JP3613257B2 - カラー表示用基板、カラーフィルタ用基板、カラー発光用基板、カラー表示用基板の製造方法、電気光学装置、電子機器 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カラー表示用基板、カラーフィルタ用基板、カラー発光用基板、カラー表示用基板の製造方法、電気光学装置、電子機器、成膜方法、成膜装置、表示装置用母基板に関する。
【０００２】
【背景技術および発明が解決しようとする課題】
近年、パーソナルコンピュータ、特に携帯用パーソナルコンピュータや携帯用の情報機器などの進歩に伴い、液晶カラーディスプレイの需要が急増している。これに対応し、適正価格で美しいディスプレイを供給する手段の確立が急務となっている。また、近年、環境の保護の観点から、環境負荷を低減するプロセスへの転換，改善も要求されている。
【０００３】
従来、カラーフィルタの製造方法の１つとして、以下の方法が知られている。この方法では、まず、遮光材としてクロムの薄膜をフォトリソグラフィーおよびエッチングによってパターニングし、ブラックマトリクスを形成する。その後、このブラックマトリクス間の間隙に、赤，緑および青の感光性樹脂を、一色毎にスピンコート法などによって塗布した後フォトリソグラフィーによりパターニングする。それによって、赤，緑および青の着色層（カラードット）が隣り合って配置されたカラーマトリクスを構成することができる。この製造方法では、赤，緑，青の一色毎にフォトリソグラフィー工程を繰り返さなければならず、また、各色のパターニングに際して不要部分を除去するため感光性材料のロスが生じ、ひいては環境負荷の高い高コストのカラーフィルタとなる。
【０００４】
そこで、このような製造方法の問題点を解消する方法として、たとえば特開昭５９−７５２０５号公報では、インクジェット法を応用した方法が提案されている。この方法では、透明基板上に、インクに対して濡れ性の低い材料で着色層の形成領域を区画するように仕切りをマトリクス状に形成した後、インクジェット法を用いて非感光性色材を仕切り内に塗布することにより、着色層を形成する。この製造方法では、フォトリソグラフィー工程の煩雑さが緩和され、さらに色材のロスの低減を図ることができる。以来、インクジェット法による非感光性色材の塗布プロセスによるカラーフィルタの製造方法が多数提案されている。
【０００５】
本発明の目的は、複数のカラー表示素子がマトリクス状に配列されたカラー表示用基板、たとえばカラーフィルタ用基板およびカラー発光用基板を効率よく得ることができる製造方法を提供することにある。
【０００６】
本発明の他の目的は、上述した製造方法で形成されたカラー表示用基板、たとえばカラーフィルタ用基板およびカラー発光用基板を提供することにある。
【０００７】
本発明のさらに他の目的は、上述したカラー表示用基板から得られたカラー表示体を有する電気光学装置ならびに電子機器を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、カラー表示用基板において、
マトリクス状に配列された複数のカラー表示素子と、
前記複数のカラー表示素子の各々を構成する複数の画素と、
前記複数の画素の各々を構成する複数のカラードットと、を備え、
前記複数のカラードットは、第１基準線と直交する方向において第１ドットピッチを有し、
前記複数のカラードットの各々は、少なくとも第１基準線に対して第１ドットピッチの実質的に整数倍の距離に位置することを特徴とする。
【０００９】
このカラー表示用基板は、後述する製造方法によって効率よく得られる。
【００１０】
本発明にかかるカラー表示用基板は、以下の各種態様を取ることができる。
【００１１】
（Ａ）さらに、前記カラー表示素子のカラードットは、前記第１基準線と直交する第２基準線に対して、該第２基準線と直交する方向における第２ドットピッチの実質的に整数倍の距離に位置することができる。
【００１２】
（Ｂ）前記カラー表示素子の相互間の間隔は、前記第１基準線の方向においては、第２ドットピッチの実質的に整数倍であり、かつ前記第２基準線の方向においては、第１ドットピッチの実質的に整数倍であることができる。このように設定することで、カラー表示素子のピッチを第１ドットピッチおよび第２ドットピッチの実質的に整数倍で規定できる。すなわち、このことをカラー表示素子のピッチからみると、前記カラー表示素子の配列は、前記第１基準線の方向においては、第２素子ピッチの実質的に整数倍であり、かつ前記第２基準線の方向においては、第１素子ピッチの実質的に整数倍である。
【００１３】
（Ｃ）前記カラー表示素子は、前記画素の配列がストライプ型、モザイク型、デルタ型およびスクウェア型のいずれかであることができる。
【００１４】
（Ｄ）前記カラードットはノズルから吐出された液滴によって形成できる。そして、前記カラードットは、カラー表示層と該カラー表示層を区画するためのバンク層を含むことができる。このバンク層は、ノズルから吐出された液滴をせき止める隔壁として機能する。
【００１５】
本発明のカラー表示用基板は、赤、緑および青の光の３原色によってカラー表示が可能な各種の表示基板に適用できる。代表的な表示基板としては、カラーフィルタ用基板およびカラー発光用基板がある。
【００１６】
たとえば、本発明にかかるカラーフィルタ用基板は、
マトリクス状に配列された複数のカラーフィルタ素子と、
前記複数のカラーフィルタ素子の各々を構成する複数の画素と、
前記複数の画素の各々を構成する複数のカラードットと、を備え、
前記複数のカラードットは、第１基準線と直交する方向において第１ドットピッチを有し、
前記複数のカラードットの各々は、少なくとも第１基準線に対して第１ドットピッチの実質的に整数倍の距離に位置することができる。
【００１７】
本発明にかかるカラー発光用基板は、
マトリクス状に配列された複数のカラー発光素子と、
前記複数のカラー発光素子の各々を構成する複数の画素と、
前記複数の画素の各々を構成する複数のカラードットと、を備え、
前記複数のカラードットは、第１基準線と直交する方向において第１ドットピッチを有し、
前記複数のカラードットの各々は、少なくとも第１基準線に対して第１ドットピッチの実質的に整数倍の距離に位置することができる。
【００１８】
本発明にかかるカラー表示用基板の製造方法は、
入力されたデータに応じて液滴を選択的にノズルから吐出することによって複数のカラードットを形成する工程を備え、
前記複数のカラードットは、複数の画素を構成し、
前記複数の画素は、複数のカラー表示素子を構成し、
前記複数のカラー表示素子は、マトリクス状に配列され、
前記複数のカラードットは、第１基準線と直交する方向において第１ドットピッチを有し、
前記複数のカラードットの各々を、少なくとも第１基準線に対して前記第１ドットピッチの実質的に整数倍の距離に位置するように形成できる。
【００１９】
この製造方法によれば、前記カラー表示素子を構成する各カラードットの形成領域は、少なくとも第１基準線に対して、該第１基準線と直交する方向における第１ドットピッチの実質的に整数倍の距離に位置するように設定されることから、カラードットの形成領域の位置データを第１ドットピッチで規定でき、設計が容易となる。
【００２０】
前記液滴を選択的にノズルから吐出する方法としては、例えばインクジェット方式を用いることができる。
【００２１】
本発明にかかる製造方法は、以下の各種態様を取りうる。
【００２２】
（Ａ）さらに、前記カラー表示素子のカラードットの形成領域は、前記第１基準線と直交する第２基準線に対して、該第２基準線と直交する方向における第２ドットピッチの実質的に整数倍の距離に位置するように設定できる。このように設定することで、第１基準線に対してのみならず、第２基準線に対してもカラードットの形成領域の位置データを第２ドットピッチで規定でき、さらに設計が容易となる。
【００２３】
（Ｂ）前記カラー表示素子の相互間の間隔は、前記第１基準線の方向においては、第２ドットピッチの実質的に整数倍であり、前記第２基準線の方向においては、第１ドットピッチの実質的に整数倍であるように設定されることができる。このように設定することで、カラー表示素子のピッチを第１ドットピッチおよび第２ドットピッチで規定できる。そして、前記カラー表示素子の配列は、前記第１基準線の方向においては、第２素子ピッチの実質的に整数倍であり、かつ前記第２基準線の方向においては、第１素子ピッチの実質的に整数倍であるように設定できる。
【００２４】
（Ｃ）前記カラードットのカラー表示層を区画するためのバンク層を形成する工程と、前記バンク層によって区画された領域に液滴を供給することができる。このバンク層は、液滴をせき止める隔壁として機能する。
【００２５】
（Ｄ）前記液滴の吐出を行うための液滴吐出用ヘッドは、複数のノズルが直線状に配列されたノズル列を有し、該ノズル列は、前記第１基準線の方向において所定ピッチで配置され、かつ、前記第１基準線の方向において複数のカラー表示素子の形成領域を含む実効ノズル列長を有することができる。このような実効ノズル長を有する液滴吐出用ヘッドによれば、１回の走査によって、複数列のカラー表示素子を形成できる。
【００２６】
さらに、前記ノズル列は、前記第１基準線の方向における実効ノズル列長が前記カラー表示素子の第２素子ピッチの実質的に整数倍であることができる。
【００２７】
（Ｅ）前記カラー表示素子は、カラーフィルタ素子またはカラー発光素子を含むことができる。
