JP6529911B2 - 高解像度有機発光ダイオードデバイス - Google Patents

Description

（関連出願への相互参照）
本願は、２０１３年１月１７日に出願された米国仮特許出願第６１／７５３，９６２号および２０１３年９月１８日に出願された米国非仮特許出願第１４／０３０，７７６号に基づく優先権を主張し、それらは両方とも、その全体が参照によって本明細書中に援用される。

（技術分野）
本開示の側面は、概して、電子ディスプレイ、および電子ディスプレイを作製するための方法に関する。より具体的には、本開示の側面は、高解像度ディスプレイを製作するように、基板上に有機発光層を堆積させることに関する。

（導入）
本明細書で使用される節の見出しは、編成目的のためにすぎず、いかようにも説明される主題を限定すると解釈されるものではない。

電子ディスプレイは、例えば、テレビ画面、コンピュータモニタ、携帯電話、スマートフォン、タブレット、ハンドヘルドゲーム機等の多くの異なる種類の電子機器の中に存在する。一種の電子ディスプレイは、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）技術に依拠する。ＯＬＥＤ技術は、基板上に配置された２つの電極の間に挟持される有機発光層を利用する。電圧を電極間に印加することができ、電荷担体を励起させ、有機発光層に注入させる。電荷担体が正常なエネルギー状態に緩和して戻ると、発光が光電子放出を通して起こり得る。扱われたピクセル内のみで発光を生じるように、各ピクセルを個別に扱うことができるため、ＯＬＥＤ技術は、比較的高いコントラスト比を伴うディスプレイを提供することができる。ＯＬＥＤディスプレイはまた、ピクセルの発光性質による、広視野角を提供することもできる。ＯＬＥＤピクセルは、直接駆動されたときにしか電力を消費しないため、ＯＬＥＤディスプレイの電力効率を他のディスプレイ技術と比べて向上させることができる。加えて、生産されるパネルは、ディスプレイ自体内および薄いデバイス構造内の光源の必要性を排除する本技術の発光性質により、他のディスプレイ技術におけるものよりはるかに薄くあり得る。ＯＬＥＤディスプレイはまた、活性ＯＬＥＤ層の柔軟性により、可撓かつ屈曲可能であるように製作されることもできる。

インクジェット印刷は、ＯＬＥＤ製造で利用することができかつ製造費を削減し得る技法である。インクジェット印刷は、例えば、正孔注入層、正孔輸送層、電子遮断層、有機発光層、電子輸送層、電子注入層、および正孔遮断層を含む、１つ以上の活性ＯＬＥＤ層を生成するために、ＯＬＥＤ層材料と、高速でノズルから放出される１つ以上のキャリア液体とを含むインクの液滴を使用する。

サブピクセルを形成し、ＯＬＥＤインクが画定されたサブピクセルの間で拡散することを防止するために、バンク等の閉じ込め構造が、閉じ込めウェルを画定するように基板上に提供される。インクジェット印刷方法は、かなりの精度を必要とし得る。具体的には、ピクセル密度が増加すると、閉じ込めウェルの閉じ込め領域が縮小され、液滴配置のわずかな誤差が、液滴を意図したウェルの外側に堆積させ得る。また、液滴体積が、閉じ込めウェルに対して大きすぎ得、液滴が、望ましくないほど隣接サブピクセルの中へ溢れ得る。加えて、薄膜乾燥の不完全により、非一様性が閉じ込めウェルの縁に形成され得る。閉じ込めウェル領域が縮小されると、非一様性がピクセルの活性放射領域上に侵入し、非一様性によって引き起こされる、ピクセルからの発光に望ましくない視覚アーチファクトを生成し得る。加えて、各ピクセルの活性領域および非活性領域の両方である全領域に対する活性領域の比（「フィルファクター」と称される）が、閉じ込め構造により低減させられ、これは順に、ディスプレイの寿命を短縮させ得る。なぜなら、均等なディスプレイ輝度レベルを達成するためにより多くの電流を使用して、各ピクセルが駆動されなければならず、各ピクセルを駆動するためにより多くの電流を使用することは、ピクセル寿命を短縮することが知られているからである。

従来のインクジェット方法は、ＯＬＥＤ製造と関連付けられる課題のうちのいくつかに対処するが、改良の継続的な必要性が存在する。例えば、特に、高い解像度（すなわち、高いピクセル密度）を有するＯＬＥＤディスプレイについて、液滴配置精度に対するＯＬＥＤ製造プロセスの感度を低減させる継続的な必要性が存在する。また、高解像度ディスプレイの中の有機発光層の堆積によって生成される望ましくない視覚アーチファクトを低減させる必要性が存在する。また、活性要素と関連付けられる領域が増大させられるように、各ピクセルのフィルファクターを向上させることによって、デバイス寿命を向上させる必要性も存在する。さらに、許容可能な解像度、電力効率、ディスプレイ寿命、および製造費を達成することにおいて課題を提起する高解像度ディスプレイ用途（例えば、高解像度携帯電話およびタブレットコンピュータを含むが、それらに限定されない）においてＯＬＥＤディスプレイを使用および製造することの改良の必要性が存在する。

（概要）
本開示は、上記の問題のうちの１つ以上を解決し、かつ／または上記の望ましい特徴のうちの１つ以上を達成し得る。他の特徴および／または利点が、以下に続く説明から明白になり得る。

本開示の例示的実施形態によると、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプレイを製造する方法は、第１のサブピクセルと関連付けられる第１の電極および第２のサブピクセルと関連付けられる第２の電極を基板上に提供することを含むことができ、間隙が、第１の電極と第２の電極との間に形成され、第１の電極および第２の電極は、基板上の閉じ込め構造によって画定される境界を有するウェルの中に位置付けられる。本方法はまた、電極が中に位置付けられたウェルの中に、活性ＯＬＥＤ材料を堆積させることにより、ウェルの境界に及ぶ活性ＯＬＥＤ材料の実質的に連続的な層を形成することを含むこともでき、それによって、基板から外方を向く活性ＯＬＥＤ材料の層の表面が非平面的なトポグラフィを有する。堆積させることは、インクジェット印刷を介し得る。本開示はまた、上記の方法に従って作製される有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプレイも想定する。

本開示の付加的な例示的実施形態によると、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプレイは、基板上に配置される第１の電極であって、第１の電極は、第１のサブピクセルと関連付けられる、第１の電極と、基板上に配置される第２の電極であって、第２の電極は、第１および第２の電極の間に間隙を提供するように第１の電極から離間され、第２の電極は、第２のサブピクセルと関連付けられる、第２の電極とを含むことができる。ディスプレイはさらに、第１の電極および第２の電極を含むウェルの境界を画定するように、基板上に位置付けられる閉じ込め構造と、ウェルの境界に及び、第１の電極および第２の電極を覆って配置される実質的に連続的な活性ＯＬＥＤ材料層とを含むことができ、基板から外方を向く活性ＯＬＥＤ材料層の表面は、非平面的なトポグラフィを有する。

付加的な目的および利点が、以下に続く説明で部分的に記載され、かつ説明から部分的に明白となり、または本教示の実践によって習得され得る。本開示の目的および利点のうちの少なくともいくつかは、添付の特許請求の範囲で具体的に指摘される要素および組み合わせを用いて、実現および達成され得る。

前述の一般的説明および以下の詳細な説明の両方は、例示的かつ説明的にすぎず、請求されるように、本発明を制限しないことを理解されたい。本発明は、その最も広い意味では、これらの例示的側面および実施形態の１つ以上の特徴を有することなく実践できることを理解されたい。
例えば、本願は以下の項目を提供する。
（項目１）
有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプレイであって、前記ディスプレイは、
基板上に配置された第１の電極であって、前記第１の電極は、第１のサブピクセルと関連付けられる、第１の電極と、
前記基板上に配置された第２の電極であって、前記第２の電極は、前記第１の電極と前記第２の電極との間に間隙を提供するように前記第１の電極から離間され、前記第２の電極は、第２のサブピクセルと関連付けられる、第２の電極と、
前記第１の電極および前記第２の電極を含むウェルの境界を画定するように、前記基板上に位置付けられた閉じ込め構造と、
前記ウェルの前記境界に及び、前記第１の電極および前記第２の電極の上に配置されている実質的に連続的な活性ＯＬＥＤ材料の層であって、前記基板から外方を向く前記活性ＯＬＥＤ材料層の表面は、非平面的なトポグラフィを有する、活性ＯＬＥＤ材料の層と
を備える、ディスプレイ。
（項目２）
前記活性ＯＬＥＤ材料の層は、実質的に一様な厚さを有する、項目１に記載のディスプレイ。
（項目３）
前記活性ＯＬＥＤ材料の層は、厚さの局所的な非一様性を含み、例えば、前記厚さの局所的な非一様性は、前記ウェルの表面特徴の縁の５μｍ〜１０μｍ以内にある、項目１または２に記載のディスプレイ。
（項目４）
前記活性ＯＬＥＤ材料の層は、前記第１の電極および前記第２の電極の厚さより小さい厚さを有する、項目１〜３のいずれか一項に記載のディスプレイ。
（項目５）
前記活性ＯＬＥＤ材料は、発光材料および／または正孔伝導材料を含む、項目１〜４のいずれか一項に記載のディスプレイ。
（項目６）
前記正孔伝導材料は、正孔注入材料および／または正孔輸送材料である、項目５に記載のディスプレイ。
（項目７）
前記第１の電極と前記第２の電極との間の前記間隙内で前記基板上に構造を提供すること、および／または前記構造上に第１の画定層を堆積させることをさらに含む、項目１〜６のいずれか一項に記載のディスプレイ。
（項目８）
前記基板ならびに前記第１の電極および前記第２の電極の一部分の上に第２の画定層を堆積させ、次いで、前記第２の画定層の上に前記閉じ込め構造を堆積させることをさらに含む、項目１〜７のいずれか一項に記載のディスプレイ。
（項目９）
前記第１の画定層および／または前記第２の画定層は、電気抵抗材料を含む、項目７または８に記載のディスプレイ。
（項目１０）
前記ディスプレイは、４０％より大きい、例えば、６０％より大きいフィルファクターを有する、項目１〜９のいずれか一項に記載のディスプレイ。
（項目１１）
前記ディスプレイは、少なくとも１００ｐｐｉ、例えば、少なくとも３００ｐｐｉの解像度を有する、項目１〜１０のいずれか一項に記載のディスプレイ。
（項目１２）
前記ディスプレイは、トップエミッションディスプレイである、項目１〜１１のいずれか一項に記載のディスプレイ。
（項目１３）
前記ディスプレイは、アクティブマトリクスデバイスである、項目１〜１２のいずれか一項に記載のディスプレイ。
（項目１４）
有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプレイを製造する方法であって、前記方法は、
第１のサブピクセルと関連付けられる第１の電極および第２のサブピクセルと関連付けられる第２の電極を基板上に提供することであって、間隙が、前記第１の電極と前記第２の電極との間に形成され、前記第１の電極および前記第２の電極は、前記基板上の閉じ込め構造によって画定される境界を有するウェルの中に位置付けられる、ことと、
前記電極が中に位置付けられた前記ウェルの中に、活性ＯＬＥＤ材料を堆積させることにより、前記ウェルの前記境界に及ぶ活性ＯＬＥＤ材料の実質的に連続的な層を形成することであって、それによって、前記基板から外方を向く活性ＯＬＥＤ材料の層の表面は、非平面的なトポグラフィを有し、前記堆積させることは、インクジェット印刷を介する、ことと
を含む、方法。
（項目１５）
項目１４に記載の方法を使用して形成される装置。

本明細書に組み込まれ、本明細書の一部を構成し、説明とともに本開示のいくつかの例示的実施形態を図示する添付の図面は、特定の原理を説明する働きをする。
図１は、従来のピクセル配置の部分平面図である。 図２は、本開示による、例示的なピクセル配列の部分平面図である。 図３Ａは、本開示による、例示的実施形態の図１の線３Ａ−３Ａに沿った閉じ込めウェルの断面図である。 図３Ｂは、本開示による、例示的実施形態の図１の線３Ｂ−３Ｂに沿った複数の閉じ込めウェルの断面図である。 図４は、本開示による、閉じ込めウェルの別の例示的実施形態の図３Ａの図に類似する断面図である。 図５Ａは、本開示による、閉じ込めウェルの別の例示的実施形態の図３Ａの図に類似する断面図である。 図５Ｂは、本開示による、閉じ込めウェルの別の実施形態の図３Ｂの図に類似する断面図である。 図６は、本開示による、閉じ込めウェルのさらに別の例示的実施形態の断面図である。 図７は、本開示による、閉じ込めウェルのさらに別の例示的実施形態の断面図である。 図８−１１は、本開示による、閉じ込めウェルの別の例示的実施形態の断面図、およびＯＬＥＤディスプレイを生成するための例示的なステップである。 図８−１１は、本開示による、閉じ込めウェルの別の例示的実施形態の断面図、およびＯＬＥＤディスプレイを生成するための例示的なステップである。 図８−１１は、本開示による、閉じ込めウェルの別の例示的実施形態の断面図、およびＯＬＥＤディスプレイを生成するための例示的なステップである。 図８−１１は、本開示による、閉じ込めウェルの別の例示的実施形態の断面図、およびＯＬＥＤディスプレイを生成するための例示的なステップである。 図１２−１９は、本開示による、種々の例示的なピクセル配列の部分平面図である。 図１２−１９は、本開示による、種々の例示的なピクセル配列の部分平面図である。 図１２−１９は、本開示による、種々の例示的なピクセル配列の部分平面図である。 図１２−１９は、本開示による、種々の例示的なピクセル配列の部分平面図である。 図１２−１９は、本開示による、種々の例示的なピクセル配列の部分平面図である。 図１２−１９は、本開示による、種々の例示的なピクセル配列の部分平面図である。 図１２−１９は、本開示による、種々の例示的なピクセル配列の部分平面図である。 図１２−１９は、本開示による、種々の例示的なピクセル配列の部分平面図である。 図２０は、本開示による、電子ディスプレイを含む例示的な装置の正面図である。 図２１は、本開示による、電子ディスプレイを含む別の例示的な装置の正面図である。

（例示的実施形態の説明）
ここで、本開示の種々の例示的実施形態を詳細に参照し、本発明の実施形態の例が添付図面で図示される。可能な限り、同一の参照番号が、同一または類似部分を指すために図面の全体を通して使用される。

本明細書および添付の特許請求の範囲の目的で、別様に指示されない限り、本明細書および特許請求の範囲で使用される、数量、パーセンテージ、または割合および他の数値を表す全ての数字は、全ての場合において「約」という用語によって修飾されるもの（まだそのように修飾されていない限り）として理解されるものである。したがって、反対に指示されない限り、以下の明細書および添付の特許請求の範囲に記載される数値的パラメータは、得られることが求められる所望の性質に応じて変動し得る近似値である。少なくとも、請求項の範囲に対する均等論の適用を限定する試みとしてではなく、各数値的パラメータは、少なくとも、報告された有効数字の数に照らして、および通常の四捨五入技法を適用することによって解釈されるべきである。

本明細書および添付の特許請求の範囲で使用される場合、「１つの（ａ、ａｎ）」および「該（ｔｈｅ）」という単数形、ならびに任意の言葉の任意の単数の使用は、明示的かつ明白に１つの指示対象に限定されない限り、複数の指示対象を含むことに留意されたい。本明細書で使用される場合、「含む」という用語およびその文法的変異形は、リストの中の項目の記述が、記載された項目に置換または追加されることができる他の類似項目を除外しないように、非限定的であることを目的としている。

さらに、本説明の用語は、本発明を限定することを目的としていない。例えば、「下に」、「下方に」、「下の」、「上部」、「底部」、「上方に」、「上の」、「水平な」、「垂直な」、および同等物等の空間的相対用語が、図で図示されるような、別の要素または特徴に対する１つの要素または特徴の関係を表すために使用されてもよい。これらの空間的相対用語は、図に示される位置および向きに加えて、使用または動作中にデバイスの異なる位置（すなわち、場所）および向き（すなわち、回転配置）を包含することを目的としている。例えば、図中のデバイスがひっくり返される場合、他の要素または特徴の「下に」または「下方に」と表される要素は、他の要素または特徴の「上方に」あるか、またはそれを「覆う」。したがって、「下方に」という例示的な用語は、デバイスの全体的向きに応じて、上方および下方の位置および向きの両方を包含することができる。デバイスは、別様に向けられ（９０度または他の向きに回転させられ）てもよく、本明細書で使用される空間的相対記述子は、状況に応じて解釈され得る。

本明細書で使用される場合、「ピクセル」は、発光ピクセルアレイの最小の機能的に完全な反復単位を意味することを目的としている。「サブピクセル」という用語は、必ずしも発光部分の全てではないが、ピクセルの別個の発光部分を構成するピクセルの一部分を意味することを目的としている。例えば、フルカラーディスプレイでは、ピクセルは、赤、緑、および青等の３原色サブピクセルを含むことができる。モノクロディスプレイでは、サブピクセルおよびピクセルという用語は、同等であり、交換可能に使用され得る。

「結合される」という用語は、電子構成要素を指すために使用されるとき、信号（例えば、電流、電圧、または光学信号）を一方からもう一方まで伝達することができるように、２つ以上の電子構成要素、回路、システム、または（１）少なくとも１つの電子構成要素、（２）少なくとも１つの回路、あるいは（３）少なくとも１つのシステムの任意の組み合わせの接続、連結、または関連を意味することを目的としている。２つ以上の電子構成要素、回路、またはシステムの接続、連結、または関連は、直接的であり得、代替として、中間接続、連結、または関連が存在してもよく、したがって、結合は、必ずしも物理的接続を必要とするわけではない。

当業者は、「高解像度」という用語が、概して、１００ピクセルパーインチ（ｐｐｉ）より大きい解像度を意味し、３００ｐｐｉが、時として、超高解像度と称され得ることを容認するであろう。当業者は、ピクセル密度がディスプレイのサイズに直接相関しないことも認識するであろう。本明細書で開示される種々の例示的実施形態は、小型ディスプレイサイズおよび大型ディスプレイサイズで高解像度を達成するために使用され得る。例えば、約３インチ〜約１１インチのサイズを有するディスプレイを、高解像度ディスプレイとして実装することができる。また、最大５５’’以上のテレビディスプレイ等の大型サイズを有するディスプレイもまた、高解像度ディスプレイを達成するために、本明細書で説明される種々の例示的実施形態とともに使用することができる。

本明細書で使用される場合、表面の「上に」ある層または構造は、層が、層が形成される表面に直接隣接しかつ直接接触している場合、および表面の上に形成されている層または構造の間に介在層または構造がある場合の両方を含む。

