを用
いうるがポリエチレンテレフタレートフィルムであるこ
とが最も好ましい。
これらの支持体は、公知の方法でコロナ処理されてもよ
く、又、必要に応じて公知の方法で下引き加工されても
よい。
く、又、必要に応じて公知の方法で下引き加工されても
よい。
また、温度や湿度の変化によって寸法が変化する、いわ
ゆる寸度安定性を高めるために、ポリ塩化ビニリデン系
ポリマーを含む防水層を設けてもよい。
ゆる寸度安定性を高めるために、ポリ塩化ビニリデン系
ポリマーを含む防水層を設けてもよい。
本発明に用いるのに適した現像促進剤あるいは造核伝染
現像の促進剤としては、特開昭j3−77乙/6、同3
41−37732、同夕3−/J7゜/33、同to−
il/−o 、 3qo、同1,0−/II7!り、な
どに開示されている化合物の他、N又はS原子を含む各
種の化合物が有効である。
現像の促進剤としては、特開昭j3−77乙/6、同3
41−37732、同夕3−/J7゜/33、同to−
il/−o 、 3qo、同1,0−/II7!り、な
どに開示されている化合物の他、N又はS原子を含む各
種の化合物が有効である。
次に具体例を列挙する。
これらの促進剤は、化合物の種類によって最適添加量が
異なるが/、θ×/θ−3〜0.3g/m2、好ましく
はj 、 O’1./ 0−3〜0 、 / g7m2
の範囲で用いるのが望ましい。これらの促進剤は適当な
溶媒(H2O)メタノールやエタノールなどのアルコー
ル類、アセトン、ジメチルホルムアミド、メチルセルソ
ルブなど)に溶解して塗布液に添加される。
異なるが/、θ×/θ−3〜0.3g/m2、好ましく
はj 、 O’1./ 0−3〜0 、 / g7m2
の範囲で用いるのが望ましい。これらの促進剤は適当な
溶媒(H2O)メタノールやエタノールなどのアルコー
ル類、アセトン、ジメチルホルムアミド、メチルセルソ
ルブなど)に溶解して塗布液に添加される。
7 g−
(C2H5)2NCH2CH−CH20■■H
n−C4HgN(C2H40H)2
本発明の写真感光材料のハロゲン化銀乳剤層及びその他
の層には酸基を有する化合物を含有することが好ましい
。酸基を有する化合物としてはサリチル酸、酢酸、アス
コルビン酸等の有機酸及びアクリル酸、マレイン酸、フ
タル酸の如き酸モノマーをくり返し単位として有するポ
リマー又はコポリマーを挙げることができる。これらの
化合物に関しては特開昭J/−223ざ3を号、同乙/
−、2.2!?グ37号、同ぶコーjt74’を号、同
22−!!t4t2号及び特願昭&/−t27110号
明細書の記録を参考にすることができる。これらの化合
物の中でも特に好ましいのは、低分子化合物としてはア
スコルビン酸であり、高分子化合物としてはアクリル酸
の如き酸モノマーとジビニルベンゼンの如き2個以上の
不飽和基を有する架橋性モノマーからなるコポリマーの
水分散性ラテックスである。
の層には酸基を有する化合物を含有することが好ましい
。酸基を有する化合物としてはサリチル酸、酢酸、アス
コルビン酸等の有機酸及びアクリル酸、マレイン酸、フ
タル酸の如き酸モノマーをくり返し単位として有するポ
リマー又はコポリマーを挙げることができる。これらの
化合物に関しては特開昭J/−223ざ3を号、同乙/
−、2.2!?グ37号、同ぶコーjt74’を号、同
22−!!t4t2号及び特願昭&/−t27110号
明細書の記録を参考にすることができる。これらの化合
物の中でも特に好ましいのは、低分子化合物としてはア
スコルビン酸であり、高分子化合物としてはアクリル酸
の如き酸モノマーとジビニルベンゼンの如き2個以上の
不飽和基を有する架橋性モノマーからなるコポリマーの
水分散性ラテックスである。
本発明のハロゲン化銀感光材料を用いて超硬調で高感度
の写真特性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許第
2,41/?、!;′7Jt号に記載されたp H/
3に近い高アルカリ現像液を用いる必要はなく、安定表
現保液を用いることができる。
の写真特性を得るには、従来の伝染現像液や米国特許第
2,41/?、!;′7Jt号に記載されたp H/
3に近い高アルカリ現像液を用いる必要はなく、安定表
現保液を用いることができる。
すなわち、本発明のハロゲン化銀感光材料は、保恒剤と
しての亜硫酸イオンを0./jモル/1以上含み、pH
10、j〜/、2.3、特にpH/i、o〜/2.Oの
現像液によって充分に超硬調のネガ画像を得ることがで
きる。