【００２８】
本発明にかかる電気光学装置は、本発明のカラー表示用基板から得られたカラー表示体を含むことができる。
【００２９】
本発明にかかる電気光学装置は、本発明のカラーフィルタ用基板から得られたカラーフィルタと、前記カラーフィルタと所定間隔を置いて配置される対向基板と、前記カラーフィルタと前記対向基板との間に配置される電気光学材料層と、を含むことができる。ここで、前記電気光学材料層は、液晶材料層であることができる。
【００３０】
本発明にかかる電気光学装置は、本発明のカラー発光用基板から得られたカラー発光体を含むことができる。ここで、前記カラードットの発光層は、エレクトロルミネッセンス材料を含むことができる。
【００３１】
本発明にかかる電子機器は、本発明の電気光学装置を含むことができる。
【００３２】
本発明にかかる表示装置用母基板は、各々が表示装置を構成する複数の単位、および
並んで配列される複数のドット要素、を含み、
前記複数のドット要素は、各単位内において所定の方向に第１ドットピッチで配列されてなり、
各前記単位に含まれる前記複数のドット要素の１つと、他の前記単位に含まれる前記複数のドット要素の１つとが前記所定の方向において前記第１ドットピッチの実質的に整数倍で並んでなることができる。
【００３３】
本発明にかかる成膜方法は、
液滴を選択的にノズルから吐出することによって複数のドット要素を形成する工程を備え、
前記複数のドット要素は、基準線と直交する方向においてドットピッチを有し、
前記複数のドット要素の各々を、少なくとも前記基準線に対して前記ドットピッチの実質的に整数倍の距離に位置するように形成できる。
【００３４】
本発明にかかる成膜装置は、
走査可能なヘッドと、
前記ヘッドに配列され、液滴を吐出する複数のノズルと、
を備え、
前記ヘッドを走査して前記液滴を選択的に前記ノズルから吐出することによって複数のドット要素を形成し、
前記複数のドット要素は、基準線の方向において配列され、かつ前記基準線の方向において所定のドットピッチを有し、
前記ノズル列は、前記基準線の方向に対して実効ノズル列長を有し、
前記実効ノズル列長は、前記所定のドットピッチの実質的に整数倍である。
【００３５】
前記走査可能なヘッドとしては、例えばインクジェットヘッドを用いることができる。
【００３６】
【発明の実施の形態】
［第１の実施の形態］
図１は、本発明が適用されたカラー表示用基板（表示装置用母基板）の一例としてのカラーフィルタ用基板を模式的に示す斜視図であり、図２は、カラーフィルタ用基板を構成するカラーフィルタ素子（表示装置を構成する単位）の要部を示す平面図であり、図３は、図２のＡ−Ａ線に沿った部分を示す断面図である。
【００３７】
（カラーフィルタ用基板の概要）
まず、カラーフィルタ用基板１０００の概要について説明する。カラーフィルタ用基板１０００は、光透過型であって、ガラス，プラスチックなどの透明な基板１０上に、複数のカラーフィルタ素子１００がマトリクス状に配列されている。このカラーフィルタ用基板１０００は、後にこの基板を所定位置で切断することにより、複数のカラーフィルタを得ることができる。
【００３８】
本実施の形態に係るカラーフィルタ素子１００は、図２および図３に示すように、透明な基板１０と、光（可視光）が実質的に透過しない遮光領域２０と、光が透過可能な透過領域３０とを含む。遮光領域２０は、遮光層２２と、この遮光層２２上に形成されたバンク層２４とを有する。そして、透過領域３０は、遮光領域２０によって区画された領域であって、基板１０上に形成された着色層３２を有する。
【００３９】
本実施の形態においては、図２に示すように、１ドットピッチの長さに相当する、着色層３２とこの着色層３２を囲む所定幅の遮光領域２０とを１カラードット（ドット要素）１００ａと規定する。以降の説明において、カラーフィルタ素子１００を構成するカラードット１００ａのｘ方向におけるドットピッチを第１ドットピッチＰｘといい、ｙ方向におけるドットピッチを第２ドットピッチＰｙという。なお、ドットピッチとは、図２に示すように、たとえば隣り合うカラードットの中心間距離を意味する。
【００４０】
また、カラーフィルタ用基板１０００において、図１に示すように、カラーフィルタ素子１００のｘ方向における素子ピッチを第１素子ピッチＰＥｘといい、ｙ方向における素子ピッチを第２素子ピッチＰＥｙという。なお、本実施の形態では、素子ピッチとは、図１に示すように、カラーフィルタ素子の一辺から隣り合うカラーフィルタ素子の一辺までの距離をいうものとする。もちろん、この素子ピッチは、隣り合うカラーフィルタ素子の中心間距離と同じであり、この中心間距離で定義されていてもよい。
【００４１】
遮光領域２０を構成する遮光層２２は、基板１０上に所定のパターンで形成されている。そして、遮光層２２は、十分な遮光性を有し、ブラックマトリクスとして機能すればよく、その材質等は特に限定されず、金属，樹脂などを用いることができる。遮光層２２の材質としては、小さい膜厚で十分かつ均一な遮光性が得られる点で、金属を用いることが好ましい。遮光層２２として用いられる金属は特に限定されず、成膜ならびにフォトエッチングを含む全工程の効率を配慮して選択することができる。このような金属としては、たとえばクロム，ニッケル，アルミニウムなどの電子デバイス加工プロセスで用いられているものを好ましく用いることができる。
【００４２】
バンク層２４は、遮光層２２上に形成され、所定のパターンを有する。このバンク層２４は、着色層が形成される領域を区画し、隣接する着色層の色が混じり合うこと（混色）を防止する隔壁として機能する。したがって、バンク層２４の膜厚（高さｈ（図３参照））は、着色層を形成する際に注入される色材としてのインク組成物（以下、「インク」という）がオーバーフローしないように、このインク層の高さ等の関係で設定される。バンク層２４は、このような観点から、たとえば膜厚１〜５μｍの範囲で形成されることが好ましい。
【００４３】
バンク層２４は、フォトリソグラフィーが可能な樹脂層によって構成される。このような感光性樹脂は、必ずしも水に対する接触角が大きい撥水性の優れたもの、あるいは遮光性を有するものである必要がなく、幅広い範囲で選択することができる。バンク層２４を構成する樹脂としては、たとえば、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ノボラック系樹脂、カルド系樹脂、ポリイミド樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリビニルアルコールなどを含む感光性樹脂組成物を用いることができる。
【００４４】
着色層３２は、光の三原色を構成する赤，緑および青の各色を有する複数の着色層３２（Ｒ），３２（Ｇ），３２（Ｂ）からなる。これらの着色層３２は、所定の配列、たとえばストライプ配列，デルタ配列，モザイク配列またはスクウェア配列などの配列パターンによって配置され、連続した３色の着色層によって１画素が構成される。
【００４５】
本実施の形態に係るカラーフィルタ用基板１０００およびカラーフィルタ素子１００の特徴については、後述する。
【００４６】
（カラーフィルタ用基板の製造方法）
次に、図４および図５を参照しながら、カラーフィルタの製造例の概要について説明する。図４および図５は、各工程において図２のＢ−Ｂ線に対応する部分の層構造を模式的に示す断面図である。
【００４７】
（１）遮光層の形成
まず、図４（Ａ）に示すように、透明な基板１０上に、ドライメッキ法、たとえばスパッタ法、蒸着法、化学蒸着法で金属層２２０を、膜厚０．１〜０．５μｍで堆積させる。金属層２２０の材料としては、前述したように、クロム，ニッケル，アルミニウムなどの各種の金属を用いることができる。ついで、金属層２２０の表面に所定のパターンを有するレジスト層Ｒ１をフォトリソグラフィーによって形成する。その後、このレジスト層Ｒ１をマスクとしてエッチングを行い、金属層２２０のパターニングを行う。このようにして、図４（Ｂ）に示すように、基板１０上に所定のマトリクスパターンを有する遮光層２２が形成される。
【００４８】
（２）バンク層の形成
ついで、図４（Ｃ）に示すように、遮光層２２が形成された基板１０の上に、樹脂層２４０を形成する。この樹脂層は、ネガ型あるいはポジ型のレジストによって形成できる。樹脂層２４０は、たとえばウレタン系あるいはアクリル系などの光硬化型（ネガ型）の感光性樹脂からなる。そして、フォトマスクＭ１を用いて露光を行い、さらに現像を行うことにより、樹脂層２４０をパターニングする。これによって、図４（Ｄ）に示すように、バンク層２４が形成され、遮光領域２０が形成される。バンク層２４の構成については、既に述べたのでその記載を省略する。この工程で、遮光領域２０によって区画される、着色層形成領域３３０が所定のマトリクスパターンで形成される。
【００４９】
ついで、必要に応じて、次の着色層の形成工程の前に、基板表面の表面処理を行う。このような表面処理としては、紫外線の照射，プラズマ照射，レーザ照射などの方法を用いることができる。このような表面処理を行うことにより、基板１０の露出面１０ａに付着した汚染物質などが除去され、この表面１０ａの水に対する接触角を小さくしてインクの濡れ性を向上させることができる。より具体的には、基板１０の露出面１０ａとバンク層２４の表面との水に対する接触角の差が１５゜以上になることが望ましい。このように、基板１０の露出面１０ａとバンク層２４の表面の水に対する接触角を制御することにより、着色層形成領域３３０の露出面１０ａに密着性が良好な状態でインクを付与できるとともに、バンク層２４のインクをはじく性質によって、インクがバンク層２４を越えてオーバーフローすることが防止される。表面処理の方法としては、ガスプラズマ法、紫外線照射法、界面活性剤塗布法などの方法を採用できる。