種々の因子が、ＯＬＥＤディスプレイ製造技法における有機発光層の堆積精度に影響を及ぼし得、そのような因子は、例えば、ディスプレイ解像度、液滴径、標的液滴領域、液滴配置誤差、ＯＬＥＤ層材料および１つ以上のキャリア流体の組み合わせから成るＯＬＥＤ層材料（例えば、活性ＯＬＥＤ材料）インクと関連付けられる流体性質（例えば、表面張力、粘度、沸点）、および液滴が堆積させられる速度を含む。ディスプレイ解像度が、例えば、１００ｐｐｉより大きく、または例えば、３００ｐｐｉより大きく増加すると、ＯＬＥＤディスプレイ製造のためにインクジェット印刷技法を使用することに種々の問題が生じる。従来の印刷技法で使用される高精度インクジェットヘッドは、約１ピコリットル（ｐＬ）から約５０ピコリットル（ｐＬ）に及ぶ液滴径を生成することができ、約１０ｐＬが、高精度インクジェット印刷用途のための比較的一般的なサイズである。従来のインクジェット印刷システムの液滴配置精度は、約±１０μｍである。種々の例示的実施形態では、液滴配置誤差を補償するように、閉じ込めウェルを基板上に提供することができる。閉じ込めウェルは、ＯＬＥＤ材料が所望のサブピクセル領域を越えて移動することを防止する構造であり得る。液滴が、完全に閉じ込めウェル内等の基板上の所望の場所に正確に着地することを確実にするために、種々の例示的実施形態は、システムの液滴配置誤差の２倍を加えた液滴直径と同じくらい幅が広くなるように閉じ込めウェルを構成する。例えば、１０ｐＬ液滴の直径は、約２５μｍであり、したがって、前述のパラメータは、その最小寸法で少なくとも４５μｍ（２５μｍ＋（２＊１０μｍ））の閉じ込めウェルの使用を示す。１ｐＬ液滴についてさえも、液滴直径は、１２μｍであり、その最小寸法で少なくとも３２μｍの閉じ込めウェルを示す。

その最小寸法で少なくとも４５μｍの閉じ込めウェルに依拠する種々のピクセルレイアウトを、最大１００ｐｐｉの解像度を有するＯＬＥＤディスプレイで使用することができる。しかしながら、１００ｐｐｉよりも大きい高解像度ディスプレイでは、例えば、１０ｐＬ液滴が大きすぎ、かつ液滴配置精度が悪すぎるため、各サブピクセルの周囲の閉じ込めウェルの中への液滴の一貫した装填を確実に提供することができない。加えて、上記のように、高解像度ディスプレイについては、閉じ込めウェルを画定するために使用される構造で増大した量のディスプレイ領域を覆うことが、各ピクセルのフィルファクターに悪影響を及ぼし得、ここで、フィルファクターは、全ピクセル領域に対するピクセルの発光領域の比として定義される。フィルファクターが減少すると、各ピクセルは、同一の全体的ディスプレイ輝度を達成するように、より激しく駆動されなければならず、それによって、ディスプレイの各ピクセルの寿命および性能を減少させる。

超高解像度ディスプレイを用いた作業の上記の課題のうちのいくつかをさらに例証するために、図１は、１つの従来のピクセルレイアウト１７００を図示する。ピクセル１７５０は、並んだ構成で配列されるサブピクセル１７２０、１７３０、１７４０を備えることができ、サブピクセル１７２０は、赤色スペクトル範囲内の発光と関連付けられ、サブピクセル１７３０は、緑色スペクトル範囲内の発光と関連付けられ、サブピクセル１７４０は、青色スペクトル範囲内の発光と関連付けられる。各サブピクセルは、サブピクセル１７２０、１７３０、１７４０に直接対応する閉じ込めウェルを形成する、閉じ込め構造１７０４によって包囲され得る。１つのサブピクセル電極は、電極１７２６がサブピクセル１７２０に対応し、電極１７３６がサブピクセル１７３０に対応し、電極１７４６がサブピクセル１７４０に対応するように、各閉じ込めウェルと関連付けられ得る。サブピクセル１７２０は、幅Ｄを有することができ、サブピクセル１７３０は、幅Ｃを有することができ、サブピクセル１７４０は、幅Ｂを有することができ、これは、相互と同一であり得るか、または異なり得る。示されるように、全てのサブピクセルは、長さＡを有することができる。加えて、寸法Ｅ、Ｆ、およびＧは、閉じ込めウェル開口部の間の間隔を示すことができる。寸法Ｅ、Ｆ、Ｇに割り当てられる値は、場合によっては、特に、より低い解像度のディスプレイで、非常に大きく、例えば、１００μｍより大きくあり得る。しかしながら、より高い解像度のディスプレイについては、活性ピクセル領域を最大限化し、したがって、フィルファクターを最大限化するために、これらの寸法を最小限化することが望ましい。図１で図示されるように、影付きの領域によって示される活性ピクセル領域は、サブピクセル閉じ込めウェルのそれぞれの内側の領域全体である。

種々の因子は、寸法Ｅ、Ｆ、Ｇに影響を及ぼし得、例えば、これらの寸法の最小値は、処理方法によって制限され得る。例えば、本明細書で説明される種々の例証的実施形態では、最小寸法としてＥ＝Ｆ＝Ｇ＝１２μｍである。例えば、３２６ｐｐｉ解像度を有するディスプレイでは、ピクセルピッチは、７８μｍに等しくあり得、Ｅ＝Ｆ＝Ｇ＝１２μｍである。サブピクセル１７２０、１７３０、１７４０のそれぞれと関連付けられる閉じ込めウェルは、１４μｍ×６６μｍ（すなわち、寸法Ｂ×Ａ、Ｃ×Ａ、およびＤ×Ａ）の標的液滴面積を有することができ、１４μｍは、１０ｐＬの体積を有するインクジェット液滴の使用に関して上記で議論された４５μｍの最小寸法より有意に小さい。それはまた、１ｐＬ液滴について上記で議論された３２μｍ寸法より小さい。加えて、活性ピクセル領域（すなわち、発光と関連付けられる領域）および全ピクセル領域の比として定義される、ピクセルのフィルファクターは、４６％である。換言すると、ピクセル領域の５４％が、閉じ込め構造１７０４に対応する。同じように、４４０ｐｐｉ解像度を有するディスプレイでは、ピクセルピッチＰは、５８μｍに等しくあり得、Ｅ＝Ｆ＝Ｇ＝１２μｍである。発光サブピクセル１７２０、１７３０、１７４０のそれぞれと関連付けられる閉じ込めウェルは、例えば、７μｍ×４６μｍの標的液滴面積を有することができ、７μｍの直径は、１０ｐＬインクジェット液滴および１ｐＬインクジェット液滴の両方の正確な液滴配置について上記で議論された最小寸法より有意に小さい。この場合において、４４０ｐｐｉを有するディスプレイのフィルファクターは、約３０％である。

本明細書で説明される種々の例示的実施形態による堆積技法は、例えば、高解像度ディスプレイ等の電子ディスプレイのための閉じ込めウェルの装填および活性ＯＬＥＤ層の堆積において、向上した信頼性を提供することができる。活性ＯＬＥＤ層は、例えば、以下の層、すなわち、正孔注入層、正孔輸送層、電子遮断層、有機発光層、電子輸送層、電子注入層、および正孔遮断層のうちの１つ以上を含むことができる。上記で識別される活性ＯＬＥＤ層のうちのいくつかの実装が好ましく、いくつかの活性ＯＬＥＤ層の実装は、電子ディスプレイにとって随意的である。例えば、正孔注入層または正孔輸送層等の少なくとも１つの正孔伝導層、ならびに有機発光層が存在しなければならない。全ての他の上記で識別される層は、ＯＬＥＤディスプレイ等の電子ディスプレイの発光および電力効率を変化させる（例えば、向上させる）ように、所望に応じて含まれてもよい。

本明細書で説明される閉じ込めウェル構成の種々の例示的実施形態は、高いピクセル解像度を維持しながら、閉じ込めウェルのサイズを増大させることができる。例えば、種々の例示的実施形態は、複数のサブピクセルに及ぶ、比較的大型の閉じ込めウェルを使用し、それによって、比較的高いピクセル密度も達成しながら、比較的達成可能な液滴径の使用、および活性ＯＬＥＤ層の堆積における従来の印刷システム精度の使用を可能にする。したがって、より小さい液滴体積を伴う特別に構成または再構成されたプリントヘッド、および新しい印刷システム（入手可能である場合もあり、そうでない場合もある）を必要とするのではなく、１ｐＬ〜５０ｐＬの範囲内の液滴体積を堆積させるインクジェットノズルを使用することができる。また、そのようなより大型の閉じ込めウェルを使用することによって、わずかな製造誤差は、堆積精度に有意な悪影響を及ぼさず、堆積した活性ＯＬＥＤ層は、閉じ込めウェル内に含まれたままとなることができる。

種々の例示的実施形態によると、インクジェット印刷技法は、活性ＯＬＥＤ層の十分に一様な堆積を提供することができる。例えば、ＯＬＥＤディスプレイで典型的に使用される種々の構成要素は、閉じ込めウェルの頂面層上の様々な高さ、例えば、約１００ナノメートル（ｎｍ）またはそれよりも大きいだけ異なる高さのトポグラフィをもたらす。例えば、それぞれが異なるサブピクセルと関連付けられる、別々にアドレス指定可能な電極を形成するために、間隙が隣接電極の間に形成されるように、電極等の構成要素が基板上に堆積されてもよい。どの活性ＯＬＥＤ層がディスプレイの基板上に配置された電極を覆って堆積させられるかにかかわらず、電極の頂面の平面と、隣接電極間の領域中のディスプレイの基板の頂面との間の高度差は、後に堆積されるＯＬＥＤ層のトポグラフィに寄与し得る。本開示による、例示的なインクジェット印刷技法および結果として生じるディスプレイは、活性ＯＬＥＤ層の厚さが、例えば、活性電極領域にわたって十分に一様であるように、活性ＯＬＥＤ層が堆積させられることを可能にし、ここで活性電極領域は、光が発せられる活性サブピクセル領域と関連付けられる電極の領域であり得る。例示的実施形態では、少なくとも活性電極領域にわたるＯＬＥＤ層の厚さは、サブピクセル電極の厚さより小さくあり得る。活性電極領域にわたるＯＬＥＤ層の十分に一様な厚さは、望ましくない視覚アーチファクトを低減させることができる。例えば、所与の堆積領域が電極および非電極領域の両方を含むときでさえも、その領域内で堆積薄膜の厚さの非一様性を最小限化するように、ＯＬＥＤインクおよび印刷プロセスを実装することができる。換言すると、電極構造によって覆われない堆積領域内の部分は、上にＯＬＥＤ層が堆積領域内で堆積させられる基礎的構造にＯＬＥＤ層が十分に適合することができるように、ＯＬＥＤ層トポグラフィに寄与し得る。堆積薄膜の厚さの非一様性を最小限化することは、特定のサブピクセル電極が扱われ、活性化されるときに、実質的に一様な発光を提供することができる。

さらに他の例示的実施形態によると、本開示によって想定されるピクセルレイアウト構成は、活性領域の面積を増大させることができる。例えば、閉じ込め構造は、ディスプレイの非活性部分（例えば、閉じ込め構造と関連付けられる基板領域）が削減されるように、複数のサブピクセルに及ぶ隣接領域を有する閉じ込めウェルを画定することができる。例えば、種々の従来のＯＬＥＤディスプレイのように各サブピクセル電極を包囲する閉じ込め構造よりもむしろ、各サブピクセル電極を異なるピクセルと関連付けることができる閉じ込め構造によって、複数の個別に扱われたサブピクセル電極を包囲することができる。閉じ込め構造によって占められる面積を縮小することによって、各ピクセルの活性領域に対する非活性領域の比が増加させられるため、フィルファクターを最大限化することができる。フィルファクターのそのような増加を達成することにより、より小さいサイズのディスプレイにおいて高解像度を可能にするとともに、ディスプレイの寿命を向上させることができる。

さらに他の例示的実施形態によると、本開示は、基板上に配置される閉じ込め構造を含む有機発光ディスプレイを想定し、閉じ込め構造は、アレイ構成で複数のウェルを画定する。ディスプレイはさらに、各ウェル内に配置されて相互から離間される複数の電極を含む。ディスプレイはさらに、複数のウェルのうちの少なくとも１つの中に第１、第２、および第３の有機発光層を含むことができ、各層は、それぞれ、第１、第２、および第３の発光波長範囲を有する。第１および第２の有機発光層と関連付けられるウェル内に配置されるいくつかの電極は、第３の有機発光層と関連付けられるウェル内に配置されるいくつかの電極とは異なる。

さらに他の例示的実施形態によると、本開示は、基板上に配置される閉じ込め構造を含む有機発光ディスプレイを想定し、閉じ込め構造は、アレイ構成で複数のウェルを画定し、第１のウェル、第２のウェル、および第３のウェルを含む。ディスプレイはさらに、第１のウェル内に配置されて異なるピクセルと関連付けられる第１の複数の電極と、第２のウェル内に配置されて異なるピクセルと関連付けられる第２の複数の電極と、第３のウェル内に配置される少なくとも１つの第３の電極とを含むことができ、第１および第２のウェルのそれぞれの内側に配置されるいくつかの電極は、第３のウェル内に配置されるいくつかの電極とは異なる。ディスプレイはさらに、第１のウェルの中に配置される、第１の発光波長範囲を有する第１の有機発光層と、第２のウェルの中に配置される、第２の発光波長範囲を有する第２の有機発光層と、第３のウェルの中に配置される、第３の発光波長範囲を有する第３の有機発光層とを含むことができる。

種々の他の例示的実施形態によると、デバイスの寿命を延長させるように、ピクセルレイアウト構成を配列することができる。例えば、サブピクセル電極サイズは、対応する有機発光層の波長範囲に基づくことができる。例えば、青色波長範囲内の発光と関連付けられるサブピクセル電極は、赤色波長範囲内の発光と関連付けられるサブピクセル電極または緑色波長範囲内の発光と関連付けられるサブピクセル電極より大きくあり得る。ＯＬＥＤデバイスにおいて青色発光と関連付けられる有機層は、典型的には、赤色または緑色発光と関連付けられる有機層に対して、短縮した寿命を有する。加えて、低減した輝度レベルを達成するようにＯＬＥＤデバイスを操作することにより、デバイスの寿命を増加させる。（例えば、当業者に周知されているように、サブピクセルを扱うときに供給される電流を調整することによって）赤色および緑色サブピクセルの輝度より小さい相対輝度を達成するように、青色サブピクセルを駆動することに加えて、赤色または緑色サブピクセルそれぞれに対して青色サブピクセルの放射領域を増大させることによって、青色サブピクセルは、ディスプレイの適正な全体的カラーバランスを依然として提供しながら、異なる色のサブピクセルの寿命の平衡をより良好に保つ働きをすることができる。この寿命の向上した平衡は、青色サブピクセルの寿命を延長させることによって、ディスプレイの全体的寿命を増加させることができる。

図２は、本開示の例示的実施形態による、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプレイ１００の１つの例示的なピクセル配列の部分平面図を図示する。図３Ａは、基板の１つの例示的実施形態の図２で識別されるセクション３Ａ−３Ａに沿った断面図を図示し、ＯＬＥＤディスプレイを形成するための種々の構造を描写する。図３Ｂは、基板の１つの例示的実施形態の図２で識別されるセクション３Ｂ−３Ｂに沿った断面図を図示し、ＯＬＥＤディスプレイを形成するための種々の構造を描写する。

ＯＬＥＤディスプレイ１００は、概して、選択的に駆動されたときに、ユーザに表示される画像を生成することができる光を発する、例えば、点線境界１５０、１５１、１５２によって画定されるような複数のピクセルを含む。フルカラーディスプレイでは、ピクセル１５０、１５１、１５２は、異なる色の複数のサブピクセルを含むことができる。例えば、図２で図示されるように、ピクセル１５０は、赤色サブピクセルＲ、緑色サブピクセルＧ、および青色サブピクセルＢを含むことができる。図２の例示的実施形態で見ることができるように、サブピクセルは、同一のサイズである必要はないが、例示的実施形態では、そうあり得る。ピクセル１５０、１５１、１５２は、ピクセルを画定するために付加的な構造が必要ではないように、発光を引き起こす駆動回路によって画定され得る。代替として、本開示の例示的実施形態は、複数のピクセル１５０、１５１、１５２の輪郭を描くように、ディスプレイ１００内に含まれ得る、ピクセル画定構造の種々の新しい配列を想定する。当業者は、ピクセルおよびサブピクセルの間のより明瞭な描写を提供するために使用される、従来のピクセル画定構造の材料および配列を周知している。

図２に加えて、図３Ａおよび図３Ｂを参照すると、ＯＬＥＤディスプレイ１００は、基板１０２を含むことができる。基板１０２は、１つ以上の材料の１つ以上の層を含むことができる任意の堅いまたは可撓な構造であり得る。基板１０２は、例えば、ガラス、ポリマー、金属、セラミック、またはそれらの組み合わせを含むことができる。簡単にするために図示されていないが、基板１０２は、当業者が周知している付加的な電子構成要素、回路、または伝導性部材を含むことができる。例えば、以下でさらに詳細に議論される他の構造のうちのいずれかを堆積させる前に、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）（図示せず）を基板上に形成することができる。ＴＦＴは、例えば、活性半導体層の薄膜、誘電体層、および金属接点のうちの少なくとも１つを含むことができ、当業者は、そのようなＴＦＴの製造で使用される材料を周知している。活性ＯＬＥＤ層のうちのいずれかは、以下で議論されるように、基板１０２上に形成されるＴＦＴまたは他の構造によって生成される任意のトポグラフィに適合するように堆積され得る。

閉じ込め構造１０４が複数の閉じ込めウェルを画定するように、閉じ込め構造１０４を基板１０２上に堆積させることができる。例えば、閉じ込め構造１０４は、バンク構造であり得る。複数のサブピクセルを、各閉じ込めウェルと関連付けることができ、各閉じ込めウェル内に堆積させられる有機発光材料は、閉じ込めウェルと関連付けられる全てのサブピクセルが同一の発光色を有することを可能にする。例えば、図２の配列では、閉じ込めウェル１２０は、Ｒによって表される赤色光を発するサブピクセルと関連付けられるＯＬＥＤインクの液滴を受け取ることができ、閉じ込めウェル１３０は、Ｇによって表される緑色光を発するサブピクセルと関連付けられるＯＬＥＤインクの液滴を受け取ることができ、閉じ込めウェル１４０は、Ｂによって表される青色光を発するサブピクセルと関連付けられるＯＬＥＤインクの液滴を受け取ることができる。当業者は、以下でさらに説明されるように、閉じ込めウェルがまた、例えば、付加的な有機発光材料および正孔伝導層を含むが、それらに限定されない、種々の他の活性ＯＬＥＤ層も含むことができると理解するであろう。

閉じ込め構造１０４は、複数のサブピクセルと関連付けられる材料を閉じ込めるように、閉じ込めウェル１２０、１３０、１４０を画定することができる。加えて、閉じ込め構造１０４は、隣接ウェルの中へのＯＬＥＤインクの拡散を防止することができ、かつ／または堆積薄膜が閉じ込め構造１０４によって境界される領域内で連続的であるように、（適切な幾何学形状および表面化学を通して）装填および乾燥プロセスにおいて役立つことができる。例えば、堆積薄膜の縁は、閉じ込めウェル１２０、１３０、１４０を包囲する閉じ込め構造１０４に接触することができる。閉じ込め構造１０４は、単一の構造であり得るか、または閉じ込め構造１０４を形成する複数の別個の構造から成ることができる。

