JP3591676B2 - 液晶表示装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば、テレビジョンセット、パーソナルコンピュータ、ワードプロセッサ、ＯＡ（Ｏｆｆｉｃｅ Ａｕｔｏｍａｔｉｏｎ）機器などの表示装置として用いられる液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図１５に、液晶表示装置を構成するアクティブマトリクス基板の一例を示す。
【０００３】
このアクティブマトリクス基板は、スイッチング素子である薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴと称する）２および画素容量１がマトリクス状に形成されている。ＴＦＴ２のゲート電極にはゲート信号線３が接続され、そこに入力される信号によってＴＦＴ２が駆動される。ＴＦＴ２のソース電極にはソース信号線５が接続され、そこから表示信号としてビデオ信号等が入力される。各ゲート信号線３と各ソース信号線５とは、互いに交差するように形成されている。ＴＦＴ２のドレイン電極には画素電極および画素容量１の一方の端子が接続されている。各画素容量１の他方の端子には画素容量配線４が接続されている。このアクティブマトリクス基板は、対向電極が形成された対向基板と貼り合わせられ、両基板の間隙に液晶層が挟持されて液晶表示装置が構成される。この際、上記画素容量配線４は、対向基板上の対向電極と接続される。
【０００４】
このような構成の液晶表示装置において、カラー表示を実現するためには、対向基板上に、Ｒ（Ｒｅｄ）、Ｇ（Ｇｒｅｅｎ）、Ｂ（Ｂｌｕｅ）の３色の色層を備えたカラーフィルタを形成する構成が最も一般的である。このようにカラーフィルタを備えた対向基板は、カラーフィルタ基板と称される。このカラーフィルタ基板には、一般に、色の混合や光漏れを防ぐためのブラックマトリクスが形成される。
【０００５】
図１６に、カラーフィルタ基板にブラックマトリクスを形成した従来の液晶表示装置の構成を示す。この液晶表示装置においては、アクティブマトリクス基板の表示領域に画素電極（図示せず）が設けられ、その近傍を通って互いに交差してゲート信号線とソース信号線とが設けられている。両信号線は表示領域の外側の周辺領域を超えて延出形成され、その外側の端子領域に設けられた入力端子を介してゲート信号線に走査電圧が入力され、ソース信号線に信号電圧が入力される。一方、カラーフィルタ基板の表示領域には、画素電極と対向してカラーフィルタ（図示せず）が設けられている。そして、カラーフィルタが設けられていない周辺領域には、ブラックマトリクスが形成され、周辺領域を遮光している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
上述のように、従来の液晶表示装置においては、カラーフィルタ基板にブラックマトリクスを設ける構成が一般的である。しかし、液晶表示装置の製造コストを低減するためには、カラーフィルタ基板にブラックマトリクスを設けない構成も当然考えられる。この場合、周辺領域の遮光をどのようにして行うかということが問題となる。例えば、周辺領域からバックライト光が漏れると表示品位が損なわれ、黒表示の場合には特に問題になるので、バックライト光を遮光する必要がある。また、通常、観察者は液晶表示装置をカラーフィルタ基板側から見ることになるが、その際、両基板の貼り合わせのために周辺領域に設けられるシール樹脂等が見えると表示品位が損なわれるので、それらが見えないようにするのが望ましい。
【０００７】
本発明は、このような従来技術の課題を解決すべくなされたものであり、カラーフィルタ基板にブラックマトリクスを設けずに周辺領域を遮光することができる液晶表示装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の液晶表示装置は、液晶層を挟んでアクティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板とが対向配置され、該アクティブマトリクス基板に設けた画素電極とカラーフィルタ基板に設けた対向電極との対向する部分が表示領域となり、該表示領域の外周部が周辺領域となっている液晶表示装置において、該アクティブマトリクス基板は、各画素電極と層間絶縁膜を介して重なるように形成された互いに交差する走査配線と信号配線とが、該周辺領域を超えて延出形成された構成となっており、該カラーフィルタ基板は、該表示領域に対応する部分に複数の着色層を有するカラーフィルタを形成すると共に、該周辺領域に対応する部分に、該カラーフィルタが有する着色層の単層でなる遮光層を有する構成であって、該遮光層が、前記表示領域に形成されたカラーフィルタを延ばした状態で形成されており、該アクティブマトリクス基板の前記周辺領域に、第２の遮光層が、隣接する該走査配線の間および隣接する該信号配線の間を覆うように設けられ、隣接する走査配線間を覆うように設けられた第２の遮光層が信号配線と同じ材料によって信号配線と同時にパターン形成され、隣接する信号配線間を覆うように設けられた第２の遮光層が走査配線と同じ材料によって同時にパターン形成されており、そのことにより上記目的が達成される。
【００１０】
また、本発明の液晶表示装置は、液晶層を挟んでアクティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板とが対向配置され、該アクティブマトリクス基板に設けた画素電極とカラーフィルタ基板に設けた対向電極との対向する部分が表示領域となり、該表示領域の外周部が周辺領域となっている液晶表示装置において、該アクティブマトリクス基板は、各画素電極と層間絶縁膜を介して重なるように形成された互いに交差する走査配線と信号配線とが、該周辺領域を超えて延出形成された構成となっており、該カラーフィルタ基板は、該表示領域に対応する部分に複数の着色層を有するカラーフィルタを形成すると共に、該周辺領域に対応する部分に、該カラーフィルタが有する着色層の単層、または、異なる色の２つの着色層を積層してなる遮光層を有する構成となっており、該アクティブマトリクス基板の前記周辺領域に、第２の遮光層が、隣接する該走査配線の間および隣接する該信号配線の間を覆うように設けられ、隣接する走査配線間を覆うように設けられた第２の遮光層が信号配線と同じ材料によって信号配線と同時にパターン形成され、隣接する信号配線間を覆うように設けられた第２の遮光層が走査配線と同じ材料によって同時にパターン形成されており、前記走査配線および前記信号配線のうち前記表示領域の最外郭にあるものと離隔して前記第２の遮光層が設けられ、その離隔部分を覆って着色層からなる前記遮光層が設けられており、そのことにより上記目的が達成される。
【００１１】
前記アクティブマトリクス基板に前記走査配線および前記信号配線を覆う絶縁膜が設けられ、該アクティブマトリクス基板の前記周辺領域に対応する部分に第２の遮光層が、前記走査配線および前記信号配線のうちの少なくとも一方の２本以上にわたる範囲を覆い、かつ、覆われる配線との間に該絶縁膜を介して設けられていてもよい。
【００１２】
前記異なる色の２つの着色層を積層してなる遮光層は、赤色の着色層および青色の着色層が積層されたものであってもよい。
【００１３】
前記カラーフィルタ基板に設けられた単層の遮光層は、前記表示領域に形成されたカラーフィルタを延ばした状態で形成されている構成としてもよい。
【００１４】
前記カラーフィルタ基板に設けられた単層の遮光層は、前記表示領域に形成されたカラーフィルタの色層よりも狭幅にパターン形成されている構成としてもよい。
【００１５】
以下、本発明の作用について説明する。
【００１６】
本発明にあっては、カラーフィルタ基板の周辺領域に対応する部分に設けられた遮光層により周辺領域が遮光される。この遮光層は、単層の着色層でも、互いに異なる２つの着色層が積層されたものでもよい。単層の場合は、周辺領域に設けられるシール樹脂の検査を容易に行い得、また、配向不良の発生を抑制できる。その単層の遮光層を複数の色層が混在するように構成すると、遮光層を介して光に色が着くのを防止できる。
【００１７】
また、アクティブマトリクス基板の周辺領域に、走査配線および信号配線のうちの少なくとも一方の隣接する配線同士の間を少なくとも覆って第２の遮光層を設けると、周辺領域の光透過率がさらに低くなる。
【００１８】
この第２の遮光層は、信号配線または走査配線と同時に形成することができ、作製プロセスが複雑化することはない。この場合、走査配線および信号配線のうちの表示領域の最外郭にあるものと第２の遮光層とが同層に存在するので、両者を表示領域と周辺領域との境界部で離隔させる。その離隔部分を覆って上記着色層からなる遮光層を設けると、この部分からの光漏れも防ぐことができる。
【００１９】
上記第２の遮光層は、走査配線および信号配線を覆う絶縁膜を介して設けてもよい。例えば後述するＰＯＰ構造の場合、膜厚が厚い層間絶縁膜等の上に第２の遮光層を設けると、第２の遮光層と各配線との間の容量を小さくできる。また、走査配線および信号配線のうちの少なくとも一方の２本以上にわたる範囲を覆うように第２の遮光層を設けると、配線パターンが模様として視認されないようにできる。
【００２０】
