JP2004226712A - 電気光学装置用マザー基板、電気光学装置用基板、電気光学装置及びその製造方法、並びに電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】電気光学装置を構成する一対の基板間に重ねズレが発生することを確実に防止する。
【解決手段】マザー基材５１に複数の電気光学装置用基板１１が形成されて成る電気光学装置用マザー基板である。複数の電気光学装置用基板１１の外側領域に係合部としての凹部５３が形成される。マザー基板５１に貼り合わされる他方のマザー基板には電気光学装置用基板１１と対を成すもう一方の電気光学装置用基板が形成され、その他方のマザー基板には凹部５３に対応する位置に被係合部としての柱状突起が形成される。凹部５３とそれに対応する柱状突起とを係合させることにより、マザー基板５１と他方のマザー基板とを正確に位置合わせできる。これにより、電気光学装置用基板１１ともう一方の電気光学装置用基板とを正確に位置合わせできる。
【選択図】 図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶装置、ＥＬ装置等といった電気光学装置、その電気光学装置の構成要素である電気光学装置用基板、前記電気光学装置の製造の際に用いる電気光学装置用マザー基板、前記電気光学装置の製造方法、及び前記電気光学装置を用いた電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
現在、携帯電話機、携帯情報端末機等といった各種の電子機器において、液晶装置、ＥＬ装置等といった電気光学装置が広く用いられている。例えば、電子機器に関する各種の情報を視覚的に表示するための表示部として電気光学装置が用いられている。この電気光学装置において、電気光学物質として液晶を用いた装置、すなわち液晶装置が知られている。また、電気光学物質としてＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）を用いたＥＬ装置も知られている。
【０００３】
液晶装置は、一般に、それぞれが電極を備えた一対の基板間に液晶層を介在させた構造を有する。液晶層に光を供給すると共に、該液晶層に印加される電圧を表示ドットごとに制御することにより、液晶層内の液晶分子の配向を表示ドットごとに制御する。液晶層へ供給された光は液晶分子の配向状態に従って変調され、この変調された偏光が偏光板を通過するか、あるいは通過しないかに応じて、外部に文字、数字、図形等といった像が表示される。
【０００４】
この液晶装置を製造する際には、一般に、液晶装置を構成する一方の基板上に形成すべき要素、例えば電極、配向膜等を、液晶装置の複数個分の面積を有する大面積の第１マザー基材上に、液晶装置の複数個分だけ形成する。また一方、液晶装置を構成する他方の基板上に形成すべき要素、例えば電極、配向膜等を、液晶装置の複数個分の面積を有する大面積の第２マザー基材上に、上記一方の基板と同数だけ形成する（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
上記第１マザー基材上又は上記第２マザー基材上に形成された複数の液晶装置領域のそれぞれの内部にはシール材が形成される。また、それらのマザー基材のそれぞれにアライメントマークが形成される。第１マザー基材と第２マザー基材は、アライメントマークによって位置合わせをされながら、シール材によって互いに貼り合わされる。
【０００６】
【特許文献１】
特開２０００−１８７２２７号公報（第３頁、図１）
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、アライメントマークを用いた上記の貼り合わせ方法では、基板間に位置ズレが発生することを常に確実に防止することが難しかった。仮に、基板間に位置ズレが発生すると、一方の基板側の電極と他方の基板側の電極との間に位置ズレが生じ、光漏れが発生するおそれがある。この光漏れを回避するためには、遮光層によって形成されるブラックマスクの幅を予め広く設定しなければならず、そのため、従来の電気光学装置においては、開口率を上げることに限界があった。
【０００８】
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、電気光学装置を構成する一対の基板間に重ねズレが発生することを確実に防止することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
（１） 上記の目的と達成するため、本発明に係る第１の電気光学装置用マザー基板は、マザー基材に複数の電気光学装置用基板が形成されて成る電気光学装置用マザー基板であって、前記複数の電気光学装置用基板の外側領域に係合部を有することを特徴とする。
【００１０】
この電気光学装置用マザー基板は一対用意され、一方のマザー基板には電気光学装置の一方の基板側の構成要素、例えば電極、配向膜等が形成され、他方のマザー基板には電気光学装置の他方の基板側の構成要素、例えば電極、配向膜等が形成される。これら一対のマザー基板を互いに貼り合わせる際には、一方のマザー基板上に形成した係合部と他方のマザー基板に形成した係合部とを互いに係合、例えば嵌合させる。
【００１１】
この係合により、一対のマザー基板は常に正確に位置合わせされるので、ブラックマスクを狭く形成しても光漏れを防止できる。そして、ブラックマスクを狭く形成できれば、開口率を上げることができるので、電気光学装置によって明るい表示を行うことができる。また、一対の係合部を係合させるという作業は非常に簡単であり、アライメントマークを用いる方法に比べて、短時間で正確な位置合わせが可能となる。
【００１２】
（２） 上記構成の電気光学装置用マザー基板においては、前記係合部は前記マザー基材の周辺領域に設けることが望ましい。こうすれば、前記係合部を前記マザー基材の中央部に設ける場合に比べて、一対の基板の位置合わせの精度を高くできる。
【００１３】
（３） 次に、本発明に係る第２の電気光学装置用マザー基板は、マザー基材に複数の電気光学装置用基板が形成されて成る電気光学装置用マザー基板であって、前記複数の電気光学装置用基板の少なくとも１つの内部領域に係合部を有することを特徴とする。上記第１の電気光学装置用マザー基板では、複数の電気光学装置用基板の外側領域に係合部を形成した。これに対し、第２の電気光学装置用マザー基板では、複数の電気光学装置用基板の内側領域に係合部を形成した。
この電気光学装置用マザー基板においても、係合部を係合させるだけで基板同士の位置合わせができるので、基板同士を常に安定して一定の位置で貼り合わせることができる。
【００１４】
（４） 上記第２の電気光学装置用マザー基板において、前記複数の電気光学装置用基板のそれぞれは複数の表示ドットが形成される表示領域を有し、前記係合部は前記電気光学装置用基板の内部領域であって前記表示領域の外側領域に設けることが望ましい。ここで、表示領域とは、電気光学装置において文字、数字、図形等といった像が表示される領域である。この表示領域は、例えば、表示の最小単位である表示ドットを複数個、マトリクス状に配列することによって形成できる。上記のような、電気光学装置用基板の内部領域であって表示領域の外側領域というのは、例えば、表示領域の外側に枠状に設けられる非表示領域、いわゆる額縁領域に相当する。
【００１５】
（５） 上記第２の電気光学装置用マザー基板において、前記複数の電気光学装置用基板のそれぞれは複数の表示ドットが形成される表示領域を有し、前記係合部は前記電気光学装置用基板の内部領域であって前記表示領域における表示ドットの外側領域に設けることが望ましい。この実施態様では、電気光学装置の表示領域の内部領域に係合部を設ける。
【００１６】
電気光学装置においては、一般に、一対の基板間に形成される間隙であって、電気光学物質を封入する間隙を一定に維持するために、その間隙内に複数のスペーサを介在させることがある。このようなスペーサとしては、例えば、複数の微小な球形の部材を用いることができ、この複数の球形部材は一方の基板上に平面的に分散される。また、一方の基板上に複数の柱状の突起をフォトリソグラフィー処理等によって適宜の平面パターンで形成し、この柱状突起の高さによって電気光学物質層用の間隙を維持することもできる。
