JP6686787B2 - 有機el表示装置およびその製造方法 - Google Patents
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Description
第1実施形態の有機EL表示装置S1について、図1、図2、図3を参照して述べる。
なお、ここでいう膜厚(単位:nm)とは、青の副画素101の領域のうち陽極20上の領域に形成された機能層の厚みであって、基板10の一面10aに対する法線方向すなわち積層方向の厚みを指す。
第2実施形態の有機EL表示装置については、青の副画素101に加えて、緑の副画素102、赤の副画素103についても、機能層の膜厚を調整した構成である点が上記第1実施形態と相違する。本実施形態では、上記の相違点を主に説明する。
つまり、1つの青の副画素101内だけでなく、1つの主画素101内の副画素101、102、103間における相対輝度寿命についても式2にて導き出されるXが0.9以上1.3以下となることが好ましい。
なお、上記した各実施形態に示した半導体装置は、本発明の半導体装置の一例を示したものであり、上記の各実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載した範囲内において適宜変更が可能である。
20 陽極
30 正孔注入層
40 正孔輸送層
50 発光層
60 陰極
70 バンク
100 主画素
101 青の副画素
Claims (9)
- 一面(10a)を有する基板(10)と、
前記一面上に設けられた陽極(20)と、
前記陽極のうち一部を覆うように形成されたバンク(70)と、
前記一面に対して平行な面内において一方向を縦方向(Y1)、前記縦方向と直交する方向を横方向(Y2)として、前記一面上にて前記縦方向および前記横方向に繰り返し配列され、前記陽極のうち前記一面に対する法線方向から見て前記バンクから露出している領域内に設けられ、少なくとも3つの異なる発光色である副画素(101、102、103)であって、そのうちの1つが青の発光色である前記副画素を有してなる複数個の主画素(100)と、を含み、
前記副画素は、前記陽極のうち前記露出している領域の上に、正孔注入層(30)、正孔輸送層(40)、高分子材料を含んでなる発光層(50)、陰極(60)が少なくともこの順に配置され、
前記法線方向から見て、前記副画素の領域のうち任意の点における前記一面の法線方向における前記正孔注入層、前記正孔輸送層、前記発光層の厚みを膜厚として、前記正孔注入層の膜厚(nm)をA、前記正孔輸送層の膜厚(nm)をB、前記発光層の膜厚(nm)をCとした場合において、3つの異なる発光色の前記副画素のうち少なくとも青の発光色である前記副画素(101)は、
X=−0.383−0.005×A+0.010×B+0.016×Cの関係式で表されるXが0.9≦X≦1.3を満たし、
前記バンクの壁面と前記陽極のうち前記一面と反対側の面とのなす角を前記バンクのテーパ角として、前記テーパ角が10°〜20°の範囲内であり、
青の発光色の前記副画素における前記正孔注入層の膜厚をA1とし、前記正孔輸送層の膜厚をB1とし、前記発光層の膜厚をC1とした場合において、A1が21nm以上35nm以下、かつ、B1が25nm以上38nm以下、かつ、C1が80nm以上88nm以下である有機EL表示装置。 - 前記副画素のうち青の発光色と異なる発光色の前記副画素についても、前記関係式で表されるXが0.9≦X≦1.3を満たす請求項1に記載の有機EL表示装置。
- 前記一面に対する法線方向から見て1つの前記副画素をなす前記陽極と前記バンクとの境界を境界線として、前記発光層が、前記法線方向から見た前記バンクの領域のうち前記境界線から少なくとも2μm以内の領域を含む領域にも形成されている請求項1または2に記載の有機EL表示装置。
- 青とは異なる発光色の前記副画素についても、前記正孔注入層の膜厚Aが21nm以上35nm以下、かつ、前記正孔輸送層の膜厚Bが25nm以上38nm以下、かつ、前記発光層の膜厚Cが80nm以上88nm以下である請求項1ないし3のいずれか1つに記載の有機EL表示装置。
