JP2001075108A - 液晶装置及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 アライメントマークを検出条件に大きく左右
されることなく安定して検出することができる液晶装置
の構造及び製造方法を提供し、また、画像認識を高精度
に実行することのできる製造技術を実現する。 【解決手段】 母基板１１の表面上には、多数のストラ
イプ状の反射電極を含む反射電極群１３が形成されてい
る。また、この反射電極群１３と同時に、母基板１１の
外縁部の表面上にアライメントマーク１４が同材質にて
形成される。一方、母基板１２の表面上にカラーフィル
タ１７が形成される。このカラーフィルタ１７を構成す
る複数種類の着色層のうち少なくとも一種の着色層によ
って母基板１２の外縁部にアライメントマーク１８が形
成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は液晶装置に係り、特
に、液晶層を挟む２枚の基板のうち少なくとも一方に反
射膜を備えた反射型液晶装置に好適な製造技術に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】一般に、液晶装置の製造方法としては、
ガラス等からなる２枚の透明な基板の表面上にＩＴＯな
どの透明導電体からなる電極を形成し、シール材を介し
てこれらの基板を貼り合わせ、その間に液晶を注入し、
封止することによって液晶セルを構成するようにしてい
る。このとき、液晶セルを構成するための複数の液晶封
入領域を一枚の母基板に設定し、母基板の表面上に上記
電極等を形成した後、母基板同士を貼り合わせる場合
と、液晶セルを構成するための単一の液晶封入領域を有
する個別の基板を貼り合わせる場合とがある。

【０００３】このような液晶装置の製造工程において
は、２枚の基板を相互に位置決めするためのアライメン
トマークを基板表面上に形成する。これらのアライメン
トマークは、上記の電極を形成する際に同時に、透明導
電体によって所定の形状に形成される。アライメントマ
ークは通常、液晶封入領域の外側に円形、リング形、矩
形などの種々の形状になるように形成される。

【０００４】上記のアライメントマークを用いて２枚の
基板を位置決めする場合、基板を重ね合わせた状態で一
方の基板側から光を当て、その光が各基板上で反射され
て生ずる反射光をカメラ等に取り込み、両基板にそれぞ
れ形成されているアライメントマーク間のずれによって
基板間の貼り合わせ平面上のずれを検出し、位置調整を
行うようにしている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の液晶装置の製造方法においては、アライメントマー
クを構成するＩＴＯなどの透明導電体からの反射光と、
透明な基板の表面からの反射光との見かけ上の相違に基
づいて、アライメントマークの外縁を認識することによ
って位置決めを行っているため、アライメントマークと
基板とが共に透明であり、僅かな屈折率の相違やアライ
メントマークの膜厚に頼ってマーク形状を認識せざるを
得ないことから、照明光の入射角及び照度並びにアライ
メントマークの膜厚のばらつきやアライメントマークの
下層に形成された構造等の影響を受けやすく、アライメ
ントマークを安定して検出することができないという問
題点があった。

【０００６】特に、コンピュータなどによる画像認識技
術に基づいてカメラ画像等からアライメントマークの位
置を自動的に求める場合には、不安定なマーク検出状態
によって誤認識が増大するという問題点がある。

【０００７】そこで本発明は上記問題点を解決するもの
であり、その課題は、アライメントマークを検出条件に
大きく左右されることなく安定して検出することができ
る液晶装置の構造及び製造方法を提供し、また、画像認
識を高精度に実行することのできる製造技術を実現する
ことにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の液晶装置は、２枚の透光性基板を貼り合わ
せ、該透光性基板間に液晶を封入してなる液晶装置であ
って、一方の前記透光性基板上に遮光膜を有するととも
に同材質の遮光層からなるアライメントマークを備えて
いることを特徴とする。

