CN113540038A - 对位标记结构、基板、掩膜板、基板与掩膜板的对位方法 - Google Patents

对位标记结构、基板、掩膜板、基板与掩膜板的对位方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及平面显示技术领域，公开了一种对位标记结构、基板、掩膜板、基板与掩膜板的对位方法。所述对位标记结构设置于基板或掩膜板上，所述对位标记结构包括对位标记及开设于对位标记上的透光孔。本发明提供的对位标记结构、基板、掩膜板、基板与掩膜板的对位方法可提高对位标记的对位精准度及基板与掩膜板间的位置精度，确保产品良率。

Description

对位标记结构、基板、掩膜板、基板与掩膜板的对位方法
技术领域
本发明涉及平面显示技术领域，尤其涉及一种对位标记结构、基板、掩膜板、基板与掩膜板的对位方法。
背景技术
曝光工艺是在光刻胶涂布后，用带有图形的掩膜板对玻璃基板进行曝光，把需要的图形从掩膜板上转移到玻璃基板上。利用曝光机进行曝光时，为保证曝光精准度，需要在玻璃基板及掩膜板上制作对位标记，并在曝光前根据对位标记预先进行对位，以保证曝光时玻璃基板与掩膜板的位置精度。
现有技术中，玻璃基板的对位标记上还覆盖有不透明膜层，不透明膜层的存在会影响对位标记的识别效果，导致图像传感器无法获取清晰的对位标记图像，进而影响玻璃基板及掩膜板间对位精准度及位置精度。另外，当玻璃基板上需要制作多层电路图形时，需要反复进行对位，对于曝光工艺来讲，需要确保每层膜层间的对位精度，才能避免多层膜层间出现套合误差，保证产品良率。
发明内容
本发明的目的在于提供一种对位标记结构、基板、掩膜板、基板与掩膜板的对位方法，用于解决对位标记对位精准差的问题。
为解决上述问题，第一方面，本发明公开了一种对位标记结构，设置于基板或掩膜板上，所述对位标记结构包括对位标记及开设于所述对位标记上的透光孔。
在一实施例中，所述透光孔包括至少一个点状孔或条形孔，且所述透光孔沿着所述对位标记的至少部分边缘延伸。
在一实施例中，所述对位标记为正方形、长方形、三角形或十字形的一种。
本发明提供的对位标记结构中，通过在对位标记上设置透光孔，可使对位标记的边界增加，使得对位标记在相同光源照射下所呈现的颜色更深，从而图像传感器可识别到较为清晰的对位标记图像并获取对位标记准确的位置信息，有效提升对位标记的对位精准度。
第二方面，本发明公开了一种基板，所述基板上设有第一方面中所述的对位标记结构。
本发明提供的基板，通过在基板的对位标记上开设透光孔，可使对位标记的边界增加，使得对位标记在相同光源照射下所呈现的颜色更深，从而图像传感器可识别到较为清晰的对位标记图像并获取对位标记准确的位置信息，有效提升对位标记的对位精准度，降低基板制作工艺中因对位不准而造成的产品次品率。
第三方面，本发明公开了一种掩膜板，所述掩膜板上设有如第一方面中所述的对位标记结构。
本发明提供的掩膜板，通过在掩膜板的对位标记上开设透光孔，可使对位标记的边界增加，使得对位标记在相同光源照射下所呈现的颜色更深，从而图像传感器可识别到较为清晰的对位标记图像并获取对位标记准确的位置信息，有效提升对位标记的对位精准度，确保后续曝光时可在基板的预设位置处形成电路图形，提高基板产品良率。
第四方面，本发明公开了一种基板与掩膜板的对位方法，所述对位方法包括：
提供基板，所述基板上设有第一对位标记及开设于所述第一对位标记上的第一透光孔，所述基板上还设有覆盖所述第一对位标记及所述第一透光孔的不透明膜层；
提供掩膜板，所述掩膜板上设有第二对位标记；
根据所述不透明膜层的反射率调整图像传感器的光源参数；
利用所述图像传感器获取所述基板的位置信息，并根据所述基板的位置信息调整所述掩膜板，使所述第二对位标记与所述第一对位标记的位置相对。
在一实施例中，所述对位方法还包括：
