JP2004341213A - 電気光学装置、電子機器、及び電気光学装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】フォトリソグラフィ処理等によって形成されるスペーサ及びカラーフィルタを構成する着色層を有する液晶装置に関して、この液晶装置の表示画面が押圧されるときの耐圧を高く維持しつつ、基板の組み合わせズレや、アライメント時の位置ズレ等が発生する場合でも表示品質が低下するのを防止する。
【解決手段】基板４ｂ上に形成された複数のスペーサ１４と、対向基板に形成された複数のＲ色着色層１８Ｒ、Ｇ色着色層１８Ｇ及びＢ色着色層１８Ｂと、それらの着色層の間に設けられた遮光層１７とを有する液晶装置である。複数のスペーサ１４は、各着色層１８の周囲に設けられ、各色着色層に対応して寸法がＺｇ＜Ｚｂ 及び Ｚｇ＜Ｚｒ、望ましくはＺｇ＜Ｚｒ＜Ｚｂに設定される。基板の組みズレが生じても、スペーサ１４がＧ色領域に入り込むのを抑えることができる。
【選択図】 図４

Description

【発明の属する技術分野】
本発明は、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色着色層によって構成されるカラーフィルタと、フォトリソグラフィ処理等といったパターン形成法を用いて形成される複数のスペーサとを有する電気光学装置及び電子機器に関する。また、本発明は、その電気光学装置を製造するための電気光学装置の製造方法に関する。
【従来の技術】
液晶装置は、一般に、一対の基板の間に液晶層を介在させ、その液晶層内に存在する液晶分子の配向を表示の最小単位である表示ドットごとに制御し、液晶層を通過する光をその液晶分子によって表示ドットごと変調することにより、光の進行方向に沿った液晶層の下流側位置に文字、数字、図形等といった像を表示する。
この液晶装置においては、液晶層を形成するために、一対の基板間に間隙、いわゆるセルギャップを形成する必要がある。このセルギャップを形成するため、従来、一対の基板の一方に球状の部材であるスペーサを散在させた上で、一対の基板を貼り合わせる構造が知られている。
また、最近では、フォトリソグラフィ処理等を利用したパターン形成法によって一方の基板上に複数の突起状のスペーサを形成し、このスペーサを間に挟んで一対の基板を貼り合わせるという構造が提案されている。このようなスペーサは、柱状スペーサと呼ばれることもある。
このようにフォトリソグラフィ処理等によってスペーサを形成する場合、そのスペーサのまわりにおいては液晶分子の配向が乱れるので、光抜け等といった表示不良が発生し易く、従って、スペーサは非表示領域である遮光領域、いわゆるブラックマスク領域に形成されることが多い。
また、フォトリソグラフィ処理等によって形成されたスペーサを有する液晶装置においては、液晶分子の配向を決めるための配向膜は、一般に、基板上に複数のスペーサを形成した後に、そのスペーサの上に印刷等によって設けられる。そしてその配向膜に対して配向処理、例えばラビングが行われる。このラビングを行う場合、配向膜がスペーサの所で突出していると、均一なラビングを行うことが難しい。例えば、ラビング方向に見てスペーサの下流側にラビングが不十分になる領域が発生する。
このように、スペーサの存在に関連してラビングが不十分になる領域が発生した場合にもコントラストの高い表示を確保するために、種々の方法が提案されている。例えば、表示に寄与しない領域であるブラックマスクをラビングが不十分になる領域に一致させて形成することにより、表示品質が低下するのを防止する技術が知られている（例えば、特許文献１参照）。また、ラビング方向に見てスペーサの下流側にＲの画素又はＢの画素が来るようにスペーサを形成するようにした液晶装置も知られている（例えば、特許文献２参照）。
【特許文献１】
特開２００１−１５９７５５号公報（第５頁、図１）
【特許文献２】
特開２００２−２１４６２１号公報（第４頁、図２）
【発明が解決しようとする課題】
ところで、液晶装置の表示画面が押し付けられるとセルギャップが変化して表示が乱れるおそれがある。また、場合によっては、液晶装置のパネル構造が破損するおそれがある。これを防止するためには、スペーサの数を多くしたり、個々のスペーサの平面断面寸法を大きくしたりすることが効果的である。しかしながら、スペーサの数を無制限に多くしたり、個々のスペーサの平面断面寸法を無制限に大きくしたりすると、以下の事態が大きな問題となってくる。
液晶装置を製造する際には、例えば、一対の基板の一方にカラーフィルタを形成し、他方にスペーサを形成し、両方の基板をスペーサを間に挟んで貼り合わせ、スペーサによって維持される基板間隙に液晶を注入して液晶層を形成するという一連の工程が実施される。この場合、一対の基板を貼り合わせるときに、それらの基板の相対的な位置が平面的にずれることがある。こうなると、本来であればブラックマスクの所、すなわち遮光領域に在るべきスペーサがカラーフィルタの着色層の部分に位置するという事態が発生し、このため、コントラストが低下する等といった表示品質の低下が発生するおそれがある。
また、他の構造の液晶装置として、一対の基板の一方にカラーフィルタを形成し、その同じ基板にスペーサも形成するという液晶装置がある。この液晶装置を製造する際には、基板上の適所に形成したアライメントマークを基準として所定位置にカラーフィルタを形成し、さらにその後、同じアライメントマーク又は別のアライメントマークを基準として所定位置にスペーサを形成する。この場合、アライメントマークを基準とする位置決めのときにその位置がずれることがある。こうなると、本来であればブラックマスク領域に在るべきスペーサがカラーフィルタの着色層の部分に位置するという事態が発生し、このため、コントラストが低下する等といった表示品質の低下が発生するおそれがある。
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、フォトリソグラフィ処理等によって形成されるスペーサ及びカラーフィルタを構成する着色層を有する液晶装置をはじめとする電気光学装置に関して、この電気光学装置の表示画面が押圧されるときの耐圧を高く維持しつつ、基板の組み合わせズレや、アライメント時の位置ズレ等が発生する場合でも表示品質が低下するのを防止することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
（１）上記の目的を達成するため、本発明に係る電気光学装置は、互いに対向する一対の基板と、該一対の基板のいずれか一方に設けられ、平面的に所定配列で並べられた複数のＲ色着色層、複数のＧ色着色層及び複数のＢ色着色層と、前記複数のＲ色着色層、Ｇ色着色層及びＢ色着色層の間に設けられた遮光層と、前記一対の基板のいずれかに設けられ、対向する基板に向かって突出する複数のスペーサとを有し、前記複数のスペーサは、
▲１▼ 前記Ｇ色着色層の周囲の前記遮光層内及び前記Ｂ色着色層の周囲の前記遮光層内に設けられるか、又は
▲２▼ 前記Ｇ色着色層の周囲の前記遮光層内及び前記Ｒ色着色層の周囲の前記遮光層内に設けられるか、又は
▲３▼ 前記Ｇ色着色層の周囲の前記遮光層内、前記Ｂ色着色層の周囲の前記遮光層内及び前記Ｒ色着色層の周囲の前記遮光層内に設けられ、さらに
前記Ｇ色着色層の周囲にあるスペーサの前記遮光層の幅方向の寸法をＺｇとし、前記Ｂ色着色層の前記遮光層の幅方向の寸法をＺｂとし、前記Ｒ色着色層の前記遮光層の幅方向の寸法をＺｒとするとき、
