CN106933025B - 掩膜版及其组件、曝光机和检测测试窗口遮挡效果的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种掩膜版，包括对位标记测试窗口和间距测量测试窗口，所述掩膜版上还设置有第一检测标记和/或第二检测标记；所述第一检测标记，与所述对位标记测试窗口和/或间距测量测试窗口的靠近掩膜版内部的边框齐平；所述第二检测标记，设置在所述掩膜版的透光区整体轮廓与所述对位标记测试窗口之间，和/或，设置在所述掩膜版的透光区整体轮廓间距测量测试窗口之间。本发明还公开了一种掩膜版组件、曝光机和采用所述掩膜版检测测试窗口遮挡效果的方法。本发明提出的掩膜版及其组件、曝光机和检测测试窗口遮挡效果的方法，能够用于监控测试窗口的遮挡不良问题。

Description

掩膜版及其组件、曝光机和检测测试窗口遮挡效果的方法
技术领域
本发明涉及测试技术领域，特别是指一种掩膜版及其组件、曝光机和检测测试窗口遮挡效果的方法。
背景技术
彩色滤光片(Color Filter，CF)作为LCD(Liquid Crystal Display，液晶显示器)实现彩色显示的关键零部件，其性能(主要为开口率、色纯度、色差)直接影响到液晶面板的色彩还原性、亮度、对比度。目前，彩色滤光片一般的层次结构基本为玻璃基板、BM(黑矩阵，Black Matrix)、彩色光阻(RGB)、保护层(OC，Over Coat)、ITO(Indium Tin Oxides，铟锡氧化物)透明导电膜等。
现有技术中，曝光机在进行制作彩色光阻层的过程中的曝光工序时，需要采用遮板(Shade)对掩膜版上面用于间距控制的间距测量窗口(Gap Window)和用于对位的对位标记测试窗口(Alignment Mark Window)进行遮挡，避免其在多个工序中连续被曝光。
但是，在实现本发明的过程中，发明人发现，目前在Color Filter工艺制作上存在以下问题：
1、在R/G/B/PS工艺中由于曝光机设备的遮板存在一定的不稳定性，经常性发生对位标记测试窗口和/或间距测量窗口的遮挡不严(即窗口没有完全被遮板所遮盖)，造成对位标记测试窗口和/或间距测量窗口对应于基板上的位置存在PR胶残留，由于残留PR胶具有一定高度，叠加后会造成显示面板在对盒后出现液晶外漏的不良情况。
2、在R/G/B/PS工艺中由于曝光机设备的遮板存在一定的不稳定性，经常性发生对位标记测试窗口和/或间距测量窗口遮挡过大(即遮板过于靠近可视区)，造成可视区范围内出现CD(图形尺寸)变小的情况，造成一定程度上的RGB CD和PS CD过小问题。
发明内容
有鉴于此，本发明的目的在于提出一种掩膜版及其组件、曝光机和检测测试窗口遮挡效果的方法，能够实现监控不良发生的作用。
基于上述目的本发明提供的掩膜版，包括对位标记测试窗口和间距测量测试窗口，所述掩膜版上还设置有第一检测标记和/或第二检测标记；
所述第一检测标记，与所述对位标记测试窗口和/或间距测量测试窗口的靠近掩膜版内部的边框齐平；
所述第二检测标记，设置在所述掩膜版的透光区整体轮廓与所述对位标记测试窗口之间，和/或，设置在所述掩膜版的透光区整体轮廓与所述间距测量测试窗口之间。
可选的，所述第一检测标记设置在所述对位标记测试窗口和/或间距测量测试窗口的一侧。
可选的，所述第一检测标记包括第一子标记和第二子标记；
所述第一子标记设置在所述对位标记测试窗口的一侧；
所述第二子标记设置在所述间距测量测试窗口的一侧。
可选的，所述第二检测标记的整体呈条状且长度大于所述对位标记测试窗口与间距测量测试窗口的相互远离的两个侧边之间的距离。
可选的，所述第二检测标记的整体呈条状且长度大于所述掩膜版的透光区整体轮廓的长度。
可选的，所述第二检测标记的宽度小于所述掩膜版的透光区整体轮廓朝向所述对位标记测试窗口的边缘与所述对位标记测试窗口朝向所述掩膜版的透光区整体轮廓的边缘之间的距离，和/或，所述第二检测标记的宽度小于所述掩膜版的透光区整体轮廓的朝向所述间距测量测试窗口的边缘与所述间距测量测试窗口朝向所述掩膜版的透光区整体轮廓的边缘之间的距离。
本发明实施例的第二个方面，提供了一种掩膜版组件，包括多个如上任一项所述的掩膜版；
所述第一检测标记包括第一红色检测标记、第一绿色检测标记、第一蓝色检测标记和第一隔垫物检测标记；
所述第一红色检测标记、第一绿色检测标记、第一蓝色检测标记和第一隔垫物检测标记分别设置在所述掩膜版组件的不同的掩膜版上；且所述第一红色检测标记、第一绿色检测标记、第一蓝色检测标记和第一隔垫物检测标记在各自掩膜版上所处位置各不相同；
和/或，
所述第二检测标记包括第二红色检测标记、第二绿色检测标记、第二蓝色检测标记和第二隔垫物检测标记；
所述第二红色检测标记、第二绿色检测标记、第二蓝色检测标记和第二隔垫物检测标记分别设置在所述掩膜版组件的不同的掩膜版上，且所述第二红色检测标记、第二绿色检测标记、第二蓝色检测标记和第二隔垫物检测标记在各自掩膜版上所处位置各不相同。
可选的，所述第二红色检测标记、第二绿色检测标记、第二蓝色检测标记和第二隔垫物检测标记的数量均为多个；
多个所述第二红色检测标记等间隔排列，且距离最远的两个第二红色检测标记之间的距离大于所述对位标记测试窗口与间距测量测试窗口的相互远离的两个侧边之间的距离；
多个所述第二绿色检测标记等间隔排列，且距离最远的两个第二绿色检测标记之间的距离大于所述对位标记测试窗口与间距测量测试窗口的相互远离的两个侧边之间的距离；
多个所述第二蓝色检测标记等间隔排列，且距离最远的两个第二蓝色检测标记之间的距离大于所述对位标记测试窗口与间距测量测试窗口的相互远离的两个侧边之间的距离；
多个所述第二隔垫物检测标记等间隔排列，且距离最远的两个第二隔垫物检测标记之间的距离大于所述对位标记测试窗口与间距测量测试窗口的相互远离的两个侧边之间的距离。
本发明实施例的第三个方面，提供了一种采用如上任一项所述掩膜版或者采用如上任一项所述掩膜版组件检测测试窗口遮挡效果的方法，其特征在于，包括：
利用所述掩膜版或掩膜版组件完成彩色滤光片中红色着色层、绿色着色层、蓝色着色层和/或隔垫物层的制作；
对所述彩色滤光片的基板进行光学检测；
若检测到所述第一检测标记在所述彩色滤光片的基板上形成的第一记号，则判定为出现第一遮挡缺陷；
和/或，
若检测到所述第二检测标记在所述彩色滤光片的基板上形成的第二记号为不完整的第二检测标记图案，则判定为出现第二遮挡缺陷。