【００５０】
（３）着色層の形成
まず、図５（Ａ）に示すように、遮光層２２およびバンク層２４によって区画される着色層形成領域３３０に、インクを付与してインク層３２０を形成する。本実施の形態では、インクを付与する方法として、インクジェットプリンティング方式で用いられているプリンティングヘッドによるインクジェット法を適用する。たとえば５０μｍ角の微細な着色層形成領域３３０に精度よくインク層を形成する方法としては、吐出するインク滴を微細化し、しかも吐出インク滴の数を制御できるインクジェットプリンティング法が最適である。
【００５１】
微細化したインク滴を精度よく目標とする位置（基板１０の露出面１０ａ）に付与するためには、まず、インク滴のサイズをターゲットである着色層形成領域３３０の露出面１０ａのサイズに合わせて制御する。インク滴のサイズは、たとえば５０μｍ角の着色層形成領域３３０に対しては、６〜３０ピコリットルに制御することが好ましい。さらに、スループットを考慮すれば、インク滴のサイズは、より好ましくは１２〜２０ピコリットルである。また、インクジェットプリンティングヘッドよりインク滴を飛翔させ、ターゲットに正確に到着させるには、インク滴が飛翔途中に分裂することなく、しかもまっすぐに飛翔するように条件を制御することが望ましい。
【００５２】
本実施の形態では、着色層３２は、赤，緑および青の各色毎に順次形成される。これらの着色層３２の形成順序は、特に限定されない。図５（Ｂ）に示した例では、まず赤の着色層３２（Ｒ）を形成し、その後、図５（Ｃ）に示すように、緑の着色層３２（Ｇ）あるいは青の着色層３２（Ｂ）のいずれかを形成し、最後に残りの色の着色層を形成する。なお、赤、緑および青の各色の着色層は、インクジェットプリンティング方式のカラーヘッドもしくは複数ヘッドを選択すれば、同時に形成することもできる。
【００５３】
（４）オーバーコート層などの形成
ついで、図５（Ｃ）に示すように、着色層３２の形成の後、必要に応じて、平滑表面を得るためのオーバーコート層４０を形成する。さらに、図５（Ｄ）に示すように、オーバーコート層４０の表面に、必要に応じて、共通電極５０を形成して、カラーフィルタ素子１００がマトリクス状に配列されたカラーフィルタ用基板１０００を完成する。これらのオーバーコート層４０および共通電極５０は、カラーフィルタが適用される電気光学装置の構成に応じて設けることができる。その後、カラーフィルタ用基板１０００を所定位置で切断することで、複数のカラーフィルタが形成される。
【００５４】
（製造方法の特徴）
図６は、本発明に係る製造方法の特徴を説明するための平面図であり、図５（Ａ），（Ｂ）に対応する工程を示す。図６では、図面を簡略にするために、カラードット１００ａおよびカラードット形成領域１００ｂを示している。また、図６では、ストライプ型の画素を形成する例を示している。
【００５５】
図６に示す例では、ｙ方向に沿って第１基準線ＢＬ１を設定し、ｘ方向に沿って第２基準線ＢＬ２を設定する。
【００５６】
本実施の形態では、インクジェットプリンティングに用いられるインクジェットヘッド１が基板１０に対してｘ方向に相対的に移動されて、カラードット形成領域１００ｂ、具体的には着色層形成領域３３０（図５（Ａ），（Ｂ）参照）にインクが供給されて着色層３２が形成され、カラードット１００ａが完成する。
【００５７】
インクジェットヘッド１は、複数のノズル１ａが直線状に配列されたノズル列を有する。このノズル列は、第１基準線ＢＬ１の方向に対して所定ピッチ（この例では第２ドットピッチＰｙと同じピッチ）で配置されている。さらに、インクジェットヘッド１は、そのノズル列が第１基準線ＢＬ１の方向に対して複数列（この例では２列）のカラーフィルタ素子１００の形成領域を含むように設定されている。この例の場合、ノズル１ａのピッチは第２ドットピッチＰｙと同じに設定されているので、インクジェットヘッド１のノズル列長は、実効ノズル列長と実質的に同じである。
【００５８】
ここで、「実効ノズル列長」とは、図１２に示すように、インクジェットヘッド１を第１基準線ＢＬ１に対して所定角度θ傾けたときに、第１基準線ＢＬ１に対するノズル列の長さＬＮ_０をいう。ノズル１ａのピッチが第２ドットピッチＰｙと適合しない場合には、図１２に示すように、インクジェットヘッド１を第１基準線ＢＬ１に対して傾けることにより、所望のノズルピッチを設定できる。図１２において、符号「ＬＮ」は、インクジェットヘッド１のノズル列長を示す。
【００５９】
基準線ＢＬ１，ＢＬ２、カラーフィルタ素子１００、カラードット１００ａおよびカラードット形成領域１００ｂは、以下の条件（ａ）〜（ｃ）を満たしている。
【００６０】
（ａ）カラーフィルタ素子１００のための各カラードット形成領域１００ｂは、少なくともｙ方向の第１基準線ＢＬ１に対して、ｘ方向における第１ドットピッチＰｘの整数倍の距離（ＮＰｘ，Ｎは整数）に位置するように設定される。さらに、カラーフィルタ素子１００のための各カラードット形成領域１００ｂは、ｘ方向の第２基準線ＢＬ２に対して、ｙ方向における第２ドットピッチＰｙの整数倍の距離（Ｎ’Ｐｙ，Ｎ’は整数）に位置するように設定される。
【００６１】
（ｂ）カラーフィルタ素子１００の相互間の間隔は、以下のように設定される。第２基準線ＢＬ２の方向における間隔Ｌｘ１は、第１ドットピッチＰｘの整数倍（ｎＰｘ，ｎはゼロを除く整数）に設定される。また、第１基準線ＢＬ１の方向における間隔Ｌｙ１は、第２ドットピッチＰｙの整数倍（ｎ’Ｐｙ，ｎ’はゼロを除く整数）に設定される。
【００６２】
すなわち、第２基準線ＢＬ２の方向における第１素子ピッチＰＥｘは、第１ドットピッチＰｘの整数倍となるように設定され、第１基準線ＢＬ１の方向における第２素子ピッチＰＥｙは、第２ドットピッチＰｙの整数倍となるように設定されている。
【００６３】
（ｃ）第１基準線ＢＬ１から第１列目のカラーフィルタ素子１００までの間隔Ｌｘ２は、第１素子ピッチＰｘの整数倍（ｍＰｘ，ｍは整数）となるように設定されている。また、第２基準線ＢＬ２から第１列目のカラーフィルタ素子１００までの間隔Ｌｙ１は、第２素子ピッチＰｙの整数倍（ｍ’Ｐｙ，ｍ’は整数）となるように設定されている。
【００６４】
上記条件の（ｂ）と（ｃ）とを満たせば、条件（ａ）は満たされることになる。したがって、本実施の形態では、インクジェットヘッド１を用いたインクジェット方式によってカラードット１００ａを形成するには、上記条件（ａ）または条件（ｂ）＋（ｃ）を満たすように、インクの吐出位置が設定される。
【００６５】
そして、基準線ＢＬ１，ＢＬ２の位置情報および着色層を形成するのに必要な情報に基づいて、所定の位置にインクが吐出され、カラードット１００ａが形成される。カラードット１００ａを形成するのに必要な情報は、インクジェットヘッドの動作方法などによって適宜選択され、たとえばカラードット形成領域の位置を特定する情報、着色層の色を特定する情報、カラードット形成領域に対する吐出タイミングを特定する情報、などが含まれる。
【００６６】
なお、図６に示す例では、カラードット１００ａまたはカラードット形成領域１００ｂの位置の基準として、各カラードット１００ａまたは各カラードット形成領域１００ｂの基準線ＢＬ１，ＢＬ２側の一辺を採用した。もちろんこのような位置の基準として、各カラードットまたはカラードット形成領域の中心、あるいは他の位置を採用してもよい。
【００６７】
次に、図６を参照して、カラードット１００ａの形成方法をより具体的に説明する。図６では、第２列目のカラーフィルタ素子における第１列目のカラードット形成領域まで、インクジェットヘッド１を移動した状態を示している。インクジェットヘッド１のノズル１ａによるインクの吐出が行われた領域は黒丸で示し、インクジェットヘッド１のノズルによるインクの吐出が行われない領域は白丸で示す。
【００６８】
まず、この例では、インクジェットヘッド１を基板１０に対してｘ方向に相対的に移動させ、前述したカラードットを形成するのに必要な情報に基づいて、第１色（この例では赤（Ｒ））のインクが吐出され、赤のカラードット１００ａが形成される。このとき、赤以外の色のカラードット形成領域１００ｂおよびカラーフィルタ素子１００が形成されない領域では、インクが吐出されない。インクジェットヘッド１のｘ方向での１回の移動によって、ｙ方向の第１、第２列の第１色カラードットが形成される。
【００６９】
ついで、インクジェットヘッド１を基板１０に対してｙ方向に相対的に移動させ、第３、第４列の第１色カラードットを形成する。以降は、同様にして順次２列毎に第１色カラードットを形成する。
【００７０】
ついで、異なる色のインクジェットヘッド１を用いて、第１色と同様に、第２色（青または緑）および第３色（残りの色）のカラードット１００ａを形成する。このようにして３原色の各カラードット１００ａが所定位置に形成されて、複数のカラーフィルタ素子１００がマトリクス状に配列されたカラーフィルタ用基板１０００が得られる。
【００７１】
