JP2004264513A - 電気光学装置、およびそれを用いた電子機器 - Google Patents
電気光学装置、およびそれを用いた電子機器 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004264513A JP2004264513A JP2003054000A JP2003054000A JP2004264513A JP 2004264513 A JP2004264513 A JP 2004264513A JP 2003054000 A JP2003054000 A JP 2003054000A JP 2003054000 A JP2003054000 A JP 2003054000A JP 2004264513 A JP2004264513 A JP 2004264513A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- color filter
- light
- layer
- filter layer
- electro
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
【解決手段】半透過反射型の電気光学装置1では、光反射膜33と、カラーフィルタ層34と、オーバーコート層35と、対向電極36とが形成され、光反射膜33には、透過モードでの表示を可能とする光透過窓330が形成されている。下層側凹凸形成層51aおよび上層側凹凸形成層52aを構成する感光性樹脂層は、短波長域の光を吸収するという分光特性を有しているので、青色(B)のカラーフィルタ層34が形成されている画素11では、光透過窓330と平面的に重なる領域に下層側凹凸形成層51a、および上層側凹凸形成層52aのいずれもが形成されていない。
【選択図】 図3
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、透過モードおよび反射モードでの表示が可能な電気光学装置、およびそれを用いた電子機器に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
代表的な電気光学装置の一つである液晶装置は、薄型、軽量、低消費電力という特長を有していることから、携帯電話機、モバイルコンピュータなどの表示装置として広く用いられている。
【0003】
この種の電気光学装置では、図9に示すように、バックライト装置から出射された光によって透過モードでの表示を行え、かつ、外光を利用した反射モードでの表示も行えるように、液晶を保持する一対の基板のうちの一方に、反射モードでの表示を可能とする光反射膜33、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のカラーフィルタ層34と、オーバーコート層35、透光性を備えた画素電極36、および配向膜37がこの順に形成されている一方、光反射膜33には透過モードでの表示を可能とする光透過窓330が各画素11毎に形成されている(例えば、特許文献1参照)。
【0004】
また、光反射膜33で反射された光の方向性が強いと、画像をみる角度で明るさが異なるなどの視野角依存性が顕著に出てしまう。そこで、基板の表面にアクリル樹脂などといった感光性樹脂を厚さに塗布した後、フォトリソグラフィ技術を用いて、感光性樹脂層を下層側凹凸形成層51aとして所定のパターンに残すことにより、光反射膜33の表面に凹凸を付与している。また、このままでは、凹凸に下層側凹凸形成層51aのエッジがそのまま出てしまうので、下層側凹凸形成層51aの上層にもう1層、流動性の高い感光性樹脂層からなる上層側凹凸形成層52aを塗布、形成することにより、光反射膜33の表面にエッジのない、なだらかな形状の凹凸パターンを付与している。
【0005】
【特許文献1】
特開2002−258270号(第6頁、図1)
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上層側凹凸形成層52aおよび下層側凹凸形成層51aを構成する感光性樹脂は、図6に実線L0で分光特性を示すように、短波長域の光を強く吸収する傾向にあるため、透過モードでカラー画像を表示したとき、バックライト装置(図示せず)から出射された光は、低波長域の光が上層側凹凸形成層52aおよび下層側凹凸形成層51aを構成する感光性樹脂で一部が吸収された後、カラーフィルタ層54に入射する。このため、従来の電気光学装置では、黄変したカラー画像が表示されてしまうという問題点がある。
【0007】
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、光散乱用の凹凸を付与するための凹凸形成層を形成しても品位の高いカラー画像を表示することのできる電気光学装置、およびそれを用いた電子機器を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明では、電気光学物質を保持するための透光性基板上に、少なくとも、透光性を備えた凹凸形成膜、反射モードでの表示を可能とする光反射膜、およびカラーフィルタ層がこの順に形成され、前記光反射膜には透過モードでの表示を可能とする光透過窓が各画素毎に形成された半透過反射型電気光学装置において、前記凹凸形成層は、該凹凸形成層の分光特性に応じて、前記各画素のうち、所定色のカラーフィルタ層が形成された画素では前記光透過窓と平面的に重なる領域に形成されている一方、他の色のカラーフィルタ層が形成された画素では前記光透過窓と平面的に重なる領域には形成されていないことを特徴とする。