Ｚｇ＜Ｚｂ 及び Ｚｇ＜Ｚｒ
であることを特徴とする。
この電気光学装置によれば、２色の着色層の周囲又は３色の着色層の周囲にスペーサが設けられるので、１色の着色層の周囲だけにスペーサが設けられる場合に比べて、電気光学装置のパネル構造部分の耐圧を高く維持できる。
また、この電気光学装置によれば、Ｇ色着色層の周囲に設けられるスペーサがＢ色着色層及び／又はＲ色着色層の周囲に設けられるスペーサよりも小さく形成されるので、仮に、電気光学装置の製造時に基板の組みズレや、アライメント時の位置ズレ等が発生した場合には、スペーサがＢ色着色層やＲ色着色層の領域に入ることはあっても、Ｇ色着色層の領域には入らないようにすることができる。
ところで、人間がＲ，Ｇ，Ｂの各色の光を見る場合、それらの光のエネルギー量が同じであっても、感じる明るさは波長によって異なることが知られている。具体的には、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色の光のエネルギーが同じでも、それらの明るさはＧ＞Ｒ＞Ｂである。このことは、Ｇ色領域に何等かの変化がある場合は、Ｒ色領域やＢ色領域に何等かの変化がある場合に比べて、人間が感じる明るさの変化が非常に大きいということである。
以上に記載した本発明に係る電気光学装置では、基板の組みズレ等に応じてスペーサの位置がずれる場合でも、スペーサは明るさの変化が大きいＧ色領域に入ることは無く、着色領域に入ったとしてもその着色領域はＢ色又はＲ色に限られるので、明るさが大きく変化することが無くなる。このため、コントラストの低下を抑えることができる。しかも、Ｂ色着色層及びＲ色着色層の周囲のスペーサの平面断面の大きさはできる限り大きく設定するので、パネル構造の耐圧を高く維持できる。
（２） 上記構成の電気光学装置において、Ｒ色着色層の周囲のスペーサの平面断面寸法寸法Ｚｒは、Ｂ色着色層の周囲の平面断面寸法Ｚｂよりも小さく設定すること、すなわちＺｒ＜Ｚｂに設定することが望ましい。
光の３原色Ｒ，Ｇ，Ｂに関しては、各色の光のエネルギーが同じでも、それらの明るさはＧ＞Ｒ＞Ｂである。従って、Ｂ色着色層にスペーサが入り込む場合に比べて、Ｒ色着色層にスペーサが入り込む場合の方が、表示におけるコントラストが低下する可能性が高い。このため、Ｚｒ＜Ｚｂに設定すれば、基板の組みズレ等があったときにスペーサがＲ色着色層に入り込む可能性をより小さくできるので、基板の組ズレ等に対する表示の劣化を防止することに関して有利である。
（３） 上記構成の電気光学装置において、Ｒ，Ｇ，Ｂの３つの表示ドットの集まりである１画素の面積をＡとし、前記スペーサの１つの平面断面積をＳとし、１画素内に存在する前記スペーサの数をρとするとき、画素に対するスペーサの面積比Ｒは、
Ｒ＝（ρ×Ｓ）／Ａ ＞ ２×１０^−３
であるこが望ましい。これにより、電気光学装置のパネル構造の押圧に対する耐圧を実用上十分な大きさに維持できる。
（４） 上記構成の電気光学装置において、前記遮光層の幅が約１０μｍであるとき、
Ｚｇ≒６μｍ、Ｚｒ≒１０μｍ、Ｚｂ≒１４μｍ
であることが望ましい。この寸法は、電気光学装置の製造時における基板の組みズレが４μｍ程度又はそれ以下に抑えられるときに望ましい寸法である。
（５） 上記構成の電気光学装置において、前記スペーサは、前記Ｒ色着色層、前記Ｇ色着色層及び前記Ｂ色着色層が設けられた基板に対向する基板に形成されるこが望ましい。
この電気光学装置においては、一対の基板を貼り合わせたときに、スペーサと各色着色層との間の相対的な位置関係が決定する。基板の貼り合わせ時に位置ズレが生じた場合、スペーサはＢ色着色層の領域及びＲ色着色層の領域に入ることの可能性は高くても、Ｇ色着色層の領域に入ることの可能性は低く抑えられる。これにより、基板の組みズレが発生した場合のコントラストの低下を防止できる。
（６） 上記構成の電気光学装置において、前記スペーサは、前記Ｒ色着色層、前記Ｇ色着色層及び前記Ｂ色着色層が設けられた基板と同じ基板に形成されることが望ましい。
この電気光学装置においては、１つの基板の適所に予めアライメントマークを設けておき、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色着色層を希望の位置に形成する際には、そのアライメントマークを基準として位置決めを行う。また、着色層の形成が終わって、その後に、スペーサをフォトリソグラフィ処理等によって形成する際には、同じアライメントマーク又は別のアライメントマークを用いてスペーサの位置決めが行われる。このようにスペーサを位置決めした時点で、スペーサと各色着色層との間の相対的な位置関係が決定する。アライメント時に位置ズレが生じた場合、スペーサはＢ色着色層の領域及びＲ色着色層の領域に入る可能性は高いが、Ｇ色着色層の領域に入る可能性は低く抑えられる。このため、コントラストの低下を防止できる。
（７） 次に、本発明に係る電子機器は、以上に記載した構成の電気光学装置と、該電気光学装置の動作を制御する制御手段とを有することを特徴とする。この電子機器において、電気光学装置は、例えば電子機器に関する種々の表示を行う際に用いられる。本電気光学装置によれば、コントラストの低下を防止して、高い表示品質を達成できるので、電子機器における表示も高い表示品質で行うことができる。
このような電子機器としては、パーソナルコンピュータ、携帯電話機、デジタルスチルカメラ、腕時計型情報機器、ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ Ｄｉｇｉｔａｌ Ａｓｓｉｓｔａｎｔ）、液晶テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、ＰＯＳ端末器等が考えられる。
（８） 次に、本発明に係る電気光学装置の製造方法は、以上に記載した構成の電気光学装置であって、スペーサが、Ｒ色着色層、Ｇ色着色層及びＢ色着色層が設けられた基板に対向する基板に形成される構造の電気光学装置を製造するための製造方法において、前記スペーサが形成された基板と、前記Ｒ色着色層、前記Ｇ色着色層及び前記Ｂ色着色層が形成された基板とを貼り合せる工程を有することを特徴とする。
この電気光学装置の製造方法においては、一対の基板を貼り合せたときに、スペーサと各色着色層との間の相対的な位置関係が決定する。基板の貼り合わせ時に位置ズレが生じた場合、スペーサはＢ色着色層の領域及びＲ色着色層の領域に入る可能性は高いが、Ｇ色着色層の領域に入る可能性は低い。これにより、コントラストの低下を防止できる。
（９） 次に、本発明に係る電気光学装置の製造方法は、以上に記載した構成の電気光学装置であって、スペーサが、Ｒ色着色層、Ｇ色着色層及びＢ色着色層が設けられた基板と同じ基板に形成される構造の電気光学装置を製造するための製造方法において、前記Ｒ色着色層、前記Ｇ色着色層及び前記Ｂ色着色層が設けられた基板上にアライメントマークを基準として前記スペーサを形成する工程を有することを特徴とする。
