JP2003262856A - カラーフィルタ基板、電気光学装置及び電子機器、並びにカラーフィルタ基板の製造方法及び電気光学装置の製造方法 - Google Patents

カラーフィルタ基板、電気光学装置及び電子機器、並びにカラーフィルタ基板の製造方法及び電気光学装置の製造方法

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JP2003262856A JP2002063852A JP2002063852A JP2003262856A JP 2003262856 A JP2003262856 A JP 2003262856A JP 2002063852 A JP2002063852 A JP 2002063852A JP 2002063852 A JP2002063852 A JP 2002063852A JP 2003262856 A JP2003262856 A JP 2003262856A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 表示画面周辺の遮光特性を高くし、表示品位
の高い、カラーフィルタ基板、電気光学装置及び電子機
器、並びにカラーフィルタ基板の製造方法及び電気光学
装置の製造方法提供する。 【解決手段】 液晶装置１は、対向基板２ａとカラーフ
ィルタ基板２ｂとの間に液晶１１０を挟持してなる。液
晶装置１は、画素領域１００、この画素領域１００を囲
む第１周辺領域１０１、この第１周辺領域１０１を囲む
第２周辺領域１０２を有している。第１周辺領域１０１
には、画素領域１００に配置される反射用青色着色層１
５０Ｂと同一色材で形成された着色層１２０が配置さ
れ、第２周辺領域１０２には、画素領域１００に配置さ
れる非反射用青色着色層１６０Ｂ、非反射用赤色着色層
１６０Ｒ、非反射用緑色着色層１６０Ｇそれぞれと同一
色材で形成された着色層１４０Ｂ、１４０Ｒ及び１４０
Ｇが積層してなる積層膜１４０が配置されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラー表示を行う
電気光学装置に用いられるカラーフィルタ基板、これを
用いた電気光学装置及び電子機器、並びにカラーフィル
タ基板の製造方法及び電気光学装置の製造方法に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】電気光学装置、例えばスイッチング素子
として用いたアクティブマトリクス型カラー液晶装置
は、互いに対向配置されたカラーフィルタ基板と対向基
板との間に、例えば電気光学物質としての液晶が挟持さ
れて構成される。
【０００３】スイッチング素子として、例えばＴＦＤ
（Thin Film Diode）素子を用いた液晶装置において
は、対向基板上には、複数のストライプ状のライン配線
が配置され、各ライン配線にＴＦＤ素子を介して画素電
極が配置されている。一方、カラーフィルタ基板上に
は、対向基板上のライン配線と直交し、かつ画素電極と
対向するような位置関係で複数のストライプ状の電極が
形成されている。更に、カラーフィルタ基板上には、カ
ラー表示を行うために、赤色着色層（Ｒ）、青色着色層
（Ｂ）及び緑色着色層（Ｇ）が配置されている。このよ
うな液晶装置においては、画素電極とカラーフィルタ上
の電極とが重なる点が１つのドットを構成し、この１つ
のドットに対応してＲ、Ｇ、Ｂのうちの１色絵素が配置
される。そして、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色ドットが１つのユニ
ットとなって１つの画素が形成される。
【０００４】従来、画素が形成される画素領域を囲むよ
うに金属膜による遮光領域を設け、画素領域の周囲を暗
く、すなわち光透過率を下げることにより、画素領域の
コントラストを高め、表示品質を高めていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ような構成の液晶装置においては、遮光領域は表示に関
与しないためＲ、Ｇ、Ｂといった着色層を配置する必要
がないため、画素領域と遮光領域との境界付近における
膜厚の変化が大きくなってしまう。このため、画素領域
と遮光領域との境界付近におけるセルギャップの変化の
大きくなり、表示画面の周辺領域の液晶が配向不良とな
り、金属膜だけでは十分に遮光することができず、液晶
装置の表示品位が著しく低下するという問題があった。
【０００６】本発明は上記問題点を解決するものであ
り、その課題は、表示画面周辺の遮光特性を高くし、表
示品位の高い、カラーフィルタ基板、電気光学装置及び
電子機器、並びにカラーフィルタ基板の製造方法及び電
気光学装置の製造方法提供することにある。
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明のカラーフィルタ基板は、画素領域と該画素領
域を囲む第１領域を有し、第１面を有する基板と、前記
画素領域における前記基板の前記第１面上に配置された
複数の着色層と、前記第１領域における前記基板の前記
第１面上に配置された前記複数の着色層のうちの１つの
着色層と同一材料からなる着色層とを具備することを特
徴とする。
【０００７】本発明のこのような構成によれば、第１領
域に画素領域に配置された着色層と同一層で着色層を形
成するので、画素領域と第１領域との境界付近における
膜の厚みの違いによる段差が生じることない。従って、
画素領域と第１領域との境界付近において、カラーフィ
ルタ基板上に形成された膜は連続的になり、膜厚の変化
が小さくなる。これにより、このようなカラーフィルタ
基板を電気光学装置に組み込んだときに、画素領域と第
１領域との境界付近におけるセルギャップの変化を小さ
くすることができ、電気光学物質としての液晶の配向不
良による表示品位の低下を防止できる。
【０００８】また、前記基板は前記第１領域を囲む第２
領域を有し、前記第２領域における前記基板の前記第１
面上に配置された前記複数の着色層のうち２つ以上の着
色層と同一材料からなる着色材を積層した積層膜とを具
備することを特徴とする。
【０００９】このような構成によれば、第１領域を囲む
第２領域に着色層の積層膜を形成するので、この部分は
遮光領域と機能する。これにより、このようなカラーフ
ィルタ基板を電気光学装置に組み込んだときに、画素領
域のコントラストを高め、表示品位の高い液晶装置を得
ることができる。
【００１０】また、前記第２領域における前記第１面か
らの前記積層膜の高さは、前記画素領域における前記第
１面からの前記着色層の高さより低いことを特徴とす
る。
【００１１】このような構成によれば、このようなカラ
ーフィルタ基板を対向基板と所定の間隙をあけて貼りあ
わせて電気光学装置としたときに、２枚の基板間の間隙
を保持するスペーサなどの保持材が移動することがな
く、基板面内で２枚の基板間の間隙を常に一定とするこ
とができ、電気光学装置の表示品位を損ねることがな
い。
【００１２】また、前記画素領域に配置された反射膜を
更に有することを特徴とする。
【００１３】このような構成によれば、電気光学装置と
して反射型液晶装置や半透過反射型液晶装置といった外
光の光を利用して表示する電気光学装置のカラーフィル
タ基板として用いることができる。
【００１４】また、前記画素領域に配置された光散乱用
樹脂層を更に有し、前記反射膜は前記光散乱用樹脂層上
に設けられていることを特徴とする。
【００１５】このように、光散乱用樹脂層上に反射膜を
成膜したものを用いることができる。この場合、例え
ば、光散乱用樹脂層の表面は凹凸に形成され、反射膜は
この凹凸にそって形成されるので、反射膜表面は凹凸を
有する。これにより、外光からの光は、この反射膜によ
って反射、散乱し、反射光の輝度を高くすることができ
る。
【００１６】また、前記画素領域には複数の画素が設け
られ、該画素は、前記反射膜が配置される反射領域と前
記反射膜が配置されない非反射領域を有することを特徴
とする。
【００１７】このような構成によれば、反射膜に非反射
領域、言い換えれば透過領域を設けることにより、透過
型表示及び反射型表示の双方が行える電気光学装置とし
ての半透過反射型液晶装置のカラーフィルタ基板として
用いることができる。尚、本発明において、画素とは、
電気光学装置としたときに表示画面を構成する最小の単
位を指し、後述する実施形態における１ドットに相当す
る。
【００１８】また、前記反射領域は、前記非反射領域を
囲むように配置されていることを特徴とする。
【００１９】このように、反射領域と非反射領域を設け
ることができる。
【００２０】また、前記反射領域に配置される前記着色
層の厚みと、前記非反射領域に配置される前記着色層の
厚みとが異なることを特徴とする。
【００２１】このように、反射領域に配置される着色層
の厚みと、非反射領域、言い換えると透過領域に配置さ
れる着色層の厚みを異ならせることにより、カラーフィ
ルタ基板を電気光学装置に組み込んだときに、透過型表
示及び反射型表示のどちらでも同じカラー表示品位とす
ることができる。
【００２２】また、前記第１領域に配置された着色層
は、前記反射領域に対応して配置された前記複数の着色
層のうち１つの着色層と同一材料であること特徴とす
る。
【００２３】このような構成によれば、画素領域と第１