しての亜硫酸イオンを0./jモル/1以上含み、pH
10、j〜/、2.3、特にpH/i、o〜/2.Oの
現像液によって充分に超硬調のネガ画像を得ることがで
きる。
本発明に使用する現像液に用いる現像主薬には特別な制
限はないが、良好な網点品質を得やすい点で、ジヒドロ
キシベンゼン類を含むことが好まシく、ジヒドロキシベ
ンゼン類ト/−フェニル−3−ピラゾリドン類の組合せ
またはジヒドロキシベンゼン類とp−アミンフェノール
類の組合せを用いる場合もある。
限はないが、良好な網点品質を得やすい点で、ジヒドロ
キシベンゼン類を含むことが好まシく、ジヒドロキシベ
ンゼン類ト/−フェニル−3−ピラゾリドン類の組合せ
またはジヒドロキシベンゼン類とp−アミンフェノール
類の組合せを用いる場合もある。
本発明に用いるジヒドロキシベンゼン現像主薬としては
ハイドロキノン、クロロハイドロキノン、ブロムハイド
ロキノン、イソプロピルハイドロキノン、メチルハイド
ロキノン、コツ3−ジクロロハイドロキノン1.2.j
−ジクロロハイドロキノン、λ、3−ジブロムハイドロ
キノン、2.!−g−一 ジメチルハイドロキノンなどがあるが特にハイドロキノ
ンが好ましい。
ハイドロキノン、クロロハイドロキノン、ブロムハイド
ロキノン、イソプロピルハイドロキノン、メチルハイド
ロキノン、コツ3−ジクロロハイドロキノン1.2.j
−ジクロロハイドロキノン、λ、3−ジブロムハイドロ
キノン、2.!−g−一 ジメチルハイドロキノンなどがあるが特にハイドロキノ
ンが好ましい。
本発明に用いる/−フェニル−3−ピラゾリドン又はそ
の誘導体の現像主薬としては/−フェニル−3−ピラゾ
リドン、/−7エニルーグ、41.−ジメチル=≠−ピ
ラゾリドン、/−フェニル−グーメチル−7−ヒドロキ
シメチル−3−ピラゾリドン、/−フェニル−+、4t
−ジヒドロキシメチルー3−ピラゾリドン、/−7エニ
ルーよ一メチルー3−ピラゾリドン、1−p−アミノフ
ェニルーク、≠−ジメチル−3−ピラゾリドン、/−p
−トリル−μ、ゲージメチルー3−ピラゾリドンなどが
ある。
の誘導体の現像主薬としては/−フェニル−3−ピラゾ
リドン、/−7エニルーグ、41.−ジメチル=≠−ピ
ラゾリドン、/−フェニル−グーメチル−7−ヒドロキ
シメチル−3−ピラゾリドン、/−フェニル−+、4t
−ジヒドロキシメチルー3−ピラゾリドン、/−7エニ
ルーよ一メチルー3−ピラゾリドン、1−p−アミノフ
ェニルーク、≠−ジメチル−3−ピラゾリドン、/−p
−トリル−μ、ゲージメチルー3−ピラゾリドンなどが
ある。
本発明に用いるp−アミンフェノール系現像主薬として
はN−メチル−p−アミンフェノール、p−アミンフェ
ノール、N−(β−ヒドロキシエチル)−p−アミンフ
ェノール、N−(p−ヒドロキシフェニル)グリシン、
ノーメチル−p−アミンフェノール、p−ベンジルアミ
ノフェノール等があるが、なかでもN−メチル−p−ア
ミツクr 3− エノールが好ましい。
はN−メチル−p−アミンフェノール、p−アミンフェ
ノール、N−(β−ヒドロキシエチル)−p−アミンフ
ェノール、N−(p−ヒドロキシフェニル)グリシン、
ノーメチル−p−アミンフェノール、p−ベンジルアミ
ノフェノール等があるが、なかでもN−メチル−p−ア
ミツクr 3− エノールが好ましい。
現像主薬は通常O0θ!モル/l〜θ1gモル/lの量
で用いられるのが好ましい。またジヒドロキシベンゼン
類と/−フェニル−3−ビラソリトン類又はp・アミン
・フェノール類との組合せを用いる場合には前者をO,
OSモル/It−0゜3モル/l、後者をo、otモル
/l以下の量で用いるのが好ましい。
で用いられるのが好ましい。またジヒドロキシベンゼン
類と/−フェニル−3−ビラソリトン類又はp・アミン
・フェノール類との組合せを用いる場合には前者をO,
OSモル/It−0゜3モル/l、後者をo、otモル
/l以下の量で用いるのが好ましい。
本発明に用いる亜硫酸塩の保恒剤としては亜硫酸ナトリ
ウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アンモ
ニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、
ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある。亜硫
酸塩は0.4tモル/1以上特に0.jモル/1以上が
好ましい。また上限はλ、jモル/lまでとするのが好
ましい。
ウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アンモ
ニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、
ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある。亜硫
酸塩は0.4tモル/1以上特に0.jモル/1以上が
好ましい。また上限はλ、jモル/lまでとするのが好
ましい。
pHの設定のために用いるアルカリ剤には水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
、第三リン酸ナトリウム、第三リン酸カリウムの如きp
H調節剤や緩衝剤を含む。現像液のpHは10.j−/
、2.3の間に設定される。
ウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
、第三リン酸ナトリウム、第三リン酸カリウムの如きp
H調節剤や緩衝剤を含む。現像液のpHは10.j−/
、2.3の間に設定される。
上記成分以外に用いられる添加剤としてはホウ酸、ホウ
砂などの化合物、臭化す) IJウム、臭化カリウム、
沃化カリウムの如き現像抑制剤:エチレングリコール、
ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジメ
チルホルムアミド、メチルセロソルツ、ヘキシレングリ
コール、エタノール、メタノールの如き有機溶剤:l−
フェニル−!−メルカプトテトラゾール、!−二トロイ
ンダゾール等のインダゾール系化合物、!−メチルベン
ツトリアゾール等のペンツトリアゾール系化合物などの
カブリ防止剤又は黒ボッ(blackpepper)防
止剤:を含んでもよく、更に必要に応じて色調剤、界面
活性剤、消泡剤、硬水軟化剤、硬膜剤、特開昭77−1
0tapp号記載のアミン化合物などを含んでもよい。
砂などの化合物、臭化す) IJウム、臭化カリウム、
沃化カリウムの如き現像抑制剤:エチレングリコール、
ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジメ
チルホルムアミド、メチルセロソルツ、ヘキシレングリ
コール、エタノール、メタノールの如き有機溶剤:l−
フェニル−!−メルカプトテトラゾール、!−二トロイ
ンダゾール等のインダゾール系化合物、!−メチルベン
ツトリアゾール等のペンツトリアゾール系化合物などの
カブリ防止剤又は黒ボッ(blackpepper)防
止剤:を含んでもよく、更に必要に応じて色調剤、界面
活性剤、消泡剤、硬水軟化剤、硬膜剤、特開昭77−1
0tapp号記載のアミン化合物などを含んでもよい。
本発明の現像液には銀汚れ防止剤して特開昭jt−21
7.3117号に記載の化合物を用いることができる。
7.3117号に記載の化合物を用いることができる。
現像液中に添加する溶解助剤して特願昭to−ioり、
7グ3号に記載の化合物を用いることかできる。さらに
現像液に用いるpH緩衝剤として特開昭tθ−タ3,4
t33号に記載の化合物あるいは特願昭1./−,21
r70r号に記載の化合物を用いることができる。
7グ3号に記載の化合物を用いることかできる。さらに
現像液に用いるpH緩衝剤として特開昭tθ−タ3,4
t33号に記載の化合物あるいは特願昭1./−,21
r70r号に記載の化合物を用いることができる。
定着剤としては一般に用いられる組成のものを用いるこ
とができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸
塩のほか、定着剤としての効果の知られている有機硫黄
化合物を用いることができる。
とができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸
塩のほか、定着剤としての効果の知られている有機硫黄
化合物を用いることができる。
定着液には硬膜剤として水溶性アルミニウム(例えば硫
酸アルミニウム、明パンなど)を含んでもよい。ここで
水溶性アルミニウム塩の量としては通常O1≠〜J、o
g−41/lである。さらに三価の鉄化合物を酸化剤と
してエチレンジアミンケ酢酸との錯体として用いること
もできる。
酸アルミニウム、明パンなど)を含んでもよい。ここで
水溶性アルミニウム塩の量としては通常O1≠〜J、o
g−41/lである。さらに三価の鉄化合物を酸化剤と
してエチレンジアミンケ酢酸との錯体として用いること