この電気光学装置の製造方法においては、１つの基板の適所に予めアライメントマークを設けておき、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色着色層を希望の位置に形成する際には、そのアライメントマークを基準として位置決めを行う。また、着色層の形成が終わって、その後に、スペーサをフォトリソグラフィ処理等によって形成する際には、同じアライメントマーク又は別のアライメントマークを用いてスペーサの位置決めが行われる。このようにスペーサを位置決めした時点で、スペーサと各色着色層との間の相対的な位置関係が決定する。アライメント時に位置ズレが生じた場合、スペーサはＢ色着色層の領域及びＲ色着色層の領域に入る可能性は高いが、Ｇ色着色層の領域に入る可能性は低い。これにより、コントラストの低下を防止できる。
【発明の実施の形態】
（電気光学装置の第１実施形態）
以下、本発明に係る電気光学装置を、ＴＦＤ素子をアクティブ素子として用いる構造の半透過反射方式の液晶装置を例示して挙げて説明する。ここで、半透過反射方式とは、太陽光、室内光等といった外部光を反射層で反射させて表示を行う反射型表示と、バックライトから放射されて基板を透過した光を用いて表示を行う透過型表示の両方を実現できる表示方式である。なお、本発明を適用できる電気光学装置がこの実施形態に限定されるものでないことは、もちろんである。図１において、液晶装置１は、液晶パネル２と、それに組みつけられる照明装置３とを有する。液晶パネル２は、第１基板４ａと第２基板４ｂとを環状のシール材６によって貼り合わせることによって形成されている。第１基板４ａと第２基板４ｂとの間には、図２に示すように、スペーサ１４によって維持される隙間、いわゆるセルギャップ１２が形成され、このセルギャップ１２内に液晶が封入されて液晶層１３が形成されている。
図２において、第１基板４ａは、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成された第１基材１１ａを有する。その第１基材１１ａの液晶側表面には樹脂層１５が形成され、その上に反射層１６が形成される。また、反射層１６の上には遮光層１７が形成され、さらに、矢印Ａ方向から平面的に見てそれらの遮光層１７の間に複数の着色層１８が形成される。
図２に示す断面構造では、着色層１８は加法混色の３原色の１色であるＢ（青）色の着色層だけが示されているが、実際には、その他の２色であるＲ（赤）色及びＧ（緑）色の着色層１８が矢印Ａ方向から見てＢ色着色層１８と異なる平面位置に設けられる。これらＲ，Ｇ，Ｂの各色の複数の着色層１８は適宜の平面的な配列状態に配置されるが、本実施形態では例えば、図５に示すようなストライプ配列に配置されている。
このストライプ配列は、図５の縦方向に同色が１列に並び、横方向にＲ，Ｇ，Ｂが交互に繰り返して並ぶ配列である。また、遮光層１７は、図５に示すように、各着色層１８を囲むように格子状に形成されている。なお、各着色層１８の左上隅部分が切り欠かれて遮光層１７の領域が広くなっているのは、この部分に対応してアクティブ素子を配置させるためである。遮光層１７は、本実施形態では、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色着色層１８を積み重ねることによって形成されている。しかしながら、この遮光層１７は、適宜の遮光性材料、例えばＣｒを適宜のパターニング手法、例えばフォトリソグラフィ処理を用いた方法等によって格子状にパターニングすることによって形成することもできる。
図２に戻って、遮光層１７及び着色層１８の上にはオーバーコート層１９が形成され、その上に、帯状の透明電極２１ａが形成され、その上に配向膜２２ａが形成される。配向膜２２ａには配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、その配向膜２２ａの近傍の液晶分子の配向が決められる。また、第１基材１１ａの外側表面には、図１において偏光板２３ａが貼着等によって装着されている。１本の帯状の透明電極２１ａは、図２で紙面に対して直角方向へ延びており、隣り合う電極２１ａの間に遮光層１７が位置している。これにより、複数の電極２１ａは、矢印Ａ方向から見てストライプ状に形成されている。
図２において、樹脂層１５は第１層１５ａ及びその上に積層された第２層１５ｂを有する。これらの層は同じ材料によって形成できる。第１層１５ａの表面にはドット部としての複数の凹部２４が矢印Ａ方向から見て平面的に不規則、すなわちランダムに配置されている。このため、第１層１５ａの上に積層された第２層１５ｂの表面には、これらの凹部２４及びそれに隣接する凸部に対応して凹凸が形成されている。第１層１５ａの表面に形成される凹凸は粗い状態であり、これに第２層１５ｂを積層することにより滑らかな凹凸が得られる。第２層１５ｂの表面、すなわち樹脂層１５の表面に凹凸を設けたことにより、その樹脂層１５に積層された反射層１６の表面にも凹凸が形成される。この凹凸の存在により、反射層１６に入射した光は散乱光となって反射する。
図２において、第１基板４ａに対向する第２基板４ｂは、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成された第２基材１１ｂを有する。その第２基材１１ｂの液晶側表面には、図の左右方向へ延びる線状のライン配線２６と、アクティブ素子としての複数のＴＦＤ素子２７と、複数の透明なドット電極２１ｂとが形成される。また、個々のドット電極２１ｂの間であって遮光層１７に対応する位置に複数のスペーサ１４が設けられ、さらに、以上の各要素の上に配向膜２２ｂが形成されている。配向膜２２ｂに配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、その配向膜２２ｂの近傍の液晶分子の配向が決められる。第１基板４ａ側の配向膜２２ａのラビング方向と第２基板４ｂ側の配向膜２２ｂのラビング方向は、液晶の特性に応じて適宜の角度で交差するようになっている。また、第２基材１１ｂの外側表面には、図１において偏光板６３ｂが貼着等によって装着されている。
さて、図１（ａ）は、液晶パネル２の内部における微小領域の平面構造であって、第２基板４ｂ側に形成されるドット電極２１ｂ及びＴＦＤ素子２７を第２基材１１ｂを省略した状態で実線で示し、さらに、第１基板４ａ側に形成される帯状電極２１ａを鎖線で示している。ドット電極２１ｂは、図示のように、正方形又は長方形に近いドット形状に形成されており、ＴＦＤ素子２７を介してライン配線２６に接続されている。なお、図２は、図１（ａ）のＢ−Ｂ線に従った断面図に相当する。
図１（ａ）に示すように、第１基板４ａ側の帯状電極２１ａは、第２基板４ｂ側のライン配線２６と直角の方向に延在し、且つそれと直角な方向に互いに間隔をおいて平行に、すなわち全体としてストライプ状に形成されている。また、個々の帯状電極２１ａは、ライン配線２６と直角の方向に列状に並ぶ複数のドット電極２１ｂに対向するように形成される。そして、ドット電極２１ｂと帯状電極２１ａとが重なる領域が、表示の最小単位である表示ドットＤを構成する。
図２の反射層１６には、図５に示すように、個々の表示ドットＤに対応して光通過用の開口２８が設けられている。これらの開口２８は、反射層１６に光を透過させる機能を持たせるための構成であるが、この開口２８を設ける代わりに反射層１６の厚さを薄くして、光を反射する機能と光を透過させる機能の両方を持たせるようにすることもできる。図２において、開口２８に対応する領域が光透過領域Ｔであり、その周りの反射層１６が存在する領域が光反射領域Ｒである。図５に示すように、個々の着色層１８は表示ドットＤに対応して設けられている。着色層１８を用いない白黒表示の場合は１つの表示ドットＤによって１つの画素が形成されるが、本実施形態のように３色の着色層１８を用いてカラー表示を行う構造の場合には、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色に対応する３つの着色層１８の集まりによって１つの画素が形成される。
