JP2002098823A - カラーフィルター製造時の露光位置ずれの測定方法及びカラーフィルター - Google Patents
カラーフィルター製造時の露光位置ずれの測定方法及びカラーフィルターInfo
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 カラーフィルター製造時の露光位置のず
れを、製造工程中にインラインで容易、簡便、正確に検
査することができる、カラーフィルター製造時の露光位
置ずれの測定方法を提供すること。 【解決手段】 透明基板上に、選択露光により遮光
層、赤色着色画素、緑色着色画素及び青色着色画素を形
成することを含むカラーフィルターの製造方法におい
て、遮光層を露光形成する際にカラーフィルター形成領
域の外側にダミー遮光層を同時に露光形成し、赤色、緑
色及び青色の各着色画素を露光形成する際にカラーフィ
ルター形成領域の外側に各色のダミー画素を、前記ダミ
ー遮光層とは接触しないように露光形成し、上記ダミー
遮光層と上記ダミー画素との相対位置を透過光を用いて
測定することにより、遮光層と各着色画素のずれ量を測
定することを含む、カラーフィルター製造時の露光位置
ずれの測定方法。
れを、製造工程中にインラインで容易、簡便、正確に検
査することができる、カラーフィルター製造時の露光位
置ずれの測定方法を提供すること。 【解決手段】 透明基板上に、選択露光により遮光
層、赤色着色画素、緑色着色画素及び青色着色画素を形
成することを含むカラーフィルターの製造方法におい
て、遮光層を露光形成する際にカラーフィルター形成領
域の外側にダミー遮光層を同時に露光形成し、赤色、緑
色及び青色の各着色画素を露光形成する際にカラーフィ
ルター形成領域の外側に各色のダミー画素を、前記ダミ
ー遮光層とは接触しないように露光形成し、上記ダミー
遮光層と上記ダミー画素との相対位置を透過光を用いて
測定することにより、遮光層と各着色画素のずれ量を測
定することを含む、カラーフィルター製造時の露光位置
ずれの測定方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示パネル等
に用いられるカラーフィルター製造時の露光位置ずれの
測定方法及び該方法を適用された、カラーフィルターを
その上に形成した透明基板に関する。
に用いられるカラーフィルター製造時の露光位置ずれの
測定方法及び該方法を適用された、カラーフィルターを
その上に形成した透明基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示パネル等に用いられるカラーフ
ィルターは、通常、図５に示すような構造を有してい
る。すなわち、透明基板１上に、格子状に遮光層（ブラ
ックマトリックス、ＢＭ）２を設け、遮光層２によって
画定される多数の開口部に赤色着色画素（Ｒ）、緑色着
色画素（Ｇ）及び青色着色画素（Ｂ）が、１つの開口部
に１色ずつ、規則正しく順番に形成されている。遮光層
並びにＲ、Ｇ及びＢは、通常、露光マスクを介する選択
露光を伴うフォトリソグラフィーにより形成される。
Ｒ、Ｇ、Ｂは、遮光層により画定される開口部を覆う位
置に正確に形成されなければならない。Ｒ、Ｇ、Ｂの形
成位置がずれると開口部がそのまま残ったり、他の着色
画素と重複したりしてカラーフィルターの性能が低下す
ることは言うまでもない。
ィルターは、通常、図５に示すような構造を有してい
る。すなわち、透明基板１上に、格子状に遮光層（ブラ
ックマトリックス、ＢＭ）２を設け、遮光層２によって
画定される多数の開口部に赤色着色画素（Ｒ）、緑色着
色画素（Ｇ）及び青色着色画素（Ｂ）が、１つの開口部
に１色ずつ、規則正しく順番に形成されている。遮光層
並びにＲ、Ｇ及びＢは、通常、露光マスクを介する選択
露光を伴うフォトリソグラフィーにより形成される。
Ｒ、Ｇ、Ｂは、遮光層により画定される開口部を覆う位
置に正確に形成されなければならない。Ｒ、Ｇ、Ｂの形
成位置がずれると開口部がそのまま残ったり、他の着色
画素と重複したりしてカラーフィルターの性能が低下す
ることは言うまでもない。
【０００３】従来、各色の画素パターンと遮光層のずれ
