JP2007115529A - 表示装置及び表示装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】表示品位が良好であって、且つ、高精細化に対応可能な表示装置及びこの表示装置を製造するための製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】複数の画素PXによって構成され、かつ、1画素内に発光色の異なる複数種類の表示素子40(R、G、B)からなるサブ画素を備えて構成され、第1表示素子40Rが配列されたストライプ状の第1サブ画素列RLと、第1表示素子とは発光色が異なる第2表示素子40Gが配列されたストライプ状の第2サブ画素列GLと、を備え、第1サブ画素列RL及び第2サブ画素列GLは、それぞれのサブ画素列が延在する方向とは直交する方向の幅が広い有効部RE及びGEと、有効部より狭い幅であって隣接する有効部を連結する連結部RC及びGCと、を有し、1画素PX内において、第1サブ画素列RLの有効部REと第2サブ画素列GLの連結部GCとが隣接することを特徴とする。
【選択図】 図4
【解決手段】複数の画素PXによって構成され、かつ、1画素内に発光色の異なる複数種類の表示素子40(R、G、B)からなるサブ画素を備えて構成され、第1表示素子40Rが配列されたストライプ状の第1サブ画素列RLと、第1表示素子とは発光色が異なる第2表示素子40Gが配列されたストライプ状の第2サブ画素列GLと、を備え、第1サブ画素列RL及び第2サブ画素列GLは、それぞれのサブ画素列が延在する方向とは直交する方向の幅が広い有効部RE及びGEと、有効部より狭い幅であって隣接する有効部を連結する連結部RC及びGCと、を有し、1画素PX内において、第1サブ画素列RLの有効部REと第2サブ画素列GLの連結部GCとが隣接することを特徴とする。
【選択図】 図4
Description
この発明は、表示装置及び表示装置の製造方法に係り、特に、インクジェット方式などの選択塗布方式により塗布された液滴により光活性層を形成した表示装置、及び、この表示装置の製造方法に関する。
近年、平面表示装置として、有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置が注目されている。この有機EL表示装置は、自発光性素子であることから、視野角が広く、バックライトを必要とせず薄型化が可能であり、消費電力が抑えられ、且つ応答速度が速いといった特徴を有している。
これらの特徴から、有機EL表示装置は、液晶表示装置に代わる、次世代平面表示装置の有力候補として注目を集めている。このような有機EL表示装置は、陽極と陰極との間に発光機能を有する有機化合物を含む光活性層を挟持した有機EL素子をマトリックス状に配置することにより構成されたアレイ基板を備えている。光活性層は、例えば、高分子系材料を用いてインクジェット法などの選択塗布方式により形成される。
このような選択塗布方式を採用することにより、材料利用効率を向上することができ、製造コストを低下することが可能となる。この選択塗布方式において、特に、カラー表示タイプの有機EL表示装置を形成する場合、画素毎に対応した発光色の液滴を塗布する必要がある。このため、塗布位置及び液適量を高精度に制御することが要求される。
特許文献1に記載のように、同一発光色の有機EL素子を一方向に並べて配列した均一幅のストライプ構造を適用した場合、塗布された液滴がストライプの伸びる方向に広がり、膜厚分布の均一化が期待できる。
特開2002−221917号公報
しかしながら、高精細化しようとした場合、ストライプの幅が狭くなり、塗布位置のずれに対するマージンが小さくなる。このため、塗布された液滴が隣接する画素間を区画する隔壁を乗り越えてしまい、対応する発光色以外の液滴が混入し、混色といった表示不良を生ずるおそれがある。
また、ストライプの幅に合わせて液滴の径を小さくした場合、液適量が少なくなり、しかも、画素のアスペクト比(画素の幅方向の長さに対するストライプの伸びる方向の長さの比)が高くなるため、塗布された液滴が十分に広がらず、画素内での膜厚分布が不均一になるおそれがある。このような不均一な膜厚分布の光活性層は、発光特性の低下を招き、表示不良を生ずるおそれがある。なお、液滴の径を小さくして、液適量を増やすために複数回にわたって同一画素に液滴を塗布するように構成した場合、塗布に要する時間が長くなり、結果的に製造コストの増大を招いてしまう。
この発明は、上述した問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、表示品位が良好であって、且つ、高精細化に対応可能な表示装置及びこの表示装置を製造するための製造方法を提供することにある。
この発明の第1の態様による表示装置は、