本実施の形態の製造方法によれば、各カラードット１００ａは、第１基準線ＢＬ１および第２基準線ＢＬ２に対して、第１ドットピッチおよび第２ドットピッチの整数倍の距離に位置するように設定されることから、カラードットの形成領域の位置データを第１ドットピッチおよび第２ドットピッチで規定でき、設計が容易となる。
【００７２】
（カラーフィルタ用基板の特徴）
以上の製造方法によって得られたカラーフィルタ用基板１０００は、図１および図２に示すように、製造方法の特徴を反映して以下の構成を有する。
【００７３】
（ａ）カラーフィルタ素子１００を構成する各カラードット１００ａは、ｙ方向の第１基準線ＢＬ１に対して、ｘ方向における第１ドットピッチＰｘの整数倍の距離（ＮＰｘ，Ｎは整数）に位置する。さらに、各カラードット１００ａは、ｘ方向の第２基準線ＢＬ２に対して、ｙ方向における第２ドットピッチＰｙの整数倍の距離（Ｎ’Ｐｙ，Ｎ’は整数）に位置する。
【００７４】
（ｂ）カラーフィルタ素子１００の相互間の間隔は、以下のようである。第２基準線ＢＬ２の方向における間隔Ｌｘ１は、第１ドットピッチＰｘの整数倍（ｎＰｘ，ｎはゼロを除く整数）である。また、第１基準線ＢＬ１の方向における間隔Ｌｙ１は、第２ドットピッチＰｙの整数倍（ｎ’Ｐｙ，ｎ’はゼロを除く整数）である。
【００７５】
すなわち、第２基準線ＢＬ２の方向における第１素子ピッチＰＥｘは、第１ドットピッチＰｘの整数倍であり、第１基準線ＢＬ１の方向における第２素子ピッチＰＥｙは、第２ドットピッチＰｙの整数倍である。
【００７６】
（ｃ）第１基準線ＢＬ１から第１列目のカラーフィルタ素子１００までの間隔Ｌｘ２は、第１素子ピッチＰｘの整数倍（ｍＰｘ，ｍは整数）である。また、第２基準線ＢＬ２から第１列目のカラーフィルタ素子１００までの間隔Ｌｙ２は、第２素子ピッチＰｙの整数倍（ｍ’Ｐｙ，ｍ’は整数）である。
【００７７】
（カラーフィルタ用基板の変形例）
［第１の変形例］
図７は、デルタ型配列のカラーフィルタ素子１００を有するカラーフィルタ用基板の製造方法を示す図である。この例では、ｙ方向に２本の第１基準線、すなわち第１基準線ＢＬ１およびＢＬ１’を設定し、ｘ方向に２本の第２基準線、すなわち第２基準線ＢＬ２およびＢＬ２’を設定することができる。
【００７８】
この例では、ｘ方向についてみると、奇数列目のカラードット列は、一方の第１基準線ＢＬ１に対して、第１ドットピッチＰｘの整数倍の距離に位置し、また、偶数列目のカラードット列は、他方の第１基準線ＢＬ１’に対して、第１ドットピッチＰｘの整数倍の距離に位置する。同様に、ｙ方向についてみると、奇数列目のカラードット列は、一方の第２基準線ＢＬ２に対して、第２ドットピッチＰｙの整数倍の距離に位置し、また、偶数列目のカラードット列は、他方の第２基準線ＢＬ２’に対して、第２ドットピッチＰｙの整数倍の距離に位置する。
【００７９】
そして、ｘ方向における、一方の第１基準線ＢＬ１と他方の第１基準線ＢＬ１’との間隔は０．５Ｐｘであり、また、ｙ方向における、一方の第２基準線ＢＬ２と他方の第２基準線ＢＬ２’との間隔は０．５Ｐｙである。
【００８０】
この例でも、ストライプ型のカラーフィルタ用基板の製造方法で述べた条件（ａ）ないし（ｃ）を基本的には満たす。なお、図７に示す例では、カラードット１００ａの位置の基準をカラードットの中心で規定している。
【００８１】
この例でも、前述した実施の形態の場合と同様、カラードットの形成領域の位置データを第１ドットピッチおよび第２ドットピッチで規定でき、設計が容易となる。
【００８２】
［第２の変形例］
図１６（ａ）〜（ｃ）は、カラーフィルタ用基板の変形例を示し、図６（ａ）はカラーフィルタ用基板を構成するカラーフィルタ素子の平面図、図６（ｂ）は図６（ａ）のＤ−Ｄ線に沿った断面図、図６（ｃ）は図６（ａ）のＥ−Ｅ線に沿った断面図である。図２および図３に示す部材と実質的に同じ機能を有する部材には、同一符号を付する。
【００８３】
この例のカラーフィルタ用基板のカラーフィルタ素子１００は、半透過反射型である点で、前述の透過型のカラーフィルタ用基板と異なる。
【００８４】
本実施の形態に係るカラーフィルタ素子１００は、図６に示すように、透明な基板１０と、光（可視光）を反射する反射層２６と、光を通す透過層２８とを含む。反射層２６上には、バンク層２４が形成されている。そして、バンク層２４によって区画された着色層形成領域内には、着色層（カラードット）３２（３２（Ｒ），３２（Ｇ），３２（Ｂ））が設けられている。さらに、着色層３２上には、平坦化のためのオーバーコート層４０が設けられている。
【００８５】
透過層２８は、バンク層２４によって区画される着色層形成領域の中央部に位置するように形成される。着色層（カラードット）３２は、インクジェット法によって形成されている。インクジェット法によって形成された着色層では、通常、着色層形成領域の中央部が盛り上がる傾向がある。したがって、透過層２８を着色層形成領域の中央部に形成することにより、反射表示時と透過表示時での光学的膜厚をほぼ等しくあるいは両者を近づけることができ、その結果、反射表示時と透過表示時とで近似した色表示を行うことができる。
【００８６】
すなわち、反射表示時には、表示に用いられる光は、図６（ｂ）において、矢印Ｘ_０で示したように、着色層３２の膜厚が小さい部分を往復する状態で通過する。これに対し、透過表示時には、表示に用いられる光は、図６（ｂ）において、矢印Ｘ_１で示したように、着色層３２の膜厚が大きい部分を通過する。したがって、着色層３２の断面形状が図６（ｂ），（ｃ）に示すような凸状をなすことで、反射表示時と透過表示時での光学的膜厚を近似させることができる。
【００８７】
［第２の実施の形態］
図８は、本発明が適用されたカラー表示用基板の一例としてのカラー発光用基板（表示装置用母基板）を模式的に示す斜視図であり、図９は、カラー発光用基板を構成するカラー発光素子（表示装置を構成する単位）の要部を示す平面図であり、図１０（Ｄ）は、図９のＣ−Ｃ線に沿った部分を示す断面図である。
【００８８】
（カラー発光用基板の概要）
まず、カラー発光用基板２０００の概要について説明する。カラー発光用基板２０００は、透明な基板１０４上に、複数のカラー発光素子２００がマトリクス状に配列されている。このカラー発光用基板は、後にこの基板を所定位置で切断することにより、複数のカラー発光体を得ることができる。
【００８９】
本実施の形態に係るカラー発光素子２００は、図９および図１０（Ｄ）に示すように、透明な基板１０４と、光（可視光）が実質的に透過しないバンク層１０５と、光が発光される発光領域１３０とを含む。そして、発光領域１３０は、バンク層１０５によって区画された領域であって、基板１０４上に積層された第１電極（この例では陽極）、正孔注入層、発光層および第２電極（この例では陰極）を有する。基板１０４は、支持体であると同時に光を取り出す面として機能する。従って、基板１０４は、光の透過特性や熱的安定性を考慮して選択される。透明基板材料としては、たとえばガラス基板、透明プラスチック等が挙げられる。
【００９０】
本実施の形態では、正孔注入層とは、陽極から発光層に有効に正孔を注入させ得る層であり、正孔輸送機能をも有する。また、正孔注入層とともに、正孔輸送層を別に設けてもよい。
【００９１】
本実施の形態においては、第１の実施の形態と同様に、図９に示すように、１ピッチに相当する、発光領域１３０とバンク層１０５とを１カラードット（ドット要素）２００ａと規定する。以降の説明において、カラー発光素子２００を構成するカラードット２００ａのｘ方向におけるドットピッチを第１ドットピッチＰｘといい、ｙ方向におけるドットピッチを第２ドットピッチＰｙという。また、カラー発光用基板２０００において、図８に示すように、カラー発光素子２００のｘ方向における素子ピッチを第１素子ピッチＰＥｘといい、ｙ方向における素子ピッチを第２素子ピッチＰＥｙという。なお、ドットピッチおよび素子ピッチについては、第１の実施の形態と同様である。
【００９２】
バンク層１０５は、所定のパターンを有する。このバンク層１０５は、発光層が形成される領域を区画し、隣接する発光層の色材が混じり合うこと（混色）を防止する隔壁として機能する。
【００９３】
バンク層１０５は、第１の実施の形態と同様に、フォトリソグラフィーが可能な樹脂層によって構成される。
【００９４】
発光領域１３０は、光の三原色を構成する赤，緑および青の各色を発生できる複数の発光層１０６（Ｒ），１０７（Ｇ），１０８（Ｂ）からなる。これらの発光層は、所定の配列、たとえばストライプ配列，デルタ配列，モザイク配列またはスクウェア配列などの配列パターンによって配置され、連続した３色の発光層によって１画素が構成される。
【００９５】
本実施の形態に係るカラー発光用基板２０００およびカラー発光素子２００の特徴については、後述する。
【００９６】
（カラー発光用基板の製造方法）
次に、図１０を参照しながら、カラー発光用基板の製造例の概要について説明する。図１０（Ａ）〜（Ｄ）は有機ＥＬを用いたカラー発光用基板（以下、「有機ＥＬ基板」という）の製造工程を示したものである。
【００９７】
（Ａ）第１電極およびバンク層の形成
まず、図１０（Ａ）に示すように、透明基板１０４上に、所定パターンの第１電極（以下、「画素電極」という）１０１、１０２、１０３を形成する。画素電極の形成方法としては、たとえばフォトリソグラフィー、真空蒸着、スパッタリング、パイロゾル法等が挙げられるが、フォトリソグラフィーによることが好ましい。画素電極としては、透明電極が好ましい。透明電極を構成する材料としては、酸化スズ、ＩＴＯ、酸化インジウムと酸化亜鉛との複合酸化物等が挙げられる。
