JP6948583B2 - 樹脂成形体 - Google Patents
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Description
(a)樹脂構造体と、
(b)無機フィラーと有機樹脂バインダーとを含んでなり、樹脂構造体の少なくとも一部の表面に設けられた中間層と、
(c)中間層の上に設けられた溶射セラミック皮膜と、
を含む。
そして、無機フィラーの形状は不定形であり、無機フィラーの中心粒子径は20μm以上100μm以下である。
さらに、中間層の厚みは50μm以上250μm以下であり、かつ無機フィラーの中心粒子径aと中間層の厚みbが、b≧2aを満たしており、かつ前記中間層に含まれる無機フィラーの量が体積比率で40%〜65%である。
実施形態
本発明に係る実施形態の樹脂成形体は、例えば、注型成形により成形された樹脂構造体10と、樹脂構造体10の上に設けられた中間層10aと、中間層10aの上に設けられた溶射セラミック皮膜10cとを備える。そして、中間層10aを、無機フィラー12を含む有機樹脂バインダーにより構成し、無機フィラー12の形状、無機フィラー12の中心粒子径、中間層10aに含まれる無機フィラー12の量及び中間層10aの厚みを詳細後述するように設定することにより、溶射セラミック皮膜と樹脂構造体との密着強度を向上させている。
以下、樹脂成形体1について詳細に説明する。
実施形態の樹脂成形体において、樹脂構造体10は、例えば、注型成形により作製される。樹脂構造体10の樹脂材料としては、例えば、エポキシ樹脂、ビニルエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アクリル樹脂等の種々の熱硬化性樹脂が用いられる。また、樹脂構造体10は、無機フィラーを含んでいてもよい。無機フィラーを含むことにより、樹脂構造体10の熱膨張率を低下させ,後に堆積させる溶射セラミック皮膜の熱膨張率に近づけることができるとともに,樹脂構造体10の耐熱性を高めることができる。
実施形態の樹脂成形体において、樹脂構造体10と溶射セラミック皮膜10cの密着強度を高めるために、樹脂構造体10と溶射セラミック皮膜10cの間に設けられる層である。中間層10aは、例えば、セラミック粒子等の無機フィラー12を添加分散させた樹脂層により形成する。また、中間層10aは、溶射時の熱が樹脂構造体10に伝達されるのを抑制し、樹脂の溶融又は劣化を抑制する。さらに、溶射後は、溶射セラミック皮膜10cと樹脂構造体10の熱膨張率の差に起因する応力を緩和することができ、樹脂成形体の耐久性を向上させることができる。中間層10aの有機樹脂バインダー11としては、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹脂を用いることができる。有機樹脂バインダーは中間層10aを形成する際に熱、UV等で硬化する反応硬化型であることが好ましい。
中でも、有機樹脂バインダー11として、エポキシ樹脂を用いることが好ましく、これにより、樹脂構造体10と強固に密着した高強度の中間体10aを形成することができる。またエポキシ樹脂は樹脂構造体10を構成する樹脂の種類に因らず強固な密着力を得易い。エポキシ樹脂から成る中間層10aは耐熱性が高いため溶射セラミック皮膜を形成する際にかかる熱負荷や、樹脂構造体10上に溶射セラミック皮膜10cが形成された成型体を商品として使用する際の熱負荷に耐え得ることができ、樹脂構造体10とセラミック皮膜10c間の密着強度を長期間保持することができる。有機樹脂バインダー11用のエポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂に加え、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂のうち少なくとも1種類以上を含むエポキシ樹脂が好ましい。これらの耐熱タイプの有機樹脂バインダーを含む場合、中間層10aの耐熱性が良好となり、セラミック溶射時の中間層10aの凸凹形状の変形が抑制できたり、溶射時の中間層10aの熱劣化を防止することができる。これにより、溶射セラミック被膜10cの十分な密着強度が得られる。また、前記有機樹脂バインダー11用エポキシ樹脂として、一種類のエポキシ樹脂を用いてもよい。
さらに、中間層10aの無機フィラー12は、アルミニウムもしくはアルミニウムと合金を形成し得る金属およびそれらの金属元素から成るアルミニウム合金のうち少なくとも1種類以上を含むことが好ましい。具体的には、無機フィラー12が、Al、Ni、Cu、Mn、Si、Mg、Zn、Liからなる群から選択された1種類以上を含むことが好ましい。尚、中間層10aは、上記セラミック粒子を有機樹脂バインダー11で混合し、塗布することにより形成することができる。