【０００９】この発明によれば、アライメントマークが
遮光膜と同材質の遮光層によって構成されていることに
より、アライメントマークを形成する工程を設ける必要
がないとともに、透光性基板に対して視覚上明確に区別
することができることから、マーク検出を確実に行うこ
とができ、アライメントマークの誤認識を低減し、基板
貼り合わせ時の位置決め精度を向上させることができ
る。

【００１０】ここで、上記発明において、遮光膜や遮光
層とは、光を遮断する光学特性を有する物を言い、具体
的には、反射型パネルに用いる反射膜や反射電極、並び
に、パネルの表示領域を画成するための遮光膜（いわゆ
る「見切り」）及び画素領域間に形成される遮光膜など
を指す。遮光膜としては金属などの反射率が高いもので
あってもよく、ブラックマトリクス（黒色樹脂）などの
反射率の低いものであってもよい。

【００１１】なお、この場合、他方の透光性基板にも対
応するアライメントマークを形成することが望ましい。
このとき、当該アライメントマークもまた遮光層、反射
層で形成されていてもよい。

【００１２】本発明において、他方の前記透光性基板上
にカラーフィルタを有するとともに、該カラーフィルタ
の少なくとも一部の着色層と同材質からなるアライメン
トマークを備えていることが好ましい。

【００１３】この発明によれば、他方の透光性基板上に
形成されるカラーフィルタの少なくとも一部の着色層と
同材質にてアライメントマークが形成されていることに
より、アライメントマークを形成する工程を設ける必要
がないとともに、一方の基板の遮光層からなるアライメ
ントマークと、透光性基板との双方に対して、光学的に
明確に区別することができるため、両基板の位置合わせ
が極めて容易になる。

【００１４】本発明において、前記遮光膜は反射電極で
あることが好ましい。この場合、液晶装置の表示性能を
高めるために反射電極の表面に微細な凹凸を形成する場
合には、アライメントマークには当該凹凸を形成しない
ことが望ましい。

【００１５】次に、本発明の液晶装置の製造方法は、２
枚の基板を貼り合わせ、該透光性基板間に液晶を封入し
てなる液晶装置の製造方法であって、一方の前記透光性
基板上に遮光膜を形成すると同時に、一方の前記透光性
基板上にアライメントマークを同材質で形成し、前記ア
ライメントマークを用いてアライメントし、前記透光性
基板同士の貼り合わせを行うことを特徴とする。

【００１６】また、本発明の液晶装置の製造方法は、２
枚の透光性基板を貼り合わせ、該透光性基板間に液晶を
封入してなる液晶装置の製造方法であって、一方の前記
透光性基板上に遮光膜を形成すると同時に、一方の前記
透光性基板上にアライメントマークを同材質で形成し、
他方の前記透光性基板上にカラーフィルタを形成すると
同時に、他方の前記透光性基板上にアライメントマーク
を前記カラーフィルタの少なくとも一部の着色層と同材
質で形成し、一方の前記透光性基板上のアライメントマ
ークと他方の前記基板上のアライメントマークとを用い
てアライメントし、前記透光性基板同士の貼り合わせを
行うことを特徴とする。

【００１７】本発明において、前記カラーフィルタを他
方の前記透光性基板の表面上に最初に形成することが好
ましい。

【００１８】この発明によれば、カラーフィルタが他方
の透光性基板の表面上に最初に形成されることにより、
着色層と同材質からなるアライメントマークもまた基板
表面に最初に形成されることとなるため、アライメント
マークの形成位置が透光性基板に対する累積誤差を反映
することがなくなるため、アライメントマークの位置を
より高精度に設定することができる。

【００１９】さらに、本発明の液晶装置の製造方法は、
２枚の透光性基板を貼り合わせ、該透光性基板間に液晶
を封入してなる液晶装置の製造方法であって、一方の前
記透光性基板上に遮光膜を形成すると同時に、一方の前
記透光性基板上にアライメントマークを同材質で形成
し、前記アライメントマークを用いて一方の前記透光性
基板上に他の表面構造をアライメントし、形成すること
を特徴とする。