- 前記正孔注入層のうち前記副画素の形成領域における最も厚い部位の膜厚を前記正孔注入層のうち前記副画素の形成領域における最も薄い部位の膜厚で割って得た値をA2とし、前記正孔輸送層のうち前記副画素の形成領域における最も厚い部位の膜厚を前記正孔輸送層のうち前記副画素の形成領域における最も薄い部位の膜厚で割って得た値をB2とし、前記発光層のうち前記副画素の形成領域における最も厚い部位の膜厚を前記発光層のうち前記副画素の形成領域における最も薄い部位の膜厚で割って得た値をC2とした場合において、A2>B2>C2を満たす請求項1ないし4のいずれか1つに記載の有機EL表示装置。
- 一面(10a)を有し、前記一面上に陽極(20)を備えた基板を用意することと、
前記陽極の上に前記陽極の一部を覆うようにバンク(70)を形成することと、
前記陽極のうち前記バンクから露出している前記陽極上に少なくとも正孔注入層(30)、正孔輸送層(40)、高分子材料を含んでなる発光層(50)、陰極(60)をこの順に形成して、少なくとも3つの異なる発光色であって、そのうち1つが青色である副画素(101、102、103)を設けつつ、一面(10a)を有する基板(10)の前記一面と平行な面内において一方向を縦方向(Y1)、前記縦方向と直交する方向を横方向(Y2)として、前記一面上にて前記縦方向および前記横方向に繰り返し配列され、3つの異なる発光色の前記副画素により構成された主画素(100)を複数個形成することと、を含み、
前記正孔注入層、前記正孔輸送層、前記発光層を形成することにおいては、前記副画素を構成する領域のうち前記陽極上の任意の点における前記一面の法線方向における前記正孔注入層、前記正孔輸送層、前記発光層の厚みを膜厚として、前記正孔注入層の膜厚(nm)をA、前記正孔輸送層の膜厚(nm)をB、前記発光層の膜厚(nm)をCとした場合において、少なくとも青の発光色である前記副画素(101)が、
X=−0.383−0.005×A+0.010×B+0.016×Cの関係式で表されるXが0.9≦X≦1.3を満たし、かつ青の発光色の前記副画素における前記正孔注入層の膜厚をA1とし、前記正孔輸送層の膜厚をB1とし、前記発光層の膜厚をC1とした場合において、A1が21nm以上35nm以下、かつ、B1が25nm以上38nm以下、かつ、C1が80nm以上88nm以下になるように塗布により成膜し、
前記バンクを形成することにおいては、前記バンクの壁面と前記陽極のうち前記一面と反対側の面とのなす角を前記バンクのテーパ角として、前記テーパ角が10°〜20°の範囲内とする有機EL表示装置の製造方法。 - 前記正孔注入層、前記正孔輸送層、前記発光層を形成することにおいては、前記副画素のうち青の発光色と異なる発光色の前記副画素についても、前記関係式で表されるXが0.9≦X≦1.3を満たすA、B、Cとなるように塗布により成膜する請求項6に記載の有機EL表示装置の製造方法。
- 前記発光層を形成することにおいては、前記法線方向から見て前記陽極と前記バンクとの境界を境界領域として、前記法線方向から見て前記バンクの領域のうち前記境界領域から少なくとも2μm以上の領域を含む領域を塗布する請求項6または7に記載の有機EL表示装置の製造方法。
- 前記正孔注入層、前記正孔輸送層、前記発光層を形成することにおいては、前記正孔注入層のうち前記副画素の形成領域における最も厚い部位の膜厚を前記正孔注入層のうち前記副画素の形成領域における最も薄い部位の膜厚で割って得た値をA2とし、前記正孔輸送層のうち前記副画素の形成領域における最も厚い部位の膜厚を前記正孔輸送層のうち前記副画素の形成領域における最も薄い部位の膜厚で割って得た値をB2とし、前記発光層のうち前記副画素の形成領域における最も厚い部位の膜厚を前記発光層のうち前記副画素の形成領域における最も薄い部位の膜厚で割って得た値をC2とした場合において、A2>B2>C2となるように塗布する請求項6ないし8のいずれか1つに記載の有機EL表示装置の製造方法。
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