JP2926451B2 - ハロゲン化銀写真感光材料を用いた画像形成方法 - Google Patents

ハロゲン化銀写真感光材料を用いた画像形成方法

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JP2926451B2
JP2926451B2 JP3246483A JP24648391A JP2926451B2 JP 2926451 B2 JP2926451 B2 JP 2926451B2 JP 3246483 A JP3246483 A JP 3246483A JP 24648391 A JP24648391 A JP 24648391A JP 2926451 B2 JP2926451 B2 JP 2926451B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はハロゲン化銀写真感光材
料及びそれを用いた超硬調ネガ画像形成方法に関するも
のであり、特に写真製版工程に用いられるハロゲン化銀
写真感光材料に適した超硬調ネガ型写真感光材料に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】ある種のハロゲン化銀を用いて極めてコ
ントラストの高い写真画像を形成できることは公知であ
り、そのような写真画像の形成方法は、写真製版の分野
で用いられている。たとえば、塩臭化銀(すくなくとも
塩化銀含有率が50%以上)から成るリス型ハロゲン化
銀感光材料を、亜硫酸イオンの有効濃度をきわめて低く
した(通常0.1モル/リットル以下)ハイドロキノン
現像液で処理することにより、画像部と非画像部が明瞭
に区別された、高いコントラストと高い黒化濃度をもつ
線画あるいは網点画像を得る方法が知られている。しか
しこの方法では現像液中の亜硫酸濃度が低いため、現像
は空気酸化に対して極めて不安定であり、液活性を安定
に保つためにさまざまな努力と工夫がなされて使用され
ているのが現状であった。
【0003】このため、上記のような現像方法(リス現
像システム)による画像形成の不安定さを解消し、良好
な保存安定性を有する処理液で現像し、超高調な写真特
性が得られる画像形成システムが要望され、その1つと
して米国特許4,166,742号、同4,168,9
77号、同4,221,857号、同4,224,40
1号、同4,243,739号、同4,272,606
号、同4,311,781号にみられるように、特定の
アシルヒドラジン化合物を添加した表面潜像型ハロゲン
化銀写真感光材料を、pH11.0〜12.3で亜硫酸
保恒剤を0.15モル/リットル以上含み、良好な保存
安定性を有する現像液で処理して、γが10を越える超
硬調のネガ画像を形成するシステムが提案された。この
新しい画像形成システムには、従来の超硬調画像形成で
は塩化銀含有率の高い塩臭化銀しか使用できなかったの
に対して、沃臭化銀や塩沃臭化銀でも使用できるという
特徴がある。
【0004】この方法によれば、現像液の空気酸化に対
する安定性はリス現像液に比べて飛躍的に向上する。し
かしながら、ヒドラジン誘導体により超硬調な画像を形
成させるためにはpHを11.0以上でなければなら
ず、そのため現像主薬が酸化されやすく、又空気中のC
2 の吸収などによってもpHが変動しやすく安定した
写真性が得にくいという欠点があった。従って、現像液
の安定性を維持するためにpHが11.0以下で高濃度
の亜硫酸塩の存在下で超硬調な画像が得られる方法が望
まれていた。
【0005】米国特許528,628号、同528,6
50号に開示されているある特有の置換基を有するヒド
ラジン化合物を用いることによってpHが11.0以下
でも硬調な画像が形成される。
【0006】しかしながら、この系では硬調化と同時に
伝染現像による黒ポツという好ましくない現象をひきお
こすことがあり、写真製版工程上の問題となっている。
黒ポツというのは、本来未露光で非画像となるべき部分
に発生する徴小な現像銀でできた黒スポットである。黒
ポツは現像液の経時疲労により、保恒剤として導入され
ている亜硫酸濃度が著しく減少したり、pHが上昇した
りすると多発し、改善が強く望まれている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、安定な現像液を用いて硬調な画像が得られ、なおか
つ黒ポツが少ないハロゲン化銀写真感光材料を提供する
ことである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、支持体
上にハロゲン化銀乳剤層を少なくとも1層有し、該ハロ
ゲン化銀乳剤層およびその他の親水性コロイド層の少な
くとも1層に、下記一般式(1)で表されるヒドラジン
化合物の少なくとも1種を含有し、かつ酸ポリマーまた
は下記一般式(6)で表される実質的には可視域に吸収
極大を持たない化合物の少なくとも1種を含有してなる
ハロゲン化銀写真感光材料を、pH値が11.0以下の
現像液で現像することを特徴とする画像形成方法によっ
て達成された。 一般式(1)
【0009】
【化3】
【0010】式中、R1 は脂肪族基または芳香族基を表
わし、さらにその置換基の一部として−O−(CH2
2 O) n −、−O−(CH2 CH(CH3)O)n −ま
たは−O−(CH2 CH(OH)CH2 O)n −(ただ
しnは3以上の整数)の部分構造を含有するか、あるい
は置換基の一部として4級アンモニウムカチオンを含有
する基である。G1 は−CO−基、−COCO−基、−
CS−基、−C(=NG2 2 )−基、−SO−基、−
SO2 −基または−P(O)(G2 2 )−基を表わ
す。G2 は単なる結合手、−O−基、−S−基または−
N(R2 )−基を表わし、R2 は脂肪族基、芳香族基ま
たは水素原子を表わし、分子内に複数のR2 が存在する
場合それらは同じあっても異なっても良い。A1 、A2
の一方は水素原子であり、他方は水素原子またはアシル
基、アルキルまたはアリールスルホニル基を表わす。 一般式(6)
【0011】
【化4】
【0012】Z及びZは各々ベンゾオキサゾール
核、ベンゾチアゾール核、ベンゾセレナゾール核、ナフ
トオキサゾール核、ナフトチアゾール核、ナフトセレナ
