JP2010080220A - 表示装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 赤色系の光を発する第1のサブ画素、緑色系の光を発する第2のサブ画素、および青色系の光を発する第3のサブ画素を有する画素がマトリクス状に配置された表示装置であって、前記第1のサブ画素、前記第2のサブ画素、および前記第3のサブ画素は、それぞれ、第1の電極、第2の電極、および発光層を有し、かつ、前記第1の電極と前記発光層とは、前記第1の電極と前記発光層との間に介在する絶縁層の開口部で接続しており、それぞれの前記サブ画素における前記開口部の面積は概ね等しく、第1の方向には、前記第1のサブ画素、前記第2のサブ画素、および前記第3のサブ画素が、あらかじめ定められた順番で繰り返し並んでおり、かつ、前記第1の方向で隣接する2つの前記サブ画素の前記開口部の間隙の寸法が2通り以上である表示装置。
【選択図】 図5(a)
Description
DRG≠DGB≠DBR ・・・(数式1)
DRG=DGB≠DBR ・・・(数式2)
DRG≠DGB=DBR ・・・(数式3)
DRG=DBR≠DBR ・・・(数式4)
なお、実施例を説明するための全図において、同一機能を有するものは、同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
図1(a)は、本発明に関わる有機EL表示装置の概略構成の一例を示す模式図である。図1(b)は、有機EL表示装置の表示領域の概略構成の一例を示す模式図である。図1(c)は、1つのサブ画素の平面構成の一例を示す模式平面図である。図1(d)は、図1(c)のA−A’線における断面構成の一例を示す模式断面図である。
また、間隙DRGは、第1の発光層103Rを配置する開口部CH2と第2の発光層103Gを配置する開口部CH2との間隙である。また、間隙DGBは、第2の発光層103Gを配置する開口部CH2と第3の発光層103Bを配置する開口部CH2との間隙である。また、間隙DBRは、第3の発光層103Bを配置する開口部CH2と第1の発光層103Rを配置する開口部CH2との間隙である。
M=√(AA2+MA2+MS2) ・・・(数式5)
図3(a)は、第1の発光層の形成を開始した直後の第1の基板とシャドウマスクとの関係の一例を示す模式図である。図3(b)は、第1の発光層の形成を終了する直前の第1の基板とシャドウマスクとの関係の一例を示す模式図である。
図4(a)は、第1の基板の熱膨張の様子の一例を示す模式図である。図4(b)は、図4(a)の領域H1に形成された発光層の平面形状の一例を示す模式図である。図4(c)は、図4(a)の領域H2に形成された発光層の平面形状の一例を示す模式図である。図4(d)は、図4(a)の領域H4に形成された発光層の平面形状の一例を示す模式図である。図4(e)は、図4(a)の領域H6に形成された発光層の平面形状の一例を示す模式図である。
なお、図3(a)および図3(b)では、第1の基板100の上に形成されている半導体層107、第1の絶縁層108、第3の絶縁層113、反射層115、第1の電極105、第4の絶縁層114などを省略している。
また、図4(b)乃至図4(e)の各図において、開口部CH2を囲む破線は設計データにおける発光層103R,103G,103Bの形成領域を表している。また、図4(b)乃至図4(e)の各図において、開口部CH2の内部に示した矢印は、矢の向きで第1の基板100が熱膨張する際に膨張する方向を表し、長さで熱膨張の度合いを表している。
図5(a)は、実施例1の有機EL表示装置における表示領域の左下角部のサブ画素の配置方法の一例を示す模式図である。図5(b)は、実施例1の有機EL表示装置における表示領域の右上角部のサブ画素の配置方法の一例を示す模式図である。図5(c)は、実施例1の有機EL表示装置における表示領域の中心部分のサブ画素の配置方法の一例を示す模式図である。
DRG≠DGB≠DBR ・・・(数式1)
DRG=DGB≠DBR ・・・(数式2)
DRG≠DGB=DBR ・・・(数式3)
DRG=DBR≠DBR ・・・(数式4)
図6(a)は、表示パネルを2面取りと呼ばれる方法で製造するときのサブ画素の配置方法を説明するための模式図である。図6(b)は、表示パネルを4面取りと呼ばれる方法で製造するときのサブ画素の配置方法を説明するための模式図である。図6(c)は、表示パネルを6面取りと呼ばれる方法で製造するときのサブ画素の配置方法を説明するための模式図である。図6(d)は、表示パネルを32面取りと呼ばれる方法で製造するときのサブ画素の配置方法を説明するための模式図である。
100…第1の基板
