JP2003084126A - カラーフィルタの製造方法及び製造装置、液晶表示装置の製造方法及び製造装置、ｅｌ発光層配設基板の製造方法及び製造装置、ｅｌ発光装置の製造方法及び製造装置、成膜方法及び成膜装置、電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 カラーフィルタ等といった光学部材をインク
ジェットヘッドの走査によって製造する際、インクジェ
ットヘッドの全てのノズルが画素の形成される領域上を
正確に通過できるようにして、ノズルからのインクの吐
出位置の精度を高め、ノズルの使用効率（従って、描画
効率）を高め、画素ごとの色のバラツキを防止し、光学
部材の光学特性を平面的に均一化する。 【解決手段】 ノズル２７を備えた複数のインクジェッ
トヘッド２２によって基板２を主走査及び副走査するカ
ラーフィルタ１の製造方法である。複数のインクジェッ
トヘッド２２のうち隣り合うヘッド２２のそれぞれの最
端部に位置するノズル２７同士の相互間隔をＷとし、ノ
ズル２７の一定の配列ピッチをＤとしたとき、 Ｗ＝ｍＤ （但し、ｍは２以上の整数） とし、さらに、ヘッド２２の副走査移動ピッチをＰとし
たとき、 Ｐ＝ｎＤ （但し、ｎは１以上の整数） とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーフィルタの
製造方法及び製造装置、液晶表示装置の製造方法及び製
造装置、ＥＬ発光層配設基板の製造方法及び製造装置、
ＥＬ発光装置の製造方法及び製造装置に関する。また、
本発明は、ヘッドによって基板を走査しながら該基材上
に吐出物を吐出するヘッドの走査方法及びヘッドの走査
装置に関する。また、本発明は、基板上に膜を形成する
成膜方法及び成膜装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、携帯電話機、携帯型コンピュータ
等といった電子機器の表示部に、液晶表示装置、ＥＬ発
光装置等といった表示装置が広く用いられている。ま
た、このような表示装置を用いて電子機器の表示部をフ
ルカラーで表示することが多くなっている。

【０００３】液晶表示装置によるフルカラー表示は、例
えば、液晶層によって変調される光をカラーフィルタに
通すことによって行われる。このようなカラーフィルタ
は、ガラス、プラスチック等からなる基板の表面に、Ｒ
（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）のドット状の各色フィル
タエレメントをストライプ配列、デルタ配列又はモザイ
ク配列等といった所定の配列で配設することによって形
成される。

【０００４】また、ＥＬ発光装置によるフルカラー表示
は、例えば、ガラス、プラスチック等からなる基板の表
面に、Ｒ、Ｇ、Ｂのドット状の各色ＥＬ発光層をストラ
イプ配列、デルタ配列又はモザイク配列等といった所定
の配列で配設してＥＬ発光層配設基板を形成し、このＥ
Ｌ発光層配設基板のＥＬ発光層を一対の電極で挟持して
複数の表示ドットを形成し、これらの電極に印加する電
圧を表示ドットごとに制御して表示ドットを所望の色で
発光させることにより行われる。

【０００５】従来、カラーフィルタのＲ、Ｇ、Ｂの各色
のフィルタエレメントをパターニングする場合や、ＥＬ
発光層配設基板のＲ、Ｇ、Ｂの各ＥＬ発光層をパターニ
ングする場合には、フォトリソグラフィ法が用いられて
きた。しかしながら、このフォトリソグラフィ法では、
表示ドットごとに異なるパターンのマスクを用いて、露
光、現像、洗浄等といった煩雑な工程を行うことが必要
であると共に、各色材料及びフォトレジストを多量に消
費するのでコストが高くなる等といった問題があった。

【０００６】この問題を解消するため、インクジェット
法によってフィルタ材料やＥＬ発光材料等をドット状に
吐出することにより、フィルタエレメントやＥＬ発光層
等を形成する方法が提案されている。このインクジェッ
ト法は、例えば、圧電体薄膜素子を備えたインクジェッ
トヘッドを用いて行われる。

【０００７】このインクジェットヘッド法では、インク
ジェットヘッドの加圧室に画素形成用のインクを貯蔵
し、上記の圧電体素子の振動による加圧室の体積変化に
よって当該インクを吐出し、これにより、カラーフィル
タの基板上に画素を形成する。このインクジェット法に
よれば、カラーフィルタ等の生産効率を向上させること
が可能である。またさらに、このインクジェット法では
インク量の高度な制御が可能であるため、高精細なカラ
ーフィルタを効率的に製造できる。

【０００８】図２５及び図２６に、インクジェット法に
よってフィルタ材料やＥＬ発光材料等をドット状に吐出
することによりドット状配列のフィルタエレメントやＥ
Ｌ発光層等を形成する方法の一例を示す。

【０００９】図２５（ａ）に示すように、ガラス、プラ
スチック等からなる大面積の基板（いわゆる、マザーボ
ード）３０１の表面に形成された複数のパネル領域３０
２の内部領域に、図２５（ｂ）に示すように、ドット状
に配列された複数のフィルタエレメント３０３を、図２
５（ｃ）に示すような複数のノズル３０４を列状に配列
したノズル列３０５を備えたインクジェットヘッド３０
６を用いて、インクジェット法に基づいて形成してい
る。

【００１０】この場合、例えば、図２５（ｂ）に示すよ
うに、インクジェットヘッド３０６を、矢印Ａ１及び矢
印Ａ２で示す方向に、１個のパネル領域３０２に関して
複数回、図２５（ｂ）に示す場合は２回、主走査させな
がら、それらの主走査の間に複数のノズル３０４から選
択的にインク、例えばフィルタ材料を吐出することによ
って、所望の位置にフィルタエレメント３０３を形成し
ている。

【００１１】ここで、フィルタエレメント３０３は、Ｒ
（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）の各色をストライプ配
列、デルタ配列又はモザイク配列等の形態で配列するこ
とによって形成される。従って、図２５（ｂ）に示すイ
ンクジェットヘッド３０６によるフィルタエレメント３
０３の形成は、Ｒ、Ｇ、Ｂのうちの１色だけを吐出する
インクジェットヘッド３０６をＲ，Ｇ，Ｂの３色に対応
して予め３種類用意しておき、これらのインクジェット
ヘッド３０６を３色に対応して順繰りに用いて、１枚の
マザーボード３０１上にＲ，Ｇ，Ｂの３色配列を形成す
ることによって行っている。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】ところで、インクジェ
ットヘッド３０６においては、一般に、ノズル列３０５
を構成する複数のノズル３０４のインク吐出量にバラツ
キがある。例えば、インクジェットヘッド３０６は、図
２６（ａ）に示すように、ノズル列３０５の両端部に対
応する位置の吐出量が多く、その中央部がその次に多
く、それらの中間部の吐出量が少ないというインク吐出
特性Ｑを有することがある。なお、図２６（ａ）におい
てはノズル３０４の数が１８０個の場合を示している。

【００１３】このようなインク吐出量のバラツキを考慮
すると、図２５（ｂ）に示すようにしてインクジェット
ヘッド３０６によってフィルタエレメント３０３を形成
した場合、図２６（ｂ）において、インクジェットヘッ
ド３０６の両端部に位置するノズルに対応するフィルタ
エレメント３０３の形成領域Ｐ１又は中央部に位置する
ノズルに対応するフィルタエレメント３０３の形成領域
Ｐ２に、濃度の濃いスジが形成されて、カラーフィルタ
の平面的な光透過特性又は反射特性が不均一になるとい
う問題があった。また、場合によっては、形成領域Ｐ１
及びＰ２の両方に濃度の濃いスジが形成されることもあ
った。

【００１４】また、このようなインクジェット法により
カラーフィルタを製造する場合には、インクジェットヘ
ッドのノズルが画素、すなわち表示ドット、の形成され
る領域上を正確に通過し、かつ適切な位置でインクが吐
出されるように、インクジェットヘッドを正確に移動さ
せることが要請される。しかしながら、この問題に対し
ては、必ずしも十分な解決が図られていないのが現状で
ある。

【００１５】このことを具体的に説明すれば、次の通り
である。すなわち、インクの吐出によるフィルタエレメ
ントやＥＬ発光層の形成時、すなわち画素の形成時、１
つの画素形成領域に入れるべきインクが隣接する他の画
素形成領域に漏れて混色が発生することを防止するため
には、ノズルを画素形成領域の真上を通過させることに
より、インク滴をできるだけ画素の中心に付着させる必
要がある。仮に、ノズルが画素形成領域の真上にない場
合には、ノズルからインクを吐出することができない。

【００１６】このような理想がある一方で、ヘッド改行
方向（すなわち、副走査方向）における画素相互の配列
間隔（すなわち、フィルタエレメントピッチ又は画素ピ
ッチ）と、副走査方向のノズル相互の配列間隔（すなわ
ち、ノズルピッチ）とは、通常、一致することはない。
この状態で、インクジェットヘッドを単に主走査しただ
けでは画素形成領域の真上を通過しないノズル、すなわ
ち使用することができないノズルが発生し、ノズルの使
用効率（すなわち、描画効率）が低下するという問題が
発生する。この問題に対しては、従来、必ずしも十分な
解決が図られていない。

【００１７】本発明は、上記の問題に鑑みてなされたも
のであって、カラーフィルタやＥＬ発光層配設基板を製
造する際における、インクジェットヘッドの走査時に、
当該インクジェットヘッドの全てのノズルが画素の形成
される領域上を正確に通過できるようにすることによ
り、ノズルの使用効率（すなわち、描画効率）を高くす
ることを目的とする。

【００１８】また、本発明は、インクジェットヘッドを
対象物に対して正確に移動させることにより、インクを
対象物上の適切な位置に吐出できるようにし、これによ
り、画素ごとの色のバラツキを防止して、カラーフィル
タの光透過特性や、液晶表示装置のカラー表示特性や、
ＥＬ発光層の発光特性等のような光学部材の光学特性を
平面的に均一化することを目的とする。

【００１９】

【課題を解決するための手段】本発明者等は上記の目的
を達成するため鋭意研究した結果、複数のインクジェッ
トヘッドのうちの互いに隣り合うもののそれぞれの最端
部に位置するノズルであって、互いに最も近接するノズ
ル同士の相互間隔（Ｗ）、及びプリントヘッドをヘッド
走査方向及びヘッド改行方向（すなわち、縦横の方向）
に主走査及び副走査させる際の改行方向の副走査移動ピ
ッチ（Ｐ）を、ノズルの一定の配列ピッチ（Ｄ）の実質
的な整数倍に特定することにより、上記目的を達成でき
ることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発
明によって、以下のカラーフィルタの製造方法及び製造
装置、液晶表示装置の製造方法及び製造装置、ＥＬ発光
層配設基板の製造方法及び製造装置、ＥＬ発光装置の製
造方法及び製造装置、並びに成膜方法及び成膜装置が提
供される。

【００２０】（１） 本発明に係るカラーフィルタの製
造方法は、複数のノズルが所定のピッチで配列された複
数のヘッドを、ヘッド走査方向に移動させて基板を主走
査する工程と、前記ヘッド走査方向に交差するヘッド改
行方向に所定の移動ピッチで移動させて前記基板を副走
査する工程と、前記複数のノズルからフィルタ材料を前
記基板上のフィルタエレメント形成領域に吐出する工程
とを備え、前記複数のヘッドのうち隣り合うヘッドのそ
れぞれの最端部に位置する前記ノズル同士の相互間隔
（Ｗ）および前記ノズルの一定の配列ピッチ（Ｄ）は、 Ｗ＝ｍＤ （但し、ｍは２以上の整数） の関係式を実質的に満足し、前記ヘッドの副走査移動ピ
ッチ（Ｐ）および前記ノズルの一定の配列ピッチ（Ｄ）
は、 Ｐ＝ｎＤ （但し、ｎは１以上の整数） の関係式を実質的に満足することを特徴とする。

【００２１】この構成により、ヘッドの１回の主走査に
おいて、画素の形成される領域近傍を通過するにもかか
わらず、隣接画素にインクを吐出してしまうおそれを減
少させることができる。また、全ての主走査において、
インクを吐出することができないノズルを減少させる
か、又はなくすことが可能となり、それ故、ノズルの使
用効率（すなわち、描画効率）を向上させることができ
る。さらに、ヘッドの走査回数との関連で、効率よくフ
ィルタエレメントを配設することができる。

【００２２】さらに、ヘッドによって、ほぼ必要量のフ
ィルタ材料を吐出するだけで、希望領域内のフィルタエ
レメントを形成することができるようになり、このた
め、フォトリソグラフィ法を用いる場合のような、露
光、現像、洗浄等といった複雑な工程を経る必要もな
く、また、製造上必要なフィルタ材料の使用量を削減す
ることができる。

【００２３】（２） 上記構成のカラーフィルタの製造
方法においては、前記ヘッドを前記ヘッド改行方向に対
して０°＜θ＜１８０°の角度で配列することができ、
前記隣り合うヘッドのそれぞれの最端部に位置する前記
ノズル同士の相互間隔（Ｗ）および前記ノズルの前記ヘ
ッド改行方向の配列ピッチ（Ｄｃｏｓθ）は、 Ｗ＝ｍＤｃｏｓθ（但し、ｍは２以上の整数） の関係式を実質的に満足するように構成でき、さらに、
前記ヘッドの前記ヘッド改行方向の副走査移動ピッチ
（Ｐ）および前記ノズルの前記ヘッド改行方向の配列ピ
ッチ（Ｄｃｏｓθ）は、 Ｐ＝ｎＤｃｏｓθ（但し、ｎは１以上の整数） の関係式を実質的に満足するように構成できる。

【００２４】この構成によれば、副走査方向の各フィル
タエレメント間の間隔（すなわち、フィルタエレメント
ピッチ）に対してノズル配列ピッチを実質的に整数倍に
することができるため、インクジェットヘッド内の全て
のノズルを用いて効率よく、フィルタエレメントを配設
することができる。

【００２５】（３） 上記構成のカラーフィルタの製造
方法において、前記ヘッドの端部に位置する前記ノズル
は、前記基板上の前記フィルタエレメント形成領域に前
記フィルタ材料を吐出しないように構成することが望ま
しい。

【００２６】この構成によれば、インクの吐出分布特性
が大きく変化するようなインクジェットヘッドを用いる
場合であっても、そのインクジェットヘッドから適切な
量のインクを吐出することができ、それ故、基板のフィ
ルタエレメント形成領域、すなわち画素形成領域に均一
な平面形状及び厚さを有するフィルタエレメントを配設
することができ、それ故、画素ごとの色のバラツキを防
止することができる。 （４） 上記構成のカラーフィルタの製造方法において
は、前記フィルタ材料を複数色のインクから構成し、そ
して、前記複数のヘッドのそれぞれに含まれる前記複数
のノズルが前記複数色のうちの一部を吐出するように構
成できる。

【００２７】仮に、全てのヘッドが一部のインクだけを
吐出するものであるとすると、残りの種類の色を別の機
械を用いて又はインク交換をして対応する必要がある。
これに対し、上記の構成によれば、異なる色のインクを
ヘッドごとに同時に吐出することが可能になり、それ
故、基板のフィルタエレメント形成領域、すなわち画素
形成領域にフィルタエレメントを配設する際のノズルの
使用効率、すなわち描画効率を高めることができる。

【００２８】ここで、複数色としては一般にはＲ
（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）の３種類のインクを用い
るが、例えば、Ｃ（シアン）、Ｍ（マゼンダ）及びＹ
（イエロー）等のインクを用いることももちろん可能で
ある。

【００２９】（５） 上記構成のカラーフィルタの製造
方法においては、前記フィルタ材料を複数色のインクか
ら構成し、そして、前記複数のヘッドのそれぞれに含ま
れる前記複数のノズルが前記複数色のそれぞれを吐出す
るように構成できる。

【００３０】仮に、ノズルが一部のインクだけを吐出す
るものであり、ヘッドの全てが同じ種類のインクを吐出
する場合には、残りの色を別の機械を用いて又はインク
交換をして対応する必要がある。これに対し、上記の構
成によれば、複数色のそれぞれの色のインクをノズルご
とに同時に吐出することが可能になり、それ故、基板の
フィルタエレメント形成領域、すなわち画素形成領域に
フィルタエレメントを配設する際の描画効率を高めるこ
とができる。

【００３１】ここで、複数色としては一般的にはＲ
（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）の３種類のインクを用い
るが、例えば、Ｃ（シアン）、Ｍ（マゼンダ）及びＹ
（イエロー）を用いてももちろんかまわない。

【００３２】（６） 次に、本発明に係るカラーフィル
タの製造装置は、液滴状のフィルタ材料を吐出する複数
のノズルと、前記複数のノズルを一定の配列ピッチ
（Ｄ）で配列した複数のヘッドと、前記ヘッドをヘッド
走査方向に移動させる主走査駆動手段と、前記ヘッドを
前記ヘッド走査方向に交差するヘッド改行方向に所定の
移動ピッチ（Ｐ）で移動させる副走査駆動手段とを有
し、前記複数のヘッドのうち隣り合うヘッドのそれぞれ
の最端部に位置する前記ノズル同士の相互間隔（Ｗ）お
よび前記ノズルの一定の配列ピッチ（Ｄ）は、 Ｗ＝ｍＤ（但し、ｍは２以上の整数） の関係式を実質的に満たし、前記ヘッドの副走査移動ピ
ッチ（Ｐ）および前記ノズルの一定の配列ピッチ（Ｄ）
は、 Ｐ＝ｎＤ（但し、ｎは１以上の整数） の関係式を実質的に満たすことを特徴とする。

【００３３】この構成により、ヘッドの１回の主走査に
おいて、画素の形成される領域近傍を通過するにもかか
わらず、隣接画素にインクを吐出してしまうおそれを減
少させることができる。また、全ての主走査において、
インクを吐出することができないノズルを減少させる
か、又はなくすことが可能となり、それ故、ノズルの使
用効率（すなわち、描画効率）を向上させることができ
る。さらに、ヘッドの走査回数との関連で、効率よくフ
ィルタエレメントを配設することができる。

【００３４】（７） 上記構成のカラーフィルタの製造
装置においては、前記ヘッドを前記ヘッド改行方向に対
して０°＜θ＜１８０°の角度で配列でき、前記隣り合
うヘッドのそれぞれの最端部に位置する前記ノズル同士
の相互間隔（Ｗ）および前記ノズルの前記ヘッド改行方
向の配列ピッチ（Ｄｃｏｓθ）は、 Ｗ＝ｍＤｃｏｓθ（但し、ｍは２以上の整数） の関係式を実質的に満足するように構成でき、さらに、
前記ヘッドの前記ヘッド改行方向の副走査移動ピッチ
（Ｐ）および前記ノズルの前記ヘッド改行方向の配列ピ
ッチ（Ｄｃｏｓθ）は、 Ｐ＝ｎＤｃｏｓθ（但し、ｎは１以上の整数） の関係式を実質的に満足するように構成できる。

【００３５】この構成によれば、副走査方向の各フィル
タエレメント間の間隔（すなわち、フィルタエレメント
ピッチ）に対してノズル配列ピッチを実質的に整数倍に
することができるため、インクジェットヘッド内の全て
のノズルを用いて効率よく、フィルタエレメントを配設
することができる。

【００３６】（８） 次に、本発明に係る液晶表示装置
の製造方法は、カラーフィルタを形成する工程を備えた
液晶表示装置の製造方法であって、以上に記載したカラ
ーフィルタの製造方法によってカラーフィルタを形成す
ることを特徴とする。このカラーフィルタの製造方法に
よれば、光学特性に優れたカラーフィルタを備え、カラ
ー表示特性が平面的に均一化された液晶表示装置を効率
よく製造することができる。

【００３７】（９） 次に、本発明に係る液晶表示装置
の製造装置は、カラーフィルタを備えた液晶表示装置を
製造する液晶表示装置の製造装置であって、以上に記載
したカラーフィルタの製造装置を備えてなることを特徴
とする。このカラーフィルタの製造装置によれば、光学
特性に優れたカラーフィルタを備え、カラー表示特性が
平面的に均一化された液晶表示装置を効率よく製造する
ことができる。

【００３８】（１０） 次に、本発明に係るＥＬ発光層
配設基板の製造方法は、複数のノズルが所定のピッチで
配列された複数のヘッドを、ヘッド走査方向に移動させ
て基板を主走査する工程と、前記ヘッド走査方向に交差
するヘッド改行方向に所定の移動ピッチで移動させて前
記基板を副走査する工程と、前記複数のノズルからＥＬ
発光材料を前記基板上のＥＬ発光層形成領域に吐出する
工程とを備え、前記複数のヘッドのうち隣り合うヘッド
のそれぞれの最端部に位置する前記ノズル同士の相互間
隔（Ｗ）および前記ノズルの一定の配列ピッチ（Ｄ）
は、 Ｗ＝ｍＤ（但し、ｍは２以上の整数） の関係式を実質的に満足し、前記ヘッドの副走査移動ピ
ッチ（Ｐ）および前記ノズルの一定の配列ピッチ（Ｄ）
は、 Ｐ＝ｎＤ（但し、ｎは１以上の整数） の関係式を実質的に満足することを特徴とする。

【００３９】この構成により、ヘッドの１回の主走査に
おいて、ＥＬ発光層の形成される領域近傍を通過するに
もかかわらず、隣接ＥＬ発光層にＥＬ発光材料を吐出し
てしまうおそれを減少させることができる。また、全て
の主走査において、インクを吐出することができないノ
ズルを減少させるか、又はなくすことが可能となり、そ
れ故、ノズルの使用効率（すなわち、描画効率）を向上
させることができる。さらに、ヘッドの走査回数との関
連で、効率よくフィルタエレメントを配設することがで
きる。

