JPH0850203A - アライメントマーク付きカラーフィルター - Google Patents
アライメントマーク付きカラーフィルターInfo
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- JPH0850203A JPH0850203A JP20301194A JP20301194A JPH0850203A JP H0850203 A JPH0850203 A JP H0850203A JP 20301194 A JP20301194 A JP 20301194A JP 20301194 A JP20301194 A JP 20301194A JP H0850203 A JPH0850203 A JP H0850203A
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- alignment mark
- alignment
- color filter
- mark
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 遮光層とR,G,Bの各着色画素のパターン
を順次形成する際に用いる位置合わせ用のアライメント
マークとして、色の抜け、入れ替わり等の誤りを容易に
チェックでき、基板の向き及び表裏の設定不良を認識で
きるアライメントマークを付したカラーフィルターを提
供する。 【構成】 3分割したアライメントマーク領域12をパ
ターン部分11の周囲に2つ以上配置し、第1の領域1
2aの下部、第2の領域12bの中央、第3の領域12
cの上部にそれぞれ遮光層と同じ材料からなるアライメ
ントマークを配置する。これに対応するアライメントマ
ークを配置したマスク基板を使用することにより、アラ
イメントマークのずれをチェックして形成する色の間違
いや、カラーフィルター基板、マスク基板の設定間違い
を認識できる。
を順次形成する際に用いる位置合わせ用のアライメント
マークとして、色の抜け、入れ替わり等の誤りを容易に
チェックでき、基板の向き及び表裏の設定不良を認識で
きるアライメントマークを付したカラーフィルターを提
供する。 【構成】 3分割したアライメントマーク領域12をパ
ターン部分11の周囲に2つ以上配置し、第1の領域1
2aの下部、第2の領域12bの中央、第3の領域12
cの上部にそれぞれ遮光層と同じ材料からなるアライメ
ントマークを配置する。これに対応するアライメントマ
ークを配置したマスク基板を使用することにより、アラ
イメントマークのずれをチェックして形成する色の間違
いや、カラーフィルター基板、マスク基板の設定間違い
を認識できる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶ディスプレイ用の
カラーフィルターに係り、詳しくは遮光層のパターンと
レッド(R)、グリーン(G)、ブルー(B)の各着色
画素のパターンとを形成する工程において各着色画素パ
ターンを順次形成する際に用いられる位置合わせ用のア
ライメントマークを付してなるカラーフィルターに関す
るものである。
カラーフィルターに係り、詳しくは遮光層のパターンと
レッド(R)、グリーン(G)、ブルー(B)の各着色
画素のパターンとを形成する工程において各着色画素パ
ターンを順次形成する際に用いられる位置合わせ用のア
ライメントマークを付してなるカラーフィルターに関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】液晶ディスプレイに使用されている一般
的なカラーフィルターの構造は図1の断面図に示すよう
であり、このカラーフィルターは、ガラス、プラスチッ
ク等の基板1の上にクロム等の薄膜で遮光層2のパター
ンを形成した後、その上に複数色(R,G,B)の微細
な着色画素3のパターンを順次繰り返し形成し、さらに
その上に保護膜4を設けるとともに、透明電極5として
ITOを成膜することにより作製されている。そして、
このカラーフィルターにおける着色画素3を形成する方
法としては、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法、転
写法等があるが、いずれの方法においても遮光層2の形
成された基板1上に各着色画素3を順次形成する工程で
パターン同士の位置合わせが必要である。そして、この
位置合わせを効果的に行う手段して、半導体の分野では
あるが、例えば特開昭61−61419号公報、特開昭
56−109350号公報に従来技術が開示されてい
る。
的なカラーフィルターの構造は図1の断面図に示すよう
であり、このカラーフィルターは、ガラス、プラスチッ
ク等の基板1の上にクロム等の薄膜で遮光層2のパター
ンを形成した後、その上に複数色(R,G,B)の微細
な着色画素3のパターンを順次繰り返し形成し、さらに
その上に保護膜4を設けるとともに、透明電極5として
ITOを成膜することにより作製されている。そして、
このカラーフィルターにおける着色画素3を形成する方
法としては、染色法、顔料分散法、印刷法、電着法、転
写法等があるが、いずれの方法においても遮光層2の形
成された基板1上に各着色画素3を順次形成する工程で
パターン同士の位置合わせが必要である。そして、この
位置合わせを効果的に行う手段して、半導体の分野では
あるが、例えば特開昭61−61419号公報、特開昭
56−109350号公報に従来技術が開示されてい
る。
【0003】このうち前者は、第1及び第2の合わせマ
ークを、矩形の4つの頂部を削除した十字形形状のもの
とその外周を囲む大きさの矩形枠状のものとの組み合わ
せとし、パターン合わせ作業性を向上させるようにした
ものである。また、後者では、複数の同一ターゲットよ
りなるパターン群が2組相互に対称にウェーハ上に形成
されてマスク合わせに利用されている。
