JPH0850202A - アライメントマーク付きカラーフィルター - Google Patents
アライメントマーク付きカラーフィルターInfo
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- JPH0850202A JPH0850202A JP20301094A JP20301094A JPH0850202A JP H0850202 A JPH0850202 A JP H0850202A JP 20301094 A JP20301094 A JP 20301094A JP 20301094 A JP20301094 A JP 20301094A JP H0850202 A JPH0850202 A JP H0850202A
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- color filter
- alignment mark
- alignment
- substrate
- color
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 遮光層とR,G,Bの各着色画素のパターン
を順次形成する際に用いる位置合わせ用のアライメント
マークとして、カラーフィルター基板の搬送向き、表裏
等の誤りを容易にチェックできるアライメントマークを
付したカラーフィルターを提供する。 【構成】 カラーフィルター基板10又はパターン部分
11の中心線であって基板の進行方向とのなす角度が略
90度である中心線αから進行方向の前又は後側にずら
した位置でパターン部分11の周囲にアライメントマー
ク領域を配置し、各アライメントマーク領域を3分割し
てその第1の領域12a、第2の領域12b、第3の領
域12cそれぞれ遮光層と同じ材料からなるアライメン
トマークを配置する。これに対応するアライメントマー
クを配置したマスク基板を使用することにより、アライ
メントマークのずれをチェックしてカラーフィルター基
板10の設定不良を認識できる。
を順次形成する際に用いる位置合わせ用のアライメント
マークとして、カラーフィルター基板の搬送向き、表裏
等の誤りを容易にチェックできるアライメントマークを
付したカラーフィルターを提供する。 【構成】 カラーフィルター基板10又はパターン部分
11の中心線であって基板の進行方向とのなす角度が略
90度である中心線αから進行方向の前又は後側にずら
した位置でパターン部分11の周囲にアライメントマー
ク領域を配置し、各アライメントマーク領域を3分割し
てその第1の領域12a、第2の領域12b、第3の領
域12cそれぞれ遮光層と同じ材料からなるアライメン
トマークを配置する。これに対応するアライメントマー
クを配置したマスク基板を使用することにより、アライ
メントマークのずれをチェックしてカラーフィルター基
板10の設定不良を認識できる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶ディスプレイ用の
カラーフィルターに係り、詳しくは遮光層のパターンと
レッド(R)、グリーン(G)、ブルー(B)の各着色
画素のパターンとを形成する工程において各着色画素パ
ターンを順次形成する際に用いられる位置合わせ用のア
ライメントマークを付してなるカラーフィルターに関す
るものである。
カラーフィルターに係り、詳しくは遮光層のパターンと
レッド(R)、グリーン(G)、ブルー(B)の各着色
画素のパターンとを形成する工程において各着色画素パ
ターンを順次形成する際に用いられる位置合わせ用のア
ライメントマークを付してなるカラーフィルターに関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】液晶ディスプレイに使用されている一般
的なカラーフィルターの構造は図1の断面図に示すよう
であり、このカラーフィルターは、ガラス、プラスチッ
ク等の基板1の上にクロム等の薄膜で遮光層2のパター
ンを形成した後、その上に複数色(R,G,B)の微細
な着色画素3のパターンを順次繰り返し形成し、さらに
その上に保護膜4を設けるとともに、透明電極5として
ITOを成膜することにより作製されている。そして、
このカラーフィルターにおける着色画素3を形成する方
法としては、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法、転
写法等があるが、いずれの方法においても遮光層2の形
成された基板1上に各着色画素3を順次形成する工程で
パターン同士の位置合わせが必要である。そして、この
位置合わせを効果的に行う手段して、半導体の分野では
あるが、例えば特開昭61−61419号公報、特開昭
56−109350号公報に従来技術が開示されてい
る。
的なカラーフィルターの構造は図1の断面図に示すよう
であり、このカラーフィルターは、ガラス、プラスチッ
ク等の基板1の上にクロム等の薄膜で遮光層2のパター
ンを形成した後、その上に複数色(R,G,B)の微細
な着色画素3のパターンを順次繰り返し形成し、さらに
その上に保護膜4を設けるとともに、透明電極5として
ITOを成膜することにより作製されている。そして、
このカラーフィルターにおける着色画素3を形成する方
法としては、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法、転
写法等があるが、いずれの方法においても遮光層2の形
成された基板1上に各着色画素3を順次形成する工程で
パターン同士の位置合わせが必要である。そして、この
位置合わせを効果的に行う手段して、半導体の分野では
あるが、例えば特開昭61−61419号公報、特開昭
56−109350号公報に従来技術が開示されてい
る。
【0003】このうち前者は、第1及び第2の合わせマ
ークを、矩形の4つの頂部を削除した十字形形状のもの
とその外周を囲む大きさの矩形枠状のものとの組み合わ
せとし、パターン合わせ作業性を向上させるようにした
ものである。また、後者では、複数の同一ターゲットよ
りなるパターン群が2組相互に対称にウェーハ上に形成
されてマスク合わせに利用されている。
ークを、矩形の4つの頂部を削除した十字形形状のもの
とその外周を囲む大きさの矩形枠状のものとの組み合わ
せとし、パターン合わせ作業性を向上させるようにした
ものである。また、後者では、複数の同一ターゲットよ
りなるパターン群が2組相互に対称にウェーハ上に形成
されてマスク合わせに利用されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来の技術で述べた位
置合わせ方法は、半導体装置の製造工程においては有効
ではあるが、これを液晶ディスプレイ用のカラーフィル
ターにおける遮光層のパターンと各着色画素のパターン
とを順次形成する工程でのパターン合わせに利用しよう