複数の画素によって構成され、かつ、1画素内に発光色の異なる複数種類の表示素子からなるサブ画素を備えて構成され、
第1表示素子が配列されたストライプ状の第1サブ画素列と、
前記第1表示素子とは発光色が異なる第2表示素子が配列されたストライプ状の第2サブ画素列と、を備え、
前記第1サブ画素列及び前記第2サブ画素列は、それぞれのサブ画素列が延在する方向とは直交する方向の幅が広い有効部と、有効部より狭い幅であって隣接する有効部を連結する連結部と、を有し、
1画素内において、前記第1サブ画素列の有効部と前記第2サブ画素列の連結部とが隣接することを特徴とする。
複数の画素によって構成され、かつ、1画素内に発光色の異なる複数種類の表示素子からなるサブ画素を備えて構成され、
第1表示素子が配列されたストライプ状の第1サブ画素列と、
前記第1表示素子とは発光色が異なる第2表示素子が配列されたストライプ状の第2サブ画素列と、を備え、
前記第1サブ画素列及び前記第2サブ画素列は、それぞれのサブ画素列が延在する方向とは直交する方向の幅が広い有効部と、有効部より狭い幅であって隣接する有効部を連結する連結部と、を有し、
1画素内において、前記第1サブ画素列の有効部と前記第2サブ画素列の連結部とが隣接することを特徴とする。
この発明の第2の態様による表示装置の製造方法は、
複数の画素によって構成され、かつ、1画素内に発光色の異なる複数種類の表示素子からなるサブ画素を備えて構成され、
第1表示素子が配列されたストライプ状の第1サブ画素列と、
前記第1表示素子とは発光色が異なる第2表示素子が配列されたストライプ状の第2サブ画素列と、を備え、
前記第1サブ画素列及び前記第2サブ画素列は、それぞれのサブ画素列が延在する方向とは直交する方向の幅が広い有効部と、有効部より狭い幅であって隣接する有効部を連結する連結部と、を有する表示装置の製造方法であって、
前記第1表示素子及び前記第2表示素子を構成する光活性層を形成するための液滴を、それぞれ前記第1サブ画素列及び前記第2サブ画素列の有効部に塗布することを特徴とする。
複数の画素によって構成され、かつ、1画素内に発光色の異なる複数種類の表示素子からなるサブ画素を備えて構成され、
第1表示素子が配列されたストライプ状の第1サブ画素列と、
前記第1表示素子とは発光色が異なる第2表示素子が配列されたストライプ状の第2サブ画素列と、を備え、
前記第1サブ画素列及び前記第2サブ画素列は、それぞれのサブ画素列が延在する方向とは直交する方向の幅が広い有効部と、有効部より狭い幅であって隣接する有効部を連結する連結部と、を有する表示装置の製造方法であって、
前記第1表示素子及び前記第2表示素子を構成する光活性層を形成するための液滴を、それぞれ前記第1サブ画素列及び前記第2サブ画素列の有効部に塗布することを特徴とする。
この発明によれば、表示品位が良好であって、且つ、高精細化に対応可能な表示装置及びこの表示装置を製造するための製造方法を提供することができる。
以下、この発明の一実施の形態に係る表示装置及びこの表示装置の製造方法について図面を参照して説明する。なお、この実施の形態では、表示装置として、自己発光型表示装置、例えば有機EL(エレクトロルミネッセンス)表示装置を例にして説明する。
有機EL表示装置1は、図1に示すように、画像を表示する表示エリア102を有するアレイ基板100を備えている。表示エリア102は、複数の画素PXによって構成されている。
また、アレイ基板100は、画素PXの略行方向(すなわち図1のY方向)に沿って配置された複数の走査線Ym(m=1、2、…)と、走査線Ymと直交する略列方向(すなわち図1のX方向)に沿って配置された複数の信号線Xn(n=1、2、…)と、有機EL素子40の第1電極60側に電源を供給するための電源供給線Pと、を備えている。
さらに、アレイ基板100は、表示エリア102の外周に沿った周辺エリア104に、走査線Ymのそれぞれに走査信号を供給する走査線駆動回路107の少なくとも一部と、信号線Xnのそれぞれに映像信号を供給する信号線駆動回路108の少なくとも一部と、を備えている。すべての走査線Ymは、走査線駆動回路107に接続されている。また、すべての信号線Xnは、信号線駆動回路108に接続されている。
各画素PXは、発光色の異なる複数種類の表示素子からなるサブ画素を備えて構成されている。すなわち、表示素子は、自発光素子である有機EL素子40(R、G、B)によって構成されている。つまり、赤色のサブ画素PXRは、主に赤色波長に対応した光を出射する有機EL素子40Rを備えている。緑色のサブ画素PXGは、主に緑色波長に対応した光を出射する有機EL素子40Gを備えている。青色のサブ画素PXBは、主に青色波長に対応した光を出射する有機EL素子40Bを備えている。このように、各画素PXは、サブ画素PX(R、G、B)を備えている。
