JP2005049638A - 電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器、電気光学装置用基板の製造方法、露光マスク - Google Patents
電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器、電気光学装置用基板の製造方法、露光マスク Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005049638A JP2005049638A JP2003281912A JP2003281912A JP2005049638A JP 2005049638 A JP2005049638 A JP 2005049638A JP 2003281912 A JP2003281912 A JP 2003281912A JP 2003281912 A JP2003281912 A JP 2003281912A JP 2005049638 A JP2005049638 A JP 2005049638A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electro
- layer
- optical device
- substrate
- pixel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Abstract
【課題】 透過モードで品位の高いカラー画像を表示でき、かつ、電気光学装置の歩留まりや信頼性の向上を図ることのできる電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器、電気光学装置用基板の製造方法、露光マスクを提供すること。
【解決手段】 半透過反射型の電気光学装置1の対向基板30において、光反射層33には、透過モードでの表示を可能とする光透過窓330が各画素11に形成されている。多数の画素のうち、一部の画素では、光透過窓330と平面的に重なる領域に凹凸形成層50が残っているが、他の画素では、光透過窓330と平面的に重なる領域に凹凸形成層50が形成されていない。
【選択図】 図3
【解決手段】 半透過反射型の電気光学装置1の対向基板30において、光反射層33には、透過モードでの表示を可能とする光透過窓330が各画素11に形成されている。多数の画素のうち、一部の画素では、光透過窓330と平面的に重なる領域に凹凸形成層50が残っているが、他の画素では、光透過窓330と平面的に重なる領域に凹凸形成層50が形成されていない。
【選択図】 図3
Description
本発明は、透過モードおよび反射モードでの表示が可能な電気光学装置、およびそれを用いた電子機器に関するものである。
代表的な電気光学装置の一つである液晶装置は、薄型、軽量、低消費電力という特長を有していることから、携帯電話機、モバイルコンピュータなどの表示装置として広く用いられている。
この種の電気光学装置では、図11に示すように、バックライト装置から出射された光によって透過モードでの表示を行え、かつ、外光を利用した反射モードでの表示も行えるように、液晶層12を保持する一対の基板20、30のうちの一方の基板30に、反射モードでの表示を可能とする光反射層33、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のカラーフィルタ層34、オーバーコート層35、透光性を備えた画素電極36、および配向膜37がこの順に形成されている一方、光反射層33には透過モードでの表示を可能とする光透過窓330が各画素11毎に形成されている(例えば、特許文献1参照)。
また、光反射層33で反射された光の方向性が強いと、画像をみる角度で明るさが異なるなどの視野角依存性が顕著に出てしまう。そこで、基板の表面に塗布したアクリル樹脂などの感光性樹脂を選択的に露光した後、現像、焼成して、凹凸形成層50を形成することにより、光反射層33の表面に凹凸を付与している。
特開2002−258270号(第6頁、図1)
しかしながら、光反射層33の下層側に凹凸形成層50を形成した場合には、透過モードでの表示の際、バックライト装置から入射した光は、凹凸形成層50を透過した後、液晶層12に入射するため、凹凸形成層50での光の吸収によって表示に寄与する光量が低下する。また、凹凸形成層50を構成する感光性樹脂は、一般に、短波長域の光を強く吸収する傾向にあるため、透過モードでカラー画像を表示したとき、黄変したカラー画像が表示されてしまう。
そこで、図12および図13に示すように、各画素11において、凹凸形成層50については、光透過窓330と平面的に重なる領域から除去し、そこを凹凸形成層50の非形成領域55とすることが考えられる。このように構成すると、透過モードでの表示の品位は、凹凸形成層50を構成する感光性樹脂の影響を受けずに済む。
しかしながら、各画素11において、光透過窓330と平面的に重なる領域から凹凸形成層50を除去した場合、凹凸形成層50の非形成領域55で挟まれた領域56が狭くなるので、このような領域55で凹凸形成層50が剥離し、電気光学装置の歩留まりや信頼性を低下させるという問題点がある。
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、光散乱用の凹凸を付与するための凹凸形成層を形成しても、透過モードで品位の高いカラー画像を表示でき、かつ、電気光学装置の歩留まりや信頼性の向上を図ることのできる電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器、電気光学装置用基板の製造方法、露光マスクを提供することにある。