とすると次のような問題点が発生する。
置合わせ方法は、半導体装置の製造工程においては有効
ではあるが、これを液晶ディスプレイ用のカラーフィル
ターにおける遮光層のパターンと各着色画素のパターン
とを順次形成する工程でのパターン合わせに利用しよう
とすると次のような問題点が発生する。
【0005】すなわち、前者の方法を利用すると、第1
のマークを遮光層と同時にカラーフィルター基板上に形
成し、当該マークに対して露光用マスク側に形成した各
色用の第2のマークでパターン合わせをする時に、R,
G,Bとも類似したパターンとなるために、形成する色
を間違えてしまう可能性がある。さらにカラーフィルタ
ー基板の向きを逆にセットした場合は、図2〜5に示す
種々のカラーフィルターのパターン配置から分かるよう
に、逆向きになっていることを単にカラーフィルター基
板だけからは判定できない。もちろん、検査工程を経て
も見間違えてしまう危険性がある。これはマスク基板を
逆にセットした場合も同様である。
のマークを遮光層と同時にカラーフィルター基板上に形
成し、当該マークに対して露光用マスク側に形成した各
色用の第2のマークでパターン合わせをする時に、R,
G,Bとも類似したパターンとなるために、形成する色
を間違えてしまう可能性がある。さらにカラーフィルタ
ー基板の向きを逆にセットした場合は、図2〜5に示す
種々のカラーフィルターのパターン配置から分かるよう
に、逆向きになっていることを単にカラーフィルター基
板だけからは判定できない。もちろん、検査工程を経て
も見間違えてしまう危険性がある。これはマスク基板を
逆にセットした場合も同様である。
【0006】また、後者の方法を利用すると、ターゲッ
トパターンを遮光層と同時にカラーフィルター基板上に
形成し、当該マークに対して露光用マスク側に形成した
各色用の合わせマークでパターン合わせをすることにな
るため、露光用マスクを各色兼用として使用する場合に
は、当該マスク上に各色に対応したマークを一緒に形成
する必要がある。つまり、一緒にすると露光用マスク上
に形成する矩形状のマークが1色ごとに左右合わせて1
6個となり、3色では48個のマークが必要となる。こ
れでは繁雑なパターン合わせとなり、間違いを誘う実用
的でない構成になってしまう。
トパターンを遮光層と同時にカラーフィルター基板上に
形成し、当該マークに対して露光用マスク側に形成した
各色用の合わせマークでパターン合わせをすることにな
るため、露光用マスクを各色兼用として使用する場合に
は、当該マスク上に各色に対応したマークを一緒に形成
する必要がある。つまり、一緒にすると露光用マスク上
に形成する矩形状のマークが1色ごとに左右合わせて1
6個となり、3色では48個のマークが必要となる。こ
れでは繁雑なパターン合わせとなり、間違いを誘う実用
的でない構成になってしまう。
【0007】ここで、カラーフィルター基板の向きを逆
にセットした場合、最初の1枚目のみはアライメントマ
ークを目視確認して位置合わせを行うために、カラーフ
ィルター基板の搬送向きのチェックはできる。しかしな
がら、カラーフィルター基板はカラーフィルターの製造
装置のフィーダに複数枚セットされており、2枚目以降
は1枚目の位置合わせに従って順次処理されていき、目
視確認による位置合わせは行われないことから、誤って
搬送向きを逆にしたカラーフィルター基板がフィーダの
中に含まれていると、アライメントマークが小さいこと
もあり、単にカラーフィルター基板からでは判定できな
いという問題点が考えられる。特に、カラーフィルター
の製造中には目視にてカラーフィルター基板の搬送向き
を見ても判定はできない。もちろん検査工程を経ても見
間違えてしまう危険性がある。これは両者の方法に共通
の問題点と考えてよい。
にセットした場合、最初の1枚目のみはアライメントマ
ークを目視確認して位置合わせを行うために、カラーフ
ィルター基板の搬送向きのチェックはできる。しかしな
がら、カラーフィルター基板はカラーフィルターの製造
装置のフィーダに複数枚セットされており、2枚目以降
は1枚目の位置合わせに従って順次処理されていき、目
視確認による位置合わせは行われないことから、誤って
搬送向きを逆にしたカラーフィルター基板がフィーダの
中に含まれていると、アライメントマークが小さいこと
もあり、単にカラーフィルター基板からでは判定できな
いという問題点が考えられる。特に、カラーフィルター
の製造中には目視にてカラーフィルター基板の搬送向き
を見ても判定はできない。もちろん検査工程を経ても見
間違えてしまう危険性がある。これは両者の方法に共通
の問題点と考えてよい。
【0008】また、両者の共通の問題点として、カラー
フィルター基板を裏返しにセットした場合は、カラーフ
ィルター基板はウェーハと異なり透明であるため、単に
カラーフィルター基板だけからでは判定できない。もち
ろん、検査工程を経ても見間違えてしまう危険性があ
る。マスク基板を裏返しにセットした場合についても同
様のことが言える。
フィルター基板を裏返しにセットした場合は、カラーフ
ィルター基板はウェーハと異なり透明であるため、単に
カラーフィルター基板だけからでは判定できない。もち
ろん、検査工程を経ても見間違えてしまう危険性があ
る。マスク基板を裏返しにセットした場合についても同
様のことが言える。
【0009】一方、カラーフィルター製造時におけるカ
ラーフィルター基板の搬送向きを示す工夫として、カラ
ーフィルター基板の角を切り取った形状にすることが従
来行われているが、この方法では精密に加工仕上げされ
たガラス基板の表面に切削クズが付着する可能性があ
り、また当然のことながらガラス基板の角を切り取るた
めの工程を増やす必要があって好ましくない。
ラーフィルター基板の搬送向きを示す工夫として、カラ
ーフィルター基板の角を切り取った形状にすることが従
来行われているが、この方法では精密に加工仕上げされ
たガラス基板の表面に切削クズが付着する可能性があ
り、また当然のことながらガラス基板の角を切り取るた
めの工程を増やす必要があって好ましくない。
【0010】本発明は、上記のような問題点に鑑みてな
されたものであり、その目的とするところは、カラーフ
ィルター基板に遮光層とR,G,Bの各着色画素のパタ
ーンを順次形成する際に用いる位置合わせ用のアライメ
ントマークとして、カラーフィルター基板の搬送向き、
表裏等の誤りを容易にチェックできるアライメントマー
クを付したカラーフィルターを提供することにある。
されたものであり、その目的とするところは、カラーフ
ィルター基板に遮光層とR,G,Bの各着色画素のパタ
ーンを順次形成する際に用いる位置合わせ用のアライメ
ントマークとして、カラーフィルター基板の搬送向き、
表裏等の誤りを容易にチェックできるアライメントマー
クを付したカラーフィルターを提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明は、各着色画素のパターンを重ね合わせる