閉じ込め構造１０４は、例えば、フォトイメージャブルポリマーまたは感光シリコーン誘電体等のフォトレジスト材料等の種々の材料で形成され得る。閉じ込め構造１０４は、処理後に、ＯＬＥＤインクの腐食作用に対して実質的に不活性であり、低いガス放出を有し、閉じ込めウェル縁に浅い（例えば、＜２５度）側壁傾斜を有し、かつ／または閉じ込めウェルの中へ堆積させられるＯＬＥＤインクのうちの１つ以上に対して高疎性を有する１つ以上の有機成分を含むことができ、所望の用途に基づいて選択され得る。好適な材料の例は、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）、ＰＭＧＩ（ポリメチルグルタルイミド）、ＤＮＱ−Ｎｏｖｏｌａｃｓ（異なるフェノールホルムアルデヒド樹脂との化学ジアゾナフトキノンの組み合わせ）、ＳＵ−８レジスト（ＭｉｃｒｏＣｈｅｍ Ｃｏｒｐ．製の一連の広く使用されている専売エポキシ系レジスト）、従来のフォトレジストおよび／または本明細書で記載される前述の材料のうちのいずれかのフッ素化変形物、および有機シリコーンレジストを含むが、それらに限定されず、それのそれぞれは、閉じ込め構造１０４の所望の特性をさらに調節するように、相互にまたは１つ以上の添加剤とさらに組み合わせられ得る。

閉じ込め構造１０４は、任意の形状、構成、または配列を有する閉じ込めウェルを画定することができる。例えば、閉じ込めウェル１２０、１３０、１４０は、長方形、正方形、円形、六角形等の任意の形状を有することができる。単一のディスプレイ基板内の閉じ込めウェルは、同一の形状および／またはサイズ、あるいは異なる形状および／またはサイズを有することができる。異なる発光色と関連付けられる閉じ込めウェルは、異なる、あるいは同一の形状および／またはサイズを有することができる。また、隣接閉じ込めウェルを交互の発光色と関連付けることができ、または隣接閉じ込めウェルを同一の発光色と関連付けることができる。加えて、閉じ込めウェルは、列および／または行で配列され得、列および／または行は、一様または非一様なアラインメントを有することができる。

閉じ込めウェルは、例えば、インクジェット印刷、ノズル印刷、スリットコーティング、スピンコーティング、スプレーコーティング、スクリーン印刷、真空熱蒸発、スパッタリング（または他の物理蒸着方法）、化学蒸着等の種々の製造方法のうちのいずれかを使用して形成され得、シャドウマスキング、１つ以上のフォトリソグラフィステップ（例えば、フォトレジストコーティング、露出、現像、および剥離）、ウェットエッチング、ドライエッチング、リフトオフ等を使用することによって、堆積技法中に達成されない別の任意の付加的なパターン形成を達成することができる。

図２で図示されるように、種々の例示的実施形態による閉じ込めウェル１２０、１３０、１４０は、複数のピクセル１５０、１５１、１５２に及ぶように、閉じ込め構造１０４によって画定され得る。例えば、ピクセル１５０は、異なる閉じ込めウェル１２０、１３０、１４０の各部分である、赤色サブピクセルＲ、緑色サブピクセルＧ、および青色サブピクセルＢを含む。各閉じ込めウェル１２０、１３０、１４０は、１０６、１０７、１０８、１０９、１３６、１３７、１３８、１３９、１４２、１４４等の複数の電極を含むことができ、閉じ込めウェル１２０、１３０、１４０内の電極は、間隙Ｓが閉じ込めウェル内の隣接電極の間に形成されるように、相互から離間され得る。例示的実施形態では、間隙Ｓは、任意の隣接電極から電極を電気的に隔離するために十分なサイズであり得、具体的には、隣接電極の活性電極領域を相互から隔離することができる。間隙または空間Ｓは、電流漏出を低減させ、サブピクセル画定および全体的ピクセル画定を向上させることができる。

例証を明確かつ容易にするために省略されているが、駆動回路を基板１０２上に配置することができ、そのような回路は、活性ピクセル領域（すなわち、発光領域）の下、または非活性ピクセル領域（すなわち、非発光領域）内のいずれかに配置され得る。加えて、図示されていないが、回路は、閉じ込め構造１０４の下に配置され得る。駆動回路は、閉じ込めウェル内の他の電極から独立して、各電極を選択的に扱うことができるように、各電極に結合され得る。電極の間の間隙Ｓにより生じる、非一様なトポグラフィの領域は、以下でさらに詳細に説明される。

閉じ込めウェル１２０、１３０、１４０内の各電極１０６、１０７、１０８、１０９、１３６、１３７、１３８、１３９、１４２、１４４は、異なるサブピクセルと関連付けられ得る。例えば、図２で図示されるように、閉じ込めウェル１２０は、赤色発光と関連付けられ得る。電極１０６、１０７、１０８、１０９は、閉じ込めウェル１２０内に位置付けられ得、そこで、各電極が異なるピクセル（例えば、ピクセル１５１および１５２が図示されている）のサブピクセルを扱うように動作可能である。少なくとも２つの電極を各閉じ込めウェル１２０、１３０、１４０内に位置付けることができる。各閉じ込めウェル１２０、１３０、１４０内に位置付けられる電極の数は、同一であり得るか、他の閉じ込めウェルとは異なり得る。例えば、図２で図示されるように、閉じ込めウェル１４０は、青色発光と関連付けられる、２つのサブピクセル電極１４２、１４４を含むことができ、閉じ込めウェル１３０は、緑色発光と関連付けられる、４つのサブピクセル電極１３６、１３７、１３８、１３９を含むことができる。

例示的実施形態では、閉じ込め構造１０４は、電極１０６、１０７、１０８、１０９、１３６、１３７、１３８、１３９、１４２、１４４の一部分の上に配置され得る。図３Ａおよび図３Ｂで図示されるように、閉じ込めウェル１２０は、閉じ込め構造１０４によって画定され得、閉じ込め構造１０４は、電極１０６、１０８の一部分を部分的に覆って、かつ電極を覆うことなく、基板１０２を直接部分的に覆って配置される。代替として、閉じ込め構造１０４は、隣接閉じ込めウェルの電極の間で基板１０２を覆って配置され得る。例えば、閉じ込め構造１０４が基板１０２上に直接配置され、電極のいかなる部分も覆って配置されないように、閉じ込め構造１０４は、異なるサブピクセル発光色と関連付けられる電極の間に形成される空間において基板１０２上に配置され得る。そのような構成（図示せず）では、サブピクセルに対応する電極を、閉じ込め構造１０４に直接隣接して（当接して）配置することができるか、またはサブピクセル画定を達成することができるように、電極を閉じ込め構造１４０から離間することができるかのいずれかである。

電圧が電極１０６、１０７、１０８、１０９、１３６、１３７、１３８、１３９、１４２、１４４に選択的に印加されるとき、ピクセル１５０、１５１、１５２等のピクセルのサブピクセル内で発光を生成することができる。電極１０６、１０７、１０８、１０９、１３６、１３７、１３８、１３９、１４２、１４４は、透明または反射性であり得、金属、混合金属、合金、金属酸化物、混合酸化物、またはそれらの組み合わせ等の伝導性材料で形成され得る。例えば、種々の例示的実施形態では、電極は、インジウムスズ酸化物、マグネシウム銀、またはアルミニウムで作製され得る。電極１０６、１０７、１０８、１０９、１３６、１３７、１３８、１３９、１４２、１４４は、任意の形状、配列、または構成を有することができる。例えば、図３Ａを参照すると、電極１０６、１０７、１０８、１０９、１３６、１３７、１３８、１３９、１４２、１４４は、頂面１０６ａ、１０８ａが実質的に平面であり、基板１０２の表面と平行であり得る一方で、電極の側縁１０６ｂ、１０８ｂが基板の表面と実質的に垂直であり得るか、あるいは基板の表面に対して角度を成し、かつ／または丸みを帯び得るように、外形を有することができる。

さらに、電極の活性部分、すなわち、発光と関連付けられる部分は、電極表面とＯＬＥＤ層との間にいかなる介在絶縁基板構造も伴わずに、堆積したＯＬＥＤ層の直下に配置される電極のこれらの部分であることに留意されたい。一例として、図３Ａを再度参照すると、閉じ込め構造１０４の下に配置される電極１０６および１０８の部分が、電極領域の活性部分から除外される一方で、電極１０６および１０８の領域の残りの部分は、電極領域の活性部分の中に含まれる。

電極は、熱蒸発、化学蒸着、またはスパッタリング方法等による種々の方法で堆積させられてもよい。電極のパターン形成は、例えば、シャドウマスキングまたはフォトリソグラフィを使用して達成されてもよい。上記のように、電極１０６、１０７、１０８、１０９、１３６、１３７、１３８、１３９、１４２、１４４は、図３Ａのような種々の断面図で最も良く示される、トポグラフィが基板１０２上に形成されるように、厚さを有し、離間され得る。例示的実施形態では、電極１０６、１０７、１０８、１０９、１３６、１３７、１３８、１３９、１４２、１４４は、６０ｎｍ〜１２０ｎｍに及ぶ厚さを有することができるが、この範囲は、非限定的であり、より大きい厚さまたは小さい厚さも可能である。

図３Ａおよび図３Ｂに示される正孔伝導層１１０および有機発光層１１２等の１つ以上の活性ＯＬＥＤ層を、各閉じ込めウェル１２０、１３０、１４０内に提供することができる。活性ＯＬＥＤ層は、閉じ込めウェル１２０、１３０、１４０内の電極１０６、１０７、１０８、１０９、１３６、１３７、１３８、１３９、１４２、１４４の厚さおよびその間の間隔、ならびにそれぞれの活性ＯＬＥＤ層の厚さに起因するトポグラフィに十分に適合することができるように堆積され得る。例えば、活性ＯＬＥＤ層は、ウェル内で連続的であり得、各閉じ込めウェル内に配置される基礎的電極構造の結果として生じたトポグラフィに十分に適合し、かつそれに従うような厚さを有することができる。

したがって、堆積したＯＬＥＤ層は、基板と平行でありかつ閉じ込めウェル全体にわたる単一の平面内に位置しない表面トポグラフィをもたらし得る。例えば、ＯＬＥＤ層１１０、１１２の一方または両方は、基板１０２上に配置される電極を含む任意の表面特徴と関連付けられる相対的くぼみまたは突出により、ディスプレイの単一の平面内で非平面的かつ非連続的であり得る（ディスプレイの平面は、基板１０２と平行な平面として意図される）。示されるように、ＯＬＥＤ層１１０、１１２は、ＯＬＥＤ層の頂面が、基礎的表面特徴のトポグラフィに従う、結果として生じるトポグラフィを有することができるように、基礎的表面特徴トポグラフィに十分に適合することができる。換言すると、各堆積したＯＬＥＤ層は、基板１０２上に配置される全ての基礎的な層および／または表面特徴が、堆積させられた後にＯＬＥＤ層の結果として生じる非平面的な頂面トポグラフィに寄与するように、これらの基礎的な層に十分に適合する。このようにして、ディスプレイの平面と平行である閉じ込めウェルにわたる平面内で、層（単数または複数）が閉じ込めウェル内の電極、回路、ピクセル画定層等から提供される既存の表面特徴を有する平面に対して上昇および／または下降すると、層１１０または１１２、あるいは両方における非連続性が生じ得る。活性ＯＬＥＤ層１１０および／または１１２は、基礎的表面トポグラフィに完全には適合する必要がない（例えば、以下で説明されるように、縁領域および同等物の周囲で厚さの局所的な非一様性があり得る）が、材料の有意な蓄積または消耗がない、十分に共形のコーティングが、さらに均一で一様かつ再現可能なコーティングを助長することができる。

図３Ａに示されるように、各層１１０、１１２は、各層が閉じ込めウェル１２０内の実質的に全ての表面特徴（例えば、サブピクセル電極、回路、ピクセル画定層等）を覆って配置され、各層の縁が閉じ込めウェル１２０を包囲する閉じ込め構造１０４に接触するように、閉じ込めウェル１２０全体内で実質的に連続的であり得る。種々の例示的実施形態では、完全に閉じ込めウェル内で別個の連続層を形成して、ウェル内の層においていかなる非連続性（換言すると、活性ＯＬＥＤ層材料が欠落しているウェル内の領域）も実質的に防止するように、活性ＯＬＥＤ層材料を堆積させることができる。そのような非連続性は、サブピクセルの放射領域内で望ましくない視覚アーチファクトを引き起こし得る。各層１１０、１１２は、閉じ込めウェル内で実質的に連続的であるが、それでもなお、上に層が堆積させられる閉じ込めウェルの中に配置された特徴の既存のトポグラフィに十分に層が適合すると、層の上昇／下降により、上記のように層が単一の平面内で非連続的であることは注目に値する。例えば、例示的実施形態では、そのような上昇および／または下降が、例えば、５０ｎｍである、ウェル内の堆積層の最も薄い部分の厚さより大きい、例えば、１００ｎｍである量によるものである場合、ＯＬＥＤ材料層は、ウェル内のディスプレイと平行な平面内で連続的ではない。

層１１０、１１２は、実質的に一様な厚さを各閉じ込めウェル内で有することができ、これは、より一様な発光を提供し得る。本願の目的で、実質的に一様な厚さとは、平面領域を覆う（例えば、活性電極領域を覆う）ＯＬＥＤ層の平均的な厚さを指すことができるが、また、後述のような厚さの微小変動または局所的な非一様性も包含することができる。図３Ａの平面領域、例えば、１０６ａ、１０８ａ、および間隙の底面にわたって、実質的に一様なＯＬＥＤコーティングについて、ＯＬＥＤ層の平均的な厚さからの厚さの変動は、±２０％未満（例えば、±１０％未満または±５％未満）であり得ることが予測される。

しかしながら、上記のように、厚さの局所的な非一様性が、表面トポグラフィおよび／または表面化学の変化を包囲する、層１１０、１１２の部分で生じ得、そのような領域中で、薄膜の厚さは、実質的に、上記で特定される±２０％、±１０％、または±５％パラメータから局所的に逸脱し得ることが想定される。例えば、連続層の厚さの局所的な非一様性は、例えば、閉じ込めウェル構造１０４の縁で、（以下で議論される）ピクセル画定層の縁で、（例えば、１０６ｂ、１０８ｂに沿った）電極縁側壁上で、または電極が基板表面と接する場所で、基板１０２上に配置される表面特徴と関連付けられるトポグラフィおよび／または基板１０２上に配置される表面特徴間の表面化学の変化により、生じ得る。局所的な非一様性は、薄膜の厚さの偏差につながり得る。例えば、局所的な非一様性は、電極１０６、１０８の（例えば、１０６ａ、１０８ａに沿った）活性電極領域を覆って提供される層１１０、１１２の厚さから逸脱し得る。非一様性は、例えば、電極、回路、ピクセル画定層等の縁で、閉じ込めウェル内の基板１０２上に配置される、そのような表面特徴の周囲で約５μｍ〜１０μｍの範囲内の略限局性「縁効果」偏差を生成し得る。本願の目的で、そのような「縁効果」偏差は、ウェル内で「実質的に一様な厚さ」を有するものとしてＯＬＥＤ薄膜コーティングを表すときに包含されることを目的としている。

例示的実施形態では、各層１１０、１１２の厚さは、層が電極の活性領域間の間隙を横断すると形成される薄膜内のくぼみにより、各層の上面がディスプレイの平面と平行な単一の平面（すなわち、基板と平行な平面）内に位置しないように、電極の厚さに等しいかそれより小さくあり得る。これは、例えば、基板１０２の平面と平行である平面Ｐを図示するように破線が提供されている図３Ａで図示されている。示されるように、層１１０、１１２は、それぞれ、電極１０６、１０８の活性電極領域にわたった層１１０、１１２の領域内で実質的に一様である平均的な厚さを有することができる。しかしながら、層１１０、１１２はまた、これらの表面特徴の縁（例えば、間隙に隣接する電極１０６、１０８の縁）の周囲等の表面特徴によって引き起こされるトポグラフィ変化と関連付けられる領域中にわずかな限局性の非一様な厚さを含むこともできる。

層１１０、１１２は、任意の製造方法を使用して堆積され得る。例示的実施形態では、正孔伝導層１１０および有機発光層１１２は、インクジェット印刷技法を使用して堆積され得る。例えば、正孔伝導層１１０の材料は、閉じ込めウェルの中への確実かつ一様な装填を提供するように調合されるインクジェットインクを形成するように、キャリア流体と混合され得る。正孔伝導層１１０を堆積させるためのインクは、インクジェットヘッドノズルから各閉じ込めウェルの中へ、高速で基板に送達され得る。種々の例示的実施形態では、閉じ込めウェル１２０、１３０、１４０の全て内で同一の正孔伝導層１１０の堆積を提供するよう、同一の正孔伝導材料を閉じ込めウェル１２０、１３０、１４０の全てに送達することができる。材料が正孔伝導層１１０を形成するように閉じ込めウェルの中へ装填された後、任意のキャリア流体が蒸発することを可能にするように、ディスプレイ１００を乾燥させることができ、そのプロセスは、設定された期間にわたって、ディスプレイを熱、真空、または周囲条件に暴露することを含むことができる。乾燥に続いて、ディスプレイは、例えば、堆積した薄膜の品質または全体的なプロセスのために有益である化学反応または変化を薄膜形態において誘発するように、堆積した薄膜材料を処理するよう、高温で焼き付けられてもよい。各有機発光層１１２と関連付けられる材料は、閉じ込めウェルの中への確実かつ一様な装填を提供するように調合されるインクジェットインクを形成するように、有機溶剤または溶剤の混合物等のキャリア流体と同様に混合され得る。次いで、各発光色と関連付けられる適切な閉じ込めウェル１２０、１３０、１４０内でインクジェットプロセスを使用して、これらのインクをインクジェット堆積させることができる。例えば、赤色有機発光層と関連付けられるインク、緑色有機発光層と関連付けられるインク、および青色有機発光層と関連付けられるインクは、対応する閉じ込めウェル１２０、１３０、１４０の中へ別々に堆積させられる。異なる有機発光層１１２を同時または連続的に堆積させることができる。有機発光層と関連付けられるインクのうちの１つ以上を装填した後、ディスプレイは、正孔伝導層について上記で説明されたように、同様に乾燥させられて焼き付けられ得る。

図示されていないが、材料の付加的な活性ＯＬＥＤ層を閉じ込めウェル内に堆積させることができる。例えば、ＯＬＥＤディスプレイ１００はさらに、正孔注入層、正孔輸送層、電子遮断層、正孔遮断層、電子輸送層、電子注入層、湿気防止層、カプセル化層等を含むことができ、その全ては、当業者に周知であるが、ここでは詳細に議論されない。

正孔伝導層１１０は、有機発光層１１２の中への正孔の注入を促進する、材料の１つ以上の層を含むことができる。例えば、正孔伝導層１１０は、例えば、正孔注入層等の正孔伝導材料の単一の層を含むことができる。代替として、正孔伝導層１１０は、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン：ポリ（スチレンスルホナート）（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ）等の正孔注入層、およびＮ，Ｎ’−ジ−（（１−ナフチル(napthyl)）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル）−１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミン（ＮＰＢ）等の正孔輸送層のうちの少なくとも１つ等の複数の層を含むことができる。