上記課題を解決するために、本発明では、電気光学物質を保持する透光性基板上に、少なくとも、透光性を備えた凹凸形成層、および反射モードでの表示を可能とする光反射層がこの順に形成されているとともに、前記光反射層には透過モードでの表示を可能とする光透過窓が多数の画素の各々に形成され、前記多数の画素の各々に対しては、各色の光を出射するための着色手段が構成される電気光学装置用基板において、前記多数の画素には、前記光透過窓と平面的に重なる領域に前記凹凸形成層が形成されている第1構造の画素と、前記光透過窓と平面的に重なる領域が前記凹凸形成層の非形成領域になっている第2構造の画素とが含まれていることを特徴とする。
本発明において、前記光反射層は、前記第2構造の画素では、前記凹凸形成層の非形成領域の内周壁を覆うように形成されていることが好ましい。このように構成すると、透過モードで表示する際、凹凸形成層の非形成領域の内周壁から光が漏れるのを防止することができるので、コントラストを向上することができる。
本発明において、前記光反射層は、前記第2構造の画素では、前記凹凸形成層の非形成領域の外側領域に形成されている構成を採用してもよい。このように構成すると、光反射層は、常に凹凸形成層を下地として形成されるので、光反射層の剥離を防止することができる。
本発明において、前記着色手段は、例えば、前記透光性基板に対して前記光反射層の上層側に形成されたカラーフィルタ層である。
本発明において、前記第1構造の画素と前記第2構造の画素とは、対応する色によって区分されていることが好ましい。
本発明において、前記第2構造の画素は、例えば、前記複数色としての赤色、緑色、および青色のうち、青色に対応する画素である。このように構成すると、凹凸形成層が短波長域の光を吸収してしまうという分光特性を有している場合でも、青色に対応する画素では、透過モードでカラー画像を表示する際、バックライト装置から出射された光のうち、低波長域の光が凹凸形成層で吸収されることがない。それ故、カラー画像が黄変することがないので、品位の高いカラー画像を表示することができる。
本発明において、前記透光性基板の縦方向および横方向のうちの少なくとも一方向では、前記第2構造の画素の両側に前記第1構造の画素が配置されていることが好ましい。すなわち、第1構造の画素と第2構造の画素の配置については、対応する色にかかわらず、互いに分散させてよい。
本発明を適用した電気光学装置用基板については、この基板によって電気光学物質を保持して電気光学装置を構成することができる。例えば、本発明を適用した電気光学装置用基板と、該電気光学装置用基板に対向配置された別の基板との間に、電気光学物質としての液晶を保持すれば、電気光学装置としての液晶装置を構成することができる。
本発明を適用した電気光学装置は、携帯電話機、モバイルコンピュータなどの電子機器において表示部として用いることができる。
本発明において、電気光学物質を保持する透光性基板上に、少なくとも、透光性を備えた凹凸形成層、および反射モードでの表示を可能とする光反射層がこの順に形成され、前記光反射層には透過モードでの表示を可能とする光透過窓を多数の画素の各々に形成された電気光学装置用基板の製造方法では、前記透光性基板上に塗布した感光性樹脂を選択的に露光した後、現像して前記凹凸形成層を形成する際、前記多数の画素のうち、特定の画素においては前記光透過窓と平面的に重なる領域から前記凹凸形成層を除去し、その他の画素においては、前記光透過窓と平面的に重なる領域に前記凹凸形成層を残すことを特徴とする。
本発明にいて、電気光学物質を保持する透光性基板上に感光性樹脂を塗布した後、該感光性樹脂を選択的に露光した後、現像して凹凸形成層を形成するための露光マスクでは、前記透光性基板上にマトリクス状に配列される多数の領域のうち、一部の領域のみについて前記凹凸形成層にベタの非形成領域を形成可能なマスクパターンを備えていることを特徴とする。
本発明では、多数の画素の全てにおいて、光透過窓と平面的に重なる領域から凹凸形成層を除去するのではなく、一部の画素については、光透過窓と平面的に重なる領域に凹凸形成層が形成された第1構造の画素とし、他の画素については、光透過窓と平面的に重なる領域に凹凸形成層が形成されていない第2構造の画素とする。このため、第2構造の画素では、透過モードでの表示の品位は、凹凸形成層の影響を受けずに済むので、透過モードで品位の高いカラー画像を表示することができる。また、多数の画素の一部の画素については、光透過窓と平面的に重なる領域に凹凸形成層が形成されていない第2構造の画素としたため、第2構造の画素は分散している。従って、凹凸形成層の非形成領域で挟まれた領域の幅が十分、広いので、このような領域で凹凸形成層が剥離することがない。従って、電気光学装置の歩留まりや信頼性を向上させることができる。
図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。
(全体構成)
図1は、本発明が適用される電気光学装置の電気的構成を示すブロック図である。図2および図3はそれぞれ、図1に示す電気光学装置の構成を示す分解斜視図、およびその一部を拡大して示す拡大断面図である。図4は、電気光学装置において、TFD素子を含む数画素分のレイアウトを示す平面図であり、図5は、そのA−A’線に沿って示す断面図である。
図1は、本発明が適用される電気光学装置の電気的構成を示すブロック図である。図2および図3はそれぞれ、図1に示す電気光学装置の構成を示す分解斜視図、およびその一部を拡大して示す拡大断面図である。図4は、電気光学装置において、TFD素子を含む数画素分のレイアウトを示す平面図であり、図5は、そのA−A’線に沿って示す断面図である。