【００９８】
つぎに、バンク層１０５を感光性ポリイミドで形成し、上記の各透明画素電極間を分離する。バンク層１０５は、隔壁としての機能とともにブラックマトリクス層としての機能も有するので、コントラストの向上、発光材料の混色の防止、隣接するカラードットとカラードットとの間からの光洩れ等を防止することができる。
【００９９】
バンク層１０５を構成する材料としては、ＥＬ材料の溶媒に対し耐久性を有するものであれば特に限定されないが、フロロカーボンガスプラズマ処理によりテフロン（登録商標）化できることから、たとえばアクリル樹脂、エポキシ樹脂、感光性ポリイミド等の有機材料が好ましい。液状ガラス等の無機材料を下層にした積層隔壁であってもよい。また、バンク層１０５は上記材料にカーボンブラック等を混入してブラックレジストとしてもよい。このバンク層１０５の形成方法としては、たとえばフォトリソグラフィーが挙げられる。
【０１００】
正孔注入層、さらに必要に応じて設けられる正孔輸送層のためのインクを塗布する前に、基板１０４に対して酸素ガスとフロロカーボンガスプラズマを用いて連続プラズマ処理を行うことができる。これにより、バンク層１０５の表面は撥水化され、透明画素電極１０１、１０２、１０３の表面は親水化され、インクジェットによる液滴に対する基板側の濡れ性を制御できる。プラズマを発生する装置としては、真空中でプラズマを発生する装置でも、大気中でプラズマを発生する装置でも同様に用いることができる。
【０１０１】
（Ｂ）発光層の形成
つぎに、図１０（Ａ）に示すように、正孔注入層用インクをインクジェットプリント装置１０９のヘッド１から吐出し、各画素電極１０１、１０２、１０３上にインクを供給する。その後、溶媒を除去し、さらに熱処理を行い、発光層用インクと相溶しない正孔注入層１２０を形成する。本実施の形態では、各カラードットとも同じ材質の正孔注入層を形成したが、場合によっては各発光層毎で発光層に適した正孔注入材料（または正孔輸送材料）を用いて正孔注入層（または正孔輸送層）を形成してもよい。
【０１０２】
さらに、図１０（Ｂ）に示すように、赤色発光層用インクならびに緑色発光層用インクを、順次インクジェット方式により正孔注入層１２０上に塗布する。その後、溶媒を除去し、続けて窒素雰囲気中で熱処理を行い、インク組成物を硬化または共役化させて赤色発光層１０６、緑色発光層１０７を形成した。熱処理により共役化した発光層は、溶媒に不溶である。
【０１０３】
かかるインクジェット方式によれば、微細なパターニングを簡便にかつ短時間で行うことができる、また、インクの固形分濃度および吐出量を変えることにより膜厚を変えることが可能である。
【０１０４】
また、発光層を形成する前に正孔注入層１２０に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズマの連続プラズマ処理を行ってもよい。これにより正孔注入層（または正孔輸送層）１２０上にフッ素化物層が形成され、イオン化ポテンシャルが高くなることにより、正孔注入効率の高い有機ＥＬ基板を提供できる。
【０１０５】
（Ｃ）発光層の形成
次いで、図１０（Ｃ）に示すように、青色発光層１０８を、画素電極１０３上の正孔注入層１２０上に形成する。以上の工程により、赤、緑、青の３原色の発光層１０６，１０７，１０８が形成される。
【０１０６】
青色発光層１０８の形成工程では、赤色発光層１０６および緑色発光層１０７上に、青色発光層１０８とともにこの層と同じ材料からなる層１０８ａ，１０８ａが形成される。これらの層１０８ａは、発光層１０６，１０７とバンク層１０５との段差を埋めて平坦化することができる。このバンク層１０５の相互間が平坦化されることにより、第２電極（陰極）を平坦な状態で精度良く形成できる。その結果、上下の電極間のショートなどを確実に防ぐことができる。そして、青色発光層１０８の膜厚を調整することで、赤色発光層１０６および緑色発光層１０７上に形成された層１０８ａは、電子注入輸送層として作用し、青色には発光しない。
【０１０７】
かかる青色発光層１０８の形成方法としては特に限定されず、湿式法として一般的なスピンコート法またはインクジェット法を用いることができる。
【０１０８】
本実施の形態のように、有機発光層のうちの２色をインクジェット方式により形成し、他の一色を従来の塗布方法で形成することにより、インクジェット方式にあまり適さない発光材料であっても、インクジェット方式に用いられる他の有機発光材料と組み合わせることによりフルカラーの有機ＥＬ基板を形成することができるため、素子設計の自由度が増す。インクジェット方式以外の塗布方法としては、印刷法、転写法、ディッピング法、スピンコート法、キャスト法、キャピラリー法、ロールコート法、バーコード法等が挙げられる。
【０１０９】
（Ｄ）陰極の形成
ついで、図８（Ｄ）に示すように、陰極（対向電極）１１３を形成する。陰極１１３としては金属薄膜電極が好ましく、陰極を構成する金属としては、たとえばマグネシウム、銀、アルミニウム、リチウム等が挙げられる。また、これらの他に仕事関数の小さい材料を用いることができ、たとえばアルカリ金属や、カリウム等のアルカリ土類金属およびこれらを含む合金を用いることができる。また金属のフッ素化物も適用できる。このような陰極１１３は、蒸着法およびスパッタ法等により形成することができる。
【０１１０】
さらに、陰極１１３の上に保護膜を形成してもよい。保護膜を形成することにより、陰極１１３および各発光層１０６、１０７、１０８の劣化、損傷および剥離等を防止することができる。
【０１１１】
このような保護膜の構成材料としては、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、液状ガラス等が挙げられる。また、保護膜の形成方法としては、たとえばスピンコート法、キャスティング法、ディッピング法、バーコード法、ロールコート法、キャピラリー法等が挙げられる。
【０１１２】
対向電極１１３は、カラー発光体が適用される電気光学装置の構成に応じて設けることができる。その後、カラー発光用基板２０００を所定位置で切断することで、複数のカラー発光体が形成される。
【０１１３】
上述した製造方法においては、各層の材質として公知の物質を用いることができる。また、正孔注入層、発光層などの材料としては、本願出願人による特願平１１−１３４３２０号、特願平１１−２５０４８６号に記載されたものを用いることができる。
【０１１４】
また、上述した製造方法においては、３原色の発光層うちの２色の発光層をインクジェット方式で形成した例について述べたが、もちろん、３色の全てをインクジェット方式で形成してもよい。さらに、上述した製造方法においては、カラードットを構成する正孔注入層（正孔輸送層）および発光層をインクジェット方式で形成した例について述べたが、発光層のみであってもよい。
【０１１５】
（製造方法の特徴）
図１１は、本発明に係る製造方法の特徴を説明するための平面図であり、図１０（Ａ），（Ｂ）に対応する工程を示す。図１１では、図面を簡略にするために、カラードット２００ａおよびカラードット形成領域２００ｂを示している。また、図１１では、ストライプ型の画素を形成する例を示している。
【０１１６】
本実施の形態では、カラードット２００ａは第１の実施の形態のカラードット１００ａと基本的に同じ方法によって形成される。すなわち、第１の実施の形態ではカラーフィルタ素子を構成する着色層がインクジェット方式によって形成されたのに対し、本実施の形態では、カラー発光素子を構成する、正孔注入層および発光層がインクジェット方式によって形成されている点で異なる。
【０１１７】
図１１に示す例では、ｙ方向に沿って第１基準線ＢＬ１を設定し、ｘ方向に沿って第２基準線ＢＬ２を設定する。
【０１１８】
本実施の形態では、インクジェットプリンティングに用いられるインクジェットヘッド１が基板１０４に対してｘ方向に相対的に移動されて、カラードット形成領域２００ｂ、具体的には発光領域１３０（図１０（Ａ），（Ｂ）参照）にインク（正孔注入層用インクおよび発光層用インク）が供給されて、正孔注入層および発光層が形成されて、カラードット２００ａが完成する。
【０１１９】
インクジェットヘッド１は、第１の実施の形態と同様に、複数のノズル１ａが直線状に配列されたノズル列を有する。このノズル列は、第１基準線ＢＬ１の方向に対して所定ピッチ（この例では第２ドットピッチＰｙと同じピッチ）で配置されている。さらに、インクジェットヘッド１は、そのノズル列が第１基準線ＢＬ１の方向に対して複数列（この例では２列）のカラー発光素子２００の形成領域を含むように設定されている。
【０１２０】
基準線ＢＬ１，ＢＬ２、カラー発光素子２００、カラードット２００ａおよびカラードット形成領域２００ｂは、第１の実施の形態と同様に、以下の条件（ａ）〜（ｃ）満たしている。
【０１２１】
（ａ）カラー発光素子２００のための各カラードット形成領域２００ｂは、少なくともｙ方向の第１基準線ＢＬ１に対して、ｘ方向における第１ドットピッチＰｘの整数倍の距離（Ｎ’Ｐｘ，Ｎ’は整数）に位置するように設定される。さらに、各カラードット形成領域２００ｂは、ｘ方向の第２基準線ＢＬ２に対して、ｙ方向における第２ドットピッチＰｙの整数倍の距離（ＮＰｙ，Ｎは整数）に位置するように設定される。
【０１２２】
