JP3159475B2 - カラーフィルタの欠陥部検査方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、撮像管、個体撮像装
置、または液晶表示装置用などのカラーフィルタを製造
する工程において、カラーフィルタの欠陥部を検査する
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】先ず、図１０によりカラーフィルタの製
造方法の１例について説明する。ガラス等の透明基板１
０１上に真空成膜法を用いてクロムを成膜した後、フォ
トレジストを塗布し、フォトマスクを配置して露光、現
像、クロムエッチング、フォトレジスト剥離を行い、線
幅３０μｍ、ピッチ１００μｍ、膜厚０．１μｍ程度の
ストライプ状パターンからなるブラック遮光層１０２を
形成し（Ａ）、次にブラック遮光層１０２の上から、１
色目、例えばレッドの着色用感材を塗布した後、フォト
マスクを配置し露光した後、現像を行いレッドパターン
１０３を形成し（Ｂ）、２色目以降は例えば、グリー
ン、ブルーの着色用感材を塗布した後、フォトマスクを
配置し露光した後、現像を行いグリーン、ブルーのパタ
ーン１０４、１０５を形成する（Ｃ、Ｄ）。各カラーパ
ターン層は長手方向の両側がブラック遮光層１０２に対
して１０〜１５μｍ程度の重なりを持ち膜厚は２．５μ
ｍ程度である。次に、カラーパターンの上に物理的、化
学的保護、表面の整面化、平坦化を目的とする保護膜層
１０６を膜厚１〜２μｍ程度に形成する（Ｅ）。さら
に、必要に応じて保護膜層１０６の上に真空成膜法を用
いて酸化インジウム錫（ＩＴＯ）を成膜した後、エッチ
ング法等により電極パターン加工を行い、透明電極層１
０７を形成してカラーフィルタを製造する（Ｆ）。

【０００３】上記カラーパターンの製造工程において
は、カラーパターンに欠陥があると、撮像した映像や表
示する映像の欠陥になり、カラーフィルタを使用した製
品が不良になってしまうため、カラーフィルタの製造途
中又は製造後に検査を行い、欠陥のあるカラーフィルタ
を除外しなければならない。カラーフィルタの欠陥の例
としては、着色用感材を塗布する工程で生じる色むら、
および露光工程で発生する白欠陥がある。

【０００４】色むらのようにカラーフィルタ側の原因で
欠陥が生じる場合には、欠陥を有するカラーフィルタの
みを除外すれば済むが、フォトマスク側の原因で欠陥が
生じる場合、例えば図７に示すように、フォトマスク１
０９の透過孔にゴミ等の異物１１０が付着している場合
には、この部分に対応する透明基板１０１上にカラーパ
ターン１０３が形成されず白欠陥部１１１として残るこ
とになり、この欠陥をカラーフィルタ製造後に発見すれ
ば、このフォトマスクで製造した全てのカラーフィルタ
を除外しなければならない。このようなカラーフィルタ
の欠陥部の検査は、従来、顕微鏡検査、照明を用いた目
視検査によって行われている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
目視検査による方法においては、色むらの場合、３色の
カラーパターンが隣接しているために、特定の色のむら
を検出することは極めて困難であり、また、白欠陥部の
場合には、図８で示すように、１色目及び２色目のパタ
ーン１０３、１０４を形成した段階で、上記白欠陥部１
１１が存在すると、これを目視で発見することは容易で
あるが、図９で示すように、１色目のパターン１０３を
形成した段階で白欠陥部１１１が存在しても、周囲の白
部分の影響により白欠陥部１１１を目視で発見すること
は極めて困難であるという問題を有している。なお、１
０４′、１０５′は２色目及び３色目のパターンが形成
される領域を示している。

【０００６】とくに、フォトマスクに起因して共通的に
発生する白欠陥部の場合には、カラーパターンの形成が
数段階の露光及び着色層形成工程を経るために、これを
１色目のパターン形成工程で発見して正常なフォトマス
クと交換することが重要になる。

【０００７】本発明は上記問題を解決するものであっ
て、１色目のカラーパターン形成工程で白欠陥部を容易
に検出することができると共に、特定の色の色むらを容
易に検出することができ、カラーフィルタの製造工程で
の歩留まりを向上させることができるカラーフィルタの
欠陥部検査方法を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】そのために、本発明のカ
ラーフィルタの欠陥部検査方法は、透明基板上に１色目
のカラーパターンを形成した後、該カラーパターンに隣
接して他色のカラーパターンが位置するように補正フィ
ルタを重ね、前記１色目のカラーパターンに生じる白欠
陥部を目視により検出することを特徴とする。また、透
明基板上に特定の色のカラーパターンを形成した後、該
カラーパターン以外を遮光するマスクを配置し、前記特
定の色のカラーパターンに存在する色むらを目視により
検出することを特徴とする。