上記異なる２つの着色層が積層されてなる遮光層としては、カラーフィルタのＲ、Ｂ、Ｇ用の色層のうちの２層を用いることができる。このとき、この遮光層としてカラーフィルタの色層と同じ色である赤色の着色層および青色の着色層が積層されたものを用いると、例えばカラーフィルタの色層と同じ色である緑色および青色の着色層を積層した場合や赤色および緑色の着色層を積層した場合に比べて周辺領域の光透過率を最も低くすることができる。なお、異なる２つの着色層が積層されてなる遮光層としては、カラーフィルタの色層とは異なる波長領域の光を吸収する２つの着色層を積層した構造としてもよい。また、遮光層としては、異なる２つの着色層が積層されたものに限らず、カラーフィルタの１つまたは複数の色層からなる単層、またはカラーフィルタの色層とは異なる波長領域の光を吸収する単層の着色層を用いてもよい。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
【００２２】
（実施形態１）
図１は実施形態１の液晶表示装置の平面図である。
【００２３】
この液晶表示装置は、画素電極（図示せず）を備えたアクティブマトリクス基板と対向電極（図示せず）を備えたカラーフィルタ基板とが、液晶層（図示せず）を挟んで対向配置されている。そして、画素電極と対向電極との対向部分が表示領域となり、その外周部が周辺領域となっている。
【００２４】
アクティブマトリクス基板には、平面視において各画素電極の近傍を通って互いに交差するように、走査配線としてのゲート信号線３と信号配線としてのソース信号線５とが設けられている。両信号線３、５は周辺領域を超えて延出形成され、その外側の端子領域に設けられた入力端子を介してゲート信号線３に走査電圧が入力され、ソース信号線５に信号電圧が入力される。
【００２５】
図２は、上記アクティブマトリクス基板のＴＦＴ部分における断面図である。
【００２６】
このアクティブマトリクス基板は、透明絶縁性基板１１上に、ゲート信号線３に接続されたゲート電極１２が形成され、その上を覆ってゲート絶縁膜１３が形成されている。その上にはゲート電極１２と重畳するように半導体層１４が形成され、その中央部上にチャネル保護層１５が形成されている。チャネル保護層１５の端部および半導体層１４の一部を覆い、チャネル保護層１５の上で分断された状態で、共にｎ＋−Ｓｉ層からなるソース電極１６ａおよびドレイン電極１６ｂが形成されている。
【００２７】
ソース電極１６ａ上には、２層構造のソース信号線５が接続されている。このソース信号線５は、透明導電層１７ａと金属層１０ａとからなる。ドレイン電極１６ｂの上には、透明導電層１７ｂと金属層１０ｂとが形成され、透明導電層１７ｂは画素電極１９とドレイン電極１６ｂとを接続するための接続電極となっている。さらに、ＴＦＴ、ゲート信号線およびソース信号線の上部を覆って、層間絶縁膜１８が形成されている。層間絶縁膜１８の上には、透明導電層からなる画素電極１９が形成され、図外の部分において層間絶縁膜１８を貫くコンタクトホール（図に表れていない）を介して、接続電極である透明導電層１７ｂによりＴＦＴのドレイン電極１６ｂと接続されている。このコンタクトホールについては後述する。
【００２８】
図３は、このように構成されたアクティブマトリクス基板に対し、間に液晶層ＬＣを挟んでカラーフィルタ基板が対向配設された状態を示す断面図である。このカラーフィルタ基板は、ベースとなる透明絶縁性基板３０の表示領域に、カラーフィルタ３１が設けられ、Ｒ、ＧまたはＢのいずれかの色層が各画素の表示色に応じて配置されている。また、カラーフィルタ基板の周辺領域には、互いに異なる色の２つの着色層、例えば図示例では赤色および青色の着色層が積層された遮光層３２が設けられている。そして、遮光層３２の部分には、アクティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板とを貼り合わせるためのシール樹脂等からなるシール材３３が設けられている。
【００２９】
この液晶表示装置は、以下のようにして作製することができる。
【００３０】
まず、アクティブマトリクス基板を作製するために、透明絶縁性基板１１上にゲート信号線およびゲート電極１２を形成する。この透明絶縁性基板としては、ガラス基板などを用いることができる。また、ゲート信号線３とゲート電極１２との表面には、陽極酸化膜を形成してもよい。
【００３１】
次に、ゲート絶縁膜１３、半導体層１４、およびチャネル保護層１５を順に形成し、続いて、ソース電極１６ａおよびドレイン電極１６ｂを形成する。その上に、ＩＴＯからなる透明導電層１７ａ、１７ｂおよび金属層１０ａ、１０ｂを、スパッタ法により順に形成してパターニングし、２層構造のソース信号線５および接続電極を得る。ここまでの作製プロセスは、従来より知られている。
【００３２】
その後、層間絶縁膜１８として、感光性のアクリル樹脂をスピン塗布法により３μｍの膜厚に成膜し、コンタクトホールを形成する。その後、画素電極となる透明導電層をスパッタ法により形成してパターニングし、これにより画素電極１９を得る。この画素電極１９は、層間絶縁膜１８を貫くコンタクトホールを介して、ＴＦＴのドレイン電極１６ｂと接続されている透明導電層１７ｂと接続される。つまり、この画素電極１９は、いわゆるＰＯＰ構造に形成されている。
【００３３】
次に、カラーフィルタ基板を作製するために、透明絶縁性基板３０上にカラーフィルタ３１の色層および遮光層をパターン形成する。このとき、カラーフィルタ３１の色層は各画素の配色に応じてＲ、Ｂ、Ｇを順次配置し、遮光層３２部分にはそのうちの２つを異なる色の２つの着色層として順次積層した。その上に、透明導電層を成膜して対向電極を形成した。上記アクティブマトリクス基板の作製工程とカラーフィルタ基板の作製工程とは、どちらを先に行っても良い。
【００３４】
その後、アクティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板との表面に配向膜（図示せず）を形成し、両基板をシール樹脂等により貼り合わせる。最後に、両基板間の空隙に液晶を注入することにより、液晶表示装置が得られる。
【００３５】
このようにして得られる本実施形態の液晶表示装置においては、遮光層３２として互いに異なる色の２つの着色層が積層されているので、周辺領域を遮光することができた。従って、周辺領域からバックライト光が漏れることがなく、周辺領域に設けられるシール樹脂等も見えなかった。特に、上記遮光層として赤色の着色層および青色の着色層が積層されたものを用いた場合、周辺領域の光透過率を１％程度にすることができた。この場合、遮光層を形成しない構成や単色の遮光層を設ける構成に比べて周辺領域の光透過率が低いことは当然ながら、カラーフィルタの色層のうち、他の２つの色層の組み合わせを用いた場合に比べても光透過率が最も低くなった。また、上記遮光層はカラーフィルタの各色層のパターン形成時に順次積層できるので、製造工程の簡略化を図ることができた。
【００３６】
（実施形態２）
図４（Ａ）および図４（Ｂ）は実施形態２の液晶表示装置におけるアクティブマトリクス基板の平面図であり、図５（Ａ）は図４（Ａ）のＡ−Ａ’断面図、図５（Ｂ）は図４（Ｂ）のＢ−Ｂ’断面図である。なお、図４（Ａ）および図５（Ａ）は周辺領域のゲート信号線部分を示し、図４（Ｂ）および図５（Ｂ）は周辺領域のソース信号線部分を示している。
【００３７】
このアクティブマトリクス基板は、周辺領域にゲート信号線３の隣接するもの同士の間を覆うように第２の遮光層２０ａを形成し、また、ソース信号線５を形成するよりも前に、ソース信号線５の隣接するもの同士の間を覆うように、前記第２の遮光層２０ａと同時に第２の遮光層２０ｂを形成した。一方、カラーフィルタ基板は、実施形態１の液晶表示装置と同様に、カラーフィルタ基板上の周辺領域に遮光層として互いに異なる２色の着色層を積層した。
【００３８】
この実施形態２の液晶表示装置には、実施形態１の液晶表示装置に比べて以下のような利点がある。すなわち、実施形態１の液晶表示装置では周辺領域の光透過率が１％程度であり、アクティブマトリクス基板の配線が透けて見える。このため、例えばパーソナルコンピュータの中でも、特に高い表示品位が要求される用途には使用できなかった。これに対して実施形態２の液晶表示装置では、アクティブマトリクス基板に設けられた第２の遮光層２０ａ、２０ｂにより周辺領域の光透過率をさらに低くすることができるため、このような用途にも使用することができる。
【００３９】
また、実施形態２の液晶表示装置には、以下のような利点もある。すなわち、ゲート信号線３の形成部分に設けられる第２の遮光層２０ａはソース信号線と同じ材料を用いて同時にパターン形成することができ、ソース信号線５の形成部分に設けられる第２の遮光層２０ｂはゲート信号線と同じ材料を用いて同時にパターン形成することができる。この第２の遮光層２０ａとソース信号線とを別の層として形成したり、第２の遮光層２０ｂとゲート信号線とを別の層として形成することもできるが、同層に形成した場合には製造工程が増加しないため、コスト的に有利である。なお、第２の遮光層２０ｂとゲート信号線とを別の層として形成する場合には、ソース信号線５を第２の遮光層２０ｂに対して基板側に形成することもできる。
【００４０】