【００４０】さらに、ヘッドによって、ほぼ必要量のフ
ィルタ材料を吐出するだけで、希望領域内のＥＬ発光層
を形成することができるようになり、このため、フォト
リソグラフィ法を用いる場合のような、露光、現像、洗
浄等といった複雑な工程を経る必要もなく、また、製造
上必要なＥＬ発光材料の使用量を削減することができ
る。

【００４１】（１１） 上記構成のＥＬ発光層配設基板
の製造方法においては、前記ヘッドを前記ヘッド改行方
向に対して０°＜θ＜１８０°の角度で配列でき、前記
隣り合うヘッドのそれぞれの最端部に位置する前記ノズ
ル同士の相互間隔（Ｗ）および前記ノズルの前記ヘッド
改行方向の配列ピッチ（Ｄｃｏｓθ）は、 Ｗ＝ｍＤｃｏｓθ（但し、ｍは２以上の整数） の関係式を実質的に満足するように構成でき、さらに、
前記ヘッドの前記ヘッド改行方向の副走査移動ピッチ
（Ｐ）および前記ノズルの前記ヘッド改行方向の配列ピ
ッチ（Ｄｃｏｓθ）は、 Ｐ＝ｎＤｃｏｓθ（但し、ｎは１以上の整数） の関係式を実質的に満足するように構成できる。

【００４２】この構成によれば、副走査方向の各ＥＬ発
光層間の間隔（すなわち、ＥＬ発光層ピッチ）に対して
ノズル配列ピッチを実質的に整数倍にすることができる
ため、インクジェットヘッド内の全てのノズルを用いて
効率よく、ＥＬ発光層を配設することができる。

【００４３】（１２） 上記構成のＥＬ発光層配設基板
の製造方法において、前記ヘッドの端部に位置する前記
ノズルは、前記基板上の前記ＥＬ発光層形成領域に前記
ＥＬ発光材料を吐出しないように構成することができ
る。

【００４４】この構成によれば、ＥＬ発光材料、すなわ
ちインクの吐出分布特性が大きく変化するようなインク
ジェットヘッドを用いる場合であっても、そのインクジ
ェットヘッドから適切な量のインクを吐出することがで
き、それ故、基板のＥＬ発光層形成領域、すなわち画素
形成領域に均一な平面形状及び厚さを有するＥＬ発光層
を配設することができ、それ故、画素ごと、すなわちＥ
Ｌ発光層ごとの色のバラツキを防止することができる。
なお、このように色のバラツキを防止できる色には、分
光透過率、分光反射率（Ｙｘｙ）等の青色系で表される
色も含まれる。 （１３） 上記構成のＥＬ発光層配設基板の製造方法に
おいては、前記ＥＬ発光材料を複数色の材料から構成
し、前記複数のヘッドのそれぞれに含まれる前記複数の
ノズルが前記複数色のうちの一部を吐出することができ
る。

【００４５】仮に、全てのヘッドが一部のインクだけを
吐出するものであるとすると、残りの種類の色を別の機
械を用いて又はインク交換をして対応する必要がある。
これに対し、上記の構成によれば、異なる色のインクを
ヘッドごとに同時に吐出することが可能になり、それ
故、基板のＥＬ発光層形成領域、すなわち画素形成領域
にＥＬ発光層を配設する際の描画効率、すなわちノズル
の使用効率、すなわち描画効率を高めることができる。

【００４６】ここで、複数色としては一般にはＲ
（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）の３種類のインクを用い
るが、例えば、Ｃ（シアン）、Ｍ（マゼンダ）及びＹ
（イエロー）等のＥＬ発光材料を用いることも、もちろ
ん可能である。

【００４７】（１４） 上記構成のＥＬ発光層配設基板
の製造方法においては、前記ＥＬ発光材料を複数色の材
料から構成し、前記複数のヘッドのそれぞれに含まれる
前記複数のノズルが前記複数色のそれぞれを吐出するこ
とができる。

【００４８】仮に、ノズルが一部のインクだけを吐出す
るものであり、ヘッドの全てが同じ種類のインクを吐出
する場合には、残りの色を別の機械を用いて又はインク
交換をして対応する必要がある。これに対し、上記の構
成によれば、複数色のそれぞれの色のインクをノズルご
とに同時に吐出することが可能になり、それ故、基板の
ＥＬ発光層形成領域、すなわち画素形成領域にＥＬ発光
層を配設する際の描画効率を高めることができる。

【００４９】ここで、複数色としては一般的にはＲ
（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）の３種類のインクを用い
るが、例えば、Ｃ（シアン）、Ｍ（マゼンダ）及びＹ
（イエロー）を用いてももちろんかまわない。

【００５０】（１５） 次に、本発明に係るＥＬ発光層
配設基板の製造装置は、液滴状のＥＬ発光材料を吐出す
る複数のノズルと、前記複数のノズルを一定の配列ピッ
チ（Ｄ）で配列した複数のヘッドと、前記ヘッドをヘッ
ド走査方向に移動させる主走査駆動手段と、前記ヘッド
を前記ヘッド走査方向に交差するヘッド改行方向に所定
の移動ピッチ（Ｐ）で移動させる副走査駆動手段とを有
し、前記複数のヘッドのうち隣り合うヘッドのそれぞれ
の最端部に位置する前記ノズル同士の相互間隔（Ｗ）お
よび前記ノズルの一定の配列ピッチ（Ｄ）は、 Ｗ＝ｍＤ（但し、ｍは２以上の整数） の関係式を実質的に満足し、さらに、前記ヘッドの副走
査移動ピッチ（Ｐ）および前記ノズルの一定の配列ピッ
チ（Ｄ）は、 Ｐ＝ｎＤ（但し、ｎは１以上の整数） の関係式を実質的に満足することを特徴とする。

【００５１】この構成により、ヘッドの１回の主走査に
おいて、ＥＬ発光層の形成される領域近傍、すなわち画
素の形成される領域近傍を通過するにもかかわらず、隣
接ＥＬ発光層、すなわち隣接画素にインクを吐出してし
まうおそれを減少させることができる。また、全ての主
走査において、インクを吐出することができないノズル
を減少させるか、又はなくすことが可能となり、それ
故、ノズルの使用効率（すなわち、描画効率）を向上さ
せることができる。さらに、ヘッドの走査回数との関連
で、効率よくＥＬ発光層を配設することができる。

【００５２】さらに、ヘッドによって、ほぼ必要量のフ
ィルタ材料を吐出するだけで、希望領域内のフィルタエ
レメントを形成することができるようになり、このた
め、フォトリソグラフィ法を用いる場合のような、露
光、現像、洗浄等といった複雑な工程を経る必要もな
く、また、製造上必要なフィルタ材料の使用量を削減す
ることができる。

【００５３】（１６） 上記構成のＥＬ発光層配設基板
の製造装置においては、前記ヘッドを前記ヘッド改行方
向に対して０°＜θ＜１８０°の角度で配列でき、前記
隣り合うヘッドのそれぞれの最端部に位置する前記ノズ
ル同士の相互間隔（Ｗ）および前記ノズルの前記ヘッド
改行方向の配列ピッチ（Ｄｃｏｓθ）は、 Ｗ＝ｍＤｃｏｓθ（但し、ｍは２以上の整数） の関係式を実質的に満足するように構成でき、さらに、
前記ヘッドの前記ヘッド改行方向の副走査移動ピッチ
（Ｐ）および前記ノズルの前記ヘッド改行方向の配列ピ
ッチ（Ｄｃｏｓθ）は、 Ｐ＝ｎＤｃｏｓθ（但し、ｎは１以上の整数） の関係式を実質的に満足するように構成できる。

【００５４】この構成によれば、副走査方向の各ＥＬ発
光層間の間隔（すなわち、ＥＬ発光層ピッチ）に対して
ノズル配列ピッチを実質的に整数倍にすることができる
ため、インクジェットヘッド内の全てのノズルを用いて
効率よく、ＥＬ発光層を配設することができる。

【００５５】（１７） 次に、本発明に係るＥＬ発光装
置の製造方法は、ＥＬ発光層を形成する工程を備えたＥ
Ｌ発光装置の製造方法であって、以上に記載したＥＬ発
光層配設基板の製造方法によってＥＬ発光層を形成する
ことを特徴とする。このＥＬ発光装置の製造方法によれ
ば、光学特性に優れたＥＬ発光層配設基板を備え、カラ
ー表示特性が平面的に均一化されたＥＬ発光装置を効率
よく製造することができる。

【００５６】（１８） 次に、本発明に係るＥＬ発光装
置の製造装置は、ＥＬ発光層配設基板を備えたＥＬ発光
装置を製造するＥＬ発光装置の製造装置であって、以上
に記載したＥＬ発光層配設基板の製造装置を備えてなる
ことを特徴とする。このＥＬ発光装置の製造装置によれ
ば、光学特性に優れたＥＬ発光層配設基板を備え、カラ
ー表示特性が平面的に均一化されたＥＬ発光装置を効率
よく製造することができる。

【００５７】（１９） 次に、本発明に係るヘッド走査
方法は、複数のノズルが所定のピッチで配列された複数
のヘッドを、ヘッド走査方向に移動させて基板を主走査
する工程と、前記ヘッド走査方向に交差するヘッド改行
方向に所定の移動ピッチで移動させて前記基板を副走査
する工程と、前記複数のノズルから吐出材料を前記基板
に吐出する工程とを備え、前記複数のヘッドのうち隣り
合うヘッドのそれぞれの最端部に位置する前記ノズル同
士の相互間隔（Ｗ）および前記ノズルの一定の配列ピッ
チ（Ｄ）は、 Ｗ＝ｍＤ（但し、ｍは２以上の整数） の関係式を実質的に満足し、さらに、前記ヘッドの副走
査移動ピッチ（Ｐ）および前記ノズルの一定の配列ピッ
チ（Ｄ）は、 Ｐ＝ｎＤ（但し、ｎは１以上の整数） の関係式を実質的に満足することを特徴とする。

【００５８】この構成により、ヘッドの１回の主走査に
おいて、画素の形成される領域近傍を通過するにもかか
わらず、隣接画素に吐出物を吐出してしまうおそれを減
少させることができる。また、全ての主走査において、
吐出物を吐出することができないノズルを減少させる
か、又はなくすことが可能となり、それ故、ノズルの使
用効率（すなわち、描画効率）を向上させることができ
る。さらに、ヘッドの走査回数との関連で、効率よく吐
出物を配設することができる。

【００５９】さらに、ヘッドによって、ほぼ必要量の吐
出物を吐出するだけで、希望領域内のフィルタエレメン
トを形成することができるようになり、このため、フォ
トリソグラフィ法を用いる場合のような、露光、現像、
洗浄等といった複雑な工程を経る必要もなく、また、製
造上必要な吐出物の使用量を削減することができる。

【００６０】上記構成のヘッドの走査方法は、基材上に
微細パターニングを施す工業技術全般に用いることが可
能であり、例えば、各種半導体素子（例えば、薄膜トラ
ンジスタ、薄膜ダイオード等）、配線パターン、及び絶
縁膜の形成等がその利用範囲の一例として考えられる。

【００６１】なお、吐出物は、形成する要素に応じて種
々選択可能であり、例えば、上記したインク、ＥＬ発光
材料の他にも、シリカガラス前駆体、金属化合物等の導
電性材料、誘電体材料、又は半導体材料等がその一例と
して考えられる。

【００６２】（２０） 上記構成のヘッド走査方法にお
いては、前記ヘッドを前記ヘッド改行方向に対して０°
＜θ＜１８０°の角度で配列でき、前記隣り合うヘッド
のそれぞれの最端部に位置する前記ノズル同士の相互間
隔（Ｗ）および前記ノズルの前記ヘッド改行方向の配列
ピッチ（Ｄｃｏｓθ）は、 Ｗ＝ｍＤｃｏｓθ（但し、ｍは２以上の整数） の関係式を実質的に満足するように構成でき、さらに、
前記ヘッドの前記ヘッド改行方向の副走査移動ピッチ
（Ｐ）および前記ノズルの前記ヘッド改行方向の配列ピ
ッチ（Ｄｃｏｓθ）は、 Ｐ＝ｎＤｃｏｓθ（但し、ｎは１以上の整数） の関係式を実質的に満足するように構成できる。

【００６３】この構成によれば、副走査方向の各要素間
の間隔に対してノズル配列ピッチを実質的に整数倍にす
ることができるため、インクジェットヘッド内の全ての
ノズルを用いて効率よく、吐出物を配設することができ
る。

【００６４】（２１） 上記構成のヘッド走査方法にお
いて、前記ヘッドの端部に位置する前記ノズルは、前記
基板上の吐出物付着領域に前記吐出材料を吐出しないよ
うに構成することができる。

【００６５】この構成によれば、吐出物の吐出分布特性
が大きく変化するようなインクジェットヘッドを用いる
場合であっても、そのインクジェットヘッドから適切な
量の吐出物、すなわちインクを吐出することができ、そ
れ故、基板の要素形成領域、すなわち画素形成領域に均
一な平面形状及び厚さを有する要素を配設することがで
き、それ故、各要素ごとの特性のバラツキを防止するこ
とができる。

【００６６】（２２） 上記構成のヘッド走査方法にお
いては、前記吐出材料を複数種の材料から構成し、前記
複数のヘッドのそれぞれに含まれる前記複数のノズルが
前記複数種のうちの一部を吐出するように構成できる。

【００６７】仮に、全てのヘッドが一種の吐出物だけを
吐出するものであるとすると、残りの種類の色を別の機
械を用いて又はインク交換をして対応する必要がある。
これに対し、上記の構成によれば、異なる色のインクを
ヘッドごとに同時に吐出することが可能になり、それ
故、基板のフィルタエレメント形成領域、すなわち画素
形成領域にフィルタエレメントを配設する際の描画効
率、すなわちノズルの使用効率、すなわち描画効率を高
めることができる。

【００６８】（２３） 上記構成のヘッド走査方法にお
いては、前記吐出材料を複数種の材料から構成し、前記
複数のヘッドのそれぞれに含まれる前記複数のノズルが
前記複数種のそれぞれの材料を吐出するように構成でき
る。

【００６９】仮に、ノズルが一種の吐出物だけを吐出す
るものであり、ヘッドの全てが同じ種類の吐出物を吐出
する場合には、残りの種類を別の機械を用いて又は吐出
物材料の交換をして対応する必要がある。これに対し、
上記の構成によれば、複数種のそれぞれの吐出物を同時
に吐出することが可能になり、それ故、基板の要素形成
領域に要素を配設する際の描画効率を高めることができ
る。

【００７０】（２４） 次に、本発明に係るヘッド走査
装置は、液滴状の吐出材料を吐出する複数のノズルと、
複数のノズルを一定の配列ピッチ（Ｄ）で配列した複数
のヘッドと、前記ヘッドをヘッド走査方向に移動させる
主走査駆動手段と、前記ヘッドを前記ヘッド走査方向に
交差するヘッド改行方向に所定の移動ピッチ（Ｐ）で移
動させる副走査駆動手段とを有し、前記複数のヘッドの
うち隣り合うヘッドのそれぞれの最端部に位置する前記
ノズル同士の相互間隔（Ｗ）および前記ノズルの一定の
配列ピッチ（Ｄ）は、 Ｗ＝ｍＤ（但し、ｍは２以上の整数） の関係式を実質的に満足し、前記ヘッドの副走査移動ピ
ッチ（Ｐ）および前記ノズルの一定の配列ピッチ（Ｄ）
は、 Ｐ＝ｎＤ（但し、ｎは１以上の整数） の関係式を実質的に満足することを特徴とする。

【００７１】この構成により、ヘッドの１回の主走査に
おいて、要素の形成される領域近傍を通過するにもかか
わらず、隣接要素に吐出物、すなわちインクを吐出して
しまうおそれを減少させることができる。また、全ての
主走査において、インクを吐出することができないノズ
ルを減少させるか、又はなくすことが可能となり、それ
故、ノズルの使用効率（すなわち、描画効率）を向上さ
せることができる。さらに、ヘッドの走査回数との関連
で、効率よくフィルタエレメントを配設することができ
る。

【００７２】さらに、ヘッドによって、ほぼ必要量のフ
ィルタ材料を吐出するだけで、希望領域内の要素を形成
することができるようになり、このため、フォトリソグ
ラフィ法を用いる場合のような、露光、現像、洗浄等と
いった複雑な工程を経る必要もなく、また、製造上必要
な要素材料の使用量を削減することができる。

【００７３】（２５） 上記構成のヘッド走査装置にお
いては、前記ヘッドを前記ヘッド改行方向に対して０°
＜θ＜１８０°の角度で配列でき、前記隣り合うヘッド
のそれぞれの最端部に位置する前記ノズル同士の相互間
隔（Ｗ）および前記ノズルの前記ヘッド改行方向の配列
ピッチ（Ｄｃｏｓθ）は、 Ｗ＝ｍＤｃｏｓθ（但し、ｍは２以上の整数） の関係式を実質的に満足するように構成でき、さらに、
前記ヘッドの前記ヘッド改行方向の副走査移動ピッチ
（Ｐ）および前記ノズルの前記ヘッド改行方向の配列ピ
ッチ（Ｄｃｏｓθ）は、 Ｐ＝ｎＤｃｏｓθ（但し、ｎは１以上の整数） の関係式を実質的に満足するように構成できる。

【００７４】この構成によれば、副走査方向の各要素間
の間隔（すなわち、ＥＬ発光層ピッチ）に対してノズル
配列ピッチを実質的に整数倍にすることができるため、
インクジェットヘッド内の全てのノズルを用いて効率よ
く、各要素を配設することができる。

【００７５】（２６） 次に、本発明に係る成膜方法
は、複数のノズルが所定のピッチで配列された複数のヘ
ッドを、ヘッド走査方向に移動させて基板を主走査する
工程と、前記ヘッド走査方向に交差するヘッド改行方向
に所定の移動ピッチで移動させて前記基板を副走査する
工程と、前記複数のノズルから膜材料を前記基板上の膜
形成領域に吐出する工程とを備え、前記複数のヘッドの
うち隣り合うヘッドのそれぞれの最端部に位置する前記
ノズル同士の相互間隔（Ｗ）および前記ノズルの一定の
配列ピッチ（Ｄ）は、 Ｗ≒ｍＤ （但し、ｍは２以上の整数） の関係式を満足し、さらに、前記ヘッドの副走査移動ピ
ッチ（Ｐ）および前記ノズルの一定の配列ピッチ（Ｄ）
は、 Ｐ≒ｎＤ （但し、ｎは１以上の整数） の関係式を満足することを特徴とする。

【００７６】この構成により、ヘッドの１回の主走査に
おいて、膜材料を吐出すべき領域（以下、吐出目標領域
という）の近傍を通過するにもかかわらず、隣接する吐
出目標領域にインクを吐出してしまうおそれを減少させ
ることができる。また、全ての主走査において、インク
を吐出することができないノズルを減少させるか、又は
なくすことが可能となり、それ故、ノズルの使用効率
（すなわち、描画効率）を向上させることができる。さ
らに、ヘッドの走査回数との関連で、効率よく膜を形成
できる。

【００７７】さらに、ヘッドによって、ほぼ必要量の膜
材料を吐出するだけで、希望領域内に膜を形成すること
ができるようになり、このため、フォトリソグラフィ法
を用いる場合のような、露光、現像、洗浄等といった複
雑な工程を経る必要もなく、また、製造上必要な膜材料
の使用量を削減することができる。

【００７８】（２７） 上記構成の成膜方法において
は、前記ヘッドを前記ヘッド改行方向に対して０°＜θ
＜１８０°の角度で配列でき、前記隣り合うヘッドのそ
れぞれの最端部に位置する前記ノズル同士の相互間隔
（Ｗ）および前記ノズルの前記ヘッド改行方向の配列ピ
ッチ（Ｄｃｏｓθ）は、 Ｗ≒ｍＤｃｏｓθ（但し、ｍは２以上の整数） の関係式を満足するように構成でき、さらに、前記ヘッ
ドの前記ヘッド改行方向の副走査移動ピッチ（Ｐ）およ
び前記ノズルの前記ヘッド改行方向の配列ピッチ（Ｄｃ
ｏｓθ）は、 Ｐ≒ｎＤｃｏｓθ（但し、ｎは１以上の整数） の関係式を満足するように構成できる。

【００７９】この構成によれば、副走査方向の各吐出目
標領域の間の間隔に対してノズル配列ピッチを実質的に
整数倍にすることができるため、インクジェットヘッド
内の全てのノズルを用いて効率よく、膜材料を吐出する
ことができる。

【００８０】（２８） 上記構成の成膜方法において、
前記ヘッドの端部に位置する前記ノズルは、前記基板上
の膜形成領域に前記膜材料を吐出しないように構成する
ことができる。

【００８１】この構成によれば、膜材料の吐出分布特性
が大きく変化するようなインクジェットヘッドを用いる
場合であっても、そのインクジェットヘッドから適切な
量の膜材料、すなわちインクを吐出することができ、そ
れ故、基板上の膜形成領域に均一な平面形状及び厚さを
有する膜を形成でき、それ故、膜の特性の位置によるバ
ラツキを防止することができる。

【００８２】（２９） 上記構成の成膜方法において
は、前記膜材料を複数種の材料から構成し、前記複数の
ヘッドのそれぞれに含まれる前記複数のノズルが前記複
数種のうちの一部を吐出するように構成できる。

