JPH11153805A - 透明電極膜用アライメントマーク - Google Patents
透明電極膜用アライメントマークInfo
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- JPH11153805A JPH11153805A JP9320820A JP32082097A JPH11153805A JP H11153805 A JPH11153805 A JP H11153805A JP 9320820 A JP9320820 A JP 9320820A JP 32082097 A JP32082097 A JP 32082097A JP H11153805 A JPH11153805 A JP H11153805A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 カラーフィルター上の透明電極膜パターンが
遮光パターンに対して許容値以内にアライメントされて
いるか否か、また、透明電極膜パターンのボケ量が許容
値以内にあるか否かを簡便に検出できるアライメントマ
ーク。 【解決手段】 遮光層パターン及び透明電極膜パターン
それぞれに一定の位置関係で、アライメント用遮光層マ
ーク３、アライメント用透明電極膜マーク５が設けら
れ、ａを透明電極膜パターンに許容される位置ズレ量の
絶対値とするとき、少なくとも１次元方向において、ア
ライメント用遮光層マーク３は、中心に幅が２ａ以上の
ｓである遮光層パターン３２と、その両側に間隔ａを置
いて幅がａの遮光層パターン３１とからなり、アライメ
ント用透明電極膜マーク５は、幅がｓ＋２ａの透明電極
膜パターン５１からなる。
遮光パターンに対して許容値以内にアライメントされて
いるか否か、また、透明電極膜パターンのボケ量が許容
値以内にあるか否かを簡便に検出できるアライメントマ
ーク。 【解決手段】 遮光層パターン及び透明電極膜パターン
それぞれに一定の位置関係で、アライメント用遮光層マ
ーク３、アライメント用透明電極膜マーク５が設けら
れ、ａを透明電極膜パターンに許容される位置ズレ量の
絶対値とするとき、少なくとも１次元方向において、ア
ライメント用遮光層マーク３は、中心に幅が２ａ以上の
ｓである遮光層パターン３２と、その両側に間隔ａを置
いて幅がａの遮光層パターン３１とからなり、アライメ
ント用透明電極膜マーク５は、幅がｓ＋２ａの透明電極
膜パターン５１からなる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、透明電極膜用アラ
イメントマークに関し、特に、液晶表示装置用等のカラ
ーフィルター上に形成された透明電極膜パターンがブラ
ックマトリックスに対して許容値以内にアライメントさ
れているか否か、また、透明電極膜パターンのボケ量が
許容値以内にあるか否かを簡便に検出できるアライメン
トマークに関する。
イメントマークに関し、特に、液晶表示装置用等のカラ
ーフィルター上に形成された透明電極膜パターンがブラ
ックマトリックスに対して許容値以内にアライメントさ
れているか否か、また、透明電極膜パターンのボケ量が
許容値以内にあるか否かを簡便に検出できるアライメン
トマークに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、液晶表示装置用のカラーフィルタ
ーは、例えば、透明基板上に真空成膜法、フォトリソグ
ラフィー法等を用いて所定形状のブラックマトリックス
遮光層を形成し、次に、ブラックマトリックス遮光層の
上から、１色目の着色用感材を塗布した後、その上にフ
ォトマスクを配置して露光した後、現像を行い１色目の
着色パターンを形成し、同様にして２色目以降の着色パ
ターンを形成し、次に、カラーパターンの上に保護膜層
を形成し、さらに、保護膜層の上に真空成膜法により透
明電極膜パターンを形成する工程により製造している。
ーは、例えば、透明基板上に真空成膜法、フォトリソグ
ラフィー法等を用いて所定形状のブラックマトリックス
遮光層を形成し、次に、ブラックマトリックス遮光層の
上から、１色目の着色用感材を塗布した後、その上にフ
ォトマスクを配置して露光した後、現像を行い１色目の
着色パターンを形成し、同様にして２色目以降の着色パ
ターンを形成し、次に、カラーパターンの上に保護膜層
を形成し、さらに、保護膜層の上に真空成膜法により透
明電極膜パターンを形成する工程により製造している。
【０００３】図７を参照にして、この製造工程の１例を
説明する。図７（Ａ）に示すように、ガラス等の透明矩
形基板２１上に真空成膜法を用いてクロムを成膜した
後、フォトレジストを塗布し、フォトマスクを配置して
露光、現像、クロムエッチング、フォトレジスト剥離を
行い、ストライプ状パターンあるいは格子状パターン等
からなるブラックマトリックス遮光層２２を形成する。
次いで、図７（Ｂ）に示すように、ブラックマトリック
ス遮光層２２の上から、１色目、例えばレッドの水溶性
着色層形成用感材を塗布した後、その上にフォトマスク
を配置して露光した後、現像を行いレッドパターン層２
３を形成し、２色目以降は、図７（Ｃ）、（Ｄ）に示す
ように、例えばグリーン、ブルーの着色層形成用感材を
順に塗布した後、その上にフォトマスクを配置して露光
した後、現像を行いグリーンパターン層２４、ブルーパ