時に用いる位置合わせ用のアライメントマークが遮光層
の形成時に付されたカラーフィルターにおいて、カラー
フィルター基板又はパターン部分の中心線であって基板
の進行方向とのなす角度が略90度である中心線から進
行方向の前又は後側にずらした位置でパターン部分の周
囲にアライメントマーク領域を配置し、各アライメント
マーク領域を3分割してその第1の領域、第2の領域、
第3の領域にそれぞれ遮光層と同じ材料からなるアライ
メントマークを配置したことを特徴とする。
めに、本発明は、各着色画素のパターンを重ね合わせる
時に用いる位置合わせ用のアライメントマークが遮光層
の形成時に付されたカラーフィルターにおいて、カラー
フィルター基板又はパターン部分の中心線であって基板
の進行方向とのなす角度が略90度である中心線から進
行方向の前又は後側にずらした位置でパターン部分の周
囲にアライメントマーク領域を配置し、各アライメント
マーク領域を3分割してその第1の領域、第2の領域、
第3の領域にそれぞれ遮光層と同じ材料からなるアライ
メントマークを配置したことを特徴とする。
【0012】そして、具体的には、第1〜3の領域がそ
れぞれ長方形となるようにアライメントマーク領域を分
割し、第1の領域の下部、第2の領域の中央、第3の領
域の上部にアライメントマークをそれぞれ配置するもの
である。さらに好ましくは、第1の領域の下部にレッド
用のアライメントマークを、第2の領域の中央にグリー
ン用のアライメントマークを、第3の領域の上部にブル
ー用のアライメントマークをそれぞれ配置する。また、
アライメントマークを「十」状とするのが望ましく、目
視によるチェックを容易とするためには各アライメント
マークの近傍に各色を識別する記号、例えば各色の頭文
字を形成しておくことが望ましい。
れぞれ長方形となるようにアライメントマーク領域を分
割し、第1の領域の下部、第2の領域の中央、第3の領
域の上部にアライメントマークをそれぞれ配置するもの
である。さらに好ましくは、第1の領域の下部にレッド
用のアライメントマークを、第2の領域の中央にグリー
ン用のアライメントマークを、第3の領域の上部にブル
ー用のアライメントマークをそれぞれ配置する。また、
アライメントマークを「十」状とするのが望ましく、目
視によるチェックを容易とするためには各アライメント
マークの近傍に各色を識別する記号、例えば各色の頭文
字を形成しておくことが望ましい。
【0013】
【作用】上述の構成からなるカラーフィルターでは、ア
ライメントマーク領域が中心線からずれた位置にあるこ
とにより、カラーフィルター基板が逆向きで搬送された
場合に、カラーフィルター基板とマスク基板のアライメ
ントマーク領域が重ならず、基板の設定不良が認識され
る。また、アライメントマーク領域における第1〜3の
領域にアライメントマークを付すことにより、カラーフ
ィルター基板が裏返しで搬送された場合に、アライメン
トマークの一部が重ならず、基板の設定不良が認識され
る。
ライメントマーク領域が中心線からずれた位置にあるこ
とにより、カラーフィルター基板が逆向きで搬送された
場合に、カラーフィルター基板とマスク基板のアライメ
ントマーク領域が重ならず、基板の設定不良が認識され
る。また、アライメントマーク領域における第1〜3の
領域にアライメントマークを付すことにより、カラーフ
ィルター基板が裏返しで搬送された場合に、アライメン
トマークの一部が重ならず、基板の設定不良が認識され
る。
【0014】
【実施例】以下、本発明の実施例につて図面を参照して
説明する。
説明する。
【0015】まず、本発明に係るアライメントマーク付
きカラーフィルターのイメージを示す上面図を図6に示
す。
きカラーフィルターのイメージを示す上面図を図6に示
す。
【0016】カラーフィルター基板10は上面から見て
長方形で、この基板10上の中央に遮光層とR,G,B
の各着色画素とで構成されるパターン部分11を中央に
設けて1面付けとしている。パターン部分11における
各着色画素のパターンは、前記した如く図2〜5に示す
ような種々の配置のものがある。このパターン部分11
は、はじめに遮光層のパターン形成工程を経て、レッド
の着色画素パターンの形成工程、グリーンの着色画素パ
ターンの形成工程、ブルーの着色画素パターンの形成工
程で形成されていく。そして、このパターン形成工程の
位置合わせに利用するアライメントマーク領域12を遮
光層の形成と同時にパターン部分11の周囲に設ける。
この領域12を、カラーフィルター基板10又はパター
ン部分11の中心線であって、基板の進行方向とのなす
角度が略90度である中心線αから進行方向の前又は後
側にずらして形成することによりカラーフィルター基板
10の進行方向を表示する。ここで用いるアライメント
マークとしては図7に示す3種類の形態があるが、これ
らに限定されるものではない。
長方形で、この基板10上の中央に遮光層とR,G,B
の各着色画素とで構成されるパターン部分11を中央に
設けて1面付けとしている。パターン部分11における
各着色画素のパターンは、前記した如く図2〜5に示す
ような種々の配置のものがある。このパターン部分11
は、はじめに遮光層のパターン形成工程を経て、レッド
の着色画素パターンの形成工程、グリーンの着色画素パ
ターンの形成工程、ブルーの着色画素パターンの形成工
程で形成されていく。そして、このパターン形成工程の
位置合わせに利用するアライメントマーク領域12を遮
光層の形成と同時にパターン部分11の周囲に設ける。
この領域12を、カラーフィルター基板10又はパター
ン部分11の中心線であって、基板の進行方向とのなす
角度が略90度である中心線αから進行方向の前又は後
側にずらして形成することによりカラーフィルター基板
10の進行方向を表示する。ここで用いるアライメント
マークとしては図7に示す3種類の形態があるが、これ
らに限定されるものではない。
【0017】次に、具体的なアライメントマーク付きカ
ラーフィルターの上面図を図8に示す。
ラーフィルターの上面図を図8に示す。
【0018】図8のカラーフィルター基板10は、上面
から見て大きさ350mm×300mmの長方形で厚み
は0.7mmであり、材質はガラスである。この基板1
0上の中央にパターン部分11を中央に設けて1面付け
としてあり、カラーフィルター基板10の中心線とパタ
ーン部分11の中心線(横方向)は同じになっている。
なお、各着色画素のパターンは100μm間隔である。
から見て大きさ350mm×300mmの長方形で厚み
は0.7mmであり、材質はガラスである。この基板1
0上の中央にパターン部分11を中央に設けて1面付け
としてあり、カラーフィルター基板10の中心線とパタ
ーン部分11の中心線(横方向)は同じになっている。
なお、各着色画素のパターンは100μm間隔である。
