JP5513729B2 - カラーフィルタ形成基板の作製方法 - Google Patents

Description

本発明は、カラーフィルタ形成基板の作製方法に関する。

近年、情報化社会への進展が著しく、ディスプレイ装置の使用も多様化し、種々のディスプレイ装置が開発、実用化されている。
特に、液晶表示装置は、ＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ−Ｒａｙ Ｔｕｂｅ、ブラウン管) に代わり、広く普及されるようになってきた。
液晶表示装置用のカラー表示用の液晶パネルは、簡単には、ＴＦＴ基板（ＴＦＴ；Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）とカラーフィルタ形成基板（対向基板とも言う）とを対向させ、両基板間に液晶を密封し、更に、ＴＦＴ基板とカラーフィルタ形成基板の外側に、それぞれ、偏向板を配し、ＴＦＴ基板の外側にバックライト部を配した構造で、バックライト部からの光が各色の着色層からなるカラーフィルタ（以下、ＣＦとも言う）を通過して表示されるが、各色の着色層からなるカラーフィルタを通過する光は、画素毎に液晶をスイッチング素子としてオン−オフ制御されている。
液晶を制御する方式としては、各基板に垂直な縦方向の電界によって、液晶の配向方向を基板に直交する面内で回転させる方式（垂直電界方式とも言う）と、基板に平行な横方向の電界によって、基板に平行な面内で回転させる方式（横電界方式とも言う）とがある。
垂直電界方式の代表例がＴＮ方式（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ ｍｏｄｅ）であり、横電界方式はＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式として知られている。
このような電界の制御は、通常、ＴＮ方式等の場合は、両基板にそれぞれ配設された透明導電膜（通常は、ＩＴＯ膜〜錫をドープしたインジウム酸化物）からなる制御用の電極により行い、ＩＰＳ方式（横電界方式）の場合は、ＴＦＴ基板に配設された透明導電膜（ＩＴＯ膜）の制御用の電極により行う。
最近では、垂直電界方式においては、良好に視野角を制御するために、カラーフィルタ形成基板に液晶配向機能突起が設けられるようになった。

そして、従来から、ＴＦＴ回路の形成用あるいはカラーフィルタ形成用のマスクとしては、透明基板の一面に転写時の露光光を実質的に遮光する遮光膜からなる、複数の図形パターンにて絵柄部全体を形成しているバイナリーマスクが用いられていたが、最近では、液晶表示パネルの作製の工程短縮を図るために、透明基板の一面に転写時の露光光を遮光する遮光膜と、前記露光光に対して半透過性のハーフトーン膜とを、それぞれパターニングして配し、遮光膜が配設された遮光領域と、遮光膜はなくハーフトーン膜が配設されたハーフトーン領域と、遮光膜とハーフトーン膜のいずれもが存在しない透明領域とを、設けた階調マスク（特開２００７−１８８０６９号公報参照）や、解像限界以下の微細なスリットを配置して、露光量を調整する微細なスリットを有するスリットマスク（特開２００２−１９６４７４号公報参照）の使用が行われるようになってきた。
例えば、階調マスクを用いて一括露光することにより、液晶表示装置用のカラーフィルタ形成基板における、液晶パネルの液晶を保持する間隔を制御するための柱状スペーサ（単に柱とも言う）および液晶配向機能突起を、着色層からなるカラーフィルタ形成の工程と同時に形成することが可能となる。（特開２００５−８４３６６号公報参照）
尚、階調マスクを作製するためには、例えば、透明基板上に半透明膜と遮光膜とが積層された専用のマスクブランクを使用し、マスクパターン製版を行えば良く、階調マスクは、スリットマスクのように微細なスリットを配置する必要がない点で有利である。
このような、階調マスクでは、透過率の異なる領域によって透過光の量を制御することにより、現像後のレジストの膜厚を２段階に制御することができる。
特開２００７−１８８０６９号公報 特開２００２−１９６４７４号公報 特開２００５−８４３６６号公報

上記のように、最近では、液晶表示パネルの作製の工程短縮を図り、柱状スペーサを、あるいは、柱状スペーサと液晶配向機能突起とを、着色層からなるカラーフィルタ形成の工程と同時に形成することが行われるようになってきた。
しかし、通常、１層目の着色層でアライメントマークを形成し、該マークに合わせて２層目以降の着色層を形成することとなるが、２層目以降の着色層を形成するための樹脂着色層１層が、１層目の着色層からなるアライメントマーク上を覆う状態となるが、この状態での１層目の着色層からなるアライメントマークの認識は、現状のプロキシミティー露光機ではできない。
例えば、層構成が、透明基板側から順に、樹脂ＢＭ〜Ｒ、Ｇ、Ｂの着色層〜ＩＴＯ膜〜柱からなるＴＮ方式のカラーフィルタ形成基板において、工程短縮のため、柱をＲ、Ｇ、Ｂの着色層の積層して形成する場合で、且つ、Ｒ、Ｇ、Ｂの着色層を、それぞれ、１層目の着色層、２層目の着色層、３層目の着色層としてこの順に形成する場合、アライメントマークが１層目の着色層（Ｒの着色層）で形成されるため、２層目以降のＧ、Ｂの着色層形成の工程、ＢＭ形成の工程におけるアライメント部は、２層目以降の着色層を形成するための樹脂着色層１層が、Ｒの着色層からなるアライメントマーク上を覆う状態となるが、現状のプロキシミティー露光機では、Ｒの着色層からなるアライメントマークを認識することができない。
このため、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを露出するようにして、２層目以降の着色層を形成してアライメントを行っていた。（特願２００８−００８０２４参照）
また、１層目の着色層上にＩＴＯ膜が塗布された状態として、ＢＭ膜を形成して、アライメントを行っていた。（特願２００８−０１１８４８参照）
これらのアライメントの際、例えば、リング照明によりアライメントマーク部を照明して、ＣＣＤエリアセンサを撮像素子として撮像手段にて撮影していた。
特願２００８−００８０２４ 特願２００８−０１１８４８ しかしながら、このようなアライメント方式の場合、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを露出するようにしたり、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを見易くするための工程が必要で、手間がかかり生産性の面や歩留まりの面で問題となっていた。