各サブ画素PX(R、G、B)は、それぞれ有機EL素子40(R、G、B)を駆動制御する画素回路を備えている。画素回路は、オン画素とオフ画素とを電気的に分離しかつオン画素への映像信号を保持する機能を有する画素スイッチ10と、画素スイッチ10を介して供給される映像信号に基づき有機EL素子40(R、G、B)へ所望の駆動電流を供給する駆動トランジスタ20と、駆動トランジスタ20のゲート−ソース間電位を所定期間保持する蓄積容量素子30とを有している。これら画素スイッチ10及び駆動トランジスタ20は、例えば薄膜トランジスタにより構成され、ここでは、半導体層にポリシリコンを用いている。
各種有機EL素子40(R、G、B)は、基本的に同一構成であり、例えば、図2に示すように、サブ画素PX(R、G、B)に対応して独立島状に形成された第1電極60と、第1電極60に対向して配置され全画素PXに共通に形成された第2電極66と、これら第1電極60と第2電極66との間に保持された光活性層64と、によって構成されている。
画素スイッチ10は、ここでは走査線Ymと信号線Xnとの交差部近傍に配置されている。画素スイッチ10のゲート電極は走査線Ymに接続され、ソース電極は信号線Xnに接続され、ドレイン電極は蓄積容量素子30を構成する一方の電極及び駆動トランジスタ20のゲート電極に接続されている。駆動トランジスタ20のソース電極は蓄積容量素子30を構成する他方の電極及び電源供給線Pに接続され、ドレイン電極は有機EL素子40の第1電極60に接続されている。電源供給線Pは、表示エリア102の周囲に配置された図示しない第1電極電源線に接続されている。有機EL素子40の第2電極66は、表示エリア102の周囲に配置されコモン電位ここでは接地電位を供給する図示しない第2電極電源線に接続されている。
図2に示すように、アレイ基板100は、配線基板120上に配置された複数の有機EL素子40を備えている。なお、配線基板120は、ガラス基板やプラスチックシートなどの絶縁性支持基板上に、画素スイッチ10、駆動トランジスタ20、蓄積容量素子30、走査線駆動回路107、信号線駆動回路108、各種配線(走査線、信号線、電源供給線等)などを備えて構成されたものとする。
有機EL素子40を構成する第1電極60は、配線基板120表面の絶縁膜(例えば平坦化層)上に配置され、陽極として機能する。
光活性層64は、少なくとも発光層を含んでいる。この光活性層64は、発光層以外の層として、例えば、各色共通に形成される正孔輸送層を備え、各サブ画素PX(R、G、B)に形成される発光層と積層した2層構造で構成されても良いし、正孔注入層、ブロッキング層、電子輸送層、電子注入層、バッファ層などを含んでも良いし、またこれらを機能的に複合した層を含んでもよい。光活性層62においては、発光層が有機系材料であればよく、発光層以外の層は無機系材料でも有機系材料でも構わない。発光層は、赤、緑、または青に発光する発光機能を有する有機化合物によって形成される。すなわち、赤色のサブ画素PXRの有機EL素子40Rは、主に赤色に発光する光活性層64Rを備えている。緑色のサブ画素PXGの有機EL素子40Gは、主に緑色に発光する光活性層64Gを備えている。青色のサブ画素PXBの有機EL素子40Bは、主に青色に発光する光活性層64Bを備えている。
第2電極66は、光活性層64(R、G、B)上に各有機EL素子40に共通に配置される。この第2電極66は、電子注入機能を有する金属材料によって形成され、陰極として機能している。
ところで、この実施の形態では、表示エリア102は、同一色のサブ画素つまり同一種類の有機EL素子が配列されたストライプ状のサブ画素列を備えている。例えば、図1に示すように、表示エリア102は、複数の赤色のサブ画素PXRが配列された赤色のサブ画素列RL、複数の緑色のサブ画素PXGが配列された緑色のサブ画素列GL、及び、複数の青色のサブ画素PXBが配列された青色のサブ画素列BLを備えている。これらのサブ画素列は、サブ画素列の延びる方向(図1に示した例ではX方向)に直交する方向(図1に示した例ではY方向)に並んでいる。また、表示エリア102において、赤色のサブ画素列RLは、複数配列されており、例えば2列置きに配列されている。同様に、緑色のサブ画素列GL及び青色のサブ画素列BLも、それぞれ表示エリア102において複数配列されており、例えば2列置きに配列されている。
また、アレイ基板100は、図2に示すように、表示エリア102において、各サブ画素列を区画する隔壁70を備えている。この隔壁70は、例えば樹脂材料をパターニングすることによって形成される。
次に、光活性層64を形成するための液滴を塗布するための塗布装置について説明する。ここでは、インクジェット方式により液滴を選択的に塗布する塗布装置について説明する。例えば、図3に示すように、塗布装置130は、処理基板(すなわち第1電極60を形成済みの配線基板120)SUBが載置されるステージ131と、ステージ131上方において処理基板SUBに対向して配置されたヘッド132と、ステージ131及びヘッド132の少なくとも一方を移動させる移動機構133と、を備えている。