ターン層２５を順に形成する。次に、図７（Ｅ）に示す
ように、物理化学的保護、表面の整面化、平坦化を目的
として、カラーパターンの上に透明な保護膜層２６を形
成する。そして、図７（Ｆ）に示すように、保護膜層２
６の上に真空成膜法により酸化インジウム錫（ＩＴＯ）
からなる透明電極膜パターン２７を形成することによ
り、カラーフィルターを製造している。
説明する。図７（Ａ）に示すように、ガラス等の透明矩
形基板２１上に真空成膜法を用いてクロムを成膜した
後、フォトレジストを塗布し、フォトマスクを配置して
露光、現像、クロムエッチング、フォトレジスト剥離を
行い、ストライプ状パターンあるいは格子状パターン等
からなるブラックマトリックス遮光層２２を形成する。
次いで、図７（Ｂ）に示すように、ブラックマトリック
ス遮光層２２の上から、１色目、例えばレッドの水溶性
着色層形成用感材を塗布した後、その上にフォトマスク
を配置して露光した後、現像を行いレッドパターン層２
３を形成し、２色目以降は、図７（Ｃ）、（Ｄ）に示す
ように、例えばグリーン、ブルーの着色層形成用感材を
順に塗布した後、その上にフォトマスクを配置して露光
した後、現像を行いグリーンパターン層２４、ブルーパ
ターン層２５を順に形成する。次に、図７（Ｅ）に示す
ように、物理化学的保護、表面の整面化、平坦化を目的
として、カラーパターンの上に透明な保護膜層２６を形
成する。そして、図７（Ｆ）に示すように、保護膜層２
６の上に真空成膜法により酸化インジウム錫（ＩＴＯ）
からなる透明電極膜パターン２７を形成することによ
り、カラーフィルターを製造している。
【０００４】上記工程の中、透明電極膜パターン２７を
形成する工程では、スパッター法が量産化の点で有利で
あり、従来、自動化ラインにおいては、ＩＴＯ膜を成膜
しようとする基板のカラーパターン領域以外を覆う金属
製マスクを、保護膜層２６まで形成したガラス製基板の
端面に対して機械的に位置決めして治具内の所定位置に
固定し、スパッター装置内に収納してスパッターを行っ
ている（例えば、特開平６−８８２０５号）。
形成する工程では、スパッター法が量産化の点で有利で
あり、従来、自動化ラインにおいては、ＩＴＯ膜を成膜
しようとする基板のカラーパターン領域以外を覆う金属
製マスクを、保護膜層２６まで形成したガラス製基板の
端面に対して機械的に位置決めして治具内の所定位置に
固定し、スパッター装置内に収納してスパッターを行っ
ている（例えば、特開平６−８８２０５号）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記のような製造工程
を経て製造されたカラーフィルターのＩＴＯ膜パターン
のブラックマトリックスに対する位置精度の確認は、成
膜された実際のＩＴＯ膜パターン領域を個々に顕微鏡に
より拡大測定し、設計値との差を算出して行っていた。
そのため、ＩＴＯ膜パターンの位置ズレの検出・判定は
煩雑で時間のかかる作業であり、かつ、測定者の判断に
よるため一義的な判定が困難であった。
を経て製造されたカラーフィルターのＩＴＯ膜パターン
のブラックマトリックスに対する位置精度の確認は、成
膜された実際のＩＴＯ膜パターン領域を個々に顕微鏡に
より拡大測定し、設計値との差を算出して行っていた。
そのため、ＩＴＯ膜パターンの位置ズレの検出・判定は
煩雑で時間のかかる作業であり、かつ、測定者の判断に
よるため一義的な判定が困難であった。
【０００６】また、ＩＴＯ膜パターンの成膜は上記した
ように金属製マスクを使用したスパッター法によるた
め、金属製マスクの基板からの浮きによってＩＴＯ膜パ
ターンにボケが発生する。このボケ量の検出・判定は測
定者の感覚によっているため、同様に一義的な判別は困
難であった。
ように金属製マスクを使用したスパッター法によるた
め、金属製マスクの基板からの浮きによってＩＴＯ膜パ
ターンにボケが発生する。このボケ量の検出・判定は測
定者の感覚によっているため、同様に一義的な判別は困
難であった。
【０００７】本発明は従来技術のこのような問題点に鑑
みてなされたものであり、その目的は、例えばカラーフ
ィルター上に形成された透明電極膜パターンが遮光パタ
ーンに対して許容値以内にアライメントされているか否
か、また、透明電極膜パターンのボケ量が許容値以内に
あるか否かを簡便に検出できるアライメントマークを提
供することである。
みてなされたものであり、その目的は、例えばカラーフ
ィルター上に形成された透明電極膜パターンが遮光パタ
ーンに対して許容値以内にアライメントされているか否
か、また、透明電極膜パターンのボケ量が許容値以内に
あるか否かを簡便に検出できるアライメントマークを提
供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の透明電極膜用アライメントマークは、遮光層パター
ン上に積層された透明電極膜パターンのアライメント状
態を確認するために、前記遮光層パターン及び前記透明
電極膜パターンそれぞれに一定の位置関係で、アライメ
ント用遮光層マーク、アライメント用透明電極膜マーク
が設けられていることを特徴とするものである。
明の透明電極膜用アライメントマークは、遮光層パター
ン上に積層された透明電極膜パターンのアライメント状
態を確認するために、前記遮光層パターン及び前記透明
電極膜パターンそれぞれに一定の位置関係で、アライメ