有機発光層１１２が、電極によって生成されるトポグラフィ、電極の間の空間、および正孔伝導層のトポグラフィに十分に適合するように、有機発光層１１２は、正孔伝導層１１０を覆って堆積され得る。有機発光層１１２は、有機エレクトロルミネセンス材料等の発光を促進する材料を含むことができる。

例示的実施形態では、ＯＬＥＤスタック（例えば、閉じ込めウェル内の電極を覆って堆積させられる全ての活性ＯＬＥＤ層）の厚さは、１０ｎｍ〜２５０ｎｍに及ぶことができる。例えば、正孔輸送層は、１０ｎｍ〜４０ｎｍに及ぶ厚さを有することができ、正孔注入層は、６０ｎｍ〜１５０ｎｍに及ぶ厚さを有することができ、有機発光層は、３０ｎｍ〜１５０ｎｍに及ぶ厚さを有することができ、随意に、正孔遮断層、電子輸送層、および電子注入層は、１０ｎｍ〜６０ｎｍに及ぶ、組み合わされた厚さを有することができる。

例示的実施形態では、層１１０、１１２のそれぞれを生成するために、約１０ｐＬ以下の体積を有する液滴が使用され得ることが想定される。種々の例示的実施形態では、５ｐＬ以下、３ｐＬ以下、または２ｐＬ以下の液滴体積が使用されてもよい。ＯＬＥＤ層１１０、１１２は、上記の体積を有する、１個〜２０個の液滴を使用して形成され得る。

１つの例示的かつ非限定的な実施形態では、本開示は、隣接ウェル間の幅が本実施形態では１２μｍであり得る、３２６ｐｐｉの解像度（例えば、ピッチ＝７８ｕｍ）を有するディスプレイについて、赤色、緑色、または青色発光と関連付けられるウェル１２０、１３０、１４０の面積が、６６μｍ×６６μｍであり得るように配列される閉じ込めウェルを想定する。そのような配列の赤色または緑色サブピクセル発光と関連付けられる面積は、３１．５μｍ×３１．５μｍであり得、青色サブピクセル発光と関連付けられる面積は、６６μｍ×３０μｍであり得、図１を参照して説明される従来のＲＧＢ並列レイアウトに対する４６％のフィルファクターと比較して、６５％の全体的ピクセルフィルファクターにつながる。別の例示的かつ非限定的実施形態である４４０ｐｐｉの解像度（例えば、ピッチ＝５８μｍ）を有するディスプレイについては、赤色、緑色、または青色発光と関連付けられるウェル１２０、１３０、１４０の面積が４６μｍ×４６μｍであり得、再度、隣接ウェル間の幅が、本実施形態では１２μｍであるように、閉じ込めウェルを配列することが想定される。そのようなディスプレイ構造の赤色または緑色サブピクセル発光と関連付けられる面積が、２０．３μｍ×２０．３μｍである一方で、青色サブピクセル発光と関連付けられる面積は、７６μｍ×４９．１μｍであり得、それによって、図１を参照して説明される従来のＲＧＢ並列レイアウトに対する３０％のフィルファクターと比較して、約４６％のフィルファクターを生成する。これらの実施形態では、隣接ウェル間の幅は、１２μｍであり得るが、上記で議論されるように、この幅が異なる値をとることができる一方で、（活性電極領域に割り当てられる基板領域のより大きな割合を提供するように）より小さい値が望ましくあり得、ウェル構造の形成への処理制約および回路レイアウト制約が、この寸法に下限を効果的に設定し得る。１２μｍという値は、これらの例の代表として選択されるが、当業者は、本開示および請求項の範囲から逸脱することなく、他の寸法、例えば、２０μｍのようなより大きい寸法、８μｍ、６μｍ、またはさらに１μｍのようなより小さい寸法を使用できることを理解するであろう。当業者はさらに、上記の例では、赤色、緑色、および青色閉じ込めウェルがそれぞれ、同一の寸法を有するが、他の配列も可能であることを理解することができる。例えば、異なる発光色と関連付けられる２つの閉じ込めウェルは、同一の寸法を有することができ、さらに別の異なる発光色と関連付けられる１つの閉じ込めウェルは、異なる寸法を有することができ、または各発光色と関連付けられる閉じ込めウェルは、異なる寸法を有することができる。

本開示による、これらの例示的な非限定的配列は、４４０ｐｐｉという超高解像度の場合にさえも４５μｍより大きい最小ウェル寸法を有する閉じ込めウェルを提供し、したがって、例えば、約１０ｐＬの液滴体積が使用されることを可能にすることができ、それによって、既存のインクジェット印刷から利用可能な液滴体積の使用を可能にすることによって、製造を単純化する。加えて、上記の例示的な非限定的配列は、３２６ｐｐｉの場合について約４３％だけ、および４４０ｐｐｉの場合について約８４％だけ、従来のＲＧＢ並列レイアウトと比較してピクセルフィルファクターを増加させる。より一般的には、本開示による種々の例示的実施形態は、超高解像度ディスプレイ等のインクジェットを使用して製造される高解像度ディスプレイのフィルファクターの増進を提供し、超高解像度ディスプレイに対して、４０％以上の増進が可能である。

当業者に周知であるように、堆積に続いて、有機発光層１１２を覆って共通電極（図示せず）を配置することができる。共通電極が堆積させられた後、共通電極の結果として生じるトポグラフィは、有機発光層１１２のトポグラフィに十分に適合することができる。共通電極は、任意の製造技法を使用して、例えば、真空熱蒸発、スパッタリング、化学蒸着、スプレーコーティング、インクジェット印刷、または他の技法によって、堆積され得る。共通電極は、透明または反射性であり得、金属、混合金属、合金、金属酸化物、混合酸化物、またはそれらの組み合わせ等の伝導性材料で形成され得る。例えば、インジウムスズ酸化物またはマグネシウム銀の薄い層である。共通電極の厚さは、約３０ｎｍ〜５００ｎｍに及ぶことができる。

加えて、共通電極は、任意の形状、配列、または構成を有することができる。例えば、共通電極は、単一のサブピクセルまたは単一のピクセルと関連付けられた別個の層として配置され得る。代替として、共通電極は、複数のサブピクセルまたはピクセルを覆って、例えば、ディスプレイ１００のピクセル配列全体を覆って配置され得る。例えば、共通電極は、閉じ込めウェル１２０、１３０、１４０内に、ならびに閉じ込め構造１０４を覆って堆積させられる、ブランケットであり得る。共通電極の堆積の前に、電子輸送層、電子注入層、および／または正孔遮断層等の付加的な活性ＯＬＥＤ層（簡単にするために示されていない）を有機発光層１１２上に堆積させることができる。そのような付加的なＯＬＥＤ層は、インクジェット印刷によって、真空熱蒸発によって、または別の方法によって、堆積され得る。

例示的実施形態によると、ＯＬＥＤデバイス１００は、上部放射構成または底部放射構成を有することができる。例えば、図３Ａで図示されるように、上部放射構成では、電極１０６、１０８は、反射電極であり得、有機発光層を覆って配置される共通電極は、透明電極であり得る。代替として、底部放射構成では、電極１０６、１０８は、透明であり得、共通電極は、反射性であり得る。

別の例示的実施形態では、ＯＬＥＤディスプレイ１００は、アクティブマトリクスＯＬＥＤ（ＡＭＯＬＥＤ）であり得る。ＡＭＯＬＥＤディスプレイは、パッシブマトリクスＯＬＥＤ（ＰＭＯＬＥＤ）ディスプレイと比較して、ディスプレイ性能を増進することができるが、基板上の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を含むアクティブ駆動回路に依拠し、そのような回路は、透明ではない。ＰＭＯＬＥＤディスプレイは、透明ではない伝導性バスライン等のいくつかの要素を有するが、ＡＭＯＬＥＤディスプレイは、不透明である実質的により多くの要素を有する。結果として、底部放射ＡＭＯＬＥＤディスプレイについては、不透明回路要素の間で基板の底部を通して光を発することしかできないため、フィルファクターがＰＭＯＬＥＤと比較して低減させられ得る。この理由により、ＡＭＯＬＥＤディスプレイのためにトップエミッション構成を使用することが望ましくあり得る。なぜなら、そのような構成を使用することは、ＯＬＥＤデバイスがそのような不透明アクティブ回路要素の上に構築されることを可能にし得るからである。したがって、基礎的要素の不透明性の懸念を伴わずに、ＯＬＥＤデバイスの上部を通して光を発することができる。一般に、発光が、基板１０２上に堆積させられる付加的な不透明要素（例えば、ＴＦＴ、駆動回路構成要素等）によって遮断されないため、トップエミッション構造を使用することは、ディスプレイ１００の各ピクセル１５０のフィルファクターを増加させることができる。

加えて、各ピクセルの非活性領域を、基板１０２上に形成される閉じ込め構造、表面特徴、および／またはピクセル画定層（その例は以下でさらに詳細に説明される）に限定することができる。トップエミッションＯＬＥＤ構造で使用される透明上部電極が典型的には低い伝導率を有するため生じ得る、ディスプレイ１００にわたる望ましくない電圧降下を防止するように、伝導性グリッドも基板１０２上に配置され得る。共通電極が、閉じ込めウェル１２０、１３０、１４０内に、かつ閉じ込め構造１０４を覆って堆積させられるブランケットであるとき、伝導性グリッドは、基板１０２の非活性部分上に配置され得、選択された閉じ込め構造１０４に形成されたビアホールを通して、共通電極に結合され得る。しかしながら、本開示は、トップエミッションアクティブマトリクスＯＬＥＤ構成に限定されない。本明細書で議論される技法および配列は、ボトムエミッションおよび／またはパッシブディスプレイ等の任意の他の種類のディスプレイとともに使用され得、ならびに当業者は、適切な修正を使用して作製する方法を理解するであろう。

例示的実施形態では、図３Ａで図示されるように、各閉じ込めウェルは、複数の活性サブピクセル領域を含むことができ、複数の活性サブピクセル領域は、それぞれ、Ｗ１およびＷ２に及び、間隙Ｓによって分離され、幅ＣＷを有するウェル内に閉じ込められる。寸法Ｗ１、Ｗ２、およびＣＷは、主に、ディスプレイの解像度（例えば、３２６ｐｐｉ、４４０ｐｐｉ）に相関するピクセルピッチに関係付けられる。間隙Ｓの寸法は、製作技法およびプロセス、ならびにレイアウトと関連付けられる制限に関係付けられる。一般に、間隙Ｓと関連付けられる寸法を最小限化することが望ましくあり得る。例えば、３μｍが、最小寸法であってもよいが、当業者は、１μｍほどの小ささから１０μｍより大きい寸法も可能であることを理解するであろう。閉じ込め構造１０４の高さＨはまた、特定のディスプレイレイアウトまたは解像度よりもむしろ処理制限に関係付けられる。閉じ込め構造１０４の高さＨの例示的な値は、１．５μｍであってもよいが、高さＨは、種々の例示的実施形態では０．５μｍ〜５μｍに及ぶことができる。図３Ｂを参照すると、ＢＷは、隣接ウェル（例えば、図３Ｂのウェル１２０および１３０）の間の閉じ込め構造１０４の幅である。上記で説明されたように、この寸法を最小限化することが望ましくあり得、例示的な値は、１２μｍである。しかしながら、当業者は、この値は、場合によっては任意に大きく（例えば、数百ミクロン）あり得、また、ＢＷのそのような小さい値を可能にし得る製作技法およびプロセスに応じて、１μｍほども小さくあり得ることも理解するであろう。

ここで図４を参照すると、ディスプレイ２００の閉じ込めウェル２２０の例示的実施形態の断面図が図示されている。図４の配列は、図３Ａを参照して上記で説明されたものに類似し、１００の系列とは対照的に２００の系列を使用することを除いて、同様の番号が同様の要素を表すため使用される。しかしながら、図示されるように、ＯＬＥＤディスプレイ２００はまた、電極２０６、２０８の間の間隙Ｓの中に配置される付加的な表面特徴２１６も含む。

表面特徴２１６は、それを覆って配置されたＯＬＥＤ薄膜の中へ電流を直接提供せず、それによって、電極２０６および２０８と関連付けられる活性領域の間のピクセル領域の非活性領域を構成する任意の構造であり得る。例えば、表面特徴２１６はさらに、不透明材料を含むことができる。図４で描写されるように、表面特徴２１６によってトポグラフィで表されるように、そのような回路要素の一部分を覆って正孔伝導層２１０および有機発光層２１２を堆積させることができる。表面特徴２１６が電気的要素を含む場合において、そのような要素はさらに、表面特徴２１６上に堆積させられたＯＬＥＤ薄膜からこれらの要素を電気的に隔離するよう、電気絶縁材料でコーティングされてもよい。

例示的実施形態では、表面特徴２１６は、例えば、相互接続部、バスライン、トランジスタ、および当業者に周知である他の回路を含むが、それらに限定されない駆動回路を含むことができる。いくつかのディスプレイでは、駆動回路は、複雑な相互接続部を最小限化するように、および電圧降下を低減させるように、そのような回路によって駆動されるピクセルの活性領域より近位に配置される。場合によっては、閉じ込めウェルは、個々のサブピクセルを包囲し、そのような回路は、回路が活性ＯＬＥＤ層でコーティングされないように閉じ込めウェル領域の外側にあり得る。しかしながら、図４の例示的実施形態、ならびに本明細書で説明される他の実施形態では、閉じ込めウェル２２０が、異なるピクセルと関連付けられる複数のサブピクセルを含むことができるため、そのような駆動回路要素を閉じ込めウェル内で提供することができ、これは、駆動電子機器の電気的性能を最適化し、駆動電子機器レイアウトを最適化し、かつ／またはフィルファクターを最適化し得る。

正孔伝導層２１０および有機発光層２１２は、閉じ込めウェル構造２０４によって画定される領域の中へ、かつ表面特徴２１６を覆って（例えば、図３Ａおよび図３Ｂを参照して以前に議論されたように）堆積され得、それによって、層２１０、２１２が、基礎的表面特徴トポグラフィに十分に適合し、閉じ込めウェル内で実質的に一様な厚さを有し、これは、非平面的な頂面を有する層２１０および２１２につながる。表面特徴２１６が、層２１０および２１２の一方または両方の厚さより大きい距離で電極の頂面の平面の上方に延在する構成では、次いで、これらの層の一方または両方はまた、ウェル２２０内のディスプレイの平面と平行な平面内で非連続的である。したがって、一方または両方の層２１０、２１２は、表面特徴２１６と関連付けられる突出により、ディスプレイの平面と平行な平面内で非平面的かつ非連続的である。上記のように、これは、例えば、電極２０６、２０８を覆って配置される２１２の表面と同一平面上にある平面Ｐを図示する破線によって図示される。示されるように、層２１２は、閉じ込めウェル全体にわたって平面的ではなく、代わりに、間隙領域Ｓおよび突出２１６により、層２１２が全体として非平面的な頂面を有するように、基礎的トポグラフィに十分に適合する。換言すると、層２１０、２１２の一方または両方は、層２１０、２１２の堆積の前に存在するウェルのトポグラフィに十分に適合するように、閉じ込めウェルにわたって上昇および下降する。

表面特徴２１６は、電極より大きい厚さを有するものとして図４で図示されているが、表面特徴２１６は、代替として、電極より小さいかまたは等しい厚さを有することができる。また、表面特徴２１６は、基板２０２上に配置されるものとして図４で図示されているが、表面特徴２１６はさらに、電極２０６、２０８の一方または両方を覆って配置され得る。表面特徴２１６は、アレイの中の各閉じ込めウェルについて異なり得、全ての閉じ込めウェルが表面特徴を含む必要があるわけではない。表面特徴２１６はさらに、ピクセル画定層として機能することができ、サブピクセルの複数部分または全体的なピクセル配列を画定するために表面特徴２１６の不透明性を使用することができる。

ここで図５Ａおよび図５Ｂを参照すると、本開示によるディスプレイ閉じ込めウェルの別の例示的実施形態の部分断面図が図示されている。図５Ａおよび図５Ｂの配列は、図３Ａおよび図３Ｂを参照して上記で説明されたものに類似し、１００の系列とは対照的に３００の系列を使用することを除いて、同様の要素を表すために同様の番号が使用される。しかしながら、図５Ａおよび図５Ｂで図示されるように、ＯＬＥＤディスプレイ３００はまた、画定層３１４も含む。画定層３１４は、基板３０２上に配置され得、閉じ込め構造３０４が画定層３１４の上に配置され得る。加えて、画定層３１４は、電極３０６、３０８の非活性部分を覆って配置することができる。画定層３１４は、ＯＬＥＤディスプレイ３００の複数部分を画定するために使用される、電気絶縁性を有する任意の物理構造であり得る。実施形態では、画定層３１４は、ピクセルアレイ内のピクセルの輪郭を描くために使用される任意の物理構造であり得るピクセル画定層であり得る。画定層３１４はまた、サブピクセルの輪郭を描くこともできる。

図示されるように、例示的実施形態では、画定層３１４は、閉じ込め構造３０４を越えて、電極３０６、３０８の一部分を覆って延在することができる。画定層３１４が電流を防止し、したがって、サブピクセルの縁を通した発光を実質的に防止することによって、不要な視覚アーチファクトを低減させることができるように、画定層３１４は、電気抵抗材料で作製され得る。画定層３１４はまた、ＯＬＥＤ薄膜が画定層の縁を覆ってコーティングする場所の非一様性の形成を軽減または防止する構造および化学的性質を有するように提供され得る。このようにして、画定層３１４は、別様にピクセル領域の活性領域中に含まれ、次いで、ピクセルの非一様性に寄与する、表面特徴の周囲に形成された薄膜の非一様性を覆い隠すことに役立つことができ、そのような非一様性は、例えば、ＯＬＥＤ薄膜が閉じ込めウェルに接触する各サブピクセルの外縁で、またはＯＬＥＤ薄膜が基板表面に接触する各サブピクセルの内縁で、生じ得る。

正孔伝導層３１０および有機発光層３１２はそれぞれ、閉じ込めウェル３２０内に連続層を形成するよう、閉じ込め構造３０４によって画定される領域内で、かつピクセル画定層を覆って堆積され得る。図３Ａおよび図３Ｂに関して上記で説明されたように、層３１０、３１２は、閉じ込めウェルの全体的なトポグラフィに十分に適合することができ、したがって、例えば、図５Ａの平面Ｐによって図示されるように、非平面的な表面を有し、かつ／またはディスプレイの平面内で非連続的であり得る。図３Ａの例示的実施形態を参照して上記で説明されたように、正孔伝導層３１０および有機発光層３１２の厚さは、上記で説明されたように、実質的に一様であり得る。