ークを、矩形の4つの頂部を削除した十字形形状のもの
とその外周を囲む大きさの矩形枠状のものとの組み合わ
せとし、パターン合わせ作業性を向上させるようにした
ものである。また、後者では、複数の同一ターゲットよ
りなるパターン群が2組相互に対称にウェーハ上に形成
されてマスク合わせに利用されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来の技術で述べた位
置合わせ方法は、半導体装置の製造工程においては有効
ではあるが、これを液晶ディスプレイ用のカラーフィル
ターにおける遮光層のパターンと各着色画素のパターン
とを順次形成する工程でのパターン合わせに利用しよう
とすると次のような問題点が発生する。
置合わせ方法は、半導体装置の製造工程においては有効
ではあるが、これを液晶ディスプレイ用のカラーフィル
ターにおける遮光層のパターンと各着色画素のパターン
とを順次形成する工程でのパターン合わせに利用しよう
とすると次のような問題点が発生する。
【0005】すなわち、前者の方法を利用すると、第1
のマークを遮光層と同時にカラーフィルター基板上に形
成し、当該マークに対して露光用マスク側に形成した各
色用の第2のマークでパターン合わせをする時に、R,
G,Bとも類似したパターンとなるために、形成する色
を間違えてしまう可能性がある。さらにカラーフィルタ
ー基板の向きを逆にセットした場合は、図2〜5に示す
種々のカラーフィルターのパターン配置から分かるよう
に、逆向きになっていることを単にカラーフィルター基
板だけからは判定できない。もちろん、検査工程を経て
も見間違えてしまう危険性がある。これはマスク基板を
逆にセットした場合も同様である。
のマークを遮光層と同時にカラーフィルター基板上に形
成し、当該マークに対して露光用マスク側に形成した各
色用の第2のマークでパターン合わせをする時に、R,
G,Bとも類似したパターンとなるために、形成する色
を間違えてしまう可能性がある。さらにカラーフィルタ
ー基板の向きを逆にセットした場合は、図2〜5に示す
種々のカラーフィルターのパターン配置から分かるよう
に、逆向きになっていることを単にカラーフィルター基
板だけからは判定できない。もちろん、検査工程を経て
も見間違えてしまう危険性がある。これはマスク基板を
逆にセットした場合も同様である。
【0006】また、後者の方法を利用すると、ターゲッ
トパターンを遮光層と同時にカラーフィルター基板上に
形成し、当該マークに対して露光用マスク側に形成した
各色用の合わせマークでパターン合わせをすることにな
るため、露光用マスクを各色兼用として使用する場合に
は、当該マスク上に各色に対応したマークを一緒に形成
する必要がある。つまり、一緒にすると露光用マスク上
に形成する矩形状のマークが1色ごとに左右合わせて1
6個となり、3色では48個のマークが必要となる。こ
れでは繁雑なパターン合わせとなり、間違いを誘う実用
的でない構成になってしまう。
トパターンを遮光層と同時にカラーフィルター基板上に
形成し、当該マークに対して露光用マスク側に形成した
各色用の合わせマークでパターン合わせをすることにな
るため、露光用マスクを各色兼用として使用する場合に
は、当該マスク上に各色に対応したマークを一緒に形成
する必要がある。つまり、一緒にすると露光用マスク上
に形成する矩形状のマークが1色ごとに左右合わせて1
6個となり、3色では48個のマークが必要となる。こ
れでは繁雑なパターン合わせとなり、間違いを誘う実用
的でない構成になってしまう。
【0007】また、両者の共通の問題点として、カラー
フィルター基板を裏返しにセットした場合は、カラーフ
ィルター基板はウェーハと異なり透明であるため、単に
カラーフィルター基板だけからでは判定できない。もち
ろん、検査工程を経ても見間違えてしまう危険性があ
る。マスク基板を裏返しにセットした場合についても同
様のことが言える。
フィルター基板を裏返しにセットした場合は、カラーフ
ィルター基板はウェーハと異なり透明であるため、単に
カラーフィルター基板だけからでは判定できない。もち
ろん、検査工程を経ても見間違えてしまう危険性があ
る。マスク基板を裏返しにセットした場合についても同
様のことが言える。
【0008】本発明は、このような問題点に鑑みてなさ
れたものであり、その目的とするところは、遮光層と
R,G,Bの各着色画素のパターンを順次形成する際に
用いる位置合わせ用のアライメントマークとして、色の
抜け、入れ替わり等の誤りを容易にチェックでき、基板
の向き及び表裏の設定不良を認識できるアライメントマ
ークを付した実用的なカラーフィルターを提供すること
にある。
れたものであり、その目的とするところは、遮光層と
R,G,Bの各着色画素のパターンを順次形成する際に
用いる位置合わせ用のアライメントマークとして、色の
抜け、入れ替わり等の誤りを容易にチェックでき、基板
の向き及び表裏の設定不良を認識できるアライメントマ
ークを付した実用的なカラーフィルターを提供すること
にある。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明は、各着色画素のパターンを重ね合わせる
時に用いる位置合わせ用のアライメントマークが遮光層
の形成時に付されたカラーフィルターにおいて、それぞ
れ3分割したアライメントマーク領域をパターン部分の
周囲に2つ以上配置し、各アライメントマーク領域にお
ける第1の領域の下部、第2の領域の中央、第3の領域
の上部にそれぞれ遮光層と同じ材料からなるアライメン
トマークを配置したことを特徴としている。
めに、本発明は、各着色画素のパターンを重ね合わせる
時に用いる位置合わせ用のアライメントマークが遮光層
の形成時に付されたカラーフィルターにおいて、それぞ
れ3分割したアライメントマーク領域をパターン部分の
周囲に2つ以上配置し、各アライメントマーク領域にお