上記のように、最近では、液晶表示パネルの作製の工程短縮を図り、柱状スペーサを、あるいは、柱状スペーサと液晶配向機能突起とを、着色層からなるカラーフィルタ形成の工程と同時に形成することが行われるようになってきた。
そして、その際、１層目の着色層で形成されるアライメントマークが露出するようにして、２層目以降の着色層を形成してアライメントを行う、または、１層目の着色層上にＩＴＯ膜が塗布された状態として、ＢＭ膜を形成してアライメントを行う、アライメント方法が採られていたが、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを露出するようにしたり、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを見易くするための工程が必要で、手間がかかり生産性の面や歩留まりの面で、その対応が求められていた。
本発明はこれに対応するもので、柱状スペーサを、あるいは、柱状スペーサと液晶配向機能突起とを、着色層からなるカラーフィルタ形成の工程と同時に形成するカラーフィルタ形成基板の作製方法において、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを露出するようにしたり、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを見易くするための工程を必要としないで、１層目の着色層で形成されるアライメントマークの位置を検出できる、アライメントマーク部の位置検出方法を用いた、カラーフィルタ形成基板の作製方法を提供しようとするものです。

本発明のカラーフィルタ形成基板の作製方法は、透明基板の一面に、各色の着色層からなる各色のカラーフィルタ部を有するカラーフィルタ形成基板を作製する、カラーフィルタ形成基板の作製方法であって、前記透明基板の一面に各着色層を形成するための感光性着色樹脂を塗布し、フォトマスクを介して選択的に露光を行い、現像することにより、所望の形状に各着色層を形成する、フォトリソ工程を、形成する第１の着色層〜第３の着色層の着色層の数だけ３回行い、前記各カラーフィルタ部を形成するものであり、前記各フォトリソ工程における、露光は、前記透明基板の他面をステージ側にして載せ、アライメントした後に、フォトマスクを介して、プロキシミティー露光方法にて行うもので、１回目のフォトリソ工程においては、カラーフィルタ部とマークとを、第１の着色層で形成し、２回目のフォトリソ工程においては、前記マークを露出するようにして、カラーフィルタ部を第２の着色層で形成するもので、２回目、３回目の各フォトリソ工程の際のアライメントは、いずれも、１回目のフォトリソ工程により形成された前記マークと、前記マークを覆うように各フォトリソ工程において塗布される着色層を形成するための感光性着色樹脂からなる着色樹脂層１層とで形成され、該着色樹脂層が前記マークに沿い盛り上がった領域を含む部分を、アライメントマーク部とし、該アライメントマーク部の表面を、正反射照明（落射照明）にて、撮像装置により撮影し、撮影した画像から、画像処理により、その位置を検出し、検出された位置に対応して、相対的にフォトマスクと透明基板側を位置移動して、行うものであることを特徴とするものである。
本発明に関わるアライメントマーク部配設基板は、透明基板の一面に、各色の着色層からなる各色のカラーフィルタ部、着色層からなるブラックマトリクス部を有し、柱状スペーサを、各カラーフィルタ部およびブラックマトリクス部を形成するための着色層で形成し、且つ、各色のカラーフィルタ部上にＩＴＯ層を配している液晶表示パネル用のカラーフィルタ形成基板を、作製するための基板で、且つ、透明基板の一面に、アライメントマーク部を備えたアライメントマーク部配設基板であって、前記アライメントマーク部は、前記透明基板の一面に配設された着色層からなるマークと、該マーク領域全体を覆い、該マークの形状に沿い盛り上がるように配設された着色樹脂層１層とを備えており、前記マークは、感光性の着色樹脂層を用いたフォトリソ法により、着色樹脂層を素材として、第１の着色層と一緒に形成されたものであり、前記アライメントマーク部のマーク領域全体を覆う着色樹脂層は、前記第１の着色層以外の着色層をフォトリソ法により形成する際に、素材として全面に塗布形成される着色樹脂層であり、前記アライメントマーク部は、カラーフィルタ形成基板の作製における前記第１の着色層以外の着色層のパターニングの際の位置合わせに用いられ、前記アライメントマーク部の表面を正反射照明（落射照明）にて撮影した画像から、画像処理により、前記アライメントマーク部の位置を検出するためのものであり、且つ、前記着色層からなるマークの幅を横切る前記アライメントマーク部の断面における、平坦面からテーパー部までのアライメントマーク部の内角をテーパー部の傾きとして、該テーパー部の平均傾きをθとした場合、θは９０度未満で、且つ、ｔａｎθの値が０．０２８以上であることを特徴とするものである。
尚、ここでは、アライメントマーク部の、着色層からなるマークの幅を横切る断面は、図３（ａ）に示すように、マークの形状に沿い盛り上がった部分の頂部２２ａは平坦状で、底側の面部２２ｃは平坦状で、頂部２２ａの端から面部２２ｃに到るテーパー部（エッジ部とも言う）２２ｂは傾きをもち形成されていることを前提としている。
そして、ここでは、平均傾きは、概略的に、アライメントマーク部の断面の表面形状が、図３（ｄ）の示すような場合、テーパー部（エッジ部）２２ｂの底の勾配が緩やかな立ち上がり部、頂点付近の勾配が緩やかな部分を除いた領域の平均勾配としている。
また、ここでのアライメントマーク部は、その領域を正反射照明（落射照明）にて撮影した画像から、画像処理により、該アライメントマーク部の位置を検出するためのものであることを前提としている。