ヘッド132は、処理基板SUB上(より厳密にはサブ画素列RL、GL、BL)に向けてそれぞれ液滴を塗布する。このヘッド132は、光活性層64を形成するための液滴を吐出するノズルを備えている。このような構成のヘッド132は、例えば各ノズルに対応して配置された圧電素子などを備えて構成されており、この圧電素子に印加する電圧を制御することにより液滴の吐出量や吐出タイミングなどを制御している。
移動機構133は、ステージ131上に載置された処理基板SUBとヘッド132とが対向した状態で、ヘッド132が処理基板SUBの所定領域に順次液滴を塗布するように相対移動させる機構である。この実施の形態では、移動機構133は、ステージ131のみを移動させる。すなわち、移動機構133は、ステージ131の下方において互いにほぼ直交するように配置され、X方向に延在するレール133X及びY方向に延在するレール133Yを備えている。移動機構133は、ステージ131をレール133Xに沿ってX方向に移動可能であるとともに、レール133Yに沿ってY方向に移動可能である。
このような選択塗布方式により液滴が塗布されるサブ画素列RL、GL、BLは、それぞれのサブ画素列が延在する方向とは直交する方向の幅が広い有効部と、有効部より狭い幅であって隣接する有効部を連結する連結部とを有している。しかも、1画素内においては、1つのサブ画素列の有効部と他のサブ画素列の連結部とが互いに隣接すように配置されている。
図4に示した例では、赤色のサブ画素列RLは、有効部RE及び連結部RCを有している。同様に、緑色のサブ画素列GLは、有効部GE及び連結部GCを有しており、青色のサブ画素列BLは、有効部BE及び連結部BCを有している。しかも、図4に示したように、赤色のサブ画素列RL、緑色のサブ画素列GL、及び、青色のサブ画素列BLがこの順番で配列されている場合、1画素PX内において、サブ画素列RL及びサブ画素列BLのそれぞれの有効部RE及びBEは、サブ画素列GLの連結部GCに隣接している。また、1画素PX内において、サブ画素列GLの有効部GEは、サブ画素列RL及びサブ画素列BLのそれぞれの連結部RC及びBCに隣接している。これらのサブ画素列RL、GL、BLは、その間に配置された隔壁70によって区画されている。なお、図4においては、破線で囲まれた部分が1画素PXに相当し、各画素PXにおいて、それぞれ1つの有効部RE、GE、BEが配置されている。
また、それぞれの有効部RE、GE、BEに対応して、有機EL素子40(R、G、B)がそれぞれ配置されている。すなわち、図4に示した例では、赤色に発光する有機EL素子40Rは、赤色の有効部REに対応して配置されている。同様に、緑色に発光する有機EL素子40Gは、緑色の有効部GEに対応して配置され、青色に発光する有機EL素子40Bは、青色の有効部BEに対応して配置されている。なお、図4においては、有機EL素子40(R、G、B)を構成する第1電極60のみを図示しており、各有効部に対応して1つの有機EL素子が配置されている。
このような構成によれば、サブ画素列における比較的幅広な有効部に液滴を塗布することが可能となる。このため、塗布位置のずれに対するマージンを拡大することが可能となり、互いに発光色の異なる隣接するサブ画素列間での混色といった表示不良の発生を防止することができる。
また、液滴の径は、有効部の寸法に対応する程度に制御すれば良い。このため、高精細化に伴って極端に液適量を少なくする必要はなく、少なくとも有効部において全体的に液滴が広がる程度の液適量で液滴を塗布することにより、有効部に配置された有機EL素子40(R、G、B)の光活性層64を均一な膜厚分布で形成することが可能となる。
つまり、このような構成のサブ画素列からなる表示エリアを備えた表示装置によれば、表示品位の低下を招くことなく高精細化に対応可能となる。
また、図4に示した例においては、各サブ画素列の有効部は、略六角形に形成されている。つまり、1画素PX内に配置された赤色の有効部RE、緑色の有効部GE、及び、青色の有効部BEは、全て略六角形状である。このため、1画素PX内に無駄なスペースを形成することなく各サブ画素列の有効部を高密度配置することが可能となり、開口率を向上することが可能となる。また、略六角形状の有効部は、塗布される液滴の着弾時の形状(真円あるいは楕円形状)に近い形状であるため、液滴の塗布位置のずれに対するマージンがサブ画素列の延在する方向のみならずサブ画素列の幅方向にも拡大する。また、このような形状の有効部によれば、液滴を塗布した際、液滴が有効部内に広がりやすく、膜厚分布の均一化に有効である。