ける第1の領域の下部、第2の領域の中央、第3の領域
の上部にそれぞれ遮光層と同じ材料からなるアライメン
トマークを配置したことを特徴としている。
【0010】そして、具体的には、例えば前記第1〜3
の領域がそれぞれ長方形となるようにアライメントマー
ク領域を分割し、第1の領域の下部にレッド用のアライ
メントマークを、第2の領域の中央にグリーン用のアラ
イメントマークを、第3の領域の上部にブルー用のアラ
イメントマークをそれぞれ配置するとよい。また、アラ
イメントマークを「十」状とするのが望ましく、目視に
よるチェックを容易とするためには各アライメントマー
クの近傍に各色を識別する記号、例えば各色の頭文字を
形成しておくことが望ましい。
の領域がそれぞれ長方形となるようにアライメントマー
ク領域を分割し、第1の領域の下部にレッド用のアライ
メントマークを、第2の領域の中央にグリーン用のアラ
イメントマークを、第3の領域の上部にブルー用のアラ
イメントマークをそれぞれ配置するとよい。また、アラ
イメントマークを「十」状とするのが望ましく、目視に
よるチェックを容易とするためには各アライメントマー
クの近傍に各色を識別する記号、例えば各色の頭文字を
形成しておくことが望ましい。
【0011】
【作用】本発明においては、各着色画素のパターンを重
ね合わせる時に用いるアライメントマークを付したカラ
ーフィルターに、3分割したアライメントマーク領域の
第1の領域の上部、第2の領域の中央、第3の領域の下
部にそれぞれ遮光層と同じ材料で形成したアライメント
マークを配置するようにしたので、これに対応するアラ
イメントマークを配置したマスク基板を使用することに
より、形成する色を間違えたり、カラーフィルター基板
やマスク基板の設定を間違えたりするのが防止される。
ね合わせる時に用いるアライメントマークを付したカラ
ーフィルターに、3分割したアライメントマーク領域の
第1の領域の上部、第2の領域の中央、第3の領域の下
部にそれぞれ遮光層と同じ材料で形成したアライメント
マークを配置するようにしたので、これに対応するアラ
イメントマークを配置したマスク基板を使用することに
より、形成する色を間違えたり、カラーフィルター基板
やマスク基板の設定を間違えたりするのが防止される。
【0012】
【実施例】以下、本発明の実施例につて図面を参照して
説明する。
説明する。
【0013】図6は本発明の一実施例としてのアライメ
ントマーク付きカラーフィルターの上面図である。
ントマーク付きカラーフィルターの上面図である。
【0014】図示のカラーフィルター基板10は、上面
から見て大きさ350mm×300mmの長方形で厚み
は0.7mmであり、材質はガラスである。この基板1
0上の中央に遮光層とR,G,Bの各着色画素とで構成
されるパターン部分11を上下に設けて2面付けとして
いる。このパターン部分11は、はじめに遮光層のパタ
ーン形成工程を経て、レッドの着色画素パターンの形成
工程、グリーンの着色画素パターンの形成工程、ブルー
の着色画素パターンの形成工程で形成されていく。な
お、各着色画素のパターンは100μm間隔としてい
る。
から見て大きさ350mm×300mmの長方形で厚み
は0.7mmであり、材質はガラスである。この基板1
0上の中央に遮光層とR,G,Bの各着色画素とで構成
されるパターン部分11を上下に設けて2面付けとして
いる。このパターン部分11は、はじめに遮光層のパタ
ーン形成工程を経て、レッドの着色画素パターンの形成
工程、グリーンの着色画素パターンの形成工程、ブルー
の着色画素パターンの形成工程で形成されていく。な
お、各着色画素のパターンは100μm間隔としてい
る。
【0015】パターン部分11の両脇には遮光層と同じ
材料のアライメントマークを配置するアライメントマー
ク領域12(概ね6mm×6mm)が設けられており、
これらを縦方向に3分割して第1の領域12a,第2の
領域12b,第3の領域12c(それぞれ概ね6mm×
2mm)とし、この3分割した各領域12a〜12cに
遮光層と同じ材料のアライメントマークを「十」状に形
成している。すなわち、第1の領域12aの下部にレッ
ド用のアライメントマークを、第2の領域12bの中央
にグリーン用のアライメントマークを、第3の領域12
cの上部にブルー用のアライメントマークをそれぞれ配
置し、図示の如く各アライメントマークの並びが対称と
なるようにしている。この「十」状のマークの縦線及び
横線の線幅は50μmで長さは1.5mmである。そし
て、これらのマークの近傍に各アライメントマークが何
色の着色画素パターンの位置合わせに用いられるマーク
かを示すためにそれぞれ「R」「G」「B」の記号を設
けてある。遮光層はブラックマトリクスと呼ばれ、主に
クロムにより形成され、前記マーク「十」もクロムにて
同時に形成される。このクロム層の厚みは通常0.05
〜0.20μmである。
材料のアライメントマークを配置するアライメントマー
ク領域12(概ね6mm×6mm)が設けられており、
これらを縦方向に3分割して第1の領域12a,第2の
領域12b,第3の領域12c(それぞれ概ね6mm×
2mm)とし、この3分割した各領域12a〜12cに
遮光層と同じ材料のアライメントマークを「十」状に形
成している。すなわち、第1の領域12aの下部にレッ
ド用のアライメントマークを、第2の領域12bの中央
にグリーン用のアライメントマークを、第3の領域12
cの上部にブルー用のアライメントマークをそれぞれ配
置し、図示の如く各アライメントマークの並びが対称と
なるようにしている。この「十」状のマークの縦線及び
横線の線幅は50μmで長さは1.5mmである。そし
て、これらのマークの近傍に各アライメントマークが何
色の着色画素パターンの位置合わせに用いられるマーク
かを示すためにそれぞれ「R」「G」「B」の記号を設
けてある。遮光層はブラックマトリクスと呼ばれ、主に