【００８３】仮に、全てのヘッドが一種の膜材料だけを
吐出するものであるとすると、残りの種類の膜材料を別
の機械を用いて又はインク交換をして対応する必要があ
る。これに対し、上記の構成によれば、異なる種類のイ
ンクをヘッドごとに同時に吐出することが可能になり、
それ故、基板の膜形成領域に膜材料を吐出する際のノズ
ルの使用効率、すなわち描画効率を高めることができ
る。

【００８４】（３０） 上記構成の成膜方法において
は、前記膜材料を複数種の材料から構成し、前記複数の
ヘッドのそれぞれに含まれる前記複数のノズルが前記複
数種のそれぞれの材料を吐出するように構成できる。

【００８５】仮に、ノズルが一種の膜材料だけを吐出す
るものであり、ヘッドの全てが同じ種類の膜材料を吐出
する場合には、残りの種類を別の機械を用いて又は吐出
物材料の交換をして対応する必要がある。これに対し、
上記の構成によれば、複数種のそれぞれの膜材料を同時
に吐出することが可能になり、それ故、基板上の膜形成
領域に膜材料を吐出する際の描画効率を高めることがで
きる。

【００８６】（３１） 次に、本発明に係る成膜装置
は、液滴状の膜材料を吐出する複数のノズルと、前記複
数のノズルを一定の配列ピッチ（Ｄ）で配列した複数の
ヘッドと、前記ヘッドをヘッド走査方向に移動させる主
走査駆動手段と、前記ヘッドを前記ヘッド走査方向に交
差するヘッド改行方向に所定の移動ピッチ（Ｐ）で移動
させる副走査駆動手段とを有し、前記複数のヘッドのう
ち隣り合うヘッドのそれぞれの最端部に位置する前記ノ
ズル同士の相互間隔（Ｗ）および前記ノズルの一定の配
列ピッチ（Ｄ）は、 Ｗ≒ｍＤ（但し、ｍは２以上の整数） の関係式を満足し、さらに、前記ヘッドの副走査移動ピ
ッチ（Ｐ）および前記ノズルの一定の配列ピッチ（Ｄ）
は、 Ｐ≒ｎＤ（但し、ｎは１以上の整数） の関係式を満足することを特徴とする。

【００８７】この構成により、ヘッドの１回の主走査に
おいて、膜材料を吐出すべき領域（以下、吐出目標領域
という）の近傍を通過するにもかかわらず、隣接する吐
出目標領域にインクを吐出してしまうおそれを減少させ
ることができる。また、全ての主走査において、インク
を吐出することができないノズルを減少させるか、又は
なくすことが可能となり、それ故、ノズルの使用効率
（すなわち、描画効率）を向上させることができる。さ
らに、ヘッドの走査回数との関連で、効率よく膜を形成
できる。

【００８８】さらに、ヘッドによって、ほぼ必要量の膜
材料を吐出するだけで、希望領域内に膜を形成すること
ができるようになり、このため、フォトリソグラフィ法
を用いる場合のような、露光、現像、洗浄等といった複
雑な工程を経る必要もなく、また、製造上必要な膜材料
の使用量を削減することができる。

【００８９】（３２） 上記構成の成膜装置において
は、前記ヘッドを前記ヘッド改行方向に対して０°＜θ
＜１８０°の角度で配列でき、前記隣り合うヘッドのそ
れぞれの最端部に位置する前記ノズル同士の相互間隔
（Ｗ）および前記ノズルの前記ヘッド改行方向の配列ピ
ッチ（Ｄｃｏｓθ）は、 Ｗ≒ｍＤｃｏｓθ（但し、ｍは２以上の整数） の関係式を満足するように構成でき、さらに、前記ヘッ
ドの前記ヘッド改行方向の副走査移動ピッチ（Ｐ）およ
び前記ノズルの前記ヘッド改行方向の配列ピッチ（Ｄｃ
ｏｓθ）は、 Ｐ≒ｎＤｃｏｓθ（但し、ｎは１以上の整数） の関係式を満足するように構成できる。

【００９０】この構成によれば、副走査方向の各吐出目
標領域の間の間隔に対してノズル配列ピッチを実質的に
整数倍にすることができるため、インクジェットヘッド
内の全てのノズルを用いて効率よく、膜材料を吐出する
ことができる。

【００９１】（３３）本発明の電気光学装置の製造方法
は、上記（２６）の構成の成膜方法を用いることを特徴
とする。

【００９２】（３４）本発明の電気光学装置は、上記
（３３）の構成の電気光学装置の製造方法によって製造
されたことを特徴とする。

【００９３】（３５）本発明の電子機器は、上記（３
４）の構成の電気光学装置を含むことを特徴とする。

【００９４】（３６）本発明の電子機器は、上記（８）
の構成の液晶表示装置の製造方法によって製造された液
晶表示装置を含むことを特徴とする。

【００９５】（３７）本発明の電子機器は、上記（１
７）の構成のＥＬ発光装置の製造方法によって製造され
たＥＬ発光装置を含むことを特徴とする。

【００９６】

【発明の実施の形態】（カラーフィルタの製造方法の実
施形態）以下、本発明の実施形態を図面を参照しつつ具
体的に説明する。図１は、本発明に係るカラーフィルタ
の製造方法の一実施形態におけるインクジェットヘッド
２２の用い方を示している。この実施形態では、図１
（ａ）に示すように、１つ以上のインクジェットヘッド
２２を所定の隣接間隔で配列してなるプリントヘッド２
２ａを用いる。個々のインクジェットヘッド２２は、一
定の配列ピッチＤで列状に配列された複数のノズル２７
を有する。

【００９７】プリントヘッド２２ａは、一定方向である
ヘッド走査方向（図１（ａ）では縦方向であるＸ方向）
に基板２を主走査すると共に、当該ヘッド走査方向Ｘに
直交するヘッド改行方向（図１（ａ）では横方向である
Ｙ方向）に所定の移動ピッチＰで基板２を副走査する。

【００９８】個々のインクジェットヘッド２２は、複数
のノズル２７のそれぞれからインクとしてフィルタ材料
を吐出し、この吐出されたフィルタ材料が基板２上の複
数のフィルタエレメント形成領域７、すなわち画素形成
領域、に選択的に供給される。さらに、必要に応じて、
インクジェットヘッド２２の主走査及び副走査を複数回
繰り返して、フィルタ材料を基板２のフィルタエレメン
ト形成領域７に所定形状及び所定厚さで付着させる。こ
れにより、基板２上に所定形状及び所定厚さのフィルタ
エレメント３、従って画素、が形成される。

【００９９】本実施形態のように、Ｒ（赤），Ｇ
（緑），Ｂ（青）の３原色に相当するフィルタエレメン
ト３を用いてカラー表示を行う場合は、１つのフィルタ
エレメント３が１つの表示ドットを形成し、Ｒ，Ｇ，Ｂ
の３色の表示ドットが１つのユニットとなって１つの画
素を形成する。

【０１００】本実施形態では、ノズル２７の一定の配列
ピッチを“Ｄ”とし、互いに隣り合うインクジェットヘ
ッド２２のそれぞれに設けられた複数のノズル２７のう
ち最端部に位置していて互いに最近接するもの同士の間
隔を“Ｗ”とするとき、 Ｗ＝ｍＤ （但し、ｍは２以上の整数） に設定する。すなわち、互いに隣り合うインクジェット
ヘッド２２の間において互いに隣り合うノズル２７同士
の間隔Ｗは、ノズル２７の配列ピッチＤの整数倍となる
ように構成される。

【０１０１】また、同時に、図１（ｂ）に示すように、
プリントヘッド２２ａのヘッド改行方Ｙの副走査移動ピ
ッチを“Ｐ”とし、ノズル２７の一定の配列ピッチを
“Ｄ”とするとき、 Ｐ＝ｎＤ （但し、ｎは１以上の整数） に設定する。すなわち、インクジェットヘッド２２の副
走査の移動ピッチＰは、ノズル２７の配列ピッチＤの整
数倍となるように構成される。

【０１０２】隣接するインクジェットヘッド間のノズル
間隔Ｗ、副走査の移動ピッチＰ、及びノズルの配列ピッ
チＤの間に上記の関係を設定することにより、プリント
ヘッド２２ａの主走査及び副走査時に、ノズル２７を全
てのフィルタエレメント形成領域７に正確に対向させ
て、それらの上を通過させることができ、それ故、描画
効率を高くすることができ、かつ適切な位置でインクを
吐出できる。そしてこれにより、均一な平面形状及び均
一な厚さのフィルタエレメント３、従って画素を基板２
上に形成できる。

【０１０３】図２は、本発明に係るカラーフィルタの製
造方法の他の実施形態におけるインクジェットヘッド２
２の用い方を示している。この実施形態では、１つ以上
のインクジェットヘッド２２が、ヘッド改行方向Ｙに対
して、それぞれ、角度θだけ傾斜して配列される。但
し、θは０°より大きく、１８０°より小さい角度であ
る。

【０１０４】ノズル２７の一定の配列ピッチを“Ｄ”と
すれば、ノズル２７のヘッド改行方向Ｙの配列ピッチは
“Ｄｃｏｓθ”である。さらに、互いに隣り合うインク
ジェットヘッド２２のそれぞれに設けられた複数のノズ
ル２７のうち最端部に位置していて互いに最近接するも
の同士の間隔を“Ｗ”とするとき、 Ｗ＝ｍＤｃｏｓθ （但し，ｍは２以上の整数） に設定する。すなわち、互いに隣り合うインクジェット
ヘッド２２の間において互いに隣り合うノズル２７同士
のヘッド改行方向の間隔Ｗは、ノズル２７のヘッド改行
方向の配列ピッチＤｃｏｓθの整数倍となるように構成
される。

【０１０５】また、同時に、プリントヘッド２２ａのヘ
ッド改行方向Ｙの副走査移動ピッチＰ（図１（ｂ）参
照）を、ノズル２７のヘッド改行方向Ｙの配列ピッチＤ
ｃｏｓθの整数倍となるように、すなわち、 Ｐ＝ｎＤｃｏｓθ （但し、ｎは１以上の整数） となるように構成する。

【０１０６】この構成により、フィルタエレメント３
（図１（ａ）参照）間の間隔（すなわち、フィルタエレ
メントピッチ）とノズル配列ピッチＤとが異なる場合で
あっても、インクジェットヘッド２２の全てのノズル２
７が画素の形成される領域上を正確に通過するように設
定でき、それ故、全てのノズル２７を使って基板２上の
適切な位置にインクを吐出できる。そしてこれにより、
カラーフィルタの画素形成効率、すなわち描画効率を向
上することができる。

【０１０７】なお、図１又は図２に示すプリントヘッド
２２ａにおいて、１つ以上のインクジェットヘッド２２
の両端部のそれぞれに位置する１つ以上のノズル２７、
例えば、両端部のそれぞれにおける１０個のノズル２７
は、基板２上のフィルタエレメント形成領域７にフィル
タ材料を吐出しないように構成してもよい。

【０１０８】こうすれば、インクジェットヘッド２２に
おけるノズル列２８に沿ったインク吐出分布特性が大き
く変化する場合であっても、当該インクジェットヘッド
２２から適切な量のインクを吐出することができ、基板
２内のそれぞれのフィルタエレメント形成領域７に均一
な平面形状及び厚さを有するフィルタエレメントを配設
することができる。

【０１０９】仮に、図２６（ａ）に示すノズル列３０５
に沿った１８０個のノズル３０４の全てを用いた場合、
端のノズル３０４から吐出した材料によって形成された
フィルタエレメント３０３は厚さが厚くなり、透過率又
は反射率が低下し、その結果、フィルタを通して観察さ
れる像において主走査方向に延びる帯状の部分ができる
おそれがある。

【０１１０】これに対し、上述のように、例えば、図１
及び図２において両端部におけるそれぞれ１０個のノズ
ル２７について、フィルタ材料を吐出させないように構
成すれば、ノズル２７の数が（１８０−１０−１０）個
＝１６０個のインクジェットと同等の構成になり、各フ
ィルタエレメント３は均一な平面形状及び厚さを有する
ものとなり、このため、得られるカラーフィルタは光学
的に均一なものとなる。

【０１１１】また、図１又は図２に示すプリントヘッド
２２ａを用いて基板２上にフィルタエレメント３を形成
する場合であって、フィルタ材料をＲ（赤）、Ｇ（緑）
及びＢ（青）の３種類のインクによって構成するときに
は、１つ以上のインクジェットヘッド２２を、それぞれ
に配列された複数のノズル２７の全てがＲ，Ｇ，Ｂの３
種類のインクのうちの１種類のみを吐出して、対応する
１色のフィルタエレメント３を形成するように、３種類
に区分けすることができる。

【０１１２】この場合には、１つ以上のインクジェット
ヘッド２２のそれぞれをプリントヘッド２２ａ内で所定
の隣接間隔で配列すると共に、そのプリントヘッド２２
ａによって基板２を走査することにより、１回の主走査
でＲ、Ｇ、Ｂの各色に対応するフィルタエレメント３を
基板２上に同時に形成することができる。このため、画
素形成効率、すなわち描画効率を向上させることができ
る。

【０１１３】また、フィルタ材料をＲ、Ｇ、Ｂの３種類
のインクによって構成する場合、複数のインクジェット
ヘッド２２の少なくとも１つの内部に、複数の、例え
ば、３つの独立した流路を形成し、それらの流路のそれ
ぞれに、Ｒ、Ｇ、Ｂの３種類のインクのうちの異なる１
つずつをそれぞれに導入する、という構成を採用するこ
ともできる。

【０１１４】この場合には、同じインクジェットヘッド
２２内のノズル２７から異なる色のインクを吐出するこ
とができ、この方法によっても、１回の主走査でＲ、
Ｇ、Ｂの各色を同時に吐出して、各色に対応するフィル
タエレメント３を基板２上に同時に形成することができ
る。この方法によっても、画素形成効率、すなわち描画
効率を向上させることができる。

【０１１５】（カラーフィルタの製造装置の実施形態）
本発明に係るカラーフィルタの製造装置は、図１におい
て、基板２上に所定形状及び所定厚さのフィルタエレメ
ント３、従って画素を配設してなるカラーフィルタ１を
製造する装置である。

【０１１６】図１、図８及び図９は、本発明に係るカラ
ーフィルタの製造装置の一実施形態を示している。ここ
に示すカラーフィルタの制御装置は、複数のノズル２７
を備えたプリントヘッド２２ａ（図１参照）と、複数の
ノズル２７へフィルタ材料を供給するフィルタ材料供給
手段（図示せず）と、プリントヘッド２２ａを移動させ
て基板２を主走査させる主走査駆動手段１９（図２及び
図３参照）と、プリントヘッド２２ａを移動させて基板
２を副走査させる副走査駆動手段２１（図２及び図３参
照）と、ノズル２７の動作を制御するノズル吐出制御手
段（図示せず）と、主走査駆動手段１９の動作を制御す
る主走査制御手段（図示せず）と、副走査駆動手段２１
の動作を制御する副走査制御手段（図示せず）とを備え
る。

【０１１７】上記構成において、プリントヘッド２２ａ
は、複数のノズル２７を一定の配列ピッチＤで列状に配
列した１つ以上のインクジェットヘッド２２を所定の隣
接間隔で配列することによって形成されている。また、
フィルタ材料供給手段（図示せず）は、プリントヘッド
２２ａを構成する複数のノズル２７へフィルタ材料を供
給する。供給されたこのフィルタ材料は、これらのノズ
ル２７から基板２上のフィルタエレメント形成領域７、
従って画素形成領域へ選択的に吐出されてフィルタエレ
メント３、従って画素を形成する。

【０１１８】主走査駆動手段１９は、プリントヘッド２
２ａを一定方向であるヘッド走査方向（すなわち、図１
の縦方向Ｘ）へ移動させて基板２を走査させる。また、
副走査駆動手段２１は、プリントヘッド２２ａをヘッド
改行方向Ｙに所定の移動ピッチＰ（図１（ｂ）参照）で
移動させて基板２を副走査させる。また、図示しない上
記のノズル吐出制御手段は、複数のノズル２７から吐出
されるフィルタ材料の吐出量及び吐出時期を制御する。

【０１１９】本実施形態に係るカラーフィルタの製造装
置では、プリントヘッド２２ａを一定方向であるヘッド
走査方向（すなわち、図１（ａ）の縦方向Ｘ）に移動さ
せて基板２を主走査する。そして、それと共に、ヘッド
改行方向Ｙに所定の移動ピッチＰで移動させて基板２を
副走査する。

【０１２０】これらの主走査及び副走査の間、１つ以上
のインクジェットヘッド２２に配列した複数のノズル２
７からフィルタ材料を基板２上のフィルタエレメント形
成領域７、従って画素形成領域に選択的に吐出する。ま
た、必要に応じて、上記の主走査及び副走査を複数回繰
り返して、フィルタ材料を基板２のフィルタエレメント
形成領域７、従って画素形成領域に所定形状及び所定厚
さで付着させる。これにより、基板２上に所定形状及び
所定厚さのフィルタエレメント３、従って画素を配設す
る。

【０１２１】また、本実施形態に係るカラーフィルタの
製造装置では、図１において、インクジェットヘッド２
２のそれぞれの最端部に位置すると共に、最も近接する
もの同士の相互間隔Ｗは、ノズル２７の配列ピッチＤの
整数倍となるように、すなわち Ｗ＝ｍＤ （但し、ｍは２以上の整数） となるように構成される。そして同時に、プリントヘッ
ド２２ａのヘッド改行方向Ｙの副走査移動ピッチＰは、
ノズル２７の一定の配列ピッチＤの整数倍となるよう
に、すなわち Ｐ＝ｎＤ （但し、ｎは１以上の整数） となるように構成されている。

【０１２２】図３は、本発明に係るカラーフィルタの製
造装置におけるプリントヘッド２２ａの一例を示す。こ
の例では、プリントヘッド２２ａは、６個のインクジェ
ットヘッド２２を有し、個々のインクジェットヘッド２
２には、複数、例えば１２個のノズル２７によって形成
された直線状のノズル列２８が形成されている。ノズル
２７の配設ピッチＰ３は、例えば１４１μｍであり、ノ
ズル２７の直径Ｄ１は、例えば２８μｍであり、フィル
タエレメント（従って、画素）の形成ピッチは、例えば
１４１μｍである。

【０１２３】なお、前述のように、インクジェットヘッ
ド２２は、図２に示すように、ヘッド改行方向Ｙに対し
てそれぞれθの角度の傾斜を設けて配列することができ
る。この角度θは、０°より大きく、１８０°より小さ
い角度である。そしてこの場合には、互いに隣り合うイ
ンクジェットヘッド２２の互いに隣り合う最端部におけ
るノズル２７の相互間隔Ｗは、ノズル２２のヘッド改行
方向Ｙの配列ピッチＤｃｏｓθの整数倍となるように、
すなわち Ｗ＝ｍＤｃｏｓθ （但し、ｍは２以上の整数） となるように構成できる。

【０１２４】そして同時に、プリントヘッド２２ａのヘ
ッド改行方向Ｙの副走査移動ピッチＰ（図１参照）は、
ノズル２７のヘッド改行方向Ｙの配列ピッチＤｃｏｓθ
の整数倍となるように、すなわち Ｐ＝ｎＤｃｏｓθ （ｎは１以上の整数） となるように構成できる。

【０１２５】図４は、本発明に係るカラーフィルタの製
造装置におけるプリントヘッド２２ａの他の例を示す。
この例では、プリントヘッド２２ａは、６個のインクジ
ェットヘッド２２を有し、個々のインクジェットヘッド
２２には複数、例えば１２個のノズル２７によって形成
されたノズル列２８が設けられている。インクジェット
ヘッド２２は角度θで傾斜して設けられ、この傾斜角度
θは、例えば５７．９°に設定される。

【０１２６】また、ノズル２７の配列ピッチは、例えば
１４１μｍであり、ノズル２７の直径は、例えば２８μ
ｍであり、フィルタエレメント（従って、画素）の形成
ピッチは、例えば７５μｍである。

【０１２７】（カラーフィルタの一例）以下、本発明に
係るカラーフィルタの製造方法及びその製造装置を用い
て製造されるカラーフィルタについて説明する。図５
は、そのカラーフィルタの平面形状を示す平面図であ
り、特に、（ａ）は個々のカラーフィルタに切り出す前
のマザーボードの全体を示し、（ｂ）は切り出された１
つのカラーフィルタを示す。図６は、カラーフィルタの
製造工程を工程順に示しており、各図は図５（ｂ）のＶ
ＩＩ−ＶＩＩ線に従ったカラーフィルタの断面構造の一
部分に相当する。特に、図６において、（ａ）はフィル
タ材料が吐出される前の状態を示し、（ｂ）はフィルタ
材料が吐出された直後の状態を示し、（ｃ）はフィルタ
エレメントが配設された状態を示し、（ｄ）はさらに保
護膜を形成した状態を示している。

【０１２８】図５において、カラーフィルタ１は、ガラ
ス、プラスチック等からなる長方形状の基板２の表面に
複数のフィルタエレメント３をドットパターン状（図５
（ｂ）ではドット・マトリクス状）に配設し、さらに図
６（ｄ）に示すように、その上に保護膜４を積層するこ
とによって形成されている。なお、図５（ｂ）は保護膜
４を取り除いた状態のカラーフィルタ１を示している。