周辺領域との境界付近において着色層の厚みによる段差
が生じることがない。すなわち、１つの画素に対応する
着色層は、非反射領域に配置された着色層を囲むよう
に、反射用領域に配置された着色層が位置する構造とな
っているので、マクロ的に画素領域を観察すると、画素
領域の外周部は反射領域に配置された着色層が位置する
ことになるので、この反射領域に配置された着色層の形
成と同一工程かつ同一部材で第１周辺領域に着色層を設
けることにより画素領域と第１周辺領域との境界付近に
おいて着色層の厚みの違いによる段差が生じることがな
い。これにより、このようなカラーフィルタ基板を電気
光学装置に組み込んだときに、画素領域と第１領域との
境界付近におけるセルギャップの変化を小さくすること
ができ、液晶の配向不良による表示品位の低下を防止で
きる。
【００２４】また、前記第２領域に配置された積層膜
は、前記非反射領域に対応して配置された複数の着色層
のうち２つ以上の着色層と同一材料からなる着色材を有
することを特徴とする。
【００２５】このような構成によれば、非反射領域に対
応して配置された着色層は、反射領域に対応して配置さ
れた着色層と比較して遮光性が高いので、このような着
色層を積層することにより遮光性の高い積層膜を得るこ
とができる。
【００２６】また、前記第１領域に配置された着色層は
青色であることを特徴とする。
【００２７】このように着色層として青色を用いること
ができる。一般に着色層としては、青、緑、赤の３原色
が用いられ、このうち青色がもっとも遮光性が高いの
で、第１領域に配置する着色層として青色を用いること
により遮光機能を持たせることができる。
【００２８】本発明の電気光学装置は、上述に記載のカ
ラーフィルタ基板と、前記カラーフィルタ基板に対向配
置された対向基板と、前記カラーフィルタ基板と前記対
向基板との間に挟持された電気光学物質とを具備するこ
とを特徴とする。
【００２９】本発明のこのような構成によれば、画素領
域と第１領域との境界付近におけるセルギャップの変化
を小さくすることができ、電気光学物質としての液晶の
配向不良による表示品位の低下を防止でき、表示品位の
高い電気光学装置を得ることができる。
【００３０】また、前記対向基板上には、前記カラーフ
ィルタ基板の第１領域に対応して金属膜が配置されてい
ることを特徴とする。
【００３１】このような構成によれば、第１領域におけ
る遮光機能を更に高めることができ、画素領域のコント
ラストを高め、更に表示品位の高い液晶装置を得ること
ができる。
【００３２】また、前記金属膜はタンタルを有すること
を特徴とする。
【００３３】このように、金属膜としてはタンタルを有
する膜、例えばタンタル単体、タンタル合金、タンタル
酸化膜などを用いることができる。
【００３４】また、前記電気光学物質を挟持した前記カ
ラーフィルタ基板及び前記対向基板に対し光を照射する
バックライトを具備することを特徴とする。
【００３５】このように、バックライトを配置して透過
表示を行うことができる。
【００３６】また、前記電気光学物質は液晶であること
を特徴とする。
【００３７】このように、電気光学物質として液晶を用
いることができる。
【００３８】本発明の電子機器は、上述に記載の電気光
学装置を具備することを特徴とする。
【００３９】このように、上述に記載の電気光学装置
は、種種の電子機器に用いることができる。
【００４０】本発明のカラーフィルタ基板の製造方法
は、画素領域と該画素領域を囲む第１領域とを有し、第
１面を有する基板を備えたカラーフィルタ基板の製造方
法であって、前記画素領域の一部及び前記第１領域にお
ける前記基板の前記第１面上に、第１着色層を形成する
工程と、前記画素領域の一部を少なくとも除く画素領域
における前記基板の前記第１面上に、第２着色層を形成
する工程を有することを特徴とする。
【００４１】本発明のこのような構成によれば、第１領
域に画素領域に配置された着色層と同一工程及び同一材
料で着色層を形成するので、第１領域に着色層を別に形
成する工程を設ける必要がなく、このような製造方法に
より製造されたカラーフィルタ基板においては、画素領
域と第１領域との境界付近における膜の厚みの違いによ
る段差が生じることない。従って、画素領域と第１領域
との境界付近において、カラーフィルタ基板上に形成さ
れた膜は連続的になり、膜厚の変化が小さくなる。これ
により、このようなカラーフィルタ基板を電気光学装置
に組み込んだときに、画素領域と第１領域との境界付近
におけるセルギャップの変化を小さくすることができ、
電気光学物質としての液晶の配向不良による表示品位の
低下を防止できる。
【００４２】また、前記基板は前記第１領域を囲む第２
領域を有し、前記第１着色層形成工程及び前記第２着色
層形成工程において、前記第２領域における前記基板の
前記第１面上に、前記第１着色層及び前記第２着色層が
互いに重なってなる積層膜を形成することを特徴とす
る。
【００４３】このような構成によれば、第２領域に画素
領域に配置された着色層と同一工程及び同一材料で着色
層を形成するので、第２領域に着色層を別に形成する工
程を設ける必要がなく、このような製造方法により製造
されたカラーフィルタ基板においては、第２領域は遮光
領域として機能する。これにより、このようなカラーフ
ィルタ基板を電気光学装置に組み込んだときに、画素領
域のコントラストを高め、表示品位の高い液晶装置を得
ることができる。
【００４４】また、前記基板は前記第１領域を囲む第２
領域を有し、前記第１着色層及び前記第２着色層が形成
されない前記画素領域における前記基板の前記第１面上
に、第３着色層を形成する工程を更に具備し、前記第１
着色層形成工程、前記第２着色層形成工程及び前記第３
着色層形成工程において、前記第２領域における前記基
板の前記第１面上に、前記第１着色層、前記第２着色層
及び前記第３着色層が互いが重なってなる積層膜を形成
することを特徴とする。
【００４５】このような構成によれば、積層膜を、画素
領域における着色層の形成工程と同一工程で形成するこ
とができ、製造工程数を増やすことなく、遮光機能を有
する積層膜を形成することができる。
【００４６】また、前記第２領域における前記第１面か
らの前記積層膜の高さは、前記画素領域における前記第
１面からの前記着色層の高さより低いことを特徴とす
る。
【００４７】このような製造方法により製造されたカラ
ーフィルタ基板を対向基板と所定の間隙をあけて貼りあ
わせて電気光学装置としたときに、２枚の基板間の間隙
を保持するスペーサなどの保持材が移動することがな
く、基板面内で２枚の基板間の間隙を常に一定とするこ
とができ、電気光学装置の表示品位を損ねることがな
い。
【００４８】また、前記画素領域における前記基板の前
記第１面上に反射膜を形成する工程を更に具備し、該反
射膜形成工程後、前記着色層が形成されることを特徴と
する。
【００４９】このように製造されたカラーフィルタ基板
は、電気光学装置として反射型液晶装置や半透過反射型
液晶装置といった外光の光を利用して表示する電気光学
装置のカラーフィルタ基板として用いることができる。
【００５０】また、前記画素領域における前記基板の前
記第１面上に光散乱用樹脂層を形成する工程を更に具備
し、該光散乱用樹脂層形成工程後、前記反射膜が形成さ
れることを特徴とする。
【００５１】このように、光散乱用樹脂層上に反射膜を
成膜したカラーフィルタ基板を用いることもできる。こ
の場合、例えば、光散乱用樹脂層の表面は凹凸に形成さ
れ、反射膜はこの凹凸にそって形成されるので、反射膜
表面は凹凸を有する。これにより、外光からの光は、こ
の反射膜によって反射、散乱し、反射光の輝度を高くす
ることができる。
【００５２】また、前記第１着色層は青色であることを
特徴とする。
【００５３】このように第１着色層として青色を用いる
ことができる。一般に着色層としては、青、緑、赤の３
原色が用いられ、このうち青色がもっとも遮光性が高い
ので、第１領域に配置する着色層として青色を用いるこ
とにより遮光機能を持たせることができる。
【００５４】また、前記第２着色層は赤色であることを
特徴とする。
【００５５】このように第２着色層として赤色を用いる
ことができる。一般に着色層としては、青、緑、赤の３
原色が用いられ、このうち赤色は青色に次いで遮光性が
高いので、第２領域に例えば２層の積層膜を形成する場
合、３原色のうちの遮光性の高い青色着色層、赤色着色
層を積層して用いることにより、より効果的に遮光機能
を持たせることができる。
【００５６】本発明の他のカラーフィルタ基板の製造方
法は、反射領域及び非反射領域を有する画素が配置され
る画素領域と、該画素領域を囲む第１領域とを有する第
１面を有する基板を備えたカラーフィルタ基板の製造方
法であって、前記反射領域の一部及び前記第１領域にお
ける前記基板の前記第１面上に第１反射用着色層を形成
する工程と、前記反射領域の一部を少なくとも除く前記
反射領域における前記基板の前記第１面上に、第２反射
用着色層を形成する工程と、前記非反射領域の一部にお
ける前記基板の前記第１面上に第１非反射用着色層を形
成する工程と、前記非反射領域の一部を少なくとも除く
前記非反射領域における前記基板の前記第１面上に、第
２非反射用着色層を形成する工程とを有することを特徴
とする。