（作用）
本発明に関わるアライメントマーク部配設基板は、このような構成にすることにより、柱状スペーサを、あるいは、柱状スペーサと液晶配向機能突起とを、着色層からなるカラーフィルタ形成の工程と同時に形成するカラーフィルタ形成基板の作製方法において、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを露出するようにしたり、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを見易くするための工程を必要としないで、１層目の着色層で形成されるアライメントマークの位置を検出できる、アライメントマーク部の位置検出方法を可能とするアライメントマーク部配設基板の提供を可能とした。
透明基板の一面に配設された着色層からなるマークと、該マーク領域全体を覆い、該マークの形状に沿い盛り上がるように配設された着色樹脂層１層とからなるアライメントマーク部について、その領域を正反射照明（落射照明）にて撮影した画像から、画像処理により、該アライメントマーク部の位置を検出できるものとし、これより、前記マーク位置を検出することを可能としている。
具体的には、前記アライメントマーク部は、その領域を正反射照明（落射照明）にて撮影した画像から、画像処理により、該アライメントマーク部の位置を検出するためのもので、前記透明基板の一面に配設された着色層からなるマークと、該マーク領域全体を覆い、該マークの形状に沿い盛り上がるように配設された着色樹脂層１層とからなることにより、これを達成している。
詳しくは、アライメントマーク部の表面を撮影してその形状が十分に認識できれば、着色層からなるマークのセンター位置（単にマーク位置とも言う）が、撮影されたアライメントマーク部のセンター位置に相当するという認識のもとに、正反射照明（落射照明）にて撮影することにより、アライメントマーク部の表面を撮影することによりその形状が十分に認識できることを見出して成したものです。
そして、特に、前記着色層からなるマークの幅を横切る前記アライメントマーク部の断面における、平坦面からテーパー部までのアライメントマーク部の内角をテーパー部の傾きとして、該テーパー部の平均傾きをθとした場合、θは９０度未満で、且つ、ｔａｎθの値が０．０２８以上であることにより、実用レベルで良く認識できる。
アライメントマーク部のマークの形状に沿い盛り上がった部分のテーパー部（図３の２２ｂ）の形状は、各箇所においてばらつきのある形状で、テーパー部の形状の平均傾きの値によっては、撮影の際、この凹凸形状部分に照明された光は一定方向でなく散乱されて一部は撮像装置のレンズ系を介してＣＣＤエリアセンサに入る光の量が大きくなり、アライメントマーク部の頂部（図３の２２ａ）やテーパー部（エッジ）の底側の面部（図３の２２ｃ）と区分けが難しくなる。
十分にテーパー部を認識するには、撮像装置のＣＣＤエリアセンサが撮影する輝度の階調を０〜２５５までの２５６階調とした場合、撮影した際に暗くなるテーパー部の輝度と、明るくなるアライメントマーク部の頂部やテーパー部の底の面部との輝度差が１０以上であることが、実用レベルでは求められるが、上記ｔａｎθの値が０．０２８以上である場合に、輝度差を１０以上とすることができることを意味する。
特に、カラーフィルタ形成基板の作製における着色層のパターニングの際の、アライメントマーク部の位置検出を行う場合には、有効である。
これにより、従来の、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを露出するようにしたり、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを見易くするための工程を必要としないものとできる。
アライメントマーク部配設基板がカラーフィルタ形成基板作製用の基板であり、前記アライメントマーク部は、カラーフィルタ形成基板の作製における着色層のパターニングの際に用いられるものである場合には、有効です。
該カラーフィルタ形成基板が、透明基板の一面に、各色の着色層からなる各色のカラーフィルタ部、着色層からなるＢＭを有し、柱部（スペーサとも言う）を、各カラーフィルタ部やＢＭ部を形成するための着色層で形成し、且つ、各色のカラーフィルタ部上にＩＴＯ層を配している、ＴＮ方式（ＴｗｉｓｔｅｄＮｅｍａｔｉｃｍｏｄｅ）等の液晶表示パネル用のカラーフィルタ形成基板である場合には、柱状スペーサを、あるいは、柱状スペーサと液晶配向機能突起とを、着色層からなるカラーフィルタ形成の工程と同時に形成するカラーフィルタ形成基板の作製方法で、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを露出するようにしたり、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを見易くするための工程を必要としない、カラーフィルタ形成基板の作製が可能となる。
カラーフィルター製造のパターン露光工程において、基板に対して落射光をあてて各種レジスト層下の着色アライメントマーク形状を認識させることにより、着色積層柱によるパターン形成を可能にし、ＴＮ品製造工程数削減を実現でき、特に、有効です。

本発明に関わるアライメントマーク部配設基板は、上記のように、透明基板の一面に配設された着色層からなるマークと、該マーク領域全体を覆い、該マークの形状に沿い盛り上がるように配設された着色樹脂層１層とからなるアライメントマーク部について、その領域を正反射照明（落射照明）にて撮影した画像から、画像処理により、該アライメントマーク部の位置を検出できるものとし、これより、前記マーク位置の検出を可能とした。 そして、本発明に関わるアライメントマーク部配設基板を用いることにより、結果として、柱状スペーサを、あるいは、柱状スペーサと液晶配向機能突起とを、着色層からなるカラーフィルタ形成の工程と同時に形成するカラーフィルタ形成基板の作製方法において、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを露出するようにしたり、１層目の着色層で形成されるアライメントマークを見易くするための工程を必要としないで、１層目の着色層で形成されるアライメントマークの位置を検出できるアライメントマーク部の位置検出方法の提供を可能とした。

本発明の実施の形態を図に基づいて説明する。
図１（ａ）は本発明に関わるアライメントマーク部配設基板の実施の形態の第１の例の概略断面図を示した図で、図１（ｂ）は本発明に関わるアライメントマーク部配設基板の実施の形態の第２の例の概略断面図を示した図で、図１（ｃ）は本発明に関わるアライメントマーク部配設基板の実施の形態の第３の例の概略断面図を示した図で、図１（ｄ）は、カラーフィルタ形成基板の画素の配列の１例を示した図で、図２（ａ）〜図２（ｈ）は、図１（ａ）、図１（ｂ）、図１（ｃ）に、それぞれ、示す第１の実施の形態例〜第３の実施の形態例の作製工程を示した断面図で、図３（ａ）は本発明に関わるアライメントマーク部配設基板のアライメントマーク部の位置検出方法の１例を示した概略断面図で、図３（ｂ）はアライメントマーク部を図３（ａ）のＡ１方向からみた図で、図３（ｃ）はアライメントマーク部の撮影画像を示した概略図で、図３（ｄ）はアライメントマーク部の表面の断面形状を示した図で、図４（ａ）は本発明に関わるアライメントマーク部配設基板のアライメントマーク部の位置検出を実施する概略構成の１例を示した図で、図４（ｂ）は処理基板のアライメントマーク部とマスクのアライメントマークとを重ねて示した図で、図５は図４（ａ）に示すアライメント方法の処理の１例のフロー図で、図６は本発明に関わるアライメントマーク部配設基板におけるカラーフィルタ形成基板の作製方法、液晶表示パネルの作製の処理フローの１例を示した処理フロー図で、図７は図６に示すカラーフィルタ形成基板の作製方法により作製されたカラーフィルタ形成基板の１例を示した断面図で、図８は図６に示すカラーフィルタ形成基板の作製方法により作製されたカラーフィルタ形成基板の他の１例を示した断面図である。
尚、図１（ａ）〜図１（ｃ）においては、分かり易くするため便宜上、第１の着色層〜第３の着色層の各着色層の数を少なく示してある。
また、図３（ｃ）は、アライメントマーク部の頂部２２ａやエッジ底の面部２２ｃは輝度が高く白部として示し、暗部２０Ｂを斜線部として示しており、暗部２０Ｂは濃淡があるが、ここでは便宜上このように示している。
また、図３（ｄ）は、図３（ｂ）のＡ２−Ａ３における断面を示したものである。
また、図３（ａ）に示す撮像装置は簡略化して示されており、レンズ系は省略されている。
また、図５におけるＳ１〜Ｓ１０、図６におけるＳ２０〜Ｓ２９は処理ステップを示している。
図１〜図８中、１は透明基板、２ａは第１の着色層、２Ａはマーク、３は着色樹脂層（着色層とも言う）、３Ａはアライメントマーク部、３ａは第２の着色層、４は着色樹脂層（着色層とも言う）、４Ａはアライメントマーク部、４ａは第３の着色層、５はＩＴＯ膜、６は着色樹脂層（着色層とも言う）、６ａは（ブラックストライプ用の）着色層、６Ａはアライメントマーク部、６ａはブラックストライプ、７はカラーフィルタ形成基板、８は画素配列、８ａは画素領域、１０は透明基板、１０ａは処理基板（カラーフィルタ形成用基板とも言う）、２０はアライメントマーク部、２０Ａは（アライメントマーク部の）撮影画像、２０Ｂは暗部、２０Ｃはアライメントマーク部の位置、２０Ｘはｘ方向のライン、２０Ｙはｙ方向のライン、２１は（着色層の）マーク、２２は着色樹脂層（着色層とも言う）、２２ａは頂部、２２ｂはテーパー部（エッジ部とも言う）、２２ｃは面部（テーパー部の底側の面部とも言う）、３０はマスク、３１はアライメントマーク、３５はマスク保持部、４０は撮像装置、４１はＣＣＤエリアセンサ、４２はハーフミラー、４３は（照明用の）光源、４４はミラー、５０はステージ、５５は基板保持部、７１は１層目の着色層、７２は２層目の着色層、７３は３層目の着色層、７４はＩＴＯ膜、７５はＢＭ層（遮光性着色層とも言う）、７５Ａは半遮光性着色層、７６はブラックマトリクス部（単にブラックマトリクスとも言う）、８０、８０ａは柱状スペーサ、Ｒ0 は赤色画素部、Ｇ0 は緑色画素部、Ｂ0 は青色画素部である。