【０１２９】図６（ｄ）に示すように、フィルタエレメ
ント３は隔壁６によって区画された領域に形成される。
この隔壁６は、透光性のない樹脂材料によって図６
（ａ）の矢印Ｂから見て格子状のパターンに形成されて
いる。この隔壁６により、ドット・マトリクス状に並ん
だ複数の長方形状の領域が形成され、これらの領域内が
色材で埋められることより、フィルタエレメント３が形
成される。

【０１３０】また、これらのフィルタエレメント３は、
それぞれが、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）のうちの
いずれか１色のフィルタ材料によって形成され、これら
の各色フィルタエレメント３が所定の形態に配列されて
いる。この配列としては、例えば、図７（ａ）〜図７
（ｃ）に示すような、ストライプ配列、モザイク配列及
びデルタ配列等のうちのいずれであってもよい。

【０１３１】ストライプ配列は、マトリクスの縦列が全
て同色になる配列である。モザイク配列は、縦横の直線
上に並んだ任意の３つのフィルタエレメントがＲ、Ｇ、
Ｂの３色となる配列である。そして、デルタ配列は、フ
ィルタエレメントの配置を段違いにし、任意の隣接する
三つのフィルタエレメントがＲ、Ｇ、Ｂの３色となる配
列である。

【０１３２】図５（ｂ）において、カラーフィルタ１の
大きさＴ０は、例えば１．８インチである。また、１個
のフィルタエレメント３の大きさは、例えば、横×縦＝
Ｌ０×Ｌ１＝３０μｍ×１００μｍである。また、各フ
ィルタエレメント３の間の間隔（いわゆる、エレメント
間ピッチ）Ｐ４は、例えば７５μｍである。

【０１３３】また、カラーフィルタ１の副走査方向のピ
ッチは、フィルタエレメント３の配列ピッチの整数倍で
あることが好ましい。このような構成にすることによ
り、さらに効率的にフィルタエレメント３を形成するこ
とができる。

【０１３４】このようなカラーフィルタ１をフルカラー
表示のための光学要素として用いる場合には、Ｒ、Ｇ、
Ｂの３個のフィルタエレメント３を１つのユニットとし
て１つの画素を形成し、１画素内のＲ、Ｇ、Ｂのいずれ
か１つ又はそれらの組み合わせに光を選択的に通過させ
ることにより、フルカラー表示を行う。このとき、透光
性のない樹脂材料によって形成された隔壁６はブラック
マトリクスとして機能する。

【０１３５】上記のカラーフィルタ１は、例えば、図５
（ａ）に示すような大面積のマザー基板１２から切り出
すことによって形成することができる。具体的には、ま
ず、マザー基板１２内に構成された複数のカラーフィル
タ形成領域１１のそれぞれの表面にカラーフィルタ１の
１個分のパターンを形成し、それらのカラーフィルタ形
成領域１１の周りに切断用の溝を形成し、さらに、それ
らの溝に沿ってマザー基板１２を切断することによっ
て、個々のカラーフィルタ１を形成することができる。

【０１３６】（カラーフィルタの製造方法及びその製造
装置の実施形態）以下、本発明のカラーフィルタの製造
方法及びその製造装置を、図５（ｂ）に示すカラーフィ
ルタ１を製造する場合を例にとってさらに具体的に説明
する。まず、図６（ａ）において、マザー基板１２の表
面に透光性を有しない樹脂材料によって隔壁６を、矢印
Ｂ方向から見て格子状パターンに形成する。格子状パタ
ーンの格子穴の部分７はフィルタエレメント３が形成さ
れる領域である。この隔壁６によって形成される個々の
フィルタエレメント形成領域７の矢印Ｂ方向から見た場
合の平面寸法は、例えば、横×縦＝３０μｍ×１００μ
ｍ程度である。

【０１３７】隔壁６は、フィルタエレメント形成領域７
に供給されるフィルタ材料の流動を阻止する機能及びブ
ラックマトリクスの機能を併有する。また、隔壁６は任
意のパターニング手法、例えば、フォトリソグラフィ法
によって形成され、さらに必要に応じてヒータによって
加熱されて焼成される。

【０１３８】隔壁６の形成後、図６（ｂ）において、フ
ィルタ材料の液滴８を各フィルタエレメント形成領域７
に供給することにより、各フィルタエレメント形成領域
７にフィルタ材料１３を充填する。なお、図６（ｂ）に
おいては、Ｒ（赤）のフィルタ材料１３Ｒ、Ｇ（緑）の
フィルタ材料１３Ｇ、及びＢ（青）のフィルタ材料１３
Ｂを用いた場合を示している。

【０１３９】各フィルタエレメント形成領域７に所定量
のフィルタ材料１３が充填されると、ヒータによってマ
ザー基板１２を、例えば、７０℃程度に加熱して、フィ
ルタ材料１３の溶媒を蒸発させる。この蒸発により、図
６（ｃ）に示すようにフィルタ材料１３の体積が減少す
る。体積の減少が激しい場合には、カラーフィルタとし
て十分な膜厚が得られるまで、フィルタ材料１３の液滴
８の供給とその液滴８の加熱とを繰り返して実行する。
以上の処理により、最終的にフィルタ材料１３の固形分
のみが残留して膜化し、これにより、所望の各色フィル
タエレメント３を形成することができる。

【０１４０】以上によりフィルタエレメント３を形成し
た後、これらのフィルタエレメント３を完全に乾燥させ
るために、所定の温度で所定時間の加熱処理を実行す
る。その後、例えば、スピンコート法、ロールコート
法、リッピング法等といった適宜の手法を用いて保護膜
４を形成する。この保護膜４は、主として、フィルタエ
レメント３等の保護及びカラーフィルタ１の表面の平坦
化のために形成される。

【０１４１】図８は、図６（ｂ）に示したフィルタ材料
１３の供給処理を行うためのインクジェット手段の一形
態を示している。このインクジェット手段１６はＲ、
Ｇ、Ｂのうちの１色、例えば、Ｒ色のフィルタ材料をイ
ンクの液滴として、マザー基板１２（図５（ａ）参照）
内の各カラーフィルタ形成領域１１内の所定位置に吐出
して付着させるための装置である。Ｇ色のフィルタ材料
及びＢ色のフィルタ材料のためのインクジェット手段も
それぞれに用意されるが、それらの構造は、図８に示す
構造と同様のものとすることができる。

【０１４２】図８において、インクジェット手段１６
は、１つ以上のインクジェットヘッド２２を所定の隣接
間隔で配列してなるプリントヘッド２２ａ（図１参照）
を備えたヘッドユニット２６と、プリントヘッド２２ａ
の位置を制御するヘッド位置制御手段１７と、マザー基
板１２の位置を制御する基板位置制御手段１８と、イン
クジェットヘッド２２をマザー基板１２に対して主走査
移動させる主走査駆動手段１９と、インクジェットヘッ
ド２２をマザー基板１２に対して副走査移動させる副走
査駆動手段２１と、マザー基板１２をインクジェット手
段１６内の所定の作業位置へ供給する基板供給装置２３
と、そしてインクジェット手段１６の全般の制御を司る
コントロール装置２４とを備えている。

【０１４３】ヘッド位置制御手段１７、基板位置制御手
段１８、主走査駆動手段１９、及び副走査駆動手段２１
の各装置はベース９の上に設置される。また、それらの
各装置は必要に応じてカバー１４によって覆われてい
る。

【０１４４】インクジェットヘッド２２は、例えば、図
１０に示すように、複数のノズル２７を列状に並べるこ
とによって形成されたノズル列２８を有する。ノズル２
７の数は、例えば１８０個であり、ノズル２７の孔径Ｄ
１は、例えば２８μｍであり、ノズル２７間のノズルピ
ッチＰ３は、例えば１４１μｍである。なお、図５
（ａ）及び図５（ｂ）におけるカラーフィルタ１及びマ
ザー基板１２に対するヘッド走査方向（すなわち、主走
査方向）Ｘ及びそれに直交する副走査方向Ｙは、それぞ
れ、図１０におけるＸ方向及びＹ方向に対応している。

【０１４５】また、図１１に示すように、ノズル列２８
をヘッド走査方向Ｘに沿って２列設けることにより、同
じ主走査ラインに載った２つのノズル２７によって１つ
のフィルタエレメント形成領域７にフィルタ材料を供給
してもよい。このとき、ノズル２７の配列ピッチＰ３は
１４１μｍ程度に設定できる。

【０１４６】また、図１２に示すように、ノズル列２８
をヘッド走査方向Ｘに沿って２列設け、さらに複数のノ
ズル２７を千鳥状に設け、これらのノズル２７を通して
フィルタエレメント形成領域７（図１（ａ）参照）にフ
ィルタ材料を供給してもよい。なお、この場合にノズル
２７の配列ピッチＤを１４１μｍとすれば、主走査方向
Ｘに延びる複数の走査ライン間における実質的なピッチ
Ｐ５は、その半分の７０．５μｍになる。

【０１４７】また、図１３に示すように、ヘッド走査方
向Ｘに沿って互いに隣り合う一対のノズル列２８を複数
組設けると共に、上記一対のノズル列２８に含まれる複
数のノズル２７は千鳥状に配列するようにインクジェッ
トヘッド２２を構成し、これらのノズル２７によってフ
ィルタエレメント形成領域７にフィルタ材料を供給して
もよい。なお、図１３では、千鳥状に配列されたノズル
２７を有する一対のノズル列２８が２組描かれている。
また、ノズル２７の配列ピッチＤは１４１μｍである
が、Ｘ方向に延びる主走査ラインにおける実質的なピッ
チＰ５はその半分の７０．５μｍになる。

【０１４８】また、図１４に示すように、ノズル列２８
をヘッド走査方向Ｘに沿って、１／３ピッチずつ、ずら
して３列設けることにより、フィルタエレメント形成領
域７にフィルタ材料を供給してもよい。この場合、ノズ
ル２７の配列ピッチＤは１４１μｍであるが、Ｘ方向に
延びる主走査ラインにおける実質的なピッチＰ５はその
３分の１である４７μｍになる。

【０１４９】インクジェットヘッド２２は、図１に示す
ように、そのノズル列２８がヘッド走査方向Ｘと直交す
る方向に位置するように構成され、また場合によって
は、図２に示すように、ヘッド走査方向Ｘと直交する方
向に対して所定の角度θの傾斜をもって設けられる。こ
のインクジェットヘッド２２は、ヘッド走査方向Ｘへ平
行移動する間に、フィルタ材料、すなわちインクを複数
のノズル２７から選択的に吐出することにより、マザー
基板１２（図５（ａ）参照）内のフィルタエレメント形
成領域７（図６（ａ）参照）にフィルタ材料を付着させ
る。また、インクジェットヘッド２２は副走査方向Ｙへ
所定距離だけ平行移動することにより、インクジェット
ヘッド２２による主走査位置を所定の間隔でずらすこと
ができる。インクジェットヘッド２２は、例えば、図１
５（ａ）及び図１５（ｂ）に示す内部構造を有する。具
体的には、インクジェットヘッド２２は、例えば、ステ
ンレス製のノズルプレート２９と、それに対向する振動
板３１と、これらを互いに接合する複数の仕切部材３２
とを有する。ノズルプレート２９と振動板３１との間に
は、仕切部材３２によって複数のインク室３３と液溜り
３４とが形成される。複数のインク室３３と液溜り３４
とは通路３８を介して互いに連通している。

【０１５０】振動板３１の適所にはインク供給孔３６が
形成され、このインク供給孔３６にインク供給装置３７
が接続される。このインク供給装置３７は、Ｒ、Ｇ、Ｂ
のうちの１色、例えば、Ｒ色のフィルタ材料Ｍをインク
供給孔３６へ供給する。供給されたフィルタ材料Ｍは液
溜り３４に充填され、さらに、通路３８を通ってインク
室３３に充填される。

【０１５１】ノズルプレート２９には、インク室３３か
らフィルタ材料Ｍをジェット状に噴射するためのノズル
２７が設けられている。また、振動板３１のインク室３
３を形成する面の裏面には、インク室３３に対応させて
インク加圧体３９が取り付けられている。このインク加
圧体３９は、図１５（ｂ）に示すように、圧電素子４１
並びにこれを挟持する一対の電極４２ａ及び４２ｂを有
する。圧電素子４１は電極４２ａ、４２ｂへの通電によ
って矢印Ｃで示す外側へ突出するように撓み変形し、こ
れによりインク室３３の容積が増大する。すると、増大
した容積分に相当するフィルタ材料Ｍが液溜り３４から
通路３８を通ってインク室３３へ流入する。

【０１５２】次に、圧電素子４１への通電を解除する
と、圧電素子４１と振動板３１はともに元の形状へ戻
る。これにより、インク室３３も元の容積に戻るためイ
ンク室３３の内部にあるフィルタ材料Ｍの圧力が上昇
し、ノズル２７からマザー基板１２（図５（ａ）参照）
へ向けてフィルタ材料Ｍが液滴８となって噴出する。な
お、ノズル２７の周辺部には、液滴８の飛行曲がりやノ
ズル２７の孔詰まり等を防止するために、例えば、Ｎｉ
−テトラフルオロエチレン共析メッキ層からなる撥イン
ク層４３を設けている。

【０１５３】図９において、ヘッド位置制御手段１７
は、プリントヘッド２２ａを面内回転させるαモータ４
４と、プリントヘッド２２ａを副走査方向Ｙと平行な軸
線回りに揺動回転させるβモータ４６と、プリントヘッ
ド２２ａをヘッド走査方向Ｘと平行な軸線回りに揺動回
転させるγモータ４７と、プリントヘッド２２ａを上下
方向へ平行移動させるＺモータ４８を有する。

【０１５４】図８に示す基板位置制御手段１８は、図９
に示すように、マザー基板１２を載置するテーブル４９
と、そのテーブル４９を矢印θのように面内回転させる
θモータ５１とを有する。また、図８に示す主走査駆動
手段１９は、図９に示すように、ヘッド走査方向Ｘへ延
びるガイドレール５２と、パルス駆動されるリニアモー
タを内蔵したスライダ５３とを有する。スライダ５３は
内蔵するリニアモータが作動するときにガイドレール５
２に沿ってヘッド走査方向Ｘへ平行移動する。

【０１５５】また、図８に示す副走査駆動手段２１は、
図９に示すように、副走査方向Ｙへ延びるガイドレール
５４と、パルス駆動されるリニアモータを内蔵したスラ
イダ５６とを有する。スライダ５６は内蔵するリニアモ
ータが作動するときにガイドレール５４に沿って副走査
方向Ｙへ平行移動する。

【０１５６】スライダ５３やスライダ５６内においてパ
ルス駆動されるリニアモータは、モータに供給するパル
ス信号によって出力軸の回転角度制御を精細に行うこと
ができ、従って、スライダ５３に支持されたインクジェ
ットヘッド２２のヘッド走査方向Ｘ上の位置やテーブル
４９の副走査方向Ｙ上の位置等を高精細に制御すること
ができる。

【０１５７】なお、プリントヘッド２２ａやテーブル４
９の位置制御はパルスモータを用いた位置制御だけでは
なく、サーボモータを用いたフィードバック制御や、そ
の他任意の制御方法を用いたものであってもよい。

【０１５８】図８に示す基板供給手段２３は、マザー基
板１２を収容する基板収容部５７と、マザー基板１２を
搬送するロボット５８とを有する。ロボット５８は、
床、地面等の設置面に置かれる基台５９と、基台５９に
対して昇降移動する昇降軸６１と、昇降軸６１を中心と
して回転する第１アーム６２と、第１アーム６２に対し
て回転する第２アーム６３と、第２アーム６３の先端下
面に設けられた吸着パッド６４とを有する。吸着パッド
６４は空気吸引等によってマザー基板１２を吸着するこ
とができる。

【０１５９】図８において、主走査駆動手段１９によっ
て駆動されて主走査移動するプリントヘッド２２ａの軌
跡下であって副走査駆動手段２１の一方の脇位置に、キ
ャッピング手段７６及びクリーニング手段７７が配設さ
れる。また、他方の脇位置に電子天秤７８が配設され
る。クリーニング手段７７は、インクジェットヘッド２
２を洗浄するための手段である。電子天秤７８はインク
ジェットヘッド２２内の個々のノズル２７（図１０参
照）から吐出されるインクの液滴の重量をノズルごとに
測定する機器である。そして、キャッピング手段７６は
インクジェットヘッド２２が待機状態にあるときにノズ
ル２７（図１０参照）の乾燥を防止するための手段であ
る。

【０１６０】プリントヘッド２２ａの近傍には、プリン
トヘッド２２ａと一体に移動する関係でヘッド用カメラ
８１が配設される。また、ベース９上に設けた支持装置
（図示せず）に支持された基板用カメラ８２がマザー基
板１２を撮影できる位置に配置される。

【０１６１】図８に示すコントロール装置２４は、プロ
セッサを収容したコンピュータ本体部６６と、入力装置
としてのキーボード６７と、表示装置としてのＣＲＴ
（Cathode Ray Tube）ディスプレイ６８とを有する。上
記プロセッサは、図１７に示すように、演算処理を行う
ＣＰＵ（Central Processing Unit）６９と、各種情報
を記憶する情報記憶媒体としてのメモリ７１とを有す
る。

【０１６２】図８に示すヘッド位置制御手段１７、基板
位置制御手段１８、主走査駆動手段１９、副走査駆動手
段２１、インクジェットヘッド２２内の圧電素子４１
（図１５（ｂ）参照）を駆動するヘッド駆動回路７２の
各機器は、図１７において、入出力インターフェース７
３及びバス７４を介してＣＰＵ６９に接続される。ま
た、基板供給装置２３、入力装置６７、ディスプレイ６
８、電子天秤７８、クリーニング手段７７及びキャッピ
ング手段７６の各機器も入出力インターフェース７３及
びバス７４を介してＣＰＵ６９に接続される。

【０１６３】メモリ７１は、ＲＡＭ（Random Access Me
mory）、ＲＯＭ（Read Only Memory）等の半導体メモリ
や、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ読取り装置、ディス
ク型記憶媒体等といった外部記憶装置等を含む概念であ
り、機能的には、インクジェット手段１６の動作の制御
手順が記述されたプログラムソフトを記憶する記憶領域
や、図７に示すＲ、Ｇ、Ｂに関する各種の配列を実現す
るためのＲ、Ｇ、Ｂのうちの１色（例えば、Ｒ１色）に
関するマザー基板１２（図５（ａ）参照）内における吐
出位置を座標データとして記憶するための記憶領域や、
図９における副走査方向Ｙへのマザー基板１２の副走査
移動量を記憶するための記憶領域や、ＣＰＵ６９のため
のワークエリアやテンポラリファイル等として機能する
領域や、その他各種の記憶領域を有する。

【０１６４】ＣＰＵ６９は、メモリ７１内に記憶された
プログラムソフトに従って、マザー基板１２の表面の所
定位置に、フィルタ材料、すなわちインクを吐出するた
めの制御を行うものであり、具体的な機能実現部とし
て、クリーニング処理を実現するための演算を行うクリ
ーニング演算部と、キャッピング処理を実現するための
キャッピング演算部と、電子天秤７８（図８参照）を用
いた重量測定を実現するための演算を行う重量測定演算
部と、インクジェットによってフィルタ材料を描画する
ための演算を行う描画演算部とを有する。

【０１６５】描画演算部は、プリントヘッド２２ａを描
画のための初期位置へセットするための描画開始位置演
算部と、プリントヘッド２２ａをヘッド走査方向Ｘへ所
定の速度で走査移動させるための制御を演算する主走査
制御演算部と、マザー基板１２を副走査方向Ｙへ所定の
副走査移動ピッチで副走査量だけずらせるための制御を
演算する副走査制御演算部と、そして、インクジェット
ヘッド２２内の複数のノズル２７のうちのいずれを作動
させてインクすなわちフィルタ材料を吐出するかを制御
するための演算を行うノズル吐出制御演算部等の各種の
機能演算部を有する。

【０１６６】なお、上記の各機能の一部又は全部をＣＰ
Ｕ６９を用いてソフト的に実現することに代えて、ＣＰ
Ｕを用いない単独の論理回路又は電子回路によって実現
できる場合は、ＣＰＵ６９に代えて又はＣＰＵ６９に加
えてそのような電子回路等を用いることができる。

【０１６７】以下、上記構成からなる図８のインクジェ
ット手段１６の動作を図１８に示すフローチャートに基
づいて説明する。

【０１６８】オペレータによる電源投入によってインク
ジェット手段１６が作動すると、まず、ステップＳ１に
おいて初期設定が実行される。具体的には、ヘッドユニ
ット２６や基板供給装置２３やコントロール装置２４等
が予め決められた初期状態にセットされる。

【０１６９】次に、重量測定タイミングが到来すれば
（ステップＳ２でＹＥＳ）、図９に示すヘッドユニット
２６を主走査駆動手段１９によって図８に示す電子天秤
７８の所まで移動させて（ステップＳ３）、ノズル２７
から吐出されるインクの量を電子天秤７８を用いて全て
のノズル２７の個々に関して測定する（ステップＳ
４）。そして、ノズル２７のインク吐出特性に合わせ
て、各ノズル２７に対応する圧電素子４１に印加する電
圧を調節する（ステップＳ５）。

【０１７０】次に、クリーニングタイミングが到来すれ
ば（ステップＳ６でＹＥＳ）、ヘッドユニット２６を主
走査駆動手段１９によってクリーニング手段７７の所ま
で移動させて（ステップＳ７）、そのクリーニング手段
７７によってインクジェットヘッド２２をクリーニング
する（ステップＳ８）。