【００５７】このような構成によれば、第１領域に画素
領域に配置された着色層と同一工程及び同一材料で着色
層を形成するので、第１領域に着色層を別に形成する工
程を設ける必要がない。また、このような製造方法によ
り製造されたカラーフィルタ基板は、半透過反射型液晶
装置に用いることができる。この場合、透過表示に用い
られる非反射用着色層の厚みと、反射表示に用いられる
反射用着色層の厚みが異なり、更に、非反射用着色層を
囲むように反射用着色層が位置する構造をとる場合、こ
のような製造方法によりカラーフィルタ基板を製造する
ことにより、画素領域と第１周辺領域との境界付近にお
いて着色層の厚みによる段差が生じることがない。すな
わち、マクロ的に画素領域を観察すると、画素領域の外
周部は反射用着色層が位置することになるので、この反
射用着色層の形成と同一工程かつ同一部材で第１周辺領
域に着色層を設けることにより画素領域と第１周辺領域
との境界付近において着色層の厚みの違いによる段差が
生じることがない。これにより、このようなカラーフィ
ルタ基板を電気光学装置に組み込んだときに、画素領域
と第１領域との境界付近におけるセルギャップの変化を
小さくすることができ、液晶の配向不良による表示品位
の低下を防止できる。
【００５８】また、前記基板は前記第１領域を囲む第２
領域を有し、前記第１非反射用着色層形成工程及び前記
第２非反射用着色層形成工程において、前記第２領域に
おける前記基板の前記第１面上に、前記第１非反射用着
色層及び前記第２非反射用着色層が互いが重なってなる
積層膜を形成することを特徴とする。
【００５９】このような構成によれば、積層膜を、画素
領域における着色層の形成工程と同一工程で形成するこ
とができ、製造工程数を増やすことなく、遮光機能を有
する積層膜を形成することができる。
【００６０】また、前記基板は前記第１領域を囲む第２
領域を有し、前記第１反射用着色層及び前記第２反射用
着色層が形成されない前記反射領域における前記基板の
前記第１面上に、第３反射用着色層を形成する工程と、
前記第１非反射用着色層及び前記第２非反射用着色層が
形成されない前記非反射領域における前記基板の前記第
１面上に、第３非反射用着色層を形成する工程とを更に
具備し、前記第１非反射用着色層形成工程、前記第２非
反射用着色層形成工程及び前記第３非反射用着色層形成
工程において、前記第２領域における前記基板の前記第
１面上に、前記第１非反射用着色層、前記第２非反射用
着色層及び前記第３非反射用着色層が互いが重なってな
る積層膜を形成することを特徴とする。
【００６１】このような構成によれば、３層構造の積層
膜を、画素領域における着色層の形成工程と同一工程で
形成することができ、製造工程数を増やすことなく、遮
光機能を有する積層膜を形成することができる。
【００６２】また、前記反射領域は前記非反射領域を囲
むように配置され、前記反射領域における前記基板の前
記第１面上に反射膜を形成する工程を更に具備し、該反
射膜形成工程後、前記着色層が形成されることを特徴と
する。
【００６３】このように、反射機構として反射膜を形成
することができる。
【００６４】また、前記画素領域における前記基板の前
記第１面上に光散乱用樹脂層を形成する工程を更に具備
し、該光散乱用樹脂層形成工程後、前記反射膜が形成さ
れることを特徴とする。
【００６５】このように、光散乱用樹脂層を形成するこ
とができる。
【００６６】また、前記反射領域に配置される前記反射
用着色層の厚みと、前記非反射領域に配置される前記非
反射用着色層の厚みとが異なることを特徴とする。
【００６７】このように、反射領域に配置される着色層
の厚みと、非反射領域、言い換えると透過領域に配置さ
れる着色層の厚みを異ならせることにより、カラーフィ
ルタ基板を電気光学装置に組み込んだときに、透過型表
示及び反射型表示のどちらでも同じカラー表示品位とす
ることができる。
【００６８】また、前記第１反射用着色層は青色である
ことを特徴とする。
【００６９】このように第１反射用着色層として青色を
用いることができ、これにより第１領域に形成される着
色層は青色となる。一般に着色層としては、青、緑、赤
の３原色が用いられ、このうち青色がもっとも遮光性が
高いので、第１領域に配置する着色層として青色を用い
ることにより遮光機能を持たせることができる。
【００７０】本発明の電気光学装置の製造方法は、カラ
ーフィルタ基板と対向配置との間に電気光学物質を挟持
した電気光学装置の製造方法において、前記カラーフィ
ルタ基板は、上述に記載のカラーフィルタ基板の製造方
法によって製造されたことを特徴とする。
【００７１】本発明のこのような構成によれば、表示品
位の高い電気光学装置を得ることができる。
【発明の実施の形態】（第１実施形態）以下、本発明
を、電気光学装置として、ＴＦＤ素子をスイッチング素
子として用いるアクティブマトリクス方式でＣＯＧ方式
の半透過反射型液晶装置に適用した場合を例にあげ、図
面を用いて説明する。尚、図面においては、各構成をわ
かりやすくするために、実際の構造と各構成における縮
尺や数などが異なっている。
【００７２】図１は、その液晶装置の一実施形態を示す
平面図であり、図２は、図１に示す液晶装置における画
素領域、第１周辺領域及び第２周辺領域の位置関係を説
明するための平面図である。
【００７３】図１に示す液晶装置１は、図面の手前側に
配置された対向基板２ａと、図面の奥側に配置されたカ
ラーフィルタ基板２ｂとをシール材によって互いに接
合、すなわち貼りあわせることによって形成される。
【００７４】シール材３、対向基板２ａ及びカラーフィ
ルタ基板２ｂによって囲まれる領域は、高さが一定の間
隙、いわゆるセルギャップを構成する。更に、シール材
３の一部には液晶注入口３ａが形成される。上記のセル
ギャップ内には、上記液晶注入口３ａを通して液晶が注
入され、その注入の完了後、液晶注入口３ａが樹脂など
によって封止される。
【００７５】図１において、対向基板２ａは第２基板２
ｂの外側へ張出す基板張出し部２ｃを有し、その基板張
り出し部２ｃ上に液晶駆動用ＩＣ４ａおよび４ｂが導電
接着材、例えばＡＣＦ（Ａｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃ Ｃｏ
ｎｄｕｃｔｉｖｅ Ｆｉｌｍ）６によって実装されてい
る。液晶駆動用ＩＣ４ａと液晶駆動用ＩＣ４ｂとは特性
が異なるものであり、このように特性の異なる２種類の
液晶駆動用ＩＣを用いるのは、対向基板２ａ側とカラー
フィルタ基板２ｂ側とで、還元すれば、走査線駆動系と
信号線駆動系との間で使用する電圧値が異なっているた
め、それらを１つのＩＣチップでまかなうことができな
いからである。
【００７６】各基板の詳細な構造については後述する
が、図１及び図２に示すように、液晶装置１は、表示画
面にほぼ相当する画素領域１００と、この画素領域１０
０を囲むように第１周辺領域１０１と、更にこの第１周
辺領域１０１を囲む第２周辺領域１０２を有している。
第１周辺領域１０１及び第２周辺領域１０２は、ともに
遮光領域として機能する。第１周辺領域１０２は、第１
周辺領域１０２の外縁部とシール材３の内縁部が重なり
あるように配置されている。
【００７７】図３は、図１のＩＩＩ−ＩＩＩ線に従って
切断した液晶装置の断面構造を示す部分断面図である。
図４は、図１のＩＶ−ＩＶ線に従って切断した液晶装置
の断面構造を示す部分断面図である。液晶装置１は、対
向基板２ａとカラーフィルタ基板２ｂとの間隙に、電気
光学物質としての液晶１１０を挟持して構成される。対
向基板２ａとカラーフィルタ基板２ｂとの間隙は、スペ
ーサ１１１によって保持されている。更に、カラーフィ
ルタ基板２ｂの裏側（図３及び図４に示す構造の下側）
には、発光源７及び導光体８を有する照明装置１０がバ
ックライトとして設けられている。
【００７８】図３及び図４において、対向基板２ａは基
板９ａを有し、その基板９ａの表面、すなわち液晶１１
０側の表面に複数の画素電極１４ａが配置される。ま
た、図１に示すように、対向基板２ａの内側表面には、
直線状の複数のライン配線３２が互いに平行にストライ
プ状に配置され、そのライン配線３２に導通するように
ＴＦＤ素子３３が配置され、それらのＴＦＤ素子３３を
介して複数の画素電極１４ａがマトリクス状に配置され
る。また、画素電極１４ａ、ＴＦＤ素子３３及びライン
配線３２の上に、図３及び図４に示すように、配向膜１
６ａが配置される。また、基板９ａの外側表面には位相
差板１７ａが配置され、さらにその上に偏光板１８ａが
配置される。
【００７９】図１において矢印ＶＩＩで示す１個のＴＦ
Ｄ素子の近傍の構造を示すと、例えば図７の通りであ
る。図７に示すのは、いわゆるＢａｃｋ−Ｔｏ−Ｂａｃ
ｋ（バック/ツー・バック）構造のＴＦＤ素子を用いた
ものである。図７において、ライン配線３２は、例えば
ＴａＷ（タンタル・タングステン）によって形成された
第１層３２ａと、例えば陽極酸化膜であるＴａ２Ｏ
５（酸化タンタル）によって形成された第２層３２ｂ
と、例えばＣｒによって形成された第３層３２ｃとから
な成る３層構造に形成されている。
【００８０】また、ＴＦＤ素子３３は、第１ＴＦＤ部３
３ａと第２ＴＦＤ部３３ｂとを直列に接続することによ
って構成されている。第１ＴＦＤ部３３ａ及び第２ＴＦ
Ｄ部３３ｂは、ＴａＷによって形成された第１金属層３