もできる。
現像処理温度は普通1r0cから!θ0Cの間で選ばれ
るがより好しくは、zsoCから弘3°Cである。
るがより好しくは、zsoCから弘3°Cである。
(実施例)
次に、本発明について実施例にもとづいてよシ具体的に
説明する。
説明する。
ra−
(現像液処方)
ハイドロキノン ≠j、OgN・メ
チルp・アミノフェノ− ルl/コ硫酸塩 o、rg水酸化ナト
リウム ir、og水酸化カリウム
j! 、Og!−スルホサリチル酸
4Lz、ogホウ酸
21.0g亜硫酸カリウム Ilo、0
gエチレンジアミン四酢酸二ナト リウム塩 / 、0g臭化カ
リウム t、ogjメチルベンゾ
トリアゾール 0.Agn・ブチル・ジェタノー
ルアミ ン 1
1.0g水を加えて /ノ
(pH=lt、&) 現像温度および時間は3r0C,20秒である。
チルp・アミノフェノ− ルl/コ硫酸塩 o、rg水酸化ナト
リウム ir、og水酸化カリウム
j! 、Og!−スルホサリチル酸
4Lz、ogホウ酸
21.0g亜硫酸カリウム Ilo、0
gエチレンジアミン四酢酸二ナト リウム塩 / 、0g臭化カ
リウム t、ogjメチルベンゾ
トリアゾール 0.Agn・ブチル・ジェタノー
ルアミ ン 1
1.0g水を加えて /ノ
(pH=lt、&) 現像温度および時間は3r0C,20秒である。
なお、黒ボッの評価のためには、強制条件として、3ざ
0C≠O秒で現像した。
0C≠O秒で現像した。
t 7−
(比較例−/)
so 0cに保ったゼラチン水溶液にAg1モル当り、
II×10−7モルのt塩化イリジウム()カリおよび
アンモニアの存在下で硝酸塩水溶液と沃化カリウム、臭
化カリウム水溶液を同時にt。
II×10−7モルのt塩化イリジウム()カリおよび
アンモニアの存在下で硝酸塩水溶液と沃化カリウム、臭
化カリウム水溶液を同時にt。
分間で加え、その間のpAgを7.1に保つことにより
平均粒径0.2jμ、平均ヨウ化銀含有量1モルチの立
方体単分散乳剤を調製した。これらのヨウ臭化銀乳剤に
、増感色素として、オルソ増感のためのタ、j1−ジク
ロローデーエチル−3゜3′−ビス(3−スルホプロピ
ル)オキサカルボシアニンのナトリウム塩を銀1モル当
り3.0×10−4モルを加え、パンクロ増感のために
本発明のカチオン色素を表−/に示すように添加した。
平均粒径0.2jμ、平均ヨウ化銀含有量1モルチの立
方体単分散乳剤を調製した。これらのヨウ臭化銀乳剤に
、増感色素として、オルソ増感のためのタ、j1−ジク
ロローデーエチル−3゜3′−ビス(3−スルホプロピ
ル)オキサカルボシアニンのナトリウム塩を銀1モル当
り3.0×10−4モルを加え、パンクロ増感のために
本発明のカチオン色素を表−/に示すように添加した。
さらに、安定剤として≠−ヒドロキシー6−メチルー/
、3,3a、7−チトラザインデン、ポリエチルアクリ
レートラテックス、ポリエチレンクリコール、/、3−
ビニルスルホニル−,2−−)ロノtノール、/−フェ
ニル−!−メルカフトテトラゾール、l、グービス[3
−(4−アセチルアミノ−ピリジニオ)プロピオニルオ
キシ〕−テトラメチレンジプロミドおよびヒドラジン誘
導体としてl−,30を銀1モル当#)3.0×10−
3%ルを添加し、厚み10Oμのポリエチレンテレフタ
レートフィルム上に鋼量3.11.g/m2になるよう
に塗布を行った。ゼラチンの塗布量は3.λg/m2で
あった。
、3,3a、7−チトラザインデン、ポリエチルアクリ
レートラテックス、ポリエチレンクリコール、/、3−
ビニルスルホニル−,2−−)ロノtノール、/−フェ
ニル−!−メルカフトテトラゾール、l、グービス[3
−(4−アセチルアミノ−ピリジニオ)プロピオニルオ
キシ〕−テトラメチレンジプロミドおよびヒドラジン誘
導体としてl−,30を銀1モル当#)3.0×10−
3%ルを添加し、厚み10Oμのポリエチレンテレフタ
レートフィルム上に鋼量3.11.g/m2になるよう
に塗布を行った。ゼラチンの塗布量は3.λg/m2で
あった。
この上に保護層としてゼラチン/ 、 3 g 7m2
、粒径コ、3μのポリメチルメタクリレートjOmg/
m2、メタノールシリカ0.16g7m2、塗布助剤と
して下記構造式で示されるフッ素系界面活性剤およびド
デシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含む層を同時に
塗布した。
、粒径コ、3μのポリメチルメタクリレートjOmg/