提供辅助对位膜层，所述辅助对位膜层设置于所述不透明膜层的上方；
利用背曝光技术，在所述辅助对位膜层上形成与所述第一对位标记和所述第一透光孔结构及位置相同的辅助对位标记和辅助透光孔；
利用所述图像传感器获取所述基板的位置信息，并根据所述基板的位置信息调整所述掩膜板，使所述第二对位标记与所述第一对位标记的位置相对，包括：
利用所述图像传感器获取所述辅助对位标记的位置坐标，以获取所述基板的位置信息，并根据所述基板的位置信息调整所述掩膜板，使所述第二对位标记与所述辅助对位标记相对，进而使所述第二对位标记与所述第一对位标记相对。
在一实施例中，若所述不透明膜层的反射率大于50％，调整图像传感器的光源参数包括：调整所述图像传感器的光源亮度为最大亮度的25％-35％。
在一实施例中，若所述不透明膜层的反射率为30％-50％，调整图像传感器的光源参数包括：调整所述图像传感器的光源亮度为最大亮度的55％-65％。
在一实施例中，若所述不透明膜层的反射率小于30％，调整所述图像传感器的光源参数包括：调整所述图像传感器的光源亮度为最大亮度的85％-95％。
在一实施例中，在提供掩膜板时，若所述不透明膜层的反射率大于或等于30％，所述掩膜板的所述第二对位标记上开设有第二透光孔。
在一实施例中，所述基板上设有多个第一对位标记，所述掩膜板上设有多个所述第二对位标记，且多个所述第一对位标记与多个所述第二对位标记一一对应。
本发明实施例提供的基板与掩膜板的对位方法，通过改进基板及掩膜板上的对位标记，以及根据基板的不透明膜层调整图形传感器的光源参数，可有效消除不透明膜层产生的消极影响，使得图像传感器可以获取第一对位标记及第二对位标记的清晰图像，并可获取第一对位标记及第二对位标记的精准位置信息，从而可有效提高第一对位标记及第二对位标记间的对位精准度及基板与掩膜板间的位置精度，提高基板的产品良率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的一种对位标记结构的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的另一种对位标记结构的结构示意图；
图3为图1和图2所示两种对位标记结构对位示意图；
图4为图1所述对位标记结构中对位标记的结构示意图；
图5为图2所示对位标记结构中对位标记的结构示意图；
图6为图1所示对位标记结构设置于基板上的结构示意图；
图7为图2所述对位标记结构设置于掩膜板上的结构示意图；
图8为本发明实施例提供的基板与掩膜板的对位方法的流程图之一；
图9为本发明实施例提供的基板与掩膜板的对位方法的流程图之二。
主要元件符号说明：
1、对位标记结构；11、对位标记；12、透光孔。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
需说明的是，当部件被称为“固定于”或“设置于”另一个部件，它可以是直接或者间接在该另一个部件上。当一个部件被称为是“连接于”另一个部件，它可以是直接或者间接连接至该另一个部件上。术语“上”、“下”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对专利的限制。术语“第一”、“第二”仅用于便于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明技术特征的数量。“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
第一方面，本发明提供了一种对位标记结构，该对位标记结构可设置于基板和掩膜板上，用于辅助基板及掩膜板进行对位。如图1和图2所示，该对位标记结构1包括对位标记11及开设于对位标记11上的透光孔12。