【0009】
例えば、前記各画素には、赤色、緑色、青色に対応する前記カラーフィルタ層が形成され、前記凹凸形成層が感光性樹脂から構成されている場合には、前記各画素のうち、赤色および緑色カラーフィルタ層が形成された画素では前記光透過窓と平面的に重なる領域に形成されている一方、青色のカラーフィルタ層が形成された画素では前記光透過窓と平面的に重なる領域に形成されていないことを特徴とする。
【0010】
本発明では、凹凸形成層を感光性樹脂で構成した場合、感光性樹脂が短波長域の光を吸収してしまうという分光特性に対応させて、青色のカラーフィルタ層が形成された画素では光透過窓と平面的に重なる領域に凹凸形成層を形成しない。このため、透過モードでカラー画像を表示した場合でも、バックライト装置から出射された光は、低波長域の光が凹凸形成層で吸収されることなく青色のカラーフィルタ層に入射する。従って、カラー画像が黄変することがないので、品位の高いカラー画像を表示することができる。
【0011】
本発明において、前記各画素では、前記カラーフィルタ層として、前記光反射膜と平面的に重なる領域に反射表示用のカラーフィルタ層が形成されている一方、前記光透過窓と平面的に重なる領域には、前記反射表示用のカラーフィルタ層よりも着色性の強い透過表示用のカラーフィルタ層が形成されていることが好ましい。このように構成すると、透過モードと反射モードで表示したカラー画像の色の濃さを合わせることができる。
【0012】
本発明において、前記光透過窓と平面的に重なる領域に前記凹凸形成層が形成されていない前記画素で当該光透過窓に対して形成されている前記カラーフィルタ層は、他の画素で前記光透過窓に対して形成されている前記カラーフィルタ層よりも厚いことが好ましい。このように構成すると、カラーフィルタ層の表面に不要な凹凸が形成されるのを防止することができる。
【0013】
本発明において、前記電気光学物質は、前記基板と、該基板に対向配置された別の基板との間に保持された液晶である。
【0014】
本発明に係る半透過反射型電気光学装置は、携帯電話機、モバイルコンピュータなどといった電子機器用いることができる。
【0015】
【発明の実施の形態】
図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。
【0016】
(全体構成)
図1は、本発明が適用される電気光学装置の電気的構成を示すブロック図である。図2および図3はそれぞれ、図1に示す電気光学装置の構成を示す分解斜視図、およびその一部を拡大して示す拡大断面図である。図4は、電気光学装置において、TFD素子を含む数画素分のレイアウトを示す平面図であり、図5は、そのA−A’線に沿って示す断面図である。
【0017】
本発明を適用した電気光学装置は、ネマチック液晶を用いたアクティブマトリクス型の半透過反射型液晶装置であり、図1に示すように、複数本の走査線31が行(X)方向に形成され、複数本のデータ線21が列(Y)方向に形成されている。また、走査線31とデータ線21との各交差部分には、画素11が形成されている。各画素11では、ネマチック液晶からなる液晶層12と、二端子型アクティブ素子たるTFD素子40とが直列接続している。ここに示す例では、液晶層12が走査線31の側に接続され、TFD素子40がデータ線21の側に接続されている。各走査線31は、走査線駆動回路350によって駆動される一方、各データ線21は、データ線駆動回路250によって駆動される構成となっている。
【0018】
図2に示すように、電気光学装置1では、一対の透光性基板を所定の間隙を介して貼り合わされた駆動用液晶セル10が用いられているとともに、上側偏光板2、第1の上側位相差板3、第2の上側位相差板4、駆動用液晶セル10、第1の下側位相差板5、第2の下側位相差板6、およびバックライト装置9が上方から下方にこの順に重ねて配置されている。
【0019】
駆動用液晶セル10において、一方の透光性基板は、アクティブ素子が形成される素子側基板20であり、他方の透光性基板は、素子側基板20に対向する対向基板30である。素子側基板20と対向基板30とは、スペーサ(図示省略)を含むシール材14によって一定の間隙を保って接合されるとともに、この間隙に、液晶層12が封入、保持された構成となっている。
【0020】
電気光学装置1では、COG(Chip On Glass)技術により、素子側基板20の表面に直接、データ線駆動回路250を構成する液晶駆動用IC(ドライバ)が実装され、対向基板30の表面にも直接、走査線駆動回路350を構成する液晶駆動用IC(ドライバ)が実装されている。なお、COG技術に限られず、それ以外の技術を用いて、ICチップと電気光学装置とが接続された構成としても良い。例えば、TAB(Tape Automated Bonding)技術を用いて、FPC(Flexible Printed Circuit)の上にICチップがボンディングされたTCP(Tape Carrier Package)を電気光学装置に電気的に接続する構成としても良い。また、ICチップをハード基板にボンディングするCOB(Chip On Board)技術を用いても良い。
