JP2005181827A - 露光用マスク及びその製造方法、並びに液晶装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 露光用マスクは、例えば半透過反射型又は反射型の液晶表示装置の反射膜に散乱構造を形成するのに好適であり、遮光部と半透過部と透光部を備えることにより、基板上に形成された樹脂材料選択的に除去して散乱構造を形成する。当該露光用マスクは、まずガラスなどの透光性の基板上に遮光層を形成し、その遮光層を選択的に除去して遮光部を形成する。最終的に遮光部を加工対象領域内のみに形成する必要があっても、最初の工程では遮光部を加工対象領域外に残しておき、半透過層を除去する際に同時に加工対象領域外の遮光層を除去する。次に、遮光部が形成された基材上に半透過性材料により半透過層を形成し、残っている遮光部及び半透過層を選択的に除去することにより、半透過部及び透光部を形成する。よって、描画機のアライメント精度が確保できない場合でも、各要素を正確に配置した露光用マスクを製造することが可能となる。
【選択図】 図9
Description
まず、本発明の露光用マスクを用いて反射膜に散乱構造が形成される液晶表示装置について説明する。
次に、第2基板20上に下地層21と反射層22とを形成する工程に特に着目しながら、本実施形態に係る液晶表示装置100の製造方法を説明する。図4は、各製造工程における第2基板20上の要素の構成を示す工程図(図1に示された断面に相当する)である。 まず、図4(a)に示されるように、下地層21となる膜体51が第2基板20上の板面上に形成される。この膜体51は、感光性を有するポジ型の樹脂材料をスピンコート法などの方法によって第2基板20上に塗布することによって得られる。次いで、この膜体51を減圧環境下において乾燥させたうえで、85℃から105℃の範囲の温度にて加熱(プリベーク)する。
次に、図4(b)の露光工程(以下では単に「露光工程」という)において用いられる露光用マスク70の構成を説明する。図5は露光用マスク70の平面図であり、図5(a)は完成状態の平面図であり、図5(b)は製造途中の平面図である。
次に、上述の露光用マスク70の製造方法について図7乃至図9を参照して説明する。図7(a)〜(c)は図5に示した単位マスク構造80の拡大図であり、露光用マスク70の各製造過程における状態を示す。図7(d)〜(f)は露光用マスク70上に設けられたマーク84の各製造過程における状態を示す。図8(a)は図7(a)〜(c)に示した単位マスク構造80の領域A1の拡大図であり、図8(b)及び(c)はそれぞれ図8(a)におけるX−X’断面及びY−Y’断面の断面図である。また、図9(a)は露光用マスク70の製造工程を示し、図9(b)及び(c)はその各工程における図8(a)のX−X’断面及びY−Y’断面の層構造をそれぞれ示す。
以上に説明した実施形態はあくまでも例示に過ぎず、本発明の趣旨から逸脱しない範囲で種々の変形が加えられ得る。具体的には、以下のような変形例が考えられる。
上記実施形態においては露光用マスク70の遮光部74の平面形状を多角形としたが、遮光部74の平面形状は任意であり、例えば正多角形以外の多角形や円形としてもよい。
Claims (14)
- 基材上に遮光層を形成する第1工程と、
前記遮光層を選択的に除去して遮光部を形成する第2工程と、
前記遮光部が形成されている前記基材上に半透過層を形成する第3工程と、
前記半透過層を選択的に除去して半透過部及び透光部を形成する第4工程と、によりマスクパターンを形成することを特徴とする露光用マスクの製造方法。 - 前記マスクパターンは、前記基材上に複数形成されてなることを特徴とする請求項1に記載の露光用マスクの製造方法。
- 前記第4工程により前記半透過層が除去された部分が前記透光部となり、前記半透過層が除去されない部分であって前記遮光部以外の部分が前記半透過部となることを特徴とする請求項1に記載の露光用マスクの製造方法。
- 前記遮光部及び半透過部は前記露光用マスクを用いて加工される加工対象物の加工対象領域に対応し、
前記第2工程は前記加工対象領域外に前記遮光部を残し、前記第4工程は前記加工対象領域外の前記遮光部及び半透過層を同時に除去して前記透光部を形成することを特徴とする請求項3に記載の露光用マスクの製造方法。 - 前記第2工程は前記基材上の所定位置にマーク用遮光部を形成し、前記第4工程は前記半透過層とともに前記マーク用遮光部を選択的に除去してマークを形成することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の露光用マスクの製造方法。
- 前記マーク用遮光部は前記マークより広い領域に形成されることを特徴とする請求項5に記載の露光用マスクの製造方法。
- 前記第2工程はエッチング液を利用してエッチングにより前記遮光層を除去し、前記第4工程は前記第2工程と同一のエッチング液を利用してエッチングにより前記第2工程後に残った前記遮光部の一部及び前記半透過層を除去することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか一項に記載の露光用マスクの製造方法。
- 基材上に、透光部と、遮光部と、前記透光部よりも低い光透過率で光を透過させる半透過部とを有する露光用マスクであって、
前記遮光部及び半透過部は加工される加工対象物の加工対象領域に対向する領域に形成され、前記透光部は前記加工対象領域外に対向する領域に形成されていることを特徴とする露光用マスク。 - 前記半透過部は、少なくとも一部が前記遮光部上に設けられてなることを特徴とする請求項8に記載の露光用マスク。
- 前記透光部は、前記加工対象領域に対向する領域内にも形成されていることを特徴とする請求項8に記載の露光用マスク。
- 前記遮光部と同一の遮光材料により形成されたマークを有することを特徴とする請求項8乃至10のいずれか一項に記載の露光用マスク。
- 前記遮光部と前記半透過部は、同一のエッチング液により除去可能な材料により構成されていることを特徴とする請求項8乃至11のいずれか一項に記載の露光用マスク。
- 基板上に感光性の樹脂材料層を形成する工程と、
請求項8乃至12のいずれか一項に記載の露光用マスクを用いて前記樹脂材料層を一括露光する露光工程と、
前記露光用マスクの前記透光部に対応する領域において前記樹脂材料層を除去し、前記遮光部及び前記半透過部に対応する領域において前記樹脂材料層上に微細な凹凸を有する粗面を形成する現像工程と、を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 前記露光工程において、前記露光用マスクは、前記遮光部及び前記半透過部が前記電気光学装置の画素領域に対応する領域と対向するように配置されることを特徴とする請求項13に記載の電気光学装置の製造方法。
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