を管理幅内に収めるために、露光機のアラインメント機
構による位置補正を行い、かつパターン形成後の透明基
板を抜き取り検査し、オフライン測長機を用いてずれ量
を測定し、位置補正を行うようにしている。
を管理幅内に収めるために、露光機のアラインメント機
構による位置補正を行い、かつパターン形成後の透明基
板を抜き取り検査し、オフライン測長機を用いてずれ量
を測定し、位置補正を行うようにしている。
【０００４】しかし、このような抜き取り検査では、パ
ターン形成に関わる露光マスクと透明基板間に温度差が
生じた場合あるいは露光機のアラインメント不良が生じ
た場合など、突発的な変動には対応できない。また、従
来の方法でインライン検査化（すなわち、抜き取り検査
ではなく、製造工程中に検査する）しようとした場合、
遮光層上に積重形成されたＲ、Ｇ、Ｂ着色画素パターン
の画像を反射光源を用いＣＣＤカメラで捉え、画像処理
する必要があり、この方法では、隣の画素との境界部分
が不鮮明で、自動化が困難であった。
ターン形成に関わる露光マスクと透明基板間に温度差が
生じた場合あるいは露光機のアラインメント不良が生じ
た場合など、突発的な変動には対応できない。また、従
来の方法でインライン検査化（すなわち、抜き取り検査
ではなく、製造工程中に検査する）しようとした場合、
遮光層上に積重形成されたＲ、Ｇ、Ｂ着色画素パターン
の画像を反射光源を用いＣＣＤカメラで捉え、画像処理
する必要があり、この方法では、隣の画素との境界部分
が不鮮明で、自動化が困難であった。
【０００５】また、各色の画素パターンと遮光層のずれ
をより容易に測定する方法として、特開平10-115702号
には、透明基板上であって、カラーフィルターが設けら
れていない透明基板周縁部上に、色ズレ量確認マークを
形成する方法が記載されている。しかしながら、この方
法でも、色ズレ量確認マークは、遮光層と各着色層とを
部分的に積層して形成されるため、色ズレ量の確認作業
自体は従来よりも容易になるものの、抜き取り検査と顕
微鏡観察を必要とし、上記した従来技術と同様、インラ
イン検査化が困難である。
をより容易に測定する方法として、特開平10-115702号
には、透明基板上であって、カラーフィルターが設けら
れていない透明基板周縁部上に、色ズレ量確認マークを
形成する方法が記載されている。しかしながら、この方
法でも、色ズレ量確認マークは、遮光層と各着色層とを
部分的に積層して形成されるため、色ズレ量の確認作業
自体は従来よりも容易になるものの、抜き取り検査と顕
微鏡観察を必要とし、上記した従来技術と同様、インラ
イン検査化が困難である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、カラーフィルター製造時の露光位置のずれを、製造
工程中にインラインで容易、簡便、正確に検査すること
ができる、カラーフィルター製造時の露光位置ずれの測
定方法を提供することである。
は、カラーフィルター製造時の露光位置のずれを、製造
工程中にインラインで容易、簡便、正確に検査すること
ができる、カラーフィルター製造時の露光位置ずれの測
定方法を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本願発明者は、鋭意研究
の結果、透明基板上に遮光層を露光形成する際にカラー
フィルター形成領域の外側にダミー遮光層を同時に露光
形成し、赤色、緑色及び青色の各着色画素を露光形成す
る際にカラーフィルター形成領域の外側に各色のダミー
画素を、前記ダミー遮光層とは接触しないように露光形
成し、上記ダミー遮光層と上記ダミー画素との相対位置
を透過光を用いて遮光層と各着色画素のずれ量を測定す
ることにより、上記目的を達成できることに想到し、本
発明を完成した。
の結果、透明基板上に遮光層を露光形成する際にカラー
フィルター形成領域の外側にダミー遮光層を同時に露光
形成し、赤色、緑色及び青色の各着色画素を露光形成す
る際にカラーフィルター形成領域の外側に各色のダミー
画素を、前記ダミー遮光層とは接触しないように露光形
成し、上記ダミー遮光層と上記ダミー画素との相対位置
を透過光を用いて遮光層と各着色画素のずれ量を測定す