【0021】
図3および図4に示すように、素子側基板20の内側表面には下地膜25が形成されているとともに、この下地膜25の表面には、複数本のデータ線21と、それらのデータ線21に接続された複数のTFD素子40と、それらのTFD素子40と1対1に接続される画素電極23とが形成されている。画素電極23は、ITO(Indium Tin Oxide)などの透光性導電膜から形成されている。各データ線21は、直線的に延びている一方、TFD素子40および画素電極23は、ドットマトリクス状に配列されている。画素電極23などの表面には、ラビング処理が施された配向膜24が形成されている。この配向膜24は、一般にポリイミド樹脂等から形成される。
【0022】
一方、対向基板30の内側表面には、後述する下層側凹凸形成膜51aおよび上層側凹凸形成膜52aの上層側に、アルミニウム、アルミニウム合金、銀、銀合金などの単層膜、あるいは複層膜からなる光反射膜33と、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のカラーフィルタ層34と、オーバーコート層35と、ITOなどの透光性導電膜からなる帯状の対向電極36と、ポリイミド樹脂等から配向膜37とが形成されている。光反射膜33は、反射モードでの表示用であり、この光反射膜33には、透過モードでの表示を可能とする光透過窓330が形成されている。
【0023】
カラーフィルタ層34の隙間には、ブラックマトリクス38が形成されており、カラーフィルタ層34の隙間からの入射光を遮蔽する構成となっている。オーバーコート層35は、カラーフィルタ層34およびブラックマトリクス38の表面において、カラーフィルタ層34およびブラックマトリクス38の平滑性を高めて、対向電極36の断線を防止する目的などで形成されている。ここで、対向電極36は、走査線31として機能し、データ線21と直交する方向に形成されている。
【0024】
図4および図5に示すように、TFD素子40は、第1のTFD素子40aおよび第2のTFD素子40bからなり、素子基板20の表面に形成された絶縁膜25上において、第1金属膜42と、この第1金属膜42の表面に陽極酸化によって形成された絶縁体たる酸化膜44と、この表面に形成されて相互に離間した第2金属膜46a、46bとから構成されている。また、第2金属膜46aは、そのままデータ線21となる一方、第2金属膜46bは、画素電極23に接続されている。
【0025】
第1のTFD素子40aは、データ線21の側からみると順番に、第2金属膜46a/酸化膜44/第1金属膜42となって、金属(導電体)/絶縁体/金属(導電体)のサンドイッチ構造を採るため、正負双方向のダイオードスイッチング特性を有することになる。一方、第2のTFD素子40bは、データ線21の側からみると順番に、第1金属膜42/酸化膜44/第2金属膜46bとなって、第1のTFD素子40aとは、反対のダイオードスイッチング特性を有することになる。従って、TFD素子40は、2つのダイオードを互いに逆向きに直列接続した形となっているため、1つのダイオードを用いる場合と比べると、電流−電圧の非線形特性が正負の双方向にわたって対称化されることになる。なお、このように非線形特性を厳密に対称化する必要がないのであれば、1つのTFD素子40のみを用いても良い。
【0026】
なお、TFD素子40は、ダイオード素子としての一例であり、他に、酸化亜鉛(ZnO)バリスタや、MSI(Metal Semi Insulator)などを用いた素子や、これらの素子を、単体、または、逆向きに直列接続もしくは並列接続したものなどが適用可能である。
【0027】
[各画素の詳細な構成]
図6は、本発明を適用した電気光学装置で用いたカラーフィルタ層および感光性樹脂の分光特性を示すグラフである。
【0028】
本形態の電気光学装置1では、バックライト装置9から出射された光は、駆動用液晶セル10に入射した後、光反射膜33の光透過窓330からカラーフィルタ層34を通って液晶層12に入射し、素子基板20の側から出射される。その際に、表示光は、各画素11において液晶層12によって光変調されて、透過モードでのカラー画像を表示する。
【0029】
一方、素子基板20の側から入射した外光は、液晶層12およびカラーフィルタ層34を通って光反射膜33で反射し、再び、カラーフィルタ層34および液晶層12を通って素子基板20の側から出射される。その際に、表示光は、各画素11において液晶層12によって光変調されて、反射モードでのカラー画像を表示する。
【0030】
このように、反射モードではカラーフィルタ層34を2度、通過するが、透過モードでは光がカラーフィルタ層34を1度しか通過しない。このため、透過モードでカラー画像を表示すると、反射モードでカラー画像を表示した場合と比較して、色が薄くなるおそれがあるので、本形態では、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のカラーフィルタ層34のいずれについても、光反射膜33と平面的に重なる領域には、反射表示用のカラーフィルタ層341が形成されている一方、光透過窓330と平面的に重なる領域には、反射表示用のカラーフィルタ層341よりも着色性の強い透過表示用のカラーフィルタ層342が形成されている。
【0031】