【００１７】
上記のような、電気光学装置用基板の内部領域であって表示領域の内部領域であって表示ドットの外側領域に設ける係合部は、上記のようなスペーサとして機能する柱状突起によって兼用できる。
【００１８】
（６） 上記構成の電気光学装置用マザー基板において、前記係合部は凸部又は凹部であることが望ましい。つまり、一対のマザー基板は凹部と凸部の嵌合によって位置決めされることが望ましい。
【００１９】
（７）次に、本発明に係る第１の電気光学装置用基板は、基材と、該基材上に設けられる複数の表示ドットによって形成される表示領域と、該表示領域の外側領域に設けられた係合部とを有することを特徴とする。表示領域の外側領域は、例えば、額縁領域に相当する。
【００２０】
この電気光学装置用基板は一対用意され、一方の基板には電気光学装置の一方の基板側の構成要素、例えば電極、配向膜等が形成され、他方の基板には電気光学装置の他方の基板側の構成要素、例えば電極、配向膜等が形成される。これら一対の基板が貼り合わせられることにより、電気光学装置が形成される。
【００２１】
一対の基板は係合部の係合により、常に正確に安定して位置合わせされるので、ブラックマスクを狭く形成しても光漏れを防止できる。そして、ブラックマスクを狭く形成できれば、開口率を上げることができるので、電気光学装置によって明るい表示を行うことができる。
【００２２】
（８） 次に、本発明に係る第２の電気光学装置用基板は、基材と、該基材上に設けられる複数の表示ドットによって形成される表示領域と、該表示領域の内部領域であって前記表示ドットの外側領域に設けられた係合部とを有することを特徴とする。上記第１の電気光学装置では、表示領域の外側領域に係合部を設けたのに対し、本実施態様では、表示領域の内部領域であって前記表示ドットの外側領域に係合部を設ける。
【００２３】
（９） 上記構成の電気光学装置用基板において、前記係合部は凸部又は凹部であることが望ましい。つまり、一対の基板は凹部と凸部の嵌合によって位置決めされることが望ましい。
【００２４】
（１０） 次に、本発明に係る電気光学装置は、以上に記載した構成の電気光学装置用基板と、該電気光学装置用基板に含まれる前記係合部に係合する被係合部を有する対向基板と、前記電気光学装置用基板と前記対向基板との間に設けられる電気光学物質層とを有することを特徴とする。
【００２５】
この電気光学装置によれば、電気光学物質層の働きによって表示を行うことができる。電気光学物質としては、液晶装置における液晶層、ＥＬ装置におけるＥＬ層、プラズマディスプレイ装置におけるプラズマガス層等が考えられる。この電気光学装置によれば、係合部と被係合部との嵌合により、電気光学装置用基板と対向基板とを一定の相対位置で安定して正確に貼り合わせることができる。
【００２６】
（１１） 次に、本発明に係る電子機器は、上記構成の電気光学装置と、該電気光学装置の動作を制御する制御手段とを有することを特徴とする。
【００２７】
（１２） 次に、本発明に係る電気光学装置の製造方法は、複数の電気光学装置用第１基板が形成される第１マザー基材上に第１係合部を形成する工程と、複数の電気光学装置用第２基板が形成される第２マザー基材上に第２係合部を形成する工程と、前記第１係合部と前記第２係合部とを係合させた状態で前記第１マザー基材と前記第２マザー基材とを貼り合わせる工程とを有することを特徴とする。
【００２８】
この製造方法によれば、第１係合部と第２係合部とを係合させた状態で第１マザー基板と第２マザー基板とが貼り合わされるので、第１マザー基板と第２マザー基板は常に安定して正確に位置合わせされる。これにより、ブラックマスクを狭く形成しても光漏れを防止できる。そして、ブラックマスクを狭く形成できれば、開口率を上げることができるので、電気光学装置によって明るい表示を行うことができる。また、係合部を係合させるという作業は非常に簡単であり、アライメントマークを用いる方法に比べて、短時間で正確な位置合わせが可能となる。
【００２９】
（１３） 上記構成の電気光学装置の製造方法において、前記第１係合部は前記電気光学装置用第１基板の外側領域の前記第１マザー基材上に形成され、さらに、前記第２係合部は前記電気光学装置用第２基板の外側領域の前記第２マザー基材上に形成されることが望ましい。
【００３０】
（１４） 上記構成の電気光学装置の製造方法において、前記第１係合部は前記第１マザー基材の周辺領域に形成され、前記第２係合部は前記第２マザー基材の周辺領域に形成されることが望ましい。こうすれば、第１係合部及び第２係合部を、それぞれ、第１マザー基材及び第２マザー基板の中央部に設ける場合に比べて、一対の基板の位置合わせの精度を高くできる。
【００３１】
（１５） 上記構成の電気光学装置の製造方法において、前記第１係合部は前記電気光学装置用第１基板の内部領域に形成され、さらに、前記嵌合用第２係止部は前記電気光学装置用第２基板の内部領域に形成されることが望ましい。
【００３２】
（１６） 上記構成の電気光学装置の製造方法において、前記第１係合部は前記電気光学装置用第１基板の内部領域であって表示領域の外側領域に形成され、さらに前記第２係合部は前記電気光学装置用第２基板の内部領域であって表示領域の外側領域に形成されることが望ましい。
【００３３】
（１７） 上記構成の電気光学装置の製造方法において、前記第１係合部は前記電気光学装置用第１基板の内部領域であって表示領域における表示ドットの外側領域に形成され、さらに前記第２係合部は前記電気光学装置用第２基板の内部領域であって表示領域における表示ドットの外側領域に形成されることが望ましい。
【００３４】
【発明の実施の形態】
（電気光学装置の製造方法及び電気光学装置用マザー基板の実施形態）
以下、本発明に係る電気光学装置の製造方法及び電気光学装置用マザー基板をそれぞれ一例を挙げて説明する。なお、この実施形態では、電気光学装置として液晶装置を製造するものとする。
【００３５】
まず、本実施形態の製造方法を説明する前に、その製造方法によって製造される電気光学装置、すなわち、液晶装置を説明する。なお、これ以降に説明する実施形態は本発明の一例であって、本発明を限定するものではない。また、これからの説明では必要に応じて図面を参照するが、この図面では、複数の構成要素から成る構造のうち重要な構成要素を分かり易く示すため、各要素を実際とは異なった相対的な寸法で示している。
【００３６】
図４において、液晶装置１は、液晶パネル２と、この液晶パネル２に実装された駆動用ＩＣ３と、照明装置４とを有する。照明装置４は、観察側（すなわち、図の上側）から見て液晶パネル２の背面側に配設されてバックライトとして機能する。照明装置４は、液晶パネル２の観察側に配設してフロントライトとして機能させても良い。
【００３７】
照明装置４は、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）等といった点状光源や、冷陰極管等といった線状光源等によって構成された光源６と、透光性の樹脂によって形成された導光体７とを有する。観察側から見て導光体７の背面側には、必要に応じて、反射層８が設けられる。また、導光体７の観察側には、必要に応じて、拡散層９が設けられる。導光体７の光導入口７ａは図４の紙面垂直方向に延びており、光源６から発生した光はこの光導入口７ａを通して導光体７の内部へ導入される。
【００３８】
液晶パネル２は、電気光学装置用基板としての素子基板１２と、それに対向するもう一方の電気光学装置用基板としてのカラーフィルタ基板１１と、それらの基板を貼り合わせている矢印Ａ方向から見て正方形又は長方形の枠状のシール材１３とを有する。カラーフィルタ基板１１と、素子基板１２と、シール材１３とによって囲まれる間隙、いわゆるセルギャップ内に液晶１４が封入されて液晶層を構成している。
【００３９】
カラーフィルタ基板１１は、矢印Ａ方向から見て長方形又は正方形の第１基材１６ａを有し、その第１基材１６ａの内側表面には、凹凸すなわち凹部と非凹部との組み合わせを有する樹脂層１７が形成され、その上に反射層１８が形成され、その上に着色層１９及び遮光層２１が形成され、その上にオーバーコート層２２が形成され、その上に紙面垂直方向へ直線的に延びる電極２３ａが形成され、さらに、その上に配向膜２４ａが形成される。