ント用遮光層マーク、アライメント用透明電極膜マーク
が設けられていることを特徴とするものである。
【０００９】この場合、ａを透明電極膜パターンに許容
される位置ズレ量の絶対値とするとき、少なくとも１次
元方向において、アライメント用遮光層マークは、中心
に幅が２ａ以上のｓである遮光層パターンと、その両側
に間隔ａを置いて幅がａの遮光層パターンとからなり、
アライメント用透明電極膜マークは、幅がｓ＋２ａの透
明電極膜パターンからなることが望ましい。
される位置ズレ量の絶対値とするとき、少なくとも１次
元方向において、アライメント用遮光層マークは、中心
に幅が２ａ以上のｓである遮光層パターンと、その両側
に間隔ａを置いて幅がａの遮光層パターンとからなり、
アライメント用透明電極膜マークは、幅がｓ＋２ａの透
明電極膜パターンからなることが望ましい。
【００１０】また、少なくとも直交する２つの方向にお
いて、アライメント用遮光層マークは、中心に幅が２ａ
以上のｓである遮光層パターンと、その両側に間隔ａを
置いて幅がａの遮光層パターンとからなり、アライメン
ト用透明電極膜マークは、幅がｓ＋２ａの透明電極膜パ
ターンからなることが望ましい。
いて、アライメント用遮光層マークは、中心に幅が２ａ
以上のｓである遮光層パターンと、その両側に間隔ａを
置いて幅がａの遮光層パターンとからなり、アライメン
ト用透明電極膜マークは、幅がｓ＋２ａの透明電極膜パ
ターンからなることが望ましい。
【００１１】より具体的には、アライメント用遮光層マ
ークは、中心に直径が２ａ以上のｓである円板状遮光層
パターンと、その周囲に外周の一辺の長さがｓ＋４ａで
線幅がａの中抜けの正方形遮光層パターンとからなり、
アライメント用透明電極膜マークは、直径がｓ＋２ａの
円板状透明電極膜パターンからなることが望ましい。
ークは、中心に直径が２ａ以上のｓである円板状遮光層
パターンと、その周囲に外周の一辺の長さがｓ＋４ａで
線幅がａの中抜けの正方形遮光層パターンとからなり、
アライメント用透明電極膜マークは、直径がｓ＋２ａの
円板状透明電極膜パターンからなることが望ましい。
【００１２】なお、本発明による透明電極膜用アライメ
ントマークは、例えば液晶表示装置用のカラーフィルタ
ーに用いることができる。
ントマークは、例えば液晶表示装置用のカラーフィルタ
ーに用いることができる。
【００１３】本発明においては、遮光層パターン及び透
明電極膜パターンそれぞれに一定の位置関係で、アライ
メント用遮光層マーク、アライメント用透明電極膜マー
クが設けられているので、遮光層パターン上に積層され
た透明電極膜パターンのアライメント状態を簡便に確認
することが可能である。そして、ａを透明電極膜パター
ンに許容される位置ズレ量の絶対値とするとき、少なく
とも１次元方向において、アライメント用遮光層マーク
が、中心に幅が２ａ以上のｓである遮光層パターンと、
その両側に間隔ａを置いて幅がａの遮光層パターンとか
らなり、アライメント用透明電極膜マークが、幅がｓ＋
２ａの透明電極膜パターンからなるようにすることによ
り、例えば液晶表示装置用等のカラーフィルター上に形
成された透明電極膜パターンがブラックマトリックス遮
光層パターンに対して許容値以内にアライメントされて
いるか否かが測定者の感覚によらないで一義的に簡便に
検出・判定できる。また、透明電極膜パターンのボケ量
及びその量が許容値内であるか否かを簡便に検出・判定
できる。
明電極膜パターンそれぞれに一定の位置関係で、アライ
メント用遮光層マーク、アライメント用透明電極膜マー
クが設けられているので、遮光層パターン上に積層され
た透明電極膜パターンのアライメント状態を簡便に確認
することが可能である。そして、ａを透明電極膜パター
ンに許容される位置ズレ量の絶対値とするとき、少なく
とも１次元方向において、アライメント用遮光層マーク
が、中心に幅が２ａ以上のｓである遮光層パターンと、
その両側に間隔ａを置いて幅がａの遮光層パターンとか
らなり、アライメント用透明電極膜マークが、幅がｓ＋
２ａの透明電極膜パターンからなるようにすることによ
り、例えば液晶表示装置用等のカラーフィルター上に形
成された透明電極膜パターンがブラックマトリックス遮
光層パターンに対して許容値以内にアライメントされて
いるか否かが測定者の感覚によらないで一義的に簡便に
検出・判定できる。また、透明電極膜パターンのボケ量
及びその量が許容値内であるか否かを簡便に検出・判定
できる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の透明電極膜用ア
ライメントマークを実施例に基づいて説明する。図１に
カラーフィルターを２面付けで製造する場合の模式的平
面図を示す。図中、符号１はガラス等の透明矩形基板を
示し、その上に２面のストライプ状パターンあるいは格
子状パターン等からなるブラックマトリックス遮光層パ
ターン２が、図７（Ａ）の場合と同様に、真空成膜法を
用いてクロムを成膜した後、フォトレジストを塗布し、
フォトマスクを配置して露光、現像、クロムエッチン
グ、フォトレジスト剥離を行うことにより形成されてい
る。そして、そのブラックマトリックス遮光層パターン
２上には、図７（Ｂ）〜（Ｅ）と同様にして、図示して
いないＲ、Ｇ、Ｂ３色のカラーパターン層と保護膜層が
形成されている。そして、その上に、図中破線で示した
ＩＴＯ透明電極膜パターン４がカラーパターン領域以外
