JP2017143022A - 電気光学装置及び電子機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】有機EL装置100は、基材11と、基材11上に配置された有機EL素子30と、有機EL素子30を覆って形成された封止部34と、封止部34上に形成された着色層36B,36G,36Rを含むカラーフィルター36と、カラーフィルター36の寸法精度を評価するための寸法評価用パターン50と、を備えることを特徴とする。
【選択図】図6
Description
<有機EL装置>
まず、第1の実施形態に係る電気光学装置としての有機EL装置について、図1から図4を参照して説明する。図1は、第1の実施形態に係る有機EL装置の構成を示す概略平面図である。図2は、第1の実施形態に係る有機EL装置の電気的な構成を示す等価回路図である。図3は、サブ画素における有機EL素子及びカラーフィルターの配置を示す概略平面図である。図4は、図3のA−A’線に沿ったサブ画素の構造を示す概略断面図である。本実施形態に係る有機EL装置100は、後述するヘッドマウントディスプレイ(HMD)の表示部に好適な自発光型のマイクロディスプレイである。
図2に示すように、有機EL装置100は、互いに交差する走査線12及びデータ線13と、電源線14とを有している。走査線12は走査線駆動回路16に電気的に接続され、データ線13はデータ線駆動回路15に電気的に接続されている。また、走査線12とデータ線13とで区画された領域にサブ画素18が設けられている。
次に、図3を参照して、サブ画素18における有機EL素子30の画素電極31及びカラーフィルター36の配置について説明する。
次に、図4を参照して、有機EL装置100におけるサブ画素18の構造について説明する。図4に示すように、有機EL装置100は、充填剤42を介して対向配置された素子基板10と保護基板40とを有している。充填剤42は、素子基板10と保護基板40とを接着する役割を有し、光透過性を有する例えばエポキシ樹脂やアクリル樹脂等で構成されている。
本実施形態に係る有機EL装置100は、反射層25と対向電極33との間に光共振構造を有している。有機EL装置100において、発光機能層32が発した光は、反射層25と対向電極33との間で繰り返し反射され、反射層25と対向電極33との間の光学的な距離に対応する特定波長(共振波長)の光の強度が増幅され、表示光として保護基板40からZ方向に射出される。
そこで、本実施形態に係る有機EL装置100は、カラーフィルター36を評価するための評価用パターンを備えている。第1の実施形態に係る有機EL装置100は、評価用パターンとして、カラーフィルター36の寸法精度を評価するための寸法評価用パターンを備えている。
まず、図5A、図5B、及び図6を参照して、本実施形態に係る評価用パターンの実施例1を説明する。図5Aは、実施例1に係る寸法評価用パターンの配置を示す素子基板の概略平面図である。図5Bは、寸法評価用パターンを拡大した概略平面図である。図6は、図5AのB−B’線に沿った寸法評価用パターンの配置を示す概略断面図である。図14は、比較例の寸法評価用パターンの配置を示す素子基板の概略平面図である。
続いて、図7及び図8を参照して、本実施形態に係る評価用パターンの実施例2を説明する。図7は、実施例2に係る評価用パターンの配置を示す素子基板の概略平面図である。図8は、図7のB−B’線に沿った評価用パターンの配置を示す概略断面図である。ここでは、実施例1に対する相違点のみ説明する。
続いて、図9及び図10を参照して、本実施形態に係る評価用パターンの実施例3を説明する。図9は、実施例3に係る評価用パターンの配置を示す素子基板の概略平面図である。図10は、図9のB−B’線に沿った評価用パターンの配置を示す概略断面図である。ここでは、実施例1及び実施例2に対する相違点のみ説明する。
<有機EL装置>
次に、第2の実施形態に係る有機EL装置の構成について図11Aおよび図11Bを参照して説明する。図11Aは、第2の実施形態に係る有機EL装置の構成を示す概略平面図である。図11Aは、第2の実施形態に係る位置評価用パターンの配置を示す素子基板の概略平面図でもある。図11Bは、第2の実施形態に係る位置評価用パターンを拡大した概略平面図である。
位置評価用パターン60は、寸法評価用パターン50と同様に、TEG(Test Element Group)の役割を持つ。本実施形態では、位置評価用パターン60は、カラーフィルター36の各着色層36B,36G,36Rの位置精度を評価するためのものである。ここでいう位置精度とは、例えば、各着色層36B,36G,36Rの位置ずれ(特定方向へのシフト等)、回転、倍率のずれ、歪み等の管理特性を含む。
<電子機器>