ることにより、上記目的を達成できることに想到し、本
発明を完成した。
【０００８】すなわち、本発明は、透明基板上に、選択
露光により遮光層、赤色着色画素、緑色着色画素及び青
色着色画素を形成することを含むカラーフィルターの製
造方法において、遮光層を露光形成する際にカラーフィ
ルター形成領域の外側にダミー遮光層を同時に露光形成
し、赤色、緑色及び青色の各着色画素を露光形成する際
にカラーフィルター形成領域の外側に各色のダミー画素
を、前記ダミー遮光層とは接触しないように露光形成
し、上記ダミー遮光層と上記ダミー画素との相対位置を
透過光を用いて測定することにより、遮光層と各着色画
素のずれ量を測定することを含む、カラーフィルター製
造時の露光位置ずれの測定方法を提供する。また、本発
明は、上記本発明の方法が適用された、前記ダミー遮光
層及び前記各着色ダミー画素をカラーフィルター形成領
域の外側に有する、カラーフィルターを形成した透明基
板を提供する。
露光により遮光層、赤色着色画素、緑色着色画素及び青
色着色画素を形成することを含むカラーフィルターの製
造方法において、遮光層を露光形成する際にカラーフィ
ルター形成領域の外側にダミー遮光層を同時に露光形成
し、赤色、緑色及び青色の各着色画素を露光形成する際
にカラーフィルター形成領域の外側に各色のダミー画素
を、前記ダミー遮光層とは接触しないように露光形成
し、上記ダミー遮光層と上記ダミー画素との相対位置を
透過光を用いて測定することにより、遮光層と各着色画
素のずれ量を測定することを含む、カラーフィルター製
造時の露光位置ずれの測定方法を提供する。また、本発
明は、上記本発明の方法が適用された、前記ダミー遮光
層及び前記各着色ダミー画素をカラーフィルター形成領
域の外側に有する、カラーフィルターを形成した透明基
板を提供する。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明の方法において、カラーフ
ィルター自体は上記した周知の方法、すなわち、透明基
板上に遮光層及び各色画素を、選択露光を伴うフォトリ
ソグラフィーにより順次形成していくことにより作製さ
れる。この際、同時にダミー遮光層及び各色のダミー画
素を、透明基板上のカラーフィルター形成領域の外側に
形成する。例えば、図１に示すように、透明基板６上に
４個のカラーフィルター７を形成する場合、これらのカ
ラーフィルター７を形成する領域の外側、例えば図１中
の参照番号８で示されるダミー形成領域にダミー遮光層
及び各色のダミー画素を形成する。ダミー形成領域は、
透明基板上の少なくとも１箇所でよいが、透明基板と露
光マスクの温度差等によるずれを正確に測定するために
は、透明基板上の離れた位置に合計２箇所以上設けるこ
とが好ましい。例えば図１に示すように透明基板６の１
本の対角線の両端近傍の合計２箇所をダミー形成領域８
とすることが好ましい。
ィルター自体は上記した周知の方法、すなわち、透明基
板上に遮光層及び各色画素を、選択露光を伴うフォトリ
ソグラフィーにより順次形成していくことにより作製さ
れる。この際、同時にダミー遮光層及び各色のダミー画
素を、透明基板上のカラーフィルター形成領域の外側に
形成する。例えば、図１に示すように、透明基板６上に
４個のカラーフィルター７を形成する場合、これらのカ
ラーフィルター７を形成する領域の外側、例えば図１中
の参照番号８で示されるダミー形成領域にダミー遮光層
及び各色のダミー画素を形成する。ダミー形成領域は、
透明基板上の少なくとも１箇所でよいが、透明基板と露
光マスクの温度差等によるずれを正確に測定するために
は、透明基板上の離れた位置に合計２箇所以上設けるこ
とが好ましい。例えば図１に示すように透明基板６の１
本の対角線の両端近傍の合計２箇所をダミー形成領域８
とすることが好ましい。
【００１０】ダミー形成領域には、ダミー遮光層と各色
のダミー画素とが、互いに接触しないように形成され
る。ダミー遮光層は、カラーフィルターの遮光層を形成
する際に、カラーフィルターの遮光層と同じ方法により
同時に形成される。すなわち、ダミー形成領域に遮光層
材料を塗布し、露光マスクの周縁部にダミー遮光層用の
パターンを形成しておき、このダミー遮光層用パターン