例示的実施形態では、図５Ａで図示されるように、各閉じ込めウェルは、間隙Ｓによって分離されるＷ１およびＷ２を含み、幅ＣＷを有する閉じ込めウェル内に含まれる、複数の活性サブピクセル領域を含むことができ、Ｗ１、Ｗ２、およびＣＷは、図３Ａを参照して上記で議論されたように、主にピクセルピッチに関係付けられる。同様に、間隙Ｓの寸法は、製作および処理技法、ならびにレイアウトに関係付けられ、Ｓは、例示的実施形態では、１μｍ〜１０μｍより大きく及んでもよく、３μｍがＳの例示的な寸法である。閉じ込め構造３０４の高さＨは、図３Ａを参照して上記で説明される通りであってもよい。図５Ｂを参照すると、ＢＷは、上記で説明されたように、隣接ウェルの間の閉じ込め構造３０４の幅であり、図３Ｂを参照して上記で説明されたように選択され得る。

画定層の厚さと関連付けられる寸法Ｔは、製作技法および処理条件、ならびに使用される画定層材料の種類に基づいて、可変であり得る。種々の例示的実施形態では、画定層の厚さと関連付けられる寸法Ｔは、２５ｎｍ〜２．５μｍに及ぶことができるが、１００ｎｍ〜５００ｎｍを最も典型的な範囲と見なすことができる。閉じ込めウェル内の閉じ込め構造１０４の縁を越えた画定層の延在部と関連付けられる、図５ＡでＢ１、Ｂ２、および図５ＢでＢ１、Ｂ１’と標識される寸法を、所望に応じて選択することができる。しかしながら、より大きい寸法が、利用可能な活性ピクセル電極領域の量を低減させることによってフィルファクターの低減に寄与し得る。したがって、所望の機能を果たす最小寸法を選択することが望ましくあり得、その所望の機能は、概して、活性電極領域から縁の非一様性を除外することである。種々の例示的実施形態では、この寸法は、１μｍ〜２０μｍに及ぶことができ、例えば、２μｍ〜５μｍに及んでもよい。

ここで図６を参照すると、ディスプレイ４００の閉じ込めウェル４２０の例示的実施形態の断面図が図示されている。図６の配列は、図５Ａおよび図５Ｂを参照して上記で説明されるものに類似し、３００の系列とは対照的に４００の系列を使用することを除いて、同様の番号が同様の要素を表すために使用される。しかしながら、示されるように、ＯＬＥＤディスプレイ４００はまた、電極４０６、４０８の間の間隙Ｓの中に配置される付加的な画定層４１６も含む。図６に示されるように、画定層４１６は、付加的な画定層４１６の一部分が、基板４０２上の間隙Ｓの全体を通して、間隙に隣接する電極４０６、４０８の複数部分を覆って延在するという点で、図４の表面特徴とは若干異なる構造を有する表面特徴であり得る。付加的な画定層４１６は、任意のトポグラフィを有することができ、図６で図示されるものは、例示的にすぎない。図６で図示されるように、切り込み４１７が、基板１０２から外方を向く付加的な画定層４１６の表面の中に存在し得る。切り込み４１７は、種々の方法を使用して形成され得る。例えば、切り込み４１７は、付加的な画定層４１６の堆積中に、層４１６が、概して、電極４０６、４０８等の閉じ込めウェル内に存在する任意のトポグラフィに適合することができるように、製造プロセスに起因し得、切り込み４１７は、電極４０６、４０８にわたる実質的に一様な厚さと、電極４０６、４０７の頂面と関連付けられない表面を伴う実質的に非一様な厚さとの間の異なる厚さによって形成される。代替として、切り込み４１７は、省略され得、例えば、基礎的表面トポグラフィが滑らかにされるように、非共形堆積方法を使用して付加的な画定層４１６が堆積させられる場合において、付加的な画定層４１６の頂面は、実質的に平面的なトポグラフィを有することができる。

いずれか一方の構成で、上記で説明されているように、層４１０、４１２が付加的な画定層４１６のトポグラフィに十分に適合し、実質的に一様な厚さを有するように、（例えば、図３Ａおよび図３Ｂを参照して以前に議論されたように）正孔伝導層４１０および／または有機発光層４１２を堆積させることができる。

付加的な画定層４１６の頂面（すなわち、基板から外方を向く表面）と基板４０２との間の距離は、電極４０６、４０８の頂面と基板４０２との間の距離より大きく、または小さくあり得る。代替として、付加的な画定層４１６の頂面と基板４０２との間の距離は、電極４０６、４０８の頂面と基板４０２との間の距離に実質的に等しくあり得る。換言すると、付加的な画定層４１６の厚さは、基板の頂面と周辺閉じ込め構造４０４の頂面との間に位置付けられることから及ぶような、または実質的に閉じ込め構造４０４の頂面と同一の平面内に位置するようなものであり得る。代替として、付加的な画定層４１６は、付加的な画定層４１６が電極４０６、４０８の一部分に重複しないが、むしろそれらの間の間隙Ｓを充填するように、実質的に電極４０６、４０８と同一の高さであり得る。

正孔伝導層４１０および有機発光層４１２は、閉じ込め構造４０４を越えウェル４２０の中へ延在する画定層４１４の複数部分を覆って配置され得、層４１０、４１２は、閉じ込め構造４０４によって画定される閉じ込めウェル４２０内の付加的な画定層４１６を覆って延在することができる。付加的な画定層４１６が電流を防止することができ、したがって、サブピクセルの縁を通した発光を防止することによって、望ましくない視覚アーチファクトを低減させ得るように、付加的な画定層４１６は、電気抵抗材料で作製され得る。画定層４１４および付加的な画定層４１６は、同一または異なる材料で作製され得る。

例示的実施形態では、図６で図示されるように、各閉じ込めウェルは、複数の活性サブピクセル領域を含むことができ、複数の活性サブピクセル領域は、間隙Ｓによって分離されるＷ１およびＷ２を含み、幅ＣＷを有する閉じ込めウェル内に含まれＷ１、Ｗ２、ＣＷ、およびＳは、主に、上記で議論されたように、ピクセルピッチに関係付けられる。上記のように、３μｍがＳの最小寸法であってもよいが、当業者は、１μｍほどの小ささから１０μｍよりもさらに大きい寸法も可能であることを理解するであろう。閉じ込め構造４０４の高さＨは、例えば、図３Ａおよび図３Ｂを参照して上記で説明されたような範囲を選択され、かつ伴い得る。

画定層の厚さと関連付けられる寸法Ｔ１、および付加的な画定層の厚さと関連付けられる寸法Ｔ２は、製作技法、処理条件、および使用される画定層材料の種類に基づいて、可変であり得る。結果として、画定層の厚さと関連付けられる寸法Ｔ１、および付加的な画定層の厚さと関連付けられる寸法Ｔ２は、５０ｎｍ〜２．５μｍ、例えば、１００ｎｍ〜５００ｎｍに及ぶことができる。閉じ込めウェルの縁の内側の画定層の延在部と関連付けられる寸法ＳＢ１、ＳＢ２、およびＢ２を、所望に応じて選択することができる。しかしながら、より大きい寸法が、利用可能な活性ピクセル電極領域の量を低減させることによってフィルファクターの低減に寄与する。したがって、所望の機能を果たす最小寸法を選択することが望ましくあり得、所望の機能は、概して、活性電極領域から縁の非一様性を除外することである。種々の例示的実施形態では、この寸法は、１μｍ〜２０μｍに及ぶことができ、例えば、２μｍ〜５μｍに及んでもよい。

当業者は、本開示に基づいて理解するように、望ましいピクセル画定構成を達成する異なる方法の任意の組み合わせで、開示された画定層構成のうちのいずれかを使用することができる。例えば、画定層４１４および／または付加的な画定層４１６は、任意のピクセルおよび／またはサブピクセル領域、あるいは任意の部分的なピクセルおよび／またはサブピクセル領域を画定するように構成され得、画定層４１４は、任意の閉じ込め構造４０４の下に堆積させられる画定層と関連付けられ得る、付加的な画定層４１６は、閉じ込めウェル４２０の中等の電極間の閉じ込めウェル内に堆積させられる任意の画定層と関連付けられ得る。当業者は、本開示内で示される断面図が、例証的な断面図にすぎず、したがって、本開示は、図示される特定の断面図に限定されるものではないことを認識するであろう。例えば、図３Ａおよび図３Ｂは、それぞれ、線３Ａ−３Ａおよび３Ｂ−３Ｂに沿って図示されているが、例えば、３Ａ−３Ａおよび３Ｂ−３Ｂに直交する方向を含む、異なる線に沿って得られる、異なる断面図が、異なる画定層構成を反映してもよい。例示的実施形態では、図２で図示されるピクセル１５０、１５１、１５２等のピクセルの輪郭を描くために、画定層を組み合わせで使用することができる。代替として、画定層が閉じ込めウェル内のサブピクセル電極を完全または部分的に包囲するように、画定層は、サブピクセルを画定するように構成され得る。

ここで図７を参照すると、さらに別の例示的実施形態の断面図が図示されている。ＯＬＥＤディスプレイ５００は、表面特徴５１６と、画定層５１４とを含むことができる。図７の配列は、図４を参照して上記で説明されたものに類似し、２００の系列とは対照的に５００の系列を使用することを除いて、同様の番号が同様の要素を表すために使用される。しかしながら、図７で図示されるように、ＯＬＥＤディスプレイ５００はさらに、閉じ込め構造５０４の下に配置される画定層５１４を含む。画定層５１４は、ＯＬＥＤディスプレイ５００の複数部分を画定するために使用される、任意の物理構造であり得る。実施形態では、画定層５１４は、ピクセルアレイ内のピクセルおよび／またはピクセルを伴うサブピクセルの輪郭を描くために使用される任意の物理構造であり得る、画定層であり得る。図示されるように、例示的実施形態では、画定層５１４は、閉じ込め構造５０４を越えて、電極５０６、５０８の一部分を覆って延在することができる。画定層５１４が電流を防止し、したがって、サブピクセルの縁を通した発光を防止することによって不要な視覚アーチファクトを低減させることができるように、画定層５１４は、電気抵抗材料で作製され得る。このようにして、画定層５１４は、縁乾燥効果により起こり得る、各サブピクセルの縁で形成される薄膜層の非一様性を覆い隠すことに役立つことができる。上記で説明されているように、層５１０、５１２が、基礎的表面特徴トポグラフィに十分に適合し、実質的に一様な厚さを有するように、（例えば、図３Ａおよび図３Ｂを参照して以前に議論されたように）正孔伝導層５１０および有機発光層５１２を堆積させることができる。

当業者は、種々の配列および構造、例えば、表面特徴、画定層等が、例示的にすぎず、種々の他の組み合わせおよび配列が想定され得、本開示の範囲内に入り得ることを理解するであろう。

ここで図８−１１を参照すると、ＯＬＥＤディスプレイ６００を製造する例示的な方法中の種々の例示的なステップを呈する、基板の部分断面図が図示されている。製造の方法は、ディスプレイ６００を参照して以下で議論されるが、他のＯＬＥＤディスプレイ、例えば、上記で説明されるＯＬＥＤディスプレイ１００、２００、３００、４００、および５００を製造する際に、上記で説明されるステップのうちのいずれかおよび／または全てを使用することができる。図８で図示されるように、基板６０２の上に電極６０６、６０８および表面特徴６１６を提供することができる。電極６０６、６０８、および表面特徴６１６は、インクジェット印刷、ノズル印刷、スリットコーティング、スピンコーティング、真空熱蒸発、スパッタリング（または他の物理蒸着方法）、化学蒸着等の任意の製造方法を使用して形成され得、シャドウマスキング、フォトリソグラフィ（フォトレジストコーティング、露出、現像、および剥離）、ウェットエッチング、ドライエッチング、リフトオフ等を使用することによって、堆積技法に含まれない別の任意の付加的なパターン形成を達成することができる。電極６０６、６０８は、表面特徴６１６と同時に、あるいは電極または表面特徴のいずれか一方が最初に形成されることと連続して形成され得る。

次いで、図９で図示されるように、表面特徴６１６および電極６０６、６０８を覆って、画定層６１４および付加的な画定層６１８を堆積させることができる。層６１４および６１８は、インクジェット印刷、ノズル印刷、スリットコーティング、スピンコーティング、真空熱蒸発、スパッタリング（または他の物理蒸着方法）、化学蒸着等の任意の製造方法を使用して形成され得、シャドウマスキング、フォトリソグラフィ（フォトレジストコーティング、露出、現像、および剥離）、ウェットエッチング、ドライエッチング、リフトオフ等を使用することによって、堆積技法に含まれない物の任意の必要とされる付加的なパターン形成を達成することができる。画定層６１４は、付加的な画定層６１８と同時に形成され得、あるいは層６１４、６１８は、層６１４または６１８のいずれか一方が最初に形成されることと連続して形成され得る。

閉じ込め構造６０４が、画定層６１４を覆って提供される。閉じ込め構造６０４は、複数のピクセルに及びながら、複数のサブピクセル電極６０６、６０８を包囲する閉じ込めウェル６２０を画定するように形成され得る。閉じ込め構造６０４は、インクジェット印刷、ノズル印刷、スリットコーティング、スピンコーティング、真空熱蒸発、スパッタリング（または他の物理蒸着方法）、化学蒸着等の任意の製造方法を使用して形成され得、シャドウマスキング、フォトリソグラフィ（フォトレジストコーティング、露出、現像、および剥離）、ウェットエッチング、ドライエッチング、リフトオフ等を使用することによって、堆積技法に含まれない別の任意の付加的なパターン形成を達成することができる。１つの例示的な技法では、図１０で図示されるように、連続層６０４’において基板６０２の上に閉じ込め構造材料を堆積させることができ、次いで、サブピクセル電極６０６、６０８を露出するように層６０４’の一部分６０５を除去することができるように、マスク６０７を使用して、層はパターン形成され得る。閉じ込め構造６０４は、複数部分６０５が除去された後に残る層６０４’の材料によって形成される。代替として、堆積した閉じ込め構造６０４が境界を画定することができ、閉じ込めウェルが堆積した閉じ込め構造６０４の境界内に形成されるように、閉じ込め構造のみを形成するように材料を能動的に堆積させることによって、閉じ込め構造６０４を形成することができる。

例示的実施形態では、図１０で図示されるように、各閉じ込めウェルは、間隙Ｓによって分離されるＷ１およびＷ２を含む、複数の活性サブピクセル領域を含むことができる。上記のように、寸法Ｗ１、Ｗ２、およびＣＷは、主に、ピクセルピッチに関係付けられる。そして、間隙Ｓの寸法は、製作技法および処理、ならびにレイアウトと関連付けられる制限に関係付けられ、１μｍ〜１０μｍよりさらに大きく及んでもよく、３μｍが例示的な最小寸法である。閉じ込めウェルの縁の内側の画定層の延在部と関連付けられる寸法ＳＢ１およびＳＢ２を、所望に応じて選択することができる。しかしながら、より大きい寸法が、利用可能な活性ピクセル電極領域の量を低減させることによってフィルファクターの低減に寄与する。したがって、概して、所望の機能を果たす最小寸法を選択することが望ましくあり得、所望の機能は、活性電極領域から縁の非一様性を除外することである。種々の例示的実施形態では、この寸法は、１μｍ〜２０μｍに及ぶことができ、例えば、２μｍ〜５μｍに及んでもよい。

図１１で図示されるように、次いで、インクジェット印刷を使用して、正孔伝導層６１０を閉じ込めウェル６２０内に堆積させることができる。例えば、インクジェットノズル６５０は、閉じ込めウェル６２０内で画定される標的領域内で正孔伝導材料の液滴（単数または複数）６５１を指向することができる。正孔伝導層６１０はさらに、２つの別個の層、例えば、正孔注入層および正孔輸送層を備えてもよく、これらの層は、本明細書で説明されるようなインクジェット方法によって、連続的に堆積され得る。加えて、インクジェット印刷を使用して、正孔伝導層６１０を覆って閉じ込めウェル６２０内に有機発光層６１２を堆積させることができる。インクジェットノズル６５０は、正孔伝導層６１０を覆う標的領域内で有機発光材料の液滴（単数または複数）６５１を指向することができる。当業者は、単一のノズルが図１１を参照して論議されているが、複数の閉じ込めウェル内に正孔伝導材料または有機発光材料を含む液滴を提供するように、複数のノズルを実装できることを理解するであろう。当業者に周知であるように、いくつかの実施形態では、有機発光材料の同一または異なる色を複数のインクジェットノズルヘッドから同時に堆積させることができる。加えて、当業者に公知である技術を使用して、標的基板表面上の液滴放出および配置を行うことができる。

例示的実施形態では、赤色、緑色、または青色層等の単一の有機発光層６１２を閉じ込めウェル６２０内に堆積させることができる。代替的な例示的実施形態では、一方が他方を覆って、複数の有機発光層を閉じ込めウェル６２０内に堆積させることができる。そのような配列は、例えば、一方の発光層が発光するように活性化されるときに、他方の発光層が発光しないか、または第１の有機発光層の発光に干渉しないように、発光層が異なる発光波長範囲を有するときに機能することができる。例えば、赤色有機発光層または緑色有機発光層を閉じ込めウェル６２０内に堆積させることができ、次いで、赤色または緑色有機発光層を覆って青色有機発光層を堆積させることができる。このようにして、閉じ込めウェルが、２つの異なる発光層を含むことができる一方で、１つだけの発光層が、閉じ込めウェル内で発光するように構成される。

層６１０および６１２は、上記で説明されているように、画定層６１４、表面構造６１６、付加的な画定層６１８、および電極６０６、６０８のトポグラフィに十分に適合するよう堆積され得、かつ上記で説明されたように実質的に一様な厚さを有することができる。

図３Ａ−１１を参照して上記で説明される種々の側面は、本開示による種々のピクセルおよびサブピクセルレイアウトに使用され得、図２は、１つの例示的かつ非限定的なそのようなレイアウトである。本開示によって想定される種々の付加的な例示的レイアウトが、図１２−１８で描写されている。種々の例示的なレイアウトは、本明細書で説明される例示的実施形態を実装する多くの方法があることを図示する。多くの場合、任意の特定のレイアウトの選択は、例えば、電気回路の基礎的レイアウト、所望のピクセル形状（図示した実施形態では長方形または六角形として描写されているが、山形、円、六角形、三角形、および同等物等の他の形状でもあり得る）、およびディスプレイの外観に関係付けられる要因（異なる構成について、およびテキスト、グラフィック、または動画等の異なる種類のディスプレイコンテンツについて観察され得る視覚アーチファクト等）等の種々の要因によって駆動される。当業者は、いくつかの他のレイアウトが本開示の範囲内に入り、修正を通じて、かつ本明細書で説明される原理に基づいて、それらを得ることができると理解するであろう。さらに、当業者は、簡単にするために、閉じ込めウェルを画定する閉じ込め構造のみが、図１２−１８の説明において以下で説明されるが、図３Ａ−１１を参照して上記で説明される、表面特徴、回路、ピクセル画定層、および他の層を含む特徴のうちのいずれかを本明細書のピクセルレイアウトのうちのいずれかと組み合わせて使用できることを理解するであろう。

