CN111276053A - 一种显示面板的制作方法、显示面板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种显示面板的制作方法、显示面板及显示装置。解决了由于没有标记结构，在进行BM+CF工艺时无法对位，导致工艺步骤无法进行的问题。包括：在所述发光器件层上方涂布覆盖层；在所述覆盖层上制作标记结构；在所述覆盖层远离所述发光器件层的一侧涂布黑色矩阵胶层，所述黑色矩阵胶层覆盖所述标记结构，所述黑色矩阵胶层位于所述标记结构的区域的厚度与位于非所述标记结构的区域的厚度不同；以及依据所述标记结构和所述黑色矩阵胶层进行对位，在所述黑色矩阵胶层制作黑色矩阵图形。标记结构发光器件层标记结构发光器件层。

Description

一种显示面板的制作方法、显示面板及显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种显示面板的制作方法、显示面板及显示装置。

背景技术

未来可折叠手机会成为市场主流趋势，为了应对折叠屏技术，需降低屏幕厚度。通过一种新的工艺BM+CF(Black Matrix+Color Filter，黑色矩阵+彩色滤光片)替代现有偏光片，能够明显降低屏幕的厚度。不同于传统的偏光工艺，一些BM+CF工艺是需要进行涂布曝光显影来完成的，并且要匹配像素位置。进行BM+CF工艺时，先在OC(Over Coating，涂层)上涂布一层黑色矩阵胶，然后进行曝光显影，由于黑色矩阵胶为黑色，在进行曝光时会出现由于没有标记结构，无法进行对位的情况，从而造成工艺步骤无法进行。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例提供了一种显示面板的制作方法、显示面板及显示装置。解决了由于没有标记结构，在进行BM+CF工艺时无法对位，导致工艺步骤无法进行的问题。

本发明一实施例提供的一种显示面板的制作方法、显示面板及显示装置。所述显示面板包括阵列基板和发光器件层，所述显示面板的制作方法包括：在所述发光器件层上方涂布覆盖层；在所述覆盖层上制作标记结构；在所述覆盖层远离所述发光器件层的一侧涂布黑色矩阵胶层，所述黑色矩阵胶层覆盖所述标记结构，所述黑色矩阵胶层位于所述标记结构的区域的厚度与位于非所述标记结构的区域的厚度不同；以及依据所述标记结构和所述黑色矩阵胶层进行对位，在所述黑色矩阵胶层制作黑色矩阵图形。

在一种实施方式中，在所述覆盖层上制作标记结构包括在所述覆盖层上制作凹槽；和/或，在所述覆盖层上制作凸起。

在一种实施方式中，所述标记结构为凹槽，在所述覆盖层远离所述发光器件层的一侧涂布黑色矩阵胶层包括：在所述覆盖层远离所述发光器件层的一侧涂布黑色矩阵胶以形成黑色矩阵胶层，其中所述黑色矩阵胶流入所述凹槽内；其中所述黑色矩阵胶层具有平坦表面；或，所述黑色矩阵胶层具有不平坦表面。

在一种实施方式中，所述标记结构为凸起，在所述覆盖层远离所述发光器件层的一侧涂布黑色矩阵胶层包括：在所述覆盖层远离所述发光器件层的一侧涂布黑色矩阵胶以形成黑色矩阵胶层，其中所述黑色矩阵胶覆盖所述凸起；其中所述黑色矩阵胶层具有平坦表面；或，所述黑色矩阵胶层具有不平坦表面。

在一种实施方式中，所述在所述覆盖层上制作标记结构的方法为以下方法中的一种或多种：曝光、激光镭射或打印。

在一种实施方式中，所述覆盖层为负性光刻胶，通过对所述覆盖层的预设标记结构位置进行不曝光处理，其余位置进行曝光处理以得到所述凹槽；或者，对所述覆盖层的预设标记结构位置进行曝光处理，其余位置进行不曝光处理以得到所述凸起。

一种显示面板，所述显示面板包括阵列基板和发光器件层，其特征在于，还包括：覆盖层，设置于发光器件层上方，所述覆盖层包括标记结构；以及黑色矩阵层，设置于所述覆盖层远离所述发光器件层的一侧。