を介して選択露光することによりダミー遮光層を形成す
る。同様に、各色のダミー画素も、カラーフィルターの
各着色画素を形成する際に、各着色画素と同じ方法によ
り同時に形成する。従って、カラーフィルターの赤色画
素作製工程において赤色ダミー画素が形成され、カラー
フィルターの緑色画素作製工程において緑色ダミー画素
が形成され、カラーフィルターの青色画素作製工程にお
いて青色ダミー画素が形成される。
のダミー画素とが、互いに接触しないように形成され
る。ダミー遮光層は、カラーフィルターの遮光層を形成
する際に、カラーフィルターの遮光層と同じ方法により
同時に形成される。すなわち、ダミー形成領域に遮光層
材料を塗布し、露光マスクの周縁部にダミー遮光層用の
パターンを形成しておき、このダミー遮光層用パターン
を介して選択露光することによりダミー遮光層を形成す
る。同様に、各色のダミー画素も、カラーフィルターの
各着色画素を形成する際に、各着色画素と同じ方法によ
り同時に形成する。従って、カラーフィルターの赤色画
素作製工程において赤色ダミー画素が形成され、カラー
フィルターの緑色画素作製工程において緑色ダミー画素
が形成され、カラーフィルターの青色画素作製工程にお
いて青色ダミー画素が形成される。
【００１１】ダミー遮光層と各色ダミー画素の形状及び
配置は、特に限定されるものではなく、互いに接触しな
いように形成されていればよい。もっとも、ダミー遮光
層と各色ダミー画素の平面形状（すなわち、透明基板の
上から見た形状。後述のようにダミー遮光層が枠状の場
合には、枠の外縁形状）は、その平面形状の重心が幾何
学的に計算できる形状を有していることが好ましい。な
ぜなら、このような形状をしていると、後で説明するよ
うに、透過光を用いてカメラで捉えられる画像から、そ
の画像の重心を単純な２値化による重心計算によって求
めることができるので、露光位置ずれを容易に測定する
ことができるからである。平面形状の重心が幾何学的に
計算できる形状の好ましい例として、正方形、長方形、
菱形、平行四辺形、正多角形（好ましくは角の数が６以
下）、円、楕円等を挙げることができる。これらのう
ち、回転方向のずれも測定でき、さらに位置ずれの計算
や露光マスクの作製も容易な正方形及び長方形が特に好
ましい。また、ダミー遮光層を枠状にし、各ダミー画素
をこの枠の内側に１個形成するようにすると、正確な位
置ずれの測定がより容易になるので好ましい。特に、ダ
ミー遮光層の外縁形状と、枠状のダミー遮光層の内側に
形成されるダミー画素の形状が相似形であり、両者の重
心が同一点にあると、正確な位置ずれの測定がより容易
になるので好ましい。なお、ダミー画素は、各ダミー形
成領域内において、少なくとも１つのダミー遮光層と、
少なくともそれぞれ１つの各色のダミー画素があればよ
いが、ダミー遮光層と各色ダミー画素の組合せを複数、
好ましくは２〜４組程度とすることにより測定の正確性
をさらに向上させることができる。
配置は、特に限定されるものではなく、互いに接触しな
いように形成されていればよい。もっとも、ダミー遮光
層と各色ダミー画素の平面形状（すなわち、透明基板の
上から見た形状。後述のようにダミー遮光層が枠状の場
合には、枠の外縁形状）は、その平面形状の重心が幾何
学的に計算できる形状を有していることが好ましい。な
ぜなら、このような形状をしていると、後で説明するよ
うに、透過光を用いてカメラで捉えられる画像から、そ
の画像の重心を単純な２値化による重心計算によって求
めることができるので、露光位置ずれを容易に測定する
ことができるからである。平面形状の重心が幾何学的に
計算できる形状の好ましい例として、正方形、長方形、
菱形、平行四辺形、正多角形（好ましくは角の数が６以
下）、円、楕円等を挙げることができる。これらのう
ち、回転方向のずれも測定でき、さらに位置ずれの計算
や露光マスクの作製も容易な正方形及び長方形が特に好
ましい。また、ダミー遮光層を枠状にし、各ダミー画素
をこの枠の内側に１個形成するようにすると、正確な位
置ずれの測定がより容易になるので好ましい。特に、ダ
ミー遮光層の外縁形状と、枠状のダミー遮光層の内側に
形成されるダミー画素の形状が相似形であり、両者の重