本発明を適用した電気光学装置は、ネマチック液晶を用いたアクティブマトリクス型の半透過反射型液晶装置であり、図1に示すように、複数本の走査線31が行(X)方向に形成され、複数本のデータ線21が列(Y)方向に形成されている。また、走査線31とデータ線21との各交差部分には、画素11が形成されている。各画素11では、ネマチック液晶からなる液晶層12と、二端子型アクティブ素子たるTFD素子40とが直列接続している。ここに示す例では、液晶層12が走査線31の側に接続され、TFD素子40がデータ線21の側に接続されている。各走査線31は、走査線駆動回路350によって駆動される一方、各データ線21は、データ線駆動回路250によって駆動される構成となっている。
図2に示すように、電気光学装置1では、一対の透光性基板を所定の間隙を介して貼り合わされた駆動用液晶セル10が用いられているとともに、上側偏光板2、第1の上側位相差板3、第2の上側位相差板4、駆動用液晶セル10、第1の下側位相差板5、第2の下側位相差板6、およびバックライト装置9が上方から下方にこの順に重ねて配置されている。
駆動用液晶セル10において、一方の透光性基板は、アクティブ素子が形成される素子側基板20であり、他方の透光性基板は、素子側基板20に対向する対向基板30(電気光学装置用基板)である。素子側基板20と対向基板30とは、スペーサ(図示省略)を含むシール材14によって一定の間隙を保って接合されるとともに、この間隙に、液晶層12が封入、保持された構成となっている。
電気光学装置1では、COG(Chip On Glass)技術により、素子側基板20の表面に直接、データ線駆動回路250を構成する液晶駆動用IC(ドライバ)が実装され、対向基板30の表面にも直接、走査線駆動回路350を構成する液晶駆動用IC(ドライバ)が実装されている。なお、COG技術に限られず、それ以外の技術を用いて、ICチップと電気光学装置とが接続された構成としても良い。例えば、TAB(Tape Automated Bonding)技術を用いて、FPC(Flexible Printed Circuit)の上にICチップがボンディングされたTCP(Tape Carrier Package)を電気光学装置に電気的に接続する構成としても良い。また、ICチップをハード基板にボンディングするCOB(Chip On Board)技術を用いても良い。
図3および図4に示すように、素子側基板20の内側表面には下地膜25が形成されているとともに、この下地膜25の表面には、複数本のデータ線21と、それらのデータ線21に接続された複数のTFD素子40と、それらのTFD素子40と1対1に接続される画素電極23とが形成されている。画素電極23は、ITO(Indium Tin Oxide)などの透光性導電膜から形成されている。各データ線21は、直線的に延びている一方、TFD素子40および画素電極23は、ドットマトリクス状に配列されている。画素電極23などの表面には、ラビング処理が施された配向膜24が形成されている。この配向膜24は、一般にポリイミド樹脂等から形成される。
一方、対向基板30の内側表面には、後述する下層側凹凸形成層51aおよび上層側凹凸形成層52aの上層側に、アルミニウム、アルミニウム合金、銀、銀合金などの単層膜、あるいは複層膜からなる光反射層33と、ストライプ配列された赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のカラーフィルタ層34と、オーバーコート層35と、ITOなどの透光性導電膜からなる帯状の対向電極36と、ポリイミド樹脂等から配向膜37とが形成されている。光反射層33は、反射モードでの表示用であり、この光反射層33には、透過モードでの表示を可能とする光透過窓330が形成されている。
カラーフィルタ層34の隙間には、ブラックマトリクス38が形成されており、カラーフィルタ層34の隙間からの入射光を遮蔽する構成となっている。オーバーコート層35は、カラーフィルタ層34およびブラックマトリクス38の表面において、カラーフィルタ層34およびブラックマトリクス38の平滑性を高めて、対向電極36の断線を防止する目的などで形成されている。ここで、対向電極36は、走査線31として機能し、データ線21と直交する方向に形成されている。
図4および図5に示すように、TFD素子40は、第1のTFD素子40aおよび第2のTFD素子40bからなり、素子基板20の表面に形成された絶縁膜25上において、第1金属膜42と、この第1金属膜42の表面に陽極酸化によって形成された絶縁体たる酸化膜44と、この表面に形成されて相互に離間した第2金属膜46a、46bとから構成されている。また、第2金属膜46aは、そのままデータ線21となる一方、第2金属膜46bは、画素電極23に接続されている。
第1のTFD素子40aは、データ線21の側からみると順番に、第2金属膜46a/酸化膜44/第1金属膜42となって、金属(導電体)/絶縁体/金属(導電体)のサンドイッチ構造を採るため、正負双方向のダイオードスイッチング特性を有することになる。一方、第2のTFD素子40bは、データ線21の側からみると順番に、第1金属膜42/酸化膜44/第2金属膜46bとなって、第1のTFD素子40aとは、反対のダイオードスイッチング特性を有することになる。従って、TFD素子40は、2つのダイオードを互いに逆向きに直列接続した形となっているため、1つのダイオードを用いる場合と比べると、電流−電圧の非線形特性が正負の双方向にわたって対称化されることになる。なお、このように非線形特性を厳密に対称化する必要がないのであれば、1つのTFD素子40のみを用いても良い。