【００２０】本発明において、前記遮光膜は反射電極で
あることが好ましい。

【００２１】本発明において、前記透光性基板同士の貼
り合わせに際しては、前記アライメントマークによって
変調された光成分を含む、２枚の前記透光性基板を透過
した透過光に基づいてアライメントを行うことが好まし
い。

【００２２】この発明によれば、透過光に基づいてアラ
イメントを行うことによって、反射光に基づいてアライ
メントを行う場合に比べて、光の入射角或いは反射角、
照度、各部素材の屈折率などの影響を受けにくく、安定
したマーク検出を行うことができる。

【００２３】本発明において、前記遮光膜は一方の前記
透光性基板の表面上に最初に形成することが好ましい。

【００２４】この発明によれば、遮光膜が一方の透光性
基板の表面上に最初に形成されることにより、一方の透
光性基板のアライメントマークが基板表面に最初に形成
されることとなるため、アライメントマークの形成位置
が透光性基板に対する累積誤差を反映することがなくな
るため、アライメントマークの位置をより高精度に設定
することができる。

【００２５】

【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して本発明
に係る液晶装置及びその製造方法の実施形態について詳
細に説明する。

【００２６】［第１実施形態］ 図１は本発明に係る第
１実施形態の基本的概念を説明するための模式的な概念
説明図である。本実施形態は、複数の液晶封入領域が設
定された、ガラスなどの透明素材からなる母基板１１と
母基板１２を貼り合わせてから液晶封入領域毎に母基板
１１及び母基板１２を切断して個々の液晶セルを構成す
ることによって製造される液晶パネル及びその製造方
法、特に、パッシブマトリクス方式の反射型パネルを形
成する場合に関する。本実施形態の液晶パネルは一方の
母基板１１の表面上に反射電極を形成することによって
構成される反射型液晶パネルである。

【００２７】母基板１１の表面上には、複数の液晶封入
領域に対応するパネル形成領域１１Ａが複数設定されて
いる。このパネル形成領域１１Ａ毎に、アルミニウムな
どの反射膜によって画素毎に形成された多数のストライ
プ状の反射電極を含む反射電極群１３が形成されてい
る。また、この反射電極群１３と同時に、母基板１１の
外縁部の表面上にアライメントマーク１４が同材質にて
形成される。この反射電極群１３内の各反射電極は、例
えば、アルミニウムをスパッタリング法などによって基
板表面に被着した後、公知のフォトリソグラフィ法によ
ってパターニングすることによって形成される。この場
合、アライメントマーク１４は、基板のほぼ全面上に形
成されたアルミニウム被膜に上記のパターニングを施す
際に、所定の平面形状にアルミニウム被膜を残すことに
よって形成される。なお、上記反射電極などの反射膜を
形成する素材としては、Ｃｒや各種合金などを用いるこ
ともできる。

【００２８】上記反射電極群１３の上にはさらにＳｉＯ
_２などからなるトップコート膜１５やポリイミド樹脂な
どからなる配向膜１６が塗布形成される。トップコート
膜１５は、液晶パネルの基板間に塵埃などが混入した場
合に、対向する基板に形成された電極間の短絡を防止す
るためのものである。また、配向膜１６にはラビング布
を取り付けたラビングローラなどによってラビング処理
が施され、液晶を所定方向に配向させる配向能が付与さ
れる。

【００２９】一方、母基板１２の表面上にも上記と同様
のパネル形成領域１２Ａが複数設定されている。母基板
１２の表面上には、パネル形成領域１２Ａ毎にカラーフ
ィルタ１７が形成される。このカラーフィルタ１７は、
例えば所定の染料などを含む樹脂などからなる複数種類
（赤・緑・青など）の着色層をそれぞれ所定の順番で配
列させたものである。各着色層はロールコーターなどに
よる塗布、硬化処理、パターニング処理の順で実施され
る工程によって形成され、当該工程を繰り返し実施する
ことにより複数種類の着色層が形成される。また、この
複数種類の着色層のうち少なくとも一種の着色層によっ
て母基板１２の外縁部にアライメントマーク１８が形成
される。このアライメントマーク１８は、上述のように
カラーフィルタ１７が製造される場合、いずれかの着色
層をパターニングする際に同時に形成される。