クロムにより形成され、前記マーク「十」もクロムにて
同時に形成される。このクロム層の厚みは通常0.05
〜0.20μmである。
【0016】本実施例においては、アライメントマーク
領域12をパターン部分11の両脇に設けてあるが、カ
ラーフィルターのR,G,Bの各着色画素と遮光層との
位置合わせ(アライメント、見当合わせとも言う)を細
かく実施したければ、カラーフィルター基板10の周囲
に数多く設けるとよい。また、本実施例ではカラーフィ
ルターのパターン部分11を2面付けとしているが、図
7(a)に示すようなカラーフィルター基板10の中央
にパターン部分11を持つ1面付け、さらに(b)に示
すような4隅寄りにパターン部分11を持つ4面付け等
があり、どの面付けにおいても図示の如くパターン部分
11の両脇にアライメントマーク領域12を設けても或
いは周囲に数多く設けてもよい。また、カラーフィルタ
ー基板10には320mm×300mm、400mm×
300mm等があり、厚みも1.1mmのものがある。
領域12をパターン部分11の両脇に設けてあるが、カ
ラーフィルターのR,G,Bの各着色画素と遮光層との
位置合わせ(アライメント、見当合わせとも言う)を細
かく実施したければ、カラーフィルター基板10の周囲
に数多く設けるとよい。また、本実施例ではカラーフィ
ルターのパターン部分11を2面付けとしているが、図
7(a)に示すようなカラーフィルター基板10の中央
にパターン部分11を持つ1面付け、さらに(b)に示
すような4隅寄りにパターン部分11を持つ4面付け等
があり、どの面付けにおいても図示の如くパターン部分
11の両脇にアライメントマーク領域12を設けても或
いは周囲に数多く設けてもよい。また、カラーフィルタ
ー基板10には320mm×300mm、400mm×
300mm等があり、厚みも1.1mmのものがある。
【0017】次に、上記カラーフィルター基板10に着
色画素のパターンを形成する工程にて使用するパターン
転写用の露光用マスク基板について説明する。図8はこ
の露光用マスク基板の説明図である。
色画素のパターンを形成する工程にて使用するパターン
転写用の露光用マスク基板について説明する。図8はこ
の露光用マスク基板の説明図である。
【0018】図8に示すようにマスク基板20にはパタ
ーン部分21が上下2段に設けられており、その両脇に
アライメントマーク領域22が設けられている。そし
て、アライメントマーク領域22には、図6のカラーフ
ィルター基板10上に形成されているアライメントマー
ク「十」に対応するように「井」状のアライメントマー
クが形成されている。つまり、3分割したアライメント
マーク領域22の第1の領域22aの下部に第1色用と
してレッド用のマーク「井」を配置し、第2の領域22
bの中央に第2色用としてグリーン用のマークを配置
し、第3の領域22cの上部に第3色用としてブルー用
のマーク「井」を配置してある。このマークは線幅50
μmで、マーク中の閉ループ「□」は縦横それぞれ80
0μmに形成してある。さらに各マーク「井」の近傍に
はそれぞれの色に対応した記号「R」「G」「B」を設
けてある。これらの記号は位置合わせを行った場合にカ
ラーフィルター基板10上の記号と並んで確認できるよ
うに形成してもよいし、重なるようにしても構わない。
ーン部分21が上下2段に設けられており、その両脇に
アライメントマーク領域22が設けられている。そし
て、アライメントマーク領域22には、図6のカラーフ
ィルター基板10上に形成されているアライメントマー
ク「十」に対応するように「井」状のアライメントマー
クが形成されている。つまり、3分割したアライメント
マーク領域22の第1の領域22aの下部に第1色用と
してレッド用のマーク「井」を配置し、第2の領域22
bの中央に第2色用としてグリーン用のマークを配置
し、第3の領域22cの上部に第3色用としてブルー用
のマーク「井」を配置してある。このマークは線幅50
μmで、マーク中の閉ループ「□」は縦横それぞれ80
0μmに形成してある。さらに各マーク「井」の近傍に
はそれぞれの色に対応した記号「R」「G」「B」を設
けてある。これらの記号は位置合わせを行った場合にカ
ラーフィルター基板10上の記号と並んで確認できるよ
うに形成してもよいし、重なるようにしても構わない。
【0019】また、各マーク「井」における閉ループ
「□」の縦1辺の長さと横1辺の長さをアライメントの
許容値として設定しておくと、カラーフィルター基板1
0のマーク「十」の交差部分がこの「□」の中に存在す
るか否かで位置合わせの良否を確認することができる。
許容値は±30μm程度であるが、それ以下が好まし
い。このためには線幅をさらに細かくする必要がある。
縦と横の許容値においてカラーフィルターによっては異
なる許容値がある場合、各マーク「井」の内側の「□」
の部分は長方形になる。
「□」の縦1辺の長さと横1辺の長さをアライメントの
許容値として設定しておくと、カラーフィルター基板1
0のマーク「十」の交差部分がこの「□」の中に存在す
るか否かで位置合わせの良否を確認することができる。
許容値は±30μm程度であるが、それ以下が好まし
い。このためには線幅をさらに細かくする必要がある。
縦と横の許容値においてカラーフィルターによっては異
なる許容値がある場合、各マーク「井」の内側の「□」
の部分は長方形になる。
【0020】このように、マスク基板20におけるR,
G,Bの色のマーク「井」とそれぞれの色に対応したカ
ラーフィルター基板10のマーク「十」とが、それぞれ
3分割したアライメントマーク領域12,22の第1の
領域12a,22aの上部と第2の領域12b,22b
の中央部と第3の領域12c,22cの下部とで、重ね
合わさるように形成されるためにR,G,Bの色の抜
け、入れ替わり等の誤りを容易にチェックでき、目視検
査がしやすくなる。さらに、R,G,Bの色のマーク