ゾール核、チアゾール核、チアゾリン核、オキサゾール
核、セレナゾール核、セレナゾリン核、ピリジン核、ベ
ンズイミダゾール核又はキノリン核を完成するに必要な
非金属原子群を表わす。 11 及びR 12 は各々アルキ
ル基またはアラルキル基を表わす。Xは電荷バランス対
イオンであり、nは0又は1を表わす。
【0013】一般式(I)についてさらに詳細に説明す
る。一般式(I)において、R1 で表される脂肪族基は
好ましくは炭素数1〜30のものであって、特に炭素数
1〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基である。
このアルキル基は置換基を有している。一般式(I)に
おいて、R1 で表される芳香族基は単環または2環のア
リール基または不飽和ヘテロ環基である。ここで不飽和
ヘテロ環基はアリール基と縮合してヘテロアリール基を
形成してもよい。例えばベンゼン環、ナフタレン環、ピ
リジン環、キノリン環、イソキノリン環等がある。なか
でもベンゼン環を含むものが好ましい。R1 として特に
好ましいものはアリール基である。R1 のアリール基ま
たは不飽和ヘテロ環基は置換されている。
【0014】R1 の脂肪族基または芳香族基は置換され
ており、代表的な置換基としては、例えばアルキル基、
アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキ
シ基、アリール基、置換アミノ基、ウレイド基、ウレタ
ン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カルバモ
イル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル
基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シ
アノ基、スルホ基、アリールオキシカルボニル基、アシ
ル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、カル
ボンアミド基、スルホンアミド基、カルボキシル基、リ
ン酸アミド基などが挙げられ、好ましい置換基としては
直鎖、分岐または環状のアルキル基(好ましくは炭素数
1〜20のもの)、アラルキル基(好ましくは炭素数7
〜30のもの)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜
30のもの)、置換アミノ基(好ましくは炭素数1〜3
0のアルキル基で置換されたアミノ基)、アシルアミノ
基(好ましくは炭素数2〜40を持つもの)、スルホン
アミド基(好ましくは炭素数1〜40を持つもの)、ウ
レイド基(好ましくは炭素数1〜40を持つもの)、リ
ン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜40のもの)など
である。
【0015】R1 の脂肪族基、芳香族基またはそれらの
置換基は-O-(CH2CH2O)n - 、-O(CH2CH(CH3)O) n - 、ま
たは-O-(CH2CH(OH)CH2O)n - を含有しているか、あるい
は4級アンモニウムカチオンを含有している。nは3以
上の整数であり、3以上15以下の整数が好ましい。R
1 は好ましくは以下の一般式(2) 、一般(3) 、一般(4)
または一般式(5) で表わされる。
【0016】
【化5】
【0017】式中、L1 、L2 は-CONR7- 基、-NR7CONR
8-基、-SO2NR7-基または-NR7SO2NR8- 基を表わし、それ
ぞれ同じであっても異なっていても良い。R7 およびR
8 は水素原子または炭素数1〜6のアルキル基、炭素数
6〜10のアリール基を表わし、水素原子が好ましい。
mは0または1である。R3 、R4 、R5 は2価の脂肪
族基または芳香族基であり、好ましくはアルキレン基、
アリーレン基またはそれらと-O- 基、-CO-基、-S- 基、
-SO-基、-SO2-基、-NR9- 基(R9 は一般式(2) 、(3)
、(4) のR7 と同義)を組み合わせることによってつ
くられる2価の基である。より好ましくはR3 は炭素数
1〜10のアルキレン基あるいはそれらと-S- 基、-SO-
基、-SO2- 基を組み合わせてつくられる2価の基であ
り、R4 、R5 は炭素数6〜20のアリーレン基であ
る。特にR5 はフェニレン基が好ましい。R3 、R4
よびR5 は置換されていても良く、好ましい置換基とし
てはR1の置換基として列挙したものがあてはまる。
【0018】一般式(2) 、(3) においてZ1 は含窒素芳
香環を形成するために必要な原子群を表わす。Z1 と窒
素原子で形成される含窒素複素芳香環の好ましい例とし
てはピリジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピラジ
ン環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピロール環、オ
キサゾール環、チアゾール環およびこれらのベンゾ縮合
環の他、プテリジン環、ナフチリジン環などを挙げるこ
とができる。一般式(2) 、(3) 、(4) においてX- は対
アニオンまたは分子内塩を形成する場合は対アニオン部
分を表わす。一般式(3) 、(4) 、(5) においてR6 は脂
肪族基または芳香族基を表わす。好ましくはR6 は炭素
数1〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基
である。一般式(4) における3つのR6 はそれぞれ同じ
であっても異なっても良く、また互いに結合して環を形
成しても良い。Z1 およびR6 は置換されていても良
く、好ましい置換基としてはR1 の置換基として列挙し
たものがあてはまる。一般式(5) においてL3 は-CH2CH
2O- 基、-CH2CH(CH3)O- 基、または-CH2CH(OH)CH2O- 基
を表わし、nは一般式(1) と同義である。
【0019】一般式(1) におけるG1 としては-CO-基、
-SO2- 基が好ましく、-CO-基が最も好ましい。A1 、A
2 としては水素原子が好ましい。
【0020】一般式(1) においてR2 で表わされるアル