なお、TFD素子40は、ダイオード素子としての一例であり、他に、酸化亜鉛(ZnO)バリスタや、MSI(Metal Semi Insulator)などを用いた素子や、これらの素子を、単体、または、逆向きに直列接続もしくは並列接続したものなどが適用可能である。
(各画素の詳細な構成)
図3および図4において、本形態の電気光学装置1では、バックライト装置9から出射された光は、駆動用液晶セル10に入射した後、光反射層33の光透過窓330からカラーフィルタ層34を通って液晶層12に入射し、素子基板20の側から出射される。その際に、表示光は、各画素11において液晶層12によって光変調されて、透過モードでのカラー画像を表示する。
図3および図4において、本形態の電気光学装置1では、バックライト装置9から出射された光は、駆動用液晶セル10に入射した後、光反射層33の光透過窓330からカラーフィルタ層34を通って液晶層12に入射し、素子基板20の側から出射される。その際に、表示光は、各画素11において液晶層12によって光変調されて、透過モードでのカラー画像を表示する。
一方、素子基板20の側から入射した外光は、液晶層12およびカラーフィルタ層34を通って光反射層33で反射し、再び、カラーフィルタ層34および液晶層12を通って素子基板20の側から出射される。その際に、表示光は、各画素11において液晶層12によって光変調されて、反射モードでのカラー画像を表示する。
このように、反射モードではカラーフィルタ層34を2度、通過するが、透過モードでは光がカラーフィルタ層34を1度しか通過しない。このため、透過モードでカラー画像を表示すると、反射モードでカラー画像を表示した場合と比較して、色が薄くなるおそれがあるので、本形態では、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のカラーフィルタ層34のいずれについても、光反射層33と平面的に重なる領域には、反射表示用のカラーフィルタ層341が形成されている一方、光透過窓330と平面的に重なる領域には、反射表示用のカラーフィルタ層341よりも着色性の強い透過表示用のカラーフィルタ層342が形成されている。
また、本形態の電気光学装置1において、光反射層33で反射された光の方向性が強いと、画像をみる角度で明るさが異なるなどの視野角依存性が顕著に出てしまう。そこで、対向基板30の表面側には、光反射層33の下層側に凹凸形成層50が形成され、この凹凸形成層50によって光反射層33の表面に光散乱用の微小な凹凸を形成してある。凹凸形成層50は、後述するように、2層あるいは1層の感光性樹脂層により形成される。
このように構成した対向基板30において、本形態では、赤色(R)および緑色(G)のカラーフィルタ層34が形成されている画素11は、光反射層33と平面的に重なる領域、および光透過窓330(図4に一点鎖線で示す)と平面的に重なる領域の双方に凹凸形成層50を備えた第1構造の画素として形成されている。
これに対して、青色(B)のカラーフィルタ層34が形成されている画素11は、光反射層33と平面的に重なる領域には、凹凸形成層50が形成されている一方、光透過窓330と平面的に重なる領域については凹凸形成層50が形成されていない非形成領域55(図4に実線で示す)になっている第2構造の画素として構成されている。
ここで、光反射層33は、凹凸形成層50の非形成領域55の開口縁と略一致する位置まで形成されている。
(本形態の効果)
このように構成した電気光学装置1において、透過モードでカラー画像を表示する際、赤色(R)および緑色(G)のカラーフィルタ層34が形成されている第1構造の画素11では、バックライト装置9から出射された光は、凹凸形成層50を通った後、光反射層33の光透過窓330からカラーフィルタ層34を経て液晶層12に入射する。これに対して、青色(B)のカラーフィルタ層34が形成されている第2構造の画素11では、バックライト装置9から出射された光は、凹凸形成層50を通らず、そのまま、光反射層33の光透過窓330からカラーフィルタ層34を経て液晶層12に入射する。
このように構成した電気光学装置1において、透過モードでカラー画像を表示する際、赤色(R)および緑色(G)のカラーフィルタ層34が形成されている第1構造の画素11では、バックライト装置9から出射された光は、凹凸形成層50を通った後、光反射層33の光透過窓330からカラーフィルタ層34を経て液晶層12に入射する。これに対して、青色(B)のカラーフィルタ層34が形成されている第2構造の画素11では、バックライト装置9から出射された光は、凹凸形成層50を通らず、そのまま、光反射層33の光透過窓330からカラーフィルタ層34を経て液晶層12に入射する。
このため、凹凸形成層50を構成する感光性樹脂層が短波長域の光を吸収するという分光特性を有している場合でも、青色用の画素11でも好適に着色された光が出射される。それ故、反射モードおよび透過モードのいずれにおいても、黄変のない、品位の高いカラー画像を表示することができる。
また、本形態では、多数の画素11の全てにおいて、光透過窓330と平面的に重なる領域から凹凸形成層50を除去するのではなく、一部の画素11については、光透過窓330と平面的に重なる領域に凹凸形成層50が形成された第1構造の画素とし、他の画素11については、光透過窓330と平面的に重なる領域に凹凸形成層50が形成されていない第2構造の画素としたため、第2構造の画素11、および凹凸形成層50の非形成領域55は分散している。すなわち、対向基板30の縦方向および横方向のうち、横方向では、第2構造の画素の両側に第1構造の画素が常に配置されている。従って、凹凸形成層50の非形成領域55で挟まれた領域56の幅が十分、広いので、このような領域56で凹凸形成層50が剥離することがない。それ故、電気光学装置1の歩留まりや信頼性を向上させることができる。