【0019】パターン部分11の両脇には遮光層と同じ
材料のアライメントマークを配置するアライメントマー
ク領域12(概ね6mm×6mm)が設けられており、
これらを縦方向に3分割して第1の領域12a,第2の
領域12b,第3の領域12c(それぞれ概ね6mm×
2mm)としている。そして、このアライメントマーク
領域12は、カラーフィルター基板10及びパターン部
分11の中心線であって、基板10の進行方向とのなす
角度が略90度である中心線αから進行方向(図の矢印
方向)の前側にずらして形成されている。そして、この
3分割した各領域12a〜12cに遮光層と同じ材料の
アライメントマークを「十」状に形成している。本実施
例では、第1の領域12aの下部にレッド用のアライメ
ントマークを、第2の領域12bの中央にグリーン用の
アライメントマークを、第3の領域12cの上部にブル
ー用のアライメントマークをそれぞれ配置し、図示の如
く各アライメントマークの並びが対称となるようにして
いる。この「十」状のマークの縦線及び横線の線幅は5
0μmで長さは1.5mmである。そして、これらのマ
ークの近傍に各アライメントマークが何色の着色画素パ
ターンの位置合わせに用いられるマークかを示すために
それぞれ「R」「G」「B」の記号を設けてある。遮光
層はブラックマトリクスと呼ばれ、主にクロムにより形
成され、前記マーク「十」もクロムにて同時に形成され
る。このクロム層の厚みは通常0.05〜0.20μm
である。
材料のアライメントマークを配置するアライメントマー
ク領域12(概ね6mm×6mm)が設けられており、
これらを縦方向に3分割して第1の領域12a,第2の
領域12b,第3の領域12c(それぞれ概ね6mm×
2mm)としている。そして、このアライメントマーク
領域12は、カラーフィルター基板10及びパターン部
分11の中心線であって、基板10の進行方向とのなす
角度が略90度である中心線αから進行方向(図の矢印
方向)の前側にずらして形成されている。そして、この
3分割した各領域12a〜12cに遮光層と同じ材料の
アライメントマークを「十」状に形成している。本実施
例では、第1の領域12aの下部にレッド用のアライメ
ントマークを、第2の領域12bの中央にグリーン用の
アライメントマークを、第3の領域12cの上部にブル
ー用のアライメントマークをそれぞれ配置し、図示の如
く各アライメントマークの並びが対称となるようにして
いる。この「十」状のマークの縦線及び横線の線幅は5
0μmで長さは1.5mmである。そして、これらのマ
ークの近傍に各アライメントマークが何色の着色画素パ
ターンの位置合わせに用いられるマークかを示すために
それぞれ「R」「G」「B」の記号を設けてある。遮光
層はブラックマトリクスと呼ばれ、主にクロムにより形
成され、前記マーク「十」もクロムにて同時に形成され
る。このクロム層の厚みは通常0.05〜0.20μm
である。
【0020】本実施例においては、アライメントマーク
領域12をパターン部分11の両脇に設けてあるが、カ
ラーフィルターのR,G,Bの各着色画素と遮光層との
位置合わせ(アライメント、見当合わせとも言う)を細
かく実施したければ、カラーフィルター基板10の周囲
に数多く設けるとよい。ただし、この場合はすべて又は
大半のアライメントマーク領域を進行方向に対して全体
的に前又は後側にシフトさせることで進行方向を表示す
ることができる。
領域12をパターン部分11の両脇に設けてあるが、カ
ラーフィルターのR,G,Bの各着色画素と遮光層との
位置合わせ(アライメント、見当合わせとも言う)を細
かく実施したければ、カラーフィルター基板10の周囲
に数多く設けるとよい。ただし、この場合はすべて又は
大半のアライメントマーク領域を進行方向に対して全体
的に前又は後側にシフトさせることで進行方向を表示す
ることができる。
【0021】また、図8ではカラーフィルターのパター
ン部分11を1面付けとしているが、図9(a)に示す
ようなカラーフィルター基板10の上下にパターン部分
11を持つ2面付け、さらに(b)に示すような4隅寄
りにパターン部分11を持つ4面付け等がある。そし
て、図9(a),(b)ではパターン部分の中心線であ
って前記基板10の進行方向とのなす角度が略90度で
ある中心線より進行方向の前又は後側にずらして形成さ
れているアライメントマーク領域12をパターン部分1
1の両脇に数多く設けてもよい。なお、カラーフィルタ
ー基板10には320mm×300mm、400mm×
300mm等があり、厚みも1.1mmのものがある。
ン部分11を1面付けとしているが、図9(a)に示す
ようなカラーフィルター基板10の上下にパターン部分
11を持つ2面付け、さらに(b)に示すような4隅寄
りにパターン部分11を持つ4面付け等がある。そし
て、図9(a),(b)ではパターン部分の中心線であ
って前記基板10の進行方向とのなす角度が略90度で
ある中心線より進行方向の前又は後側にずらして形成さ
れているアライメントマーク領域12をパターン部分1
1の両脇に数多く設けてもよい。なお、カラーフィルタ
ー基板10には320mm×300mm、400mm×
300mm等があり、厚みも1.1mmのものがある。
【0022】次に、上記カラーフィルター基板10に着
色画素のパターンを形成する工程にて使用するパターン
転写用の露光用マスク基板について説明する。図10は
この露光用マスク基板の説明図である。
色画素のパターンを形成する工程にて使用するパターン
転写用の露光用マスク基板について説明する。図10は
この露光用マスク基板の説明図である。
【0023】図10に示すようにマスク基板20にはパ
ターン部分21が上下2段に設けられており、その両脇
にアライメントマーク領域22が設けられている。そし
て、アライメントマーク領域22には、図8のカラーフ
ィルター基板10上に形成されているアライメントマー
ク「十」に対応するように「井」状のアライメントマー
クが形成されている。つまり、3分割したアライメント
マーク領域22の第1の領域22aの下部に第1色用と
してレッド用のマーク「井」を配置し、第2の領域22
bの中央に第2色用としてグリーン用のマークを配置
し、第3の領域22cの上部に第3色用としてブルー用
のマーク「井」を配置してある。このマークは線幅50
μmで、マーク中の閉ループ「□」は縦横それぞれ80
0μmに形成してある。さらに各マーク「井」の近傍に
はそれぞれの色に対応した記号「R」「G」「B」を設
けてある。これらの記号は位置合わせを行った場合にカ
ラーフィルター基板上の記号と並んで確認できるように
形成してもよいし、重なるようにしても構わない。
ターン部分21が上下2段に設けられており、その両脇
にアライメントマーク領域22が設けられている。そし
て、アライメントマーク領域22には、図8のカラーフ
ィルター基板10上に形成されているアライメントマー