可选的，所述光学检测采用的是自动光学检测技术。
本发明实施例的第四个发明，提供了一种曝光机，采用如上任一项所述掩膜版或者采用如上任一项所述掩膜版组件完成曝光。
从上面所述可以看出，本发明实施例提供的掩膜版及其组件、曝光机和检测测试窗口遮挡效果的方法，通过在掩膜版上设置第一检测标记和/或第二检测标记，在使用所述掩膜版进行彩色滤光片的R/G/B/PS工艺处理后，若彩色滤光片的基板上能够通过光学检测到相应的记号，则说明出现了遮挡效果不良的问题，从而能够进行遮挡效果的监控。
附图说明
图1为本发明提供的掩膜版的第一个实施例的俯视结构示意图；
图2a为本发明提供的掩膜版的第一个实施例的测试窗口被遮板适当遮挡的俯视示意图；
图2b为本发明提供的掩膜版的第一个实施例的测试窗口被遮板遮挡过小的俯视示意图；
图2c为本发明提供的掩膜版的第一个实施例的测试窗口被遮板遮挡过大的俯视示意图；
图3a为经过图2a中所示位置的遮板遮挡后的彩色滤光片的基板的俯视结构示意图；
图3b为经过图2b中所示位置的遮板遮挡后的彩色滤光片的基板的俯视结构示意图；
图3c为经过图2c中所示位置的遮板遮挡后的彩色滤光片的基板的俯视结构示意图；
图4为本发明提供的掩膜版的第二个实施例的俯视结构示意图；
图5为本发明提供的掩膜版组件的第一个实施例中，在所述掩膜版组件的4张掩膜版上，以所述掩膜版的第一个实施例的设置方式，分别在不同位置设置4种检测标记时，4张掩膜版对齐重叠时的俯视投影示意图；
图6为本发明提供的掩膜版组件的第二个实施例中，在所述掩膜版组件的4张掩膜版上，以所述掩膜版的第二个实施例的设置方式，分别在不同位置设置4种检测标记时，4张掩膜版对齐重叠时的俯视投影示意图；
图7为本发明提供的采用所述掩膜版检测测试窗口遮挡效果的方法的一个实施例的流程示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，以下结合具体实施例，并参照附图，对本发明进一步详细说明。
需要说明的是，本发明实施例中所有使用“第一”和“第二”的表述均是为了区分两个相同名称非相同的实体或者非相同的参量，可见“第一”“第二”仅为了表述的方便，不应理解为对本发明实施例的限定，后续实施例对此不再一一说明。
在多种制作CF的工艺中，曝光显影都是必不可少的步骤，该步骤目前广泛采用光刻技术进行，主要是利用曝光机将掩膜版(Mask)上面的图案(Pattern)投影到玻璃基板的光阻上面，然后通过显影机最终在玻璃基板上面复制了掩膜版(Mask)的图案。
以颜料分散法为例，其中，BML(Black Matrix Layer，黑矩阵层)是CF工艺流程的第一步，在BML中，当素玻璃从洗净机出来后，会首先进行涂布机涂布，经过预焙(Prebake)之后涂满BM光阻的玻璃进入曝光机进行曝光。BML曝光机的作用是：(1)在玻璃上面形成BM；(2)打上各种标记，包括用于对位的RGB标记，其中，通过掩膜版上的对位标记测试窗口中的对位标记与这些RGB标记相对应。
随后，在形成了BM的基板上形成R、G、B着色层，此时曝光机的动作，以接近式(Proximity)曝光机为例通常为预对位(Pre-alignment)→间距控制(Gap Control)→对位(Alignment)→曝光(Exposure)。
曝光部分的间距(掩膜版下表面和玻璃基板上表面之间的距离)大小是通过间距控制进行的，这主要依靠间距传感器识别来自掩膜版上间距测量窗口的反射信号来确定。
随后，在曝光前还需要进行曝光部分的精密定位，这是通过BML先前打下的RGB标记进行的。曝光机在进行每次曝光前需要将掩膜版上面的对位标记测试窗口中的RGB对位标记和玻璃上面的RGB标记对齐，以避免因移动或间距控制造成的基板、掩膜版及光源间细微的角度或位置偏差。
此外，在曝光装置在进行曝光时，如果不使用遮板(Shade)进行遮挡，掩膜版上面用于间距控制的间距测量窗口(Gap Window)和用于对位的对位标记测试窗口(AlignmentMark Window)通常会在R、G、B、PS(柱状隔垫物)等工序中连续被曝光，由于玻璃基板上采用负性PR胶(光刻胶)，则随着R、G、B工序的进行，连续曝光会导致玻璃基板上BML形成的间距测量窗口图案和对位标记测试窗口图案反复重叠，影响后续过程的对位以及最后CF基板和TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)基板的粘合。
因此现有技术中，曝光机在进行曝光时，还会采用遮板(Shade)对间距测量窗口和对位标记测试窗口进行遮挡。
基于上述目的，本发明实施例的第一个方面，提出一种能够用于监控不良发生的掩膜版。如图1所示，为本发明提供的掩膜版的第一个实施例的结构示意图，图1中，最上方的虚线以外的部分指代的是未示出的掩膜版的其他结构，例如，未示出的掩膜版的另外一部分图案(pattern)。
所述掩膜版10，包括对位标记测试窗口12和间距测量测试窗口13，并且，所述掩膜版10上还设置有第一检测标记14a/14b，和/或，第二检测标记15a/15b。
所述第一检测标记14a/14b，与所述对位标记测试窗口12和/或间距测量测试窗口13的靠近掩膜版10内部的边框齐平。需要说明的是，这里的齐平，可以是指所述第一检测标记14a/14b的靠近掩膜版10内部的边缘与所述对位标记测试窗口12和/或间距测量测试窗口13的靠近掩膜版10内部的边框处于同一水平线。当然，这里仅仅是举例，根据后续的说明内容可以知道，所述第一检测标记14a/14b的靠近掩膜版10内部的边缘，不一定是与所述对位标记测试窗口12和/或间距测量测试窗口13的靠近掩膜版10内部的边框处于同一水平线的，只要所述第一检测标记14a/14b处于所述对位标记测试窗口12和/或间距测量测试窗口13的靠近掩膜版10内部的边框所在的直线的附近，都能起到一定的检测作用。此外，在所述第一检测标记14a/14b的尺寸与所述对位标记测试窗口12和/或间距测量测试窗口13的尺寸相比可以忽略不计时，这里的齐平也就不需要定义是第一检测标记14a/14b的哪条边与所述对位标记测试窗口12和/或间距测量测试窗口13的靠近掩膜版10内部的边框相齐平。