キル基としては、好ましくは炭素数1〜4のアルキル基
であり、アリール基としては単環または2環のアリール
基が好ましい(例えばベンゼン環を含むもの)。G1
-CO-基の場合、R2 で表わされる基のうち好ましいもの
は、水素原子、アルキル基(例えば、メチル基、トリフ
ルオロメチル基、3−ヒドロキシプロピル基、3−メタ
ンスルホンアミドプロピル基、フェニルスルホニルメチ
ル基など)、アラルキル基(例えば、o−ヒドロキシベ
ンジル基など)、アリール基(例えば、フェニル基、
3,5−ジクロロフェニル基、o−メタンスルホンアミ
ドフェニル基、4−メタンスルホニルフェニル基、2−
ヒドロキシメチルフェニル基など)などであり、特に水
素原子が好ましい。R2 は置換されていても良く、置換
基としては、R1 に関して列挙した置換基が適用でき
る。又、R2 はG1 −R2 の部分を残余分子から分裂さ
せ、−G1 −R2 部分の原子を含む環式構造を生成させ
る環化反応を生起するようなものであってもよく、その
例としては例えば特開昭63−29751号などに記載
のものが挙げられる。
【0021】一般式(1) のR1 またはR2 はその中にカ
プラー等の不動性写真用添加剤において常用されている
バラスト基またはポリマーが組み込まれているものでも
よい。バラスト基は8以上の炭素数を有する写真性に対
して比較的不活性な基であり、例えばアルキル基、アル
コキシ基、フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキ
シ基、アルキルフェノキシ基などの中から選ぶことがで
きる。またポリマーとして例えば特開平1−10053
0号に記載のものが挙げられる。
【0022】一般式(1) のR1 またはR2 はその中にハ
ロゲン化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込ま
れているものでもよい。かかる吸着基としては、チオ尿
素基、複素環チオアミド基、メルカプト複素環基、トリ
アゾール基などの米国特許第4,385,108号、同
4,459,347号、特開昭59−195,233
号、同59−200,231号、同59−201,04
5号、同59−201,046号、同59−201,0
47号、同59−201,048号、同59−201,
049号、同61−170,733号、同61−27
0,744号、同62−948号、同63−234,2
44号、同63−234,245号、同63−234,
246号に記載された基が挙げられる。
【0023】本発明の一般式(1) の化合物は例えば特開
昭61−213,847号、同62−260,153
号、米国特許第4,684,604号、特願昭63−9
8,803号、米国特許第3,379,529号、同
3,620,746号、同4,377,634号、同
4,332,878号、特開昭49−129,536
号、同56−153,336号、同56−153,34
2号、米国特許第4,988,604号、同4,99
4,365号などに記載されている方法を利用すること
により合成できる。以下に本発明に用いられる化合物を
列記するが本発明はこれに限定されるものではない。
【0024】
【化6】
【0025】
【化7】
【0026】
【化8】
【0027】
【化9】
【0028】
【化10】
【0029】
【化11】
【0030】
【化12】
【0031】
【化13】
【0032】
【化14】
【0033】
【化15】
【0034】
【化16】
【0035】本発明の一般式(1)の化合物の添加量とし
てはハロゲン化銀1モルあたり1×10-6ないし5×1
-2モル含有されるのが好ましく、特に1×10-5モル
ないし2×10-2モルの範囲が好ましい添加量である。
【0036】本発明の一般式(1) の化合物は、適当な水
混和性有機溶媒、例えば、アルコール類(メタノール、
エタノール、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケ
トン類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブ
などに溶解して用いることができる。また、既に良く知
られている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、
トリクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテー
トあるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチ
ルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、
機械的に乳化分散物を作成して用いることもできる。あ
るいは固体分散法として知られている方法によって、レ
ドックス化合物の粉末を水の中にボールミル、コロイド
ミル、あるいは超音波によって分散して用いることもで
きる。
【0037】次に一般式(6) で表わされる実質的に可視
域に吸収極大をもたない化合物について説明する。Z1
及びZ2 は各々ベンゾオキサゾール核、ベンゾチアゾー
ル核、ベンゾセレナゾール核、ナフトオキサゾール核、
ナフトチアゾール核、ナフトセレナゾール核、チアゾー
ル核、チアゾリン核、オキサゾール核、セレナゾール
核、セレナゾリン核、ピリジン核、ベンズイミダゾール
核又はキノリン核を完成するに必要な非金属原子群を表
わす。R11及びR12は各々アルキル基またはアラルキル
基を表わす。Xは電荷バランス対イオンであり、nは0
又は1を表わす。ここで、一般式(6) がラジカル体とな
る場合には、好ましくは、Z1 、Z2 で示される原子群
またはR11、R12に示される基から水素原子が1個離脱
したものであり、特にR11、R12から水素原子が1個離
脱したものが好ましい。また、一般式(6) において、置
換基として酸化を有したもの(例えばR11、R12が酸基
を有したアルキル基またはアラルキル基)においては、
それ自体が一般式(6) で示される化合物となりうる。
【0038】一般式(6) において、Z1 及びZ2 で形成
される複素環として好ましくはベンゾオキサゾール核、