６と、陽極酸化によって形成されたＴａ２Ｏ５の絶縁層
３７と、ライン配線３２の第３層３２ｃと同一層である
Ｃｒの第２金属層３８との３層積層構造によって構成さ
れている。
【００８１】第１ＴＦＤ部３３ａは、ライン配線３２側
からの電流が第２金属層３８→絶縁層３７→第１金属層
３６の順で流れるような積層構造に構成される。他方、
第２ＴＦＤ部３３ｂは、ライン配線３２側からの電流が
第１金属層３６→絶縁層３７→第２金属層３８の順で流
れるような積層構造に構成される。このように一対のＴ
ＦＤ部３３ａ及び３３ｂを電気的に逆向きに直列接続し
てバック・ツー・獏構造のＴＦＤ素子を構成することに
より、ＴＦＤ素子のスイッチング特性の安定が達成され
ている。画素電極１４ａは、第２ＴＦＤ部３３ｂの第２
金属層３８に導通するように、例えばＩＴＯによって形
成される。
【００８２】また、対向基板２ａ上には、第１周辺領域
１０１に対応して、額縁状に金属膜１３０が配置されて
いる。この金属膜１３０は、例えばライン配線３２のＴ
ａＷ（タンタル・タングステン）によって形成された第
１層３２ａと、陽極酸化膜であるＴａ２Ｏ５（酸化タン
タル）によって形成された第２層３２ｂとの積層構造と
することができ、ＴＦＤ素子の形成と同一工程で金属膜
１３０を形成することができる。また、金属膜１３０と
しては、ＴＦＤ素子を構成している第１層３２ａと同じ
工程で成膜されたＴａＷ（タンタル・タングステン）層
の単層であってもよい。
【００８３】図３及び図４において、カラーフィルタ基
板２ｂは、第１面１０９ａを有する基板９ｂを有してい
る。基板９ｂの第１面１０９ａ、すなわち液晶１１０側
の表面には、例えばアクリル系またはエポキシ系の樹脂
材料等から形成される１．４〜２．６μｍの散乱用樹脂
層８１が配置され、更にこの散乱用樹脂層８１上に光反
射性の材料、例えばＡｌからなる１６０〜２６０ｎｍの
反射膜１１が配置されている。尚、図面では省略してい
るが、散乱用樹脂層８１の反射膜１１と接する側の面は
凹凸を有しており、反射膜１１はこの凹凸に沿って成膜
され、反射膜１１の表面は凹凸を有した状態となってい
る。また、反射膜１１には、１ドット毎に光を通過させ
る開口１１ａが形成されている。すなわち、外光を利用
して表示を行う反射型液晶装置として機能する場合に
は、液晶装置１に入射した外光が反射膜１１に反射し、
この反射光を用いて表示が行われ、バックライト１０を
利用して表示を行う透過型液晶装置として機能する場合
には、バックライト１０から出射した光が、反射膜１１
に形成された開口１１ａを通ることによって表示が行わ
れる。本実施形態においては、反射膜１１の一部に開口
を設けて、半透過反射機能を達成しているが、例えば、
反射膜の厚さを光が透過可能な程度に薄く形成すること
によって半透過反射の機能を達成させることもできる。
また、本実施形態においては、外光からの光を効率よく
散乱するため、表面に凹凸を有する散乱用樹脂層８１に
反射膜１１を成膜して、反射膜１１の表面に凹凸を設け
ているが、散乱用樹脂層８１を設けずに、フロスト処理
等によって基板９ｂの表面に凹凸を設け、基板９ｂの凹
凸領域に反射膜１１を設けることによって反射膜１１の
表面に凹凸を設けても良い。また、散乱用樹脂層８１を
設けずに、基板９ｂの平坦な表面に反射膜１１を設け、
反射膜１１の表面を平坦なものとし、基板９ａの外面側
に散乱を生じさせるための散乱層を設ける構成としても
よい。
【００８４】更に、反射膜１１上には、カラーフィルタ
膜及び１．４〜２．６μｍの厚さのオーバーコート層１
３が配置され、その上に第２電極１４ｂが配置され、さ
らにその上に配向膜１６ｂが配置されている。また、基
板９ｂの外側表面には、位相差版１７ｂが配置され、更
にその上に偏光板１８ｂが配置されている。
【００８５】第２電極１４ｂは、図１に示すように、多
数の直線状の電極をライン配線３２と交差するように互
いに平行に並べることによりストライプ状に形成されて
いる。尚、図１では、電極パターンを分かりやすくする
ために、第２電極１４ｂの間隔を大きく広げて模式的に
描いてあるが、実際には、第２電極１４ｂの間隔は画素
電極１４ａのドットピッチに合わせて非常に狭く形成さ
れている。
【００８６】画素電極１４ａと第２電極１４ｂとの交差
点はドットマトリクス状に配列しており、これらの交差
点の個々がそれぞれ１つのドットを構成し、図３及び図
４のカラーフィルタ膜の個々の着色層パターンがその１
ドットに対応する。
【００８７】上述したカラーフィルタ膜は、Ｒ（赤）、
Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３原色が１つのユニットとなって
１画素を構成する。つまり、３ドットが１つのユニット
になって１つの画素を形成している。本実施形態におけ
るカラーフィルタ膜は、第１反射用着色層としての反射
用青色着色層１５０Ｂ、第２反射用着色層としての反射
用赤色着色層１５０Ｒ、第３反射用着色層としての反射
用緑色着色層１５０Ｇ、第１非反射用着色層としての非
反射用青色着色層１６０Ｂ、第２非反射用着色層として
の非反射用赤色着色層１６０Ｒ、第３非反射用着色層と
しての非反射用緑色着色層１６０Ｇから構成されてい
る。
【００８８】次に、図３、図４及び図６を用いて、カラ
ーフィルタ膜及び反射膜との位置関係、これらの構造に
ついて説明する。図６は、図１に示す液晶装置１のカラ
ーフィルタ基板２ｂにおける反射膜１１、着色層及び第
２電極の位置関係を説明する概略斜視図である。図に示
すように、液晶装置１は、１ドット毎に、反射膜１１の
開口１１ｂが１つ設けられた構造となっている。１つの
ドットに対応する反射膜１１の構造は、透過用として用
いられる非反射領域１７０に位置する開口１１ａを囲む
ように、反射用として用いられる反射領域１７１に位置
する反射膜１１が設けられた状態となっている。また、
反射用青色着色層１５０Ｂ、反射用赤色着色層１５０
Ｒ、反射用緑色着色層１５０Ｇは、それぞれ第２電極１
４ｂにほぼ沿ってストライプ状に形成されており、反射
膜１１の開口１１ａに対応する位置には着色層が形成さ
れていない。一方、非反射用青色着色層１６０Ｂ、非反
射用赤色着色層１６０Ｒ、非反射用緑色着色層１６０Ｇ
は、それぞれ第２電極１４ｂにほぼ沿って直線状に同一
色が配置されるように、反射膜１１の開口１１ａに対応
して着色層が形成されている。反射用着色層１５０と、
非反射用着色層１６０、言い換えると透過用着色層とで
は、用いられる着色層材料と厚みが異なっている。具体
的には、反射用着色層１５０及び非反射用着色層１６０
にはいずれもアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド
樹脂などの有機樹脂が用いられるが、それぞれに分散さ
れる顔料などの量が異なる。また、本実施形態において
は、反射用着色層１５０は１μｍの厚みで形成されるの
に対し、非反射用着色層１６０は１．５μｍの厚みで形
成される。また、反射用着色層１５０及び非反射用着色
層１６０は、いずれもそれぞれが青色用着色層がもっと
も遮光性が高く、次に遮光性が高い着色層は赤色用着色
層となっている。尚、図において、反射膜１１に形成さ
れる開口１１ａは、空間が存在しているように描かれて
いるが、反射膜１１は着色層１５０及び１６０と比較し
て十分に厚さが薄いので、実際には、開口１１ａ部分は
着色層１６０が埋没している状態となっている。
【００８９】本実施形態では、図３及び図４、図１の線
Ｖ−Ｖ線に従った断面図である図５に示すように、カラ
ーフィルタ基板２ｂにおいて、第１周辺領域１０１に
は、画素領域１００に配置された反射用青色着色層１５
０Ｂと同一工程かつ同一材料からなる着色材で形成され
た第１周辺領域用着色層として第１周辺用青色着色層１
２０が額縁状に配置されている。これにより、画素領域
１００と第１周辺領域１０１との境界付近において着色
層は段差が生じることがない。すなわち、本実施形態に
おいては、１ドットに対応する着色層は、非反射用着色
層１６０を囲むように反射用着色層１５０が位置する構
造となっているので、マクロ的に画素領域を観察する
と、画素領域の外周部は反射用着色層１５０が位置する
ことになるので、この反射用着色層１５０の形成と同一
工程かつ同一部材で第１周辺領域１０１に第１周辺用着
色層１２０を設けることにより画素領域１００と第１周
辺領域１０１との境界付近において着色層の厚みの違い
による段差が生じることがない。更に、本実施形態にお
いては、第１周辺領域１０１の内周縁部と少なくとも重
なるように散乱用樹脂層８１及び反射膜１１が延在して
形成され、また、オーバーコート層１３及び配向膜１６
ｂも第１周辺領域１０１の内周縁部と少なくとも重なる
ように延在して形成されている。このため、画素領域１
００と第１周辺領域１０１との境界付近において、カラ
ーフィルタ基板２ｂ上に形成された膜は連続的になり、
膜厚の変化が小さくなる。従って、画素領域１００と第
１周辺領域１０１との境界付近におけるセルギャップの
変化を従来の構造と比較して緩和することができ、液晶
の配向不良による表示品位の低下を防止できる。
【００９０】また、本実施形態においては、第１周辺領
域１０１に着色層を配置しているので、バックライトか
らの光漏れを遮光することができ、また、本実施形態に