【００４０】
配向膜２４ａには配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、第１基材１６ａの近傍の液晶分子の配向が決められる。また、第１基材１６ａの外側表面には、位相差板２６ａ及び偏光板２７ａが貼着等によって装着される。
【００４１】
第１基材１６ａは、例えば、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成される。樹脂層１７は、図５に示すように、第１層１７ａ及び第２層１７ｂから成る２層構造によって形成されており、第２層１７ｂの表面には、細かい凹凸、すなわち細かい凹部及び非凹部、が形成されている。反射層１８は、例えば、Ａｌ（アルミニウム）、Ａｌ合金等によって形成される。この反射層１８の表面は、その下地層である樹脂層１７に着けられた凹凸に対応して凹凸形状となっている。この凹凸形状により、反射層１８で反射する光は拡散する。
【００４２】
着色層１９は、例えば図７に示すように、１つ１つが長方形のドット状に形成され、１つの着色層１９は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３原色のいずれか１つを呈する。これら各色の着色層１９は、ストライプ配列、デルタ配列、モザイク配列、その他適宜の配列となるように並べられている。図７では、ストライプ配列が例示されている。なお、着色層１９は、Ｃ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）の３原色によって形成することもできる。
【００４３】
図４において遮光層２１は、例えばＣｒ（クロム）等といった遮光性の材料によって、複数の着色層１９の間を埋める状態に形成される。この遮光層２１は、ブラックマトリクスとして機能して着色層１９を透過した光によって表示される像のコントラストを向上させる。なお、遮光層２１は、Ｃｒ等といった特定の材料によって形成されることに限られず、例えば、着色層１９を構成するＲ，Ｇ，Ｂの各着色層を重ねること、すなわち積層することによっても形成することができる。
【００４４】
オーバーコート層２２は、例えば、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等といった感光性の樹脂によって形成される。また、このオーバーコート層２２の適所には、図５に示すように、着色層１９の表面に達する貫通穴２８が形成されている。なお、この貫通穴２８に代えて、着色層１９の表面に達することなくオーバーコート層２２の途中までの深さの有底穴すなわち凹部をオーバーコート層２２に形成することもできる。
【００４５】
図５の紙面垂直方向に線状に延びる電極２３ａは、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ ＴｉｎＯｘｉｄｅ）等といった金属酸化物によって形成され、その中央の一部が貫通穴２８の中へ落ち込んでいる。また、その上に形成された配向膜２４ａは、例えばポリイミド等によって形成され、この配向膜２４ａに関しても、貫通穴２８に対応する部分が、その貫通穴２８の中に落ち込んでいる。つまり、矢印Ａ方向から平面的に見ると、電極２３ａ及び配向膜２４ａには複数の窪みが形成されている。
【００４６】
図４において、カラーフィルタ基板１１に対向する素子基板１２は第２基材１６ｂを有する。この第２基材１６ｂは、張出し部２９が形成される１辺が第１基材１６ａの外側へ張り出している。この第２基材１６ｂの内側表面には、スイッチング素子としての複数のＴＦＤ３１が形成され、それらのＴＦＤ３１に接続するように複数のドット電極２３ｂが形成され、それらの上に配向膜２４ｂが形成される。配向膜２４ｂには配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、第２基材１６ｂの近傍の液晶分子の配向が決められる。第２基材１６ｂの外側表面には、位相差板２６ｂ及び偏光板２７ｂが貼着等によって装着される。
【００４７】
カラーフィルタ基板１１又は素子基板１２のいずれか一方には表示領域Ｖの内部に柱状、例えば円柱状、角柱状、の突起であるスペーサ４７が複数設けられる。これらのスペーサ４７は、例えば、フォトリソグラフィー処理によって形成される。また、これらのスペーサ４７は、図５、図６及び図７に示すように、表示ドットＤの外側領域、すなわち遮光層２１が設けられる領域に設けられる。これらのスペーサ４７により、カラーフィルタ基板１１と素子基板１２との間の間隙、従って液晶層１４の層厚が表示領域Ｖの全面にわたって均一に維持される。
【００４８】
液晶層１４の層厚を均一に維持するスペーサとして、球状の透明部材、すなわち粒状部材をカラーフィルタ基板１１又は素子基板１２の表面上に不規則に分散する方法も知られている。しかしながら、この方法では、図５及び図６においてオーバーコート層２２の貫通穴２８の中に粒状のスペーサが入ってしまうと、スペーサとしての機能を達成できなくなり、基板間の間隙を正確に均一に維持できなくなるおそれがある。また、粒状のスペーサが表示ドットＤの中に存在すると、光の進行が不安定になって表示が乱れる心配もある。これに対し、表示ドットＤの外側領域に柱状のスペーサ４７を設けた本実施形態によれば、基板間の間隙を正確に均一に維持できると共に表示に寄与する光の進行路を避けてスペーサを形成できるので、乱れのない鮮明な像を安定して表示できる。
【００４９】
第２基材１６ｂは、例えば、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成される。また、ドット電極２３ｂはＩＴＯ等といった金属酸化物によって形成される。また、配向膜２４ｂは、例えばポリイミド等によって形成される。また、柱状スペーサは、例えば感光性樹脂によって形成される。
【００５０】
個々のＴＦＤ３１は、図６に示すように、カラーフィルタ基板１１側の遮光層２１に対応する位置に設けられ、さらに、図８に示すように、第１ＴＦＤ要素３２ａと第２ＴＦＤ要素３２ｂとを直列に接続することによって形成されている。なお、図６は、図７のＹ−Ｙ線に従った断面図であり、従って、図５の断面図である。
【００５１】
図８において、ＴＦＤ素子３１は、例えば、次のようにして形成される。すなわち、まず、ＴａＷ（タンタルタングステン）によってライン配線３３の第１層３４ａ及びＴＦＤ素子３１の第１金属３６を形成する。次に、陽極酸化処理によってライン配線３３の第２層３４ｂ及びＴＦＤ素子３１の絶縁膜３７を形成する。次に、例えばＣｒ（クロム）によってライン配線３３の第３層３４ｃ及びＴＦＤ素子３１の第２金属３８を形成する。
【００５２】
図６において、カラーフィルタ基板１１上に形成された線状電極２３ａは、紙面の左右方向に延びている。素子基板１２上に形成された上記のライン配線３３は、線状電極２３ａに対して直角方向、すなわち図の紙面垂直方向に延びている。
【００５３】
図８において、第１ＴＦＤ要素３２ａの第２金属３８はライン配線３３の第３層３４ｃから延びている。また、第２ＴＦＤ要素３２ｂの第２金属３８の先端に重なるように、ドット電極２３ｂが形成される。ライン配線３３からドット電極２３ｂへ向けて電気信号が流れることを考えれば、その電流方向に従って、第１ＴＦＤ要素３２ａでは第２電極３８→絶縁膜３７→第１金属３６の順に電気信号が流れ、一方、第２ＴＦＤ要素３２ｂでは第１金属３６→絶縁膜３７→第２金属３８の順に電気信号が流れる。
【００５４】
つまり、第１ＴＦＤ要素３２ａと第２ＴＦＤ要素３２ｂとの間では電気的に逆向きの一対のＴＦＤ要素が互いに直列に接続されている。このような構造は、一般に、バック・ツー・バック（Ｂａｃｋ−ｔｏ−Ｂａｃｋ）構造と呼ばれており、この構造のＴＦＤ素子は、ＴＦＤ素子を１個のＴＦＤ要素だけによって構成する場合に比べて、安定した特性を得られることが知られている。なお、第１金属３６等の第２基材１６ｂからの剥れを防止したり、第２基材１６ｂから第１金属３６等へ不純物が拡散しないようにする等のために、ＴＦＤ３１と基材１６ｂとの間及びライン配線３３と基材１６ｂとの間に下地層（図示せず）を設けることもできる。
【００５５】