図１２は、ＯＬＥＤディスプレイ７００のためのピクセルおよびサブピクセルレイアウトの例示的実施形態の部分平面図を描写し、以下で説明されているレイアウトのさらなる側面を伴って、図２のレイアウトに類似する。アレイ構成で複数の閉じ込めウェル７２０、７３０、７４０を画定するように、閉じ込め構造７０４、例えば、上記で議論されるようなバンク構造を基板上に提供することができる。各閉じ込めウェル７２０、７３０、７４０は、ＯＬＥＤ材料の実質的に連続的な層（影付きの領域によって示される）を含むことができ、それによって、有機層が、閉じ込めウェル７２０、７３０、７４０を通って、閉じ込めウェルを包囲する閉じ込め構造７０４まで延在し、例えば、各ウェル７２０、７３０、７４０の中のＯＬＥＤ材料の層の縁が、閉じ込め構造７０４に接触し得る。ＯＬＥＤ層は、例えば、正孔注入材料、正孔輸送材料、電子輸送材料、電子注入材料、正孔遮断材料、および異なる発光波長範囲の放射を提供する有機発光材料のうちの１つ以上を含むことができる。例えば、閉じ込めウェル７２０は、赤色波長範囲内の発光と関連付けられる有機発光層を含むことができ、Ｒによって示され、閉じ込めウェル７３０は、緑色波長範囲内の発光と関連付けられる有機発光層を含むことができ、Ｇによって示され、閉じ込めウェル７４０は、青色波長範囲内の発光と関連付けられる有機発光層を含むことができ、Ｂによって示される。ウェル７２０、７３０、７４０は、相互に対するものを含む、種々の配列および構成（例えば、レイアウト）を有することができる。例えば、図１２で図示されるように、それぞれ、赤色有機発光層Ｒを含む閉じ込めウェル７２０および緑色有機発光層Ｇを含む閉じ込めウェル７３０は、交互配列で行Ｒ_１、Ｒ_３の中に配列される。行Ｒ_１およびＲ_３と交互に、青色有機発光層Ｂを含む閉じ込めウェル７４０の行Ｒ_２、Ｒ_４がある。閉じ込めウェル７２０、７３０はまた、代替として、行Ｒ_１、Ｒ_３内に配置され得る。

複数の電極７０６、７０７、７０８、７０９；７３６、７３７、７３８、７３９；および７４２、７４４は、それぞれ、各閉じ込めウェル７２０、７３０、７４０の中に配置され得、各電極は、赤色、緑色、または青色発光等の特定の発光色と関連付けられるサブピクセルと関連付けられ得る。破線によって図１２で識別される、ピクセル７５０、７５１、７５２、７５３は、赤色発光を有する１つのサブピクセル、緑色発光を有する１つのサブピクセル、および青色発光を有する１つのサブピクセルを含むように画定され得る。例えば、各閉じ込めウェル７２０、７３０、７４０は、それぞれ、図１２に示される電極輪郭に対応する、それらの関連電極活性領域が、相互から離間されるように構成された複数の電極７０６、７０７、７０８、７０９；７３６、７３７、７３８、７３９；および７４２、７４４を含むことができる。閉じ込めウェル７２０、７３０、７４０は、閉じ込めウェル内に異なる数および／または配列の電極を有することができる。代替として、３つより多くのサブピクセル色を伴う色の組み合わせを含む、赤色、緑色、および青色以外の色のセットを伴う配列等の付加的な配列が可能である。単一の色の１つより多くのサブピクセルが、特定のピクセルと関連付けられる、例えば、各ピクセルが、それと関連付けられる１つの赤色、１つの緑色、および２つの青色サブピクセル、または特定の色のサブピクセルの数の他の組み合わせ、および色の他の組み合わせを有することができる、他の配列も可能である。また、異なる発光材料の複数の層が相互を覆って位置付けられる場合、異なる色のサブピクセルが相互に重複し得ることが想定される。図１２で図示されるように、サブピクセル電極は、閉じ込めウェルを画定する構造から離間され得る。代替実施形態では、電極と閉じ込め構造との間に間隙が生じないように、サブピクセル電極は、閉じ込めウェル構造に直接隣接するように堆積され得る。加えて、閉じ込めウェル構造は、サブピクセル電極の一部分を覆って配置され得る。

加えて、隣接する閉じ込めウェルは、異なるサブピクセル配列を有することができる。例えば、図１２で図示されるように、閉じ込めウェル７２０および７３０は、２×２活性電極領域配列を含み、閉じ込めウェル７４０は、１×２活性電極領域配列を含み、２×２配列内の活性電極領域は、同一のサイズの正方形であり、１×２配列内の活性電極領域は、同一のサイズの長方形である。上記のように、異なる閉じ込めウェル内の電極は、活性領域の異なる表面積を有することができる。

１つの例示的な配列では、青色波長範囲Ｂ内の発光のサブピクセルを扱うために使用される電極と関連付けられる活性領域は、赤色および／または緑色波長範囲Ｒ、Ｇ内の発光を扱うために使用される電極と関連付けられる活性領域より大きい表面積を有することができる。同一の面積輝度レベルで動作するときに、青色発光と関連付けられるサブピクセルが、多くの場合、赤色または緑色発光を有することと関連付けられるサブピクセルより実質的に短い寿命を有するため、青色波長範囲Ｂ内の発光を有するサブピクセルと関連付けられる電極の活性領域は、赤色または緑色発光と関連付けられるサブピクセル電極と関連付けられる活性領域より大きい表面積を有することが望ましくあり得る。青色発光と関連付けられるサブピクセルの相対活性領域を増加させることは、同一の全体的ディスプレイ輝度を依然として維持しながら、比較的低い面積輝度レベルでの動作を可能にし、それによって、青色発光と関連付けられるサブピクセルの寿命およびディスプレイの全体的寿命を増加させる。赤色および緑色発光と関連付けられるサブピクセルは、青色発光と関連付けられるサブピクセルとの関係で、対応して縮小され得ることに留意されたい。これは、青色発光と関連付けられるサブピクセルとの関係で、より高い輝度レベルで駆動させられる赤色および緑色発光と関連付けられるサブピクセルにつながり、これは、赤色および緑色ＯＬＥＤデバイス寿命を短縮し得る。しかしながら、赤色および緑色発光と関連付けられるサブピクセルの寿命は、青色サブピクセルと関連付けられるサブピクセルと関連付けられる寿命より十分長くあり得るため、青色発光と関連付けられるサブピクセルは、全体的ディスプレイ寿命に関して限定的なサブピクセルのままである。閉じ込めウェル７４０内の電極の活性領域は、図１２で水平方向に延在するそれらの伸長方向で配列されるものとして図示されているが、電極は、代替として、それらの伸長方向が図１２で垂直方向に延在するように配列され得る。

隣接する閉じ込めウェルの間の間隔は、ピクセルレイアウトの全体を通して等しくあり得るか、または変動し得る。例えば、図１２を参照すると、閉じ込めウェル７２０、７３０の間の間隔ｂ’は、閉じ込めウェル７２０または７３０と７４０との間の間隔ｆ’より大きいかまたは等しくあり得る。換言すると、行の中の隣接する閉じ込めウェルの間の水平方向間隔は、図１２の向きで、隣接する行の中の隣接する閉じ込めウェルの間の垂直方向間隔とは異なり得る。また、行Ｒ_１、Ｒ_３の中の水平間隔ｂ’は、Ｒ_２、Ｒ_４の中の水平間隔ａ’と等しくあり得るか、またはそれとは異なり得る。

異なる閉じ込めウェル７２０、７３０、７４０のそれぞれの内側の電極の活性領域の間の間隔（間隙）はまた、同一であり得るか、または異なり得、かつ間隔の方向（例えば、水平方向または垂直方向）に応じて変動し得る。１つの例示的実施形態では、閉じ込めウェル７２０、７３０内の電極の活性領域の間の間隙ｄおよびｅは、同一であり得、かつ閉じ込めウェル７４０内の電極の活性領域の間の間隙とは異なり得る。さらに、種々の例示的実施形態では、閉じ込めウェル内の隣接活性電極領域の間の間隙は、同一の行または異なる行のいずれか一方の中で、隣接する閉じ込めウェルの中の隣接活性電極領域の間の間隙より小さい。例えば、ｃ、ｄ、およびｅは、図１２のａ、ｂ、またはｆのいずれかより小さくあり得る。

図１２では、各閉じ込めウェル、例えば、７２０の内縁と、その閉じ込めウェル内で関連付けられる活性電極領域、例えば、７０６、７０７、７０８、７０９のそれぞれの外縁との間の間隙が示されている。しかしながら、図２で図示されるように、種々の例示的実施形態によると、そのような間隙は、存在しなくてもよく、活性電極領域のそれぞれの外縁は、閉じ込めウェルの内縁と同一であり得る。この構成は、例えば、図３Ａで図示されるもののような構造を使用して達成され得、そのような間隙が存在する、図１２に示される構成は、例えば、図５Ａで図示されるもののような構造を使用して達成され得る。しかしながら、他の構造もまた、図２および図１２で図示される同一の構成を達成することが可能であり得る。

ピクセル７５０、７５１、７５２、７５３は、閉じ込めウェル配列および対応するサブピクセルレイアウトに基づいて画定され得る。ピクセル７５０、７５１、７５２、７５３の全体的間隔またはピッチは、ディスプレイの解像度に基づくことができる。例えば、ディスプレイ解像度が高いほど、ピッチが小さい。加えて、隣接ピクセルは、異なるサブピクセル配列を有することができる。例えば、図１２で図示されるように、ピクセル７５０は、左上部分に赤色サブピクセルＲ、右上部分に緑色サブピクセルＧ、およびピクセルの底部分の大部分に及ぶ青色サブピクセルＢを含む。ピクセル７５１のサブピクセルレイアウトは、緑色サブピクセルＧおよび赤色サブピクセルＲの相対位置が交換され、左上部分に緑色サブピクセルＧがあり、右上部分に赤色サブピクセルＲがあることを除いて、ピクセル７５０のレイアウトに類似する。ピクセル７５２および７５３は、それぞれ、それらの下にあるピクセル７５１、７５０に隣接し、それぞれ、ピクセル７５１、７５０の鏡像である。したがって、ピクセル７５２は、上部分に青色サブピクセルＢ、左下部分に緑色サブピクセルＧ、および右下部分に赤色サブピクセルＲを含む。そして、ピクセル７５３は、上部分に青色サブピクセル、左下部分に緑色サブピクセル、および右下部分に赤色サブピクセルを含む。

図１２による、３２６ピクセルパーインチ（ｐｐｉ）を有する、高解像度ディスプレイの例示的実施形態では、赤色サブピクセル、緑色サブピクセル、および青色サブピクセルを含むピクセルは、３２６ｐｐｉを達成するために必要とされるディスプレイの全体的ピッチに対応する、約７８μｍ×７８μｍの全体的寸法を有することができる。本実施形態については、以前に議論されたように、閉じ込め領域の間の技術現状最小間隔を反映する、ａ’＝ｂ’＝ｆ＝１２μｍを仮定し、さらに、閉じ込めウェル縁の内側で３μｍ延在する画定層が利用される場合を反映する、ａ＝ｂ＝ｆ＝１２μｍ＋６μｍ＝１８μｍを仮定し、最終的に、閉じ込めウェル内の電極活性領域の間の典型的な間隙としてｃ＝ｄ＝ｅ＝３μｍを仮定すると、赤色および緑色サブピクセルのそれぞれと関連付けられる面積は、２８．５μｍ×２８．５μｍであり得、青色サブピクセルと関連付けられる面積は、６０μｍ×２７μｍであり得る。青色サブピクセルの表面積は、上記で説明されるように全体的ディスプレイ寿命を増加させるように、赤色および緑色サブピクセルのそれぞれより大きくあり得る。そのようなレイアウトは、６６μｍ×６６μｍの寸法を有する、２×２赤色および緑色サブピクセルのグループ化と関連付けられる閉じ込めウェルと、６６μｍ×６６μｍの寸法を有する、１×２青色サブピクセルのグループ化と関連付けられる閉じ込めウェルとを有することができる。そのような寸法は、５３％等の５０％より大きい、高いフィルファクターを伴う高解像度ディスプレイも提供しながら、従来のインクジェットプリントヘッドおよび印刷システムを用いて、活性ＯＬＥＤ材料の簡単な装填を提供する。そのような寸法はまた、閉じ込めウェル壁に直接隣接する薄膜領域を通る電流を遮断することによって、活性電極領域内で増進した薄膜の一様性を提供することができるような特徴を、画定層を有する構造に提供することができる。

４４０ピクセルパーインチ（ｐｐｉ）を有する高解像度ディスプレイの対応する例示的実施形態では、赤色サブピクセル、緑色サブピクセル、および青色サブピクセルを含むピクセルは、約５８μｍ×５８μｍの全体的寸法を有することができ、直前の例のように、寸法ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ａ’、ｂ’、およびｆ’について同一の値を仮定すると、赤色および緑色サブピクセルのそれぞれと関連付けられる面積は、１８．５μｍ×１８．５μｍであり得、青色サブピクセルと関連付けられる面積は、４０μｍ×１７μｍであり得る。青色サブピクセルの表面積は、上記で説明されるように、全体的ディスプレイ寿命を増加させるように、赤色および緑色サブピクセルのそれぞれより大きくあり得る。そのようなレイアウトは、４６μｍ×４６μｍの寸法を有する、２×２赤色および緑色サブピクセルのグループ化と関連付けられる閉じ込めウェルと、４６μｍ×４６μｍの寸法を有する、１×２青色サブピクセルのグループ化と関連付けられる閉じ込めウェルとを有することができる。そのような寸法は、４０％の高いフィルファクターを伴う高解像度ディスプレイも提供しながら、従来のインクジェットプリントヘッドおよび印刷システムを用いて、活性ＯＬＥＤ材料の比較的簡単な装填を提供する。

上記の例示的実施形態のそれぞれでは、寸法ａ、ｂ、ｃ、ｄ、ｅ、ｆ、ａ’、ｂ’、ｆ’の種々の値を実装することができる。しかしながら、当業者は、これらの寸法が変動することを認識するであろう。例えば、以前に議論されたように、大きいｐｐｉについて、１μｍほどの小ささから数百ミクロンほどの大きさまで、閉じ込め壁の間の間隔（ａ’、ｂ’、ｆ’）を変動させることができる。閉じ込めウェル内の活性電極領域の間の間隙（ｃ、ｄ、ｅ）は、上記で議論されるように、１μｍほどの小ささから数十ミクロンほどの大きさまで変動し得る。活性電極領域と閉じ込め壁の縁との間の間隙（それぞれ、効果的に、ａ’とａとの間、ｂ’とｂ’との間、およびｆ’とｆとの間の差異の半分）もまた、上記で議論されるように、１μｍほどの小ささから１０μｍほどの大きさまで変動し得る。さらに、これらの寸法が変動させられると、それらは、閉じ込めウェル寸法およびその中に含まれる活性電極領域に許容される値の範囲を限定する、（ディスプレイの全体的ピッチを決定する）ｐｐｉとともに、制約を適用する。上記の例示的実施形態では、簡単にするために、同一の寸法の正方形の閉じ込めウェルが、３つ全ての色に使用される。しかしながら、閉じ込めウェルは、正方形である必要はなく、かつ全て同一のサイズである必要はない。加えて、図１２で提供される寸法は、種々の共通寸法、例えば、赤色閉じ込めウェルおよび緑色閉じ込めウェル内の活性電極領域の間の間隙を示すが、いくつかの例示的実施形態では、これらの間隙は、共通寸法ではないが、相互とは異なる。

図１３は、ＯＬＥＤディスプレイ８００の別の例示的なピクセル／サブピクセルレイアウトの部分平面図を描写する。以前に議論された例示的実施形態に共通する特徴は説明されない。簡単にするために、差異について議論する。

ディスプレイ８００は、例えば、図１２で図示されるようなディスプレイ７００のサブピクセル電極より、閉じ込めウェル内のサブピクセル電極と関連付けられる活性領域の間で大きい隔たりを有することができる。それぞれの閉じ込めウェル８２０、８３０、８４０内の電極８０６、８０７、８０８、８０９；８３６、８３７、８３８、８３９；および８４２、８４４と関連付けられる隣接活性領域の間の間隔は、隣接する閉じ込めウェルの中の隣接活性電極領域の間の間隙より大きくあり得る。例えば、電極８３６と関連付けられる活性領域は、所定の距離ｇで相互から離間され得、電極８３８と関連付けられる活性領域も同様である。隣接する閉じ込めウェル８２０、８３０の中の隣接活性電極領域の間の間隔ｋは、電極８３６、８３８と関連付けられる活性領域の間の間隔ｇより小さくあり得、電極８４２（および同様に電極８４４）と関連付けられる活性領域の間の間隔ｍは、隣接する閉じ込めウェル８４０および閉じ込めウェル８２０、８３０の中の隣接活性電極領域の間の間隔ｎより大きくあり得る。そのような間隔は、単一の画定されたピクセルと関連付けられるサブピクセル電極のより密接な配列を提供しながら、閉じ込めウェル内に配置され、かつ同一の発光色と関連付けられるサブピクセル電極の間により大きい間隔を提供することができる。この間隔は、ディスプレイが、密接して配列されたＲＧＢ三つ組のアレイであると考えられ、密接して配列されたＲＲＲＲ四つ組、ＧＧＧＧ四つ組、およびＢＢペアのアレイであると考えられないように、望ましくない視覚アーチファクトを低減させることができる。

本開示によるディスプレイのための別の例示的なピクセル／サブピクセルレイアウトが、図１４で描写されている。閉じ込め構造９０４は、アレイ構成で複数の閉じ込めウェル９２０、９３０、９４０を画定するように基板上に提供され得る。各閉じ込めウェル９２０、９３０、９４０は、有機層の縁が、閉じ込めウェル９２０、９３０、９４０の全体を通して、閉じ込めウェルを包囲する閉じ込め構造９０４まで延在する、例えば、各ウェル９２０、９３０、９４０の中のＯＬＥＤ材料の層の縁が閉じ込め構造９０４に接触し得るように、（影付き領域によって示される）ＯＬＥＤ材料の実質的に連続的な層を含むことができる。活性ＯＬＥＤ層は、例えば、限定ではないが、正孔注入材料、正孔輸送材料、電子輸送材料、電子注入材料、正孔遮断材料、および異なる発光波長範囲の発光を提供する有機発光材料のうちの１つ以上を含むことができる。例えば、閉じ込めウェル９２０は、赤色波長範囲Ｒ内の発光と関連付けられる有機発光層を含むことができ、閉じ込めウェル９３０は、緑色波長範囲Ｇ内の発光と関連付けられる有機発光層を含むことができ、閉じ込めウェル９４０は、青色波長範囲Ｂ内の発光と関連付けられる有機発光層を含むことができる。有機発光層は、任意の配列および／または構成でウェル内に配置され得る。例えば、閉じ込めウェル９２０、９３０、９４０の中に配置される有機発光層は、各行内に交互配列を有して配列される。隣接する行は、同一の配列、または異なる配列を有することができる。加えて、閉じ込めウェル９２０、９３０、９４０の隣接する行が、一様なアラインメントを有するものとして図示される一方で、閉じ込めウェル９２０、９３０、９４０の隣接する行は、代替として、オフセット配列等の非一様なアラインメントを有することができる。また、閉じ込めウェル９２０および９３０を代替的なパターンで逆転され得る。