m2、メタノールシリカ0.16g7m2、塗布助剤と
して下記構造式で示されるフッ素系界面活性剤およびド
デシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含む層を同時に
塗布した。
C3F17S02NCH2COOK
腎
3H7
実施例−/
比較例−7に対して、表−/に示すように、本発明の一
般式(I)で表わされる化合物をハロゲン化銀乳剤層に
添加した。その他は比較例−/と同様にした。
般式(I)で表わされる化合物をハロゲン化銀乳剤層に
添加した。その他は比較例−/と同様にした。
(写真性能の評価)
比較例および実施例の各試料を露光および現像を行った
。その結果を表−/に示す。表−/より明らかなように
、本発明の試料は、比較例に比べて著るしく黒ボッが減
少しているのがわかる。
。その結果を表−/に示す。表−/より明らかなように
、本発明の試料は、比較例に比べて著るしく黒ボッが減
少しているのがわかる。
(I)相対感度は3tr 0cso秒現像における濃度
/、1を与える露光量の逆数の相対値で比較試料−aの
値をiooとしだ。
/、1を与える露光量の逆数の相対値で比較試料−aの
値をiooとしだ。
=りO−
(2)黒ボッは顕微鏡観察によシ直径約≠■の視野を2
J′倍に拡大してその中にある黒ボッの数をカウントす
ることにより評価した。従って数値が小さいほど黒ボッ
は良いことを表わす。
J′倍に拡大してその中にある黒ボッの数をカウントす
ることにより評価した。従って数値が小さいほど黒ボッ
は良いことを表わす。
感度、階調(γ)、画像の最高濃度(Dmax)は表−
/かられかるように実質的に大きくは変らなかった。
/かられかるように実質的に大きくは変らなかった。
実施例−コ
ヒドラジン誘導体として、[−30の代シに■−33を
銀1モルに対してコ、!×70−4モル用いる他は、比
較例−/と同様にして、さらに、表−コに示すようにカ
チオン色素、および一般式(I)の化合物を添加した。
銀1モルに対してコ、!×70−4モル用いる他は、比
較例−/と同様にして、さらに、表−コに示すようにカ
チオン色素、および一般式(I)の化合物を添加した。
実施例−/と同様にして評価した結果を表−コに示した
。
。
実施例−3
実施例、2−4に対して、さらに次の現像促進剤をl♂
mg/m2を添加した。
mg/m2を添加した。
得られた写真性能は、感度10♂、階調(γ)、2 /
、 I)max 47 、グ、黒ボッtと良好な結果を
得た。
、 I)max 47 、グ、黒ボッtと良好な結果を
得た。
実施例−μ
実施例2−4tに対して、さらに、次の酸ポリマーラテ
ックスをo、xg7m2、o、qg/rn2添加した。
ックスをo、xg7m2、o、qg/rn2添加した。
それぞれ実施例り一/、およびクーコの試料をテストし
た。得られた結果は表−3に示すように、さらに黒ボッ
が改良された。
た。得られた結果は表−3に示すように、さらに黒ボッ
が改良された。
x:y=to:t。
表−3
−タ!−
昭和63年7月7日
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 支持体上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層を有し
、該ハロゲン化銀乳剤層もしくはその他の親水性コロイ
ド層中に、ヒドラジン誘導体、シアニン、ヘミシアニン
およびロダシアニンから選ばれる少なくとも一種のカチ
オン色素及び下記一般式( I )で表わされる実質的に
可視域に吸収極大を持たない化合物を含有することを特
徴とするネガ型ハロゲン化銀写真感光材料: 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ Z^1^1及びZ^1^2は各々ベンズオキサゾール核
、ベンゾチアゾール核、ベンゾセレナゾール核、ナフト
オキサゾール核、ナフトチアゾール核、ナフトセレナゾ
ール核、チアゾール核、チアゾリン核、オキサゾール核
、セレナゾール核、セレナゾリン核、ピリジン核、ベン
ズイミダゾール核又はキノリン核を完成するに必要な非
金属原子群を表わす。 R^1^1及びR^1^2は各々酸基を有したアルキル
基またはアラルキル基を表わし、そのうち少くとも1つ
は酸基を有する。Xは電荷バランス対イオンであり、n