ＴＦＤ素子２７は、図３に示すように、第１ＴＦＤ要素２７ａと第２ＴＦＤ要素２７ｂとを直列に接続することによって形成されている。このＴＦＤ素子２７は、例えば、次のようにして形成される。すなわち、まず、Ｔａ（タンタル）によってライン配線２６の第１層２６ａ及びＴＦＤ素子２７の第１金属３１を形成する。次に、陽極酸化処理によってライン配線２６の第２層２６ｂ及びＴＦＤ素子２７の絶縁膜３２を形成する。次に、例えばＣｒ（クロム）によってライン配線２６の第３層２６ｃ及びＴＦＤ素子２７の第２金属３３を形成する。
第１ＴＦＤ要素２７ａの第２金属３３はライン配線２６の第３層２６ｃから延びている。また、第２ＴＦＤ要素２７ｂの第２金属３３の先端に重なるように、ドット電極２１ｂが形成される。ライン配線２６からドット電極２１ｂへ向けて電気信号が流れることを考えれば、その電流方向に沿って、第１ＴＦＤ要素２７ａでは第２電極３３→絶縁膜３２→第１金属３１の順に電気信号が流れ、一方、第２ＴＦＤ要素２７ｂでは第１金属３１→絶縁膜３２→第２金属３３の順に電気信号が流れる。
つまり、第１ＴＦＤ要素２７ａと第２ＴＦＤ要素２７ｂとの間では電気的に逆向きの一対のＴＦＤ要素が互いに直列に接続されている。このような構造は、一般に、バック・ツー・バック（Ｂａｃｋ−ｔｏ−Ｂａｃｋ）構造と呼ばれており、この構造のＴＦＤ素子は、ＴＦＤ素子を１個のＴＦＤ要素だけによって構成する場合に比べて、安定した特性を得られることが知られている。
図１において、第２基板４ｂは第１基板４ａの外側に張り出す張出し部３６を有し、その張出し部３６の第１基板４ａ側の表面には配線３７及び端子３８が形成されている。これらの配線３７及び端子３８が集まる領域に１つの駆動用ＩＣ３９ａ及び２つの駆動用ＩＣ３９ｂが図示しないＡＣＦ（Ａｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃ Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ Ｆｉｌｍ：異方性導電膜）によって実装されている。
配線３７及び端子３８は第２基板４ｂ上にライン配線２６やドット電極２１ｂを形成するときに同時に形成される。なお、ライン配線２６は張出し部３６の上にそのまま延び出て配線３７となって、駆動用ＩＣ３９ａに接続されている。また、第１基板４ａと第２基板４ｂとを接着するシール材６の内部には球形又は円筒形の導通材（図示せず）が混入されている。第１基板４ａ上に形成された帯状電極２１ａは第１基板４ａの上でシール材６の所まで引き回された後、シール材６中の導通材を介して第２基板４ｂ上の配線３７に接続されている。これにより、第１基板４ａ上の帯状電極２１ａは第２基板４ｂ上の駆動用ＩＣ３９ｂに接続されている。
図１において、液晶パネル２を構成する第１基板４ａの外側表面に対向して配設された照明装置３は、例えば、透明なプラスチックによって形成された方形状で板状の導光体４１と、点状光源としてのＬＥＤ４２とを有する。導光体４１のうち液晶パネル２と反対側の面には光反射シート（図示せず）を装着することができる。また、導光体４１のうち液晶パネル２に対向する面には光拡散シート（図示せず）を装着することができる。また、光拡散シートの上に、さらに、プリズムシート（図示せず）を装着することもできる。
ＬＥＤ４２は本実施形態では３個使用されているが、ＬＥＤ４２は必要に応じて１個とすることもでき、あるいは、３個以外の複数個とすることもできる。また、ＬＥＤ等といった点状光源に代えて、冷陰極管等といった線状光源を用いることも出来る。
以下、上記構成より成る液晶装置に関してその動作を説明する。
太陽光、室内光等といった外部光が十分な場合、図２に矢印Ｆで示すように、外部光が第２基板４ｂを通して液晶パネル２の内部へ取り込まれ、この外部光が液晶層１３を通過した後に反射膜１６で反射して液晶層１３へ供給される。
他方、外部光が不十分である場合には、照明装置３を構成するＬＥＤ４２（図１参照）を点灯する。このとき、ＬＥＤ４２から点状に出た光は導光体４１の入光面４１ａから該導光体４１の内部へ導入され、その後、液晶パネル２に対向する面、すなわち光出射面４１ｂから面状に出射する。このようにして光出射面４１ｂの各所から出射する光が、図２において矢印Ｇで示すように反射膜１６に形成した開口２８を通って面状の光として液晶層１３へ供給される。
以上のようにして液晶層１３へ光が供給される間、液晶パネル２に関しては、駆動用ＩＣ３９ａ及び３９ｂ（図１参照）によって制御されて、ライン配線２６に例えば走査信号が供給され、同時に、帯状電極２１ａに例えばデータ信号が供給される。このとき、走査信号とデータ信号との電位差に応じて特定表示ドットに付属するＴＦＤ素子２７が選択状態（すなわち、オン状態）になると、その表示ドット内の液晶容量に映像信号が書き込まれ、その後、当該ＴＦＤ素子２７が非選択状態（すなわち、オフ状態）になると、その信号は当該表示ドットに蓄えられて当該表示ドット内の液晶層を駆動する。
こうして、液晶層１３内の液晶分子が表示ドットごとに制御され、それ故、液晶層１３を通過する光が表示ドットＤごとに変調される。そして、このように変調された光が第２基板４ｂ側の偏光板６３ｂを通過することにより、液晶パネル２の有効表示領域内に文字、数字、図形等といった像が表示される。反射層１６で反射する外部光を利用して行われる表示が反射型表示である。また、照明装置３からの光を利用して行われる表示が透過型表示である。本実施形態では、それらの反射型表示及び透過型表示を使用者の希望に応じて、あるいは外部環境の変化に応じて自動的に選択する。
以上の構成から成る液晶装置において、スペーサ１４は、例えば感光性樹脂等を材料として、例えばフォトリソグラフィ処理等を用いたパターニング処理によって、例えば頂部が欠けた円錐形状、頂部が欠けた角錐形状、その他任意の形状に形成される。本実施形態では、頂部が欠けた角錐形状であって、第１基板４ａ側が面積の狭い頂部側であり、第２基板４ｂ側が面積の広い底面側である形状に形成する場合を示している。
また、スペーサ１４は、図４に示すように、ストライプ配列で配置されたＲ，Ｇ，Ｂの各色着色層１８（Ｒ），１８（Ｇ），１８（Ｂ）のそれぞれの周囲に形成されている。なお、図では各着色層の１辺に対してスペーサ１４が１つずつ設けられているが、スペーサ１４は各着色層間に複数個ずつ設けるようにしても良い。
また、Ｇ色着色層１８（Ｇ）の周囲にあるスペーサ１４の遮光層１７の幅方向の寸法をＺｇとし、Ｂ色着色層１８（Ｂ）の遮光層１７の幅方向の寸法をＺｂとし、Ｒ色着色層１８（Ｒ）の遮光層１７の幅方向の寸法をＺｒとするとき、
Ｚｇ＜Ｚｂ 及び Ｚｇ＜Ｚｒ……（１）
望ましくは、
Ｚｇ＜Ｚｒ＜Ｚｂ……（２）
に設定される。
本実施形態の液晶装置を製造する際には、図５の第１基板４ａと図４の第２基板４ｂとをシール材６（図１参照）によって貼り合わせる。このときには、例えば、第１基板４ａ側の適所に設けた第１マークと、第２基板４ｂ側の適所に設けた第２マークとを比べながら、それらが一定の位置関係になるように、両基板４ａ及び４ｂを貼り合わせる。両基板が正規の状態で貼り合わせられた場合には、図５に示すように、各スペーサ１４は、各着色層１８の周囲の遮光層１７内に位置することになる。