上述对位标记结构1设置于基板或掩膜板上时，布置于透光层或半透光层上。其中，基板上的对位标记11可以由黑色树脂等有机树脂材料制成，掩膜板上的对位标记可以由不透光材料制成，例如铬等金属材料。透光孔12为设置于对位标记11上且可穿透对位标记11的通孔。当光源照射于设有对位标记结构1的基板或掩膜板上时，对位标记结构1呈深色，未开设对位标记结构1或其它图案的位置处呈白色，利用图像传感器可识别对位标记11并获取对位标记11的位置信息，从而可利用对位标记11进行对位。本发明提供的对位标记结构1中，通过在对位标记11上设置透光孔12，可使对位标记11的边界增加，使得对位标记11在相同光源照射下所呈现的颜色更深，从而图像传感器可识别到较为清晰的对位标记11图像并获取对位标记11准确的位置信息，有效提升对位标记11的对位精准度。
需要说明的是，对位标记11由不透光材料制成，不透光材料的透过率越低，其在光照下的黑度越高，对位标记11越明显，图像传感器检测到的图像也越清晰，更加易于对位且对位精准度高。另外，对位标记结构1最初设置于掩膜板上，基板上的对位标记结构1是经上道光刻工序由上道掩膜板转移形成的。
本发明提供的对位标记结构1中，透光孔12的类型及设置方式不唯一。例如，在一些实施例中，透光孔12可以为开设于对位标记11上的一条或多条条形孔，多条条形孔可平行设置，也可沿对位标记11边缘依次设置并组合成与对位标记11形状相同的图案。或者，在一些实施例中，透光孔12还可为开设于对位标记11上的多个点状孔，多个点状孔间隔设置且沿对位标记11边缘延伸分布。透光孔12的类型及设置方式可依据对位标记11形状及对位精度要求进行设计，在此不作限定。
本发明提供的对位标记结构1中，对位标记11的形状也不唯一。例如，在一些实施例中，如图1所示，对位标记11可以为十字形。或者，在一些实施例中，如图2所示，对位标记11可以为方形。或者，在一些实施例中，对位标记11还可为长方形、三角形或其它可以用做对位的图形，具体可根据基板及掩膜板的形状或对位精度要求进行设计，在此不作限定。
进一步地，对位标记结构1的尺寸也不唯一。在一实施例中，对位标记结构1包括十字形对位标记11及两组十字形透光孔12，每组透光孔12均由两垂直设置的条形孔组成，两组透光孔12的中心均与对位标记11的中心重合，且两组透光孔12的大小不同，两组透光孔距对位标记11边缘的距离分别为0.01mm和0.02mm。在一实施例中，对位标记结构1包括方形对位标记11及两组方形透光孔12，每组透光孔12均由四条条形孔组成，两组透光孔12的中心均与对位标记11的中心重合，且两组透光孔12的大小不同，两组透光孔距对位标记11边缘的距离分别为0.01mm和0.02mm。以上仅为本发明提供的两个实施例，但不限于此，对位标记11及透光孔12的实际结构及大小可根据基板或掩膜板进行设计。
为方便理解，如图1和图2所示，为本发明实施例提供的对位标记结构1的结构示意图，对位标记11上开设有透光孔12。如图4和图5所示，为对位标记11的结构示意图，对位标记11上未开设透光孔12。如图3所示，为两组结构不同的对位标记结构1对位时的示意图。
第二方面，本发明提供了一种基板，基板上设有如第一方面中的对位标记结构1。其中，基板可以为玻璃基板、石英基板或透明树脂基板。
基板上设置对位标记结构1时，对位标记结构1需要布置于透光层或半透光层上，基板上的对位标记11可以由黑色树脂等有机树脂材料制成，透光孔12设置于对位标记11上且穿透对位标记11。
本发明提供的基板，其上设有如第一方面中的对位标记结构1，当光源照射于基板上时，对位标记11呈深色，未开设对位标记11或其它图案的位置处呈白色，这样，利用图形传感器可识别对位标记11并获取对位标记11的位置信息，从而可利用对位标记11进行对位。上述基板的对位标记11上还设有透光孔12，通过设置透光孔12，可使对位标记11的边界增加，使得对位标记11在相同光源照射下所呈现的颜色更深，从而图像传感器可识别到较为清晰的对位标记11图像并获取对位标记11准确的位置信息，有效提升对位标记11的对位精准度，降低基板制作工艺中因对位不准而造成的产品次品率。