また、図4に示した例においては、隣接するサブ画素列の有効部が互いに半画素分ずれて配置されている。このため、液滴を塗布する際、隣接する有効部に塗布される液滴との距離が広がり、混色の発生を抑制することが可能となる。
なお、各サブ画素列における有効部の形状は、図4に示した例に限定されず、種々変更可能である。例えば、図5に示した例では、各色のサブ画素列RL、GL、BLは、それぞれ略四角形の有効部RE、GE、BEを有している。各色のサブ画素列RL、GL、BLにおいて、隣接する同一色の有効部はそれぞれ連結部RC、GC、BCによって連結されている。しかも、図5に示したように、赤色のサブ画素列RL、緑色のサブ画素列GL、及び、青色のサブ画素列BLがこの順番で配列されている場合、1画素PX内において、サブ画素列RL及びサブ画素列BLのそれぞれの有効部RE及びBEは、サブ画素列GLの連結部GCに隣接している。また、1画素PX内において、サブ画素列GLの有効部GEは、サブ画素列RL及びサブ画素列BLのそれぞれの連結部RC及びBCに隣接している。これらのサブ画素列RL、GL、BLは、その間に配置された隔壁70によって区画されている。
また、それぞれの有効部RE、GE、BEに対応して、1つの有機EL素子40(R、G、B)がそれぞれ配置されている。
このような構成であっても、図4に示した例と同様の効果が得られる。
なお、各有効部に配置される有機EL素子の数は1つに限らない。例えば、図6に示した例では、各色のサブ画素列RL、GL、BLは、それぞれ略四角形の有効部RE、GE、BEを有している。各色のサブ画素列RL、GL、BLにおいて、隣接する同一色の有効部はそれぞれ連結部RC、GC、BCによって連結されている。しかも、図6に示したように、赤色のサブ画素列RL、緑色のサブ画素列GL、及び、青色のサブ画素列BLがこの順番で配列されている場合、1画素PX内において、サブ画素列RL及びサブ画素列BLのそれぞれの有効部RE及びBEは、サブ画素列GLの連結部GCに隣接している。また、1画素PX内において、サブ画素列GLの有効部GEは、サブ画素列RL及びサブ画素列BLのそれぞれの連結部RC及びBCに隣接している。これらのサブ画素列RL、GL、BLは、その間に配置された隔壁70によって区画されている。なお、図6においても、破線で囲まれた部分が1画素PXに相当し、各画素PXにおいて、それぞれ1つの有効部RE、GE、BEが配置されている。1画素PX内には、それぞれ1つずつの有機EL素子40(R、G、B)が配置されている。
特に、図6に示した例では、各サブ画素列RL、GL、BLにおけるそれぞれの有効部RE、GE、BEは、複数の有機EL素子40(R、G、B)を備えている。すなわち、各有効部RE、GE、BEは、複数の画素PXに跨って配置されている。例えば、サブ画素列RL1及びBL1のそれぞれの有効部RE及びBEは、4つの画素PXに跨るように配置されている。有効部REは、それぞれの画素PXに配置された4つの有機EL素子40Rを備えている。また、有効部BEは、それぞれの画素PXに配置された4つの有機EL素子40Bを備えている。また、サブ画素列GL1の有効部GEは、サブ画素列G1が延在する方向に並んだ2つの画素PXに跨るように配置されている。有効部GEは、それぞれの画素PXに配置された2つの有機EL素子40Gを備えている。同様にして、サブ画素列RL2及びBL2のそれぞれの有効部RE及びBEは、2つの画素PXに跨るように配置され、サブ画素列GL2の有効部GEは、4つの画素PXに跨るように配置されている。
このような構成であっても、図4に示した例と同様の効果が得られる。さらに、隣接する画素PXについて、有機EL素子を対称に配置可能とするように有効部を形成することにより、液滴の塗布位置のずれに対するマージンをさらに拡大することが可能となる。
また、図7に示した例では、各色のサブ画素列RL、GL、BLは、それぞれ略六角形の有効部RE、GE、BEを有している。特に、図7に示した例のサブ画素列RL、GL、BLでは、有効部が連続して繋がっており、それぞれの幅の狭い部分が連結部RC、GC、BCに相当する。図7に示したように、赤色のサブ画素列RL、緑色のサブ画素列GL、及び、青色のサブ画素列BLがこの順番で配列されている場合、1画素PX内において、サブ画素列RL及びサブ画素列BLのそれぞれの有効部RE及びBEは、サブ画素列GLの連結部GCに隣接している。また、1画素PX内において、サブ画素列GLの有効部GEは、サブ画素列RL及びサブ画素列BLのそれぞれの連結部RC及びBCに隣接している。これらのサブ画素列RL、GL、BLは、その間に配置された隔壁70によって区画されている。