结合图1可知，本实施例中的掩膜版10，其上设置的检测标记可以有很多种：可以是仅设置在所述对位标记测试窗口12一侧的第一检测标记14a，也可以是仅设置在所述间距测量测试窗口13一侧的第一检测标记14b，还可以是仅设置在掩膜版10的透光区整体轮廓11(图1中虚线框内的部分)与所述对位标记测试窗口12之间的第二检测标记15a，也可以是仅设置在掩膜版10的透光区整体轮廓11(图1中虚线框内的部分)与所述间距测量测试窗口13之间的第二检测标记15b，还可以是选择设置以上的其中两个、三个或者全部的检测标记。
如图1所示，所述第一检测标记14a/14b，与所述对位标记测试窗口12和/或间距测量测试窗口13的靠近掩膜版10内部的边框(即所述对位标记测试窗口12和/或间距测量测试窗口13的靠近掩膜版的透光区整体轮廓11的边框，亦即，图1中所述对位标记测试窗口12和/或间距测量测试窗口13的上边框)齐平。可选的，所述第一检测标记14a/14b设置在所述对位标记测试窗口12和/或间距测量测试窗口13的一侧，且在正常情况下能够被第一遮板21所遮盖，从而能够较好地起到检测遮板遮挡测试窗口的效果的作用。可选的，如图1所示，所述第一检测标记包括第一子标记14a和第二子标记14b；所述第一子标记14a设置在所述对位标记测试窗口12的一侧；所述第二子标记14b设置在所述间距测量测试窗口13的一侧，从而能够对所述对位标记测试窗口12和间距测量测试窗口13的遮挡效果进行同时检测。需要指出的是，图1中所示为第一子标记14a设置在所述对位标记测试窗口12右侧，第二子标记14b设置在所述间距测量测试窗口13右侧，但实际上，第一子标记14a设置在所述对位标记测试窗口12的左侧也是可行的，第二子标记14b设置在所述间距测量测试窗口13左侧也是可行的。
所述第二检测标记15a/15b，设置在所述掩膜版10的透光区整体轮廓11与所述对位标记测试窗口12之间，和/或，设置在所述掩膜版10的透光区整体轮廓11与所述间距测量测试窗口13之间。可选的，所述第二检测标记包括第三子标记15a和第四子标记15b，所述第三子标记15a设置在所述掩膜版10的透光区整体轮廓11与所述对位标记测试窗口12之间，和/或，所述第四子标记15b设置在所述掩膜版10的透光区整体轮廓11与所述间距测量测试窗口13之间。
下面结合采用所述掩膜版10检测测试窗口遮挡效果的方法，介绍所述掩膜版10在检测测试窗口遮挡效果的方法中的作用。
以掩膜版10上同时具有所述第一子标记14a和第二子标记14b以及第三子标记15a和第四子标记15b为例。
如图2a所示，用于遮挡所述对位标记测试窗口12的第一遮板21处于合适的位置且能够较好地遮挡所述对位标记测试窗口12，用于遮挡所述间距测量测试窗口13的第二遮板22处于合适的位置且能够较好地遮挡所述间距测量测试窗口13。在这种情况下，所述第一子标记14a和第二子标记14b分别被所述第一遮板21和第二遮板22所完全遮挡，而第三子标记15a和第四子标记15b则均完全不被所述第一遮板21和第二遮板22所遮挡。在彩色滤光片的黑矩阵层BM上的红色着色层R、绿色着色层G、蓝色着色层B和隔垫物层PS的任意一道制作工序中，经过曝光处理后，彩色滤光片的基板30则会呈现如图3a所示的状态。可以看到，因为曝光处理时，第三子标记15a和第四子标记15b未被第一遮板21和第二遮板22所遮挡，而在基板30留下了对应的第二记号35a和35b；而由于所述第一子标记14a和第二子标记14b分别被所述第一遮板21和第二遮板22所完全遮挡，因此在曝光处理后则不会在基板30上留下与第一子标记14a和第二子标记14b对应的第一记号(可参考图3b中的34a和34b)。因此，在完成彩色滤光片的黑矩阵层BM上的红色着色层R、绿色着色层G、蓝色着色层B和隔垫物层PS的任意一道制作工序后，通过光学检测的方法对基板进行检测，当发现检测不到第一记号且能够检测到完整的第二记号35a和35b时，则说明在前一道制作工序中，第一遮板21对所述对位标记测试窗口12的遮挡和第二遮板22对所述间距测量测试窗口13的遮挡都是合适的，没有出现遮挡不良的情况。
如图2b所示，用于遮挡所述对位标记测试窗口12的第一遮板21并未完全遮挡所述对位标记测试窗口12且其位置更靠近掩膜版10的外部(远离透光区整体轮廓11一侧)，用于遮挡所述间距测量测试窗口13的第二遮板22并未完全遮挡所述间距测量测试窗口13且其位置更靠近掩膜版10的外部。在这种情况下，所述第一子标记14a和第二子标记14b并未被所述第一遮板21和第二遮板22所遮挡，而第三子标记15a和第四子标记15b也均完全不被所述第一遮板21和第二遮板22所遮挡，这种情况可被称为“遮挡不严”或“遮挡过小”。在彩色滤光片的黑矩阵层BM上的红色着色层R、绿色着色层G、蓝色着色层B和隔垫物层PS的任意一道制作工序中，经过曝光处理后，彩色滤光片的基板30则会呈现如图3b所示的状态。可以看到，因为曝光处理时，所述第一子标记14a和第二子标记14b和第三子标记15a和第四子标记15b均未被第一遮板21和第二遮板22所遮挡，而在基板30留下了对应的第一记号34a和34b和第二记号35a和35b。因此，在完成彩色滤光片的黑矩阵层BM上的红色着色层R、绿色着色层G、蓝色着色层B和隔垫物层PS的任意一道制作工序后，通过光学检测的方法对基板进行检测，当发现能够同时检测到第一记号14a和14b和第二记号35a和35b时，则说明第一遮板21对所述对位标记测试窗口12的遮挡和第二遮板22对所述间距测量测试窗口13的遮挡都是不合适的，出现了遮挡过小的不良情况。此时，当线人员在监控光学检测过程时，就会及时发现相应的问题。