第1条件:無機フィラー12の形状は不定形である。
第2条件:無機フィラー12の中心粒子径は20μm以上100μm以下である。
第3条件:中間層10aの厚みは50μm以上250μm以下である。
第4条件:無機フィラー12の中心粒子径aと中間層10aの厚みbの関係が、b≧2aである。
第5条件:中間層10aに含まれる無機フィラー12の量が体積比率で40%〜60%である。
ここで、第1条件の無機フィラー12の形状が不定形であるとは、気相成長及びゾルゲル法等のいわゆるビルドアップ法により球状に作製された粒子を除いた非球形状の無機フィラーをいう。具体的には、無機フィラー12として、破砕状、片状、棒状等、各種の無機フィラーを用いることができる。また、破砕状の無機フィラー、片状の無機フィラーは、例えば、粉砕法等の機械的な粉砕により作製することができ、棒状の無機フィラーは、例えば、一方向に成長速度が速い異方性を持った成長により作製することができる。尚、破砕状の無機フィラーの一例として、後述の実施例1に使用した破砕状無機フィラーの走査型電子顕微鏡写真を図3に示す。また、球状の無機フィラーの一例として、後述の比較例2に使用した球状無機フィラーの走査型電子顕微鏡写真を図4に示す。
本発明においては球状フィラーを組み合わせて使用することもできるが、球状フィラーのみを用いて中間層10aを形成すると表面粗さが小さくなり易く、所望の表面粗さを得ることができない。無機フィラーのアスペクト比も種々のものが用いられる。得られる中間層10aの表面粗さRzが大きくなり易い点においてはアスペクト比が2以上のものが好ましい。また、中間層10aを形成する際の塗装性の点からは繊維状より粉末状が好ましい。また、第2条件における無機フィラー12の中心粒子径は、メジアン径により規定される粒径(粒子径d50)である。本発明において、「粒子径d50」とは、レーザー回折法で測定された粒度分布(体積基準)において小径側から計算した累積体積が50%となる体積平均粒子径を指す。
金属基板の表面をブラストや機械切削により金属基板表面に凸凹を形成し、その表面に溶射セラミック皮膜を形成することで溶射皮膜の密着性が確保することが可能である。
中間層10a表面のRzが大きくなると溶射中に溶融して付着するセラミック粒子が中間層10aの凸凹形状に入り込み易くなり、溶射皮膜と樹脂基材間の密着強度が高くなる。一方中間層10aの表面粗さRzが大きすぎる場合には中間層10aの凸凹形上部の強度が小さくなり、溶射皮膜と樹脂基材間の密着強度が小さくなる恐れがある。このことから溶射皮膜の密着強度は中間層10aの表面粗さRzに加え、表面粗さのピッチ間距離を現す粗さ曲線要素の平均長さRsmとも密接に関係している。上記で示した表面粗さRzの範囲のなかでRsmが50μm以上、700μm以下の範囲、好ましくは100μm以上、600μm以下、より好ましくは、200μm以上、500μm以下の範囲である。中間層10aの平均長さRsmの最も好ましい範囲は、100〜400μmである。
上述した中間層10aの表面形状、すなわち、中間層10aの表面の好ましい範囲の表面粗さRzは、上述した点を考慮して設定したものである。そして、第1条件及び第2条件を満足する無機フィラー12を選択し、第3条件及び第4条件を満足するよう中間層10aを形成する。また、中間層10aに含まれる無機フィラーの含有量は第5条件を満足するように設定する。これにより、中間層10aの表面を好ましい範囲の表面粗さRzを有する形状にできる。
実施形態の樹脂成形体1において、図1に示すように、溶射セラミック皮膜10cは、偏平なセラミック粒子100が隣接間で融着して堆積した被膜である。この溶射セラミック皮膜10cは、後述するように、加熱されて溶融又は軟化した多数のセラミック粒子が樹脂構造体10の表面に衝突して順次堆積することにより形成される。この溶射セラミック皮膜10cのセラミック材料としては、特に以下のものに限定されないがアルミナ、グレイアルミナ、アルミナチタニア、チタニア、アルミナジルコニア、スピネル、ムライト、ジルコニア等を用いることができる。溶射セラミック皮膜10cの膜厚は、基材上における溶射セラミック被膜の膜厚の均一性、被膜強度を重視する場合には、例えば、0.01〜3.0mmの範囲、好ましくは、0.05〜1.0mmの範囲、より好ましくは、0.2〜0.5mmの範囲とする。また、セラミック溶射被膜と基材間における密着性、セラミック溶射被膜の割れ、溶射加工に要する材料コストを重視する場合には、溶射セラミック皮膜10cの膜厚は、0.01〜3.0mm、好ましくは0.03〜0.3mm、より好ましくは0.05〜0.2mmの範囲とする。
樹脂構造体成形工程
