JP3788462B2 - 電気光学装置用基板、電気光学装置及び電子機器、並びに、電気光学装置の製造方法 - Google Patents
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Description
最初に、本実施形態の液晶装置100の全体構成について説明する。図7は液晶装置100の分解斜視図、図8は液晶装置100の平面透視図である。液晶装置100は、第1基板110と、第2基板120とをシール材131によって貼り合せ、第1基板110、第2基板120及びシール材131によって囲まれた空間内に図示しない電気光学物質である液晶を封入したものである。第1基板110は、第2基板120の外形よりも張り出した基板張出部110Tを有し、この基板張出部110Tの表面上に液晶駆動回路などを内蔵した電子部品(半導体ICチップ)132,133が実装されている。これらの電子部品132,133の図示しない複数の端子は、基板張出部110T上にそれぞれ引き出された電極配線112a、配線112b及び入力端子112c,112dに導電接続されている。
次に、図11乃至図13を参照して本発明に係る電気光学装置用基板及び電気光学装置の内部構造について説明する。図11は、液晶装置100の第2基板120について表示領域Dと周辺領域Eの境界近傍を示す拡大平面透視図、図12は、液晶装置100の表示領域D内の一部を配線122a−2の延在方向に切断した状態を示す拡大断面図、図13は、液晶装置100の表示領域D内の一部を配線122a−2の延在方向と直交する方向に切断した状態を示す拡大断面図である。
次に、図1を参照して、上記反射層123上に形成された着色層124R,124G,124B及び遮光層124BMの構造及び製造方法について説明する。図1には、上記第2基板120の断面構造を模式的に示す概略断面図と、その製造工程の概略フローチャートとを併記してある。
最後に、図14及び図15を参照して、本発明に係る電子機器の実施形態について説明する。この実施形態では、上記電気光学装置(液晶装置100)を表示手段として備えた電子機器について説明する。図14は、本実施形態の電子機器における液晶装置100に対する制御系(表示制御系)の全体構成を示す概略構成図である。ここに示す電子機器は、表示情報出力源191と、表示情報処理回路192と、電源回路193と、タイミングジェネレータ194とを含む表示制御回路190を有する。また、上記と同様の液晶装置100には、上述の構成を有する液晶パネル100Aを駆動する駆動回路100Bが設けられている。この駆動回路100Bは、上記のように液晶パネル100Aに直接実装されている電子部品(半導体ICチップ)132,133で構成される。ただし、駆動回路100Bは、上記のような態様の他に、パネル表面上に形成された回路パターン、或いは、液晶パネルに導電接続された回路基板に実装された半導体ICチップ若しくは回路パターンなどによっても構成することができる。
Claims (16)
- 基板と、
前記基板上に配置された金属層と、
前記金属層上に配置された複数の層と、
前記複数の層上に配置された第1絶縁層及び第2絶縁層とを有し、
前記金属層の外縁が前記複数の層のうち最初に形成された第1層により被覆されており、
前記第1層の外縁が前記第1絶縁層により被覆され、前記第1絶縁層の外縁が前記第2絶縁層に被覆されており、
前記複数の層は、前記第1層の外縁が最も外側になるように積層されており、
前記第1層の外縁から前記第1絶縁層の外縁までの距離が、前記金属層の外縁から前記第1層の外縁までの距離よりも長く、
前記第1絶縁層の外縁から前記第2絶縁層の外縁までの距離が、前記第1層の外縁から前記第1絶縁層の外縁までの距離よりも長いことを特徴とする電気光学装置用基板。 - 基板と、
前記基板上に配置された金属層と、
前記金属層上に積層された複数の層と、
前記複数の層上に配置された第1絶縁層及び第2絶縁層とを有し、
前記金属層の外縁が前記複数の層のうち前記金属層上に直接形成された第1層により被覆されており、
前記複数の層は、前記第1層の外縁が最も外側になるように積層されており、
前記第1層の外縁が前記第1絶縁層により被覆され、前記第1絶縁層の外縁が前記第2絶縁層に被覆されており、
前記第1層の外縁から前記第1絶縁層の外縁までの距離が、前記金属層の外縁から前記第1層の外縁までの距離よりも長く、
前記第1絶縁層の外縁から前記第2絶縁層の外縁までの距離が、前記第1層の外縁から前記第1絶縁層の外縁までの距離よりも長いことを特徴とする電気光学装置用基板。 - 前記第1層の外縁は、前記金属層の外縁から1μm以上外側に配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の電気光学装置用基板。
- 前記複数の層は複数色の着色層であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板。
- 前記第1層は、前記金属層の外縁上に形成される、光を遮断する遮光層を構成していることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板。