しかしながら、液晶装置の製造の際、第１基板４ａと第２基板４ｂとの貼り合わせは常に両者の相対位置がずれることなく行われるわけではなく、両者の間に許容範囲内で位置ズレが発生することは仕方がない。このような基板の位置ズレが生じる場合には、スペーサ１４が遮光層１７から外れて着色層１８の領域内に入り込む可能性がある。
ところで、人間がＲ，Ｇ，Ｂの各色の光を見る場合、それらの光のエネルギー量が同じであっても、感じる明るさは波長によって異なることが知られている。具体的には、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色の光のエネルギーが同じでも、それらの明るさはＧ＞Ｒ＞Ｂである。このことは、Ｇ色領域に何等かの変化がある場合は、Ｒ色領域やＢ色領域に何等かの変化がある場合に比べて、人間が感じる明るさの変化が非常に大きいということである。例えば、スペーサ１４がＧ色領域に入った場合には、光り抜けの影響がＲ色領域やＢ色領域に比べて大きく現れ、コントラストが大きく低下することが考えられる。
このことに関し、本実施形態では、上記（１）式のように、
Ｚｇ＜Ｚｂ 及び Ｚｇ＜Ｚｒ
に設定したので、基板の組みズレが生じる場合、スペーサ１４はＢ色着色層１８（Ｂ）やＲ色着色層１８（Ｒ）に入り込む可能性は高いが、Ｇ色着色層１８（Ｒ）に入り込む可能性は低く抑えられる。従って、基板の組みズレによってスペーサ１４の位置に変動が生じる場合でも、コントラストの低下を極力抑えることができる。
さらに本実施形態では、上記の式（２）のように、
Ｚｇ＜Ｚｒ＜Ｚｂ
に設定したので、スペーサ１４がＲ色領域に入り込む可能性をＢ色領域に入り込む可能性よりも低くなるようにした。これにより、基板の組みズレによってスペーサ１４の位置に変動が生じる場合のコントラストの低下を、さらに一層低く抑えることができる。
ところで、一般に、Ｒ，Ｇ，Ｂの３つの表示ドットＤの集まりである１画素の面積をＡとし、１つのスペーサ１４の第２基材１１ｂに接する所の平面断面積をＳとし、１画素内に存在するスペーサ１４の数をρとするとき、画素に対するスペーサ１４の面積比Ｒは、
Ｒ＝（ρ×Ｓ）／Ａ ……（３）
で表すことができる。液晶装置の表示画面が押し付けられる場合、その押圧力がある値を超えると液晶装置による正常な表示ができなくなる。液晶装置が正常な機能を維持できる押圧力の最大値が耐圧である。本発明者は、図２に示す構造の液晶パネル２に関して、上記の式（３）で示すＲ値と当該液晶パネル２の耐圧との関係を調査した。その結果、
Ｒ＞ ２×１０^−３……（４）
となるようにスペーサ１４を形成することが実用的に最も望ましいことを知見した。
また、本発明者は、スペーサ１４の寸法を実際にどのように設定するのが良いかを検討した。その結果、図４において遮光層１７の幅をＷ＝約１０μｍに設定すると共に、図１の液晶装置１の製造時に、第１基板４ａと第２基板４ｂとを貼り合わせる際の許容誤差を４μｍ以下とする場合には、
Ｚｇ＝約６μｍ、Ｚｒ＝約１０μｍ、Ｚｂ＝約１４μｍ
に設定することが望ましいことを知見した。
以上のように、本実施形態の液晶装置では、Ｒ，Ｇ，Ｂの全ての着色層１８に対してスペーサ１４を設けたので、液晶パネルの耐圧を高く維持できる。しかも、Ｇ色着色層１８（Ｇ）の周囲のスペーサ１４の断面寸法を小さくしたので、基板の組ズレが発生してもコントラストの低下を抑えることができる。さらに、コントラストの低下にあまり大きく影響しないＲ色着色層１８（Ｒ）及びＢ色着色層１８（Ｂ）の周囲に設けられるスペーサ１４はできる限り大きく形成したので、液晶パネルの耐圧を大きくすることができる。
なお、以上の実施形態では、図４に示したように、スペーサ１４の平面断面形状を正方形としたが、これに代えて、円形、長方形、ひし形、楕円形、長円形、その他任意の断面形状とすることができる。
（電気光学装置の第２実施形態）
図６は、本発明に係る電気光学装置の他の実施形態を示しており、特に、スペーサ１４と着色層１８との相互の位置関係を示している。この実施形態では、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色着色層１８が斜めモザイク配列、すなわちダイアゴナル配列で配置されている。この斜めモザイク配列では、左上から右下の斜め方向に沿ってＲ，Ｇ，Ｂの同色が並べられ、横列方向に沿ってＲ，Ｇ，Ｂが交互に並べられる。この斜めモザイク配列に対して、スペーサ１４は、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色着色層１８の周囲に設けられている。また、Ｇ色着色層１８（Ｇ）の周囲のスペーサ１４の断面寸法は小さく、且つ、Ｂ色着色層１８（Ｂ）又はＲ色着色層１８（Ｒ）の周囲のスペーサ１４の断面寸法は大きく設定されている。スペーサ１４を着色層１８に対してこのように設けたので、仮に、一対の対向基板間に相対的な位置ズレが発生しても、スペーサ１４がＧ色領域に入り込む可能性を低く抑えることができ、よって、表示におけるコントラスの低下を抑えることができる。しかも、Ｇ色領域以外ではスペーサ１４の断面寸法を大きくしたので、液晶パネルの耐圧を大きく維持できる。
なお、図６の実施形態では、各着色層１８の間にスペーサ１４を１つずつ形成したが、各着色層１８の間に複数のスペーサ１４を形成しても良い。
（電気光学装置の第３実施形態）
図７は、本発明に係る電気光学装置のさらに他の実施形態を示しており、特に、スペーサ１４と着色層１８との相互の位置関係を示している。この実施形態では、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色着色層１８がペンタイル配列で配置されている。このペンタイル配列では、Ｂ色着色層１８（Ｂ）が縦方向に１列に並び、一対のＢ色着色層１８（Ｂ）の縦列の間でＲ色着色層１８（Ｒ）とＧ色着色層１８（Ｇ）とが互いに違い並べられている。
このペンタイル配列に対して、スペーサ１４は、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色着色層１８の周囲に設けられている。また、Ｇ色着色層１８（Ｇ）の周囲のスペーサ１４の断面寸法は小さく、且つ、Ｂ色着色層１８（Ｂ）同士の間のスペーサ１４の断面寸法は大きく設定されている。スペーサ１４を着色層１８に対してこのように設けたので、仮に、一対の対向基板間に相対的な位置ズレが発生しても、スペーサ１４がＧ色領域に入り込む可能性を低く抑えることができ、よって、表示におけるコントラスの低下を抑えることができる。しかも、Ｇ色領域以外ではスペーサ１４の断面寸法を大きくしたので、液晶パネルの耐圧を大きく維持できる。
なお、図７の実施形態では、各着色層１８の間にスペーサ１４を１つずつ形成したが、各着色層１８の間に複数のスペーサ１４を形成しても良い。
（電気光学装置の第４実施形態）
図８は、本発明に係る電気光学装置のさらに他の実施形態を示しており、特に、スペーサ１４と着色層１８との相互の位置関係を示している。この実施形態では、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色着色層１８がペンタゴナル配列で配置されている。このペンタゴナル配列では、横列方向に沿ってＲ，Ｇ，Ｂが交互に繰り返して並び、縦列方向に沿ってＲ，Ｇ，Ｒ，Ｇ，……の１列、Ｇ，Ｂ，Ｇ，Ｂ，……の１列、そしてＢ，Ｒ，Ｂ，Ｒ，……の１列がそれぞれ並んでいる。