「井」の近傍にはそれぞれの色に対応した記号「R」
「G」「B」を設けることにより目視確認の効率をアッ
プしている。
G,Bの色のマーク「井」とそれぞれの色に対応したカ
ラーフィルター基板10のマーク「十」とが、それぞれ
3分割したアライメントマーク領域12,22の第1の
領域12a,22aの上部と第2の領域12b,22b
の中央部と第3の領域12c,22cの下部とで、重ね
合わさるように形成されるためにR,G,Bの色の抜
け、入れ替わり等の誤りを容易にチェックでき、目視検
査がしやすくなる。さらに、R,G,Bの色のマーク
「井」の近傍にはそれぞれの色に対応した記号「R」
「G」「B」を設けることにより目視確認の効率をアッ
プしている。
【0021】なお、カラーフィルター基板10及びマス
ク基板20に用いるR,G,Bの色のマーク「井」はマ
ーク「□」でもよい。また、これらの色のマーク「井」
や「□」の近傍には、それぞれの色に対応した記号
「R」「G」「B」に代わる他の記号を利用してもよ
い。もちろん、この時の記号は目視確認のとき容易に認
識できるものであればよいのである。
ク基板20に用いるR,G,Bの色のマーク「井」はマ
ーク「□」でもよい。また、これらの色のマーク「井」
や「□」の近傍には、それぞれの色に対応した記号
「R」「G」「B」に代わる他の記号を利用してもよ
い。もちろん、この時の記号は目視確認のとき容易に認
識できるものであればよいのである。
【0022】次に、図9の工程図により本発明を使用し
たカラーフィルターの製造方法について説明する。カラ
ーフィルターの製造方法には前記したように染色法、顔
料分散法、印刷法、電着法、転写法等があり、本発明の
アライメントマーク付きのカラーフィルター基板はこれ
らの製造方法のすべてに利用できるが、ここでは顔料分
散法による製造工程を例にとって説明する。
たカラーフィルターの製造方法について説明する。カラ
ーフィルターの製造方法には前記したように染色法、顔
料分散法、印刷法、電着法、転写法等があり、本発明の
アライメントマーク付きのカラーフィルター基板はこれ
らの製造方法のすべてに利用できるが、ここでは顔料分
散法による製造工程を例にとって説明する。
【0023】まず、ステップ1においてガラス基板を洗
浄する。次いで、ステップ2においてクロムを成膜した
後、ステップ3でクロム薄膜を加工して遮光層のパター
ンを形成する。この時、併せてアライメントマークを3
つ加工する。その形状は「十」であり、3分割したアラ
イメントマーク領域12の第1の領域12aの下部、第
2の領域12bの中央、第3の領域12cの上部にそれ
ぞれアライメントマークを配置する。パターン加工その
ものは通常の方法である。これにより図6に示したカラ
ーフィルター基板10においてパターン部分に遮光層の
みを形成したものが出来上がる。つまり、R,G,Bの
各着色画素3で形成されるパターンを除いた基板が出来
上がる。
浄する。次いで、ステップ2においてクロムを成膜した
後、ステップ3でクロム薄膜を加工して遮光層のパター
ンを形成する。この時、併せてアライメントマークを3
つ加工する。その形状は「十」であり、3分割したアラ
イメントマーク領域12の第1の領域12aの下部、第
2の領域12bの中央、第3の領域12cの上部にそれ
ぞれアライメントマークを配置する。パターン加工その
ものは通常の方法である。これにより図6に示したカラ
ーフィルター基板10においてパターン部分に遮光層の
みを形成したものが出来上がる。つまり、R,G,Bの
各着色画素3で形成されるパターンを除いた基板が出来
上がる。
【0024】続いて、ステップ4においてレッド(第1
色目)の着色レジストを塗布し、ステップ5においてプ
リベークして溶剤のみを蒸発させる。そして、ステップ
6において位置合わせを行った後、ステップ7において
露光する。この時、パターン部分11に第1色目の着色
パターンを露光すると同時に、パターン部分11の両脇
に設けたアライメントマーク「井」と記号「R」は露光
しないようにマスク処理する。このマスク処理を行わな
いと他の着色パターンを形成する時に、精度のよい位置
合わせができないからである。
色目)の着色レジストを塗布し、ステップ5においてプ
リベークして溶剤のみを蒸発させる。そして、ステップ
6において位置合わせを行った後、ステップ7において
露光する。この時、パターン部分11に第1色目の着色
パターンを露光すると同時に、パターン部分11の両脇
に設けたアライメントマーク「井」と記号「R」は露光
しないようにマスク処理する。このマスク処理を行わな
いと他の着色パターンを形成する時に、精度のよい位置
合わせができないからである。
【0025】ステップ6の位置合わせについて図10を
用いて説明する。前記カラーフィルター基板10に対し
て図8に示すマスク基板20をそれぞれのアライメント
マークが重なるようにして上方に50μmの間隔を空け
て重ねる。これらの基板10,20はそれぞれ図示しな
い保持具により支持されている。アライメントマークを
監視できるように約25万画素のエリアセンサを持つC
CDカメラ6と2つの光源7,7をアライメントマーク
領域12,22の上方に設置してある。まずはじめに、
カメラ6はアライメントマーク領域12,22である6
mm×6mmの面積(1画素あたり144μm×144
μmの面積)を撮影することで概ねの位置合わせを行
う。つまり3組分の「十」と「井」のアライメントマー
クが重なるように各基板10,20の保持具を移動調整
して両者のアライメントマーク領域12,22を重ね
る。次に、カメラは1組の「十」と「井」のアライメン
トマークを撮影することで1画素あたり5μm×5μm
の面積を撮影し、保持具を移動調整して精密な位置合わ
せを行う。さらに高解像度、高精度の位置合わせを行う
場合とか線幅やマークの大きさを小さくする場合には、
前記エリアセンサの画素数が多いセンサにするか、エリ