おいては、第１周辺用着色層として遮光性の高い青色を
用いているので、バックライトからの光漏れを、他の赤
色や緑色を用いた場合と比較してより高く遮光すること
ができる。尚、本実施形態においては、第１周辺用着色
層として青色を用いたが、赤色や緑色を用いても良い
が、好ましくは遮光性の高い青色または赤色を用いるこ
とが望ましい。更に、上述したように、第１周辺領域１
０１に対応して、対向基板２ａ上には金属膜１３０が形
成されているので、バックライトからの光漏れを更に遮
光することができ、画素領域のコントラストを高め、表
示品位の高い液晶装置を得ることができる。
【００９１】カラーフィルタ基板２ｂにおいて、第２周
辺領域１０２には、画素領域１００に配置された非反射
用青色着色層１６０Ｂ、非反射用赤色着色層１６０Ｒ、
非反射用緑色着色層１６０Ｇとそれぞれ同一工程かつ同
一材料からなる着色材で形成された３色の着色層、第２
周辺領域用青色着色層１４０Ｂ、第２周辺領域用赤色着
色層１４０Ｒ、第２周辺領域用緑色着色層１４０Ｇが積
層された積層膜１４０が額縁状に配置されている。この
ように、第１周辺領域１０１を囲んで、更に第２周辺領
域１０２に積層膜１４０の遮光膜を形成することによ
り、バックライトからの光漏れを更に遮光することがで
き、より表示品位の高い液晶装置を得ることができる。
尚、本実施形態においては、積層膜１４０として、３色
の着色層を積層したが、２色の着色層を積層してもよ
く、その場合、遮光性の高い順に青色着色層、赤色着色
層を積層することが好ましい。また、積層膜１４０のカ
ラーフィルタ基板２ｂの第１面１０９ａからの高さａ
は、画素領域１００におけるカラーフィルタ基板２ｂの
第１面１０９ａからのカラーフィルタ膜の高さｂよりも
低いことが望ましい。これは、高さａが高さｂよりも高
いと、液晶装置１としたときにスペーサ１１１が移動し
てしまって、基板面内でセルギャップが不均一と成って
しまう場合があるからである。
【００９２】上述の基板９ａ及び９ｂは、例えば、ガラ
ス、プラスチックなどによって形成される。また、上述
の電極１４ａおよび１４ｂは、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉ
ｕｍＴｉｎ Ｏｘｉｄｅ）を周知の膜付け法、例えばス
パッタ法、真空蒸着法を用いて膜付けし、更にフォトエ
ッチング法によって希望のパターンに形成される。配向
膜１６ａ及び１６ｂは、例えば、ポリイミド溶液を塗布
した後に焼成する方法や、オフセット印刷法などによっ
て形成される。
【００９３】図１において、対向基板２ａの基板張り出
し部２ｃ上には、ライン配線３２の第３層３２ｃに接続
されている配線１９ａと、シール材３の中に分散された
導通材２１（図５参照）を介してカラーフィルタ基板２
ｂ上の第２電極１４ｂに接続される配線１９ｂとが形成
される。配線１９ａの構成としては、例えば、第３層３
２ｃと同じ工程で成膜したＣｒ（クロム）層に、第２電
極１４ｂと同じ工程で成膜したＩＴＯ（インジウムチン
オキサイド）層の積層構造のものを用いることができ
る。また、配線１９ａの構造として、第３層３２ｃと同
じ工程で成膜したＣｒ（クロム）層に、ＴＦＤ素子を構
成している第１層３２ａと同じ工程で成膜したＴａＷ
（タンタルタングステン）層、ＴＦＤ素子を構成してい
る第２層３２ｂと同じ工程で成膜したＴａ２Ｏ５（酸化
タンタル）層、又は第２電極１４ｂと同じ工程で成膜し
たＩＴＯ（インジウムチンオキサイド）層が積層された
構造を用いることができる。また、基板張り出し部２ｃ
の辺端部には端子２２が形成される。なお、配線１９ａ
と第２電極１４ｂとが導通材２１によって接続されるそ
れぞれの部分は、端子として機能する。
【００９４】図３〜図５では、液晶装置１の全体をわか
りやすく示すために、導通材２１を断面楕円状に模式化
して示してあるが、実際は、導通材２１は球状または円
筒状に形成され、その大きさはシール材３の線幅に対し
て非常に小さいものである。よって、導通材２１はシー
ル材３の線幅方向に複数存在することができる。
【００９５】本実施形態に係る液晶装置１は、半透過反
射型表示によって表示を行う。この半透過反射型表示の
うち反射型表示の場合では、図３〜図５において対向基
板２ａ側の外部から取り込んだ光を反射膜１１によって
反射させて液晶１１０の層へ供給する。この状態で、液
晶１１０に印加する電圧を画素毎に制御して液晶の配向
を画素毎に制御することにより、液晶１１０の層へ供給
された光を画素毎に変調し、その変調した光を偏光板１
８ａへ供給する。これにより、文字などといった像を表
示する。一方、透過型表示の場合では、図３〜図５にお
いてバックライト１０から出射された光を液晶１１０の
層へ供給する。この状態で、液晶１１０に印加する電圧
を画素毎に制御して液晶の配向を画素毎に制御すること
により、液晶１１０の層へ供給された光を画素毎に変調
し、その変調した光を偏光板１８ａへ供給する。これに
より、文字などといった像を表示する。
【００９６】尚、本実施形態において、画素領域とは、
表示に関与する有効表示領域と、この有効表示領域の外
周を囲むように配置されるダミー画素領域とを含む。ダ
ミー画素領域は、形式的には有効表示領域中の画素電極
と同じ形状のパターンが形成される。しかしながら、こ
こに形成されるパターンはＩＴＯ等といった透明電極材
料ではなくて、電極に相当する部分に非透明な金属膜が
被されている。これにより、ダミー画素領域は遮光領域
となっている。
【００９７】次に、上記で説明した液晶装置の製造方法
について説明する。
【００９８】はじめに、液晶装置の一部を構成するカラ
ーフィルタ基板２ｂの製造方法について図８及び図９を
用いて説明する。
【００９９】図８（ａ）に示すように、基板９ｂの第１
面１０９ｂ上に、画素領域１００及び第１周辺領域１０
１の一部に対応した領域に、アクリル系またはエポキシ
系の樹脂材料から形成される厚さ１．４〜２．６μｍの
散乱用樹脂層８１を形成する。散乱用樹脂層８１の表面
は凹凸を有しているが、ここでは図示を省略する。
【０１００】次に、図８（ｂ）に示すように、スパッタ
法などにより散乱用樹脂層８１上にＡｌ膜を成膜した
後、フォトリソグラフィ工程により開口１１ａを有する
反射膜１１を形成する。
【０１０１】次に、反射膜１１及び散乱用樹脂層８１を
覆うように基板全面に、反射用青色着色層の材料をスピ
ンコートなどにより塗布した後、この塗布膜をフォトリ
ソグラフィ法を用いて、図８（ｃ）に示すように、画素
領域１００の反射用青色着色層が配置される領域に反射
用青色着色層１５０Ｂ、第１周辺領域１０１に第１周辺
用着色層１２０が形成されるようにパターニングする。
【０１０２】次に、反射膜１１、散乱用樹脂層８１及び
着色層１５０Ｂ及び１２０を覆うように基板全面に、反
射用赤色着色層の材料をスピンコートなどにより塗布し
た後、この塗布膜をフォトリソグラフィ法を用いて、図
８（ｄ）に示すように、画素領域１００の反射用赤色着
色層が配置される領域に反射用赤色着色層１５０Ｒが形
成されるようにパターニングする。
【０１０３】次に、反射膜１１、散乱用樹脂層８１及び
着色層１５０Ｂ、１５０Ｒ及び１２０を覆うように基板
全面に、反射用緑色着色層の材料をスピンコートなどに
より塗布した後、この塗布膜をフォトリソグラフィ法を
用いて、図８（ｅ）に示すように、画素領域１００の反
射用緑色着色層が配置される領域に反射用緑色着色層１
５０Ｇが形成されるようにパターニングする。
【０１０４】次に、反射膜１１、散乱用樹脂層８１及び
着色層１５０Ｂ、１５０Ｒ、１５０Ｇ及び１２０を覆う
ように基板全面に、非反射用青色着色層の材料をスピン
コートなどにより塗布した後、この塗布膜をフォトリソ
グラフィ法を用いて、図９（ａ）に示すように、画素領
域１００の非反射用緑色着色層が配置される領域に非反
射用緑色着色層１６０Ｂ、第２周辺領域１０２の積層膜
が配置される領域に第２周辺領域用青色着色層１４０Ｂ
が形成されるようにパターニングする。
【０１０５】次に、反射膜１１、散乱用樹脂層８１及び
着色層１５０Ｂ、１５０Ｒ、１５０Ｇ、１６０Ｂ、１４
０Ｂ及び１２０を覆うように基板全面に、非反射用赤色
着色層の材料をスピンコートなどにより塗布した後、こ
の塗布膜をフォトリソグラフィ法を用いて、図９（ｂ）
に示すように、画素領域１００の非反射用赤色着色層が
配置される領域に非反射用赤色着色層１６０Ｒ、第２周
辺領域１０２の積層膜が配置される領域に第２周辺領域
用赤色着色層１４０Ｒが形成されるようにパターニング
する。第２周辺領域用赤色着色層１４０Ｒは、第２周辺
領域用青色着色層１４０Ｂ上に積層される。
【０１０６】次に、反射膜１１、散乱用樹脂層８１及び
着色層１５０Ｂ、１５０Ｒ、１５０Ｇ、１６０Ｂ、１６
０Ｒ、１４０Ｂ、１４０Ｒ及び１２０を覆うように基板
全面に、非反射用赤色着色層の材料をスピンコートなど
により塗布した後、この塗布膜をフォトリソグラフィ法
を用いて、図９（ｃ）に示すように、画素領域１００の
非反射用緑色着色層が配置される領域に非反射用緑色着
色層１６０Ｇ、第２周辺領域１０２の積層膜が配置され
る領域に第２周辺領域用緑色着色層１４０Ｇが形成され
るようにパターニングする。第２周辺領域用緑色着色層
１４０Ｇは、第２周辺領域用赤色着色層１４０Ｒ上に積
層される。これにより色が異なる３色の着色層が積層さ