また、本形態の電気光学装置1において、光反射膜33で反射された光の方向性が強いと、画像をみる角度で明るさが異なるなどの視野角依存性が顕著に出てしまう。そこで、本形態では、対向基板30の表面側において、光反射膜33の下層側に、感光性樹脂層からなる下層側凹凸形成層51aを所定のパターンで選択的に形成することにより、光反射膜33の表面に凹凸を付与している。また、このままでは、凹凸に下層側凹凸形成層51aのエッジがそのまま出てしまうので、下層側凹凸形成層51aの上層にもう1層、流動性の高い感光性樹脂層からなる上層側凹凸形成層52aを塗布、形成することにより、光反射膜33の表面にエッジのない、なだらかな形状の凹凸を付与している。
【0032】
ここで、青色(B)、緑色(G)、赤色(R)のカラーフィルタ層34の分光特性は、図6に点線L1、一点鎖線L2、二点鎖線L3で表わされる一方、下層側凹凸形成層51aおよび上層側凹凸形成層52aを構成する感光性樹脂層の分光特性は、図6に実線L0で表わされ、下層側凹凸形成層51aおよび上層側凹凸形成層52aを構成する感光性樹脂層は、短波長域の光を吸収するという分光特性を有している。
【0033】
このような分光特性に対応して、本形態では、赤色(R)および緑色(G)のカラーフィルタ層34が形成されている画素11では、光反射膜33と平面的に重なる領域、および光透過窓330と平面的に重なる領域の双方に下層側凹凸形成層51a、および上層側凹凸形成層52aが形成されている。
【0034】
これに対して、青色(B)のカラーフィルタ層34が形成されている画素11では、光反射膜33と平面的に重なる領域には、下層側凹凸形成層51aおよび上層側凹凸形成層52aが形成されているが、光透過窓330と平面的に重なる領域には、下層側凹凸形成層51a、および上層側凹凸形成層52aのいずれもが形成されていない。
【0035】
このため、透過モードでカラー画像を表示する際、赤色(R)および緑色(G)のカラーフィルタ層34が形成されている画素11では、バックライト装置9から出射された光は、下層側凹凸形成層51aおよび上層側凹凸形成層52aを通った後、光反射膜33の光透過窓330からカラーフィルタ層34を経て液晶層12に入射する。これに対して、青色(B)のカラーフィルタ層34が形成されている画素11では、バックライト装置9から出射された光は、下層側凹凸形成層51aおよび上層側凹凸形成層52aを通らず、そのまま、光反射膜33の光透過窓330からカラーフィルタ層34を経て液晶層12に入射する。
【0036】
このため、下層側凹凸形成層51aおよび上層側凹凸形成層52aを構成する感光性樹脂層が短波長域の光を吸収するという分光特性を有している場合でも、青色用の画素11でも好適に着色された光が出射される。それ故、反射モードおよび透過モードのいずれにおいても、黄変のない、品位の高いカラー画像を表示することができる。
【0037】
また、赤色(R)や緑色(G)のカラーフィルタ層34が形成されている画素11において、光透過窓330と平面的に重なる領域には、下層側凹凸形成層51aおよび上層側凹凸形成層52aを残してあるので、カラーフィルタ層34の表面側には不用な凹凸が形成されないという利点がある。
【0038】
さらに、青色(B)のカラーフィルタ層34が形成されている画素11では、光透過窓330と平面的に重なる領域には、下層側凹凸形成層51a、および上層側凹凸形成層52aのいずれもが形成されていないので、その分、青色(B)の透過表示用のカラーフィルタ層342については、赤色(R)や緑色(G)の透過表示用のカラーフィルタ層342よりも厚く形成してある。このため、カラーフィルタ層34の表面側には不用な凹凸が形成されないという利点がある。
【0039】
[電気光学装置の製造方法]
図7を参照して、本形態の電気光学装置1の製造工程のうち、対向基板30に対して、下層側凹凸形成層51aおよび上層側凹凸形成層52aを形成する工程を中心に説明する。
【0040】
図7(A)〜(D)は、本形態の電気光学装置1に用いた対向基板30に下層側凹凸形成層51aおよび上層側凹凸形成層52aを形成する工程を示す工程断面図である。
【0041】
まず、図7(A)に示すように、ガラス製等の透光性の対向基板30の表面に感光性樹脂51を厚めに塗布した後、感光性樹脂51を露光マスク510を介して露光する。ここで、感光性樹脂51としてはネガタイプおよびポジタイプのいずれを用いてもよいが、図7(A)には、感光性樹脂51としてポジタイプの場合を例示してあり、感光性樹脂51を除去したい部分に対して、露光マスク510の透光部分511を介して紫外線が照射される。
【0042】
次に、露光した感光性樹脂51を現像して、図7(B)に示すように、柱状の下層側凹凸形成膜51aを形成する。その際、青色(B)のカラーフィルタ層34が形成される画素11では、光反射膜33と平面的に重なる領域には、下層側凹凸形成層51aを形成するが、光透過窓330と平面的に重なる領域には、下層側凹凸形成層51aを形成しない。
【0043】
次に、図7(C)に示すように、下層側凹凸形成層51aの上層側に感光性樹脂52を塗布した後、感光性樹脂52を露光マスク520を介して露光する。ここでも、感光性樹脂52としてはネガタイプおよびポジタイプのいずれを用いてもよいが、図7(C)には、感光性樹脂52としてポジタイプの場合を例示してあり、感光性樹脂52を除去したい部分に対して、露光マスク520の透光部分521を介して紫外線が照射される。