在一种实施方式中，所述标记结构包括凹槽或凸起。

在一种实施方式中，所述黑色矩阵层具有平坦表面；或，所述黑色矩阵层具有不平坦表面。

一种显示装置，其特征在于，包括上述任一项所述的显示面板。

本发明实施例提供的一种显示面板的制作方法、显示面板及显示装置，该显示面板包括阵列基板和发光器件层，该显示面板的制作方法包括在所述发光器件层上涂布覆盖层；在所述覆盖层上制作标记结构；在所述覆盖层远离所述发光器件层的一侧涂布黑色矩阵胶层，所述黑色矩阵胶层覆盖所述标记结构，所述黑色矩阵胶层位于所述标记结构的区域的厚度与位于非所述标记结构的区域的厚度不同；以及依据所述标记结构和所述黑色矩阵胶层进行对位，在所述黑色矩阵胶层制作黑色矩阵图形。通过在覆盖层制作标记结构，并在覆盖层远离发光器件层发光器件层的一侧涂布黑色矩阵胶层，使黑色矩阵胶覆盖标记结构内，导致黑色矩阵胶层位于标记结构的区域的厚度和位于非标记结构的区域的厚度不同，因此当曝光机照射到黑色矩阵胶层上时，照射到位于标记结构的区域和位于非标记结构的区域上的光线的透过率不同，因此可以依据标记结构和黑色矩阵胶层进行对位识别，进而在进行BM+CF工艺时完成对位，以便进行后续制作黑色矩阵图形的步骤。

附图说明

图1所示为本发明一实施例提供的一种显示面板的制作方法的流程图。

图2所示为本发明一实施例提供的一种显示面板的结构示意图。

图3所示为本发明另一实施例提供的一种显示面板的结构示意图。

图4所示为本发明另一实施例提供的一种显示面板的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

图1所示为本发明一实施例提供的一种显示面板的制作方法的流程图。

如图1所示，显示面板包括阵列基板和发光器件层1，黑色矩阵胶层3其中该显示面板的制作方法包括：

步骤01：在发光器件层1发光器件上涂布覆盖层2，覆盖层2覆盖层2可以为一涂层或膜层结构，覆盖层2可以对发光器件层1起到平坦和保护的作用。

步骤02：在覆盖层2上制作标记结构21。标记结构21可以为一凹槽形状或者一凸起形状，标记结构21可以为矩形或者圆形，标记结构21可以位于覆盖层2的四角或者位于覆盖层2的两侧，标记结构21可以是通过曝光显影或者激光刻蚀或者打印等方式形成的。在后续进行BM+CF工艺时可以根据标记结构21完成对位，以便进行后续制作黑色矩阵图形的步骤。

可以理解，标记结构21可以为凹槽或者凸起，标记结构21可以为矩形或者圆形，标记结构21可以位于覆盖层2的四角或者位于覆盖层2的两侧，在保证后续进行BM+CF工艺时可以根据标记结构21完成对位的前提下，本发明对标记结构21的类型、形状和位置等不作限定。

步骤03：在覆盖层2远离发光器件层1的一侧涂布黑色矩阵胶层3，黑色矩阵胶层3覆盖标记结构21，黑色矩阵胶层3位于标记结构21的区域的厚度与位于非标记结构21的区域的厚度不同。黑色矩阵胶层3可以是半固体状的，具有流动性。

黑色矩阵胶层3可以具有平坦表面。例如如果标记结构21是凹槽，在涂布黑色矩阵胶层3的过程中，黑色矩阵胶层3会流入凹槽内，并在覆盖层2远离发光器件层1的一侧形成黑色矩阵胶层3，但由于覆盖层2具有凹槽，所以该黑色矩阵胶层3其实是包括凹槽区域和非凹槽区域的。凹槽区域和非凹槽区域可以具有平坦的上表面。再例如如果标记结构21是凸起，由于黑色矩阵胶层3的厚度大于凸起的高度，在完成涂布黑色矩阵胶层3完成后，在覆盖层2远离发光器件层1的一侧形成黑色矩阵胶层3，黑色矩阵胶层3覆盖在凸起上，但由于覆盖层2具有凸起，所以该黑色矩阵胶层3其实是包括凸起区域和非凸起区域的。凸起区域和非凸起区域可以具有平坦的表面，黑色矩阵胶层3在凸起区域与非凸起区域的厚度不同。凹槽区域和凸起区域可以统称为标记结构21的区域，非凹槽区域和非凸起区域可以统称为非标记结构21的区域。