【００３０】カラーフィルタ１７の上には、ＩＴＯ（イ
ンジウムスズ酸化物）などの透明導電体からなる透明電
極がスパッタリング法などにより形成され、パネル形成
領域１２Ａ毎に多数の透明電極を含む透明電極群１９が
形成される。この透明電極群１９内には、複数のストラ
イプ状の透明電極が平行に形成される。なお、透明電極
群１９の上には、上記と同様の配向膜２０が、未硬化の
ポリイミド樹脂などを塗布し、焼成することによって形
成される。

【００３１】次に、上述のように形成された母基板１１
と１２のうちの一方に、熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂な
どからなるシール材２１を、上記パネル形成領域１１Ａ
の外縁に沿って延長するように配置し、図示のように母
基板１１と１２の電極形成面を相手方に対向させた状態
で重ね合わせ、相互に貼り合わせる。このとき、上記の
アライメントマーク１４と１８とを平面的に合わせるよ
うにして母基板１１と１２の位置決めを行う。

【００３２】上記の母基板１１と母基板１２のアライメ
ントは、図示のように光源２２から照射される光が母基
板１１及び１２に透過するようにし、光源２２とは反対
側に配置されたカメラ２３によって透過像を撮影し、こ
の透過像を画像認識することによって、アライメントマ
ーク１４とアライメントマーク１８が平面的に合致する
ように母基板１１と１２を相対的に移動させることによ
って行われる。

【００３３】図２（ａ）は、本実施形態の上記カメラ２
３によって撮影された透過像を示すものである。アライ
メントマーク１４は反射膜によって形成されていること
により光源２２からの光のうち大部分を遮光するため、
マーク外縁のみでなく全体が明確に透過像に反映され
る。また、アライメントマーク１８はカラーフィルタ１
７の着色層によって形成されているので、アライメント
マーク１４の透過像を隠すことなく、しかも、着色され
ていることによってノイズ等に惑わされることが少ない
状態で確実に検出される。したがって、公知の画像認識
技術を用いて容易にアライメントマーク１４と１８とを
合致させるように（例えばアライメントマーク１４の重
心１４ａとアライメントマーク１８の重心１８ａとを一
致させるようにして）母基板１１と１２とを移動させる
ことができる。この場合、母基板１１と１２をそれぞれ
別のＸＹテーブル等に固定し、アライメントマーク１４
と１８のずれを低減するようにＸＹテーブルの駆動系を
フィードバック制御によって制御し、容易に位置合わせ
を行うことができる。

【００３４】なお、図２（ｂ）に示すものは、上記のも
のとは異なる平面形状（リング状）のアライメントマー
ク１８’を形成した場合の透過像であり、この場合にも
同様に重心１４ａと１８’ａとを合わせるようにして母
基板１１と１２の位置合わせを行うことができる。

【００３５】上述のように位置合わせが行われた母基板
１１と１２を貼り合わせ、基板全面に亘ってほぼ均一な
基板間ギャップ（例えば５〜１０μｍ程度）が得られる
ように加圧してシール材を硬化させる。そして、必要に
応じて母基板１１及び１２の貼り合わせ体を短冊状に切
断し、シール材の一部に形成された公知の液晶注入口か
ら液晶を注入する。図３はこのようにして液晶を注入し
た後のパネルの細部構造を示すものである。

【００３６】図３に示すように、母基板１１の表面上に
は、画素領域毎に多数のストライプ状の反射電極１３ａ
が形成されている。この上を、上記のトップコート膜１
５及び配向膜１６が被覆している。また、母基板１２の
表面上には着色層１７ａ，１７ｂ，１７ｃが配列された
カラーフィルタ１７が形成され、この上に上記透明電極
１９ａ及び配向膜２０が形成されている。