如图2c所示，用于遮挡所述对位标记测试窗口12的第一遮板21并未完全遮挡所述对位标记测试窗口12且其位置更靠近掩膜版10的内部(靠近透光区整体轮廓11一侧)，用于遮挡所述间距测量测试窗口13的第二遮板22并未完全遮挡所述间距测量测试窗口13且其位置更靠近掩膜版10的内部。在这种情况下，所述第一子标记14a和第二子标记14b均被所述第一遮板21和第二遮板22所遮挡，而第三子标记15a和第四子标记15b也均被所述第一遮板21和第二遮板22所遮挡，此外，掩膜版10的透光区整体轮廓11也被遮挡了一部分，这种情况可被称为“遮挡过大”。在彩色滤光片的黑矩阵层BM上的红色着色层R、绿色着色层G、蓝色着色层B和隔垫物层PS的任意一道制作工序中，经过曝光处理后，彩色滤光片的基板30则会呈现如图3c所示的状态。可以看到，因为曝光处理时，所述第一子标记14a和第二子标记14b和第三子标记15a和第四子标记15b均被第一遮板21和第二遮板22所遮挡，而在基板30就不会出现对应的第一记号34a和34b和第二记号35a和35b，并且，由于第一遮板21和第二遮板22遮挡了一部分的透光区整体轮廓11，导致基板30的可视区范围内出现CD变小的情况(图3c中的阴影部分指代被遮板遮挡而不能正常形成的着色区域)。因此，在完成彩色滤光片的黑矩阵层BM上的红色着色层R、绿色着色层G、蓝色着色层B和隔垫物层PS的任意一道制作工序后，通过光学检测的方法对基板进行检测，当发现不能检测到第一记号14a和14b和第二记号35a和35b时，则说明第一遮板21对所述对位标记测试窗口12的遮挡和第二遮板22对所述间距测量测试窗口13的遮挡都是不合适的，出现了遮挡过大的不良情况。此时，当线人员在监控光学检测过程时，就会及时发现相应的问题。
需要说明的是，上述实施例中以掩膜版10上同时具有所述第一子标记14a和第二子标记14b以及第三子标记15a和第四子标记15b为例，介绍了所述掩膜版10在检测测试窗口遮挡效果的方法中的作用。但是并不代表掩膜版10上必须同时设置所述第一子标记14a和第二子标记14b以及第三子标记15a和第四子标记15b。可以知道，当掩膜版10上仅设置第一子标记14a时，可以在检测到基板30上出现对应的第一记号34a或第一记号34a的一部分(即第一子标记14a仅被遮挡了一部分)时，知道出现了第一遮板21的遮挡不良的问题；当掩膜版10上仅设置第二子标记14b时，可以在检测到基板30上出现对应的第一记号34b或第一记号34b的一部分(即第二子标记14b仅被遮挡了一部分)时，知道出现了第二遮板22的遮挡不良的问题；当掩膜版10上仅设置第三子标记15a时，可以在检测到基板30上对应的第二记号35a不完整(即第三子标记15a仅被遮挡了一部分)或完全检测不到第二记号35a时，知道出现了第一遮板21的遮挡过大的问题；当掩膜版10上仅设置第四子标记15b时，可以在检测到基板30上对应的第二记号35b不完整(即第四子标记15b仅被遮挡了一部分)或完全检测不到第二记号35b时，知道出现了第二遮板22的遮挡过大的问题。此外，除了仅设置一个检测标记的实施例外，可以知道，还可以将这四种检测标记设置方式进行选择与组合，从而适应相应的检测需求。
从上述实施例可以看出，本发明实施例提供的掩膜版，通过在掩膜版上设置第一检测标记和/或第二检测标记，在使用所述掩膜版进行彩色滤光片的R/G/B/PS工艺处理后，若彩色滤光片的基板上能够通过光学检测到相应的记号，则说明出现了遮挡效果不良的问题，从而能够进行遮挡效果的监控。
本发明还提供了一种能够用于监控不良发生的掩膜版的第二个实施例。如图4所示，为本发明提供的掩膜版的第二个实施例的结构示意图。图4中，最上方的虚线以外的部分指代的是未示出的掩膜版的其他结构，例如，未示出的掩膜版的另外一部分图案(pattern)。
所述掩膜版10，包括对位标记测试窗口12和间距测量测试窗口13，所述掩膜版上还设置有第一检测标记14a/14b和/或第二检测标记15；
所述第一检测标记14a/14b，与所述对位标记测试窗口12和/或间距测量测试窗口13的靠近掩膜版10内部的边框齐平；所述第一检测标记包括第一子标记14a和第二子标记14b；所述第一子标记14a设置在所述对位标记测试窗口12的一侧；所述第二子标记14b设置在所述间距测量测试窗口13的一侧。
所述第二检测标记15，设置在所述掩膜版10的透光区整体轮廓11与所述对位标记测试窗口12之间，和/或，设置在所述掩膜版10的透光区整体轮廓11与所述间距测量测试窗口13之间。可选的，如图4所示，所述第二检测标记15的整体呈条状且长度大于所述对位标记测试窗口12与间距测量测试窗口13的相互远离的两个侧边之间的距离(即图4中所述对位标记测试窗口12的左边框和间距测量测试窗口13的右边框之间的距离)。可选的，所述第二检测标记15的整体呈条状且长度大于所述掩膜版10的透光区整体轮廓11的长度。
较佳的，所述第二检测标记15的最左边的侧边，超出第一遮板21在正常情况下遮盖所述对位标记测试窗口12时的遮板左边框约5mm以上；同样的，所述第二检测标记15的最右边的侧边，超出第二遮板22在正常情况下遮盖所述间距测量测试窗口13时的遮板右边框约5mm以上。也就是说，假设对位标记测试窗口12和间距测量测试窗口13的宽度约10mm左右，二者的间距约20mm左右，所以第二检测标记15的长度则约50mm左右。这样，能够保证遮板的遮挡过大的情况能够被很好的检测。
可选的，所述第二检测标记15的宽度小于所述掩膜版10的透光区整体轮廓11朝向所述对位标记测试窗口12的边缘与所述对位标记测试窗口12朝向所述透光区整体轮廓11的边缘之间的距离，和/或，所述第二检测标记15的宽度小于所述掩膜版10的透光区整体轮廓11的朝向所述间距测量测试窗口13的边缘与所述间距测量测试窗口13朝向所述透光区整体轮廓11的边缘之间的距离。这样，能够保证第二检测标记15不会遮挡其他需要暴露的结构。
较佳的，所述第二检测标记15的下边距离对位标记测试窗口12和间距测量测试窗口13约3mm，因为在遮板完全遮挡窗口的情况下，遮板的上边距窗口上边基本在2mm左右，所以，将第二检测标记15与窗口的距离设计为3mm是较为合适的。同时，所述第二检测标记15距离可视区(参见图3a～3c)的距离约0.5mm(这个取值可作为参考，实际上，只要所述第二检测标记15与可视区之间存在间隔即可)。根据窗口与可视区之间的距离和产品设计，所述第二检测标记15的宽度有可能会不一样，可选范围为0.5～2mm。采用这种宽度的第二检测标记15，能够更好地完成遮板的遮挡效果的检测。
从上述实施例可以看出，本发明实施例提供的掩膜版，通过在掩膜版上设置第一检测标记和/或第二检测标记，在使用所述掩膜版进行彩色滤光片的R/G/B/PS工艺处理后，若彩色滤光片的基板上能够通过光学检测到相应的记号，则说明出现了遮挡效果不良的问题，从而能够进行遮挡效果的监控。
基于上述目的，本发明实施例的第二个方面，提出一种能够用于监控不良发生的包括如上任一实施例所述的掩膜版的掩膜版组件。如图5所示，为本发明提供的掩膜版组件的第一个实施例中，在所述掩膜版组件的4张掩膜版上，以所述掩膜版的第一个实施例的设置方式，分别在不同位置设置4种检测标记时，4张掩膜版对齐重叠时的俯视投影示意图。