黑色矩阵胶层3可可以具有不平坦表面。例如如果标记结构21是凹槽，在涂布黑色矩阵胶层3的过程中，黑色矩阵胶层3会流入凹槽内，该黑色矩阵胶层3是包括凹槽区域和非凹槽区域，由于黑色矩阵胶的自身性质和流动性，黑色矩阵胶层3的凹槽区域可以略低于非凹槽区域，因此凹槽区域和非凹槽区域可以具有不平坦的上表面。再例如如果标记结构21是凸起，由于黑色矩阵胶的自身性质和流动性，黑色矩阵胶层3的凸起区域的高度可以略高于非凸起区域，因此，凸起区域和非凸起区域可以具有不平坦的上表面。

步骤04：依据标记结构21和黑色矩阵胶层3进行对位，在黑色矩阵胶层3制作黑色矩阵图形。如步骤03所述，由于黑色矩阵胶层3包括标记结构21的区域和非标记结构21的区域，因此当曝光机照射到黑色矩阵胶层3上时，照射到标记结构21的区域和非标记结构21的区域上的光线的透过率是不同的，因此可以根据黑色矩阵胶层3光线透过率的不同对标记结构21进行识别，进而在进行BM+CF工艺时完成对位，以便进行后续制作黑色矩阵图形的步骤。

可以理解，在黑色矩阵胶层3制作黑色矩阵图形可以使用曝光机对黑色矩阵胶层3进行曝光显影的方式形成黑色矩阵图形，也可以采用激光刻蚀的方式在黑色矩阵胶层3刻蚀处黑色矩阵图形，在能够保证可以在黑色矩阵胶层3制作成黑色矩阵图形的前提下，本发明对在黑色矩阵胶层3上制作黑色矩阵图形的具体方式不作限定。

图2所示为本发明一实施例提供的一种显示面板的结构示意图。

如图2所示，在覆盖层2上制作标记结构21包括在覆盖层2上制作凹槽以形成标记结构21，在覆盖层2上预设的位置处制作凹槽形成标记结构21，在覆盖层2远离发光器件层1的一侧涂布黑色矩阵胶以形成黑色矩阵胶层3的过程中，黑色矩阵胶层3会流入凹槽内，并在覆盖层2远离发光器件层1的一侧形成的黑色矩阵胶层3，其中黑色矩阵胶层3可以具有平坦表面或者具有不平坦表面。由于覆盖层2的标记结构21为凹槽，所以黑色矩阵胶层3其实是包括标记结构21区域和非标记结构21区域的，且标记结构21区域和非标记结构21区域的厚度是不同的，标记结构21区域的厚度大于非标记结构21区域的厚度。例如，使用曝光显影的方式制作黑色矩阵图形性，当曝光机照射到黑色矩阵胶层3上时，照射到标记结构21区域和非标记结构21区域上的光线的透过率是不同的，标记结构21区域的透过率小于非标记结构21区域的透过率，因此曝光机可以根据黑色矩阵胶层3不同厚度区域的光线透过率的不同对标记结构21进行识别，进而在进行BM+CF工艺时完成对位，以便进行后续制作黑色矩阵图形的步骤。采用凹槽作为标记结构21可以不增加触摸屏的厚度和制作成本，且工艺简单易于实现。

图3所示为本发明另一实施例提供的一种显示面板的结构示意图。

如图3所示，在覆盖层2上制作标记结构21包括在覆盖层2上制作凸起以形成标记结构21，在覆盖层2上预设的位置处制作凸起形成标记结构21，在涂布黑色矩阵胶层3的过程中，黑色矩阵胶层3会覆盖凸起，并在覆盖层2远离发光器件层1的一侧形成黑色矩阵胶层3，其中黑色矩阵胶层3具有平坦表面或者具有不平坦表面。但由于标记结构21为凸起，所以黑色矩阵胶层3其实是包括标记结构21区域和非标记结构21区域的，且标记结构21区域和非标记结构21区域的厚度是不同的，标记结构21区域的厚度小于非标记结构21区域的厚度。例如，使用曝光显影的方式制作黑色矩阵图形性，当曝光机照射到黑色矩阵胶层3上时，照射到标记结构21区域和非标记结构21区域上的光线的透过率是不同的，标记结构21区域的透过率大于非标记结构21区域的透过率，因此曝光机可以根据黑色矩阵胶层3不同厚度区域的光线透过率的不同对标记结构21进行识别，进而在进行BM+CF工艺时完成对位，以便进行后续制作黑色矩阵图形的步骤。采用凹槽作为标记结构21可以不增加触摸屏的厚度和制作成本，且工艺简单易于实现。