を覆う金属製マスクを介して、スパッタリングにより形
成されている。
ライメントマークを実施例に基づいて説明する。図１に
カラーフィルターを２面付けで製造する場合の模式的平
面図を示す。図中、符号１はガラス等の透明矩形基板を
示し、その上に２面のストライプ状パターンあるいは格
子状パターン等からなるブラックマトリックス遮光層パ
ターン２が、図７（Ａ）の場合と同様に、真空成膜法を
用いてクロムを成膜した後、フォトレジストを塗布し、
フォトマスクを配置して露光、現像、クロムエッチン
グ、フォトレジスト剥離を行うことにより形成されてい
る。そして、そのブラックマトリックス遮光層パターン
２上には、図７（Ｂ）〜（Ｅ）と同様にして、図示して
いないＲ、Ｇ、Ｂ３色のカラーパターン層と保護膜層が
形成されている。そして、その上に、図中破線で示した
ＩＴＯ透明電極膜パターン４がカラーパターン領域以外
を覆う金属製マスクを介して、スパッタリングにより形
成されている。
【００１５】ここで、本発明に基づいて、遮光層パター
ン２をフォトリソグラフィックに形成するとき、遮光層
パターン２の欄外の所定位置（図の場合は、基板１の四
隅）に同時にアライメント用遮光層マーク３を形成す
る。そして、透明電極膜パターン４を形成するとき、ア
ライメント用遮光層マーク３に対応する位置に、アライ
メント用透明電極膜マーク５を形成する。このアライメ
ント用遮光層マーク３を形成するためには、ブラックマ
トリックス作製用のフォトリソグラフィーマスクの四隅
に後記する形状のパターンを同時に形成しておき、ブラ
ックマトリックス遮光層パターン２と同じ製版プロセス
で作製すればよい。また、アライメント用透明電極膜マ
ーク５は、透明電極膜パターン４を成膜する際に使用す
るスパッタリング用金属製マスクの四隅に後記する形状
に対応する開口パターンを同時に形成しておき、透明電
極膜パターン４と同じスパッタリングプロセスで作製す
ればよい。
ン２をフォトリソグラフィックに形成するとき、遮光層
パターン２の欄外の所定位置（図の場合は、基板１の四
隅）に同時にアライメント用遮光層マーク３を形成す
る。そして、透明電極膜パターン４を形成するとき、ア
ライメント用遮光層マーク３に対応する位置に、アライ
メント用透明電極膜マーク５を形成する。このアライメ
ント用遮光層マーク３を形成するためには、ブラックマ
トリックス作製用のフォトリソグラフィーマスクの四隅
に後記する形状のパターンを同時に形成しておき、ブラ
ックマトリックス遮光層パターン２と同じ製版プロセス
で作製すればよい。また、アライメント用透明電極膜マ
ーク５は、透明電極膜パターン４を成膜する際に使用す
るスパッタリング用金属製マスクの四隅に後記する形状
に対応する開口パターンを同時に形成しておき、透明電
極膜パターン４と同じスパッタリングプロセスで作製す
ればよい。
【００１６】ここで、アライメント用遮光層マーク３と
アライメント用透明電極膜マーク５は、例えばそれぞれ
図２（Ａ）、（Ｂ）に示したようなパターンとする。す
なわち、アライメント用遮光層マーク３は、正方形で線
幅ａの黒枠３１の中に、枠３１の内辺から上下左右方向
に間隔ａだけ離れて設けられた直径ｓの黒円３２とから
なる。一方、アライメント用透明電極膜マーク５は、ス
パッタリングで形成する際にボケの発生がない場合に、
直径ｓ＋２ａの円形の透明電極膜５１として形成され
る。ここで、±ａは透明電極膜パターン４に許容される
位置ズレ量であり、ｓ≧２ａに設定されている。
アライメント用透明電極膜マーク５は、例えばそれぞれ
図２（Ａ）、（Ｂ）に示したようなパターンとする。す
なわち、アライメント用遮光層マーク３は、正方形で線
幅ａの黒枠３１の中に、枠３１の内辺から上下左右方向
に間隔ａだけ離れて設けられた直径ｓの黒円３２とから
なる。一方、アライメント用透明電極膜マーク５は、ス
パッタリングで形成する際にボケの発生がない場合に、
直径ｓ＋２ａの円形の透明電極膜５１として形成され
る。ここで、±ａは透明電極膜パターン４に許容される
位置ズレ量であり、ｓ≧２ａに設定されている。
【００１７】このアライメント用遮光層マーク３とアラ
イメント用透明電極膜マーク５からなる実施例のアライ
メントマークの作用を説明すると、図３（Ａ）に示すよ
うに、両マーク３、５が完全にアライメントされている
と、アライメント用透明電極膜マーク５の円形の透明電
極膜５１は、アライメント用遮光層マーク３の中心の黒
円３２の上に完全に乗り、外側の正方形の黒枠３１に内
接する。透明電極膜５１がクロムからなる黒枠３１又は
黒円３２上に乗っていると、透明電極膜５１の厚さに依
存した色の干渉色が発生するので、図３（Ａ）の状態に
あることは目視により容易に確認できる。なお、ブラッ
クマトリックス遮光層パターン２及びアライメント用遮
光層マーク３がクロムでなく樹脂ブラックを用いて形成
される場合は、上記の干渉色の代わりに界面反射によ
り、透明電極膜５１の黒枠３１又は黒円３２上に乗って
いる領域が白く見えるので、同様に図３（Ａ）の状態に
あることは目視により容易に確認できる。
イメント用透明電極膜マーク５からなる実施例のアライ
メントマークの作用を説明すると、図３（Ａ）に示すよ
うに、両マーク３、５が完全にアライメントされている
と、アライメント用透明電極膜マーク５の円形の透明電
極膜５１は、アライメント用遮光層マーク３の中心の黒