ベンゾチアゾール核、ナフトオキサゾール核、ナフトチ
アゾール核、チアゾール核、またはオキサゾール核であ
り、更に好ましくは、ベンゾオキサゾール核、ベンゾチ
アゾール核、またはナフトオキサゾール核であり、最も
好ましくは、ベンゾオキサゾール核またはナフトオキサ
ゾール核である。一般式(6) において、Z1 又はZ2
形成される複素環は少くとも一つの置換基で置換されて
いてもよく、その置換基としてはハロゲン原子(例えば
弗素、塩素、臭素、沃素)、ニトロ基、アルキル基(好
ましくは炭素数1〜4のもの、例えばメチル基、エチル
基、トリフルオロメチル基、ベンジル基、フェネチル
基)、アリール基(例えばフェニル基)、アルコキシ基
(好ましくは炭素数1〜4のもの、例えばメトキシ基、
エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基)、カルボキシ
ル基、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜
5のもの、例えばエトキシカルボニル基)、ヒドロキシ
基、シアノ基等を挙げる事ができる。
【0039】一般式(6) でZ1 及びZ2 に関し、ベンゾ
チアゾール核としては、例えばベンゾチアゾール、5−
クロロベンゾチアゾール、5−ニトロベンゾチアゾー
ル、5−メチルベンゾチアゾール、6−ブロモベンゾチ
アゾール、5−ヨードベンゾチアゾール、5−フェニル
ベンゾチアゾール、5−メトキシベンゾチアゾール、6
−メトキシベンゾチアゾール、5−カルボキシベンゾチ
アゾール、5−エトキシカルボニルベンゾチアゾール、
5−フルオロベンゾチアゾール、5−クロロ−6−メチ
ルベンゾチアゾール、5−トリフルオロメチルベンゾチ
アゾール、などを、ナフトチアゾール核としては例え
ば、ナフト〔1,2−d〕チアゾール、ナフト〔1,2
−d〕チアゾール、ナフト〔2,3−d〕チアゾール、
5−メトキシナフト〔1,2−d〕チアゾール、5−メ
トキシナフト〔2,3−d〕チアゾール、などを、ベン
ゾセレナゾール核としては例えば、ベンゾセレナゾー
ル、5−クロロベンゾセレナゾール、5−メトキシベン
ゾセレナゾール、5−ヒドロキシベンゾセレナゾール、
5−クロロ−6−メチルベンゾセレナゾール、などを、
ナフトセレナゾール核としては例えば、ナフト〔1,2
−d〕セレナゾール、ナフト〔2,1−d〕セレナゾー
ルなどを、チアゾール核としては例えば、チアゾール
核、4−メチルチアゾール核、4−フェニルチアゾール
核、4,5−ジメチルチアゾール核、などを、チアゾリ
ン核としては例えば、チアゾリン核、4−メチルチアゾ
リン核などが挙げられる。
【0040】一般式(6) においてZ1 及びZ2 に関し、
ベンゾオキサゾール核としては例えば、ベンゾオキサゾ
ール核、5−クロロベンゾオキサゾール核、5−メチル
ベンゾオキサゾール核、5−ブロモベンゾオキサゾール
核、5−フルオロベンゾオキサゾール核、5−フェニル
ベンゾオキサゾール核、5−メトキシベンゾオキサゾー
ル核、5−エトキシベンゾオキサゾール核、5−トリフ
ルオロメチルベンゾオキサゾール核、5−ヒドロキシベ
ンゾオキサゾール核、5−カルボキシベンゾオキサゾー
ル核、6−メチルベンゾオキサゾール核、6−クロロベ
ンゾオキサゾール核、6−メトキシベンゾオキサゾール
核、6−ヒドロキシベンゾオキサゾール核、5,6−ジ
メチルベンゾオキサゾール核などを、ナフトオキサゾー
ル核としては例えば、ナフト〔2,1−d〕オキサゾー
ル核、ナフト〔1,2−d〕オキサゾール核、ナフト
〔2,3−d〕オキサゾール核、5−メトキシナフト
〔1,2−d〕オキサゾール核、などを挙げる事ができ
る。更にZ1 及びZ2 に関し、オキサゾール核としては
例えば、オキサゾール核、4−メチルオキサゾール核、
4−フェニルオキサゾール核、4−メトキシオキサゾー
ル核、4,5−ジメチルオキサゾール核、5−フェニル
オキサゾール核又は4−メトキシオキサゾール核など
を、ピリジン核としては例えば2−ピリジン核、4−ピ
リジン核、5−メチル−2−ピリジン核、3−メチル−
4−ピリジン核などを、又キノリン核としては例えば、
2−キノリン核、4−キノリン核、3−メチル−2−キ
ノリン核、5−エチル−2−キノリン核、8−フルオロ
−2−キノリン核、6−メトキシ−2−キノリン核、8
−クロロ−4−キノリン核、8−メチル−4−キノリン
核、などを挙げる事ができる。
【0041】一般式(6) において、R11及びR12で表わ
されるアルキル基は無置換及び置換アルキル基を含み、
無置換アルキル基としては、炭素原子の数が18以下、
特に8以下が好ましく、例えばメチル基、エチル基、n
−プロピル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、n−オ
クタデシル基などがあげられる。また、置換アルキル基
としては、アルキル部分の炭素数原子の数が6以下のも
のが好ましく、特に炭素原子の数が4以下のものが好ま
しく、例えば、スルホ基で置換されたアルキル基(スル
ホ基はアルコキシ基やアリール基等を介して結合してい
てもよい。例えば2−スルホエチル基、3−スルホプロ
ピル基、3−スルホブチル基、4−スルホブチル基、2
−(3−スルホプロポキシ)エチル基、2−〔2−(3
−スルホプロポキシ)エトキシ〕エチル基、2−ヒドロ
キシ−3−スルホプロピル基、p−スルホフェネチル
基、p−スルホフェニルプロピル基など)カルボキシ基
で置換されたアルキル基(カルボキシ基はアルコキシ基
やアリール基等を介して結合していてもよい。例えば、
カルボキシメチル基、2−カルボキシエチル基、3−カ
ルボキシプロピル基、4−カルボキシブチル基、な
ど)、ヒドロキシアルキル基(例えば、2−ヒドロキシ
エチル基、3−ヒドロキシプロピル基、など)、アシロ
キシアルキル基(例えば、2−アセトキシエチル基、3
−アセトキシプロピル基など)、アルコキシアルキル基
(例えば2−メトキシエチル基、3−メトキシプロピル
基、など)、アルコキシカルボニルアルキル基(例え
ば、2−メトキシカルボニルエチル基、3−メトキシカ
ルボニルプロピル基、4−エトキシカルボニルブチル
基、など)、ビニル基置換アルキル基(例えばアリル
基)、シアノアルキル基(例えば2−シアノエチル基な