【００３７】上記のように液晶セルが形成された後、最
終的に個々のパネル形成領域毎に切断され、分離される
ことによって液晶パネルが形成される。

【００３８】本実施形態は反射型の液晶パネルを製造す
るものであるが、反射型の液晶パネルにおいては、上記
反射電極１３ａの正反射による視認性の悪化（すなわ
ち、反射光が放出されない方向の明度が得られないこと
による表示品位の低下）を低減するために、反射電極１
３の表面に微細な凹凸を形成する場合がある。図４はこ
のような表面凹凸を形成した反射電極の断面構造、及び
この場合におけるアライメントマークの形成部位の断面
構造を示すものである。

【００３９】図４（ａ）に示す構造は、母基板１１の表
面に微細な凹部１１ａを多数形成し、この凹部１１ａ上
に反射電極１３ａを形成した様子を示すものである。凹
部１１ａは、たとえば、母基板１１の表面上にフォトリ
ソグラフィ法によって開口を多数備えた図示しないレジ
スト層を形成し、弗酸系のエッチング液を用いて湿式エ
ッチングを施すことによって形成される。この凹部１１
ａ上に反射電極１３ａを形成することによって、図示の
ように反射電極１３ａの表面上に多数の凹部１３ｂが形
成される。

【００４０】また、図４（ｂ）に示す構造は、母基板１
１の表面上に選択的に樹脂層１１ｂを形成することによ
って凹凸を形成し、その上に反射電極１３ａを形成する
ことによって反射電極１３ａの表面上に多数の凸部１３
ｃを形成したものである。樹脂層１１ｂは、例えば、感
光性樹脂を母基板１１の表面上に塗布した後、マスク等
を介して選択的に露光し、現像することによって上記の
ように部分的に残るように形成される。

【００４１】上記の図４に示す構造は、いずれも、母基
板１１のパネル形成領域１１Ａのみ、或いは、アライメ
ントマーク１４を形成する領域及びその近傍以外の領域
に選択的に形成され、その結果、図示のように、アライ
メントマーク１４の形成部位及びその近傍には凹部１１
ａや凸部１１ｂが形成されない。このため、アライメン
トマーク１４自身が平坦に形成されるとともに、その周
囲の母基板１１の表面もまた平坦に保たれる。したがっ
て、アライメントマーク１４を用いて母基板１１と１２
との位置合わせを行う場合、表面の凹凸によってアライ
メントマークの検出が妨げられる恐れがなくなる。

【００４２】本実施形態においては、母基板１１の表面
上に形成されたアライメントマーク１４が反射電極群１
３と同時に同材質にて形成され、また、母基板１２の表
面上に形成されたアライメントマーク１８がカラーフィ
ルタ１７と同時に同材質にて形成されている。したがっ
て、反射電極と同様に光反射性のアライメントマーク１
４と、カラーフィルタの着色層と同じに着色されたアラ
イメントマーク１８とによって母基板１１と１２の位置
合わせを行うことができるので、アライメントマーク自
体が視認しやすく、カメラ等により撮影される画像とし
ても認識しやすいので、アライメント作業が容易化さ
れ、また、画像認識によって位置合わせを行う場合でも
誤認識を低減することができる。

【００４３】本実施形態では特に、上記のアライメント
マークを用いることによって透過光を用いたマークの認
識が可能になるため、光学的条件や材質的条件に影響さ
れにくくなり、安定した位置検出を行うことができる。
例えば、アライメントマーク１４は光反射性、すなわち
遮光性を備えているので、アライメントマークの有無が
透過画像に直接反映される。また、アライメントマーク
１８はカラーフィルタの一部と同じ材質で形成されてい
るために着色しており、この着色によってマークの視認
性が向上する。特に、画像認識の場合にはアライメント
マーク１８を所定の着色状態にある部分として認識する
ことができるので、認識しやすくなり、誤認識も低減で
きる。