心が同一点にあると、正確な位置ずれの測定がより容易
になるので好ましい。なお、ダミー画素は、各ダミー形
成領域内において、少なくとも１つのダミー遮光層と、
少なくともそれぞれ１つの各色のダミー画素があればよ
いが、ダミー遮光層と各色ダミー画素の組合せを複数、
好ましくは２〜４組程度とすることにより測定の正確性
をさらに向上させることができる。
【００１２】ダミー遮光層を正方形の枠状とし、その内
側に形成される各色のダミー画素も正方形とし、それら
の重心が同一点にくるように配置した、特に好ましい態
様が図２に示されている。図２に示すように、ダミー遮
光層９は、正方形の枠状をしており、これが複数（図示
の例では１５個）形成されている。それぞれの枠内に
は、正方形の各色のダミー画素１０が、１個の枠内に１
個ずつ配置されている。位置ずれがゼロの場合、ダミー
遮光層９の重心と、そのダミー遮光層９内に形成される
ダミー画素１０の重心は同一点になるように配置されて
いる。
側に形成される各色のダミー画素も正方形とし、それら
の重心が同一点にくるように配置した、特に好ましい態
様が図２に示されている。図２に示すように、ダミー遮
光層９は、正方形の枠状をしており、これが複数（図示
の例では１５個）形成されている。それぞれの枠内に
は、正方形の各色のダミー画素１０が、１個の枠内に１
個ずつ配置されている。位置ずれがゼロの場合、ダミー
遮光層９の重心と、そのダミー遮光層９内に形成される
ダミー画素１０の重心は同一点になるように配置されて
いる。
【００１３】なお、ダミー遮光層及びダミー画素の大き
さは、特に限定されないが、ダミー画素を設けるピッチ
は、カラーフィルターに設けられる各着色画素のピッチ
と等しいことが好ましい。このようにすると、各色兼用
の露光マスクを用いてダミー画素を形成することができ
る。すなわち、カラーフィルター作製のために用いる露
光マスクは、露光マスクの数を減らすために各色で同一
の露光マスクを兼用し、露光マスクの位置をずらして露
光することにより各色の画素を形成することが多い。こ
のような場合、ダミー画素形成用の透孔も各色兼用とす
ることになるが、そうすると、ダミー画素のピッチ（露
光マスクをずらす方向のピッチ）は、カラーフィルター
の着色画素のピッチと等しくなる。従って、各色のダミ
ー画素のピッチは、通常、６０〜１１０μｍ程度、画素
幅は、通常、１０〜４０μｍ程度である。ダミー遮光層
の大きさは、各画素との接触が確実に避けられる程度に
適宜設定することができる。また、ダミー遮光層が枠状
の場合、枠の太さは、特に限定されないが、通常、１０
〜２０μｍ程度が好ましい。
さは、特に限定されないが、ダミー画素を設けるピッチ
は、カラーフィルターに設けられる各着色画素のピッチ
と等しいことが好ましい。このようにすると、各色兼用
の露光マスクを用いてダミー画素を形成することができ
る。すなわち、カラーフィルター作製のために用いる露
光マスクは、露光マスクの数を減らすために各色で同一
の露光マスクを兼用し、露光マスクの位置をずらして露
光することにより各色の画素を形成することが多い。こ
のような場合、ダミー画素形成用の透孔も各色兼用とす
ることになるが、そうすると、ダミー画素のピッチ（露
光マスクをずらす方向のピッチ）は、カラーフィルター
の着色画素のピッチと等しくなる。従って、各色のダミ
ー画素のピッチは、通常、６０〜１１０μｍ程度、画素
幅は、通常、１０〜４０μｍ程度である。ダミー遮光層
の大きさは、各画素との接触が確実に避けられる程度に
適宜設定することができる。また、ダミー遮光層が枠状
の場合、枠の太さは、特に限定されないが、通常、１０
〜２０μｍ程度が好ましい。
【００１４】位置ずれの測定にあたっては、図３に示す
ように、各ダミー形成領域８に照明１２から透過光を当
て、透明基板６を通過した透過像をＣＣＤカメラ１１で
撮像する。そして、ダミー遮光層とダミー画素との相対
的な位置関係から、位置ずれを測定する。例えば、図２
に示す形状及び配置のダミー遮光層及びダミー画素を形
成した場合、上記の通り、ダミー遮光層の重心とダミー
画素の重心とが位置ずれゼロの場合には一致しているの
で、撮影された像に基づき、コンピューターを用いた単