本发明一实施例中，在覆盖层2上制作标记结构21的方法可以有以下方法中的一种或多种：曝光、激光镭射或打印。在覆盖层2上制作标记结构21的方式可以采用曝光显影。覆盖层2的材质可以为正性光刻胶或负性光刻胶，当覆盖层2的材质为负性光刻胶时，当曝光机对覆盖层2进行曝光显影时，通过对覆盖层2的预设标记结构21位置进行不曝光处理，其余位置进行曝光处理，可以在预设标记结构21位置处形成凹槽作为标记结构21；或者，对所述覆盖层的预设标记结构位置进行曝光处理，对所述非预设标记结构位置进行不曝光处理，以在所述预设标记结构位置形成所述凸起。

当覆盖层2的材质为正性光刻胶时，对覆盖层2的预设标记结构21位置进行曝光处理，其余位置不进行曝光处理，可以在预设标记结构21位置处形成凸起作为标记结构21。采用曝光显影的方式制作标记结构21不用增加额外的工艺设备，方便快捷。在覆盖层2上制作标记结构21的方式也可以时采用激光镭射，用激光镭射的方式在覆盖层2的预设标记结构21位置出打出凹槽作为标记结构21，也可以用激光镭射的方式打掉非预设标记结构21位置处的覆盖层2，以在预设标记结构21位置出形成凸起，使用激光镭射的方式制作对位标精度高，提升对位准确性。在覆盖层2上制作标记结构21的方式也可以使用打印的方式，即使用印压模具在覆盖层2进行压印形成标记结构21，可以是在预设标记结构21位置处压印出凹槽以形成标记结构21，或者是在非预设标记结构21位置处压印出凹槽，以将预设标记结构21位置处形成凸起作为标记结构21，采用压印的方式制作标记结构21，成本低，方便易操作。

可以理解，在覆盖层2制作标记结构21的方法包括但不限制于以下方法种的一种或多种：曝光、激光镭射和打印。在能够保证可以在覆盖层2形成标记结构21的前提下，本发明对在覆盖层2制作标记结构21的方法不作限定。

图4所示为本发明另一实施例提供的一种显示面板的结构示意图。

如图4所示，该显示面板是由上述实施例种任一所述的方法制作得到。该显示面板包括阵列基板、发光器件层1、覆盖层2和黑色矩阵胶层3。其中覆盖层2设置在发光器件层1出光面的一侧，黑色矩阵胶层3设置在覆盖层2远离发光器件层1的一侧。发光器件层1可以实现发光功能。覆盖层2可以为涂层或者膜层结构覆盖层2。黑色矩阵胶层3可以实现偏光作用。其中覆盖层2包括标记结构21，因此当曝光机照射到黑色矩阵胶层3上时，照射到标记结构21区域和非标记结构21区域上的光线的透过率是不同的，因此可以根据黑色矩阵胶层3光线透过率的不同对标记结构21进行识别，进而在进行BM+CF工艺时完成对位，以便进行后续制作黑色矩阵图形的步骤。

可以理解，触摸屏实现触摸功能可以是电阻式触摸屏、电容式触摸屏或者红外线式触摸屏，在能够实现触摸功能的前提下，本发明对触摸屏的种类不作限定。

本发明一实施例中，标记结构21可以为凹槽或者凸起。当标记结构21为凹槽时，在覆盖层2远离发光器件层1的一侧涂布黑色矩阵胶以形成黑色矩阵胶层3的过程中，黑色矩阵胶会流入凹槽内，并在覆盖层2远离发光器件层1的一侧形成的黑色矩阵胶层3，其中黑色矩阵胶层3可以具有平坦表面或者具有不平坦表面。由于覆盖层2的标记结构21为凹槽，所以黑色矩阵胶层3其实是包括标记结构21区域和非标记结构21区域的，且标记结构21区域和非标记结构21区域的厚度是不同的，标记结构21区域的厚度大于非标记结构21区域的厚度。当标记结构21为凸起时，在涂布黑色矩阵胶层3的过程中，黑色矩阵胶层3会覆盖凸起，并在覆盖层2远离发光器件层1的一侧形成黑色矩阵胶层3，其中黑色矩阵胶层3具有平坦表面或者具有不平坦表面。但由于标记结构21为凸起，所以黑色矩阵胶层3其实是包括标记结构21区域和非标记结构21区域的，且标记结构21区域和非标记结构21区域的厚度是不同的，标记结构21区域的厚度小于非标记结构21区域的厚度。因此，可以依据标记结构21和黑色矩阵胶层3的厚度不同进行对位，以便进行后续制作黑色矩阵图形的步骤。