[電気光学装置の製造方法1]
図6を参照して、本形態の電気光学装置1の製造工程のうち、対向基板30に対して凹凸形成層50を形成する工程を中心に説明する。
図6を参照して、本形態の電気光学装置1の製造工程のうち、対向基板30に対して凹凸形成層50を形成する工程を中心に説明する。
図6(A)〜(D)は、本形態の電気光学装置1に用いた対向基板30に凹凸形成層50を形成する工程を示す工程断面図である。
まず、図6(A)に示すように、ガラス製等の透光性の対向基板30の表面に感光性樹脂51を厚めに塗布した後、感光性樹脂51を露光マスク510を介して露光する。ここで、感光性樹脂51としてはネガタイプおよびポジタイプのいずれを用いてもよいが、図6(A)には、感光性樹脂51としてポジタイプの場合を例示してあり、感光性樹脂51を除去したい部分に対して、露光マスク510の透光部分511を介して紫外線が照射される。
次に、露光した感光性樹脂51を現像して、図6(B)に示すように、柱状の下層側凹凸形成層51aを形成する。ここで、露光マスク510は、対向基板30上にマトリクス状に配列される多数の画素11のうち、一部の画素11(第2の画素)については、凹凸形成層51にベタの非形成領域55を形成可能なマスクパターンを備えている。このため、青色(B)のカラーフィルタ層34が形成される第2の画素11では、光反射層33と平面的に重なる領域には、下層側凹凸形成層51aが残されるが、光透過窓330と平面的に重なる領域から下層側凹凸形成層51aは除去される。これに対して、赤色(R)および緑(G)のカラーフィルタ層34が形成される第1の画素11では、光透過窓330と平面的に重なる領域にも下層側凹凸形成層51aが残される。
次に、図6(C)に示すように、下層側凹凸形成層51aの上層側に感光性樹脂52を塗布した後、感光性樹脂52を露光マスク520を介して露光する。ここでも、感光性樹脂52としてはネガタイプおよびポジタイプのいずれを用いてもよいが、図6(C)には、感光性樹脂52としてポジタイプの場合を例示してあり、感光性樹脂52を除去したい部分に対して、露光マスク520の透光部分521を介して紫外線が照射される。
次に、露光した感光性樹脂52を現像して、図6(D)に示すように、上層側凹凸形成層52aを形成する。ここで、露光マスク520も、露光マスク510と同様、多数の画素11のうち、一部の画素11については、凹凸形成層51にベタの非形成領域55を形成可能なマスクパターンを備えている。このため、青色(B)のカラーフィルタ層34が形成される画素11では、光反射層33と平面的に重なる領域に上層側凹凸形成層52aが残されるが、光透過窓330と平面的に重なる領域から上層側凹凸形成層52aは除去される。これに対して、赤色(R)および緑(G)のカラーフィルタ層34が形成される第1の画素11では、光透過窓330と平面的に重なる領域にも下層側凹凸形成層52aが残される。
このようにして下層側凹凸形成層51aおよび上層側凹凸形成層52aからなる2層構造の凹凸形成層50を形成するが、下層側凹凸形成層51aの上層にもう1層、流動性の高い感光性樹脂層からなる上層側凹凸形成層52aを塗布、形成したため、エッジのない、なだらかな形状の凹凸を備えた凹凸形成層50を形成することができる。
しかる後には、図3に示すように、成膜工程およびパターニング工程を行って、光透過窓330を備えた光反射層33を形成した後、フォトリソグラフィ技術、フレキソ印刷あるいはインクジェット法を用いて、ブラックマトリクス38、および赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のカラーフィルタ層34(反射表示用のカラーフィルタ層341、透過表示用のカラーフィルタ層342)を形成する。次に、スピンコート法などによりオーバーコート層35を形成した後、成膜工程およびパターニング工程を行って、対向電極36を形成し、しかる後に、フレキソ印刷あるいはスピンコート法を利用して、配向膜37を形成する。その結果、対向基板30が完成する。
[電気光学装置の製造方法2]
図7を参照して、本形態の電気光学装置1の製造工程のうち、対向基板30に対して凹凸形成層50を形成する別の方法を説明する。
図7を参照して、本形態の電気光学装置1の製造工程のうち、対向基板30に対して凹凸形成層50を形成する別の方法を説明する。
図7(A)〜(C)は、本形態の電気光学装置1に用いた対向基板30に凹凸形成層50を形成する別の工程を示す工程断面図である。
まず、図7(A)に示すように、ガラス製等の透光性の対向基板30の表面に感光性樹脂53を厚めに塗布した後、感光性樹脂53を露光マスク530を介して露光する。ここで、感光性樹脂53としてはネガタイプおよびポジタイプのいずれを用いてもよいが、図7(A)には、感光性樹脂53としてポジタイプの場合を例示してあり、感光性樹脂53を除去したい部分に対して、露光マスク530の透光部分531を介して紫外線が照射される。
次に、露光した感光性樹脂53を現像して、図7(B)に示すように、柱状の下層側凹凸形成層53aを形成する。ここで、露光マスク530は、対向基板30上にマトリクス状に配列される多数の画素11のうち、一部の画素11については、凹凸形成層50にベタの非形成領域55を形成可能なマスクパターンを備えている。このため、青色(B)のカラーフィルタ層34が形成される画素11では、光反射層33と平面的に重なる領域に上層側凹凸形成層53aが残されるが、光透過窓330と平面的に重なる領域から上層側凹凸形成層53aは除去される。