さらに、実施形態２の液晶表示装置には、以下のような利点もある。すなわち、ゲート信号線３の形成部分に設けられる第２の遮光層２０ａをソース信号線と同層に形成した場合、その上の層における干渉がゲート信号線の上の層における干渉と異なるため、周辺領域に配線に応じた模様が見えるという問題がある。また、ソース信号線５の形成部分に設けられる第２の遮光層２０ｂをゲート信号線と同層に形成した場合にも同様の問題がある。さらに、アクティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板とを貼り合わせるためのシール樹脂等や、対向電極に信号を入力するための導電性ペースト等が周辺領域に設けられ、それらが見えるという問題もある。これに対して実施形態２の液晶表示装置では、カラーフィルタ基板の周辺領域に遮光層が設けられているので、配線の模様やシール樹脂、導電性ペースト等を見えなくすることができ、表示品位を充分に良好にすることができた。
【００４１】
なお、この実施形態２では、ゲート信号線３の形成部分に第２の遮光層２０ａを形成し、ソース信号線５の形成部分に第２の遮光層２０ｂを形成したが、本発明は、いずれか一方のみに第２の遮光層を形成した場合にも適用可能である。
【００４２】
（実施形態３）
図６（Ａ）および図６（Ｂ）は実施形態３の液晶表示装置におけるアクティブマトリクス基板の平面図であり、図７（Ａ）は図６（Ａ）のＣ−Ｃ’断面図、図７（Ｂ）は図６（Ｂ）のＤ−Ｄ’断面図である。なお、図６（Ａ）および図７（Ａ）は周辺領域のゲート信号線部分を示し、図６（Ｂ）および図７（Ｂ）は周辺領域のソース信号線部分を示している。
【００４３】
このアクティブマトリクス基板は、周辺領域におけるゲート信号線３部分の総てを覆う大きな島状の第２の遮光層２１ａを形成すると共に、周辺領域におけるソース信号線５部分の総てを覆う大きな島状の第２の遮光層２１ｂを形成した。一方、カラーフィルタ基板は、実施形態１の液晶表示装置と同様に、カラーフィルタ基板上に遮光層として互いに異なる２色の着色層を積層した。
【００４４】
この実施形態３の液晶表示装置では、アクティブマトリクス基板に設けられた第２の遮光層２１ａ、２１ｂにより周辺領域の光透過率をさらに低くすることができるため、実施形態２の液晶表示装置と同様に、特に高い表示品位が要求される用途にも使用することができる。この第２の遮光層２１ａ、２１ｂは、例えばゲート信号線３やソース信号線５を覆う層間絶縁膜１８上に設けられ、各信号線とは別の層として形成している。この場合、実施形態２の液晶表示装置に比べて製造工程は長くなるが、層間絶縁膜１８により第２の遮光層２１ａ、２１ｂと各信号線との間の容量を小さくすることができる。また、第２の遮光層２１ａ、２１ｂがゲート信号線３およびソース信号線５を覆うように形成されているので、実施形態２の液晶表示装置のように周辺領域に各信号線に応じた模様が見えるという問題も改善することができた。
【００４５】
また、実施形態３の液晶表示装置では、実施形態２の液晶表示装置と同様に、カラーフィルタ基板の周辺領域に遮光層が設けられているので、配線の模様やシール樹脂、導電性ペースト等を見えなくすることができ、表示品位を充分に良好にすることができた。
【００４６】
なお、この実施形態３では、ゲート信号線３の形成部分に第２の遮光層２１ａを形成し、ソース信号線５の形成部分に第２の遮光層２１ｂを形成したが、本発明は、いずれか一方のみに第２の遮光層を形成した場合にも適用可能である。また、第２の遮光層２１ａ、２１ｂは、ゲート信号線３およびソース信号線５の全部を覆う大きな島状に形成したが、ゲート信号線およびソース信号線の隣接する２本以上を覆うように形成してもよい。また、大きな島状の第２の遮光層２１ａ、２１ｂは、実施形態２と同様に、ゲート信号線やソース信号線と同じ材料を用いて同時にパターン形成することもできる。この場合、各信号線の信号に遅延等が生じることがあるが、それを許容できる用途には適用することができ、製造工程を簡単にすることができる。
【００４７】
（実施形態４）
図８は実施形態４の液晶表示装置におけるアクティブマトリクス基板の平面図である。
【００４８】
このアクティブマトリクス基板の周辺領域には、ゲート信号線３の形成領域には、ソース信号線５と同層に第２の遮光層２０ａが形成され、表示領域の最外郭のソース信号線５と第２の遮光層２０ａとが、表示領域と周辺領域との境界部で離隔している。また、図示していないが、ソース信号線３の形成領域には、ゲート信号線５と同層に第２の遮光層２０ｂが形成され、表示領域の最外郭のゲート信号線３と第２の遮光層２０ｂとが、表示領域と周辺領域との境界部で離隔している。一方、カラーフィルタ基板の周辺領域には、互いに異なる２色の着色層を積層した遮光層が設けられて、その離隔部分２２を覆っている。なお、図８中の２はＴＦＴであり、４は画素容量電極１ａとの対向部分で画素容量を形成する画素容量配線であり、１７ｂはＴＦＴ２のドレイン電極１６ｂと画素電極１９とを接続するための接続電極である。この接続電極１７ｂは、図に表れていない層間絶縁膜を貫くコンタクトホール２３を介して画素電極１９と接続されている。
【００４９】
この実施形態４の液晶表示装置には、実施形態２の液晶表示装置に比べて以下のような利点がある。すなわち、実施形態２の液晶表示装置では、第２の遮光層２１ａ、２１ｂと各信号線３、５との間の離隔部分２２から光漏れが生じるため、周辺領域と表示領域との境界における遮光が問題となる。これに対して実施形態４の液晶表示装置では、カラーフィルタ基板の周辺領域に設けられた遮光層が離隔部分２２も覆っているので、この部分からの光漏れも防ぐことができる。この離隔部分２２の幅は大きくても数１０μｍ程度であり、その部分を覆って互いに異なる２色の着色層からなる遮光層を設けることにより、さらに光透過率を低減できるので、表示品位を良好なレベルにすることが可能となる。
【００５０】
なお、この実施形態４では、ゲート信号線部分に第２の遮光層２０ａを形成し、ソース信号線部分に第２の遮光層２０ｂを形成したが、本発明は、いずれか一方のみに第２の遮光層を形成した場合や、いずれか一方のみが離隔部分２２を覆う場合にも適用可能である。
【００５１】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記構成に限られない。例えば、カラーフィルタ基板の周辺領域に設ける遮光層は、赤色および青色の着色層を積層した構成としているが、本発明は、この組み合わせに限られない。たとえば、赤色および緑色の着色層を積層した構成や青色および緑色の着色層を積層した構成としてもよい。但し、赤色および青色の着色層を積層した構成の場合は、他の２色の着色層を積層した場合よりも光の透過率を充分低くすることができる。また、その遮光層としては、カラーフィルタを構成する色層ではなく、カラーフィルタの色層とは光吸収波長領域の異なる着色層を２つ使用した構成としても良い。
【００５２】
また、上述した実施形態では画素電極は、ゲート信号線、ソース信号線およびＴＦＴを覆う層間絶縁膜上に設けてＰＯＰ構造としたが、層間絶縁膜を形成せずに、ＴＦＴのドレイン電極上に画素電極の一部が重なるように設けても良い。但し、実施形態４のように層間絶縁膜上に画素電極を設けた場合、画素電極と各配線とが重なり合っているため、画素電極が設けられた部分は液晶層に電圧が印加され、液晶層に電圧が印加されない領域は各配線で遮光される。従って、表示領域においてもブラックマトリクスを設けない構成とすることができる。
【００５３】
（実施形態５）
図９は、本実施形態に係る液晶表示装置の要部を示す断面図である。
【００５４】
本実施形態は、上述した実施形態１において設けた、異なる色の２つの着色層を積層してなる遮光層３２の代わりに、単層の着色層からなる遮光層３４を実施形態１と同一部分に設けた。具体的には、カラーフィルタ基板の周辺領域に対応する部分に、カラーフィルタのＢの色層を遮光層３４として設けた。他の構成は、実施形態１と同様とした。
【００５５】
このＢの色層の代わりに、ＲやＧの色層を用いることもできるが、Ｂの色層を用いる場合は、ＲやＧの色層を用いる場合よりも、見た目が暗く見えるという利点がある。
【００５６】
本実施形態においても、遮光層を単層の着色層からなるものとして、上述した実施形態２〜４と同様の構成とすることができ、同様の効果が得られる。この場合において、本実施形態のように単層の着色層からなる遮光層３４を用いるときは、２つの着色層を積層してなる遮光層を用いるときよりも、以下の点での利点がある。その一つは、アクティブマトリクス基板側とカラーフィルタ基板側との両方で遮光されて周辺領域に設けられるシール樹脂の検査が行い難いのを、２つの着色層を積層してなる遮光層を用いる場合よりも、本実施形態の方が抑制できる。つまり、遮光層３４が単層の着色層からなるので、僅かであるが視認性がよいからである。
【００５７】
他の一つは、２つの着色層を積層してなる遮光層の場合において、周辺領域と表示領域との間に生じる大きな断差により、ラビング処理の条件（特にラビング方向）によっては配向不良が発生し易くなるのを、厚みの減少化により抑制できる。これにより、良品率の向上が可能となる。
【００５８】
（実施形態６）
図１０は、遮光層が１層からなる場合に生じる問題点を解消することができる構成とした液晶表示装置の要部を示す断面図である。
【００５９】
上述した実施形態５では遮光層３４がその全域に１つの着色層を形成した構成であるので、周辺領域の反射光に色が着いて見え、これにより表示品位が劣化するという問題点がある。
【００６０】
そこで、本実施形態では単層からなる遮光層を複数の色層を並設した構成とした。具体的には、図１１に示すように、カラーフィルタ基板の周辺領域に、表示領域に形成したＲ、Ｇ、Ｂの色層からなるカラーフィルタのパターンを延ばして遮光層３４を形成した。なお、図１１は、図１０で示す部分とは異なる部位を示す平面図である。
【００６１】