【００４４】なお、本実施形態では、光反射性（或いは
遮光性）のアライメントマーク１４と、着色されている
が、光透過性を有するアライメントマーク１８との組み
合わせによって母基板１１と１２を位置決めしているた
め、アライメントマーク１４の遮光性が高い場合であっ
て透過光によってマークを検出するときには、両マーク
１４，１８の双方を検出可能とするために、アライメン
トマーク１４が存在する平面領域内にアライメントマー
ク１８の形状が完全に重なり、含まれてしまうことがな
いように、相互の形状を設定する必要がある。

【００４５】本実施形態では、母基板１１，１２の表面
上における最初の物理的存在として形成する反射電極１
３ａ又はカラーフィルタ１７と同時に同材質でアライメ
ントマーク１４，１８を形成しているため、それぞれの
母基板１１，１２における積層工程において生ずる累積
誤差を発生させることなく、正確に母基板１１と１２を
位置決めして貼り合わせることができる。また、アライ
メントマーク１４，１８はそれぞれの母基板１４，１８
における上層のパターン（例えばトップコート膜１５、
配向膜１６、透明電極１９及び配向膜２０など）を形成
する場合の基準マークともすることができる。

【００４６】上記実施形態ではアライメントマークを透
過光に基づいて測定している（すなわち透過測定してい
る）が、母基板１１又は母基板１２のいずれか一方から
照明光を照射し、その光照射側で反射光を測定して（す
なわち反射測定して）も構わない。

【００４７】［第２実施形態］ 次に、図５を参照して
本発明に係る第２実施形態について詳細に説明する。こ
の実施形態においては、透明な基板３１と３２とを張り
合わせてアクティブマトリクス型の液晶セルを構成す
る。ここで、基板３１，３２は第１実施形態のように母
基板であってもよく、或いは、後述する第３実施形態の
ように個別の液晶パネルを形成するための基板であって
もよい。

【００４８】基板３１の表面上には、走査線やデータ線
を構成する配線群や、走査線やデータ線に接続されるＴ
ＦＴ（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）
などのアクティブ素子などを構成する金属層３３が形成
される。このとき、本実施形態では、基板３１の外縁部
近傍に上記第１実施形態と同様のアライメントマーク３
４を同様に（同時に同材質にて）形成する。次に、必要
に応じて金属層３３に導電接続されるように透明導電体
や金属層からなる画素電極３５を形成する。画素電極３
５の表面上には配向膜３６が形成される。

【００４９】一方、基板３２の表面上にはカラーフィル
タ３７が形成される。カラーフィルタ３７は複数の異な
る色調を有する着色層３７ａ，３７ｂ，３７ｃを配列さ
せたものである。そして、このカラーフィルタ３７の形
成と同時に、基板３２の外縁部近傍にアライメントマー
ク３８を形成する。このアライメントマーク３８は第１
実施形態と同様に上記着色層３７ａ，３７ｂ，３７ｃの
いずれか少なくとも一つと同時に同材質にて形成され
る。カラーフィルタ３７の上には、ストライプ状の透明
電極３９が形成され、この透明電極３９の上に配向膜４
０が形成される。

【００５０】この実施形態においては、２枚の基板３１
上に形成されたアライメントマーク３４が金属層３３と
同時に同材質にて形成されるため、マークを透過測定す
る場合には照明光に対して遮光性を有し、マークを反射
測定する場合には照明光に対して反射性を有する。ま
た、アライメントマーク３８は第１実施形態と同様にカ
ラーフィルタ３７と同材質で形成されているために着色
されており、透過測定にも適している。

【００５１】上記金属層３３は、上記の配線やアクティ
ブ素子を構成する複数の金属パターンのうち、一部の金
属パターンと同時に構成されていてもよく、複数の金属
パターンの組み合わせによって構成されていてもよい。
金属層３３の材質は、例えば、アルミニウム、クロム、
タンタル、或いは種々の合金などで構成される。