このペンタゴナル配列に対して、スペーサ１４は、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色着色層１８の周囲に設けられている。また、Ｇ色着色層１８（Ｇ）の周囲のスペーサ１４の断面寸法は小さく、且つ、Ｂ色着色層１８（Ｂ）とＲ色着色層１８（Ｒ）との間のスペーサ１４の断面寸法は大きく設定されている。スペーサ１４を着色層１８に対してこのように設けたので、仮に、一対の対向基板間に相対的な位置ズレが発生しても、スペーサ１４がＧ色領域に入り込む可能性を低く抑えることができ、よって、表示におけるコントラスの低下を抑えることができる。しかも、Ｇ色領域以外ではスペーサ１４の断面寸法を大きくしたので、液晶パネルの耐圧を大きく維持できる。
なお、図８の実施形態では、各着色層１８の間にスペーサ１４を１つずつ形成したが、各着色層１８の間に複数のスペーサ１４を形成しても良い。
（変形例）
上記実施形態では、図２に示したように、着色層１８が第１基板４ａに設けられ、スペーサ１４が第２基板４ｂに設けられた。つまり、着色層１８とスペーサ１４とが互いに異なる基板上に設けられていた。しかしながら、本発明は、この構成に代えて、着色層１８とスペーサ１４とが同一の基板上に設けられパネル構造も含むものである。
この構造の場合、一対の基板を貼り合わせる際の組みズレによって着色層１８とスペーサ１４との間の相対位置がずれるという心配はない。しかしながらこの場合には、１つの基板上に着色層１８を形成した後、その上にスペーサ１４を形成するときに、両者の相対的な位置が正規の位置からずれることがある。このようなずれは、アライメントズレと呼ばれることがある。
本発明では、着色層１８とスペーサ１４とを同一の基板上に重ねて形成する場合にも適用できるものであり、具体的には両者を、図５、図６、図７、図８に示すような相対的な位置関係に設けることができる。
次に、上記実施形態では、２端子型のスイッチング素子であるＴＦＤ素子２７を用いたアクティブマトリクス型の液晶装置に本発明を適用したが、本発明はＴＦＤ素子以外の２端子型のスイッチング素子を用いる場合にも適用できる。また、本発明は、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）等といった３端子型スイッチング素子を用いたアクティブマトリクス型の液晶装置にも適用できる。また、本発明は、スイッチング素子を用いない構造の単純マトリクス型の液晶装置にも適用できる。さらに、本発明は液晶装置に限らず、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動装置などの電気光学装置にも適用できる。
（電気光学装置の製造方法の第１実施形態）
以下、本発明に係る電気光学装置の製造方法を、図１に示した液晶装置を製造する場合を例に挙げて、図９のフローチャートを参照しつつ説明する。図９において、工程Ｐ１から工程Ｐ５が図１の第２基板４ｂを形成するための工程である。また、工程Ｐ１１から工程Ｐ１７が図１の第１基板４ａを形成するための工程である。また、工程Ｐ２１から工程Ｐ２８がそれらの基板を組み合わせて液晶装置を完成させるための工程である。
なお、本実施形態の製造方法では、図１に示す第１基板４ａ及び第２基板４ｂを１つずつ形成するのではなく、第１基板４ａに関しては、複数の第１基板４ａを形成できる大きさの面積を有する第１マザー基材を用いて複数の第１基板４ａを同時に形成する。また、第２基板４ｂに関しては、複数の第２基板４ｂを形成できる大きさの面積を有する第２マザー基材を用いて複数の第２基板４ｂを同時に形成する。第１マザー基材及び第２マザー基材は、例えば、透明なガラス、透明なプラスチック等によって形成される。
まず、図９の工程Ｐ１において、第２マザー基材の表面に図１（ａ）のＴＦＤ素子２７及びライン配線２６を形成する。次に、工程Ｐ２において、図１（ａ）のドット電極２１ｂをＩＴＯを材料としてフォトリソグラフィ処理及びエッチング処理によって形成する。
次に、工程Ｐ３において、図２のスペーサ１４を感光性樹脂を材料として適宜のパターニング処理、例えばフォトリソグラフィ処理によって形成する。このとき、複数のスペーサ１４は、図４に示すように、全ての着色層１８の周囲に設けられ、さらにそれらの寸法がＺｂ＞Ｚｒ＞Ｚｇとなるように形成される。
次に、工程Ｐ４において、図２の配向膜２２ｂを塗布や印刷等によって形成し、さらに工程Ｐ５において、その配向膜２２ｂに配向処理、例えばラビング処理を施す。以上により、第２マザー基材の上に第２基板４ｂの複数個分のパネル要素が形成される。以下、この平板構造体を第２マザー基板という。なお、実際の工程では、熱処理や、その他の処理が必要に応じて行われることがあるが、上記説明ではそれらを省略した。
次に、図９の工程Ｐ１１において、第１マザー基板の表面上に図２の樹脂層１５の第１層１５ａを、例えば感光性樹脂を材料としてフォトリソグラフィ処理によって形成する。その第１層１５ａの表面には微細な凹凸が形成される。その後、第１層１５ａの上に同じ材料の第２層１５ｂを薄く塗布して、樹脂層１５を形成する。
次に、図９の工程Ｐ１２において、図２の反射層１６を、例えばＡｌやＡｌ合金等といった光反射性物質を材料としてフォトリソグラフィ処理及びエッチング処理によって形成する。このとき、表示ドットＤごとに開口２８を形成することにより、光反射部Ｒと透光部Ｔを形成する。次に、工程Ｐ１３において、図２の着色層１８をＲ，Ｇ，Ｂの各色ごとに順々に形成する。例えば、各色の顔料や染料を感光性樹脂に分散させて成る着色材料をフォトリソグラフィ処理によって所定の配列、例えば図５のストライプ配列に形成する。このとき、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色の積み重ねにより、遮光層１７が各着色層の周り、すなわち複数の表示ドットＤの周りを埋めるような格子状パターンに形成される。
次に、工程Ｐ１４において、図２のオーバーコート層１９を、例えばアクリル樹脂、ポリイミド樹脂等といった感光性樹脂を材料としてフォトリソグラフィ処理によって形成する。次に、図９の工程Ｐ１５において、図２の帯状電極２１ａをＩＴＯを材料としてフォトリソグラフィ処理及びエッチング処理によって形成する。さらに、工程Ｐ１６において図２の配向膜２２ａを形成し、さらに工程Ｐ１７において配向処理としてのラビング処理を行う。
以上により、第１マザー基材の上に第１基板４ａの複数個分のパネル要素が形成される。以下、この平板構造体を第１マザー基板という。なお、実際の工程では、熱処理や、その他の処理が必要に応じて行われることがあるが、上記説明ではそれらを省略した。
その後、図９の工程Ｐ２１において、第１マザー基板と第２マザー基板とを貼り合わせる。これにより、第１マザー基板と第２マザー基板とが個々の液晶装置の領域において図１のシール材６を挟んで貼り合わされた構造の大面積のパネル構造体が形成される。