本発明に関わるアライメントマーク部配設基板の実施の形態例を図１に基づいて説明する。
図１（ａ）に示す第１の例のアライメントマーク部配設基板、図１（ｂ）に示す第２の例のアライメントマーク部配設基板、図１（ｃ）に示す第３の例のアライメントマーク部付き基板は、いずれも、図１（ｄ）に示すような同じ色の画素をストライプ状に配列した画素配列のカラーフィルタ形成基板を形成するための中間基板で、図１（ｄ）では明示していないが、図２（ｈ）に示されるように、第１の着色層２ａ、第２の着色層３ａ、第３の着色層４ａをストライプ状に配し、且つ、各色の着色層の境部に黒色の着色層（ブラックマトリクス６ａと言う）を配した断面構造のカラーフィルタ形成基板を形成する中間工程での基板です。
図１（ａ）に示す第１の例のアライメントマーク部配設基板は、第１の着色層２ａと、該第１の着色層と同じ着色樹脂層から形成された着色層からなるマーク２Ａを配設し、第１の着色層２ａ、マーク２Ａを覆うように全面に第２の着色層を形成するための着色樹脂層３で覆った形態のものである。
第１の例では、アライメントマーク部３Ａは、透明基板１の一面に配設された着色層からなるマーク２Ａと、該マーク領域全体を覆い、該マークの形状に沿い盛り上がるように配設された着色樹脂層３とからなる。
アライメントマーク部３Ａは、その領域を正反射照明（落射照明）にて撮像装置のＣＣＤエリアセンサで撮影した画像から、画像処理により、該アライメントマーク部の位置を検出するためのものです。
図１（ｂ）に示す第２の例のアライメントマーク部配設基板は、第１の着色層２ａと、該第１の着色層と同じ着色樹脂層から形成された着色層からなるマーク２Ａと、第２の着色層３ａとを配設し、第１の着色層２ａ、マーク２Ａ、第２の着色層３ａを覆うように全面に第３の着色層を形成するための着色樹脂層４で覆った形態のものである。
第２の例では、アライメントマーク部４Ａは、透明基板１の一面に配設された着色層からなるマーク２Ａと、該マーク領域全体を覆い、該マークの形状に沿い盛り上がるように配設された着色樹脂層４とからなる。
アライメントマーク部４Ａも、その領域を正反射照明（落射照明）にて撮像装置のＣＣＤエリアセンサで撮影した画像から、画像処理により、該アライメントマーク部の位置を検出するためのものです。
図１（ｃ）に示す第３の例のアライメントマーク部配設基板は、第１の着色層２ａと、該第１の着色層と同じ着色樹脂層から形成された着色層からなるマーク２Ａと、第２の着色層３ａと、第３の着色層４ａとを配設し、これらを覆うようにＩＴＯ膜５を配設し、更に、第１の着色層２ａ、マーク２Ａ、第２の着色層３ａ、第３の着色層４ａの領域を覆うようにＩＴＯ膜５上全面にブラックマトリクス６ａを形成するための着色樹脂層６で覆った形態のものである。
第３の例では、アライメントマーク部６Ａは、透明基板１の一面に配設された着色層からなるマーク２Ａと、該マーク領域全体を覆うＩＴＯ膜５、更に、ＩＴＯ膜５が覆われたマーク領域全体を覆い、該マークの形状に沿い盛り上がるように配設された着色樹脂層６とからなる。
アライメントマーク部６も、その領域を正反射照明（落射照明）にて撮像装置のＣＣＤエリアセンサで撮影した画像から、画像処理により、該アライメントマーク部の位置を検出するためのものです。
尚、上記各アライメントマーク部３Ａ、４Ａ、６Ａについては、各アライメントマーク部の、着色層からなるマーク２Ａの幅を横切る断面のテーパー部（エッジ部とも言う）の平均傾きをθとした場合、ｔａｎθの値が０．０２８以上であることが好ましい。
先にも述べたが、十分にテーパー部（エッジ部）を認識するには、撮像装置のＣＣＤエリアセンサが撮影する輝度の階調を０〜２５５までの２５６階調とした場合、撮影した際に暗くなるテーパー部（エッジ部）の輝度と、明るくなるアライメントマーク部の頂部や
エッジ底の面部との輝度差が１０以上であることが、実用レベルでは求められるが、上記ｔａｎθの値が０．０２８以上である場合に、輝度差を１０以上とすることができることを意味する。

尚、透明基板１０としては、低膨張で透明性の良いものが好ましく、ここではガラス基板を用いているが、これに限定されない。
プラスチック基板等も用いられる。
第１の着色層２ａ、第２の着色層３ａ、第３の着色層４ａの各着色層を形成するための樹脂着色層としては、ここでは、それぞれ、紫外線硬化型の感光性樹脂に顔料や染料他を混ぜて分散させた、顔料分散型の着色材料を用いている。
第１の着色層２ａ、第２の着色層３ａ、第３の着色層４ａの各着色層としては、通常、Ｒ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）の各色の着色層が用いられる。