図９は、図４の矢印Ａに従って液晶装置１の平面構造を示している。なお、図９は、主に、電極及び配線を示しており、それ以外の要素は図示を省略している。また、図９では、素子基板１２を構成する第２基材１６ｂは仮想線で示している。
【００５６】
素子基板１２には、図１１に示すように、複数の直線状のライン配線３３が全体としてストライプ状に設けられている。また、個々のライン配線３３に適宜の間隔をおいて複数のＴＦＤ３１が接続され、それらのＴＦＤ３１にドット電極２３ｂが接続されている。図１１では、ライン配線３３を少ない本数で模式的に描いてあるが、実際には多数本、例えば２４０本程度が形成される。また、ＴＦＤ３１及びドット電極２３ｂはシール材１３の四隅部分に対応するものだけを部分的に示してあるが、実際には、シール材１３によって囲まれる領域内の全域に設けられる。また、ＴＦＤ３１及びドット電極２３ｂは、模式的に大きく描かれているため、数が少ないように描かれているが、実際には図１１の縦方向、すなわち上下方向の１列に、それぞれ、例えば３２０個程度形成されている。つまり、ドット電極２３ｂは、例えば、縦×横＝３２０×２４０個の数だけ設けられている。
【００５７】
素子基板１２に対向するカラーフィルタ基板１１には、図１０に示すように、複数の線状電極２３ａが全体としてストライプ状に形成されている。これらの電極２３ａは、カラーフィルタ基板１１と素子基板１２とをシール材１３によって図９に示すように貼り合わせたとき、ライン配線３３と直角の方向に延び、さらに、横列を成す複数のドット電極２３ｂに平面的に重なり合う。
【００５８】
このように、線状電極２３ａとドット電極２３ｂとが重なり合う領域が、表示の最小単位である表示ドットＤを構成する。この表示ドットＤは図４から図７において符号Ｄで示す領域である。複数の表示ドットＤが縦方向及び横方向に複数個、マトリクス状に並べられた領域が表示領域Ｖである。この表示領域Ｖに文字、数字、図形等といった像が表示される。
【００５９】
図１１において、素子基板１２を構成する第２基材１６ｂの張出し部２９上に実装される駆動用ＩＣ３は、走査信号を出力する駆動用ＩＣ３ａと、データ信号を出力する駆動用ＩＣ３ｂとによって構成されている。第２基材１６ｂの第１辺１６ｃすなわち入力側の辺には外部接続用端子４４が形成され、これらの端子４４は駆動用ＩＣ３ａ及び３ｂの入力用端子、例えば入力用バンプにつながる。
【００６０】
また、この第１辺１６ｃに隣接する２つの辺１６ｄ及び１６ｅの近傍にそれらの辺の辺縁に沿って複数の配線３９ａが形成されている。これらの配線３９ａは、駆動用ＩＣ３ａ及び３ｂの出力用端子、例えば出力用バンプから、第１辺１６ｃに対向する第２辺１６ｆへ向かって延びている。各配線３９ａは、２つの辺１６ｄ及び１６ｅのそれぞれに平行な本線部分４９ａと、それに対してほぼ９０°で折れ曲がる部分４９ｂとによって構成されている。
【００６１】
図９において、シール材１３の内部には、球形又は円筒形の導通材４２が不規則な分散状態で含まれている。図１１に示す素子基板１２と図１０に示すカラーフィルタ基板１１とを図９に示すように貼り合わせたとき、素子基板１２側の配線３９ａの折れ曲がり部４９ｂの先端のパッド部分と、カラーフィルタ基板１１側の線状電極２３ａの端部とが導通材４２によって導通される。これにより、カラーフィルタ基板１１側の電極２３ａが素子基板１２側の配線３９ａを通して駆動用ＩＣ３ａに電気的に接続される。
【００６２】
なお、電極２３ａと配線３９ａとの導通は、図９の左辺側と右辺側との間で交互に実現されている。しかしながら、これに代えて、表示領域Ｖの上半分に関しては左辺側又は右辺側の一方で導通を行い、表示領域Ｖの下半分に関しては左辺側又は右辺側の他方で導通を行うという駆動方法を採用することもできる。
【００６３】
図１１において、素子基板１２上に形成されたライン配線３３は、同じく素子基板１２上に形成された配線３９ｂを通して駆動用ＩＣ３ｂの出力端子、例えば出力バンプに接続される。配線３９ａ及び３９ｂはＣｒ単体や、Ｃｒ／Ｔａ（すなわち、第１層がＴａで第２層がＣｒの積層構造）や、ＩＴＯ／Ｃｒ／Ｔａ（すなわち、第１層がＴａで、第２層がＣｒで、第３層がＩＴＯの積層構造）等によって形成される。これらの配線３９ａ及び３９ｂは、素子基板１２上にＴＦＤ３１やドット電極２３ｂを形成する際に、同時に形成することができる。
【００６４】
なお、図４の素子基板１２の張出し部２９上において、駆動用ＩＣ３はＡＣＦ（Ａｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃ Ｃｏｎｄｕｃｔｉｖｅ Ｆｉｌｍ：異方性導電膜）４３によって実装されている。ＡＣＦ４３は、熱硬化性樹脂又は紫外線硬化性樹脂の内部に導電粒子を分散することによって形成されている。駆動用ＩＣ３の本体部分は熱硬化性樹脂等によって基板の張出し部２９上に固着される。また、駆動用ＩＣ３の出力バンプと配線３９ａ，３９ｂとが、さらには、駆動用ＩＣ３の入力バンプと外部接続用端子４４とが、ＡＣＦ４３に含まれる導電粒子によって導電接続される。
【００６５】
外部接続端子４４には、図示しない配線基板、例えば可撓性配線基板が、ハンダ付け、ＡＣＦ、ヒートシール等といった導電接続手法によって接続される。この配線基板を介して、電子機器、例えば携帯電話機、携帯情報端末機から液晶装置１へ信号、電力等が供給される。
【００６６】
図７において、個々の表示ドットＤは、ほぼ、ドット電極２３ｂと同じ大きさの面積となっている。また、鎖線で示すドット電極２３ｂは、実線で示す着色層１９よりも少し大きく描いてあるが、これは構造を分かり易く示すためであり、それらの平面形状は、実際には、ほとんど同じ形状で、互いに重なり合っている。また、ドット状の個々の着色層１９は、個々の表示ドットＤに対応して形成される。
【００６７】
図５及び図６において、反射層１８には個々の表示ドットＤに対応して開口４６が設けられる。これらの開口４６は、図７に示すように、平面的に見て長方形状に形成されている。なお、図７では破線で示す開口４６が、実線で示すオーバーコート層２２の貫通穴２８よりも少し大きく描いてあるが、平面的に見たときの両者の周縁は、ほぼ一致する。
【００６８】
本実施形態のように、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色から成る着色層１９を用いてカラー表示を行う場合は、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色に対応する３つの着色層１９に対応する３つの表示ドットＤによって１つの画素が形成される。他方、着色層を用いないで白黒等といったモノカラー表示を行う場合は、１つの表示ドットＤによって１つの画素が形成される。
【００６９】
図５及び図６において、個々の表示ドットＤの中で反射層１８が設けられた部分Ｒが反射部であり、開口４６が形成された部分Ｔが透過部である。観察側から入射した外部光、すなわち素子基板１２側から入射した外部光Ｌ０（図５参照）は、反射部Ｒで反射する。一方、図４の照明装置４の導光体７から出射した光Ｌ１（図５参照）は、透過部Ｔを透過する。
【００７０】
以上の構成から成る本実施形態によれば、太陽光、室内光等といった外部光が強い場合は、外部光Ｌ０が反射部Ｒで反射して液晶層１４へ供給される。この反射光が反射型表示に用いられる。一方、図４の照明装置４が点灯した場合は、導光体７から出射する平面状の光が、図５の透過部Ｔを通して液晶層１４へ供給される。この透過光が透過型表示に用いられる。このような反射型表示及び透過型表示を希望に応じて選択して実行することにより、半透過反射型の表示が行われる。
【００７１】
液晶層１４を挟持する線状電極２３ａ及びドット電極２３ｂの一方、本実施形態では線状電極２３ａに走査信号が印加される。一方、線状電極２３ａ及びドット電極２３ｂの他方、本実施形態ではドット電極２３ｂにデータ信号が印加される。走査信号とデータ信号が印加された表示ドットＤに付属するＴＦＤ３１はＯＮ状態となり、当該表示ドットＤにおける液晶分子の配向状態が該表示ドットＤを通過する光を変調するように維持される。そして、この変調された光が図４の偏光板２７ｂを通過するか、しないかによって、素子基板１２の外側に、文字、数字、図形等といった希望の像が表示される。外部光Ｌ０を用いて表示が行われる場合が反射型表示であり、透過光Ｌ１を用いて表示が行われる場合が透過型表示である。