需要说明的是，对位标记结构1最初形成于掩膜板上，本实施例中基板上的对位标记结构1是经光刻工序由掩膜板转移形成的。为了不影响基板上电路图形的制作，如图6所示，对位标记结构1通常设置于基板的边缘位置处。另外，为提升对位精准度，可在基板上设置多组对位标记结构1，其中，多组对位标记结构1的形状可以相同，也可以不同，且多组对位标记结构1可以相邻但不可以相交。
第三方面，本发明提供了一种掩膜板，掩膜板上设有如第一方面中的对位标记结构1。其中，掩膜板可采用高透过率、低反射率的石英玻璃作为衬底。
掩膜板上设置对位标记结构1时，对位标记结构1需要布置于透光层或半透光层上，对位标记11由不透光材料制成，例如铬等金属材料，透光孔12设置于对位标记11上且穿透对位标记11。
本发明提供的掩膜板，其上设有如第一方面中的对位标记结构1，当光源照射于掩膜板上时，对位标记11呈深色，未开设对位标记11或其它图案的位置处呈白色，这样，利用图形传感器可识别对位标记11并获取对位标记11的位置信息，从而可利用对位标记11进行对位。上述掩膜板的对位标记11上还设有透光孔12，通过设置透光孔12，可使对位标记11的边界增加，使得对位标记11在相同光源照射下所呈现的颜色更深，从而图像传感器可识别到较为清晰的对位标记11图像并获取对位标记11准确的位置信息，有效提升对位标记11的对位精准度，确保后续曝光时可在基板的预设位置处形成电路图形，提高基板产品良率。
需要说明的是，掩膜板上还形成有用于曝光的电路图形，为避免破坏电路图形的完整性，如图7所示，对位标记结构1通常设置于掩膜板的边缘位置处。另外，为提升对位精准度，可在掩膜板上设置多组对位标记结构1，其中，多组对位标记结构1的形状可以相同，也可以不同，且掩膜板上多组对位标记结构1的位置与基板上多组对位标记结构1的位置一一对应。
第四方面，本发明提供了一种基板与掩膜板的对位方法，用于提高基板与掩膜板间的对位精准度及位置精度。如图8所示，该对位方法包括：
S100：提供基板，基板上设有第一对位标记及开设于第一对位标记上的第一透光孔，且基板上还设有覆盖第一对位标记及第一透光孔的不透明膜层。
其中，基板可以为玻璃基板、石英基板或透明树脂基板。不透明膜层可以为透明度较低的金属膜层，也可以为涂覆于基板表面的光刻胶。
第一对位标记需要布置于透光层或半透光层上，第一对位标记可以由黑色树脂等有机树脂材料制成，透光孔12设置于对位标记11上且穿透对位标记11。
在第一对位标记上设置第一透光孔，可使第一对位标记在相同光源照射下所呈现的颜色更深，使得第一对位标记更加清晰。
S200：提供掩膜板，掩膜板上设有第二对位标记。
其中，掩膜板可采用高透过率、低反射率的石英玻璃作为衬底。
第二对位标记设置于石英玻璃上，且第二对位标记由不透光材料制成，例如铬等金属材料。
S300：根据不透明膜层的反射率调整图像传感器的光源参数。其中，光源参数可以为光源亮度。
不透明膜层的反射率越高，其透过率越低，即不透明度也越高。根据不透明膜层的反射率调整图像传感器的光源参数，可提高基板上第一对位标记在光源照射下的黑度，有效消除不透明膜层产生的消极影响，使得图像传感器可以获得较为清晰的第一对位标记图像。
S400：利用图像传感器获取基板的位置信息，并根据基板的位置信息调整掩膜板，使第二对位标记与第一对位标记的位置相对。
基板的位置信息可以包括基板的第一对位标记的中心坐标。图像传感器可以为CCD相机。