次に、第１の例〜第３の例のアライメントマーク部配設基板の作製工程と、これらを中間基板として作製されるカラーフィルタ形成基板の作製工程を、図２に基づいて、簡単に説明しておく。
透明基板１を用意しておき（図２（ａ））、その一面に第１の着色層２ａ形成用の感光性の着色樹脂層を一面に塗布し（図示していない）、該着色樹脂層を露光用のマスクを介して選択的に露光して、現像処理を施すフォトリソ法により、透明基板１の一面に第１の着色層２ａ、とマーク２Ａとを形成する。（図２（ｂ））
着色樹脂層としては、紫外線硬化型の感光性樹脂に顔料や染料他を混ぜて分散させたものが用いられる。
ここでの露光は、プロキシミティー露光が採られる。
この後、第１の着色層２ａ、マーク２Ａを覆うように全面に第２の着色層を形成するための着色樹脂層３で塗布して覆い、第１の例のアライメントマーク部配設基板を作製する。（図２（ｃ））
次いで、該着色樹脂層３を露光用のマスクを介して選択的に露光して、現像処理を施すフォトリソ法により、透明基板１の一面に第２の着色層３ａを更に形成する。（図２（ｄ））
ここでも、着色樹脂層３としては、紫外線硬化型の感光性樹脂に顔料や染料他を混ぜて分散させたものが用いられ、露光は、プロキシミティー露光が採られる。
次いで、第１の着色層２ａと、マーク２Ａと、第２の着色層３ａを覆うように全面に第
３の着色層を形成するための着色樹脂層４を塗布して覆い、第２の例のアライメントマーク部配設基板を作製する。（図２（ｅ））
この後、該着色樹脂層４を露光用のマスクを介して選択的に露光して、現像処理を施すフォトリソ法により、透明基板１の一面に第３の着色層４ａを更に形成する。（図２（ｆ））
ここでも、着色樹脂層４としては、紫外線硬化型の感光性樹脂に顔料や染料他を混ぜて分散させたものが用いられ、露光は、プロキシミティー露光が採られる。
次いで、スパッタリングによりＩＴＯ膜５を各着色層２ａ、３ａ、４ａ、とマーク２Ａを覆うように全面に形成した後、第１の着色層２ａ、マーク２Ａ、第２の着色層３ａ、第３の着色層４ａの領域を覆うようにＩＴＯ膜５上全面にブラックマトリクス６ａを形成するための着色樹脂層６を塗布して覆い、第３の例のアライメントマーク部配設基板を作製する。（図２（ｇ））
ＩＴＯ焼結体をターゲットとし、所定のスパッタリング条件の下で、スパッタリングすることにより、処理基板の各着色層上にＩＴＯ膜を単層膜として形成する。
この後、該着色樹脂層６を露光用のマスクを介して選択的に露光して、現像処理を施す
フォトリソ法により、各着色層の境部にブラックマトリクス６ａを更に形成する。（図２（ｈ））
ここでも、着色樹脂層６としては、紫外線硬化型の感光性樹脂に顔料や染料他を混ぜて分散させたものが用いられ、露光は、プロキシミティー露光が採られる。
このようにして、図２（ｈ）に示すカラーフィルタ形成基板７が形成される。

次に、本発明に関わるアライメントマーク部配設基板のアライメントマーク部の位置検出方法の１例を、図３に基づいて説明する。
本例のアライメントマーク部の位置検出方法は、カラーフィルタ形成基板の作製における着色層のパターニングの際に採られる、アライメントマーク部の位置検出方法で、透明基板１０の一面に、Ｒ、Ｇ、Ｂの１色からなる着色層からなるマーク２１と、該マーク２１を覆うように塗布された、マーク部の色とは異なるＲ、Ｇ、Ｂの１色からなる着色樹脂層（着色層とも言う）１層２２とからなり、該着色樹脂層２２が前記マーク２１に沿い盛り上がった領域を含む部分を、アライメントマーク部２０とし、該アライメントマーク部２０の前記マーク２１の位置を検出するための、アライメントマーク部２０のマーク位置検出方法である。
そして、撮像装置４０により、レンズ系（図示されていない）を介してＣＣＤエリアセンサ４１により、前記アライメントマーク部２０を含む領域を撮影した画像から、画像処理により、該アライメントマーク部の位置を検出するものである。
特に、本例においては、撮像装置４０による撮影を、アライメントマーク部２０を含む領域を、正反射照明（落射照明）にて撮影するもので、これにより、このような構造のアライメントマーク部２０の、マーク２１に沿い盛り上がった領域の形状、特にアライメントマーク部２０のマーク２１の位置を認識できるものとしている。
ここでは、アライメントマーク部２０の位置を検出し、これをもってマーク２１の位置とするが、これは、先にも述べたが、アライメントマーク部の表面を撮影してその形状が十分に認識できれば、着色層からなるマークのセンター位置（単にマーク位置とも言う）が、撮影されたアライメントマーク部のセンター位置に相当するという認識のもとに、正反射照明（落射照明）にて撮影することにより、アライメントマーク部の表面を撮影することによりその形状が十分に認識できることによるもので、このようにしてアライメントマーク部２０のマーク２１の位置を検出することにより、実質的にマーク２１の位置検出を実用レベルでできるものとしている。

先ず、図３（ａ）に示すように、処理基板１０ａのアライメントマーク部の位置に、撮像装置４０をセットし、また、照明光の光源をセットする。
次いで、撮像装置にて、アライメントマーク部２０を照明光の落下照明にて撮影する。 図３（ａ）に示すように、光源からの照明光は、撮像装置のハーフミラー４２を介して反射され、アライメントマーク部２０に落下照明される。
撮影の際、落下照明によるライメントマーク部２０からの反射光は、撮像装置のハーフミラー４２を通過して、ＣＣＤエリアセンサ４１に入射される。
ここでは、マーク２１は十字形状で、図３（ａ）に示すように、アライメントマーク部２０は、マーク形状に沿い十字形状に盛り上がっており、頂部２２ａ、テーパ部（エッジ部）２２ｂを有する形状となっているため、頂部２２ａでは、反射光の強度は大きく、テーパ部（エッジ部）では小さく、またテーパ底（エッジ底）の面部２２ｃでは大きくなるため、このように、落下照明された光の反射光でアライメントマーク部２０（図３（ｂ）参照）を撮影した画像は、図３（ｃ）のように、頂部２２ａとエッジ底の面部２２ｃは明るく、エッジ部は暗くなる。
図３（ｂ）のＡ２−Ａ３における断面の外形形状は、図３（ｄ）のようになるが、エッジ部２２ｂの平均傾きをθとした場合、ｔａｎθの値が０．０２８以上である場合には、実用レベルで良く認識できる。
尚、平均傾きは、概略的に、図３（ｄ）に示すように、テーパ部（エッジ部）２２ｂの底の勾配が緩やかな立ち上がり部、頂点付近の勾配が緩やかな部分を除いた領域の平均勾配としている。