円３２の上に完全に乗り、外側の正方形の黒枠３１に内
接する。透明電極膜５１がクロムからなる黒枠３１又は
黒円３２上に乗っていると、透明電極膜５１の厚さに依
存した色の干渉色が発生するので、図３（Ａ）の状態に
あることは目視により容易に確認できる。なお、ブラッ
クマトリックス遮光層パターン２及びアライメント用遮
光層マーク３がクロムでなく樹脂ブラックを用いて形成
される場合は、上記の干渉色の代わりに界面反射によ
り、透明電極膜５１の黒枠３１又は黒円３２上に乗って
いる領域が白く見えるので、同様に図３（Ａ）の状態に
あることは目視により容易に確認できる。
【００１８】次に、アライメント用透明電極膜マーク５
がアライメント用遮光層マーク３に対して、許容位置ズ
レ量内で位置ズレを起こしていると、図３（Ｂ）の状態
になる。この状態は、円形の透明電極膜５１が、黒円３
２全面上に乗り、かつ、黒枠３１上に一部乗っているが
黒枠３１の外にはみ出していない状態であり、図３
（Ａ）と同様に、この状態にあることは目視により容易
に確認できる。
がアライメント用遮光層マーク３に対して、許容位置ズ
レ量内で位置ズレを起こしていると、図３（Ｂ）の状態
になる。この状態は、円形の透明電極膜５１が、黒円３
２全面上に乗り、かつ、黒枠３１上に一部乗っているが
黒枠３１の外にはみ出していない状態であり、図３
（Ａ）と同様に、この状態にあることは目視により容易
に確認できる。
【００１９】ところが、アライメント用透明電極膜マー
ク５がアライメント用遮光層マーク３に対して、許容位
置ズレ量より大きく位置ズレを起こしていると、図３
（Ｃ）の状態になる。この状態は、円形の透明電極膜５
１が、黒円３２上に完全には乗っておらず、かつ、黒枠
３１外にはみ出している状態であり、図３（Ａ）と同様
に、この状態にあることも目視により容易に確認でき
る。
ク５がアライメント用遮光層マーク３に対して、許容位
置ズレ量より大きく位置ズレを起こしていると、図３
（Ｃ）の状態になる。この状態は、円形の透明電極膜５
１が、黒円３２上に完全には乗っておらず、かつ、黒枠
３１外にはみ出している状態であり、図３（Ａ）と同様
に、この状態にあることも目視により容易に確認でき
る。
【００２０】さて、以上はアライメント用透明電極膜マ
ーク５がボケていないで、直径ｓ＋２ａの円形の透明電
極膜５１として形成される場合であったが、アライメン
ト用透明電極膜マーク５がボケて、直径がｓ＋２ａより
大きい円形の透明電極膜５１として形成された場合の作
用を説明する。この場合、両マーク３、５が完全にアラ
イメントされていると、図４（Ａ）に示すように、円形
の透明電極膜５１は黒円３２の上に完全に乗り、かつ、
外側の正方形の黒枠３１に一部が乗っている。この状態
においてボケ量を測定できる。しかも、円形の透明電極
膜５１が黒枠３１外にはみ出していないので、ボケ量は
許容値内であると判定できる。
ーク５がボケていないで、直径ｓ＋２ａの円形の透明電
極膜５１として形成される場合であったが、アライメン
ト用透明電極膜マーク５がボケて、直径がｓ＋２ａより
大きい円形の透明電極膜５１として形成された場合の作
用を説明する。この場合、両マーク３、５が完全にアラ
イメントされていると、図４（Ａ）に示すように、円形
の透明電極膜５１は黒円３２の上に完全に乗り、かつ、
外側の正方形の黒枠３１に一部が乗っている。この状態
においてボケ量を測定できる。しかも、円形の透明電極
膜５１が黒枠３１外にはみ出していないので、ボケ量は
許容値内であると判定できる。
【００２１】これに対して、図４（Ｂ）の状態になる
と、円形の透明電極膜５１は黒円３２全面上に乗り、か
つ、黒枠３１外にはみ出している。この状態においても
ボケ量を測定することは容易にできる。しかも、円形の
透明電極膜５１が黒円３２上に完全には乗っているにも
係わらず、そのはみ出し方向と直角な方向（左右方向）
において透明電極膜５１が黒枠３１外にはみ出していな
いので、位置ズレ量、ボケ量共に許容値内であると判定
できる。なお、この場合、ボケの発生がないとするな
ら、本来透明電極膜５１は一点鎖線の範囲にあることに
なるから、図３（Ｃ）の基準に従えば位置ズレ量は許容
量より大きいと判定することもできる。
と、円形の透明電極膜５１は黒円３２全面上に乗り、か
つ、黒枠３１外にはみ出している。この状態においても
ボケ量を測定することは容易にできる。しかも、円形の
透明電極膜５１が黒円３２上に完全には乗っているにも
係わらず、そのはみ出し方向と直角な方向（左右方向）
において透明電極膜５１が黒枠３１外にはみ出していな
いので、位置ズレ量、ボケ量共に許容値内であると判定
できる。なお、この場合、ボケの発生がないとするな
ら、本来透明電極膜５１は一点鎖線の範囲にあることに
なるから、図３（Ｃ）の基準に従えば位置ズレ量は許容
量より大きいと判定することもできる。
【００２２】また、図４（Ｃ）の状態になると、透明電
極膜５１は黒円３２上に完全には乗っておらず、かつ、
黒枠３１外にはみ出しているから、位置ズレ量が許容量
より大きいことが容易に判定できる。
極膜５１は黒円３２上に完全には乗っておらず、かつ、
黒枠３１外にはみ出しているから、位置ズレ量が許容量
より大きいことが容易に判定できる。
【００２３】以上のように、この実施例によると、円形
の透明電極膜５１が黒円３２上に完全には乗っておら