所述掩膜版组件，包括4个采用所述掩膜版的第一个实施例的设置方式的掩膜版10。所述第一检测标记包括第一红色检测标记、第一绿色检测标记、第一蓝色检测标记和第一隔垫物检测标记。可选的，参照附图5，若所述第一检测标记由第一子标记14a和第二子标记14b构成，所述第一子标记14a可包括所述第一红色检测标记14aR、第一绿色检测标记14aG、第一蓝色检测标记14aB和第一隔垫物检测标记14aPS，所述第二子标记14b可包括第三红色检测标记14bR、第三绿色检测标记14bG、第三蓝色检测标记14bB和第三隔垫物检测标记14bPS。
所述第一红色检测标记14aR、第一绿色检测标记14aG、第一蓝色检测标记14aB和第一隔垫物检测标记14aPS分别设置在所述掩膜版组件(可选的，所述掩膜版组件中包括4个掩膜版10)的不同的掩膜版10上；且第一红色检测标记14aR、第一绿色检测标记14aG、第一蓝色检测标记14aB和第一隔垫物检测标记14aPS在各自掩膜版10上所处位置各不相同。同样的，所述第三红色检测标记14bR、第三绿色检测标记14bG、第三蓝色检测标记14bB和第三隔垫物检测标记14bPS分别设置在所述掩膜版组件的不同的掩膜版10上；且第三红色检测标记14bR、第三绿色检测标记14bG、第三蓝色检测标记14bB和第三隔垫物检测标记14bPS在各自掩膜版10上所处位置各不相同。
如图5所示，示出了分别具有第一红色检测标记14aR、第一绿色检测标记14aG、第一蓝色检测标记14aB和第一隔垫物检测标记14aPS以及所述第三红色检测标记14bR、第三绿色检测标记14bG、第三蓝色检测标记14bB和第三隔垫物检测标记14bPS的4张掩膜版10在相互对齐重叠后，各标记被投影到同一张掩膜版10上的示意图。假设，第一张掩膜版上仅具有第一红色检测标记14aR和第三红色检测标记14bR，第二张掩膜版上仅具有第一绿色检测标记14aG和第三绿色检测标记14bG，第三张掩膜版上仅具有第一蓝色检测标记14aB和第三蓝色检测标记14bB，第四张掩膜版上仅具有第一隔垫物检测标记14aPS和第三隔垫物检测标记14bPS，在4张掩膜版互相对齐重叠后，在同一张掩膜版上各标记的投影会出现如图5所示的状态，即，每个标记的投影位置是各不相同的。
这样，在利用具有不同检测标记的掩膜版完成相应制作工序后，通过检测基板30上的相应位置上是否出现相应的第一记号，即可知道是哪一道制作工序中遮板是否存在遮挡过小的问题。因为各工序对应使用的掩膜版采用了在不同位置设置的检测标记，在第一记号出现的位置与相应位置的检测标记能够对应上时，即可知道是该工序出现了问题。
例如，第一张掩膜版上设置的是第一红色检测标记14aR和第三红色检测标记14bR，采用第一张掩膜版进行红色着色层R的制作工序，第二张掩膜版上设置第一绿色检测标记14aG和第三绿色检测标记14bG，采用第二张掩膜版进行绿色着色层G的制作工序，第三张掩膜版上设置第一蓝色检测标记14aB和第三蓝色检测标记14bB，采用第三张掩膜版进行蓝色着色层B的制作工序，第四张掩膜版上设置第一隔垫物检测标记14aPS和第三隔垫物检测标记14bPS，采用第四张掩膜版进行隔垫物层PS的制作工序，在完成所有制作工序后，对基板30进行光学检测，若检测到在基板30上的与第一红色检测标记14aR和第三红色检测标记14bR对应的位置上出现了第一记号，则可以知道，红色着色层R的制作工序中出现了遮板遮挡过小的问题。相应地，如果是其他检测标记对应的基板上的位置出现了第一记号，则可以说明相应工序也出现了遮挡过小的问题。
从上述实施例可以知道，本发明实施例提供的所述掩膜版组件，采用这种结构的第一检测标记，能够分别监控各工序的遮挡不良，从而能够更好地检测对应的R/G/B/PS工艺时的窗口的遮挡效果。
需要特别说明的是，上述实施例中的各检测标记的设置位置可以相互调换，只要能够确定各检测标记的位置，使得后续检测工序中能够通过第一记号的出现位置来确定是哪个检测标记留下的该第一标记，就能分辨是哪一道工序出现了遮板遮挡过小的问题。此外，还可以知道，上述各检测标记，根据实际需要，还可以单独选择其中一种来设置，或者将不同的检测标记进行各种组合，也可以实现相应工序或窗口的遮挡过小的检测，从而实现本发明的目的，因此不应将这些组合方式排除在本发明的保护范围之外。
此外，上述实施例中以所述掩膜版组件具有4个掩膜版且各掩膜版的标记设置位置各不相同的方式设置，但是可以很容易想到，在面对不同需求时，掩膜版的数量可以进行适当增减，标记位置也可以互相调换，这些变形方案也应当属于本发明的保护范围。在一些可选实施方式中，继续参照附图5，所述第二检测标记包括第二红色检测标记、第二绿色检测标记、第二蓝色检测标记和第二隔垫物检测标记；可选的，参照附图5，若所述第二检测标记由第三子标记15a和第四子标记15b构成，所述第三子标记15a可包括所述第二红色检测标记15aR、第二绿色检测标记15aG、第二蓝色检测标记15aB和第二隔垫物检测标记15aPS，所述第四子标记15b可包括第四红色检测标记15bR、第四绿色检测标记15bG、第四蓝色检测标记15bB和第四隔垫物检测标记15bPS。
所述第二红色检测标记15aR、第二绿色检测标记15aG、第二蓝色检测标记15aB和第二隔垫物检测标记15aPS分别设置在所述掩膜版组件(可选的，所述掩膜版组件中包括4个掩膜版10)的不同的掩膜版10上，且所述第二红色检测标记15aR、第二绿色检测标记15aG、第二蓝色检测标记15aB和第二隔垫物检测标记15aPS在各自掩膜版10上所处位置各不相同。同样的，所述第四红色检测标记15bR、第四绿色检测标记15bG、第四蓝色检测标记15bB和第四隔垫物检测标记15bPS分别设置在所述掩膜版组件的不同的掩膜版10上；且所述第四红色检测标记15bR、第四绿色检测标记15bG、第四蓝色检测标记15bB和第四隔垫物检测标记15bPS在各自掩膜版10上所处位置各不相同。