アライメントマーク部２０の撮影後、画像処理部により、アライメントマーク部２０を撮影した画像（図３（ｃ）参照）を用いて、これを処理して、例えば、ｘ方向のライン２０Ｘの中心ｙ位置とｙ方向ライン２０Ｙの中心ｙ位置とからアライメントマーク部２０の位置（ｘ、ｙ）を求め、マーク２１の位置として検出する。
このようにして、アライメントマーク部２０のマーク２１の位置を求める。
画像処理については、例えば、階調表示された撮影画像（図３（ｃ）参照）の画像データに対して、各画素毎に所定のスライスレベルで２値化して、暗いテーパ部（エッジ部）を黒、アライメントマーク部２０の頂部２２ａやテーパ底（エッジの底）の面部２２ｃ等の明るい部分を白とした２値化画像データを得た後、更に、得られた２値化画像データから、ｘ方向のラインの中心ｙ位置とｙ方向ラインの中心位置とを求める。
ここでは、これをアライメントマーク部２０の位置で、実質的にマーク２１の位置の想到する。
撮影画像について、各画素の近傍領域について平滑化処理した平滑化画像データを得て、この画像データに対して各画素毎に所定のスライスレベルで２値化して、暗いテーパ部（エッジ部）を黒、アライメントマーク部２０の頂部２２ａやテーパの底（エッジの底）の面部２２ｃ等の明るい部分を白とした２値化画像データを得た後、更に、得られた２値化画像データから、ｘ方向のラインの中心ｙ位置とｙ方向ラインの中心位置とを求めても良い。
尚、ここでの平滑化処理は、例えば、原画像（撮影画像）データの各画素に対して、それぞれ、画素の近傍領域内の全画素のヒストグラムの中心値を新たな画素値として、新たな画像データを得て、これを平滑化画像データとするものです。

照明用の光源４３としては、例えば、マークが赤（Ｒ）色の着色層からなり、これを覆う樹脂着色層の色が青（Ｂ）色の場合は、赤外ＬＥＤを用いる。
ＣＣＤエリアセンサ４１を備えた撮像装置として、特に限定されない。

次に、本発明に関わるアライメントマーク部配設基板のアライメントマーク部の位置検出方法を用いた、アライメント方法の１例を、図４、図５に基づいて更に説明する。
ここでは、図３にて説明したアライメントマーク部の位置検出方法が、透明基板の一面に、各色の着色層からなる各色のカラーフィルタ部、着色層からなるＢＭを有し、柱部（スペーサとも言う）を、各カラーフィルタ部やＢＭ部を形成するための着色層で形成し、且つ、各色のカラーフィルタ部上にＩＴＯ層を配している、ＴＮ方式（Ｔｗｉｓｔｅｄ
Ｎｅｍａｔｉｃｍｏｄｅ）の液晶表示パネル用のカラーフィルタ形成基板を作製する際
、着色層のフォトリソ工程におけるアライメントに適用されたものとする。
アライメントは、図４（ａ）に示すような装置構成でなされる。
図４に示す処理基板１０ａは、着色層からなるマーク２１を有するアライメントマーク部２０（図３参照）を、処理基板１０ａの２箇所に備えておき、露光用のマスク３０の対応する２箇所のアライメントマーク３１と、それぞれ、アライメントを行うものです。
ここでは、処理基板１０ａは、その位置座標が管理されているステージ５５上に固定された基板保持部５５にて保持された状態で、マスク保持部３５により位置固定されたプロキシミティー露光を行うための露光用のマスク３０と所定のギャップ間隔とをあけている。
そして、処理基板１０ａの各アライメントマーク部２０を、露光用のマスク３０の対応するアライメントマーク３１と、それぞれ、粗く位置あわせし、露光用のマスク３０の２箇所のアライメントマーク３１を撮影できる位置に、それぞれ、図３（ａ）に示す構成の撮像装置４０、光源部４３をセットしておく。（Ｓ１〜Ｓ２）
この後、各撮像装置４０により、各位置で、それぞれ、マスク３０の各アライメントマークを撮影して、その座標位置（ステージを管理する座標位置）での撮影画像として取り込む。（Ｓ３）
一方、その座標位置で、各撮像装置４０により、処理基板１０ａのアライメントマーク部２０を、先に述べた図３の説明のようにして撮影して、その座標位置（ステージを管理する座標位置）での撮影画像として取り込む。（Ｓ４）
ここでは、図４（ｂ）に示すような形状のアライメントマーク３１、マーク２１が用いられる。
次いで、図３について先に説明したアライメントマーク部の位置検出方法により、撮影により得られたマスク３０の各アライメントマーク３１の画像データＤｍ１、Ｄｍ２、処理基板１０ａの各アライメントマーク部２０の画像データＤａ１、Ｄａ２から、それぞれ、各アライメントマーク３１、各アライメントマーク部２０の位置を検出する。（Ｓ４〜Ｓ５、Ｓ７〜Ｓ８）
図４（ｂ）では、各アライメントマークのｘ方向、ｙ方向のセンター位置をその位置としている。
各対応する位置でのアライメントマーク３１とアライメントマーク部２０との位置ずれを算出して抽出する。（Ｓ９）
次いで、抽出された各位置のずれ量に基づいて、これを補正するような、ステージ移動量を算出し、算出された結果に基づいてステージ移動を行う。（Ｓ１０）
このようにして、マスク３０と処理基板１０ａとのアライメントがなされる。

次に、本発明に関わるアライメントマーク部の位置検出方法を用いたアライメント方法を採り入れた、カラーフィルタ形成基板の作製方法の１例を、説明する。
本例は、透明基板の一面に、各色の着色層からなる各色のカラーフィルタ部、着色層からなるＢＭを有し、柱部（スペーサとも言う）を、各カラーフィルタ部やＢＭ部を形成するための着色層で形成し、且つ、各色のカラーフィルタ部上にＩＴＯ層を配している、ＴＮ方式（ＴｗｉｓｔｅｄＮｅｍａｔｉｃｍｏｄｅ）の液晶表示パネル用のカラーフィルタ形成基板を作製する、カラーフィルタ形成基板の作製方法で、前記透明基板の一面に各着色層を形成するための感光性着色樹脂を塗布し、フォトマスクを介して選択的に露光を行い、現像することにより、所望の形状に各着色層を形成する、フォトリソ工程を、形成する着色層の数だけ行い、前記各カラーフィルタ部、ブラックマトリクス部（ＢＭ部とも言う）、柱部（スペーサとも言う）を形成するものです。
前記各フォトリソ工程における、露光は、前記透明基板の他面をステージ（載置台）側にして載せ、フォトマスクを介してプロキシミティー露光方法にて行うもので、前記複数回行うフォトリソ工程における、２回目以降の各フォトリソ工程の際のアライメントは、図４にて説明したアライメント方法を採るもので、前記透明基板側に設けられたアライメントマーク部と、露光用のフォトマスクのＣｒ等の遮光層からなるアライメントマーク部とを用い、各アライメントマーク部を、前記フォトマスクの光源側に設けられた撮像装置により、レンズ系を介してＣＣＤ等の画素分割のエリアセンサにより、アライメントマーク部領域を含む領域を撮影した画像から、画像処理により、その位置を検出して、検出された位置に対応して、相対的にフォトマスクと透明基板側を位置移動して、行うものであり、且つ、１回目のフォトリソ工程により形成された着色層からなるマークと、該マークを覆う、２回目以降の各フォトリソ工程において塗布される着色層を形成するための感光性着色樹脂からなる着色樹脂層１層とを、前記アライメントマーク部とし、該アライメントマーク部を、正反射照明（落射照明）にて、前記撮像装置により撮影するものである。