【０１７１】重量測定タイミングやクリーニングタイミ
ングが到来しない場合（ステップＳ２及びＳ６でＮ
Ｏ）、又はそれらの処理が終了した場合には、ステップ
Ｓ９において、図８に示す基板供給装置２３を作動させ
てマザー基板１２をテーブル４９へ供給する。具体的に
は、基板収容部５７内のマザー基板１２を吸着パッド６
４によって吸引して保持し、次に、昇降軸６１、第１ア
ーム６２及び第２アーム６３を移動させてマザー基板１
２をテーブル４９まで搬送し、さらにテーブル４９の適
所に予め設けてある位置決めピン５０（図９参照）に押
し付ける。なお、テーブル４９上におけるマザー基板１
２の位置ズレを防止するため、空気吸引等の手段によっ
てマザー基板１２をテーブル４９に固定することが好ま
しい。

【０１７２】次に、図８に示す基板用カメラ８２によっ
てマザー基板１２を観察しながら、図９に示すθモータ
５１の出力軸を微小角度単位で回転させることによりテ
ーブル４９を微小角度単位で面内回転させてマザー基板
１２を位置決めする（ステップＳ１０）。次に、図８に
示すヘッド用カメラ８１によってマザー基板１２を観察
しながらインクジェットヘッド２２によって描画を開始
する位置を演算によって決定し（ステップＳ１１）、そ
して、主走査駆動手段１９及び副走査駆動手段２１を適
宜に作動させてインクジェットヘッド２２を描画開始位
置へ移動する（ステップＳ１２）。

【０１７３】このとき、プリントヘッド２２ａは、図２
に示すように、複数のノズル２７、従ってノズル列２８
がプリントヘッド２２ａの副走査方向Ｙに対して角度θ
で傾斜するように配設されることが好ましい。これは、
通常のインクジェット手段１６の場合には、隣り合うノ
ズル２７の間の間隔であるノズル間ピッチＤと、隣り合
うフィルタエレメント３すなわちフィルタエレメント形
成領域７の間の間隔であるエレメントピッチとが異なる
ことが多く、プリントヘッド２２ａをヘッド走査方向Ｘ
へ移動させるときに、ノズル間ピッチＤの副走査方向Ｙ
の寸法成分がエレメントピッチと幾何学的に等しくなる
ようにするための措置である。

【０１７４】図１８に示すステップＳ１２でインクジェ
ットヘッド２２が描画開始位置に置かれ、その後、図１
８に示すステップＳ１３でヘッド走査方向Ｘへの主走査
が開始され、同時にインクの吐出が開始される。具体的
には、図９に示す主走査駆動手段１９が作動してプリン
トヘッド２２ａがヘッド走査方向Ｘへ一定の速度で直線
的に走査移動し、その移動中、インクを供給すべきフィ
ルタエレメント形成領域７に対応するノズル２７が到達
したときにそのノズル２７からフィルタ材料、すなわち
インクが吐出される。

【０１７５】なお、このときのインク吐出量は、フィル
タエレメント形成領域７の容積全部を埋める量ではな
く、その全量の数分の１、具体的には、全量の１／４の
量である。これは、後述するように、各フィルタエレメ
ント形成領域７はノズル２７からの１回のインク吐出に
よって埋められるのではなくて、数回のインク吐出の重
ね吐出によって、例えば、４回の重ね吐出によって、容
積全部を埋めることが好ましいからである。

【０１７６】プリントヘッド２２ａは、マザー基板１２
に対する１ライン分の主走査が終了すると（ステップＳ
１４でＹＥＳ）、反転移動して初期位置（図１（ａ）参
照）へ復帰する（ステップＳ１５）。そしてさらに、プ
リントヘッド２２ａは、副走査駆動手段２１によって駆
動されて副走査方向Ｙへ予め定められた副走査移動ピッ
チＰだけ移動する（ステップＳ１６）。

【０１７７】図１（ｂ）に示す位置へ副走査移動したプ
リントヘッド２２ａは、ステップＳ１３で主走査移動及
びインク吐出を繰り返して実行する。さらに、その後、
プリントヘッド２２ａは、副走査移動を繰り返しながら
主走査移動及びインク吐出を繰り返し（ステップＳ１３
〜ステップＳ１６）、これにより、マザー基板１２のカ
ラーフィルタ形成領域１１の１列分のインク付着処理が
完了する。

【０１７８】なお、本実施形態では、複数回、例えば４
回のインク吐出処理を受けて、その全容積内に所定量す
なわち所定膜厚のインクすなわちフィルタ材料が全量供
給される。

【０１７９】また、ノズル列２８は順次に副走査移動し
て行く際、各位置におけるノズル列２８が他の位置にお
けるノズル列２８と副走査方向Ｙに関して重なることが
なく、しかし各位置間のノズル列２８が副走査方向Ｙに
関して互いに連続するように副走査移動が実行される。
従って、吐出されたフィルタ材料の厚さは均一となる。

【０１８０】以上により、図５（ａ）に示すマザー基板
１２内のカラーフィルタ形成領域１１の一列分のインク
吐出が完了すると、インクジェットヘッド２２は副走査
駆動手段２１によって駆動されて次列のカラーフィルタ
形成領域１１の初期位置へ搬送され（ステップＳ１
９）、列のカラーフィルタ形成領域１１に対して主走
査、副走査及びインク吐出を繰り返してフィルタエレメ
ント形成領域７内にフィルタエレメントを形成する（ス
テップＳ１３〜Ｓ１６）。

【０１８１】その後、マザー基板１２内の全てのカラー
フィルタ形成領域１１に関してＲ（赤）、Ｇ（緑）及び
Ｂ（青）の１色、例えば、Ｒ１色のフィルタエレメント
３が形成されると（ステップＳ１７及びＳ１８でＹＥ
Ｓ）、ステップＳ２０でマザー基板１２を基板供給装置
２３によって、又は別の搬送機器によって、処理後のマ
ザー基板１２が外部へ排出される。

【０１８２】その後、オペレータによって処理終了の指
示がなされない限り（ステップＳ２１でＮＯ）、ステッ
プＳ２へ戻って別のマザー基板１２に対するＲ１色に関
するインク吐着作業を繰り返して行う。

【０１８３】オペレータから作業終了の指示があると
（ステップＳ２１でＹＥＳ）、ＣＰＵ６９は図８におい
てプリントヘッド２２ａをキャッピング手段７６の所ま
で搬送して、そのキャッピング手段７６によってプリン
トヘッド２２ａに対してキャッピング処理を施す（ステ
ップＳ２２）。

【０１８４】以上により、カラーフィルタを構成する
Ｒ、Ｇ、Ｂの３色のうちの第１色、例えば、Ｒ色につい
てのパターニングが終了し、その後、マザー基板１２を
Ｒ、Ｇ、Ｂの第２色、例えば、Ｇ色をフィルタ材料とす
るインクジェット手段１６へ搬送してＧ色のパターニン
グを行い、さらに最終的にＲ、Ｇ、Ｂの第３色、例え
ば、Ｂ色をフィルタ材料とするインクジェット手段１６
へ搬送してＢ色のパターニングを行う。これにより、ス
トライプ配列等といった希望のＲ、Ｇ、Ｂのドット配列
を有するカラーフィルタ１（図５（ｂ）参照）が複数個
形成されたマザー基板１２が製造される。

【０１８５】なお、カラーフィルタ１を液晶表示装置の
カラー表示のために用いる場合には、カラーフィルタ１
の表面には電極や配向膜等がさらに積層されることにな
る。そのような場合、電極や配向膜等を積層する前にマ
ザー基板１２を切断して個々のカラーフィルタ１を切り
出してしまうと、その後の電極等の形成工程が非常に面
倒になる。よって、そのような場合には、マザー基板１
２上でカラーフィルタ１が完成した後に、直ぐにマザー
基板１２を切断してしまうのではなく、電極形成や配向
膜形成等の必要な付加工程が終了した後にマザー基板１
２を切断することが好ましい。

【０１８６】以上のように、図５（ｂ）に示すカラーフ
ィルタ１内の個々のフィルタエレメント３は、インクジ
ェットヘッド２２によるＸ方向への１回の主走査によっ
て形成されるのではなくて、各１個のフィルタエレメン
ト３は異なるノズルグループに属する複数のノズル２７
によってｎ回、例えば４回、重ねてインク吐出を受ける
ことにより所定の膜厚に形成される。このため、仮に複
数のノズル２７間においてインク吐出量にバラツキが存
在する場合でも、複数のフィルタエレメント３間で膜厚
にバラツキが生じることを防止でき、それ故、カラーフ
ィルタの光透過特性を平面的に均一にすることができ
る。

【０１８７】また、前述のように、インクジェットヘッ
ド２２のノズル列２８を形成する複数のノズル２７のイ
ンク吐出量の分布が不均一になること、また、特にノズ
ル列２８の両端部に存在する１つ以上（例えば、片端側
１０個ずつ）のノズル２７が特にインク吐出量が大きく
なることに対応して、図１６に示すように、インクジェ
ットヘッド２２に形成された複数のノズル２７のうちノ
ズル列２８の両端部Ｅに存在する１つ以上（例えば、１
０個程度）は予めインクを吐出させないように構成して
おくことが好ましい。例えば、ノズル２７の数が１８０
個である場合には、両端それぞれの１０個、合計で２０
個のノズル２７からはインクを吐出しないように印加電
圧等に条件付けをしておき、残りの中央部の１６０個を
用いてインクを吐出することができる。

【０１８８】以上の説明では、図６において、隔壁６と
して透光性のない樹脂材料を用いたが、隔壁６として透
光性の樹脂材料を用いてもよい。この場合、フィルタエ
レメント３の間に対応する位置、例えば隔壁６の上、あ
るいは隔壁６の下等に遮光性の金属膜又は樹脂材料を、
別途、設けてブラックマスクとしてもよい。

【０１８９】また、フィルタエレメント３としてＲ、
Ｇ、Ｂを用いたが、Ｒ、Ｇ、Ｂだけではなく、例えば、
Ｃ（シアン）、Ｍ（マゼンダ）、Ｙ（イエロー）を用い
てもよい。この場合には、Ｒ、Ｇ、Ｂのフィルタ材料に
代えて、Ｃ、Ｍ、Ｙの色を有するフィルタ材料を用いれ
ばよい。

【０１９０】以上の説明では、隔壁６は、フォトリソグ
ラフィによって形成したが、カラーフィルタ３と同様に
インクジェット法により形成してもよい。

【０１９１】（インクジェットヘッドの改変例）図１９
は、本発明に係るカラーフィルタの製造方法及び製造装
置の他の実施形態に用いられるインクジェットヘッド２
２Ａを示している。このインクジェットヘッド２２Ａが
図１０に示すインクジェットヘッド２２と異なる点は、
Ｒ色インクを吐出するノズル列２８Ｒと、Ｇ色インクを
吐出するノズル列２８Ｇと、Ｂ色インクを吐出するノズ
ル列２８Ｂといった３種類のノズル列を１個のインクジ
ェットヘッド２２Ａに形成し、それら３種類のそれぞれ
に図１５（ａ）及び図１５（ｂ）に示したインク吐出系
を設け、Ｒ色ノズル列２８Ｒに対応するインク吐出系に
はＲインク供給装置３７Ｒを接続し、Ｇ色ノズル列２８
Ｇに対応するインク吐出系にはＧインク供給装置３７Ｇ
を接続し、そしてＢ色ノズル列２８Ｂに対応するインク
吐出系にはＢインク供給装置３７Ｂを接続したことであ
る。

【０１９２】（液晶表示装置の製造方法）図２０は、本
発明に係る液晶表示装置の製造方法の一実施形態を工程
図によって示している。また、図２１はその製造方法に
よって製造される液晶表示装置の一例を示している。ま
た、図２２は、図２１におけるＸ−Ｘ線に従って液晶表
示装置の断面構造を示している。

【０１９３】なお、ここで説明する液晶表示装置は、単
純マトリクス方式でフルカラー表示を行う半透過反射方
式の液晶表示装置である。

【０１９４】図２１において、液晶表示装置１０１は、
液晶パネル１０２に半導体チップとしての駆動用ＩＣ１
０３ａ及び１０３ｂを実装し、配線接続要素としてのＦ
ＰＣ（Flexible Printed Circuit）１０４を液晶パネル
１０２に接続し、さらに液晶パネル１０２の裏面側に照
明装置１０６をバックライトとして設けることによって
形成される。

【０１９５】液晶パネル１０２は、第１基板１０７ａと
第２基板１０７ｂとをシール材１０８によって貼り合わ
せることによって形成される。シール材１０８は、例え
ば、スクリーン印刷等によってエポキシ系樹脂を第１基
板１０７ａ又は第２基板１０７ｂの内側表面に環状に付
着させることによって形成される。また、シール材１０
８の内部には、図２２に示すように、導電性材料によっ
て球状又は円筒状に形成された導通材１０９が分散状態
で含まれる。

【０１９６】図２２に示すように、第１基板１０７ａは
透明なガラスや、透明なプラスチック等からなる板状の
基材１１１ａを有する。この基材１１１ａの内側表面
（図２２における上側表面）には反射膜１１２が形成さ
れ、その上に絶縁膜１１３が積層され、その上に第１電
極１１４ａが矢印Ｄ方向から見てストライプ状（図２１
参照）に形成され、さらにその上に配向膜１１６ａが形
成される。また、基材１１１ａの外側表面（図２２にお
ける下側表面）には偏光板１１７ａが貼着等によって装
着される。

【０１９７】図２１においては、第１電極１１４ａの配
列を分かり易く示すために、それらのストライプ間隔を
実際よりも大幅に広く描いており、よって、第１電極１
１４ａの本数が少なく描かれているが、実際には、第１
電極１１４ａはより多数本が基材１１１ａ上に形成され
る。

【０１９８】図２２において、第２基板１０７ｂは透明
なガラスや、透明なプラスチック等からなる板状の基材
１１１ｂを有する。この基材１１１ｂの内側表面（図２
２における下側表面）にはカラーフィルタ１１８が形成
され、その上に第２電極１１４ｂが上記第１電極１１４
ａと直交する方向へ矢印Ｄ方向から見てストライプ状
（図２１参照）に形成され、さらにその上に配向膜１１
６ｂが形成される。また、基材１１１ｂの外側表面（図
２２における上側表面）には偏光板１１７ｂが貼着等に
よって装着される。

【０１９９】図２１においては、第２電極１１４ｂの配
列を分かりやすく示すために、第１電極１１４ａの場合
と同様に、それらのストライプ間隔を実際よりも大幅に
広く描いており、よって、第２電極１１４ｂの本数が少
なく描かれているが、実際には、第２電極１１４ｂはよ
り多数本が基材１１１ｂ上に形成される。

【０２００】図２２において、第１基板１０７ａ、第２
基板１０７ｂ及びシール材１０８によって囲まれる間隙
（いわゆる、セルギャップ）内には液晶、例えば、ＳＴ
Ｎ（Super Twisted Nematic）液晶Ｌが封入されてい
る。第１基板１０７ａ又は第２基板１０７ｂの内側表面
には微小で球形のスペーサ１１９が多数分散され、これ
らのスペーサ１１９がセルギャップ内に存在することに
よりそのセルギャップの厚さが均一に維持される。

【０２０１】第１電極１１４ａと第２電極１１４ｂは互
いに直交関係に配置され、それらの交差点は図２２の矢
印Ｄ方向から見てドット・マトリクス状に配列する。そ
して、そのドット・マトリクス状の各交差点が１つの表
示ドットを構成する。カラーフィルタ１１８は、Ｒ
（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）の各色要素を矢印Ｄ方向
から見て所定のパターン、例えば、ストライプ配列、デ
ルタ配列、モザイク配列等のパターンで配列させること
によって形成されている。上記の１つの表示ドットはそ
れらＲ、Ｇ、Ｂの各１色に対応しており、そしてＲ、
Ｇ、Ｂの３色表示ドットが１つのユニットになって１画
素が構成される。

【０２０２】ドット・マトリクス状に配列される複数の
表示ドット（従って、画素）を選択的に発光させること
により、液晶パネル１０２の第２基板１０７ｂの外側に
文字、数字等の像が表示される。このようにして像が表
示される領域が有効表示領域であり、図２１及び図２２
において矢印Ｖによって示される平面的な長方形領域が
その有効表示領域Ｖとなる。

【０２０３】図２２において、反射膜１１２はＡＰＣ合
金、Ａｌ（アルミニウム）等といった光反射性材料によ
って形成され、第１電極１１４ａと第２電極１１４ｂと
の交差点である各表示ドットに対応する位置に開口１２
１が形成されている。結果的に、開口１２１は図２２の
矢印Ｄ方向から見て、表示ドットと同じドット・マトリ
クス状に配列されている。

【０２０４】第１電極１１４ａ及び第２電極１１４ｂ
は、例えば、透明導電材であるＩＴＯによって形成され
る。また、配向膜１１６ａ及び１１６ｂは、ポリイミド
系樹脂を一様な厚さの膜状に付着させることによって形
成される。これらの配向膜１１６ａ及び１１６ｂがラビ
ング処理を受けることにより、第１基板１０７ａ及び第
２基板１０７ｂの表面上における液晶分子の初期配向が
決定される。

【０２０５】図２１において、第１基板１０７ａは第２
基板１０７ｂよりも広い面積に形成されており、これら
の基板をシール材１０８によって貼り合わせたとき、第
１基板１０７ａは第２基板１０７ｂの外側へ張り出す張
出し部１０７ｃを有する。そして、この張出し部１０７
ｃには、第１電極１１４ａから延び出る引出し配線１１
４ｃ、シール材１０８の内部に存在する導通材１０９
（図２２参照）を介して第２基板１０７ｂ上の第２電極
１１４ｂと導通する引出し配線１１４ｄ、駆動用ＩＣ１
０３ａの入力用バンプ（すなわち、入力用端子）に接続
される金属配線１１４ｅ、駆動用ＩＣ１０３ｂの入力用
バンプに接続される金属配線１１４ｆ等といった各種の
配線が適切なパターンで形成される。

【０２０６】第１電極１１４ａから延びる引出し配線１
１４ｃ及び第２電極１１４ｂに導通する引出し配線１１
４ｄはそれらの電極と同じ材料であるＩＴＯ、すなわち
導電性酸化物によって形成される。また、駆動用ＩＣ１
０３ａ及び１０３ｂの入力側の配線である金属配線１１
４ｅ及び１１４ｆは電気抵抗値の低い金属材料、例え
ば、ＡＰＣ合金によって形成される。ＡＰＣ合金は、主
としてＡｇを含み、付随してＰｄ及びＣｕを含む合金、
例えば、Ａｇ：９８％、Ｐｄ：１％、Ｃｕ：１％からな
る合金である。

【０２０７】駆動用ＩＣ１０３ａ及び駆動用ＩＣ１０３
ｂは、ＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film：異方性
導電膜）１２２によって張出し部１０７ｃの表面に接着
されて実装される。すなわち、本実施形態においては、
基板上に半導体チップが直接に実装される構造の、いわ
ゆるＣＯＧ（Chip On Glass）方式の液晶パネルとして
形成されている。このＣＯＧ方式の実装構造において
は、ＡＣＦ１２２の内部に含まれる導電粒子によって、
駆動用ＩＣ１０３ａ及び１０３ｂの入力側バンプと金属
配線１１４ｅ及び１１４ｆとが導電接続され、駆動用Ｉ
Ｃ１０３ａ及び１０３ｂの出力側バンプと引出し配線１
１４ｃ及び１１４ｄとが導電接続される。

【０２０８】図２１において、ＦＰＣ１０４は、可撓性
の樹脂フィルム１２３と、チップ部品１２４を含んで構
成された回路１２６と、金属配線端子１２７とを有す
る。回路１２６は樹脂フィルム１２３の表面に半田付け
その他の導電接続手法によって直接に搭載される。ま
た、金属配線端子１２７はＡＰＣ合金、Ｃｒ、Ｃｕその
他の導電材料によって形成される。ＦＰＣ１０４のうち
金属配線端子１２７が形成された部分は、第１基板１０
７ａのうち金属配線１１４ｅ及び金属配線１１４ｆが形
成された部分にＡＣＦ１２２によって接続される。そし
て、ＡＣＦ１２２の内部に含まれる導電粒子の働きによ
り、基板側の金属配線１１４ｅ及び１１４ｆとＦＰＣ側
の金属配線端子１２７とが導通する。

【０２０９】ＦＰＣ１０４の反対側の辺端部には外部接
続端子１３１が形成され、この外部接続端子１３１が図
示しない外部回路に接続される。そして、この外部回路
から伝送される信号に基づいて駆動用ＩＣ１０３ａ及び
１０３ｂが駆動され、第１電極１１４ａ及び第２電極１
１４ｂの一方に走査信号が供給され、他方にデータ信号
が供給される。これにより、有効表示領域Ｖ内に配列さ
れたドット・マトリクス状の表示ドットに印加される電
圧が個々に制御され、その結果、液晶Ｌの配向が個々の
表示ドットごとに制御される。

【０２１０】図２１において、いわゆるバックライトと
して機能する照明装置１０６は、図２２に示すように、
アクリル樹脂等によって構成された導光体１３２と、そ
の導光体１３２の光出射面１３２ｂに設けられた拡散シ
ート１３３と、導光体１３２の光出射面１３２ｂの反対
面に設けられた反射シート１３４と、発光源としてのＬ
ＥＤ（Light Emitting Diode）１３６とを有する。