図7に示した例において、サブ画素列GL1、RL2、BL2におけるそれぞれの有効部GE、RE、BEは、対応する色の1つの有機EL素子を備えている。また、サブ画素列RL1、BL1、GL2におけるそれぞれの有効部RE、BE、GEは、複数の画素PXに跨って配置されている。例えば、サブ画素列RL1、BL1、GL2のそれぞれの有効部RE、BE、GEは、4つの画素PXに跨るように配置されている。有効部REは、それぞれの画素PXに配置された4つの有機EL素子40Rを備えている。同様に、有効部BEは、それぞれの画素PXに配置された4つの有機EL素子40Bを備え、有効部GEは、それぞれの画素PXに配置された4つの有機EL素子40Gを備えている。
このような構成であっても、図6に示した例と同様の効果が得られる。
なお、各サブ画素列が延在する方向は、画素PXの配列方向と平行でなくても良い。例えば、図8に示した例では、各色のサブ画素列RL、GL、BLは、それぞれ略六角形の有効部RE、GE、BEを有している。特に、図8に示した例のサブ画素列RL、GL、BLでは、有効部が連続して繋がっており、それぞれの幅の狭い部分が連結部RC、GC、BCに相当する。これらの各サブ画素列RL、GL、BLは、画素PXの配列方向に対して斜め方向に延在している。
図8に示したように、赤色のサブ画素列RL、緑色のサブ画素列GL、及び、青色のサブ画素列BLがこの順番で配列されている場合、1画素PX内において、サブ画素列RL及びサブ画素列BLのそれぞれの有効部RE及びBEは、サブ画素列GLの連結部GCに隣接している。また、1画素PX内において、サブ画素列GLの有効部GEは、サブ画素列RL及びサブ画素列BLのそれぞれの連結部RC及びBCに隣接している。これらのサブ画素列RL、GL、BLは、その間に配置された隔壁70によって区画されている。
図8に示した例において、各サブ画素列RL、BL、GLにおけるそれぞれの有効部RE、BE、GEは、複数の画素PXに跨って配置されている。例えば、サブ画素列RL、BL、GLのそれぞれの有効部RE、BE、GEは、4つの画素PXに跨るように配置されている。有効部REは、それぞれの画素PXに配置された4つの有機EL素子40Rを備えている。同様に、有効部BEは、それぞれの画素PXに配置された4つの有機EL素子40Bを備え、有効部GEは、それぞれの画素PXに配置された4つの有機EL素子40Gを備えている。
このような構成であっても、図6に示した例と同様の効果が得られる。
図9に示した例では、各色のサブ画素列RL、GL、BLは、それぞれ略六角形の有効部RE、GE、BEを有している。各色のサブ画素列RL、GL、BLにおいて、隣接する同一色の有効部はそれぞれ連結部RC、GC、BCによって連結されている。しかも、図9に示したように、赤色のサブ画素列RL、緑色のサブ画素列GL、及び、青色のサブ画素列BLがこの順番で配列されている場合、1画素PX内において、サブ画素列RL及びサブ画素列BLのそれぞれの有効部RE及びBEは、サブ画素列GLの連結部GCに隣接している。また、1画素PX内において、サブ画素列GLの有効部GEは、サブ画素列RL及びサブ画素列BLのそれぞれの連結部RC及びBCに隣接している。これらのサブ画素列RL、GL、BLは、その間に配置された隔壁70によって区画されている。
また、サブ画素列RL及びBLにおけるそれぞれの有効部RE及びBEは、サブ画素列が延在する方向に並んだ2つの画素PXに跨るように配置されている。有効部REは、それぞれの画素PXに配置された略五角形状の2つの有機EL素子40Rを備えている。有効部BEは、それぞれの画素PXに配置された略五角形の2つの有機EL素子40Bを備えている。サブ画素列GLにおける有効部GEは、各画素PXに対応して1つずつ配置されている。有効部GEは、画素PXに配置された略六角形の1つの有機EL素子40Gを備えている。
この図9に示した例では、図の上下に隣接した画素PXに着目すると、これらの画素PX間において、各画素PXを構成するサブ画素の配置位置は、これらの画素PXの境界線BDLに対して対称である。つまり、上下に隣接する画素PXについて、赤色のサブ画素を構成する有機EL素子40R、緑色のサブ画素を構成する有機EL素子40G、及び、青色のサブ画素を構成する有機EL素子40Bは、境界線BDLに対して線対称な位置に配置されている。
このような構成であっても、図4に示した例と同様の効果が得られる。
なお、図4乃至図9に示した例のように、赤色のサブ画素PXRを備えたサブ画素列RL、緑色のサブ画素PXGを備えたサブ画素列GL、及び、青色のサブ画素PXBを備えたサブ画素列RBがすべてストライプ状に伸びた構造でなくても良い。例えば、図10乃至図12に示すように、少なくとも1つのサブ画素列(ここでは赤色に対応したサブ画素列RL)がストライプ状に伸びた構造であり、しかも、有効部RE及び連結部RCを有する構造であっても良い。ここでは、有効部REは、略五角形であって連続して繋がっている。このサブ画素列RLにおいて、幅の狭い部分が連結部RCに相当する。有効部REは、それぞれの画素PXに対応して配置され、各画素PXにおいて1つの有機EL素子40(R、G、B)を備えている。