次に、柱状の下層側凹凸形成層53aを加熱、溶融させて、エッジのない、なだらかな形状の凹凸を備えた凹凸形成層50を形成する。
しかる後には、図3に示すように、成膜工程およびパターニング工程を行って、光透過窓330を備えた光反射層33を形成した後、フォトリソグラフィ技術、フレキソ印刷あるいはインクジェット法を用いて、ブラックマトリクス38、および赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のカラーフィルタ層34(反射表示用のカラーフィルタ層341、透過表示用のカラーフィルタ層342)を形成する。次に、スピンコート法などによりオーバーコート層35を形成した後、成膜工程およびパターニング工程を行って、対向電極36を形成し、しかる後に、フレキソ印刷あるいはスピンコート法を利用して、配向膜37を形成する。その結果、対向基板30が完成する。
なお、このような1層の感光性樹脂層から凹凸形成層50を形成する場合、ハーフ露光を利用してもよい。すなわち、感光性樹脂53を塗布した後、この感光性樹脂53に対して、露光マスク530を介してのハーフ露光、現像、および加熱を行う。この方法では、感光性樹脂53が厚さ方向の途中位置まで露光するので、現像後、感光性樹脂53には厚い部分と薄い部分が形成される。従って、加熱処理を施せば、表面に角張った部分がなく、エッジのない、なだらかな凹凸形状を表面に備えた凹凸形成層50を形成できる。このような方法で凹凸形成層50を形成する場合でも、赤色(R)および緑色(G)のカラーフィルタ層34が形成されている画素11では、光反射層33と平面的に重なる領域、および光透過窓330と平面的に重なる領域の双方に凹凸形成層50を残す一方、青色(B)のカラーフィルタ層34が形成されている画素11では、光反射層33と平面的に重なる領域には凹凸形成層50を残すが、光透過窓330と平面的に重なる領域には凹凸形成層50を残さない。
[その他の実施の形態]
上記形態では、カラーフィルタがストライプ配列された対向基板30において、青色(B)のカラーフィルタ層34が形成されている画素11については、光透過窓330と平面的に重なる領域に凹凸形成層50が形成されていない第2構造の画素としたが、例えば、図8に示すように、対応する色にかかわらず、1つおきに、光透過窓330と平面的に重なる領域に凹凸形成層50が形成されている第1構造の画素と、光透過窓330と平面的に重なる領域に凹凸形成層50が形成されていない第1構造の画素を配置してもよい。
上記形態では、カラーフィルタがストライプ配列された対向基板30において、青色(B)のカラーフィルタ層34が形成されている画素11については、光透過窓330と平面的に重なる領域に凹凸形成層50が形成されていない第2構造の画素としたが、例えば、図8に示すように、対応する色にかかわらず、1つおきに、光透過窓330と平面的に重なる領域に凹凸形成層50が形成されている第1構造の画素と、光透過窓330と平面的に重なる領域に凹凸形成層50が形成されていない第1構造の画素を配置してもよい。
このように構成した場合は、対向基板30の縦方向および横方向の双方において第2構造の画素の両側に第1構造の画素が配置されている。従って、対向基板30の縦方向および横方向のいずれの方向においても、第2構造の画素11が分散しているので、凹凸形成層50の非形成領域55で挟まれた領域56の幅が十分、広い。それ故、このような領域56で凹凸形成層50が剥離することがないので、電気光学装置1の歩留まりや信頼性を向上することができる。
また、上記形態では、カラーフィルタがストライプ配列された対向基板30に本発明を適用したが、カラーフィルタがデルタ配列あるいはモザイク配列された対向基板30に本発明を適用してもよい。
さらに、上記形態では、第2構造の画素において、光反射層33は、凹凸形成層50の非形成領域55の開口縁と略一致する位置まで形成されていたが、図9(A)に示すように、凹凸形成層50の非形成領域55の内周壁を覆うように光反射層33を形成してもよい。このように構成すると、透過モードで表示する際、凹凸形成層50の非形成領域55の内周壁から光が漏れるのを防止することができるので、コントラストを向上することができる。
また、図9(B)に示すように、光反射層33は、凹凸形成層50の非形成領域55の外側領域に形成されている構成を採用してもよい。このように構成すると、光反射層33は、常に凹凸形成層50を下地として形成されるので、光反射層33の剥離や再付着を防止することができる。
なお、上記形態では、アクティブ素子としてTFD素子40を用いた例であったが、アクティブ素子としてTFTを用いた電気光学装置、さらにはパッシブマトリクス型の電気光学装置に本発明を適用してよい。
さらに、エレクトロルミネッセンス表示装置や、プラズマディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイなどといった電子放出素子を用いた表示装置等々の電気光学装置に本発明を適用してもよい。
[電子機器への搭載例]
図10は、本形態の電気光学装置1を搭載した電子機器の一例としての携帯電話の構成を示す斜視図である。
図10は、本形態の電気光学装置1を搭載した電子機器の一例としての携帯電話の構成を示す斜視図である。
図10において、携帯電話1400は、複数の操作ボタン1402のほか、受話口1404、送話口1406とともに、電気光学装置1を備えるものである。この電気光学装置1にも、必要に応じてその背面にバックライト装置が設けられる。