本发明实施例提供的基板与掩膜板的对位方法中，通过在基板上设置第一对位标记并在第一对位标记上设置第一透光孔，可使第一对位标记的边界增加，使得第一对位标记在相同光源照射下所呈现的颜色更深，有效消除不透明膜层产生的消极影响。另外，上述方法还包括根据不透明膜层的反射率调整图像传感器的光源参数，通过调整光源参数，可提高光源照射下第一对位标记的黑度，进一步消除不透明膜层产生的消极影响。综上，利用本发明提供的对位方法进行对位时，可有效消除不透明膜层产生的消极影响，使得图像传感器可以获取第一对位标记及第二对位标记的清晰图像，并可获取第一对位标记及第二对位标记的精准位置信息，从而可有效提高第一对位标记及第二对位标记间的对位精准度及基板与掩膜板间的位置精度，提高基板的产品良率。
进一步地，利用上述方法制作具备多层电路图形的产品时，基板上各膜层间对位误差较小，不同电路层间的套合误差也较小。
可以理解，为确保识别准确度，基板上的第一对位标记及掩膜板上的第二对位标记的形状可不同。例如，在一些实施例中，基板上的第一对位标记可设计为十字形(如图6所示)，掩膜板上的第二对位标记可设计为方形(如图7所示)，对位时可调整基板及掩膜板的位置，使第二对位标记套于第一对位标记上，并使第一对位标记和第二对位标记的中心坐标重合(如图3所示)。
第一对位标记的厚度也会影响其在光源照射下的黑度。具体地，第一对位标记厚度越小，在光源照射下其黑度也越小，图像传感器检测到的第一对位标记图像越模糊。为解决上述问题，当第一对位标记厚度较小时，可在基板及掩膜板间设置辅助对位膜层，利用辅助膜层辅助基板及掩膜板进行对位，在本发明提供的一个实施例中，如图9所示，对位方法还包括：
S101：提供辅助对位膜层，辅助对位膜层设置于不透明膜层的上方。
可以理解，为确保后续曝光工序可正常进行，辅助对位膜层可采用透明材料制成。
S102：利用背曝光技术，在辅助对位膜层上形成与第一对位标记和第一透光孔结构及位置相同的辅助对位标记和辅助透光孔。
上述步骤中，利用基板作为辅助对位膜层的掩膜板进行背曝光，可直接将基板上的第一对位标记及第一透光孔转移至辅助对位膜层上，并在辅助膜层上形成与第一对位标记及第一透光孔完全相同的辅助对位标记和辅助透光孔。
为确保辅助对位标记的对位效果，可选地，辅助对位标记的厚度大于1μm。
S103：利用图像传感器获取辅助对位标记的位置坐标，以获取基板的位置信息，并根据基板的位置信息调整掩膜板，使第二对位标记与第一对位标记相对。具体地，利用图像传感器获取辅助对位标记的位置坐标，以获取基板的位置信息，并根据基板的位置信息调整掩膜板，使第二对位标记与辅助对位标记相对，进而使第二对位标记与第一对位标记相对。
由于辅助对位膜层与基板间不存在套合误差，且辅助对位标记与第一对位标记位置相对，当第二对位标记的位置与辅助对位标记相对时，也与第一对位标记相对。
辅助对位膜层厚度较大，在相同光源照射下，辅助对位标记黑度较高，且辅助对位标记与掩膜板相邻，不受不透明膜层的影响，图像传感器可检测到辅助对位标记的清晰图像并获取辅助对位标记的准确位置信息，从而引入辅助对位膜层进行对位，可有效提高第一对位标记及第二对位标记间的对位精准度及基板与掩膜板间的位置精度，提高基板的产品良率。
需要说明的是，利用辅助对位膜层进行对位时，为确保辅助对位标记与第一对位标记位置相对，应调整掩膜板的位置，并使掩膜板上的第二对位标记与辅助对位膜层上的辅助对位标记相对。
可选的，当基板上第一对位标记的厚度小于1μm时，可引入辅助对位膜层和辅助对位标记进行对位，同时，为保证辅助对位标记的对位效果，辅助对位标记的厚度大于1μm。
图像传感器的光源亮度也会影响第一对位标记及第二对位标记的显示效果。不透明膜层的反射率越高，则所需的光源亮度越低；不透明膜层的反射率越低，则所需的光源亮度越高。因此，可根据不透明膜层的反射率调整光源参数，以提高第一对位标记及第二对位标记的清晰度。具体地，调整光源参数包括以下几种情况：
A：若不透明膜层的反射率大于50％，调整图像传感器的光源参数包括：调整图形传感器的光源亮度为最大亮度的25％-30％。