【0044】
次に、露光した感光性樹脂52を現像して、図7(D)に示すように、上層側凹凸形成膜52aを形成する。この際、青色(B)のカラーフィルタ層34が形成される画素11では、光反射膜33と平面的に重なる領域には、上層側凹凸形成層52aを形成するが、光透過窓330と平面的に重なる領域には、上層側凹凸形成層52aを形成しない。
【0045】
しかる後には、図3に示すように、成膜工程およびパターニング工程を行って、光透過窓330を備えた光反射膜33を形成した後、フォトリソグラフィ技術、フレキソ印刷あるいはインクジェット法を用いて、ブラックマトリクス38、および赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のカラーフィルタ層34(反射表示用のカラーフィルタ層341、透過表示用のカラーフィルタ層342)を形成する。次に、スピンコート法などによりオーバーコート層35を形成した後、成膜工程およびパターニング工程を行って、対向電極36を形成し、しかる後に、フレキソ印刷あるいはスピンコート法を利用して、配向膜37を形成する。
【0046】
その結果、対向基板30が完成する。
【0047】
[その他の実施の形態]
なお、上記形態では、アクティブ素子としてTFD素子40を用いた例であったが、アクティブ素子としてTFTを用いた電気光学装置、さらにはパッシブマトリクス型の電気光学装置に本発明を適用してよい。
【0048】
また、上記形態では、凹凸形成層として下層側凹凸形成層51aと上層側凹凸形成層52aを形成したが、感光性樹脂を塗布した後、この感光性樹脂に対して、露光マスクを介してのハーフ露光、現像、および加熱を行って、凹凸形成層を1層のみ形成してもよい。この方法では、感光性樹脂が厚さ方向の途中位置まで露光するので、現像後、感光性樹脂には厚い部分と薄い部分が形成される。従って、加熱処理を施せば、表面に角張った部分がなく、エッジのない、なだらかな凹凸形状を表面に備えた凹凸形成層を形成できる。このような方法で凹凸形成層を形成する場合でも、赤色(R)および緑色(G)のカラーフィルタ層34が形成されている画素11では、光反射膜33と平面的に重なる領域、および光透過窓330と平面的に重なる領域の双方に凹凸形成層を残す一方、青色(B)のカラーフィルタ層34が形成されている画素11では、光反射膜33と平面的に重なる領域には凹凸形成層を残すが、光透過窓330と平面的に重なる領域には凹凸形成層を残さない。
【0049】
[電子機器への搭載例]
図8は、本形態の電気光学装置1を搭載した電子機器の一例としての携帯電話の構成を示す斜視図である。
【0050】
図8において、携帯電話1400は、複数の操作ボタン1402のほか、受話口1404、送話口1406とともに、電気光学装置1を備えるものである。この電気光学装置1にも、必要に応じてその背面にバックライト装置が設けられる。
【0051】
なお、本形態の電気光学装置1を搭載可能な電子機器としては、携帯電話機の他、モバイルコンピュータ、液晶テレビや、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等などが挙げられる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明が適用される電気光学装置の電気的構成を示すブロック図である。
【図2】図1に示す電気光学装置の構成を示す分解斜視図である。
【図3】図1に示す電気光学装置の一部を拡大して示す拡大断面図である。
【図4】図1に示す電気光学装置において、TFD素子を含む数画素分のレイアウトを示す平面図である。
【図5】図4のA−A’線に沿って示す断面図である。
【図6】図1に示す電気光学装置で用いたカラーフィルタ層および感光性樹脂の分光特性を示すグラフである。
【図7】(A)〜(D)は、本発明に係る電気光学装置に用いた対向基板に下層側凹凸形成層および上層側凹凸形成層を形成する工程を示す工程断面図である。
【図8】本発明を適用した電気光学装置を搭載した電子機器の一例としての携帯電話の構成を示す斜視図である。
【図9】従来の電気光学装置の一部を拡大して示す拡大断面図である。
【符号の説明】
1 電気光学装置、9 バックライト装置、10 駆動用液晶セル、11 画素、12 液晶層、20 素子側基板、21 データ線、23 画素電極、30 対向基板、31 走査線、33 光反射膜、34 カラーフィルタ層、36 対向電極、40 TFD素子(アクティブ素子)、51a 下層側凹凸形成層、52b 上層側凹凸形成層、330 光透過窓、341 反射表示用のカラーフィルタ層、342 透過表示用のカラーフィルタ層
Claims (6)
- 電気光学物質を保持するための透光性基板上に、少なくとも、透光性を備えた凹凸形成膜、反射モードでの表示を可能とする光反射膜、およびカラーフィルタ層がこの順に形成され、前記光反射膜には透過モードでの表示を可能とする光透過窓が各画素毎に形成された電気光学装置において、
前記凹凸形成層は、該凹凸形成層の分光特性に応じて、前記各画素のうち、所定色のカラーフィルタ層が形成された画素では前記光透過窓と平面的に重なる領域に形成されている一方、他の色のカラーフィルタ層が形成された画素では前記光透過窓と平面的に重なる領域に形成されていないことを特徴とする電気光学装置。 - 請求項1において、前記各画素には、赤色、緑色、青色に対応する前記カラーフィルタ層が形成されているとともに、前記凹凸形成層は、感光性樹脂から構成され、