は0又は1を表わす。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62269928A JPH0769583B2 (ja) | 1987-10-26 | 1987-10-26 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
EP88117842A EP0314104B1 (en) | 1987-10-26 | 1988-10-26 | Silver halide photographic materials |
US07/262,634 US5093222A (en) | 1987-10-26 | 1988-10-26 | Silver halide photographic materials |
DE88117842T DE3884131T2 (de) | 1987-10-26 | 1988-10-26 | Photographisches Silberhalogenidmaterial. |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62269928A JPH0769583B2 (ja) | 1987-10-26 | 1987-10-26 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01112235A true JPH01112235A (ja) | 1989-04-28 |
JPH0769583B2 JPH0769583B2 (ja) | 1995-07-31 |
Family
ID=17479151
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62269928A Expired - Fee Related JPH0769583B2 (ja) | 1987-10-26 | 1987-10-26 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
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Country | Link |
---|---|
US (1) | US5093222A (ja) |
EP (1) | EP0314104B1 (ja) |
JP (1) | JPH0769583B2 (ja) |
DE (1) | DE3884131T2 (ja) |
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WO2008038764A1 (en) | 2006-09-28 | 2008-04-03 | Fujifilm Corporation | Spontaneous emission display, spontaneous emission display manufacturing method, transparent conductive film, electroluminescence device, solar cell transparent electrode, and electronic paper transparent electrode |
WO2008075771A1 (ja) | 2006-12-21 | 2008-06-26 | Fujifilm Corporation | 導電膜およびその製造方法 |
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- 1987-10-26 JP JP62269928A patent/JPH0769583B2/ja not_active Expired - Fee Related
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1988
- 1988-10-26 EP EP88117842A patent/EP0314104B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-10-26 US US07/262,634 patent/US5093222A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-10-26 DE DE88117842T patent/DE3884131T2/de not_active Expired - Fee Related
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