このような遮光層３４を有する構成とした場合には、３色を合成した光の色となり、上記問題点を解消できる。また、２色の着色層を積層した場合に生じる断差の影響も起こることがない。
【００６２】
（実施形態７）
図１２は、本実施形態に係る液晶表示装置の要部を示す平面図である。
【００６３】
上述した実施形態６では表示領域に形成されるカラーフィルタのパターンを周辺領域に延ばして遮光層を形成する構成を、カラーフィルタの幅が狭い高精細な液晶表示装置に適用する場合は、各色のパターンがばらばらに視認されないが、それ程高精細でない液晶表示装置に適用する場合はばらばらに視認され、表示品位が悪化するという難点がある。
【００６４】
そのため、本実施形態では、周辺領域のカラーフィルタの幅を表示領域よりも小さな寸法とし、各色のパターンがばらばらに視認されないようにした。具体的には、１２．１″のＳＶＧＡにおけるストライプ配列で、表示領域のカラーフィルタの幅を約１４０μｍ、周辺領域のカラーフィルタの幅を約４５μｍとした。このように、周辺領域のカラーフィルタ幅を十分小さく形成すると、表示品位の高いものが得られる。なお、パターンの大きさは、１００μｍ以下、好ましくは７０μｍ以下がよく、本実施形態のように５０μｍ程度にすると、人目に視認されることはない。但し、逆に余り小さくすると、パターニングが困難となるだけで意味が無いが、投射型の液晶表示装置に適用する場合は、拡大して表示されるため可及的に小さくした方がよい。
【００６５】
上述した本実施形態７において、図１３に示すようにＲ、Ｇ、Ｂの各色のパターンの幅を、表示領域に対して周辺領域で半分になるようにしてもよい。また、周辺領域の遮光層のパターンとしては、上述したストライプ配列ではなく、図１４に示すように、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色が斜め方向に配列した構成としてもよい。この図１４の配列は、本実施形態７に限らず、上述した実施形態６にも適用できることはもちろんである。
【００６６】
なお、上述した実施形態５〜７では遮光層としてカラーフィルタの色層を用いるようにしているが、本発明はこれに限らず、カラーフィルタの色層とは光吸収波長領域の異なる着色層を使用してもよい。
【００６７】
また、上述した各実施形態ではソース信号線は金属層とＩＴＯ層との２層構造にしたが、１層のソース信号線にしてもよい。但し、上述した実施形態のように２層構造にすることにより、金属層の一部に欠損があったとしてもＩＴＯ層により電気的に接続されるため、ソース信号線の断線を少なくすることができるという利点がある。
【００６８】
また、上述した各実施形態ではスイッチング素子としてＴＦＴを用いたアクティブマトリクス型液晶表示装置について説明したが、本発明は、スイッチング素子としてＭＩＭ（Ｍｅｔａｌ Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ Ｍｅｔａｌ）素子等の他の素子を用いた液晶表示装置に適用できることはもちろんである。
【００６９】
また、本発明にあっては、着色層からなる遮光層は、表示領域の最外郭からアクティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板とを貼り合わせるためのシール領域までを覆うように設けることができる。表示領域の最外郭やシール領域を覆わない構成も可能であるが、表示領域の最外郭を覆うように設けた場合には表示領域と周辺領域との境界部を遮光することができ、また、シール領域を覆うように上記遮光層を設けた場合にはシール樹脂等や、対向電極に信号を入力するための導電性ペースト等を見えなくすることができるので好ましい。
【００７０】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、カラーフィルタ基板の周辺領域にブラックマトリクスを形成しなくても周辺領域を遮光することができる。この遮光層は、単層の着色層、または互いに異なる２つの色の着色層を積層したものからなり、カラーフィルタの色層のパターン形成と同じ工程により形成することができるので、液晶表示装置のブラックマトリクス形成工程を減らして製造原価を低廉化することができる。特に、単層の着色層で遮光層を構成すると、周辺領域に設けられるシール樹脂の検査を容易に行い得、また、配向不良の発生を抑制できる。その単層の遮光層を複数の色層が混在するように構成すると、遮光層を介して光に色が着くのを防止できる。
【００７１】
また、アクティブマトリクス基板の周辺領域に設けられた第２の遮光層により、周辺領域の光透過率をさらに低くして表示品位を向上させることができる。
【００７２】
この第２の遮光層は、信号配線または走査配線と同時に形成することができ、第２の遮光層の形成工程を別途設けなくてもよいので、液晶表示装置の作製プロセスが複雑化することはない。この場合、表示領域の最外郭の走査配線と第２の遮光層との離隔部分および信号配線と第２の遮光層との離隔部分を覆って上記遮光層を設けると、この部分からの光漏れも防ぐことができ、さらに表示品位を向上させることができる。
【００７３】
上記第２の遮光層は、走査配線および信号配線と別の層に設けても良い。この場合には作製プロセスが長くなるが、例えば層間絶縁膜等の厚い膜の上に第２の遮光層を設けると、第２の遮光層と各配線との間の容量を小さくできる。また、走査配線および信号配線のうちの少なくとも一方の２本以上にわたる範囲を少なくとも覆うように第２の遮光層を設けると、配線パターンが模様として視認されないので、さらに表示品位を向上させることができる。
【００７４】
上記遮光層として、赤色の着色層および青色の着色層を積層形成した場合、周辺領域の光透過率を最も低くすることができ、表示品位が非常に良好な液晶表示装置を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施形態１の液晶表示装置の平面図である。
【図２】実施形態１の液晶表示装置におけるアクティブマトリクス基板のＴＦＴ部分を示す断面図である。
【図３】実施形態１の液晶表示装置における要部を示す断面図である。
【図４】（Ａ）および（Ｂ）は実施形態２の液晶表示装置におけるアクティブマトリクス基板の平面図である。（Ａ）および周辺領域のゲート信号線部分を示し、（Ｂ）は周辺領域のソース信号線部分を示している。
【図５】（Ａ）は図４（Ａ）のＡ−Ａ’断面図であり、（Ｂ）は図４（Ｂ）のＢ−Ｂ’断面図である。
【図６】（Ａ）および（Ｂ）は実施形態３の液晶表示装置におけるアクティブマトリクス基板の平面図である。（Ａ）および周辺領域のゲート信号線部分を示し、（Ｂ）は周辺領域のソース信号線部分を示している。
【図７】（Ａ）は図６（Ａ）のＣ−Ｃ’断面図であり、（Ｂ）は図６（Ｂ）のＤ−Ｄ’断面図である。
【図８】実施形態４の液晶表示装置におけるアクティブマトリクス基板の平面図である。
【図９】実施形態５の液晶表示装置における要部を示す断面図である。
【図１０】実施形態６の液晶表示装置における要部を示す断面図である。
【図１１】実施形態６の液晶表示装置における要部を示す平面図である。
【図１２】実施形態７の液晶表示装置における要部を示す平面図である。
【図１３】本発明の適用が可能な他の構成の液晶表示装置を示す平面図である。
【図１４】本発明の適用が可能な他の構成の液晶表示装置を示す平面図である。
【図１５】アクティブマトリクス基板の一例を示す概略図である。
【図１６】従来の液晶表示装置を示す平面図である。
【符号の説明】
１ａ 画素容量電極
２ ＴＦＴ
３ ゲート信号線
４ 画素容量配線
５、１７ａ、１０ａ ソース信号線
１１、３０ 透明絶縁性基板
１２ ゲート電極
１３ ゲート絶縁膜
１４ 半導体層
１５ チャネル保護膜
１６ａ ソース電極
１６ｂ ドレイン電極
１７ｂ 接続電極
１８ 層間絶縁膜
１９ 画素電極
２０ａ、２０ｂ、２１ａ、２１ｂ 第２の遮光層
２２ 離隔部分
２３ コンタクトホール
３１ カラーフィルタ
３２、３４ 遮光層
３３ シール材
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば、テレビジョンセット、パーソナルコンピュータ、ワードプロセッサ、ＯＡ（Ｏｆｆｉｃｅ Ａｕｔｏｍａｔｉｏｎ）機器などの表示装置として用いられる液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図１５に、液晶表示装置を構成するアクティブマトリクス基板の一例を示す。
【０００３】
このアクティブマトリクス基板は、スイッチング素子である薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴと称する）２および画素容量１がマトリクス状に形成されている。ＴＦＴ２のゲート電極にはゲート信号線３が接続され、そこに入力される信号によってＴＦＴ２が駆動される。ＴＦＴ２のソース電極にはソース信号線５が接続され、そこから表示信号としてビデオ信号等が入力される。各ゲート信号線３と各ソース信号線５とは、互いに交差するように形成されている。ＴＦＴ２のドレイン電極には画素電極および画素容量１の一方の端子が接続されている。各画素容量１の他方の端子には画素容量配線４が接続されている。このアクティブマトリクス基板は、対向電極が形成された対向基板と貼り合わせられ、両基板の間隙に液晶層が挟持されて液晶表示装置が構成される。この際、上記画素容量配線４は、対向基板上の対向電極と接続される。
【０００４】