れた積層膜１４０が形成される。
【０１０７】その後、スピンコートなどにより透明樹脂
材料を着色層上に塗布し、オーバーコート層１３を形成
し、次に、このオーバーコート層１３上に例えばスパッ
タ法などによりＩＴＯ膜を成膜した後、フォトエッチン
グ法によって所望のパターンにエッチングして、第２電
極１４ｂを形成する。その後、配向膜１６ａを形成し
て、図９（ｄ）に示すようにカラーフィルタ基板２ｂが
製造される。
【０１０８】以上のように製造されたカラーフィルタ基
板２ｂと既知の方法で製造された対向基板２ａとをシー
ル材３により貼りあわせ、２枚の基板間に液晶を注入し
て液晶セルを製造する。その後、この液晶セルに位相差
板１７ａ及び１７ｂ、偏光板１８ａ及び１８ｂを配置
し、更にバックライト９を配置して、液晶装置１が製造
される。
【０１０９】（第２実施形態）上述の第１実施形態にお
ける液晶装置では、半透過反射型に適用した場合を例に
あげたが、反射型液晶装置にも適用できることはいうま
でもない。
【０１１０】以下に、第２実施形態における反射型液晶
装置１００１を図１０〜図１２を用いて説明する。第実
施形態における液晶装置１００１は、第１実施形態にお
ける液晶装置１と比較して、バックライトがない点、反
射膜１１に開口１１ａがない点、カラーフィルタ膜の構
造が異なる点で相違し、以下、第１実施形態と同様の構
造については説明を省略し、異なる点について説明す
る。また、図１０〜図１２は、それぞれ上述の第１実施
形態における図３〜図５にそれぞれ相当する。
【０１１１】本実施形態における反射型液晶装置１００
１は、バックライトを用いずに、外光の光のみを用いて
表示する。このため、第１実施形態の液晶装置１の反射
膜１１のように開口１１ａは不要となっている。また、
第１実施形態にように非反射用着色層（透過用着色層）
は不要であるので、反射用着色層１１５０が配置されて
いる。
【０１１２】カラーフィルタ膜は、第１着色層としての
反射用青色着色層１１５０Ｂ、第２着色層としての反射
用赤色着色層１１５０Ｒ、第３着色層としての反射用緑
色着色層１１５０Ｇから構成されている。各着色層１１
５０は、第２電極１４ｂに沿ってストライプ状に形成さ
れている。
【０１１３】カラーフィルタ基板２ｂにおいて、第１周
辺領域１０１には、画素領域１００に配置された反射用
青色着色層１１５０Ｂと同一工程かつ同一材料からなる
着色材で形成された第１周辺領域用着色層として第１周
辺用青色着色層１１２０が額縁状に配置されている。こ
れにより、画素領域１００と第１周辺領域１０１との境
界付近において着色層の厚みの違いによる段差が生じる
ことがない。更に、本実施形態においては、第１周辺領
域１０１の内周縁部と少なくとも重なるように散乱用樹
脂層８１及び反射膜１１が延在して形成され、また、オ
ーバーコート層１３及び配向膜１６ｂも第１周辺領域１
０１の内周縁部と少なくとも重なるように延在して形成
されている。このため、画素領域１００と第１周辺領域
１０１との境界付近において、カラーフィルタ基板２ｂ
上に形成された膜は連続的になり、膜厚の変化が小さく
なる。従って、画素領域１００と第１周辺領域１０１と
の境界付近におけるセルギャップの変化を従来の構造と
比較して緩和することができ、液晶の配向不良による表
示品位の低下を防止できる。
【０１１４】本実施形態においては、第１周辺用着色層
として青色を用いたが、赤色や緑色を用いても良いが、
好ましくは遮光性の高い青色または赤色を用いることが
望ましい。また、第１実施形態と同様に、第１周辺領域
１０１に対応して、第１周辺用着色層を設けているのに
加え、対向基板２ａ上には金属膜１３０が形成されてい
るので、画素領域のコントラストを高め、表示品位の高
い液晶装置を得ることができる。
【０１１５】カラーフィルタ基板２ｂにおいて、第２周
辺領域１０２には、画素領域１００に配置された反射用
青色着色層１１５０Ｂ、反射用赤色着色層１１５０Ｒ、
反射用緑色着色層１１５０Ｇとそれぞれ同一工程かつ同
一材料からなる着色材で形成された３色の着色層、第２
周辺領域用青色着色層１１４０Ｂ、第２周辺領域用赤色
着色層１１４０Ｒ、第２周辺領域用緑色着色層１１４０
Ｇが積層された積層膜１１４０が額縁状に配置されてい
る。このように、第１周辺領域１０１を囲んで、更に第
２周辺領域１０２に積層膜１４０の遮光膜を形成するこ
とにより、より表示品位の高い液晶装置を得ることがで
きる。尚、本実施形態においては、積層膜１１４０とし
て、３色の着色層を積層したが、２色の着色層を積層し
てもよく、その場合、遮光性の高い順に青色着色層、赤
色着色層を積層することが好ましい。
【０１１６】次に、上記で説明した液晶装置の製造方法
について説明する。
【０１１７】はじめに、液晶装置の一部を構成するカラ
ーフィルタ基板２ｂの製造方法について図１３を用いて
説明する。
【０１１８】図１３（ａ）に示すように、基板９ｂの第
１面１０９ｂ上に、画素領域１００及び第１周辺領域１
０１の一部に対応した領域に、アクリル系またはエポキ
シ系の樹脂材料等から形成される厚さ１．４〜２．６μ
ｍの散乱用樹脂層８１を形成する。散乱用樹脂層８１の
表面は凹凸を有しているが、ここでは図示を省略する。
【０１１９】次に、図１３（ｂ）に示すように、スパッ
タ法などにより散乱用樹脂層８１上にＡｌ膜を成膜した
後、フォトリソグラフィ工程によりる反射膜１１を形成
する。
【０１２０】次に、反射膜１１及び散乱用樹脂層８１を
覆うように基板全面に、反射用青色着色層の材料をスピ
ンコートなどにより塗布した後、この塗布膜をフォトリ
ソグラフィ法を用いて、図１３（ｃ）に示すように、画
素領域１００の反射用青色着色層が配置される領域に反
射用青色着色層１１５０Ｂ、第１周辺領域１０１に第１
周辺用着色層１１２０、第２周辺領域１０２に第２周辺
用着色層１１４０Ｂが形成されるようにパターニングす
る。
【０１２１】次に、反射膜１１、散乱用樹脂層８１及び
着色層１１５０Ｂ、１１４０Ｂ及び１１２０を覆うよう
に基板全面に、反射用赤色着色層の材料をスピンコート
などにより塗布した後、この塗布膜をフォトリソグラフ
ィ法を用いて、図１３（ｄ）に示すように、画素領域１
００の反射用赤色着色層が配置される領域に反射用赤色
着色層１１５０Ｒ、第２周辺領域１０２に第２周辺用着
色層１１４０Ｒが形成されるようにパターニングする。
【０１２２】次に、反射膜１１、散乱用樹脂層８１及び
着色層１１５０Ｂ、１１５０Ｒ、１１４０Ｂ、１１４０
Ｒ及び１１２０を覆うように基板全面に、反射用緑色着
色層の材料をスピンコートなどにより塗布した後、この
塗布膜をフォトリソグラフィ法を用いて、図１３（ｄ）
に示すように、画素領域１００の反射用緑色着色層が配
置される領域に反射用緑色着色層１１５０Ｇ、第２周辺
領域１０２に第２周辺用着色層１１４０Ｇが形成される
が形成されるようにパターニングする。これにより色が
異なる３色の着色層が積層された積層膜１１４０が形成
される。
【０１２３】その後、スピンコートなどにより透明樹脂
材料を着色層上に塗布し、オーバーコート層１３を形成
し、次に、このオーバーコート層１３上に例えばスパッ
タ法などによりＩＴＯ膜を成膜した後、フォトエッチン
グ法によって所望のパターンにエッチングして、第２電
極１４ｂを形成する。その後、配向膜１６ａを形成し
て、図１３（ｅ）に示すようにカラーフィルタ基板２ｂ
が製造される。
【０１２４】以上のように製造されたカラーフィルタ基
板２ｂと既知の方法で製造された対向基板２ａとをシー
ル材３により貼りあわせ、２枚の基板間に液晶を注入し
て液晶セルを製造する。その後、この液晶セルに位相差
板１７ａ及び１７ｂ、偏光板１８ａ及び１８ｂを配置し
て、液晶装置１００１が製造される。
【０１２５】（第３実施形態）図１４は本発明に係る電
子機器の一実施形態であるモバイル型のパーソナルコン
ピュータを示している。ここに示すコンピュータ５０
は、キーボード５１を備えた本体部５２と、液晶表示ユ
ニット５３とから構成されている。液晶表示ユニット５
３は筐体部としての外枠に液晶装置５４が組み込まれて
なり、この液晶装置５４は、例えば第１実施形態に示し
た液晶装置１を用いて構成できる。
【０１２６】（第４実施形態）図１５は、本発明に係る
電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示してい
る。ここに示す携帯電話機６０は、複数の操作ボタン６
１の他、受話口６２、送話口６３を有する筐体部として
の外枠に、液晶装置６４が組み込まれてなる。この液晶
装置６４は、例えば第１実施形態に示した液晶装置１や
第２実施形態に示した液晶装置１００１を用いて構成で
きる。
【０１２７】（第５実施形態）図１６は、本発明に係る
電子機器の更に他の実施形態であるデジタルスチルカメ
ラを示している。通常のカメラは、被写体の光像によっ
てフィルムを感光するのに対し、デジタルスチルカメラ
７０は、被写体の光像をＣＣＤ（ＣｈａｒｇｅＣｏｕｐ
ｌｅｄ Ｄｅｖｉｃｅ）などといった撮像素子により光
電変換して撮像信号を生成するものである。
【０１２８】ここで、デジタルスチルカメラ７０におけ
る筐体としてのケース７１の背面には、液晶装置７４が
設けられ、ＣＣＤによる撮像信号に基づいて表示を行う
構成となっている。このため、液晶装置７４は、被写体