各ウェル９２０、９３０、９４０の構成は、各ウェルが垂直方向に細長いような長方形形状を有することができる。ウェル９２０、９３０、９４０は、伸長垂直方向に略同一の寸法を有することができる。加えて、ウェル９２０、９３０、９４０は、略同一の幅を有することができる。しかしながら、青色有機発光層と関連付けられるウェル９４０全体は、単一のサブピクセル、したがって、ピクセルに相関することができる一方で、赤色および緑色有機発光層と関連付けられるウェル９２０、９３０は、複数のサブピクセル、したがって、複数のピクセルに相関することができる。例えば、閉じ込めウェル９２０、９３０は、各電極が異なるピクセルの異なるサブピクセルと関連付けられるように、複数の電極を含むことができる。図１４で図示されるように、ウェル９２０は、２つの電極９２６、９２８を含み、２つの異なるピクセル９５０、９５１と関連付けられる。

異なる数の電極９２６、９２８、９３６、９３８、９４６を異なる閉じ込めウェル内に配置することができる。例えば、いくつかの閉じ込めウェル９２０、９３０が、同一の閉じ込めウェルの中に配置される電極を選択的に扱うよう、複数の電極９２６、９２８、および９３６、９３８を含むが、異なるピクセルの中の異なるサブピクセルのための発光を生成することができる一方で、他の閉じ込めウェル９４０は、１つのピクセルと関連付けられる１つの閉じ込めウェルの中に配置される電極を扱うように、１つだけの電極９４６を含む。代替として、閉じ込めウェル９４０の中に配置される電極の数は、他の閉じ込めウェル９２０、９３０の中に配置される電極の数の半分であり得る。加えて、異なる閉じ込めウェル内の電極は、異なる表面積を有することができる。例えば、青色波長範囲内の発光と関連付けられる電極は、ディスプレイ９００の寿命を向上させて電力消費を低減させるように、赤色および／または緑色波長範囲内の発光と関連付けられる電極より大きい表面積を有することができる。

ピクセル９５０、９５１は、閉じ込めウェル配列および対応するサブピクセルレイアウトに基づいて画定され得る。ピクセル９５０、９５１の全体的な間隔またはピッチは、ディスプレイの解像度に基づくことができる。例えば、ディスプレイ解像度が高いほど、ピッチが小さい。加えて、隣接ピクセルは、異なるピクセル配列を有することができる。例えば、図１４で図示されるように、ピクセル９５０は、左側に緑色サブピクセルＧ、中央に青色サブピクセルＢ、および右側に赤色サブピクセルＲを含むことができる。ピクセル９５１は、左側に赤色サブピクセルＲ、中央に青色サブピクセルＢ、および右側に緑色サブピクセルＧを含むことができる。

図１５は、ＯＬＥＤディスプレイ１０００のためのピクセルおよびサブピクセルレイアウトの例示的実施形態の部分平面図を描写する。上記で議論される実施形態に共通する特徴は説明されない（但し、図１５で１０００の系列を用いて類似標識を見出すことができる）。簡単にするために、差異について議論する。閉じ込め構造１００４は、複数のウェル１０２０、１０３０、１０４０を画定するように構成され得る。一様な行の中でウェル１０２０、１０３０、１０４０が整列されるように、ウェル１０２０、１０３０、１０４０を配列することができ、赤色発光および緑色発光と関連付けられるウェル（例えば、１０２０、１０３０）が、単一の行内で交互になり、青色発光と関連付けられるウェル（例えば、１０４０）が、単一の行内にある。加えて、ウェル１０２０、１０４０の列がウェル１０３０、１０４０の行と交互になるように、ウェル１０２０、１０３０、１０４０が一様な列内で整列されるように、ウェル１０２０、１０３０、１０４０を構成することができる。閉じ込めウェル１０２０および１０３０は、代替として、閉じ込めウェル１０３０が交互パターンを開始するように配列され得る。

各閉じ込めウェル１０２０、１０３０、１０４０は、略同一のサイズであり得る。しかしながら、各ウェル１０２０、１０３０、１０４０と関連付けられる電極の数は、異なり得る。例えば、図１５で図示されるように、赤色発光と関連付けられるウェル１０２０は、電極１０２６、１０２７、１０２８、１０２９を含むことができ、緑色発光と関連付けられるウェル１０３０は、電極１０３６、１０３７、１０３８、１０３９を含むことができ、青色発光と関連付けられるウェル１０４０は、電極１０４６、１０４８を含むことができる。閉じ込めウェル１０４０内の電極は、水平方向に離間して配列されるものとして図示されているが、電極は、代替として、垂直方向に離間されるよう配列され得る。

電極１０２６、１０２７、１０２８、１０２９、１０３６、１０３７、１０３８、１０３９は、正方形形状を有するものとして図１５で図示され、電極１０４６、１０４８は、長方形形状を有するものとして図示されるが、例えば、円形、山形、六角形、非対称、不規則な曲率等の任意の形状を有する電極が、本開示の範囲内として想定される。電極の複数の異なる形状を単一の閉じ込めウェル内で実装することができる。加えて、異なる閉じ込めウェルが、異なる形状の電極を有することができる。電極のサイズおよび形状は、電極間の距離、したがって、ディスプレイの全体的なレイアウトに影響を及ぼし得る。例えば、形状が相補的であるとき、隣接電極間の電気的隔離を依然として維持しながら、電極をともにより近く離間させることができる。加えて、電極の形状および間隔は、生成される視覚アーチファクトの程度に影響を及ぼし得る。望ましくない視覚アーチファクトを低減させ、画像混合を増進して連続画像を生成するように、電極形状を選択することができる。

破線に示されるピクセル１０５０、１０５１は、閉じ込めウェル配列および対応するサブピクセルレイアウトに基づいて画定され得る。ピクセル１０５０、１０５１の全体的な間隔またはピッチは、ディスプレイの解像度に基づくことができる。例えば、ディスプレイ解像が高いほど、ピッチが小さい。加えて、ピクセルは、非対称形状を有するものとして画定され得る。例えば、図１５で図示されるように、ピクセル１０５０、１０５１は、「Ｌ」字形を有することができる。

図１６は、ＯＬＥＤディスプレイ１１００のためのピクセルおよびサブピクセルレイアウトの例示的実施形態の部分平面図を描写する。上記で議論される例示的実施形態に共通する特徴は説明しない（但し、図１６で１１００の系列を用いて類似標識を見出すことができる）。閉じ込め構造１１０４は、複数の列Ｃ_１、Ｃ_２、Ｃ_３、Ｃ_４の中の複数の閉じ込めウェル１１２０、１１３０、１１４０を画定するように構成され得る。列Ｃ_１、Ｃ_２、Ｃ_３、Ｃ_４は、千鳥状配列を生成するように配列され得る。例えば、列Ｃ_１およびＣ_３の中の閉じ込めウェルは、列Ｃ_２およびＣ_４からオフセットされ、一様な列配列を維持しながら、千鳥状の行配列を生成することができる。ピクセル１１５０、１１５１は、閉じ込めウェル配列のピッチに基づいて画定され得る。閉じ込めウェル配列のピッチは、ディスプレイの解像度に基づくことができる。例えば、ピッチが小さいほど、ディスプレイ解像度が高い。加えて、ピクセルは、非対称形状を有するものとして画定され得る。例えば、破線によって図１６で図示されるように、ピクセル１１５０、１１５１は、非一様な形状を有することができる。

図１７は、ＯＬＥＤディスプレイ１２００のためのピクセルおよびサブピクセルレイアウトの例示的実施形態の部分平面図を描写する。上記で議論される例示的実施形態に共通する特徴は説明されない（但し、図１７で１２００の系列を用いて類似標識を見出すことができる）。図１７で図示されるように、閉じ込め構造１２０４は、複数の閉じ込めウェル１２２０、１２３０、１２４０を画定するように構成され得る。各閉じ込めウェル１２２０、１２３０、１２４０は、異なる面積を有することができる。例えば、赤色発光Ｒと関連付けられるウェル１２２０は、緑色発光Ｇと関連付けられるウェル１２３０より大きい面積を有することができる。加えて、閉じ込めウェル１２２０、１２３０、１２４０は、異なる数のピクセルと関連付けられ得る。例えば、閉じ込めウェル１２２０は、ピクセル１２５１、１２５２、１２５４、１２５６と関連付けられ得、閉じ込めウェル１２３０、１２４０は、ピクセル１２５１、１２５２と関連付けられ得る。ウェル１２２０、１２３０、１２４０は、一様な行Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５の中で構成され得る。行Ｒ_２、Ｒ_３、およびＲ_５は、青色発光ウェル１２４０と関連付けられ得、行Ｒ_１およびＲ_４は、交互の赤色発光ウェル１２２０および緑色発光ウェル１２３０と関連付けられ得る。閉じ込め構造１２０４は、種々の寸法Ｄ_１、Ｄ_２、Ｄ_３、Ｄ_４を有することができる。例えば、Ｄ_１は、Ｄ_２、Ｄ_３、またはＤ_４より大きくあり得、Ｄ_２は、Ｄ_１、Ｄ_３、またはＤ_４より小さくあり得、Ｄ_３は、Ｄ_４に略等しくあり得る。

図１８は、ＯＬＥＤディスプレイ１３００のためのピクセルおよびサブピクセルレイアウトの例示的実施形態の部分平面図を描写する。上記、例えば図１７で議論される例示的実施形態に共通する特徴は説明されない（但し、図１８で１３００の系列を用いて類似標識を見出すことができる）。閉じ込め構造１３０４は、複数の閉じ込めウェル１３２０、１３３０、１３４０を画定するように構成され得る。ウェル１３２０、１３３０、３４０は、赤色発光と関連付けられるウェル１３２０および緑色発光と関連付けられるウェル１３３０を、青色発光と関連付けられるウェル１３４０と行内で交互にすることができるように、配列され得る。

種々のピクセルおよびサブピクセルレイアウトが上記で説明されているが、例示的実施形態は、説明されるような複数のピクセルに及ぶ閉じ込めウェルの形状、配列、および／または構成をいかようにも限定しない。代わりに、インクジェット印刷製造方法と組み合わせて本開示と関連付けられる閉じ込めウェルは、適応性のあるピクセルレイアウト配列が選択されることを可能にする。

インクジェット印刷を使用して高解像度ＯＬＥＤディスプレイを可能にすることができる、種々のピクセルレイアウトが想定される。例えば、図１９で図示されるように、閉じ込め構造１４０４は、ピクセル１４５０が、赤色発光Ｒと関連付けられる閉じ込めウェル１４２０、緑色発光Ｇと関連付けられる閉じ込めウェル１４３０、および青色発光Ｂと関連付けられる閉じ込めウェル１４４０を備えることができるように、六角形パターンを作成することができる。ピッチ、閉じ込めウェルの形状、および閉じ込めウェルをともに詰め込む能力により、インクジェット印刷を使用して、高解像度を有するＯＬＥＤディスプレイを作成することができる。

任意のＯＬＥＤディスプレイにおいて高解像度を達成するために、本明細書で開示される実施形態を使用することができる。したがって、それは、種々の電子ディスプレイ装置に適用され得る。そのような電子ディスプレイ装置のいくつかの非限定的例は、テレビのディスプレイ、ビデオカメラ、デジタルカメラ、ヘッドマウントディスプレイ、カーナビゲーションシステム、ディスプレイを含むオーディオシステム、ラップトップパーソナルコンピュータ、デジタルゲーム機器、携帯用情報端末（タブレット、モバイルコンピュータ、モバイルフォン、モバイルゲーム機器、または電子書籍等）、記録媒体を提供された画像再生デバイスを含む。２種類の電子ディスプレイ装置の例示的実施形態が、図２０および図２１で図示されている。

図２０は、本開示によるＯＬＥＤディスプレイのうちのいずれかを組み込む、テレビのモニタおよび／またはデスクトップパーソナルコンピュータのモニタを図示する。モニタ１５００は、フレーム１５０２、支持体１５０４、およびディスプレイ部分１５０６を含むことができる。本明細書で開示されるＯＬＥＤディスプレイの実施形態は、ディスプレイ部分１５０６として使用され得る。モニタ１５００は、任意のサイズのディスプレイ、例えば、最大５５’’以上であり得る。

図２１は、本開示によるＯＬＥＤディスプレイのうちのいずれかを組み込む、モバイルデバイス１６００（携帯電話、タブレット、携帯情報端末等）の例示的実施形態を図示する。モバイルデバイス１６００は、本体１０６２と、ディスプレイ部分１６０４と、動作スイッチ１６０６とを含むことができる。本明細書で開示されるＯＬＥＤディスプレイの実施形態は、ディスプレイ部分１６０４として使用され得る。

本開示の例示的実施形態による種々の側面を使用して、いくつかの例示的な寸法およびパラメータは、フィルファクターの増加とともに高解像度ＯＬＥＤディスプレイを獲得することにおいて有用であり得る。表１〜３は、従来の寸法およびパラメータ、ならびに３２６ｐｐｉの解像度を有するＯＬＥＤディスプレイと関連付けられる本開示の例示的実施形態による、先見的な非限定的例を含み、表１は、赤色発光と関連付けられるサブピクセルを説明し、表２は、緑色発光と関連付けられるサブピクセルを説明し、表３は、青色発光と関連付けられるサブピクセルを説明する。表４〜６は、従来の寸法およびパラメータ、ならびに４４０ｐｐｉの解像度を有するディスプレイと関連付けられる本開示の例示的実施形態による、先見的な非限定的例を含み、表４は、赤色発光と関連付けられるサブピクセルを説明し、表５は、緑色発光と関連付けられるサブピクセルを説明し、表６は、青色発光と関連付けられるサブピクセルを説明する。

表７は、従来の寸法およびパラメータ、ならびに３２６ｐｐｉの解像度を有するディスプレイ内のピクセルと関連付けられる本開示の例示的実施形態による、先見的な非限定的例を含み、ピクセルは、赤色サブピクセル、緑色サブピクセル、および緑色サブピクセルを含む。

上記の表７で図示されるように、本開示による種々の例示的実施形態は、従来の閉じ込め構造と比べてフィルファクターの向上を達成することができることが想定される。例えば、図３Ａおよび図３Ｂで図示される閉じ込め構造を想定するディスプレイのフィルファクターは、従来の構造と比べてフィルファクターを約４３％増加させ、それによって、６５％の合計フィルファクターを達成することができる。別の実施形態では、図５Ａおよび図５Ｂで図示されるような閉じ込め構造を想定するディスプレイのフィルファクターは、従来の構造と比べてフィルファクターを約５１％増加させ、それによって、５３％の合計フィルファクターを達成することができる。

表８は、従来の寸法およびパラメータ、ならびに４４０ｐｐｉの解像度を有するディスプレイ内のピクセルと関連付けられる本開示の例示的実施形態による、先見的な非限定的例を含み、ピクセルは、赤色サブピクセル、緑色サブピクセル、および緑色サブピクセルを含む。

上記の表８で図示されるように、本開示による種々の例示的実施形態は、従来の閉じ込め構造と比べてフィルファクターの向上を達成することができることが想定される。例えば、図３Ａおよび図３Ｂで図示される閉じ込め構造を想定するディスプレイのフィルファクターは、従来の構造と比べてフィルファクターを約８４％増加させ、それによって、５５％の合計フィルファクターを達成することができる。別の実施形態では、図５Ａおよび図５Ｂで図示されるような閉じ込め構造を想定するディスプレイのフィルファクターは、従来の構造と比べてフィルファクターを約１１６％増加させ、それによって、４０％の合計フィルファクターを達成することができる。

上記で説明され、本開示に関連する種々の例示的実施形態は、ＯＬＥＤ材料液滴が装填される閉じ込めウェルのサイズを増大させることによって、比較的高いピクセル密度および増加したフィルファクターを有するＯＬＥＤディスプレイのインクジェット印刷を可能にし、それによって、本開示による、達成可能な液滴径および達成可能なインクジェットシステム液滴配置精度の使用を可能にすることができる。より大きい閉じ込めウェル面積により、インクジェット機器設計および印刷技法において極めて困難な課題を提起し得る、過度に小さい液滴体積または過剰に高い液滴配置精度を利用する必要なく、十分に大きいインクジェット液滴体積および達成可能な液滴配置精度を使用して、高解像度ＯＬＥＤディスプレイを製造することができる。本開示による複数のサブピクセルに及ぶ閉じ込めウェルを実装しないと、液滴が過度に大きい体積を有し、各サブピクセルウェルを過充填し、従来の液滴配置精度が、標的閉じ込めウェルの完全に外側または部分的に外側のいずれか一方の液滴の誤配置につながり、その両方が、薄膜堆積の望ましくない誤差、および最終ディスプレイ外観において対応する視覚欠陥につながるため、液滴径およびシステム液滴配置誤差が、既存のインクジェットヘッドを使用して製造される任意の高解像度ディスプレイにおいて問題を有意に増加させ得る。既存の液滴体積および液滴配置精度を用いて高いピクセル密度を達成する能力は、本明細書で説明される技法が、例えば、スマートフォンおよび／またはタブレットで見出されるような小型サイズディスプレイから、例えば、超高解像度テレビ等の大型サイズディスプレイまで、多くの用途のための比較的高い解像度のディスプレイの製造で利用されることを可能にする。また、例示的実施形態による、基礎的トポグラフィに十分に適合する実質的に一様な厚さのＯＬＥＤ材料層（単数または複数）を達成することにより、全体的なＯＬＥＤディスプレイの性能および品質を助長することができ、具体的には、望ましい性能および品質が高解像度ＯＬＥＤディスプレイにおいて達成されることを可能にすることができる。上記の実施形態のうちの１つ以上は、低減したフィルファクターを達成することができる。従来のピクセル配列では、３００ｐｐｉ〜４４０ｐｐｉの範囲内の解像度を有するディスプレイのフィルファクターは、４０％未満、しばしば３０％未満のフィルファクターを有する。対照的に、本開示の例示的実施形態は、３００ｐｐｉ〜４４０ｐｐｉの範囲内の解像度を有するディスプレイについて、４０％より大きい、場合によっては、６０％ほども高いフィルファクターを達成してもよい。例示的実施形態は、高解像度ディスプレイ内のピクセル配列を含む、任意のピクセルサイズおよび配列に使用することができる。

例示的実施形態は、任意のサイズのディスプレイとともに、より具体的には、高解像度を有する小型ディスプレイとともに使用され得る。例えば、本開示の例示的実施形態は、３インチ〜７０インチの範囲内の対角サイズを有し、かつ１００ｐｐｉより大きい、例えば、３００ｐｐｉより大きい解像度を有する、ディスプレイとともに使用され得る。