ど)、カルバモイルアルキル基(例えば2−カルバモイ
ルエチル基など)、アリーロキシアルキル基(例えば2
−フェノキシエチル基、3−フェノキシプロピル基な
ど)、アラルキル基(例えば2−フェネチル基、3−フ
ェニルプロピル基など)、又はアリーロキシアルキル基
(例えば2−フェノキシエチル基、3−フェノキシプロ
ピル基など)などがあげられる。
【0042】R11、R12で示される置換基としては、特
に、少なくとも一方がスルホ基もしくはカルボキシル基
を有したアルキル基であることが好ましい。電荷バラン
ス対イオンXは、複素環中の四級アンモニウム塩で生じ
た正電荷を相殺することができる任意の陰イオンであ
り、例えば、臭素イオン、塩素イオン、沃素イオン、p
−トルエンスルホン酸イオン、エチルスルホン酸イオ
ン、過塩素酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イ
オン、チオシアンイオンなどである。この場合nは1で
ある。複素環四級アンモニウム塩がさらにスルホアルキ
ル置換基のような陰イオン置換基を含む場合は、塩はベ
タインの形をとることができ、その場合には対イオンは
必要なく、nは0である。複素環四級アンモニウム塩が
2個の陰イオン置換基、たとえば2個のスルホアルキル
基を有する場合には、X4 は陰イオン性対イオンであ
り、例えばアルカリ金属イオン(ナトリウムイオン、カ
リウムイオンなど)やアンモニウム塩(トリエチルアン
モニウムなど)などがあげられる。ここで、「実質的に
可視光域に吸収極大を持たない」化合物とは写真感光材
料上の残色が実用上問題のないレベル以下の色調をもつ
化合物を意味し、より詳しくは、現像処理後の残色が実
用上問題のないレベル以下の色調をもつ化合物である。
好ましくは、上記化合物のメタノール中での吸収極大が
460nm以下のもの、より好ましくは430nm以下
のものである。一般式(6) で示される化合物の具体例を
以下に示す。但し本発明は以下の化合物に限定されるも
のではない。
【0043】
【化17】
【0044】
【化18】
【0045】
【化19】
【0046】
【化20】
【0047】
【化21】
【0048】
【化22】
【0049】
【化23】
【0050】
【化24】
【0051】
【化25】
【0052】本発明の一般式(6) で表わされる化合物の
含有量はハロゲン化銀乳剤の粒子径、ハロゲン組成、化
学増感の方法と程度、該化合物を含有させる層とハロゲ
ン化銀乳剤層の関係、カブリ防止化合物の種類などに応
じて最適の量を選択することが望ましく、その選択のた
めの試験の方法は当業者のよく知るところである。通常
は好ましくはハロゲン化銀1モル当り10-6モルないし
1×10-2モル、特に10-5ないし5×10-3モルの範
囲で用いられる。本発明における酸ポリマーとしては下
記一般式で表わされるくり返し単位を有するポリマーが
好ましく用いられ、特に水分散性ポリマーラテックスの
形で好ましく用いられる。 −(A)x −(B)y −(C)z − A:エチレン性不飽和モノマーと共重合可能なエチレン
性不飽和モノカルボン酸又はモノカルボン酸塩から誘導
されるくり返し単位(モノマー単位)を表わす。 B:多官能性架橋剤から誘導されるくり返し単位を表わ
す。 C:A、B以外のエチレン性不飽和モノマー x:20〜100モル% y:0〜50モル% z:0〜50モル% Aの例としては下記のものをあげることができる。
【0053】
【化26】
【0054】及び、マレイン酸、フタル酸、Bの例とし
てはジビニルベンゼン、トリビニルシクロヘキサン、ト
リビニルベンゼン、2,3,5,6−テトラクロロ−
1,4−ジビニルベンゼン、不飽和酸と不飽和アルコー
ルとのエステルたとえばビニルクロトネート、アリルメ
タクリレート、アリルクロトネート、不飽和酸と多官能
性アルコールとのエステルたとえばトリメチロールプロ
パントリメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、ブタンジオールジメタクリレート、1,
6−ヘキサンジオール−ジアクリレート、1,5−ペン
タンジオール−ジアクリレート、ペンタエリスリトール
−トリアクリレート、テトラエチレングリコール−ジア
クリレート、トリエチレングリコール−ジアクリレー
ト、不飽和アルコールと多官能性の酸とのエステルたと
えばジエチルフタレート、不飽和ポリエーテルたとえば
トリエチレングリコール−ジビニルエーテル、あるい
は、水溶性のビスアクリルアミドたとえばメチレン−ビ
ス−アクリルアミド、グリオキサル−ビス−アクリルア
ミド、N,N′−ジヒドロキシエチレン−ビス−アクリ
ルアミド、N,N′−シスタミン−ビス−アクリルアミ
ド、トリアクリル−ジエチレントリアミン、ポリエーテ
ルのアクリル酸(またはメタクリル酸)エステルたとえ
ばポリエチレングリコール−ジアクリレート(またはジ
メタクリレート)、ジビニルスルホンなどがある。
【0055】特に好ましいB成分は、ジビニルベンゼ
ン、ジエチレングリコール−ジメタクリレートである。
C成分としては、アルキルアクリレート、アルキルメタ
クリレート、エチレン、プロピレン、スチレン、アクリ
ルアミド、メタクリルアミド、等をあげることができ
る。次に好ましい酸ポリマーの具体例を示す。
【0056】
【化27】
【0057】
【化28】
【0058】
【化29】
【0059】これらの酸ポリマーの使用量は0.01〜
10g/m2、特に0.2〜3g/m2であることが好まし
い。これらの酸ポリマーの添加場所としてはハロゲン化
銀乳剤層が好ましいがその他の親水性コロイド層でもよ
い。
【0060】本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀乳
剤は塩化銀、塩臭化銀、沃臭化銀、沃塩臭化銀等どの組
成でもかまわない。本発明に用いられる感光性ハロゲン
化銀の平均粒子サイズ微粒子(例えば0.7μ以下)の
方が好ましく、特に0.5μ以下が好ましい。粒子サイ
ズ分布は基本的には制限はないが、単分散である方が好
ましい。ここでいう単分散とは重量もしくは粒子数で少
なくともその95%が平均粒子サイズの±40%以内の
大きさを持つ粒子群から構成されていることをいう。写