ず、かつ、黒枠３１外にはみ出している状態であるか否
かを判別することにより、液晶表示装置用等のカラーフ
ィルター上に形成された透明電極膜パターン４がブラッ
クマトリックス遮光層パターン２に対して許容値以内に
アライメントされているか否かが測定者の感覚によらな
いで一義的に簡便に検出・判定できる。また、円形の透
明電極膜５１の黒枠３１に対する大きさの判定から、ボ
ケ量及びその量が許容値内であるか否かを簡便に検出・
判定できる。
の透明電極膜５１が黒円３２上に完全には乗っておら
ず、かつ、黒枠３１外にはみ出している状態であるか否
かを判別することにより、液晶表示装置用等のカラーフ
ィルター上に形成された透明電極膜パターン４がブラッ
クマトリックス遮光層パターン２に対して許容値以内に
アライメントされているか否かが測定者の感覚によらな
いで一義的に簡便に検出・判定できる。また、円形の透
明電極膜５１の黒枠３１に対する大きさの判定から、ボ
ケ量及びその量が許容値内であるか否かを簡便に検出・
判定できる。
【００２４】次に、アライメント用遮光層マーク３及び
アライメント用透明電極膜マーク５の変形例を図５、図
６に示す。図５（Ａ）の例は、アライメント用遮光層マ
ーク３は、外周の一辺の長さがｓ＋４ａで線幅がａの正
方形の黒枠３１の中に、枠３１の内辺から上下左右方向
に間隔ａだけ離れて設けられた一辺の長さがｓの黒正方
形３２とからなり、アライメント用透明電極膜マーク５
は、一辺の長さがｓ＋２ａの正方形透明電極膜５１から
なる。図２の形状の組み合わせと図５の形状の組み合わ
せを比較した場合、図２の方が見やすい。その理由は、
黒枠３１の内周あるいは外周と透明電極膜５１の外周が
接するとき、円弧と直線が接する方が直線と直線が接す
る場合より見分けやすいからである（図５（Ｃ）も参
照）。
アライメント用透明電極膜マーク５の変形例を図５、図
６に示す。図５（Ａ）の例は、アライメント用遮光層マ
ーク３は、外周の一辺の長さがｓ＋４ａで線幅がａの正
方形の黒枠３１の中に、枠３１の内辺から上下左右方向
に間隔ａだけ離れて設けられた一辺の長さがｓの黒正方
形３２とからなり、アライメント用透明電極膜マーク５
は、一辺の長さがｓ＋２ａの正方形透明電極膜５１から
なる。図２の形状の組み合わせと図５の形状の組み合わ
せを比較した場合、図２の方が見やすい。その理由は、
黒枠３１の内周あるいは外周と透明電極膜５１の外周が
接するとき、円弧と直線が接する方が直線と直線が接す
る場合より見分けやすいからである（図５（Ｃ）も参
照）。
【００２５】図５（Ｂ）の例は、アライメント用遮光層
マーク３は、外周が直径ｓ＋４ａで線幅がａの円環の黒
枠３１の中に、それと同心に直径ｓの黒円板３２が配置
されたものであり、アライメント用透明電極膜マーク５
は、直径がｓ＋２ａの円板状の透明電極膜５１からな
る。この例は、直交する２方向だけでなくあらゆる方向
に対してアライメント状態を確認できるようにしたもの
である。
マーク３は、外周が直径ｓ＋４ａで線幅がａの円環の黒
枠３１の中に、それと同心に直径ｓの黒円板３２が配置
されたものであり、アライメント用透明電極膜マーク５
は、直径がｓ＋２ａの円板状の透明電極膜５１からな
る。この例は、直交する２方向だけでなくあらゆる方向
に対してアライメント状態を確認できるようにしたもの
である。
【００２６】図５（Ｃ）の例は、アライメント用遮光層
マーク３は、外周に内接する円の直径がｓ＋４ａで線幅
がａの中抜けの正六角形の黒枠３１の中に、それと同心
に直径ｓの黒円板３２が配置されたものであり、アライ
メント用透明電極膜マーク５は、直径がｓ＋２ａの円板
状の透明電極膜５１からなる。この例は、図２の例が直
交する２方向に対してアライメント状態を確認するもの
であったのに対し、さらにそれらの間の角度を含む４方
向に対してアライメント状態を確認できるようにしたも
のである。
マーク３は、外周に内接する円の直径がｓ＋４ａで線幅
がａの中抜けの正六角形の黒枠３１の中に、それと同心
に直径ｓの黒円板３２が配置されたものであり、アライ
メント用透明電極膜マーク５は、直径がｓ＋２ａの円板
状の透明電極膜５１からなる。この例は、図２の例が直
交する２方向に対してアライメント状態を確認するもの
であったのに対し、さらにそれらの間の角度を含む４方
向に対してアライメント状態を確認できるようにしたも
のである。
【００２７】図６の例は、直交する２方向に対してそれ
ぞれ別の１次元方向のアライメント用遮光層マーク３
Ｘ、３Ｙ、アライメント用透明電極膜マーク５Ｘ、５Ｙ
を設けてそれぞれの方向のアライメント状態を別々に確
認するようにしたもので、アライメント用透明電極膜マ
ーク３Ｘ、３Ｙは、中心に幅がｓの黒ストライプ３２
と、その両側に間隔ａを置いて幅がａの黒ストライプ３
１、３１とからなり、アライメント用透明電極膜マーク
５Ｘ、５Ｙは、幅がｓ＋２ａのストライプ状透明電極膜
５１からなっている。
ぞれ別の１次元方向のアライメント用遮光層マーク３
Ｘ、３Ｙ、アライメント用透明電極膜マーク５Ｘ、５Ｙ
を設けてそれぞれの方向のアライメント状態を別々に確
認するようにしたもので、アライメント用透明電極膜マ
ーク３Ｘ、３Ｙは、中心に幅がｓの黒ストライプ３２
と、その両側に間隔ａを置いて幅がａの黒ストライプ３
１、３１とからなり、アライメント用透明電極膜マーク
５Ｘ、５Ｙは、幅がｓ＋２ａのストライプ状透明電極膜