このような構成の液晶表示装置において、カラー表示を実現するためには、対向基板上に、Ｒ（Ｒｅｄ）、Ｇ（Ｇｒｅｅｎ）、Ｂ（Ｂｌｕｅ）の３色の色層を備えたカラーフィルタを形成する構成が最も一般的である。このようにカラーフィルタを備えた対向基板は、カラーフィルタ基板と称される。このカラーフィルタ基板には、一般に、色の混合や光漏れを防ぐためのブラックマトリクスが形成される。
【０００５】
図１６に、カラーフィルタ基板にブラックマトリクスを形成した従来の液晶表示装置の構成を示す。この液晶表示装置においては、アクティブマトリクス基板の表示領域に画素電極（図示せず）が設けられ、その近傍を通って互いに交差してゲート信号線とソース信号線とが設けられている。両信号線は表示領域の外側の周辺領域を超えて延出形成され、その外側の端子領域に設けられた入力端子を介してゲート信号線に走査電圧が入力され、ソース信号線に信号電圧が入力される。一方、カラーフィルタ基板の表示領域には、画素電極と対向してカラーフィルタ（図示せず）が設けられている。そして、カラーフィルタが設けられていない周辺領域には、ブラックマトリクスが形成され、周辺領域を遮光している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
上述のように、従来の液晶表示装置においては、カラーフィルタ基板にブラックマトリクスを設ける構成が一般的である。しかし、液晶表示装置の製造コストを低減するためには、カラーフィルタ基板にブラックマトリクスを設けない構成も当然考えられる。この場合、周辺領域の遮光をどのようにして行うかということが問題となる。例えば、周辺領域からバックライト光が漏れると表示品位が損なわれ、黒表示の場合には特に問題になるので、バックライト光を遮光する必要がある。また、通常、観察者は液晶表示装置をカラーフィルタ基板側から見ることになるが、その際、両基板の貼り合わせのために周辺領域に設けられるシール樹脂等が見えると表示品位が損なわれるので、それらが見えないようにするのが望ましい。
【０００７】
本発明は、このような従来技術の課題を解決すべくなされたものであり、カラーフィルタ基板にブラックマトリクスを設けずに周辺領域を遮光することができる液晶表示装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の液晶表示装置は、液晶層を挟んでアクティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板とが対向配置され、該アクティブマトリクス基板に設けた画素電極とカラーフィルタ基板に設けた対向電極との対向する部分が表示領域となり、該表示領域の外周部が周辺領域となっている液晶表示装置において、該アクティブマトリクス基板は、各画素電極と層間絶縁膜を介して重なるように形成された互いに交差する走査配線と信号配線とが、該周辺領域を超えて延出形成された構成となっており、該カラーフィルタ基板は、該表示領域に対応する部分に複数の着色層を有するカラーフィルタを形成すると共に、該周辺領域に対応する部分に、該カラーフィルタが有する着色層の単層でなる遮光層を有する構成であって、該遮光層が、前記表示領域に形成されたカラーフィルタを延ばした状態で形成されており、該アクティブマトリクス基板の前記周辺領域に、第２の遮光層が、隣接する該走査配線の間および隣接する該信号配線の間を覆うように設けられ、隣接する走査配線間を覆うように設けられた第２の遮光層が信号配線と同じ材料によって信号配線と同時にパターン形成され、隣接する信号配線間を覆うように設けられた第２の遮光層が走査配線と同じ材料によって同時にパターン形成されており、そのことにより上記目的が達成される。
【００１０】
また、本発明の液晶表示装置は、液晶層を挟んでアクティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板とが対向配置され、該アクティブマトリクス基板に設けた画素電極とカラーフィルタ基板に設けた対向電極との対向する部分が表示領域となり、該表示領域の外周部が周辺領域となっている液晶表示装置において、該アクティブマトリクス基板は、各画素電極と層間絶縁膜を介して重なるように形成された互いに交差する走査配線と信号配線とが、該周辺領域を超えて延出形成された構成となっており、該カラーフィルタ基板は、該表示領域に対応する部分に複数の着色層を有するカラーフィルタを形成すると共に、該周辺領域に対応する部分に、該カラーフィルタが有する着色層の単層、または、異なる色の２つの着色層を積層してなる遮光層を有する構成となっており、該アクティブマトリクス基板の前記周辺領域に、第２の遮光層が、隣接する該走査配線の間および隣接する該信号配線の間を覆うように設けられ、隣接する走査配線間を覆うように設けられた第２の遮光層が信号配線と同じ材料によって信号配線と同時にパターン形成され、隣接する信号配線間を覆うように設けられた第２の遮光層が走査配線と同じ材料によって同時にパターン形成されており、前記走査配線および前記信号配線のうち前記表示領域の最外郭にあるものと離隔して前記第２の遮光層が設けられ、その離隔部分を覆って着色層からなる前記遮光層が設けられており、そのことにより上記目的が達成される。
【００１１】
前記アクティブマトリクス基板に前記走査配線および前記信号配線を覆う絶縁膜が設けられ、該アクティブマトリクス基板の前記周辺領域に対応する部分に第２の遮光層が、前記走査配線および前記信号配線のうちの少なくとも一方の２本以上にわたる範囲を覆い、かつ、覆われる配線との間に該絶縁膜を介して設けられていてもよい。
【００１２】
前記異なる色の２つの着色層を積層してなる遮光層は、赤色の着色層および青色の着色層が積層されたものであってもよい。
【００１３】
前記カラーフィルタ基板に設けられた単層の遮光層は、前記表示領域に形成されたカラーフィルタを延ばした状態で形成されている構成としてもよい。
【００１４】
前記カラーフィルタ基板に設けられた単層の遮光層は、前記表示領域に形成されたカラーフィルタの色層よりも狭幅にパターン形成されている構成としてもよい。
【００１５】
以下、本発明の作用について説明する。
【００１６】
本発明にあっては、カラーフィルタ基板の周辺領域に対応する部分に設けられた遮光層により周辺領域が遮光される。この遮光層は、単層の着色層でも、互いに異なる２つの着色層が積層されたものでもよい。単層の場合は、周辺領域に設けられるシール樹脂の検査を容易に行い得、また、配向不良の発生を抑制できる。その単層の遮光層を複数の色層が混在するように構成すると、遮光層を介して光に色が着くのを防止できる。
【００１７】
また、アクティブマトリクス基板の周辺領域に、走査配線および信号配線のうちの少なくとも一方の隣接する配線同士の間を少なくとも覆って第２の遮光層を設けると、周辺領域の光透過率がさらに低くなる。
【００１８】
この第２の遮光層は、信号配線または走査配線と同時に形成することができ、作製プロセスが複雑化することはない。この場合、走査配線および信号配線のうちの表示領域の最外郭にあるものと第２の遮光層とが同層に存在するので、両者を表示領域と周辺領域との境界部で離隔させる。その離隔部分を覆って上記着色層からなる遮光層を設けると、この部分からの光漏れも防ぐことができる。
【００１９】
上記第２の遮光層は、走査配線および信号配線を覆う絶縁膜を介して設けてもよい。例えば後述するＰＯＰ構造の場合、膜厚が厚い層間絶縁膜等の上に第２の遮光層を設けると、第２の遮光層と各配線との間の容量を小さくできる。また、走査配線および信号配線のうちの少なくとも一方の２本以上にわたる範囲を覆うように第２の遮光層を設けると、配線パターンが模様として視認されないようにできる。
【００２０】
上記異なる２つの着色層が積層されてなる遮光層としては、カラーフィルタのＲ、Ｂ、Ｇ用の色層のうちの２層を用いることができる。このとき、この遮光層としてカラーフィルタの色層と同じ色である赤色の着色層および青色の着色層が積層されたものを用いると、例えばカラーフィルタの色層と同じ色である緑色および青色の着色層を積層した場合や赤色および緑色の着色層を積層した場合に比べて周辺領域の光透過率を最も低くすることができる。なお、異なる２つの着色層が積層されてなる遮光層としては、カラーフィルタの色層とは異なる波長領域の光を吸収する２つの着色層を積層した構造としてもよい。また、遮光層としては、異なる２つの着色層が積層されたものに限らず、カラーフィルタの１つまたは複数の色層からなる単層、またはカラーフィルタの色層とは異なる波長領域の光を吸収する単層の着色層を用いてもよい。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
【００２２】
（実施形態１）
図１は実施形態１の液晶表示装置の平面図である。
【００２３】
この液晶表示装置は、画素電極（図示せず）を備えたアクティブマトリクス基板と対向電極（図示せず）を備えたカラーフィルタ基板とが、液晶層（図示せず）を挟んで対向配置されている。そして、画素電極と対向電極との対向部分が表示領域となり、その外周部が周辺領域となっている。
【００２４】
アクティブマトリクス基板には、平面視において各画素電極の近傍を通って互いに交差するように、走査配線としてのゲート信号線３と信号配線としてのソース信号線５とが設けられている。両信号線３、５は周辺領域を超えて延出形成され、その外側の端子領域に設けられた入力端子を介してゲート信号線３に走査電圧が入力され、ソース信号線５に信号電圧が入力される。