【００５２】なお、本実施形態のようなアクティブマト
リクスパネルの場合、一方の基板に上記と同様に金属層
３３と同時にアライメントマークを形成し、他方の基板
には、表示領域の見切りを構成する遮光膜や画素間に形
成される遮光膜と同時に遮光性のアライメントマークを
形成することも可能である。

【００５３】［第３実施形態］ 次に、図６を参照して
本発明に係る第３実施形態について詳細に説明する。こ
の実施形態においては、透明な基板４１と４２を張り合
わせて単一の液晶パネルを構成する。したがって、基板
４１と４２を貼り合わせる際のアライメントマークは液
晶パネル毎に必要となる。

【００５４】この実施形態において、図６（ｂ）に示す
ように、基板４１上にはストライプ状の反射電極４３ａ
を多数形成した反射電極群４３が形成され、これと同時
に、基板４１の外縁部近傍に一対のアライメントマーク
４４（図示の場合にはリング状のパターンを有するも
の）が形成されている。なお、図６（ｂ）において点線
で示すものは、後述する基板４２を貼り合わせた場合
に、基板４２上に形成された透明電極４９の重なり具合
を示すものである。

【００５５】一方、図６（ａ）に示すように、基板４２
上にはストライプ状に形成された複数の着色層４７ａ，
４７ｂ，４７ｃを多数備えたカラーフィルタ４７が形成
され、これと同時に、基板４２の外縁部近傍に一対のア
ライメントマーク４８が着色層のいずれかと同材質で形
成される。そして、その上にストライプ状の透明電極４
９ａを多数並列させた透明電極群４９が形成される。

【００５６】なお、図６においては各電極に接続される
配線や外部端子などを省略して描いてある。

【００５７】図６の（ａ）と（ｂ）に示す基板４１と４
２にはそれぞれ必要な絶縁膜や配向膜が形成された後
に、相互に電極形成面を対向させるようにして図示しな
いシール材を介して貼り合わせられる。このとき、アラ
イメントマーク４４と４８とを重ねるようにして概略の
位置合わせを行い、両マークの重心が正確に一致する状
態で加圧し、所定の基板間ギャップを形成する。

【００５８】以上のようにして形成された液晶パネルに
おいては、アライメントマーク４４，４８を形成した基
板外縁部を切断して除去してもよく、或いは、そのまま
両マークを備えた状態で液晶装置を構成しても構わな
い。

【００５９】尚、本発明の液晶装置及びその製造方法
は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発
明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得
ることは勿論である。

【００６０】

【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
アライメントマークが遮光膜と同材質の遮光層によって
構成されていることにより、アライメントマークを形成
する工程を設ける必要がないとともに、透光性基板に対
して視覚上明確に区別することができることから、マー
ク検出を確実に行うことができ、アライメントマークの
誤認識を低減し、基板貼り合わせ時の位置決め精度を向
上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る液晶装置及びその製造方法の第１
実施形態における基板貼り合わせ工程の様子を模式的に
示す概略説明図である。

【図２】第１実施形態におけるアライメントマークの透
過画像を示す概略説明図（ａ）及び（ｂ）である。

【図３】第１実施形態における液晶セルの構造を模式的
に示す概略拡大断面図である。

【図４】第１実施形態における反射電極及びアライメン
トマークの形成部分を示す拡大断面図である。

【図５】本発明に係る液晶装置及びその製造方法の第２
実施形態における基板貼り合わせ工程の様子を模式的に
示す概略拡大説明図である。

【図６】本発明に係る液晶装置及びその製造方法の第３
実施形態における両基板の平面構造を模式的に示す概略
平面図（ａ）及び（ｂ）である。

【符号の説明】

１１，１２ … 母基板 １３ … 反射電極群 １３ａ … 反射電極 １４，１８，３４，３８，４４，４８ … アライメン
トマーク １７，３７，４７… カラーフィルタ １７ａ，１７ｂ，１７ｃ … 着色層 １９ … 透明電極群 １９ａ … 透明電極 ３１，３２，４１，４２ … 基板