真乳剤中の感光性ハロゲン化銀粒子は立方体、八面体の
ような規則的(regular)な結晶体を有するものでもよ
く、また球状、板状などのような変則的(irregular)な
結晶を持つもの、あるいはこれらの結晶形の複合形を持
つものであってもよい。ハロゲン化銀粒子は内部と表層
が均一な相から成っていても、異なる相から成っていて
もよい。別々に形成した2種以上のハロゲン化銀乳剤を
混合して使用してもよい。
【0061】本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロ
ゲン化銀粒子の形成または物理熟成の過程においてカド
ミウム塩、亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩、ロジウム塩も
しくはその錯塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などを
共存させてもよい。本発明の乳剤層又は、その他の親水
性コロイド層に、フィルター染料として、あるいはイラ
ジエーション防止その他、種々の目的で、水溶性染料を
含有してもよい。フィルター染料としては、写真感度を
さらに低めるための染料、好ましくは、ハロゲン化銀の
固有感度域に分光吸収極大を有する紫外線吸収剤や、明
室感光材料として取り扱われる際のセーフライト光に対
する安全性を高めるための、主として350nm〜60
0nmの領域に実質的な光吸収をもつ染料が用いられ
る。これらの染料は、目的に応じて乳剤層に添加する
か、あるいはハロゲン化銀乳剤層の上部、即ち、支持体
に関してハロゲン化銀乳剤層より遠くの非感光性親水性
コロイド層に媒染剤とともに添加して固定して用いるの
が好ましい。染料のモル吸光係数により異なるが、通常
10-2g/m2〜1g/m2の範囲で添加される。好ましく
は50mg〜500mg/m2である。染料の具体例は特開昭
63−64039号に詳しく記載されているが、いくつ
かを次に示す。
【0062】
【化30】
【0063】
【化31】
【0064】上記染料は適当な溶媒〔例えば水、アルコ
ール(例えばメタノール、エタノール、プロパノールな
ど)、アセトン、メチルセロソルブ、など、あるいはこ
れらの混合溶媒〕に溶解して本発明の非感光性の親水性
コロイド層用塗布液中に添加される。これらの染料は2
種以上組合せて用いることもできる。本発明の染料は、
明室取扱いを可能にするに必要な量用いられる。具体的
な染料の使用量は、一般に10-3g/m2〜1g/m2、特
に10-3g/m2〜0.5g/m2の範囲に好ましい量を見
出すことができる。
【0065】本発明の方法で用いる感光性ハロゲン化銀
乳剤は化学増感されていなくてもよいが、化学増感され
ていてもよい。ハロゲン化銀乳剤の化学増感の方法とし
て、硫黄増感、還元増感及び貴金属増感法が知られてお
り、これらのいずれをも単独で用いても、又併用して化
学増感してもよい。貴金属増感法のうち金増感法はその
代表的なもので金化合物、主として金錯塩を用いる。金
以外の貴金属、たとえば白金、パラジウム、イリジウム
等の錯塩を含有しても差支えない。その具体例は米国特
許2,448,060号、英国特許618,061号な
どに記載されている。硫黄増感剤としては、ゼラチン中
に含まれる硫黄化合物のほか、種々の硫黄化合物、たと
えばチオ硫酸塩、チオ尿素類、チアゾール類、ローダニ
ン類等を用いることができる。還元増感剤としては第一
すず塩、アミン類、ホルムアミジンスルフィン酸、シラ
ン化合物などを用いることができる。
【0066】本発明で用いられるハロゲン化銀乳剤層に
は、公知の分光増感色素を添加してもよい。本発明の感
光材料には、感光材料の製造工程、保存中あるいは写真
処理中のカブリを防止しあるいは写真性能を安定化させ
る目的で、種々の化合物を含有させることができる。こ
れらのものの中で、好ましいのはベンゾトリアゾール類
(例えば、5−メチル−ベンゾトリアゾール)及びニト
ロインダゾール類(例えば5−ニトロインダゾール)で
ある。また、これらの化合物を処理液に含有させてもよ
い。本発明の写真感光材料には、写真乳剤層その他の親
水性コロイド層に無機または有機の硬膜剤を含有してよ
い。例えば活性ビニル化合物(1,3,5−トリアクリ
ロイル−ヘキサヒドロ−s−トリアジン、1,3−ビニ
ルスルホニル−2−プロパノールなど)、活性ハロゲン
化合物(2,4−ジクロル−6−ヒドロキシ−s−トリ
アジンなど)、ムコハロゲン酸類、などを単独または組
み合わせて用いることができる。
【0067】本発明を用いて作られる感光材料の写真乳
剤層または他の親水性コロイド層には塗布助剤、帯電防
止、スベリ性改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改
良(例えば、現像促進、硬調化、増感)等種々の目的
で、種々の界面活性剤を含んでもよい。特に本発明にお
いて好ましくは用いられる界面活性剤は特公昭58−9
412号公報に記載された分子量600以上のポリアル
キレンオキサイド類である。又、寸度安定性の為にポリ
アルキルアクリレートの如きポリマーラテックスを含有
せしめることができる。
【0068】本発明に用いるのに適した現像促進剤ある
いは造核伝染現像の促進剤としては、特開昭53−77
616号、同54−37772号、同53−137,1
33号、同60−140,340号、同60−1495
9号などに開示されている化合物の他、N又はS原子を
含む各種の化合物が有効である。次に具体例を列挙す
る。
【0069】
【化32】
【0070】
【化33】
【0071】
【化34】
【0072】これらの促進剤は、化合物の種類によって
最適添加量が異なるが1.0×10−3〜0.5g/m
、好ましくは5.0×10−3〜0.1g/mの範
囲で用いるのが望ましい。本発明のハロゲン化銀感光材
料を用いて超硬調の写真特性を得るには、従来の伝染現
像液や米国特許第2,419,975号に記載されたp
H13に近い高アルカリ現像液を用いる必要はなく、安
定な現像液を用いることができる。すなわち、本発明の
ハロゲン化銀感光材料は、保恒剤としての亜硫酸イオン
を0.20モル/リットル以上、好ましくは0.50モ