本製造方法では、まず、樹脂構造体10を成形により作製する。例えば、型締めした金型のキャビティー内にモノマー樹脂を注入して硬化させて作製する(注型成形)。尚、樹脂構造体10の成形方法は、注型成形に限定されず、例えば、プレス成形又は射出成形により成形してもよい。
次に、樹脂構造体10表面のうちの少なくとも溶射セラミック皮膜10cを形成する部分を粗面化する(図2(b))。具体的には、サンドブラスト、エッチング、サンドペーパーによる研磨を用いて、例えば、表面粗さが、Rz=1〜100μm好ましくは、Rz=5〜50μmより好ましくは、Rz=10〜30μmになるように粗面化する。
また、この粗面化により、樹脂構造体10と中間層10a間の密着性を高くできる。さらに、上述の範囲の表面粗さになるように粗面化することにより、樹脂構造体10と中間層10a間の密着性をさらに高くできる。
次に、粗面化した樹脂構造体10表面に、中間層10aを形成する(図2(c))。中間層10aは、例えばアルミナ等の無機フィラー12を有機樹脂バインダー11と混合し、塗布することにより形成する。無機フィラー12の形状は不定形であり、かつ無機フィラー12の中心粒子径は20μm以上100μm以下である。また、有機樹脂バインダー11は、上述したエポキシ樹脂を用いることができる。この、有機樹脂バインダー11と無機フィラー12との混合物を、スプレー塗装、コーターによる塗布、刷毛塗り等により粗面化した樹脂構造体10表面に形成することができる。本発明における中間層10aは一定以上の厚みを持たせた上で表面粗さRz、平均長さRsmを制御する必要があるため、塗装方法の中でもスプレー塗装により中間層10aを形成することがより好ましい。乾燥後の有機樹脂バインダー11のセラミック粒子に対する体積配合比率は、好ましくは、40%以上、65%以下、より好ましくは、42%以上、57%以下、よりいっそう好ましくは、44%以上、54%以下になるように形成する。
尚、中間層10aは、厚みが50μm以上250μm以下になるように、かつ無機フィラー12の中心粒子径aと中間層10aの厚みbの関係が、b≧2aになるように形成する。
そして、中間層10aの上から溶射ガン7により溶融又は軟化させたセラミック粒子を衝突させてセラミック粒子を堆積させることにより溶射セラミック皮膜10cを形成する。溶射方法としては、フレーム溶射、アーク溶射、レーザー溶射、プラズマ溶射など、溶射対象、作業環境等を考慮して種々の溶射方法から選択することができる。
溶射工程では、複数の溶射ガン7を用いて同時に異なるセラミック粒子を溶射して溶射セラミック皮膜10cを形成するようにしてもよい。このようにすると、例えば、表面の色彩に変化を持たせて装飾性を向上させることができる。また、溶射工程では、複数の溶射ガンを用いて交互に異なるセラミック粒子を溶射して溶射セラミック皮膜10cを形成するようにしてもよい。このようにすると、例えば、耐食性と耐熱性などの複数の機能を併せ持った溶射セラミック皮膜を形成することができる。
溶射により形成した溶射セラミック皮膜10cの気孔に樹脂を含浸(充填)させて硬化する(封孔処理)。含浸させる樹脂として、例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂やシリコーン樹脂等を使用することができる。この封孔処理は、溶射により溶射セラミック皮膜10cを形成すると、溶射直後の皮膜には、例えば、1〜10%の気孔率で気孔が存在する。このような気孔が存在すると、腐食の原因となる物質が気孔を通って樹脂構造体10に達して樹脂構造体10が腐食する可能性がある。封孔処理は、これを防止するために行う。また、溶射セラミック皮膜10cの気孔すなわち間隙部に樹脂を含むと、気孔が塞がれるので、間隙部が汚染されることがなく清掃が容易である。
まず、実施例では、樹脂構造体として、厚さ4mmの不飽和ポリエステル系繊維強化樹脂成型板を準備した。
また、実施例1〜6及び比較例1〜5の中間層を形成するための中間層材料をそれぞれ準備した。
実施例1〜6及び比較例1〜5の中間層形成用材料の構成及び中間層性状(膜厚、表面粗さRz、Rsm)を表1に示す。
・A−42:昭和電工社製、製品名「A−42」
・AX75−150:新日鉄住金マテリアルズ株式会社マイクロンカンパニー社製、製品名「AX75−150」
・AF180:新東工業株式会社製、製品名「AF180」
・AF100:新東工業株式会社製、製品名「AF100」
・K−11:昭和電工社製、製品名「K−11」
図3には、実施例1で用いた破砕状の無機フィラー(AF180)の走査型電子顕微鏡写真を示し、図4には、比較例2で用いた球状の無機フィラー(AX75−150)の走査型電子顕微鏡写真を示す。