【００２５】
図２は、上記アクティブマトリクス基板のＴＦＴ部分における断面図である。
【００２６】
このアクティブマトリクス基板は、透明絶縁性基板１１上に、ゲート信号線３に接続されたゲート電極１２が形成され、その上を覆ってゲート絶縁膜１３が形成されている。その上にはゲート電極１２と重畳するように半導体層１４が形成され、その中央部上にチャネル保護層１５が形成されている。チャネル保護層１５の端部および半導体層１４の一部を覆い、チャネル保護層１５の上で分断された状態で、共にｎ＋−Ｓｉ層からなるソース電極１６ａおよびドレイン電極１６ｂが形成されている。
【００２７】
ソース電極１６ａ上には、２層構造のソース信号線５が接続されている。このソース信号線５は、透明導電層１７ａと金属層１０ａとからなる。ドレイン電極１６ｂの上には、透明導電層１７ｂと金属層１０ｂとが形成され、透明導電層１７ｂは画素電極１９とドレイン電極１６ｂとを接続するための接続電極となっている。さらに、ＴＦＴ、ゲート信号線およびソース信号線の上部を覆って、層間絶縁膜１８が形成されている。層間絶縁膜１８の上には、透明導電層からなる画素電極１９が形成され、図外の部分において層間絶縁膜１８を貫くコンタクトホール（図に表れていない）を介して、接続電極である透明導電層１７ｂによりＴＦＴのドレイン電極１６ｂと接続されている。このコンタクトホールについては後述する。
【００２８】
図３は、このように構成されたアクティブマトリクス基板に対し、間に液晶層ＬＣを挟んでカラーフィルタ基板が対向配設された状態を示す断面図である。このカラーフィルタ基板は、ベースとなる透明絶縁性基板３０の表示領域に、カラーフィルタ３１が設けられ、Ｒ、ＧまたはＢのいずれかの色層が各画素の表示色に応じて配置されている。また、カラーフィルタ基板の周辺領域には、互いに異なる色の２つの着色層、例えば図示例では赤色および青色の着色層が積層された遮光層３２が設けられている。そして、遮光層３２の部分には、アクティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板とを貼り合わせるためのシール樹脂等からなるシール材３３が設けられている。
【００２９】
この液晶表示装置は、以下のようにして作製することができる。
【００３０】
まず、アクティブマトリクス基板を作製するために、透明絶縁性基板１１上にゲート信号線およびゲート電極１２を形成する。この透明絶縁性基板としては、ガラス基板などを用いることができる。また、ゲート信号線３とゲート電極１２との表面には、陽極酸化膜を形成してもよい。
【００３１】
次に、ゲート絶縁膜１３、半導体層１４、およびチャネル保護層１５を順に形成し、続いて、ソース電極１６ａおよびドレイン電極１６ｂを形成する。その上に、ＩＴＯからなる透明導電層１７ａ、１７ｂおよび金属層１０ａ、１０ｂを、スパッタ法により順に形成してパターニングし、２層構造のソース信号線５および接続電極を得る。ここまでの作製プロセスは、従来より知られている。
【００３２】
その後、層間絶縁膜１８として、感光性のアクリル樹脂をスピン塗布法により３μｍの膜厚に成膜し、コンタクトホールを形成する。その後、画素電極となる透明導電層をスパッタ法により形成してパターニングし、これにより画素電極１９を得る。この画素電極１９は、層間絶縁膜１８を貫くコンタクトホールを介して、ＴＦＴのドレイン電極１６ｂと接続されている透明導電層１７ｂと接続される。つまり、この画素電極１９は、いわゆるＰＯＰ構造に形成されている。
【００３３】
次に、カラーフィルタ基板を作製するために、透明絶縁性基板３０上にカラーフィルタ３１の色層および遮光層をパターン形成する。このとき、カラーフィルタ３１の色層は各画素の配色に応じてＲ、Ｂ、Ｇを順次配置し、遮光層３２部分にはそのうちの２つを異なる色の２つの着色層として順次積層した。その上に、透明導電層を成膜して対向電極を形成した。上記アクティブマトリクス基板の作製工程とカラーフィルタ基板の作製工程とは、どちらを先に行っても良い。
【００３４】
その後、アクティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板との表面に配向膜（図示せず）を形成し、両基板をシール樹脂等により貼り合わせる。最後に、両基板間の空隙に液晶を注入することにより、液晶表示装置が得られる。
【００３５】
このようにして得られる本実施形態の液晶表示装置においては、遮光層３２として互いに異なる色の２つの着色層が積層されているので、周辺領域を遮光することができた。従って、周辺領域からバックライト光が漏れることがなく、周辺領域に設けられるシール樹脂等も見えなかった。特に、上記遮光層として赤色の着色層および青色の着色層が積層されたものを用いた場合、周辺領域の光透過率を１％程度にすることができた。この場合、遮光層を形成しない構成や単色の遮光層を設ける構成に比べて周辺領域の光透過率が低いことは当然ながら、カラーフィルタの色層のうち、他の２つの色層の組み合わせを用いた場合に比べても光透過率が最も低くなった。また、上記遮光層はカラーフィルタの各色層のパターン形成時に順次積層できるので、製造工程の簡略化を図ることができた。
【００３６】
（実施形態２）
図４（Ａ）および図４（Ｂ）は実施形態２の液晶表示装置におけるアクティブマトリクス基板の平面図であり、図５（Ａ）は図４（Ａ）のＡ−Ａ’断面図、図５（Ｂ）は図４（Ｂ）のＢ−Ｂ’断面図である。なお、図４（Ａ）および図５（Ａ）は周辺領域のゲート信号線部分を示し、図４（Ｂ）および図５（Ｂ）は周辺領域のソース信号線部分を示している。
【００３７】
このアクティブマトリクス基板は、周辺領域にゲート信号線３の隣接するもの同士の間を覆うように第２の遮光層２０ａを形成し、また、ソース信号線５を形成するよりも前に、ソース信号線５の隣接するもの同士の間を覆うように、前記第２の遮光層２０ａと同時に第２の遮光層２０ｂを形成した。一方、カラーフィルタ基板は、実施形態１の液晶表示装置と同様に、カラーフィルタ基板上の周辺領域に遮光層として互いに異なる２色の着色層を積層した。
【００３８】
この実施形態２の液晶表示装置には、実施形態１の液晶表示装置に比べて以下のような利点がある。すなわち、実施形態１の液晶表示装置では周辺領域の光透過率が１％程度であり、アクティブマトリクス基板の配線が透けて見える。このため、例えばパーソナルコンピュータの中でも、特に高い表示品位が要求される用途には使用できなかった。これに対して実施形態２の液晶表示装置では、アクティブマトリクス基板に設けられた第２の遮光層２０ａ、２０ｂにより周辺領域の光透過率をさらに低くすることができるため、このような用途にも使用することができる。
【００３９】
また、実施形態２の液晶表示装置には、以下のような利点もある。すなわち、ゲート信号線３の形成部分に設けられる第２の遮光層２０ａはソース信号線と同じ材料を用いて同時にパターン形成することができ、ソース信号線５の形成部分に設けられる第２の遮光層２０ｂはゲート信号線と同じ材料を用いて同時にパターン形成することができる。この第２の遮光層２０ａとソース信号線とを別の層として形成したり、第２の遮光層２０ｂとゲート信号線とを別の層として形成することもできるが、同層に形成した場合には製造工程が増加しないため、コスト的に有利である。なお、第２の遮光層２０ｂとゲート信号線とを別の層として形成する場合には、ソース信号線５を第２の遮光層２０ｂに対して基板側に形成することもできる。
【００４０】
さらに、実施形態２の液晶表示装置には、以下のような利点もある。すなわち、ゲート信号線３の形成部分に設けられる第２の遮光層２０ａをソース信号線と同層に形成した場合、その上の層における干渉がゲート信号線の上の層における干渉と異なるため、周辺領域に配線に応じた模様が見えるという問題がある。また、ソース信号線５の形成部分に設けられる第２の遮光層２０ｂをゲート信号線と同層に形成した場合にも同様の問題がある。さらに、アクティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板とを貼り合わせるためのシール樹脂等や、対向電極に信号を入力するための導電性ペースト等が周辺領域に設けられ、それらが見えるという問題もある。これに対して実施形態２の液晶表示装置では、カラーフィルタ基板の周辺領域に遮光層が設けられているので、配線の模様やシール樹脂、導電性ペースト等を見えなくすることができ、表示品位を充分に良好にすることができた。
【００４１】
なお、この実施形態２では、ゲート信号線３の形成部分に第２の遮光層２０ａを形成し、ソース信号線５の形成部分に第２の遮光層２０ｂを形成したが、本発明は、いずれか一方のみに第２の遮光層を形成した場合にも適用可能である。
【００４２】
（実施形態３）
図６（Ａ）および図６（Ｂ）は実施形態３の液晶表示装置におけるアクティブマトリクス基板の平面図であり、図７（Ａ）は図６（Ａ）のＣ−Ｃ’断面図、図７（Ｂ）は図６（Ｂ）のＤ−Ｄ’断面図である。なお、図６（Ａ）および図７（Ａ）は周辺領域のゲート信号線部分を示し、図６（Ｂ）および図７（Ｂ）は周辺領域のソース信号線部分を示している。
【００４３】
このアクティブマトリクス基板は、周辺領域におけるゲート信号線３部分の総てを覆う大きな島状の第２の遮光層２１ａを形成すると共に、周辺領域におけるソース信号線５部分の総てを覆う大きな島状の第２の遮光層２１ｂを形成した。一方、カラーフィルタ基板は、実施形態１の液晶表示装置と同様に、カラーフィルタ基板上に遮光層として互いに異なる２色の着色層を積層した。