アサンサを複数配置したCCDカメラを利用すればよ
い。もちろん画像メモリ等もこれらのデータにしたがっ
て増加する必要がある。
用いて説明する。前記カラーフィルター基板10に対し
て図8に示すマスク基板20をそれぞれのアライメント
マークが重なるようにして上方に50μmの間隔を空け
て重ねる。これらの基板10,20はそれぞれ図示しな
い保持具により支持されている。アライメントマークを
監視できるように約25万画素のエリアセンサを持つC
CDカメラ6と2つの光源7,7をアライメントマーク
領域12,22の上方に設置してある。まずはじめに、
カメラ6はアライメントマーク領域12,22である6
mm×6mmの面積(1画素あたり144μm×144
μmの面積)を撮影することで概ねの位置合わせを行
う。つまり3組分の「十」と「井」のアライメントマー
クが重なるように各基板10,20の保持具を移動調整
して両者のアライメントマーク領域12,22を重ね
る。次に、カメラは1組の「十」と「井」のアライメン
トマークを撮影することで1画素あたり5μm×5μm
の面積を撮影し、保持具を移動調整して精密な位置合わ
せを行う。さらに高解像度、高精度の位置合わせを行う
場合とか線幅やマークの大きさを小さくする場合には、
前記エリアセンサの画素数が多いセンサにするか、エリ
アサンサを複数配置したCCDカメラを利用すればよ
い。もちろん画像メモリ等もこれらのデータにしたがっ
て増加する必要がある。
【0026】続いて、ステップ8においてこれらを現像
することで露光されていない不要な領域のパターンを除
去する。そして、ステップ9においてポストベークする
ことで露光されたパターンを固める。
することで露光されていない不要な領域のパターンを除
去する。そして、ステップ9においてポストベークする
ことで露光されたパターンを固める。
【0027】さらに、第2色目としてグリーン、第3色
目としてブルーの着色レジストを使用して上記のステッ
プ4からステップ9までを繰り返して行う。ここでは第
2色目の形成工程においてアライメントマーク領域の第
2の領域の中央に第2色目のマークを配置しており、第
3色目の形成工程においてアライメントマーク領域の第
3の領域の上部に第3色目のマークを配置している。
目としてブルーの着色レジストを使用して上記のステッ
プ4からステップ9までを繰り返して行う。ここでは第
2色目の形成工程においてアライメントマーク領域の第
2の領域の中央に第2色目のマークを配置しており、第
3色目の形成工程においてアライメントマーク領域の第
3の領域の上部に第3色目のマークを配置している。
【0028】ここで、ステップ6で行う位置合わせにつ
いて詳しく説明するが、はじめに図2〜5を用いて説明
し、次に図12を用いて説明する。
いて詳しく説明するが、はじめに図2〜5を用いて説明
し、次に図12を用いて説明する。
【0029】まず、図2〜5に示した種々のカラーフィ
ルターのパターン配置図から分かるように、図2〜4の
パターンではR,G,Bの各色は横方向に2着色画素分
ずつ且つ大きめに形成したマスク基板を用いることによ
り1枚の露光用のマスク基板を兼用で使用することがで
きる。また、図5のパターンではG用のパターンは兼用
ができないので図11に示すように別途準備する必要が
あるが、R,B用のパターンは縦及び横方向に1着色画
素分ずつ且つ大きめに形成したマスク基板を兼用すれば
よい。このように形成することで露光マスクの数を減ら
すことができる。
ルターのパターン配置図から分かるように、図2〜4の
パターンではR,G,Bの各色は横方向に2着色画素分
ずつ且つ大きめに形成したマスク基板を用いることによ
り1枚の露光用のマスク基板を兼用で使用することがで
きる。また、図5のパターンではG用のパターンは兼用
ができないので図11に示すように別途準備する必要が
あるが、R,B用のパターンは縦及び横方向に1着色画
素分ずつ且つ大きめに形成したマスク基板を兼用すれば
よい。このように形成することで露光マスクの数を減ら
すことができる。
【0030】次に、図12(a),(b)に重ねたアラ
イメントマーク領域の拡大図を示してあり、これは第2
色目のG用のアライメントマークについて位置合わせを
することの説明用の図である。図12(a)はパターン
部分11の左側アライメントマーク領域であり、(b)
は同じく右側アライメントマーク領域である。カラーフ
ィルター基板10上に形成してある「十」状のアライメ
ントマークのうち第2色目の中央にあるマークに対し
て、R,G,Bの各色兼用の露光用マスク基板20上に
形成してある「井」状のアライメントマークのうち中央
にあるマークを合わせる。ここで正常の場合、他の色の
アライメントマークは各々±1着色画素分ずつずれるこ
とになる。そして、カラーフィルター基板10の搬送方
向を逆に間違えた場合、G用のアライメントマーク
「十」(カラーフィルター基板)と「井」(マスク基
板)だけが重なり、これを交点にしてアライメントマー
ク領域内では「×」状にマーク群が形成される。この不
良発生時のアライメントマーク群の「×」状のイメージ
として、図13(a)はパターン部分11の左側アライ
メントマーク領域を示しており、(b)は同じく右側ア
ライメントマーク領域を示している。これによりカラー
フィルター基板10の設定が不良であることを認識でき
るのである。
イメントマーク領域の拡大図を示してあり、これは第2
色目のG用のアライメントマークについて位置合わせを
することの説明用の図である。図12(a)はパターン
部分11の左側アライメントマーク領域であり、(b)
は同じく右側アライメントマーク領域である。カラーフ
ィルター基板10上に形成してある「十」状のアライメ
ントマークのうち第2色目の中央にあるマークに対し
て、R,G,Bの各色兼用の露光用マスク基板20上に
形成してある「井」状のアライメントマークのうち中央