（ｂ）カラー発光素子２００の相互間の間隔は、以下のように設定される。第２基準線ＢＬ２の方向における間隔Ｌｘ１は、第１ドットピッチＰｘの整数倍（ｎＰｘ，ｎはゼロを除く整数）に設定される。また、第１基準線ＢＬ１の方向における間隔Ｌｙ１は、第２ドットピッチＰｙの整数倍（ｎ’Ｐｙ，ｎ’はゼロを除く整数）に設定される。
【０１２３】
すなわち、第２基準線ＢＬ２の方向における第１素子ピッチＰＥｘは、第１ドットピッチＰｘの整数倍となるように設定され、第１基準線ＢＬ１の方向における第２素子ピッチＰＥｙは、第２ドットピッチＰｙの整数倍となるように設定されている。
【０１２４】
（ｃ）第１基準線ＢＬ１から第１列目のカラー発光素子２００までの間隔Ｌｘ２は、第１素子ピッチＰｘの整数倍（ｍＰｘ、ｍは整数）となるように設定されている。また、第２基準線ＢＬ２から第１列目のカラー発光素子２００までの間隔Ｌｙ１は、第２素子ピッチＰｙの整数倍（ｍ’Ｐｙ、ｍ’は整数）となるように設定されている。
【０１２５】
上記条件の（ｂ）と（ｃ）とを満たせば、条件（ａ）は満たされることになる。したがって、本実施の形態では、インクジェットヘッド１を用いたインクジェット方式によってカラードット２００ａを形成するには、上記条件（ａ）または条件（ｂ）＋（ｃ）を満たすように、インクの吐出位置が設定される。
【０１２６】
そして、基準線ＢＬ１，ＢＬ２の位置情報および、正孔注入層および発光層を形成するのに必要な情報に基づいて、所定の位置にインクが吐出され、カラードット２００ａが形成される。カラードット２００ａを形成するのに必要な情報は、インクジェットヘッドの動作方法などによって適宜選択され、たとえばカラードット形成領域の位置を特定する情報、発光層の色を特定する情報、カラードット形成領域に対する吐出タイミングを特定する情報、などが含まれる。
【０１２７】
次に、図１１を参照して、カラードット２００ａの形成方法をより具体的に説明する。図１１では、第２列目のカラーフィルタ素子における第１列目のカラードット形成領域まで、インクジェットヘッド１を移動した状態を示している。インクジェットヘッド１のノズル１ａによるインクの吐出が行われた領域は黒丸で示し、インクジェットヘッド１のノズルによるインクの吐出が行われない領域は白丸で示す。
【０１２８】
この例では、インクジェットヘッド１を基板１０に対してｘ方向に相対的に移動させ、前述したカラードットを形成するのに必要な情報に基づいて、正孔注入層、必要に応じて形成される正孔輸送層、および発光層が順次形成される。
【０１２９】
まず、正孔注入層（図１０（ａ）を参照）および必要に応じて形成される正孔輸送層が形成される。ついで、第１色（この例では赤（Ｒ））のカラードット２００ａを形成する。この例では、インクジェットヘッド１のｘ方向での１回の移動によって、ｙ方向の第１、第２列の正孔注入層、必要に応じて形成される正孔輸送層、および第１色発光層が形成される。
【０１３０】
ついで、インクジェットヘッド１を基板１０に対してｙ方向に相対的に移動させ、第３、第４列の第１色カラードットを形成する。以降は、同様にして順次２列毎に第１色カラードットを形成する。
【０１３１】
ついで、異なる色のインクジェットヘッド１を用いて、第１色と同様に、第２色（青または緑）および第３色（残りの色）のカラードット２００ａを形成することができる。このようにして、少なくとも正孔注入層および３原色の各カラードット２００ａが所定位置に形成されて、複数のカラー発光素子２００がマトリクス状に配列されたカラー発光用基板２０００が得られる。
【０１３２】
また、図１０に示した方法のように、３色のうちの１色は、インクジェット方式以外の他の塗布法によって形成してもよい。
【０１３３】
本実施の形態の製造方法によれば、第１の実施の形態と同様に、ドットピッチによって吐出タイミングを設定できるので、設計が容易となる。
【０１３４】
（カラー発光用基板の特徴）
以上の製造方法によって得られたカラー発光用基板２０００は、製造方法の特徴を反映して以下の構成を有する。
【０１３５】
（ａ）カラー発光素子２００を構成する各カラードット２００ａは、図８および図１１に示すように、ｙ方向の第１基準線ＢＬ１に対して、ｘ方向における第１ドットピッチＰｘの整数倍の距離（ＮＰｘ，Ｎは整数）に位置する。さらに、各カラードット２００ａは、ｘ方向の第２基準線ＢＬ２に対して、ｙ方向における第２ドットピッチＰｙの整数倍の距離（Ｎ’Ｐｙ，Ｎ’は整数）に位置する。
【０１３６】
（ｂ）カラー発光素子２００の相互間の間隔は、以下のようである。第２基準線ＢＬ２の方向における間隔Ｌｘ１は、第１ドットピッチＰｘの整数倍（ｎＰｘ，ｎはゼロを除く整数）である。また、第１基準線ＢＬ１の方向における間隔Ｌｙ１は、第２ドットピッチＰｙの整数倍（ｎ’Ｐｙ，ｎ’はゼロを除く整数）である。
【０１３７】
すなわち、第２基準線ＢＬ２の方向における第１素子ピッチＰＥｘは、第１ドットピッチＰｘの整数倍であり、第１基準線ＢＬ１の方向における第２素子ピッチＰＥｙは、第２ドットピッチＰｙの整数倍である。
【０１３８】
（ｃ）第１基準線ＢＬ１から第１列目のカラー発光素子２００までの間隔Ｌｘ２は、第１素子ピッチＰｘの整数倍（ｍＰｘ，ｍは整数）である。また、第２基準線ＢＬ２から第１列目のカラー発光素子２００までの間隔Ｌｙ２は、第２素子ピッチＰｙの整数倍（ｍ’Ｐｙ，ｍ’は整数）である。
【０１３９】
また、カラー発光用基板においても、デルタ配列の画素については、第１の実施の形態（図７参照）で述べたと同様のことがいえる。
【０１４０】
［第３の実施の形態］
（電気光学装置）
図１３に、第１の実施の形態のカラーフィルタ用基板１０００から得られたカラーフィルタ１０００Ａを組み込んだ電気光学装置の一例として、カラー液晶表示装置１１００の要部の断面図を示す。
【０１４１】
カラー液晶表示装置１１００は、カラーフィルタ１０００Ａと対向基板８０とを組み合わせ、両者の間に液晶組成物７０を封入することにより構成される。液晶表示装置１１００の一方の基板８０の内側の面には、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）素子（図示せず）と画素電極５２とがマトリクス状に形成される。また、もう一方の基板として、画素電極５２に対向する位置に赤，緑，青の着色層３２が配列するようにカラーフィルタ１０００Ａが設置される。基板８０とカラーフィルタ１０００Ａの対向するそれぞれの面には、配向膜６０，６２が形成されている。これらの配向膜６０，６２はラビング処理されており、液晶分子を一定方向に配列させることができる。また、基板１０および基板８０の外側の面には、偏光板９０，９２がそれぞれ接着されている。また、バックライトとしては蛍光灯（図示せず）と散乱板の組み合わせが一般的に用いられており、液晶組成物をバックライト光の透過率を変化させる光シャッターとして機能させることにより表示を行う。
【０１４２】
図１７に、第２の実施の形態を適用したカラー発光用基板２０００から得られたカラー発光体２０００Ａを組み込んだ電気光学装置の一例として、カラーＥＬ表示装置２１００の要部の断面図を示す。
【０１４３】
カラーＥＬ表示装置２１００は、基体１１２上にカラー発光体２０００Ａが配置されて構成される。カラー発光体２０００Ａの基板１０４上には、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）素子などのスイッチング素子２０２がマトリクス状に形成される。隣接するスイッチング素子２０２は、絶縁層２０６によって分離されている。
【０１４４】
発光領域１３０は、発光層１２２と、正孔注入層１２０と、第１および第２電極２０４，２０８からなる一対の電極層を含む。
【０１４５】
発光層１２２は、基板１０４の上に所定のマトリクスパターンで配列され、かつバンク層１０５によって区画されている。また、発光層１２２は、第１電極（陽極）２０４と第２電極（陰極）２０８との間に形成されている。発光層１２２は、光の三原色を構成する赤，緑および赤の各色を有する複数の発光層からなる。発光層１２２は、たとえばエレクトロルミネッセンスによって発光可能な有機材料から形成される。また、陽極２０４と発光層１２２との間に正孔注入層１２０が形成されている。
【０１４６】
［第４の実施の形態］
（電子機器）
以下に、本発明に係る電気光学装置として液晶表示装置を用いた電子機器の例を示す。
【０１４７】
（１）ディジタルスチルカメラ
本発明に係る液晶表示装置１１００をファインダに用いたディジタルスチルカメラについて説明する。図１４は、このディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図であり、さらに外部機器との接続についても簡易的に示すものである。
【０１４８】
通常のカメラは、被写体の光像によってフィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ２０００は、被写体の光像をＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｄｅｖｉｃｅ）などの撮像素子により光電変換して撮像信号を生成するものである。ここで、ディジタルスチルカメラ３０００におけるケース２２０２の背面（図１４においては前面側）には、上述した液晶表示装置１１００の液晶パネルが設けられ、ＣＣＤによる撮像信号に基づいて、表示を行う構成となっている。このため、液晶表示装置１１００は、被写体を表示するファインダとして機能する。また、ケース２２０２の前面側（図１４においては裏面側）には、光学レンズやＣＣＤなどを含んだ受光ユニット２２０４が設けられている。