【００４４】
この実施形態３の液晶表示装置では、アクティブマトリクス基板に設けられた第２の遮光層２１ａ、２１ｂにより周辺領域の光透過率をさらに低くすることができるため、実施形態２の液晶表示装置と同様に、特に高い表示品位が要求される用途にも使用することができる。この第２の遮光層２１ａ、２１ｂは、例えばゲート信号線３やソース信号線５を覆う層間絶縁膜１８上に設けられ、各信号線とは別の層として形成している。この場合、実施形態２の液晶表示装置に比べて製造工程は長くなるが、層間絶縁膜１８により第２の遮光層２１ａ、２１ｂと各信号線との間の容量を小さくすることができる。また、第２の遮光層２１ａ、２１ｂがゲート信号線３およびソース信号線５を覆うように形成されているので、実施形態２の液晶表示装置のように周辺領域に各信号線に応じた模様が見えるという問題も改善することができた。
【００４５】
また、実施形態３の液晶表示装置では、実施形態２の液晶表示装置と同様に、カラーフィルタ基板の周辺領域に遮光層が設けられているので、配線の模様やシール樹脂、導電性ペースト等を見えなくすることができ、表示品位を充分に良好にすることができた。
【００４６】
なお、この実施形態３では、ゲート信号線３の形成部分に第２の遮光層２１ａを形成し、ソース信号線５の形成部分に第２の遮光層２１ｂを形成したが、本発明は、いずれか一方のみに第２の遮光層を形成した場合にも適用可能である。また、第２の遮光層２１ａ、２１ｂは、ゲート信号線３およびソース信号線５の全部を覆う大きな島状に形成したが、ゲート信号線およびソース信号線の隣接する２本以上を覆うように形成してもよい。また、大きな島状の第２の遮光層２１ａ、２１ｂは、実施形態２と同様に、ゲート信号線やソース信号線と同じ材料を用いて同時にパターン形成することもできる。この場合、各信号線の信号に遅延等が生じることがあるが、それを許容できる用途には適用することができ、製造工程を簡単にすることができる。
【００４７】
（実施形態４）
図８は実施形態４の液晶表示装置におけるアクティブマトリクス基板の平面図である。
【００４８】
このアクティブマトリクス基板の周辺領域には、ゲート信号線３の形成領域には、ソース信号線５と同層に第２の遮光層２０ａが形成され、表示領域の最外郭のソース信号線５と第２の遮光層２０ａとが、表示領域と周辺領域との境界部で離隔している。また、図示していないが、ソース信号線３の形成領域には、ゲート信号線５と同層に第２の遮光層２０ｂが形成され、表示領域の最外郭のゲート信号線３と第２の遮光層２０ｂとが、表示領域と周辺領域との境界部で離隔している。一方、カラーフィルタ基板の周辺領域には、互いに異なる２色の着色層を積層した遮光層が設けられて、その離隔部分２２を覆っている。なお、図８中の２はＴＦＴであり、４は画素容量電極１ａとの対向部分で画素容量を形成する画素容量配線であり、１７ｂはＴＦＴ２のドレイン電極１６ｂと画素電極１９とを接続するための接続電極である。この接続電極１７ｂは、図に表れていない層間絶縁膜を貫くコンタクトホール２３を介して画素電極１９と接続されている。
【００４９】
この実施形態４の液晶表示装置には、実施形態２の液晶表示装置に比べて以下のような利点がある。すなわち、実施形態２の液晶表示装置では、第２の遮光層２１ａ、２１ｂと各信号線３、５との間の離隔部分２２から光漏れが生じるため、周辺領域と表示領域との境界における遮光が問題となる。これに対して実施形態４の液晶表示装置では、カラーフィルタ基板の周辺領域に設けられた遮光層が離隔部分２２も覆っているので、この部分からの光漏れも防ぐことができる。この離隔部分２２の幅は大きくても数１０μｍ程度であり、その部分を覆って互いに異なる２色の着色層からなる遮光層を設けることにより、さらに光透過率を低減できるので、表示品位を良好なレベルにすることが可能となる。
【００５０】
なお、この実施形態４では、ゲート信号線部分に第２の遮光層２０ａを形成し、ソース信号線部分に第２の遮光層２０ｂを形成したが、本発明は、いずれか一方のみに第２の遮光層を形成した場合や、いずれか一方のみが離隔部分２２を覆う場合にも適用可能である。
【００５１】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記構成に限られない。例えば、カラーフィルタ基板の周辺領域に設ける遮光層は、赤色および青色の着色層を積層した構成としているが、本発明は、この組み合わせに限られない。たとえば、赤色および緑色の着色層を積層した構成や青色および緑色の着色層を積層した構成としてもよい。但し、赤色および青色の着色層を積層した構成の場合は、他の２色の着色層を積層した場合よりも光の透過率を充分低くすることができる。また、その遮光層としては、カラーフィルタを構成する色層ではなく、カラーフィルタの色層とは光吸収波長領域の異なる着色層を２つ使用した構成としても良い。
【００５２】
また、上述した実施形態では画素電極は、ゲート信号線、ソース信号線およびＴＦＴを覆う層間絶縁膜上に設けてＰＯＰ構造としたが、層間絶縁膜を形成せずに、ＴＦＴのドレイン電極上に画素電極の一部が重なるように設けても良い。但し、実施形態４のように層間絶縁膜上に画素電極を設けた場合、画素電極と各配線とが重なり合っているため、画素電極が設けられた部分は液晶層に電圧が印加され、液晶層に電圧が印加されない領域は各配線で遮光される。従って、表示領域においてもブラックマトリクスを設けない構成とすることができる。
【００５３】
（実施形態５）
図９は、本実施形態に係る液晶表示装置の要部を示す断面図である。
【００５４】
本実施形態は、上述した実施形態１において設けた、異なる色の２つの着色層を積層してなる遮光層３２の代わりに、単層の着色層からなる遮光層３４を実施形態１と同一部分に設けた。具体的には、カラーフィルタ基板の周辺領域に対応する部分に、カラーフィルタのＢの色層を遮光層３４として設けた。他の構成は、実施形態１と同様とした。
【００５５】
このＢの色層の代わりに、ＲやＧの色層を用いることもできるが、Ｂの色層を用いる場合は、ＲやＧの色層を用いる場合よりも、見た目が暗く見えるという利点がある。
【００５６】
本実施形態においても、遮光層を単層の着色層からなるものとして、上述した実施形態２〜４と同様の構成とすることができ、同様の効果が得られる。この場合において、本実施形態のように単層の着色層からなる遮光層３４を用いるときは、２つの着色層を積層してなる遮光層を用いるときよりも、以下の点での利点がある。その一つは、アクティブマトリクス基板側とカラーフィルタ基板側との両方で遮光されて周辺領域に設けられるシール樹脂の検査が行い難いのを、２つの着色層を積層してなる遮光層を用いる場合よりも、本実施形態の方が抑制できる。つまり、遮光層３４が単層の着色層からなるので、僅かであるが視認性がよいからである。
【００５７】
他の一つは、２つの着色層を積層してなる遮光層の場合において、周辺領域と表示領域との間に生じる大きな断差により、ラビング処理の条件（特にラビング方向）によっては配向不良が発生し易くなるのを、厚みの減少化により抑制できる。これにより、良品率の向上が可能となる。
【００５８】
（実施形態６）
図１０は、遮光層が１層からなる場合に生じる問題点を解消することができる構成とした液晶表示装置の要部を示す断面図である。
【００５９】
上述した実施形態５では遮光層３４がその全域に１つの着色層を形成した構成であるので、周辺領域の反射光に色が着いて見え、これにより表示品位が劣化するという問題点がある。
【００６０】
そこで、本実施形態では単層からなる遮光層を複数の色層を並設した構成とした。具体的には、図１１に示すように、カラーフィルタ基板の周辺領域に、表示領域に形成したＲ、Ｇ、Ｂの色層からなるカラーフィルタのパターンを延ばして遮光層３４を形成した。なお、図１１は、図１０で示す部分とは異なる部位を示す平面図である。
【００６１】
このような遮光層３４を有する構成とした場合には、３色を合成した光の色となり、上記問題点を解消できる。また、２色の着色層を積層した場合に生じる断差の影響も起こることがない。
【００６２】
（実施形態７）
図１２は、本実施形態に係る液晶表示装置の要部を示す平面図である。
【００６３】
上述した実施形態６では表示領域に形成されるカラーフィルタのパターンを周辺領域に延ばして遮光層を形成する構成を、カラーフィルタの幅が狭い高精細な液晶表示装置に適用する場合は、各色のパターンがばらばらに視認されないが、それ程高精細でない液晶表示装置に適用する場合はばらばらに視認され、表示品位が悪化するという難点がある。
【００６４】
そのため、本実施形態では、周辺領域のカラーフィルタの幅を表示領域よりも小さな寸法とし、各色のパターンがばらばらに視認されないようにした。具体的には、１２．１″のＳＶＧＡにおけるストライプ配列で、表示領域のカラーフィルタの幅を約１４０μｍ、周辺領域のカラーフィルタの幅を約４５μｍとした。このように、周辺領域のカラーフィルタ幅を十分小さく形成すると、表示品位の高いものが得られる。なお、パターンの大きさは、１００μｍ以下、好ましくは７０μｍ以下がよく、本実施形態のように５０μｍ程度にすると、人目に視認されることはない。但し、逆に余り小さくすると、パターニングが困難となるだけで意味が無いが、投射型の液晶表示装置に適用する場合は、拡大して表示されるため可及的に小さくした方がよい。
【００６５】