- 前記遮光層は前記第1層の上に第2層を有し、前記第1層の外縁位置と、前記第2層の外縁位置とが相互に異なることを特徴とする請求項5に記載の電気光学装置用基板。
- 複数の画素が配列された表示領域と、該表示領域の外側に配置された周辺領域とを有し、
前記金属層の外縁及び前記遮光層は前記周辺領域に設けられ、前記遮光層の上方に配線が配置されていることを特徴とする請求項5又は6に記載の電気光学装置用基板。 - 基板と、
前記基板上に配置された金属層と、
前記金属層上に配置された複数の層と、
前記複数の層上に配置された第1絶縁層及び第2絶縁層とを有し、
前記金属層の外縁が前記複数の層のうち最初に形成された第1層により被覆されており、
前記複数の層は、前記第1層の外縁が最も外側になるように積層されており、
前記第1層の外縁が前記第1絶縁層により被覆され、前記第1絶縁層の外縁が前記第2絶縁層に被覆されており、
前記第1層の外縁から前記第1絶縁層の外縁までの距離が、前記金属層の外縁から前記第1層の外縁までの距離よりも長く、
前記第1絶縁層の外縁から前記第2絶縁層の外縁までの距離が、前記第1層の外縁から前記第1絶縁層の外縁までの距離よりも長いことを特徴とする電気光学装置。 - 基板と、
前記基板上に配置された金属層と、
前記金属層上に積層された複数の層と、
前記複数の層上に配置された第1絶縁層及び第2絶縁層とを有し、
前記金属層の外縁が前記複数の層のうち前記金属層上に直接形成された第1層により被覆されており、
前記複数の層は、前記第1層の外縁が最も外側になるように積層されており、
前記第1層の外縁が前記第1絶縁層により被覆され、前記第1絶縁層の外縁が前記第2絶縁層に被覆されており、
前記第1層の外縁から前記第1絶縁層の外縁までの距離が、前記金属層の外縁から前記第1層の外縁までの距離よりも長く、
前記第1絶縁層の外縁から前記第2絶縁層の外縁までの距離が、前記第1層の外縁から前記第1絶縁層の外縁までの距離よりも長いことを特徴とする電気光学装置。 - 複数の着色層を含むカラーフィルタを有し、前記複数の層は前記複数の着色層であることを特徴とする請求項8又は9に記載の電気光学装置。
- 複数の画素が配置された表示領域と、該表示領域の外側に配置された周辺領域とを有し、
前記金属層の外縁及び前記第1層は前記周辺領域に配置され、前記第1層は、前記金属層の外縁上に形成される、光を遮断する遮光層を構成していることを特徴とする請求項8乃至10のいずれか一項に記載の電気光学装置。 - 前記遮光層は前記第1層の上に第2層を有し、前記第1層の外縁位置と、前記第2層の外縁位置とが相互に異なることを特徴とする請求項11に記載の電気光学装置。
- 請求項8乃至12のいずれか一項に記載の電気光学装置と、該電気光学装置の制御手段とを有することを特徴とする電子機器。
- 基板上に金属層を形成する工程と、
前記金属層上に複数の層を形成する工程と、
前記複数の層上に第1絶縁層を形成する工程と、
前記第1絶縁層上に第2絶縁層を形成する工程とを備え、
前記複数の層を形成する工程では、前記金属層上に、前記複数の層のうちの最初の第1層を前記金属層の外縁を被覆するように形成すると共に、前記第1層の外縁が最も外側になるように前記複数の層を形成し、
前記第1絶縁層を形成する工程では、前記第1層の外縁を前記第1絶縁層により被覆し、且つ、前記第1層の外縁から前記第1絶縁層の外縁までの距離が、前記金属層の外縁から前記第1層の外縁までの距離よりも長くなるように前記第1絶縁層を形成し、
前記第2絶縁層を形成する工程では、前記第1絶縁層の外縁を前記第2絶縁層により被覆し、且つ前記第1絶縁層の外縁から前記第2絶縁層の外縁までの距離が、前記第1層の外縁から前記第1絶縁層の外縁までの距離よりも長くなるように前記第2絶縁層を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 前記電気光学装置は複数色の着色層を含むカラーフィルタを有し、前記複数の層は複数色の着色層であることを特徴とする請求項14に記載の電気光学装置の製造方法。
- 表示領域と該表示領域の外側に配置された周辺領域とが設けられた基板と、
前記基板上に配置された金属層と、
前記金属層上に配置された複数の着色層からなるカラーフィルタと、
前記複数の着色層上に配置された第1絶縁層及び第2絶縁層とを有し、
前記金属層の外縁及び前記複数の着色層は前記周辺領域に配置され、前記複数の着色層は光を遮断する遮光層を構成しており、
前記金属層の外縁が前記複数の着色層のうちいずれか一つの層により被覆されており、
前記複数の着色層は、前記一つの層の外縁が最も外側になるように積層されており、
前記一つの層の外縁が前記第1絶縁層により被覆され、前記第1絶縁層の外縁が前記第2絶縁層に被覆されており、
前記一つの層の外縁から前記第1絶縁層の外縁までの距離が、前記金属層の外縁から前記第1層の外縁までの距離よりも長く、
前記第1絶縁層の外縁から前記第2絶縁層の外縁までの距離が、前記第1層の外縁から前記第1絶縁層の外縁までの距離よりも長いことを特徴とする電気光学装置。
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