ル/リットル含み、pH11.0以下の現像液によって
充分に超硬調のネガ画像を得ることができる。本発明の
方法において用いうる現像主薬には特別な制限はなく、
例えばジヒドロキシベンゼン類(例えばハイドロキノ
ン)、3−ピラゾリドン類(例えば1−フェニル−3−
ピラゾリドン、4,4−ジメチル−1−フェニル−3−
ピラゾリドン)、アミノフェノール類(例えばN−メチ
ル−p−アミノフェノール)などを単独あるいは組み合
わせて用いることができる。本発明のハロゲン化銀感光
材料は特に、主現像主薬としてジヒドロキシベンゼン類
を、補助現像主薬として3−ピラゾリドン類またはアミ
ノフェノール類を含む現像液で処理されるのに適してい
る。好ましくはこの現像液においてジヒドロキシベンゼ
ン類は0.05〜0.5モル/リットル、3−ピラゾリ
ドン類またはアミノフェノール類は0.06モル/リッ
トル以下の範囲で併用される。上記成分以外に用いられ
る添加剤としてはホウ酸、ホウ砂などの化合物、臭化ナ
トリウム、臭化カリウム、沃化カリウムの如き現像抑制
剤:エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、ジメチルホルムアミド、メチルセ
ロソルブ、ヘキシレングリコール、エタノール、メタノ
ールの如き有機溶剤:1−フェニル−5−メルカプトテ
トラゾール、5−ニトロインダゾール等のインダゾール
系化合物、5−メチルベンツトリアゾール等のベンツト
リアゾール系化合物などのカブリ防止剤又は黒ポツ(b
lack pepper)防止剤:を含んでもよく、更
に必要に応じて色調剤、界面活性剤、消泡剤、硬水軟化
剤、硬膜剤などを含んでもよい。本発明に使用する現像
液には、特開昭56−106244号、特願平1−29
418号記載のアミン化合物などを含んでもよい。本発
明の現像液には銀汚れ防止剤として特開昭56−24,
347号に記載の化合物を用いることができる。現像液
中に添加する溶解助剤として特開昭61−267759
号に記載の化合物を用いることができる。さらに現像液
に用いるpH緩衝剤として特開昭60−93,433号
に記載の化合物あるいは特開昭62−186259号に
記載の化合物を用いることができる。定着剤としては一
般に用いられる組成のものを用いることができる。定着
剤としてはチオ硫酸塩、チオシアン酸塩のほか、定着剤
としての効果を知られている有機硫黄化合物を用いるこ
とができる。定着液には硬膜剤として水溶性アルミニウ
ム(例えば硫酸アルミニウム、明バンなど)を含んでも
よい。ここで水溶性アルミニウム塩の量としては通常
0.4〜2.0g−Al/リットルである。さらに三価
の鉄化合物を酸化剤としてエチレンジアミン4酢酸との
錯体として用いることができる。本発明の方法における
処理温度は普通18℃から50℃の間に選ばれる。写真
処理には自動現像機を用いるのが好ましいが、本発明の
方法により、感光材料を自動現像機に入れてから出てく
るまでのトータルの処理時間を90秒〜120秒に設定
しても、充分に超硬調のネガ階調の写真特性が得られ
る。
【0073】
【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
の効果を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定され
るものではない。 実施例1 感光性乳剤Aの調製 0.37Mの硝酸銀水溶液と、銀1モルあたり1×10
-7モルに相当する(NH4)3 RhCl6 と5×10-7
ルのK3 IrCl6 0.11Mの臭化カリウムと0.2
7Mの塩化ナトリウムを含むハロゲン塩水溶液を、塩化
ナトリウムと、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジン
チオンを含有するゼラチン水溶液に、攪拌しながら45
℃で12分間ダブルジェット法により添加し、平均粒子
サイズ0.20μm、塩化銀含有率70モル%の塩臭化
銀粒子を得ることにより核形成を行なった。続いて同様
に0.63Mの硝酸銀水溶液と、0.19Mの臭化カリ
ウムと、0.47Mの塩化ナトリウムを含むハロゲン塩
水溶液をダブルジェット法により、20分間かけて添加
した。その後1×10-3モルのKI溶液を加えてコンバ
ージョンを行ない常法に従ってフロキュレーション法に
より水洗し、ゼラチン40gを加え、pH6.5、pA
g7.5に調整し、さらに銀1モルあたりチオ硫酸ナト
リウム5mg、塩化金酸8mg及び、ベンゼンチオスルフォ
ン酸ナトリウム7mgを加え、60℃で45分間加熱し、
化学増感処理を施し、安定剤として1,3,3a,7−
テトラザインデン150mg及び、プロキセルとフェノキ
シエタノールを加えた。得られた粒子は平均粒子サイズ
0.28μm、塩化銀含量70モル%の塩臭化銀立方体
粒子であった。(変動係数9%)
【0074】感光性乳剤Bの調製 50℃に保ったゼラチン水溶液に銀1モル当り4×10
-7モルの6塩化イリジウム(III) カリおよびアンモニア
の存在下で、硝酸銀水溶液と沃化カリウム、臭化カリウ
ムの水溶液を同時に60分間で加えその間のpAgを
7.8に保つことにより、平均粒子サイズ0.28μ
で、平均ヨウ化銀含有量0.3モル%の立方体単分散ヨ
ウ臭化銀乳剤を調製した。この乳剤をフロキュレーショ
ン法により、脱塩を行いその後に、銀1モル当り40g
の不活性ゼラチンを加えた後、銀1モル当り10-3モル
のKI溶液に加え、15分間経時させた後降温した。
【0075】(感光性乳剤層の塗布)これらの乳剤を分
割して銀1モルあたり下記増感色素を1×10-3モル、
2×10-4モルの1−フェニル−5−メルカプトテトラ
ゾール、さらにハイドロキノン(50mg/m2)、4−ヒ
ドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザイ
ンデン(20mg/m2)およびポリエチルアクリレートの
分散物(200mg/m2)、硬膜剤として下記化合物(2
00mg/m2)を加えた。また、一般式(1) で表わされる
本発明ヒドラジン化合物、及び比較化合物として下記ヒ
ドラジン化合物と本発明酸ポリマー及び一般式(6) で表
わされる化合物を表1〜3のように加え、塗布銀量3.