上述光源条件下，第一对位标记和第二对位标记呈黑色，基板及掩膜板上未开设对位标记或其它图案的位置呈白色，从而图像传感器可获取第一对位标记和第二对位标记的清晰图像。
B：若不透明膜层的反射率为30％-50％，调整图像传感器的光源参数包括：调整图形传感器的光源亮度为最大亮度的55％-65％。
上述光源条件下，第一对位标记和第二对位标记呈黑色，基板及掩膜板上未开设对位标记或其它图案的位置呈白色，从而图像传感器可获取第一对位标记和第二对位标记的清晰图像。
进一步的，为确保第一对位标记在光源照射下的黑度，在设计时，可相对提高第一对位标记上第一透光孔的密度。
C：若不透明膜层的反射率小于30％，调整图像传感器的光源参数包括：调整图形传感器的光源亮度为最大亮度的85％-95％。
上述光源条件下，第一对位标记和第二对位标记呈黑色，基板及掩膜板上未开设对位标记或其它图案的位置呈白色，从而图像传感器可获取第一对位标记和第二对位标记的清晰图像。
上述对位方法，通过调整光源亮度，可消除不透明膜层产生的部分负面影响，提高第一对位标记在光源照射下的黑度，使得图像传感器可获取第一对位标记及第二对位标记的清晰图像，并可获取第一对位标记及第二对位标记的精准位置信息，从而可有效提高第一对位标记及第二对位标记间的对位精准度及基板与掩膜板间的位置精度，提高基板的产品良率。
可选地，当第一对位标记的厚度大于1μm时，可通过调整光源亮度来提高第一对位标记及第二对位标记的的清晰度。
为进一步提升第一对位标记和第二对位标记的对位精准度，在本发明提供的一个实施例中，在提供掩膜板时，若不透明膜层的反射率大于或等于30％，掩膜板的第二对位标记上开设有第二透光孔。不透明膜层的反射率大于或等于30％，光源亮度相对较低，此时，为保证第二对位标记的清晰度，可选择在掩膜板的第二对位标记上开设第二透光孔。
需要说明的是，基板不透明膜层的透光率为已知信息，掩膜板上是否需要设置第二透光孔在对位前已知，因此，开设第二透光孔为制作掩膜板的流程，上述对位方法中不包括开设第二透光孔这一步骤，仅需选择具有第二透光孔的掩膜板即可。
为确保基板和掩膜板的对位效果，在本发明提供的一个实施例中，基板上设有多个第一对位标记，掩膜板上设有多个第二对位标记，且多个第一对位标记及多个第二对位标记一一对应。设置多个第一对位标记及多个第二对位标记，可提升第一对位标记和第二对位标的对位精准度，且当部分第一对位标记或第二对位标记识别不清时，还可利用其它对位标记11进行对位，可靠性高。
需要说明的是，本发明提供的对位标记结构1、基板与掩膜板的对位方法还可用于制作具备多层电路图形的基板。以下以具有两层电路图形的产品为例进行说明。首先，提供一基板，基板上设有对位标记结构a(例如图6所示的对位标记结构1)，提供一掩膜板M1，掩膜板M1上设有对位标记结构b(例如图7所示的对位标记结构1)，利用本发明提供的对位方法使对位标记结构a与对位标记结构b对位，以使基板与掩膜板M1对位，并将掩膜板M1上的电路图形转移至基板上形成第一层电路图形；而后，在基板上涂覆绝缘层P1，利用背曝光技术，将基板上的对位标记结构a转移至绝缘层P1上，形成与对位标记结构a大小相同、位置相对的对位标记结构c，提供掩膜板M2，掩膜板M2上设有对位标记结构d，利用本发明提供的对位方法对位标记结构c与对位标记结构d对位，以使基板与掩膜板M2对位，并将掩膜板M2上的电路图形转移至基板上形成第二层电路图形；最后，在基板上形成绝缘层P2。其中，制作电路图形时包括镀膜、涂胶、曝光、显影、蚀刻、脱模等工序，制作绝缘层时包括涂胶、曝光、显影等工序，此部分流程与现有技术相同，在此不作赘述。上述制作过程中，通过改进对位标记结构、采用背曝光技术在中间层(即绝缘层P1)上形成对位标记结构1、利用中间层辅助进行对位，能够有效提升每次对位的对位精准度，从而能够提升多层电路图形的位置精度，确保基板产品良率。