具体的には、無機フィラーを100mg秤量し、その秤量した無機フィラーをレーザー回折/散乱式粒子径分布測定装置(日機装製、型番「マイクロトラックMT3300EX−II」)を用いて、粒子径分布を測定した。そして、測定したそれぞれの粒子径分布(体積基準)において小径側から計算した累積体積が50%となる中心粒子径(d50)を、原料として用いたフィラーの粒子径(μm)とし表1に示した。
また、フィラー粒子径の範囲については、上記測定したそれぞれの粒子径分布の最小値と最大値により示した。
エポキシ樹脂:ビスフェノールA型エポキシ樹脂
硬化剤:変性脂肪族ポリアミン
粘度調整剤:非水系塗料用ダレ防止剤(脂肪酸アマイド)
希釈剤:キシレン、n-ブタノール、メチルイソブチルケトン(MIBK)
プロピレングリコールモノメチルエーテル(PM)
そして、実施例1〜4では、表2に示す塗料No1〜No3を100×100mm角の不飽和ポリエステル系繊維強化樹脂成型板(FRP)上に、隙間を調整することにより膜厚の調整な可能なアプリケーターを用いて所定の厚みで塗布した。
中間層10a形成用塗料が塗布された不飽和ポリエステル系繊維強化樹脂成型板(FRP)を乾燥炉中で40℃2時間熱処理した後、更に100℃で30分熱処理を行い、中間層を形成した樹脂構造体を作製した。
また、実施例5及び6では、表2に示す塗料No4をスプレー塗装装置を使用して100×100mm角のFRP上に所定の厚みで塗布した。スプレーガンにはW200−251G(アネスト岩田製)を用いて、吹付空気圧力0.3MPaにてスプレー塗装を行った。実施例5及び6では中間層10aの表面粗さRzとRsmを調整するためにスプレーガン先端からFRPの距離を調整してスプレー塗装を行った。その後、スプレー塗装により中間層10a形成用塗料が塗布されたFRPを乾燥炉中で40℃2時間熱処理した後、更に100℃で30分熱処理を行い、中間層を形成した樹脂構造体を作製した。
[セラミック溶射方法及び条件]
溶射方法:溶射ガンを装着したロボットを用い大気圧プラズマ溶射
溶射ガン:(エアロプラズマ社製)
プラズマガス:Ar
溶射出力:24kW
走査速度:500mm/s
上下走査距離:3mm
溶射距離:20mm
フィード量:10g/min
パス数:5〜20パス
以上の条件で、パス数、溶射材料の供給量、塗布対象の操作速度を適宜調整して、膜厚が表1に示す膜厚になるように溶射セラミック被膜を形成した。
ここて、密着強度は、JIS K−5600−5−7に規定されている評価方法により測定した。
表1に示すように、実施形態で示した第1条件〜第5条件を満足する中間層10aの上に形成された実施例1〜6の溶射セラミック皮膜の密着強度は実用に耐えうるものであった。また、実施例5及び6は、スプレー塗装により中間層を形成していることから、Rzが大きく、Rsmが小さい中間層を薄い膜厚で形成することができる。これにより密着性及び外観に優れた、溶射セラミック皮膜を備えた樹脂成形体を低コストで提供することができる。
以上の実施例1〜6の溶射セラミック皮膜に対して、第1条件〜第5条件を欠く中間層の上に形成された比較例1〜5の溶射セラミック皮膜は溶射直後にはがれるなど実用に耐えうるものではなかった。
10 樹脂構造体
10a 中間層
10c 溶射セラミック皮膜
11 有機樹脂バインダー
12 無機フィラー
100 セラミック粒子
102 樹脂
Claims (5)
- 樹脂構造体と、
無機フィラーと有機樹脂バインダーとを含んでなり、前記樹脂構造体の少なくとも一部の表面に設けられた中間層と、
前記中間層の上に設けられた溶射セラミック皮膜と、
を含み、
無機フィラーの形状は不定形であり、
前記無機フィラーの中心粒子径は20μm以上100μm以下であり、
前記中間層の厚みは50μm以上250μm以下であり、
前記無機フィラーの中心粒子径aと中間層の厚みbが、
b≧2a
を満たしており、
前記中間層に含まれる無機フィラーの量が体積比率で40%〜65%であり、および
前記樹脂構造体が無機フィラーを含む樹脂成形体。 - 中間層の有機樹脂バインダーがエポキシ樹脂である請求項1に記載の樹脂成形体。
- 中間層の有機樹脂バインダーがフェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ビフェニル型、ナフタレン型のうち少なくとも1種類以上を含む請求項2に記載の溶射セラミック皮膜を有する樹脂成形体。
- 中間層の無機フィラーがアルミナもしくはアルミ元素を含む複合金属酸化物のうち少なくとも1種類以上を含む請求項1〜3のいずれかに記載の樹脂成形体。
- 中間層の無機フィラーがAl、Ni、Cu、Mn、Si、Mg、Zn、およびLiからなる群から選択される元素を1種類以上含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の樹脂成形体。
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