【０１４９】
ここで、撮影者が液晶表示装置１１００に表示された被写体像を確認して、シャッタボタン２２０６を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板２２０８のメモリに転送・格納される。また、このディジタルスチルカメラ２０００にあっては、ケース２２０２の側面に、ビデオ信号出力端子２２１２と、データ通信用の入出力端子２２１４とが設けられている。そして、図１４に示されるように必要に応じて、前者のビデオ信号出力端子２２１２にはテレビモニタ２３００が接続され、また、後者のデータ通信用の入出力端子２２１４にはパーソナルコンピュータ２４００が接続される。さらに、所定の操作によって、回路基板２２０８のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ２３００や、パーソナルコンピュータ２４００に出力される構成となっている。
【０１５０】
（２）携帯電話、その他の電子機器
図１５（Ａ）、（Ｂ）、および（Ｃ）は、本発明に係る電気光学装置として液晶表示装置を用いた、他の電子機器の例を示す外観図である。図１５（Ａ）は、携帯電話機４０００であり、その前面上方に液晶表示装置１１００を備えている。図１５（Ｂ）は、腕時計５０００であり、本体の前面中央に液晶表示装置１１００を用いた表示部が設けられている。図１５（Ｃ）は、携帯情報機器５０００であり、液晶表示装置１１００からなる表示部と入力部５１００とを備えている。
【０１５１】
これらの電子機器は、液晶表示装置１１００の他に、図示しないが、表示情報出力源、表示情報処理回路、クロック発生回路などの様々な回路や、それらの回路に電力を供給する電源回路などからなる表示信号生成部を含んで構成される。表示部には、例えば携帯情報機器６０００の場合にあっては入力部５１００から入力された情報等に基づき表示信号生成部によって生成された表示信号が供給されることによって表示画像が形成される。
【０１５２】
本発明に係る液晶表示装置１１００が組み込まれる電子機器としては、ディジタルスチルカメラ、携帯電話機、腕時計、および携帯情報機器に限らず、電子手帳、ページャ、ＰＯＳ端末、ＩＣカード、ミニディスクプレーヤ、液晶プロジェクタ、マルチメディア対応のパーソナルコンピュータ（ＰＣ）およびエンジニアリング・ワークステーション（ＥＷＳ）、ノート型パーソナルコンピュータ、ワードプロセッサ、テレビ、ビューファインダ型またはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、電子手帳、電子卓上計算機、カーナビゲーション装置、タッチパネルを備えた装置、時計など様々な電子機器が考えられる。
【０１５３】
なお、液晶表示パネルは、駆動方式で言えば、パネル自体にスイッチング素子を用いない単純マトリクス液晶表示パネルやスタティック駆動液晶表示パネル、またＴＦＴ（薄膜トランジスタ）で代表される三端子スイッチング素子あるいはＴＦＤ（薄膜ダイオード）で代表される二端子スイッチング素子を用いたアクティブマトリクス液晶表示パネル、電気光学特性で言えば、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ゲストホスト型、相転移型、強誘電型など、種々のタイプの液晶パネルを用いることができる。
【０１５４】
本発明に係る装置は、そのいくつかの特定の実施の形態に従って説明してきたが、本発明はその要旨の範囲内で種々の変形が可能である。例えば上述した実施の形態では、電気光学装置の映像表示手段（電気光学表示部）として液晶表示装置やＥＬ表示装置を使用した場合について説明したが、本発明ではこれに限定されず、例えば薄型のブラウン管、あるいは液晶シャッター等を用いた小型テレビ、エレクトロルミネッセンス、プラズマディスプレイ、ＣＲＴディスプレイ、ＦＥＤ（Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）パネル、電気泳動ディスプレイ等の種々の電気光学手段を使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態にかかるカラーフィルタ用基板を模式的に示す斜視図である。
【図２】図１に示すカラーフィルタ用基板を構成するカラーフィルタ素子を示す平面図である。
【図３】図２のＡ−Ａ線に沿った部分を模式的に示す部分断面図である。
【図４】（Ａ）〜（Ｄ）は、図１ないし図３に示すカラーフィルタ用基板の製造工程を模式的に示す部分断面図である。
【図５】（Ａ）〜（Ｄ）は、図１ないし図３に示すカラーフィルタ用基板の製造工程を模式的に示す部分断面図である。
【図６】第１の実施の形態にかかるカラーフィルタ用基板の製造方法を模式的に示す平面図である。
【図７】第１の実施の形態にかかるカラーフィルタ用基板であって、デルタ型の配列を有するカラーフィルタ素子を有するカラーフィルタ用基板の製造方法を示す平面図である。
【図８】本発明の第２の実施の形態にかかるカラー発光用基板を模式的に示す斜視図である。
【図９】図８に示すカラー発光用基板を構成するカラー発光素子を示す平面図である。
【図１０】（Ａ）〜（Ｄ）は、図８および図９に示すカラー発光用基板の製造工程を模式的に示す部分断面図である。
【図１１】第２の実施の形態にかかるカラー発光用基板の製造方法を模式的に示す平面図である。
【図１２】実効ノズル列長を説明するための図である。
【図１３】本発明の第３の実施の形態に係る電気光学装置の一例としての液晶表示装置を模式的に示す断面図である。
【図１４】本発明に係る電子機器の一例としてのデジタルスチルカメラを示す斜視図である。
【図１５】（Ａ）〜（Ｃ）は、本発明に係る電子機器の適用例を示し、（Ａ）は携帯電話機であり、（Ｂ）は腕時計であり、（Ｃ）は携帯情報機器である。
【図１６】第１の実施の形態にかかるカラーフィルタ用基板の変形例を示し、（ａ）はカラーフィルタ素子の平面図であり、（ｂ）は（ａ）のＤ−Ｄ線に沿った断面図であり、（ｃ）は（ａ）のＥ−Ｅ線に沿った断面図である。
【図１７】本発明の第３の実施の形態に係る電気光学装置の一例としてのＥＬ表示装置を模式的に示す断面図である。
【符号の説明】
１０，１０４ 基板
２０ 遮光領域
２２ 遮光層
２４ バンク層
２６ 反射層
２８ 透過層
３０ 透過領域
３２ 着色層
４０ オーバーコート層
５０ 共通電極
５２ 画素電極
６０，６２ 配向膜
７０ 液晶層
８０ 基板
９０，９２ 偏光板
１００ カラーフィルタ素子
１００ａ カラードット
１００ｂ カラードット形成領域
１０１，１０２，１０３ 画素電極
１０６，１０７，１０８ 発光層
１２２ 発光層
１３０ 発光領域
２００ カラー発光素子
２００ａ カラードット
２００ｂ カラードット形成領域
２０２ スイッチング素子
２０４ 第１電極（陽極）
２０８ 第２電極（陰極）
１０００ カラーフィルタ用基板
１０００Ａ カラーフィルタ
１１００ 液晶表示装置
２０００ カラー発光用基板
２１００ カラーＥＬ表示装置
３０００ ディジタルスチルカメラ
４０００ パーソナルコンピュータ
５０００ 腕時計
６０００ 携帯情報機器
Ｐｘ，Ｐｙ ドットピッチ
ＰＥｘ，ＰＥｙ 素子ピッチ
ＢＬ１ 第１基準線
ＢＬ２ 第２基準線

Claims (38)

1. カラー表示用基板において、
   マトリクス状に配列された複数のカラー表示素子と、
   前記複数のカラー表示素子の各々を構成する複数の画素と、
   前記複数の画素の各々を構成する複数のカラードットと、を備え、
   前記複数のカラードットは、第１基準線と直交する方向において第１ドットピッチを有し、
   前記複数のカラードットの各々は、少なくとも前記第１基準線に対して第１ドットピッチの実質的に整数倍の距離に位置することを特徴とするカラー表示用基板。
2. 請求項１において、
   さらに、前記カラー表示素子の複数のカラードットは、前記第１基準線と直交する第２基準線に対して、該第２基準線と直交する方向において第２ドットピッチを有し、
   前記複数のカラードットの各々は、少なくとも前記第２基準線に対して第２ドットピッチの実質的に整数倍の距離に位置することを特徴とするカラー表示用基板。
3. 請求項２において、
   前記カラー表示素子の相互間の間隔は、前記第１基準線の方向においては、前記第２ドットピッチの実質的に整数倍であり、かつ前記第２基準線の方向においては、前記第１ドットピッチの実質的に整数倍であることを特徴とするカラー表示用基板。
4. 請求項３において、
   前記カラー表示素子は、前記第２基準線の方向において第１素子ピッチを有し、かつ前記第１基準線の方向において第２素子ピッチを有し、
   前記カラー表示素子の配列は、前記第１基準線の方向においては、第２素子ピッチの実質的に整数倍であり、かつ前記第２基準線の方向においては、第１素子ピッチの実質的に整数倍であることを特徴とするカラー表示用基板。
5. 請求項１ないし４のいずれかにおいて、
   前記カラー表示素子は、前記画素の配列がストライプ型、モザイク型、デルタ型およびスクウェア型のいずれかであることを特徴とするカラー表示用基板。
6. 請求項１ないし４のいずれかにおいて、