综上，本发明提供的对位标记结构1、基板、掩膜板、基板与掩膜板的对位方法中，通过改进对位标记结构1，以及对位过程中图像传感器的光源参数，可有效消除基板不透明膜层产生的消极影响，使得对位过程中，图像传感器可识别到较为清晰的对位标记11图像并获取对位标记11准确的位置信息，从而能够提高对位精准度并确保基板及掩膜板间位置精度，提高基板产品良率。
以上所述实施例仅用以说明本申请的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本申请进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例技术方案的精神和范围，均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种对位标记结构，设置于基板或掩膜板上，其特征在于，所述对位标记结构包括对位标记及开设于所述对位标记上的透光孔。
2.根据权利要求1所述的对位标记结构，其特征在于，所述透光孔包括至少一个点状孔或条形孔，且所述透光孔沿着所述对位标记的至少部分边缘延伸。
3.根据权利要求1或2所述的对位标记结构，其特征在于，所述对位标记为正方形、长方形、三角形或十字形的一种。
4.一种基板，其特征在于，所述基板上设有如权利要求1-3中任一项所述的对位标记结构。
5.一种掩膜板，其特征在于，所述掩膜板上设有如权利要求1-3中任一项所述的对位标记结构。
6.一种基板与掩膜板的对位方法，其特征在于，所述对位方法包括：
提供基板，所述基板上设有第一对位标记及开设于所述第一对位标记上的第一透光孔，所述基板上还设有覆盖所述第一对位标记及所述第一透光孔的不透明膜层；
提供掩膜板，所述掩膜板上设有第二对位标记；
根据所述不透明膜层的反射率调整图像传感器的光源参数；
利用所述图像传感器获取所述基板的位置信息，并根据所述基板的位置信息调整所述掩膜板，使所述第二对位标记与所述第一对位标记的位置相对。
7.根据权利要求6所述的基板与掩膜板的对位方法，其特征在于，所述对位方法还包括：
提供辅助对位膜层，所述辅助对位膜层设置于所述不透明膜层的上方；
利用背曝光技术，在所述辅助对位膜层上形成与所述第一对位标记和所述第一透光孔结构及位置相同的辅助对位标记和辅助透光孔；
利用所述图像传感器获取所述基板的位置信息，并根据所述基板的位置信息调整所述掩膜板，使所述第二对位标记与所述第一对位标记的位置相对，包括：
利用所述图像传感器获取所述辅助对位标记的位置坐标，以获取所述基板的位置信息，并根据所述基板的位置信息调整所述掩膜板，使所述第二对位标记与所述辅助对位标记相对，进而使所述第二对位标记与所述第一对位标记相对。
8.根据权利要求6所述的基板与掩膜板的对位方法，其特征在于，根据所述不透明膜层的反射率调整图像传感器的光源参数，包括：
若所述不透明膜层的反射率大于50％，调整图像传感器的光源参数包括：调整所述图像传感器的光源亮度为最大亮度的25％-35％；
若所述不透明膜层的反射率为30％-50％，调整图像传感器的光源参数包括：调整所述图像传感器的光源亮度为最大亮度的55％-65％；
若所述不透明膜层的反射率小于30％，调整所述图像传感器的光源参数包括：调整所述图像传感器的光源亮度为最大亮度的85％-95％。
9.根据权利要求8所述的基板与掩膜板的对位方法，其特征在于，在提供掩膜板时，若所述不透明膜层的反射率大于或等于30％，所述掩膜板的所述第二对位标记上开设有第二透光孔。
10.根据权利要求6-9中任一项所述的基板与掩膜板的对位方法，其特征在于，所述基板上设有多个所述第一对位标记，所述掩膜板上设有多个所述第二对位标记，且多个所述第一对位标记与多个所述第二对位标记一一对应。
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