【０２１１】ＬＥＤ１３６はＬＥＤ基板１３７に支持さ
れ、そのＬＥＤ基板１３７は、例えば導光体１３２と一
体に形成された支持部（図示せず）に装着される。ＬＥ
Ｄ基板１３７が支持部の所定位置に装着されることによ
り、ＬＥＤ１３６が導光体１３２の側辺端面である光取
込み面１３２ａに対向する位置に置かれる。なお、符号
１３８は液晶パネル１０２に加わる衝撃を緩衝するため
の緩衝材を示している。

【０２１２】ＬＥＤ１３６が発光すると、その光は光取
込み面１３２ａから取り込まれて導光体１３２の内部へ
導かれ、反射シート１３４や導光体１３２の壁面で反射
しながら伝播する間に光出射面１３２ｂから拡散シート
１３３を通して外部へ平面光として出射する。

【０２１３】液晶表示装置１０１は以上のように構成さ
れているので、太陽光、室内光等の外部光が十分に明る
い場合には、図２２において、第２基板１０７ｂ側から
外部光が液晶パネル１０２の内部へ取り込まれ、その光
が液晶Ｌを通過した後に反射膜１１２で反射して再び液
晶Ｌへ供給される。液晶Ｌはこれを挟持する電極１１４
ａ及び１１４ｂによってＲ、Ｇ、Ｂの各色の表示ドット
ごとにその配向が制御されており、よって、液晶Ｌへ供
給された光は表示ドットごとに変調され、その変調によ
って偏光板１１７ｂを通過する光と、通過できない光と
によって液晶パネル１０２の外部に文字、数字等の像が
表示される。これにより、反射型の表示が行われる。

【０２１４】他方、外部光の光量が十分に得られない場
合には、ＬＥＤ１３６が発光して導光体１３２の光出射
面１３２ｂから平面光が出射され、その光が反射膜１１
２に形成された開口１２１を通して液晶Ｌへ供給され
る。このとき、反射型の表示と同様にして、供給された
光が配向制御される液晶Ｌによって表示ドットごとに変
調され、これにより、外部へ像が表示される。これによ
り、透過型の表示が行われる。

【０２１５】上記構成の液晶表示装置１０１は、本発明
の液晶表示装置の製造方法及び製造装置を用いて、具体
的には、図２０に示す製造方法によって製造される。こ
の製造方法において、工程Ｐ１から工程Ｐ６の一連の工
程が第１基板１０７ａを形成する工程であり、工程Ｐ１
１から工程Ｐ１４の一連の工程が第２基板１０７ｂを形
成する工程である。第１基板形成工程と第２基板形成工
程は、通常、それぞれが独自に行われる。

【０２１６】まず、第１基板形成工程においては、透光
性ガラス、透光性プラスチック等によって形成された大
面積のマザー原料基材の表面に液晶パネル１０２の複数
個分の反射膜１１２をフォトリソグラフィ法等を用いて
形成し、さらにその上に絶縁膜１１３を周知の成膜法を
用いて形成し（工程Ｐ１）、次に、フォトリソグラフィ
法等を用いて第１電極１１４ａ及び配線１１４ｃ，１１
４ｄ，１１４ｅ，１１４ｆを形成する（工程Ｐ２）。

【０２１７】次に、第１電極１１４ａの上に塗布、印刷
等によって配向膜１１６ａを形成し（工程Ｐ３）、さら
にその配向膜１１６ａに対してラビング処理を施すこと
により液晶の初期配向を決定する（工程Ｐ４）。次に、
例えば、スクリーン印刷等によってシール材１０８を環
状に形成し（工程Ｐ５）、さらにその上に球状のスペー
サ１１９を分散する（工程Ｐ６）。以上により、液晶パ
ネル１０２の第１基板１０７ａ上のパネルパターンを複
数個分有する大面積のマザー第１基板が形成される。

【０２１８】以上の第１基板形成工程とは別に、第２基
板形成工程（図２０の工程Ｐ１１から工程Ｐ１４）を実
施する。まず、透光性ガラス、透光性プラスチック等に
よって形成された大面積のマザー原料基材を用意し、そ
の表面に液晶パネル１０２の複数個分のカラーフィルタ
１１８を形成する（工程Ｐ１１）。このカラーフィルタ
の形成工程は図６に示した製造方法を用いて行われ、そ
の製造方法中のＲ（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）の各色
フィルタエレメントの形成は図８に示すインクジェット
手段１６を用い行われる。これらカラーフィルタの製造
方法及びインクジェットヘッドの制御方法は既に説明し
た内容と同様である。

【０２１９】図６（ｄ）に示すようにマザー基板１２す
なわちマザー原料基材の上にカラーフィルタ１、すなわ
ちカラーフィルタ１１８が形成されると、次に、フォト
リソグラフィ法によって第２電極１１４ｂが形成され
（工程Ｐ１２）、さらに塗布、印刷等によって配向膜１
１６ｂが形成され（工程Ｐ１３）、さらにその配向膜１
１６ｂに対してラビング処理が施されて液晶の初期配向
が決められる（工程Ｐ１４）。以上により、液晶パネル
１０２の第２基板１０７ｂ上のパネルパターンを複数個
分有する大面積のマザー第２基板が形成される。

【０２２０】以上により大面積のマザー第１基板及びマ
ザー第２基板が形成された後、それらのマザー基板をシ
ール材１０８を間に挟んでアライメント、すなわち位置
合わせした上で互いに貼り合わせる（工程Ｐ２１）。こ
れにより、液晶パネル複数個分のパネル部分を含んでい
て未だ液晶が封入されていない状態の空のパネル構造体
が形成される。

【０２２１】次に、完成した空のパネル構造体の所定位
置にスクライブ溝、すなわち切断用溝を形成し、さらに
そのスクライブ溝を基準にしてパネル構造体をブレイ
ク、すなわち切断する（工程Ｐ２２）。これにより、各
液晶パネル部分のシール材１０８の液晶注入用開口１１
０（図２１参照）が外部へ露出する状態の、いわゆる短
冊状の空のパネル構造体が形成される。

【０２２２】その後、露出した液晶注入用開口１１０を
通して各液晶パネル部分の内部に液晶Ｌを注入し、さら
に各液晶注入口１１０を樹脂等によって封止する（工程
Ｐ２３）。通常の液晶注入処理は、例えば、貯留容器の
中に液晶を貯留し、その液晶が貯留された貯留容器と短
冊状の空パネルをチャンバー等の中に入れ、そのチャン
バー等の中を真空状態にしてからそのチャンバーの内部
において液晶の中に短冊状の空パネルを浸漬し、その
後、チャンバーを大気圧に開放することによって行われ
る。このとき、空パネルの内部は真空状態なので、大気
圧によって加圧される液晶が液晶注入用開口１１０を通
してパネルの内部へ導入される。液晶注入後の液晶パネ
ル構造体のまわりには液晶が付着するので、液晶注入処
理後の短冊状パネルは工程Ｐ２４において洗浄処理を受
ける。

【０２２３】その後、液晶注入及び洗浄が終わった後の
短冊状のマザーパネルに対して再び所定位置にスクライ
ブ溝を形成し、さらにそのスクライブ溝を基準にして短
冊状パネルを切断することにより、複数個の液晶パネル
が個々に切り出される（工程Ｐ２５）。こうして作製さ
れた個々の液晶パネル１０２に対して図２１に示すよう
に、駆動用ＩＣ１０３ａ，１０３ｂを実装し、照明装置
１０６をバックライトとして装着し、さらにＦＰＣ１０
４を接続することにより、目標とする液晶表示装置１０
１が完成する（工程Ｐ２６）。

【０２２４】以上に説明した液晶表示装置の製造方法及
び製造装置は、特にカラーフィルタを製造する段階にお
いて、その製造方法が有する特徴を有効に利用すること
ができることから、より効率的にカラーフィルタの光透
過特性を平面的に均一にすることができる。このこと
は、図２２に示す液晶表示装置１０１において、色むら
のない鮮明なカラー表示が得られるということを意味す
る。

【０２２５】また、本発明の液晶表示装置の製造方法及
び製造装置においては、図８に示すインクジェット手段
１６を用いることによりインクジェットヘッド２２を用
いたインク吐出によってフィルタエレメント３を形成す
るので、フォトリソグラフィ法を用いる方法のような複
雑な工程を経る必要もなく、また、材料を浪費すること
もない。

【０２２６】（ＥＬ発光層配設基板の製造方法の実施態
様）次に、本発明に係るＥＬ発光層配設基板の製造方法
は、上述のカラーフィルタの製造方法におけるフィルタ
材料の代わりに、ＥＬ発光材料を用いたこと以外は基本
的にそのカラーフィルタの製造方法と同様の構成を有す
る。このＥＬ発光層配設基板の製造方法の一実施形態を
説明すれば、次の通りである。

【０２２７】例えば、図１（ａ）において、複数のノズ
ル２７を一定の配列ピッチ（Ｄ）で列状に配列した一以
上のインクジェットヘッド２２を所定の隣接間隔で配列
してプリントヘッド２２ａを形成する。そして、このプ
リントヘッド２２ａを一定方向であるヘッド走査方向
（図１（ａ）の縦方向Ｘ）に移動させて基板２を主走査
する。また、それと同時に、プリントヘッド２２ａをヘ
ッド走査方向に直交する方向であるヘッド改行方向（図
１（ａ）の横方向Ｙ）に所定の移動ピッチ（Ｐ）で移動
させて基板２を副走査する。

【０２２８】上記の主走査及び副走査が行われる間、一
以上のインクジェットヘッド２２に配列した複数のノズ
ル２７からＥＬ発光材料を基板２上のＥＬ発光層形成領
域（従って、表示ドット）に選択的に吐出する。さら
に、必要に応じて、主走査及び副走査を複数回繰り返し
て、ＥＬ発光材料を基板２のＥＬ発光層形成領域に所定
形状及び所定厚さで付着する。これにより、基板２上の
各表示ドット内に所定形状及び所定厚さのＥＬ発光層が
形成される。

【０２２９】本実施形態に係るＥＬ発光層配設基板の製
造方法では、ノズル２７の一定の配列ピッチを“Ｄ”と
し、互いに隣り合うインクジェットヘッド２２のそれぞ
れに設けられた複数のノズル２７のうち最端部に位置し
ていて互いに最近接するもの同士の間隔を“Ｗ”とする
とき、 Ｗ＝ｍＤ （但し、ｍは２以上の整数） に設定する。すなわち、互いに隣り合うインクジェット
ヘッド２２の間において互いに隣り合うノズル２７同士
の間隔Ｗは、ノズル２７の配列ピッチＤの整数倍となる
ように構成される。

【０２３０】また、同時に、図１（ｂ）に示すように、
プリントヘッド２２ａのヘッド改行方Ｙの副走査移動ピ
ッチを“Ｐ”とし、ノズル２７の一定の配列ピッチを
“Ｄ”とするとき、 Ｐ＝ｎＤ （但し、ｎは１以上の整数） に設定する。すなわち、インクジェットヘッド２２の副
走査の移動ピッチＰは、ノズル２７の配列ピッチＤの整
数倍となるように構成される。

【０２３１】隣接するインクジェットヘッド間のノズル
間隔Ｗ、副走査の移動ピッチＰ、及びノズルの配列ピッ
チＤの間に上記の関係を設定することにより、プリント
ヘッド２２ａの主走査及び副走査時に、ノズル２７を全
てのＥＬ発光層形成領域に正確に対向させて、それらの
上を通過させることができ、それ故、描画効率を高くす
ることができ、かつ適切な位置でインクを吐出できる。
そしてこれにより、均一な平面形状及び均一な厚さのＥ
Ｌ発光層、従って画素を基板２上に形成できる。

【０２３２】なお、１つ以上のインクジェットヘッド２
２は、図２に示したように、ヘッド改行方向Ｙに対して
それぞれθの角度の傾斜を設けて配列することができ
る。この場合、角度θは０°より大きく、１８０°より
小さい角度である。

【０２３３】また、１つ以上のインクジェットヘッド２
２の両端部にそれぞれ位置する１つ以上のノズル２７
は、基板２上のＥＬ発光層形成領域にＥＬ発光材料を吐
出しないように構成することができる。

【０２３４】また、ＥＬ発光材料は、Ｒ（赤）、Ｇ
（緑）及びＢ（青）の３種類のインクによって形成でき
る。また、１つ以上のインクジェットヘッド２２は、例
えば図１５に示した構成とすることができる。

【０２３５】（ＥＬ発光層配設基板の製造装置の実施形
態）本発明に係るＥＬ発光層配設基板の製造装置は、前
述のカラーフィルタの製造装置と基本的に同様に構成で
きる。すなわち、本発明に係るＥＬ発光層配設基板の製
造装置は、基板上に所定形状及び所定厚さのＥＬ発光層
を配設してなるＥＬ発光層配設基板を製造する装置であ
る。このＥＬ発光層配設基板の製造装置の一実施形態を
説明すれば、次の通りである。

【０２３６】例えば、本実施形態のＥＬ発光層配設基板
の製造装置は、図１において、複数のノズル２７を一定
の配列ピッチ（Ｄ）で列状に配列した一以上のインクジ
ェットヘッド２２を所定の隣接間隔で配列してなるプリ
ントヘッド２２ａを有する。複数のノズル２７からはＥ
Ｌ発光材料が基板２上のＥＬ発光層形成領域に選択的に
吐出され、これにより、基板２上にＥＬ発光層が形成さ
れる。

【０２３７】プリントヘッド２２ａ内の複数のノズル２
７には図示しないＥＬ発光材料供給手段が接続され、こ
のＥＬ発光材料供給手段の働きによりノズル２７にＥＬ
発光材料が供給される。また、プリントヘッド２２ａに
は図示しない主走査駆動手段が接続され、この主走査駆
動手段の働きにより、プリントヘッド２２ａは一定方向
であるヘッド走査方向（すなわち、図１（ａ）の縦方向
Ｘ）に移動して基板２を主走査する。

【０２３８】また、プリントヘッド２２ａには図示しな
い副走査駆動手段が接続され、この副走査駆動手段の働
きにより、プリントヘッド２２ａはヘッド走査方向Ｘに
直交する方向であるヘッド改行方向（すなわち、図１
（ａ）の横方向Ｙ）に所定の移動ピッチ（Ｐ）で移動し
て基板２を副走査する。また、複数のノズル２７にはノ
ズル吐出制御手段が接続され、このノズル吐出制御手段
の働きにより、ノズル２７から吐出されるＥＬ発光材料
の吐出量及び吐出時期が制御される。

【０２３９】上記の主走査駆動手段は、例えばＣＰＵを
含んで構成される主走査制御手段によってその動作が制
御される。また、上記の副走査制御手段は、例えばＣＰ
Ｕを含んで構成される副走査制御手段によってその動作
が制御される。

【０２４０】プリントヘッド２２ａは、一定方向である
ヘッド走査方向（すなわち、図１（ａ）の縦方向Ｘ）に
移動して基板２を主走査する。そして同時に、プリント
ヘッド２２ａは、ヘッド改行方向Ｙに所定の移動ピッチ
（Ｐ）で移動して基板２を副走査する。

【０２４１】上記の主走査及び副走査の間、一以上のイ
ンクジェットヘッド２２に配列した複数のノズル２７か
らＥＬ発光材料を基板２上のＥＬ発光層形成領域に選択
的に吐出する。さらに、必要に応じて、主走査及び副走
査を複数回繰り返して、ＥＬ発光材料を基板２上のＥＬ
発光層形成領域に所定形状及び所定厚さで付着する。こ
れにより、基板２上に所定形状及び所定厚さのＥＬ発光
層が形成される。

【０２４２】本実施形態に係るＥＬ発光層配設基板の製
造装置では、ノズル２７の一定の配列ピッチを“Ｄ”と
し、互いに隣り合うインクジェットヘッド２２のそれぞ
れに設けられた複数のノズル２７のうち最端部に位置し
ていて互いに最近接するもの同士の間隔を“Ｗ”とする
とき、 Ｗ＝ｍＤ （但し、ｍは２以上の整数） に設定する。すなわち、互いに隣り合うインクジェット
ヘッド２２の間において互いに隣り合うノズル２７同士
の間隔Ｗは、ノズル２７の配列ピッチＤの整数倍となる
ように構成される。

【０２４３】また、同時に、図１（ｂ）に示すように、
プリントヘッド２２ａのヘッド改行方Ｙの副走査移動ピ
ッチを“Ｐ”とし、ノズル２７の一定の配列ピッチを
“Ｄ”とするとき、 Ｐ＝ｎＤ （但し、ｎは１以上の整数） に設定する。すなわち、インクジェットヘッド２２の副
走査の移動ピッチＰは、ノズル２７の配列ピッチＤの整
数倍となるように構成される。

【０２４４】隣接するインクジェットヘッド間のノズル
間隔Ｗ、副走査の移動ピッチＰ、及びノズルの配列ピッ
チＤの間に上記の関係を設定することにより、プリント
ヘッド２２ａの主走査及び副走査時に、ノズル２７を全
てのＥＬ発光層形成領域に正確に対向させて、それらの
上を通過させることができ、それ故、描画効率を高くす
ることができ、かつ適切な位置でインクを吐出できる。
そしてこれにより、均一な平面形状及び均一な厚さのＥ
Ｌ発光層、従って画素を基板２上に形成できる。

【０２４５】なお、１つ以上のインクジェットヘッド２
２は、図２に示すように、ヘッド改行方向Ｙに対してそ
れぞれθの角度の傾斜を設けて配列することもできる。
この場合、角度θは０°より大きく、１８０°より小さ
い角度である。

【０２４６】（ＥＬ発光装置の製造方法及び製造装置の
実施形態）本発明に係るＥＬ発光装置の製造方法及び製
造装置の構成は、前述の液晶表示装置の製造方法及び製
造装置の場合と基本的に同様である。すなわち、本発明
に係るＥＬ発光装置の製造方法の一実施形態では、前述
のＥＬ発光層配設基板の製造方法によってＥＬ発光層配
設基板を作製し、得られたＥＬ発光層配設基板から所定
数のパネル単位を切り出す。

【０２４７】そしてさらに、このパネル単位のＥＬ発光
層配設基板に用いられた基板（すなわち、共通電極基
板）上に、保護層と、共通電極とを形成すると共に、上
記の共通電極基板に対向して一対の基板を構成する基板
（すなわち、表示ドット電極基板）上に、共通電極に対
向して一対の電極を構成する表示ドット電極を形成す
る。

【０２４８】また、本発明に係るＥＬ発光装置の製造装
置は、一方の基板、例えば共通電極基板と、それに対向
する他方の基板、例えば表示ドット電極基板とを有する
ＥＬ発光装置を製造する装置である。共通電極基板上に
は、所定形状及び所定厚さのＥＬ発光層が配設され、こ
れにより、ＥＬ発光層配設基板が形成される。また、共
通電極基板上には保護層と、共通電極とが、さらに形成
される。また、共通電極基板に対向する表示ドット電極
基板上には、共通電極に対向して一対の電極を構成する
表示ドット電極が形成される。

【０２４９】（ＥＬ発光装置の製造方法の実施形態）図
２３は、本発明に係るＥＬ発光装置の製造方法の一実施
形態を工程図によって示している。また、図２４は、図
２３に示す工程図における各工程に対応するＥＬ発光装
置の断面構造を示している。図２４（ｄ）に示すよう
に、ＥＬ発光装置２０１は、透明基板２０４上に画素電
極２０２を形成し、各画素電極２０２間にバンク２０５
を矢印Ｇ方向から見て格子状に形成し、それらの格子状
凹部の中に正孔注入層２２０を形成し、矢印Ｇ方向から
見てストライプ配列等といった所定配列となるようにＲ
色発光層２０３Ｒ、Ｇ色発光層２０３Ｇ及びＢ色発光層
２０３Ｂを各格子状凹部の中に形成し、さらにそれらの
上に対向電極２１３を形成することによって形成され
る。

【０２５０】上記画素電極２０２をＴＦＤ（Thin Film
Diode：薄膜ダイオード）素子等といった２端子型のア
クティブ素子によって駆動する場合には、上記対向電極
２１３は矢印Ｇ方向から見てストライプ状に形成され
る。また、画素電極２０２をＴＦＴ（Thin Film Transi
stor：薄膜トランジスタ）等といった３端子型のアクテ
ィブ素子によって駆動する場合には、上記対向電極２１
３は単一な面電極として形成される。

【０２５１】各画素電極２０２と各対向電極２１３とに
よって挟まれる領域が一つの表示ドットとなり、Ｒ
（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）の３色の表示ドットが１
つのユニットとなって一つの画素を形成する。各表示ド
ットを流れる電流を制御することにより、複数の表示ド
ットのうちの所望のものを選択的に発光させ、これによ
り、矢印Ｈ方向に希望するフルカラー像を表示すること
ができる。

【０２５２】上記ＥＬ発光装置２０１は、例えば、図２
３に示す製造方法によって製造される。すなわち、工程
Ｐ５１及び図２４（ａ）のように、透明基板２０４の表
面にＴＦＤ素子やＴＦＴ素子等といった能動素子を形成
し、さらに画素電極２０２を形成する。形成方法として
は、例えば、フォトリソグラフィ法、真空状着法、スパ
ッタリング法、パイロゾル法等を用いることができる。
画素電極の材料としてはＩＴＯ（Indium Tin Oxide）、
酸化スズ、酸化インジウムと酸化亜鉛との複合酸化物等
を用いることができる。