５１からなっている。
【００２８】以上、本発明の透明電極膜用アライメント
マークをいくつかの実施例に基づいて説明してきたが、
本発明はこれら実施例に限定されず種々の変形が可能で
ある。
マークをいくつかの実施例に基づいて説明してきたが、
本発明はこれら実施例に限定されず種々の変形が可能で
ある。
【００２９】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の透明電極膜用アライメントマークによると、遮光層パ
ターン及び透明電極膜パターンそれぞれに一定の位置関
係で、アライメント用遮光層マーク、アライメント用透
明電極膜マークが設けられているので、遮光層パターン
上に積層された透明電極膜パターンのアライメント状態
を簡便に確認することが可能である。そして、ａを透明
電極膜パターンに許容される位置ズレ量の絶対値とする
とき、少なくとも１次元方向において、アライメント用
遮光層マークが、中心に幅が２ａ以上のｓである遮光層
パターンと、その両側に間隔ａを置いて幅がａの遮光層
パターンとからなり、アライメント用透明電極膜マーク
が、幅がｓ＋２ａの透明電極膜パターンからなるように
することにより、例えば液晶表示装置用等のカラーフィ
ルター上に形成された透明電極膜パターンがブラックマ
トリックス遮光層パターンに対して許容値以内にアライ
メントされているか否かが測定者の感覚によらないで一
義的に簡便に検出・判定できる。また、透明電極膜パタ
ーンのボケ量及びその量が許容値内であるか否かを簡便
に検出・判定できる。
の透明電極膜用アライメントマークによると、遮光層パ
ターン及び透明電極膜パターンそれぞれに一定の位置関
係で、アライメント用遮光層マーク、アライメント用透
明電極膜マークが設けられているので、遮光層パターン
上に積層された透明電極膜パターンのアライメント状態
を簡便に確認することが可能である。そして、ａを透明
電極膜パターンに許容される位置ズレ量の絶対値とする
とき、少なくとも１次元方向において、アライメント用
遮光層マークが、中心に幅が２ａ以上のｓである遮光層
パターンと、その両側に間隔ａを置いて幅がａの遮光層
パターンとからなり、アライメント用透明電極膜マーク
が、幅がｓ＋２ａの透明電極膜パターンからなるように
することにより、例えば液晶表示装置用等のカラーフィ
ルター上に形成された透明電極膜パターンがブラックマ
トリックス遮光層パターンに対して許容値以内にアライ
メントされているか否かが測定者の感覚によらないで一
義的に簡便に検出・判定できる。また、透明電極膜パタ
ーンのボケ量及びその量が許容値内であるか否かを簡便
に検出・判定できる。
【図１】カラーフィルターを２面付けで製造する場合の
模式的平面図である。
模式的平面図である。
【図２】本発明の１実施例の透明電極膜用アライメント
マークを示す平面図である。
マークを示す平面図である。
【図３】図２の透明電極膜用アライメントマークの作用
を説明するための図である。
を説明するための図である。
【図４】ボケがある場合の図２の透明電極膜用アライメ
ントマークの作用を説明するための図である。
ントマークの作用を説明するための図である。
【図５】本発明のいくつかの変形例のを示す平面図であ
る。
る。
【図６】本発明の別の変形例のを示す平面図である。
【図７】液晶表示装置用のカラーフィルターの製造工程
の１例を説明するための図である。
の１例を説明するための図である。
１…透明矩形基板 ２…ブラックマトリックス遮光層パターン ３、３Ｘ、３Ｙ…アライメント用遮光層マーク ４…ＩＴＯ透明電極膜パターン ５、５Ｘ、５Ｙ…アライメント用透明電極膜マーク ３１…アライメント用遮光層マークの外側パターン ３２…アライメント用遮光層マークの内側パターン ５１…アライメント用透明電極膜マークのパターン
Claims (5)
- 【請求項１】 遮光層パターン上に積層された透明電極
膜パターンのアライメント状態を確認するために、前記
遮光層パターン及び前記透明電極膜パターンそれぞれに
一定の位置関係で、アライメント用遮光層マーク、アラ
イメント用透明電極膜マークが設けられていることを特
徴とする透明電極膜用アライメントマーク。 - 【請求項２】 ａを前記透明電極膜パターンに許容され
る位置ズレ量の絶対値とするとき、少なくとも１次元方
向において、前記アライメント用遮光層マークは、中心
に幅が２ａ以上のｓである遮光層パターンと、その両側
に間隔ａを置いて幅がａの遮光層パターンとからなり、
前記アライメント用透明電極膜マークは、幅がｓ＋２ａ
の透明電極膜パターンからなることを特徴とする請求項
１記載の透明電極膜用アライメントマーク。 - 【請求項３】 少なくとも直交する２つの方向におい
て、前記アライメント用遮光層マークは、中心に幅が２
ａ以上のｓである遮光層パターンと、その両側に間隔ａ
を置いて幅がａの遮光層パターンとからなり、前記アラ
イメント用透明電極膜マークは、幅がｓ＋２ａの透明電
極膜パターンからなることを特徴とする請求項２記載の
透明電極膜用アライメントマーク。 - 【請求項４】 前記アライメント用遮光層マークは、中
心に直径が２ａ以上のｓである円板状遮光層パターン
と、その周囲に外周の一辺の長さがｓ＋４ａで線幅がａ
の中抜けの正方形遮光層パターンとからなり、前記アラ
イメント用透明電極膜マークは、直径がｓ＋２ａの円板