また、他の色のサブ画素、すなわち緑色サブ画素PXG及び青色サブ画素PXBは島状に構成されている。図10及び図11に示した例では、緑色サブ画素PXG及び青色サブ画素PXBのそれぞれは、1つの島状パターンが隣接する2つの画素に跨って配置されている。
図10に示した例では、緑色サブ画素PXGの島状パターンは、一方の画素PXに配置された三角形の有機EL素子40G及び他方の画素PXに配置された四角形の有機EL素子40Gを備えている。同様に、青色サブ画素PXBの島状パターンは、三角形の有機EL素子40B及び四角形の有機EL素子40Bを備えている。
図11に示した例では、緑色サブ画素PXGの島状パターンは、それぞれの画素PXに配置された四角形の有機EL素子40Gを備えている。同様に、青色サブ画素PXBの島状パターンは、四角形の有機EL素子40Bを備えている。
この図11に示した例では、図の上下に隣接した画素PXに着目すると、これらの画素PX間において、各画素PXを構成するサブ画素の配置位置は、これらの画素PXの境界線BDLに対して対称である。つまり、上下に隣接する画素PXについて、赤色のサブ画素PXRを構成する有機EL素子40R、緑色のサブ画素PXGを構成する有機EL素子40G、及び、青色のサブ画素PXBを構成する有機EL素子40Bは、境界線BDLに対して線対称な位置に配置されている。
図12に示した例では、各画素PXにおいて、島状の緑色サブ画素PXG及び青色サブ画素PXBは、各画素に対応して配置され、それぞれ1つの有機EL素子40G及び40Bを備えている。
このような構成であっても、ストライプ状のサブ画素列においては、有効部に液滴を塗布し、また、島状のサブ画素列においては、比較的幅広の部分に液滴を塗布することで、上述した例と同様の効果が得られる。
次に、上述したような構成の表示装置の製造方法について説明する。なお、ここでは、光活性層64は高分子系材料を用いてインクジェットによる選択塗布法により形成されるものとする。
すなわち、金属膜及び絶縁膜の成膜、パターニングなどの処理を繰り返し、縦480画素、横640×3(R、G、B)画素の合計92万画素からなる表示エリア102を有した配線基板120を用意する。そして、図13Aに示すように、配線基板120上の表示エリア102においてサブ画素毎に第1電極60を形成する。この第1電極60の形成方法については、一般的はフォトリソグラフィプロセスで形成しても良いし、第1電極のパターンを有するマスクを介したマスクスパッタ法で形成しても良い。
続いて、図13Bに示すように、表示エリア102において第1電極60を露出する隔壁70を形成する。すなわち、感光性樹脂材料例えばアクリルタイプのポジティブトーンのレジストを成膜した後に一般的なフォトリソグラフィプロセスなどでパターニングした後に、220℃で30分間の焼成処理を行う。これにより、表示エリア102において互いに隣接する異なる色のサブ画素の間を分離する隔壁70が形成される。
続いて、サブ画素毎に第1電極60上に対応する色に発光する発光層を含む光活性層64を形成する。すなわち、図13Cに示すように、塗布装置130において、隔壁70を備えた配線基板120を塗布装置130のステージ131上に載置した後、ヘッド132を配線基板120に対向配置する。
その後、各ヘッド132から対応する色のサブ画素列における有効部に向けて発光層の他にホールバッファ層などを形成するための高分子系材料の液滴を塗布する。この液滴の塗布工程は、移動機構133により、各ヘッド132を対応する領域の全体にわたって相対的にスキャンしながら行う。このような塗布工程により塗布された液滴は、有効部の全体に広がるだけでなく連結部にも広がり、サブ画素列の全体にわたって略均一な膜厚となる。
このようにして塗布した液滴を乾燥することにより、赤色のサブ画素PXRの第1電極60上に光活性層64Rが形成される。同様の塗布方法により緑色のサブ画素PXGの第1電極60上に光活性層64Gが形成される。同様の塗布方法により青色のサブ画素PXBの第1電極60上に光活性層64Bが形成される。
続いて、図13Dに示すように、表示エリア102において各サブ画素の光活性層64(R、G、B)を覆うように第2電極66を形成する。この第2電極66は、先に形成された光活性層64(R、G、B)が水分の影響によりダメージを受けないようにドライプロセスで形成されることが望ましく、例えば、蒸着法によって形成される。
一方で、アレイ基板100上の表示エリア102を封止するために、封止体の外周に沿って紫外線硬化型のシール材を塗布し、窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガス雰囲気中において、アレイ基板100と封止体とを貼り合わせる。これにより、有機EL素子40は、不活性ガス雰囲気の密閉空間内に封入される。その後、紫外線を照射して、シール材を硬化させる。