を表示するファインダとして機能する。また、ケース７
１の前面側（図１４に示す構造の裏面側）には、光学レ
ンズやＣＣＤなどを含んだ受光ユニット７２が設けられ
ている。液晶装置７４は、例えば第１実施形態に示した
液晶装置１や第２実施形態に示した液晶装置１００１を
用いて構成できる。撮影者は、液晶装置７４に表示され
た被写体を確認して、シャッタボタン７３を押下して撮
影を行う。
【０１２９】図１７は、図１４〜図１６に示す電子機器
に用いられる電気制御系の一実施形態を示している。こ
こに示した電気制御系は、表示情報出力源９０、表示情
報処理回路９１、電源回路９２、タイミングジェネレー
タ９３、そして表示装置としての液晶装置９４を有す
る。また、液晶装置９４は液晶パネル９５及び駆動回路
９６を有する。液晶装置９４は、例えば図１実施形態に
示した液晶装置１や第２実施形態に示した液晶装置１０
０１を用いて構成できる。
【０１３０】表示情報出力源９０は、ＲＯＭ、ＲＡＭ等
といっためもり、各種ディスクなどといったストレージ
ユニット、デジタル画像信号を同調出力する同調回路な
どを備え、タイミングジェネレータ９３によって生成さ
れた各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマット
の画像信号などといった表示情報を表示情報処理回路９
１に供給する。
【０１３１】表示情報処理回路９１は、シリアル−パラ
レル変換回路や、増幅・反転回路、ローテーション回
路、ガンマ補正回路、クランプ回路などといった周知の
各回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、そ
の画像信号をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路８６へ
供給する。駆動回路９６は走査線駆動回路、データ線駆
動回路、検査回路などを含んで構成される。また、電源
回路９２は各構成要素に所定の電圧を供給する。
【０１３２】（その他の実施形態）以上、好ましい実施
形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形
態に限定されるものでなく、特許請求の範囲に記載した
発明の範囲内で種々に改変できる。
【０１３３】例えば、第１実施形態及び第２実施形態で
は、ＴＦＤ素子をスイッチング素子として用いたアクテ
ィブマトリクス方式の液晶装置に本発明を適用したが、
本発明は、ＴＦＴ等といった３端子型スイッチング素子
をスイッチング素子として用いる構造のアクティブマト
リクス方式の液晶装置にも適用でき、あるいは、アクテ
ィブ素子を用いない単純マトリクス方式の液晶装置にも
適用できる。また、本発明の電気光学装置は、液晶装置
だけでなく、エレクトロルミネッセンス装置、有機エレ
クトロルミネッセンス装置、無機エレクトロルミネッセ
ンス装置、プラズマディスプレイ装置、フィールドエミ
ッションディスプレイ装置（電界放出表示装置）、電気
泳動ディスプレイ装置などの電気光学装置にも適用でき
る。
【０１３４】また、本発明に係る電子機器としては、パ
ーソナルコンピュータや携帯電話機やデジタルスチルカ
メラの他に、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ
直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装
置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワ
ークステーション、テレビ電話機、ＰＯＳ端末機などが
あげられる。そして、これらの各種電子機器の表示部と
して本発明に係る液晶装置を用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明に係る液晶装置の一実施形態を一部破
断して示す平面図である。
【図２】 図１に示す液晶装置における画素領域、第１
周辺領域及び第２周辺領域の位置関係を説明するための
平面図である。
【図３】 図１のＩＩＩ−ＩＩＩ線に従って切断した液
晶装置の断面構造を示す部分断面図である。
【図４】 図１のＩＶ−ＩＶ線に従って切断した液晶装
置の断面構造を示す部分断面図である。
【図５】 図１の線Ｖ−Ｖ線に従って切断した液晶装置
の断面構造を示す部分断面図である。
【図６】 図１に示す液晶装置のカラーフィルタ基板に
おける反射膜、着色層及び第２電極の位置関係を説明す
る概略斜視図である。
【図７】 図１の矢印ＶＩＩで示すＴＦＤ素子を拡大し
て示す斜視図である。
【図８】 図１に示す液晶装置のカラーフィルタ基板の
製造工程（その１）を示す部分断面図である。
【図９】 図１に示す液晶装置のカラーフィルタ基板の
製造工程（その２）を示す部分断面図である。
【図１０】 他の実施形態における液晶装置の部分断面
図であり、図１のＩＩＩ−ＩＩＩ線に従って切断した断
面図に相当する。
【図１１】 他の実施形態における液晶装置の部分断面
図であり、図１のＩＶ−ＩＶ線に従って切断した断面図
に相当する。
【図１２】 他の実施形態における液晶装置の部分断面
図であり、図１の線Ｖ−Ｖ線に従って切断した断面図に
相当する。
【図１３】 他の実施形態における液晶装置のカラーフ
ィルタ基板の製造工程を示す部分断面図である。
【図１４】 本発明に係る電子機器の他の実施形態であ
るモバイル型コンピュータを示す斜視図である。
【図１５】 本発明に係る電子機器の更に他の実施形態
である携帯電話機を示す斜視図である。
【図１６】 本発明に係る電子機器の更に他の実施形態
であるデジタルスチルかメタを示す斜視図である。
【図１７】 本発明に係る電子機器の一実施形態を示す
ブロック図である。
【符号の説明】
１、１００１…液晶装置 ２a…対向基板 ２ｂ…カラーフィルタ基板 ９ａ…第１基板 ９ｂ…第２基板 １１…反射膜 １１ａ…反射膜非形成領域 １３…オーバーコート膜 ３２…ライン配線 ５０・・・コンピュータ（電子機器） ６０…形態電話機（電子機器） ７０…デジタルスチルカメラ（電子機器） ８１…散乱用樹脂層 １００・・・画素領域 １０１…第１周辺領域 １０２…第２周辺領域 １０９ａ…第１面 １１０…液晶 １２０…第１周辺領域用着色層 １３０…金属膜 １４０…積層膜 １４０Ｒ…第２周辺領域用赤色着色層 １４０Ｇ…第２周辺領域用緑色着色層 １４０Ｂ…第２周辺領域用青色着色層 １５０Ｒ…反射領域用赤色着色層 １５０Ｇ…反射用緑色着色層 １５０Ｂ…反射用青色着色層 １６０Ｒ…非反射用赤色着色層 １６０Ｇ…非反射用緑色着色層 １６０Ｂ…非反射用青色着色層 １７０…非反射領域 １７１…反射領域
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０９Ｆ 9/30 Ｇ０９Ｆ 9/30 ３４９Ｃ (72)発明者 中野 智之 長野県諏訪市大和３丁目３番５号 セイコ ーエプソン株式会社内 Ｆターム(参考） 2H091 FA02Y FA14Y FA23Z FA31Y FA34Y FA41Z FB02 FD06 GA01 LA03 LA16 LA17 MA10 2H092 HA04 HA05 JA01 JB51 JB56 NA01 NA11 PA01 PA06 PA08 PA12 PA13 RA10 5C094 AA06 BA03 BA04 BA43 CA19 DA13 ED03 ED11 ED13 ED15 FA02 FA04 FB01 HA02 HA06 HA08

Claims (33)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 画素領域と該画素領域を囲む第１領域を
    有し、第１面を有する基板と、 前記画素領域における前記基板の前記第１面上に配置さ
    れた複数の着色層と、 前記第１領域における前記基板の前記第１面上に配置さ
    れた前記複数の着色層のうちの１つの着色層と同一材料
    からなる着色層とを具備することを特徴とするカラーフ
    ィルタ基板。
  2. 【請求項２】 前記基板は前記第１領域を囲む第２領域
    を有し、 前記第２領域における前記基板の前記第１面上に配置さ
    れた前記複数の着色層のうち２つ以上の着色層と同一材
    料からなる着色材を積層した積層膜とを具備することを
    特徴とする請求項１記載のカラーフィルタ基板。
  3. 【請求項３】 前記第２領域における前記第１面からの
    前記積層膜の高さは、前記画素領域における前記第１面
    からの前記着色層の高さより低いことを特徴とする請求
    項２記載のカラーフィルタ基板。
  4. 【請求項４】 前記画素領域に配置された反射膜を更に
    有することを特徴とする請求項１から請求項３いずれか
    一項に記載のカラーフィルタ基板。
  5. 【請求項５】 前記画素領域に配置された光散乱用樹脂
    層を更に有し、前記反射膜は前記光散乱用樹脂層上に設
    けられていることを特徴とする請求項４記載のカラーフ
    ィルタ基板。
  6. 【請求項６】 前記画素領域には複数の画素が設けら
    れ、該画素は、前記反射膜が配置される反射領域と前記
    反射膜が配置されない非反射領域を有することを特徴と
    する請求項４または請求項５記載のカラーフィルタ基