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０９Ｆ 9/00 ３４６ Ｇ０９Ｆ 9/00 ３４６Ａ Ｆターム(参考） 2H088 EA02 FA01 FA16 HA12 HA14 MA03 MA20 2H089 NA38 QA12 QA16 TA02 TA09 TA12 TA13 TA17 2H091 FA02Y FA14Y FA34Y FB02 FB08 FC01 FC02 FC26 FC30 FD04 FD05 FD06 FD12 GA02 GA13 LA12 LA30 5G435 AA17 BB12 EE33 FF03 FF13 GG12 KK05

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ２枚の透光性基板を貼り合わせ、該透光
   性基板間に液晶を封入してなる液晶装置であって、一方
   の前記透光性基板上に遮光膜を有するとともに同材質の
   遮光層からなるアライメントマークを備えていることを
   特徴とする液晶装置。
2. 【請求項２】 請求項１において、他方の前記透光性基
   板上にカラーフィルタを有するとともに、該カラーフィ
   ルタの少なくとも一部の着色層と同材質からなるアライ
   メントマークを備えていることを特徴とする液晶装置。
3. 【請求項３】 請求項１又は請求項２において、前記遮
   光膜は反射電極であることを特徴とする液晶装置。
4. 【請求項４】 ２枚の基板を貼り合わせ、該透光性基板
   間に液晶を封入してなる液晶装置の製造方法であって、 一方の前記透光性基板上に遮光膜を形成すると同時に、
   一方の前記透光性基板上にアライメントマークを同材質
   で形成し、前記アライメントマークを用いてアライメン
   トし、前記透光性基板同士の貼り合わせを行うことを特
   徴とする液晶装置の製造方法。
5. 【請求項５】 ２枚の透光性基板を貼り合わせ、該透光
   性基板間に液晶を封入してなる液晶装置の製造方法であ
   って、 一方の前記透光性基板上に遮光膜を形成すると同時に、
   一方の前記透光性基板上にアライメントマークを同材質
   で形成し、他方の前記透光性基板上にカラーフィルタを
   形成すると同時に、他方の前記透光性基板上にアライメ
   ントマークを前記カラーフィルタの少なくとも一部の着
   色層と同材質で形成し、一方の前記透光性基板上のアラ
   イメントマークと他方の前記基板上のアライメントマー
   クとを用いてアライメントし、前記透光性基板同士の貼
   り合わせを行うことを特徴とする液晶装置の製造方法。
6. 【請求項６】 請求項５において、前記カラーフィルタ
   を他方の前記透光性基板の表面上に最初に形成すること
   を特徴とする液晶装置の製造方法。
7. 【請求項７】 ２枚の透光性基板を貼り合わせ、該透光
   性基板間に液晶を封入してなる液晶装置の製造方法であ
   って、 一方の前記透光性基板上に遮光膜を形成すると同時に、
   一方の前記透光性基板上にアライメントマークを同材質
   で形成し、前記アライメントマークを用いて一方の前記
   透光性基板上に他の表面構造をアライメントし、形成す
   ることを特徴とする液晶装置の製造方法。
8. 【請求項８】 請求項４から請求項７までのいずれか１
   項において、前記遮光膜は反射電極であることを特徴と
   する液晶装置の製造方法。
9. 【請求項９】 請求項４から請求項８までのいずれか１
   項において、前記透光性基板同士の貼り合わせに際して
   は、前記アライメントマークによって変調された光成分
   を含む、２枚の前記透光性基板を通過した透過光に基づ
   いてアライメントを行うことを特徴とする液晶装置の製
   造方法。
10. 【請求項１０】 請求項４から請求項９までのいずれか
    １項において、前記遮光膜を一方の前記透光性基板の表
    面上に最初に形成することを特徴とする液晶装置の製造
    方法。