上述した製造方法によれば、良好な表示品位の表示装置が得られた。
なお、この発明は、上記実施形態そのままに限定されるものではなく、その実施の段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。
1…有機EL表示装置、10…画素スイッチ、20…駆動トランジスタ、30…蓄積容量素子、40…有機EL素子、60…第1電極、64(R、G、B)…光活性層、66…第2電極、70…隔壁、100…アレイ基板、102…表示エリア、120…配線基板、PX…画素、PX(R、G、B)…サブ画素
Claims (12)
- 複数の画素によって構成され、かつ、1画素内に発光色の異なる複数種類の表示素子からなるサブ画素を備えて構成され、
第1表示素子が配列されたストライプ状の第1サブ画素列と、
前記第1表示素子とは発光色が異なる第2表示素子が配列されたストライプ状の第2サブ画素列と、を備え、
前記第1サブ画素列及び前記第2サブ画素列は、それぞれのサブ画素列が延在する方向とは直交する方向の幅が広い有効部と、有効部より狭い幅であって隣接する有効部を連結する連結部と、を有し、
1画素内において、前記第1サブ画素列の有効部と前記第2サブ画素列の連結部とが隣接することを特徴とする表示装置。 - 前記第1表示素子は、前記第1サブ画素列の前記有効部に対応して配置されたことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 前記第1サブ画素列の前記有効部は、複数の前記第1表示素子を備えたことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 前記第1サブ画素列の前記有効部は、複数の画素に跨って配置され、画素毎に配置された前記第1表示素子を備えたことを特徴とする請求項3に記載の表示装置。
- 前記第1サブ画素列の前記有効部は、略四角形または略六角形であることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 1画素内において、前記第1表示素子からなるサブ画素の形状は、前記第2表示素子からなるサブ画素の形状とは異なることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 隣接する画素間において、前記第1表示素子からなるサブ画素の形状が異なることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 前記第1表示素子は、各サブ画素に対応して独立島状に配置された第1電極と、
前記第1電極上において前記第1サブ画素列の全体にわたって配置された光活性層と、
前記光活性層を覆うように配置された第2電極と、を備えて構成されたことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。 - さらに、前記第1サブ画素列と前記第2サブ画素列とを区画する隔壁を備えたことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 複数の画素によって構成され、かつ、1画素内に発光色の異なる複数種類の表示素子からなるサブ画素を備えて構成され、
隣接する画素間において、各画素を構成するサブ画素の配置位置は、これらの画素の境界線に対して対称であることを特徴とする表示装置。 - 複数の画素によって構成され、かつ、1画素内に発光色の異なる複数種類の表示素子からなるサブ画素を備えて構成され、
第1表示素子が配列されたストライプ状の第1サブ画素列と、
前記第1表示素子とは発光色が異なる第2表示素子が配列されたストライプ状の第2サブ画素列と、を備え、
前記第1サブ画素列及び前記第2サブ画素列は、それぞれのサブ画素列が延在する方向とは直交する方向の幅が広い有効部と、有効部より狭い幅であって隣接する有効部を連結する連結部と、を有する表示装置の製造方法であって、
前記第1表示素子及び前記第2表示素子を構成する光活性層を形成するための液滴を、それぞれ前記第1サブ画素列及び前記第2サブ画素列の有効部に塗布することを特徴とする表示装置の製造方法。 - 前記第1表示素子を構成する光活性層を形成するための液滴を前記第1サブ画素列の有効部に塗布した後に、前記第2表示素子を構成する光活性層を形成するための液滴を前記第2サブ画素列の有効部に塗布するまで0.5秒以上の間隔をあけることを特徴とする請求項11に記載の表示装置の製造方法。
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