【０２５３】次に、工程Ｐ５２及び図２４（ａ）に示す
ように、隔壁すなわちバンク２０５を周知のパターニン
グ手法、例えば、フォトリソグラフィ法を用いて形成
し、このバンク２０５によって各透明電極２０２の間を
埋めた。これにより、コントラストの向上、発光材料の
混色の防止、画素と画素との間からの光漏れ等を防止す
ることができる。バンク２０５の材料としては、ＥＬ材
料の溶媒に対して耐久性を有するものであれば特に制限
はないが、フロロカーボンガスプラズマ処理によりフッ
素樹脂化できるもの、例えば、アクリル樹脂、エポキシ
樹脂、感光性ポリイミド等の有機材料が好ましい。

【０２５４】次に、正孔注入層用インクを塗布する直前
に、基板２０４に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズ
マの連続プラズマ処理を行う（工程Ｐ５３）。これによ
り、ポリイミド表面は撥水化され、ＩＴＯ表面は親水化
され、インクジェット液滴を微細にパターニングするた
めの基板側の濡れ性の制御ができる。プラズマを発生す
る装置としては、真空中でプラズマを発生する装置であ
っても、大気中でプラズマを発生する装置であってもよ
い。

【０２５５】次に、工程Ｐ５４及び図２４（ａ）に示す
ように、正孔注入層用インクを図８に示すインクジェッ
ト手段１６のインクジェットヘッド２２から吐出し、各
画素電極２０２の上にパターニング塗布を行う。具体的
なインクジェットヘッドの制御方法は前述の方法を用い
ることができる。その塗布後、真空（例えば、１ｔｏｒ
ｒ）中、室温、２０分という条件で溶媒を除去し（工程
Ｐ５５）、その後、大気中、２０℃（例えば、ホットプ
レート上）、１０分の熱処理により、発光層用インクと
相溶しない正孔注入層２２０を形成する（工程Ｐ５
６）。膜厚は４０ｎｍ程度とする。

【０２５６】次に、工程Ｐ５７及び図２４（ｂ）に示す
ように、各フィルタエレメント領域内の正孔注入層２２
０の上にインクジェット手法を用いてＲ発光層用インク
及びＧ発光層用インクを塗布する。ここでも、各発光層
用インクは、図８に示すインクジェット手段１６のイン
クジェットヘッド２２から吐出し、さらにインクジェッ
トヘッドの制御方法としては前述の方法を用いることが
できる。インクジェット方式によれば、微細なパターニ
ングを簡便に且つ短時間に行うことができる。また、イ
ンク組成物の固形分濃度及び吐出量を変えることにより
膜厚を変えることが可能である。

【０２５７】発光層用インクの塗布後、真空（例えば、
１ｔｏｒｒ）中、室温、２０分等という条件で溶媒を除
去し（工程Ｐ５８）、続けて窒素雰囲気中、１５０℃、
４時間程度の熱処理により共役化させてＲ色発光層２０
３Ｒ及びＧ色発光層２０３Ｇを形成する（工程Ｐ５
９）。膜厚は５０ｎｍ程度とする。熱処理により共役化
した発光層は溶媒に不溶である。

【０２５８】なお、発光層を形成する前に正孔注入層２
２０に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズマの連続プ
ラズマ処理を行ってもよい。これにより、正孔注入層２
２０上にフッ素化物層が形成され、イオン化ポテンシャ
ルが高くなることにより正孔注入効率が増し、発光効率
の高い有機ＥＬ発光装置を提供することができる。

【０２５９】次に、工程Ｐ６０及び図２４（ｃ）に示す
ように、Ｂ色発光層２０３Ｂを各表示ドット内のＲ色発
光層２０３Ｒ、Ｇ色発光層２０３Ｇ及び正孔注入層２２
０の上に重ねて形成する。これにより、Ｒ、Ｇ、Ｂの３
原色を形成するのみならず、Ｒ色発光層２０３Ｒ及びＧ
色発光層２０３Ｇとバンク２０５との段差を埋めて平坦
化することができる。これにより、上下電極間のショー
トを確実に防ぐことができる。Ｂ色発光層２０３Ｂの膜
厚を調整することで、Ｂ色発光層２０３ＢはＲ色発光層
２０３Ｒ及びＧ色発光層２０３Ｇとの積層構造におい
て、電子注入輸送層として作用してＢ色には発光しな
い。

【０２６０】以上のようなＢ色発光層２０３Ｂの形成方
法としては、例えば、湿式法として一般的なスピンコー
ト法を用いてもよく、Ｒ色発光層２０３Ｒ及びＧ色発光
層２０３Ｇの形成法と同様のインクジェット法を用いて
もよい。その後、工程Ｐ６１及び図２４（ｄ）に示すよ
うに、対向電極２１３を形成することにより、目標とす
るＥＬ発光装置２０１を製造することができる。対向電
極２１３はそれが面電極である場合には、例えば、Ｍ
ｇ，Ａｇ，Ａｌ，Ｌｉ等を材料として、蒸着法、スパッ
タ法等の成膜法を用いて形成することができる。また、
対向電極２１３がストライプ状電極である場合には、成
膜された電極層をフォトリソグラフィ法等のパターニン
グ手法を用いて形成することができる。

【０２６１】以上に説明したＥＬ発光装置の製造方法及
び製造装置によれば、インクジェットヘッドの制御方法
として、前述の制御方法を用いることができる。このた
め、仮に複数のノズル２７間においてインク吐出量にバ
ラツキが存在する場合でも、複数の表示ドット間で膜厚
にバラツキが生じることを防止でき、それ故、ＥＬ発光
装置の発光面の発光分布特性を平面的に均一にすること
ができる。このことは、図２４（ｄ）に示すＥＬ発光装
置２０１において、色むらのない鮮明なカラー表示が得
られるということを意味する。

【０２６２】また、本発明のＥＬ発光装置の製造方法及
び製造装置では、図８に示すインクジェット手段１６を
用いることによりプリントヘッド２２ａを用いたインク
吐出によってＲ、Ｇ、Ｂの各色表示ドットを形成するの
で、フォトリソグラフィ法を用いる方法のような複雑な
工程を経る必要もなく、また、材料を浪費することもな
い。

【０２６３】また、例えば、以上に説明した場合では、
図５（ａ）に示すようにマザー基板１２の中に複数列の
カラーフィルタ形成領域１１が構成され、それらのカラ
ーフィルタ形成領域１１よりも小さいインクジェットヘ
ッド２２を用いて、各カラーフィルタ形成領域１１内に
フィルタエレメント３を形成する場合を例示したが、１
個のカラーフィルタ形成領域１１の一辺よりも長く、し
かしマザー基板１２の一辺よりは短い長さのノズル列２
８を用いて１個のマザー基板１２内にフィルタエレメン
ト３を形成してもよい。

【０２６４】また、マザー基板１２の中に複数列のカラ
ーフィルタ形成領域１１が構成される場合を例示した
が、マザー基板１２の中に１列のカラーフィルタ形成領
域１１が構成される場合であってもよい。また、マザー
基板１２とほぼ同じ大きさの又はそれよりもかなり小さ
い１個のカラーフィルタ形成領域１１だけがそのマザー
基板１２の中に構成される場合であってもよい。

【０２６５】また、図８及び図９に示すインクジェット
手段１６においては、プリントヘッド２２ａをＸ方向へ
移動させて基板１２を主走査し、基板１２を副走査駆動
手段２１によってＹ方向へ移動させることによりプリン
トヘッド２２ａによって基板１２を副走査することにし
たが、これとは逆に、基板１２のＹ方向への移動によっ
て主走査を実行し、インクジェットヘッド２２のＸ方向
への移動によって副走査させてもよい。

【０２６６】また、上記では、圧電素子の撓み変形を利
用してインクを吐出する構造のインクジェットヘッドを
用いたが、他の任意の構造のインクジェットヘッドを用
いてもよい。

【０２６７】本実施形態においては、カラーフィルタの
製造方法及び製造装置、並びにＥＬ発光装置の製造方法
及び製造装置を例として説明してきたが、本発明はこれ
らに限定されることなく基材上に微細パターニングを施
す工業技術全般に用いることが可能である。例えば、各
種半導体素子（例えば、薄膜トランジスタ、薄膜ダイオ
ード等）、配線パターン、及び絶縁膜の形成等がその利
用範囲の一例として考えられる。

【０２６８】また、吐出物としては、形成する要素に応
じて種々選択可能であり、例えば、上記したインク、Ｅ
Ｌ発光材料の他にも、シリカガラス前駆体、金属化合物
等といった導電性材料、誘電体材料、又は半導体材料等
がその一例として考えられる。

【０２６９】また、本実施の形態においては、他の構成
要素との明確化のため「インクジェットヘッド」と呼称
したが、このインクジェットヘッドから吐出される吐出
物はインクには限定されず、例えば、前述のＥＬ発光材
料、シリカガラス前駆体、金属化合物等といった導電性
材料、誘電体材料、又は半導体材料等様々であることは
いうまでもない。

【０２７０】（成膜方法及び成膜装置の実施形態）本発
明に係る成膜装置は、図８に示したインクジェット手段
１６を用いて構成できる。また、そのインクジェット手
段１６で用いるインクジェットヘッド２２としては、図
１、図２、図３、図４、図１０、図１１、図１２、図１
３、図１４、図１５、図１６、又は図１９に示したイン
クジェットヘッドを用いることができる。

【０２７１】但し、これらのインクジェットヘッド２２
等のノズル２７から吐出するインクは、本実施形態の場
合は、膜材料である。この膜材料は、基板上に形成した
い膜の種類に応じて適宜に選定される。また、膜の模
様、すなわちパターンは、インクジェットヘッド２２が
基板を主走査及び副走査する間に膜材料を吐出するノズ
ル２７を適宜に制御することにより自由に選定できる。

【０２７２】また、本発明に係る成膜方法は、図８に示
すインクジェット手段１６を図１７に示す制御回路を用
いて、図１８に示すような制御プログラムに従って実現
することができる。但し、この場合でも、インクジェッ
トヘッド２２から吐出するインクは、基板上に形成した
い膜の種類に応じて選定された膜材料である。

【０２７３】（電子機器の実施形態）以下に、本発明に
係る電気光学装置として液晶表示装置を用いた電子機器
の例を示す。

【０２７４】（１）ディジタルスチルカメラ 本発明の第４の実施の形態に係る液晶表示装置１１００
をファインダに用いたディジタルスチルカメラについて
説明する。図２７は、このディジタルスチルカメラの構
成を示す斜視図であり、さらに外部機器との接続につい
ても簡易的に示すものである。

【０２７５】通常のカメラは、被写体の光像によってフ
ィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ２
０００は、被写体の光像をＣＣＤ（Charge Coupled Dev
ice）などの撮像素子により光電変換して撮像信号を生
成するものである。ここで、ディジタルスチルカメラ２
０００におけるケース２２０２の背面（図２７において
は前面側）には、上述した液晶表示装置１１００の液晶
パネルが設けられ、ＣＣＤによる撮像信号に基づいて、
表示を行う構成となっている。このため、液晶表示装置
１１００は、被写体を表示するファインダとして機能す
る。また、ケース２２０２の前面側（図２７においては
裏面側）には、光学レンズやＣＣＤなどを含んだ受光ユ
ニット２２０４が設けられている。

【０２７６】ここで、撮影者が液晶表示装置１１００に
表示された被写体像を確認して、シャッタボタン２２０
６を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号
が、回路基板２２０８のメモリに転送・格納される。ま
た、このディジタルスチルカメラ２０００にあっては、
ケース２２０２の側面に、ビデオ信号出力端子２２１２
と、データ通信用の入出力端子２２１４とが設けられて
いる。そして、図２７に示されるように必要に応じて、
前者のビデオ信号出力端子２２１２にはテレビモニタ２
３００が接続され、また、後者のデータ通信用の入出力
端子２２１４にはパーソナルコンピュータ２４００が接
続される。さらに、所定の操作によって、回路基板２２
０８のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ２
３００や、パーソナルコンピュータ２４００に出力され
る構成となっている。

【０２７７】（２）携帯電話、その他の電子機器 図２８（Ａ）、（Ｂ）、および（Ｃ）は、本発明に係る
電気光学装置として液晶表示装置を用いた、他の電子機
器の例を示す外観図である。図２８（Ａ）は、携帯電話
機３０００であり、その前面上方に液晶表示装置１１０
０を備えている。図２８（Ｂ）は、腕時計４０００であ
り、本体の前面中央に液晶表示装置１１００を用いた表
示部が設けられている。図２８（Ｃ）は、携帯情報機器
５０００であり、液晶表示装置１１００からなる表示部
と入力部５１００とを備えている。

【０２７８】これらの電子機器は、液晶表示装置１１０
０の他に、図示しないが、表示情報出力源、表示情報処
理回路、クロック発生回路などの様々な回路や、それら
の回路に電力を供給する電源回路などからなる表示信号
生成部を含んで構成される。表示部には、例えば携帯情
報機器５０００の場合にあっては入力部５１００から入
力された情報等に基づき表示信号生成部によって生成さ
れた表示信号が供給されることによって表示画像が形成
される。

【０２７９】本発明に係る液晶表示装置１１００が組み
込まれる電子機器としては、ディジタルスチルカメラ、
携帯電話機、腕時計、および携帯情報機器に限らず、電
子手帳、ページャ、ＰＯＳ端末、ＩＣカード、ミニディ
スクプレーヤ、液晶プロジェクタ、マルチメディア対応
のパーソナルコンピュータ（ＰＣ）およびエンジニアリ
ング・ワークステーション（ＥＷＳ）、ノート型パーソ
ナルコンピュータ、ワードプロセッサ、テレビ、ビュー
ファインダ型またはモニタ直視型のビデオテープレコー
ダ、電子手帳、電子卓上計算機、カーナビゲーション装
置、タッチパネルを備えた装置、時計など様々な電子機
器が考えられる。

【０２８０】（その他の実施形態）本発明に係る成膜方
法及び成膜装置は、液晶装置及びＥＬ装置等といった電
気光学装置に限られず、基板上にカラーフィルタ、金属
配線等といった各種の膜を形成する必要のある、あらゆ
る電気光学装置に適用することができる。例えば、無機
エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ
装置（ＰＤＰ／Plasma Display）、電気泳動ディスプレ
イ装置（ＥＰＤ／Electrophoretic Display）、フィー
ルド・エミッション・ディスプレイ装置（ＦＥＤ／Fiel
d Emission Display／電界放出表示装置）等といった電
気光学装置に対して本発明を適用することができる。

【０２８１】また、例えば、本発明を用いて、基板上又
は基板に設けられた薄膜上に金属配線を形成することも
可能である。

【０２８２】また、図２１に示した液晶表示装置は単純
マトリクス方式の液晶表示装置であるが、本発明は、Ｔ
ＦＤ（Thin Film Diode）等といった２端子型スイッチ
ング素子をアクティブ素子として用いる構造のアクティ
ブマトリクス方式の液晶表示装置や、ＴＦＴ（Thin Fil
m Transistor）等といった３端子型スイッチング素子を
アクティブ素子として用いる構造のアクティブマトリク
ス方式の液晶表示装置等にも適用できる。

【０２８３】

【発明の効果】以上に説明したように、本発明によれ
ば、プリントヘッドの走査時、インクジェットヘッドの
構成要素である全てのノズルが画素の形成される領域上
を正確に通過するようにできる。それ故、描画効率が高
く、かつ適切な位置でインクが吐出されるようにインク
ジェットヘッドを正確に移動させて対象物を走査するこ
とができる。

【０２８４】さらに、画素ごとの色のバラツキを防止し
て、カラーフィルタの光透過特性、液晶表示装置のカラ
ー表示特性、ＥＬ発光層の発光特性等のような光学部材
の光学特性を平面的に均一化することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るカラーフィルタの製造方法の一実
施形態における主要工程を示す平面図である。

【図２】本発明に係るカラーフィルタの製造方法の他の
実施形態であて、インクジェットヘッド２２をヘッド改
行方向Ｙに対して角度θの傾斜を設けて配列した場合の
実施形態を示す平面図である。

【図３】本発明に係るカラーフィルタの製造装置で用い
るプリントヘッドの一例を示す斜視図である。

【図４】本発明に係るカラーフィルタの製造装置で用い
るプリントヘッドの他の例を示す平面図である。

【図５】本発明に係るカラーフィルタの製造方法及びそ
の製造装置によって得られるカラーフィルタの平面形状
を示す平面図であり、特に、（ａ）はカラーフィルタに
切り出す前のマザーボード全体を示し、（ｂ）は切り出
された１個のカラーフィルタを示す。

【図６】本発明に係るカラーフィルタの製造方法の主要
工程をカラーフィルタの断面構造の変化によって示して
おり、断面構造を示す各図は図５（ｂ）におけるＶＩＩ
−ＶＩＩ線に従ったカラーフィルタの断面構造の変化を
示している。特に、（ａ）はフィルタ材料が吐出される
前の状態を示し、（ｂ）はフィルタ材料が吐出された直
後の状態を示し、（ｃ）はフィルタエレメントが配設さ
れた状態を示し、（ｄ）はさらに保護膜を形成した状態
を示している。

【図７】カラーフィルタにおけるＲ（赤）、Ｇ（緑）及
びＢ（青）の３色の表示ドットの配列例を示す平面図で
ある。

【図８】本発明に係るカラーフィルタの製造装置、液晶
表示装置の製造装置及びＥＬ発光装置の製造装置といっ
た各製造装置の主要部分を構成するインクジェット手段
の一実施形態を示す斜視図である。

【図９】図８に示す手段の主要部を拡大して示す斜視図
である。

【図１０】図９に示す手段の主要部であるインクジェッ
トヘッドを拡大して示す斜視図である。

【図１１】インクジェットヘッドの改変例を示す斜視図
である。

【図１２】インクジェットヘッドの他の改変例を示す平
面図である。

【図１３】インクジェットヘッドのさらに他の改変例を
示す平面図である。

【図１４】インクジェットヘッドのさらに他の改変例を
示す平面図である。

【図１５】インクジェットヘッドの内部構造の一例を示
す図であって、（ａ）は該内部構造を一部破断して示す
斜視図であり、（ｂ）は（ａ）のＪ−Ｊ線に従った断面
構造を示す断面図である。

【図１６】インクジェットヘッドのさらに他の改変例を
示す平面図である。

【図１７】図８に示すインクジェットヘッド手段に用い
られる電気制御系を示すブロック図である。

【図１８】図１７に示す制御系によって実行される制御
の流れを示すフローチャートである。

【図１９】インクジェットヘッドのさらに他の改変例を
示す斜視図である。

【図２０】本発明に係る液晶表示装置の製造方法の一実
施形態を示す工程図である。

【図２１】本発明に係る液晶表示装置の製造方法によっ
て製造される液晶表示装置の一例を分解状態で示す斜視
図である。

【図２２】図２１におけるＸ−Ｘ線に従って液晶表示装
置の断面構造を示す断面図である。

【図２３】本発明に係るＥＬ発光装置の製造方法の一実
施形態を示す工程図である。

【図２４】図２３に示す工程図に対応するＥＬ発光装置
の断面図である。

【図２５】従来のカラーフィルタの製造方法の一例を示
す平面図である。

【図２６】従来のカラーフィルタの特性を説明するため
の図である。

【図２７】本発明の電子機器の実施形態の一例としての
デジタルスチルカメラを示す斜視図である。

【図２８】（Ａ）〜（Ｃ）は、本発明の電子機器の適用
例を示し、（Ａ）は携帯電話機であり、（Ｂ）は腕時計
であり、（Ｃ）は携帯情報機器である。

【符号の説明】

１ カラーフィルタ ２ 基板 ３ フィルタエレメント ４ 保護膜 ６ 隔壁 ７ フィルタエレメント形成領域 １１ カラーフィルタ形成領域 １２ マザー基板 １３ フィルタ材料 １６ インクジェット手段 １７ ヘッド位置制御手段 １８ 基板位置制御手段 １９ 主走査駆動手段 ２１ 副走査駆動手段 ２２ インクジェットヘッド ２２Ａ インクジェットヘッド ２２ａ プリントヘッド ２６ ヘッドユニット ２７ ノズル ２８ ノズル列 ３９ インク加圧体 ４１ 圧電素子 ４９ テーブル ７６ キャッピング手段 ７７ クリーニング手段 ７８ 電子天秤 ８１ ヘッド用カメラ ８２ 基板用カメラ １０１ 液晶表示装置 １０２ 液晶パネル １０７ａ，１０７ｂ 基板 １１１ａ，１１１ｂ 基材 １１４ａ，１１４ｂ 電極 １１８ カラーフィルタ ２０１ ＥＬ発光装置 ２０２ 画素電極 ２０３Ｒ，２０３Ｇ，２０３Ｂ 発光層 ２０４ 基板 ２０５ バンク ２１３ 対向電極 ２２０ 正孔注入層 Ｄ ノズルの配列ピッチ Ｌ 液晶 Ｍ フィルタ材料 Ｐ 副走査方向の移動ピッチ Ｑ インク特性 Ｗ インクジェットヘッド端部で最近接する
ノズル同士の相互間隔 Ｘ ヘッド走査方向 Ｙ 副走査方向 １１００ 液晶表示装置 ２０００ ディジタルスチルカメラ ２００２ ケース ２２０４ 光学ユニット ２２０６ シャッタボタン ２２０８ 回路基板 ２２１２ ビデオ信号出力端子 ２２１４ データ通信用の入出力端子 ２３００ テレビモニタ ２４００ パーソナルコンピュータ ３０００ 携帯電話機 ４０００ 腕時計 ５０００ 携帯情報機器 ５１００ 入力部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 片上 悟 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 (72)発明者 川瀬 智己 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 Ｆターム(参考） 2C056 FA04 FA10 FB01 2H048 BA64 BB02 BB24 BB37 BB42 2H091 FA02Y FC29 3K007 AB18 DB03 FA01 (54)【発明の名称】 カラーフィルタの製造方法及び製造装置、液晶表示装置の製造方法及び製造装置、ＥＬ発光層配 設基板の製造方法及び製造装置、ＥＬ発光装置の製造方法及び製造装置、成膜方法及び成膜装 置、電気光学装置及びその製造方法並びに電子機器