なお、本形態の電気光学装置1を搭載可能な電子機器としては、携帯電話機の他、モバイルコンピュータ、液晶テレビや、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等などが挙げられる。
本発明では、一部の画素については、光透過窓と平面的に重なる領域に凹凸形成層が形成されていない構造とするため、このような画素において、透過モードでの表示の品位は、凹凸形成層の影響を受けずに済むので、透過モードで品位の高いカラー画像を表示することができる。また、光透過窓と平面的に重なる領域に凹凸形成層が形成されていない画素が分散しているため、凹凸形成層の非形成領域で挟まれた領域の幅が十分、広い。従って、このような領域で凹凸形成層が剥離することがないので、歩留まりや信頼性の高い電気光学装置を提供することができる。
1 電気光学装置、9 バックライト装置、10 駆動用液晶セル、11 画素、12 液晶層、20 素子側基板、21 データ線、23 画素電極、30 対向基板、31 走査線、33 光反射層、34 カラーフィルタ層、36 対向電極、40 TFD素子(アクティブ素子)、50 凹凸形成層、55 凹凸形成層の非形成領域、330 光透過窓、341 反射表示用のカラーフィルタ層、342 透過表示用のカラーフィルタ層
Claims (12)
- 電気光学物質を保持する透光性基板上に、少なくとも、透光性を備えた凹凸形成層、および反射モードでの表示を可能とする光反射層がこの順に形成されているとともに、前記光反射層には透過モードでの表示を可能とする光透過窓が多数の画素の各々に形成され、前記多数の画素の各々に対しては、各色の光を出射するための着色手段が構成される電気光学装置用基板において、
前記多数の画素には、前記光透過窓と平面的に重なる領域に前記凹凸形成層が形成されている第1構造の画素と、前記光透過窓と平面的に重なる領域が前記凹凸形成層の非形成領域になっている第2構造の画素とが含まれていることを特徴とする電気光学装置用基板。 - 請求項1において、前記光反射層は、前記第2構造の画素では、前記凹凸形成層の非形成領域の内周壁を覆うように形成されていることを特徴とする電気光学装置用基板。
- 請求項1において、前記光反射層は、前記第2構造の画素では、前記凹凸形成層の非形成領域の外側領域に形成されていることを特徴とする電気光学装置用基板。
- 請求項1ないし3のいずれかにおいて、前記着色手段は、前記透光性基板に対して前記光反射層の上層側に形成されたカラーフィルタ層であることを特徴とする電気光学装置用基板。
- 請求項1ないし4のいずれかにおいて、前記第1構造の画素と前記第2構造の画素とは、対応する色によって区分されていることを特徴とする電気光学装置用基板。
- 請求項5において、前記第2構造の画素は、前記複数色としての赤色、緑色、および青色のうち、青色に対応する画素であることを特徴とする電気光学装置用基板。
- 請求項1ないし4のいずれかにおいて、前記透光性基板の縦方向および横方向のうちの少なくとも一方向では、前記第2構造の画素の両側に前記第1構造の画素が配置されていることを特徴とする電気光学装置用基板。
- 請求項1ないし7のいずれかに規定された電気光学装置用基板によって、電気光学物質が保持されていることを特徴とする電気光学装置。
- 請求項1ないし7のいずれかに規定された電気光学装置用基板と、該電気光学装置用基板に対向配置された別の基板との間に、電気光学物質としての液晶が保持されていることを特徴とする電気光学装置。
- 請求項8または9に規定する電気光学装置を備えていることを特徴とする電子機器。
- 電気光学物質を保持する透光性基板上に、少なくとも、透光性を備えた凹凸形成層、および反射モードでの表示を可能とする光反射層がこの順に形成され、前記光反射層には透過モードでの表示を可能とする光透過窓を多数の画素の各々に形成された電気光学装置用基板の製造方法であって、
前記透光性基板上に塗布した感光性樹脂を選択的に露光した後、現像して前記凹凸形成層を形成する際、
前記多数の画素のうち、特定の画素においては前記光透過窓と平面的に重なる領域から前記凹凸形成層を除去し、その他の画素においては、前記光透過窓と平面的に重なる領域に前記凹凸形成層を残すことを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。 - 電気光学物質を保持する透光性基板上に感光性樹脂を塗布した後、該感光性樹脂を選択的に露光した後、現像して凹凸形成層を形成するための露光マスクであって、
前記透光性基板上にマトリクス状に配列される多数の領域のうち、一部の領域のみについて前記凹凸形成層にベタの非形成領域を設けることが可能なマスクパターンを備えていることを特徴とする露光マスク。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003281912A JP2005049638A (ja) | 2003-07-29 | 2003-07-29 | 電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器、電気光学装置用基板の製造方法、露光マスク |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003281912A JP2005049638A (ja) | 2003-07-29 | 2003-07-29 | 電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器、電気光学装置用基板の製造方法、露光マスク |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005049638A true JP2005049638A (ja) | 2005-02-24 |