【００７２】
反射型表示が行われるとき、反射光Ｌ０は液晶層１４を２回通過する。また、透過型表示が行われるとき、透過光Ｌ１は液晶層１４を１回だけ通過する。このため、仮に、液晶層１４の層厚が反射部Ｒと透過部Ｔとにわたって均一であると、反射光Ｌ０を用いた反射型表示と透過光Ｌ１を用いた透過型表示との間で、液晶層１４を通過する距離に違いが生じ、反射型表示と透過型表示との間で表示品質が異なるという問題が生じるおそれがある。
【００７３】
このことに関し、本実施形態では、オーバーコート層２２に貫通穴２８を設けることにより、透過部Ｔでの液晶層１４の層厚Ｅを厚く、反射部Ｒでの層厚Ｆを薄くしているので、反射型表示と透過型表示との間で均一な表示品質を得られるようになっている。
【００７４】
以上が、本発明に係る電気光学装置の製造方法によって製造される液晶装置の一例の説明である。以下、その液晶装置の製造方法について説明する。
【００７５】
図３は、その製造方法の一実施形態を工程図によって示している。この工程図において、工程Ｐ１１から工程Ｐ１５が図４の素子基板１２を形成するための工程である。また、工程Ｐ２１から工程Ｐ２８が図４のカラーフィルタ基板１１を形成するための工程である。また、工程Ｐ３１から工程Ｐ３９がそれらの基板を組み合わせて液晶装置を完成させるための工程である。
【００７６】
なお、本実施形態の製造方法では、図４に示すカラーフィルタ基板１１及び素子基板１２を１つずつ形成するのではなく、カラーフィルタ基板１１に関しては、図１に示すように、複数のカラーフィルタ基板１１を形成できる大きさの面積を有する第１マザー基板５１を用いて複数のカラーフィルタ基板１１を同時に形成する。また、素子基板１２に関しては、図２に示すように、複数の素子基板１２を形成できる大きさの面積を有する第２マザー基板５２を用いて複数の素子基板１２を同時に形成する。第１マザー基板５１及び第２マザー基板５２は、例えば、透明なガラス、透明なプラスチック等によって形成される。
【００７７】
まず、図３の工程Ｐ１１において、図２の第２マザー基板５２の表面に図８のＴＦＤ３１及びライン配線３３を図１１に示すように形成する。次に、図３の工程Ｐ１２において、図１１のドット電極２３ｂをＩＴＯを材料としてフォトリソグラフィー処理及びエッチング処理によって形成する。次に、図３の工程Ｐ１３において、図５の配向膜２４ｂを塗布や印刷等によって形成、さらに工程Ｐ１４において、その配向膜２４ｂに配向処理、例えばラビングを施す。
【００７８】
次に、工程Ｐ１５において、図４に示す柱状スペーサ４７を、例えば感光性樹脂を材料としてフォトリソグラフィー処理により、図７に示すように表示ドットＤの外側領域に所定の高さで形成する。また、この工程において、柱状スペーサ４７を形成するのと同時に、図２に示すように、複数の素子基板１２の外側領域であって、特に第２マザー基板５２の周辺領域に第２係合部としての複数の突起５４を形成する。これらの突起５４は、図１２（ａ）及び（ｂ）に示すように、円柱や角柱等といった柱状に形成される。
【００７９】
これらの柱状突起５４は柱状スペーサ４７と同じ材料によって形成されるが、これらの柱状突起５４の外径や高さは柱状スペーサ４７の外径や高さとは無関係に、図２の第２マザー基材５２と図１の第１マザー基材５１とを貼り合わせることに関して都合の良い適宜の寸法に設定される。以上により、図２の第２マザー基材５２の上に複数の素子基板１２が形成される。
【００８０】
次に、図３の工程Ｐ２１において、図１の第１マザー基板５１の表面上に図５の樹脂層１７の第１層１７ａを、例えば感光性樹脂を材料としてフォトリソグラフィー処理によって形成する。その第１層１７ａの表面には微細な凹凸が形成される。その後、第１層１７ａの上に同じ材料の第２層１７ｂを薄く塗布して、樹脂層１７を形成する。第２層１７ｂを塗布するのは、樹脂層１７の表面を滑らかにするためである。
【００８１】
次に、図３の工程Ｐ２２において、図５の反射層１８を、例えばＡｌやＡｌ合金等を材料としてフォトリソグラフィー処理及びエッチング処理によって形成する。このとき、表示ドットＤごとに開口４６を形成することにより、反射部Ｒと透光部Ｔを形成する。次に、図３の工程Ｐ２３において、図５の遮光層２１を、例えばＣｒを材料としてフォトリソグラフィー処理及びエッチング処理によって所定のパターン、例えば複数の表示ドットＤの周りを埋める格子状に形成する。
次に、図３の工程Ｐ２４において、図５の着色層１９をＲ，Ｇ，Ｂの各色ごとに順々に形成する。例えば、各色の顔料や染料を感光性樹脂に分散させて成る着色材料をフォトリソグラフィー処理によって所定の配列に形成する。また、この着色層１９の形成と同時に、図１の第１マザー基材５１においてカラーフィルタ基板１１の外側領域であって、特に第１マザー基材５１の周辺領域に、第１係合部としての複数の凹部５３の土台部分５３ａを、図１２（ｂ）に示すように、Ｂ，Ｇ，Ｒの各色着色材料の積み重ねによって形成する。凹部５３は図２の柱状突起５４を嵌め込むための部材であり、それ故、複数の凹部５３と複数の柱状突起５４は、同じ数及び同じ間隔で形成される。
【００８２】
次に、図３の工程Ｐ２５において、図５のオーバーコート層２２を、例えばアクリル樹脂、ポリイミド樹脂等といった感光性樹脂を材料としてフォトリソグラフィー処理によって形成する。このとき、各表示ドットＤごとに貫通穴２８を形成することにより、反射部Ｒにおける液晶層１４の層厚Ｆを薄く、透過部Ｔにおける液晶層１４の層厚Ｅを厚くするという構造、いわゆる半透過反射方式に対応したマルチギャップ構造を実現する。
【００８３】
また、この工程Ｐ２５においてオーバーコート層２２を形成するのと同時に、図１２（ｂ）に示すように、凹部５３の土台部分５３ａの上に、オーバーコート層２２と同じ材料を載せることによって被覆層５３ｂを形成することにより、凹部５３を形成する。凹部５３を土台５３ａと被覆層５３ｂとの多層構造とする理由は、いずれか１つの材料による単層構造では凹部５３を十分に高くできないからである。
【００８４】
次に、図３の工程Ｐ２６において、図５の線状電極２３ａをＩＴＯを材料としてフォトリソグラフィー処理及びエッチング処理によって形成し、さらに図３の工程Ｐ２７において図５の配向膜２４ａを形成し、さらに図３の工程Ｐ２８において配向処理としてのラビング処理を行う。以上により、図１の第１マザー基材５１の上に複数のカラーフィルタ基板１１が形成される。
【００８５】
その後、図３の工程Ｐ３１において、図１２（ａ）及び図１２（ｂ）に示すように柱状突起５４と凹部５３とを互いに嵌合させながら、図１の第１マザー基材５１と図２の第２マザー基材５２とを貼り合わせる。これにより、第１マザー基材５１と第２マザー基板５２とが個々の液晶装置の領域において図４に示すようにシール材１３を挟んで貼り合わされた構造の大面積のパネル構造体が形成される。
【００８６】
このとき、柱状突起５４及び凹部５３はフォトリソグラフィー処理によって決められた位置に精度高く形成できるので、それらの嵌合を基準として貼り合わされた第１マザー基材５１と第２マザー基材５２は常に安定して一定の位置関係となる。なお、必要であれば、第１マザー基板５１と第２マザー基板５２との間に接着剤や粘着剤を介在させておいて、両基板を軽く接着させても良い。
【００８７】
従来であれば、第１マザー基材５１又は第２マザー基材５２の一方にアライメントマークを形成し、さらにそれらの一方に接着剤又は粘着剤を塗布し、アライメントマークを参照して両基材を位置合わせしながら、接着剤等によって両基板を仮接着するという工程が必須であった。しかしながら、本実施形態によればそのような仮接着工程は不要である。
【００８８】
本実施形態では、柱状突起５４と凹部５３との嵌合によって第１マザー基板５１と第２マザー基板との相対位置が自動的に決まるので、アライメントマークを用いた基板の位置合わせ処理は基本的には不要であるが、柱状突起５４及び凹部５３の位置精度を確認するためにアライメントマークを使用することもできる。