ク「十」に対応するように「井」状のアライメントマー
クが形成されている。つまり、3分割したアライメント
マーク領域22の第1の領域22aの下部に第1色用と
してレッド用のマーク「井」を配置し、第2の領域22
bの中央に第2色用としてグリーン用のマークを配置
し、第3の領域22cの上部に第3色用としてブルー用
のマーク「井」を配置してある。このマークは線幅50
μmで、マーク中の閉ループ「□」は縦横それぞれ80
0μmに形成してある。さらに各マーク「井」の近傍に
はそれぞれの色に対応した記号「R」「G」「B」を設
けてある。これらの記号は位置合わせを行った場合にカ
ラーフィルター基板上の記号と並んで確認できるように
形成してもよいし、重なるようにしても構わない。
【0024】また、各マーク「井」における閉ループ
「□」の縦1辺の長さと横1辺の長さをアライメントの
許容値として設定しておくと、カラーフィルター基板1
0のマーク「十」の交差部分がこの「□」の中に存在す
るか否かで位置合わせの良否を確認することができる。
許容値は±30μm程度であるが、それ以下が好まし
い。このためには線幅をさらに細かくする必要がある。
縦と横の許容値においてカラーフィルターによっては異
なる許容値がある場合、各マーク「井」の内側の「□」
の部分は長方形になる。
「□」の縦1辺の長さと横1辺の長さをアライメントの
許容値として設定しておくと、カラーフィルター基板1
0のマーク「十」の交差部分がこの「□」の中に存在す
るか否かで位置合わせの良否を確認することができる。
許容値は±30μm程度であるが、それ以下が好まし
い。このためには線幅をさらに細かくする必要がある。
縦と横の許容値においてカラーフィルターによっては異
なる許容値がある場合、各マーク「井」の内側の「□」
の部分は長方形になる。
【0025】このように、マスク基板20におけるR,
G,Bの色のマーク「井」とそれぞれの色に対応したカ
ラーフィルター基板10のマーク「十」とが、それぞれ
3分割したアライメントマーク領域12,22の第1の
領域12a,22aの上部と第2の領域12b,22b
の中央部と第3の領域12c,22cの下部とで、重ね
合わさるように形成されるためにR,G,Bの色の抜
け、入れ替わり等の誤りを容易にチェックでき、目視検
査がしやすくなる。さらに、R,G,Bの色のマーク
「井」の近傍にはそれぞれの色に対応した記号「R」
「G」「B」を設けることにより目視確認の効率をアッ
プしている。
G,Bの色のマーク「井」とそれぞれの色に対応したカ
ラーフィルター基板10のマーク「十」とが、それぞれ
3分割したアライメントマーク領域12,22の第1の
領域12a,22aの上部と第2の領域12b,22b
の中央部と第3の領域12c,22cの下部とで、重ね
合わさるように形成されるためにR,G,Bの色の抜
け、入れ替わり等の誤りを容易にチェックでき、目視検
査がしやすくなる。さらに、R,G,Bの色のマーク
「井」の近傍にはそれぞれの色に対応した記号「R」
「G」「B」を設けることにより目視確認の効率をアッ
プしている。
【0026】なお、カラーフィルター基板10及びマス
ク基板20に用いるR,G,Bの色のマーク「井」はマ
ーク「□」でもよい。また、これらの色のマーク「井」
や「□」の近傍には、それぞれの色に対応した記号
「R」「G」「B」に代わる他の記号を利用してもよ
い。もちろん、この時の記号は目視確認のとき容易に認
識できるものであればよいのである。
ク基板20に用いるR,G,Bの色のマーク「井」はマ
ーク「□」でもよい。また、これらの色のマーク「井」
や「□」の近傍には、それぞれの色に対応した記号
「R」「G」「B」に代わる他の記号を利用してもよ
い。もちろん、この時の記号は目視確認のとき容易に認
識できるものであればよいのである。
【0027】次に、図11の工程図により本発明を使用
したカラーフィルターの製造方法について説明する。カ
ラーフィルターの製造方法には前記したように染色法、
顔料分散法、印刷法、電着法、転写法等があり、本発明
のアライメントマーク付きのカラーフィルター基板はこ
れらの製造方法のすべてに利用できるが、ここでは顔料
分散法による製造工程を例にとって説明する。
したカラーフィルターの製造方法について説明する。カ
ラーフィルターの製造方法には前記したように染色法、
顔料分散法、印刷法、電着法、転写法等があり、本発明
のアライメントマーク付きのカラーフィルター基板はこ
れらの製造方法のすべてに利用できるが、ここでは顔料
分散法による製造工程を例にとって説明する。
【0028】まず、ステップ1においてガラス基板を洗
浄する。次いで、ステップ2においてクロムを成膜した
後、ステップ3でクロム薄膜を加工して遮光層のパター
ンを形成する。この時、併せてアライメントマークを3
つ加工する。その形状は「十」であり、3分割したアラ
イメントマーク領域12の第1の領域12aの下部、第
2の領域12bの中央、第3の領域12cの上部にそれ
ぞれアライメントマークを配置する。パターン加工その
ものは通常の方法である。これにより図8に示したカラ
ーフィルター基板10においてパターン部分に遮光層の
みを形成したものが出来上がる。つまり、R,G,Bの
各着色画素3で形成されるパターンを除いた基板が出来
上がる。
浄する。次いで、ステップ2においてクロムを成膜した
後、ステップ3でクロム薄膜を加工して遮光層のパター
ンを形成する。この時、併せてアライメントマークを3
つ加工する。その形状は「十」であり、3分割したアラ
イメントマーク領域12の第1の領域12aの下部、第
2の領域12bの中央、第3の領域12cの上部にそれ
ぞれアライメントマークを配置する。パターン加工その
ものは通常の方法である。これにより図8に示したカラ
ーフィルター基板10においてパターン部分に遮光層の
みを形成したものが出来上がる。つまり、R,G,Bの
各着色画素3で形成されるパターンを除いた基板が出来
上がる。
【0029】続いて、ステップ4においてレッド(第1
色目)の着色レジストを塗布し、ステップ5においてプ
リベークして溶剤のみを蒸発させる。そして、ステップ
6において位置合わせを行った後、ステップ7において
露光する。この時、パターン部分11に第1色目の着色
パターンを露光すると同時に、パターン部分11の両脇
に設けたアライメントマーク「井」と記号「R」は露光
しないようにマスク処理する。このマスク処理を行わな
いと他の着色パターンを形成する時に、精度のよい位置
合わせができないからである。
色目)の着色レジストを塗布し、ステップ5においてプ
リベークして溶剤のみを蒸発させる。そして、ステップ
6において位置合わせを行った後、ステップ7において
露光する。この時、パターン部分11に第1色目の着色
パターンを露光すると同時に、パターン部分11の両脇
に設けたアライメントマーク「井」と記号「R」は露光
しないようにマスク処理する。このマスク処理を行わな