にあるマークを合わせる。ここで正常の場合、他の色の
アライメントマークは各々±1着色画素分ずつずれるこ
とになる。そして、カラーフィルター基板10の搬送方
向を逆に間違えた場合、G用のアライメントマーク
「十」(カラーフィルター基板)と「井」(マスク基
板)だけが重なり、これを交点にしてアライメントマー
ク領域内では「×」状にマーク群が形成される。この不
良発生時のアライメントマーク群の「×」状のイメージ
として、図13(a)はパターン部分11の左側アライ
メントマーク領域を示しており、(b)は同じく右側ア
ライメントマーク領域を示している。これによりカラー
フィルター基板10の設定が不良であることを認識でき
るのである。
【0031】カラーフィルター基板10におけるアライ
メントマークの並びを同方向とした場合について言う
と、図14(a)はパターン部分11の左側アライメン
トマーク領域であり、(b)は同じく右側アライメント
マーク領域である。カラーフィルター基板10上に形成
してある「十」状のアライメントマークのうち第2色目
の中央にあるマークに対して、R,G,Bの各色兼用の
露光用マスク基板20上に形成してある「井」状のアラ
イメントマークのうち中央にあるマークを合わせる。こ
こで正常の場合、他の色のアライメントマークは各々±
1着色画素分ずつずれることになる。そして、カラーフ
ィルター基板10を裏返しに間違えた場合、G用のアラ
イメントマーク「十」(カラーフィルター基板)と
「井」(マスク基板)だけが重なり、これを交点にして
アライメントマーク領域内では「×」状にマーク群が形
成される。この不良発生時のアライメントマーク群の
「×」状のイメージとして、図15(a)はパターン部
分の左側アライメントマーク領域であり、(b)は同じ
く右側アライメントマーク領域である。これにより基板
の設定が不良であることを認識できるのである。
メントマークの並びを同方向とした場合について言う
と、図14(a)はパターン部分11の左側アライメン
トマーク領域であり、(b)は同じく右側アライメント
マーク領域である。カラーフィルター基板10上に形成
してある「十」状のアライメントマークのうち第2色目
の中央にあるマークに対して、R,G,Bの各色兼用の
露光用マスク基板20上に形成してある「井」状のアラ
イメントマークのうち中央にあるマークを合わせる。こ
こで正常の場合、他の色のアライメントマークは各々±
1着色画素分ずつずれることになる。そして、カラーフ
ィルター基板10を裏返しに間違えた場合、G用のアラ
イメントマーク「十」(カラーフィルター基板)と
「井」(マスク基板)だけが重なり、これを交点にして
アライメントマーク領域内では「×」状にマーク群が形
成される。この不良発生時のアライメントマーク群の
「×」状のイメージとして、図15(a)はパターン部
分の左側アライメントマーク領域であり、(b)は同じ
く右側アライメントマーク領域である。これにより基板
の設定が不良であることを認識できるのである。
【0032】ここで、図12及び図14において左右の
アライメントマークのズレ量が異なる時はガラス基板が
捻れていることに原因があるため、各基板の保持具の移
動調整を行う。もちろん、第1目のR、第3色目のBに
ついても同様である。
アライメントマークのズレ量が異なる時はガラス基板が
捻れていることに原因があるため、各基板の保持具の移
動調整を行う。もちろん、第1目のR、第3色目のBに
ついても同様である。
【0033】3色目の着色を完了した後、ステップ10
において着色画素を覆うようにオーバーコート層を設け
て保護膜を形成し、次いでステップ11において透明導
電層を形成する。
において着色画素を覆うようにオーバーコート層を設け
て保護膜を形成し、次いでステップ11において透明導
電層を形成する。
【0034】なお、カラーフィルター基板10の搬送方
向間違いと表裏の設定間違いを同時に認識するため、図
16に示すように、カラーフィルター基板10上に並び
が対称なアライメントマーク群と並びが同方向のアライ
メントマーク群とを2組設けるようにしてもよい。
向間違いと表裏の設定間違いを同時に認識するため、図
16に示すように、カラーフィルター基板10上に並び
が対称なアライメントマーク群と並びが同方向のアライ
メントマーク群とを2組設けるようにしてもよい。
【0035】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
液晶ディスプレイ用のカラーフィルターにおける遮光層
のパターンとレッド、グリーン、ブルーの各着色画素の
パターンとを順次形成する工程において、各パターンの
位置合わせ用のアライメントマークの抜け、入れ替わり
等の誤りを容易にチェックでき、かつ、基板の搬送方向
誤り、表裏逆等を容易にチェックできるアライメントマ
ークを付したカラーフィルターを得ることができる。
液晶ディスプレイ用のカラーフィルターにおける遮光層
のパターンとレッド、グリーン、ブルーの各着色画素の
パターンとを順次形成する工程において、各パターンの
位置合わせ用のアライメントマークの抜け、入れ替わり
等の誤りを容易にチェックでき、かつ、基板の搬送方向
誤り、表裏逆等を容易にチェックできるアライメントマ
ークを付したカラーフィルターを得ることができる。
【図1】一般的なカラーフィルターの構造を示す断面図
である。
である。
【図2】カラーフィルターにおける各着色画素のパター
ン配置図である。
ン配置図である。
【図3】同じく別のパターン配置図である。
【図4】同じく別のパターン配置図である。
【図5】同じく別のパターン配置図である。
【図6】本発明の一実施例としてのアライメントマーク
付きカラーフィルターの上面図である。
付きカラーフィルターの上面図である。
【図7】カラーフィルターの面付けの他の例を示す説明
図である。
図である。
【図8】パターン転写用の露光用マスク基板を示す説明
図である。