如图5所示，示出了分别具有第二红色检测标记15aR、第二绿色检测标记15aG、第二蓝色检测标记15aB和第二隔垫物检测标记15aPS以及所述第四红色检测标记15bR、第四绿色检测标记15bG、第四蓝色检测标记15bB和第四隔垫物检测标记15bPS的4张掩膜版10在相互对齐重叠后，各标记被投影到同一张掩膜版10上的示意图。假设，第一张掩膜版上仅具有第二红色检测标记15aR和第四红色检测标记15bR，第二张掩膜版上仅具有第二绿色检测标记15aG和第四绿色检测标记15bG，第三张掩膜版上仅具有第二蓝色检测标记15aB和第四蓝色检测标记15bB，第四张掩膜版上仅具有第二隔垫物检测标记15aPS和第四隔垫物检测标记15bPS，在4张掩膜版互相对齐重叠后，在同一张掩膜版上各标记的投影会出现如图5所示的状态，即，每个标记的投影位置是各不相同的。
这样，在利用具有不同检测标记的掩膜版完成相应制作工序后，通过检测基板30上的相应位置上的第二记号是否不存在或仅存在一部分，即可知道是哪一道制作工序中遮板是否存在遮挡过大的问题。因为各工序对应使用的掩膜版采用了在不同位置设置的检测标记，在第二记号应该出现的位置与相应位置的检测标记能够对应上时，即可知道是该工序出现了问题。
例如，第一张掩膜版上设置的是第二红色检测标记15aR和第四红色检测标记15bR，采用第一张掩膜版进行红色着色层R的制作工序，第二张掩膜版上设置第二绿色检测标记15aG和第四绿色检测标记15bG，采用第二张掩膜版进行绿色着色层G的制作工序，第三张掩膜版上设置第二蓝色检测标记15aB和第四蓝色检测标记15bB，采用第三张掩膜版进行蓝色着色层B的制作工序，第四张掩膜版上设置第二隔垫物检测标记15aPS和第四隔垫物检测标记15bPS，采用第四张掩膜版进行隔垫物层PS的制作工序，在完成所有制作工序后，对基板30进行光学检测，若检测到在基板30上的与第二红色检测标记15aR和第四红色检测标记15bR对应的位置上的第二记号不存在或仅存在一部分，则可以知道，红色着色层R的制作工序中出现了遮板遮挡过大的问题。相应地，如果是其他检测标记对应的基板30上的位置上的第二记号不存在或仅存在一部分，则可以说明相应工序也出现了遮挡过大的问题。
从上述实施例可以知道，本发明实施例提供的掩膜版组件，采用这种结构的第二检测标记，能够分别监控各工序的遮挡不良，从而能够更好地检测对应的R/G/B/PS工艺时的窗口的遮挡效果。
需要特别说明的是，上述实施例中的各检测标记的设置位置可以相互调换，只要能够确定各检测标记的位置，使得后续检测工序中能够通过第二记号是否存在或仅存在一部分来确定是哪个检测标记被遮挡而没有留下该第二标记或仅留下一部分第二标记，就能分辨是哪一道工序出现了遮板遮挡过大的问题。此外，还可以知道，上述各检测标记，根据实际需要，还可以单独选择其中一种来设置，或者将不同的检测标记进行各种组合，也可以实现相应工序或窗口的遮挡过大的检测，从而实现本发明的目的，因此不应将这些组合方式排除在本发明的保护范围之外。
此外，上述实施例中以所述掩膜版组件具有4个掩膜版且各掩膜版的标记设置位置各不相同的方式设置，但是可以很容易想到，在面对不同需求时，掩膜版的数量可以进行适当增减，标记位置也可以互相调换，这些变形方案也应当属于本发明的保护范围。
另外，还需要特别说明的是，在不同需求的支配下，上述实施例中的第一检测标记和第二检测标记可以分开设置在不同掩膜版上，这种变形实施例也应当属于本发明的保护范围。
可以看出，所述掩膜版组件的第一个实施例仅具有多个所述掩膜版第一个实施例的设计结构的掩膜版，而所述掩膜版组件的第二个实施例则仅具有多个所述掩膜版第二个实施例的设计结构的掩膜版。但是，可以知道，实际上掩膜版组件还可以是掩膜版第一个实施例和第二个实施例的混合设计，即掩膜版组件中既包括掩膜版第一个实施例提供的设计结构的掩膜版，还包括掩膜版第二个实施例提供的设计结构的掩膜版，并且两种掩膜版在掩膜版组件中的数量也可以变化、增减。这些变化方式，也应当属于本发明的保护范围。
本发明还提出了一种能够用于监控不良发生的包括如上任一实施例所述的掩膜版的掩膜版组件。如图6所示，为本发明提供的掩膜版组件的第二个实施例中，在所述掩膜版组件的4张掩膜版上，以所述掩膜版的第二个实施例的设置方式，分别在不同位置设置4种检测标记时，4张掩膜版对齐重叠时的俯视投影示意图。
所述掩膜版组件，包括4个采用所述掩膜版的第二个实施例的设置方式的掩膜版10。
所述第一检测标记包括第一红色检测标记、第一绿色检测标记、第一蓝色检测标记和第一隔垫物检测标记。可选的，参照附图5，若所述第一检测标记由第一子标记14a和第二子标记14b构成，所述第一子标记14a可包括所述第一红色检测标记14aR、第一绿色检测标记14aG、第一蓝色检测标记14aB和第一隔垫物检测标记14aPS，所述第二子标记14b可包括第三红色检测标记14bR、第三绿色检测标记14bG、第三蓝色检测标记14bB和第三隔垫物检测标记14bPS。
所述第一红色检测标记14aR、第一绿色检测标记14aG、第一蓝色检测标记14aB和第一隔垫物检测标记14aPS分别设置在所述掩膜版组件(可选的，所述掩膜版组件中包括4个掩膜版10)的不同的掩膜版10上；且第一红色检测标记14aR、第一绿色检测标记14aG、第一蓝色检测标记14aB和第一隔垫物检测标记14aPS在各自掩膜版10上所处位置各不相同。同样的，所述第三红色检测标记14bR、第三绿色检测标记14bG、第三蓝色检测标记14bB和第三隔垫物检测标记14bPS分别设置在所述掩膜版组件的不同的掩膜版10上；且第三红色检测标记14bR、第三绿色检测标记14bG、第三蓝色检测标记14bB和第三隔垫物检测标记14bPS在各自掩膜版10上所处位置各不相同。
需要特别说明的是，上述实施例中的各检测标记的设置位置可以相互调换，只要能够确定各检测标记的位置，使得后续检测工序中能够通过第一记号的出现位置来确定是哪个检测标记留下的该第一标记，就能分辨是哪一道工序出现了遮板遮挡过小的问题。此外，还可以知道，上述各检测标记，根据实际需要，还可以单独选择其中一种来设置，或者将不同的检测标记进行各种组合，也可以实现相应工序或窗口的遮挡过小的检测，从而实现本发明的目的，因此不应将这些组合方式排除在本发明的保护范围之外。
所述第二检测标记包括第二红色检测标记、第二绿色检测标记、第二蓝色检测标记和第二隔垫物检测标记；可选的，参照附图5，若所述第二检测标记由第三子标记15a和第四子标记15b构成，所述第三子标记15a可包括所述第二红色检测标记15aR、第二绿色检测标记15aG、第二蓝色检测标记15aB和第二隔垫物检测标记15aPS，所述第四子标记15b可包括第四红色检测标记15bR、第四绿色检测标记15bG、第四蓝色检测标记15bB和第四隔垫物检测标记15bPS。