次に、以上のようにして形成された大面積のパネル構造体に含まれるシール材１３（図４参照）を、工程Ｐ３２において硬化させて両基板５１及び５２を接着する。次に、工程Ｐ３３において、例えば図１及び図２に符号Ｘ０で示す切断線に従ってパネル構造体を切断する。この切断、すなわち１次ブレイクにより、図４の液晶パネル２の複数が１列に並んだ状態で含まれる中面積のパネル構造体、いわゆる短冊状のパネル構造体が複数形成される。シール材１３には予め適所に開口（図示せず）が形成されており、上記の１次ブレイクによって短冊状のパネル構造体が形成されると、そのシール材の開口が外部に露出する。
【００８９】
次に、図３の工程Ｐ３４において、上記のシール材の開口を通して各液晶パネル部分の内部へ液晶を注入し、その注入の完了後、その開口を樹脂によって封止する。次に、工程Ｐ３５において、２回目の切断、すなわち２次ブレイクを行い、短冊状のパネル構造体から図４に示す個々の液晶パネル２を切り出す。本実施形態では図２の第２マザー基板５２と図１の第１マザー基板５１とが突起５４と凹部５３との嵌合によって非常に位置精度高く貼り合わされるので、最終的に切り出された液晶パネル２における第１基材１６ａと第２基材１６ｂとの貼り合わせ位置も非常に精度高く行われ、従って、線状電極２３ａとドット電極２３ｂの位置ズレも非常に小さい。このため、遮光層２１の幅を位置ズレを考慮した広い幅にする必要がなく、狭い線幅とすることができ、それ故、液晶装置１の表示における開口率を高くできる。
【００９０】
次に、図３の工程Ｐ３６において、図４の液晶パネル２に位相差板２６ａ及び２６ｂを貼着によって装着し、さらに、偏光板２７ａ及び２７ｂを貼着によって装着する。次に、工程Ｐ３７において、図９に示した素子基板１２の張出し部２９の辺縁にＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ Ｐｒｉｎｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ）やヒートシール等を接続し、さらに、工程Ｐ３９において、図４の照明装置４を取り付ける。これにより、液晶装置１が完成する。
【００９１】
（変形例）
以上の実施形態では、図２の第２マザー基板５２に第２係合部として柱状突起５４を設け、図１の第１マザー基板５１に第１係合部として凹部５３を設けたが、この構成とは逆に、図２の第２マザー基板５２に第２係合部として凹部５３を設け、図１の第１マザー基板５１に第１係合部として柱状突起５４を設けることもできる。
【００９２】
また、上記の実施形態では、図１２に示したように、凹部５３の土台５３ａをＢ，Ｇ，Ｒの着色材料によってリング状に形成したが、これに代えて、図１３（ａ）及び図１３（ｂ）に示すように、土台５３ａをＢ，Ｇ，Ｒの着色材料によって円盤状に形成しても良い。
【００９３】
また、柱状突起５４は、図１４（ｂ）に示すように、頂部を切断した状態の円錐形状に形成できる。この場合、凹部５３の内周面には、柱状突起５４の外周面の傾斜に対応した傾斜を付けるのが望ましい。また、図１５（ａ）及び図１５（ｂ）に示すように、土台５３ａをＢ，Ｇ，Ｒの着色材料によって円盤形状に形成した上で、柱状突起５４の外周面及び凹部５３の被覆層５３ｂの内周面に傾斜を付けることもできる。
【００９４】
上記の実施形態では、図３の工程Ｐ１５で示したように、図４の素子基板１２の表面に柱状スペーサ４７を形成するときに図２の柱状突起５４を形成したが、柱状突起５４又はそれ以外の形状の係合部は、素子基板１２を構成するそれ以外の任意の構成要素と同時に形成することもできる。また、柱状突起５４又はそれ以外の形状の係合部を独立した工程で形成しても良い。
【００９５】
また、上記の実施形態では、図３の工程Ｐ２４で土台を５３ａを形成し、さらに、工程Ｐ２５で被覆層５３ｂを形成することにより、凹部５３を形成した。これに代えて、いずれか一方の工程だけで凹部５３を形成すること、すなわち凹部５３を単層構造とすることもできる。また、凹部５３又はそれ以外の形状の係合部を、工程Ｐ２４や工程Ｐ２５以外の工程において形成することもできる。
【００９６】
また、図２の第２マザー基板５２と図１の第１マザー基板５１とを貼り合わせるときに係合する第１係合部５３及び第２係合部５４の形状は、柱状突起と凹部との組み合わせに限られず、その他の任意の形状とすることができる。
【００９７】
また、上記実施形態では、ＴＦＤを用いた液晶装置に本発明を適用したが、本発明は、ＴＦＤ以外の２端子型スイッチング素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置にも適用できる。また、本発明は、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）等といった３端子型スイッチング素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置にも適用できる。また、本発明は、スイッチング素子を用いない単純マトリクス方式の液晶装置にも適用できる。
【００９８】
また、本発明は、液晶装置以外の電気光学装置、例えば、有機ＥＬ装置、無機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ装置（ＰＤＰ：Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ）、電気泳動ディスプレイ（ＥＰＤ：Ｅｌｅｃｔｒｏｐｈｏｒｅｔｉｃ Ｄｉｓｐｌａｙ）、フィールドエミッションディスプレイ装置（ＦＥＤ：Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ：電界放出表示装置）にも適用できる。
【００９９】
（電気光学装置及び電気光学装置用基板の第１実施形態）
図１６は、電気光学装置の一例である液晶装置に本発明を適用した場合の実施形態を示している。この液晶装置は図４に示した液晶装置１に本発明を適用したものであり、図４の矢印Ａに従った平面図に相当する。但し、図１６では主に電極や配線を示していて、配向膜、着色層等といったその他の光学要素の図示は省略している。また、矢印Ａ方向から見て手前側にある基板、すなわち素子基板１２は仮想線で示してある。
【０１００】
図１及び図２を用いて説明した先の実施形態では、係合部としての凹部５３及び柱状突起５４を、それぞれ、第１マザー基板５１及び第２マザー基板５２に設け、カラーフィルタ基板１１及び素子基板１２に関しては特別な処理を施さなかった。これに対し、本実施形態では、図１７に示すように、電気光学装置用基板であるカラーフィルタ基板１１１のそれ自体に係合部としての凹部５３を形成する。また、図１８に示すように、もう一方の電気光学装置用基板である素子基板１１２のそれ自体に係合部としての柱状突起５４を形成する。これらの凹部５３及び柱状突起５４は、図３に示した製造方法と同じ方法によって形成できる。
【０１０１】
図１７のカラーフィルタ基板１１１と図１８の素子基板１１２は、図１６に示すように、柱状突起５４が凹部５３に嵌り込んだ状態、すなわち嵌合した状態で互いにシール材１３によって貼り合わされる。柱状突起５４及び凹部５３はフォトリソグラフィー処理等によって位置的に非常に高精度に形成されるので、それらを基準にして貼り合わされた両基板１１１及び１１２は常に安定して一定の位置関係を保持する。それ故、図５及び図６の遮光層２１の幅を必要以上に広く設定する必要がなくなるので、開口率を高くでき、従って、明るい表示を行うことができる。
【０１０２】
なお、本実施形態では、図１６に示すように、液晶装置１０１の表示領域Ｖの外側の非表示領域、いわゆる額縁領域の４つの角部の領域に係合部、すなわち柱状突起５４及び凹部５３を設けた。しかしながら、係合部は額縁領域内のその他の位置に設けることができる。なお、本実施形態のように電気光学装置用基板であるカラーフィルタ基板１１１（図１７）や素子基板１１２（図１８）の内部領域に係合部を設ける場合には、図１や図２のようにマザー基板上には係合部５３，５４を設けても、あるいは設けなくても良い。
【０１０３】
（電気光学装置及び電気光学装置用基板の第２実施形態）
図１９は、電気光学装置の一例である液晶装置に本発明を適用した場合の他の実施形態の主要部分を示している。本実施形態の液晶装置の全体的な構成は図４に示した液晶装置１と同じである。また、図１９に示した部分は、先の実施形態における図７に示した部分に相当する。
【０１０４】