101…走査信号線
102…映像信号線
103R…(第1の)発光層
103G…(第2の)発光層
103B…(第3の)発光層
105…第1の電極
106…第2の電極
107…半導体層
108…第1の絶縁層
109…ゲート電極
110…第2の絶縁層
111…ソース電極
112…ドレイン電極
113…第3の絶縁層
114…第4の絶縁層
115…反射層
2…第1の駆動回路
3…第2の駆動回路
4…制御回路
5…シャドウマスク
6…蒸着源
7…マザーガラス
CH1,CH2…開口部
Claims (6)
- 複数の画素がマトリクス状に配置された表示パネルを有し、それぞれの前記画素は、赤色系の光を発する第1のサブ画素、緑色系の光を発する第2のサブ画素、および青色系の光を発する第3のサブ画素を有する表示装置であって、
前記第1のサブ画素、前記第2のサブ画素、および前記第3のサブ画素は、それぞれ、第1の電極、第2の電極、および前記第1の電極と前記第2の電極との間に介在する発光層を有し、かつ、前記第1の電極と前記発光層とは、前記第1の電極と前記発光層との間に介在する絶縁層の開口部で接続しており、
それぞれの前記サブ画素の前記開口部の面積は概ね等しく、
前記表示パネルの第1の方向には、前記第1のサブ画素、前記第2のサブ画素、および前記第3のサブ画素が、あらかじめ定められた順番で繰り返し並んでおり、かつ、前記第1の方向で隣接する2つの前記サブ画素の前記開口部の間隙の寸法が2通り以上であることを特徴とする表示装置。 - 前記表示パネルの前記第1の方向には、前記第1のサブ画素、前記第2のサブ画素、および前記第3のサブ画素が、この順番で繰り返し並んでおり、
隣接する前記第1のサブ画素と前記第2のサブ画素とにおける前記開口部の間隙の寸法をDRGとし、
隣接する前記第2のサブ画素と前記第3のサブ画素とにおける前記開口部の間隙の寸法をDGBとし、
隣接する前記第3のサブ画素と前記第1のサブ画素とにおける前記開口部の間隙の寸法をDBRとしたときに、それぞれの前記間隙の寸法DRG,DGB,DBRの関係が下記数式1乃至数式4のいずれかの関係であることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
DRG≠DGB≠DBR ・・・(数式1)
DRG=DGB≠DBR ・・・(数式2)
DRG≠DGB=DBR ・・・(数式3)
DRG=DBR≠DBR ・・・(数式4) - 前記表示パネルの前記第1の方向には、前記第1のサブ画素、前記第2のサブ画素、および前記第3のサブ画素が、この順番で繰り返し並んでおり、
前記第1の方向で連続する前記第3のサブ画素、前記第1のサブ画素、および前記第2のサブ画素において、
隣接する前記第3のサブ画素と前記第1のサブ画素とにおける前記開口部の間隙の寸法をDBRとし、
隣接する前記第1のサブ画素と前記第2のサブ画素とにおける前記開口部の間隙の寸法をDRGとしたときに、
1枚の前記表示パネル全体におけるそれぞれの前記間隙の寸法DBR,DRGの関係は、DBR<DRGの関係、またはDBR>DRGの関係のいずれか一方のみであることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。 - 前記表示パネルの前記第1の方向には、前記第1のサブ画素、前記第2のサブ画素、および前記第3のサブ画素が、この順番で繰り返し並んでおり、
前記第1の方向で連続する前記第3のサブ画素、前記第1のサブ画素、および前記第2のサブ画素において、
隣接する前記第3のサブ画素と前記第1のサブ画素とにおける前記開口部の間隙の寸法をDBRとし、
隣接する前記第1のサブ画素と前記第2のサブ画素とにおける前記開口部の間隙の寸法をDRGとしたときに、
1枚の前記表示パネル全体におけるそれぞれの前記間隙の寸法DBR,DRGの関係には、DBR<DRGの関係である場合と、DBR>DRGの関係である場合とがあることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。 - 前記発光層は、有機エレクトロルミネセンス材料でなることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
- 前記第2の電極は、複数の前記サブ画素で共有していることを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
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2008
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