所述第二红色检测标记15aR、第二绿色检测标记15aG、第二蓝色检测标记15aB和第二隔垫物检测标记15aPS分别设置在所述掩膜版组件(可选的，所述掩膜版组件中包括4个掩膜版10)的不同的掩膜版10上，且所述第二红色检测标记15aR、第二绿色检测标记15aG、第二蓝色检测标记15aB和第二隔垫物检测标记15aPS在各自掩膜版10上所处位置各不相同。同样的，所述第四红色检测标记15bR、第四绿色检测标记15bG、第四蓝色检测标记15bB和第四隔垫物检测标记15bPS分别设置在所述掩膜版组件的不同的掩膜版10上；且所述第四红色检测标记15bR、第四绿色检测标记15bG、第四蓝色检测标记15bB和第四隔垫物检测标记15bPS在各自掩膜版10上所处位置各不相同。
需要特别说明的是，上述实施例中的各检测标记的设置位置可以相互调换，只要能够确定各检测标记的位置，使得后续检测工序中能够通过第二记号是否存在或仅存在一部分来确定是哪个检测标记被遮挡而没有留下该第二标记或仅留下一部分第二标记，就能分辨是哪一道工序出现了遮板遮挡过大的问题。此外，还可以知道，上述各检测标记，根据实际需要，还可以单独选择其中一种来设置，或者将不同的检测标记进行各种组合，也可以实现相应工序或窗口的遮挡过大的检测，从而实现本发明的目的，因此不应将这些组合方式排除在本发明的保护范围之外。
其中，所述第二红色检测标记15R、第二绿色检测标记15G、第二蓝色检测标记15B和第二隔垫物检测标记15PS的数量均为多个；
多个所述第二红色检测标记15R等间隔排列，且距离最远的两个第二红色检测标记15R之间的距离大于所述对位标记测试窗口12与间距测量测试窗口13的相互远离的两个侧边之间的距离；
多个所述第二绿色检测标记15G等间隔排列，且距离最远的两个第二绿色检测标记15G之间的距离大于所述对位标记测试窗口12与间距测量测试窗口13的相互远离的两个侧边之间的距离；
多个所述第二蓝色检测标记15B等间隔排列，且距离最远的两个第二蓝色检测标记15B之间的距离大于所述对位标记测试窗口12与间距测量测试窗口13的相互远离的两个侧边之间的距离；
多个所述第二隔垫物检测标记15PS等间隔排列，且距离最远的两个第二隔垫物检测标记15PS之间的距离大于所述对位标记测试窗口12与间距测量测试窗口13的相互远离的两个侧边之间的距离。
如图6所示，示出了分别具有多个第二红色检测标记15R、第二绿色检测标记15G、第二蓝色检测标记15B和第二隔垫物检测标记15PS的4张掩膜版10在相互对齐重叠后，各标记被投影到同一张掩膜版10上的示意图。假设，第一张掩膜版上仅具有等间隔设置的第二红色检测标记15R，第二张掩膜版上仅具有等间隔设置的第二绿色检测标记15G，第三张掩膜版上仅具有等间隔设置的第二蓝色检测标记15B，第四张掩膜版上仅具有等间隔设置的第二隔垫物检测标记15PS，在4张掩膜版互相对齐重叠后，在同一张掩膜版上各标记的投影会出现如图6所示的状态，即，每个标记的投影位置是各不相同的。
这样，在利用具有不同检测标记的掩膜版完成相应制作工序后，通过检测基板30上的相应位置上的第二记号是否不存在或仅存在一部分，即可知道是哪一道制作工序中遮板是否存在遮挡过大的问题。因为各工序对应使用的掩膜版采用了在不同位置设置的检测标记，在第二记号应该出现的位置与相应位置的检测标记能够对应上时，即可知道是该工序出现了问题。
例如，第一张掩膜版上设置的是第二红色检测标记15R，采用第一张掩膜版进行红色着色层R的制作工序，第二张掩膜版上设置第二绿色检测标记15G，采用第二张掩膜版进行绿色着色层G的制作工序，第三张掩膜版上设置第二蓝色检测标记15B，采用第三张掩膜版进行蓝色着色层B的制作工序，第四张掩膜版上设置第二隔垫物检测标记15PS，采用第四张掩膜版进行隔垫物层PS的制作工序。在完成所有制作工序后，对基板30进行光学检测，若检测到在基板30上的与第二红色检测标记15R对应的位置上的第二记号不存在或仅存在一部分，则可以知道，红色着色层R的制作工序中出现了遮板遮挡过大的问题。相应地，如果是其他检测标记对应的基板30上的位置上的第二记号不存在或仅存在一部分，则可以说明相应工序也出现了遮挡过大的问题。这样，采用这种结构的第二检测标记15，能够更好地检测对应的R/G/B/PS工艺时的窗口的遮挡效果。同时，由于第二检测标记15的长度足够长，除了可以检测遮挡过大的问题，还可以在一定程度上检测到遮板的左右移位的问题。
从上述实施例可以知道，本发明实施例提供的掩膜版组件，采用这种结构的第一检测标记和第二检测标记，能够分别监控各工序的遮挡不良，从而能够更好地检测对应的R/G/B/PS工艺时的窗口的遮挡效果。
此外，上述实施例中以所述掩膜版组件具有4个掩膜版且各掩膜版的标记设置位置各不相同的方式设置，但是可以很容易想到，在面对不同需求时，掩膜版的数量可以进行适当增减，标记位置也可以互相调换，这些变形方案也应当属于本发明的保护范围。
另外，还需要特别说明的是，在不同需求的支配下，上述实施例中的第一检测标记和第二检测标记可以分开设置在不同掩膜版上，这种变形实施例也应当属于本发明的保护范围。
基于上述目的，本发明实施例的第三个方面，提出一种能够用于监控不良发生的采用如上任一实施例所述的掩膜版或采用如上任一实施例所述的掩膜版组件检测测试窗口遮挡效果的方法。如图7所示，为本发明提供的采用所述掩膜版或掩膜版组件检测测试窗口遮挡效果的方法的一个实施例的流程示意图。
采用如上任一实施例所述的掩膜版或掩膜版组件检测测试窗口遮挡效果的方法，包括以下步骤：
步骤401：利用所述掩膜版10或掩膜版组件完成彩色滤光片中红色着色层R、绿色着色层G、蓝色着色层B和/或隔垫物层PS的制作；
步骤402：对所述彩色滤光片的基板30进行光学检测；
步骤403：若检测到所述第一检测标记在所述彩色滤光片的基板30上形成的第一记号，则判定为出现第一遮挡缺陷(即遮挡过小)；
和/或，
步骤404：若检测到所述第二检测标记在所述彩色滤光片的基板30上形成的第二记号为不完整的第二检测标记图案(即，完全不存在第二记号或仅存在一部分第二记号)，则判定为出现第二遮挡缺陷(即遮挡过大)；
步骤405：将相应的缺陷以报警的方式输出。