前記凹凸形成層は、前記各画素のうち、赤色および緑色カラーフィルタ層が形成された画素では前記光透過窓と平面的に重なる領域に形成されている一方、青色のカラーフィルタ層が形成された画素では前記光透過窓と平面的に重なる領域に形成されていないことを特徴とする電気光学装置。 - 請求項1または2において、前記各画素では、前記カラーフィルタ層として、前記光反射膜と平面的に重なる領域に反射表示用のカラーフィルタ層が形成されている一方、前記光透過窓と平面的に重なる領域には、前記反射表示用のカラーフィルタ層よりも着色性の強い透過表示用のカラーフィルタ層が形成されていることを特徴とする電気光学装置。
- 請求項1ないし3のいずれかにおいて、前記光透過窓と平面的に重なる領域に前記凹凸形成層が形成されていない前記画素で当該光透過窓に対して形成されている前記カラーフィルタ層は、他の画素で前記光透過窓に対して形成されている前記カラーフィルタ層よりも厚いことを特徴とする電気光学装置。
- 請求項1ないし4のいずれかにおいて、前記電気光学物質は、前記基板と、該基板に対向配置された別の基板との間に保持された液晶であることを特徴とする電気光学装置。
- 請求項1ないし5のいずれかに規定する電気光学装置を備えていることを特徴とする電子機器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003054000A JP4258231B2 (ja) | 2003-02-28 | 2003-02-28 | 電気光学装置、およびそれを用いた電子機器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003054000A JP4258231B2 (ja) | 2003-02-28 | 2003-02-28 | 電気光学装置、およびそれを用いた電子機器 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004264513A true JP2004264513A (ja) | 2004-09-24 |
JP2004264513A5 JP2004264513A5 (ja) | 2006-02-09 |
JP4258231B2 JP4258231B2 (ja) | 2009-04-30 |
Family
ID=33118458
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003054000A Expired - Fee Related JP4258231B2 (ja) | 2003-02-28 | 2003-02-28 | 電気光学装置、およびそれを用いた電子機器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4258231B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7639326B2 (en) | 2005-12-05 | 2009-12-29 | Epson Imaging Devices Corporation | Liquid crystal device and electronic apparatus |
US8253892B2 (en) | 2008-11-19 | 2012-08-28 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Liquid crystal display and method for manufacturing the same |
-
2003
- 2003-02-28 JP JP2003054000A patent/JP4258231B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7639326B2 (en) | 2005-12-05 | 2009-12-29 | Epson Imaging Devices Corporation | Liquid crystal device and electronic apparatus |
US8253892B2 (en) | 2008-11-19 | 2012-08-28 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Liquid crystal display and method for manufacturing the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4258231B2 (ja) | 2009-04-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8009253B2 (en) | Electro-optical device having insulating layer with varying thickness in the reflection and transmission displays | |
JP3912325B2 (ja) | 電気光学装置、電子機器、及び電気光学装置の製造方法 | |