Family
ID=34267284
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003281912A Withdrawn JP2005049638A (ja) | 2003-07-29 | 2003-07-29 | 電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器、電気光学装置用基板の製造方法、露光マスク |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005049638A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7639326B2 (en) | 2005-12-05 | 2009-12-29 | Epson Imaging Devices Corporation | Liquid crystal device and electronic apparatus |
-
2003
- 2003-07-29 JP JP2003281912A patent/JP2005049638A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7639326B2 (en) | 2005-12-05 | 2009-12-29 | Epson Imaging Devices Corporation | Liquid crystal device and electronic apparatus |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8009253B2 (en) | Electro-optical device having insulating layer with varying thickness in the reflection and transmission displays | |
JP3744511B2 (ja) | 電気光学装置、電子機器、及び電気光学装置の製造方法 | |
JP2004341213A (ja) | 電気光学装置、電子機器、及び電気光学装置の製造方法 | |
JP2003262856A (ja) | カラーフィルタ基板、電気光学装置及び電子機器、並びにカラーフィルタ基板の製造方法及び電気光学装置の製造方法 | |
JP2004126527A (ja) | カラーフィルタ、電気光学装置、電子機器、およびカラーフィルタ基板の製造方法、ならびに電気光学装置の製造方法 | |
JP2006276108A (ja) | 液晶装置及び電子機器 | |
JP4241265B2 (ja) | 電気光学装置用基板、電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置、電気光学装置の製造方法及び電子機器 | |
JP3695415B2 (ja) | 電気光学パネル用基板、その製造方法、及び電気光学パネル、並びにその製造方法 | |
JP2007199341A (ja) | 電気光学装置及び電子機器 | |
JP3968232B2 (ja) | 電気光学装置及びその製造方法、並びに電子機器 | |
JP2006267782A (ja) | 電気光学装置及び電子機器 | |
JP2006184379A (ja) | 電気光学装置、カラーフィルタ基板および電子機器 | |
JP4258231B2 (ja) | 電気光学装置、およびそれを用いた電子機器 | |
JP2005148477A (ja) | 電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器 | |
JP2004341214A (ja) | 電気光学装置、電子機器、及び電気光学装置の製造方法 | |
JP2005049638A (ja) | 電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器、電気光学装置用基板の製造方法、露光マスク | |
JP4466044B2 (ja) | 電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器 | |
JP2004341215A (ja) | 電気光学装置、電子機器、及び電気光学装置の製造方法 | |
JP2005049776A (ja) | 電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器、電気光学装置用基板の製造方法 | |
JP2005148305A (ja) | 電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器 | |
JP2007072016A (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2007094030A (ja) | 液晶装置および電子機器 | |
JP2005084513A (ja) | 電気光学装置、およびそれを備えた電子機器 | |
JP2006053287A (ja) | 電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器 | |
JP2005062625A (ja) | 光反射性基板の製造方法、電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20061003 |