上述した本実施形態７において、図１３に示すようにＲ、Ｇ、Ｂの各色のパターンの幅を、表示領域に対して周辺領域で半分になるようにしてもよい。また、周辺領域の遮光層のパターンとしては、上述したストライプ配列ではなく、図１４に示すように、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色が斜め方向に配列した構成としてもよい。この図１４の配列は、本実施形態７に限らず、上述した実施形態６にも適用できることはもちろんである。
【００６６】
なお、上述した実施形態５〜７では遮光層としてカラーフィルタの色層を用いるようにしているが、本発明はこれに限らず、カラーフィルタの色層とは光吸収波長領域の異なる着色層を使用してもよい。
【００６７】
また、上述した各実施形態ではソース信号線は金属層とＩＴＯ層との２層構造にしたが、１層のソース信号線にしてもよい。但し、上述した実施形態のように２層構造にすることにより、金属層の一部に欠損があったとしてもＩＴＯ層により電気的に接続されるため、ソース信号線の断線を少なくすることができるという利点がある。
【００６８】
また、上述した各実施形態ではスイッチング素子としてＴＦＴを用いたアクティブマトリクス型液晶表示装置について説明したが、本発明は、スイッチング素子としてＭＩＭ（Ｍｅｔａｌ Ｉｎｓｕｌａｔｏｒ Ｍｅｔａｌ）素子等の他の素子を用いた液晶表示装置に適用できることはもちろんである。
【００６９】
また、本発明にあっては、着色層からなる遮光層は、表示領域の最外郭からアクティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板とを貼り合わせるためのシール領域までを覆うように設けることができる。表示領域の最外郭やシール領域を覆わない構成も可能であるが、表示領域の最外郭を覆うように設けた場合には表示領域と周辺領域との境界部を遮光することができ、また、シール領域を覆うように上記遮光層を設けた場合にはシール樹脂等や、対向電極に信号を入力するための導電性ペースト等を見えなくすることができるので好ましい。
【００７０】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、カラーフィルタ基板の周辺領域にブラックマトリクスを形成しなくても周辺領域を遮光することができる。この遮光層は、単層の着色層、または互いに異なる２つの色の着色層を積層したものからなり、カラーフィルタの色層のパターン形成と同じ工程により形成することができるので、液晶表示装置のブラックマトリクス形成工程を減らして製造原価を低廉化することができる。特に、単層の着色層で遮光層を構成すると、周辺領域に設けられるシール樹脂の検査を容易に行い得、また、配向不良の発生を抑制できる。その単層の遮光層を複数の色層が混在するように構成すると、遮光層を介して光に色が着くのを防止できる。
【００７１】
また、アクティブマトリクス基板の周辺領域に設けられた第２の遮光層により、周辺領域の光透過率をさらに低くして表示品位を向上させることができる。
【００７２】
この第２の遮光層は、信号配線または走査配線と同時に形成することができ、第２の遮光層の形成工程を別途設けなくてもよいので、液晶表示装置の作製プロセスが複雑化することはない。この場合、表示領域の最外郭の走査配線と第２の遮光層との離隔部分および信号配線と第２の遮光層との離隔部分を覆って上記遮光層を設けると、この部分からの光漏れも防ぐことができ、さらに表示品位を向上させることができる。
【００７３】
上記第２の遮光層は、走査配線および信号配線と別の層に設けても良い。この場合には作製プロセスが長くなるが、例えば層間絶縁膜等の厚い膜の上に第２の遮光層を設けると、第２の遮光層と各配線との間の容量を小さくできる。また、走査配線および信号配線のうちの少なくとも一方の２本以上にわたる範囲を少なくとも覆うように第２の遮光層を設けると、配線パターンが模様として視認されないので、さらに表示品位を向上させることができる。
【００７４】
上記遮光層として、赤色の着色層および青色の着色層を積層形成した場合、周辺領域の光透過率を最も低くすることができ、表示品位が非常に良好な液晶表示装置を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施形態１の液晶表示装置の平面図である。
【図２】実施形態１の液晶表示装置におけるアクティブマトリクス基板のＴＦＴ部分を示す断面図である。
【図３】実施形態１の液晶表示装置における要部を示す断面図である。
【図４】（Ａ）および（Ｂ）は実施形態２の液晶表示装置におけるアクティブマトリクス基板の平面図である。（Ａ）および周辺領域のゲート信号線部分を示し、（Ｂ）は周辺領域のソース信号線部分を示している。
【図５】（Ａ）は図４（Ａ）のＡ−Ａ’断面図であり、（Ｂ）は図４（Ｂ）のＢ−Ｂ’断面図である。
【図６】（Ａ）および（Ｂ）は実施形態３の液晶表示装置におけるアクティブマトリクス基板の平面図である。（Ａ）および周辺領域のゲート信号線部分を示し、（Ｂ）は周辺領域のソース信号線部分を示している。
【図７】（Ａ）は図６（Ａ）のＣ−Ｃ’断面図であり、（Ｂ）は図６（Ｂ）のＤ−Ｄ’断面図である。
【図８】実施形態４の液晶表示装置におけるアクティブマトリクス基板の平面図である。
【図９】実施形態５の液晶表示装置における要部を示す断面図である。
【図１０】実施形態６の液晶表示装置における要部を示す断面図である。
【図１１】実施形態６の液晶表示装置における要部を示す平面図である。
【図１２】実施形態７の液晶表示装置における要部を示す平面図である。
【図１３】本発明の適用が可能な他の構成の液晶表示装置を示す平面図である。
【図１４】本発明の適用が可能な他の構成の液晶表示装置を示す平面図である。
【図１５】アクティブマトリクス基板の一例を示す概略図である。
【図１６】従来の液晶表示装置を示す平面図である。
【符号の説明】
１ａ 画素容量電極
２ ＴＦＴ
３ ゲート信号線
４ 画素容量配線
５、１７ａ、１０ａ ソース信号線
１１、３０ 透明絶縁性基板
１２ ゲート電極
１３ ゲート絶縁膜
１４ 半導体層
１５ チャネル保護膜
１６ａ ソース電極
１６ｂ ドレイン電極
１７ｂ 接続電極
１８ 層間絶縁膜
１９ 画素電極
２０ａ、２０ｂ、２１ａ、２１ｂ 第２の遮光層
２２ 離隔部分
２３ コンタクトホール
３１ カラーフィルタ
３２、３４ 遮光層
３３ シール材
Claims (3)
- 液晶層を挟んでアクティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板とが対向配置され、該アクティブマトリクス基板に設けた画素電極とカラーフィルタ基板に設けた対向電極との対向する部分が表示領域となり、該表示領域の外周部が周辺領域となっている液晶表示装置において、
該アクティブマトリクス基板は、各画素電極と層間絶縁膜を介して重なるように形成された互いに交差する走査配線と信号配線とが、該周辺領域を超えて延出形成された構成となっており、
該カラーフィルタ基板は、該表示領域に対応する部分に複数の着色層を有するカラーフィルタを形成すると共に、該周辺領域に対応する部分に、該カラーフィルタが有する着色層の単層でなる遮光層を有する構成であって、該遮光層が、前記表示領域に形成されたカラーフィルタを延ばした状態で形成されており、
該アクティブマトリクス基板の前記周辺領域に、第２の遮光層が、隣接する該走査配線の間および隣接する該信号配線の間を覆うように設けられ、
隣接する走査配線間を覆うように設けられた第２の遮光層が信号配線と同じ材料によって信号配線と同時にパターン形成され、隣接する信号配線間を覆うように設けられた第２の遮光層が走査配線と同じ材料によって同時にパターン形成されている液晶表示装置。 - 液晶層を挟んでアクティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板とが対向配置され、該アクティブマトリクス基板に設けた画素電極とカラーフィルタ基板に設けた対向電極との対向する部分が表示領域となり、該表示領域の外周部が周辺領域となっている液晶表示装置において、
該アクティブマトリクス基板は、各画素電極と層間絶縁膜を介して重なるように形成された互いに交差する走査配線と信号配線とが、該周辺領域を超えて延出形成された構成となっており、
該カラーフィルタ基板は、該表示領域に対応する部分に複数の着色層を有するカラーフィルタを形成すると共に、該周辺領域に対応する部分に、該カラーフィルタが有する着色層の単層、または、異なる色の２つの着色層を積層してなる遮光層を有する構成となっており、
該アクティブマトリクス基板の前記周辺領域に、第２の遮光層が、隣接する該走査配線の間および隣接する該信号配線の間を覆うように設けられ、
隣接する走査配線間を覆うように設けられた第２の遮光層が信号配線と同じ材料によって信号配線と同時にパターン形成され、隣接する信号配線間を覆うように設けられた第２の遮光層が走査配線と同じ材料によって同時にパターン形成されており、
前記走査配線および前記信号配線のうち前記表示領域の最外郭にあるものと離隔して前記第２の遮光層が設けられ、その離隔部分を覆って着色層からなる前記遮光層が設けられている、液晶表示装置。 - 前記異なる色の２つの着色層を積層してなる遮光層が、赤色の着色層と青色の着色層とが積層されたものである請求項２に記載の液晶表示装置。
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