純な２値化による重心計算によってをダミー遮光層の重
心とダミー画素の重心とを求めることにより、ダミー画
素のＸ方向のずれとＹ方向のずれを、容易に測定するこ
とができる。さらに、図２に示すように、ダミー遮光層
とダミー画素の形状を正方形のような多角形とした場合
には、Ｘ方向のずれとＹ方向のずれに加え、さらに回転
方向のずれをも測定することが可能である。なお、コン
ピューターを用いた単純な２値化による重心計算は、周
知の画像処理法により容易に行うことができる。
ように、各ダミー形成領域８に照明１２から透過光を当
て、透明基板６を通過した透過像をＣＣＤカメラ１１で
撮像する。そして、ダミー遮光層とダミー画素との相対
的な位置関係から、位置ずれを測定する。例えば、図２
に示す形状及び配置のダミー遮光層及びダミー画素を形
成した場合、上記の通り、ダミー遮光層の重心とダミー
画素の重心とが位置ずれゼロの場合には一致しているの
で、撮影された像に基づき、コンピューターを用いた単
純な２値化による重心計算によってをダミー遮光層の重
心とダミー画素の重心とを求めることにより、ダミー画
素のＸ方向のずれとＹ方向のずれを、容易に測定するこ
とができる。さらに、図２に示すように、ダミー遮光層
とダミー画素の形状を正方形のような多角形とした場合
には、Ｘ方向のずれとＹ方向のずれに加え、さらに回転
方向のずれをも測定することが可能である。なお、コン
ピューターを用いた単純な２値化による重心計算は、周
知の画像処理法により容易に行うことができる。
【００１５】カラーのＣＣＤカメラを用いた場合、Ｒ、
Ｇ、Ｂを判別し、各色毎にダミー遮光層とダミー画素の
相対位置を測定することができる。これにより、例えば
１／５インチＶＧＡ仕様ＣＣＤ、８倍対物レンズを用い
た場合、オートフォーカス機能なしで、実用被写界深度
±0.2 mm、分解能0.5μｍを得ることができる。また、
より解像度の高いモノクロＣＣＤカメラを用いる場合
は、照明１２にＲ、Ｇ、Ｂ切り替え機能を設けて透過光
を順次Ｒ、Ｇ、Ｂに切り換え、透過率の違いにより各色
を判別することができる。
Ｇ、Ｂを判別し、各色毎にダミー遮光層とダミー画素の
相対位置を測定することができる。これにより、例えば
１／５インチＶＧＡ仕様ＣＣＤ、８倍対物レンズを用い
た場合、オートフォーカス機能なしで、実用被写界深度
±0.2 mm、分解能0.5μｍを得ることができる。また、
より解像度の高いモノクロＣＣＤカメラを用いる場合
は、照明１２にＲ、Ｇ、Ｂ切り替え機能を設けて透過光
を順次Ｒ、Ｇ、Ｂに切り換え、透過率の違いにより各色
を判別することができる。
【００１６】測定されたずれの値を露光機にフィードバ
ックすることにより、位置ずれが補正され、露光マスク
と透明基板との正しい位置関係で露光が行われる。
ックすることにより、位置ずれが補正され、露光マスク
と透明基板との正しい位置関係で露光が行われる。
【００１７】
【発明の効果】本発明によれば、カラーフィルター製造
時の露光位置のずれを、製造工程中にインラインで容
易、簡便、正確に検査することができる。本発明によれ
ば、抜き取り検査ではなく、容易に全ての製品について
検査を行うことができるので、不良品が混入する虞がな
く全体として製品の信頼性が高まり、また、位置ずれが
生じ始めた時に露光位置を正しく補正することが可能に
なるので、位置ずれに起因する不良品がほとんど全く発
生せず、製品歩留まりが向上する。
時の露光位置のずれを、製造工程中にインラインで容
易、簡便、正確に検査することができる。本発明によれ
ば、抜き取り検査ではなく、容易に全ての製品について
検査を行うことができるので、不良品が混入する虞がな
く全体として製品の信頼性が高まり、また、位置ずれが
生じ始めた時に露光位置を正しく補正することが可能に
なるので、位置ずれに起因する不良品がほとんど全く発
生せず、製品歩留まりが向上する。
【図１】本発明の一実施例として、ダミー画素を付加し
たカラーフィルターを模式的に示す平面（上面）図であ
る。
たカラーフィルターを模式的に示す平面（上面）図であ
る。
【図２】ダミー遮光層及びダミー画素の好ましい形状及
び配置の例を示す図である。