いと他の着色パターンを形成する時に、精度のよい位置
合わせができないからである。
【0030】ステップ6の位置合わせについて図12を
用いて説明する。前記カラーフィルター基板10に対し
て図10に示すマスク基板20をそれぞれのアライメン
トマークが重なるようにして上方に50μmの間隔を空
けて重ねる。これらの基板10,20はそれぞれ図示し
ない保持具により支持されている。アライメントマーク
を監視できるように約25万画素のエリアセンサを持つ
CCDカメラ6と2つの光源7,7をアライメントマー
ク領域12,22の上方に設置してある。まずはじめ
に、カメラ6はアライメントマーク領域12,22であ
る6mm×6mmの面積(1画素あたり144μm×1
44μmの面積)を撮影することで概ねの位置合わせを
行う。つまり3組分の「十」と「井」のアライメントマ
ークが重なるように各基板10,20の保持具を移動調
整して両者のアライメントマーク領域12,22を重ね
る。次に、カメラは1組の「十」と「井」のアライメン
トマークを撮影することで1画素あたり5μm×5μm
の面積を撮影し、保持具を移動調整して精密な位置合わ
せを行う。さらに高解像度、高精度の位置合わせを行う
場合とか線幅やマークの大きさを小さくする場合には、
前記エリアセンサの画素数が多いセンサにするか、エリ
アサンサを複数配置したCCDカメラを利用すればよ
い。もちろん画像メモリ等もこれらのデータにしたがっ
て増加する必要がある。
用いて説明する。前記カラーフィルター基板10に対し
て図10に示すマスク基板20をそれぞれのアライメン
トマークが重なるようにして上方に50μmの間隔を空
けて重ねる。これらの基板10,20はそれぞれ図示し
ない保持具により支持されている。アライメントマーク
を監視できるように約25万画素のエリアセンサを持つ
CCDカメラ6と2つの光源7,7をアライメントマー
ク領域12,22の上方に設置してある。まずはじめ
に、カメラ6はアライメントマーク領域12,22であ
る6mm×6mmの面積(1画素あたり144μm×1
44μmの面積)を撮影することで概ねの位置合わせを
行う。つまり3組分の「十」と「井」のアライメントマ
ークが重なるように各基板10,20の保持具を移動調
整して両者のアライメントマーク領域12,22を重ね
る。次に、カメラは1組の「十」と「井」のアライメン
トマークを撮影することで1画素あたり5μm×5μm
の面積を撮影し、保持具を移動調整して精密な位置合わ
せを行う。さらに高解像度、高精度の位置合わせを行う
場合とか線幅やマークの大きさを小さくする場合には、
前記エリアセンサの画素数が多いセンサにするか、エリ
アサンサを複数配置したCCDカメラを利用すればよ
い。もちろん画像メモリ等もこれらのデータにしたがっ
て増加する必要がある。
【0031】続いて、ステップ8においてこれらを現像
することで露光されていない不要な領域のパターンを除
去する。そして、ステップ9においてポストベークする
ことで露光されたパターンを固める。
することで露光されていない不要な領域のパターンを除
去する。そして、ステップ9においてポストベークする
ことで露光されたパターンを固める。
【0032】さらに、第2色目としてグリーン、第3色
目としてブルーの着色レジストを使用して上記のステッ
プ4からステップ9までを繰り返して行う。ここでは第
2色目の形成工程においてアライメントマーク領域の第
2の領域の中央に第2色目のマークを配置しており、第
3色目の形成工程においてアライメントマーク領域の第
3の領域の上部に第3色目のマークを配置している。
目としてブルーの着色レジストを使用して上記のステッ
プ4からステップ9までを繰り返して行う。ここでは第
2色目の形成工程においてアライメントマーク領域の第
2の領域の中央に第2色目のマークを配置しており、第
3色目の形成工程においてアライメントマーク領域の第
3の領域の上部に第3色目のマークを配置している。
【0033】ここで、ステップ6で行う位置合わせにつ
いて詳しく説明するが、はじめに図2〜5を用いて説明
し、次に図14を用いて説明する。
いて詳しく説明するが、はじめに図2〜5を用いて説明
し、次に図14を用いて説明する。
【0034】まず、図2〜5に示した種々のカラーフィ
ルターのパターン配置図から分かるように、図2〜4の
パターンではR,G,Bの各色は横方向に2着色画素分
ずつ且つ大きめに形成したマスク基板を用いることによ
り1枚の露光用のマスク基板を兼用で使用することがで
きる。また、図5のパターンではG用のパターンは兼用
ができないので図13に示すように別途準備する必要が
あるが、R,B用のパターンは縦及び横方向に1着色画
素分ずつ且つ大きめに形成したマスク基板を兼用すれば
よい。このように形成することで露光マスクの数を減ら
すことができる。
ルターのパターン配置図から分かるように、図2〜4の
パターンではR,G,Bの各色は横方向に2着色画素分
ずつ且つ大きめに形成したマスク基板を用いることによ
り1枚の露光用のマスク基板を兼用で使用することがで
きる。また、図5のパターンではG用のパターンは兼用
ができないので図13に示すように別途準備する必要が
あるが、R,B用のパターンは縦及び横方向に1着色画
素分ずつ且つ大きめに形成したマスク基板を兼用すれば
よい。このように形成することで露光マスクの数を減ら
すことができる。
【0035】次に、図14(a),(b)に重ねたアラ
イメントマーク領域の拡大図を示してあり、これは第2
色目のG用のアライメントマークについて位置合わせを
することの説明用の図である。図14(a)はパターン
部分11の左側アライメントマーク領域であり、(b)
は同じく右側アライメントマーク領域である。カラーフ
ィルター基板10上に形成してある「十」状のアライメ
ントマークのうち第2色目の中央にあるマークに対し
て、R,G,Bの各色兼用の露光用マスク基板20上に
形成してある「井」状のアライメントマークのうち中央
にあるマークを合わせる。ここで正常の場合、他の色の
アライメントマークは各々±1着色画素分ずつずれるこ
とになる。そして、カラーフィルター基板10の搬送向
きを逆に間違えた場合、基板の進行方向とのなす角度が
略90度であるカラーフィルター基板の中心線で逆とな
るためアライメントマーク「十」(カラーフィルター基
板)と「井」(マスク基板)は全く重ならなくなる。こ
れを非常に大きく移動して重ねたとしてもG用のアライ
メントマークだけが重なり、これを交点にしてアライメ
ントマーク領域内では「×」状にマーク群が形成され
る。この不良発生時のアライメントマーク群の「×」状
のイメージとして、図15(a)はパターン部分11の
左側アライメントマーク領域を示しており、(b)は同
じく右側アライメントマーク領域を示している。いずれ
にしてもこれらによりカラーフィルター基板10の設定
が不良であることを認識できるのである。