6g/m2になるように塗布した。
【0076】
【化35】
【0077】(保護層の塗布)この上に保護層として、
ゼラチン1.5g/m2、ポリメチルメタクリレート粒子
(平均粒径2.5μ)0.3g/m2を次の界面活性剤を
用いて塗布した。
【0078】
【化36】
【0079】またバック層およびバック保護層は次に示
す処方にて塗布した。 〔バック層処方〕 ゼラチン 3g/m2 ラテックス ポリエチルアクリレート 2g/m2 界面活性剤 p−ドデシルベンゼンスルホ ン酸ナトリウム 40mg/mg
【0080】
【化37】
【0081】染料 染料〔a〕、〔b〕、及び〔c〕の
混合物 染料〔a〕 50mg/m2 染料〔b〕 100mg/m2 染料〔c〕 50mg/m2
【0082】
【化38】
【0083】 〔バック保護層〕 ゼラチン 0.8g/m2 ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒 径4.5μ) 30mg/m2 ジヘキシル−α−スルホサクナートナトリ ウム塩 15mg/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 15mg/m2 酢酸ナトリウム 40mg/m2
【0084】
【化39】
【0085】
【表1】
【0086】
【表2】
【0087】
【表3】
【0088】(テスト)表1〜3に示す試料を、320
0°Kのタングステン光で光学クサビおよび次に示すよ
うな方法で露光後、下記現像液で34℃30秒間現像
し、定着、水洗、乾燥した。 現像液 ハイドロキノン 50.0g N−メチル−p−アミノフェノール 0.3 水酸化ナトリウム 18.0 5−スルホサリチル酸 55.0 エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム 1.0 亜硫酸カリウム 110.0 臭化カリウム 10.0 5−メチルベンゾトリアゾール 0.4 2−メルカプトベンツイミダゾール−5− スルホン酸 0.3 3−(5−メルカプトテトラゾール)ベン ゼンスルホン酸ナトリウム 0.2 N−n−ブチルジエタノールアミン 15.0 トルエンスルホン酸ナトリウム 8.0 水を加えて 1リットル 水酸化カリウムを加えて pH 10.6 硬調性は次式で表わされる平均階調で評価した。 G=(3.0−0.3)/log(濃度3.0を与える露光
量)−log(濃度0.3を与える露光量) また、黒ポツは強制条件である34℃40秒現像したサ
ンプルを用いて顕微鏡観察により5段階に評価した。
「5」が最もよく「1」が最も悪い品質を表わす。
「5」又は「4」は実用可能で「3」は粗悪だが、ぎり
ぎり実用でき「2」又は「1」は実用不可である。
「4」と「3」の中間のものは「3.5」と評価した。
結果を表4〜6に示す。
【0089】
【表4】
【0090】
【表5】
【0091】
【表6】
【0092】表4〜6からわかるように、本発明のヒド
ラジン化合物と一般式(6) で表わされる化合物もしくは
酸ポリマーとを用いたサンプルは、高い硬調性を有し、
かつ黒ポツも良好である。比較ヒドラジン化合物である
(a)又は(b)を用いたサンプルは、著しく硬調性が
損なわれており活性が低いことがわかる。一方、本発明
のヒドラジン化合物だけを用いたサンプルは、硬調性は
高いものの黒ポツが多発している。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−294552(JP,A) 特開 昭62−222242(JP,A) 特開 平1−283548(JP,A) 特開 昭64−61744(JP,A) 特開 平2−287532(JP,A)

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 支持体上にハロゲン化銀乳剤層を少なく
    とも1層有し、該ハロゲン化銀乳剤層およびその他の親
    水性コロイド層の少なくとも1層に、下記一般式(1)
    で表されるヒドラジン化合物の少なくとも1種を含有
    し、かつ酸ポリマーまたは下記一般式(6)で表される
    実質的には可視域に吸収極大を持たない化合物の少なく
    とも1種を含有してなるハロゲン化銀写真感光材料を、
    pH値が11.0以下の現像液で現像することを特徴と
    する画像形成方法。 一般式(1) 【化1】 式中、Rは脂肪族基または芳香族基を表わし、さらに
    その置換基の一部として−O−(CHCHO)
    −、−O−(CHCH(CH)O)−または−
    O−(CHCH(OH)CHO)−(ただしnは
    3以上の整数)の部分構造を含有するか、あるいは置換
    基の一部として4級アンモニウムカチオンを含有する基
    である。Gは−CO−基、−COCO−基、−CS−
    基、−C(=NG)−基、−SO−基、−SO
    −基または−P(O) (G)−基を表わす。G
    は単なる結合手、−O−基、−S−基または−N(R
    )−基を表わし、Rは脂肪族基、芳香族基または水
    素原子を表わし、分子内に複数のRが存在する場合そ
    れらは同じであっても異なっても良い。A、Aの一
    方は水素原子であり、他方は水素原子またはアシル基、
    アルキルまたはアリールスルホニル基を表わす。 一般式(6) 【化2】 及びZは各々ベンゾオキサゾール核、ベンゾチア
    ゾール核、ベンゾセレナゾール核、ナフトオキサゾール
    核、ナフトチアゾール核、ナフトセレナゾール核、チア
    ゾール核、チアゾリン核、オキサゾール核、セレナゾー
    ル核、セレナゾリン核、ピリジン核、ベンズイミダゾー
    ル核又はキノリン核を完成するに必要な非金属原子群を
    表わす。 11 及びR 12 は各々アルキル基またはアラ
    ルキル基を表わす。Xは電荷バランス対イオンであり、
    nは0又は1を表わす。
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