なお、第１マザー基板を構成する第１マザー基材及び第２マザー基板を構成する第２マザー基材のそれぞれの対応する位置には、予め、それらの基板の相互位置を決めるためのアライメントマークが形成されている。工程Ｐ２１の貼り合わせを行う際には、双方のアライメントマークが一定の位置関係になるようにして、例えば一方のアライメントマークが他方のアライメントマークの中に入るようにして、第１マザー基板と第２マザー基板とを位置決めする。
このとき、場合によっては、第１マザー基板と第２マザー基板との位置関係、すなわち、各液晶装置における第１基板４ａと第２基板４ｂとの位置関係がずれることがある。この場合、本実施形態では、工程Ｐ３において、図４のように複数のスペーサ１４をＺｂ＞Ｚｒ＞Ｚｇの寸法を満たすように形成したので、仮にマザー基板間に位置ズレが生じてもスペーサ１４はＧ色着色層１８（Ｇ）の領域内に入り込む可能性が小さくなり、このため、コントラストが低下することを防止できる。
次に、以上のようにして形成された大面積のパネル構造体に含まれるシール材６（図１参照）を、工程Ｐ２２において硬化させて両マザー基板を接着する。次に、工程Ｐ２３において、パネル構造体を１次切断、すなわち１次ブレイクして、図１の液晶パネル２の複数が１列に並んだ状態で含まれる中面積のパネル構造体、いわゆる短冊状のパネル構造体を複数形成する。シール材６には予め適所に開口６ａが形成されており、上記の１次ブレイクによって短冊状のパネル構造体が形成されると、そのシール材６の開口６ａが外部に露出する。
次に、図９の工程Ｐ２４において、上記のシール材の開口６ａを通して各液晶パネル部分の内部へ液晶を注入し、その注入の完了後、その開口６ａを樹脂によって封止する。次に、工程Ｐ２５において、２回目の切断、すなわち２次ブレイクを行い、短冊状のパネル構造体から図１に示す個々の液晶パネル２を切り出す。
次に、図９の工程Ｐ２６において、図１の液晶パネル２に偏光板２３ａ及び６３ｂを貼着によって装着する。次に、工程Ｐ２７において、図１の駆動用ＩＣ３９ａ及び３９ｂを実装し、さらに工程Ｐ２８において、図１の照明装置３を取り付ける。これにより、液晶装置１が完成する。
なお、上記実施形態では、工程Ｐ３においてスペーサ１４を図５に示す位置に形成したが、これに代えて、図６、図７、図８に示すような位置にスペーサ１４を設けることができる。
（電気光学装置の製造方法の第２実施形態）
以上の実施形態では、図９の工程Ｐ３においてスペーサ１４を第２基板４ｂ側に形成し、工程Ｐ１３において着色層１８を第１基板４ａ側に形成した。つまり、スペーサ１４と着色層１８とを異なる基板上に設けた。しかしながら、異なった液晶装置の製造方法を考える場合には、スペーサ１４及び着色層１８は１つの同じ基板上に形成することもできる。この場合には、一対のマザー基板を貼り合わせるときにスペーサ１４と着色層１８との間で位置ズレが発生するという現象は考えられない。
ところで、１つのマザー基板上に着色層１８、スペーサ１４、電極、配向膜、その他の要素を順次に形成する場合には、通常、当該１つのマザー基板上の適宜の位置にアライメントマークを形成しておき、このアライメントマークを基準にした所定の位置に上記の各要素を重ねて形成して行く。このとき、場合によっては各要素間でアライメントズレが発生することがあり、また、場合によっては着色層１８とスペーサ１４との間でもアライメントズレが生じることがある。
本発明によれば、スペーサ１４は着色層１８に対して図５、図６、図７、図８に示したような位置関係で形成されるので、上記のように着色層１８とスペーサ１４との間にアライメントズレが生じる場合でも、スペーサ１４はＧ色着色層１８（Ｇ）の領域内に入り込む可能性が低い。このため、製造された液晶装置における表示に関してコントラストが低下することを防止できる。
（電子機器の実施形態）
以下、本発明に係る電子機器を実施形態を挙げて説明する。なお、この実施形態は本発明の一例を示すものであり、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。
図１０は、本発明に係る電子機器の一実施形態を示している。ここに示す電子機器は、表示情報出力源１０１、表示情報処理回路１０２、電源回路１０３、タイミングジェネレータ１０４及び液晶装置１０５によって構成される。そして、液晶装置１０５は液晶パネル１０７及び駆動回路１０６を有する。
表示情報出力源１０１は、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）等といったメモリや、各種ディスク等といったストレージユニットや、ディジタル画像信号を同調出力する同調回路等を備え、タイミングジェネレータ１０４により生成される各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路１０２に供給する。
次に、表示情報処理回路１０２は、増幅・反転回路や、ローテーション回路や、ガンマ補正回路や、クランプ回路等といった周知の回路を多数備え、入力した表示情報の処理を実行して、画像信号をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路１０６へ供給する。ここで、駆動回路１０６は、走査線駆動回路（図示せず）やデータ線駆動回路（図示せず）と共に、検査回路等を総称したものである。また、電源回路１０３は、上記の各構成要素に所定の電源電圧を供給する。液晶装置１０５は、例えば、図１に示した液晶装置１と同様に構成できる。
図１１は、本発明に係る電子機器の他の実施形態であるモバイル型のパーソナルコンピュータを示している。ここに示すパーソナルコンピュータ１１０は、キーボード１１２を備えた本体部１１４と、液晶表示ユニット１１６とから構成されている。この液晶表示ユニット１１６は、例えば図１に示した液晶装置１を表示部として用いて構成できる。
図１２は、本発明を電子機器の一例である携帯電話機に適用した場合の一実施形態を示している。ここに示す携帯電話機１２０は、本体部１２１と、これに開閉可能に設けられた表示体部１２２とを有する。液晶装置等といった電気光学装置によって構成された表示装置１２３は、表示体部１２２の内部に配置され、電話通信に関する各種表示は、表示体部１２２にて表示画面１２４によって視認できる。本体部１２１の前面には操作ボタン１２６が配列して設けられる。
表示体部１２２の一端部からアンテナ１２７が出没自在に取付けられている。受話部１２８の内部にはスピーカが配置され、送話部１２９の内部にはマイクが内蔵されている。表示装置１２３の動作を制御するための制御部は、携帯電話機の全体の制御を司る制御部の一部として、又はその制御部とは別に、本体部１２１又は表示体部１２２の内部に格納される。
図１３は、本発明に係る電子機器のさらに他の実施形態であるデジタルスチルカメラであって、液晶装置をファインダとして用いるものを示している。このデジタルスチルカメラ１３０におけるケース１３１の背面には液晶表示ユニット１３２が設けられる。この液晶表示ユニット１３２は、被写体を表示するファインダとして機能する。この液晶表示ユニット１３２は、例えば図１に示した液晶装置１を用いて構成できる。
ケース１３１の前面側（図においては裏面側）には、光学レンズやＣＣＤ等を含んだ受光ユニット１３３が設けられている。撮影者が液晶表示ユニット１３２に表示された被写体像を確認して、シャッタボタン１３４を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板１３５のメモリに転送されてそこに格納される。