【０００９】

【作用】本発明においては、１色目が形成された透明基
板に形成された１色目のパターンに隣接して他色のカラ
ーパターンを形成すると、白欠陥部はモアレとなって拡
大されるため、目視により容易に白欠陥部を検出するこ
とができる。また、透明基板の特定の色のパターン以外
をマスクにより遮光させるようにすれば、特定の色のパ
ターンのみを見ることができ、目視により容易に色むら
を検出することができる。

【００１０】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ説
明する。図１、図２および図３は本発明のカラーフィル
タの欠陥部検査方法の１実施例を示し、図１はカラーフ
ィルタの拡大平面図、図２は補正フィルタの拡大平面
図、図３はカラーフィルタと補正フィルタを重ねた拡大
平面図である。

【００１１】本実施例は図７で説明した白欠陥部を検出
する例であり、図１は、透明基板１上に１色目、例えば
レッドのパターン３を形成した段階で、フォトマスクの
欠陥により白欠陥部６が生じた例を示している。なお
４′、５′は２色目および３色目のパターンが形成され
る領域を示している。

【００１２】図２は、図１の透明基板１に重ねる補正フ
ィルタ７を示し、図１の２色目のパターンが形成される
領域４′に対向する補正フィルタ７の領域に、２色目、
例えばグリーンのパターン９を形成している。

【００１３】図３は、検査方法を示し、透明基板１に補
正フィルタ７を重ね、透明基板１の１色目のパターン３
の隣に補正フィルタ７の２色目のパターン９を位置させ
るようにして、透明基板１の裏側から照明を当てると、
白欠陥部６はモアレとなって拡大されるため、目視によ
り容易に白欠陥部６を検出することができる。

【００１４】なお、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、種々の変更が可能である。例えば、上記実
施例においては、補正フィルタ７に２色目のパターン９
のみを形成しているが、２色目のパターン９に加えて、
図１の３色目のパターンが形成される領域５′に対向す
る補正フィルタ７の領域に、３色目、例えばブルーのパ
ターンを付加すれば、モアレはさらに拡大し目視による
検査が容易にできる。

【００１５】図４、図５および図６は本発明のカラーフ
ィルタの欠陥部検査方法の１実施例を示し、図４はカラ
ーフィルタの拡大平面図、図５は補正フィルタの拡大平
面図、図６はカラーフィルタと補正フィルタを重ねた拡
大平面図である。

【００１６】図４は、透明基板１上に形成されたカラー
パターン３に色むら１０が存在する例を示している。な
お４′、５′は他の色のパターンが形成される領域を示
している。

【００１７】図５は、図４の透明基板１に重ねるマスク
１１を示し、図４のカラーパターン３の部分を開口し、
その他の領域にクロムの遮光層からなるパターン１２を
形成している。

【００１８】図６は、検査方法を示し、透明基板１にマ
スク１１を重ね、透明基板１の特定の色のパターン３以
外をマスク１１の遮光層のパターン１２により遮光させ
るようにして、透明基板１の裏側から照明を当てると、
特定の色のパターン３のみを見ることができ、目視によ
り容易に色むら１０を検出することができる。

【００１９】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように本発明に
よれば、１色目が形成された透明基板に形成された１色
目のパターンに隣接して、他色のカラーパターンが位置
するように補正フィルタを重ねることにより、白欠陥部
はモアレとなって拡大されるため、目視により容易に白
欠陥部を検出することができ、また、透明基板の特定の
色のパターン以外をマスクにより遮光させることによ
り、特定の色のパターンのみを見ることができ、目視に
より容易に色むらを検出することができ、カラーフィル
タの製造工程での歩留まりを向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】カラーフィルタの拡大平面図

【図２】本発明の１実施例を示す補正フィルタの拡大平
面図

【図３】本発明の１実施例を示し、カラーフィルタと補
正フィルタを重ねた拡大平面図

【図４】カラーフィルタの拡大平面図

【図５】本発明の他の実施例を示す補正フィルタの拡大
平面図

【図６】本発明の他の実施例を示し、カラーフィルタと
補正フィルタを重ねた拡大平面図

【図７】白欠陥部を説明するための断面図

【図８】発明の課題を説明するための

【図９】発明の課題を説明するための平面図

【図１０】カラーフィルタの製造方法を説明するための
拡大断面図

【符号の説明】

１…透明基板、３…１色目のパターン、６…白欠陥部、
７…補正フィルタ ９…２色目のパターン、１０…色むら、１１…マスク １２…遮光層のパターン。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 平谷 健一 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 松嶋 欽爾 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 (56)参考文献 特開 昭56−129844（ＪＰ，Ａ)

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】透明基板上に１色目のカラーパターンを形
   成した後、該カラーパターンに隣接して他色のカラーパ
   ターンが位置するように補正フィルタを重ね、前記１色
   目のカラーパターンに生じる白欠陥部を目視により検出
   することを特徴とするカラーフィルタの欠陥部検査方
   法。
2. 【請求項２】透明基板上に特定の色のカラーパターンを
   形成した後、該カラーパターン以外を遮光するマスクを
   配置し、前記特定の色のカラーパターンに存在する色む
   らを目視により検出することを特徴とするカラーフィル
   タの欠陥部検査方法。