   前記カラードットはノズルから吐出された液滴によって形成されてなることを特徴とするカラー表示用基板。
7. 請求項１ないし４のいずれかにおいて、
   前記カラードットは、カラー表示層と該カラー表示層を区画するためのバンク層を含むことを特徴とするカラー表示用基板。
8. カラーフィルタ用基板において、
   マトリクス状に配列された複数のカラーフィルタ素子と、
   前記複数のカラーフィルタ素子の各々を構成する複数の画素と、
   前記複数の画素の各々を構成する複数のカラードットと、を備え、
   前記複数のカラードットは、第１基準線と直交する方向において第１ドットピッチを有し、
   前記複数のカラードットの各々は、少なくとも前記第１基準線に対して第１ドットピッチの実質的に整数倍の距離に位置することを特徴とするカラーフィルタ用基板。
9. 請求項８において、
   さらに、前記カラーフィルタ素子の複数のカラードットは、前記第１基準線と直交する第２基準線に対して、該第２基準線と直交する方向において第２ドットピッチを有し、
   前記複数のカラードットの各々は、少なくとも前記第２基準線に対して第２ドットピッチの実質的に整数倍の距離に位置することを特徴とするカラーフィルタ用基板。
10. 請求項９において、
    前記カラーフィルタ素子の相互間の間隔は、前記第１基準線の方向においては、前記第２ドットピッチの実質的に整数倍であり、かつ前記第２基準線の方向においては、前記第１ドットピッチの実質的に整数倍であることを特徴とするカラーフィルタ用基板。
11. 請求項１０において、
    前記カラーフィルタ素子は、前記第２基準線の方向において第１素子ピッチを有し、かつ前記第１基準線の方向において第２素子ピッチを有し、
    前記カラーフィルタ素子の配列は、前記第１基準線の方向においては、第２素子ピッチの実質的に整数倍であり、かつ前記第２基準線の方向においては、第１素子ピッチの実質的に整数倍であることを特徴とするカラーフィルタ用基板。
12. 請求項８ないし１１のいずれかにおいて、
    前記カラードットはノズルから吐出された液滴によって形成されてなることを特徴とするカラーフィルタ用基板。
13. 請求項１２において、
    前記カラードットは、着色層と該着色層を区画するためのバンク層を含むことを特徴とするカラーフィルタ用基板。
14. カラー発光用基板において、
    マトリクス状に配列された複数のカラー発光素子と、
    前記複数のカラー発光素子の各々を構成する複数の画素と、
    前記複数の画素の各々を構成する複数のカラードットと、を備え、
    前記複数のカラードットは、第１基準線と直交する方向において第１ドットピッチを有し、
    前記複数のカラードットの各々は、少なくとも前記第１基準線に対して第１ドットピッチの実質的に整数倍の距離に位置することを特徴とするカラー発光用基板。
15. 請求項１４において、
    さらに、前記カラー発光素子の複数のカラードットは、前記第１基準線と直交する第２基準線に対して、該第２基準線と直交する方向において第２ドットピッチを有し、
    前記複数のカラードットの各々は、少なくとも前記第２基準線に対して第２ドットピッチの実質的に整数倍の距離に位置することを特徴とするカラー発光用基板。
16. 請求項１５において、
    前記カラー発光素子の相互間の間隔は、前記第１基準線の方向においては、前記第２ドットピッチの実質的に整数倍であり、かつ前記第２基準線の方向においては、前記第１ドットピッチの実質的に整数倍であることを特徴とするカラー発光用基板。
17. 請求項１６において、
    前記カラー発光素子は、前記第２基準線の方向において第１素子ピッチを有し、かつ前記第１基準線の方向において第２素子ピッチを有し、
    前記カラー発光素子の配列は、前記第１基準線の方向においては、第２素子ピッチの実質的に整数倍であり、かつ前記第２基準線の方向においては、第１素子ピッチの実質的に整数倍であることを特徴とするカラー発光用基板。
18. 請求項１４ないし１７のいずれかにおいて、
    前記カラードットはノズルから吐出された液滴によって形成されてなることを特徴とするカラー発光用基板。
19. 請求項１８において、
    前記カラードットは、発光層と該発光層を区画するためのバンク層を含むことを特徴とするカラー発光用基板。
20. 請求項１９において、
    前記発光層は、エレクトロルミネッセンス材料を含むことを特徴とするカラー発光用基板。
21. カラー表示用基板の製造方法において、
    入力されたデータに応じて液滴を選択的にノズルから吐出することによって複数のカラードットを形成する工程を備え、
    前記複数のカラードットは、複数の画素を構成し、
    前記複数の画素は、複数のカラー表示素子を構成し、
    前記複数のカラー表示素子は、マトリクス状に配列され、
    前記複数のカラードットは、第１基準線と直交する方向において第１ドットピッチを有し、
    前記複数のカラードットの各々を、少なくとも前記第１基準線に対して前記第１ドットピッチの実質的に整数倍の距離に位置するように形成することを特徴とするカラー表示用基板の製造方法。
22. 請求項２１において、
    さらに、前記カラー表示素子の複数のカラードットの形成領域は、前記第１基準線と直交する第２基準線に対して、該第２基準線と直交する方向において第２ドットピッチを有し、
    前記複数のカラードットの各々は、少なくとも前記第２基準線に対して第２ドットピッチの実質的に整数倍の距離に位置するように設定されることを特徴とするカラー表示用基板の製造方法。
23. 請求項２２において、
    前記カラー表示素子の相互間の間隔は、前記第１基準線の方向においては、前記第２ドットピッチの実質的に整数倍であり、かつ前記第２基準線の方向においては、前記第１ドットピッチの実質的に整数倍であるように設定されることを特徴とするカラー表示用基板の製造方法。
24. 請求項２３において、
    前記カラー表示素子は、前記第２基準線の方向において第１素子ピッチを有し、かつ前記第１基準線の方向において第２素子ピッチを有し、
    前記カラー表示素子の配列は、前記第１基準線の方向においては、第２素子ピッチの実質的に整数倍であり、かつ前記第２基準線の方向においては、第１素子ピッチの実質的に整数倍であるように設定されることを特徴とするカラー表示用基板の製造方法。
25. 請求項２１ないし２４のいずれかにおいて、
    前記カラー表示素子は、前記画素の配列がストライプ型、モザイク型、デルタ型およびスクウェア型のいずれかであることを特徴とするカラー表示用基板の製造方法。
26. 請求項２１ないし２４のいずれかにおいて、
    前記カラードットのカラー表示層を区画するためのバンク層を形成する工程と、
    前記バンク層によって区画された領域に液滴を供給する工程と、を備えることを特徴とするカラー表示用基板の製造方法。
27. 請求項２１ないし２４のいずれかにおいて、
    前記液滴の吐出を行うための液滴吐出用ヘッドは、複数のノズルが直線状に配列されたノズル列を有し、該ノズル列は、前記第１基準線の方向において所定ピッチで配置され、かつ、前記第１基準線の方向において複数のカラー表示素子の形成領域を含む実効ノズル列長を有し、
    前記実効ノズル列長は、前記液滴吐出用ヘッドを前記第１基準線に対して所定角度傾けたときに、該第１基準線に対するノズル列の長さである、ことを特徴とするカラー表示用基板の製造方法。
28. 請求項２７において、
    前記ノズル列は、前記第１基準線の方向における前記実効ノズル列長が前記カラー表示素子の第２素子ピッチの実質的に整数倍であることを特徴とするカラー表示用基板の製造方法。
29. 請求項２１ないし２４のいずれかにおいて、
    前記カラー表示素子はカラーフィルタ素子を含むことを特徴とするカラー表示用基板の製造方法。
30. 請求項２６において、
    前記カラー表示層は着色層を含むことを特徴とするカラー表示用基板の製造方法。
31. 請求項２１ないし２４のいずれかにおいて、
    前記カラー表示素子はカラー発光素子を含むことを特徴とするカラー表示用基板の製造方法。
32. 請求項２６において、
    前記カラー表示層は発光層を含むことを特徴とするカラー表示用基板の製造方法。
33. 請求項３２において、
    前記発光層は、エレクトロルミネッセンス材料を含むことを特徴とするカラー発光用基板。
34. 請求項１ないし７に記載のいずれかのカラー表示用基板から得られたカラー表示体を含むことを特徴とする電気光学装置。
35. 請求項８ないし１１に記載のいずれかのカラーフィルタ用基板から得られたカラーフィルタと、
    前記カラーフィルタと所定間隔を置いて配置される対向基板と、
    前記カラーフィルタと前記対向基板との間に配置される電気光学材料層と、を含むことを特徴とする電気光学装置。
36. 請求項３５において、
    前記電気光学材料層は、液晶材料層であることを特徴とする電気光学装置。
37. 請求項１４ないし１７に記載のいずれかのカラー発光用基板から得られたカラー発光体を含むことを特徴とする電気光学装置。
38. 請求項３４ないし３７に記載のいずれかの電気光学装置を含むことを特徴とする電子機器。

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