从上述实施例可以看出，本发明实施例提供的检测测试窗口遮挡效果的方法，通过采用如上任意实施例所述的掩膜版或掩膜版组件进行曝光，在出现遮挡不良的情况时，能够根据在基板上形成的记号来进行监测，从而能够及时发现遮板遮挡不良的情况，避免最终出现具有缺陷的产品。
需要特别说明的是，上述实施例中所采用的掩膜版的结构不同时，所述检测步骤也会相应改变，例如，掩膜版上仅有第一检测标记时，则只需检测第一记号；当然，当掩膜版上同时具有第一检测标记和第二检测标记时，也可以指检测第一记号或第二记号，这是根据需要检测的不良情况来决定的，因此不应将本发明的保护范围限定在某一个特定实施例上，任何可合理推知的实施例都应属于本发明的保护范围。
可选的，所述光学检测采用的是自动光学检测技术(AOI，Automatic OpticInspection)。采用AOI来检测第一记号和/或第二记号，检测结果较为准确，检测过程更为快捷，使得当线人员在监控AOI时能够及时发现问题。
基于上述目的，本发明实施例的第四个方面，提出一种能够用于监控不良发生的曝光机。
所述曝光机，采用如上任一实施例所述的掩膜版或掩膜版组件来完成曝光。
从上述实施例可以看出，本发明实施例提供的曝光机，采用如上任一实施例所述的掩膜版或掩膜版组件来完成曝光，这样，通过在掩膜版上设置的第一检测标记和/或第二检测标记，在使用所述掩膜版进行彩色滤光片的R/G/B/PS工艺处理后，若彩色滤光片的基板上能够通过光学检测到相应的记号，则说明出现了遮挡效果不良的问题，从而能够进行遮挡效果的监控。
所属领域的普通技术人员应当理解：以上所述仅为本发明的具体实施例而已，并不用于限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (11)

1.一种掩膜版，包括对位标记测试窗口和间距测量测试窗口，其特征在于，所述掩膜版上还设置有第一检测标记和/或第二检测标记；
所述第一检测标记，与所述对位标记测试窗口和/或间距测量测试窗口的靠近掩膜版内部的边框齐平；
所述第二检测标记，设置在所述掩膜版的透光区整体轮廓与所述对位标记测试窗口之间，和/或，设置在所述掩膜版的透光区整体轮廓与所述间距测量测试窗口之间；
其中，所述第一检测标记和/或第二检测标记，用于检测所述对位标记测试窗口和/或间距测量测试窗口是否在曝光工艺中存在遮挡不良。
2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第一检测标记设置在所述对位标记测试窗口和/或间距测量测试窗口的一侧。
3.根据权利要求1或2所述的掩膜版，其特征在于，所述第一检测标记包括第一子标记和第二子标记；
所述第一子标记设置在所述对位标记测试窗口的一侧；
所述第二子标记设置在所述间距测量测试窗口的一侧。
4.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第二检测标记的整体呈条状且长度大于所述对位标记测试窗口与间距测量测试窗口的相互远离的两个侧边之间的距离。
5.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述第二检测标记的整体呈条状且长度大于所述掩膜版的透光区整体轮廓的长度。
6.根据权利要求4或5所述的掩膜版，其特征在于，所述第二检测标记的宽度小于所述掩膜版的透光区整体轮廓朝向所述对位标记测试窗口的边缘与所述对位标记测试窗口朝向所述掩膜版的透光区整体轮廓的边缘之间的距离，和/或，所述第二检测标记的宽度小于所述掩膜版的透光区整体轮廓的朝向所述间距测量测试窗口的边缘与所述间距测量测试窗口朝向所述掩膜版的透光区整体轮廓的边缘之间的距离。
7.一种掩膜版组件，其特征在于，包括多个如权利要求1-6任一项所述的掩膜版；
所述第一检测标记包括第一红色检测标记、第一绿色检测标记、第一蓝色检测标记和第一隔垫物检测标记；
所述第一红色检测标记、第一绿色检测标记、第一蓝色检测标记和第一隔垫物检测标记分别设置在所述掩膜版组件的不同的掩膜版上；且所述第一红色检测标记、第一绿色检测标记、第一蓝色检测标记和第一隔垫物检测标记在各自掩膜版上所处位置各不相同；
和/或，
所述第二检测标记包括第二红色检测标记、第二绿色检测标记、第二蓝色检测标记和第二隔垫物检测标记；
所述第二红色检测标记、第二绿色检测标记、第二蓝色检测标记和第二隔垫物检测标记分别设置在所述掩膜版组件的不同的掩膜版上，且所述第二红色检测标记、第二绿色检测标记、第二蓝色检测标记和第二隔垫物检测标记在各自掩膜版上所处位置各不相同。
8.根据权利要求7所述的掩膜版组件，其特征在于，所述第二红色检测标记、第二绿色检测标记、第二蓝色检测标记和第二隔垫物检测标记的数量均为多个；
多个所述第二红色检测标记等间隔排列，且距离最远的两个第二红色检测标记之间的距离大于所述对位标记测试窗口与间距测量测试窗口的相互远离的两个侧边之间的距离；
多个所述第二绿色检测标记等间隔排列，且距离最远的两个第二绿色检测标记之间的距离大于所述对位标记测试窗口与间距测量测试窗口的相互远离的两个侧边之间的距离；
多个所述第二蓝色检测标记等间隔排列，且距离最远的两个第二蓝色检测标记之间的距离大于所述对位标记测试窗口与间距测量测试窗口的相互远离的两个侧边之间的距离；
多个所述第二隔垫物检测标记等间隔排列，且距离最远的两个第二隔垫物检测标记之间的距离大于所述对位标记测试窗口与间距测量测试窗口的相互远离的两个侧边之间的距离。
9.一种采用如权利要求1-6任一项所述掩膜版或者采用如权利要求7或8所述掩膜版组件检测测试窗口遮挡效果的方法，其特征在于，包括：
利用所述掩膜版或掩膜版组件完成彩色滤光片中红色着色层、绿色着色层、蓝色着色层和/或隔垫物层的制作；
对所述彩色滤光片的基板进行光学检测；
若检测到所述第一检测标记在所述彩色滤光片的基板上形成的第一记号，则判定为出现第一遮挡缺陷；
和/或，
若检测到所述第二检测标记在所述彩色滤光片的基板上形成的第二记号为不完整的第二检测标记图案，则判定为出现第二遮挡缺陷。
10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述光学检测采用的是自动光学检测技术。
11.一种曝光机，其特征在于，采用如权利要求1-6任一项所述掩膜版或者采用如权利要求7或8所述掩膜版组件完成曝光。
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