図である。
【図9】カラーフィルターの製造工程を示す図である。
【図10】カラーフィルター基板とマスク基板の位置合
わせ方法を示す説明図である。
わせ方法を示す説明図である。
【図11】グリーン用パターンの露光用マスク基板を示
す説明図である。
す説明図である。
【図12】アライメントマークの使用説明図である。
【図13】不良発生時のアライメントマークの説明図で
ある。
ある。
【図14】アライメントマークの使用説明図である。
【図15】不良発生時のアライメントマークの説明図で
ある。
ある。
【図16】本発明に係る別のアライメントマーク付きカ
ラーフィルターを示す上面図である。
ラーフィルターを示す上面図である。
10 カラーフィルター基板 11 パターン部分 12 アライメントマーク領域 12a 第1の領域 12b 第2の領域 12c 第3の領域
Claims (5)
- 【請求項1】 各着色画素のパターンを重ね合わせる時
に用いる位置合わせ用のアライメントマークが遮光層の
形成時に付されたカラーフィルターにおいて、それぞれ
3分割したアライメントマーク領域をパターン部分の周
囲に2つ以上配置し、各アライメントマーク領域におけ
る第1の領域の下部、第2の領域の中央、第3の領域の
上部にそれぞれ遮光層と同じ材料からなるアライメント
マークを配置したことを特徴とするアライメントマーク
付きカラーフィルター。 - 【請求項2】 第1〜3の領域がそれぞれ長方形となる
ようにアライメントマーク領域を分割し、第1の領域の
下部にレッド用のアライメントマークを、第2の領域の
中央にグリーン用のアライメントマークを、第3の領域
の上部にブルー用のアライメントマークをそれぞれ配置
したことを特徴とする請求項1記載のアライメントマー
ク付きカラーフィルター。 - 【請求項3】 第1〜3の領域にそれぞれ配置するアラ
イメントマークを「十」状としたことを特徴とする請求
項1又は2記載のアライメントマークマーク付きカラー
フィルター。 - 【請求項4】 各アライメントマークの近傍に各色を識
別する記号を形成したことを特徴とする請求項1,2又
は3記載のアライメントマーク付きカラーフィルター。 - 【請求項5】 各色を識別する記号を各色の頭文字とし
たことを特徴とする請求項4記載のアライメントマーク
付きカラーフィルター。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20301194A JPH0850203A (ja) | 1994-08-05 | 1994-08-05 | アライメントマーク付きカラーフィルター |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20301194A JPH0850203A (ja) | 1994-08-05 | 1994-08-05 | アライメントマーク付きカラーフィルター |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0850203A true JPH0850203A (ja) | 1996-02-20 |
Family
ID=16466865
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20301194A Pending JPH0850203A (ja) | 1994-08-05 | 1994-08-05 | アライメントマーク付きカラーフィルター |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0850203A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5905553A (en) * | 1997-07-17 | 1999-05-18 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display |
JP2007256581A (ja) * | 2006-03-23 | 2007-10-04 | Hitachi High-Technologies Corp | カラーフィルタ基板の露光装置及び露光方法 |
CN107065283A (zh) * | 2017-04-17 | 2017-08-18 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 高ppi面板cf光罩共用的方法 |
-
1994
- 1994-08-05 JP JP20301194A patent/JPH0850203A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5905553A (en) * | 1997-07-17 | 1999-05-18 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display |
JP2007256581A (ja) * | 2006-03-23 | 2007-10-04 | Hitachi High-Technologies Corp | カラーフィルタ基板の露光装置及び露光方法 |
CN107065283A (zh) * | 2017-04-17 | 2017-08-18 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 高ppi面板cf光罩共用的方法 |
CN107065283B (zh) * | 2017-04-17 | 2020-04-07 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 高ppi面板cf光罩共用的方法 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040122 |