上記カラーフィルタ形成基板およびこれを用いた液晶表示パネルの作製方法は、例えば、図６に示す処理フローで行われる。
簡単には、先ず、透明基板の一面に１層目として赤色のＲ層をフォトリソ形成する。（Ｓ２０〜Ｓ２１）
透明基板１０としては、低膨張で透明性の良いものが好ましく、ここではガラス基板を用いているが、これに限定されない。
プラスチック基板等も用いられる。
この際、マーク（図３の２１に相当）を形成しておく。
次いで、青色のＢ層形成用の感光性の樹脂着色層を、前記マーク上も含め処理基板を覆うように塗布し、乾燥後、上記、図４、図５に基づいて説明したアライメントマーク部の位置検出方法を用いたアライメント方法により、アライメントして、露光を行い、現像して、２層目のＢ層を形成する。（Ｓ２２）
次いで、同様に、緑色のＧ層形成用の感光性の樹脂着色層を、前記マーク上も含め処理基板を覆うように塗布し、乾燥後、上記、図４、図５に基づいて説明したアライメントマーク部の位置検出方法を用いたアライメント方法により、アライメントして、露光を行い、現像して、３層目のＧ層を形成する。（Ｓ２３）
Ｒ層形成処理（Ｓ２１）は、紫外線硬化型の感光性樹脂に顔料や染料他を混ぜて分散させた赤色の着色層を、透明基板１０の一面に塗布してフォトリソ法により、所定形状にして、１層目の着色層（赤色の着色層、Ｒ層とも言う）を所定の領域に形成する。
同様に、Ｂ層形成処理（Ｓ２２）は、紫外線硬化型の感光性樹脂に顔料や染料他を混ぜて分散させた青色の着色層を、透明基板１０の１層目の着色層が形成された側の面に塗布してフォトリソ法により、所定形状にして、２層目の着色層（青色の着色層、Ｂ層とも言う）を所定の領域に形成する。
また同様に、Ｇ層形成処理（Ｓ２３）は、紫外線硬化型の感光性樹脂に顔料や染料他を混ぜて分散させた緑色の着色層を、透明基板１０の１層目の着色層、２層目の着色層が形成された側の面に塗布してフォトリソ法により、所定形状にして、第３の着色層（緑色の着色層、Ｇ層とも言う）を形成する。

次いで、ＩＴＯ焼結体をターゲットとし、所定のスパッタリング条件の下で、スパッタリングすることにより、処理基板の各着色層上にＩＴＯ膜を単層膜として形成する。（Ｓ２４）
制御用電極用のＩＴＯ膜を形成するためのスパッタリングは、一般には、Ａｒガス雰囲気中、１×１０^-5ｔｏｒｒ〜１×１０^-2ｔｏｒｒ圧下において、成膜する膜組成（例えば、Ｉｎ₂ Ｏ₃ 、９０ｗ％＋ＳｎＯ₂ 、１０ｗ％組成）で、厚さ８ｍｍ〜１５ｍｍのＩＴＯ焼結体をターゲット材として用いて、直流マグネトロンスパッタ方式で行っている。
ターゲットとしては、通常、Ｃｕプレートをバッキング材として、インジウム半田を接着層とし、多数枚の焼結ターゲット材をつなぎ合わせて、１つのターゲットプレートとしたものが用いられている。
尚、制御用電極としてＩＴＯ膜を配設するカラーフィルタ形成基板の作製においては、カラーフィルタを形成する着色層上に、スパッタリングにてＩＴＯ膜を形成するため、カラーフィルタを形成する着色層の耐熱性、カラーフィルタを形成する着色層からの脱ガスの面から、低温で成膜を行うことが求められている。

次いで、２層目、３層目の着色層形成と同様に、黒色のＢＭ層形成用の感光性の樹脂着色層を、前記マーク上も含め処理基板を覆うように塗布し、乾燥後、上記、図２、図３に基づいて説明した本発明のアライメントマーク部の位置検出方法を用いたアライメント方法により、アライメントして、露光を行い、現像して、ＢＭ層を形成する。（Ｓ２５）
このようにしてカラーフィルタ形成基板（ＣＦ基板とも言う）が形成される。（Ｓ２６）

このようにして形成されるカラーフィルタ形成基板は、例えば、図７に示すような形状をしている。
ここでは、柱状スペーサ８０は、各着色層の形成の際、各色の着色層を積層するように、形成される。
また、ＢＭ層が最上層となっている。
尚、各色の着色層を厚みを変化させて形成するために、ここでは、先に説明した、透明基板の一面に転写時の露光光を遮光する遮光膜と、前記露光光に対して半透過性のハーフトーン膜とを、それぞれパターニングして配し、遮光膜が配設された遮光領域と、遮光膜はなくハーフトーン膜が配設されたハーフトーン領域と、遮光膜とハーフトーン膜のいずれもが存在しない透明領域とを、設けた階調マスクを用いる。

このようにして作製されたカラーフィルタ形成基板（Ｓ２６）と、液晶パネル形成のためにこれと貼り合わせを行うＴＦＴ基板（Ｓ２７）とを予め用意しておく。
そして、本例のカラーフィルタ形成基板透明導電膜形成基板１１０の外周のシール領域に、例えば、ディスペンサーあるいは印刷により、紫外線硬化型のシール材を塗布して、所定の高さにして、枠状のスペーサを形成し、更に、該枠状のスペーサ内に液晶を滴下法により配した後、ＴＦＴ基板との貼り合わせを行う。（Ｓ２８）
貼り合わせの際、カラーフィルタ形成基板の透明基板（図３の１０に相当）側からシール領域のシール材に紫外線を照射して、シール材を硬化する。
このようにして、本例のカラーフィルタ形成基板を用いた液晶表示パネルは作製される。（Ｓ２９）