イメントマーク領域の拡大図を示してあり、これは第2
色目のG用のアライメントマークについて位置合わせを
することの説明用の図である。図14(a)はパターン
部分11の左側アライメントマーク領域であり、(b)
は同じく右側アライメントマーク領域である。カラーフ
ィルター基板10上に形成してある「十」状のアライメ
ントマークのうち第2色目の中央にあるマークに対し
て、R,G,Bの各色兼用の露光用マスク基板20上に
形成してある「井」状のアライメントマークのうち中央
にあるマークを合わせる。ここで正常の場合、他の色の
アライメントマークは各々±1着色画素分ずつずれるこ
とになる。そして、カラーフィルター基板10の搬送向
きを逆に間違えた場合、基板の進行方向とのなす角度が
略90度であるカラーフィルター基板の中心線で逆とな
るためアライメントマーク「十」(カラーフィルター基
板)と「井」(マスク基板)は全く重ならなくなる。こ
れを非常に大きく移動して重ねたとしてもG用のアライ
メントマークだけが重なり、これを交点にしてアライメ
ントマーク領域内では「×」状にマーク群が形成され
る。この不良発生時のアライメントマーク群の「×」状
のイメージとして、図15(a)はパターン部分11の
左側アライメントマーク領域を示しており、(b)は同
じく右側アライメントマーク領域を示している。いずれ
にしてもこれらによりカラーフィルター基板10の設定
が不良であることを認識できるのである。
【0036】カラーフィルター基板10におけるアライ
メントマークの並びを同方向とした場合について言う
と、図16(a)はパターン部分11の左側アライメン
トマーク領域であり、(b)は同じく右側アライメント
マーク領域である。カラーフィルター基板10上に形成
してある「十」状のアライメントマークのうち第2色目
の中央にあるマークに対して、R,G,Bの各色兼用の
露光用マスク基板20上に形成してある「井」状のアラ
イメントマークのうち中央にあるマークを合わせる。こ
こで正常の場合、他の色のアライメントマークは各々±
1着色画素分ずつずれることになる。そして、カラーフ
ィルター基板10を裏返しに間違えた場合、G用のアラ
イメントマーク「十」(カラーフィルター基板)と
「井」(マスク基板)だけが重なり、これを交点にして
アライメントマーク領域内では「×」状にマーク群が形
成される。この不良発生時のアライメントマーク群の
「×」状のイメージとして、図17(a)はパターン部
分の左側アライメントマーク領域であり、(b)は同じ
く右側アライメントマーク領域である。これにより基板
の設定が不良であることを認識できるのである。
メントマークの並びを同方向とした場合について言う
と、図16(a)はパターン部分11の左側アライメン
トマーク領域であり、(b)は同じく右側アライメント
マーク領域である。カラーフィルター基板10上に形成
してある「十」状のアライメントマークのうち第2色目
の中央にあるマークに対して、R,G,Bの各色兼用の
露光用マスク基板20上に形成してある「井」状のアラ
イメントマークのうち中央にあるマークを合わせる。こ
こで正常の場合、他の色のアライメントマークは各々±
1着色画素分ずつずれることになる。そして、カラーフ
ィルター基板10を裏返しに間違えた場合、G用のアラ
イメントマーク「十」(カラーフィルター基板)と
「井」(マスク基板)だけが重なり、これを交点にして
アライメントマーク領域内では「×」状にマーク群が形
成される。この不良発生時のアライメントマーク群の
「×」状のイメージとして、図17(a)はパターン部
分の左側アライメントマーク領域であり、(b)は同じ
く右側アライメントマーク領域である。これにより基板
の設定が不良であることを認識できるのである。
【0037】ここで、図14及び図16において左右の
アライメントマークのズレ量が異なる時はガラス基板が
捻れていることに原因があるため、各基板の保持具の移
動調整を行う。もちろん、第1目のR、第3色目のBに
ついても同様である。
アライメントマークのズレ量が異なる時はガラス基板が
捻れていることに原因があるため、各基板の保持具の移
動調整を行う。もちろん、第1目のR、第3色目のBに
ついても同様である。
【0038】3色目の着色を完了した後、ステップ10
において着色画素を覆うようにオーバーコート層を設け
て保護膜を形成し、次いでステップ11において透明導
電層を形成する。
において着色画素を覆うようにオーバーコート層を設け
て保護膜を形成し、次いでステップ11において透明導
電層を形成する。
【0039】なお、カラーフィルター基板10の搬送向
き間違いと表裏の設定間違いを同時に認識するため、図
18に示すように、カラーフィルター基板10上に並び
が対称なアライメントマーク群と並びが同方向のアライ
メントマーク群とを2組設けるようにしてもよい。
き間違いと表裏の設定間違いを同時に認識するため、図
18に示すように、カラーフィルター基板10上に並び
が対称なアライメントマーク群と並びが同方向のアライ
メントマーク群とを2組設けるようにしてもよい。
【0040】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
液晶ディスプレイ用のカラーフィルターにおける遮光層
のパターンとレッド、グリーン、ブルーの各着色画素の
パターンとを順次形成する工程において、各パターンの
位置合わせ用のアライメントマークの抜け、入れ替わり
等の誤りを容易にチェックでき、かつ、基板の搬送向き
誤り、表裏逆等を容易にチェックできるアライメントマ
ークを付したカラーフィルターを得ることができる。
液晶ディスプレイ用のカラーフィルターにおける遮光層
のパターンとレッド、グリーン、ブルーの各着色画素の
パターンとを順次形成する工程において、各パターンの
位置合わせ用のアライメントマークの抜け、入れ替わり
等の誤りを容易にチェックでき、かつ、基板の搬送向き
誤り、表裏逆等を容易にチェックできるアライメントマ
ークを付したカラーフィルターを得ることができる。
【図1】一般的なカラーフィルターの構造を示す断面図
である。
である。
【図2】カラーフィルターにおける各着色画素のパター
ン配置図である。
ン配置図である。
【図3】同じく別のパターン配置図である。
【図4】同じく別のパターン配置図である。
【図5】同じく別のパターン配置図である。
【図6】本発明の一実施例としてのアライメントマーク
付きカラーフィルターのイメージを示す上面図である。
付きカラーフィルターのイメージを示す上面図である。
【図7】アライメントマークの例を示す説明図である。
【図8】具体的なアライメントマーク付きカラーフィル
ターの上面図である。
ターの上面図である。
【図9】カラーフィルターの面付けの他の例を示す説明
図である。
図である。
【図10】パターン転写用の露光用マスク基板を示す説
明図である。
明図である。