Claims (37)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 カラーフィルタの製造方法において、 複数のノズルが所定のピッチで配列された複数のヘッド
   を、ヘッド走査方向に移動させて基板を主走査する工程
   と、 前記ヘッド走査方向に交差するヘッド改行方向に所定の
   移動ピッチで移動させて前記基板を副走査する工程と、 前記複数のノズルからフィルタ材料を前記基板上のフィ
   ルタエレメント形成領域に吐出する工程と、を備え、 前記複数のヘッドのうち隣り合うヘッドのそれぞれの最
   端部に位置する前記ノズル同士の相互間隔（Ｗ）および
   前記ノズルの一定の配列ピッチ（Ｄ）は、 Ｗ＝ｍＤ （但し、ｍは２以上の整数） の関係式を実質的に満足し、 前記ヘッドの副走査移動ピッチ（Ｐ）および前記ノズル
   の一定の配列ピッチ（Ｄ）は、 Ｐ＝ｎＤ （但し、ｎは１以上の整数） の関係式を実質的に満足することを特徴とするカラーフ
   ィルタの製造方法。
2. 【請求項２】 請求項１において、 前記ヘッドを前記ヘッド改行方向に対して０°＜θ＜１
   ８０°の角度で配列し、 前記隣り合うヘッドのそれぞれの最端部に位置する前記
   ノズル同士の相互間隔（Ｗ）および前記ノズルの前記ヘ
   ッド改行方向の配列ピッチ（Ｄｃｏｓθ）は、 Ｗ＝ｍＤｃｏｓθ（但し、ｍは２以上の整数） の関係式を実質的に満足し、 前記ヘッドの前記ヘッド改行方向の副走査移動ピッチ
   （Ｐ）および前記ノズルの前記ヘッド改行方向の配列ピ
   ッチ（Ｄｃｏｓθ）は、 Ｐ＝ｎＤｃｏｓθ（但し、ｎは１以上の整数） の関係式を実質的に満足することを特徴とするカラーフ
   ィルタの製造方法。
3. 【請求項３】 請求項１又は請求項２において、 前記ヘッドの端部に位置する前記ノズルは、前記基板上
   の前記フィルタエレメント形成領域に前記フィルタ材料
   を吐出しないように構成したことを特徴とするカラーフ
   ィルタの製造方法。
4. 【請求項４】 請求項１から請求項３のいずれか１つに
   おいて、 前記フィルタ材料を複数色のインクから構成し、 前記複数のヘッドのそれぞれに含まれる前記複数のノズ
   ルが前記複数色のうちの一部を吐出することを特徴とす
   るカラーフィルタの製造方法。
5. 【請求項５】 請求項１から請求項３のいずれか１つに
   おいて、 前記フィルタ材料を複数色のインクから構成し、 前記複数のヘッドのそれぞれに含まれる前記複数のノズ
   ルが前記複数色のそれぞれを吐出することを特徴とする
   カラーフィルタの製造方法。
6. 【請求項６】 カラーフィルタの製造装置において、 液滴状のフィルタ材料を吐出する複数のノズルと、 前記複数のノズルを一定の配列ピッチ（Ｄ）で配列した
   複数のヘッドと、 前記ヘッドをヘッド走査方向に移動させる主走査駆動手
   段と、 前記ヘッドを前記ヘッド走査方向に交差するヘッド改行
   方向に所定の移動ピッチ（Ｐ）で移動させる副走査駆動
   手段と、を有し、 前記複数のヘッドのうち隣り合うヘッドのそれぞれの最
   端部に位置する前記ノズル同士の相互間隔（Ｗ）および
   前記ノズルの一定の配列ピッチ（Ｄ）は、 Ｗ＝ｍＤ（但し、ｍは２以上の整数） の関係式を実質的に満たし、 前記ヘッドの副走査移動ピッチ（Ｐ）および前記ノズル
   の一定の配列ピッチ（Ｄ）は、 Ｐ＝ｎＤ（但し、ｎは１以上の整数） の関係式を実質的に満たすことを特徴とするカラーフィ
   ルタの製造装置。
7. 【請求項７】 請求項６において、 前記ヘッドを前記ヘッド改行方向に対して０°＜θ＜１
   ８０°の角度で配列し、 前記隣り合うヘッドのそれぞれの最端部に位置する前記
   ノズル同士の相互間隔（Ｗ）および前記ノズルの前記ヘ
   ッド改行方向の配列ピッチ（Ｄｃｏｓθ）は、 Ｗ＝ｍＤｃｏｓθ（但し、ｍは２以上の整数） の関係式を実質的に満足し、 前記ヘッドの前記ヘッド改行方向の副走査移動ピッチ
   （Ｐ）および前記ノズルの前記ヘッド改行方向の配列ピ
   ッチ（Ｄｃｏｓθ）は、 Ｐ＝ｎＤｃｏｓθ（但し、ｎは１以上の整数） の関係式を実質的に満足することを特徴とするカラーフ
   ィルタの製造装置。
8. 【請求項８】 カラーフィルタを形成する工程を備えた
   液晶表示装置の製造方法であって、 請求項１から請求項５のいずれか１つに記載のカラーフ
   ィルタの製造方法によってカラーフィルタを形成するこ
   とを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
9. 【請求項９】 カラーフィルタを備えた液晶表示装置を
   製造する液晶表示装置の製造装置であって、 請求項６又は請求項７に記載のカラーフィルタの製造装
   置を備えてなることを特徴とする液晶表示装置の製造装
   置。
10. 【請求項１０】 ＥＬ発光層配設基板の製造方法におい
    て、 複数のノズルが所定のピッチで配列された複数のヘッド
    を、ヘッド走査方向に移動させて基板を主走査する工程
    と、 前記ヘッド走査方向に交差するヘッド改行方向に所定の
    移動ピッチで移動させて前記基板を副走査する工程と、 前記複数のノズルからＥＬ発光材料を前記基板上のＥＬ
    発光層形成領域に吐出する工程と、を備え、 前記複数のヘッドのうち隣り合うヘッドのそれぞれの最
    端部に位置する前記ノズル同士の相互間隔（Ｗ）および
    前記ノズルの一定の配列ピッチ（Ｄ）は、 Ｗ＝ｍＤ（但し、ｍは２以上の整数） の関係式を実質的に満足し、前記ヘッドの副走査移動ピ
    ッチ（Ｐ）および前記ノズルの一定の配列ピッチ（Ｄ）
    は、 Ｐ＝ｎＤ（但し、ｎは１以上の整数） の関係式を実質的に満足することを特徴とするＥＬ発光
    層配設基板の製造方法。
11. 【請求項１１】 請求項１０において、 前記ヘッドを前記ヘッド改行方向に対して０°＜θ＜１
    ８０°の角度で配列し、 前記隣り合うヘッドのそれぞれの最端部に位置する前記
    ノズル同士の相互間隔（Ｗ）および前記ノズルの前記ヘ
    ッド改行方向の配列ピッチ（Ｄｃｏｓθ）は、 Ｗ＝ｍＤｃｏｓθ（但し、ｍは２以上の整数） の関係式を実質的に満足し、 前記ヘッドの前記ヘッド改行方向の副走査移動ピッチ
    （Ｐ）および前記ノズルの前記ヘッド改行方向の配列ピ
    ッチ（Ｄｃｏｓθ）は、 Ｐ＝ｎＤｃｏｓθ（但し、ｎは１以上の整数） の関係式を実質的に満足することを特徴とするＥＬ発光
    層配設基板の製造方法。
12. 【請求項１２】 請求項１０又は請求項１１において、 前記ヘッドの端部に位置する前記ノズルは、前記基板上
    の前記ＥＬ発光層形成領域に前記ＥＬ発光材料を吐出し
    ないように構成したことを特徴とするＥＬ発光層配設基
    板の製造方法。
13. 【請求項１３】 請求項１０から請求項１２のいずれか
    １つにおいて、 前記ＥＬ発光材料を複数色の材料から構成し、 前記複数のヘッドのそれぞれに含まれる前記複数のノズ
    ルが前記複数色のうちの一部を吐出することを特徴とす
    るＥＬ発光層配設基板の製造方法。
14. 【請求項１４】 請求項１０から請求項１２のいずれか
    １つにおいて、 前記ＥＬ発光材料を複数色の材料から構成し、 前記複数のヘッドのそれぞれに含まれる前記複数のノズ
    ルが前記複数色のそれぞれを吐出することを特徴とする
    ＥＬ発光層配設基板の製造方法。
15. 【請求項１５】 ＥＬ発光層配設基板の製造装置におい
    て、 液滴状のＥＬ発光材料を吐出する複数のノズルと、 前記複数のノズルを一定の配列ピッチ（Ｄ）で配列した
    複数のヘッドと、 前記ヘッドをヘッド走査方向に移動させる主走査駆動手
    段と、 前記ヘッドを前記ヘッド走査方向に交差するヘッド改行
    方向に所定の移動ピッチ（Ｐ）で移動させる副走査駆動
    手段と、を有し、 前記複数のヘッドのうち隣り合うヘッドのそれぞれの最
    端部に位置する前記ノズル同士の相互間隔（Ｗ）および
    前記ノズルの一定の配列ピッチ（Ｄ）は、 Ｗ＝ｍＤ（但し、ｍは２以上の整数） の関係式を実質的に満足し、 前記ヘッドの副走査移動ピッチ（Ｐ）および前記ノズル
    の一定の配列ピッチ（Ｄ）は、 Ｐ＝ｎＤ（但し、ｎは１以上の整数） の関係式を実質的に満足することを特徴とするＥＬ発光
    層配設基板の製造装置。
16. 【請求項１６】 請求項１５において、 前記ヘッドを前記ヘッド改行方向に対して０°＜θ＜１
    ８０°の角度で配列し、 前記隣り合うヘッドのそれぞれの最端部に位置する前記
    ノズル同士の相互間隔（Ｗ）および前記ノズルの前記ヘ
    ッド改行方向の配列ピッチ（Ｄｃｏｓθ）は、 Ｗ＝ｍＤｃｏｓθ（但し、ｍは２以上の整数） の関係式を実質的に満足し、 前記ヘッドの前記ヘッド改行方向の副走査移動ピッチ
    （Ｐ）および前記ノズルの前記ヘッド改行方向の配列ピ
    ッチ（Ｄｃｏｓθ）は、 Ｐ＝ｎＤｃｏｓθ（但し、ｎは１以上の整数） の関係式を実質的に満足することを特徴とするＥＬ発光
    層配設基板の製造装置。
17. 【請求項１７】 ＥＬ発光層を形成する工程を備えたＥ
    Ｌ発光装置の製造方法であって、請求項１０から請求項
    １４のいずれか１つに記載のＥＬ発光層配設基板の製造
    方法によってＥＬ発光層を形成することを特徴とするＥ
    Ｌ発光装置の製造方法。
18. 【請求項１８】 ＥＬ発光層配設基板を備えたＥＬ発光
    装置を製造するＥＬ発光装置の製造装置であって、請求
    項１５又は請求１６に記載のＥＬ発光層配設基板の製造
    装置を備えてなることを特徴とするＥＬ発光装置の製造
    装置。
19. 【請求項１９】 ヘッド走査方法において、 複数のノズルが所定のピッチで配列された複数のヘッド
    を、ヘッド走査方向に移動させて基板を主走査する工程
    と、 前記ヘッド走査方向に交差するヘッド改行方向に所定の
    移動ピッチで移動させて前記基板を副走査する工程と、 前記複数のノズルから吐出材料を前記基板に吐出する工
    程と、を備え、 前記複数のヘッドのうち隣り合うヘッドのそれぞれの最
    端部に位置する前記ノズル同士の相互間隔（Ｗ）および
    前記ノズルの一定の配列ピッチ（Ｄ）は、 Ｗ＝ｍＤ（但し、ｍは２以上の整数） の関係式を実質的に満足し、 前記ヘッドの副走査移動ピッチ（Ｐ）および前記ノズル
    の一定の配列ピッチ（Ｄ）は、 Ｐ＝ｎＤ（但し、ｎは１以上の整数） の関係式を実質的に満足することを特徴とするヘッド走
    査方法。
20. 【請求項２０】 請求項１９において、 前記ヘッドを前記ヘッド改行方向に対して０°＜θ＜１
    ８０°の角度で配列し、 前記隣り合うヘッドのそれぞれの最端部に位置する前記
    ノズル同士の相互間隔（Ｗ）および前記ノズルの前記ヘ
    ッド改行方向の配列ピッチ（Ｄｃｏｓθ）は、 Ｗ＝ｍＤｃｏｓθ（但し、ｍは２以上の整数） の関係式を実質的に満足し、 前記ヘッドの前記ヘッド改行方向の副走査移動ピッチ
    （Ｐ）および前記ノズルの前記ヘッド改行方向の配列ピ
    ッチ（Ｄｃｏｓθ）は、 Ｐ＝ｎＤｃｏｓθ（但し、ｎは１以上の整数） の関係式を実質的に満足することを特徴とするヘッド走
    査方法。
21. 【請求項２１】 請求項１９又は請求項２０において、 前記ヘッドの端部に位置する前記ノズルは、前記基板上
    の吐出物付着領域に前記吐出材料を吐出しないように構
    成したことを特徴とするヘッド走査方法。
22. 【請求項２２】 請求項１９から請求項２１のいずれか
    １つにおいて、 前記吐出材料を複数種の材料から構成し、 前記複数のヘッドのそれぞれに含まれる前記複数のノズ
    ルが前記複数種のうちの一部を吐出することを特徴とす
    るヘッド走査方法。
23. 【請求項２３】 請求項１９から請求項２１のいずれか
    １つにおいて、 前記吐出材料を複数種の材料から構成し、 前記複数のヘッドのそれぞれに含まれる前記複数のノズ
    ルが前記複数種のそれぞれの材料を吐出することを特徴
    とするヘッド走査方法。
24. 【請求項２４】 ヘッド走査装置において、 液滴状の吐出材料を吐出する複数のノズルと、 複数のノズルを一定の配列ピッチ（Ｄ）で配列した複数
    のヘッドと、 前記ヘッドをヘッド走査方向に移動させる主走査駆動手
    段と、 前記ヘッドを前記ヘッド走査方向に交差するヘッド改行
    方向に所定の移動ピッチ（Ｐ）で移動させる副走査駆動
    手段と、を有し、 前記複数のヘッドのうち隣り合うヘッドのそれぞれの最
    端部に位置する前記ノズル同士の相互間隔（Ｗ）および
    前記ノズルの一定の配列ピッチ（Ｄ）は、 Ｗ＝ｍＤ（但し、ｍは２以上の整数） の関係式を実質的に満足し、 前記ヘッドの副走査移動ピッチ（Ｐ）および前記ノズル
    の一定の配列ピッチ（Ｄ）は、 Ｐ＝ｎＤ（但し、ｎは１以上の整数） の関係式を実質的に満足することを特徴とするヘッド走
    査装置。
25. 【請求項２５】 請求項２４において、 前記ヘッドを前記ヘッド改行方向に対して０°＜θ＜１
    ８０°の角度で配列し、 前記隣り合うヘッドのそれぞれの最端部に位置する前記
    ノズル同士の相互間隔（Ｗ）および前記ノズルの前記ヘ
    ッド改行方向の配列ピッチ（Ｄｃｏｓθ）は、 Ｗ＝ｍＤｃｏｓθ（但し、ｍは２以上の整数） の関係式を実質的に満足し、 前記ヘッドの前記ヘッド改行方向の副走査移動ピッチ
    （Ｐ）および前記ノズルの前記ヘッド改行方向の配列ピ
    ッチ（Ｄｃｏｓθ）は、 Ｐ＝ｎＤｃｏｓθ（但し、ｎは１以上の整数） の関係式を実質的に満足することを特徴とするヘッド走
    査装置。
26. 【請求項２６】 成膜方法において、 複数のノズルが所定のピッチで配列された複数のヘッド
    を、ヘッド走査方向に移動させて基板を主走査する工程
    と、 前記ヘッド走査方向に交差するヘッド改行方向に所定の
    移動ピッチで移動させて前記基板を副走査する工程と、 前記複数のノズルから膜材料を前記基板上の膜形成領域
    に吐出する工程と、を備え、 前記複数のヘッドのうち隣り合うヘッドのそれぞれの最
    端部に位置する前記ノズル同士の相互間隔（Ｗ）および
    前記ノズルの一定の配列ピッチ（Ｄ）は、 Ｗ≒ｍＤ （但し、ｍは２以上の整数） の関係式を満足し、 前記ヘッドの副走査移動ピッチ（Ｐ）および前記ノズル
    の一定の配列ピッチ（Ｄ）は、 Ｐ≒ｎＤ （但し、ｎは１以上の整数） の関係式を満足することを特徴とする成膜方法。
27. 【請求項２７】 請求項２６において、 前記ヘッドを前記ヘッド改行方向に対して０°＜θ＜１
    ８０°の角度で配列し、 前記隣り合うヘッドのそれぞれの最端部に位置する前記
    ノズル同士の相互間隔（Ｗ）および前記ノズルの前記ヘ
    ッド改行方向の配列ピッチ（Ｄｃｏｓθ）は、 Ｗ≒ｍＤｃｏｓθ（但し、ｍは２以上の整数） の関係式を満足し、 前記ヘッドの前記ヘッド改行方向の副走査移動ピッチ
    （Ｐ）および前記ノズルの前記ヘッド改行方向の配列ピ
    ッチ（Ｄｃｏｓθ）は、 Ｐ≒ｎＤｃｏｓθ（但し、ｎは１以上の整数） の関係式を満足することを特徴とする成膜方法。
28. 【請求項２８】 請求項２６又は請求項２７において、 前記ヘッドの端部に位置する前記ノズルは、前記基板上
    の膜形成領域に前記膜材料を吐出しないように構成した
    ことを特徴とする成膜方法。
29. 【請求項２９】 請求項２６から請求項２８のいずれか
    １つにおいて、 前記膜材料を複数種の材料から構成し、 前記複数のヘッドのそれぞれに含まれる前記複数のノズ
    ルが前記複数種のうちの一部を吐出することを特徴とす
    る成膜方法。
30. 【請求項３０】 請求項２６から請求項２８のいずれか
    １つにおいて、 前記膜材料を複数種の材料から構成し、 前記複数のヘッドのそれぞれに含まれる前記複数のノズ
    ルが前記複数種のそれぞれの材料を吐出することを特徴
    とする成膜方法。
31. 【請求項３１】 成膜装置において、 液滴状の膜材料を吐出する複数のノズルと、 前記複数のノズルを一定の配列ピッチ（Ｄ）で配列した
    複数のヘッドと、 前記ヘッドをヘッド走査方向に移動させる主走査駆動手
    段と、 前記ヘッドを前記ヘッド走査方向に交差するヘッド改行
    方向に所定の移動ピッチ（Ｐ）で移動させる副走査駆動
    手段と、を有し、 前記複数のヘッドのうち隣り合うヘッドのそれぞれの最
    端部に位置する前記ノズル同士の相互間隔（Ｗ）および
    前記ノズルの一定の配列ピッチ（Ｄ）は、 Ｗ≒ｍＤ（但し、ｍは２以上の整数） の関係式を満足し、 前記ヘッドの副走査移動ピッチ（Ｐ）および前記ノズル
    の一定の配列ピッチ（Ｄ）は、 Ｐ≒ｎＤ（但し、ｎは１以上の整数） の関係式を満足することを特徴とする成膜装置。
32. 【請求項３２】 請求項３１において、 前記ヘッドを前記ヘッド改行方向に対して０°＜θ＜１
    ８０°の角度で配列し、 前記隣り合うヘッドのそれぞれの最端部に位置する前記
    ノズル同士の相互間隔（Ｗ）および前記ノズルの前記ヘ
    ッド改行方向の配列ピッチ（Ｄｃｏｓθ）は、 Ｗ≒ｍＤｃｏｓθ（但し、ｍは２以上の整数） の関係式を満足し、 前記ヘッドの前記ヘッド改行方向の副走査移動ピッチ
    （Ｐ）および前記ノズルの前記ヘッド改行方向の配列ピ
    ッチ（Ｄｃｏｓθ）は、 Ｐ≒ｎＤｃｏｓθ（但し、ｎは１以上の整数） の関係式を満足することを特徴とする成膜装置。
33. 【請求項３３】 請求項２６に記載の成膜方法を用いる
    ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
34. 【請求項３４】 請求項３３に記載の電気光学装置の製
    造方法によって製造されたことを特徴とする電気光学装
    置。
35. 【請求項３５】 請求項３４に記載の電気光学装置を含
    むことを特徴とする電子機器。
36. 【請求項３６】 請求項８に記載の液晶表示装置の製造
    方法によって製造された液晶表示装置を含むことを特徴
    とする電子機器。
37. 【請求項３７】 請求項１７に記載のＥＬ発光装置の製
    造方法によって製造されたＥＬ発光装置を含むことを特
    徴とする電子機器。