尚、上記カラーフィルタ形成基板の作製方法は１例で、これらに限定されるものではない。
例えば、図７に示すＢＭ層による遮光に代え、図８に示すように、Ｒ、Ｇ、Ｂの各着色層と半遮光性（灰色）の着色層による遮光でブラックマトリクス部や柱部を形成しても良い。
この場合の作製も基本的には、上記図６の説明の作製方法と同じで、各Ｒ、Ｇ、Ｂの各着色の形成の際、柱状スペーサ８０ａやブラックマトリクス部７６を作製する。
この場合も、各色の着色層やを厚みを変化させて形成するために、ここでは、先に説明した、透明基板の一面に転写時の露光光を遮光する遮光膜と、前記露光光に対して半透過性のハーフトーン膜とを、それぞれパターニングして配し、遮光膜が配設された遮光領域と、遮光膜はなくハーフトーン膜が配設されたハーフトーン領域と、遮光膜とハーフトーン膜のいずれもが存在しない透明領域とを、設けた階調マスクを用いる。
また、着色画素の配列についても、各着色層をストライプ状に配置する上記のストライプ型以外にも、公知のモザイク型や、トライアングル型等の各種配列にも適用できる。

図１（ａ）は本発明に関わるアライメントマーク部配設基板の実施の形態の第１の例の概略断面図を示した図で、図１（ｂ）は本発明に関わるアライメントマーク部配設基板の実施の形態の第２の例の概略断面図を示した図で、図１（ｃ）は本発明に関わるアライメントマーク部配設基板の実施の形態の第３の例の概略断面図を示した図で、図１（ｄ）は、カラーフィルタ形成基板の画素の配列の１例を示した図である。 図２（ａ）〜図２（ｈ）は、図１（ａ）、図１（ｂ）、図１（ｃ）に、それぞれ、示す第１の実施の形態例〜第３の実施の形態例の作製工程を示した断面図である。 図３（ａ）は本発明に関わるアライメントマーク部配設基板のアライメントマーク部の位置検出方法の１例を示した概略断面図で、図３（ｂ）はアライメントマーク部を図３（ａ）のＡ１方向からみた図で、図３（ｃ）はアライメントマーク部の撮影画像を示した概略図で、図３（ｄ）はアライメントマーク部の表面の断面形状を示した図である。 図４（ａ）は本発明に関わるアライメントマーク部配設基板のアライメントマーク部の位置検出を実施する概略構成の１例を示した図で、図４（ｂ）は処理基板のアライメントマーク部とマスクのアライメントマークとを重ねて示した図である。 図４（ａ）に示すアライメント方法の処理の１例のフロー図である。 本発明に関わるアライメントマーク部配設基板におけるカラーフィルタ形成基板の作製方法、液晶表示パネルの作製の処理フローの１例を示した処理フロー図である。 図６に示すカラーフィルタ形成基板の作製方法により作製されたカラーフィルタ形成基板の１例を示した断面図である。 図６に示すカラーフィルタ形成基板の作製方法により作製されたカラーフィルタ形成基板の他の１例を示した断面図である。

符号の説明

１ 透明基板
２ａ 第１の着色層
２Ａ マーク
３ 着色樹脂層（着色層とも言う）
３Ａ アライメントマーク部
３ａ 第２の着色層
４ 着色樹脂層（着色層とも言う）
４Ａ アライメントマーク部
４ａ 第３の着色層
５ ＩＴＯ膜
６ 着色樹脂層（着色層とも言う）
６ａ （ブラックストライプ用の）着色層
６Ａ アライメントマーク部
６ａ ブラックストライプ
７ カラーフィルタ形成基板
８ 画素配列
８ａ 画素領域
１０ 透明基板
１０ａ 処理基板（カラーフィルタ形成用基板とも言う）
２０ アライメントマーク部
２０Ａ （アライメントマーク部の）撮影画像
２０Ｂ 暗部
２０Ｃ アライメントマーク部の位置
２０Ｘ ｘ方向のライン
２０Ｙ ｙ方向のライン
２１ （着色層の）マーク
２２ 着色樹脂層（着色層とも言う）
２２ａ 頂部
２２ｂ テーパー部（エッジ部とも言う）
２２ｃ 面部（テーパー部の底側の面部とも言う）
３０ マスク
３１ アライメントマーク
３５ マスク保持部
４０ 撮像装置
４１ ＣＣＤエリアセンサ
４２ ハーフミラー
４３ （照明用の）光源
４４ ミラー
５０ ステージ
５５ 基板保持部
７１ １層目の着色層
７２ ２層目の着色層
７３ ３層目の着色層
７４ ＩＴＯ膜
７５ ＢＭ層（遮光性着色層とも言う）
７５Ａ 半遮光性着色層
７６ ブラックマトリクス部（単にブラックマトリクスとも言う）
８０、８０ａ 柱状スペーサ
Ｒ₀ 赤色画素部
Ｇ₀ 緑色画素部
Ｂ₀ 青色画素部

Claims (1)

1. 透明基板の一面に、各色の着色層からなる各色のカラーフィルタ部を有するカラーフィルタ形成基板を作製する、カラーフィルタ形成基板の作製方法であって、前記透明基板の一面に各着色層を形成するための感光性着色樹脂を塗布し、フォトマスクを介して選択的に露光を行い、現像することにより、所望の形状に各着色層を形成する、フォトリソ工程を、形成する第１の着色層〜第３の着色層の着色層の数だけ３回行い、前記各カラーフィルタ部を形成するものであり、前記各フォトリソ工程における、露光は、前記透明基板の他面をステージ側にして載せ、アライメントした後に、フォトマスクを介して、プロキシミティー露光方法にて行うもので、１回目のフォトリソ工程においては、カラーフィルタ部とマークとを、第１の着色層で形成し、２回目のフォトリソ工程においては、前記マークを露出するようにして、カラーフィルタ部を第２の着色層で形成するもので、２回目、３回目の各フォトリソ工程の際のアライメントは、いずれも、１回目のフォトリソ工程により形成された前記マークと、前記マークを覆うように各フォトリソ工程において塗布される着色層を形成するための感光性着色樹脂からなる着色樹脂層１層とで形成され、該着色樹脂層が前記マークに沿い盛り上がった領域を含む部分を、アライメントマーク部とし、該アライメントマーク部の表面を、正反射照明（落射照明）にて、撮像装置により撮影し、撮影した画像から、画像処理により、その位置を検出し、検出された位置に対応して、相対的にフォトマスクと透明基板側を位置移動して、行うものであることを特徴とするカラーフィルタ形成基板の作製方法。

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