【図11】カラーフィルターの製造工程を示す図であ
る。
る。
【図12】カラーフィルター基板とマスク基板の位置合
わせ方法を示す説明図である。
わせ方法を示す説明図である。
【図13】グリーン用パターンの露光用マスク基板を示
す説明図である。
す説明図である。
【図14】アライメントマークの使用説明図である。
【図15】不良発生時のアライメントマークの説明図で
ある。
ある。
【図16】アライメントマークの使用説明図である。
【図17】不良発生時のアライメントマークの説明図で
ある。
ある。
【図18】本発明に係る別のアライメントマーク付きカ
ラーフィルターを示す上面図である。
ラーフィルターを示す上面図である。
10 カラーフィルター基板 11 パターン部分 12 アライメントマーク領域 12a 第1の領域 12b 第2の領域 12c 第3の領域 α 中心線
Claims (6)
- 【請求項1】 各着色画素のパターンを重ね合わせる時
に用いる位置合わせ用のアライメントマークが遮光層の
形成時に付されたカラーフィルターにおいて、カラーフ
ィルター基板又はパターン部分の中心線であって基板の
進行方向とのなす角度が略90度である中心線から進行
方向の前又は後側にずらした位置でパターン部分の周囲
にアライメントマーク領域を配置し、各アライメントマ
ーク領域を3分割してその第1の領域、第2の領域、第
3の領域にそれぞれ遮光層と同じ材料からなるアライメ
ントマークを配置したことを特徴とするアライメントマ
ーク付きカラーフィルター。 - 【請求項2】 第1〜3の領域がそれぞれ長方形となる
ようにアライメントマーク領域を分割し、第1の領域の
下部、第2の領域の中央、第3の領域の上部にアライメ
ントマークをそれぞれ配置したことを特徴とする請求項
1記載のアライメントマーク付きカラーフィルター。 - 【請求項3】 第1の領域の下部にレッド用のアライメ
ントマークを、第2の領域の中央にグリーン用のアライ
メントマークを、第3の領域の上部にブルー用のアライ
メントマークをそれぞれ配置したことを特徴とする請求
項1又は2記載のアライメントマーク付きカラーフィル
ター。 - 【請求項4】 第1〜3の領域にそれぞれ配置するアラ
イメントマークを「十」状としたことを特徴とする請求
項1,2又は3記載のアライメントマークマーク付きカ
ラーフィルター。 - 【請求項5】 各アライメントマークの近傍に各色を識
別する記号を形成したことを特徴とする請求項1,2,
3又は4記載のアライメントマーク付きカラーフィルタ
ー。 - 【請求項6】 各色を識別する記号を各色の頭文字とし
たことを特徴とする請求項5記載のアライメントマーク
付きカラーフィルター。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20301094A JPH0850202A (ja) | 1994-08-05 | 1994-08-05 | アライメントマーク付きカラーフィルター |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20301094A JPH0850202A (ja) | 1994-08-05 | 1994-08-05 | アライメントマーク付きカラーフィルター |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004319007A Division JP3714946B2 (ja) | 2004-11-02 | 2004-11-02 | アライメントマーク付きカラーフィルター |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0850202A true JPH0850202A (ja) | 1996-02-20 |
Family
ID=16466847
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20301094A Pending JPH0850202A (ja) | 1994-08-05 | 1994-08-05 | アライメントマーク付きカラーフィルター |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0850202A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6967796B2 (en) | 1998-09-11 | 2005-11-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical element and optical system |
KR100801151B1 (ko) * | 2001-10-04 | 2008-02-05 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치용 블랙매트릭스 |
CN102681251A (zh) * | 2012-05-14 | 2012-09-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种彩色滤光片及其制作方法以及液晶面板和显示装置 |
-
1994
- 1994-08-05 JP JP20301094A patent/JPH0850202A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6967796B2 (en) | 1998-09-11 | 2005-11-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical element and optical system |
KR100801151B1 (ko) * | 2001-10-04 | 2008-02-05 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치용 블랙매트릭스 |
CN102681251A (zh) * | 2012-05-14 | 2012-09-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种彩色滤光片及其制作方法以及液晶面板和显示装置 |
WO2013170595A1 (zh) * | 2012-05-14 | 2013-11-21 | 京东方科技集团股份有限公司 | 彩色滤光片及其制作方法以及液晶面板和显示装置 |
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Legal Events
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040204 |
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