図１９に示す本実施形態が図７に示した先の実施形態と異なる点は、図４の素子基板１２に形成した柱状スペーサ４７を位置合わせのための係合部として兼用することである。すなわち、本実施形態では、図４のカラーフィルタ基板１１上であって、図１９に示すように柱状突起４７に嵌合できる位置、すなわち表示ドットＤの外側領域に係合部としての凹部５３を形成する。すなわち、本実施形態では、図４の表示領域Ｖの内部領域であって、図１９に示す表示ドットＤの外側領域に係合部５３及び５４が設けられる。
【０１０５】
なお、図１９に示す実施形態では、柱状スペーサ４７の全てに対応して凹部５３を設け、それらを嵌合させるようにしたが、これに代えて、一部のスペーサ４７に対応して凹部５３を設けるようにしても良い。本実施形態によれば、素子基板１２に設けた柱状スペーサ４７を係合部として兼用することにより、素子基板１２とカラーフィルタ基板１１との相対的な位置を常に安定して一定の位置関係に保持できる。
【０１０６】
（変形例）
図１６の実施形態では、図１７のカラーフィルタ基板１１１に係合部として凹部５３を設け、図１８の素子基板１１２に係合部として柱状突起５４を設けたが、これとは逆に、図１７のカラーフィルタ基板１１１に係合部として柱状突起を設け、図１８の素子基板１１２に係合部として凹部を設けることもできる。
【０１０７】
また、上記実施形態では、ＴＦＤを用いた液晶装置に本発明を適用したが、本発明は、ＴＦＤ以外の２端子型スイッチング素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置にも適用できる。また、本発明は、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）等といった３端子型スイッチング素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置にも適用できる。また、本発明は、スイッチング素子を用いない単純マトリクス方式の液晶装置にも適用できる。
【０１０８】
また、本発明は、液晶装置以外の電気光学装置、例えば、有機ＥＬ装置、無機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ装置（ＰＤＰ：Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ）、電気泳動ディスプレイ（ＥＰＤ：Ｅｌｅｃｔｒｏｐｈｏｒｅｔｉｃ Ｄｉｓｐｌａｙ）、フィールドエミッションディスプレイ装置（ＦＥＤ：Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ：電界放出表示装置）にも適用できる。
【０１０９】
（電子機器の実施形態）
次に、本発明に係る電子機器の実施形態を図面を用いて説明する。図２０は、電子機器の一実施形態のブロック図を示している。ここに示す電子機器は、液晶装置１と、これを制御する制御手段８０とを有する。液晶装置１は、液晶パネル８１と、半導体ＩＣ等で構成される駆動回路８２とを有する。また、制御手段８０は、表示情報出力源８３と、表示情報処理回路８４と、電源回路８６と、タイミングジェネレータ８７とを有する。
【０１１０】
表示情報出力源８３は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）やＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）等から成るメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等から成るストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを有する。タイミングジェネレータ８７によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路８４に供給するように構成されている。
【０１１１】
表示情報処理回路８４は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等といった周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路８２へ供給する。駆動回路８２は、走査線駆動回路、データ線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路８６は、上記の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。
【０１１２】
図２１は、本発明を電子機器の一例である携帯電話機に適用した場合の一実施形態を示している。ここに示す携帯電話機７０は、本体部７１と、これに開閉可能に設けられた表示体部７２とを有する。液晶装置等といった電気光学装置によって構成された表示装置７３は、表示体部７２の内部に配置され、電話通信に関する各種表示は、表示体部７２にて表示画面７４によって視認できる。本体部７１の前面には操作ボタン７６が配列して設けられる。
【０１１３】
表示体部７２の一端部からアンテナ７７が出没自在に取付けられている。受話部７８の内部にはスピーカが配置され、送話部７９の内部にはマイクが内蔵されている。表示装置７３の動作を制御するための制御部は、携帯電話機の全体の制御を司る制御部の一部として、又はその制御部とは別に、本体部７１又は表示体部７２の内部に格納される。
【０１１４】
図２２は、電子機器の一例である携帯情報機器に本発明を適用した場合の実施形態を示している。ここに示す携帯情報機器９０は、タッチパネルを備えた情報機器であり、電気光学装置としての液晶装置９１を搭載している。この情報機器９０は、液晶装置９１の表示面によって構成される表示領域Ｖと、その表示領域Ｖの下方に位置する第１入力領域Ｗ１とを有する。第１入力領域Ｗ１には入力用シート９２が配置されている。
【０１１５】
液晶装置９１は、長方形状又は正方形状の液晶パネルと、同じく長方形状又は正方形状のタッチパネルとが平面的に重なり合う構造を有する。タッチパネルは入力用パネルとして機能する。タッチパネルは、液晶パネルよりも大きく、この液晶パネルの一端部から突き出した形状となっている。
【０１１６】
表示領域Ｖ及び第１入力領域Ｗ１にはタッチパネルが配置されており、表示領域Ｖに対応する領域も、第１入力領域Ｗ１と同様に入力操作可能な第２入力領域Ｗ２として機能する。タッチパネルは、液晶パネル側に位置する第２面とこれと対向する第１面とを有しており、第１面の第１入力領域Ｗ１に相当する位置に入力用シート９２が貼られている。
【０１１７】
入力用シート９２にはアイコン９３及び手書き文字認識領域Ｗ３を識別するための枠が印刷されている。第１入力領域Ｗ１においては、入力用シート９２を介してタッチパネルの第１面に指やペン等といった入力手段で荷重をかけることにより、アイコン９３の選択や文字認識領域Ｗ３での文字入力等といったデータ入力を行うことができる。
【０１１８】
一方、第２入力領域Ｗ２においては、液晶パネルの像を観察することができるほか、液晶パネルに例えば入力モード画面を表示させ、タッチパネルの第１面に指やペンで荷重をかけることにより、その入力モード画面内の適宜の位置を指定することができ、これにより、データ入力等を行うことができる。
【０１１９】
（変形例）
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変でき
例えば、本発明に係る電子機器としては、以上に説明した携帯電話機や携帯情報機器の他にも、パーソナルコンピュータ、液晶テレビ、デジタルスチルカメラ、腕時計、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、その他各種の機器が考えられる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る電気光学装置用マザー基板の一実施形態であるカラーフィルタ基板用のマザー基板を示す平面図である。
【図２】本発明に係る電気光学装置用マザー基板の他の実施形態である素子基板用のマザー基板を示す平面図である。
【図３】本発明に係る電気光学装置の製造方法の一実施形態を示す工程図である。