説明される種々の例示的実施形態は、インクジェット印刷技法を利用することを想定するが、本明細書で説明される種々のピクセルおよびサブピクセルレイアウト、ならびにＯＬＥＤディスプレイのためのこれらのレイアウトを生成する方法はまた、熱蒸発、有機気相堆積、有機蒸気ジェット印刷等の他の製造技法を使用して、製造することもできる。例示的実施形態では、代替的な有機層パターン形成も行うことができる。例えば、パターン形成方法は、（熱蒸発と併せた）シャドウマスキングおよび有機蒸気ジェット印刷を含むことができる。具体的には、同一の色の複数のサブピクセルがともにグループ化され、堆積したＯＬＥＤ薄膜層がグループ化サブピクセル領域内の実質的なトポグラフィに及ぶ、本明細書で説明されるピクセルレイアウトが、インクジェット印刷用途のために着想されているが、そのようなレイアウトはまた、パターン形成ステップがシャドウマスキングを使用して達成される、ＯＬＥＤ薄膜層堆積のための真空熱蒸発技法への有益な代替的適用を有することもできる。本明細書で説明されるようなレイアウトは、より大きいシャドウマスク穴、およびそのような穴の間の増大した距離を提供し、それによって、そのようなシャドウマスクの全体的な機械的安定性および一般実用性を潜在的に向上させる。シャドウマスクを用いた真空熱蒸発技法は、インクジェット技法ほど低費用ではない場合があるが、本開示によるピクセルレイアウトの使用、および同一の色と関連付けられるグループ化サブピクセル内の実質的なトポグラフィに及ぶＯＬＥＤ薄膜層コーティングの使用もまた、本明細書で説明される本開示の潜在的に重要な用途を表す。

いくつかの例示的実施形態のみが上記で詳細に説明されているが、当業者は、本開示から大幅に逸脱することなく、多くの修正が例示的実施形態で可能であることを理解するであろう。したがって、全てのそのような修正は、以下の特許請求の範囲で定義されるような本開示の範囲内に含まれることを目的としている。

さらなる側面が、以下の節で開示される。

第１の側面は、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプレイに関する。第１の側面は、基板上に配置される第１の電極を含むことができる。第１の電極は、第１のサブピクセルと関連付けられ得る。第１の側面はさらに、第２の電極を含むことができ、第２の電極は、基板上に配置され、第１および第２の電極の間に間隙を提供するように第１の電極から離間される。第２の電極は、第２のサブピクセルと関連付けられ得る。第１の電極および第２の電極を含むウェルの境界を画定するように、閉じ込め構造を基板上に位置付けることができる。ＯＬＥＤディスプレイはまた、ウェルの境界に及びかつ第１の電極および第２の電極を覆って配置される実質的に連続的な活性ＯＬＥＤ材料層を含むこともできる。基板から外方を向く活性ＯＬＥＤ材料層の表面は、非平面的なトポグラフィを有することができる。

第１の側面に従った第２の側面では、ＯＬＥＤディスプレイはさらに、実質的に一様な厚さを有する活性ＯＬＥＤ材料の層を含むことができる。

先行側面のうちのいずれか１つに従った第３の側面では、ＯＬＥＤディスプレイはさらに、厚さの局所的な非一様性を含む活性ＯＬＥＤ材料の層を含むことができる。

先行側面のうちのいずれか１つに従った第４の側面では、ＯＬＥＤディスプレイはさらに、ウェルの表面特徴の縁の５μｍ〜１０μｍ以内の厚さの局所的な非一様性を含むことができる。

先行側面のうちのいずれか１つに従った第５の側面では、ＯＬＥＤディスプレイはさらに、第１の電極および第２の電極の厚さより小さい厚さを有する活性ＯＬＥＤ材料の層を含むことができる。

先行側面のうちのいずれか１つに従った第６の側面では、ＯＬＥＤディスプレイはさらに、発光材料および／または正孔伝導材料を含む活性ＯＬＥＤ材料を含むことができる。

先行側面のうちのいずれか１つに従った第７の側面では、ＯＬＥＤディスプレイはさらに、正孔注入材料および／または正孔輸送材料を含む正孔伝導材料を含むことができる。

先行側面のうちのいずれか１つに従った第８の側面では、ＯＬＥＤディスプレイはさらに、第１の電極と第２の電極との間の間隙内で基板上に構造を提供すること、および／または構造上に第１の画定層を堆積させることを含むことができる。

先行側面のうちのいずれか１つに従った第９の側面では、ＯＬＥＤディスプレイはさらに、基板ならびに第１の電極および第２の電極の一部分の上に第２の画定層を堆積させ、次いで、第２の画定層を覆って閉じ込め構造を堆積させることを含むことができる。

先行側面のうちのいずれか１つに従った第１０の側面では、ＯＬＥＤディスプレイはさらに、電気抵抗材料を含む第１の画定層および／または第２の画定層を含むことができる。

先行側面のうちのいずれか１つに従った第１１の側面では、ＯＬＥＤディスプレイはさらに、４０％より大きい、例えば、６０％より大きいフィルファクターを有するディスプレイを含むことができる。

先行側面のうちのいずれか１つに従った第１２の側面では、ＯＬＥＤディスプレイはさらに、少なくとも１００ｐｐｉ、例えば、少なくとも３００ｐｐｉの解像度を有するディスプレイを含むことができる。

先行側面のうちのいずれか１つに従った第１３の側面では、ＯＬＥＤディスプレイはさらに、トップエミッションディスプレイであるディスプレイを含むことができる。

第１４の側面は、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプレイを製造する方法に関する。第１４の側面は、第１のサブピクセルと関連付けられる第１の電極および第２のサブピクセルと関連付けられる第２の電極を基板上に提供することを含むことができ、間隙が、第１の電極と第２の電極との間に形成され、第１の電極および第２の電極は、基板上の閉じ込め構造によって画定される境界を有するウェルの中に位置付けられる。本方法はまた、電極が中に位置付けられたウェルの中に、活性ＯＬＥＤ材料を堆積させることにより、ウェルの境界に及ぶ活性ＯＬＥＤ材料の実質的に連続的な層を形成することを含むこともできる、それによって、基板から外方を向く活性ＯＬＥＤ材料の層の表面は、非平面的なトポグラフィを有する。堆積させることは、インクジェット印刷を介し得る。

第１５の側面はさらに、第１４の側面に従った方法を使用して形成される装置を含むことができる。

第１６の側面は、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプレイに関する。第１６の側面は、基板上に提供される閉じ込め構造を含むことができる。閉じ込め構造は、アレイ構成で複数のウェルを画定することができる。ＯＬＥＤディスプレイは、各ウェル内に配置される複数の電極を含むこともでき、各ウェルにおいて、複数の電極を相互から離間させることができる。第１の発光波長範囲を有する第１の有機発光層を、複数のウェルのうちの少なくとも１つの中に配置することができる。第２の発光波長範囲を有する第２の有機発光層を、複数のウェルのうちの少なくとも１つの中に配置することができ、第３の発光波長を有する第３の有機発光層を、複数のウェルのうちの少なくとも１つの中に配置することができる。第１および第２の有機発光層と関連付けられるウェル内に配置されるいくつかの電極は、第３の有機発光層と関連付けられるウェル内に配置されるいくつかの電極とは異なり得る。

第１６の側面に従った第１７の側面では、ＯＬＥＤディスプレイはさらに、赤色発光と関連付けられる第１の発光波長範囲と、緑色発光と関連付けられる第２の発光波長範囲と、青色発光と関連付けられる第３の発光波長範囲とを含むことができる。

第１６の側面および第１７の側面に従った第１８の側面では、ＯＬＥＤディスプレイはさらに、画定されたピクセル境界とは異なり得る各ウェルの境界を含むことができる。

第１６の側面から第１８の側面に従った第１９の側面では、ＯＬＥＤディスプレイはさらに、異なるピクセルと関連付けられ得る、それぞれのウェル内に配置される複数の電極のそれぞれを含むことができる。

第１６の側面から第１９の側面に従った第２０の側面では、ＯＬＥＤディスプレイはさらに、２×２電極配列を有することができる、第１の有機発光層および／または第２の発光層と関連付けられるウェルを含むことができる。

第１６の側面から第２０の側面に従った第２１の側面では、ＯＬＥＤディスプレイはさらに、１×２電極配列を有する、第３の有機発光層と関連付けられるウェルを含むことができる。

第１６の側面から第２１の側面に従った第２２の側面では、ＯＬＥＤディスプレイはさらに、第１の有機発光層と関連付けられるウェルと第３の有機発光層と関連付けられるウェルとの間の間隔よりも大きいかまたはそれに等しい、第１の有機発光層と関連付けられるウェルと第２の有機発光層と関連付けられるウェルとの間の間隔を含むことができる。

第１６の側面から第２２の側面に従った第２３の側面では、ＯＬＥＤディスプレイはさらに、第３の発光層と関連付けられる２つの隣接ウェルの間の間隔よりも大きいかまたはそれに等しい、第１の有機発光層と関連付けられるウェルと第２の有機発光層と関連付けられるウェルとの間の間隔を含むことができる。

第１６の側面から第２３の側面に従った第２４の側面では、ＯＬＥＤディスプレイはさらに、隣接ウェルの間の距離より大きい間隙によって、相互から離間されるウェルのうちの少なくとも１つの中に配置される複数の電極を含むことができる。

第１６の側面から第２４の側面に従った第２５の側面では、ＯＬＥＤディスプレイはさらに、トップエミッションディスプレイおよび／またはアクティブマトリクスディスプレイであり得る。

第１６の側面から第２５の側面に従った第２６の側面では、ＯＬＥＤはさらに、４０％より大きい、例えば、６０％より大きいフィルファクターを有することができる。

第１６の側面から第２６の側面に従った第２７の側面では、ＯＬＥＤディスプレイは、１００ｐｐｉより大きい、例えば、３００ｐｐｉより大きい解像度を有することができる。

第２８の側面は、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプレイに関する。第２８の側面は、基板上に提供される閉じ込め構造を含むことができる。閉じ込め構造は、アレイ構成で複数のウェルを画定することができる。複数のウェルは、第１のウェルと、第２のウェルと、第３のウェルとを含むことができる。第１の複数の電極を第１のウェル内に配置することができ、第１のウェルの中の各電極を異なるピクセルと関連付けることができる。第２の複数の電極を第２のウェル内に配置することができ、第２のウェルの中の各電極は、異なるピクセルと関連付けられる。少なくとも１つの第３の電極を第３のウェル内に配置することができる。第１の発光波長範囲を有する第１の有機発光層を第１のウェルの中に配置することができる。第２の発光波長範囲を有する第２の有機発光層を第２のウェルの中に配置することができる。第３の発光波長範囲を有する第３の有機発光層を第３のウェルの中に配置することができる。第１および第２のウェルのそれぞれの内側に配置されるいくつかの電極は、第３のウェル内に配置されるいくつかの電極とは異なり得る。

第２８の側面に従った第２９の側面では、ＯＬＥＤディスプレイはさらに、第３のウェル内に配置される複数の電極を含むことができ、第３のウェルの中の各電極は、ディスプレイの異なるピクセルと関連付けられ得る。

第２８の側面および第２９の側面に従った第３０の側面では、ＯＬＥＤディスプレイはさらに、第１のウェルの中に配置される電極の数の半分であり得る数の、第３のウェルの中に配置される電極を含むことができる。

第２８の側面から第３０の側面に従った第３１の側面では、ＯＬＥＤディスプレイはさらに、第１のウェルと関連付けられるサブピクセルと、第２のウェルと関連付けられるサブピクセルと、第３のウェルと関連付けられるサブピクセルとを含むディスプレイのピクセルを含むことができる。

第２８の側面から第３１の側面に従った第３２の側面では、ＯＬＥＤディスプレイはさらに、第１の表面積を有する活性電極領域を含む、第１のウェルおよび第２のウェルのそれぞれと関連付けられるサブピクセルと、第２の表面積を有する活性電極領域を含む、第３のウェル関連付けられるサブピクセルとを含むことができ、第２の表面積は、第１の表面積より大きくあり得る。

第２８の側面から第３２の側面に従った第３３の側面では、ＯＬＥＤディスプレイはさらに、非対称形状を有するディスプレイのピクセルを含むことができる。

第２８の側面から第３３の側面に従った第３４の側面では、ＯＬＥＤディスプレイはさらに、トップエミッションディスプレイおよび／またはアクティブマトリクスデバイスであり得る。

第２８の側面から第３４の側面に従った第３５の側面では、ＯＬＥＤディスプレイはさらに、４０％より大きい、例えば、６０％より大きいフィルファクターを有することができる。

第２８の側面から第３５の側面に従った第３６の側面では、ＯＬＥＤディスプレイはさらに、１００ｐｐｉより大きい、例えば、３００ｐｐｉより大きい解像度を有することができる。

本明細書で示され、説明される種々の実施形態は、例示的と解釈されるものであることを理解されたい。本明細書の説明の利益を有した後に、全て当業者に明白となるように、要素および材料、ならびにこれらの要素および材料の配列は、本明細書で図示および説明されるものと置換されてもよく、かつ複数部分が逆転されてもよい。それらの均等物を含む、本開示および以下の特許請求の範囲の精神および範囲から逸脱することなく、本明細書で説明される要素に変更が行われ得る。

当業者は、本教示の範囲から逸脱することなく、本明細書で開示される例示的実施形態の構成および方法に種々の修正が行われ得ることを理解するであろう。

当業者は、また、たとえ適切な修正を伴う他の例示的実施形態との組み合わせが本明細書で明示的に開示されていなくても、本明細書の１つの例示的実施形態に関して開示される種々の特徴が、そのような組み合わせで使用され得ることも理解するであろう。

本開示および添付の特許請求の範囲の範囲から逸脱することなく、本開示のデバイス、方法、およびシステムに種々の修正および変更を行うことができることが、当業者に明白となるであろう。本開示の他の実施形態が、本明細書で開示される本開示の明細書および実践の考慮から、当業者に明白となるであろう。本明細書および例は、例示的のみと考慮されることが意図される。

Claims (27)

1. 有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプレイであって、前記ディスプレイは、
   基板上に配置された第１の電極であって、前記第１の電極は、第１のサブピクセルと関連付けられている、第１の電極と、
   前記基板上に配置された第２の電極であって、前記第２の電極は、前記第１の電極と前記第２の電極との間に間隙を提供するように前記第１の電極から離間されており、前記第２の電極は、第２のサブピクセルと関連付けられている、第２の電極と、
   前記第１の電極および前記第２の電極を含むウェルの境界を画定するように、前記基板上に位置付けられた閉じ込め構造と、
   前記第１の電極および前記第２の電極の上に配置された活性ＯＬＥＤ材料層であって、前記活性ＯＬＥＤ材料層は、前記ウェルの前記境界に連続的にわたり、かつ、前記ウェルの前記境界内に含まれ、前記基板から外方を向く前記活性ＯＬＥＤ材料層の表面は、非平面的なトポグラフィを有する、活性ＯＬＥＤ材料層と、
   前記活性ＯＬＥＤ材料層の上に配置された共通電極であって、前記共通電極は、前記共通電極と前記第１の電極および前記第２の電極のそれぞれとの間で電位を生成するように動作可能に結合されている、共通電極と
   を備える、ディスプレイ。
2. 前記活性ＯＬＥＤ材料層は、実質的に一様な厚さを有する、請求項１に記載のディスプレイ。
3. 前記活性ＯＬＥＤ材料層は、厚さの局所的な非一様性を含み、前記厚さの局所的な非一様性は、前記ウェルの表面特徴の縁の５μｍ〜１０μｍ以内にある、請求項１または請求項２に記載のディスプレイ。
4. 前記活性ＯＬＥＤ材料層は、前記第１の電極および前記第２の電極の厚さより小さい厚さを有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載のディスプレイ。
5. 前記活性ＯＬＥＤ材料層は、発光材料および正孔伝導材料のうちの少なくとも一方を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載のディスプレイ。
6. 前記正孔伝導材料は、正孔注入材料および正孔輸送材料のうちの少なくとも一方である、請求項５に記載のディスプレイ。
7. 前記第１の電極と前記第２の電極との間の前記間隙内に配置された前記基板上の構造と、
   前記構造上に堆積された第１の画定層と
   をさらに備える、請求項１〜６のいずれか一項に記載のディスプレイ。
8. 前記基板ならびに前記第１の電極および前記第２の電極の一部分の上に第２の画定層をさらに含み、前記閉じ込め構造は、前記第２の画定層の上に配置されている、請求項１〜７のいずれか一項に記載のディスプレイ。
9. 前記第１の画定層および前記第２の画定層のうちの少なくとも一方は、電気抵抗材料を含む、請求項７または請求項８に記載のディスプレイ。
10. 前記ディスプレイは、４０％より大きいフィルファクターを有する、請求項１〜９のいずれか一項に記載のディスプレイ。
11. 前記ディスプレイは、少なくとも１００ｐｐｉの解像度を有する、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のディスプレイ。
12. 前記ディスプレイは、トップエミッションディスプレイである、請求項１〜１１のいずれか一項に記載のディスプレイ。
13. 前記ディスプレイは、アクティブマトリクスデバイスである、請求項１〜１２のいずれか一項に記載のディスプレイ。
14. 有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）ディスプレイを製造する方法であって、前記方法は、
    第１のサブピクセルと関連付けられている第１の電極および第２のサブピクセルと関連付けられている第２の電極を基板上に提供することであって、間隙が、前記第１の電極と前記第２の電極との間に形成され、前記第１の電極および前記第２の電極は、前記基板上の閉じ込め構造によって画定される境界を有するウェルの中に位置付けられる、ことと、
    前記電極が中に位置付けられた前記ウェルの中に、活性ＯＬＥＤ材料を堆積させることにより、前記ウェルの前記境界に連続的にわたり、かつ、前記ウェルの前記境界内に含まれる活性ＯＬＥＤ材料層を形成することであって、それによって、前記基板から外方を向く活性ＯＬＥＤ材料層の表面は、非平面的なトポグラフィを有し、前記堆積させることは、インクジェット印刷を介する、ことと、
    前記活性ＯＬＥＤ材料層の上に共通電極を位置付けることであって、前記共通電極は、前記共通電極と前記第１の電極および前記第２の電極のそれぞれとの間で電位を生成するように動作可能に結合されている、ことと
    を含む、方法。
15. 請求項１４に記載の方法を使用して形成される装置。
16. 前記第１の電極および前記第２の電極は、反射性である、請求項１に記載のディスプレイ。
17. 前記第１の電極および前記第２の電極は、金属、混合金属、合金、これらの組み合わせを含む、請求項１６に記載のディスプレイ。
18. 前記第１の電極および前記第２の電極は、アルミニウムを含む、請求項１７に記載のディスプレイ。
19. 前記共通電極は、透明である、請求項１に記載のディスプレイ。
20. 前記共通電極は、インジウムスズ酸化物を含む、請求項１９に記載のディスプレイ。
21. 前記第１の電極および前記第２の電極は、透明である、請求項１に記載のディスプレイ。
22. 前記第１の電極および前記第２の電極は、インジウムスズ酸化物を含む、請求項２１に記載のディスプレイ。
23. 前記共通電極は、反射性である、請求項１に記載のディスプレイ。
24. 前記共通電極は、金属、混合金属、合金、これらの組み合わせを含む、請求項２３に記載のディスプレイ。
25. 前記共通電極は、アルミニウムである、請求項２４に記載のディスプレイ。
26. 前記第１のサブピクセルおよび前記第２のサブピクセルは、前記ディスプレイの異なるピクセルの一部分となるように配列されている、請求項１に記載のディスプレイ。
27. 前記ディスプレイの前記異なるピクセルのそれぞれは、赤色発光サブピクセルと、緑色発光サブピクセルと、青色発光サブピクセルとを含み、
    前記第１のサブピクセルおよび前記第２のサブピクセルは、同じ色を発光する、請求項２６に記載のディスプレイ。

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