    板。
  7. 【請求項７】 前記反射領域は、前記非反射領域を囲む
    ように配置されていることを特徴とする請求項６記載の
    カラーフィルタ基板。
  8. 【請求項８】 前記反射領域に配置される前記着色層の
    厚みと、前記非反射領域に配置される前記着色層の厚み
    とが異なることを特徴とする請求項６または請求項７記
    載のカラーフィルタ基板。
  9. 【請求項９】 前記第１領域に配置された着色層は、前
    記反射領域に対応して配置された前記複数の着色層のう
    ち１つの着色層と同一材料であること特徴とする請求項
    ６から請求項８いずれか1項に記載のカラーフィルタ基
    板。
  10. 【請求項１０】 前記第２領域に配置された積層膜は、
    前記非反射領域に対応して配置された複数の着色層のう
    ち２つ以上の着色層と同一材料からなる着色材を有する
    ことを特徴とする請求項６から請求項８いずれか一項に
    記載のカラーフィルタ基板。
  11. 【請求項１１】 前記第１領域に配置された着色層は青
    色であることを特徴とする請求項１から請求項１０いず
    れか1項に記載のカラーフィルタ基板。
  12. 【請求項１２】 請求項１から請求項１１いずれか一項
    に記載のカラーフィルタ基板と、 前記カラーフィルタ基板に対向配置された対向基板と、 前記カラーフィルタ基板と前記対向基板との間に挟持さ
    れた電気光学物質とを具備することを特徴とする電気光
    学装置。
  13. 【請求項１３】 前記対向基板上には、前記カラーフィ
    ルタ基板の第１領域に対応して金属膜が配置されている
    ことを特徴とする請求項１２記載の電気光学装置。
  14. 【請求項１４】 前記金属膜はタンタルを有することを
    特徴とする請求項１３記載の電気光学装置。
  15. 【請求項１５】 前記電気光学物質を挟持した前記カラ
    ーフィルタ基板及び前記対向基板に対し光を照射するバ
    ックライトを具備することを特徴とする請求項１２から
    請求項１４いずれか一項に記載の電気光学装置。
  16. 【請求項１６】 前記電気光学物質は液晶であることを
    特徴とする請求項１２から請求項１５いずれか一項に記
    載の電気光学装置。
  17. 【請求項１７】 請求項１２から請求項１６いずれか一
    項に記載の電気光学装置を具備する電子機器。
  18. 【請求項１８】 画素領域と該画素領域を囲む第１領域
    とを有し、第１面を有する基板を備えたカラーフィルタ
    基板の製造方法であって、 前記画素領域の一部及び前記第１領域における前記基板
    の前記第１面上に、第１着色層を形成する工程と、 前記画素領域の一部を少なくとも除く画素領域における
    前記基板の前記第１面上に、第２着色層を形成する工程
    を有することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方
    法。
  19. 【請求項１９】 前記基板は前記第１領域を囲む第２領
    域を有し、 前記第１着色層形成工程及び前記第２着色層形成工程に
    おいて、前記第２領域における前記基板の前記第１面上
    に、前記第１着色層及び前記第２着色層が互いに重なっ
    てなる積層膜を形成することを特徴とする請求項１８記
    載のカラーフィルタ基板の製造方法。
  20. 【請求項２０】 前記基板は前記第１領域を囲む第２領
    域を有し、 前記第１着色層及び前記第２着色層が形成されない前記
    画素領域における前記基板の前記第１面上に、第３着色
    層を形成する工程を更に具備し、 前記第１着色層形成工程、前記第２着色層形成工程及び
    前記第３着色層形成工程において、前記第２領域におけ
    る前記基板の前記第１面上に、前記第１着色層、前記第
    ２着色層及び前記第３着色層が互いが重なってなる積層
    膜を形成することを特徴とする請求項１８記載のカラー
    フィルタ基板の製造方法。
  21. 【請求項２１】 前記第２領域における前記第１面から
    の前記積層膜の高さは、前記画素領域における前記第１
    面からの前記着色層の高さより低いことを特徴とする請
    求項１９または請求項２０記載のカラーフィルタ基板の
    製造方法。
  22. 【請求項２２】 前記画素領域における前記基板の前記
    第１面上に反射膜を形成する工程を更に具備し、 該反射膜形成工程後、前記着色層が形成されることを特
    徴とする請求項１８から請求項２１いずれか一項に記載
    のカラーフィルタ基板の製造方法。
  23. 【請求項２３】 前記画素領域における前記基板の前記
    第１面上に光散乱用樹脂層を形成する工程を更に具備
    し、 該光散乱用樹脂層形成工程後、前記反射膜が形成される
    ことを特徴とする請求項２２記載のカラーフィルタ基板
    の製造方法。
  24. 【請求項２４】 前記第１着色層は青色であることを特
    徴とする請求項１８から請求項２３いずれか一項に記載
    のカラーフィルタ基板の製造方法。
  25. 【請求項２５】 前記第２着色層は赤色であることを特
    徴とする請求項２４記載のカラーフィルタ基板の製造方
    法。
  26. 【請求項２６】 反射領域及び非反射領域を有する画素
    が配置される画素領域と、該画素領域を囲む第１領域と
    を有する第１面を有する基板を備えたカラーフィルタ基
    板の製造方法であって、 前記反射領域の一部及び前記第１領域における前記基板
    の前記第１面上に第１反射用着色層を形成する工程と、 前記反射領域の一部を少なくとも除く前記反射領域にお
    ける前記基板の前記第１面上に、第２反射用着色層を形
    成する工程と、 前記非反射領域の一部における前記基板の前記第１面上
    に第１非反射用着色層を形成する工程と、 前記非反射領域の一部を少なくとも除く前記非反射領域
    における前記基板の前記第１面上に、第２非反射用着色
    層を形成する工程とを有することを特徴とするカラーフ
    ィルタ基板の製造方法。
  27. 【請求項２７】 前記基板は前記第１領域を囲む第２領
    域を有し、 前記第１非反射用着色層形成工程及び前記第２非反射用
    着色層形成工程において、前記第２領域における前記基
    板の前記第１面上に、前記第１非反射用着色層及び前記
    第２非反射用着色層が互いが重なってなる積層膜を形成
    することを特徴とする請求項２６記載のカラーフィルタ
    基板の製造方法。
  28. 【請求項２８】 前記基板は前記第１領域を囲む第２領
    域を有し、 前記第１反射用着色層及び前記第２反射用着色層が形成
    されない前記反射領域における前記基板の前記第１面上
    に、第３反射用着色層を形成する工程と、 前記第１非反射用着色層及び前記第２非反射用着色層が
    形成されない前記非反射領域における前記基板の前記第
    １面上に、第３非反射用着色層を形成する工程とを更に
    具備し、 前記第１非反射用着色層形成工程、前記第２非反射用着
    色層形成工程及び前記第３非反射用着色層形成工程にお
    いて、前記第２領域における前記基板の前記第１面上
    に、前記第１非反射用着色層、前記第２非反射用着色層
    及び前記第３非反射用着色層が互いが重なってなる積層
    膜を形成することを特徴とする請求項２７記載のカラー
    フィルタ基板の製造方法。
  29. 【請求項２９】 前記反射領域は前記非反射領域を囲む
    ように配置され、 前記反射領域における前記基板の前記第１面上に反射膜
    を形成する工程を更に具備し、 該反射膜形成工程後、前記着色層が形成されることを特
    徴とする請求項２６から請求項２８いずれか一項に記載
    のカラーフィルタ基板の製造方法。
  30. 【請求項３０】 前記画素領域における前記基板の前記
    第１面上に光散乱用樹脂層を形成する工程を更に具備
    し、 該光散乱用樹脂層形成工程後、前記反射膜が形成される
    ことを特徴とする請求項２９記載のカラーフィルタ基板
    の製造方法。
  31. 【請求項３１】 前記反射領域に配置される前記反射用
    着色層の厚みと、前記非反射領域に配置される前記非反
    射用着色層の厚みとが異なることを特徴とする請求項２
    ６から請求項３０いずれか一項に記載のカラーフィルタ
    基板の製造方法。
  32. 【請求項３２】 前記第１反射用着色層は青色であるこ
    とを特徴とする請求項２６から請求項３１いずれか1項
    に記載のカラーフィルタ基板の製造方法。
  33. 【請求項３３】 カラーフィルタ基板と対向配置との間
    に電気光学物質を挟持した電気光学装置の製造方法にお
    いて、前記カラーフィルタ基板は、請求項１８から請求
    項３２いずれか一項に記載のカラーフィルタ基板の製造
    方法によって製造されたことを特徴とする電気光学装置
    の製造方法。
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