【図４】図３の製造方法によって製造される液晶装置、すなわち電気光学装置の一例を示す断面図である。
【図５】図４の要部を示す断面図であって、図７のＸ−Ｘ線に従った断面図である。
【図６】図５の断面図であって、図７のＹ−Ｙ線に従った断面図である。
【図７】図４に示す液晶パネルの内部の平面構造の主要部分を示す平面図である。
【図８】図４に示す液晶パネル内に設けられるスイッチング素子の一例を示す斜視図である。
【図９】図４に示す液晶装置を矢印Ａ方向から見た場合の平面図である。
【図１０】図４の矢印Ａに従ってカラーフィルタ基板を示す平面図である。
【図１１】図４の矢印Ａに従って素子基板を示す平面図である。
【図１２】（ａ）は係合部の一実施形態を示す平面図であり、（ｂ）はその係合部の断面図である。
【図１３】（ａ）は係合部の他の実施形態を示す平面図であり、（ｂ）はその係合部の断面図である。
【図１４】（ａ）は係合部のさらに他の実施形態を示す平面図であり、（ｂ）はその係合部の断面図である。
【図１５】（ａ）は係合部のさらに他の実施形態を示す平面図であり、（ｂ）はその係合部の断面図である。
【図１６】本発明に係る電気光学装置の一実施形態を一部破断して示す平面図である。
【図１７】図１６の電気光学装置を構成する一方の基板であって、本発明に係る電気光学装置用基板の一実施形態を示す平面図である。
【図１８】図１６の電気光学装置を構成する他方の基板であって、本発明に係る電気光学装置用基板の他の実施形態を示す平面図である。
【図１９】本発明に係る電気光学装置の他の実施形態における主要部分を示す平面図であり、同時に、本発明に係る電気光学装置用基板の他の実施形態の主要部分を示す平面図である。
【図２０】本発明に係る電子機器の一実施形態を示すブロック図である。
【図２１】本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示す斜視図である。
【図２２】本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯情報端末機を示す斜視図である。
【符号の説明】
１，１０１：液晶装置（電気光学装置）、２：液晶パネル、３：駆動用ＩＣ、４：照明装置、１１，１１１：カラーフィルタ基板（電気光学装置用基板）、１２，１１２：素子基板（電気光学装置用基板）、１３：シール材、１４：液晶層、１６ａ，１６ｂ：基材、１７：樹脂層、１７ａ：第１層、１７ｂ：第２層、１８：反射層、１９：着色層、２１：遮光層、２２：オーバーコート層、２３ａ，２３ｂ：電極、２４ａ，２４ｂ：配向膜、２８：貫通穴、３１：ＴＦＤ、３９ａ，３９ｂ：配線、４６：反射層の開口、４７：柱状スペーサ、４９ａ：本線部分、４９ｂ：折れ曲がり部、５１：第１マザー基板、５２：第２マザー基板、５３：凹部（係合部）、５３ａ：土台、５３ｂ：被覆層、５４：柱状突起（係合部）、７０：携帯電話機（電子機器）、９０：携帯情報機器（電子機器）、Ｄ：表示ドット、Ｅ：液晶層の厚い部分、Ｆ：液晶装置の薄い部分、Ｌ０：外部光、Ｌ１：照明光、Ｒ：反射部、Ｔ：透過部、Ｖ：表示領域

Claims (17)

1. マザー基材に複数の電気光学装置用基板が形成されて成る電気光学装置用マザー基板であって、
   前記複数の電気光学装置用基板の外側領域に係合部を有する
   ことを特徴とする電気光学装置用マザー基板。
2. 請求項１に記載の電気光学装置用マザー基板において、前記係合部は前記マザー基材の周辺領域に設けられることを特徴とする電気光学装置用マザー基板。
3. マザー基材に複数の電気光学装置用基板が形成されて成る電気光学装置用マザー基板であって、
   前記複数の電気光学装置用基板の少なくとも１つの内部領域に係合部を有することを特徴とする電気光学装置用マザー基板。
4. 請求項３に記載の電気光学装置用マザー基板において、
   前記複数の電気光学装置用基板のそれぞれは複数の表示ドットが形成される表示領域を有し、
   前記係合部は前記電気光学装置用基板の内部領域であって前記表示領域の外側領域に設けられることを特徴とする電気光学装置用マザー基板。
5. 請求項３に記載の電気光学装置用マザー基板において、
   前記複数の電気光学装置用基板のそれぞれは複数の表示ドットが形成される表示領域を有し、
   前記係合部は、前記電気光学装置用基板の内部領域であって前記表示領域における表示ドットの外側領域に設けられることを特徴とする電気光学装置用マザー基板。
6. 請求項１から請求項５の少なくともいずれか１つに記載の電気光学装置用マザー基板において、前記係合部は凸部又は凹部であることを特徴とする電気光学装置用マザー基板。
7. 基材と、該基材上に設けられる複数の表示ドットによって形成される表示領域と、該表示領域の外側領域に設けられた係合部とを有することを特徴とする電気光学装置用基板。
8. 基材と、該基材上に設けられる複数の表示ドットによって形成される表示領域と、該表示領域の内部領域であって前記表示ドットの外側領域に設けられた係合部とを有することを特徴とする電気光学装置用基板。
9. 請求項７又は請求項８に記載の電気光学装置用基板において、前記係合部は凸部又は凹部であることを特徴とする電気光学装置用基板。
10. 請求項７から請求項９の少なくともいずれか１つに記載の電気光学装置用基板と、
    該電気光学装置用基板に含まれる前記係合部に係合する被係合部を有する対向基板と、
    前記電気光学装置用基板と前記対向基板との間に設けられる電気光学物質層とを有することを特徴とする電気光学装置。
11. 請求項１０に記載の電気光学装置と、該電気光学装置の動作を制御する制御手段とを有することを特徴とする電子機器。
12. 複数の電気光学装置用第１基板が形成される第１マザー基材上に第１係合部を形成する工程と、
    複数の電気光学装置用第２基板が形成される第２マザー基材上に第２係合部を形成する工程と、
    前記第１係合部と前記第２係合部とを係合させた状態で前記第１マザー基材と前記第２マザー基材とを貼り合わせる工程と
    を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
13. 請求項１２に記載の電気光学装置の製造方法において、
    前記第１係合部は前記電気光学装置用第１基板の外側領域の前記第１マザー基材上に形成され、さらに、
    前記第２係合部は前記電気光学装置用第２基板の外側領域の前記第２マザー基材上に形成される
    ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
14. 請求項１３に記載の電気光学装置の製造方法おいて、
    前記第１係合部は前記第１マザー基材の周辺領域に形成され、前記第２係合部は前記第２マザー基材の周辺領域に形成されることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
15. 請求項１２に記載の電気光学装置の製造方法において、
    前記第１係合部は前記電気光学装置用第１基板の内部領域に形成され、さらに、
    前記第２係合部は前記電気光学装置用第２基板の内部領域に形成される
    ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
16. 請求項１５に記載の電気光学装置の製造方法において、
    前記第１係合部は前記電気光学装置用第１基板の内部領域であって表示領域の外側領域に形成され、さらに
    前記第２係合部は前記電気光学装置用第２基板の内部領域であって表示領域の外側領域に形成される
    ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
17. 請求項１５に記載の電気光学装置の製造方法において、
    前記第１係合部は前記電気光学装置用第１基板の内部領域であって表示領域における表示ドットの外側領域に形成され、さらに
    前記第２係合部は前記電気光学装置用第２基板の内部領域であって表示領域における表示ドットの外側領域に形成される
    ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。

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