ケース１３１の側面には、ビデオ信号出力端子１３６と、データ通信用の入出力端子１３７とが設けられている。ビデオ信号出力端子１３６にはテレビモニタ１３８が必要に応じて接続され、また、データ通信用の入出力端子１３７にはパーソナルコンピュータ１３９が必要に応じて接続される。回路基板１３５のメモリに格納された撮像信号は、所定の操作によって、テレビモニタ１３８や、パーソナルコンピュータ１３９に出力される。
図１４は、本発明に係る電子機器のさらに他の実施形態である腕時計型電子機器を示している。ここに示す腕時計型電子機器１４０は、時計本体１４１に支持された表示部としての液晶表示ユニット１４２を有し、この液晶表示ユニット１４２は、時計本体１４１の内部に設けた制御回路１４３によって制御されて、時刻、日付等を情報として表示する。この液晶表示ユニット１４２は、例えば図１に示した液晶装置１を用いて構成できる。
図１５は、本発明に係る電子機器のさらに他の実施形態であるＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ Ｄｉｇｉｔａｌ Ａｓｓｉｓｔａｎｔ：パーソナル・デジタル・アシスタント：携帯型情報端末装置）を示している。ここに示すＰＤＡ１５０は、接触方式、いわゆるタッチパネル方式の入力装置１５１をその正面パネル上に有する。この入力装置１５１は透明であり、その下には表示部としての液晶装置１５２が配置されている。
使用者は、付属のペン型入力具１５３を入力装置１５１の入力面に接触させることにより、液晶装置１５２に表示されたボタン、その他の表示を選択したり、文字、図形等を描いたりして、必要な情報を入力する。この入力情報に対してＰＤＡ１５０内のコンピュータによって所定の演算が行われ、その演算の結果が液晶装置１５２に表示される。液晶装置１５２は、例えば図１に示した液晶装置１を用いて構成できる。
（変形例）
電子機器としては、以上に説明したパーソナルコンピュータや、携帯電話機や、デジタルスチルカメラや、腕時計型電子機器や、ＰＤＡの他にも、液晶テレビや、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダや、カーナビゲーション装置や、ページャや、電子手帳や、電卓や、ワードプロセッサや、ワークステーションや、テレビ電話機や、ＰＯＳ端末器等が挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る電気光学装置の一実施形態を分解状態で示す斜視図である。
【図２】図１の電気光学装置の主要部の断面構造を示す断面図である。
【図３】図１の電気光学装置で用いられるＴＦＤ素子を示す斜視図である。
【図４】素子が形成される基板の一部の平面図である。
【図５】着色層が形成される基板の一部の平面図である。
【図６】本発明に係る電気光学装置の他の実施形態の主要部であって、着色層が形成される基板の一部を示す平面図である。
【図７】本発明に係る電気光学装置のさらに他の実施形態の主要部であって、着色層が形成される基板の一部を示す平面図である。
【図８】本発明に係る電気光学装置のさらに他の実施形態の主要部であって、着色層が形成される基板の一部を示す平面図である。
【図９】本発明に係る電気光学装置の製造方法の一実施形態を示す工程図である。
【図１０】本発明に係る電子機器の一実施形態を示すブロック図である。
【図１１】本発明に係る電子機器の他の実施形態を示す斜視図である。
【図１２】本発明に係る電子機器のさらに他の実施形態を示す斜視図である。
【図１３】本発明に係る電子機器のさらに他の実施形態を示す斜視図である。
【図１４】本発明に係る電子機器のさらに他の実施形態を示す斜視図である。
【図１５】本発明に係る電子機器のさらに他の実施形態を示す斜視図である。
【符号の説明】
１：液晶装置、２：液晶パネル、３：照明装置、４ａ，４ｂ：基板、１１ａ，１１ｂ：基材、１３：液晶層、１４：スペーサ、１８：着色層、２１ａ，２１ｂ：電極、２７：ＴＦＤ素子、１１０：パーソナルコンピュータ（電子機器）、１２０：携帯電話機（電子機器）、１３０：カメラ（電子機器）、１４０：腕時計型電子機器、１５０：ＰＤＡ（電子機器）

Claims (9)

1. 互いに対向する一対の基板と、
   該一対の基板のいずれか一方に設けられ、平面的に所定配列で並べられた複数のＲ色着色層、複数のＧ色着色層及び複数のＢ色着色層と、
   前記複数のＲ色着色層、Ｇ色着色層及びＢ色着色層の間に設けられた遮光層と、
   前記一対の基板のいずれかに設けられ、対向する基板に向かって突出する複数のスペーサとを有し、
   前記複数のスペーサは、
   （１）前記Ｇ色着色層の周囲の前記遮光層内及び前記Ｂ色着色層の周囲の前記遮光層内に設けられるか、又は
   （２）前記Ｇ色着色層の周囲の前記遮光層内及び前記Ｒ色着色層の周囲の前記遮光層内に設けられるか、又は
   （３）前記Ｇ色着色層の周囲の前記遮光層内、前記Ｂ色着色層の周囲の前記遮光層内及び前記Ｒ色着色層の周囲の前記遮光層内に設けられ、
   前記Ｇ色着色層の周囲にあるスペーサの前記遮光層の幅方向の寸法をＺｇとし、前記Ｂ色着色層の前記遮光層の幅方向の寸法をＺｂとし、前記Ｒ色着色層の前記遮光層の幅方向の寸法をＺｒとするとき、
   Ｚｇ＜Ｚｂ 及び Ｚｇ＜Ｚｒ
   である
   ことを特徴とする電気光学装置。
2. 請求項１において、Ｚｒ＜Ｚｂであることを特徴とする電気光学装置。
3. 請求項１又は請求項２において、Ｒ，Ｇ，Ｂの３つの表示ドットの集まりである１画素の面積をＡとし、前記スペーサの１つの平面断面積をＳとし、１画素内に存在する前記スペーサの数をρとするとき、画素に対するスペーサの面積比Ｒは、
   Ｒ＝（ρ×Ｓ）／Ａ ＞ ２×１０^−３
   であることを特徴とする電気光学装置。
4. 請求項１から請求項３の少なくともいずれか１つにおいて、前記遮光層の幅が約１０μｍであるとき、
   Ｚｇ＝約６μｍ、Ｚｒ＝約１０μｍ、Ｚｂ＝約１４μｍ
   であることを特徴とする電気光学装置。
5. 請求項１から請求項４の少なくともいずれか１つにおいて、前記スペーサは、前記Ｒ色着色層、前記Ｇ色着色層及び前記Ｂ色着色層が設けられた基板に対向する基板に形成されることを特徴とする電気光学装置。
6. 請求項１から請求項４の少なくともいずれか１つにおいて、前記スペーサは、前記Ｒ色着色層、前記Ｇ色着色層及び前記Ｂ色着色層が設けられた基板と同じ基板に形成されることを特徴とする電気光学装置。
7. 請求項１から請求項６の少なくともいずれか１つに記載の電気光学装置と、該電気光学装置の動作を制御する制御手段とを有することを特徴とする電子機器。
8. 請求項５記載の電気光学装置を製造するための製造方法において、前記スペーサが形成された基板と、前記Ｒ色着色層、前記Ｇ色着色層及び前記Ｂ色着色層が形成された基板とを貼り付ける工程を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
9. 請求項６記載の電気光学装置を製造するための製造方法において、前記Ｒ色着色層、前記Ｇ色着色層及び前記Ｂ色着色層が設けられた基板上にアライメントマークを基準として前記スペーサを形成する工程を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。

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