び配置の例を示す図である。
【図３】本発明の方法において、透過光を用いてダミー
形成領域を撮像する方法を説明する図である。
形成領域を撮像する方法を説明する図である。
【図４】本発明の好ましい一実施例において、ダミー遮
光層とダミー画素の位置ずれを測定する説明図である。
光層とダミー画素の位置ずれを測定する説明図である。
【図５】一般的なカラーフィルターの構造を示す断面図
である。
である。
１ 透明基板 ２ 遮光層 ３ 画素 ４ 保護層 ５ ITO透明電極 ６ 透明基板 ７ カラーフィルター ８ ダミー形成領域 ９ ダミー遮光層 １０ ダミー画素 １１ ＣＣＤカメラ １２ 照明
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 倉山 恭一 滋賀県大津市園山１丁目１番１号東レ株式 会社滋賀事業場内 Ｆターム(参考） 2H048 BA43 BB01 BB07 BB12 BB42
Claims (8)
- 【請求項１】 透明基板上に、選択露光により遮光層、
赤色着色画素、緑色着色画素及び青色着色画素を形成す
ることを含むカラーフィルターの製造方法において、遮
光層を露光形成する際にカラーフィルター形成領域の外
側にダミー遮光層を同時に露光形成し、赤色、緑色及び
青色の各着色画素を露光形成する際にカラーフィルター
形成領域の外側に各色のダミー画素を、前記ダミー遮光
層とは接触しないように露光形成し、上記ダミー遮光層
と上記ダミー画素との相対位置を透過光を用いて測定す
ることにより、遮光層と各着色画素のずれ量を測定する
ことを含む、カラーフィルター製造時の露光位置ずれの
測定方法。 - 【請求項２】 前記ダミー遮光層及び前記各色のダミー
画素は、その平面形状の重心が幾何学的に計算できる形
状を有する請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 前記ダミー遮光層は枠状の平面形状をし
ており、前記各色のダミー画素は、枠状の各ダミー遮光
層の内側に１個形成される請求項２記載の方法。 - 【請求項４】 前記枠状のダミー遮光層の外縁形状と、
その内側に設けられる前記ダミー画素とが相似形であ
り、両者の重心が同一点にある請求項２記載の方法。 - 【請求項５】 前記ダミー遮光層及び前記ダミー画素の
平面形状が正方形又は長方形である請求項２ないし４の
いずれか１項に記載の方法。 - 【請求項６】 前記各色のダミー画素のピッチは、カラ
ーフィルター内に設けられる各着色画素のピッチと等し
い請求項１ないし５のいずれか１項に記載の方法。 - 【請求項７】 前記ダミー遮光層と、前記各着色ダミー
画素のセットを、前記透明基板の異なる位置に少なくと
も２箇所設ける請求項１ないし６のいずれか１項に記載
の方法。 - 【請求項８】 請求項１ないし７のいずれか１項に記載
された、前記ダミー遮光層及び前記各着色ダミー画素を
カラーフィルター形成領域の外側に有する、カラーフィ
ルターが形成された透明基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000289642A JP2002098823A (ja) | 2000-09-22 | 2000-09-22 | カラーフィルター製造時の露光位置ずれの測定方法及びカラーフィルター |
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| JP2002098823A true JP2002098823A (ja) | 2002-04-05 |
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ID=18773003
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| JP2000289642A Pending JP2002098823A (ja) | 2000-09-22 | 2000-09-22 | カラーフィルター製造時の露光位置ずれの測定方法及びカラーフィルター |
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