本发明一实施例中，发光器件层1可以包括显示区002和非显示区001显示区002，显示区002可以发出显示光，实现显示功能。非显示区001显示区002不用于显示功能。其中标记结构21在发光器件层1上的投影位于非显示区001显示区002内。将标记结构21位于发光器件层1上的投影设置在非显示区001显示区002域内，可以不遮挡显示光线，不影响显示效果。

本发明一实施例中，一种显示装置包括上述实施例中所述的显示面板。其中显示面板包括阵列基板、发光器件层1、覆盖层2和黑色矩阵胶层3。其中覆盖层2设置在发光器件层1出光面的一侧，黑色矩阵胶层3设置在覆盖层2远离发光器件层1的一侧。覆盖层2覆盖层2黑色矩阵胶层3其中覆盖层2包括标记结构21，因此当曝光机照射到黑色矩阵胶层3上时，照射到标记结构21区域和非标记结构21区域上的光线的透过率是不同的，因此曝光机可以根据黑色矩阵胶层3光线透过率的不同对标记结构21进行识别，进而在进行BM+CF工艺时完成对位，以便进行后续制作黑色矩阵图形的步骤。除此之外，显示装置还可以包括封装层、发光层和基板等。发光层用于发出显示光，实现显示功能。封装层设置在发光层出光面的一侧，作用是保护发光层，防止氧气和水汽进入，影响发光效果，延长发光层的使用寿命。基板能够起到支撑作用，基板的材质可以是玻璃或者聚酰亚胺等。

可以理解，该显示装置可以为手机、电脑或者车载设备等，本发明对该显示装置的具体类型不作限定。

本申请的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。本申请实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后、顶、底……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。此外，术语“包括”和“具有”以及它们任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。例如包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备没有限定于已列出的步骤或单元，而是可选地还包括没有列出的步骤或单元，或可选地还包括对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

另外，在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本申请的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种显示面板的制作方法，所述显示面板包括阵列基板和发光器件层，其特征在于，包括：

在所述发光器件层上方涂布覆盖层；

在所述覆盖层上制作标记结构；

在所述覆盖层远离所述发光器件层的一侧涂布黑色矩阵胶层，所述黑色矩阵胶层覆盖所述标记结构，所述黑色矩阵胶层位于所述标记结构的区域的厚度与位于非所述标记结构的区域的厚度不同；以及

依据所述标记结构和所述黑色矩阵胶层进行对位，在所述黑色矩阵胶层制作黑色矩阵图形。

2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在所述覆盖层上制作标记结构包括在所述覆盖层上制作凹槽；和/或，

在所述覆盖层上制作凸起。

3.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述标记结构为凹槽，在所述覆盖层远离所述发光器件层的一侧涂布黑色矩阵胶层包括：在所述覆盖层远离所述发光器件层的一侧涂布黑色矩阵胶以形成黑色矩阵胶层，其中所述黑色矩阵胶流入所述凹槽内；

其中所述黑色矩阵胶层具有平坦表面；或，

所述黑色矩阵胶层具有不平坦表面。

4.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述标记结构为凸起，在所述覆盖层远离所述发光器件层的一侧涂布黑色矩阵胶层包括：在所述覆盖层远离所述发光器件层的一侧涂布黑色矩阵胶以形成黑色矩阵胶层，其中所述黑色矩阵胶覆盖所述凸起；

其中所述黑色矩阵胶层具有平坦表面；或，

所述黑色矩阵胶层具有不平坦表面。

5.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述在所述覆盖层上制作标记结构的方法为以下方法中的一种或多种：曝光、激光镭射或打印。

6.根据权利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述覆盖层为负性光刻胶，通过对所述覆盖层的非预设标记结构位置进行曝光处理，对预设标记结构位置进行不曝光处理，以在所述预设标记结构位置形成所述凹槽；或者，

对所述覆盖层的预设标记结构位置进行曝光处理，对所述非预设标记结构位置进行不曝光处理，以在所述预设标记结构位置形成所述凸起。

7.一种显示面板，所述显示面板包括阵列基板和发光器件层，其特征在于，还包括：覆盖层，设置于发光器件层上方，所述覆盖层包括标记结构；以及

黑色矩阵层，设置于所述覆盖层远离所述发光器件层的一侧。

8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述标记结构包括凹槽或凸起。

9.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述黑色矩阵层具有平坦表面；或，

所述黑色矩阵层具有不平坦表面。

10.一种显示装置，其特征在于，包括上述权利要求7-9中任一项所述的显示面板。

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