次に、第3の実施形態に係る電子機器について図13を参照して説明する。図13は、第3の実施形態に係る電子機器としてのヘッドマウントディスプレイの構成を示す概略図である。
第1の実施形態の実施例1、実施例2、及び実施例3では、寸法評価用パターン50がCF遮光部36Sにおける−Y方向側の1辺部に配置されていたが、本発明はこのような形態に限定されない。寸法評価用パターン50は、他の1辺部に配置されていてもよいし、複数の辺部に配置されていてもよい。また、寸法評価用パターン50は、CF遮光部36Sの1辺部の長手方向における略中央部以外の位置に配置されていてもよい。さらに、寸法評価用パターン50は、第1封止層34aと平坦化層34bと第2封止層34cとの3層を含む封止部34上であれば、CF遮光部36Sの外側(素子基板10の端部10a側)に配置されていてもよい。
第2の実施形態では、位置評価用パターン60のパターン群60R,60G,60BのパターンP2は、パターンP1と異なる材料を用いて異なるプロセスにおいて形成することとしたが、本発明はこのような形態に限定されない。パターンP2を凸部35と同様の感光性樹脂材料で形成し、パターンP1を着色層36B,36G,36Rと同様の感光性樹脂材料で形成することとしてもよい。このような構成にすれば、カラーフィルター36よりも先に形成される凸部35(パターンP2)の位置を基準として、各着色層36B,36G,36R(パターンP1)の位置精度を評価することができる。
第1の実施形態及び第2の実施形態では、有機EL装置100,100Aにおいて、表示領域Eに設けられる発光画素は、青(B)、緑(G)、赤(R)の発光に対応したサブ画素18B,18G,18Rに限定されない。例えば、上記3色以外の黄(Y)の発光が得られるサブ画素18Yを備えてもよい。これにより、色再現性をさらに高めることが可能となる。また、上記3色のうち2色のサブ画素18を備えていてもよい。
Claims (12)
- 基板と、
前記基板上に配置された有機EL素子と、
前記有機EL素子を覆って形成された封止部と、
前記封止部上に形成された着色層を含むカラーフィルターと、
前記カラーフィルターを評価するための評価用パターンと、
を備えることを特徴とする電気光学装置。 - 前記封止部は、前記有機EL素子が配置された第1の領域と、前記第1の領域を囲む第2の領域と、に亘って形成され、
前記カラーフィルターは、前記第1の領域における前記封止部上に配置され、
前記評価用パターンは、前記第2の領域における前記封止部上に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。 - 前記評価用パターンは、寸法精度を評価するための寸法評価用パターンを含むことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の電気光学装置。
- 前記基板上における前記封止部の高さは、前記第1の領域と前記第2の領域とにおいて略同一であることを特徴とする請求項3に記載の電気光学装置。
- 前記評価用パターンは、前記第2の領域における前記第1の領域寄りに配置されていることを特徴とする請求項3又は請求項4に記載の電気光学装置。
- 前記評価用パターンは、位置精度を評価するための位置評価用パターンを含むことを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の電気光学装置。
- 前記位置評価用パターンは、前記第2の領域における外周の角部に配置されていることを特徴とする請求項6に記載の電気光学装置。
- 前記評価用パターンは、少なくとも2色の着色層を含み、
前記カラーフィルターは、少なくとも2色の着色層を含み、
前記少なくとも2色の着色層は、その一部が互いに重なるように形成されており、
前記評価用パターンの前記少なくとも2色の着色層は、互いに離間され形成されていることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか一項に記載の電気光学装置。 - 前記評価用パターンは、前記着色層毎に複数のパターンを有することを特徴とする請求項8に記載の電気光学装置。
- 前記複数のパターンのうちの一つのパターンは他のパターンと異なることを特徴とする請求項9に記載の電気光学装置。
- 遮光性を有するケーシング部をさらに備え、
前記評価用パターンは、前記ケーシング部に覆われていることを特徴とする請求項1から請求項10のいずれか一項に記載の電気光学装置。 - 請求項1から請求項11のいずれか一項に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
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