状透明電極膜パターンからなることを特徴とする請求項
３記載の透明電極膜用アライメントマーク。 - 【請求項５】 液晶表示装置用のカラーフィルターに用
いられることを特徴とする請求項１から４の何れか１項
記載の透明電極膜用アライメントマーク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32082097A JP3973058B2 (ja) | 1997-11-21 | 1997-11-21 | 透明電極膜用アライメントマーク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32082097A JP3973058B2 (ja) | 1997-11-21 | 1997-11-21 | 透明電極膜用アライメントマーク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11153805A true JPH11153805A (ja) | 1999-06-08 |
| JP3973058B2 JP3973058B2 (ja) | 2007-09-05 |
Family
ID=18125607
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32082097A Expired - Lifetime JP3973058B2 (ja) | 1997-11-21 | 1997-11-21 | 透明電極膜用アライメントマーク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3973058B2 (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001311815A (ja) * | 2000-04-28 | 2001-11-09 | Shin Sti Technology Kk | カラーフィルターの検査方法 |
| JP2005257807A (ja) * | 2004-03-09 | 2005-09-22 | Advanced Display Inc | カラーフィルタ基板の製造方法およびカラーフィルタ基板の検査方法 |
| JP2005301057A (ja) * | 2004-04-14 | 2005-10-27 | Hitachi Displays Ltd | 表示装置 |
| JP2009157187A (ja) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Citizen Finetech Miyota Co Ltd | 透過型液晶パネル及び液晶表示装置ならびに投射型表示装置 |
| JP2009187039A (ja) * | 2009-05-27 | 2009-08-20 | Sharp Corp | 液晶表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置 |
| JP2013113766A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-06-10 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | アライメント方法およびパターン形成方法 |
| CN103268028A (zh) * | 2013-05-20 | 2013-08-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | 自动调节灰度的检出系及方法 |
| CN105093636A (zh) * | 2015-09-21 | 2015-11-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | 触控显示基板及其制备方法和触控显示面板 |
| US9327488B2 (en) | 2011-11-30 | 2016-05-03 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Alignment method, transfer method and transfer apparatus |
| CN109767994A (zh) * | 2018-12-12 | 2019-05-17 | 信利半导体有限公司 | Oled基板及其图案偏移检测方法、装置 |
| CN111258105A (zh) * | 2018-11-30 | 2020-06-09 | 上海仪电显示材料有限公司 | 彩色滤光基板及测试方法 |
-
1997
- 1997-11-21 JP JP32082097A patent/JP3973058B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| WO2014187116A1 (zh) * | 2013-05-20 | 2014-11-27 | 京东方科技集团股份有限公司 | 自动调节灰度的检出系统及方法 |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3973058B2 (ja) | 2007-09-05 |
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