JP3744511B2 (ja) | 電気光学装置、電子機器、及び電気光学装置の製造方法 | |
JP2003262856A (ja) | カラーフィルタ基板、電気光学装置及び電子機器、並びにカラーフィルタ基板の製造方法及び電気光学装置の製造方法 | |
JP2004317726A (ja) | 電気光学装置、およびそれを用いた電子機器 | |
JP2000267077A (ja) | 液晶表示装置および電子機器 | |
US7456916B2 (en) | Liquid crystal device with overcoat layer that gradually reduces in thickness towards an edge portion corresponding to a boundary between reflective and transmissive regions | |
JP2004258365A (ja) | 電気光学装置、およびそれを用いた電子機器 | |
JP2006267782A (ja) | 電気光学装置及び電子機器 | |
JP4258231B2 (ja) | 電気光学装置、およびそれを用いた電子機器 | |
JP2000250056A (ja) | 液晶表示装置および電子機器 | |
JP2005148477A (ja) | 電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器 | |
JP4466044B2 (ja) | 電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器 | |
JP2007094030A (ja) | 液晶装置および電子機器 | |
JP2007114337A (ja) | 電気光学装置及び電子機器 | |
JP2005049638A (ja) | 電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器、電気光学装置用基板の製造方法、露光マスク | |
JP4661151B2 (ja) | 電気光学装置および電子機器 | |
JP2005148305A (ja) | 電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器 | |
JP4645327B2 (ja) | 液晶表示装置及び電子機器 | |
JP2005049776A (ja) | 電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器、電気光学装置用基板の製造方法 | |
JP2005062625A (ja) | 光反射性基板の製造方法、電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置用基板、電気光学装置、電子機器 | |
JP2004094166A (ja) | カラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学パネル、電気光学パネルの製造方法、電気光学装置及び電子機器 | |
JP2006058633A (ja) | 液晶装置及び電子機器 | |
JP2004093752A (ja) | 液晶表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置 | |
JP2005099794A (ja) | 電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051216 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051216 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20070403 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080111 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080610 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20081007 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081203 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20081211 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090113 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090126 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120220 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130220 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130220 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |